TW466245B - Polymers and copolymers based on vinyl cyclohexane - Google Patents

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Ralf Dujardin
Yun Chen
Johann Rechner
Friedrich-Karl Bruder
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Description

4 66 24 5 A7 ]}7 五、發明説明(, 經濟部t央操準局tsc工消资合作社印¾ 本發明係關於以乙烯基環己烷(VCH)為底質之聚合物與共 聚物,其具有主要為對排之組態,及其製法以及其作為光 學材料之用途。此材料可藉壓出或射出成型製成模製物 體,且特別適合作為光學資料儲存介質用之基材,譬如小 型磁碟、影碟、可重寫光碟。 ° 透明塑膠’譬如芳族聚碳酸酯、聚曱基丙烯酸甲酯或聚 苯乙烯,可作為光學資料儲存介質之基材使用。包含乙烯 與原冰片烯衍生物或四環十二烯衍生物之加成共聚物,及 包含原冰片烯或四環十二烯之開環易位聚合物之氫化產 物,亦經考慮。 但疋,目前常用之基材沒有一種可在毫無限制下使用於 極高資料儲存密度(>5,較佳為>10十億位元組,以12〇毫米 直徑之磁碟為基準)^極低雙折射與吸水率,高熱撓曲溫 度’伴隨著適當機械性質及低溶融黏度,係同時為此項目 的所需要的。 雖然^•紅聚破酸酯具有極良好機械性質與熱撓曲溫度, 但其雙折射與吸水率太高。 聚笨乙烯之雙折射太高,且其熱撓曲溫度太低。 聚甲基丙烯酸甲酯之吸水率太高,且其尺寸安定性太 低。 包含乙烯與非極性原冰月烯或四環十二烯之加成共聚物 之雙折射太低,但其實質上沒有吸水性。 但是,此等材料在製造上極昂貴。此等材料僅能夠極困 難地以光學純品質製成4凝膠含量存在,亦會減低其作
本紙張尺度制帽聯轉(CNS _-3- )Λ4规枯(210X297公f (請先閲讀背面之注意事¾再填寫本頁) ”裝. '丁 1 -5"
- - I I -I au 1 I i it HI tn 4 6 6 24 5 A7 ' B7 五、發明説明(2 ) 為光學材料之應用。相當可觀之技術經費係涉及分離觸媒 與助觸媒。 光學材料中含有包含烯基芳族烴化合物之聚合物或其共 聚物之氫化產物,係描述於GB 933,596 (=DE-ASl,m,885)、EP-A 317, 263、US 4,911,966 及 US 5,178,926 中。其中未指出組態。
Hermann Staudinger首先在1929年描述聚苯乙烯之氫化作 用。較為最近之專利文獻係關切聚乙烯基環己烷及/或氫 化聚苯乙烯之基本微結構。先前技藝為$晶質乙烯基環己 烷聚合物具有亂排組態,而結晶性VCH(乙烯基環己烷)聚 合物為同排或對排組態氓?-人0,322,731、£?-八0,423,100、1^-A5,654,253 ; US-A5,612,422 ; W096/34896)。同排PVCH(聚乙烯 基環己烷)係於Ziegler觸媒存在下製成,並具有高熔點 (J. Polym. Sci.,A2, 5029 (1964))。EP-A 0,322,731 描述藉由對排聚苯 乙烯之氫化作用而具有對排組態之乙烯基環己烷聚合物, 係為結晶性,其中二價基之量為至少75%,而五價基之量 \ 為至少30%。WO 94/21694係描述一種製造氫化聚(烯基-芳 族)聚合物與聚(烯基-芳族)/聚二烯嵌段共聚物之方法。 對排聚苯乙烯係以一般術語指出。 經濟部中央標準局t貝工消费合作社印製 (請先閱讀背而之注意事項再填寫本頁) 會導致具有迄今已知材料性質之同排、對排及亂排氫化 聚笨乙烯之方法,係描述於WO 94m694、US-A 5,352,744中, 其中係使用特定觸媒。利用特定觸媒使亂排聚笨乙烯氫化 以產生亂排氫化聚苯乙烯之方法,係描述於1^-A5,654,253 ; US-A 5,612,422 ; WO 96/34896 中。 亂排聚合物係為規則聚合物。籍由定義,其具有等量之 __-4j____ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS )八4见枯(210X 297,:.>^ )
