TW202426560A - 光敏樹脂組成物及其固化膜 - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 99
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 34
- -1 thiol compound Chemical class 0.000 claims description 142
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 109
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 56
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 27
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 24
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 22
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 21
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 20
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 18
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 17
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 17
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 14
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 9
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 7
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 claims description 7
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 claims description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 5
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 4
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims description 4
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-N heptanoic acid Chemical compound CCCCCCC(O)=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 claims description 4
- MCJPJAJHPRCILL-UHFFFAOYSA-N (2,6-dinitrophenyl)methyl 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)OCC1=C([N+]([O-])=O)C=CC=C1[N+]([O-])=O MCJPJAJHPRCILL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JGTNAGYHADQMCM-UHFFFAOYSA-M 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F JGTNAGYHADQMCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- QUOCTKSEXQCBPE-UHFFFAOYSA-N 1,2-ditert-butyl-3-iodobenzene Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(I)=C1C(C)(C)C QUOCTKSEXQCBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GYQQFWWMZYBCIB-UHFFFAOYSA-N 1-[diazo-(4-methylphenyl)sulfonylmethyl]sulfonyl-4-methylbenzene Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])S(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 GYQQFWWMZYBCIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QQWWKHJWGCWUKU-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(2,4-dinitrophenyl)ethyl]benzenesulfonic acid Chemical compound C1=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C1CCC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O QQWWKHJWGCWUKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HYKBUMWQWWRXJN-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(2-nitrophenyl)ethyl]benzenesulfonic acid Chemical compound C1=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C1CCC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O HYKBUMWQWWRXJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZAUAKKJYYOCDBU-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C)C1=CC=CC(I)=C1C(C)(C)C.CC(C)(C(CC1)C2)C1(CS(O)(=O)=O)C2=O Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(I)=C1C(C)(C)C.CC(C)(C(CC1)C2)C1(CS(O)(=O)=O)C2=O ZAUAKKJYYOCDBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229940123973 Oxygen scavenger Drugs 0.000 claims description 3
- YPPVLYIFEAESGO-UHFFFAOYSA-N [2,3-bis(methylsulfonyloxy)phenyl] methanesulfonate Chemical compound CS(=O)(=O)OC1=CC=CC(OS(C)(=O)=O)=C1OS(C)(=O)=O YPPVLYIFEAESGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DCYQPMGIYRPCBA-UHFFFAOYSA-N [2,3-bis(trifluoromethylsulfonyloxy)phenyl] trifluoromethanesulfonate Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)OC1=CC=CC(OS(=O)(=O)C(F)(F)F)=C1OS(=O)(=O)C(F)(F)F DCYQPMGIYRPCBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OIHCCWXZFYNOJS-UHFFFAOYSA-N [2,3-bis-(4-methylphenyl)sulfonyloxyphenyl] 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)OC1=CC=CC(OS(=O)(=O)C=2C=CC(C)=CC=2)=C1OS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 OIHCCWXZFYNOJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NCGQPNAQUYGWMI-UHFFFAOYSA-N [3-heptanoyloxy-2,2-bis(heptanoyloxymethyl)propyl] heptanoate Chemical compound CCCCCCC(=O)OCC(COC(=O)CCCCCC)(COC(=O)CCCCCC)COC(=O)CCCCCC NCGQPNAQUYGWMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QFKJMDYQKVPGNM-UHFFFAOYSA-N [benzenesulfonyl(diazo)methyl]sulfonylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 QFKJMDYQKVPGNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 claims description 3
- 125000001046 glycoluril group Chemical class [H]C12N(*)C(=O)N(*)C1([H])N(*)C(=O)N2* 0.000 claims description 3
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 claims description 3
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 claims description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 2
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 claims description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 18
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 abstract description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 102
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 25
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 16
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 150000002118 epoxides Chemical group 0.000 description 13
- 238000011161 development Methods 0.000 description 12
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 9
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 7
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 6
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- FYYIUODUDSPAJQ-XVBQNVSMSA-N [(1S,6R)-7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-3-yl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CC[C@H]2O[C@H]2C1 FYYIUODUDSPAJQ-XVBQNVSMSA-N 0.000 description 5
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 5
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N N-methylformamide Chemical compound CNC=O ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 238000013035 low temperature curing Methods 0.000 description 4
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- GQKZRWSUJHVIPE-UHFFFAOYSA-N sec-amyl acetate Natural products CCCC(C)OC(C)=O GQKZRWSUJHVIPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N sec-butyl acetate Chemical compound CCC(C)OC(C)=O DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 4
- 125000006374 C2-C10 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VPSLGSSVPWVZFG-UHFFFAOYSA-N butan-2-yl propanoate Chemical compound CCC(C)OC(=O)CC VPSLGSSVPWVZFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 2
- HGXJDMCMYLEZMJ-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C(C)(C)C HGXJDMCMYLEZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 2
