TW202413285A - 建築物內之包含使用自來水的設備之單元、用來在該單元的表面抑制耐氯甲基桿菌增生或將已經在該單元的表面增生的耐氯甲基桿菌殺菌的方法 - Google Patents
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- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 243
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 title claims abstract description 243
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 243
- 239000008399 tap water Substances 0.000 title claims abstract description 196
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 title claims abstract description 196
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 title claims description 93
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 title claims description 6
- 230000035755 proliferation Effects 0.000 title description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 415
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 234
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 claims abstract description 118
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 101
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 claims abstract description 93
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 6
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 85
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 75
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 30
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 26
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 25
- 230000006870 function Effects 0.000 description 24
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 22
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 21
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 21
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 20
- 230000001580 bacterial effect Effects 0.000 description 20
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 20
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 18
- 210000000170 cell membrane Anatomy 0.000 description 15
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 14
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 12
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 11
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 10
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 8
- 241000193830 Bacillus <bacterium> Species 0.000 description 7
- 241000589325 Methylobacillus Species 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 241000589323 Methylobacterium Species 0.000 description 6
- 210000002421 cell wall Anatomy 0.000 description 6
- 230000000254 damaging effect Effects 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 5
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 5
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 5
- 239000002504 physiological saline solution Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 241000589308 Methylobacterium extorquens Species 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 230000000813 microbial effect Effects 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 4
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 4
- 241000304886 Bacilli Species 0.000 description 3
- 108091003079 Bovine Serum Albumin Proteins 0.000 description 3
- 206010036790 Productive cough Diseases 0.000 description 3
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical group CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 3
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940098773 bovine serum albumin Drugs 0.000 description 3
- 238000004332 deodorization Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- -1 hypochlorous acid ions Chemical class 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 description 3
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 210000003802 sputum Anatomy 0.000 description 3
- 208000024794 sputum Diseases 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- NGCRLFIYVFOUMZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloroquinoxaline-6-carbonyl chloride Chemical compound N1=C(Cl)C(Cl)=NC2=CC(C(=O)Cl)=CC=C21 NGCRLFIYVFOUMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical group CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical compound O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000282412 Homo Species 0.000 description 2
- 101001121408 Homo sapiens L-amino-acid oxidase Proteins 0.000 description 2
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 2
- 102100026388 L-amino-acid oxidase Human genes 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 2
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003708 ampul Substances 0.000 description 2
- 229940045985 antineoplastic platinum compound Drugs 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000010411 cooking Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000001877 deodorizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 235000020188 drinking water Nutrition 0.000 description 2
- 239000003651 drinking water Substances 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 210000003608 fece Anatomy 0.000 description 2
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 2
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000968 intestinal effect Effects 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002504 iridium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012758 nuclear staining Methods 0.000 description 2