A 6 β 24 5 Α7 --—___ _ Β7 五、發明説明(3 ) -- 可能組態基本單位,具有從分子至分子之理想無規分佈 (IUPAC)。其特徵為相同數目之同排與對排二價基。僅具有 一個玻璃階段而未具有晶體含量之非晶質材料,係經描 述。 本發明係關於以乙烯基環己烷為底質之聚合物或共聚 物,其中烯烴、丙烯酸衍生物、順丁烯二酸衍生物、乙烯 基醚類或乙烯基酯類,可於製造中作為共單體使用,具有 對排组態,其特徵在於二價基之量係大於5〇1%,而低/於74 %。以乙烯基環己烷為底質之聚合物,係為非晶質聚合 物。 根據本發明聚合物之特徵為高透明性、低雙折射及高熱1 撓曲溫度,且因此可作為光學資料儲存介質之基材使用。 由於已知同排PVCH之結晶性’故其不適合光學應用。 本發明係關於聚苯乙烯之氫化產物,其會導致具有過量 外消旋(對排)二價基之非晶質島、化聚苯乙稀。 本發明之乙烯基環己烷聚合物為一種具有所定義·立體結 構之新穎無定形聚合物,其特徵為主要存在外消旋二價基 組態,並可有效地藉所述方法製成。 一種以己烯基環己烧為底質之聚合物,較佳係具有式(I) 重複結構單位 请 先 閲 讀 背 面 意 事 項 再/ 填 寫 本 w 裝 訂
R——c 12 R——cIR 「淨ΐι,^ι¾]/Ju.lLT.r& Or 本纸張尺度適用中國國家標牟(CNS ) Λ4规枋(2!ΟΧ2(;7公牮) 46 6 24 5 經濟部t央橾準局負工消费合作杜印製 A 7 - ---—___ B7 五、發明説明(4 ) ~~ 其中 R1與R2互相獨立表示氫或C! -C6烷基,較佳為q -C4烷基,及 R3與R4互相獨立表示氫或烷基,較佳為心-仏烷基,特 別是甲基及/或乙基,或R3與R4共同表示次烷基,較佳 為C3或C:4次烧基(稍合5或6-員環脂族環), R5表示氫或Ci -Q烷基,較佳為Ci -c4烷基, R1、R2及R5互相獨立地特別表示氫或甲基。 除了立體規則之頭對尾鏈結以外,此键結可具有少含量 之頭對頭鏈結。以乙烯基環己烷為底質之非晶質而主要為 對排之聚合物,可經由中心分枝,且可具有例如星形結 構。 下列可較佳地使用於預聚合物(例如視情況經取代之聚苯 乙烯)之聚合,及可共摻入聚合物中作為共單體:具有大 致上為2至10個碳原子之烯烴,例如乙烯、丙烯、显戊二 烯、異丁缔、丁二稀,芳基及/或甲基丙稀酸之^_&,^ 佳為q-C4烷基酯類’不飽和環脂族烴類,例如環戊二烯、 環己烯、環己二烯、視情況經取代之原冰片烯'二環戊二 烯、,氫環戊二烯、視情況經取代之四環十二烯,核烷基 化之苯乙婦、α•甲基笨乙稀、二乙婦基苯,己稀基酿 類、乙稀基酸類、乙稀基賴、醋酸乙稀醋,乙婦基氣化 物,例如丙烯腈、曱基丙烯腈,順丁烯二酐及其混合物。 根據本發明之非晶質乙烯基環己烷聚合物/直有藉二太 元NMR光譜學測得之對排二價基含量為5〇1至觸,較佳^ (請先閱讀背面之注意事項再壤寫本頁) -裝· -tk >Γ zl 6 6 24 b 叙濟部中央標準局t;i工消費合作社印製 A 7 · ____B7 五、發明説明(5 ) ~ 利用聚合物主鏈之亞甲基碳原子之關聯光譜學解 释微觀結構之方法,係為廣泛地已知,且已由例如 A. Μ. P. Ros 與 〇 Sudmeijer (A. M. P. Ros,0. Sudmeijer, Int. J. Polym. Anal. Charact (1997),4, 39)加以描述。 