TW310443B - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
TW310443B
TW310443B TW084104752A TW84104752A TW310443B TW 310443 B TW310443 B TW 310443B TW 084104752 A TW084104752 A TW 084104752A TW 84104752 A TW84104752 A TW 84104752A TW 310443 B TW310443 B TW 310443B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
film
patent application
substrate
item
laser beam
Prior art date
Application number
TW084104752A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Philips Electronics Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Electronics Nv filed Critical Philips Electronics Nv
Application granted granted Critical
Publication of TW310443B publication Critical patent/TW310443B/zh

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/20Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/86Vessels; Containers; Vacuum locks
    • H01J29/867Means associated with the outside of the vessel for shielding, e.g. magnetic shields
    • H01J29/868Screens covering the input or output face of the vessel, e.g. transparent anti-static coatings, X-ray absorbing layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/06Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23Oxides
    • C03C17/25Oxides by deposition from the liquid phase
    • C03C17/253Coating containing SnO2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3417Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/23Mixtures
    • C03C2217/231In2O3/SnO2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/70Properties of coatings
    • C03C2217/73Anti-reflective coatings with specific characteristics
    • C03C2217/734Anti-reflective coatings with specific characteristics comprising an alternation of high and low refractive indexes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/11Deposition methods from solutions or suspensions
    • C03C2218/113Deposition methods from solutions or suspensions by sol-gel processes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/11Deposition methods from solutions or suspensions
    • C03C2218/116Deposition methods from solutions or suspensions by spin-coating, centrifugation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/30Aspects of methods for coating glass not covered above
    • C03C2218/32After-treatment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2209/00Apparatus and processes for manufacture of discharge tubes
    • H01J2209/01Generalised techniques
    • H01J2209/012Coating
    • H01J2209/015Machines therefor

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)

