TW307910B - - Google Patents

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TW307910B TW85104585A TW85104585A TW307910B TW 307910 B TW307910 B TW 307910B TW 85104585 A TW85104585 A TW 85104585A TW 85104585 A TW85104585 A TW 85104585A TW 307910 B TW307910 B TW 307910B
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Kaneda Aizou
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Description

A7 B7 經濟部中央梂準局員工消費合作杜印簟 夂、發明説明(1 ) 〔技術領域〕 本發明,係關於將半導體元件使用薄膜狀有機片接合 材料使之粘合在引導框架的薄膜狀有機片接合材料之叠層 方法,片接合入法,叠層裝置及片接合裝置。 〔習知技藝〕 已往,做爲使半導體元件粘合在引導框架的方法,係 使用在引導框架上供給片接合材料將半導體晶片粘合之方 法。做爲此等的材料,已知有例如A U - s〖共晶、焊錫 、樹脂糊等。其中,Au — S i共晶有價格贵且弾性率高 同時需要把粘合部份振遨之問題。焊錫具有不能承受熔點 溫度以上且彈性率高的問題。樹脂糊係以銀糊爲最普暹, 因銀糊,比其他材料最廉價而耐熱可靠性高同時弾性率也 低,故做爲1C·LSI之引導框架的粘合材料最常使用 〇 可是,近年來因高集體化進步半導體元件大型化,故 在粘合時逐漸難以把銀糊在塗佈部全面均句地塗佈。樹脂 糊不能均勻地塗佈時合在粘合部發生空隙,將在實裝時之 焊錫熱處理成爲引起封裝裂縫的原因,而成爲問題。 同時,根據電子機器之小型,原型化的髙密度實裝之 要求,近年來激遽地增加,半導體封裝已代替已往銷插入 型,適合高密度實裝的表面實裝型逐漸成爲主流。 該表面實裝型封裝,因將引出線直接焊錫在印刷電路 板等,做爲加熱方法,將根據紅外線回流式氣相回流,焊 (請先閲讀背面之注意事項再填薄本頁) .裝 訂 線 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210'/2〇7公t )
Itn^WWil.niHg Ijrtjinrew 經濟部中央標隼局員工消費合作杜印製 A 7 B7五、發明説明(2 ) 錫浸潰等,將封裝全體加熱而實裝。 此時,因封裝全體將曝露在2 1 0〜2 6 0 °C的髙溫 ,故在封裝內部有水份存在時,根據水份之爆發性氣化, 將會發生封裝裂縫(以下,稱爲回流裂縫)》 固該回流裂縫,會明顯地降低半導體封裝的可靠性, 故已成爲嚴重之問題,技術課題。 在片接合材料所引起的發生回流裂縫之機構係如下。 半導體封裝在保管期間(1)片接合材料會吸濕,(2) 該水份在回流焊錫的實裝時,會根據加熱而水蒸汽化, (3) 根據該蒸汽壓會引起片接合層之破壤和剝離· (4) 而會發生回流裂縫。 在封止材的耐回流裂縫逐漸提高之中·片接合材料所 引起的回流裂縫,特別在薄型封裝已成爲重大問題,而強 烈要求改良耐回流裂縫性。 〔發明之揭示〕 本發明,係爲了提供能將不引起封裝裂縫而可靠性優 異的半導體封裝以優良生產性製造之叠層方法,片接合方 法’叠層裝置及片接合裝置者》 並且,本發明係提供使用薄膜狀有機片接合材料,不 會發生回流裂縫,可靠性優異的半導體裝置及其製造法者 〇 在本發明,將使用薄膜狀有機片接合材料。此係例如 以環氧樹脂、矽樹脂、丙烯酸樹脂、聚醣亞胺樹脂等有機 材料爲主體(也包含在有機材料添加金靥填料,無機質填 本紙張尺度制t®®家料(CNS ) Λ视格(210X297^1 ' ~ -5 - J--------f I裝------訂------^冰 (請先閲讀背面之注意Ϋ項再填寫本頁} 3〇79i〇 A7 ___B7____ 五、發明説明(3 ) 料者)之薄膜狀者’在引導框架等支持構件上使薄膜狀有 機片接合材料以加熱狀態使之龌著,並且,在其上重叠半 導體元件加熱壓著者。亦即根據把樹脂糊薄膜化,而在粘 合部份均勻地供給片接合材料者。如此的薄膜狀有機片接 合材料需要加上歷力確保薄膜狀片接合材料對半導體元件 及引導框架之濕潤性。 本發明的薄膜狀有機片接合材料,係將如聚醣亞胺, 環氧樹脂等有機材料,依需要將金屬填料等添加物等材料 溶解,分散在有機溶媒做爲塗佈用清漆,把該塗佈用清漆 塗佈在二軸延伸聚丙烯薄膜等載體薄膜,使溶劑揮發而形 成膜層,把骸膜層從載體薄膜剝離而製造。在使溶劑揮發 之乾燥之程將接觸在空氣側的層之面(接觸在載體薄膜側 的面之相反面)做爲A面,將接觸在載髓薄膜側的面做爲 B面。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本黃} 本發明,係提供將薄膜狀有機片接合材料適用在賁際 之半導體裝置裝配工程的,不發生空隙且生產性優異之薄 膜狀有機片接合材料之叠層方法,片接合方法,#層裝置 及片接合裝置者。 本發明的薄膜狀有機片接合材料之叠層方法,其特徴 爲,把所定大小的薄膜狀有機片接合材料在半導體元件塔 載用支持構件上之所定位置載置暫時固定*將其薄膜狀有 機片接合材料在支持構件上推壓壓著者。 本發明的片接合方法,其特徽爲,將所定大小之薄膜 狀有機片接合材料在半導體元件塔載用支持構件上的所定 本紙張尺度適用中國國家橾準((::呢)人^林(210>::?>)7公犛_丨 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 ___B7_ 五、發明説明(4 ) ~ 位置載置暫時固定,根據把其薄膜狀有機片接合材料在支 持構件上推壓壓著,將所定大小之薄膜狀有機片接合材_ 在半導體元件塔載用支持構件上的所定位置叠靥,而使半_ 導體元件加熱壓著在支持構件上之薄膜狀有機片接合材料 的所定位置著》 本發明之第一叠層裝置,具有將薄膜狀有機片接合材 料送出一定童的供給裝置,和沖穿薄膜狀有機片接合材料 之裝置,和把沖穿的薄膜狀有機片接合材料載置在支持構 件上之所定位置而暫時固定的薄膜暫時固定裝置,和將胃 時固定之薄膜狀有機片接合材料在支持構件上推壓壓著的 薄膜壓著裝置。 本發明之第二叠層裝置,具有將薄膜狀有機片接合材 料送出一定量的供給裝置,和切斷薄膜狀有機片接合材料 之切斷裝置,和把切斷的薄膜狀有機片接合材料載置在支 持構件上之所定位置暫時固定的薄膜暫時固定裝置,和將 暫時固定之薄膜狀有機片接合材料在支持構件上推壓壓著 的薄膜壓著裝置。 本發明之片接合裝置,具有前述第一或第二鲞靥裝置 ,和使半導體元件加熱壓著在支持構件上的薄膜狀有機片 接合材料之所定位置的晶方壓著裝置》 本發明之其他裝置,具有將薄膜狀有機片接合材料送 出一定量的薄膜供給/捲取部,和把薄膜狀有機片接合材 料高精確度地沖穿之沖穿部,將沖穿的薄膜狀有機片接合 材料在引導框架上之定位置暫時壓著的暫時壓著部(把薄 本紙張尺度適用中國國家橾準(('NS ) Λ4現搞ί: :?10_,<_297公f ) Ί--------ξ' —裝------訂------ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁j 7 Λ 7 Β7 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 五、發明説明(5 ) 膜狀有機片接合材料載置在支持構件上之所定位置暫時固 定的薄膜暫時固定裝置),和暫時壓著後加熱壓著之正式 壓著部(將暫時固定的薄膜狀有機片接合材料在支持構件 上推壓壓著之薄膜壓著裝置)。因薄膜狀有機片接合材料 係以捲筒狀供給,故薄膜供給/捲取部,具有將薄膜從捲 取的捲简供給之機構和捲取已沖穿而剩下的薄膜之機構。 沖穿部,係由沖穿薄膜的程/衝頭機構構成,暫時壓著部 具有將保持已沖穿之薄膜狀有機片接合材料,在引導框架 上之目的位置暫時壓著(把薄膜狀有機片接合材料載置在 支持構件上之所定位置暫時固定)的機構。正式壓著部, 具有將引導框架及/式薄膜狀有機片接合材料加熱之機構 ,和把薄膜正式壓著(將薄膜狀有機片接合材料推壓壓著 在支持構件上)的機構。再者,此等機構也可以爲各別分 用之機構。例如,在薄膜的衝穿衝頭兼做暫時壓著之壓著 子等時,如果能夠達成各機能則不需要特別把機構分開" 以下,根據圖1〜4說明》在薄膜供給/捲取部,從 捲筒1供給的薄膜狀有機片接合材料(以下在關於圖 1〜4之說明兼稱爲薄膜)2,將根嫌定拉力輥10和 1 2,進給輥1 3控制爲一·定的張力,根據進給輥1 1和 導輥1 3以定尺寸節距進給,經衝穿部根據捲取捲简3捲 取。定張力輥1 0,雖由能夠控制薄膜的張力之調整機構 和粉未剎車,磨擦剎車等構成,但是並不受此限制。進給 輥1 1 ,雖然以能將薄膜以定尺寸節距進給的步進馬達等 驅動,但是並不受此限制。捲取捲简了,將捲取以進給輥 f ^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) t -β ·"
