TW452671B - Liquid crystal display device and method for manufacturing the same - Google Patents

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452871 _案號87116561_年月日 修正_ 五、發明說明（1) 發明背景 1 .發明範圍 本發明有關於設置有TFT(薄膜電晶體）或切換元素等的 液晶顯示裝置，及其製造方法。 2.前案說明 目前液晶顯示裝置的一般結構是兩個玻璃基板互相具有 一透明電極表面，而液晶設置在兩個基板之間。為了使兩 個基板之間的干擾維持一定，均一顆粒直徑的間隔物如塑 膠粒則散佈在基板之間。 此結構一般有一個問題，當散佈在兩個基板之間的間隔 物其附近的液晶分子受到干擾時，會在受干擾定位的間隔 物周圍漏出光線，因此使得對比劣化。 此外很難在基板之間均一的散佈間隔物，而且基板之間 因為線，切換元素，彩色濾波器等所產生的不規則使得密 閉式液晶層的厚度不均一，而且是由間隔物的排列位置來 決定，其使得顯示劣化又減少產品的產量。 為了應付這些問題，而提議藉由使用光阻等來形成柱狀 間隔物。 然而在以下例子中，形成柱狀間隔物之後才施加具方向 性之薄膜的樹脂，並且作磨擦處理，其中以磨擦布磨擦具 方向性之薄膜的樹脂膜以便沿著一方向在具方向性之薄膜 的樹脂膜上形成許多良好的溝，因此產生了一個問題，即 部分樹脂膜沒有被磨擦，這是因為間隔物的凸出以及該部 分變成一個定位干擾區域，其使得顯示品質劣化。此外因 為磨擦處理使得柱狀間隔物從基板中掉落。

O:\54\54867.ptc 第6頁 4526 7 1 _案號87116561_年月 η 修正_____ 五、發明說明（2)

為了解決這些問題，曰本的待實審專利公告JP-A 9-73088(1997)及JP-A 6-175133(1994)即揭示以下的方 法。 如上所述由於在間隔物的凸出部找到定位干擾，因此在 這兩個公告案中揭示一種方法，其中間隔物是相隔的。其 位置使得定位干擾區域在不延伸至像素的間隔物中開始， 以致於定位失效僅發生在對於顯示品質，使用線以及基板 上的膜及蔽光區域無直接影響的部分。 此外J P - A 9 - 7 3 0 8 8揭示一種方法以減少磨擦布堆保有的 電阻並減少定位失效，製成的間隔物在一部分有一端點， 其一部分與磨擦布接觸，具有平滑漸縮形狀，以及剖面是 橢圓，三角形，菱形等的形狀》 此外JP-A 9-73088揭示一種方法以解決間隔物從基板掉 落的問題，製成的間隔物形狀為橢圓柱而橢圓柱的縱向作 成與磨擦方向平行，因此維持間隔物的機械強度同時使間 隔物的負荷減至極小。 然而因為在上述二個專利公告案中揭示的任何方法並沒 有考慮到間隔物黏著到基板的強度，因此由於磨擦處理中 堆疊的壓力使得間隔物掉下。 尤其是JP-A 9-73088有一個問題即間隔物位於由黑色樹 脂製成的蔽光層之上，所以間隔物黏著到蔽光層的黏著強 度極低，因此間隔物很容易在磨擦處理時從基板掉落。這 是因為由黑色樹脂製成的蔽光層的上表面一般是平的，因 此間隔物的黏著強度較低。此外雖然將間隔物設計成具有 平滑形狀以使磨擦布對於間隔物的負荷減到極小，但是間

O:\54\54867.ptc 第7頁 4 5267 案號 87116561 曰 一修正 五、發明說明（3) 隔物黏著到 本上並沒解 形等的剖面 等，所以會 換言之， 域形成，其 黏著區域以 方向性之薄 _改善。此外 因為磨擦布 此外*因為 用以在間隔 重問題，即 像後印出等 6-175133 的 免磨擦失效 發明概述 本發明之 知者更均一 黏著力之柱 防止顯示品 在本發明 含：一液晶 液晶層置於 至少諸切換 基板表面的 決。此外為 形狀，需要 增加成本與 在JP_A 6-1 位於像素之 達到強化黏 膜上形成的 因為間隔物 的壓力所以 具方向性之 物形成過程 規定液晶分 原因而使得 技術並沒有 時附帶產生 目的是規定 及正確，藉 狀間隔物以 質劣化，而 之第一特徵 層’及一主 其間，主動 元素及像素 強度並沒有增強，因此這些問題基 了使間隔物具有橢圓，三角形，菱 精準且複雜的微影，蝕刻處理操作 減少產量。 75133中的間隔物是由不均勻的區 間或疋在切換元素上，以得到寬的 著強度的目的，然而間隔物是在具 ’這導致不能達到黏著強度的明顯 形成之後才執行磨擦處理，因此， 仍存在間隔物從基板掉落的問題β 薄膜的表面暴露在化學藥劑之下， 中形成間隔物，因此會產生一個嚴 子定位的力量會減少，而且因為影 顯示品質劣化。此外因為J Ρ _ Α 考慮到間隔物的形狀，因此不能避 的定位失效》 基板表面間液晶層之厚度使其比習 由引入對於主動型矩陣基板^穩固 消除磨擦處理中產生之定位干^ 且可以簡單方式製造。 中’提供一種液晶顯示裝置其包 動型矩陣基板與一相對基板用以將 型矩陣基板具有排列成矩陣形十 電極；