Description

31C443 Α7 Β7 五、發明説明(1 ) 經濟部中央榇準局員工消費合作杜印製 本發明係鼷於在陰極射線管的表面上熟化一薄膜的方法 Ο 陰極射線管使用於,特別是,《視接收器、霣腦監視器 和示波器。 在開頭段落中所提到的該型鐮方法本身是為人所知的。 ,將一薄膜施加於陰棰射繚管之顧示視窗的表面上。這薄縝 Μ液體的形式瀾佈於表面上,於其後將它乾爍並加K热化 。習慣上,薄膜在鳙子中加Μ熟梅。鑪中的高溫造成薄膜 的热化。薄膜的热化時間從30分鑪變化至]小時。該方法 較不罐合於大量生產。在生產繚上,目檷是要讕轚各個製 程步驟彼此之間的捋鑛時間。然後顯示視窗或顯示管可接 續地或者「連線J地接受各個製程步驟。一僩製程步驟典 型而言耗費約略1分鐘。如果-·個製程步驟的持緬時間遠 超過平均持鑛時間,則該製程步鼸無法實施「逋鑛」,因 為生產線的速度通常是由最慢的製程步驟所決定。該相闞 製程步驟必須在生產線之外實施。為達此目的,顯示視窗 或顯示管必須自生產線移出,且實施該製程步鼸的裝置必 須在生產線側邊加Μ組立。這導致生產成本Μ及破裂風除 的增加。 本發明的目棵是提供一種關顗段落所提到之型態的方法 *其更缠合於「建鰊丄應用。 為達到這個目的,根據本發明之方法具有待徵為,薄膜 Κ入射於該膜之有限面積上且_繼鰊泰礙終《Γ射柬齄Μ鐮 化。 m flm ^in HI— —Bui tm tftn m n^i nn mu ^ r (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS ) A4規格(2K)X*297公釐)—4- A7 B7 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 五、發明説明 ( 2 ) 1 1 I 本 發 明 是 Μ 位 於 該 面積中之 部 分薄 m Μ 1 1 1 I 請 1 1 由 m 射 柬 加 化 的黼霱為基 m 。頃 發 現 > 薄 鎮 可 在 從 先 閱 1 I 10秒 鑪 變 化 至 幾 分 鎗 的一段時 間 内箱 由 以 該 笛 射 束 掃 描 表 讀 背 1 1 面 而 加 Μ 热 化 〇 雷 射 束在表面 之 上的 移 動 具 有 元 件 本 身 t 面 1 例 如 顧 示 視 窗 之 m 度藝稍猶 増 旗的嫌點 0 只 有 薄 m 和 表 意 事 1 1 ,面 的 最 上 層 (即元件位於膜正下方的部分) 通 受 到 相 當 的 溫 項 1 度 增 加 〇 其 特 性 热麵游很 繼 產生: 或 者 一一 點 也 不 會 發 寫 本 装 I 生 〇 因 此 預 先 排 除 了由热應 力 導致 的 T.rit 败 裂 〇 後 •' 儸 儍 黏 1 1 1 在 根 據 本 發 明 之 方 法 的具賭簧 施 例中 特 別 籯 WB * 該 具 蘼 實 1 施 例 具 有 特 徵 為 將 薄膜施加 於 例如 顯 示 視 窗 之 已 抽 真 空 1 1 陰 極 管 的 外 側 或 已 抽 真空陰棰 射 線管 的 錐 角 〇 ——* 般 而 —w » 訂 已 抽 真 空 的 顬 示 管 不 能暴露於 高 潘一 長 段 的 時 間 〇 在 已 知 1 的 方 法 中 顯 示 管 及 因此鑪子 的 溫度 必 須 受 限 於 約 咯 100 1 I V - 200 t: > 在 較 高 的溫度下 有相 當 的 顧 示 管 Tjjr 販 裂 風 險 I 1 〇 在 根 據 本 發 明 的 方 法中,Μ 爾 射束 加 以 照 射 之 部 分 薄 膜 1 I 的 溫 度 是 攝 氏 好 幾 百 度。然而 » 整個 顧 示 签 的 溜 度 低 了 很 1 多 〇 後 錮 優 m (降樣姆被裂臟除)是 重 要 的 特 別 是 對 包 I 含 具 有 長 度 超 過 50 厘 米之對角 繚 之顯 示 視 窗 的 顯 示 朁 而 言 0 在 爐 子 中 加 熱 顯 示 管至須要 之 溫度 所 霈 要 的 時 間 鏞 著 顯 1 I 示 管 越 大 而 增 加 • 因 此破裂的 風 險也 鼸 之 增 加 0 根 據 本 發 1 明 之 方 法 的 較 佳 具 體 實施例具 有 特徽 為 f 薄 m 吸 收 少 量 的 1 | 雷 射 光 且 能 量 的 釋 出 集中於薄 膜 下方 的 面 積 埵 小 於 10 微 米 | 的 深 度 0 1 I 雷 射 光 由 材 料 吸 收 一般根據 .e箱:次蘑(::e - 〆 施行 ,ί 1$ 1 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國囷家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐)_5 31C443 A7 B7五、發明説明(3 ) 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 於其中do是常數。