TW463039B - Baffle for a capacitive pressure sensor - Google Patents
Baffle for a capacitive pressure sensor Download PDFInfo
- Publication number
- TW463039B TW463039B TW089118384A TW89118384A TW463039B TW 463039 B TW463039 B TW 463039B TW 089118384 A TW089118384 A TW 089118384A TW 89118384 A TW89118384 A TW 89118384A TW 463039 B TW463039 B TW 463039B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- sensor
- diaphragm
- scope
- patent application
- plate
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L19/00—Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
- G01L19/06—Means for preventing overload or deleterious influence of the measured medium on the measuring device or vice versa
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L19/00—Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
- G01L19/06—Means for preventing overload or deleterious influence of the measured medium on the measuring device or vice versa
- G01L19/0627—Protection against aggressive medium in general
- G01L19/0636—Protection against aggressive medium in general using particle filters
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
Description
4 6303 9 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明(-- 發明背景 本發明是關於-種電容式壓力感測器,其感測—膜片 與一電極之間的電容改變。 電容式壓力感測器用於很多用途,包含天氣控制系統 5與半導體處理。廢力感測器具有一外殼、一在外殼中用於 接收被感測壓力之流体(氣体或液体)的輸入、一導電性撓 性膜月及一鄰近於膜片的電極。膜片與電極之間具有—電 容。當膜片響應於來自流體之壓力而相對於電極移動的時 候’感測器感測電容的\改變。 10 所欲者為,在待感測壓力的流體入口與撓性臈片之間 具有一阻板。阻板幫助防止污物污染膜片。美國專利 5,811,685號,其附於此供各種目的之參考,描述—阻板 與某些先如的阻板設計。專利又討論阻板在此感測器中的 理由與利益。 15 發明概述 本發明的電容式壓力感測器具有一外殼、一膜片與— 阻板’外殼具備一入口以用於接收流體,膜片響應於流體 的壓力而撓曲,阻板的設計是提供一高展弦比徑向路徑, 20 以用在流動於入口與膜片之間的氣体分子。較佳地,本發 明也包含一粒子捕捉系統(其亦為阻板),系統安置成為俾 使阻板在捕捉系統與膜片之間。由阻板形成之一路徑的展 弦比(徑向長度與間隙的比)大於1〇 ’較佳為大於50。 在另一特色中,電容式壓力感測器具有一外殼、一膜 ^紙張Hi®财關冢標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) IJ xtx i ---------------. f請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 46303 9
片與—阻板’外殼具借—人口以用於接收流體,膜片響應 於流體的壓力而撓曲,阻板在人π與膜片之間,阻板的設 計是俾使自入口至膜片的分子所採取之路徑產生分子流, 其與層流相反。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 5 卩且板較佳為安置絲近膜#,以致於它們之間具有小 的空間,俾使感測器快速響應於氣体壓力的改變。 2板形成之較高的展弦比路徑使分子到達膜月撓曲部 为以别粘附於阻板或外殼表面的可能性增加,藉以保護膜 片防止殿積。阻板與膜片之間的小空間不會使響應時間減 10少,而大的空間則會。其他特性與優點從下面詳細說明、 圖與申請專利範圍將可明白。 圖式簡單說明 圖1疋依據本發明之感測器的一半之剖視圖。 15 圖2是粒子捕捉的平視圖。 圖3是依據本發明之阻板的平視圖。 詳細說明 圖1顯示感測器10的一部分之一對稱半部的剖視 20圖。感測器10具有一外殼構件12,其具備一入口 14,用 於接收待感測的流體。一膜片16焊接於外殼構件12與另 一外殼構件18之間。一室20由膜片16與外殼構件18圍 繞,且具有所欲的壓力,例如,零壓力。鄰近於膜片Μ 者是一電極22,其由一柱24支撐。雖然在此處顯示成單 -4- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐了 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ——訂---------線〇--------------------- 4β303 9 經濟部智1財產局員工消費合作社印製 Α7 Β7 五、發明說明( -導電片’但電極可以是形成於—介電(H)碟片上的一 或更多導電薄膜。膜片與電極之間具有一電容。膜片 響應於在人口 14中之流體壓力的改變而撓曲,於是改變 膜片與電極之間的電容。 5 在入口與膜片之間的路徑者是一捕捉系統28,而在 捕捉系統28與膜片16之間者是一阻板3〇。