結晶性同排與對排聚乙烯基環已烷之信號,係藉由二次 元NMR光譜學測定。同排聚乙烯基環己烷之亞甲基碳原子 C1(在聚合物主鏈中)’會在2D_CH關聯光譜中產生兩個各 別質子信號,並顯示純粹同排二價基組態。但是,對排聚 乙烯基環己烷確實僅會在碳原子C1之2D-CH關聯光譜中顯 示一個信號。根據本發明之非晶質對排上富含之聚乙烯基 環己烷,與同排二價基組態比較,對於對排二價基係顯示 整體過量之強度。 在此等材料上測得之雙折射,藉助於流變光學常數^度 量,係為-OJGPa·1,其係低於聚碳酸酯(CR= + 54GPa-i)超過 一個十之冪次。用以度量流變光學常數之方法,係描述於 EP-A 0 621 297中。其所需要之平面平行15〇至1〇〇〇微米試樣 物體,可藉由熔融壓縮模製或薄膜澆注法製成。與聚碳酸 酯比較,此材料可被認為是無雙折射。其具有高熱撓曲溫 度、低吸水率,伴隨著適當機械性質,且因此為一種供極 高光學資料儲存密度(在120毫米直徑磁碟上,>1〇十億位元 組)用之理想材料。 旦一般而言,此乙烯基環己烷(共)聚合物具有絕對水分子 里Mw (重量平均)為1〇〇〇_1〇〇〇〇〇〇〇,較佳為6〇〇〇〇_娜_,最 特佳為7〇〇〇〇-6〇0000,藉光散射測得。 ---- -7- 本紙張尺度適财:縣(CNS ) Λ復ϋ〇χ 297ϋ]------- (請先閱讀背面之注意事項再取蹲本頁} Η裝 訂 • II -I Hi---. A7 466245 五、發明説明(6 ) — 一般而言’根據本發明以乙烯基環己烷為底質之均聚 物’具有玻璃轉移溫度>14〇。(:,較佳為>145°C,藉DSC測 得0 此等共聚物可無規則地及以嵌段共聚物存在。 此等聚合物可具有直鏈結構,以及藉由共單位而具有分 枝點(例如接枝共聚物)。例如,分枝中心含有星形或分枝 狀聚合物。根據本發明之聚合物,可具有一級、二級、三 級、視情況為四級聚合物結構之其他幾何形狀;可指出螺 旋、雙螺旋、折疊片等,及/或此等結構之混合物。 故共t物包含二欲段、三喪段、多散段及星形散段共 聚物。 VCH(共)聚合物係經由使苯乙烯衍生物與相應單體,以 自由基、陰離子、陽離子方式或藉由金屬錯合引發劑及/ 或觸媒進行聚合而製成,於是不飽和鍵係經部份或完全氣 化(參閱,例如WO 94/m94,EP-A 322,731)。其特徵為主要存 在根據本發明乙烯基環己烷單位之對排組態。 經濟部中央標準局Λ工消費合作社印裝 VCH(共)聚合物可進一步藉由例如芳族聚苯乙烯及/或 其衍生物,於觸媒存在下之氫化作用而製成,其中係使用 一種在鄰近_官能基之碳原子上未具有α-氫原子之醚, 或此種醚類之混合物,或至少一種該醚類與適用於氫化反 應之溶劑之混合物,作為溶劑。 此反應通常是在醚成份相對於整體溶劑之體積濃度為01 %至1〇〇%,較佳為1%至6〇%,最特佳為5%至5〇%下進 行。此越成份可被稱為助觸媒。 __________- 8 - 本紙浪尺度適用中國國家標準(CNS ) 枯(2Ι0ΧΜ7公 1ΓΤ ^66 24 Α7 Β7 五、發明説明(7 ) 一般而言,此方法會導致芳族單位之實質上完全氫化。 通常,氫化度係280%,較佳係^90%,最特佳係^99%, 特別是99·5至100%。氫化度可藉例如NMR或UV光譜學測 定。 起始聚合物係為一般已知(例如WO 94/21694)。 劑: 較佳係使用式(I)醚類作為溶 I蒂專 !中利 (0 智代 璋理 R1
