TW396144B - Apparatus and method for dispensing a liquid to at least one point of use - Google Patents

Description

_案號87116408_年月曰 修正_ 五、發明說明（1) 發明背景 本發明係關於分配液體至一或多處使用點之一種設備及 方法。更特別地，本發明係關於一種設備及方法，其包括 使多數個腔室之每一個均受一循環，此時在一充滿模式下 腔室内充滿液體。在一分配模式下液體由腔室内推至一或 多處使用點，而在回送模式下未使用之液體由該一或多處 使用點回送至腔室中。甚至更特別地，本發明係關於這類 設備或方法，其中該循環之運轉為當一腔室在分配模式 時，另一腔室在回送模式，因此可讓液體連續循環。 先前技藝已證實一些液體分配系統對製程化學藥品之工（ 業分配具有特別之應用。這類設備之一種主要應用為半導 體製造工業，其中化學藥品諸如光阻、泥漿等等係分配至· 諸如用於這類製造之工具的一或多處使用點。在泥漿之情 況下，此使用點可為用於供給化學機械拋光或平坦化用之 拋光工具之唧筒。 雖然唧筒係用於液體分配，重要的是，特別在半導體製 造之情況下，化學藥品在沒有由往復式唧筒裝備引起流體 中振動下分佈至使用點。這類無振動流動可藉使用壓力容 器產生以進行分配。用於這類目的之壓力容器以化學上非 反應性氣體（相對於進行之製程而言）加壓，諸如超高純度 氮氣。例如，在U.S. 5,417,346中，液體由三個壓力容器 中分配，該容器先抽真空以吸取液體。之後，壓力容器以 氮氣加壓以分配液體。 在任何分虻系統中，可能產生.之問題與欲分配液體之實

O:\55\55036.ptc 第6頁 1999.10.28.006 路徑提供再循環液回主㉟η利所陳述，再循環 麻煩。因為若伴持#卜’、#漿之情況中問題可為特別 額外之使洋粒子將傾向由泥漿令沉激。 或使用點。杏一 ^多虚=^由一個分配系統提供數種工具 液體流速將：變：或在各使用點之 然在上ί = 閥以確保穩定流動之m 以調整分丄未提及，，經由調整回送線内之壓力 回送線經由調整壓力之壓力 =變係常見的該 用閥確保穩定流動狀況=?:再#環液體回主源。使 強烈腐飯性及/或磨損性。問；1 此疋之化學藥品可能具 損及保養之點。 如此閥成為分配設備中潛在磨 法如上2明提供一種分配液體之設備及方 該一 < 多_1 許液體連續循環之循環操作，以及在 用不會與欲分配之4;;，之控制流動狀況’而闕之使 發明概要 本發明提供一種用以在u厭 個使用點之設備。4 了這刀配液體至至少- 分配、回送及充滿工作腔室之每-個提供 體、回送不用之液體，乂引二新：體為二由此驅？液/ 統，具有連無至至少一個使用 泣。—種液體分佈糸 使用點.之机動迴路，以供給來自

麼力谷1§之該液體及自至少^一個伯田 p。汸_八& $ΐ 個使用點回送該未使用之液 體液體分佈系統亦有一遠i*脉仝a # α 攸 ρβ 4ra rib ^ 至及該流動迴路間之閥網 路。閥網路之女排使二腔室能互相速、s 之-腔室在分配工作模式；η;’藉此讓二腔室中 體分佈系統中。 乍杈式下將液體自各腔室驅動至液 用發明提供—種分配液體至至少-處使 據此方法’多數個腔室中之每一個在一循 :配：：η拉回送及充滿工作模式’故當其中-腔室在（ 槿★下为抽Γ 在送作模式。在分配工作 杈式下，液體自各腔室驅動至至少一個使用點， 液體經歷回送工作模式回误5 ‘· 5, Λ ^ ^仏作棋式口达至下一個壓力容器。各壓力容 在充滿工作模式下充滿欲被分配之新液體。 為ί ΐ 3 i發明之設備及方法以三腔室進行，因此過程 =二二t:而，本發明可用二腔室進行。在這情況下在 連續：充滿模式結束之間可能會有稍微的操作不 更進一1从回达及充滿模式可有部分重疊以便連續操作。 y 本發明可在連接任何具有腔室之裝置下執 :丁 ：例如，雖然本發明係參照作為腔室之壓力容器來描 ,L以具有増壓腔室之唧筒或圓筒來作為腔室同樣適宜。 附上之申請專利範圍預定包括所有這類可能。 上描述而為明顯地’本發明在基本觀念上係關於一 及方法其中被分配之液體被循環至使用點且經歷