- HSLFISVKRDQEBY-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(tert-butylperoxy)cyclohexane Chemical compound CC(C)(C)OOC1(OOC(C)(C)C)CCCCC1 HSLFISVKRDQEBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGJSXRVXTHVRSN-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trioxane Chemical compound C1OCOCO1 BGJSXRVXTHVRSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FPZQYYXSOJSITC-UHFFFAOYSA-N 1-(4-chlorophenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O FPZQYYXSOJSITC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLLFPKZTBLMEFG-UHFFFAOYSA-N 1-(4-hydroxyphenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O BLLFPKZTBLMEFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIXZBXRQFZHIT-UHFFFAOYSA-N 1-[1-(1-hydroxypropan-2-yloxy)propan-2-yloxy]-3-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(O)COC(C)COC(C)CO XUIXZBXRQFZHIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGJCFVYMIJLQJO-UHFFFAOYSA-N 1-dodecylperoxydodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCOOCCCCCCCCCCCC LGJCFVYMIJLQJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTRZMLZNHGCYLK-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-(methoxymethyl)benzene Chemical compound COCC1=CC=CC=C1C=C VTRZMLZNHGCYLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HDEWQSUXJCDXIX-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-(methoxymethyl)benzene Chemical compound COCC1=CC=CC(C=C)=C1 HDEWQSUXJCDXIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XVXKXOPCFWAOLN-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-(methoxymethyl)benzene Chemical compound COCC1=CC=C(C=C)C=C1 XVXKXOPCFWAOLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SDXHBDVTZNMBEW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound CCOC(O)COCCO SDXHBDVTZNMBEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GIAFURWZWWWBQT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-aminoethoxy)ethanol Chemical compound NCCOCCO GIAFURWZWWWBQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HLIQLHSBZXDKLV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)-1-phenoxyethanol Chemical compound OCCOCC(O)OC1=CC=CC=C1 HLIQLHSBZXDKLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methoxy-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-4-methoxy-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound COC(C)(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)(C)OC PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZHNODDFDJBMAS-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethenylbenzene Chemical compound CCOC=CC1=CC=CC=C1 FZHNODDFDJBMAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DDBYLRWHHCWVID-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbut-1-enylbenzene Chemical compound CCC(CC)=CC1=CC=CC=C1 DDBYLRWHHCWVID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBKNKFIRGXQLDB-UHFFFAOYSA-N 2-fluoroethenylbenzene Chemical compound FC=CC1=CC=CC=C1 KBKNKFIRGXQLDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZPOYKXYJOHGCW-UHFFFAOYSA-N 2-iodoethenylbenzene Chemical compound IC=CC1=CC=CC=C1 OZPOYKXYJOHGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethenylbenzene Chemical compound COC=CC1=CC=CC=C1 CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)=CC1=CC=CC=C1 BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ILYSKJPEZAABAA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethenylbenzene Chemical compound CCCOC=CC1=CC=CC=C1 ILYSKJPEZAABAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZTHJQCDAHYOPIK-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-2-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)=C(C)C1=CC=CC=C1 ZTHJQCDAHYOPIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LJMPOXUWPWEILS-UHFFFAOYSA-N 3a,4,4a,7a,8,8a-hexahydrofuro[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1C2C(=O)OC(=O)C2CC2C(=O)OC(=O)C21 LJMPOXUWPWEILS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YAXPDWVRLUOOBJ-UHFFFAOYSA-N 4-ethylhex-3-en-3-ylbenzene Chemical compound CCC(CC)=C(CC)C1=CC=CC=C1 YAXPDWVRLUOOBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAGRUUPXPPLSRX-UHFFFAOYSA-N 4-prop-1-en-2-ylphenol Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(O)C=C1 JAGRUUPXPPLSRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGYCECQIOXZODZ-UHFFFAOYSA-N 4415-87-6 Chemical compound O=C1OC(=O)C2C1C1C(=O)OC(=O)C12 YGYCECQIOXZODZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYIUODUDSPAJQ-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C(COC(=O)C(=C)C)CCC2OC21 FYYIUODUDSPAJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Natural products CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 2
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N [(e)-2-bromoethenyl]benzene Chemical compound Br\C=C\C1=CC=CC=C1 YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- LFYJSSARVMHQJB-QIXNEVBVSA-N bakuchiol Chemical compound CC(C)=CCC[C@@](C)(C=C)\C=C\C1=CC=C(O)C=C1 LFYJSSARVMHQJB-QIXNEVBVSA-N 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- BWHOZHOGCMHOBV-UHFFFAOYSA-N benzylideneacetone Chemical compound CC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 BWHOZHOGCMHOBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N but-1-enylbenzene Chemical compound CCC=CC1=CC=CC=C1 MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQAQPCDUOCURKW-UHFFFAOYSA-N butanethiol Chemical compound CCCCS WQAQPCDUOCURKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 2
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 2
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 description 2
- WOSVXXBNNCUXMT-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1C(O)=O WOSVXXBNNCUXMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MAWOHFOSAIXURX-UHFFFAOYSA-N cyclopentylcyclopentane Chemical group C1CCCC1C1CCCC1 MAWOHFOSAIXURX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011929 di(propylene glycol) methyl ether Substances 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- 125000005446 heptyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N hex-1-enylbenzene Chemical compound CCCCC=CC1=CC=CC=C1 KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001427 mPEG Polymers 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INBDPOJZYZJUDA-UHFFFAOYSA-N methanedithiol Chemical compound SCS INBDPOJZYZJUDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCILLCXFKWDRMK-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-diol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=C(O)C2=C1 PCILLCXFKWDRMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KPSSIOMAKSHJJG-UHFFFAOYSA-N neopentyl alcohol Chemical compound CC(C)(C)CO KPSSIOMAKSHJJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KNZIIQMSCLCSGZ-UHFFFAOYSA-N non-1-enylbenzene Chemical compound CCCCCCCC=CC1=CC=CC=C1 KNZIIQMSCLCSGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RCALDWJXTVCBAZ-UHFFFAOYSA-N oct-1-enylbenzene Chemical compound CCCCCCC=CC1=CC=CC=C1 RCALDWJXTVCBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000005447 octyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KHMYONNPZWOTKW-UHFFFAOYSA-N pent-1-enylbenzene Chemical compound CCCC=CC1=CC=CC=C1 KHMYONNPZWOTKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000004260 weight control Methods 0.000 description 2
- DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N β‐Mercaptoethanol Chemical compound OCCS DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LUQFGNDRPGBWIS-UHFFFAOYSA-N (2-heptanoyloxy-3-hydroxypropyl) heptanoate Chemical compound CCCCCCC(=O)OCC(CO)OC(=O)CCCCCC LUQFGNDRPGBWIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- LXFCQSSQMLFNED-UHFFFAOYSA-N (4-heptanoyloxycyclohexyl) heptanoate Chemical compound CCCCCCC(=O)OC1CCC(OC(=O)CCCCCC)CC1 LXFCQSSQMLFNED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIHAXFVEQADRQC-UHFFFAOYSA-N (4-hexanoyloxycyclohexyl) hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OC1CCC(OC(=O)CCCCC)CC1 DIHAXFVEQADRQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000027 (C1-C10) alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003161 (C1-C6) alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- LJHFIVQEAFAURQ-ZPUQHVIOSA-N (NE)-N-[(2E)-2-hydroxyiminoethylidene]hydroxylamine Chemical class O\N=C\C=N\O LJHFIVQEAFAURQ-ZPUQHVIOSA-N 0.000 description 1