R2 C—Ο—R R3 其中 R1、R2、R3及R4互相獨立表示Cl_C:8烷基,其係為直鏈或分 枝狀’或C5-C6環烷基,視情況被烷基取代,或 基團R1、R2、R3及R4其中兩個形成具有3至8個,較佳為5 或6個碳原子之環。 甲基-第三-丁基醚、乙基-第三-丁基醚、丙基_第三·丁 基趟、丁基-第三-丁基醚、甲基_(2_甲基_2_ 丁基)趟(第三_ 麵濟部中夬榡準局员Η消f合作社印聚 戊基-甲基醚)、2_乙氧基·2·甲基丁烷(乙基-第三_戊基醚) 係為特佳的。 ^ 觸媒使用量係依所進行之方法而定;其可為連續、半連 續或不連續。 例如,在不連續方法中,觸媒對聚合物之比例,通常為 0.3-0.001 ’ 較佳為02_0005 ’特佳為〇15_〇〇1。 聚合物濃度’相關於溶劑與聚合物之整體重量,通常為 --- -9- 本紙張尺度適财_家轉(CNS (21Gx297,;^~y 4 66 24 5 a? __ Β7 五、發明説明(8 ) ~ 80至1 ’較佳為5〇至ίο,特別是40至15重量%。 起始聚合物係根據一般已知方法進行氫化(例如 WO 94m694、WO%/34895、EP-A-322,731)。多種已知氫化觸 媒可作為觸媒使用。.較佳金屬觸媒係引述於例如 W094/21694或W0 96/34896中。任何已知用於氫化反應之觸 媒均可作為觸媒使用。適當觸媒為具有大表面積(譬如1〇〇_ 600平方米/克)及小平均孔隙直徑(例如2〇_5〇〇入)者。其他 系統為具有小表面積(譬如g 10平方米/克)及大平均孔隙 直徑之觸媒,其孔隙大小分佈之特徵在於98%孔隙體積係 被限疋為孔隙直徑大於600人(例如約1〇〇〇_4〇〇〇 A)(參閱,例 如 US-A 5,654,253、US-A 5,612,422、JP-A 03,076,706)。阮尼錄, 鎳/二氧化矽或二氧化矽/氧化鋁,鎳在作為載體之碳上 及/或貴金屬觸媒,譬如pt、Ru、处、pd,係為特別使用 者。 此反應通常是在〇與5〇〇t;之間,較佳是在況與〕%^之 間’特別是在60與200t間之溫度下進行β 習用上可用於氫化反應之溶劑,係描述於例如DE_ AS 1 131 885中(參閱上文)。 經濟部中央檁毕局員工消费合作社印製 J--^-----— 裝-- (請先閱讀背面之注$項再'镇寫本頁) 此反應通常是在1巴至1000巴,較佳為20至3〇〇巴’特別 是40至200巴之壓力下進行。 根據本發明以乙烯基環己烷為底質之聚合物或共聚物, 係優越地適合用以製造光學資料儲存介質,其較佳係具有 資料儲存密度,較佳為>10十億位元組,以直徑丨汾毫来 之磁碟為基準。 、 (CNS) ΛΜι. ( 210χ297;>7~ 466245 經濟部t央標準局员工消费合作社印製 A 7 ' ________ B7 _ 五、發明説明(9 ) ^ ' 茲指出下列作為光學資料儲存介質之實例: - 磁光碟(M0-磁碟) -微小型磁碟(MD) -ASM〇 (M0-7)(”先進儲存磁光碟 -DVR (12十億位元組磁碟) -MAMMOS C'磁性放大磁光系統") "SIL與MSR (”固體浸沒透鏡”與”磁性超解析) -CD-ROM (唯讀記憶體) 'CD·1 (交互作用),光-CD -CD,CD-R (可記錄),CD-RW (可重寫) - 超聲頻CD -DVD ’ DVD-R(可記錄),DVD-RAM(隨機存取記憶體); DVD =數字多用途磁碟 -DVD-RW (可重寫) -PC + RW (相變及可重寫) -MMVF(多媒體影像檔案系統) 根據本發明之聚合物,由於其優越光學性質,故進一步 特別適於光學材料之製造,例如透鏡、稜鏡、鏡子、滅色 鏡等,亦可作為全息影像之介質(例如,支票薄、=用 卡、身份証、三次元全息相片)。此等材料可作為透明介 質使用’用於晝出三次結構,例如得自聚焦相干賴射 (雷射)’特別是作成二次TL資料儲存,或供物體之三次元 表示圖使用。 此材料一般而言可代替或併用破璃使用,於使用時之溫 ___ " 11 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS > AAmt, ( 210xl^*^rp~----- (諳先閱讀背面之注意事項再填窍本頁:! .裝.