之未使用 配操作t 關於下述 作係藉確 用點之固 經分配模 内壓來達 點及態樣 案號 87116408

之液體回 移動。同 事實：分 保在使用 定流動狀 式之壓力 到。當然 將變得明 圖形簡述 專利範圍 明在與伴 之圖形為 五、發明說明（4) 回送工作模式 式，液體在分 在其他態樣係 之基本循環操 該一或多處使 中，可藉調整 之壓力容器之 發明之其他優 本案之說明書及申請 發明之標的，相信本發 好地了解，附圖中唯一 備。 送至一腔室中。以此方 樣將變成明顯地，本發明 配、回送及充滿工作模式 點之固定液壓，以確保在 =°在壓力容器之情況 &器之氣壓及經回送模式 經由圖形及詳細描述，本 顯。 凊楚地指出申請人視為其 隨·之圖形相對照下將可良 實行根據本發明方法之設 主要元件之代表符號 1 設備 2 使用點 3 使用點 10 壓力容器 12 壓力容器 14 壓力容器 16 液體分佈系統 18 流動迴路 18A 分配腳 18B 回送腳

第9頁 1999.10. 28.009 _案號87116408_年月日 修正 五、發明說明（5) 20 閥 網 路 22 底 部 [S 域 24 底 部 區 域 26 底 部 1¾ 域 28 壓 力 管 路 系統 30 頂 部 區 域 32 頂 部 1¾ 域 34 頂 部 區 域 36 分 佈 歧 管 38 回 送歧 管 40 供 應 歧 管 42 入 口 44 第 一 切 斷 閥 46 第 二 切 斷 閥 48 止 逆 閥 50 止 逆 閥 52 第 — 切 斷 閥 54 第 二 切 斷 閥 56 止 逆 閥 58 止 逆 閥 60 第 一 切 斷 閥 62 第 _ — 切 斷 閥 64 止 逆 閥 66 止 逆 閥

O:\55\55036.ptc 第10頁 1999.10.28.010 _案號87116408_年月日 修正 五、發明說明（6) 68 切斷閥 70 切斷閥 72 切斷閥 7 4 切斷閥 76 切斷閥 78 切斷閥 80 切斷閥 82 壓力歧管 84 注入口 86 排出口 8 8 三通閥 9 0 三通閥 92 三通閥 9 4 三通閥 9 6 三通閥 9 8 三通閥 100 流路 102 流路 104 壓力.調整閥 106 控制調整器 108 壓力調整器 110 壓力調整器 112 壓力調整器 114 洩壓'閥

O:\55\55036.ptc 第11頁 1999.10.28.011 --1 號 871lR/mg_车月日_ 五、發明說明（7) 116 兩 液 位 偵 測 器 118 高 液 位 偵 測 器 120 液 位 偵 測 器 122 第 一 低 液 位 液 體 偵 測 器 124 第 — 低 液 位 液 體 偵 測 器 126 第 — 低 液 位 液 體 偵 測 器 128 第 — 低 液 位 液 體 偵 測 器 130 第 低 液 位 液 體 偵 測 器 132 第 二 低 液 位 液 體 偵 測 器 134 壓 力 轉 換 器 136 控 制 器 詳細說明 參考附圖，顯示根據本發明之設備1。設備1係設計成分 配諸如泥漿之化學液體至使用點2及3。在泥槳之情況下使 用點2及3可為蠕動唧筒以供給液體至化學機械拋光工具。 設備1設置有壓力容器1 〇，1 2及1 4。將被討論的，每一 壓力谷益10 ’ 12及14係經歷分配、回送及充滿工作模式。 在分配模式下，每一壓力容器1 〇，1 2及1 4被加壓以供給液 體至使用點2及3。液體由各壓力容器10， 12及14經由一液 體分佈系統1 6分佈，該系統具有一流動迴路1 8連接使用點 2及3 ’以自壓力容器10， 12及14供給液體至使用點2及3， 並由該處回送未使用之液體回到壓力容器10， 12及14。隨 後未使用之液體流到經歷回送模式之一壓力容器（1 〇， 1 2 及1 4)。液體分佈系統1 6亦具有閥網路2 0以控制往與來自