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 description 2
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 2
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 150000003284 rhodium compounds Chemical class 0.000 description 2
- SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K rhodium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Rh+3] SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 2
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 230000004083 survival effect Effects 0.000 description 2
- 150000003482 tantalum compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001817 Agar Polymers 0.000 description 1
- 244000177578 Bacterium linens Species 0.000 description 1
- 235000012539 Bacterium linens Nutrition 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000827703 Homo sapiens Polyphosphoinositide phosphatase Proteins 0.000 description 1
- UPYKUZBSLRQECL-UKMVMLAPSA-N Lycopene Natural products CC(=C/C=C/C=C(C)/C=C/C=C(C)/C=C/C1C(=C)CCCC1(C)C)C=CC=C(/C)C=CC2C(=C)CCCC2(C)C UPYKUZBSLRQECL-UKMVMLAPSA-N 0.000 description 1
- 241001542929 Methylobacterium fujisawaense Species 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZORFPDSXLZWJF-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethyl-1,4-phenylenediamine Chemical compound CN(C)C1=CC=C(N)C=C1 BZORFPDSXLZWJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001888 Peptone Substances 0.000 description 1
- 108010080698 Peptones Proteins 0.000 description 1
- 102100023591 Polyphosphoinositide phosphatase Human genes 0.000 description 1
- 240000004808 Saccharomyces cerevisiae Species 0.000 description 1
- 101100012902 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) FIG2 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910017850 Sb—Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 108010046334 Urease Proteins 0.000 description 1
- 208000009911 Urinary Calculi Diseases 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000008272 agar Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000843 anti-fungal effect Effects 0.000 description 1
- 229940121375 antifungal agent Drugs 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001420 bacteriolytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000003287 bathing Methods 0.000 description 1
- 230000003796 beauty Effects 0.000 description 1
- SQVRNKJHWKZAKO-UHFFFAOYSA-N beta-N-Acetyl-D-neuraminic acid Natural products CC(=O)NC1C(O)CC(O)(C(O)=O)OC1C(O)C(O)CO SQVRNKJHWKZAKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001746 carotenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000005473 carotenes Nutrition 0.000 description 1
- 235000021466 carotenoid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001747 carotenoids Chemical class 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004737 colorimetric analysis Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000003013 cytotoxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000135 cytotoxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000007123 defense Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 238000000684 flow cytometry Methods 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- 239000010794 food waste Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000009036 growth inhibition Effects 0.000 description 1
- 208000015181 infectious disease Diseases 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- GSNZLGXNWYUHMI-UHFFFAOYSA-N iridium(3+);trinitrate Chemical compound [Ir+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O GSNZLGXNWYUHMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N iridium(IV) oxide Inorganic materials O=[Ir]=O HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 230000002147 killing effect Effects 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000013372 meat Nutrition 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000039446 nucleic acids Human genes 0.000 description 1
- 108020004707 nucleic acids Proteins 0.000 description 1
- 150000007523 nucleic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000015097 nutrients Nutrition 0.000 description 1
- 230000004792 oxidative damage Effects 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 235000019319 peptone Nutrition 0.000 description 1
- 239000002304 perfume Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- XJMOSONTPMZWPB-UHFFFAOYSA-M propidium iodide Chemical compound [I-].[I-].C12=CC(N)=CC=C2C2=CC=C(N)C=C2[N+](CCC[N+](C)(CC)CC)=C1C1=CC=CC=C1 XJMOSONTPMZWPB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 238000011002 quantification Methods 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000008261 resistance mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXNYVYJABGOSBX-UHFFFAOYSA-N rhodium(3+);trinitrate Chemical compound [Rh+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O VXNYVYJABGOSBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000002374 sebum Anatomy 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- SQVRNKJHWKZAKO-OQPLDHBCSA-N sialic acid Chemical compound CC(=O)N[C@@H]1[C@@H](O)C[C@@](O)(C(O)=O)OC1[C@H](O)[C@H](O)CO SQVRNKJHWKZAKO-OQPLDHBCSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000008234 soft water Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 239000012128 staining reagent Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000000346 sugar Nutrition 0.000 description 1