O:\54\54867.ptc mm 4 526 7 1 _案號87116561_年月曰 修正_ 五、發明說明（4) 液晶顯示裝置更包含柱狀間隔物用以規定基板間之空 間，俾使間隔物黏著在主動型矩陣基板之液晶層側表面部 '分上，該等部分具有不規則形狀以及一近似漸縮之剖面； 其中柱狀間隔物根據主動型矩陣基板之液晶層側表面之 漸縮形狀而具有一漸縮角。 在本發明之第二特徵中，主動型矩陣基板在液晶層侧邊 更具有接至切換元素之線；以及 柱狀間隔物位於切換元素附近之線上。 在本發明之第三特徵中，柱狀間隔物位於切換元素上。 根據本發明的線因為像素中出現一圖樣去除部分，而具 有一凸面形狀剖面或一凹面形狀剖面，在任一情況下時常 具有一漸縮剖面。因此其具有一黏著區域大於柱狀間隔物 的剖面區域，所以在磨擦處理中柱狀間隔物不易與基板分 開，而柱狀間隔物在凸面或凹面部分形成之漸縮部分，可 能藉由反映底部形狀而變的平滑，因此因磨擦處理而導致 的定位干擾即減少。此外，以柱狀間隔物形成在切換元素 上為例，切換元素具有較複雜的不規則形狀，在上述例子 中可能增加黏著強度及得到一平滑的錐角。而且柱狀間隔 物的形成限定在一指定高度的位置，所以可正確地規定液 晶層的厚度。 在本發明之第四特徵中，液晶顯示裝置更包含一具方向 性之薄膜其形成在主動型矩陣基板之液晶層側表面上，而 且會沿著從柱狀間隔物至切換元素方向作磨擦處理。 在本發明在第五特徵中，選定磨擦方向俾使定位干擾區 域不會實質上重疊像素電極，該等區域形成在具方向性之

O:\54\54867.ptc 第9頁 452671 案號 87116561 Λ__3. 曰 五、發明說明（5) 薄膜的柱狀間隔物附 位中。 根據本發明，形成 中的定位干擾區域實 擾區域完全不影響液 高品質顯示。 在本發明之第六特 用以黏著柱狀間隔物 根據本發明，柱狀 相對基板，所以主動 此液晶層變成均一厚 近，在從柱狀 在具方向性之 質上不與像素 晶顯示裝置的 徵中，液晶顯 之頂點至相對 間隔物之頂點 型矩陣基板首 度，消除顯示 質。 在本發明之第 分，用以在層周 其中方位方位 根據本發明， 形成部分對應周 基板則經由周邊 設有柱狀間隔物 了顯示不均，及 在本發明之第 方法，該裝置包 相反基板用以將 動型矩陣基板排 及像素電極； 間隔物至磨擦方位之方 $膜上狀間隔物背面 ^，重叠，所以定位干 不品質，而且可得到 置更包含一黏著層 基板。 由"'黏著劑而黏著至 先黏著在相對基板β因 不均’及改善顯示品 七特 邊結 置於 柱狀 邊之 之此 ，以 進一 八特 含： 徵中 合主 面對 間隔 密封 密封 致液 步改 徵中 液晶層插 列在一矩 ，液 動型 密封 物形 部分 部分 晶層 善顯 ，提 晶層 置其 陣形 晶顯 矩陣 部分 成在 ，而 而結 之厚 示品 示裝 基板 之主 主動 主動 合在 度變 質。 置更包含一密封部 與相對電極； 動型矩陣基板上。 型矩陣基板上，該 型矩陣基板與相對 一起，該密封部分 液晶更均一，消除 供一種製造液晶顯示裝置之 動型矩陣基板與一 至少切換元素之主 至切換元素之線， ，及 間， 式中 一主 具有 ，接