- SXMGTZKTIKEEBL-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrabutylbenzene Chemical compound CCCCC1=CC=C(CCCC)C(CCCC)=C1CCCC SXMGTZKTIKEEBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTQSAYSDJJNQLA-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrapentylbenzene Chemical compound CCCCCC1=CC=C(CCCCC)C(CCCCC)=C1CCCCC HTQSAYSDJJNQLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHBDXRNMDNRJJC-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triphenylbenzene Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 CHBDXRNMDNRJJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIUPWOHQUYCKRS-UHFFFAOYSA-N 1,2,4,5-tetrabutylbenzene Chemical compound CCCCC1=CC(CCCC)=C(CCCC)C=C1CCCC OIUPWOHQUYCKRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXCVBOQRPQKVKY-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-triphenylbenzene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=C1C=2C=CC=CC=2)=CC=C1C1=CC=CC=C1 XXCVBOQRPQKVKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRUFTGMQJWWIOL-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihexanoylglycerol Chemical compound CCCCCC(=O)OCC(CO)OC(=O)CCCCC DRUFTGMQJWWIOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWQFVUQPHUKAMY-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propoxyethanone Chemical class C=1C=CC=CC=1C(OCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 QWQFVUQPHUKAMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIAQMFOKAXHPNH-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenylbenzene Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 OIAQMFOKAXHPNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYMPLPIFKRHAAC-UHFFFAOYSA-N 1,2-ethanedithiol Chemical compound SCCS VYMPLPIFKRHAAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGKHJWTVMIMEPQ-UHFFFAOYSA-N 1,2-propanedithiol Chemical compound CC(S)CS YGKHJWTVMIMEPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXWIAEOZZQADEY-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triphenylbenzene Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC(C=2C=CC=CC=2)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 SXWIAEOZZQADEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJKSTNDFUHDPQJ-UHFFFAOYSA-N 1,4-diphenylbenzene Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=C(C=2C=CC=CC=2)C=C1 XJKSTNDFUHDPQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOKGTLAJQHTOKE-UHFFFAOYSA-N 1,5-dihydroxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1O BOKGTLAJQHTOKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRZXCOWFGPICGA-UHFFFAOYSA-N 1,6-Hexanedithiol Chemical compound SCCCCCCS SRZXCOWFGPICGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCCAOOJIWMTVGN-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanatohexane;[2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O.C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C ZCCAOOJIWMTVGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTFWYVRKCPYUCQ-UHFFFAOYSA-N 1-(2-hexylsulfanylethylsulfanyl)hexane Chemical compound CCCCCCSCCSCCCCCC VTFWYVRKCPYUCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBLCPTFSJCEHOD-UHFFFAOYSA-N 1-(3-pentylsulfanylpropylsulfanyl)pentane Chemical compound CCCCCSCCCSCCCCC JBLCPTFSJCEHOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIVJJQNQMKNMBO-UHFFFAOYSA-N 1-(hexylsulfanylmethylsulfanyl)hexane Chemical compound CCCCCCSCSCCCCCC VIVJJQNQMKNMBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSQZSPCQDXHJDJ-UHFFFAOYSA-N 1-(pentyldisulfanyl)pentane Chemical compound CCCCCSSCCCCC YSQZSPCQDXHJDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTPFGSBSDNEPMS-UHFFFAOYSA-N 1-(pentylsulfanylmethylsulfanyl)pentane Chemical compound CCCCCSCSCCCCC VTPFGSBSDNEPMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUDYANRNMZDQGA-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(dimethylamino)phenyl]ethanone Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C(C)=O)C=C1 HUDYANRNMZDQGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCPWBCPKTDINQT-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-4-(4-butylphenyl)benzene Chemical group C1=CC(CCCC)=CC=C1C1=CC=C(CCCC)C=C1 OCPWBCPKTDINQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 1-decene Chemical group CCCCCCCCC=C AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLLOHKQWGFKFLO-UHFFFAOYSA-N 1-methylcyclohexane-1,2-dithiol Chemical compound CC1(S)CCCCC1S DLLOHKQWGFKFLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical group CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOZDADPMWLVEJK-UHFFFAOYSA-N 1-pentylsulfanylpentane Chemical compound CCCCCSCCCCC JOZDADPMWLVEJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 1-propanol Substances CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCOCC(C)OC(C)=O DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACXBGWXHUKUHBD-UHFFFAOYSA-N 2,3-diethylthiophene 1-oxide Chemical class C(C)C1=C(S(C=C1)=O)CC ACXBGWXHUKUHBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHHWVSYKBDVEA-UHFFFAOYSA-N 2-(2-heptanoyloxyethoxy)ethyl heptanoate Chemical compound CCCCCCC(=O)OCCOCCOC(=O)CCCCCC LVHHWVSYKBDVEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQKDMKKMCVJJTC-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylpropoxymethyl)oxirane Chemical compound CC(C)COCC1CO1 AQKDMKKMCVJJTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 2-(butoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCOCC1CO1 YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKMJVFRMDSNFRT-UHFFFAOYSA-N 2-(methoxymethyl)oxirane Chemical compound COCC1CO1 LKMJVFRMDSNFRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWLUZGJDEZBBRH-UHFFFAOYSA-N 2-(propan-2-yloxymethyl)oxirane Chemical compound CC(C)OCC1CO1 NWLUZGJDEZBBRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWNOEVURTVLUNV-UHFFFAOYSA-N 2-(propoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCOCC1CO1 CWNOEVURTVLUNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFWFAUHHNYTWOO-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-ethenylphenyl)methoxymethyl]oxirane Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1COCC1OC1 JFWFAUHHNYTWOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCKQMFDZQUFKRD-UHFFFAOYSA-N 2-[(3-ethenylphenyl)methoxymethyl]oxirane Chemical compound C=CC1=CC=CC(COCC2OC2)=C1 OCKQMFDZQUFKRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZADXFVHUPXKZBJ-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-ethenylphenyl)methoxymethyl]oxirane Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1COCC1OC1 ZADXFVHUPXKZBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZTBMYHIYNGYIA-UHFFFAOYSA-N 2-chloroacrylic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)=C SZTBMYHIYNGYIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWNXBIIHWXJVHF-UHFFFAOYSA-N 2-heptanoyloxyethyl heptanoate Chemical compound CCCCCCC(=O)OCCOC(=O)CCCCCC HWNXBIIHWXJVHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWJROIZRZAZHFP-UHFFFAOYSA-N 2-hexan-2-ylsulfanylhexane Chemical compound CCCCC(C)SC(C)CCCC BWJROIZRZAZHFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIEWGQFCESQNBK-UHFFFAOYSA-N 2-hexanoyloxyethyl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OCCOC(=O)CCCCC XIEWGQFCESQNBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFWZJPANVGYSOS-UHFFFAOYSA-N 2-hexanoyloxyheptyl hexanoate Chemical compound CCCCCC(COC(=O)CCCCC)OC(=O)CCCCC WFWZJPANVGYSOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical class CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C=C HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNQBPLJBKMDKLK-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzene-1,4-dithiol Chemical compound CC1=CC(S)=CC=C1S QNQBPLJBKMDKLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWYHDSLIWMUSOO-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-benzimidazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2N1 DWYHDSLIWMUSOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- WYYQKWASBLTRIW-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylbenzoic acid Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1C(O)=O WYYQKWASBLTRIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODJQKYXPKWQWNK-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Thiobispropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCSCCC(O)=O ODJQKYXPKWQWNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOCAIQHVJFBWHC-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethoxybutane-1,2-dithiol