捕捉系統28 的設計更詳細說明於所附的專利。此處也參考圖2,捕捉 系統28具有一中央部分34,其直徑大於入口 M,以將自 入口至膜片的直接路徑、堵塞。圍繞於中央部分者是很 10多周緣開口 36。這些開口形成二系列扇區,其繞著捕捉 .系統而在圓周方向均勻隔離,且亦配置在徑向的不同直 徑。 參考圖1,來自入口 14的粒子通過外殼構件12與捕 捉系統28之間的環形區域38,然後通過開口 36(除非粒 15子小到不能搭配環形區域或開口)。環形區域38與開口 36具有適當尺寸’以防止相當大的粒子(例如,25〇微米 及更大)通過。 也參考圖3,阻板30基本上是圓形金屬板’具備複 數圍繞於圓周之均勻隔離的調整片4〇β這些調整片基本 20上界定很多環形扇區42,其在阻板30與外殼構件12之 間的徑向寬度和調整片的長度相同。於是,阻板的設計及 其相對於外殼的位置將開口界定為流體可以通過的扇區。 阻板30安置成與外殼構件12相鄰,以界定一徑向路 徑44 ’用於供包含任何污染物類成分的氣体流動於開口 本紙張尺度適用t國國家標準(CNS)A4規格(21G X 297公楚)
463039 五、發明說明
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ”裒形扇區42之間,然後流到膜片l6。此徑向路徑的 展弦比界定為自開口 36至環形扇區42的路徑之一徑向長 度1與間隙d之比,間隙d代表阻板30與外殼構件12之 間的間隙。依據本發明之展弦比大於1〇,較佳為大於 5 50。長度較佳為至少〗公分,較佳為在約1_4公分的範 圍’間隙較佳為不大於約〇丨公分,較隹為在約〇〇25_〇:1 公分的範圍。 行進於此高展弦比路徑的污物分子在行進於此路經 時,可能與阻板30及外殼構件12的表面碰撞數百次。此 10分子澱積於阻板30或外殼構件12的表面之機率是這些磕 撞的數目與粘性係數的函數。隨著碰擭的數目増加。此分 子澱積的可能性戲劇性地上升。如果碰揸的數目大於 100,則即使是低的的數目與粘性係數亦將導致澱積於阬 板與外殼表面之高機率,藉以保護膜片,以防澱積污染物 15類。於是,路徑的設計使得污物殺積很可能發生。 路徑產生一在正常真空處理狀況的分子流,即’小於 1 〇 0 m T。此分子流促使橫㈣隙的分子與表面發生多次礙 才里,此與層流相反,其令流動之一邊界層圍繞且孤立—令 心流。在分子射,其錢⑽反,—分㈣平均自由路 20徑遠大於路徑(此處係間隙)的尺寸;即,一分子撞擊路徑 之壁比它撞擊其他分子還要頻繁。 = 如果阻板與膜片之間有大的空間,則膜片的響應時間 由於所產生的氣壓時間常數而減少,氣壓時間常數定義為 V/C ’其中V是在-具備電導C之通路後方的体積。然、' 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)
A7
46303 9 五、發明說明( 而’藉由本發明’阻板與膜月之間的空間小,以致於響應 快速’即使小間隙由於將流動收縮而施加較低的電導時亦 然。阻板30與膜片16之間的間隙g較佳為在約_ 0.1公分的範圍’且阻板30與膜片16之間的内部空間5〇 5較佳為小於〇·1立方叫'(1‘6立方公分),且大於〇·〇5立方 吋(0.8立方公分)。 捕捉系統28較佳為由抗腐蚀、不污染的材料製成, 諸如不銹鲫或諸如英高鎳的合金。阻板30亦較佳為由金 屬製成。 10 本發明的阻板於是提供一有利的長路徑,用於允許分 子碰撞及在到達膜片以前撞擊,同時在阻板與膜片之間提 供一小而有利的空間。 在說明本發明的實施例以後’應該明白,可以做修改 而不偏離由附屬申請專利範圍所界定之本發明的範鳴。例 15 如’阻板系統可以使用一差動電容器感測器。 圖式之代號說明 ---------------ill-------------^ 1^)^.. f請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20 符號 10 12 14 16 18 20 名稱 感測益 外殼構件 入口 膜片 外殼構件 室 -7- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) 46303 9 A7 五、發明說明( 6) 22 電極 24 柱 28 捕捉糸統 30 阻板 5 34 中央部分 36 周緣開口 38 環形區域 40 調整片 42 環形扇區 10 44 徑向路徑 d 間隙 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -1 -------—訂------— i— . 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)
Claims (1)
- 46303 9 Λ8 B8 C8 D8 六、申請專利範園 1_ —種電谷式麼力感測器,包括: —外殼,外殼具備一入口以用於接收流體; (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 一膜片’膜片響應於流體的壓力而撓曲; 一電極,其與電容器隔離,以界定一電容,電容響應於 5 膜片的移動而改變;及 —阻板,阻板安置於入口與膜片之間,且界定一或更多 開口,分子在到達膜片以前通過該開口,阻板的安置與 形狀係俾使在分子能到達膜片以前,分子必須自入口沿 者在外咸與阻板之’間的路徑行進而到達開口,其中路 10 徑長度與一在外殼與阻板之間的間隙之比率至少為10。 2·如申請專利範圍第1項之感測器,其中比率至少為5〇。 、1T 3,如申請專利範圍第1項之感測器,其中阻板與膜片的間隔 不大於0.1公分。 4-如申請專利範圍第1項之感測器,其中阻板與膜片之間的 15 空間不大於1.6立方公分。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 5 ’如申3青專利範圍弟1項之感測器,又包括一在入口與阻板 之間的粒子捕捉器,捕捉器具有一越過入口的封閉中央 部分與在周緣區域中的開口。 6. 如申請專利範圍第5項之感測器,其中阻板實質上為圓 20 开^,具備被數卓間隔的調整片,以在調整片之間於圓周 方向及在阻板與外殼之間於徑向界定如同開口的環形 扇區。 7. 如申請專利範圍第6項之感測器,其中路徑的長度是握 46303 9 A8 BS C8 D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 ~~ 向’且自捕捉器的開口延伸至阻板中的扇區。 