TW393350B - Method and apparatus for enhanced cleaning of a workpiece with mechanical energy - Google Patents

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A7 B7 五、發明説明（1 ) 本發明一般係關於採用振動式機械能之工作件清洗裝 置。更具體言之，本發明係關於含有清洗冗件之裝置，可 在清洗程序當中進行工作件之振動式機械性清洗和接觸式 清洗。 發明.背景: 一般已知有設計用來清洗半導體晶圓、磁性記憶碟片 和其他精緻工作件‘之機器。在積體電路製造中，係從矽錠 切下半導體晶圓碟片，然後準備供進一歩加工處理。各晶 圓從錠切下後，典型上經清洗、沖洗和乾燥，以使從表面 去除碎層。然後，對晶圓進行一系列歩驟*在其表面建造 積體電路，包含應用一層微電子結構和應用介質層。 磁性記憶碟片、平板顯示器和其他工作件，在加工處 理時也需要清洗或洗濯。因此，亟需有快速而有效清洗該 工作件之方法和裝置0習用半導體晶圓清洗機利用數種聚 乙酸乙烯酯（PVA )清洗元件，在清洗過程中進行晶圓表 面的機械性接觸刷洗。可惜處理時間不良之長，因爲备晶 圓必須通過許多串聯的清洗元件。使用許多清洗元#增加 清洗程序相關的時間和成本，提高清洗設備相關的保養成 本。 半導體晶圓、記憶碟片元件、平板顯示器等所用彈性 清洗元件，在清洗時會受到工作件表萌所釋出碎曆或粒狀 物的污染。此種清洗元伴會埋設有小粒，很難在清洗程序 中利用沖洗或清洙溶液去除。因此；此等清洗元件不是定 期清洗（在清洗機停用時 > 便是更換，才能保證敏感的工 一 1 一 本纸張尺度洎州中國囤家標埤（（’阳）八4現格（21(^ 297公釐) (請先閲讀背而之注意事頃再填寫本頁) 1 I - 訂

C 經？&·部中少樣卑局A.T消先合作；；：一印絮 A7 __B7 五、發明説明（2 ) 作件不受該埋設碎屑的損壞。 振動式或超音波清洗槽及相關清洗程序已屬公知。習 用超音波槽以超音波頻率振動，以攪動槽內所含清洗溶 劑。溶液內的超音波振動由於從工作件表面鬆脫碎屑，可 增進沉浸溶液內的工作件之清洗。然而，此種前案超音波 槽雖然可有效採用超音波能，但無法獲得機械性振動的優 點，即僅利用習知‘接觸式刷洗或超音波清洗，以減少清洗 工作件的時間。 發明概要 因此，本發明之優點在於提供清洗工作件之改良裝 置。 本發明次一優點在於提供以振動式機械能清洗工作件 之裝置。 本發明另一優點在於可用習知PVA清洗元件，提供 接觸式清洗兼振動式槔械性清洗。 本發明又一優點是採用振動式機械能，以減少習知半 導體晶圓清洗過程相關之清洗時間。 本發明再一優點在於使用振動式機械能，以便利清洗 過程中從清洗元件去除粒狀物。 上述和其他優點可利用一種工作件清洗裝置進行，該 裝置包含清洗元件，其造型係在清洗過程中可接鮰工作 件，以及機械能發射器，與清洗元件相通。機械能發射器 的造型，是在清洗過程中對清洗元件施加機械能。 圖式簡單說明 本紙张尺度適州中國囤家標埤（rNS ) Λ4規格（210X297公梦_ ) —u Q—I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -4° ¾¾.部屮少Is卑局>-；消贤合作社印絮 A7 B7 五、發明説明（3 ) 參見附圖詳述和申請專利範圍即可更加完全明瞭本 發明，諸圓中同樣參照虢碼指類似元件。附圖中： 圖丨爲採用本發明較佳具體例之半導體晶圓清洗站之 透視_ ; 圖2爲圖1所示清洗站之側視圖； 圖3表示按照本發明所配置之複數半導體晶圓清洗元 件； · 圖4表示加設機械能發射器的半導體晶圓清洗元件： 圖5爲超音波機械能發射器之示意圖； 圖6爲加設本發明另一具體例的記憶碟片清洗站之透 視圖； 圖7爲本發明另一具體例的清洗元件之透視圖； 圖8爲可用於圖7所示清洗元件的芯部之側視圖； 圖9爲圖7沿9— 9線所示清洗元件斷面圖。 