Chemical compound COCC(OC)C(S)CS KOCAIQHVJFBWHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl acetate Chemical compound COC(C)CCOC(C)=O QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVHHADIQQIICAV-UHFFFAOYSA-N 4-amino-3-[[4-[4-[(1-amino-4-sulfonaphthalen-2-yl)diazenyl]-2-methylphenyl]-3-methylphenyl]diazenyl]naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(N)C(N=NC=3C=C(C(=CC=3)C=3C(=CC(=CC=3)N=NC=3C(=C4C=CC=CC4=C(C=3)S(O)(=O)=O)N)C)C)=CC(S(O)(=O)=O)=C21 UVHHADIQQIICAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCAVPEPBIJTYSO-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate;2-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)oxirane Chemical compound C1OC1COCC1CO1.OCCCCOC(=O)C=C NCAVPEPBIJTYSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBCATMYQYDCTIZ-UHFFFAOYSA-N 4-methylcatechol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(O)=C1 ZBCATMYQYDCTIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBEAJGUCDQJJOV-UHFFFAOYSA-N 5-amino-3-methyl-3-phenyl-4-(1,3,5-triazin-2-ylamino)-4h-chromen-2-one Chemical class C12=C(N)C=CC=C2OC(=O)C(C)(C=2C=CC=CC=2)C1NC1=NC=NC=N1 QBEAJGUCDQJJOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRVHAOGMXOIJDL-UHFFFAOYSA-N 6,6-dipentylundecane Chemical compound CCCCCC(CCCCC)(CCCCC)CCCCC YRVHAOGMXOIJDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPTGFYXXFXSRIR-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C1C(COC(=O)C=C)CCC2OC21 DPTGFYXXFXSRIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 9-phenylacridine Chemical class C1=CC=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Natural products CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N Bisphenol Z Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCCC1 SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLQIGUBKMVCBBZ-UHFFFAOYSA-N C(CCCC)C1=C(C=C(C(=C1)CCCCC)CCCCC)CCCCC Chemical compound C(CCCC)C1=C(C=C(C(=C1)CCCCC)CCCCC)CCCCC HLQIGUBKMVCBBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005915 C6-C14 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- XZZBVIFYZYASER-UHFFFAOYSA-N CCCCC(C)SSC(C)CCCC Chemical compound CCCCC(C)SSC(C)CCCC XZZBVIFYZYASER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTVRRUXGGUHNSF-UHFFFAOYSA-N CCCCCCSCC(CSCCCCCC)(CSCCCCCC)CSCCCCCC Chemical compound CCCCCCSCC(CSCCCCCC)(CSCCCCCC)CSCCCCCC KTVRRUXGGUHNSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 1
- YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N Diazomethane Chemical class C=[N+]=[N-] YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 101000752241 Homo sapiens Rho guanine nucleotide exchange factor 4 Proteins 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOSMNYMQXIVWKY-UHFFFAOYSA-N Propyl levulinate Chemical compound CCCOC(=O)CCC(C)=O QOSMNYMQXIVWKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 1
- 102100021709 Rho guanine nucleotide exchange factor 4 Human genes 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- 239000003490 Thiodipropionic acid Substances 0.000 description 1
- GTTSNKDQDACYLV-UHFFFAOYSA-N Trihydroxybutane Chemical compound CCCC(O)(O)O GTTSNKDQDACYLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEEVRZDUPHZSOX-WPWMEQJKSA-N [(e)-1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)carbazol-3-yl]ethylideneamino] acetate Chemical compound C=1C=C2N(CC)C3=CC=C(C(\C)=N\OC(C)=O)C=C3C2=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1C SEEVRZDUPHZSOX-WPWMEQJKSA-N 0.000 description 1
- BXKGEHTYSZRXRV-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(heptanoyloxymethyl)-3-hydroxypropyl] heptanoate Chemical compound CCCCCCC(=O)OCC(CO)(COC(=O)CCCCCC)COC(=O)CCCCCC BXKGEHTYSZRXRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMAIADOUFDGXKC-UHFFFAOYSA-N [2-(heptanoyloxymethyl)-3-hydroxy-2-(hydroxymethyl)propyl] heptanoate Chemical compound CCCCCCC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)CCCCCC OMAIADOUFDGXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOZDHFFNBZAHJF-UHFFFAOYSA-N [3-hexanoyloxy-2,2-bis(hexanoyloxymethyl)propyl] hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OCC(COC(=O)CCCCC)(COC(=O)CCCCC)COC(=O)CCCCC AOZDHFFNBZAHJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005571 adamantylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003376 axonal effect Effects 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- ZKIBBIKDPHAFLN-UHFFFAOYSA-N boronium Chemical compound [H][B+]([H])([H])[H] ZKIBBIKDPHAFLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMTOKHQOVJRXLK-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-dithiol Chemical compound SCCCCS SMTOKHQOVJRXLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 1
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004976 cyclobutylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004977 cycloheptylene group Chemical group 0.000 description 1
- SMEJCQZFRMVYGC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1C(O)=O SMEJCQZFRMVYGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKRCKUBKOIVILO-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dithiol Chemical compound SC1CCCCC1S YKRCKUBKOIVILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004979 cyclopentylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004980 cyclopropylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005754 decalinylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclopentane Chemical compound C=CC1CCCC1 BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- HOXINJBQVZWYGZ-UHFFFAOYSA-N fenbutatin oxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)C[Sn](O[Sn](CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)(CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)(CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)CC(C)(C)C1=CC=CC=C1 HOXINJBQVZWYGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005570 flexible polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000003976 glyceryl group Chemical group [H]C([*])([H])C(O[H])([H])C(O[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 150000002505 iron Chemical class 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N methylfumaric acid Natural products OC(=O)C(C)=CC(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- KXAFIXYQEIQJBN-UHFFFAOYSA-N n-[3-[3,5-dimethyl-4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]propyl]prop-2-enamide Chemical compound CC1=CC(CCCNC(=O)C=C)=CC(C)=C1OCC1OC1 KXAFIXYQEIQJBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHBCEHHJPNBVME-UHFFFAOYSA-N n-[[3,5-dimethyl-4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]methyl]prop-2-enamide Chemical compound CC1=CC(CNC(=O)C=C)=CC(C)=C1OCC1OC1 OHBCEHHJPNBVME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNZMMCVIXORAQL-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-diol Chemical compound C1=C(O)C=CC2=CC(O)=CC=C21 MNZMMCVIXORAQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFQICHCWIIJABH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,7-diol Chemical compound C1=CC(O)=CC2=CC(O)=CC=C21 DFQICHCWIIJABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006502 nitrobenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N octane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCS KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N omega-Hydroxydodecanoic acid Natural products OCCCCCCCCCCCC(O)=O ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- KMTUBAIXCBHPIZ-UHFFFAOYSA-N pentane-1,5-dithiol Chemical compound SCCCCCS KMTUBAIXCBHPIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1.CC(=C)C1=CC=CC=C1 FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJLMKPKYJBQJNH-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-dithiol Chemical compound SCCCS ZJLMKPKYJBQJNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000004334 sorbic acid Substances 0.000 description 1