^52671 ___案號 87116561 年月日_修正 五、發明說明（6) 該方法包含以下步驟： 施加一光阻樹脂至主動型矩陣基板之液晶層側表面，曝 光1顯影，及烘焙不規則表面，其係切換元素上或線上之 光阻樹脂之表面，及定型以形成柱狀間隔物；以及 施加一樹脂以成為一具方向性之薄膜，施加至形成間隔 物之主動型矩陣基板之液晶層侧表面，並且然後在一磨擦 方位執行一磨擦處理在樹脂膜，俾使定位干擾區域實質上 不與像素電極重疊，該等區域形成在柱狀間隔物附近。 在本發明之第九特徵中，製造一液晶顯示裝置之方法更 包含磨擦處理步驟後之以下步驟： 施加一黏著劑至柱狀間隔物頂點；以及 將主動型矩陣基板黏著在基板周邊之相對基板，同時經 由施加之黏著劑而黏著柱狀間隔物之頂點至相對基板，以 形成一密封部分。 在本發明之第十特徵中，不規則表面其係基板周邊上光 阻樹脂膜之表面’也曝光俾於形成柱狀間隔物步騍中形成 柱狀間隔物；以及 該方法更包含磨擦處理步驟後，在基板周邊黏著主動型 矩陣基板至相對基板俾於其間插置柱狀間隔物以形成密封 部分之步驟。 ' 根據本發明’如上所述地可能提供製造，種液晶顯示裝 置之方法》 ~ 附圖之簡單說明 由以下詳細說明並配合附圖，即可明了本發明之其他與 進一步目標、特徵及優點，其中：

O:\54\54867.ptc 第11頁 452671 _案號87116561_年月曰 修正_ 五、發明說明（7) 圖1A及1B是本發明第一實施例液晶顯示裝置9a的上視 圖； 圖2A及2B分別是柱狀間隔物5，51的侧視圖； 圖3A及3B是本發明第二實施例液晶顯示裝置9b的上視 圖； 圖4A及4B是本發明第三實施例液晶顯示裝置9c的上視 圖； 圖5 A及5 B是本發明第四實施例液晶顯示裝置9 d的上視 圖； 圖6A及6B是本發明第五實施例液晶顯示裝置9e的上視 圖； 圖7A及7B是本發明第六實施例液晶顯示裝置9f的上視 圖； 圖8A及8B是本發明第七實施例液晶顯示裝置9g的上視 圖； 圖9 A及9 B是本發明第八實施例液晶顯示裝置9 h的上視 圖； 圖1 Ο A及1 Ο B是本發明第九實施例液晶顯示裝置9 i的上視 圖； 圖1 1 A及1 1 B是本發明第十實施例液晶顯示裝置9 j的上視 圖； 圖1 2A及1 2E的側視圖顯示製造本發明液晶顯示裝置9k的 方法；以及 圖1 3 A及1 3 E的侧視圖顯示製造本發明液晶顯示裝置9 m的 另一方法。

O:\54\54867.ptc 第12頁 4^2Θ71 案號 87116561

五、發明說明（8) 較佳實施例之詳細說明 現在參考附來說明以下本發明的祕 圖是本發明第一實施例的；m w 圖。首先如習知者’藉由重覆形成一=.、"員不裝置9 a的上視 主動型矩陣基板，±動型矩陣基板設置= J造出-列在矩陣中的薄膜電晶體（TFT)，及蘭把有诚0 f如排 像素電極4其接至切換元素卜 &問極體2 ’源極線3及 接著藉由使：：：轉器將會變成柱狀間隔物的 ^入主動型矩陣基板。在此實施例中，使用一正型^ ^曰 光脂。否貝•卜可使用聚亞胺之類的。因為柱狀間 ，成在顯示區之外，因此不必考慮樹脂的顏色。唯一 2選擇-主樹脂’該樹脂可藉由曝光而硬化。若是在： =桂狀間隔物步驟之前執行具方向性之薄膜的形成步驟， 則定型柱狀間隔物的曝光會影響具方向性之薄膜，所以〇 =使用負型光阻樹脂。然而在此實施例中’是在形成柱^ 曰 1隔物步驟之後執行具方向性之薄膜的形成步驟，所以正 型與負型光阻樹脂都可使用’因此樹脂的選擇範圍較大。 光阻樹脂的膜厚’其根據光阻樹脂的施加量而決定柱狀 間隔物的高度。因此重要的是規定樹脂的密度及旋轉器的 轉數。在此實施例中，要求液晶層具有4·5 μπι的厚度及閘 極線具有0. 9 的厚度’所以樹脂是旋塗的以具有3. 6 的厚度。為了達成此目的，最好將樹脂旋塗丨2秒，其中旋 轉每秒旋轉5 8 0次。 接著，將會變成柱狀間隔物5的形狀藉由曝光到紫外線 (圖1 )而在閘極線2上定型。形成柱狀間隔物5的位置是在