T % 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4現格(21〇 x 公韜) -8 — 3 ❶ 791q 經濟部中央標準局員工消費合作社印li A 7 B7五、發明説明(6 ) 移送之薄膜。做爲薄膜進給時的適正張力,以0. 05〜 lOMPa爲理想。未滿0· 05MPa時將在薄膜發生 鬆弛引起橫方向之偏位,或發生衝穿不良。一方面,如果 張力超過1 OMP a時,有薄膜會延伸而發生衝穿不良, 或因延伸使薄膜厚度變成不均勻而發生空_的傾向。同時 因張力超過衝穿後之薄膜破斷強度時,薄膜將會破斷之故 〇 在衝穿部,薄膜2將根據衝頭4下降,而在橫6的位 置衝穿成所定形狀。衝穿前之薄膜張力以調整爲0. 05 〜lOMPa爲理想。未滿0. 05MPa時薄膜的張力 將不足,而會降低衝穿時之精確度,再者超過1 OMP a 時根據薄膜的延伸將引起變形,會使薄膜之厚度變成不均 匀,而有發生空隙的傾向。 薄膜2將依需要根據固定衝頭5固定。在衝頭4,將 設置真空吸著裝置等薄膜吸著機構。根據該機構衡穿的薄 膜,將吸著保持在衝頭4。做爲薄膜吸著機構,以設置2 以上之真空吸著口爲理想》因只有1個真空吸著口時,薄 膜會移動而會降低位置精確度》真空吸著口的大小、以直 徑2mm以下爲理想。超過2 mm時,孔之痕跡會留在薄 膜而有發生空隙的傾向。在暫時壓著部,行走台8將引導 框架7保持在定位置而停止在A的位置〇衝頭4在衝穿後 一面保持薄膜更降低,而把薄膜暫時壓著在引導框架。暫 時壓著將根據引導框架上之圖型數進行需要的次數。在圓 2顯示引導框架的平面圖。 ^---------1 ί 裝------訂------ (請先閱讀背!6之注意f項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS〉A4現格210 公弟) 9 經濟部中央標準局貝工消費合作社印裝 A7 B7 五、發明説明(7 ) 然後,將行走台移動至正式壓著部之B位置。在行走 台內裝有加熱機構,把引導框架加熱成所定溫度。暫時壓 著的引導框架上之各薄膜,將在B位置根據壓著子9脫氣 同時正式壓著。壓著子表面爲了有效率地進行脫氣和加熱 壓著,故以耐熱性弾性體爲理想。否則將不能有效率地進 行脫氣。同時,彈性體形狀以壓蕃前之截面形狀爲中央凸 狀的曲面爲理想。中央爲凸型之曲面時,壓著將能從中央 進行,而能不發生空隙地把薄膜壓著。 圖3,圖4顯示具有該凸狀的曲面之壓著子的例。圖 3係將表面加工成凸型之彈性體1 4固定在壓著子本體的 前端表面者,圖4係將均匀厚度之板狀彈性體14從壓著 子本體的側面固定安裝者。15爲固定是。圖4之壓著子 係以具有平滑前端面的壓著子本體和被覆壓著子本體前端 部之板狀彈性體構成。板狀彈性體將根據壓著子本體的平 滑前端面加壓。壓著子本體之平滑前端面的面精確度,以 中心線平均粗糙度1 5 # m以下爲理想。表面精確度超過 中心線平均粗糙度1 5 # m時,有時壓著子本體前端面之 凹凸狀態會經由彈性體複製,而會發生空隙。 彈性體的楊氏係數以0 . 2〜5 Ο Μ P a爲理想。未 滿0. 2MPa時彈性體太軟有時不能充份壓出空隙,超 過5 0 Μ P a時彈性髗太硬有時同樣地不能充份壓出空隙 。做爲彈性體,能使用矽橡膠,氟橡膠,異丁烯異戊間二 烯橡膠、丁睛橡膠等橡膠,爲了控制彈性率而以塑膠變性 之塑膠變性橡膠,式以橡膠變性的橡膠變性塑膠等,即使 本紙張尺度適用中國國家梯準(CNS ) A4規格(210X291公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝_ 訂 A 7 B7 經濟部中央梂準局員工消费合作社印製 五、發明説明(8 ) 外此之彈性體只要耐熱性充份也可以。彈性體的表面平滑 性以中心線平均粗糙度1 0 m以下爲理想。超過 10#m時有發生空隙之趨勢。 做爲薄膜的壓著條件,爲了使之不殘留空隙而能得到 需要的粘合强度,以加熱溫度爲8 0〜3 0 0 °C,壓著力 0. 0 3〜2MPa爲理想。加熱溫度未滿8 0°C時加熱 壓著將不會順利,而超過3 0 0 °C時溫度將太髙同樣地不 能順利加熱壓著。同時,未滿0. 03MPa時壓著力太 弱而會殘留空隙,超過2MP a時壓著力會太强有時會使 薄膜變形。 在引導框架上粘合薄膜的引導框架,將在下一工程把 半導體元件(晶方)加熱壓著後使之硬化而堅固地粘合。 該工程,將採用通常進行的和使用樹脂糊之方法相同的方 法0 圖5〜10係顯示本發明之其他裝置者,圚5爲正面 圖,豳6爲平面圖,圖7爲框架搬送軋部的簡略平面圖, 圖8爲供給裝置,切斷裝置部之簡略截面圖,圖9係將薄 膜狀有機片接合材料均勻推壓的薄膜壓著裝置部之簡略截 面圖,圖1 0爲引導框架的平面圖。 在圈5〜1 0,2 1爲薄膜狀有機片接合材料(簡稱 爲薄膜)捲筒,2 2爲薄膜進給用捲送輥,2 3爲薄膜壓 缸,2 4爲薄膜切斷用缸,2 5爲框架搬送用致動器, 2 6爲框架搬送軌,2 7爲薄膜吸著墊進給缸,2 8爲預 熱加熱器,2 9爲薄膜加熱張貼部,3 0爲晶方加熱張貼 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -装. 訂 線 本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS ) A4規格(2Κ>Χ 297公:« ) 經濟部中央樣準局貝工消费合作社印製 A 7 B7___ 五、發明説明(9 ) 部,3 1爲加熱壓著部,3 2爲壓著部定位,3 3爲晶方 托盤,3 4爲薄膜吸著熱,3 5爲晶方張貼裝置,3 6爲 薄膜,3 7爲刀具,3 8 a爲用以預熱引導框架之加熱塊 ’ 3 8 b爲用以將薄膜加熱壓著在引導框架之加熱塊, 3 8 c爲用以將半導體元件加熱壓著在薄膜上之加熱塊, 3 8 d爲用以將加熱壓著的半導體元件再加熱而正式壓著 之加熱塊,3 9爲引導框架,4 0爲輥,4 1爲引導框架 之模墊部。 薄膜狀有機片接合材料(薄膜)將根據切斷裝置切斷 爲所定的大小、切斷等之加工精確度正確認爲 土 2 0 〇 Mm以內。切斷精確度比此差,薄膜成爲比晶方 大時將會溢出而成爲發生裂縫之起點,成爲比晶方小時, 粘合性會降低。 本發明的用以將引導框架預熱之加熱塊(3 8 a ), 能使引導框架移動至用以將薄膜狀有機片接合材加熱壓著 的加熱塊(3 8 b )時在短時間到達目的之溫度。在本發 明中,用以將引導框架預熱的加熱塊(3 8 a ),用以將 薄膜狀有機片接合材料加熱壓著在引導框架之加熱塊 (3 8 b ),用以將半導體元件加熱壓著在薄膜狀有機片 接合材料上之加熱塊(3 8 c ),用以將加熱壓著的半導 體元件再加熱而正式壓著之加熱塊(3 8 d ),係能分別 設定爲各別的溫度,能夠以薄膜狀有機片接合材料之最理 想的溫度條件粘合。 本發明之將暫時固定的薄膜狀有機片接合材料均勻地 本紙張尺度適用中國國家標準(CMS ) A4規格(210X297公釐1 ~ _Ί ............ ........| Miiinupiww—wMWgga—·.....·〜——— - ..^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝. 訂 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 3〇79ί〇 Α7 Β7 -- - - 1 ~—— 五、發明説明(ίο) 推壓之輥裝置等薄膜應著裝置,能夠防止使半導體元件粘 合在引導框架等支持構件時的氣泡,空隙混入片接合材料 層中,而能得到均勻而可靠性高之粘合性。 