較佳息體例之詳細說明 參見圓1和圖2，表示半導體晶圓清洗站10。清洗站 10可加設在清洗、淋洗和乾燥半導體晶圓（或其他工作 件）用之大型機器內，例如1996年7月S日申請的美國 專員申請案〇8/ 676,546號「晶圓之清洗和乾燥方法及裝 置」內所述，該案全部內容在此列入參考。須知本發明可 用於此處所述以上各種不同目的之任何工作件處理環境， 例如去除材料、設備殺菌，以及表面處理。 一般而言，清洗站1〇適當包含複數清洗元件（滾輪） 12，其造型可驅動各工作件通過清洗站10，同時清洗通 -3 - 本紙張尺度蝻州中國囵家標肀（（、NS ) Λ4%格（210X；297公釐） (請先間讀背面之注意事項再填寫本頁)

經-部中次標枣局OCJ.消贽合竹社印來 A7 —-~一____ B7 _ 五、發明説明（4 ) ""—~ 過的各工作件上、下面。滾輪12適當構成在清洗過程中 接觸工作件’並移動越過工作件表面。滾輪12最好是實 質上爲圓筒形，並位於清洗站10內，繞其各縱軸鱗_動。 更具體言之，參見圖清洗站10可包含5-10對左右 的滾輪12。按照本發明，使甩振動式機械（詳後）使清 洗站10可以採用比前案系統爲少的滾輪12。詳見圖2, 清洗站1 0適當構成使從一側，例如最左端，進入的工作 件被逼依序通過滾輪12,並從另一輝，例如最右側排出。 按照較佳具體例，各奇數滾輪12〈例如第一、第三、 第五、第七、第九對）功能爲驅動滾輪，而偶數滾輪12 (例如第二、第四、第六、第八對〉功能爲清洗滾輪。此 外，各底部滾輪12順時鐘方向轉動，各偶數滾輪12的頂 部滾輪12順時鐘方向轉動，而各奇數滾輪12的頂部滾輪 I2則最好反時鐘方向轉動（相對於圖2所示透視圖）。此 等轉動方向以圖2的方向箭頭表示。 各滾輪12可包含齒輪總成（圖上未示）或其他配置， 適於對滾輪12賦予所需轉速和方向。如圖1所示，滾輪 12最好安裝在清洗站1〇內，使其繞其縱軸線轉動。因此， 清洗站10可加設軸承。此等聯結元件可以選用使滾輪12 由清洗站10產生的振動式機械能充分阻尼（詳後）。 凡精於此道之士均知，滾輪12的個別速度和滾輪12 對工作件所施壓力，可視用途而異。此外，須知本發明可 採用實際上任何數量的滾輪12以及滾輪速度和滾輪方向 的任何組合，以達成特殊過程购所需清洗效能。 -4 - 本纸张尺度適用中國S家標埤（（'NS ) Λ4規格（210X297公漦) I. ©^.-- (锖先閲讀背而之注意事頃再填寫本頁) 訂--------〔)------ 經-决部屮次掠卑局SC.T消於合竹社印努 A7 B7 五、發明説明（5 ) 清洗站10最好包含溶液槽14,其構型在於攜帶大量 清洗溶液（圖上未示）。爲求振動式機械性清洗，清洗溶 液宜齙在:清洗過程中，把振動能，例如超音波，傳達給工 作件。清洗溶液可用專家所知的任何溶液，諸如脫離子水 或適當表面活性劑。在較佳具體例中，溶液槽14鵝滾輪 12之構型使至少一對滾輪12在清洗過程中，實質浸沒在 清洗溶液內。 ‘ 茲參見圖2，清洗站10的頂板16包含一或以上的流 體進口（圖上未示），構成把流體分佈至溶液槽14內的分 開部份或全部，須知本發明可另外採用清洗溶液噴洒器或 滴液應用器，其造型使清洗溶液直接定夸於滾輪12上。 當然，須知清洗站10可用任何數暈的流體進口，而流體 進口可與溶液槽14的任何所需部位相通，可視需要重疊 與否，使特定加工用途最適化。 清洗站10亦可包含流體出口（圖上未示），清洗流體 可在清洗程序之際或之後通過。如有需要，從流體出口取 得的清洗溶液，可視需要再循環、丟棄或運送。 圖3爲按照本發明配置的滾輪12示意圖，即至少一 滾輪總成18包含滾輪12,和聯結之機械能發射器20。凡 精於此道之士均知，雖然圖3僅顯示二個機械能發射器 20,但可用任何數量的發射器20配合任何數量的滾輪12。 此外，發射器20不霄聯結於特殊滾輪12，例如發射器2〇 可聯結於上、下滾輪、驅動滾輪或清洗滾輪（如上述）。 發射器20可位在溶液槽14內，或最好是在溶液槽14外。 —5 — 本紙张尺度诚州中國囤家標净（rNS ) Λ4規格（2丨0X29*7公釐) (請先閲讀背而之注意事項再填寫本頁)