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閘極線2上，並且與源極線的距離稍微比切換元素丨遠。然 後’使用顯影劑將不需要的樹脂去除並烘焙主動型矩陣^ 板’因此將樹脂形成的柱狀間隔物5硬化。 規定供培溫度及烘焙時間即可調整樹脂溶劑的蒸發速度 及樹脂的硬化速度’所以藉由將這二個速度調整到適當， 即可規定柱狀間隔物5的尖部形狀。在此實施例中以4 〇 預烘焙40分鐘，然後以2〇〇 t作主烘焙67分鐘。 至於主動型矩陣基板，其上有因此在閘極線2上形成的 柱狀間隔物5 ’藉由習知印刷方法而施加具方向性之薄膜 的聚亞胺類型的樹脂。即使用印刷方法在基板上施加具方 向性之薄膜用的樹脂膜，該基板因此設置有突出間隔物， 本發明的間隔物仍具有足夠平滑的漸縮形狀。因此在整個 間隔物附近都沒發現具方向性之薄骐用的樹脂膜的不平 均，以及由於該不平均而導致的定位失效。 然後將具方向性之薄膜用的樹脂膜烘焙並接著磨擦。在 此情況下如圖lb的箭號所示’柱狀間隔物5至切換元素1的 方位設定為磨擦方位6。因為在一般扭轉向列型液晶顯示 裝置中的磨擦方位是以閘極線方位形成45度角的方位，因 此將45度方位選定為磨擦方位6。在此情況下定位干擾區 域7是在一位置形成，即受到柱狀間隔物5的存在（參考圖 1 b的斜線部分）而使得磨擦布堆的接觸減弱之處，但是此 定位干擾區域7大致上不與像素電極4重疊並且不影響顯 示’所以不會劣化顯示品質。因此不必進—步設置蔽光元 件並降低孔徑比。 換言之’形成柱狀間隔物5的位置是根據磨擦方位6而決

O:\54\54867.ptc 第14頁 _案號 87116561 _年月曰_修正 _ 五、發明說明（10) 定的，該方位6指定液晶的定位。亦即，從一點沿著4 5度 磨擦方位6畫出一條線，以通過切換元素1的位置並與間極 線2交叉，且設定為形成柱狀間隔物5的位置〇 雖然我們只關心形成在閘極線2上的柱狀間隔物5與磨擦 處理中的主動型矩陣基板分開，或因使用情況而移到顯示 區域’藉以顯示品質劣化，但這種事實際上不會發生在此 實施例中。比較圖2A與圖2B即可了解用於此實施例的柱狀 間隔物5其對於主動型矩陣基板的黏著強度與其對於位在 相對基板的蔽光元件的平坦部分的黏著強度相比，前者較 大。圖2B顯示形成在平坦部分8上的柱狀間隔物51 ,而圖 2A顯示形成在閘極線2上的柱狀間隔物5。線部分一般在其 剖面具有一漸縮形狀’並且時常具有多層結構，結果是線 部分的剖面具有凸面形狀其具有近乎平滑的漸縮形狀。在 圖2 A的柱狀間隔物令，反映出閘極線2的這種凸面形狀。 結果，很明顯的在柱狀間隔物5的底部具有較大的黏著區 域’而柱狀間隔物5的尖部與圖2B的柱狀間隔物相比更為 平順。如以上習知所述，因為位於相對基板的蔽光膜大"致 是平坦的，若柱狀間隔物在蔽光膜上形成，即不可能改 黏著強度或使得錐角平順。在此實施例中，因為柱狀 物5的底部具有較大的黏著區域，所以能在底部與01^ 隔物之間作出穩固的黏著。 ' 狀間 磨擦步驟後，依照一般方法所使用的方式製造出— a 顯示裝置，經由一密封部分（其位於顯示部分的^周1液晶 主動型矩陣基板與相對基板結合，並用以維持B e )而將 » 曰自所i JM, iff ) 由環氧樹脂製造並且黏著在玻璃纖維之中以間— , 固疋。接著將

O:\54\54867.ptc 第15頁 452671 --案號 8711fi5Rl_年月日_修正__ 五、發明說明（11) 液晶密封在主動型矩陣基板與相對基板之間的空間，因此 而完成阻一液晶顯示裝置9a。 在上述位置以外，可以將柱狀間隔物5定型在如圖3 a至 圖7B所示的位置。在這些圖中，參考數值1表示切換元素 如薄膜電晶體’ 2表示閘極線，3表示源極線，4表示像素 電極’5表示柱狀間隔物，6表示磨擦方位而7表示定位干 擾區域。 圖3Α及3Β的液晶顯示裝置9b是以下列方式形成。在圖3Α 中’柱狀間隔物5形成在閘極線2上其位置對應於切換元素 1的閘極’然後具方向性之薄膜用的樹脂膜形成在主動型 矩陣基板上而且如圖3所示，在磨擦方位6將具方向性之薄 膜的樹脂作磨擦處理，其平行於源極線3而且從柱狀間隔 物5延伸到切換元素1如箭號所示。磨擦方位6中柱狀間隔 物5的下方則形成定位干擾區域7，但是此定位干擾區域7 與切換元素1重疊，而且大致上完全不會垂疊像素電極4。 因此該區域不影響顯示，所以不會發生顯示品質的劣化。 圖4A及4B的液晶顯示裝置9c是以下列方式形成。在圖4A 中，柱狀間隔物5形成在源極線3上其位置對應於切換元素 1的源極’然後具方向性之薄膜用的樹脂膜形成在主動型 矩陣基板上’而且如圖4b所示，在磨擦方位6將具方向性 之薄膜的樹脂膜作磨擦處理，其平行於閘極線2而且從柱 狀間隔物5延伸到切換元素1如箭號所示。雖然定位干擾區 域7在磨擦方位6中是從挺狀間隔物5的下方形成，此定位 干擾區域7在大致不與像素電極4重疊之下與切換元素1重 疊’而且不影響顯示，所以不會發生顯示品質的劣化。