做爲薄膜壓著裝置,以不銹鋼等的金屬製,聚四氟2 烯(鐵氟龍)製等之輥,矽橡膠等的平面狀彈性體爲理想 。做爲矽橡膠,以J I S硬度爲J I S - A 4 〇〜8 〇度 之耐熱矽橡膠爲理想,而以J I S〜A4 5〜5 5度的耐 熱矽橡膠爲更理想。 薄膜壓著裝置的應著部份之表面平滑性很重要,爲中 心線平均粗糙度1 〇 # m以下。正確認比此値大時壓著裝 置的凹凸會複製在薄膜,而會降低粘合性。 將載置在引導框架等支持構件上的薄膜以薄膜正式壓 著裝置壓著之負荷爲5 0〜3 0 0 0 g。壓著負荷未滿 5 0 g時張貼性會變差,而超過3 0 0 0 g時因引導框架 會彎曲故不理想。 將薄膜狀片接合材料(薄膜)應著在引導框架等支持 構件上的溫度,爲薄膜之玻璃態溫度Tg (在動性粘彈性 測定的α後和尖峰溫度)以上而熱分解溫度(在熱重量分 析之重量開始減少溫度〉以下。薄膜壓著溫度未滿T g時 張貼性會降低,而超過熱分解溫度時薄膜會熱分解而降低 粘合性故不理想。 將半導體元件粘合在引導框架等支持構件上壓著的薄 膜之溫度,爲T g + 7 0 °c以上而熱分解溫度以下。半導 體元件的粘合溫度未滿T g + 7 0 °C時粘合性會降低,而 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規,格(210X297公籍) (請先聞讀背面之注意事項再填离本頁) -訂- 13 A 7 B7 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 五、發明説明(11) 起過分解溫度時薄膜會熱分解使粘合性降低,所以不理想 〇 本發明的片接合裝置,理想者能夠使之具有將薄膜狀 有機片接合材粘進給一定置的供給裝置,和切斷薄膜狀有 機片接合材料之裝置,和吸著切斷的薄膜狀有機片接合材 料加熱壓著在加熱塊上事先加熱的引導框架上之所定處的 薄膜暫時固定裝置,和把暫時固定之薄膜狀有機片接合材 料均匀地推壓的薄膜壓著裝置,和將半導體元件暫時加熱 壓著在加熱塊上加熱固定之薄膜狀有機片接合材料的所定 位置之晶方暫時壓著裝置,和把在加熱塊上一面加熱固定 在引導框架的薄膜狀有機片接合材料和半導體元件再加熱 正式壓著之晶方正式壓著裝置》 以上,分別將本發明根據衝穿裝置或切斷裝置做爲所 定大小的薄膜狀有機片接合材料之情況說明,但是把所定 大小的薄膜狀有機片接合材料在半導體元件塔載用支持構 件上之所定位置載置暫時固定的方法及裝置,將薄膜狀有 機片接合材料在支持構件上推壓壓著之方法及裝置,在做 爲使用衝穿裝置說明者能在使用切斷裝置時,做爲使用切 斷裝置說明者能在使用衝穿裝置時,分別互相共同地使用 p 使用本發明的叠層方法,片接合方法,叠層裝置或片 接合裝置在支持構件塔載半導體元件,更經由線接合,半 導體元件之樹脂密封等通常的半導體裝置製造所使用之工 程製造半導體裝置。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(210X2W公缝),, -14 - 經濟部中央梂準局員工消费合作社印製 A7 B7 五、發明説明(12) ~~ ~~ 圖1 1 ’係顯7F本發明的半導體裝置之製造工程的一 例者。 薄膜狀有機片接合材料1 〇 1將從捲简捲出,以刀具 I 0 2切斷成所定的大小(圇i i ( a ))。 記號1 Ο 3爲導輥。 薄膜狀有機片接合材料1〇1將以本發明之叠層方法 在熱盤1 0 7上以壓著子1 〇 4壓著在引導框架1 () 5的 模墊部106 (圖11 (b))。壓著條件以溫度1()() 〜250°C’時間0. 1〜20秒,壓力 100〜5000g爲理想。 將半導體元件1 0 8載置在模墊部1 〇 6所粘貼的薄 膜狀有機片接合材料1〇1而加熱壓著(片接合)(圖
II ( c ))。片接合之條件,以溫度150〜350 °C ’時間0. 1〜20〜秒,壓力1〇〜3000g爲理想 〇 其後經由線接合工程(圖11 (d)),和半導體元 件的密封工程(圖1 1 ( e ))而製造半導體裝置》 109爲密封樹脂》 在本發明,做爲壓著薄膜狀有機片接合材料之支持構 件,有引導框架的模墊部,無墊之引導框架部 (L 0 C : Lead on Chip),陶瓷配線板,玻璃環氣樹脂 配線板,玻璃架醯亞胺配線板之半導體元件塔載部等。 在本發明,做爲薄膜狀有機片接合材料雖然說明關於 單一層的情形,但是能夠做爲二層,三層等多層之構造° 本紙張尺度適用中國國家梯率(CNS ) A4规格(21(ϋ公釐)_ _ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 A 7 B7 五、發明説明(13) 例如將聚醯亞胺,環氧樹脂等有機材料,依需要將金 靥填料等添加均等材料溶解,分散在有機溶媒做爲爲塗佈 用清漆,把該塗佈用清漆塗佈在二軸延伸聚丙烯薄膜等載 體薄膜使溶劑揮發而形成膜層,將其膜層從載體薄膜剝離 而製造薄膜狀有機片接合材料。在使溶劑揮發的乾燥工程 ’把接觸在空氣側之面(接在載體薄膜側的面之相反面) 做爲A面,把接觸在載體薄膜側的面做爲b面時,以本發 明之叠層方法使A B接觸在支持構件地把薄膜狀有機片接 合材料叠靥時,能避免發生回流裂縫,而製造可靠性優異 的半導體裝置。 在本發明,如果使用: (1 )吸水率爲1 . 5 v 0 i %以下之薄膜狀有機片 合材料。 (2 )飽和吸濕率爲1 . 〇 v 0 1 %以下的薄膜狀有 片接合材料。 (3) 殘存揮發份爲3. Owt%以下之薄膜狀有機 接合材料。 (4) 表面能爲40erg / cm2以上的薄膜狀有 片接合材料。 (5 )在把半導體元件粘合在支持構件之階段存在於 ZtM合材料中及片接合材料和支持構件的界面之空隙爲空 隙體積率丨〇 %以下的薄膜狀有機片接合材料。 (6 )在把半導體元件粘合在支持構件的階段之剝皮 強度爲〇· 5kgf/5x5mm晶方以上的薄膜狀有機 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(21〇Χ297ϋΓ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -s 經濟部中央橾準局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS〉A4規格(210 X 297公釐》 ^〇79i〇 Λ 7 ---- —_ Β7 __ 五、發明説明(w) 片接合材料時將不會發生回流裂縫,對製造可靠性優異之 半導體裝置更理想。 關於上述, (1 )吸水率爲1 . 5 v ο 1 %以下之薄膜狀有機片 接合材料, (2) 飽和吸水率爲1 〇ν ο I %以下的薄膜狀有 機片接合材料, (4) 表面能爲4〇 e r g / c m2以上的薄膜狀有 機片接合材料, (6 )在把半導體元件粘合在支持構件的階段之剝皮 強度爲0 . 5 k g f / 5 X 5 m m晶方以上的薄膜狀有機 片接合材料,能夠根據調整薄膜狀有機片接合材料之組成 ’例如調整聚醯亞胺等聚合物的構造和銀等填料含量而能 製造。 關於 (3) 殘存揮發份爲3. Owt %以下之薄膜狀有機 片接合材料。 (5) 在把半導體元件粘合在支持構件之階段存在於 片接合材料中及片接合材料和支持構件的界面之空隙爲空 隙體積率1 〇 %以下的薄膜狀有機片接合材料。 能夠根據調整薄膜狀有機片接合材料之製造條件,如 乾燥溫度,乾燥時間等而製造。 在本發明,薄膜狀有機片接合材料能兼具上述物性, 特性之二以上。 -17 - ---------1「參------訂-----H線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 A7 B7 五、發明説明(15) 做爲兼具時比較理想的物性,特性,例如爲以下之薄 膜狀有機片接合材料。 (A )飽和吸濕率爲1 . 〇 v 〇〗%以下且殘存揮發 份爲3_ Owt%以下之薄膜狀有機片接合材料。 (B )飽和吸濕率爲1 . 〇 v ο 1 %以下且在將半導 體元件粘合在支持構件階段之剝皮強度爲 0. 5kgf/5x5mm晶方以上的薄膜狀有機片接合 材料。 (C) 殘存揮發份爲3. Owt%以下且在把半導體 元件粘合在支持構件的階段之剝皮強度爲 0. 5kgf/5x5mm晶方以上的薄膜狀有機片接合 材料。 (D) 飽和吸濕率爲1. Ονο 1%以下,殘存揮發 份爲3 · 0 w t %以下且將半導髗元件粘合在支持構件的 階段,剝皮強度爲0 . 5 k g f / 5 X 5 m m晶方以上之 薄膜狀有機片接合材料。 〔實施例〕 實施例1 將圖2所示的引導框架,載置在圖1之行走台8上而 移動至A位置。行走台的引導框架,係根據安裝在行走台 內部之加熱器加熱爲1 8 0 °C 〇片接合薄膜,係在聚醯亞 胺系樹脂把銀粉做爲主填料的寬1 0mm X原4 0 /zm X 長5m者。把捲取該薄膜之直徑1 OOmni的捲简1設置 本紙張尺度適用中國國家標準(〇^)六4规格(2丨0/29"?公釐)_18 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、-口 經濟部中央標準局員工消費合作社印掣 A 7 B7 五、發明説明(16) 在供給部,使之會在帶加上IMP a的強力地,以定拉刀 輥10,進給輥1 1送出薄膜2。然後,以薄膜固定衝頭 5將薄膜固定,而以衝頭4和模6把薄膜衝穿,以設在衝 頭4的真空吸著口將衡穿之薄膜吸著。衝頭4具有2個直 徑1. 2em的吸著口。該衝頭4將更下降,把薄膜暫時 壓著在引導框架上之模墊後,解除真空吸著使之上升。然 後,根據捲取捲筒3,將薄膜2送出1 2mm。使行走台 移動半導體晶方的節距2 0mm份》以此狀態再度將薄膜 2衝穿而暫時壓著。將此進行5次而在引導框架上之所有 模墊上把薄膜暫時壓著。把結束暫時壓著的引導框架,根 據行走台移動至B位置。在B位置根據圖3所示之壓著子 以0. 8MPa的壓力將薄膜壓著。圖3之壓著子*係把 彈性體的矽橡膠之中央稍加工成凸型,而固定在壓著子前 端表面者。在壓著的接合薄膜上,以通常之方法把1 0 X 1 5 mm之半導體晶方加熱壓著而以2 5 0 °C的溫度硬化 。將塔載5個該半導體晶方之引導框架4片,根據軟X線 進行空隙評估結果未觀察到空隙。 比較例1 把自己往所使用的銀糊塗佈在實施例1使用之模墊上 。然後,以通常的方法將1 〇 X 1 5mm之半導體晶方加 熱壓著’而以2 5 0 °C的溫度硬化。將該塔載5個半導體 晶方引導框架4片,根據軟X線進行空隙評估,結果觀察 到在3個有lmm以下的空隙,在6個有0. 5mm以下 本紙張尺度適用中國囷家標準(CNS ) A4規格(2丨0:<297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填舄本頁) -'° 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 A7 B7 五、發明説明(Π) 之空隙。 實施例2〜7,比較例2〜5 在聚醢亞胺1 0 0 g及環氧樹脂1 0 g,加有機溶媒 2 8 0 g使之溶解》在此加銀粉7 4 g充份攪拌,使之均 勻地分散*做爲塗佈用清漆。把該塗佈清漆塗佈在載體薄 膜(二軸延伸聚丙烯薄膜)上,以加熱爐加熱1 2 0 °C, 7 5分鐘,使溶媒揮發而塗佈的清漆乾燥,製造片接合薄 膜。在該乾燥工程,把接觸在空氣側之面做爲A面,接觸 在載體薄膜側的面做爲B面。 把片接合薄膜粘貼在引導框架之標記。將A面做爲列 導框架側,B面做爲空氣側粘貼時,能在片接合薄膜和引 導框架的界面及薄膜中不發生空隙,而進行良好之粘貼。 粘貼時使用前端以彈性體構成且其彈性體表面形狀爲凸狀 曲面的壓著子。 界面之空隙,將根據目視観察而評估。薄膜中的空隙 ,係將試樣以聚酯樹脂注模,把以鑽石刀具切斷之截面以 顯微鏡觀察而評估。 在粘貼薄膜的引導框架,以溫度2 2 0 °C,負荷 200g,時間5 s e c把晶方裝置。以密封材料塑模做 爲半導體裝置。 將密封後之試樣在8 5 °C * 8 5% R Η的恒溫恒濕器 中處理1 6 8小時後,以I R回流爐加熱2 4 0 t * 1 0 s e c。其後,將試樣以聚酯樹脂注模,將以鑀石刀 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Μ規格(2丨0X29?公*) J j 裝 訂 7"备 (讀先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) Λ7 B7 五、發明説明(18) 具切斷的截面以顯微鏡觀察 根據評估回流空隙之發生數 如 示 果 結 估 評 的 性 縫 裂 流 回 耐 把 〇 性 sa> 縫 裂 流 回 耐 估 評。 行 1 進表 訂" f (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規袼(2丨0 <297公釐)_ 21 A? B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 ^07910 五、發明説明(19) 表1 引51框架粘貼溫度粘貼負荷粘貼時間空隙回流裂縫 側粘合面(°C ) ( k g f ) (sec) 發生數 實施例2 A面 1 6 0 4 5 4nt- 撕 0/10 實施例3 A面 1 6 5 4 5 m 0/10 賁施例4 A面 1 7 0 4 5 撕 0/10 實施例5 A面 1 6 0 1 5 Jjrf 热 0/10 實施例6 A面 1 6 5 1 5 Jac m 0/10 實施例7 A面 1 7 0 1 5 Aar 撕 0/10 比較例2 B面 1 6 0 4 5 有 5/10 比較例3 B面 1 7 0 4 5 有 4/10 比較例4 B面 1 6 0 1 5 有 6/10 比較例5 B面 1 7 0 1 5 有 5 / 1 0 —^ϋν Mu— m^i I nn flu m 1-14 J^i a^i . ,· J Φ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、\-° 本紙張尺度適用中國阐家標準(CNS ) Λ4規格(2丨0>·297.公螫> B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、 發明説明( 20) 1 I 實 施 例 8 瞧 1 I 在 曰 立 化 成 工 業 株 式 會 社 製 聚 醸 亞 胺 ( mb 雙 偏 苯 一 酸 鹽 1 1 系 酸 酐 和 芳 香 族 二 胺 所 合 成 之 聚 醯 亞 胺 ) 1 0 0 g 及 環 氧 1 請 1 | 樹 脂 1 0 g 加 有 機 溶 媒 2 8 0 g 使 之 溶 解 〇 在 此 > 加 先 閱 1 I 讀 I 所 定 量 的 銀 粉 9 充 份 攪 拌 使 之均 勻 分 散 tiJ., 做 爲 塗 佈 用 清 漆 背 1¾ 1 I 之 1 0 注 | 意 % I 把 該 塗 佈 用 清 漆 塗 佈 在 載 體 薄 膜 ( 0 P P 薄 膜 _. 軸 Ψ 項 再 填 i 延 伸 聚 丙 烯 ) 上 > 在 熱 風 循 環 式 乾 燥 機 中 加 熱 把 溶 媒 揮 寫 jL 裝 發 乾 表 頁 1 燥 * 製 2 所 示 組 成 吸 水 率 的 薄 膜 狀 有 機 片 接 合 〆 1 材 料 〇 1 1 如 圖 1 1 所 示 在 引 導 框 架 之 •few? 稷 記 上 將 表 2 的 薄 膜 1 1 狀 有 機 片 接 合 材 料 以 1 6 0 °C 加 熱 粘 貼 在 粘 貼 薄 膜 狀 有 訂 1 機 片 接 合 材 料 之 引 導 框 架 以 溫 度 3 0 0 °c 負 荷 1 I 1 0 0 0 g 時 間 5 秒 把 半 導 am 體 元 件 裝 署 iWI. 進 行 線 接 合 1 1 I y 以 密 封 材 ( 曰 立 化 成 .1: 栗 株 k— ίζ 會 社 製 7¾¾ m 品 名 ( E L — 9 0 0 0 ) 塑 模 製 造 半 導 體 裝 置 〇 ( Q F P 線 1 封 裝 1 4 X 2 0 X 1 4 m ΤΠ 晶 方 尺 寸 8 X 1 0 m m 1 1 t 4 2 合 金 引 導 框 架 ) I 將 密 封 後 的 半 導 體 裝 置 在 8 5 °c 8 5 % R Η 之 恒 溫 1 I 恒 濕 器 中 處 理 1 6 8 小 時 後 在 I R 回 流 爐 加 熱 2 4 0 °c 1 1 ! 1 0 秒 鐘 0 I 其 後 把 半 導 體 裝 置 以 聚 酯 樹 脂 注 模 將 以 鐄 石 刀 具 1 1 切 斷 之 截 面 以 顯 微 鏡 觀 祭 根 據 下. 