對薄膜而言,較好,do超遇薄膜的厚度 很多,且對基板而言•較好,do是在10微米之下。Μ其特 性,薄膜的雷射光吸收受到限制且雷射能產釋出於位在薄 膜正下方的薄層中(<1〇微米)。相較於將相當部分之雷射 能量釋出於薄膜中的情況*較佳方法較受喜愛*因為薄膜 ,中的溫度更為均勻且降低了薄膜堍《的風除。 本發明的一儷具驊實廊例具有特撖為,襯壩性羼痛倉氳 氛顯中加Μ熟化。 頃發現,藉由在含竄氛圈中施行雷射處理*可有利地影 響該層的導電係數。 陰極射線管要符合的一個要求楚,陰橱射線管所發出之 雜散埸的場強度在距陰播射線管的某些距離處要低於-·個 最小值。這另外稱之為「電磁遮蔽(electromagnetic sh ie lding *下文簡稱EMS) J 為達此目的,所施加的導 罨性層必須擁有相當低的霣氣阻抗。然而*頃發現,如果 該類層以退火加Μ熟化,則導》性曆的導罨度在空氣的影 響下增加,因此EMS降低。 如果造些層,例如ΙΤ0層(包含SnOWJnsrO»的灌)藉由 在含氳氛围中的雷射加Μ热化’則阻抗Μ鐮定降低的方式 降低。 另一個較佳具體霣施例具有铸繼為駔生於衾水飙囑中的 霣射加热。這也窠富泰_戚導霉度购壤參。 尚在討論中的該類效靡是相锴顯蕃的並造成好幾百倍的 改良,該改良是穩定的且再加熱至高溫不會不利地影響導 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1Τ 本紙張尺度逋用中國國家橾隼(CNS > Λ4規格(21〇Χ2β公釐) A 7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印装 五、發明説明(4 霄度。 該方法可用Μ施加薄_ (也稱為塗曆)於險極射鐮管的元 件上,然而,上述提及的先前技藝缺點Μ及本發明益處也 逋用於塗層在其他基板上的懕用,諸如在LCD(液晶顧示器 )之内和之上或者在合成樹脂上 , 本發明進一步係闞於热化在表面,例如陰極射線管之視 窗,上之薄膜的裝置。 本發明的埴些和其他方面將鶊由實例式具艚實施例並參 考附園更加詳细地加K解釋,其中 圓1是一個陰極射線管。 圈2是根據本發明之方法的具艚實腌例。 圖3是根據本發明之方法的另一届具髓實豳例。 該類圔形是概要式的且未依比例描鴆’類似的參考數字 一般表示類似的部分。 圖1是陰極射線管的横断面視圏,在埴儷實例中,彩色 陰極射線管包含具有幾乎完全長方形之顧示視窗2 ,封合 部分3和頸管4的已抽輿空套管1 。頚管中提供《槿系統 5 Μ產生,在本貢例中,三種躧子束6 ' 7和8。在本實例 中,電子束產生於一個平面中(在本例中為肜的平面)並 射向提供於顯示視窗内側上且其包含由很多發紅光、籃光 及綠光之螢光粉元件所姐成之螢光粉鼸案的爾塌發光顬示 螢幂9 。螢光粉元件可Κ是,例如’點狀或線狀型式。在 它們到達顯示螢幕9的途中,雷子束6 、7或8箱由偏折 單元10加Μ偏折掃過顯示酱幕9並穿遇包含具有空孔12之 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(210'x 297公釐)_ 7- (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝. 訂 310443 Λ 7 87 五、發明説明(5 ) 經濟部中央標隼局員工消费合作社印装 薄板且排列於顯示螢幕9之前的色彩選揮電橱11。三霄子 束6 、7和8 Μ小角度穿過色彩璣揮電極11的空孔12且, 因此,每一電子束入射於只由--種色彩姐成的螢光粉元件 。色彩選揮電極11糖由懸置元件13懸置於顥示螢幕之前。 顧示視窗的一儸表面,在本實例中為外_表掘1%,繅供鸾 /一薄鎮。這棰薄膜可用作為反反射或抗靜霣膜。根據已知 的方法,這樣的薄膜提供、乾烯然後加Μ熟化。薄膜習慣 性在爐中加Μ热化。如上所述*這樣的方法較不遍用於大 董生產,因為將薄膜加Μ热化的該製程步驟通常不能「埋 線J地實施。此外,如果將薄膜提供於已經抽興空的顯示 管上,則有顯示管將破裂之相當大的風險。本發明的一個 目標是提供一棰可將上述問題加Μ降低的方法。 根據本發明之方法的一個籣單具髑實豳例敘述於_2中 。將陰極射線管21或者一種基板(玻瑰、陶瓷材料或者諸 如鈣玻璃、硼矽酸鹽玻璃、電視玻璃、石英或鋦的另一種 材料)的視_安排於滑板22上並通遢播描中(例如來回地移 動)的霍射柬2¾下方。雷射柬縐禱描働作可*由臃子憲缴 。在霤射束位置處,親幽供應藝Μ鑛應靡戚氣覼(一種包 含氮和氳的含氫氣賭)U雷射柬之後’可能有冷卻區域A ,具有或不具有藉由空氣的強迫冷卻。接蕃•可供應雜如 水液性氣箱腰的含水氛《,較錚*至葡域8,於其後較好 在匾域C藉由乾空氣(或另一種氣體,諸如撖)_靥加Μ乾 嫌。Μ這種方式,將施加至螢幕之諸如凝滕塗曆的層加以 热化。