-、1T J» 經濟部中央標準局貝工消资合作社印製 466245 五、發明説明(1〇 度南達145°C。透明材料之外部應用為屋頂材料 板、薄片、溫室之敌玻璃,例如,呈雙重垂直 玻^ 他應用為用以保護機械上敏感系統之覆蓋物 =二 ,明性,例如在光電伏打場中,特別是太陽能電池 能收集窃。根據本發明之塑膠可塗覆其他材料 覆毫微粒子以增加财到傷性,塗覆金屬及其他聚合#。疋’、 供家庭之應用,包括例如具有低透水性之透 料,藉由壓出或藉由射出成型所製成之家用物件 杯與容器;以及家用裝置之罩殼,與透明燈飾覆蓋物,. 此塑膠可作為耐溫硬質發泡體使用,以在建築與 域上提供絕緣(家庭絕緣體與裴置絕緣體,例如電水矿7 並可替代例如聚苯乙埽發泡體及聚胺基甲酸醋發泡體目。言 溫持續使用是一項優點。 间 由於低密度(d<l)及所形成之輕重,故此材料特㈣ 車與太HI上之應用於儀錄板、儀器系統之透明覆蓋物 以及光源,裝置上嵌玻璃及絕緣材料。 此等材料為電流之非導體電流,且因此適合用於製造聚 光器(例如介電材料)、電子電路及裝置罩殼。在電子工業 上之其他應用,係特別由於高光學透明性與高熱撓曲溫 度、低吸水性之組合,及伴隨著來自適當發射源之光而存 在。此材料因此適於製造光二極體,雷射二極體,有機、 無機及聚合物電致發光材料之基質,光電信號接受器,經 過玻璃纖維替代物(例如聚合物光學波導管)之資料傳輸系 統’電子廣告介質之透明材料(屏幕、顯示器、投影裝 本紙張尺度適用中國國家樣準(CNS ) Λ4/.)ί_格
-12- (2I0x297/.\^JT ίΜ . "-裳 ~ί ί請先閱^背面之項再镇寫本頁〕 H --- : -- ϋ In _ 一 4 66 24 5 Λ7 ___ _____B7 五、發明説明(U ) 置)’例如供液晶基材使用。 此等材料適於醫療技術上之應用,提供透明之壓出或射 出模製物件,作成無菌與非無菌分析容器,陪替氏培養 皿,微過;慮板,顯微鏡載玻月,管件,呼吸器用之管件, 隱形眼鏡,及例如灌注或藥劑溶液用之容器;供涉及與血 液接觸之應用使用之壓出與射出模製物件,特別是用於製 造喷霧器、套管、導管、短期與長期植入物(例如人造透 鏡)、血液管件、洗滌血液用之薄膜、滲析器、加氧器、 傷口用之透明覆蓋物、血液保存器及縫合材料。 實例 實例1 將熱壓鍋以惰性氣體(氬氣)沖洗。添加聚合物溶液與觸 媒(表1)。於閉合後,施加保護氣體數次,然後是氫氣。在 釋出1,設定特定氫氣壓,且加熱至其相應之反應溫度係 伴隨著攪拌進行。在已開始氫吸收後,使反應壓力保持恒 定。 當反應已結束時,將聚合物溶液過濾。使產物在甲醇中 沉澱,並於Utrc下乾燥。經分離之產物具有表2中列示之 物理性質。
比較實例A 對排聚乙烯基環己烷 在具有回流冷凝管,已充分加熱乾燥之MO亳升三頸燒瓶 中,於氬氣下,依序充填5〇毫升無水曱苯、2〇亳升甲基銘 氧烷(10%溶液,在甲苯中)、瓜5毫克(〇〇75毫莫耳)環戊二 ---13- 本紙張尺度適用中國國家榡準(CNS ) Λ4規怙(210Χ297,:,>^ -1 - I I · ---:------¾—— (請先閱讀背面之注意事頊再'本頁} 丁 _ 、·=β 經濟部中央標準局貝工消f合作社印製 466245 A7 · -------- 1Π 五、發明説明(12 ) 烯基三。氣化鈦及〗0.4克((U莫耳)笨乙烯。將反應混合物加 熱至50 C ’並在此溫度下保持2小時。藉由添加酸性甲醇, 使反應終止。將聚合物以2〇〇毫升甲醇洗滌數次,並於8(rc 下乾燥。 使12,5克鈀/硫酸鋇以氫還原,並以惰性氣體惰性化。 將1升壓力反應器以惰性氣體沖洗。將已溶於環己烷中之 2.5克對排聚苯乙烯與觸媒,添加至熱壓鍋中(表p。將氫 壓力设定為50巴,並將此批料加熱至2〇〇它。24小時後,使 反應終止,解除,並將聚合物溶液過濾。使濾液在甲醇中 沉澱,並在120 °C真空中乾燥。經分離之產物具有表2中列 示之物理性質。