O:\55\55036.ptc 第12頁 1999.10.28.012 案號 8711640« 五、發明說明（8) 壓力容器10， 12及14之底部區域22、24及2 6之液體流動。 雖然未描述’所有液體導管應結合圓滑半徑之彎角，如此 避免諸如泥漿之液體的剪力。壓力管路系統28提供壓力源 (未描述但可為熟諳此技藝者所了解，氣化液態氮）及壓力 容器10，12及14之頂部區域30、32及34之間之連通。 同，將討論的，在流動迴路丨8中之液壓被偵測，並在壓 力容器經歷分配及回送模式時調整壓力容器之内壓以控 液壓，故其大體上維持固定。此壓力控制將確保至各 點2及3之液體流速維持固定。 抓動迴路18具有分配腳IgA及回送腳以輸送液體至 用點2及3及自使用點2及3回送液體回閥網路2〇。要 :僅描述二使用點2及3，本發明對任何數目之 = ^性：本發明甚至對單一使用點具有適宜性、 在早一使用點為間歇性使用時特別有利。 而 一 設計為當各壓力容器在分配模式_， ::二ί力容器在回送模式下自使用點2及3接收未使 用液體。在此，閥網路20包括由此處分佈液體至八吏 1 二分4歧管另Τ自回送腳18Β回送未使用液體心^ 回迗歧官38。另有一供庙。地之 枝 供應歧官4〇，其具有一入口42，兮λ 口 42可連接至一欲被分 这入 用任何裝置自-以傳=之主源。雖然未描述，可使 古咖 . 原傳輪至入口 42。例如，唧筒、番士 閥網路2 0有數組切斷_月μ 、 及14之各種工作模式下 ' =二制在壓力谷益!〇，12 广夜體之流·動。切斷閥有開及關之位

O:\55\55036.ptc 第13頁 19"· 10.28.013 _索號 87116408 年 月_a__修正_ 五、發明說明（9) 置以分別允許和切斷液體之流動。止逆閥只允許單向之流 動。更明確地說’第一及第二切斷閥44及46與一組二止逆 閥48及50與壓力容器10之操作相關，第一及第二切斷閥52 及54與止逆閥56及58與壓力容器12之操作相關，而第一及 第二切斷閥60及62與二個止逆閥64及66與壓力容器14之操 作相關。須注意的是，二止逆閥（48， 50， 56， 58， 61， 66)之方向只允許液體由回送歧管38流出或流向分佈歧管 3 6° 如此，假設壓力容器1 0在分配模式，第一切斷閥44將被 設定在關閉之位置且第二切斷閥4 6將被設定在打開的位 置°這將讓液體自壓力容器1〇被驅動至分佈歧管36，隨後 至流動迴路18之分配腳18A。當壓力容器12在分配模式 時’第一切斷閥52將被設定在關閉之位置而第二切斷閥54 將被設定在打開之位置。相似地，當壓力容器丨4在分配模 式時’第一切斷閥60將被設定在關閉之位置而第二切斷閥 將被設定在打開之位置。 在壓力容器10在分配模式發揮功能時，壓力容器12將在 回送模式發揮功能。在此，其第一切斷閥52被設定在關閉 位置而第二切斷閥5 4在打開之位置。未使用之液體將經由 流動迴路18之回送腳18B流回至回送歧管38，隨後通過止 逆閥56及第二切斷閥54回到壓力容器丨2之底部區域24。因 此，在回送模式之壓力容器1 2之切斷閥設定將與在分配模 式下相同。對於壓力容器10在回送模式下之第一及第二切 斷閥44及46 ’與壓力容器14在回.送模式下之第一及第二切