O:\54\54867.ptc 第16頁 452671 五、發明說明（12) '兄,3 J 不柱狀間隔物5形成在切換元素1上的情 型矩陣Γ』ί置晶顯示裝置9d為例，在習知中，主動 2，源=ί ί ί ΐ m陣Λ的切換元素1，而間極線 覆作膜成型及定型而首先作出接&切換疋素卜並藉由重 ± ί i使=Γ旋轉器將要成為柱狀間隔物的光阻樹脂加人 矩1土板。而且在此實施例中，使用正型壓克力光 阻樹脂。柱狀間隔物5的高度是根據施加量而定，亦即， 光阻樹脂的^厚度β在此實施例中液晶層的厚度需要為4, 5yin而切換元素1的厚度為^以瓜，所以旋塗樹脂具有29 仁m的厚度。為了達成此目的，可適當的旋塗樹脂達12 秒，其中旋轉每秒旋轉6 4 0次。 接著，將會變成柱狀間隔物5的形狀藉由曝光到紫外線 (參考圖5Α)而在切換元素1上定型。然後，使用顯影劑將 不需要的樹脂去除並烘焙主動型矩陣基板，因此將樹脂形 成的柱狀間隔物5硬化。規定烘焙溫度及烘焙時間即可調 整樹脂溶劑的蒸發速度及樹脂的硬化速度，所以藉由將這 二個速度調整到適當，即可規定柱狀間隔物5的尖部形 狀。在此實施例中，以4 0 °C預烘焙1 〇分鐘，然後以2 〇 〇 作主烘焙6 7分鐘。 至於主動型矩陣基板，其上有因此在閘極線2上形成的 柱狀間隔物5，藉由習知印刷方法而施加具方向性之薄膜 的聚亞胺類型的樹脂《將具方向性之薄膜用的樹脂膜在 180 °C烘焙並接著磨擦。在此情況下如圖5b的箭號所示， 在磨擦方位6中作磨擦處理其以閘極線2及源極線3而形成

O:\54\54867.ptc 第17頁 45267 1 _案號87116561_年 月 日 修正_ 五、發明說明（13) 4 5度角，並且從柱狀間隔物5延伸到閘極線2與源極線3的 交點。如上所述，4 5度是一般扭轉向列型液晶顯示裝置中 的磨擦方位。定位干擾區域7形成的位置，因為柱狀間隔 物5的存在而使得磨擦布堆的接觸減弱，但是此定位干擾 區域7在大致不重疊像素電極4*之下與閘極線2及源極線3重 疊，且不影響顯示，所以不會使顯示品質劣化。因此不必 再設置一蔽光元件並且可以降低孔徑比。 圖6A及6B的液晶顯示裝置9e是以下列方式形成。在圖6A 中，柱狀間隔物5形成在切換元素1上，然後具方向性之薄 膜用的樹脂膜形成在主動型矩陣基板上，而且知圖6b所 示，在磨擦方位6將具方向性之薄膜的樹脂膜作磨擦處 理，其平行於源極線3而且從柱狀間隔物5延伸到閘極線2 如箭號所示。雖然定位干擾區域7在磨擦方位6中是從柱狀 間隔物5的下方形成，此定位干擾區域7在大致不與像素電 極4重疊之下與閘極線2重疊，而且不影響顯示，所以不會 發生顯示品質的劣化。 圖7A及7B的液晶顯示裝置9f是以下列方式形成。在圖7A 中，柱狀間隔物5形成在切換元素1上，然後具方向性之薄 膜用的樹脂膜形成在主動型矩陣基板上，而且如圖7b所 示，在磨擦方位6將具方向性之薄膜的樹脂膜作磨擦處 理，其平行於閘極線2而且從柱狀間隔物5延伸到源極線3 如箭號所示。雖然定位干擾區域7在磨擦方位6中是從柱狀 間隔物5的下方形成，此定位干擾區域7在大致不與像素電 極4重疊之下與源極線3重疊，而且不影響顯示，所以不會 發生顯示品質的劣化。