- 150000008163 sugars Chemical class 0.000 description 1
- 239000008400 supply water Substances 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I tantalum(v) chloride Chemical compound Cl[Ta](Cl)(Cl)(Cl)Cl OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003325 tomography Methods 0.000 description 1
- DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K trichloroiridium Chemical compound Cl[Ir](Cl)Cl DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 208000008281 urolithiasis Diseases 0.000 description 1
- 230000035899 viability Effects 0.000 description 1
- 238000012800 visualization Methods 0.000 description 1
- NCYCYZXNIZJOKI-UHFFFAOYSA-N vitamin A aldehyde Natural products O=CC=C(C)C=CC=C(C)C=CC1=C(C)CCCC1(C)C NCYCYZXNIZJOKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
[課題] 提供一種單元，該單元，係為建築物內之包含使用自來水的設備之單元，並且能夠對於耐氯甲基桿菌增生有效地作防止或者是能夠將已經增生的耐氯甲基桿菌有效地作殺菌。
[解決手段] 單元，係為在建築物內之包含使用自來水之設備之單元，該單元，係具備有對於前述使用自來水之設備而提供自來水之手段、和將自來水作電解並產生電解水之電解裝置、以及能夠使前述電解水與前述單元之表面作接觸之電解水吐出手段，前述電解水，係為下述A、B、C之其中一者：A：包含0.05ppm以上之臭氧和1.5ppm以上之游離氯；B：包含0.1ppm以上之臭氧和超過0.75ppm之游離氯；C：包含0.2ppm以上之臭氧和0.1ppm以上之游離氯。
Description
本發明，係有關於建築物內之包含使用自來水的設備之單元。詳細而言，係有關於藉由利用將自來水作電解所得到的電解水而成為能夠維持良好的衛生性之前述單元。又，本發明，係有關於用來在建築物內之包含使用自來水的設備之單元的表面抑制耐氯甲基桿菌增生或將已經在該單元的表面增生的耐氯甲基桿菌殺菌的方法。
對於清潔且舒適的生活環境有所要求之消費者係日益增加，而對於能夠將生活環境、特別是將建築物內之包含使用自來水之設備的空間之衛生性作維持的技術有所需求。例如，在像是廁所、浴室、廚房、洗臉台等之使用自來水的區域處，係容易繁殖細菌或黴菌。為了維持此種空間之衛生性，係進行有由人類所進行之使用有清潔劑等的定期性之清掃，但是，此係為耗費勞力時間之作業。又，清潔劑係會有在對於環境所造成之影響以及安全性之觀點上而發生問題的情況。
作為在降低上述一般之時間勞力或問題的同時亦將使用自來水之區域作殺菌的對策，係提案有對於將自來水作電解所得到的電解水作利用之技術。例如，在日本特開平10-306484號公報(專利文獻1)中，係揭示有「藉由在馬桶內流動將自來水作電解所得到的包含有游離氯(第0023段落)或臭氧(第0025段落)之水，來將脲酶產生菌作殺菌，以對於氨之產生乃至於尿石之附著作抑制」之內容。在專利文獻1中，由於係揭示有「在上述馬桶洗淨裝置中，雖係設置了產生含游離氯水之電解槽181，但是，係亦可將此(中間內容省略)替代為產生含臭氧水之裝置(第0402段落)」，並且，在其之實施例中，亦係對於包含有游離氯或臭氧之其中一者之電解水的殺菌力進行評價，因此，可以理解到，其係並未對於包含有游離氯以及臭氧之雙方的電解水有所考慮。
又，例如，在日本特開2008-168002號公報(專利文獻2)中，係揭示有「藉由將對於自來水進行電解所得到的含游離氯水(第0027段落)吐出至浴室之地面(沐浴空間)，來對於像是黏糊髒污或粉紅色髒污等之微生物污染作抑制」之內容。若依據專利文獻2，則係能夠理解到，係將對於沐浴空間作吐水之殺菌水(含游離氯水)與主要對於浴缸內作吐水之洗淨水(將臭氧氣體溶解於水中所得到的臭氧水)有所區分地作使用。
進而，在日本特開2008-073604號公報(專利文獻3)中，係揭示有使用有臭氧以及次氯酸之雙方的電解水之殺菌方法。若依據專利文獻3，則係具體性地記載有「藉由由包含有棒狀之陽極和以螺旋狀而捲繞在此陽極處之帶狀之隔膜以及被捲繞在此隔膜上之陰極所成之陽極-膜-陰極接合體所構成之電解單元，來將包含有食鹽之自來水作電解，並產生包含有3ppm之臭氧以及0.5ppm之次氯酸之電解水(實施例2)、包含有0.1ppm以下之臭氧以及10ppm之次氯酸之電解水(實施例3)」的內容。但是，在專利文獻3所記載之方法中，為了產生包含有臭氧以及次氯酸之雙方的電解水、特別是為了產生次氯酸，係需要適時在身為原料之自來水中添加食鹽(氯化合物)，而對於實施者之便利性有所損害。
另一方面，在文獻「潛伏於浴室中的粉紅色怪獸(著作：井原望)、生物工學會誌第94卷 第4號 2016年」(非專利文獻1)中，係報告有「在住宅內之用水處所產生的粉紅色之髒污，主要係為起因於被稱作紅色細菌之革蘭氏陰性之甲基桿菌屬細菌之增生所導致者」之內容。又，若依據非專利文獻1，則係提示有「也可以說是甲基桿菌之特徵的呈現粉紅色之類胡蘿蔔素，會發揮將當受到氯等之壓力時在菌體內所產生的活性氧消除之功能，可以推測到，起因於此，相較於其他之微生物，甲基桿菌係容易發揮抗氯性」之內容。又，係亦提示有「類胡蘿蔔素，係亦對於甲基桿菌之膜強度之提昇有所助益，可以推測到，起因於此，也會發揮抗氯性」之內容。
進而，在文獻「被從飲料用槽水而高頻率地分離之
Protomonas extorquens之耐氯機構(著作：古畑勝則)、防菌防黴學會、Vol. 19、No. 8、p. 395-399、1991年」(非專利文獻2)中，係提示有「使隸屬於甲基桿菌之
Protomonas extorquens與氯相接觸所得到的變異株，其之細胞膜、特別是外膜係肥厚化，並且表面構造亦會改變，而具備有使細胞膜成為堅固之系統」之內容。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開平10-306484號公報
[專利文獻2]日本特開2008-168002號公報
[專利文獻3]日本特開2008-073604號公報
[非專利文獻]
[非專利文獻1]潛伏於浴室中的粉紅色怪獸(著作：井原望)、生物工學會誌第94卷 第4號 2016年
[非專利文獻2]被從飲料用槽水而高頻率地分離之
Protomonas extorquens之耐氯機構(著作：古畑勝則)、防菌防黴學會、Vol. 19、No. 8、p. 395-399、1991年
[發明所欲解決之課題]
在利用將自來水作電解所得到的電解水來嘗試將使用自來水之環境中的粉紅色髒污去除之先前技術中，係有著就算是在適用了電解水之後粉紅色髒污也仍然殘存的情況。
本發明者們，此次，係發現到，起因於與在自來水中所包含之氯相接觸一事而獲得了耐氯之甲基桿菌(以下，係亦會有稱作「耐氯甲基桿菌」的情形)，乃是在包含使用自來水之設備的單元處所發生的粉紅色髒污之起源，並發現了能夠將耐氯甲基桿菌有效地作殺菌之新穎的構成。亦即是，係確認到，藉由使用臭氧以及游離氯之雙方，就算是各別之濃度為低，也能夠有效地使耐氯甲基桿菌滅絕。
具體而言，係確認到，藉由低濃度之臭氧，係能夠損傷或破壞耐氯甲基桿菌之細胞壁以及細胞膜(活體膜)，進而，若是成為了此種狀態之耐氯甲基桿菌，則便能夠藉由低濃度的游離氯來充分地使其死亡。又，係確認到，藉由以自來水之電解來得到包含有上述之濃度之臭氧以及游離氯之電解水，並使此電解水與包含使用自來水之設備的單元之表面作接觸，係能夠對於在該表面上而耐氯甲基桿菌增生的情形有效地作防止，又，係能夠將已經在該表面上而(一旦)增生的耐氯甲基桿菌有效地作殺菌。本發明，係為基於此種知識而完成者。
故而，本發明之目的，係在於提供一種單元，該單元，係為建築物內之包含使用自來水的設備之單元，並且能夠對於耐氯甲基桿菌增生有效地作防止或者是能夠將已經增生的耐氯甲基桿菌有效地作殺菌。
[用以解決問題的手段]
由本發明所致之單元，係為建築物內之包含使用自來水的設備之單元，
該單元，係具備有對於前述使用自來水之設備而提供自來水之手段、和將自來水作電解並產生電解水之電解裝置、以及能夠使前述電解水與該單元之表面作接觸之電解水吐出手段，
前述電解水，係為下述A、B、C之其中一者：
A：包含0.05ppm以上之臭氧和1.5ppm以上之游離氯；
B：包含0.1ppm以上之臭氧和超過0.75ppm之游離氯；
C：包含0.2ppm以上之臭氧和0.1ppm以上之游離氯。
[發明之效果]
若依據本發明，則係能夠藉由低濃度之臭氧以及低濃度之游離氯，來對於在包含使用自來水之設備的單元之表面上而耐氯甲基桿菌增生的情形有效地作防止，又，係能夠將已經在該表面上而增生的耐氯甲基桿菌有效地作殺菌。又，係能夠長期間地維持耐氯甲基桿菌之增生抑制效果以及殺菌效果。進而，在本發明中，由於所使用的臭氧濃度係為低，因此，係可得到「不會對於構成包含使用自來水之設備的單元之構件(例如樹脂材或橡膠材)之耐久性有所損害」、「不會對於電解裝置造成負擔」、「不會對於電極壽命有所損害」等之優點。
單元
由本發明所致之單元，係具備有使用自來水之設備、和對於該使用自來水之設備提供自來水之手段(以下，係亦單純稱作「提供自來水之手段」)。在本發明中，所謂「單元」，係指具備有「使用自來水之設備」以及「提供自來水之手段」之雙方者，或者是，係指具備有藉由「提供自來水之手段」自身所構成之設備者。
作為具備有「使用自來水之設備」以及「提供自來水之手段」之雙方之單元，具體而言，係可列舉出浴室(包含系統化浴室)、附蓮蓬頭之浴缸、沐浴間(shower booth)、廁所(包含公共廁所)、具備附有局部洗淨裝置之便座的一體型馬桶(於此，附有局部洗淨裝置之便座係相當於使用自來水之設備)、廚房、洗臉(化妝)台等。
作為具備有藉由「提供自來水之手段」自身所構成之設備之單元，具體而言，係可列舉出具備有局部洗淨噴嘴之便座(於此，局部洗淨噴嘴係身為使用自來水之設備，並且相當於提供自來水之手段)。在本發明中，所謂「藉由「提供自來水之手段」自身所構成之設備，係指該設備自身係身為提供自來水之手段同時亦身為使用自來水之設備者。在溫水洗淨便座一體型馬桶之例中，洗淨噴嘴係身為提供自來水之手段，同時亦為使用自來水之設備。而，具備有洗淨噴嘴之溫水洗淨便座一體型馬桶，係身為單元。
使用自來水之設備
在本發明中，所謂「使用自來水之設備」，係指在會使自來水及／或電解水被潑到其之部位處的狀況下所被使用之設備、或者是在會使自來水及／或電解水被潑到其之部位處的狀況下所被使用之附帶設備。
作為在會使自來水及／或電解水被潑到其之部位處的狀況下所被使用之設備，具體而言，係可列舉出馬桶本體、洗臉台本體、便座、便蓋、小便斗本體、浴缸、置物架、洗臉台、牆壁、地板、天花板、洗臉台鏡、浴室鏡、局部洗淨噴嘴、蓮蓬頭、水龍頭等。例如，當單元係身為廁所的情況時，使用自來水之設備，作為在會使自來水及／或電解水被潑到其之部位處的狀況下所被使用之設備，例如係除了馬桶本體、洗臉台本體、便座、便蓋、小便斗本體、局部洗淨噴嘴以外，亦包含有像是地板、牆壁、天花板等之構成廁所空間之構件。