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(2丨0Χ 297公釐)_3 {請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· 訂 A7 B7五、發明説明(6 ) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印策 第二具臁實施例敘述於麵3中。在逭偁具體實施例中, 雷射處理在形成氣體的氛園中進行,不綸是否與空氣混合 ,其氛圃以水溶性氣溶勝使其鉋和。該氣溶繆的微細度可 由調整霧化器加Μ改麥。圖3顯示導管36,其包含雷射束 33用的視留35且更包含供應含Μ氣艘(供應管37)、空氣或 另一種產生水溶性氣溶膠之氣艚(供應管38)及水(供應管 39)用的供應管37、38和39。 装置更包含將水排出的排放 管40。在圈形中,氣溶膠概略地Μ黏41代表》 在具艚實施例中*溶繭或者試蜊可溶於水溶性氣溶膠中 。另外也可能靜電充電水溶性氣溶膠顆粒。水顆粒的靜電 充锺使氣溶膠的較佳使用(較低損失)成為可能。 薄膜本身較好吸收少畺或不吸收笛射光。雷射的能量釋 出於膜正下方的薄層(約略10微米或更少)。雷射光由材料 吸收通常根據e的次方進行,於其中do是常數且 d是到該層表面的距離。較好•薄膜的d0值缠超邊薄_的 厚度d(d/d0<l)且基板的d0/小於10微米。結果,薄臟吸收 少董的雷射光且雷射的能量釋出於薄膜正下方的薄靨中。 與其中相當部分之雷射能量釋出於薄膜中的情況相比較, 較佳方法更令人喜愛,因為薄_中的溫度較為均均且使薄 膜燒蝕的風險降低。薄膜自下方加熱且热化。埴較有利, 因為在多孔層之緻密化期間所形成的反應產物可通通仍為 多孔狀的上層逸離。如果薄膜本身吸收,如此則能毚主要 釋出薄膜本身之中,最高溫發生薄膜的最上靥部分,該部 分在熱化期間首先緻密化並形成反應產物的陣壁。也有可 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝·
、1T 本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS ) Α4规格(210x:297公釐)-9- 310443 Α7 Β7 五、發明説明(7 ) 經濟部中央橾準局貝工消費合作社印製 能薄鎮上雇中的溫度增加太多Μ致於薄膜的燒蝕發生。 Κ ,顯示視窗整艚的溫度不會增加或者增加很少。驊蕃 h 笛射束相對於表面的移動,热量很難透人顯示視留之中, 如果有的話。換句話說*將非常大霣的熱供懕至薄腰,每 質量單位的薄膜,且在較佳具驩實施例中在»膜的正下方 ,產生,如此薄膜的溫度在非常短的時間(幾秒鐘之内)之内 增加至非常高的數值(攝氏好幾吞度)·因此造成薄臢熟化 。然而,到達顧示視窗的热供應 > 每質量單位的顬示視窗 δ勺 ,萣小的,如此沒有或少數Λ熱應力發生於顯示視窗中。 頃發現,如果雷射處理在含篚氛圍中霣施,則雇的锺等 會有利地受到影響。 陰極射線管要符合的-儷要求是·陰極射線管所發出之 雜散場的場強度在距陰極射線管的某些距雛處要低於一儷 最小值。迨也稱之為「罨磁遮蔽(ε μ s )」〇 為達此目的, 所提供的導《性層必須擁有相凿低的®氣胆抗。頃發琨, 如果該類曆以退火加Μ热化*則導《性曆的導罨度在空氣 的影響下增加*因此EMS降低。 如果埴些曆*例如由ίΤΟ(包含Sn〇2/In2〇3的靥)姐成的 凝膠塗層藉由在含氳氛圃中的霤射加Μ熟化,則阻抗以穩 定降低的方式降低》 另一個較佳具體實施例具有特微為雷射加熱裸作發生於 含水氛圃中。這也造成穩定的辱罨度改良。 尚在討論中的該類效應是相當顧著的並造成好嫌百倍的 改良,該改良是穩定的旦再加熱至高溫不會不利地影響導 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝. 訂· 本紙張尺度逋用中國國家揉準(CNS ) Α4規格(210X 297公釐)-10- 五、發明説明(8 ) A 7 87 電度。 該方法可用K施加薄膜(也稱為塗層)於陰極射嫌管的元 件上,然而,上述提及的先前技藝缺點以及本發明益處也 迪用於在其他基板上的塗曆製備*諸如在LCD (癘基顯示器 )之内和之上或者在合成樹脂上、 本發明也可用於施加反反射曆於顯示視窗的内或外表面 上。為達此目的,將例如四乙基矽酸腹(tetraethyl orthosilicate, F文籣稱TEOS )或四乙基鈦酸Μ (tetraethyl ortyhotitanate * 下文簡稱 ΤΕ0ΤΙ)的酒精溶 液撒佈或旋塗於表面之上,接蕃根據本發明方法加Μ熟化 。因而形成的膜是Si〇2或是Ti〇2膜。在本發明的__之内 ,很多的變化對熟諸此技蘑者是坷能的將是騮而易見的。 n (ϋ n^i Id nn m In In I n I— i m *'J • * M u?-$ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 本紙張尺度逋用中國國家橾準(CNS ) A4规格(2!〇>: 297公嫠)-11-