比較會锏B 同排聚乙烯基環己烷 將100亳升無水甲苯、12·5克(0.11莫耳)乙烯基環己烷及5 毫莫耳二乙基鋁,在室溫下,轉移至充滿惰性氣體,具有 回流冷凝管’經乾燥之1升三頸燒瓶中。 將1毫升二乙基紹(1Μ)與2毫升氣化鈦(iv) (iM)在12.5毫升 曱笨中,於8〇t下攪拌3〇分鐘,並添加至單體溶液中。 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 將反應混合物加熱至60°C,在此溫度下授拌5〇分鐘,然 後在85 C下保持90分鐘。藉由添加甲醇,使聚合反應終 止。使產物在甲醇中回流’過濾,然後以曱醇及丙酮洗 滌。使聚合物在6〇°C真空中乾燥。此產物具有表2中列示之 物理性質。
比較實例C -14 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS )八4现枯(210乂297公&) 466245 A 7 1 B? 五、發明説明(13 ) 包含2,2-雙(4_羥苯基)丙烷之聚碳酸酯 藉挺融壓縮模製,製成以2,2-雙(4_袅苯基)丙烷為底質之 聚碳酸酯(Makrolon CD 20〇5, Bayer AG)之15〇微米厚薄膜。在此 薄膜上度量出玻璃轉移溫度為142°C,及流變光學常數為 + 5·4 GPa—1 (參閱表 2)。 表1 不同立體規則性之聚苯乙烯之氫化作用 實例 聚合物質量 溶劑 觸媒質量 反應溫度 氫壓力 反應時間 氩化度 編號 克 毫升 克 r 巴 小時 % 1 25.92) 300毫升 環己烷 12.53) 200 50 6 100 A 2.5 300毫升 環己烷 12.5” 200 85 24 100 U藉1H-NMR光譜學測定 2)聚苯乙烯,158 K玻璃透明型,Mw = 280000克/莫耳, BASF AG, Ludwigshafen, Germany 3) Ni/Si02/Al2 03,64-67% 鎳,Aldrich 4) 5 % 趣> / 疏酸鋇,Aldricli。 表2 各種乙烯基環己烷均聚物之熱與光學性質 實例 編號 同排二價基3) % 對排二價基3) % 玻璃溫度Tg °c 炼點Tm °C 流變光學常數CR GPa"1 1 41 59 145 - -0.3 A <2 >98 126 295 .2) B >98 <2% .1) 369 .2) C 142 +5.4 -15- 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) Λ4規格(210'乂297公從) -----------—装------——訂------ ..... (請先閲讀背面之注意事項再填{馬本頁) ‘ 經濟部中央標率局員工消費合作社印裝 4 6 6 24 5 . Λ 7 ____Β7 五、發明説明(14 ) S"~ υ未藉DSC度量法檢測 2) 流變光學常數(^不能測定,因試樣為結晶性。 3) 藉二次元核磁共振光譜學(2D-NMR)測定。‘ 根據本發明之非晶質聚乙烯基環己烷(實例1),其特徵為 主要存在對排二價基。與聚碳酸酯比較,此材料具有遠低 於所關切數值之流變光學常數CR ’具有類似高熱撓曲溫度 (玻璃轉移溫度)❶因此,其特別適合高光學資料儲存密 度。由於其結晶度與低透明性,故上述對排與同排材料不 適合光學應用。 (請先閲讀背面之注意事項再填霜本頁} .i衣 丁 S·30 經濟部中央標準局員工消費含作社印製 -16 本紙法尺度適用中國國家榇準(CNS ) Λ4規格(210X 297公赴)

Claims (1)

  1. 4 66 24 5