O:\54\54867.ptc 第18頁 452671 _案號 87116561 ___车月 曰 條正 _ 五、發明說明（14) 否則’柱狀間隔物可位於如圖8 A至圖1 i B所示的位置。 圖8A及8B的液晶顯示裝置“是以下列方式形成。在圖 中’柱狀間隔物5形成在輔助容量線2〇形成的部分上，其 形成在與閘極線2相同的步驟中，然後具方向性之薄膜用 的樹脂膜形成在主動型矩陣基板上，而且如圖8b所示，在 磨擦方位6將具方向性之薄膜的樹脂膜作磨擦處理，其平 行於源極線3而且從柱狀間隔物5延伸到閘極線2如箭號所 示。雖然定位干擾區域7因為磨擦處理而在磨擦方位6中是 從柱狀間隔物5的下方形成，此定位干擾區域7不與輔助容 量線20重疊而且不影響顯示，所以不會發生顯示品質的劣 化0 雖然圖9A及9B的液晶顯示裝置讣也形成在 上’但是圖9A的輔助容量線2。的形狀與圖= ; = 言之，線變形了所以形成柱狀間隔物5的部、 寬。柱狀間隔物5形成在辅助容量線2〇上的一 1 方向性之薄膜用的樹脂膜即形成在主動型矩陣1基板上，/而 且：圖9b所示方位將具方向性之薄臈的樹脂膜作磨 擦處理’從設置在辅助容量總20變形部分的邊緣部分的柱 狀間隔物5延伸到與其相對而且是離開最遠的邊緣部分， 如箭號所示。雖然定位干擾區域7因為磨擦處理而在磨擦 方位6的下方形成’此定位干擾區域7也可能藉由部分改變 辅助容量線2 0的寬度而與輔助容量線2〇重疊，而且不影響 顯示，所不會發生顯示品質的劣化。此外，因為輔助容量 線20的形狀僅在對應於柱狀間隔物5及定位干擾區域7的部 分中變形’所以能防止大幅降低像素孔徑比。在°液晶顯^

45267 1 五 案號 871lfiRfn 發明說明（15)

=，，在不影響顯示品質及電氣特性的角度下，改變 圖10A及10B的液晶顯示裝置91是以 10A所示，柱狀間隔物5形成在絕緣膜j ^ =成。如圖 (閘極絕緣膜或中間廣絕緣膜），其位置；：卞除部分21上 源極線3與像素電極4之間的漏泄。例如=閘極線2或 柱狀間隔物5形成在閘極線2與源極線3的交 =1〇Β中，

在圖樣去除部分2 1的角落部分，其平杆，附近，以及 線3。當柱狀間隔物5形成在圖樣去除；分；U尸與源極 面形狀近似凹面，柱狀間隔物5根據圖樣去上八:，其剖 :形狀也具有平滑的尖，，而柱狀間隔物5的：^ : J 基板上形成供具方向性之薄膜用的樹脂膜，在在一動型矩陣 方向性之薄膜的樹脂膜作磨擦處理，即從圖樣去除 延伸到間極線2與源極線3的交點，如箭號所示。雖然^位 干擾區域7因為磨擦處理而在磨擦方位6中是從下方形成， 此定位干擾區域7在大致不完得像素電極4之下與閘極 及源極線3重疊’且不影響顯示’所以不會發生顯示〇 的劣化。 ·'一'如 圖11Α及UB的液晶顯示裝置9〗是以下列方式形成。如圖 11A所示’柱狀間隔物5形成在偽圖樣22上形成，其形成時 間與形成閘極線2及源極線3的步驟時間相同。這種柱狀間 隔物5形成後’即在主動型矩陣基板上形成供具方向性之 薄膜用的樹脂膜，而且如圖11B所示，在一方位將具方向 性之薄膜的樹脂膜作磨檫處理如箭號所示β雖然定位干擾

452671 _案號87116561 年 月. 日___ 五、發明說明（16) 區域7因為磨擦處理而在磨擦方位6中是從下方形成，此定 位干擾區域7在大致不完得像素電極4之下與閘極線2及源 極線3重疊，且不影響顯示，所以不會發生顯示品質的劣 化。在液晶顯示裝置9 j中，在不影響顯示品質及電氣特性 的角度改變一圖樣。 柱狀間隔物5的位置及磨擦方位6並不限於圖3A至圖11B 所示者’而且圖樣去除部分21及偽圊樣22也不限於圖3A至 圖1 1 B所示者。 圖3A至圖11B所示的任一柱狀間隔物5，亦即形成在閘極 線2或源極線3上的’形成在切換元素1上的，形成在輔助 容量線2 0上的，形成在圖樣去除部分21上的，以及形成在 偽圖樣22上的’在磨擦步驟時都與主動型矩陣基板分開。 例如切換元素1大致在其剖面具有一漸縮形狀，而且時常 具有多層結構’結果是切換元素部分的剖面具有複雜的不 規則形狀。因為此形狀而增加其黏著區域，因此位於其中 的柱狀間隔物比位於平坦部分上的柱狀間隔物具有更大的 黏著強度。使用它們的閘極線2，源極線3，輔助容量線 20，及偽圊樣22都在其表面具有不規則形狀，而且時 有近似漸縮形狀的剖面’因為此形狀而增加其黏著區、 而柱狀間隔物比位於平坦部分上的柱狀間隔物具有 黏著強度。此外即使柱狀間隔物位於絕緣膜的圖樣的 分2 1等之上，並從該部分將一部分的圖樣去除， =, 著區域而黏著強度大於位在平坦部分上的柱狀間隔^加黏 任一情況下，當間隔物至少在對應於磨擦方位的上° f 具有一漸縮形狀，即可能減少間隔物與磨擦方位分開^ =