1999.10.28.014 第14頁 案號87116408 年月曰 修正 -~~—-- 五、發明說明（10) 斷閥，相同之閥設定將維持。如同將被討論的，流動方向 係經由流出在低壓經歷回送模式之壓力容器（1 〇，1 2及 14 )，隨後加壓經歷分配模式之壓力容器（1 0，1 2及14)而 建立。止逆閥對48, 50，56，58及64, 66避免由分配歧管 3 6流至回送歧管3 8之加壓液體回流。 當壓力容器10在分配模式且壓力容器12在回送模式時， 壓力容器1 4將在充滿模式。在此，第一切斷閥6 0被設定在 打開之位置而第二切斷閥6 2被設定在關閉之位置。液體由 主源進入入口 42 ’流入供給歧管40，隨後進入壓力容器14 之底部區域26。當壓力容器10在充滿模式時，第一切斷閥（ 4 4將被設定在打開之位置且第二切斷閥4 6將被設定在關閉 位置；而當壓力容器12在充滿模式時，第一切斷閥52將被 設定在打開之位置且第二切斷閥5 4將被設定在關閉之位 置。 在一個壓力谷器（10， 12及14)在分配模式下之後，其將 在回送模式下而後在充滿模式下作用。然而，在不同模式 間切換以非瞬間切換較佳，於是在任何時候，壓力容器 1 0， 1 2及1 4其中一個將作用在分配模式下一段期間。此二 壓力谷器為那些已分別完成充滿模式並已在分配模式下運 轉。在這類同時分配模式工作之後，二個最近完成充滿模 式之壓力容器之一將繼續在 後在回送模式下作用。在此 壓力容器10， 12及14中之第 下，隨後切換至充滿模式。 分配模式下作用，另一個將隨 期間’已在回送模式下作用之 三個亦將同時在相同之作用 這些混合模式係用以避免來自

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1999.10. 28.015 --^-81116408^ 年月日 絛正 五、發明說明（11) ' 發生在流動迴路1 8内之壓力振動。如同將被討論的，模式 之觸發係以液位偵測來控制。 4闕網路20亦設置有一切斷閥68以切斷來自一主供應源之 流體。另設置有一切斷閥7〇。在正常操作時，切斷閥7〇被 設定在關閉位置。當設定在打開位置時，液體可再循環回 至主供應源。切斷閥72及74允許自分佈歧管36及回送歧管 38排出液體。在這类員排出過程中，切斷閥76及78隔絕流動 迴路18。一切斷閥8〇被設置讓液體自流動迴路18回送至排 水口 。 壓力係由與欲被分配化學藥品不反應之加壓氣體源來供f 應。在半導體製程工業中，對於這類目的一般使用加壓超 高純度氮。壓力容器管路系統28包括具有一注入口 84以連 接氣壓源之壓力歧管82，及如果腐蝕性化學藥品存在排出 氣體中’通常開孔以排出之一排出口 8 6。在分配模式下壓 力容器10， 12及14之加壓以第一個三通閥88，90及92控 制’該三通閥88，90及92係分別連接壓力歧管82及壓力容 器10， 12及14。第二三通閥94， 96及98分別連接第一三通 閥8 8， 9 0及9 2，以在回送及充滿工作模式下控制排放量。 各上述三通閥（包括88-9 8 )具有二個位置，故可建立二閥 口間之流動。 當各第一三通閥88， 90或92設定在二位置中之第一位置 時，壓力歧管82及相對連接之壓力容器1 0， 1 2及1 4間之流 體連通被建立以建立分配模式。如此，當第一三通閥8 8設 定在二位置+之第一位置時，高壓氮氣流入壓力容器10