A7 B7 五、發明説明（6 ) 外部安裝保護發射器2〇和相關電子線路，免受清洗溶液 的污染。 按照本發明，機械能發射器2G可構成產生較低頻率 的振動能或較高頻率的超音波能，視特定用途而定。例如， 發射器2〇可利用磁力共振器、氣力轉換器、或適於產生 所需輻度的機械性振動之任何其他裝置。在某些用途需要 較低頻率的機械性振動，而不需強烈的超音波空化和清 洗。由發射器2〇產生的機械性振動，顯示例如約5 Hz和 約20 Hz間的次音波頻率、；?〇 Hz和20 RHz間的可聞頻 率，或任何其他適用頻率範圍。 茲參見圓4詳述加設發射器20的滾輪總成18。爲了 此項說明，發射器20構成超音波發射器。然而，如上所 述，本發明可另外構成振動式機械性發射器。因此，以下 說明可應用於利用低頻振動式機械能而非超音波能之另外 具體例。 滾輪總成18 —般包含發射器20，實質上硬芯22和 清洗材料24。超音波發射器20適度產生超音波機械能， 指向芯22並由芯22傳導。從而，超音波機械能從芯22 傳送到清洗材料24，在清洗程序當中舆工作件接觸。清 洗材料24亦可對周圍環境，例如清洗溶液洛，輻射大量 超眘波能25。超音波機械能箄成清洗材料24以超音波頻 率振動或擺動，因此增進工作件的接觸式清洗。此外，超 音波能造成清洗溶液的分子空化，以習知方式從工作件表 面釋出粒狀物和碎曆。此外，由超音波發射器20產生的 —6 一 本紙張尺度適川中國囤家標卑（（、NS ) Λ4規格（210X297公釐） (請先閱讀背而之注意事項再填本頁)

經湞部中决核準局Be工消費合作社印家 A7 ___B7 五、發明説明（7 ) 超音波能適度便利鬆動的碎屑從清洗材料24去除；去除 的碎屑再利用清洗溶液有效洗除。 圖？爲超音波發射器20的示意圖。超音波發射器2〇 最好包含RF連接器26、許多壓電轉換器28，以及前驅 動器30。轉換器28宜夾在正RF電極32和負RF電極34 間的堆積配置內。kF連接器26構成轉動組件，使滾輪總 成18可繞其縱缻線自由轉動，不會將使用時聯結於RF 連接器26的導電體（圖上未示）扭曲或糾結。適用做RF 連接器26的轉動聯結器和電連接器，爲精於此道之士所 知，不需詳述。在變通較佳具體例（詳後）中，發射器20、 芯22和前驅動器3〇仍實質上靜止，而清洗材料24則單 獨繞芯22轉動。此種具體例可需轉動聯結器、接頭和密 封，否則使用一段期間後容易故障或劣化。再者，額外聯 結器、接頭或密封的存在，會使超音波從超音波發射器20 傳輸到清洗材料24的品質降級。 在清洗過程，最好對RF連接器26施加RF激發信號。 凡精於此道之士所知任何適當RF發生器（圖上禾示）均 可用來產生激發信號。在一具體例中，激發信號的頻率在 約30 kHz至50 kHz範圍。當然，本發明可利用具有任何 超音波頻率（或可聞或次音波機械性振動頻率）和任何適 當振幅之激發信號；特定操作頻率可因甩途而異。因應激 發信號，轉換器28內之晶體膨脹和收縮（振動）。超音波 發射器20或其部份市上有各種來源，諸如Branson Ultrasonic, Forward Technologies 和 Telsonic Ultrasonic 〇 一 7 — 本紙张尺度洎川中國國家標肀（（WS ) Λ4現格（210X 297公釐） (誚先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ----©.