    A8 B8 C8 D8 補充 本年月篇 專利申請案第87121112號 ^ ^R0£ Patent ΑΡΡ1η· No. 87121112 修正之申請專利範圍中文本-附件(二) AniMded Claim in Chinese — Enel. (ID 民國90年cf月今日送·呈)' (Submitted on August 31, 2001) 一種以乙烯基環己烷為底質之聚合物,其具有下式 重複結構單位 ,- I 2 Ric——R R——C
    R3 R4 ------I------ --- {琦先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 其中 R3與R4互相獨立表示氫或Ci_C6烷基,或r3與 R4共同表示次烷基, R1、R2及R5互相獨立表示氫或Cl_C6烷基,其 具有對排組態,其特徵在於二價基之量大於 50.1%,低於 74%。 2. —種以乙烯基環己烷為底質之聚合物,其中可用於 製造之共單體係選自以下族群中之至少一種單體, 烯烴’丙烯酸或甲基丙烯酸之烷基酯類,環戊二 烯’環己烯’環己二烯,視情況經取代之原冰片 烯’二環戊二烯,二氫環戊二烯,視情況經取代之 四環十二烯’核烷基化之苯乙烯,曱基苯乙 烯,二乙烯基苯,乙烯基酯類,乙烯基酸類,乙烯 基醚類,醋酸乙烯酯,丙烯腈,曱基丙烯腈,順丁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) * · β. 線. B G 24 5
    六、申請專利範圍 煉二針,其具有對排組態,其特徵在於二價基之量 大於50.1%,低於74%。 3.根據申請專利範圍第1項之聚合物 量為52至70%。 4·根據申請專利範圍第1項之聚合物 光學資料儲存介質、模製物及薄膜 5.根據申請專利範圍第2項之共聚物 光學資料儲存介質、模製物及薄膜 其中二價基之 其係用於製備 其係用於製備 經濟郞智慧財產咼員X-消費合作f£印sis- -18 - 良紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) {請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
    90. 9 青案第871211
    專利申..... . ROC Pateni Appin. in ο. 8 7121112 中文說明書修正第1及2頁-附件(三) Amended Pages 1 and 2 of ^Chinese Specification- End. (ΙΙΠ (民國90年$網3日修正並送呈) (Amended Sc Submitted on August 31,2001) 466245 經濟部智竑"邊^吕工"費合作社印製 集J專利説明書 發明W 一、新型名稱 中文 以乙烯基環己烷為底質之聚合物與共聚物 英文 Polymers and copolymers based on vinyl cyclohexane 姓名 1. 魏歐克 Volker Wege 2. 杜瑞夫 Ralf Dujardin 3. 陳私 Yun Chen 4. 阮喬漢 Johann Rechner 5. 普 _ 飢 Friedrich-Karl Bruder 國 藉 1.2. 4. 5.皆德國籍 3.中國籍 _發明 一、創作 住、居所 — 1. 德國科瑞得城畢曼街45號 Bismarckplatz 45f 47799 Krefeld, Germany 2. 美國密蘇里州諾维市哈頓街45423號 45423 Halston Court, Novi, MI 48374, USA 3. 德國科瑞得城伯迪街12號 Bodelschwinghstr. 12,47800 Krefeld, Germany 4德國凱派城費可街2號 Friedrich-Kramer-Str. 2,47906 Kempen, Germany 5.德國科瑞得城伯迪街20號 Bodelschwinghstr. 