又，作為在會使自來水及／或電解水被潑到其之部位處的狀況下所被使用之附帶設備，例如當單元係身為廚房的情況時，例如係包含有砧板等之調理器具、海綿等之洗淨用具等。又，當單元係身為洗臉台的情況時，係包含有在洗臉中所被使用的杯子和牙刷等。
在本發明中，除了自來水和電解水以外，係亦可流動像是軟水一般之被作了改質之水。
對於使用自來水之設備提供自來水之手段
在本發明中，所謂「對於使用自來水之設備提供自來水之手段」，係指提供自來水及／或電解水者。具體而言，係可列舉出對於蓮蓬頭、水龍頭、馬桶而提供自來水及／或電解水之配管、局部洗淨噴嘴、馬桶洗淨噴嘴等。例如，當單元係身為廁所的情況時，提供自來水之手段，係為對於馬桶而提供自來水及／或電解水之配管、局部洗淨噴嘴、馬桶洗淨噴嘴等，當單元係身為浴室的情況時，提供自來水之手段，例如係為水龍頭和蓮蓬頭，當單元係身為廚房、洗臉台的情況時，提供自來水之手段，例如係為水龍頭。
在本發明之其中一個態樣中，較理想，對於前述使用自來水之設備提供自來水之手段，係包含有經由後述之電解裝置來對於前述使用自來水之設備提供自來水之第1自來水提供手段、和並不經由該電解裝置地來對於前述使用自來水之設備提供自來水之第2自來水提供手段。
在本發明之另外一個態樣中，較理想，對於前述使用自來水之設備提供自來水之手段，係為經由電解裝置來對於前述使用自來水之設備提供自來水之第1自來水提供手段，當電解裝置為OFF時，自來水係被提供至前述使用自來水之設備處，當前述電解裝置為ON時，電解水係被提供至前述使用自來水之設備處。
又，由本發明所致之單元，係被配置在建築物內所構成。在本發明中，所謂建築物，係包含有人類用以居住的獨棟住家、大廈等之住宅，人類用以辦公之大樓、事務所、事業所等，人類所利用的商業設施、公共設施等之各種設施等，而包含有供以人類生活之用的社會一般概念上之所有的建築物。
由本發明所致之單元，係具備有將自來水作電解而產生電解水之電解裝置。又，由本發明所致之單元，係具備有能夠使藉由電解裝置所產生的電解水與單元之表面作接觸之電解水吐出手段。針對電解裝置以及電解水吐出手段，係於後再述。
在對於使用自來水之設備作了使用之後，(除了藉由被設置在單元內之排水手段而被排出至單元外的自來水以外之)自來水，係會(作為殘水而)附著於單元之表面等處，又，係會在單元之表面上流動，最終係附著於某個場所處，之後會乾燥。在附著於單元之表面上的自來水中，係包含有耐氯甲基桿菌，此耐氯甲基桿菌，係對於使用自來水之設備作了使用之後，係會以附著於該設備之表面或構成單元之構件、物品等之表面上的髒污(蛋白質、皮脂等之有機物)作為養分而增生。在使用自來水之設備以及包含該設備之單元的表面上所形成的耐氯甲基桿菌之菌叢的集合體，係會作為粉紅色髒污而被視覺辨認到。
由本發明所致之單元所具備的電解水吐出手段，係藉由使電解水與單元之表面作接觸，來將耐氯甲基桿菌作殺菌，而能夠將粉紅色髒污去除。
將自來水作電解所產生之電解水
藉由由本發明所致之單元所具備的電解裝置來將自來水作電解而產生之電解水，係包含有臭氧(O
3)以及游離氯之雙方。在本發明中，所謂游離氯，係指次氯酸(HClO)以及次氯酸離子(ClO
-)之組合(混合物)。在本發明之其中一個態樣中，電解水，係包含0.05ppm以上之臭氧和1.5ppm以上之游離氯。又，在本發明之另外一個態樣中，電解水，係包含0.1ppm以上之臭氧和超過0.75ppm之游離氯。又，在本發明之另外一個態樣中，電解水，係包含0.2ppm以上之臭氧和0.1ppm以上之游離氯。在上述之濃度範圍中，包含有臭氧以及游離氯之雙方的電解水，係如同在後述之[實施例]中所說明一般地，相較於單獨包含臭氧或游離氯之其中一者的電解水之針對耐氯甲基桿菌之殺菌效果，係能夠發揮協同性之殺菌效果。
在本發明中，在電解水中所包含之臭氧以及游離氯之濃度，係指當電解水從電解水吐出手段而被(以噴射、噴霧、灑水等之形態)吐出至單元之表面處時，在電解水中所包含之濃度。
將水中之臭氧濃度作定量之方法，係使用在JIS B 9946：2019中所制定的「以分光光度計來對於藉由與臭氧間之反應而被作了脫色的靛藍之濃度進行測定，並根據吸光度之減少來算出臭氧濃度」之靛藍法。
將游離氯濃度作定量之方法，係使用在JIS K 0400-33-10：1999中所制定的「使游離氯與DPD(N,N-二甲基-p-苯二胺)產生反應並呈色紅色」的DPD比色法。
在本發明中，所謂自來水，係指在淨水場處被作殺菌處理並被供給至住宅等之建築物處之自來水(上水)。在本發明中，較理想，係對於此自來水直接施加電解而產生電解水。若依據本發明，則例如，係並不需要在自來水中添加氯化合物、例如添加氯化鈉、次氯酸鈉、次氯酸水等，而能夠藉由對於電解條件作控制等來有效率地得到具有所期望之臭氧濃度以及游離氯濃度之電解水、亦即是有效率地得到以特定之低濃度來包含有臭氧以及游離氯之雙方的電解水。
由以低濃度而包含有臭氧以及游離氯之雙方的電解水所致之耐氯甲基桿菌之殺菌機制
在本發明中，針對「以低濃度而包含有臭氧以及游離氯之雙方的電解水能夠發揮將耐氯甲基桿菌作殺菌之協同效果」一事之機制，係可如同下述一般地來作推測。但是，以下所敘述之事項，係僅為假設，本發明係並不應被該事項作任何之限定性的解釋。
臭氧由於氧化力係為強，因此，就算是例如0.05ppm一般之低濃度，也能夠使耐氯甲基桿菌(以下，係亦會有單純稱作「菌體」的情形)之細胞壁以及肥厚化後的細胞膜(以下，係亦會有單純稱作「細胞膜」的情形)被損傷或者是破壞。另一方面，由於臭氧係身為不安定之分子，因此，其之氧化力係缺乏持續性。故而，若是僅單獨依靠低濃度之臭氧，則在將細胞壁以及細胞膜破壞之後，係難以持續性地發揮更進一步打破菌體所具有的相對於氧化損傷之防禦力並將菌體內部之活體物質(核酸、蛋白質等)作氧化分解的氧化力(細胞毒性)，對於要使菌體確實地死亡一事而言係並不充分。然而，在本發明中，低濃度之游離氯，係擔負有「將存在於藉由臭氧而被破壞了的細胞膜之內部之活體物質作氧化分解，而確實地使耐氯甲基桿菌死亡」之責任。將在本發明中之電解水的對於耐氯甲基桿菌之作用效果，於圖1中作示意性展示(圖1中，耐氯株係代表耐氯甲基桿菌，灰色區域係代表耐氯甲基桿菌之肥厚化後之細胞膜。另外，細胞壁係並未作圖示)。
若是僅單獨依靠低濃度之游離氯，如同於圖2中所示一般則係難以破壞耐氯甲基桿菌之細胞壁以及肥厚化後的細胞膜，但是，在本發明中，如同上述一般，係能夠讓低濃度的臭氧來擔負此責任。因此，游離氯，係能夠通過藉由臭氧而被作了破壞的細胞膜並浸透至菌體內部。進而，由於游離氯係能夠持續性地發揮氧化力，因此，在浸透至了菌體內部之後，係能夠將活體物質確實地作氧化分解。另外，圖2(A)，係對於「針對並未獲得耐氯之甲基桿菌之標準株，就算是單獨使用低濃度之游離氯，也能夠破壞細胞膜並進而將菌體內部之活體物質作氧化分解」一事有所展示。
如同上述一般，在本發明中之電解水，係能夠有效地活用臭氧以及游離氯之特性，同時，就算雙方均為低濃度，特別是就算是臭氧之濃度係為0.05ppm一般之低濃度，也能夠實現當僅依靠其中一者時就算是高濃度也難以實現的耐氯甲基桿菌之殺菌。
在電解水中所包含之臭氧以及游離氯之濃度的理想範圍
在本發明中，電解水，係為A、B、C之其中一者：
A：包含0.05ppm以上之臭氧和1.5ppm以上之游離氯；
B：包含0.1ppm以上之臭氧和超過0.75ppm之游離氯；
C：包含0.2ppm以上之臭氧和0.1ppm以上之游離氯。
在本發明中，電解水，當包含有0.05ppm以上之臭氧的情況時，較理想，游離氯之濃度係為1.6ppm以上，更理想，係為2.0ppm以上。
在本發明中，電解水，當包含有0.1ppm以上之臭氧的情況時，較理想，游離氯之濃度係為1.0ppm以上，更理想，係為1.5ppm以上。
在本發明中，電解水，當包含有0.2ppm以上之臭氧的情況時，較理想，游離氯之濃度係為0.2ppm以上，更理想，係為0.3ppm以上，又更理想，係為0.375ppm以上。
在本發明中，電解水，當包含有0.3ppm以上之臭氧的情況時，較理想，游離氯之濃度係為0.1ppm以上，更理想，係為0.2ppm以上，又更理想，係為0.3ppm以上，最理想，係為0.375ppm以上。
在本發明中，在電解水中所包含之臭氧之濃度，係為3ppm以下，較理想，係為未滿3ppm，更理想，係為2.9ppm以下。於此情況，係能夠有效地破壞耐氯甲基桿菌之細胞壁以及細胞膜，並且能夠使游離氯浸透至菌體內部，同時，係可得到「不會對於構成由本發明所致之單元的構件(例如樹脂材或橡膠材)之耐久性有所損害」、「不會對於電解裝置造成負擔」、「不會對於電極壽命有所損害」等之優點。
又，在本發明中，游離氯之濃度之上限，雖並未特別作限制，但是，例如係為5ppm以下，較理想，係為未滿5ppm，更理想，係為4.9ppm以下，又更理想，係為4ppm以下，再更理想，係為3ppm以下，再更理想，係為2ppm以下。若是為此種濃度，則對於電極所施加之電流值係並不高，而能夠抑制電極之劣化。藉由此，係不需要頻繁地進行電極之交換，實施者之便利性係提升。又，由於電極面積之增大係被作抑制，而成為能夠進行在流水狀態下之電解，因此，係能夠將電解裝置小型化，而適合於作為被設置在建築物內之使用自來水之空間中的電解裝置。
可能會存在於將電解水作吐水之表面或者是附帶設備處之有機物之濃度
在本發明之單元中，於將所產生了的電解水作吐水之表面或者是附帶設備處，係可能會與耐氯甲基桿菌一同地而存在有起因於各種之髒污所造成之有機物。在本發明中，在電解水中所包含之臭氧以及游離氯之濃度，係亦能夠考慮到此種有機物之存在地來作決定。以下，將可能會與耐氯甲基桿菌共存之有機物之濃度，區分成3個階段來進行說明。
＜當有機物係為低濃度(ng～μg／L量級)的情況＞
浴室之浴缸或清洗場、洗臉盆、廚房之水槽等之表面，若是藉由日常之清掃而被保持為清淨，則附著於表面上之髒污係為少，並且伴隨著使用所附著的髒污也會藉由水流而被沖洗掉，因此，可以推測到，存在於表面之有機物係為ng～μg／cm
2量級之微量。故而，若是假設在此種表面上而與水分一同地附著有耐氯甲基桿菌，並使存在於表面之有機物的一部分有所溶出，則耐氯甲基桿菌係成為與低濃度(ng～μg／L量級)之有機物一同存在。
＜當有機物係為中濃度(mg／L量級)的情況＞
作為一例，痰，其之94%程度係為水分。剩餘的6%，主要係為唾液酸等之糖，但是，若是發生有咽頭之感染，則由於死亡了的細菌等之有機物會增加，因此，係概略可視為60g／L之有機物濃度。當在洗臉盆等之設備的表面上附著有耐氯甲基桿菌，並且進而覆蓋有痰，而在設備之使用後並未被水流完全沖洗而有所殘存的情況時，若是假設痰被作了100倍之稀釋，則係可視為600mg／L之有機物濃度。另一方面，在JIS R 1702：2020等之規格試驗中，係藉由稀釋為1／500之NB培養基來調製出菌液並接種於抗菌基材上。於此情況，有機物濃度，係為培養基材料之肉萃(meat extract)與蛋白腖(peptone)之總計，而成為26mg／L。相當於在設備之表面或附帶設備處的髒污之有機物之濃度，雖係依存於情況而有所不同，但是，可以推測到，將其想定為數十～數百mg／L之濃度一事係符合於現實情況。
＜當有機物係為高濃度(g／L量級)的情況＞
人類的糞便，雖會依存於狀態而有所不同，但是，其之大約70%係為水分，剩餘之30%係由食物之殘渣、腸壁細胞之屍體以及腸內細菌之屍體等的有機物所構成，因此，例如係可視為300g／L之有機物濃度。
當在馬桶之桶中附著有耐氯甲基桿菌，並且進而覆蓋有糞便並附著而有所殘存的情況時，係要求有在g／L量級之有機物之存在下的耐氯甲基桿菌之殺菌性。
在本發明中，於有機物之存在下，包含有臭氧與游離氯之電解水，較理想，係為下述a、b、c之其中一者：
a：包含2.9ppm以下之臭氧和4.9ppm以下之游離氯；
b：包含1.0ppm以下之臭氧和4.9ppm以下之游離氯；
c：包含0.2ppm以下之臭氧和2.0ppm以下之游離氯。
在有機物之存在下，游離氯與臭氧之殺菌效力係會有被降低的可能性，但是，若是身為上述之濃度範圍，則係能夠有效地實現耐氯甲基桿菌之殺菌。
在本發明中，在電解水中所包含之臭氧之濃度與游離氯之濃度，當將後者設為y(ppm)，並將前者設為x(ppm)時，較理想，係滿足以下述式1、式2以及式3所表現之各條件之全部；
式1：y≧4.1079e
-18.35x式2：0.1≦y＜5