n . ，1T Μΐνί部屮劣標準局只工消於合作社印纪 A7 _______B7_ 五、發明説明（8 ) 須知超音波發射器20另外可採用任何適用的元件， 構成將激發信號轉化爲超音波機械能。例如，本發明可另 外包含霉磁轉換器，能產生適當超音波信號。如前簡述， 本發明可利用許多裝置，產生適當振動性機械信號，例如 活塞振動器、球體振動器、氣力振動器、霉機振動器或電 磁振動器。 雖然圓上未示、超音波發射器20可包含增強器或其 他信號調理元件，構成調節轉換器28所產生振動的振幅 和/或其他特性。前驅動器30構成把超音波機械能導至 滾輪總成18。按照習用超音波組件，前驅動器30最好調 諧至超音波發射器2〇設計來產生的特定頻率。 前驅動器3〇構成聯結滾輪12，使超音波機械能從超 音波發射器20轉移至滾輪12。回頭參見圓3和圓4，芯 22宜藉螺合聯結於前驅動器30，此項聯結於圖4中以31 表示。然而，任何適當聯結機制均可採用以便利超音波能 由前顆動器3〇轉移至芯22。芯22係由適於傳導超音波 機械能的材料，例如鋼所形成。芯2 2大約調諧至超音波 發射器2〇的操作頻率，以方便有效傳導超音波能。須知 調諧過程同樣可應用到利用低頻振動能發射器而非超音波 發射器之另一具體例。 在圖3和圖4所示具體例中，清洗材料24實質上包 圍芯22，使具有無縫清洗表面。清洗材料24較芯22更 具柔軟和彈性。因此，芯22可包含方便芯22和清洗材料 24間堅固摩擦套合之結構（圖上未示）或任何適當機制。 —8 — i紙张尺度中國丨S家標磚（(，NS ) Λ4規格( 210X^97公釐) '" I---*--------------訂 (請先閲讀背西之注意事項再填寫本頁) 妗滅部屮决桴準局妇-τ·消贽合竹社印絮 A7 ____ B7 五、發明説明（9 ) 如此即可將芯22和清洗材料24間的滑滑減到最小，同時 方便清洗材料容易從芯22取下和苒插入。因此，清洗材 料24可由PVA形成；此種PVA滾輪美國紐澤西州的 Meracel公司有售。 圖7至圚9表示本發明另一較佳具體例構成之清洗元 件。如上所述，清洗元件50可構成用於超音波發射器 或振動式機械性發‘射器；以下說明不限於任一具體例。需 維持超音波發射器20、前驅動器30和/或芯22在實質 上靜止位置時，可採用清洗元件50。例如，清洗元件24 隨芯22轉動，可能困難或麻煩完成，尤其是若總成內含 有轉動性RF聯結器、密封和其他組件。此外，使用附設 構件，例如鍵和鍵槽，會干擾芯22的調諧，而該項構件 (和其他組件）會降低清洗元件5Q的效果。因此，清洗 元件50宜構成可使清洗材料24單獨繞芯22轉動。 在圖7至圓9所示另一具體例中，清洗元件50 —般 包含芯22、複數安裝環52和清洗材料24。芯22經由前 驅動器30(如前述）聯結於超音波發射器20合作。如圖 8所示，芯22爲實質上圖筒形，並以含有形成於其內的 複數環形凹溝54爲佳。雖然凹溝54具有實質上圓形斷面， 亦可視特定用途之必要而適當造型。凹溝5 4宜位在沿芯 22声度的節點。在本案說明中，節點係沿芯22可傳輸機 械能比芯22上其他點爲少量的點。易言之，沿芯22長度 測得之機械能，其量係以實質上循環方式而異；在理想情 況下，能量係在節點減到最少。 -9- 本紙張尺度诚州中囚囤家標卑（（'NS > Λ4規格（210X297公釐） (請先閲請背而之注意事項再填寫本頁) ---- 訂 -OI. A7 B7 五、發明説明（〗〇 ) 節點的位置可按照已知技術按經驗或理論決定。節點 亦即.凹溝54的間隔，與芯22的調諧和超音波發射器2〇 的操作揮率有_。