式 測 定 回 Μ 裂 縫 發 生 率 1 1 ( % ) 評 估 耐 回 流 裂 縫 性 0 1 1 木紙張尺度通州〒囤囤冢標準(CNS ) A4規格(2l〇x 2W公釐 4 Α7 Β7 經濟部中央樣準局員工消費合作社印掣 五、發明説明(21) (回流裂縫之發生數/試驗晶方數)XI 0 ()=回流裂縫 發生率(% ) 把評估結果示如表2 ° 表2 η 〇 薄膜之組成 吸水率 回流裂縫 聚醯亞胺Ag含量 (%) 發生率( (w t % ) 1 _ 聚醯亞胺A 8 0 2.0 1 0 0 2. 聚醯亞胺B52 1.5 〇 3 . 聚醯亞胺C 0 1.0 〇 吸水率測定方法 將5 0 X 5 0mm大小的薄膜做爲試樣,把試樣在眞 空乾燥機中,乾燥1 2 0°C,3小時*在乾燥器中放冷後 ,測定乾燥重量做爲Μ 1。將試樣在蒸餾水以室溫浸潰 2 4小時後取出,以瀘紙擦拭試樣表面,迅速秤量而做爲 M2。根據下式算出吸水率。d爲薄膜狀有機片接合材料 的密度。 〔(M2—M1 )/(Ml/d) 〕X10 〇=吸水率 (v ο 1 % ) 實施例9 本紙張尺度適用中關家梯準(CNS ) A4规格(21()χ__297公廣) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝. •1Τ 線 Λ 7 B? 五、發明説明(22) 在曰立化成工業株式會社製聚醣亞胺(雙偏苯三酸鹽 系酸酐和芳香族二胺所合成之聚醯亞胺)I 〇 〇 g及環氧 樹脂l〇g ’加有機溶媒28 0 g使之溶解》在此,加所 定量的銀粉,充份攪拌使之均勻分散,做爲塗佈用清漆。 把該塗佈用清漆塗佈在載體薄膜(0 p P薄膜:二軸 延伸聚丙烯)上,在熱風循環式乾燥機中加熱,將溶媒揮 發使塗佈的清漆乾燥,製造表3所示之組成,飽和吸濕率 的薄膜狀有機片接合材料。 如圖1 1所示,在引導框架之標試上,將表3的薄膜 狀有機片接合材料以1 6 0°C加熱粘阽,向粘貼薄膜狀有 機片接合材料之引導框架,以溫度3 0 0 Ϊ,負荷 lOOOg ’時間5秒鐘,把半導體元件裝置,進行線接 合’以密封材料(日立化成工業株式會社製,商品名 (EL — 9000)塑模,而製造半導體裝置。(QFP 封裝 1 4 X 2 0 X 1 · 4 m m,晶方尺寸 8 X 1 〇 m m, 4 2合金引導框架) 經濟部中央標隼局員工消費合作社印裝 I--:-----叫裝-- (請先閱靖背面之注意事項再填寫本頁) 將密封後的半導體裝置在8 5°C,8 5%RH之恒溫 恒濕器中處理1 68小時後,以I R回流爐加熱240。0 ,1 0秒鐘。 其後’將半導體裝置以聚酯樹脂注漠,把以纘石刀具 切斷的截面以顯微鏡觀察,根據下式測定回流裂縫發生率 (%) ’而評估耐回流裂縫性。 (回流裂縫發生數/試驗晶方數)X 1 〇 〇 本紙張尺度則f關家縣(CNS ) Λ4祕(21(>Χ29·^.:ϋ ' -25 - ^〇79i〇 A,7 B7 五、發明説明(23) 〜 ==回流裂縫發生率(%) 將評估結果示如表3。 表3 η 〇 . 薄膜之組成 飽和吸濕率 回流裂縫 聚醯亞胺Ag含邏: (%) 發生率 (w t % ) 1. 聚醯亞胺 D80 1.5 1 0 〇 2. 聚醯亞胺 B80 1.0 〇 3. 聚醯亞胺 E0 0.5 〇 飽和吸濕率測定方法 將直徑1 0 0 mm的圖形薄膜狀有機片接合材料做爲 試樣,把試樣在真空乾燥機中,乾燥12 0°C,3小時, 在乾燥器中放冷後,測定乾燥重置做爲Μ 1 »將試樣在 8 5°C,8 5%RH之恒溫恒濕槽中吸濕後取出,迅速种 量當秤量值成爲一定時,把其重量做爲Μ 2。根據下式算 出飽和吸濕率。d爲薄膜狀有機片接合材料之$度。 實施例1 0 在日立化成工業株式會社製聚醯匪胺(雙偏苯三酸鹽 系酸酐和芳香族二胺合成之聚醣亞胺)1 Q 〇 g及環氧樹 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(2丨〇>: 2<·)7公螫) Ί---:-----『装------訂------Z (請先閱讀背面之注意-^項蒋填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 -26 - 經濟部中央標率局員工消费合作社印製 A 7 B7 *" I —— 五、發明説明(24) 脂1 0 g,做爲溶媒加入二甲基乙醯胺1 4 〇 g和環己酮 1 4 0 g使之溶解。在此,加入銀粉7 4 g充份攪拌’使 之均勻分散做塗佈用清漆。 將該塗佈用清漆塗佈在載體薄膜(O P P薄膜:二軸 延伸聚丙烯)上,在熱風循環式乾燥機中加熱成8 0 °C至 1 2 0°C之溫度,使溶媒揮發把塗佈的清漆乾燥,製造表 4所示之殘存揮發份的片接合薄膜。但是,乾燥溫度比 1 2 0 °C髙時,將塗佈之清漆在0 P P薄膜上以8 0 °C乾 燥3 0分鐘後,把薄膜狀有機片接合材料從〇 p p薄膜剝 離,將之挾在鐵框固定後,在乾燥機中重新加熱,使之乾 燥。 如圖1 1所示,在引導框架的標記上,把表4之薄膜 狀有機片接合材料以1 6 0 t加熱粘貼,向粘貼薄膜狀有 狀有機片接合材料的引導框架,以溫度3 0 〇。(:負荷 lOOOg ’時間5秒鐘,把半導體元件裝置,進行線接 合’以密封材料(日立化成工業株式會社製,商品名 (EL — 9000)塑模,而製造半導體裝置。(QFP 封裝14x2〇xi 4mm,晶方尺寸8xl〇mm, 4 2合金引導框架) 將密封後的半導體裝置在8 5°C,8 5%RH之恒溫 恒濕器中處理1 6 8小時後,以I R回流爐2 4 0。(:加熱 1 0秒鐘。 其後’把半導體裝置以聚酯樹脂注模,以鑽石刀具切 斷之截面用顯微鏡鸛察,根據下式測定回流裂縫發生率 本紙張尺度適用中國國家標準------------ -27 - 「-裝------訂------^ (請先閲讀背面之注意事項S-填寫本頁) A7 B? 五、發明説明(25) (% ),評估耐回流裂縫性 οο ΊΧ X 數 方 晶 驗 試 } 4 \%表 數 C 如 生率示 發生果 之發結 縫縫估 裂裂評 流流把 回 回 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁 裝-- -訂 ---4線---- 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規樁(2丨0、< 297公嬸 A7 B7 五、發明説明(26) 表4 η ο · 乾燥溫度 乾燥時間 殘存揮發分 薄膜中 回流裂 ( X ) (min) (W 1 % } 之空隙 發生率(% 1 1 0 0 2 4 * 9 有 10 0 2 1 0 0 3 0 3 * 5 有 6 0 3 1 2 0 10 2 • 9 無 0 4 1 6 0 10 1 • 5 ώα~ 撕 0 lf ' 批衣 訂J-^, (請先閱績背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標隼局負工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X297公犛:) A 7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製