Claims (1)

  1. .¾ s SC 8 ABCD 六、申請專利範圍 ' VI. 一種熟化在基板表面上之薄膜的方法*其特徽為*薄膜 藉由入射於薄膜之有限面積上且掃描表面的II射束加 熟化。 v/2. 根據申請專利範圍第1項之方法,其特徵為,薄顏吸收 少里的嚣射光且能量的釋出集中於薄瞋下方的面積中達 小於1 0徽米的深度, v 3 . 根據申請專利範圍第1或2項之方法•其特遨為,導電 性膜在含氫氛圍中以雷射束加Μ熟化 ,y4 . 根據申請專利範圍第1或2項之方法•其特徽為,導電 性膜在含水氛圍中以雷射束加Μ热化或者立即在熟化操 作之後供應含水氛圍: •J5. 根據申請專利範圍第1或2項之方法·其特徵為,薄膜 是由ΙΤΟ姐成的凝膠塗層。 ^6. 根據申請專利範圍第1或2項之方法,其特徵為 > 基板 是用於陰極射線管或陰極射線菅的顯示視a, …7. 一種利用申請專利範園第1項之方法熟化基板上之薄膜 \ ' ..................... , M "" 的装置,包含基板固定座·投射雷射束於基板上的装置 ,Μ雷射束掃描基板的裝置及供應含氫氣體至雷射束入 射於基板上之點的装置, (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁 」—裝-- --訂 線 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)
TW084104752A 1994-04-25 1995-05-13 TW310443B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP94201138 1994-04-25

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW310443B true TW310443B (zh) 1997-07-11

Family

ID=8216823

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW084104752A TW310443B (zh) 1994-04-25 1995-05-13

Country Status (7)

Country Link
US (1) US6025037A (zh)
EP (1) EP0705483B1 (zh)
JP (1) JPH08512096A (zh)
KR (1) KR100379843B1 (zh)
DE (1) DE69513482T2 (zh)
TW (1) TW310443B (zh)
WO (1) WO1995029501A1 (zh)