- 235000010199 sorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940075582 sorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- ADXGNEYLLLSOAR-UHFFFAOYSA-N tasosartan Chemical compound C12=NC(C)=NC(C)=C2CCC(=O)N1CC(C=C1)=CC=C1C1=CC=CC=C1C=1N=NNN=1 ADXGNEYLLLSOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 235000019303 thiodipropionic acid Nutrition 0.000 description 1
- LWRYDHOHXNQTSK-UHFFFAOYSA-N thiophene oxide Chemical compound O=S1C=CC=C1 LWRYDHOHXNQTSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- MAYCICSNZYXLHB-UHFFFAOYSA-N tricaproin Chemical compound CCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCC)COC(=O)CCCCC MAYCICSNZYXLHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N triglyme Chemical compound COCCOCCOCCOC YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJHKBYALYHRYSK-UHFFFAOYSA-N triheptanoin Chemical compound CCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCC)COC(=O)CCCCCC PJHKBYALYHRYSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
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Abstract
由於本發明之可低溫固化光敏樹脂組成物包含具有式1的酸二酐,因此即使在低溫下也可以形成精細的圖案,並且由其製備的固化膜具有優異的硬度、透明度和耐化學性,該固化膜可以用於液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等中。
Description
本發明關於一種光敏樹脂組成物及其固化膜。更具體而言,本發明關於一種即使在低溫固化條件下也具有優異反應性的光敏樹脂組成物以及由其獲得的固化膜。
在顯示領域中,光敏樹脂組成物用於形成各種可光固化圖案,如光致抗蝕劑、絕緣膜、保護膜、黑矩陣和柱狀間隔物。具體地,藉由光刻製程將光敏樹脂組成物選擇性地曝光和顯影,以形成希望的光固化圖案。為了提高該製程中的產率並提高在以上製程中所施加的目標的物理特性,需要具有高靈敏度的光敏樹脂組成物。
用光敏樹脂組成物形成圖案係藉由光刻法,即藉由光反應引起的聚合物的極性變化和交聯反應進行的。特別地,利用曝光後對溶劑如鹼水溶液的溶解度的變化。
根據光敏化部分的溶解度,用光敏樹脂組成物形成圖案被分為正型和負型。在正型光致抗蝕劑中,曝光部分被顯影劑溶解以形成圖案。在負型光致抗蝕劑中,曝光部分未被顯影劑溶解,而未曝光部分被溶解以形成圖案。正型和負型在黏合劑樹脂、交聯劑等方面彼此不同。
近年來,隨著柔性觸控式螢幕的使用爆炸性地增長,用於觸控式螢幕的各種柔性基板的開發正在進行中。由於用於該應用的材料也限於柔性聚合物材料,因此製造製程也需要在較溫和的條件下進行。
因此,對於光敏樹脂組成物的固化條件,需要在低溫下固化,而不是常規的在高溫下固化。在低溫下的固化製程涉及光敏樹脂組成物的反應性降低以及所形成的圖案的耐久性差的問題。
[先前技術文獻]
(專利文獻1)韓國公開專利公佈案號2007-0079608
技術問題
本發明之目的係提供一種即使在低溫固化條件下也具有優異反應性的光敏樹脂組成物和一種用於液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等中的固化膜。
具體地,本發明之目的係提供一種即使在約60°C至90°C的低溫下也能夠形成約20 µm或更小的精細圖案的光敏樹脂組成物以及一種由其製備並具有優異的透明度和耐化學性的固化膜。
問題的解決方案
為了實現以上目的,本發明提供了一種可低溫固化光敏樹脂組成物,其包含 (A) 共聚物;(B) 可光聚合化合物;(C) 光聚合引發劑;(D) 固化劑;和 (E) 溶劑,其中該固化劑包含由下式1表示的化合物:
[式1]
在式1中,X係具有4至8個碳原子的取代或未取代的芳族或脂族環。
此外,本發明提供了一種由可低溫固化光敏樹脂組成物形成的固化膜。
本發明之有益效果
由於本發明之可低溫固化光敏樹脂組成物包含具有式1的酸二酐,因此在低溫固化條件下反應性增強,從而即使在約60°C至90°C的低溫下也可以形成約20 µm或更小的精細圖案,並且由其製備的固化膜具有優異的硬度、透明度、和耐化學性。
因此,根據本發明之可低溫固化光敏樹脂組成物可用於製備用於液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等中的固化膜或有機絕緣膜。
實施本發明之最佳方式
在下文中,將更詳細地描述本發明。
本發明不受限於下面描述的那些。相反,只要不改變本發明之主旨,可以將其修改為各種形式。
貫穿本說明書,除非另外明確說明,否則當零件被稱為「包括」一種要素時,應當理解,可以包括其他要素,而不是排除其他要素。另外,除非另外明確說明,否則本文所用的與組分的量、反應條件等有關的所有數字和表述應理解為由術語「約」修飾。
如本文所用,術語「(甲基)丙烯醯基」係指「丙烯醯基」和/或「甲基丙烯醯基」,並且術語「(甲基)丙烯酸酯」係指「丙烯酸酯」和/或「甲基丙烯酸酯」。
如下所述之各組分的重量平均分子量係指藉由凝膠滲透層析法(GPC,洗脫液:四氫呋喃)參照聚苯乙烯標準品測量的重量平均分子量。典型地,它不附有單位,但是可以理解為具有克/莫耳或Da的單位。
本發明之可低溫固化光敏樹脂組成物包含 (A) 共聚物;(B) 可光聚合化合物;(C) 光聚合引發劑;(D) 固化劑;和 (E) 溶劑。
此外,本發明之可低溫固化光敏樹脂組成物可以進一步包含選自由以下項組成之群組中的至少一種添加劑:環氧化合物、衍生自環氧樹脂的化合物、交聯劑、熱酸產生劑、抗氧化劑、表面活性劑、表面流平劑、光酸產生劑、氧清除劑、UV阻斷劑、黏附助劑和光穩定劑。
在下文中,將詳細解釋本發明之光敏樹脂組成物的各組分。
(A) 共聚物
根據本發明之光敏樹脂組成物包含共聚物 (A)。
共聚物係在顯影步驟中實現可顯影性的鹼溶性樹脂,並且還起到塗覆時用於形成膜的基底和用於形成最終圖案的結構的作用。
共聚物 (A) 可以包含選自由以下項組成之群組的至少一種:(a1) 衍生自含有酸基團的不飽和單體的結構單元;(a2) 衍生自含有環氧基的不飽和單體的結構單元;和 (a3) 不同於 (a1) 和 (a2) 的衍生自不飽和單體的結構單元。
(a1) 衍生自含有酸基團的不飽和單體的結構單元
結構單元 (a1) 可以衍生自含有酸基團的不飽和單體。具體地,結構單元 (a1) 可以衍生自乙烯性不飽和羧酸、乙烯性不飽和羧酸酐、或其組合。
乙烯性不飽和羧酸、乙烯性不飽和羧酸酐或其組合係在分子中含有至少一個羧基的可聚合不飽和化合物。它可以是選自以下項中的至少一種:不飽和單羧酸,如(甲基)丙烯酸、巴豆酸、α-氯代丙烯酸和肉桂酸;不飽和二羧酸及其酸酐,如馬來酸、馬來酸酐、富馬酸、衣康酸、衣康酸酐、檸康酸、檸康酸酐和中康酸;具有三價或更高價的不飽和多羧酸及其酸酐;以及二價或更高價的多羧酸的單[(甲基)丙烯醯氧基烷基]酯,如單[2-(甲基)丙烯醯氧基乙基]琥珀酸酯、單[2-(甲基)丙烯醯氧基乙基]鄰苯二甲酸酯等。但它並不限於此。在它們之中特別是從可顯影性的觀點來看,它可以較佳的是(甲基)丙烯酸。
基於構成共聚物 (A) 的結構單元的總莫耳數,結構單元 (a1) 的含量可以是5莫耳%至50莫耳%、10莫耳%至40莫耳%、或15莫耳%至35莫耳%。在以上範圍內,有可能實現膜的圖案形成,同時維持有利的可顯影性。
(a2) 衍生自含有環氧基的不飽和化合物的結構單元
結構單元 (a2) 可以衍生自含有環氧基的不飽和化合物。
衍生自含有環氧基的不飽和化合物的結構單元 (a2) 可以包括脂環族環氧基、非脂環族環氧基或兩者。
具體地,結構單元 (a2) 可以包含 (a2-1) 由下式a1表示的衍生自含有脂環族環氧基的不飽和單體的結構單元;以及 (a2-2) 由下式a2表示的衍生自含有非脂環族環氧基的不飽和單體的結構單元。
[式a1]
[式a2]
在式a1和a2中,R
a各自獨立地是氫或C
1-4烷基,並且R
b各自獨立地是C
1-6伸烷基。
具體地,在式a1和a2中,R
a各自獨立地是氫或甲基,並且R
b各自獨立地是C
1-4伸烷基。
更具體地,含有脂環族環氧基的不飽和單體可以是丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯或甲基丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯。此外,含有非脂環族環氧基的不飽和單體可以是丙烯酸縮水甘油酯或甲基丙烯酸縮水甘油醚。
結構單元 (a2) 可以包含結構單元 (a2-1) 和 (a2-2) 中的一個或兩個。
例如,結構單元 (a2-1) 與 (a2-2) 的莫耳比係50至99 : 50至1、50至90 : 50至10、50至85 : 50至15、50至80 : 50至20、或50至75 : 50至25。在以上範圍內,可以進一步增強室溫下隨時間的穩定性、耐熱性、耐化學性和圖案形成。
基於共聚物 (A) 的結構單元的總莫耳數,結構單元 (a2) 的含量可以是5莫耳%至50莫耳%、10莫耳%至50莫耳%、10莫耳%至45莫耳%、10莫耳%至40莫耳%、10莫耳%至30莫耳%、10莫耳%至20莫耳%、15莫耳%至50莫耳%、15莫耳%至45莫耳%、15莫耳%至40莫耳%、15莫耳%至30莫耳%、或15莫耳%至20莫耳%。在以上範圍內,可以進一步增強組成物的儲存穩定性和膜保留率。
(a3) 衍生自不同於 (a1) 和 (a2) 的不飽和化合物的結構單元
本發明中的結構單元 (a3) 可以衍生自不同於結構單元 (a1) 和 (a2) 的不飽和化合物。
具體地,結構單元 (a3) 可以是選自由以下項組成之群組中的至少一種:具有芳族環的乙烯性不飽和化合物,如(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙酯、苯氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、對壬基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、對壬基苯氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸三溴苯酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、三乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯、辛基苯乙烯、氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、碘苯乙烯、甲氧基苯乙烯、乙氧基苯乙烯、丙氧基苯乙烯、對羥基-α-甲基苯乙烯、乙醯基苯乙烯、乙烯基甲苯、二乙烯基苯、乙烯基苯酚、鄰乙烯基苄基甲醚、間乙烯基苄基甲醚和對乙烯基苄基甲醚;不飽和羧酸酯,如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-氯丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸甘油酯、α-羥甲基丙烯酸甲酯、α-羥甲基丙烯酸乙酯、α-羥甲基丙烯酸丙酯、α-羥甲基丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三丙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇)甲醚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸1,1,1,3,3,3-六氟異丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸二環戊氧基乙酯、以及(甲基)丙烯酸二環戊烯基氧基乙酯;含有N-乙烯基的N-乙烯基三級胺,如N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基咔唑、以及N-乙烯基𠰌啉;不飽和醚,如乙烯基甲醚和乙烯基乙醚;以及不飽和醯亞胺,如N-苯基馬來醯亞胺、N-(4-氯苯基)馬來醯亞胺、N-(4-羥基苯基)馬來醯亞胺和N-環己基馬來醯亞胺。
基於共聚物 (A) 的結構單元的總莫耳數,結構單元 (a3) 的總含量可以是範圍為5莫耳%至70莫耳%、5莫耳%至65莫耳%、10莫耳%至70莫耳%、10莫耳%至65莫耳%、10莫耳%至60莫耳%、20莫耳%至65莫耳%、20莫耳%至55莫耳%、30莫耳%至65莫耳%、30莫耳%至60莫耳%、30莫耳%至55莫耳%、40莫耳%至65莫耳%、40莫耳%至60莫耳%、40莫耳%至55莫耳%、或40莫耳%至50莫耳%。在以上範圍內,可以控制共聚物 (A) 的反應性並且增加其溶解度,以便顯著增強光敏樹脂組成物的可塗覆性。
共聚物 (A) 可以藉由以下方式來製備:將提供各個結構單元的化合物中的每種混配,並向其中添加分子量控制劑、聚合引發劑、溶劑等,然後向其中裝入氮氣並緩慢攪拌混合物以進行聚合。
分子量控制劑可以是硫醇化合物,如丁基硫醇、辛基硫醇、月桂基硫醇等,或α-甲基苯乙烯二聚體,但它不特別限於此。聚合引發劑可以是偶氮化合物,如2,2'-偶氮雙異丁腈、2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)和2,2'-偶氮雙(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈);或過氧化苯甲醯;過氧化月桂醯;過氧化新戊酸三級丁酯;或1,1-雙(三級丁基過氧基)環己烷,但它不限於此。聚合引發劑可以單獨使用或以其兩種或更多種的組合使用。此外,溶劑可以是在丙烯酸共聚物的製備中通常使用的任何溶劑。它可以較佳的是3-甲氧基丙酸甲酯或丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)。
可以藉由在聚合反應期間保持反應時間更長同時維持反應條件更溫和來減少未反應單體的殘留含量。反應條件和反應時間不受特別限制。例如,可以將反應溫度調節至低於常規溫度的溫度,例如,從室溫至60°C或從室溫至65°C。然後,維持反應時間直到進行充分反應。
共聚物 (A) 的重量平均分子量可以是4,000至20,000,具體地,5,000至15,000。在以上分子量範圍內,圖案輪廓可以是更有利的。
基於光敏樹脂組成物的固體重量(不包含餘量的溶劑),共聚物 (A) 的含量可以是10重量%至80重量%,具體地,10重量%至60重量%、10重量%至50重量%、20重量%至50重量%、10重量%至30重量%、或30重量%至60重量%。在以上含量範圍內,在顯影時的圖案輪廓可以是有利的,並且可以增強如膜保留率和耐化學性的此類特性。
(B) 可光聚合化合物
用於本發明之可光聚合化合物(單體)係在光聚合引發劑作用下可聚合的化合物。具體地,該可光聚合化合物可以是具有雙鍵的單官能或多官能化合物。具體地,它可以是具有至少一個乙烯性不飽和雙鍵的單官能或多官能酯化合物。從耐化學性的觀點來看,它可以是具有至少兩個官能基的多官能化合物。
可聚合化合物可以是選自由以下項組成之群組中的至少一種:乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯和琥珀酸的單酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯和琥珀酸的單酯、己內酯改性的二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三丙烯酸酯-二異氰酸六亞甲基酯(新戊四醇三丙烯酸酯和二異氰酸六亞甲基酯的反應產物)、三新戊四醇七(甲基)丙烯酸酯、三新戊四醇八(甲基)丙烯酸酯、雙酚A環氧丙烯酸酯、和乙二醇單甲醚丙烯酸酯,但它不限於此。
此外,該化合物可以包括藉由以下方式獲得的多官能尿烷丙烯酸酯化合物:使具有直鏈伸烷基和具有兩個或更多個異氰酸酯基的脂環族結構的化合物與分子中具有一個或多個羥基和三個、四個、或五個丙烯醯氧基和/或甲基丙烯醯氧基的化合物反應。
可商購的可光聚合化合物的實例可以包括單官能(甲基)丙烯酸酯,如由東亞合成株式會社(Toagosei Co., Ltd.)製造的Aronix M-101、M-111和M-114,由日本化藥株式會社(Nippon Kayaku Co., Ltd.)製造的KAYARAD T4-110S和T4-120S,以及由大阪由岐化藥工業株式會社(Osaka Yuki Kagaku Kogyo Co., Ltd.)製造的V-158和V-2311;雙官能(甲基)丙烯酸酯,如由東亞合成株式會社製造的Aronix M-210、M-240和M-6200,和由日本化藥株式會社製造的KAYARAD HDDA、HX-220和R-604,以及由大阪由岐化藥工業株式會社製造的V-260、V-312和V-335 HP;以及三官能和更高官能的(甲基)丙烯酸酯,如由東亞合成株式會社製造的Aronix M-309、M-400、M-403、M-405、M-450、M-7100、M-8030、M-8060和TO-1382,由日本化藥株式會社製造的KAYARAD TMPTA、DPHA、DPHA-40H、DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60和DPC1-120,以及由大阪由岐化藥工業株式會社製造的V-295、V-300、V-360、V-GPT、V-3PA、V-400和V-802。