452 6 7 1 修正 ----案號871〗fi5fi1_年.月 日 五、發明說明（17) 龜。 磨擦步驟後，依照與製造一般液晶顯示裝置方法相同的 方式，經由一密封部分（其位於顯示部分的周邊）而將主動 型矩陣基板與相對基板結合，並用以維持晶胞厚度，由環 氧樹脂製造並且黏著在玻璃纖維之中以固定。 接著要解釋也是在柱狀間隔物的頂點將主動型矩陣基板 與相對基板結合在一起的實施例。 如圖12A所示，在基板1〇中設置柱狀間隔物5並且作磨擦 處理’並且製備在玻璃η上施加黏著劑12 ^至於主動塑矩 陣基板10 ’則可使用圖1Α ’ 1Β及3儿至丨1Β中顯示的任一 者。在圖12Α至12Ε中’為了強調重點而將柱狀間隔物5放 大以便於了解（結果，相鄰柱狀間隔物5之間的空間極度減 縮）。並且藉由在丁基2-乙氧基乙醇之中，將雙液型環氧 樹脂黏著劑溶解以製備黏著劑〗2。用旋轉投射法施加溶解 =著劑12到玻璃η上’其具有與主動型矩陣基板1〇相同 的;^小。接著如圖12Β所示玻璃〖丨重疊在主動型矩陣基板 丄狀態為施加黏著劑12在一表面上，而柱狀間隔 物5位於另一表面，而且互相面對著，接著將玻 的結頂果點之如中圖⑼所示，將點著劑12轉移到各柱狀間隔 古ί i=如圖1 2d所* ’在透明相對基板13的周邊立具 極’藉由榮幕印刷法來施加環氧樹脂’黏著 ί接厚度’並且在玻璃纖維14中將點著劑15混 杰丨1 9絲软，圖2Ε所不，在主動型矩陣基板10上面將黏著 劑12轉移到柱狀間隔物5的頂點之中，並施加黏著劑15在

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-_案號 871165ftl 五、發明說明（18) 加熱以使黏著劑1 5 能混合，而主動型 分1 6互相黏著。此 的頂點的黏著劑1 2 在主動型矩陣基板 成阻液晶顯示裝置 相對基板13的周邊上以便結合在一起， 硬化，以便玻璃纖維之中的密封部分】δ 矩陣基板1 0及相對基板1 3即在此密封部 時’各柱狀間隔物5經由各柱狀間隔物5 而黏著到相對基板1 3 β接著將液晶密封 1 0與相對基板1 3之間的空間，因此而* 9k » ^ 上此3造的液晶顯示裳置9k中，柱狀間隔物5的頂點 由黏者劑！2而黏著，所以主動型矩陣基板1〇及相對基 可以更穩固的互相黏著，這是與—般液晶顯示裝置比 較，其中主動型矩陣基板與相對基板僅在周邊的密封部分 結合在一起。結果，液晶層的厚度變的均一並消除顯示不 平均’因此改善了顯示品質’此外產能也改善了。 、以下說明另一實施例，如圖i 3 A所示，對於各像素電極4 以及在對應於密封部分18的位置（參考圖13E)，一個接一 個地設置柱狀間隔物5在主動型矩陣基板10並作磨擦處 理’並製備及施加黏著劑12至玻璃11。至於主動型矩陣基 板10，則可使用如圖ΙΑ，1Β及3Α至11Β中所示的任一者。 接著如圖13b所示’玻璃11在主動型矩陣基板1〇上重疊並 接耆將玻璃11去除’結果如圖13C所示，黏著劑12即轉移 到各柱狀間隔物5的頂點之中（包括周邊的間隔物）。 換言之如圖131)所示，至於透明相對基板13的周邊其具 有一透明相對電極，則用螢幕印刷法施加環氧樹脂黏著劑 17。在此黏著劑17中，不混合玻璃纖維14。接著如圖13E 所示，如上所述在主動型矩陣基板1 0上將黏著劑丨2轉移到