O:\55\55036.ptc 第16頁 1999.10. 28.016 _案號 87116408 五、發明說明（12) 年月 曰 (备;f_ 中，壓力容器10因此在分配工作模式下。 當各第一三通閥88, 90或92設定在二位置中之第二位置 時，壓力容器10， 12及14之頂部區域30，32及34與第二三 通閥94，96及98之間之連通被建立。此第一三通閥88，90 或92之第二設定在充滿及回送工作模式時發生。 當三通閥94， 96及98被設定為二位置中之第一及第二位 置時（第一三通閥88， 90或92已設定在二位置中之第二位 置）’壓力谷1§10， 12及14之頂部區域30，32及34與流路 1 0 0與流路1 0 2之一之間之流體連通被建立。當第二三通閥 設定在涉及流路100之位置時，壓力容器1〇，12及14僅僅 （ 通氣至大氣壓力下之排水道。這允許在充滿模式下充滿壓 力容器（10， 12及14)。例如若壓力容器14在充滿模式下， 第一三通閥92將設定在第二位置’而第二三通閥98將設定 在允許與流路1 0 0流體連通之位置。已了解在這類情況中 壓力容器12將經歷回送模式，因而第二三通閥96將設定在 相反之位置以允許與流路1 0 2流體連通。流路1 〇 2具有壓力 調整閥1 0 4 ’氣體在回送模式時透過此閥排出。壓力調整 閥1 0 4為一控制閥’其被控制在比氣壓低之較低壓力下操 作’故驅動液體通過流動迴路18 ;並調整經歷回送工作模 式之壓力容器内之壓力。 各壓力容器10， 12及14(在分配工作模式下）之壓力藉一 控制調整器106調整，另一個控制從屬壓力調整器1〇8， 110及112之控制閥置於控制調整器1〇6之下游。這防止在 壓力容器（1 0， 1 2及1 4 )在分配、.回送及充滿工作模式間切’

修正 曰 案號 87116408 五、發明說明（13) 變η動。雖然較不方便，可使用沒有 從屬壓力調整器108、110及行 進-步者’可以一洩壓閥114作為力調^1。6。更 生時壓力容器管路系統28損壞。為*全裝置以避免故障發 如同可了解的’上述輸送氣艚厭 然較佳’其為許多不同之閥配置 i :: $裝置雖 至容器並隨後釋放容器之壓:閥"破提供以輸送氣體盤力 :然未描述，但如同熟諸此藝者所知，所有上述做為切 閥之閥可藉可程式邏輯控制器或也許是類比裝（ ”延類線路或裝置及電路連接為熟諳此藝者已知， 因士未做描述。然而，這類線路或裝置之啟動以高液位偵 測器116， 118及120與第一及第二低液位液體偵測器122,、 24’ 126及128， 130，132控制《各液位偵測器包括 116 132，可為超音波，點水平（p〇int level)偵側器， 機械式裝置》 < 經由實例，假定壓力容器10在分配工作模式下，當液位 由第一低液位感知器122測知時，壓力容器14(已剛充滿液 體）開始加壓’第一三通閥92設定在一位置，以建立壓力 歧管82及壓力容器14之頂部區域34間之流體連通。在短暫 的延遲之後，切斷閥62打開且壓力容器1〇及14二者現在皆 在分配模式下作用。壓力容器12在回送模式下作用。當壓 力容器1 0中之液位降低並由第二低液位偵測器〗2 8感知 時’第一及结二三通閥88及94已設定，故壓力容器1〇現在