基於光敏樹脂組成物的固體重量(不包含餘量的溶劑),可光聚合化合物 (B) 的含量可以是10重量%至80重量%,具體地,20重量%至80重量%、30重量%至70重量%、10重量%至60重量%、或10重量%至50重量%。在以上含量範圍內,顯影時的圖案輪廓係有利的,圖案的尺寸係可容易調節的,並且可以提高如膜保留率的特性。
(C) 光聚合引發劑
光聚合引發劑用於引發可以藉由可見光、紫外輻射、深紫外線輻射等固化的單體的聚合。
該光聚合引發劑可以選自由以下項組成之群組:基於苯乙酮的化合物、基於聯咪唑的化合物、基於三𠯤的化合物、基於鎓鹽的化合物、基於苯偶姻的化合物、基於二苯甲酮的化合物、基於多核醌的化合物、基於硫𠮿口星酮的化合物、基於重氮的化合物、基於醯亞胺磺酸酯的化合物、基於肟的化合物、基於咔唑的化合物、基於硼酸鋶的化合物、基於酮的化合物、及其混合物。具體地,該光聚合引發劑可以是選自由以下項組成之群組中的至少一種:基於肟的化合物、基於三𠯤的化合物、或基於酮的化合物。更特別地,光聚合引發劑可以是基於肟的化合物和基於三𠯤的化合物的組合,或基於肟的化合物、基於三𠯤的化合物和基於酮的化合物的組合。
光聚合引發劑的特別實例可以包括2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2'-偶氮雙(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、過氧化苯甲醯、過氧化月桂醯、過氧新戊酸三級丁酯、1,1-雙(三級丁基過氧基)環己烷、對二甲基胺基苯乙酮、2-苄基-2-(二甲基胺基)-1-[4-(4-𠰌啉基)苯基]-1-丁酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙-1-酮、苄基二甲基縮酮、二苯甲酮、苯偶姻丙基醚、二乙基硫𠮿口星酮、2,4-雙(三氯甲基)-6-對甲氧基苯基-s-三𠯤、2-三氯甲基-5-苯乙烯基-1,3,4-㗁二唑、9-苯基吖啶、3-甲基-5-胺基-((s-三𠯤-2-基)胺基)-3-苯基香豆素、2-(鄰氯苯基)-4,5-二苯基咪唑基二聚體、1-苯基-1,2-丙二酮-2-(鄰乙氧基羰基)肟、1-[4-(苯基硫基)苯基]-辛烷-1,2-二酮-2-(鄰苯甲醯肟)、鄰苯甲醯基-4'-(苯巰基)苯甲醯基-己基酮肟、2,4,6-三甲基苯基羰基-二苯基膦醯基氧化物、六氟磷酸-三烷基苯基鋶鹽、2-巰基苯并咪唑、2,2'-苯并噻唑基二硫化物、(E)-2-(4-苯乙烯基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三𠯤、2-二甲基胺基-2-(4-甲基苄基)-1-(4-𠰌啉-4-基苯基)-丁烷-1-酮、及其混合物,但不限於此。
作為參考,可商購的基於肟的光聚合引發劑的實例包括SPI-03(三養公司(Samyang))、OXE-01(巴斯夫公司(BASF))、OXE-02(巴斯夫公司)、OXE-03(巴斯夫公司)、N-1919(日本旭電化工公司(ADEKA))、NCI-930(日本旭電化工公司)和NCI-831(日本旭電化工公司)。此外,可商購的基於三𠯤的光聚合引發劑的實例包括三𠯤-Y(強力公司(Tronly))和三𠯤-Y(醫藥合成公司(Pharmasynthese))。
光聚合引發劑可以以基於100重量份的共聚物 (A)(基於固體含量)10至30重量份、10至25重量份、10至20重量份、或10至18重量份的量使用。
基於光敏樹脂組成物的固體重量(不包含餘量的溶劑),光聚合引發劑 (C) 的含量可以是0.1至5重量%,具體地,0.1至3重量%。在以上含量範圍內,可以實現高的敏感性和優異的顯影性以及塗層膜特徵。
(D) 固化劑
根據本發明之光敏樹脂組成物包含固化劑 (D)。
在實施方式中,固化劑 (D) 包含酸二酐,具體地,由下式1表示的化合物。
[式1]
在式1中,X係具有4至8個碳原子的取代或未取代的芳族或脂族環。
如式1所示,X係兩側連接有酸酐環的四價環基團。X可以是,例如,單個環或在其主鏈中不含雜原子的碳環。X可以具體地是苯環、環丁烷環、環戊烷環、環己烷環、環庚烷環或環辛烷環。
X可以具有一個或多個另外的取代基或沒有單獨的取代基。例如,X可以是未取代的或被選自由鹵素、羥基、具有1至6個碳原子的烷基和具有1至6個碳原子的烷氧基組成之群組中的一個或多個取代的環。
具有式1的化合物可以藉由UV照射或熱反應來提高光固化轉化率,並且其可以藉由經由熱反應降低反應能量來提高環氧轉化率。具體地,在具有式1的化合物與環氧樹脂之間的反應中,環氧環在活性供氫基團如羥基的存在下開環,並且在進行交聯反應的同時發生酯化。該反應增加了分子量,這可能增加機械特性,從而產生優異的耐化學性和耐水性。
由於本發明之光敏樹脂組成物包含具有式1的化合物,因此其具有增強的交聯能力,使得其可以在低溫下或在短時間內固化,並且可以形成精細圖案。因此,它可用於光敏材料。
作為具體實例,由式1表示的化合物可以包括選自由以下項組成之群組中的至少一種:均苯四甲酸二酐、1,2,3,4-環丁烷四羧酸二酐、1,2,3,4-環戊烷四羧酸二酐、和1,2,3,4-環己烷四羧酸二酐。即,由式1表示的化合物可以包含選自由式1-a至1-d組成之群組中的一種或多種。
[式1-a]
[式1-b]
[式1-c]
[式1-d]
。
基於本發明之光敏樹脂組成物的固體重量,由式1表示的化合物(一種或多種具有式1-a至1-d的化合物)的含量可以是1重量%或更多、2重量%或更多、3重量%或更多、或5重量%或更多,並且可以是40重量%或更少、30重量%或更少、20重量%或更少、或10重量%或更少。作為實例,基於光敏樹脂組成物的固體重量,由式1表示的化合物的含量可以是1重量%至30重量%,更具體地,1重量%至10重量%。在以上含量範圍內,在顯影時的圖案輪廓可以是有利的,並且可以進一步增強如在低溫下固化時的膜硬度和耐化學性的此類特性。
在另一個實施方式中,固化劑 (D) 可以進一步包含硫醇化合物。
硫醇化合物可以藉由UV照射或熱反應來提高光固化轉化率,並且其可以藉由經由熱反應降低反應能量來提高環氧轉化率。硫醇化合物防止自由基被氧消滅。它還藉由經由與可光聚合化合物 (B) 的交聯作用提高交聯度來使結構更緻密,從而即使在低溫下也提高固化度。
硫醇化合物可以是脂族硫醇化合物或芳族硫醇化合物,並且可以是在分子中具有兩個或更多個巰基的化合物。
脂族硫醇化合物的實例可以包括甲烷二硫醇、1,2-乙烷二硫醇、1,2-丙烷二硫醇、1,3-丙烷二硫醇、1,4-丁烷二硫醇、1,5-戊烷二硫醇、1,6-己烷二硫醇、1,2-環己烷二硫醇、3,4-二甲氧基丁烷-1,2-二硫醇、2-甲基環己烷-2,3-二硫醇、1,2-二巰基丙基甲基醚、2,3-二巰基丙基甲基醚、雙(2-巰基乙基)醚、四(巰基甲基)甲烷、雙(巰基甲基)硫化物、雙(巰基甲基)二硫化物、雙(巰基乙基)硫化物、雙(巰基乙基)二硫化物、雙(巰基甲硫基)甲烷、雙(2-巰基乙硫基)甲烷、1,2-雙(2-巰基甲硫基)乙烷、1,2-雙(2-巰基乙硫基)乙烷、1,3-雙(巰基甲硫基)丙烷、1,3-雙(2-巰基乙硫基)丙烷、1,2,3-三(巰基甲硫基)丙烷、1,2,3-三(2-巰基乙硫基)丙烷、1,2,3-三(3-巰基丙硫基)丙烷、4-巰基甲基-1,8-二巰基-3,6-二硫雜辛烷、5,7-二巰基甲基-1,11-二巰基-3,6,9-三硫雜十一烷、4,7-二巰基甲基-1,11-二巰基-3,6,9-三硫雜十一烷、4,8-二巰基甲基-1,11-二巰基-3,6,9-三硫雜十一烷、1,1,3,3-四(巰基甲硫基)丙烷、4,6-雙(巰基甲硫基)-1,3-二噻𠮿、2-(2,2-雙(巰基甲硫基)乙基)-1,3-二硫雜乙烷、四(巰基甲硫基甲基)甲烷、四(2-巰基乙硫基甲基)甲烷、雙(2,3-二巰基丙基)硫化物、2,5-雙巰基甲基-1,4-二噻𠮿、乙二醇雙(2-巰基乙酸酯)、乙二醇雙(3-巰基丙酸酯)、二乙二醇雙(2-巰基乙酸酯)、二乙二醇雙(3-巰基丙酸酯)、2,3-二巰基-1-丙醇(3-巰基丙酸酯)、3-巰基-1,2-丙烷二醇雙(2-巰基乙酸酯)、3-巰基-1,2-丙烷二醇二(3-巰基丙酸酯)、三羥甲基丙烷三(2-巰基乙酸酯)、二(三羥甲基丙烷)四(2-巰基乙酸酯)、三羥甲基丙烷三(3-巰基丙酸酯)、二(三羥甲基丙烷)四(3-巰基丙酸酯)、三羥甲基乙烷三(2-巰基乙酸酯)、三羥甲基乙烷三(3-巰基丙酸酯)、新戊四醇四(2-巰基乙酸酯)、二新戊四醇六(2-巰基乙酸酯)、新戊四醇二(3-巰基丙酸酯)、新戊四醇三(3-巰基丙酸酯)、新戊四醇四(3-巰基丙酸酯)、新戊四醇四(3-巰基丁酸鹽)、新戊四醇四(3-巰基丁酸酯)、新戊四醇三(3-巰基丁酸酯)、新戊四醇三(3-巰基丁酸鹽)、二新戊四醇四(3-巰基丙酸酯)、二新戊四醇六(3-巰基丙酸酯)、甘油二(2-巰基乙酸酯)、甘油三(2-巰基乙酸酯)、甘油二(3-巰基丙酸酯)、甘油三(3-巰基丙酸酯)、1,4-環己烷二醇雙(2-巰基乙酸酯)、1,4-環己烷二醇雙(3-巰基丙酸酯)、羥基甲基硫化物雙(2-巰基乙酸酯)、羥基甲基硫化物雙(3-巰基丙酸酯)、羥基乙基硫化物(2-巰基乙酸酯)、羥基乙基硫化物(3-巰基丙酸酯)、羥基甲基二硫化物(2-巰基乙酸酯)、羥基甲基二硫化物(3-巰基丙酸酯)、硫代乙醇酸雙(2-巰基乙基酯)、硫代二丙酸雙(2-巰基乙基酯)、N,N',N"-三(β-巰基丙基羰基氧基乙基)異氰尿酸酯、甘脲衍生物和二巰基丁二酸。
芳族硫醇化合物的實例可以包括1,2-二巰基苯、1,3-二巰基苯、1,4-二巰基苯、1,2-雙(巰基甲基)苯、1,4-雙(巰基甲基)苯、1,2-雙(巰基乙基)苯、1,4-雙(巰基乙基)苯、1,2,3-三巰基苯、1,2,4-三巰基苯、1,3,5-三巰基苯、1,2,3-三(巰基甲基)苯、1,2,4-三(巰基甲基)苯、1,3,5-三(巰基甲基)苯、1,2,3-三(巰基乙基)苯、1,3,5-三(巰基乙基)苯、1,2,4-三(巰基乙基)苯、2,5-甲苯二硫醇、3,4-甲苯二醇、1,4-萘二醇、1,5-萘二醇、2,6-萘二醇、2,7-萘二醇、1,2,3,4-四巰基苯、1,2,3,5-四巰基苯、1,2,4,5-四巰基苯、1,2,3,4-四(巰基甲基)苯、1,2,3,5-四(巰基甲基)苯、1,2,4,5-四(巰基甲基)苯、1,2,3,4-四(巰基乙基)苯、1,2,3,5-四(巰基乙基)苯、1,2,4,5-四(巰基乙基)苯、2,2'-二巰基聯苯、和4,4'-二巰基聯苯。
作為具體實例,硫醇化合物可以包括選自由以下項組成之群組中的至少一種:新戊四醇四(3-巰基丁酸鹽)、新戊四醇四(3-巰基丁酸酯)、新戊四醇三(3-巰基丁酸酯)、新戊四醇三(3-巰基丁酸鹽)、三羥甲基丙烷三(3-巰基丙酸酯)、新戊四醇四(3-巰基丙酸酯)、二新戊四醇四(3-巰基丙酸酯)、二新戊四醇六丙烯酸酯連接的超支化丙烯酸酯、甘脲衍生物、和二巰基丁二酸。
基於本發明之光敏樹脂組成物的固體重量,硫醇化合物的含量可以是3重量%或更多、5重量%或更多、10重量%或更多、或15重量%或更多,並且可以是50重量%或更少、40重量%或更少、30重量%或更少、或20重量%或更少。作為實例,基於光敏樹脂組成物的固體重量,硫醇化合物的含量可以是10重量%至40重量%,更具體地,10重量%至30重量%。在以上含量範圍內,在顯影時的圖案輪廓可以是有利的,並且可以進一步增強如在低溫下固化時的耐化學性的此類特性。
作為具體實例,可低溫固化光敏樹脂組成物可以包含基於其固體重量1重量%至30重量%的由式1表示的化合物和5重量%至40重量%的硫醇化合物。
此外,由式1表示的化合物與硫醇化合物的重量比可以是2 : 1至1 : 20、2 : 1至1 : 10、1 : 1至1 : 10,1 : 1至1 : 4、或1 : 4至1 : 10。
作為實例,由式1表示的化合物與硫醇化合物的重量比可以是1 : 1至1 : 10。
作為實例,在式1中,X係具有6個碳原子的芳族環,並且由式1表示的化合物與硫醇化合物的重量比可以是1 : 1至1 : 4。作為另一個實例,在式1中,X係具有3至8個碳原子的脂族環,並且由式1表示的化合物與硫醇化合物的重量比可以是1 : 4至1 : 10。
基於光敏樹脂組成物的固體重量(不包含餘量的溶劑),固化劑 (D) 的含量可以是1重量%或更多、2重量%或更多、3重量%或更多、5重量%或更多、或10重量%或更多,並且可以是50重量%或更少、40重量%或更少、30重量%或更少、或20重量%或更少。作為實例,固化劑 (D) 以基於可低溫固化光敏樹脂組成物的固體重量2重量%至70重量%的量使用。
(E) 溶劑
本發明之光敏樹脂組成物可以較佳的是製備為液體組成物(其中以上組分與溶劑混合)。本領域中已知的任何溶劑(與光敏樹脂組成物中的組分相容但不反應)可以用作製備光敏樹脂組成物的溶劑。
溶劑的實例可以包括烷基吡咯啶酮,如1-甲基-2-吡咯啶酮;內酯,如γ丁內酯;乙二醇醚,如乙二醇單乙醚;乙二醇烷基醚乙酸酯,如乙基溶纖劑乙酸酯;酯,如2-羥基丙酸乙酯;乙二醇,如二乙二醇單甲醚和三乙二醇二甲醚;丙二醇烷基醚乙酸酯,如丙二醇單甲醚乙酸酯和丙二醇丙醚乙酸酯;和乙酸烷氧基烷基酯,如乙酸3-甲氧基丁酯。溶劑可以單獨使用或以兩種或更多種的組合使用。
作為具體實例,溶劑可以包括選自由丙二醇烷基醚乙酸酯、烷基吡咯啶酮、內酯、乙二醇醚、乙二醇烷基醚乙酸酯、酯、乙二醇和烷氧基烷基乙酸酯組成之群組中的至少一種。
作為更具體的實例,溶劑可以包括選自由烷基吡咯啶酮、內酯、乙二醇醚和乙二醇組成之群組中的至少一種。
較佳的是,本發明之組成物可以包含兩種或更多種溶劑,以更好地溶解用作固化劑的酸二酐。
作為實例,溶劑包括第一溶劑和第二溶劑,第一溶劑包含丙二醇烷基醚乙酸酯,第二溶劑包含烷基吡咯啶酮,並且第一溶劑與第二溶劑的重量比可以是50 : 50至95 : 5。
從最終製備的光敏樹脂組成物的可塗覆性和穩定性的觀點看,溶劑 (E) 的量不是特別受限制,但是其可以是基於光敏樹脂組成物的總重量10至90重量%、或20至85重量%。
在第一溶劑與第二溶劑的重量比以及溶劑的含量的範圍內,有利於樹脂組成物的塗覆,並且可以更加抑制在加工過程中可能發生的延遲裕度。
(F) 環氧化合物
本發明之光敏樹脂組成物可以包含環氧化合物。
環氧化合物可以增加樹脂的內部密度,以便從而改善由其形成的固化膜的耐化學性。
環氧化合物可以是含有至少一個環氧基的不飽和單體,或者係其均-低聚物或雜-低聚物。含有至少一個環氧基的不飽和單體的實例可以包括(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、4-羥丁基丙烯酸酯縮水甘油醚、(甲基)丙烯酸3,4-環氧丁酯、(甲基)丙烯酸4,5-環氧戊酯、(甲基)丙烯酸5,6-環氧己酯、(甲基)丙烯酸6,7-環氧庚酯、(甲基)丙烯酸2,3-環氧環戊酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧環己酯、丙烯酸α-乙基縮水甘油酯、丙烯酸α-正丙基縮水甘油酯、丙烯酸α-正丁基縮水甘油酯、N-(4-(2,3-環氧丙氧基)-3,5-二甲基苄基)丙烯醯胺、N-(4-(2,3-環氧丙氧基)-3,5-二甲基苯基丙基)丙烯醯胺、烯丙基縮水甘油醚、2-甲基烯丙基縮水甘油醚、鄰乙烯基苄基縮水甘油醚、間乙烯基苄基縮水甘油醚、對乙烯基苄基縮水甘油醚、或其混合物。較佳的是,可以使用(甲基)丙烯酸縮水甘油酯。
環氧化合物可以藉由本領域已知的任何方法合成。
環氧化合物可以進一步包含另外的結構單元。具體實例可以包括任何衍生自以下項的結構單元:苯乙烯;具有烷基取代基的苯乙烯,如甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、三乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯和辛基苯乙烯;具有鹵素的苯乙烯,如氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯和碘苯乙烯;具有烷氧基取代基的苯乙烯,如甲氧基苯乙烯、乙氧基苯乙烯和丙氧基苯乙烯;對羥基-α-甲基苯乙烯,乙醯基苯乙烯;具有芳族環的乙烯性不飽和化合物,如二乙烯基苯、乙烯基苯酚、鄰乙烯基苄基甲醚、間乙烯基苄基甲醚和對乙烯基苄基甲醚;不飽和羧酸酯,如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-氯丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸甘油酯、α-羥甲基丙烯酸甲酯、α-羥甲基丙烯酸乙酯、α-羥甲基丙烯酸丙酯、α-羥甲基丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三丙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇)甲醚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙酯、苯氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、對壬基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、對壬基苯氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸1,1,1,3,3,3-六氟異丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯、(甲基)丙烯酸三溴苯酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸二環戊氧基乙酯和(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯;具有N-乙烯基的三級胺,如N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基咔唑和N-乙烯基𠰌啉;不飽和醚,如乙烯基甲醚和乙烯基乙醚;不飽和醯亞胺,如N-苯基馬來醯亞胺、N-(4-氯苯基)馬來醯亞胺、N-(4-羥基苯基)馬來醯亞胺和N-環己基馬來醯亞胺。衍生自以上示例的化合物的結構單元可單獨或以其兩種或更多種的組合包含在環氧化合物中。