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6280838B1 (en) * 1997-01-10 2001-08-28 U. S. Philips Corporation Optical element, a display device provided with said optical element, and a method of manufacturing the optical element
EP0910864B1 (en) * 1997-04-28 2004-11-24 Koninklijke Philips Electronics N.V. Display device comprising an anti-static, anti-reflection filter and a method of manufacturing an anti-reflection filter on a cathode ray tube
EP0917525B1 (en) * 1997-04-28 2001-10-31 Koninklijke Philips Electronics N.V. Method of manufacturing a conductive layer on a substrate
US7108894B2 (en) * 1998-09-30 2006-09-19 Optomec Design Company Direct Write™ System
US7045015B2 (en) 1998-09-30 2006-05-16 Optomec Design Company Apparatuses and method for maskless mesoscale material deposition
US20040197493A1 (en) * 1998-09-30 2004-10-07 Optomec Design Company Apparatus, methods and precision spray processes for direct write and maskless mesoscale material deposition
US8110247B2 (en) * 1998-09-30 2012-02-07 Optomec Design Company Laser processing for heat-sensitive mesoscale deposition of oxygen-sensitive materials
US7294366B2 (en) * 1998-09-30 2007-11-13 Optomec Design Company Laser processing for heat-sensitive mesoscale deposition
US7938079B2 (en) * 1998-09-30 2011-05-10 Optomec Design Company Annular aerosol jet deposition using an extended nozzle
KR100348702B1 (ko) * 1999-12-28 2002-08-13 주식회사 루밴틱스 급속 열처리 방법에 의한 도전성 투명 박막의 제조방법 및 그 방법에 의해 제조된 도전성 투명 박막
EP1292414B1 (en) * 2000-06-13 2005-12-14 Element Six (PTY) Ltd Composite diamond compacts
WO2004026263A2 (en) 2002-09-20 2004-04-01 Fmc Corporation Cosmetic composition containing microcrystalline cellulose
KR101225200B1 (ko) 2003-09-26 2013-01-23 옵토멕 인코포레이티드 감열성 중규모 증착을 위한 레이저 공정
TWI242606B (en) * 2003-09-26 2005-11-01 Optomec Design Laser treatment process for maskless low-temperature deposition of electronic materials
US20060280866A1 (en) * 2004-10-13 2006-12-14 Optomec Design Company Method and apparatus for mesoscale deposition of biological materials and biomaterials
US7674671B2 (en) * 2004-12-13 2010-03-09 Optomec Design Company Aerodynamic jetting of aerosolized fluids for fabrication of passive structures
US20080013299A1 (en) * 2004-12-13 2008-01-17 Optomec, Inc. Direct Patterning for EMI Shielding and Interconnects Using Miniature Aerosol Jet and Aerosol Jet Array
US7938341B2 (en) * 2004-12-13 2011-05-10 Optomec Design Company Miniature aerosol jet and aerosol jet array
US20070154634A1 (en) * 2005-12-15 2007-07-05 Optomec Design Company Method and Apparatus for Low-Temperature Plasma Sintering
DE102007013181B4 (de) 2007-03-20 2017-11-09 Evonik Degussa Gmbh Transparente, elektrisch leitfähige Schicht
US20100310630A1 (en) * 2007-04-27 2010-12-09 Technische Universitat Braunschweig Coated surface for cell culture
TWI482662B (zh) 2007-08-30 2015-05-01 Optomec Inc 機械上一體式及緊密式耦合之列印頭以及噴霧源
TWI538737B (zh) * 2007-08-31 2016-06-21 阿普托麥克股份有限公司 材料沉積總成
TW200918325A (en) * 2007-08-31 2009-05-01 Optomec Inc AEROSOL JET® printing system for photovoltaic applications
US8887658B2 (en) * 2007-10-09 2014-11-18 Optomec, Inc. Multiple sheath multiple capillary aerosol jet
DE202008005553U1 (de) 2008-04-22 2008-08-14 Evonik Degussa Gmbh Hochleitfähige, transparente Metalloxid-Schichten durch Plasmaimmersion
FR2992957A1 (fr) * 2012-07-09 2014-01-10 Saint Gobain Procede de depot de couches minces avec etape de traitement sous atmosphere controlee et produit obtenu
CN107548346B (zh) 2015-02-10 2021-01-05 奥普托美克公司 通过气溶胶的飞行中固化制造三维结构
KR20200087196A (ko) 2017-11-13 2020-07-20 옵토멕 인코포레이티드 에어로졸 스트림의 셔터링