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1999.10.28. 018 __宏铋 87116408_年月日____ 五、發明說明（14) 經流路1 0 2流出液體。因此’壓力容器1 0與壓力容器1 2皆 在回送模式下作用。在此時’未使用之液趙回填壓力容器 1 〇及1 2。當壓力容器1 0内之液位升高並由第一低液位偵測 器1 2 2感知時，閥5 2切換至打開位置且切斷閥5 4重新設定 成關閉位置，故壓力容器1 2經歷充滿工作模式並以液體充 滿，直到液位由高液位偵測器11 8感知。同時第一及第二 三通閥90及96被設定成可容許經流路100之大氣壓力通 氣。當高液位已由液位偵測器11 8感知時，閥5 2重新設定 在關閉位置。在下一個工作循環中，在壓力容器10由回送 轉變成充滿模式且壓力容器14在分配及回送模式之間轉變{' 時，壓力容器1 2將在回送模式下。如上述，這類模式之混 合以造成在流動迴路1 8中某種程度壓力振動之立即切換較 佳。 為控制在此使用點之壓力及受此影響之液體流動，流動 迴路18内之液壓以一壓力轉換器134感知。此中央配置將 確保在二使用點2及3之定壓（可產生定流）。壓力轉換器 1 34之輸出作為輸入傳到一控制器丨3 6，其進而調整控制調 整器106及壓力調整閥1〇4 ’該控制調整器1〇6及壓力調整 閥1 0 4是遙控啟動之控制閥，以控制經歷分配模式之壓力 容器内之氣壓，及經歷回送模式之内部壓力容器内之氣 壓，故壓力轉換器134感知之液壓在系統反應之限制下某 本上維持固定。控制器136之程式被寫成，當液壓降低土 時，控制調整器106打開以増加壓力，反之亦然。此外， 壓力調整閥1 04隨後調整至維持經歷回送模式之壓力容器

案號 8711 funs 五、發明說明（15) 曰 修正 内低壓’及壓力轉換器】34感知之液壓固定。此係藉程式 化控制器136達到，俾維持液壓固定及根據其流體特徵適 當地調整控制調整器106及壓力調整閥1〇4。 但另一方面，調整氣壓及内壓以藉此控制使用點液體流 動較不好之裝置係使用機械調整閥作控制調整器及壓 力調整閥104 $類機械調整閥具有維持固定氣壓及固定 。$類裝置之缺點是無法維持液壓，因此流動 將像電子系統一樣精確地反應使用點之液壓。 如同熟諳此藝者能了解的，廢力調 、:持=回送模式之容器中固定壓力之機械裝[在這類 S 制調整器1〇6可由控制器136調整以反應液壓 I化。相似地，控制調整器1〇6可為機 整閥1 0 4由控制器1 3 6梅祚以/5座达蔽t n ^ ^ φ厭呆作以反應液壓改變。然而在任何具 體貫把例中’壓力調整閥1〇4必須在 氣體壓力及排出氣體間之懕Λ # , ^ ^ ^ # 液體。 L媸間之壓力差，以透過流動迴路18驅動 ，在如ΐ面略Ϊ之這類方法中’潛在腐蝕性及/或磨損性 液體未：進入二維持固定液壓之控制閥相接觸。 如同熟諳此藝者所能了解的’雖然描述三個壓力容器， 可使用多於二個壓力容器在本發明

如…個壓力容器可永遠在系統崩= H :本發明”相關較佳之具體實施例描述3力：：此 蟲者可做大里之改變、附加及省略 及範圍。 个序離本發明之精神

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Claims (1)

1. 1. 一種分配液體到至少一使·用點之設備，該設備包括： 多個腔室，各具有分配、回送及充滿工作模式，其中 分別為自其驅動液、體、回送未使用之液體及導入新液體； 一種液體分佈系統，具有一連接到該至少一個使用點 之流動迴路，以自該等腔室供給該液體及自該至少一個使 用點回送該未使用液體，該液體分佈系統亦具有連通該腔 室與該流動迴路間之一閥網路； 該閥網路係經設計，以致使該腔室中之二可彼此相 通，藉此讓二個該腔室中之一作用在分配工作模式下·，而 二個該腔室之另一個則作用在回送工作模式下，接收來自 該至少一個使用點之未使用液體；及 在該分配工作模式下，自夺該腔室驅動該液體至該液 體分佈系統之裝置。 2. 根據申請專利範圍第1項中之設備，其中·· 該腔室包括壓力容器；及 該液體驅動裝置包括選擇性提供一壓力源及各該容器 間連通之加壓裝置，以在分配模式期間以氣體壓力加壓該 容器。 3. 根據申請專利範圍第2項之設備，進一步包括當在該 分配及回送工作模式時，調整各該壓力容器内之氣壓及内 壓之調整裝置，故在該至少一個使用點之液壓係實質上維 持不變。 4. 根據申請專利範圍第3項之設備，其中該調整裝置包 括： 遙控操作之控制閥，係被設置以控制在該分配及回送