式3：0＜x＜3
。在圖21中，將滿足式1、式2以及式3之全部在臭氧以及游離氯之濃度的理想範圍，作為藉由此些之式而被作包圍之區域來可視性地作展示。
電解裝置
在本發明中，電解裝置，係只要為能夠產生已作了說明之電解水、亦即是包含0.1ppm以上之臭氧和超過0.75ppm之游離氯或者是包含0.2ppm以上之臭氧和0.1ppm以上之游離氯的電解水者即可。電解裝置，較理想，係具備有能夠將自來水作電解而產生上述電解水之電解槽、和對於前述電解進行控制之控制部，而構成之。
電極
在本發明中，電解裝置之電極，係只要是能夠產生臭氧以及游離氯之雙方即可。
例如，係亦可構成為具備有1個的電極，並能夠藉由該電極來產生臭氧以及游離氯之雙方。
又，係亦可構成為分別具備有能夠產生臭氧之電極和能夠產生游離氯之電極。於此情況，上述2種之電極，係可作串聯配置，亦可作並聯配置。
又，係亦可構成為分別具備有能夠產生臭氧以及游離氯之雙方之電極、和能夠產生臭氧之電極。於此情況，上述2種之電極，係可作串聯配置，亦可作並聯配置。
又，係亦可構成為分別具備有能夠產生臭氧以及游離氯之雙方之電極、和能夠產生游離氯之電極。於此情況，上述2種之電極，係可作串聯配置，亦可作並聯配置。
進而，係亦可構成為分別具備有能夠產生臭氧以及游離氯之雙方之電極、和能夠產生游離氯之電極、以及能夠產生臭氧之電極。於此情況，上述3種之電極，係可作串聯配置，亦可作並聯配置，亦可作串聯與並聯之組合配置。
(電解裝置之例1)
在本發明之其中一個態樣中，電解裝置，係亦可為如同在圖3中所示一般者。在圖3中所示之電解裝置1，係具備有電解槽2與控制部3。電解裝置1，係產生包含臭氧以及游離氯之雙方的電解水，並作排出。以下，針對電解裝置1之構成、控制、作用進行說明。
[構成]
＜電解槽2＞
電解槽2，係包含有使自來水流入之流入口21、和與流入口21相通連之通水路22、和被設置在通水路22之途中並用以將流入的自來水作電解之電極231、和被設置在通水路22之下游側且較電極231而更靠下游側處之流出口24。，
流入口21，係使自來水流入至電解槽2中。
通水路22，係可藉由能夠將流入至了電解槽2內之自來水以不會漏出的方式來例如作密閉的構件，而作設置。在通水路22內，係被支持有電極231。
電極231，係為1個的電極對，並由陽極2311與陰極2312所成。陽極2311以及陰極2312，例如係亦可均為板狀。自來水，係在陽極與陰極之間而被作電解，臭氧(O
3、圖中之a)與游離氯(亦即是，次氯酸分子(HClO、圖中之b)以及次氯酸離子(ClO
-、圖中之c))之雙方係同時被產生。
流出口24，係將所被產生了的電解水排出至電解槽2之外。流出口24，較理想，係與能夠使電解水與單元之表面作接觸之電解水吐出手段(未圖示)相通連而被構成。
＜控制部3＞
控制部3，係具備有「對於電極231作通電並藉由電解來產生臭氧與游離氯之雙方」之功能、和「藉由對於電壓以及電流之雙方或者是其中一方作控制，來對於所產生的臭氧濃度進行控制」之功能。又，控制部3，係亦可具備有對於「從流入口21所流入的自來水之電磁閥開閉」、「從流出口24所流出的電解水之電磁閥開閉」、「手動／自動之切換」、「各種感測器」等而以會使此些適當地動作的方式來進行控制之功能。控制部3，較理想，係更進而具備有以「將電解水以從電解水吐出手段來對於單元之表面作接觸的方式而作吐出」的方式來進行控制之功能。
[控制]
在本態樣中，自來水，係如同以箭頭A所示一般地，從流入口21而被導入至電解槽2之內部。流入了的自來水，係在陽極2311與陰極2312之間流動，並如同以箭頭B所示一般地，從流出口24而被排出至電解槽2之外部。此時，在控制部3對於電極231而作通電的期間中，在通水路22中流動之自來水係被作電解，臭氧(a)以及游離氯(b、c)係被產生。通電，較理想，係以當自來水在通水路22中流動的期間中會被進行的方式，來進行控制。
[作用]
電解裝置1，係將自來水作電解，並產生臭氧以及游離氯，而將包含有此些之雙方的電解水作排出。電解水，係被從流出口24而送至電解水吐出手段處，並被吐出至單元之表面。
在本發明中，在電解水中所包含之臭氧以及游離氯之各濃度範圍，係如同已作了說明一般，此些之濃度係被定義為當電解水從電解水吐出手段而被吐出時之濃度。電解水，係在電解槽2中，將自來水在由控制部3所致之控制(例如，被施加於電極231處之電壓及／或電流)下而進行電解，並作為包含有所期望之濃度的臭氧以及游離氯之電解水而得到之，之後，此電解水，係經由流出口24並進而經過電解水吐出手段而最終與單元之表面作接觸。在本發明中，較理想，例如係在對於單元之構造等有所考慮下，基於在從電解水吐出手段而被吐出時的電解水中所包含之臭氧以及游離氯之各者之所期望之濃度，來對於在電解槽2處所被產生、亦即是在從流出口24而被作排出時的電解水中所包含之臭氧以及游離氯之各濃度進行控制。
(電解裝置之例2)
在本發明之其中一個態樣中，電解裝置，係亦可為如同在圖4中所示一般者。圖3中所示之電解裝置1為具備有同時產生臭氧以及游離氯之雙方之1個電極對231，相對於此，在圖4中所示之電解裝置1’，係彼此獨立地而具備有主要產生臭氧之電極對232和主要產生游離氯之電極對233，除此之外，係具備有與電解裝置1相同之構成、控制、作用。
電極對232，係為主要產生臭氧之電極對，並由陽極2321與陰極2322所成。電極對233，係為主要產生游離氯之電極對，並由陽極2331與陰極2332所成。
從流入口21而被導入至電解槽2之內部之自來水，係在陽極2321與陰極2322之間流動，並接著在陽極2331與陰極2332之間流動，而從流出口24而被排出至電解槽2之外部。此時，在控制部3對於電極對232而作通電的期間中，在通水路22中流動之自來水係被作電解，並主要產生臭氧。進而，在控制部3對於電極對233而作通電的期間中，在通水路22中流動之自來水係被作電解，並主要產生游離氯。在圖4中，主要產生臭氧之電極對232與主要產生游離氯之電極對233之配置，係亦可彼此替換。
(電解裝置之例3)
在本發明之其中一個態樣中，電解裝置，係亦可為如同在圖5中所示一般者。在圖5中所示之電解裝置1”，係將在圖4中所示之電解裝置1’所具備的主要產生臭氧之電極對232和主要產生游離氯之電極對233，分別設置在彼此獨立之電解槽處，除此之外，係具備有與電解裝置1’相同之構成、控制、作用。
在本發明中，較理想，上述之電解裝置，係並不具備有對於電極供給氯化合物之手段。換言之，在本發明之電解裝置中，係並不需要對於電極供給氯化合物。為了將在電解水中所包含之游離氯之濃度調整(提高)為所期望之濃度，例如，係如同在上述專利文獻3中亦有所揭示一般地，可考慮在自來水中添加氯化合物，例如添加氯化鈉、次氯酸鈉、次氯酸水等，又，亦可考慮為此而在電解裝置處設置氯化合物之儲存手段或用以對於電極而供給氯化合物之閥等。然而，在本發明中，係如同已作了說明一般地，為將自來水直接作電解並得到以特定之低濃度來含有臭氧以及游離氯之雙方的電解水，藉由此，係能夠將耐氯甲基桿菌有效地作殺菌，又，在本發明中之電解裝置，係能夠產生此種電解水。故而，在本發明中，基本上並不需要為了(與特定之低濃度之臭氧一同地而)得到特定之低濃度之游離氯而在身為原料之自來水中添加氯化合物。
電極素材
在圖3中所示之電解裝置1，係具備有1個的電極對231，並同時產生臭氧以及游離氯。電極對231，例如，係可為包含有基體和被設置在基體上之觸媒層者。基體，例如，係可為由鈦或鈦合金所成者。觸媒層，係可為單一之層，亦可為複數之層。構成觸媒層之材質，較理想，係為包含有從錫、銻、鎳、鐵、鋅、鉍、鉑、鈀、銠、釕、銥、鋨、鋯、鈮、鋁、鎵、鈷、銫、硒、鋅、鉬、錳、釕、鍺、碲、銀之中所選擇之至少1個以上的金屬化合物、或者是其之氧化物或是複合體，更理想，係為包含有從錫、銻、鎳、鐵、鋅、鉍之中所選擇之至少1個以上的金屬化合物、或者是其之氧化物或是複合體。
在圖4中所示之電解裝置1’，係具備有2個的電極對232以及233。
電極對232，主要係產生臭氧，並可為包含有陽極2321與隔出有電極間隙地而被作配置之陰極2322者。作為電極對232，例如，係可使用在日本專利第6890793號公報中所記載之包含有陽極構件和與該陽極構件隔出有電極間隙地而被作配置之陰極構件的電極構造體(請求項4、0033段落等)。藉由參照上述專利揭載公報，有關於該公報之電極構造體之記載事項係作為關連於本發明中之電極對232之記載事項而被導入至本說明書中。電極對232之素材，係只要是身為具有導電性之金屬即可，例如，係可列舉出鉑族元素、鎳、不鏽鋼、鈦、鋯、金、銀、碳、銥等之貴金屬以及該些之氧化物、鈮氧化物或鉭氧化物等。
又，電極對232，係亦可為在陽極2321之基體上形成觸媒層並在此觸媒層上依序被層積有離子交換薄片以及陰極2322之電極。作為此種電極，係可使用在日本特開2012-12695號公報中所記載之電解電極單元。藉由參照上述公開公報，有關於該公報之電解電極單元之記載事項係作為關連於本發明中之電極對232之其他態樣之記載事項而被導入至本說明書中。例如，陽極2321之基體，係可為鈦、碳、鎢、鈮或矽，陽極之觸媒層，係可為導電性鑽石膜，陰極，係可為厚度為1mm程度之金屬製(例如SUS304製)之電極板。
電極對233，主要係產生游離氯，例如，係可為包含有基體和被設置在基體上之觸媒層之電極。作為此種電極，係可使用在日本特開2013-142166號公報中所記載之電解用電極。藉由參照上述公開公報，有關於該公報之電解用電極之記載事項係作為關連於本發明中之電極對233之記載事項而被導入至本說明書中。基體，例如，係可為由鈦或鈦合金所成者。觸媒層，係可為單一之層，亦可為複數之層。觸媒層，係可為包含有從鉑化合物、銥化合物、銠化合物以及鉭化合物所選擇之至少1個以上的金屬及／或金屬氧化物之複合體。作為鉑化合物，例如，係可列舉出氯鉑酸、氯化鉑等，特別係以氯鉑酸為合適。作為銥化合物，例如，係可列舉出氯銥酸、氯化銥、硝酸銥等，特別係以氯銥酸為合適。作為銠化合物，例如，係可列舉出氯化銠、硝酸銠等，特別係以氯化銠為合適。作為鉭化合物，例如，係可列舉出氯化鉭、乙醇鉭等，特別係以乙醇鉭為合適。
由本發明所致之單元之具體性態樣
廁所
若依據本發明之其中一個態樣，則由本發明所致之單元，係為廁所。以下，參考圖6，對於廁所的構成作說明。在廁所單元4中所包含之使用自來水之設備，係包含有西式坐式馬桶41之盆43、衛生洗淨裝置(溫水洗淨便座)42、殼體44、便座45、便蓋46(任意)、廁所之地板和牆壁。在本態樣中，對於使用自來水之設備供給自來水之手段，係指為了將馬桶41洗淨並將盆43內之排泄物去除而對於盆43內供給自來水之配管(未圖示)、以及對於衛生洗淨裝置(溫水洗淨便座)42供給自來水之配管。電解裝置，例如，係可為上述之電解裝置1、1’、1”，並可被安裝於便座(較合適，係為溫水洗淨便座)內部、小便斗本體之內部、馬桶(大便器、小便器)之外。在圖6中，電解裝置1係被設置在殼體44內。能夠使電解水與單元之表面作接觸之電解水吐出手段，係為噴霧噴嘴(噴出部)47，而可被設置在殼體44內，亦可被附加設置於外部。噴霧噴嘴47，係將藉由電解裝置所產生了的電解水以霧狀來吐出，其結果，電解水係以霧M之狀態來與單元表面、亦即是與使用自來水之設備之表面(例如，盆43之盆面和吃水面)以及廁所之地板和牆壁之表面作接觸。其結果，單元之表面係被作殺菌。
在本態樣中，例如，係能夠以「在結束了馬桶41之沖洗洗淨後，或者是在每特定時間，或者是當偵測到手動開關為ON時，係藉由電解裝置而產生電解水，並從噴霧噴嘴47來吐出電解水，而使盆43之表面被作殺菌」的方式來進行控制。
在本態樣中，針對電解裝置、電解水吐出手段為被設置在殼體44內的構成例，一面參照圖7一面進行說明。
[構成]
殼體44，係包含有電解裝置1、電磁閥441、第1流路442、水流調節、流路切換閥443、第2流路444。電解裝置1，係如同已作了說明一般，產生包含臭氧以及游離氯之雙方的電解水，並作排出。電解裝置1之控制部3，係除了已作了說明之功能以外，亦具備有對於電磁閥441、水流調節、流路切換閥443作控制之功能。電磁閥441，係為可開閉之電磁閥，並基於從控制部3而來之指令來對於自來水之供給作控制。流路442，係將自來水或電解水導引至噴霧噴嘴47處。水流調節、流路切換閥443，係進行水勢(流量)之調整，又，係進行對於噴霧噴嘴47和(溫水)洗淨噴嘴(未圖示)等之自來水或電解水之供給的開閉及切換。流路444，係將電解水例如導引至洗淨噴嘴和噴嘴洗淨室等處。