環氧化合物的重量平均分子量可以在100至30,000、較佳的是1,000至15,000的範圍內。如果環氧化合物的重量平均分子量為100或更大,則薄膜的硬度可以更優異。如果環氧化合物的重量平均分子量為30,000或更小,則薄膜的厚度變得均勻,具有更小的步差(step difference),這更適合於平面化。重量平均分子量藉由凝膠滲透層析法(GPC,洗脫液:四氫呋喃)使用聚苯乙烯標準品來測量。
基於光敏樹脂組成物的固體重量(不包含餘量的溶劑),環氧化合物的含量可以是10重量%至60重量%,具體地,10重量%至50重量%。在以上含量範圍內,在顯影時的圖案輪廓可以是有利的,並且可以進一步增強如膜硬度和耐化學性的此類特性。
(G) 衍生自環氧樹脂的化合物
作為另一個實例,本發明之光敏樹脂組成物可以包含衍生自環氧樹脂的化合物。環氧樹脂可以具有基於軸節、基於𠮿口星、基於酚醛清漆、基於聯苯或基於雙酚的骨架。
具體地,環氧樹脂可以是具有如由下式2表示的軸節骨架結構的化合物。
[式2]
在上式中,X各自獨立地是
、
、
、或
;L
1各自獨立地是C
1-10伸烷基、C
3-20伸環烷基、或C
1-10伸烷基氧基;R
1至R
7各自獨立地是H、C
1-10烷基、C
1-10烷氧基、C
2-10烯基、或C
6-14芳基;R
8係H、甲基、乙基、CH
3CHCl-、CH
3CHOH-、CH
2=CHCH
2-、或苯基;並且n係0至10的整數。
C
1-10伸烷基的具體實例可以包括伸甲基、伸乙基、伸丙基、伸異丙基、伸丁基、伸異丁基、伸二級丁基、伸三級丁基、伸戊基、伸異戊基、伸三級戊基、伸己基、伸庚基、伸辛基、伸異辛基、伸三級辛基、2-乙基伸己基、伸壬基、伸異壬基、伸癸基、伸異癸基等。C
3-20伸環烷基的具體實例可以包括伸環丙基、伸環丁基、伸環戊基、伸環己基、伸環庚基、伸十氫萘基(decalinylene)、伸金剛烷基等。C
1-10伸烷基氧基的具體實例可以包括伸甲基氧基、伸乙基氧基、伸丙基氧基、伸丁基氧基、伸二級丁基氧基、伸三級丁基氧基、伸戊基氧基、伸己基氧基、伸庚基氧基、伸辛基氧基、2-乙基-伸己基氧基等。C
1-10烷基的具體實例可以包括甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、二級丁基、三級丁基、戊基、異戊基、三級戊基、己基、庚基、辛基、異辛基、三級辛基、2-乙基己基、壬基、異壬基、癸基、異癸基等。C
1-10烷氧基的具體實例可以包括甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、二級丁氧基、三級丁氧基、戊氧基、己氧基、庚氧基、辛氧基、2-乙基己氧基等。C
2-10烯基的具體實例可以包括乙烯基、烯丙基、丁烯基、丙烯基等。C
6-14芳基的具體實例可以包括苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基等。
作為具體實例,具有基於軸節的骨架結構的環氧樹脂可以藉由以下合成路線來製備:
[反應方案1]
在以上反應方案中,Hal係鹵素;並且X、R
1、R
2和L
1與以上式2中所定義的相同。
衍生自具有軸節骨架結構的環氧樹脂的化合物可以藉由以下方式獲得:使具有軸節骨架結構的環氧樹脂與不飽和一元酸反應以產生環氧加合物並且然後使如此獲得的環氧加合物與多元酸酐反應,或使如此獲得的產物與單官能或多官能環氧化合物進一步反應。可以使用本領域已知的任何不飽和一元酸,如丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、肉桂酸、山梨酸等。可以使用本領域已知的任何多元酸酐,如琥珀酸酐、馬來酸酐、偏苯三甲酸酐、均苯四甲酸酐、1,2,4,5-環己烷四甲酸二酐、六氫鄰苯二甲酸酐等。可以使用本領域已知的任何單官能或多官能環氧化合物,如甲基丙烯酸縮水甘油酯、甲基縮水甘油醚、乙基縮水甘油醚、丙基縮水甘油醚、異丙基縮水甘油醚、丁基縮水甘油醚、異丁基縮水甘油醚、雙酚Z縮水甘油醚等。
此外,可以藉由以下合成路線來製備衍生自具有軸節骨架結構的環氧樹脂的化合物:
[反應方案2]
在以上反應方案中,R
9各自獨立地是H、C
1-10烷基、C
1-10烷氧基、C
2-10烯基、或C
6-14芳基;R
10和R
11各自獨立地是飽和或不飽和的C6脂族或芳族環;n係1至10的整數;並且X、R
1、R
2和L
1與式2中所定義的相同。
如上所述之衍生自環氧樹脂的化合物可以改善固化材料對基板的黏附性、耐鹼性、加工性、強度等。另外,一旦在顯影時去除未固化的部分,就可以在圖案中形成高解析度的圖像。
當藉由凝膠滲透層析法(參照聚苯乙烯)確定時,衍生自環氧樹脂的化合物的重量平均分子量(Mw)可以在1,000至30,000或3,000至7,000的範圍內。在以上分子量範圍內,可能有利於在固化膜的製備期間減少孔的解析度變化並減輕底切。
衍生自環氧樹脂的化合物的重量平均分子量(Mw)可以是3,000至10,000或3,000至7,000。在以上分子量範圍內,圖案輪廓可以是更有利的。
基於光敏樹脂組成物的固體重量(不包含餘量的溶劑),衍生自環氧樹脂的化合物的含量可以是5重量%至50重量%,具體地,5重量%至30重量%。在以上含量範圍內,在顯影時的圖案輪廓可以是有利的,並且可以進一步增強如膜保留率、膜硬度和耐化學性的此類特性。
(H) 光酸產生劑
本發明之可低溫固化光敏樹脂組成物可以進一步包含光酸產生劑(PAG)。合適的光酸產生劑可以產生酸,這導致在曝光後烘烤(PEB)期間存在於光致抗蝕劑組成物的聚合物上的酸不穩定基團裂解。合適的光酸產生劑化合物係離子或非離子的。合適的光酸產生劑可以包括,例如鎓鹽,如三苯基鋶三氟甲烷磺酸鹽、(對三級丁氧基苯基)二苯基鋶三氟甲烷磺酸鹽、三(對三級丁氧基苯基)鋶三氟甲烷磺酸鹽、三苯基鋶對甲苯磺酸鹽;二三級丁基苯基碘鎓全氟丁烷磺酸鹽和二三級丁基苯基碘鎓樟腦磺酸鹽。
非離子磺酸鹽和磺醯基化合物,如硝基苄基衍生物,如2-硝基苄基-對甲苯磺酸鹽、2,6-二硝基苄基-對甲苯磺酸鹽、和2,4-二硝基苄基-對甲苯磺酸鹽;磺酸酯,如1,2,3-三(甲磺醯基氧基)苯、1,2,3-三(三氟甲磺醯基氧基)苯、和1,2,3-三(對甲苯磺醯基氧基)苯;重氮甲烷衍生物,如雙(苯磺醯基)重氮甲烷和雙(對甲苯磺醯基)重氮甲烷;乙二肟衍生物,如雙-O-(對甲苯磺醯基)-α-二甲基乙二肟和雙-O-(正丁磺醯基)-α-二甲基乙二肟;N-羥基醯亞胺化合物的磺酸酯衍生物,如N-羥基萘二甲醯亞胺三氟甲磺酸鹽、N-羥基琥珀醯亞胺甲烷磺酸酯和N-羥基琥珀醯亞胺三氟甲烷磺酸酯;以及含鹵素的三𠯤化合物,如2-(4-甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三𠯤和2-(4-甲氧基萘基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三𠯤已知起光酸產生劑的作用。
作為具體實例,光酸產生劑可以包括選自由以下項組成之群組中的至少一種:N-羥基萘二甲醯亞胺三氟甲磺酸鹽、三苯基鋶三氟甲烷磺酸鹽、(對三級丁氧基苯基)二苯基鋶三氟甲烷磺酸鹽、三(對三級丁氧基苯基)鋶三氟甲烷磺酸鹽、三苯基鋶對甲苯磺酸鹽、二三級丁基苯基碘鎓全氟丁烷磺酸鹽、二三級丁基苯基碘鎓樟腦磺酸鹽、2-(4-甲氧基萘基)-4,6-雙(三氯甲基))-1,3,5-三𠯤、2-硝基苄基-對甲苯磺酸鹽、2,6-二硝基苄基-對甲苯磺酸鹽、2,4-二硝基苄基-對甲苯磺酸鹽、1,2,3-三(甲磺醯基氧基)苯、1,2,3-三(三氟甲磺醯基氧基)苯、1,2,3-三(對甲苯磺醯基氧基)苯、雙(苯磺醯基)重氮甲烷、雙(對甲苯磺醯基)重氮甲烷、雙-O-(對甲苯磺醯基)-α-二甲基乙二肟、雙-O-(正丁磺醯基)-α-二甲基乙二肟、N-羥基琥珀醯亞胺甲烷磺酸酯、N-羥基琥珀醯亞胺三氟甲烷磺酸酯、和2-(4-甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三𠯤。
基於光敏樹脂組成物的固體重量(不包含餘量的溶劑),光酸產生劑 (H) 的含量可以是1至20重量%,具體地,1至10重量%。在以上含量範圍內,可以藉由深度固化獲得具有更好耐化學性的塗覆膜。
(I) 表面活性劑
本發明之光敏樹脂組成物可以進一步包含表面活性劑以便增強可塗覆性並且以防止產生缺陷。
雖然表面活性劑的種類不受特別限制,但是可以使用例如基於氟的表面活性劑或基於矽酮的表面活性劑。
可商購的基於矽酮的表面活性劑可以包括來自道康寧東麗有機矽公司(Dow Corning Toray Silicon)的DC3PA、DC7PA、SH11PA、SH21PA和SH8400,來自通用電氣東芝有機矽公司(GE Toshiba Silicone)的TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4460和TSF-4452,來自畢克公司(BYK)的BYK-333、BYK-307、BYK-3560、BYK UV-3535、BYK-361N、BYK-354和BYK-399等。它們可以單獨使用或以其兩種或更多種的組合使用。
可商購的基於氟的表面活性劑可以包括來自大日本油墨化學工業株式會社(Dainippon Ink Kagaku Kogyo Co.)(DIC)的Megaface F-470、F-471、F-475、F-482、F-489和F-563以及來自千葉公司(Chiba)的F-563。
從組成物的可塗覆性的觀點看,在該等表面活性劑中較佳的可以是來自畢克公司的BYK-333和BYK-307以及來自千葉公司的F-563。
基於光敏樹脂組成物的固體重量(不包含餘量的溶劑),表面活性劑的含量可以是0.01至5重量%,具體地,0.1至3重量%。在以上含量範圍內,組成物的塗覆可以更順利地進行。
(J) 黏附助劑
此外,本發明之光敏樹脂組成物可以進一步包含黏附助劑以增強與基板的黏附性。
黏附助劑可以具有選自以下項組成之群組中的至少一個反應性基團:羧基、(甲基)丙烯醯基、異氰酸酯基、胺基、巰基、乙烯基和環氧基。
黏附助劑的種類不受特別限制。其可以是選自由以下項組成之群組的至少一種:三甲氧基矽基苯甲酸、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、γ-異氰酸基丙基三乙氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、N-苯基胺基丙基三甲氧基矽烷、β-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、N-苯基-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-[3-(三甲氧基矽基)丙基]苯胺、及其混合物。
基於光敏樹脂組成物的固體重量(不包含餘量的溶劑),黏附助劑的含量可以是0.01至5重量%,具體地,0.1至3重量%。在以上含量範圍內,與下部基板的黏附性可以是更有利的。
光敏樹脂組成物可以進一步包含熱酸產生劑、交聯劑、抗氧化劑、表面流平劑、氧清除劑、UV阻斷劑、光穩定劑等作為其他添加劑。
例如,熱酸發生劑係指在特定溫度下產生酸的化合物。這樣的化合物由產酸部分和封閉酸特性的封閉酸(blocked acid)構成。當熱酸產生劑達到特定溫度時,產酸部分可以與封閉酸分離以產生酸。熱酸產生劑可以包含胺、季銨、金屬、共價鍵等作為封閉酸,並且可以具體地包括胺或季銨。此外,產酸部分可以包括磺酸鹽、磷酸鹽、羧酸鹽、銻酸鹽等。
基於光敏樹脂組成物的固體重量(不包含餘量的溶劑),其他添加劑的含量可以是0.01至5重量%,具體地,0.1至3重量%。
組成物的特徵和用途
本發明提供一種由可低溫固化光敏樹脂組成物形成的固化膜(絕緣膜)。
本發明之光敏樹脂組成物可以在低溫下固化。例如,光敏樹脂組成物的固化溫度可以是120°C或更低、100°C或更低,90°C或更低、或80°C或更低。作為實例,可低溫固化光敏樹脂組成物的固化溫度可以是50°C至100°C。作為另一個實例,可低溫固化光敏樹脂組成物的固化溫度可以是50°C至80°C。作為另一個實例,可低溫固化光敏樹脂組成物的固化溫度可以是60°C至80°C。
固化膜可以藉由這樣的方法來製備,在該方法中,藉由旋塗法將光敏樹脂組成物塗覆到例如矽基板上,對其進行預烘烤以去除溶劑。然後藉由具有希望圖案的光掩膜將其曝光並且使用顯影劑(例如氫氧化四甲銨(TMAH)溶液)使其經受顯影,以在塗層上形成圖案。之後,如果需要,對圖案化塗覆層進行後烘烤,以製備希望的固化膜。
具體地,在光敏樹脂組成物的預烘烤期間的加熱溫度可以是50°C至100°C,具體地,60°C至80°C。此外,在光敏樹脂組成物的預烘烤期間的加熱時間可以是30秒至300秒,具體地,60秒至180秒,更具體地,90秒至150秒。
此外,在光敏樹脂組成物的後烘烤期間的加熱溫度可以是60°C至120°C,具體地,70°C至120°C,更具體地,80°C至90°C。此外,在光敏樹脂組成物的後烘烤期間的加熱時間可以是10分鐘至120分鐘,具體地,20分鐘至90分鐘,更具體地,40分鐘至60分鐘。
可以在200 nm至450 nm的波段中基於365 nm的波長以10 mJ/cm
2至100 mJ/cm
2的曝光劑量進行曝光。根據本發明之方法,從該方法的觀點來看,有可能容易地形成所希望的圖案。
將光敏樹脂組成物塗覆到基板上可以藉由旋塗法、狹縫塗覆法、輥塗法、網版印刷法、敷抹器法等以所希望的厚度(例如1 µm至10 µm,具體地,1 µm至5 µm)進行。此外,可以使用低壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、金屬鹵化物燈、氬氣雷射器等作為用於曝光(照射)的光源。如果需要,還可以使用X射線、電子射線等。
本發明之光敏樹脂組成物即使在低溫下也能形成精細圖案,並且由其製備的固化膜具有優異的硬度、透明度和耐化學性。
基於2.0 µm厚度的固化膜對於波長為400 nm的光可以具有90%或更高、具體地95%或更高的透射率。
此外,當在500 g的負載下以70 mm/s的速度測量時,基於2.0 µm厚度的固化膜可以具有HB或更高的鉛筆硬度。
此外,基於2.0 µm的初始厚度的固化膜在50°C的汽提劑中浸泡2分鐘後,相對於初始厚度可以具有10%或更小的厚度變化。汽提劑可以是含有2-(2-胺基乙氧基)乙醇、N-甲基甲醯胺、N-甲基吡咯啶酮和二(丙二醇)甲醚作為主要組分的混合溶液。
因此,當使固化膜經受熱處理或者將其浸入溶劑、酸、鹼等中或使其與溶劑、酸、鹼等接觸時,該固化膜具有優異的透光率,無表面粗糙度。因此,固化膜可以有效地用作用於液晶顯示器或有機EL顯示器的TFT基板的平坦化膜;有機EL顯示器的分區;半導體裝置的層間固化膜;光波導的芯或包覆材料,等等。
在下文中,將參照以下實例更詳細地描述本發明。然而,提供該等實例以說明本發明,並且本發明之範圍不僅限於此。
在以下製備實例中,重量平均分子量藉由凝膠滲透層析法(GPC,洗脫液:四氫呋喃)參照聚(甲基丙烯酸甲酯)標準品來確定。
製備實例:共聚物 (A-1)
向配備有回流冷凝器和攪拌器的500-ml圓底燒瓶中裝入由50莫耳%的苯乙烯、22莫耳%的甲基丙烯酸、10莫耳%的甲基丙烯酸縮水甘油酯和18莫耳%的甲基丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯組成的單體混合物。將300 g作為溶劑的丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)和2 g作為自由基聚合引發劑的2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)添加到100 g單體混合物中。將由此獲得的混合物的溫度升高到60°C,並在攪拌下進行聚合5小時,以獲得固體濃度為30重量%的樹脂。如此製備的共聚物具有87 mg KOH/g的酸值和6,600的重量平均分子量(Mw)。
所製備的共聚物的單體組成和分子量總結在下表中。
[表1]
製備實例:環氧化合物 (F-1)
製備實例 | 構成共聚物的單體(莫耳%) | Mw | |||
(a1) MAA | (a2) GMA | (a2) cyclomer M100 | (a3) STY | ||
A-1 | 22 | 10 | 18 | 50 | 6,600 |
* STY:苯乙烯,MAA:甲基丙烯酸,GMA:甲基丙烯酸縮水甘油酯, cyclomer M100:甲基丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯 |
向配備有回流冷凝器和攪拌器的1,000-ml圓底燒瓶中裝入130 g甲基丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯、3.5 g 2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)和450 g丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)作為溶劑,用氮氣吹掃該燒瓶30分鐘。然後將燒瓶浸入油浴中,以在攪拌下進行聚合5小時,同時將反應溫度保持在70°C。結果,獲得了具有7,000的重量平均分子量(Mw)和22重量%的固體濃度的環氧化合物 (F-1)。
實例 1 :光敏樹脂組成物的製備