20,47800 Krefeld, Germany 姓 名 (名稱) 國藉 1. 德商拜耳廠股份有限公司 Bayer Aktiengesellschafl 2. 日商天競有限公司 Teijin Ltd. 1. 德國 2. 曰本 三、申請人 住、居所 (事務所] 代表人 1. 德國利佛可生城拜耳工業區D51368 D 51368 Leverkusen, Bayerwerk, Federal Republic of Germany 2. 曰本大阪府大阪市中央區南本町1-6-7 6-7, Minamihommachi, 1-chome Chuo-ku, Osaka-shi, OSAICA 541-0054, Japan 姓 名 1. 白羅夫(Dr. Rolf Braun) 羅勞斯 jpr. Klaus Reuter) 2. 西田政男(Masao Nishida) 裝 訂 線 β 87458 修刪/WC 466 245 四、中文發明摘要(發明之名稱:以乙稀基環己旋為底'貫-之聚奋物與共聚物 本發明係關於以乙烯基環己烷(VCH)為底質之聚合 物與共聚物’其具有主要為對排之組態,以及其作為光學 材料、模製物及薄膜之用途。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁各櫊) •裝. 英文發明摘要(發明之名稱:Pelymeirs and based on vinyl ) cyclohexane The present invention relates to polymers and co-polymers based on vinyl cyclohexane (VCH) with predominantly syndiotactic configuration and their use as optical material, mouldings and films. 訂. 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 2- 87458 本紙張尺度通用中國國家標準(CNS ) A4规格(210X297公釐) 4 66 24 5
    A8 B8 C8 D8 補充 本年月篇 專利申請案第87121112號 ^ ^R0£ Patent ΑΡΡ1η· No. 87121112 修正之申請專利範圍中文本-附件(二) AniMded Claim in Chinese — Enel. (ID 民國90年cf月今日送·呈)' (Submitted on August 31, 2001) 一種以乙烯基環己烷為底質之聚合物,其具有下式 重複結構單位 ,- I 2 Ric——R R——C
    R3 R4 ------I------ --- {琦先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 其中 R3與R4互相獨立表示氫或Ci_C6烷基,或r3與 R4共同表示次烷基, R1、R2及R5互相獨立表示氫或Cl_C6烷基,其 具有對排組態,其特徵在於二價基之量大於 50.1%,低於 74%。 2. —種以乙烯基環己烷為底質之聚合物,其中可用於 製造之共單體係選自以下族群中之至少一種單體, 烯烴’丙烯酸或甲基丙烯酸之烷基酯類,環戊二 烯’環己烯’環己二烯,視情況經取代之原冰片 烯’二環戊二烯,二氫環戊二烯,視情況經取代之 四環十二烯’核烷基化之苯乙烯,曱基苯乙 烯,二乙烯基苯,乙烯基酯類,乙烯基酸類,乙烯 基醚類,醋酸乙烯酯,丙烯腈,曱基丙烯腈,順丁 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) * · β. 線.
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