因此，節點的特定位置與超音波能發射 器20的預定頻率，形成芬22的特定材料（例如不銹鋼、 鋁等），或芯22的尺寸有關。 安裝環52或若干其他適用聯結組件，使清洗材料24 可與芯22相通。安裝環52要定適當尺寸，使其可容納在 環形凹溝54內，使各安裝環52至少一部份與芯22接觸， 得以把超音波機械能從芯22傳輸至清洗材料24。安裝環 52亦可構成實質上防止清洗材料24和芯22之間接觸（見 圖9)，此種間隔可延長到清洗材料24的使用壽命，方便 清洗材料24使用中的有效沖洗。須知清洗材料24可按各 種已知技術適當聯結於安裝環52。另外，安裝環52可一 體形成於清洗材料24內。於較佳具體例內，安裝環52係 由硬質塑膠樹脂或不銹鋼形成，方便充分傳輸超音波能， 並提供清洗元件50的充分結構完整性。 .¾¾部屮次標準局芡-T-消贽合作社印裝 I.-I,------Θ! (誚先閲讀背面之注意事項再填{5?本頁) 安裝環52容納在凹溝54內時，能夠繞芯22轉動。 因此，清洗材料24可獨立於芯22、發射器20和前驅動 器30轉動。清洗站10可包含聯結於安裝瓌52和/或清 洗材料24之適當驅動機制（圖上未示），以造成清洗材料 相對於芯22轉動。 、 與僅將機械能引進溶劑槽內之習用清洗槽相對的是， 本發明較佳具體例可將機械能直接應用於清洗元件，例如 滾輪總成I8。因此，清洗元件以移動模式進行接觸表面 -10- 本紙張尺度洎州中阀β家標.今IrNS ) Λ4規格（210X297公漦〉~~' A7 __________B7 五、發明説明（η ) 清洗，而以隨機或擺動方式遂行振動式或超音波清洗，由 機械能造成的另一清洗效果使清洗站ίο可以較少時間和 /或較禽量清洗元件有效清洗工作件。 (讀先閱讀背而之注意事項再填寫本頁) 圖6表示另一清洗站36，構成來清洗硬質記憶碟片 38。在此具體例中，配置許多清洗元件40來清洗至少一 記憶碟片3S。記憶碟片38以複數托運滾輪42支持爲佳， 可容許或造成記憶*磾片3 8在清洗中轉動。清洗元件4〇以 實質上均勻間隔方式聯結於轉動軸44，以方便利用清洗 元件40接觸式清洗記憶碟片38，各清洗元件40可包含 利用實質上硬芯（圓上未示）支持之PVA外表面。在具 體例中，各清洗元件40的硬芯聯結於軸44,提供振動式 機械能之適當傳導通路。 本發明人發現對清洗元件40的精緻結構而言，應用 超音波可能太猛。因此，清洗站36可加設振動式發射器 21而非超音波發射器20。尤其是發射器21可適當聯結於 軸44，使預定頻率的振動式機械能傳送到軸44。如前簡 述，此種振動式機械能可視特殊用途需要，以次音波或可 聞頻率發射。一如芯22 (就清洗站1 0敘述如上），軸44 宜按發射器20相關的預定頻率調諧。機械能的振幅使能 量傳導通過軸44,逋過清洗元件40,到達各記憶碟片38， 因此，記憶碟片38 —如清洗元件40，兼>可受到機械性接 觸式刷洗和振動式機械性清洗，而記憶碟片3 8則彼此相 對轉動。 須知清洗站36 —如清洗元件50，可採用偏離元件（圖 -1 1 ~ 本纸張尺廋珀家棉淨((、阽）/\4規格（210/297公漦） A7 _B7 五、發明説明（12) 上未示），藉安裝環或其他組件間接聯結於軸44 6此種配 置宜使清洗元件繞軸44轉動，亦可保持靜止。 總名，本發明提供機械能清洗工作件之裝置；此種機 械能可爲較低頻振動能或較高頻超音波能。清洗站可採用 清洗元件，以提供接觸式清洗配合該項機械能清洗。使用 機械能可減少習知半導體晶圓清洗法相關之清洗時間，便 利在清洗過程中，‘從清洗元件去除粘狀物。 本發明已就較佳具體例說明如上。然而，精於此道之 士均知對較佳具體例可加以變化和修飾，不悖本發明之範 圍。例如各種組件所用材料不限於所述或所示。此外，清 洗站的造成可經修飾，與要清洗的特殊工作件相容。凡此 等和其他變化或修飾，均旨在包含於本發明範圍，而以如 下申請專利範圍表達。 (锖先閲讀背而之注意事項再填寫本頁) i®------ 訂 ---®1. -12-