[控制]
自來水，係通過電磁閥441而被導引至第1流路442處，並流入至電解裝置1中，電解水係被產生。所被產生的電解水，係在通過水流調節、流路切換閥443之後，被導引至噴霧噴嘴47處，並被散水至盆43中。另一方面，被導引至在水流調節、流路切換閥443處而被作了分歧的第2流路444中之電解水或自來水，係被排出至殼體44之外部。水流調節、流路切換閥443，係基於從控制部3而來之指令，而能夠切換為將電解水或自來水朝向第1流路442作導引之狀態和朝向第2流路444作導引之狀態。
浴室或沐浴室
若依據本發明之其中一個態樣，則由本發明所致之單元，係為浴室或沐浴室。以下，參考圖8，對於浴室的構成作說明。在浴室單元5中所包含之使用自來水之設備，係包含有浴缸52、清洗場(地板)55、排水口57、浴室之牆壁51和天花板、蓮蓬頭、置物架、鏡子、熱水供給控制面板(均未圖示)等。在本態樣中，對於使用自來水之設備提供自來水之手段，係為供水龍頭、蓮蓬頭(均未圖示)等。電解裝置，例如，係可為上述之電解裝置1、1’、1”，例如可被安裝於浴室地板55、置物架、牆壁51處。在圖8所示之例中，藉由電解裝置1所產生的包含臭氧以及游離氯之雙方的電解水，係通過流路53而被配水至吐水口54、吐水部56處。吐水口54、吐水部56，係為能夠使電解水與浴室單元之表面作接觸之電解水吐出手段。吐水口54，係將電解水以噴淋狀而吐水至浴缸52內，並將浴缸壁面及底面作殺菌、洗淨。吐水部56，係將電解水以噴淋狀而吐水至浴室內壁(天花板、牆壁、地面)處，並將浴缸壁面及地面作殺菌、洗淨。排水口57，係將在浴室51內所被作了使用的水、熱水以及被散佈了的電解水排出至浴室外。係亦包含有「在浴缸52內所被作了使用的水、熱水以及被散佈了的電解水，係從浴缸52內之排出口(未圖示)而被排出至排水口57處」之態樣。
[控制]
自來水，係被導引至電解裝置1之內部而被作電解，電解水係被產生。從流出口24所流出之電解水，係通過流路53而被分配至吐水口54處，並被對於浴缸52之內面作吐水。又，電解水，係通過流路53而被分配至吐水部56處，並被對於清洗場55作吐水。進而，電解水，係通過流路53而被分配至吐水部56處，並被對於浴室51之壁面、天花板作吐水。電解裝置1之控制部3，係除了已作了說明之功能以外，亦具備有依循於程式或未圖示之開關之動作來對於電解水之產生作控制、對於各流路之開閉閥(未圖示)之操作等作控制之功能。
[作用]
被吐水至浴缸52處之電解水，係具有將浴缸52作殺菌之作用。被吐水至清洗場55處之電解水，係具有將清洗場55作殺菌之作用。被吐水至浴室51之壁面處之電解水，係具有將浴室51之壁面(天花板、牆壁)作殺菌之作用。
在本態樣中，不論是在將浴缸作洗淨之情況或是將清洗場作洗淨之情況或者是將浴室之壁面作洗淨之情況、又或是將此些作組合實行的情況，均能夠將被設置在排水口57處之排水防臭閥的封水之至少一部分置換為電解水並作殺菌。
藉由以上構成，係能夠將浴缸52內、清洗場55、浴室51之壁面、在排水防臭閥處之黏糊髒污或粉紅色髒污等之微生物髒污的抑制效果作長時間的維持。
洗臉台
若依據本發明之其中一個態樣，則由本發明所致之單元，係為洗臉台。以下，參考圖9，對於洗臉台單元6的構成作說明。在洗臉台單元6中所包含之使用自來水之設備，係為盆BL、洗臉置物架等。盆BL，係承受從水龍頭裝置61所吐水之自來水，並從排水口(未圖示)而作排水。在本態樣中，對於使用自來水之設備提供自來水之手段，係為水龍頭裝置61。在本態樣中，水龍頭裝置61，係進行自來水之吐水以及電解水之吐水。在水龍頭裝置61處，例如係包含有上述之電解裝置1、1’、1”之其中一者。在本態樣中，電解裝置，例如係被安裝在水龍頭裝置61之配管部或者是其之近旁且能夠對於洗臉單元之表面吐水電解水之位置並且能夠連接自來水之配管之位置處。
[控制]
在電解裝置1處所產生的電解水，係被配送至水龍頭裝置61處，並藉由開關或感測器(未圖示)之偵測，來適當地將電解水朝向盆BL作散水。
[作用]
藉由電解水之散水，係能夠將盆BL和排水口以及排水防臭閥(均未圖示)處之黏糊髒污或粉紅色髒污等之微生物髒污的抑制效果作長時間的維持。又，在本態樣中，係亦可將所被散佈之電解水潑到牙刷、杯子等之洗臉用具處並進行殺菌。
水龍頭裝置61
參考圖10，針對水龍頭裝置61作說明。
水龍頭裝置61，係進行自來水之吐水以及電解水之吐水。除此之外，亦會有進行像是美容目的之香水等之具有與殺菌相異之功能之吐水的情形。
藉由共通流路618，自來水係被作供給。又，藉由定流量閥619，來將下游側之流量保持為一定。
電解裝置1，係產生包含臭氧以及游離氯之雙方的電解水，並作排出。電解裝置1之控制部3，係除了已作了說明之功能以外，亦具備有對於第1電磁閥620、第2電磁閥621作控制之功能。
第1吐水部612，係從第1吐水口613來進行自來水等之吐水。
第1流路614，係對於第1吐水部612而供給自來水等。
第2吐水部615，係為噴嘴狀，並從第2吐水口615來將電解水作噴霧吐水。
第2流路617，係對於第2吐水部615而供給電解水。
第1電磁閥620，係藉由進行開閉而將在第1流路614處的自來水之流通與遮斷作切換。在開閥的情況時，在第1流路614處係流動自來水，自來水係被從被與第1流路614之下游端作了連接的第1吐水部612之第1吐水口613而作吐水。
第2電磁閥621，係藉由進行開閉而將在第2流路617處的自來水之流通與遮斷作切換。在開閥的情況時，在第2流路617處係流動自來水，在電解槽2處電解水係被產生，電解水係被從被與第2流路617之下游端作了連接的第2吐水部615之第2吐水口616而作噴霧吐水。
將第1流路614與第2流路617通過其之內部來作固定的身為水龍頭口本體之吐水管611，係亦可為作了彎曲的管狀構件。
[控制]
通過共通流路618，自來水係被作通水，並藉由定流量閥619而使流量被作調整，並且藉由被作了分歧配置之第1流路614與第2流路617而被作通水。被通水至第1流路614處之自來水，係因應於感測器或開關(未圖示)之操作等，而使控制部3將第1電磁閥620作開閉，並藉由此而被配送至第1吐水部612處，並且被從第1吐水口613而吐水，而被使用來進行洗手等。被通水至第2流路617處之自來水，係因應於感測器或開關(未圖示)之操作等，而使控制部3將第2電磁閥621作開閉，並藉由此而被供給至電解裝置1處。進而，控制部3係對於電解裝置1進行通電，自來水係被電解，電解水係被產生，並被配送至第2吐水部615處，並且被從第2吐水口616而作噴霧吐水。
廚房
若依據本發明之其中一個態樣，則由本發明所致之單元，係為廚房。以下，參考圖11，對於廚房單元7的構成作例示。在廚房單元7中所包含之使用自來水之設備，係為水槽SK、水槽之邊緣、置物架等。又，係亦包含有伴隨著廚房單元7之使用而被作使用的食物清洗器等。在本態樣中，對於使用自來水之設備提供自來水之手段，係為自來水吐水部71、亦即是將自來水作吐水之水龍頭。在本態樣中，電解水吐出手段，係為電解水吐水部72，電解水，係藉由被配設於吐水裝置WD處之電解裝置1而被產生。在本態樣中，電解裝置1，例如係被安裝在電解水吐水部72之配管部或者是其之近旁且能夠對於廚房單元表面吐水電解水之位置並且能夠連接自來水之配管之位置處。
吐水裝置WD，係如同在圖12中所示一般，具備有電解裝置1，並產生包含臭氧以及游離氯之雙方的電解水並作排出。電解裝置1之控制部3，係除了已作了說明之功能以外，亦具備有對於電磁閥73作控制之功能。電磁閥73，係因應於從控制部3所被輸出之控制訊號，而以進行吐水、停水之方式來將閥作開閉。若是閥被開啟，則電解水係被從電解水吐水部72而吐水。
[控制]
藉由被配設在吐水裝置WD處之電解裝置1所產生的電解水，係被供給至電解水吐出部72處，並被吐水至水槽SK之內部和邊緣、置物架等處。吐水之時機，係可藉由感測器(未圖示)來進行偵測並對於控制部3送出訊號而進行控制，亦可設置開關(未圖示)並與控制部3作連接，來讓使用者在必要時設為ON並使其吐水。
[作用]
藉由將電解水散佈在水槽SK內，係能夠將水槽內壁作殺菌，同時，係亦能夠將電解水潑到被放置在水槽內之砧板和菜刀等之調理器具、食器、抹布等處並將此些作殺菌。進而，在吐水電解水的情況時，藉由將被設置在排水口處之排水防臭閥的封水之至少一部分置換為電解水，係能夠將在排水防臭閥處之黏糊髒污或粉紅色髒污等之微生物髒污的抑制效果作長時間的維持。
[實施例]
基於以下之實施例，來對於本發明作具體性之說明，但是，本發明係並不被限定於此些之實施例。
電解裝置之製作
依循下述之工程，而組裝了在上述之圖3中所示之電解裝置1。
＜工程1：電極231之準備＞
作為陽極2311，例如依循於文獻「Hamed Shekarchizade at al., Effect of Elemental Composition on the Structure, Electrochemical Properties, and Ozone Production Activity of Ti/SnO
2-Sb-Ni Electrodes Prepared by Thermal Pyrolysis Method, 2011 (doi:10.4061/2011/240837)」，來製作了在由鈦所成之基體上設置有由包含有銻、錫以及鎳之氧化物所成之觸媒層者。作為陰極2312，係使用SUS板。陽極2311與陰極2312之面積，係分別設為8cm
2。
＜工程2：電解槽之組裝＞
作為電解槽2之容器，而使用了延伸存在於長邊方向上之矩形狀之容納體(80mm×50mm×30mm)。在容器之端部處，形成了用以使自來水流通之開口。於其中一方之開口處，形成使自來水流入之流入口21，並於另外一方之開口處，形成使被作了電解的自來水流出之流出口24。藉由將流入口21與流出口24以聚胺酯軟管來作連接，而設為在電解槽2內使自來水流通之構成。在延伸存在於長邊方向上之電解槽2內的其中一方之壁面處，配設延伸存在於長邊方向上之陽極2311，並在另外一方之壁面處，配設延伸存在於長邊方向上之陰極2312。陽極2311與陰極2312之間之距離，係藉由在此些之間包夾有鐵弗龍製之間隔物，而設為了0.5mm。
＜工程3：控制部之設置＞
電流，係將安定化電源和陽極2311以及陰極2312作連接，並施加15V之定電壓，而以會在陽極與陰極之間施加14mA／cm
2之電流密度的方式來對於電流值作了控制。自來水之流速，係在緊接於電解槽2之流入口21之前處，配置流量閥，來進行控制。
評價1：由電解裝置1所致之電解水之產生
1-1：電解水之產生
將自來水(TOTO股份有限公司、福岡縣北九州市小倉北區中島2-1)藉由前述控制部來調整為流速0.45L／min，並對於電解槽2作了通水。藉由以前述控制部來對於電極231施加定電流，而產生了包含臭氧以及游離氯之雙方的電解水。
1-2：在電解水中所包含之臭氧以及游離氯之濃度之測定
游離氯濃度之測定，係在採水瓶中取得10mL之份量之電解水，並將游離氯試藥SWIFTEST用(Hach)添加1次分之量而作混合，並藉由口袋式殘留氯計(Hach)來對於游離氯濃度進行了定量。
臭氧濃度之測定，係藉由臭氧濃度測定套件(Ozone AccuVac Ampules HR pk25、Hach)來採取電解水，並設置於可攜帶式吸光光度計(DR1900、Hach)處，而使用臭氧濃度測定模式來對於臭氧濃度進行了定量。
其結果，臭氧濃度係為0.23ppm，游離氯濃度係為0.92ppm。
試驗1：當使包含有游離氯1.5ppm以及臭氧0.1ppm之電解水作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果
＜工程(1-1) 耐氯甲基桿菌之隔離＞
將發生於被設置在TOTO股份有限公司綜合研究所(茅崎市本村)研究3號棟5樓之女生廁所處的大便器PUREREST(TOTO股份有限公司)之從桶面的水面起直到高度2cm為止之區域中的髒污，藉由滅菌棉花棒來作拭取，並使其懸浮於生理食鹽水中而塗布在R2A板上，並且以20℃來進行了7天的培養，而得到生育有多數的菌叢之板。
選擇1個的在此板處而呈現粉紅色的菌叢，並藉由MALDI-Biotyper(Bruker Japan)來對於菌種進行了同定。其結果，與