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各柱狀間隔物5的頂點（包括周邊的間隔物）， ^板13(即施加勘著劑17在其周邊）結合在—起，將黏劑 對ϊίΠΐ為密封部分19 ’而主動型矩陣基板10及相 5:由=門部分18互相黏著。此時，各柱狀間隔物 3 /Λ Λ物5的頂點的黏著劑12而黏著相對基板 16此外周邊的杈狀間隔物5包括在密封部分丨8之φ。接 η曰曰:密封在主動型矩陣基板10與相對基板13之間的空 間’因此而完成阻液晶顯示裝置9πι。 與一般液晶顯示裝置相比，其僅在周邊的密封部分將主 ，型=陣基板與相對基板結合在—起，在如此製造的液晶 顯不裝置9m中，柱狀間隔物5的頂點經由黏著劑12而黏著 劑，而且柱狀間隔物5存在於周邊的密封部分18之中，所 以可規定主動型矩陣基板與相對基板丨3之間的空間。結 果，液晶$的厚度變的均一並消除顯示的不平均’因此更 改善了顯示品質，此外產能也更增加了 。 在上述_各實施例中，柱狀間隔物5位於閘極線2，源極線 3或切換το素1之上，但是本發明並不僅限於此。柱狀間隔 物5可位於共用線上面當作儲存電容器線來使用，其接至 切換元素1的汲電極以便與像素電極4平行。而且在此例 中，將磨擦方位6設定為使定位干擾區域7不對像素電極4 重疊，，區域7在磨擦方位6中是從柱狀間隔物5的下方形 成，這是因為對於具方向性之薄膜用的樹脂膜作磨擦處理 之故。 本發明可以在不偏離其基本特徵之下以其他特定形式 實施。因此可將本發明在各方面都視為一種說明而非限制

45287 案號 87116561 Β 修正 五、發明說明（20) 性質，本發明的範圍如附屬申請專利範圍所示，而不限於 上述說明，而且因此其中包含符合申請專利範圍之同等範 圍及意義的所有變化。

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Claims (1)

1. 452 6 7 1 _Γ^^~^87Π6^1 1_年月曰 修正_ 六、申請專利~每~^*1 1. — ，包含： 一液晶層，及一主動型矩陣基板與一相對基板用以將液 晶層置於其間，具有至少諸切換元素及像素電極之主動型 矩陣基板則排列成一矩陣形式： 液晶顯示裝置更包含柱狀間隔物用以規定諸基板間之空 間，諸間隔物黏著在主動型矩陣基板之液晶層側表面之諸 部分上，該等部分具有不規則形狀以及一近似漸縮之剖 面； 其中柱狀間隔物根據主動型矩陣基板之液晶層側表面之 漸縮形狀而具有一漸縮角。 2. 如申請專利範圍第1項之液晶顯示裝置，其中 主動型矩陣基板在液晶層侧邊更具有接至諸切換元素之 諸線；以及 諸柱狀間隔物位於諸切換元素附近之線上。 3. 如申請專利範圍第1項之液晶顯示裝置，其中諸柱狀 間隔物位於切換元素上。 4. 如申請專利範圍第2或3項之液晶顯示裝置，更包含一 具方向性之薄膜，其形成在主動型矩陣基板之液晶層側表 面上，而且沿著從柱狀間隔物朝向切換元素之方向作一磨 擦處理。 5. 如申請專利範圍第4項之液晶顯示裝置，其中選定磨 擦方向俾使諸定位干擾區域實質上不重疊諸像素電極，該 等區域形成在具方向性之薄膜上之諸柱狀間隔物附近，在 從諸柱狀間隔物朝向磨擦方位之方位中。

   O:\54\54S67.ptc 第27頁 4 52 6 7 1 I 號 87116561 六、申請專利範圍 6 _如申請專利範圍 著層用以黏著諸柱狀 7 ·如申請專利範圍 封部分用以在諸層之 極在一起， S 修正 第1項之液晶顯示襄置，更包含一黏 間隔物之頂點至相對基板。 第1項之液晶顯示裝置，更包含一密 一周邊結合主動型矩陣基板與相對電 其中 8 * 一 液晶層 插置其 成一矩 該方 施加 光，顯 光阻樹 施加 隔物之 擦方位 上不與 近。 9.如 包含磨 施加 將主 同時經 諸方 種用 ，及 間， 陣形 法包 -光 影， 脂之 —樹 位方 以製 一主 具有 式， 含以 阻樹 及烘 諸表 脂以 位於 造液 動型 至少 接至 下步 脂至 焙不 面， 成為 陣基 擦處 主動型矩 執行一磨 諸像素電極重 面對密 晶顯示 矩陣基 諸切換 諸切換 驟： 主動型 規則表 並且定 一具方 板之液 理在樹 疊，該 封部分之主動型矩陣基板上。 裝置之方法，該裝置包含：一 板與一相對基板用以將液晶層 元素之主動型矩陣基板則排列 元素之諸線，及諸像素電極， 矩陣基板之液晶層側表面，曝 面其係諸切換元素上或諸線上 型以形，諸柱狀間隔物；以及 向性之薄膜，施加至形成諸間 晶層側表面，並且然後在一磨 脂膜，俾使定位干擾區實質 等區域形成在諸柱狀間= 申請專利範圍 擦處理步驟後 —黏著劑至諸 動型矩陣基板 由施加之黏著 第8項之製造液晶顯示裴置方法，更 之以下步驟： 柱狀間隔物之諸頂點；& & 黏著在諸基板之一周邊之相對基板， 劑而黏著諸柱狀間隔物之諸頂點至相

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