本紙張尺度蝻州中固國家標呤(('NS ) Λ4規格（210 X 297公fTT

Claims (1)

1. A8 Βδ C8 D8 _ 六、申請專利範圍 1·一種工作件清洗裝置，包括： 清洗元件，構成於清洗過程中與該工作件接觸；和 機械能發射器，與該清洗元件相通，該機械能發射 器構成在該清洗過程中，對該清洗元件施加機械能者。 2.如申請專利範圍第1項之裝置，又包括溶液槽，內 含該清洗元件，該溶液槽構成帶有清洗溶液，在該清洗過 程，可傳導機械能·至該工作件者。 3 ·如申請專利範圍第2項之裝置，其中該溶液槽和該 清洗元件構成，使該清洗元件於該清洗過程實賛上浸沒於 該清洗溶液內，以方便機械能傳導至該工作件者。 4·如申請專利範圍第1項之裝置，其中該清洗元件包 括： 實質上硬芯，構成傳導機械能：和 聯結於該芯之清洗材料，在該清洗過程與該工作件 接觸者。 5 ·如申請專利範圍第4項之裝置，其中該清洗材料實 質上圍繞該芯者。 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 6. 如申請專利领圍第4項之裝置，其中該芯與該機械 能發射薄之一部份接觸，使機械能從該機械能發射器傳輸 至該清洗元件者0 7. 如申請專利範圍第4項之裝置，其中該芯係由適於 機械能傳導之材料形成者。 8. 如申請專利範圍第4項之裝置，其中該清洗材料係 藉安裝元件聯結於該芯，該安裝元件構成與該芯接觸，並 -13 -本紙張尺度適用中國國家標準（CNS )八4規格（210X 297公釐） 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 々、申請專利範圍 實質上防止該清洗材料與該芯接觸者。 9如申請專利範圍第8項之裝置，其中 該芯含有位於其上之節點，該節點傳輸機械能實質. 上較位於該芯上的其他點爲少量；而 該安裝兀件係大約在該節點與該芯接觸者。 如申請專利範圍第1項之裝置，其中該機械能發 射器包括： · „把激發信號轉化爲超音波機械能用之機構；和 把該超音波機械能指導至該清洗元件用之機構者。 11. 如申請專利範圍第10項之裝置，其中該指導機構 包括超音波號角，構成聯結於該清洗元件者。 12. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中該機械能發 射器在該清洗過程造成該清洗元件以機械方式振動者。 13·如申請專利範圍第1項之裝置，又包括在該清洗 過程中’對該清洗元件施加清洗溶液用之機構者。 14. 一種工作件清洗裝置，包括： 清洗元件，構成在清洗過程可接觸並以機械方式清 洗該工作件，該清洗元件包括實質上硬芯；和 在該清洗過程中對該芯施加預定頻率的機械能用之 機構；其中 該芯經調諧，以便利傳導在該預定頻率之機械能 者。 15. 如申請專利範圍第14項之裝置，其中該機械能施 加機構係聯結於該芯者。 —14 — 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注*事項再填寫本頁) -----^—訂------@-----/— A8 B8 C8 _ D8 六、申請專利範圍 16. 