8·如申請專利範圍第1項之感測器,其中阻板實質上為圓 形’具備複數等間隔的調整月’以在調整片之間界定扇 區0 5 9’如申請專利範圍第1項之感測器,其中路徑的長度至少為 1公分。 “ 10.如申請專利範圍第9項之感測器,其中路徑的長度在i 公分至4公分的範圍。 η·如申請專利範圍第9項之感測器,其中間隙不大於〇1公 ίο 分。 12.如申請專利範圍第丨項之感測器,其中間隙不大於〇. 1公 分。 13·一種電容式壓力感測器,包括: 一外殼,具備一入口,入口在一平面具有第—直徑; 15 一第一阻板構件,其具備一平行於平面的封閉中央部 刀,且具有大於第一直徑的第二直徑,以及周緣開口, 用於允許小於開口的粒子通過; 撓性膜片’其平行於平面且連接至外殼;及 —平行於平面的第二阻板構件,第二阻板安置在膜片與 20第一阻板構件之間,且具有大於第二直徑的第三直徑, 以及一與外殼隔離的周緣,以允許流体自垂直於平面的 方向通過。 14·如申請專利範圍第13項之壓力感測器,其中一在第一阻 -10 ” 本f張纽適用中關家榇準2獻297公$)-_- ---------楚--v—:—:―訂.------绛) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 463039 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範園 板構件的開口與周緣之間的徑向路徑具有大於丨〇的展 弦比。 裝^-I , - (請先W讀背面之注意事項再填寫本頁} 15.如申請專利範圍第14項之壓力感測器,其中展弦比大於 50。 ' 5 i6.如申請專利範圍第η項之壓力感測器,其中外殼具有一 環形開口,以允許粒子自入口行進至第一阻板構^中的 開〇。 17·如申請專利範圍第項之㈣感測器,其中第二阻板構 件與膜片之間的空間、小於1.6立方公分。 丨。如申請專利範圍第π項之壓力感測器,其中第一阻板構 件的開口與周緣之間的徑向路徑具有大於1〇的展弦比。 r、1T· _ 19 ·如申請專利範圍第〗8項之壓力感測器,其中展弦比大於 50 〇 、 20. —種電容式壓力感測器,包括: 15 一外殼,外殼具備一入口以用於接收流體; 線 一膜片,膜片響應於流體的壓力而撓曲; 經濟部智慧財產局員工消f合作社印製 一電極,其與電容器隔離,以界定—電容,電容響應於 膜片的移動而改變;及 一阻板,阻板安置於入口與膜片之間,且界定一或更多 2〇 開口,分子在到達膜片以前通過該開口,阻板的安置與 形狀係俾使在分子能到達膜月以前,分子必須自入口沿 著一在外殼與阻板之間的路徑行進而到達開口,其中路 輕的幾何形狀產生一分子流。 本紙 (21Q謂公兼) 46303 9 Αδ Β8 C8 D8 10 六、申請專利範圍 21·如申請專利範圍第2〇項之感測器,其中阻板與膜片之間 的空間不大於1.6立方公分。 22_如申請專利範圍第20項之感測器,又包括一在入口與阻 板之間的粒子捕捉器,捕捉器具有一越過入口的封閉中 央部分與在周緣區域中的開口。 23. 如申請專利範圍第22項之感測器,其中阻板實質上為圓 形,具備複數等間隔的調整片,以在調整片之間於圓周 方向及在阻扳與外殼之間於徑向界定如同開口的環形 扇區。 24. 如申請專利範圍第23項之感測器,其中路徑的長度是徑 向’且自捕捉器的開口延伸至阻板中的扇區6 25如申請專利範圍第20項之感測器,其中阻板實質上為圓 形’具備複數等間隔的調整片,以在調整·片之間界定扇 區。 15 ---------裝1! (請先閱讀背面之注#^項再填寫本頁) 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 12 本紙張又度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/394,804 US6443015B1 (en) | 1999-09-10 | 1999-09-10 | Baffle for a capacitive pressure sensor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW463039B true TW463039B (en) | 2001-11-11 |
Family
ID=23560493
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW089118384A TW463039B (en) | 1999-09-10 | 2000-09-08 | Baffle for a capacitive pressure sensor |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6443015B1 (zh) |
EP (2) | EP1340971B1 (zh) |
JP (2) | JP2003508780A (zh) |
KR (1) | KR20020033173A (zh) |
DE (2) | DE60017954T2 (zh) |
TW (1) | TW463039B (zh) |
WO (1) | WO2001018516A1 (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108458828A (zh) * | 2017-02-17 | 2018-08-28 | 阿自倍尔株式会社 | 静电电容型压力传感器 |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6901808B1 (en) * | 2002-02-12 | 2005-06-07 | Lam Research Corporation | Capacitive manometer having reduced process drift |
US7252011B2 (en) * | 2002-03-11 | 2007-08-07 | Mks Instruments, Inc. | Surface area deposition trap |
US6993973B2 (en) * | 2003-05-16 | 2006-02-07 | Mks Instruments, Inc. | Contaminant deposition control baffle for a capacitive pressure transducer |