Methylobacterium fujisawaenseB235 UFL之間Score Value係為2.26而相互一致。將此株設為「耐氯甲基株」。另一方面，係從獨立行政法人製品評價技術基礎機構而購入
Methylobacterium extorquens(NBRC15687)，並將此設為「甲基標準株」。
＜工程(1-2) 由自來水之電解所致的包含游離氯之水之產生＞
將Pt／IrO
2電極浸漬於自來水中，並施加電流而進行電解，藉由此，來產生了包含游離氯之水(以下，係稱作「游離氯水」)。在採水瓶中取得10mL之份量之此游離氯水，並將游離氯試藥SWIFTEST用(Hach)添加1次分之量而作混合，並藉由口袋式殘留氯計(Hach)來對於游離氯水中之游離氯濃度進行了定量。其結果，係為1.5ppm。
＜工程(1-3) 由自來水之電解所致的包含臭氧之水之產生＞
將自來水通水於淨水器MP02-3(MITSUBISHI CHEMICAL CLEANSUI股份有限公司)中，並將去除了游離氯後之水儲存於瓶中。接著，一面對於市面販售之鑽石電極而將游離氯去除水作通水，一面通電定電流1.5A，來藉由對於游離氯去除水進行電解而產生了包含臭氧之水(以下，係稱作「臭氧水」)。藉由臭氧濃度測定套件(Ozone AccuVac Ampules HR pk25、Hach)來採取此臭氧水，並設置於可攜帶式吸光光度計(DR1900、Hach)處，而使用臭氧濃度測定模式來對於臭氧濃度進行了定量。其結果，係為0.1ppm。
＜工程(1-4) 當使包含有游離氯以及臭氧之雙方的電解水作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果之測定＞
使耐氯甲基株之菌叢懸浮於生理食鹽水中，而調製出了3×10
8cells／mL之菌液。
將游離氯水和臭氧水作單獨使用或者是作混合使用，來分別調製出50mL之僅包含游離氯、僅包含臭氧以及包含游離氯與臭氧之雙方的3種之電解水。
在所調製出的各電解水中，將耐氯甲基株之菌液作0.5mL之添加並作了混合。亦即是，係使耐氯甲基株曝露於各電解水中。在經過10秒後，於40秒以內，採取1mL之反應液，並與1%之硫代硫酸鈉 0.1mL作混合，而作了中和。
將中和液稀釋播種至R2A板處，並以20℃來作7天的培養，並且對於出現了的菌叢數量進行計數而對於生菌數進行了定量。作為對照組，使用當使耐氯甲基株曝露於純水中時之生菌數，而算出了殺菌率。
其結果，如同在圖13(a)中所示一般，耐氯甲基株之殺菌率，在臭氧0.1ppm之電解水中，係為0.0%，在游離氯1.5ppm之電解水中，係為30.6%。
另一方面，在包含有游離氯1.5ppm與臭氧0.1ppm之雙方的電解水中，係得到了43.1%之殺菌率。此效果，係並非僅止於將單獨曝露於游離氯1.5ppm或者是臭氧0.1ppm中的情況時之殺菌效果作了加算後之效果，而是令人訝異地具有協同性之殺菌效果。
試驗2：當使包含有游離氯0.375ppm以及臭氧0.2ppm之電解水作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果
與試驗1相同的，算出了針對耐氯甲基株之下述3種的電解水之殺菌率。
其結果，如同在圖13(b)中所示一般，耐氯甲基株之殺菌率，在臭氧0.2ppm之電解水中，係為9.4%，在游離氯0.375ppm之電解水中，係為10.6%。
另一方面，在包含有游離氯0.375ppm與臭氧0.2ppm之雙方的電解水中，係得到了40.9%之殺菌率。此效果，係並非僅止於將單獨曝露於游離氯0.375ppm或者是臭氧0.2ppm中的情況時之殺菌效果作了加算後之效果，而是令人訝異地具有協同性之殺菌效果。
試驗3：當使包含有游離氯0.75ppm以及臭氧0.2ppm之電解水作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果
與試驗1相同的，算出了針對耐氯甲基株之下述3種的電解水之殺菌率。
其結果，如同在圖13(c)中所示一般，耐氯甲基株之殺菌率，在臭氧0.2ppm之電解水中，係為9.4%，在游離氯0.75ppm之電解水中，係為19.7%。
另一方面，在包含有游離氯0.75ppm與臭氧0.2ppm之雙方的電解水中，係得到了52.9%之殺菌率。此效果，係並非僅止於將單獨曝露於游離氯0.75ppm或者是臭氧0.2ppm中的情況時之殺菌效果作了加算後之效果，而是令人訝異地具有協同性之殺菌效果。
試驗4：當使包含有游離氯1.5ppm以及臭氧0.2ppm之電解水作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果
與試驗1相同的，算出了針對耐氯甲基株之下述3種的電解水之殺菌率。
其結果，如同在圖13(d)中所示一般，耐氯甲基株之殺菌率，在臭氧0.2ppm之電解水中，係為9.4%，在游離氯1.5ppm之電解水中，係為30.6%。
另一方面，在包含有游離氯1.5ppm與臭氧0.2ppm之雙方的電解水中，係得到了77.9%之殺菌率。此效果，係並非僅止於將單獨曝露於游離氯1.5ppm或者是臭氧0.2ppm中的情況時之殺菌效果作了加算後之效果，而是令人訝異地具有協同性之殺菌效果。
比較例1：當使包含有臭氧0.1ppm以及游離氯0～0.75ppm之電解水作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果
與試驗1相同的，算出了針對耐氯甲基株之下述3種的電解水之殺菌率。
其結果，如同在圖14(a)中所示一般，耐氯甲基株之殺菌率，在臭氧0.1ppm之電解水中，係為0.0%，在游離氯0.375ppm之電解水中，係為10.6%，另一方面，在包含有臭氧0.1ppm以及游離氯0.375ppm之雙方的電解水中，係僅能夠得到4.1%之殺菌率，而無法發現到協同效果。
進而，與試驗1相同的，算出了針對耐氯甲基株之下述3種的電解水之殺菌率。
其結果，如同在圖14(b)中所示一般，耐氯甲基株之殺菌率，在臭氧0.1ppm之電解水中，係為0.0%，在游離氯0.75ppm之電解水中，係為19.7%，另一方面，在包含有臭氧0.1ppm以及游離氯0.75ppm之雙方的電解水中，係僅能夠得到18.1%之殺菌率，而無法發現到協同效果。
比較例2：當使僅包含有游離氯之電解水作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果
在使耐氯甲基株在包含有0～4ppm之游離氯的電解水中作了10秒之曝露後，其結果，如同在圖15中所示一般，就算是在4ppm的情況時，亦展現有超過0.1之生存率，而僅能夠得到低的殺菌效果。另外，在甲基標準株的情況時，在游離氯1.5ppm時，生存率係低於0.001，而得到了高的殺菌效果。
參考例1：曝露於游離氯水和臭氧水中之後的耐氯甲基株之細胞膜損傷度之定量與觀察
＜菌體之對於游離氯水、臭氧水之曝露＞
使耐氯甲基株之菌叢懸浮於生理食鹽水中，而調製出了3×10
8cells／mL之菌液。將游離氯水和臭氧水作單獨使用或者是作混合使用，來分別調製出50mL之僅包含游離氯0.3ppm、僅包含臭氧0.2ppm、僅包含臭氧0.4ppm以及包含游離氯0.3ppm與臭氧0.2ppm之雙方的4種之電解水。
在所調製出的各電解水中，將耐氯甲基株之菌液作0.5mL之添加並作混合，並且作了40秒之培養。之後，在反應液中添加2%硫代硫酸鈉5mL並作混合，而使反應停止，並得到了4種的中和液。
＜觀察試料之製作＞
在菌液之可視化中，係使用了Thermo Fisher公司製之核染色套件「LIVE／DEADTM FungaLightTM Yeast Viability Kit, for flow cytometry」。在各中和液中，將濃度120μM之SYTO9與濃度600μMPI(碘化丙啶)分別作12.5μL之混合，並滴下至載玻片上，並且在25℃、遮光下而作30分鐘之靜置，而作成了觀察試料。
＜觀察＞
使用共軛焦螢光顯微鏡，並以波長488nm以及561nm之雷射光作為激勵光，來照射至觀察試料之表面，並對於2種的核染色試藥(SYTO9、PI)所發出之綠色螢光以及紅色螢光之模樣作了觀察。將結果之螢光觀察像展示於圖16中。
觀察，係在各條件處各進行了3個視野。透鏡，係使用了Plan-APOCHROMAT 63x(卡爾蔡司公司)。觀察條件，係如同下述一般。
・雷射強度 PI(561nm)：12.0、SYTO9(488nm)：14.0
・檢測器感度 紅色螢光：525、綠色螢光：644
使用解析軟體(Imaris，卡爾蔡司公司)，來算出了在螢光觀察像中所捕捉到之所有的細菌之紅色螢光以及綠色螢光之強度。對於各視野之紅色螢光強度／綠色螢光強度進行計算，並以各條件之3個視野之量的平均值作為膜損傷程度。將膜損傷度之結果展示於圖16中。
如同在圖16中所示一般，在游離氯0.3ppm單獨的情況時之膜損傷度，係為0.069、在臭氧0.2ppm單獨的情況時之膜損傷度，係為0.225、在游離氯0.3ppm以及臭氧0.2ppm的情況時之膜損傷度，係為0.213、在臭氧0.4ppm單獨的情況時之膜損傷度，係為0.829。根據此膜損傷度之定量結果，係提示有下述之2點：(1)臭氧係以單獨而具有使膜損傷之效果、(2)游離氯係無法單獨發揮膜損傷效果。
＜結果＞
根據參考例1之結果，藉由將游離氯與臭氧作組合，由於係能夠相較於將游離氯單獨作使用時而得到更大的膜損傷效果，因此，係提示了：藉由由低濃度臭氧所致之膜損傷效果，游離氯之對於膜內部之浸透係成為可能，而能夠有效率地進行殺菌。
參考例2：曝露於游離氯水和臭氧中之後的耐氯甲基株之表面觀察
＜菌體之對於游離氯水、臭氧水之曝露＞
使耐氯甲基株之菌叢懸浮於生理食鹽水中，而調製出了3×10
8cells／mL之菌液。將游離氯水和臭氧水作單獨使用或者是作混合使用，來分別調製出50mL之僅包含游離氯0.4ppm、僅包含臭氧0.2ppm、僅包含臭氧0.4ppm以及包含游離氯0.4ppm與臭氧0.2ppm之雙方的4種之電解水。
在所調製出的各電解水中，將耐氯甲基株之菌液作0.5mL之添加並作混合，並且作了40秒之培養。之後，在反應液中添加2%硫代硫酸鈉5mL並作混合，而使反應停止，並得到了4種的中和液。
＜觀察試料之製作＞
將各中和液藉由薄膜濾網來進行過濾，而使菌附著在濾網上，並將菌以戊二醛來作了固定化。接著，將被作了固定化之菌以乙醇來作置換，接著以叔丁醇來作了置換。使菌凍結，接著，設置於凍結乾燥裝置(JFD-300)處，並藉由一面進行真空抽氣一面進行排氣，來進行凍結乾燥，而製作了觀察用試料。
＜觀察＞
針對前述觀察用試料而進行了電子顯微鏡觀察。電子顯微鏡觀察，係使用超高解析度電場放出型掃描電子顯微鏡(日立 Regulus8220)來進行。將結果展示於圖17中。另外，在圖17中，空白，係為除了替代電解水而使用了純水以外，所同樣進行製作的觀察用試料。
＜結果＞
空白與僅曝露於游離氯中之試料，在外觀上係並沒有差異，另一方面，僅曝露於臭氧中之試料，係確認到菌之細胞表面形狀被作了損傷、破壞的模樣。在曝露於臭氧以及游離氯之雙方中的試料處，亦同樣的，係並無法辨認到與僅曝露於臭氧中之試料之間的外觀上之差異。
根據此，係提示了：臭氧所擔負之殺菌作用，係為使耐氯甲基桿菌之肥厚化之膜損傷，若是臭氧之濃度為高，則亦可使其發揮溶菌效果，另一方面，游離氯係並不會發揮膜損傷之作用。
參考例3：曝露於游離氯水和臭氧中之後的耐氯甲基株之內部構造之觀察
＜菌體之對於游離氯水、臭氧水之曝露＞
使耐氯甲基株之菌叢懸浮於生理食鹽水中，而調製出了3×10
8cells／mL之菌液。將游離氯水和臭氧水作單獨使用或者是作混合使用，來分別調製出50mL之僅包含游離氯2ppm、僅包含臭氧0.2ppm、以及包含游離氯2ppm與臭氧0.2ppm之雙方的3種之電解水。
在各電解水中，將耐氯甲基株之菌液作0.5mL之添加並作混合，並且作了40秒之培養。之後，在反應液中添加2%硫代硫酸鈉5mL並作混合，而使反應停止，並得到了3種的中和液。
＜製作觀察試料＞
為了對於耐氯甲基株之菌體內部進行觀察，而參考「太田啓介等：FIB-SEM斷層掃描法之基本乃至於實際操作，Medical Technology 50：603-609，(2022)」，而製作了將耐氯甲基株包埋於樹脂中之試料。