如申請專利範圍第15項之裝置，其中該機械能施 加機構包括超音波發射器者。 17. 如申請專利範圍第14項之裝置，其中 該清洗元件實質上爲圓筒形； 該清洗元件構成在該清洗過程中繞其縱軸線轉動； 而 該機械能施加機構在該清洗過程中造成該清洗元件 於該預定頻率，以機械方式振動者。 18. 如申請專利範圍第14項之裝置，又包括溶液槽， 其中該清洗元件在該清洗過程中實質上浸沒於清洗溶液 內，其中該機械能施加機構又構成在該清洗過程，對該清 洗溶液施加機械能者。 19. 如申請專利範圍第14項之裝置，其中該預定頻率 係在約30 kHz至50 kHz範圍者。 20. 如申請專利範圍第14項之裝置，其中該清洗元件 又包括清洗材料，聯結於該芯，而該清洗材料在該清洗過 程中與該工作件接觸者。 21. 如申請專利範圍第20項之裝置，其中 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 該芯含有位於其上之節點，該節點傳輸機械能實質 上較位於該芯上的其他點爲少量；而 該清洗材料係經由大約位於該節點之安裝元件，聯 結於該芯者。 22. 如申請專利範圍第21項之裝置，其中該節點在該 芯上之位置與形成該芯的材料之該預定頻率和該芯尺寸之 -1 5 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) ΑΊ規格（210X297公釐） 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 至少其一有關者。 23.如申請專利範圍第21項之裝置，其中 該芯實質上爲圓筒形，包括形成於該節點之環形凹 溝； 該安裝元件爲實質上環形，容納於該環形凹溝內； 而 該安裝元件·可繞該芯轉動者。 24·如申請專利範圍第2〇項之裝置，其中該清洗材料 實質上圍繞該芯者。 25. —種工作件之清洗方法，包括如下步驟： 提供清洗元件，構成與工作件接觸； 相對於該工作件移動該清洗元件，因而進行機械性 清洗該工作件；以及 在該移動步驟中對該清洗元件施加振動能，因而遂 行該工作件之振動式機械性清洗者。 26 ·如申請專利範圍第25項之方法，其中該施加步驟 造成該清洗元件於超音波頻率振動者。 2 7.如申請專利範圍第26項之方法，其中 該清洗元件包括實質上硬芯，構成傳導機械能；而 該方法又包括該芯調諧步驟，以便利該超音波頻率 之超音波機械能傳導者。 28 ·如申請專利範圍第25項之方法，又包括歩驟爲： 把該清洗元件浸沒於清洗溶液內；和 於該運_步驟中對該清洗溶液施加振動能，因而遂 一 1 6 — 冢紙張尺度適用中國國家標準（ CNS ) A4規格（210X297公楚一) """" i., 0! f請先閱讀背面之注意事喟再填寫本頁j •訂_ A8 B8 C8 D8 六、申請專利範園 行該工作件之振動式機械性清洗者。 29.如申請專利範圍第25項之方法，其中該施加步驟 是利用機械能發射易進行’構成對該清洗元件通機械能 者。 3〇.如申請專利範圍第25項之方法，其中該施加歩驟 包括步驟爲： 把激發信號.轉化爲振動能；並 把該振動能指導至該清洗元件者。 31.如申請專利範圍第25項之方法，其中該清洗元件 爲實質上圓筒形，而該運動步驟包括令該清洗元件繞其縱 軸線轉動之歩驟者。 32·如申請專利範圍第25項之方法，又包栝步驟爲， 把清洗溶液耗用在該清洗元件上，該耗用歩驟係在該運動 步驟之前進行者。 (請先閎讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Μ規格（210x297公釐）