五、發明説明(27) 殘存揮發份測定方法 將5 Ο X 5 Omm的大小之薄膜狀有機片接合材料做 爲試樣,測定試樣的重量做爲Μ 1 ,把試樣在熱風循環恒 溫槽中加熱2 0 0°C,2小時後,秤量而做爲M2。 〔(Μ 2 - Μ 1 ) / Μ 1〕X 1 〇 〇 =殘存揮發份(wt%) 實施例1 1 在曰立化成工業株式會社製聚醣亞胺(雙偏苯三酸鹽 系酸酐和芳香族二胺所合成的聚醯亞胺)100K及環氧 樹脂log,加有機溶媒280g使之溶解。在此,加入 所定量的銀粉,充份攪拌使之均勻分散,做爲塗佈用清漆 〇 把該塗佈用清漆塗佈在載體薄膜(Ο P P薄膜;二軸 延伸聚丙烯)上,在熱風循環式乾燥機中加熱,使溶媒揮 發乾燥,而製造表5所示的組成,表面能之簿膜狀有機片 接合材料》 如圖1 1所示,在引導框架的標記上,將表5之薄膜 狀有機片接合材料以1 6 0。0加熱粘貼,在粘貼薄膜狀有 機片接合材料的引導框架,以溫度3 0 0°C,負荷 1000g,時間5秒鐘,將半導體元件裝置,進行線接 合’以密封材料(日立化成工業株式會社製,商品名 (EL — 9〇〇〇)塑模,而製造半導體裝置》(QFP II —I I I | n 訂 —'α〆 (請先閲婧背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中阈闽家樣準(CNS ) Λ4规格(210X 297公犛) 經濟部中央樣準局員工消費合作社印製 A 7 87五、發明説明(⑽ 封裝 14X20X1. 4 ."m,晶方尺寸 8X10 "m 4 2合金引導框架) 將密封後的半導體裝置,在8 5°C,8 5%RH之恒 溫恒濕器中處理1 6 8小時後,以I R回流爐加熱 2 4 0 0C,1 0 秒。 其後,把半導體裝置以聚酯樹脂注模,以顯微鏡觀察 用鑽石刀具切斷的截面,根據下式測定回流裂縫發生率 (% ),而評估耐回流裂縫性。 回流裂縫之發生數/試驗晶方數)χ 回流裂縫發生率(%) 將評估結果示如表5。 表5 η 〇 . 薄膜之組成 表面能 聚醯亞胺 A g含量 (erg/ cm2) (w t % ) 1 聚醯亞胺 B 8 5 3 9 2 聚醯亞胺 B 6 Ο 41 3 聚醯亞胺 Ε Ο 45 回流裂縫 發生率(% ) 1 0 0 0 0 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· 訂 表面能測定方法 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 3] 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 五、發明説明(29) 使用接觸角計測定對薄膜狀有機片接合材料表面的水 及二甲基碘之接觸角。從測定之水及二甲基碘的接觸角, 使用幾何平均法根據以下的(數1 )所示之式算出。 數1 r s = r ps + r 5 36.4 ( 1 4- cos0H ) = (21.8r s )1/2 + C51.〇r ^ )1/2 25. 4 ( 1 + cos 0 1 ) = (48.5 r s ),/2 + (2.3 7 ξ )1/2 r e :表面能 r p表面能之極性成份 7 S :表面能之.分散成.份. 0H :對蹯讎表面之水的擬鳙角 0 1 :對固嫌表面之二甲基碘的摻讎角 資施例1 2 在曰立化成工藥株式會社製聚釀瓿滕(由雙備苯三酸 鹽系酸酐和芳香族二胺合成之聚醯$胺)1 0 0 g及環氣 樹脂1 0 g,做爲溶媒加入二甲基乙醣胺14 Q g,環己 酮1 4 0 g使之溶解。在此,加入銀粉7 4 g,充份攬拌 . . 使之均勻分散,做爲逾佈甩清漆》 將該塗佈用清漆塗怖在_鋒薄膿(G P P着膜:二軸 延伸聚丙烯)上*在熱風循囊式乾嫌機中# 8 0 X加熱至 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、νβ τ Λ 本纸张尺度逋用中國國家標準(〇你)从規格(210父297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 ________ B.7 五、發明説明(30) 1 2 0°C,使溶媒揮發乾燥,製造表6所示空隙糖稹率的 片接合薄膜。 但是’乾燥溫度比1 2 0 C高時,將在〇Pp薄膜上 乾燥8 0°C 3 〇分鐘後,把薄膜狀有機片接合材料從 〇P P薄膜剝離,將此挾在鐵框固定後,重新在乾燥機中 加熱,使之乾燥》 在此,所謂空隙體積率,係在將半導體兀件粘接在支 持構件的階段’存在於片接合材料中及片接合材料和支持 構件的界面之空隙的體積率β 如圖1 1所示地,在引導框架之檫記上,將表6的薄 膜狀有機片接合材料以1 6 0 τ加熱粘貼,在粘貼薄膜狀 有機片接合材料之引導框架,以溫度3 〇 ,負荷 lOOOg ’時間5秒鐘,把半導體元件裝置,進行線接 合’以密封材料(日立化成工業株式會社製,商品名 (EL — 90〇〇)塑模,而製造半導體裝置。 (QFP封裝ι4χ2〇χι 4mm,晶方尺寸 8xi0mm,42合金引導框架) 將密封後的半導體裝置,在8 5。(:,8 5%RH之恒 溫恒濕器中處理1 6 8小時後,以I R回流爐加熱 240°C,1〇 秒。 其後’把半導體裝置以聚酯樹脂注模,以顯微鏡觀察 用嫌石刀具切斷的截面,根據下式測定回流裂縫發生率 (%) ’評估耐回流裂縫性。 (回流裂縫之發生數/試驗晶方數)X 1 0 0 本紙張尺度適用中國國家^ ( CNS ) Λ4現格(210 ,:2971^7- _ I裝------訂-----1'線 (請先閱讀f面之注意事項再填寫本頁) A 7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製
(請先閱續背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4规格(210 :< 297公* 五、發明説明(31)=回流裂縫發生率(%) -裝· 訂 J. 34 Λ7 B7 五、發明説明(32) 表6 0 . 乾燥溫度 乾燥時間 空嫌之 回流裂縫 (°C ) (min) 體積率(%) 發生率(% ) 1 8 0 3 0 3 0 10 0 2 10 0 10 1 7 8 0 3 12 0 10 1 0 0 4 14 0 10 5 0 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝--- 訂
J 經濟部中央標準局員工消費合作杜印裝 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公f ') 85 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 307910 A 7 B7 -,,ι 11 ' ' ----. ' '' 五、發明説明(33) 空隙體稹率測定方法 將引導框架和矽晶方以薄膜狀有機片接合材料粘合, 製成試樣,使用軟X線裝置’把從試樣上面觀察的畫像攝 對。將照片之空隙的面稹率根據盡像解析裝置測定,做爲 從試樣上面透視的空隙之面稹=空隙之體積率(%)。 實施例1 3 在曰立化成工業株式會社製聚醣亞胺(雙偏苯三酸鹽 係酸酐和芳香族二胺所合成的聚醯亞胺)100g及環氧 樹脂10g,加有機溶媒280g使之溶解。在此,加所 定量之銀粉’充份攪拌使之均勻分散,做爲塗佈月清漆。 把該塗佈用清漆塗佈在載體薄膜(0 P P薄膜:二軸 延伸聚丙烯)上,在熱風循環式乾燥機中加熱,使溶媒揮 發乾燥’而製造表7所示組成,剝皮強度之薄膜狀有機片 接合材料。 在此’剝皮強度,係在將半導體元件在支持構件經由 薄膜狀有機片接合材料粘合的階段之薄膜狀有機片接合材 料的剝皮強度。 如圖1 1所示’在引導框架的標記上,將表7之薄膜 狀有機片接合材料以1 6 〇 加熱粘貼,在粘貼薄膜狀有 機片接5秒’將半導體元件裝置,進行線接合,以密封材 料(日立化成工業株式會社製,商品名(EL — 9000 )塑模’製造半導體裝置(QFP封裝14X20X 1. 4mm ’晶方尺寸8xi〇mm,42合金引導框架 本紙張尺度適用中國國家標準(
In- n^l t —^n nn HI— ϋ·— In 一,JIn ^n· HI ^^^1 m I 0¾ T 详 J ^ (請先閲績背面之注意事項再填寫本頁) -36 - B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(34) )。 將密封後的半導體裝置在8 5°C,8 5%RH之恒溫 恒濕器中處理1 6 8小時後,以I R回流爐加熱2 4 0°C ,1 0 秒。 其後,將半導體裝置以聚醯樹脂注模,以顯微鏡觀察 用鑽石刀具切斷的截面,根據下式測定回流裂縫發生率 (% ),評估耐回流裂縫性。 (回流裂縫之發生數/試驗晶方數)X 1 0 0 =回流裂縫發生率(%) 將評估結果示如表7。 I 裝 訂 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家梯準(CNS ) A4規格(2!0 <29Τ公着) 一 37 - 307910 A 7 B7 五、發明説明(35) 表7 η 〇 薄膜 之組成 剝皮強度 0 流 裂 縫 聚 醯 亞 胺A 含 量 (k r ί / 5 > (5mm 發 牛 率 (% (w 1 t %) 晶方 1 聚 醣 亞 胺 D 8 0 0 · 2 ] 0 0 2 聚 醢 亞 胺 A 8 0 0 · 4 8 0 3 聚 醢 亞 胺 B 8 0 0 · 5 0 4 聚 酸 亞 胺 E 3 0 1 . 