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   1. 一種分配液體到至少一使·用點之設備，該設備包括： 多個腔室，各具有分配、回送及充滿工作模式，其中 分別為自其驅動液、體、回送未使用之液體及導入新液體； 一種液體分佈系統，具有一連接到該至少一個使用點 之流動迴路，以自該等腔室供給該液體及自該至少一個使 用點回送該未使用液體，該液體分佈系統亦具有連通該腔 室與該流動迴路間之一閥網路； 該閥網路係經設計，以致使該腔室中之二可彼此相 通，藉此讓二個該腔室中之一作用在分配工作模式下·，而 二個該腔室之另一個則作用在回送工作模式下，接收來自 該至少一個使用點之未使用液體；及 在該分配工作模式下，自夺該腔室驅動該液體至該液 體分佈系統之裝置。 2. 根據申請專利範圍第1項中之設備，其中·· 該腔室包括壓力容器；及 該液體驅動裝置包括選擇性提供一壓力源及各該容器 間連通之加壓裝置，以在分配模式期間以氣體壓力加壓該 容器。 3. 根據申請專利範圍第2項之設備，進一步包括當在該 分配及回送工作模式時，調整各該壓力容器内之氣壓及内 壓之調整裝置，故在該至少一個使用點之液壓係實質上維 持不變。 4. 根據申請專利範圍第3項之設備，其中該調整裝置包 括： 遙控操作之控制閥，係被設置以控制在該分配及回送

   O:\55\55036.PTC 第1頁 2000.04.06.021 _案號87116408_年月曰 修正_ 六、申請專利範圍 工作模式時在壓力容器内之氣*壓及内壓； 位在該流動迴路内之壓力轉換器，以感測液壓；及 回應該壓力轉換器並經設計以操作該控制閥之一控制 器，使液壓實質上維持固定。 5. 根據申請專利範圍第3項之設備，其中該壓力裝置亦 經設計，以在該充滿及回送工作模式時使該容器通氣，並 具有二條流路，二流路之一在充滿工作模式時被啟動並通 氣至大氣壓力中，而此二流路之另一個係在回送工作模式 時被啟動且與該調整裝置相關，故各該壓力容器在回送模 式作用下之内壓係透過此二流路之另一個調整。 6. 根據申請專利範圍第1項之設備，其中該液體分佈系 統亦具有一個入口 ，且該閥網冷亦經設計以在充滿工作模 式時選擇性提供該壓力容器和該入口間之連通。 7. 根據申請專利範圍第4項之設備，其中該壓力裝置包 括： 一個壓力歧管，其具有連接至該氣壓源之入口，調整 該氣壓之一該控制閥及一通氣出口； 二條至該通氣出口之流路，二流路之一係通氣至大氣 壓力，而另一流路具有該控制閥之另一個，以調整該内 壓；及 .第一三向閥連接至該壓力歧管與該壓力容器，及第二 三向閥連接至該第二三向閥及該二條流路； '各該第一及第二三向閥係配置二個位置，以致當該第 一三向閥被設定在二個位置中之第一個時，建立該壓力歧 管與壓力容器間之連通，而當設定在二個位置中之第二個