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2025122C3 (de) * 1969-07-17 1974-07-25 Vianova-Kunstharz Ag, Wien Verfahren zur Härtung von Anstrichstoffen und Überzügen mittels von einem Laser emittierter Infrarot-Strahlung
US4593228A (en) * 1984-05-15 1986-06-03 Albrechtson Loren R Laminated electroluminescent lamp structure and method of manufacturing
JPS6134826A (ja) * 1984-07-27 1986-02-19 Hitachi Ltd カラーブラウン管の製造方法
US4693906A (en) * 1985-12-27 1987-09-15 Quantex Corporation Dielectric for electroluminescent devices, and methods for making
JPS62195828A (ja) * 1986-02-21 1987-08-28 Hitachi Ltd カラ−受像管螢光面の形成方法
JPS6348725A (ja) * 1986-08-19 1988-03-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd スクリ−ンの製造方法
US5154945A (en) * 1990-03-05 1992-10-13 Iowa Laser Technology, Inc. Methods using lasers to produce deposition of diamond thin films on substrates
NL9002769A (nl) * 1990-12-17 1992-07-16 Philips Nv Werkwijze voor het vervaardigen van een beeldvenster voor een beeldweergave-apparaat.

Also Published As

Publication number Publication date
EP0705483A1 (en) 1996-04-10
KR100379843B1 (ko) 2003-06-19
US6025037A (en) 2000-02-15
EP0705483B1 (en) 1999-11-24
KR960703266A (ko) 1996-06-19
DE69513482T2 (de) 2000-05-18
WO1995029501A1 (en) 1995-11-02
DE69513482D1 (de) 1999-12-30
JPH08512096A (ja) 1996-12-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW310443B (zh)
Hayakawa et al. Enhanced fluorescence from Eu3+ owing to surface plasma oscillation of silver particles in glass
JPH03228861A (ja) 改良されたペースト組成物
US3954431A (en) Optical glass and its production
JP3387531B2 (ja) ガラスベースおよびガラス−セラミックベースの複合材料
CN106746606A (zh) 一种低介电损耗的可敏化光敏玻璃及生产方法
CN109321188A (zh) 一种低热膨胀系数、低透湿性uv-热双固化胶粘剂的制备方法
US4011006A (en) GeO2 -B2 O3 -SiO2 Optical glass and lightguides
Götz et al. Characterization of large supported metal clusters by optical spectroscopy
WO1996021617A1 (fr) Gel de silice, poudre de verre de quartz synthetique, moulage de verre de quartz et leur procedes de production
EP0503098A1 (en) Liquid crystal display device
JPS59151341A (ja) 磁気記録用フエライト磁性粉の製法
TWI432550B (zh) Lead - free conductive adhesive and its manufacturing method
JPS61224402A (ja) 電気抵抗層を有する装置の製造方法
EP0352860B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Eisengranatschichten
JP3370485B2 (ja) 接着用ガラス組成物
TW417075B (en) Method for carrying out a magnesium oxide based deposition on a display panel plate
TWI299109B (en) Method for manufacturing protrusions
NZ207408A (en) Fluorescent lamp with phosphor
JP3981527B2 (ja) 光非線形材料の製造方法
Lin Effect of CeO2/Ag2O on Etching Ratio and Crystallization Shrinkage of Photosensitive Glass-Ceramics
JP7148877B2 (ja) セラミック粉末
CN114180836B (zh) 一种银钕共掺锂铝磷酸盐玻璃及其制备方法和应用
Fleming et al. GeO2-B2O3-SiO2 optical glass and lightguides
CN112811432B (zh) 镱离子掺杂的二氧化硅激光微球的制备方法