0 0 5 聚 醯 亞 胺 E 4 0 > 2 ‘ 0 0 tn'm (n In— If m —1 Kn ^in n^i nn ml -,Jtn ^in nn m ysv *J0¾. 、f* 1 & (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消费合作杜印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X297公釐 1.1川.11丨丨|.丨_丨丨.·»:·»» 38 _Η〇 Λ7 B7 五、發明説明(36) 剝皮強度測定方法 把在支持引導框架的檫記表面等支持半導體元件之支 持構件,挾著5 X 5 m m大小的矽晶方(試驗片)之薄膜 狀有機片接合材料粘合者,在2 4 OX的熱盤上保持2 0 秒鐘,如圖1 3所示,使用推挽儀(push— pull ga.uge) ’以試驗速度0 · 5 m m /分測定剝皮強度。圖13中, 1 2 1爲半導體元件,1 2 2爲薄膜狀有機片接合材料, 123爲引導框架,124爲椎挽儀,125爲熱盤。再 者,雖然此時係保持爲2 4 0 °C,2秒鐘而測定,但是, 根據半導體裝置的使用目的而將半導體裝置實裝之溫度不 同時,將以其半導體裝置實裝溫度保持而測定。 實施例1 4 在日立化成工業株式會社製聚醯亞胺(雙偏苯三酸鹽 係酸酐和芳香族二胺所合成的聚醣亞胺)100g及環氧 樹脂10g,加入有機溶媒280g使之溶解。在此,加 經濟部中央橾率局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 入銀粉7 4 g,充份攬拌使之均勻分散,做爲塗佈用清漆 〇 把該塗佈用清漆塗佈在載體薄膜(0 P P薄膜:二軸 延伸聚丙烯)上,在熱風循環式乾燥機中加熱,使溶媒揮 發,使塗佈的清漆乾燥而製造薄膜狀有機片接合材料。 如圖1 1所示,在引導框架的標記上,將薄膜狀有機 片接合材料在1 6 0°C加熱粘合,在粘合薄膜狀有機片接 合材料之引導框架,以溫度300 °C,負荷lOOOg, 本紙張尺度適用中國國家梯準(帅4規格(敝服擎) 五、發明説明(37) 時間5秒’裝置半導镰元件β此時,使用表”斤示尺寸的 薄膜狀有機片接合材料。然後,進行線接合,以密封材料 (日立化成工業株式會社製,商品名(E l — 9 〇 〇 〇 ) 塑模’而製造半導體裝置。(QFp封裝 14x20x1. 4mm,晶方尺寸8xl〇mm’ 4 2合金引導框架) 將密封後的半導體裝置,在8 ,8 5%RH之恒 溫恒濕器中處理1 6 8小時後,以I r回流爐加熱 2 4 〇 0C,1 〇 秒。 其後’將半導體裝置以聚酯樹脂注模,以顯微鏡觀察 用鐄石刀具切斷的截面,根據下式測定回流裂縫發率 (%),評估耐回流裂縫性。 (回流裂縫之發生數/試驗晶方數)X 1 〇 〇 =回流裂縫發生率(%) 把評估結果示如表8。 ; ^ ~'"裝 訂 (讀先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 適 ί度 尺 張 紙 " I# |榡 家 國 國 格 公 A7 ^07910 B7 五、發明説明(38) 表8 η ο •薄膜尺寸 薄膜 晶方 晶方 溢出 回流裂縫 之面稹 尺寸 面稹 發生率(.% ) m m X mm mm2 m m X m τη in πϊ 2 1 9 X 11 9 9 8 X 1 0 8 0 有 10 0 2 8 X 1 1 8 8 8 X 1 0 8 0 有 6 0 3 8 X 10 8 0 8 X 1 0 8 0 Ant m 0 4 5 X 7 3 5 8 X 1 0 8 0 無 0 5 7 X 4 8 8 X 1 0 8 0 Λτττ 撕 0 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝·
、1T 經濟部中央標準局員工消費合作杜印f 本紙張疋度逋用中國鬮家標隼(CNS > Λ4規格(2丨0>'297公螫) -41 - 經濟部中央橾準局貝工消费合作社印袋 A 7 B7 五、發明説明(39) 如以上所說明,使用本發明的方法,裝置時,能夠在 引導框架等支持構件上把粘合性良好之薄膜狀有機片接合 材料無空隙且生產性優異地壓著,避免使用本發明的方法 ,裝置所製造之半導裝置的實裝時之封裝裂縫。 同時,本發明的半導體裝置,在半導體裝置實裝之焊 錫回流時能夠避免發生回流裂縫,可靠性很優異。 圖面之簡單說明 圖1,爲本發明的鲞層裝置之一實施例的正面的概略圖 圖2 ’爲 引 導 框 架 之 平 面 圚 0 圖3 ,爲 顯 示 壓 著 子 的 —- 例 之 截 面 圖 Ο 圖4 ’爲 顯 示 壓 著 子 的 其 他 —* 例 之 截 面 睡 0 圈5 ,爲 本 發 明 的 片 接 合 裝 3PC 置 之 —» 實 施 例 的 正 面 圖0 圖6 ,爲 本 發 明 的 片 接 合 裝 置 之 —. 實 施 例 的 平 面 圖。 圖7 ,爲 框 架 搬 送 機 部 之 簡 略 平 面 圖 0 圚8 ,爲 供 給 裝 置 9 切 斷 裝 置 部 之 簡 略 測 面 圖 0 圖9 ’爲 薄 膜 壓 著 裝 置 部 之 簡 略 截 —ττΐ 面 圓 〇 圖1 0 ,爲引導框架之平面画。 圖1 1 ,爲顯示本發明的半導體裝置之製造工程的一例 之截面圖。 圖1 2,係說明使用推挽儀測定剝皮强度的方法之正面 圖0 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS > A4洗格(21〇Χ2ίΠ公釐} 42 I I — 裝 I II 訂 N 線 . { ^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

Claims (1)

  1. A8 Μ C8 D8 S07910 々、申請專利範圍 ............................... 第85 104585號專利申請案 中文申請專利範園修正本 民國86年1月修正 1 . 一種薄膜狀有機片接合材料之曼層方法,屬於將 所定大小之薄膜狀有機片接合材料黏接在半導體元件搭載 用支持構件上之所定位置的薄膜狀有機片接合材料之叠層· 方法,其特徵爲: ’ 將上述薄膜狀有機片接合材料載置於上述支持構件上 之所定位置並予以暫時固定的第1步驟,及 將上述薄膜狀有機片接合材料推壓於上述支持構件並 予以壓著的第2步驟。 2 .如申請專利範圍第1項所述之叠層方法,其中, 將所定大小的薄膜狀有機片接合材料,以前端由彈性體構 成且其彈性體表面之壓著前的形狀爲凸狀曲面之壓著子, 推壓壓著在支持構件上者。 3 ·如申請專利範園第2項所述之#層方法,其中, 前述壓著子,係以具有平滑前端面的壓著子本體和被覆壓 著子本體前端之板狀彈性體構成。 4 ·如申請專利範圍第3項所述之疊層方法,其中, 前述壓著子本體的平滑前端面之面精確度 > 爲中心線平均 粗糙度1 5 wm以下者。 5 .如申請專利範圍第2至4項中任何一項所述之叠 層方法,其中,彈性體的楊氏系數爲〇. 2〜5〇MPa 本紙張尺度遑用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •良· 訂 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 6·如申請專利範圍第2至4項中任何一項所述之叠 層方法,其中,彈性體的表面平滑性爲中心線平均粗糙度 1 0 /z m以下。 7 .如申請專利.範圍第2至4項中任何一項所述之疊 層方法,其中,壓著子的壓力爲0. 03〜2MPa。 8 _如申請專利範圍第1項所述之叠層方法,其中, 將所定大小的薄膜狀有機片接合材料在支持構件上以輥推 壓壓著者。 9 .如申請專利範圍第1項所述之叠層方法,其中, 將所定大小的薄膜狀有機片接合材料在支持構件上以平面 狀彈性體推壓壓著者》 1 0 .如申請專利範圔第8項所述之簦層方法,其中 ,輥的表面平滑性爲中心線平均粗糙度1 0 M m以下者。 1 1 .如申請專利範圍第9項所述之疊層方法,其中 ,平均面狀彈性體的表面平滑性爲中心線平均粗糙度 1 0 // m以下。 1 2 .