為了製備光敏樹脂組成物,將組分以以下量(固體含量)混合。將45重量份的共聚物樹脂 (A-1)、67重量份的可光聚合化合物 (B-1)、37重量份的可光聚合化合物 (B-2)、1重量份的光聚合引發劑 (C-1)、8重量份的固化劑 (D-1)、27重量份的固化劑 (D-6)、90重量份的溶劑 (E-1)、10重量份的溶劑 (E-2)、33重量份的環氧化合物 (F-1)、22重量份的衍生自環氧樹脂的化合物 (G-1)、5重量份的光酸產生劑 (H-1)、1重量份的表面活性劑 (I-1)、和1重量份的黏附助劑 (J-1) 用振盪器混合2小時以製備液體光敏樹脂組成物。
實例 2 至 6 以及對比實例 1 至 4 :光敏樹脂組成物的製備
藉由重複實例1的程序製備每種液體光敏樹脂組成物,除了組分和含量如以下表3和表4所示改變之外。
各組分的詳細資訊匯總在下表2中。
[表2]
[表3]
[表4]
固化膜的製備實例
(A) 共聚物 | A-1 | STY/MMA/GMA/cyclomer M-100(Mw 6,600) |
(B) 可光聚合化合物 | B-1 | 新戊四醇三丙烯酸酯(KAYARAD PET30) |
B-2 | 二新戊四醇六丙烯酸酯(KAYARAD DPHA LT) | |
(C) 光聚合引發劑 | C-1 | 基於肟的光聚合引發劑(SPI03,三養公司) |
(D) 固化劑 | D-1 | 均苯四酸二酐,1H,3H-苯并[1,2-c:4,5-c′]二呋喃-1,3,5,7-四酮 |
D-2 | 1,2,3,4-環丁烷四羧酸二酐 | |
D-3 | 1,2,3,4-環戊烷四羧酸二酐 | |
D-4 | 1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐 | |
D-5 | 鄰苯二甲酸酐 | |
D-6 | 新戊四醇四(3-巰基丁酸鹽) | |
(E) 溶劑 | E-1 | 丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA,肯創力公司(Chemtronics)) |
E-2 | 1-甲基-2-吡咯啶酮(NMP,奧德里奇公司(Aldrich)) | |
(F) 環氧化合物 | F-1 | Cyclomer M-100聚合物(Mw 7,700) |
(G) 衍生自環氧樹脂的化合物 | G-1 | 基於軸節的黏合劑(CAP07S,美源公司(Miwon),Mw 5,000) |
(H) 光酸產生劑 | H-1 | N-羥基萘二甲醯亞胺三氟甲磺酸鹽(NIT PAG) |
(I) 表面活性劑 | I-1 | BYK-307(畢克公司) |
(J) 黏附助劑 | J-1 | N-[3-(三甲氧基矽基)丙基]苯胺 (XS1075,GSCA001,JNC株式會社(JNC)) |
光敏樹脂組成物的組分 (重量份)(不包含溶劑的固體含量) | ||||||||||||
共聚物 | 可光聚合 化合物 | 可光聚合 引發劑 | 固化劑 | 溶劑 | ||||||||
A-1 | B-1 | B-2 | C-1 | D-1 | D-2 | D-3 | D-4 | D-5 | D-6 | E-1 | E-2 | |
實例1 | 45 | 67 | 37 | 1 | 8 | - | - | - | - | 27 | 90 | 10 |
實例2 | 45 | 67 | 37 | 1 | 17 | - | - | - | - | 28 | 90 | 10 |
實例3 | 45 | 67 | 37 | 1 | 4 | - | - | - | - | 26 | 90 | 10 |
實例4 | 45 | 67 | 37 | 1 | - | 4 | - | - | - | 26 | 90 | 10 |
實例5 | 45 | 67 | 37 | 1 | - | - | 4 | - | - | 26 | 90 | 10 |
實例6 | 45 | 67 | 37 | 1 | - | - | - | 4 | - | 26 | 90 | 10 |
對比實例1 | 45 | 67 | 37 | 1 | - | - | - | - | - | 26 | 90 | 10 |
對比實例2 | 45 | 67 | 37 | 1 | 1 | - | - | - | - | 26 | 90 | 10 |
對比實例3 | 45 | 67 | 37 | 1 | 7 | - | - | - | - | - | 90 | 10 |
對比實例4 | 45 | 67 | 37 | 1 | - | - | - | - | 4 | 26 | 90 | 10 |
光敏樹脂組成物的組分 (重量份)(不包含溶劑的固體含量) | |||||
環氧化合物 | 衍生自環氧樹脂的化合物 | 光酸產生劑 | 表面活性劑 | 黏附助劑 | |
F-1 | G-1 | H-1 | I-1 | J-1 | |
實例1 | 33 | 22 | 5 | 1 | 1 |
實例2 | 33 | 22 | 6 | 1 | 1 |
實例3 | 33 | 22 | 5 | 1 | 1 |
實例4 | 33 | 22 | 5 | 1 | 1 |
實例5 | 33 | 22 | 5 | 1 | 1 |
實例6 | 33 | 22 | 5 | 1 | 1 |
對比實例1 | 33 | 22 | 5 | - | - |
對比實例2 | 33 | 22 | 5 | - | - |
對比實例3 | 33 | 22 | 5 | - | - |
對比實例4 | 33 | 22 | 5 | - | - |
使用旋轉塗覆機將在實例和對比實例中製備的光敏樹脂組成物各自塗覆到玻璃基板上,並在60°C至80°C下預烘烤150秒以形成具有1.0至5.0 µm厚度的塗覆的膜。將掩膜置於塗覆的膜上使得塗覆的膜的5 cm乘5 cm的面積被100%曝光。此後,使用發射具有200 nm至450 nm波長的光的對準器(型號名稱:MA6),基於365 nm的波長以50 mJ/cm
2的曝光劑量使膜曝光一定時間段。將曝光的膜用2.38重量%的氫氧化四甲銨的水性顯影劑在23°C下顯影直至將未曝光的部分完全洗掉。此後,用相同的對準器將其以300 mJ/cm
2進一步曝光一定時間段,並將所形成的圖案在85°C的烘箱中後烘烤60分鐘,以獲得固化膜。
測試實例
對以上製備的光敏樹脂組成物或由其製備的固化膜各自進行如下測試。
(1) 顯影時間的測量
根據如上所述之製備固化膜的方法製備在後烘烤後具有6.0至18(±0.5)µm的總厚度的固化膜。在製備固化膜的方法中,測量用0.04重量%的氫氧化鉀水溶液完全洗掉未曝光的部分(直到完全看見在基板下方的顯影裝置的台O型環部分)所需的時間。如果顯影時間係100秒或更短,則將其評估為優異的(○)。如果它超過100秒,則將其評估為差的(×)。
(2) CD 的測量
根據如上所述之製備固化膜的方法製備在後烘烤後具有2.0(±0.5)µm的總厚度的固化膜。使用光學顯微鏡(STM6)和X-SEM(S4300)測量固化膜的接觸孔CD(臨界尺寸)(以微米計)。如果所測量的CD超過5 µm,則將其評估為優異的(○)。如果它係5 µm或更小,則將其評估為差的(×)。
(3) 膜厚度的測量
根據如上所述之製備固化膜的方法製備在後烘烤後具有2.0(±0.5)µm的總厚度的固化膜。固化膜的厚度藉由α-臺階設備(SCAN PLUS)的探針尖端的豎直運動作為高度偏差來測量。測量預烘烤後所形成的膜的初始厚度,並測量曝光、顯影和後烘烤後的膜的最終厚度。
(4) 鉛筆硬度的測量
根據如上所述之製備固化膜的方法製備在後烘烤後具有2.0(±0.5)µm的總厚度的固化膜。固化膜的表面硬度係藉由將三菱鉛筆置於鉛筆硬度測試儀中與基板接觸,並且然後在500 g的重量下在增加的負載下以70 mm/s的速度刮擦基板的表面來測量的。該測量係基於當在對應於鉛筆硬度的水平上沒有觀察到如劃痕或磨損的形狀時來評估的。在這種情況下,如果所獲得的膜的鉛筆硬度為HB或更高,則將其評估為優異的(○)。如果它係B或更低,則將其評估為差的(×)。
(5) 耐化學性的測量
根據如上所述之製備固化膜的方法製備在後烘烤後具有2.0(±0.5)µm的總厚度的固化膜。將由此製備的固化膜浸入50°C的汽提劑(LCS1000,易恩孚公司(ENF))2分鐘,用超純水洗滌60秒,並乾燥。汽提劑係含有2-(2-胺基乙氧基)乙醇、N-甲基甲醯胺、N-甲基吡咯啶酮和二(丙二醇)甲醚作為主要組分的混合溶液。在這種情況下,用接觸膜厚度計(α-臺階)測量膜的厚度。如果基於後烘烤後膜的厚度,變化為0%至10%,則將其評估為優異(○)。如果它超過10%,則將其評估為差的(×)。
(6) 透射率的評估
根據如上所述之製備固化膜的方法製備在後烘烤後具有2.0(±0.5)µm的總厚度的固化膜。使用分光光度計(Cary 100)測量由此製備的固化膜在400 nm處的透射率。在這種情況下,如果膜的透射率為95%或更大,則將其評估為優異的(○)。如果它係95%或更小,則將其評估為差的(×)。
測試結果在下表中示出。
[表5]
顯影時間(秒) | CD(µm) | 鉛筆硬度 | 耐化學性(%) | 透射率(%) | ||||||
實例1 | ○ | 70 | ○ | 15.8 | ○ | 2H | ○ | 7 | ○ | 98.1 |
實例2 | ○ | 70 | ○ | 9.7 | ○ | 2H | ○ | 6 | ○ | 98.1 |
實例3 | ○ | 70 | ○ | 16.8 | ○ | 1H | ○ | 7 | ○ | 98.6 |
實例4 | ○ | 70 | ○ | 12.0 | ○ | 1H | ○ | 9 | ○ | 98.5 |
實例5 | ○ | 70 | ○ | 6.7 | ○ | 1H | ○ | 8 | ○ | 98.6 |
實例6 | ○ | 70 | ○ | 12.1 | ○ | 1H | ○ | 7 | ○ | 98.2 |
對比實例1 | ○ | 70 | ○ | 15.0 | × | 5B | × | 20 | ○ | 99.0 |
對比實例2 | ○ | 70 | ○ | 13.5 | × | 1B | × | 23 | ○ | 98.1 |
對比實例3 | ○ | 70 | ○ | 21.1 | × | 5B | × | 22 | ○ | 98.1 |
對比實例4 | ○ | 70 | ○ | 14.5 | × | 1B | × | 13 | ○ | 98.3 |
從上表可以看出,實例1至6的光敏樹脂組成物即使在低溫下也能夠形成精細圖案,並且由其製備的固化膜在硬度、透明度和耐化學性方面係優異的。相比之下,由對比實例1至4的光敏樹脂組成物在低溫固化條件下獲得的固化膜的硬度和耐化學性差。
無
無
Claims (17)
- 一種可低溫固化光敏樹脂組成物,其包含: (A) 共聚物; (B) 可光聚合化合物; (C) 光聚合引發劑; (D) 固化劑;和 (E) 溶劑, 其中該固化劑包含由下式1表示的化合物: [式1] 在式1中,X係具有4至8個碳原子的取代或未取代的芳族或脂族環。
- 如請求項1所述之可低溫固化光敏樹脂組成物,其中,該由式1表示的化合物包含選自由式1-a至1-d組成之群組中的一種或多種: [式1-a] [式1-b] [式1-c] [式1-d] 。
- 如請求項1所述之可低溫固化光敏樹脂組成物,其中,該固化劑 (D) 以基於該可低溫固化光敏樹脂組成物的固體重量2重量%至70重量%的量使用。
- 如請求項1所述之可低溫固化光敏樹脂組成物,其中,該固化劑 (D) 進一步包含硫醇化合物。
- 如請求項4所述之可低溫固化光敏樹脂組成物,其中,該硫醇化合物包括選自由以下項組成之群組中的至少一種:新戊四醇四(3-巰基丁酸鹽)、新戊四醇四(3-巰基丁酸酯)、新戊四醇三(3-巰基丁酸酯)、新戊四醇三(3-巰基丁酸鹽)、三羥甲基丙烷三(3-巰基丙酸酯)、新戊四醇四(3-巰基丙酸酯)、二新戊四醇四(3-巰基丙酸酯)、二新戊四醇六丙烯酸酯連接的超支化丙烯酸酯、甘脲衍生物、和二巰基丁二酸。
- 如請求項4所述之可低溫固化光敏樹脂組成物,基於該可低溫固化光敏樹脂組成物的固體重量,該可低溫固化光敏樹脂組成物包含1重量%至30重量%的該由式1表示的化合物;和5重量%至40重量%的該硫醇化合物。
- 如請求項6所述之可低溫固化光敏樹脂組成物,其中,該由式1表示的化合物與該硫醇化合物的重量比係1 : 1至1 : 10。
- 如請求項6所述之可低溫固化光敏樹脂組成物,其中,在式1中,X係具有6個碳原子的芳族環,並且該由式1表示的化合物與該硫醇化合物的重量比係1 : 1至1 : 4。
- 如請求項6所述之可低溫固化光敏樹脂組成物,其中,在式1中,X係具有3至8個碳原子的脂族環,並且該由式1表示的化合物與該硫醇化合物的重量比係1 : 4至1 : 10。
- 如請求項1所述之可低溫固化光敏樹脂組成物,其中,該共聚物 (A) 包含選自由以下項組成之群組的至少一種:(a1) 衍生自含有酸基團的不飽和單體的結構單元;(a2) 衍生自含有環氧基的不飽和單體的結構單元;和 (a3) 不同於 (a1) 和 (a2) 的衍生自不飽和單體的結構單元。
- 如請求項10所述之可低溫固化光敏樹脂組成物,其中,該衍生自含有環氧基的不飽和化合物的結構單元 (a2) 包括脂環族環氧基、非脂環族環氧基或兩者。
- 如請求項1所述之可低溫固化光敏樹脂組成物,其中,該溶劑包括選自由烷基吡咯啶酮、內酯、乙二醇醚和乙二醇組成之群組中的至少一種。
- 如請求項12所述之可低溫固化光敏樹脂組成物,其中,該溶劑包括第一溶劑和第二溶劑,該第一溶劑包含丙二醇烷基醚乙酸酯,該第二溶劑包含烷基吡咯啶酮,並且該第一溶劑與該第二溶劑的重量比係50 : 50至95 : 5。
- 如請求項1所述之可低溫固化光敏樹脂組成物,其中,該可低溫固化光敏樹脂組成物進一步包含選自由以下項組成之群組中的至少一種添加劑:環氧化合物、衍生自環氧樹脂的化合物、交聯劑、熱酸產生劑、抗氧化劑、表面活性劑、表面流平劑、光酸產生劑、氧清除劑、UV阻斷劑、黏附助劑和光穩定劑。
- 如請求項14所述之可低溫固化光敏樹脂組成物,其中,該可低溫固化光敏樹脂組成物進一步包含光酸產生劑(PAG),並且 該光酸產生劑包括選自由以下項組成之群組中的至少一種:N-羥基萘二甲醯亞胺三氟甲磺酸鹽、三苯基鋶三氟甲烷磺酸鹽、(對三級丁氧基苯基)二苯基鋶三氟甲烷磺酸鹽、三(對三級丁氧基苯基)鋶三氟甲烷磺酸鹽、三苯基鋶對甲苯磺酸鹽、二三級丁基苯基碘鎓全氟丁烷磺酸鹽、二三級丁基苯基碘鎓樟腦磺酸鹽、2-(4-甲氧基萘基)-4,6-雙(三氯甲基))-1,3,5-三𠯤、2-硝基苄基-對甲苯磺酸鹽、2,6-二硝基苄基-對甲苯磺酸鹽、2,4-二硝基苄基-對甲苯磺酸鹽、1,2,3-三(甲磺醯基氧基)苯、1,2,3-三(三氟甲磺醯基氧基)苯、1,2,3-三(對甲苯磺醯基氧基)苯、雙(苯磺醯基)重氮甲烷、雙(對甲苯磺醯基)重氮甲烷、雙-O-(對甲苯磺醯基)-α-二甲基乙二肟、雙-O-(正丁磺醯基)-α-二甲基乙二肟、N-羥基琥珀醯亞胺甲烷磺酸酯、N-羥基琥珀醯亞胺三氟甲烷磺酸酯、和2-(4-甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三𠯤。
- 如請求項1所述之可低溫固化光敏樹脂組成物,其中,該可低溫固化光敏樹脂組成物的固化溫度係50°C至100°C。
- 一種固化膜,其係由如請求項1所述之可低溫固化光敏樹脂組成物製備的。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020220183068A KR20240100918A (ko) | 2022-12-23 | 2022-12-23 | 감광성 수지 조성물 및 이의 경화막 |
KR10-2022-0183068 | 2022-12-23 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202426560A true TW202426560A (zh) | 2024-07-01 |
Family
ID=91555436
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW112144924A TW202426560A (zh) | 2022-12-23 | 2023-11-21 | 光敏樹脂組成物及其固化膜 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2024091503A (zh) |
KR (1) | KR20240100918A (zh) |
CN (1) | CN118244576A (zh) |
TW (1) | TW202426560A (zh) |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101302508B1 (ko) | 2006-02-03 | 2013-09-02 | 주식회사 동진쎄미켐 | 네가티브 감광성 수지 조성물, 그 경화물을 갖는 액정표시장치, 그를 사용한 액정표시장치의 패턴형성방법 |
-
2022
- 2022-12-23 KR KR1020220183068A patent/KR20240100918A/ko unknown
-
2023
- 2023-11-21 CN CN202311554555.6A patent/CN118244576A/zh active Pending
- 2023-11-21 TW TW112144924A patent/TW202426560A/zh unknown
- 2023-12-11 JP JP2023208236A patent/JP2024091503A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2024091503A (ja) | 2024-07-04 |
CN118244576A (zh) | 2024-06-25 |
KR20240100918A (ko) | 2024-07-02 |
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