   O:\55\55036.PTC 第2頁 2000. 04. 06. 022 396144 案號87116408 年月日 修正 第 該 及 器 容 力 壓 圍該 S立 寿 W 專建 請 申’ 六時 當 使 致 及 通 <!&!〇 之 間 閥 向 ，過 時經 個及 二力 第壓 及氣 個大 一至 第氣 之通 中以 置， 位通 個連 二之 在間 定路 設流 被條 閥二 向該 三立 二建 第別 該個 包 路 網 閥 該 中 其 備 設 之 項 7 或 第 圍 範 利 專 。請 置申 裝據 整根 調8·: 該 括 管管入 歧歧該 佈送有 分回具 個個個 一 1 一 D 之，連 器係 容閥 力逆 壓止 該個 各兩 黎組 且 管 歧 口 入 ’斷 管切 歧二 口·第 入， 該器 至容 接力 連壓 閥該 斷滿 切充 1 會 - 第體 該液 一 ，時 及管置 ，歧 上送 其回 於及 接佈 連分 係該 閥至 斷閥 切斷 二切 第二 及第 一該 第接 位器 開容 打力 在壓 定該 設於 當位 故閥 體至， 液流時 許閥置 允斷位 以切之 向二開 定第打 經該在 係自定 閥及設 逆，被 止閥閥 二斷斷 該切切 而二二 ，第第 間該該 之至當 閥流故 逆管， 止歧管 二送歧 組回佈 該該分 與由該 或 管 歧 佈 分。 該器 至容 流力 器壓 容該 力回 壓流 該管 各歧 自送 時回 式該 模自 配時 分式 在模 可送 體回 液在 第分 圍該 範動 利觸 專以 請器 申容 據力。 根壓器 9該測 至感 接 *BC 括 包 步 - 進 其 備 設 之 項 位 液 之 式 模 作 工 滿 充 及 送 回, 配 由 10係 器 根 三 據彳種 第 圍 範 利 專 請 申 器 容 力 壓 玄 >20 容 力 壓 個 多 該 中 其 備 設 之。 項成 組 所 分 少 至 到 體 液 法 方 之 點 用 使 括 包 多 使 在 個 一 每 之 中 室 腔 送 回, 配 分 受 接 中 環 循 個

   O:\55\55036.PTC 第3頁 2000. 04. 06. 023 396144 _案號87116408_年月曰 修正_ 六、申請專利範圍 及充滿工作模式，故當腔室之*一在分配工作模式下時，另 一腔室在回送工作模式下； 在該分配工作模式時驅動該液體由各該腔室至該至少 一個使用點； 在該另一腔室經歷該回送工作模式時，回送未使用液 體回至該另一腔室；及 在該充滿工作模式時，以欲被分配之新液體充滿各該 腔室。 1 2.根據申請專利範圍第1 1項之方法，其中各該腔室為 壓力容器且該壓力容器在分配模式時以氣壓加壓，以自各 壓力容器驅動液體。 1 3.根據申請專利範圍第1 2項之方法，包括在該回送工 作模式下調整各該壓力容器之氣壓及内壓，故在該至少一 個使用點之液壓實質上維持固定。 1 4.根據申請專利範圍第1 3項之方法，進一步包括： 感測該流動迴路内之液壓；及 調整該氣壓及内壓以回應液壓之感測。 1 5.根據申請專利範圍第1 1項之方法，其中： 該液體之高、第一及第二低液位係在各該腔室中感 測，第二低液位係位於第一低液位之下； 當該液體之第一低液位在一腔室内感測時，還有另一 已完成該充滿工作模式之腔室亦接受分配工作模式，故該 腔室及該另一腔室係同時接受該分配工作模式； 當該液體之第二低液位在該一腔室内感測時，該腔室 及該另一腔室係同時接受該回送工作模式；

   O:\55\55036.PTC 第4頁 2000. 04. 07. 024 39S144 案號 87116408 Λ_Μ 曰 修正 六、申請專利範圍 當該液體之第一低液位再*次於該一腔室中感測時，由 於該壓力容器接受回送工作模式且未使用之液體回送至 此，故該另一腔室係接受該充滿工作模式並以液體充滿， 直到感測出其中該液體之高液位為止。 1 6.根據申請專利範圍第1 1項之方法，其中該液體為泥 漿且該使用點包括一用於化學機械拋光之工具。

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