如申請專利範圍第8至1 1項中任何一項所述 之叠層方法,其中,將薄膜狀有機片接合材料在支持構件 上以5 0〜3 0 0 0 g的負荷推壓壓著。 1 3 .如申請專利範圍第8至1 1項中任何一項所述 之叠層方法,其中,將薄膜狀有機片接合材料推壓壓著在 加熱成片接合材料的玻璃態溫度T g以上且熱分解溫度以 下之溫度的支持構件上者。 1 4 .如申請專利範圍第8至1 1項中任何一項所述 氏張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(210Χ297ΐ^ί1 ~ ~~--- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、-6 一 2 - 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範囷 .之®層方法,其中,將薄膜狀有機片接合材料推壓壓著在 加熱成8 〇〜3 〇 〇 °c的支持構件上。 1 5 .如申請專利範圍第8至1 1項中任何一項所述 之叠層方法’其中,.前述所定大小的薄膜狀有機片接合材 料係根據薄膜衝穿裝置衝穿者。 1 6 .如申請專利範圍第1 5項所述之叠層方法,其 中’把根據薄膜衝穿裝置衝穿前的薄膜狀有機片接合材料 之薄膜張力調整爲〇 〇5〜l〇MPa。 1 7 ·如申請專利範圍第1 、2、8或9項中任何一 項所述之叠層方法,其中,前述所定大小的薄膜狀有機片 接合材料係根據薄膜切斷裝置切斷者。 1 8 ·如申請專利範園第1 7項所述之叠層方法,其 中’所定大小的薄膜狀有機片接合材料之加工精確度爲± 2 0 0 // m 以下。 1 9 .如申請專利範圍第1 ,2 ,8或9項中任何一 項所述之®層方法,其中,將加工爲所定大小的薄膜狀有 機片接合材料,以設有2以上之真空吸著口的保持構件保 持而載置在支持構件之所定位置。 2 0 .如申請專利範圍第1項所述之®層方法,其中 .,前述薄膜狀有機片接合材料,係將清漆塗佈在載體薄膜 使溶劑揮發而形成層,把其層從載體薄膜剝離者,使薄膜 狀有機片接合材料的接在載體薄膜側之面的相反側之面接 在支持構件地將薄膜狀有機片接合材料載置在支持構件上 本紙張尺度適用中國國家梂準(CNS ) A4规格(2丨0 X 2<Π公釐) (請先閱讀背面之注$項再填寫本頁j .丁 -He 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 A8 B8 C8 D8 夂、申請專利範圍 2 1 .如申請專利範圍第1項所述之疊層方法,其中 使用吸水率爲1 · 5 V ο 1 %以下的薄膜狀有機片接合材 料。 2 2.如申請專.利範圍第1項所述之叠層方法,其中 使用飽和吸濕率爲1 . 〇 V 〇1 %以下的薄膜狀有機片接 合材料》 23. 如申請專利範圍第1項所述之曼層方法,其中 ’使用殘存揮發份爲3 . 〇w t %以下的薄膜狀有機片接 合材料。 24. 如申請專利範圍第1項所述之疊層方法,其中 ’使用表面能爲4 0 e r g / c m 2以上的薄膜狀有機片 接合材料。 25. 如申請專利範圍第1項所述之叠層方法,其中 ’使用在將半導體元件粘合在支持構件的階段,片接合材 料中及片接合材料與支持構件之界面存在的空隙爲空隙體 積率10%以下之薄膜狀有機片接合材料者。 26. 如申請專利範圍第1項所述之叠層方法,其中 ’使用在把半導體元件粘合在支持構件的階段之剝皮強度 爲0 5 k g f / 5 X 5 m m晶方以上的薄膜狀的有機片 接合材料。 27. —種片接合方法,其特徵爲,根據申請專利範 圍第1_,2 ,8 ,9 ,2 0至2 6項所述之方法,將所定 大小的薄膜狀有機片接合材料叠層在半導體元件塔載用支 持構件上之所定位置,使半導體元件加熱壓著在支持構件 本紙張尺度適用中國國家標牟(CNS ) A4规格(210X297公簸) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
    ABCD 經濟部中央標準局負工消費合作社印袈 t、申請專利範圍 上的薄膜狀有機片接合材料之所定位置。 2 8 · —種叠層裝置,其特徵爲,具有將薄膜狀有機 片接合材料進給一定量之供給裝置,和衝穿薄膜狀有機片 接合材料的裝置’和.把衝穿之薄膜狀有機片接合材料載置 在支持構件上的所定位置暫時固定之薄膜暫時固定裝置, 和將暫時固定的薄膜狀有機片接合材料推壓壓著在支持構 件上之薄膜壓著裝置^ 2 9 · —種叠層裝置,其特徵爲,具有將薄膜狀有機 片接合材料進給一定量之供給裝置,和切斷薄膜狀有機片 接合材料的切斷裝置,和將切斷之薄膜狀有機片接合材料 載置在支持構件上的所定位置暫時固定之薄膜暫時固定裝 置’和把暫時固定的薄膜狀有機片接合材料推壓壓著在支 持構件上之薄膜壓著裝置。 3 0 .如申請專利範圍第2 8項或第2 9項所述之叠 層裝置,其中,前述薄膜壓著裝置,係從前端以彈性體構 成且其彈性體表面的壓著前之形狀爲凸狀曲面的壓著子, 輥及平面狀彈性體選擇之至少一種》 3 1 .如申請專利範圍第3 0項所述之疊層裝置,其 中,前述壓著子,係以具有平滑前端面的壓著子本體和被 覆壓著子本體前端部之板狀彈性體構成。 3 2 .如申請專利範圍第3 1項所述之叠層裝置,其 中,壓著子本體的平滑前端面之面精確度,爲中心線平均 粗糙度15em以下。 3 3 .如申請專利範圍第3 0項所述的疊層裝置,其 本紙張尺度逍用中國國家標準(CNS > A4現格(210X297公t (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
    經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 中’弾性體之楊氏係數爲0. 2〜5〇MPa。 34.如申請專利範圍第30項所述的叠層裝置’其 中’薄膜壓著裝置之壓著面的表面平滑性爲中心線平均粗 糙度1 4 m以下。 3 5 . —種片接合裝置,其特徴爲,具有申請專利範 圍第2 8或2 9項中之任何一項所述的叠層裝置,和使半 導體元件加熱壓著在支持構件上之薄膜狀有機片接合材料 的所定位置之晶方壓著裝置。 3 6 · —種片接合裝置,主要係,具有申請專利範圍 第2 9項所述的叠層裝置,和使半導體元件加熱壓著在支 持構件上之薄膜狀有機片接合材料的所定置之晶方壓著裝 置的片接合裝置,其特徵爲,具有用以將支持構件之引導 框架預熱的加熱塊(38 a),和用以將薄膜狀有機片接 合材料加熱壓著在引導框架之加熱塊(3 8b),和用以 將半導體元件加熱壓著在薄膜狀有機片接合材上的的加熱 塊(38c),和用以將加熱壓著之半導體元件再加熱而 正式壓著的加熱塊(3 8 d ),而此等加熱塊能夠分別獨 立地調節溫度。 3 7 . —種半等體裝置,其特徵爲,使用申請專利範 圍第1 ’ 2 ,8 ’ 9 ,20至26項中任一項所述之鲞層 方法之至少一種將薄膜狀有機片接合材料叠層在支持構件 ,把半導體元件經由薄膜狀有機片接合材料片接合在支持 構件,而將半導體元件樹脂密封之半導醣裝s。 3 8 · —種半導體裝置之製造方法,其特徵爲,使用 本紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) ---„------ί 裝------訂------{ 一 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 6 ABCD 307910 六、申請專利範園 申請專利範圍第1 ,2,8,9 , 20至26項各項所述 的叠層方法之至少一種將薄膜狀有機片接合材料叠層在支 持構件’把半導體元件經由薄膜狀有機片接合材料片接合 在支持構件,而將半導體元件樹脂密封者。 39.如申請專利範圍第38項所述的半導體裝置之 製造方法’其中,使用具有和半導體元件的面稹同等以下 之面積在將半導體元件粘合在支持構件的階段不會從半導 體元件之大小溢出的薄膜狀有機片接合材料。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、νβ 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家椹率(CNS > Α4规格(2丨0X297公釐)
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