JP4177294B2 (ja) * | 2004-06-07 | 2008-11-05 | 三菱電機株式会社 | 圧力センサ装置 |
DE102008025045A1 (de) * | 2007-06-02 | 2008-12-04 | Marquardt Gmbh | Sensor |
TWI532982B (zh) | 2011-10-11 | 2016-05-11 | Mks公司 | 壓力感測器 |
JP6002016B2 (ja) * | 2012-11-30 | 2016-10-05 | アズビル株式会社 | 静電容量型圧力センサ |
JP2014126504A (ja) * | 2012-12-27 | 2014-07-07 | Azbil Corp | 静電容量型圧力センサ |
US10107315B2 (en) * | 2013-04-30 | 2018-10-23 | Mks Instruments, Inc. | MEMS pressure sensors with integrated baffles |
JP6231812B2 (ja) * | 2013-08-09 | 2017-11-15 | アズビル株式会社 | 静電容量型圧力センサ |
US9430925B2 (en) * | 2014-09-05 | 2016-08-30 | Google Inc. | Detector unit and sensing chamber therefor with matter retention member and method for making same |
EP3109612A1 (en) | 2015-06-26 | 2016-12-28 | Nina Wojtas | Mems deposition trap for vacuum transducer protection |
JP6985071B2 (ja) * | 2017-09-05 | 2021-12-22 | アズビル株式会社 | 異常検知方法および異常検知装置 |
DK3737926T3 (da) * | 2018-01-09 | 2023-01-16 | Kistler Holding Ag | Beskyttelsesanordning |
JP7085898B2 (ja) * | 2018-05-25 | 2022-06-17 | 東京エレクトロン株式会社 | ラジカル失活部品及びこれを用いたプラズマ処理装置 |
JP2020030066A (ja) | 2018-08-21 | 2020-02-27 | アズビル株式会社 | 圧力センサ |
JP2021025957A (ja) | 2019-08-08 | 2021-02-22 | アズビル株式会社 | 圧力センサ |
JP7444628B2 (ja) | 2020-02-19 | 2024-03-06 | アズビル株式会社 | 圧力センサ |
US11287342B2 (en) | 2020-03-20 | 2022-03-29 | Mks Instruments, Inc. | Capacitance manometer with improved baffle for improved detection accuracy |
CN114264403A (zh) * | 2021-12-03 | 2022-04-01 | 北京晨晶精仪电子有限公司 | 真空规颗粒阻挡结构 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3675072A (en) * | 1971-01-28 | 1972-07-04 | Atomic Energy Commission | Fast-closing valve system for cyclotrons |
US4020674A (en) * | 1976-05-19 | 1977-05-03 | Harry Robert Fechter | Pipeline leak detector with baffles |
JPS58101155U (ja) * | 1981-12-29 | 1983-07-09 | 株式会社大阪真空機器製作所 | 真空計用ダストトラツプ |
JPH0812123B2 (ja) * | 1987-11-27 | 1996-02-07 | 日本碍子株式会社 | 圧力センサ |
JPH0311583A (ja) * | 1989-06-08 | 1991-01-18 | Showa Kogyo Kk | 面状発熱体およびその製造法 |
US5271277A (en) * | 1991-12-23 | 1993-12-21 | The Boc Group, Inc. | Capacitance pressure transducer |
JP3011583U (ja) * | 1994-11-25 | 1995-05-30 | エヌテーシー工業株式会社 | 半導体圧力センサを用いた水位検出器 |
US5808206A (en) * | 1996-01-16 | 1998-09-15 | Mks Instruments, Inc. | Heated pressure transducer assembly |
US5811685A (en) * | 1996-12-11 | 1998-09-22 | Mks Instruments, Inc. | Fluid pressure sensor with contaminant exclusion system |
JPH11201847A (ja) * | 1998-01-19 | 1999-07-30 | Fuji Electric Co Ltd | 静電容量式圧力センサ |
US5948169A (en) | 1998-03-11 | 1999-09-07 | Vanguard International Semiconductor Corporation | Apparatus for preventing particle deposition in a capacitance diaphragm gauge |
-
1999
- 1999-09-10 US US09/394,804 patent/US6443015B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-09-08 KR KR1020027003157A patent/KR20020033173A/ko not_active Application Discontinuation
- 2000-09-08 WO PCT/US2000/024862 patent/WO2001018516A1/en active IP Right Grant
- 2000-09-08 DE DE60017954T patent/DE60017954T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-09-08 DE DE60007884T patent/DE60007884T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-09-08 JP JP2001522057A patent/JP2003508780A/ja active Pending
- 2000-09-08 EP EP03012375A patent/EP1340971B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-09-08 EP EP00961773A patent/EP1214573B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-09-08 TW TW089118384A patent/TW463039B/zh not_active IP Right Cessation
-
2011
- 2011-02-28 JP JP2011041671A patent/JP5453335B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108458828A (zh) * | 2017-02-17 | 2018-08-28 | 阿自倍尔株式会社 | 静电电容型压力传感器 |
CN108458828B (zh) * | 2017-02-17 | 2020-12-18 | 阿自倍尔株式会社 | 静电电容型压力传感器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20020033173A (ko) | 2002-05-04 |
EP1214573B1 (en) | 2004-01-21 |
JP2003508780A (ja) | 2003-03-04 |
DE60017954T2 (de) | 2006-01-12 |
DE60007884D1 (de) | 2004-02-26 |
EP1340971A2 (en) | 2003-09-03 |
JP5453335B2 (ja) | 2014-03-26 |
EP1340971A3 (en) | 2003-10-01 |
US6443015B1 (en) | 2002-09-03 |
DE60017954D1 (de) | 2005-03-10 |
JP2011149946A (ja) | 2011-08-04 |
WO2001018516A1 (en) | 2001-03-15 |
EP1214573A1 (en) | 2002-06-19 |
EP1340971B1 (en) | 2005-02-02 |
DE60007884T2 (de) | 2004-12-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW463039B (en) | Baffle for a capacitive pressure sensor | |
TW409181B (en) | Fluid pressure sensor with contaminant exclusion system | |
JP4490108B2 (ja) | 表面領域付着トラップ | |
TWI316602B (en) | Transducer | |
JP4739478B2 (ja) | 圧力および力のプロファイル検出装置 | |
US6032536A (en) | Pressure sensor and method for detecting pressure | |
US20210102884A1 (en) | Antimicrobial particle detectors | |
TW201514459A (zh) | 靜電容量型壓力感測器 | |
WO2007084271A2 (en) | System for heating liquids | |
TW422717B (en) | A filtration device, reflector means, method of filtering particles from a fluid stream, and method of cleaning filter means of particles retained thereon | |
US20190041247A1 (en) | Micro Flow Measurement Devices and Devices with Movable Features | |
Ananth | Experimental and numerical investigations of particulate contamination in disk drives | |
KR20160147161A (ko) | 유량 및 압력 감지 기판 제조방법 | |
JPH0524185Y2 (zh) | ||
Sep | 1996 Index IEEE/ASME Transactions on Mechatronics | |
JPH08122115A (ja) | 流体流量計 | |
JP2003121217A (ja) | 渦流量計 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GD4A | Issue of patent certificate for granted invention patent | ||
MK4A | Expiration of patent term of an invention patent |