具體而言，首先係將戊二醛與各中和液作混合，而進行了試料之前置固定。接著，添加寒天而使試料凝固，並細微地切碎。接著，將所切出之試料藉由鋨來進行後續固定，並藉由電子染色法來進行染色，而得到了試料觀察時之對比。接著，將染色了的試料置換為環氧樹脂，並將作了樹脂包埋後之試料以剃刀來作切出，而製作了觀察試料。
＜觀察＞
針對前述觀察用試料而進行了電子顯微鏡觀察。電子顯微鏡觀察，係使用超高解析度電場放出型掃描電子顯微鏡(日立 Regulus8220)來進行。將結果展示於圖18中。另外，在圖18中，空白，係為除了替代電解水而使用了純水以外，所同樣進行製作的觀察用試料。
＜結果＞
當單獨曝露於游離氯或臭氧中時，在菌體內部係與空白的情況時相同地而塞滿有組織，另一方面，在曝露於游離氯以及臭氧之雙方中時，係觀察到了菌體內部之組織被破壞的模樣。根據此，係提示了：對於細胞膜肥厚化後的耐氯甲基桿菌，若是發生有由臭氧所致之膜損傷，則游離氯之對於膜內部之透過係成為可能，游離氯係將菌體內部作破壞。
試驗5：當使包含有游離氯1.5ppm以及臭氧0.05ppm之電解水作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果
與試驗1相同的，算出了針對耐氯甲基株之下述3種的電解水之殺菌率。
其結果，如同在圖19(a)中所示一般，耐氯甲基株之殺菌率，在臭氧0.05ppm之電解水中，係為0.0%，在游離氯1.5ppm之電解水中，係為89.4%。
另一方面，在包含有游離氯1.5ppm與臭氧0.05ppm之雙方的電解水中，係得到了99.9%之殺菌率。此效果，係並非僅止於將單獨曝露於游離氯1.5ppm或者是臭氧0.05ppm中的情況時之殺菌效果作了加算後之效果，而是令人訝異地具有協同性之殺菌效果。
試驗6：當使包含有游離氯1.0ppm以及臭氧0.1ppm之電解水作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果
與試驗1相同的，算出了針對耐氯甲基株之下述3種的電解水之殺菌率。
其結果，如同在圖19(b)中所示一般，耐氯甲基株之殺菌率，在臭氧0.1ppm之電解水中，係為2.1%，在游離氯1.0ppm之電解水中，係為28.3%。
另一方面，在包含有游離氯1.0ppm與臭氧0.1ppm之雙方的電解水中，係得到了68.9%之殺菌率。此效果，係並非僅止於將單獨曝露於游離氯1.0ppm或者是臭氧0.1ppm中的情況時之殺菌效果作了加算後之效果，而是令人訝異地具有協同性之殺菌效果。
試驗7：當使包含有游離氯0.2ppm以及臭氧0.2ppm之電解水作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果
與試驗1相同的，算出了針對耐氯甲基株之下述3種的電解水之殺菌率。
其結果，如同在圖19(c)中所示一般，耐氯甲基株之殺菌率，在臭氧0.2ppm之電解水中，係為5.0%，在游離氯0.2ppm之電解水中，係為12.5%。
另一方面，在包含有游離氯0.2ppm與臭氧0.2ppm之雙方的電解水中，係得到了27.5%之殺菌率。此效果，係並非僅止於將單獨曝露於游離氯0.2ppm或者是臭氧0.2ppm中的情況時之殺菌效果作了加算後之效果，而是令人訝異地具有協同性之殺菌效果。
試驗8：當使包含有游離氯2.0ppm以及臭氧0.2ppm之電解水在中濃度(mg／L量級)之有機物存在下而作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果
與試驗1相同的，測定出了針對耐氯甲基株之下述3種的電解水之殺菌效果。但是，係將從初發菌數之常用對數值而減去了曝露於電解水中後之殘存菌數之常用對數值後之值，作為殺菌效果。
又，在工程(1-4)中，在對於所調製出之各電解水而將耐氯甲基株之菌液作0.5mL之添加時，係將牛血清白蛋白(牛血清白蛋白(F-V)、Nacalai Tesque)以會使在所得到的混合液中之最終濃度成為2mg／L的方式來一同作添加並作了混合。故而，試驗8係可視為在中濃度(mg／L量級)之有機物存在下所實施者。
其結果，如同在圖20(a)中所示一般，耐氯甲基株之殺菌效果，在臭氧0.2ppm之電解水中，係為0，在游離氯2.0ppm之電解水中，係為0.69。
另一方面，在包含有游離氯2.0ppm與臭氧0.2ppm之雙方的電解水中，係得到了10.3之殺菌效果。此效果，係並非僅止於將單獨曝露於游離氯2.0ppm或者是臭氧0.2ppm中的情況時之殺菌效果作了加算後之效果，而是令人訝異地具有協同性之殺菌效果。
試驗9：當使包含有游離氯4.9ppm以及臭氧1.0ppm之電解水在中濃度(mg／L量級)之有機物存在下而作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果
與試驗8相同的，測定出了針對耐氯甲基株之下述3種的電解水之殺菌效果。但是，在工程(1-4)中，牛血清白蛋白之添加，係以會使最終濃度成為20mg／L的方式來進行了添加。
其結果，如同在圖20(b)中所示一般，耐氯甲基株之殺菌效果，在臭氧1.0ppm之電解水中，係為1.61，在游離氯4.9ppm之電解水中，係為1.64。
另一方面，在包含有游離氯4.9ppm與臭氧1.0ppm之雙方的電解水中，係得到了3.73之殺菌效果。此效果，係並非僅止於將單獨曝露於游離氯4.9ppm或者是臭氧1.0ppm中的情況時之殺菌效果作了加算後之效果，而是令人訝異地具有協同性之殺菌效果。
試驗10：當使包含有游離氯4.9ppm以及臭氧2.9ppm之電解水在中濃度(mg／L量級)之有機物存在下而作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果
與試驗8相同的，測定出了針對耐氯甲基株之下述3種的電解水之殺菌效果。但是，在工程(1-4)中，牛血清白蛋白之添加，係以會使最終濃度成為60mg／L的方式來進行了添加。
其結果，如同在圖20(c)中所示一般，耐氯甲基株之殺菌效果，在臭氧2.9ppm之電解水中，係為2.23，在游離氯4.9ppm之電解水中，係為0.20。
另一方面，在包含有游離氯4.9ppm與臭氧2.9ppm之雙方的電解水中，係得到了3.88之殺菌效果。此效果，係並非僅止於將單獨曝露於游離氯4.9ppm或者是臭氧2.9ppm中的情況時之殺菌效果作了加算後之效果，而是令人訝異地具有協同性之殺菌效果。
1:電解裝置
1’:電解裝置
1”:電解裝置
2:電解槽
3:控制部
4:廁所單元
5:浴室單元
6:洗臉台單元
7:廚房單元
21:流入口
22:通水路
24:流出口
41:西式坐式馬桶
42:衛生洗淨裝置
43:盆
44:殼體
45:便座
46:便蓋
47:噴霧噴嘴
51:浴室之牆壁
52:浴槽
53:流路
54:吐水口
55:清洗場
56:吐水部
57:排水口
61:水龍頭裝置
71:自來水吐水部
72:電解水吐水部
73:電磁閥
231:電極對
232:電極對
233:電極對
441:電磁閥
442:第1流路
443:水流調節、流路切換閥
444:第2流路
611:吐水管
612:第1吐水部
613:第1吐水口
614:第1流路
615:第2吐水部
616:第2吐水口
617:第2流路
618:共通流路
619:定流量閥
620:第1電磁閥
621:第2電磁閥
2311:陽極
2312:陰極
2321:陽極
2322:陰極
2331:陽極
2332:陰極
A:箭頭
B:箭頭
a:臭氧
b:游離氯
c:游離氯
BL:盆
SK:水槽
WD:吐水裝置
[圖1]係對於在本發明中之電解水能夠對於耐氯甲基桿菌而發揮有效的殺菌作用一事作示意性展示。
[圖2](A)係對於針對甲基桿菌標準株就算是單獨使用低濃度之游離氯也能夠發揮殺菌作用一事作示意性展示。(B)係對於針對耐氯甲基桿菌若是單獨使用低濃度之游離氯則無法發揮殺菌作用一事作示意性展示。
[圖3]係對於能夠產生包含臭氧以及游離氯之雙方的電解水之電解裝置之其中一例作展示。在此電解裝置中，係能夠藉由1個的電極對來同時產生臭氧以及游離氯。
[圖4]係對於能夠產生包含臭氧以及游離氯之雙方的電解水之電解裝置之另外一例作展示。此電解裝置，係彼此獨立地而具備有產生臭氧之電極對以及產生游離氯之電極對。
[圖5]係對於能夠產生包含臭氧以及游離氯之雙方的電解水之電解裝置之另外一例作展示。此電解裝置，係在彼此獨立之電解槽中而分別具備有產生臭氧之電極對、產生游離氯之電極對。
[圖6]係為身為由本發明所致之單元的其中一例之廁所之示意圖。
[圖7]係為在廁所中所具備的電解裝置、電解水吐出手段之其中一例之示意圖。
[圖8]係為身為由本發明所致之單元的其中一例之浴室之示意圖。
[圖9]係為身為由本發明所致之單元的其中一例之洗臉台之示意圖。
[圖10]係為在洗臉台處所具備的電解裝置、電解水吐出手段之其中一例之示意圖。
[圖11]係為身為由本發明所致之單元的其中一例之廚房之示意圖。
[圖12]係為在廚房處所具備的電解裝置、電解水吐出手段之其中一例之示意圖。
[圖13]係對於被發現有對於耐氯甲基桿菌之協同性的殺菌效果之游離氯與臭氧的濃度條件之例作展示。(a)係為對於當使包含有游離氯1.5ppm以及臭氧0.1ppm之電解水作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果作展示之圖。(b)係為對於當使包含有游離氯0.375ppm以及臭氧0.2ppm之電解水作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果作展示之圖。(c)係為對於當使包含有游離氯0.75ppm以及臭氧0.2ppm之電解水作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果作展示之圖。(d)係為對於當使包含有游離氯1.5ppm以及臭氧0.2ppm之電解水作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果作展示之圖。
[圖14]係對於並未被發現有對於耐氯甲基桿菌之協同性的殺菌效果之游離氯與臭氧的濃度條件之例作展示。(a)係為對於當使包含有游離氯0.375ppm以及臭氧0.1ppm之電解水作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果作展示之圖。(a)係為對於當使包含有游離氯0.75ppm以及臭氧0.1ppm之電解水作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果作展示之圖。
[圖15]係為對於當使僅包含有游離氯之電解水作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果作展示之圖。
[圖16]係對於曝露於游離氯水和臭氧水中之後的耐氯甲基桿菌之細胞膜損傷度之定量與觀察結果作展示。
[圖17]係為曝露於游離氯水和臭氧水中之後的耐氯甲基桿菌之表面之觀察像。
[圖18]係為曝露於游離氯水和臭氧水中之後的耐氯甲基桿菌之內部構造之觀察像。
[圖19]係對於被發現有對於耐氯甲基桿菌之協同性的殺菌效果之游離氯與臭氧的濃度條件之例作展示。(a)係為對於當使包含有游離氯1.5ppm以及臭氧0.05ppm之電解水作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果作展示之圖。(b)係為對於當使包含有游離氯1.0ppm以及臭氧0.1ppm之電解水作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果作展示之圖。(c)係為對於當使包含有游離氯0.2ppm以及臭氧0.2ppm之電解水作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果作展示之圖。
[圖20]係對於在中濃度之有機物之存在下而被發現有對於耐氯甲基桿菌之協同性的殺菌效果之游離氯與臭氧的濃度條件之例作展示。(a)係為對於當使包含有游離氯2.0ppm以及臭氧0.2ppm之電解水作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果作展示之圖。(b)係為對於當使包含有游離氯4.9ppm以及臭氧1.0ppm之電解水作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果作展示之圖。(c)係為對於當使包含有游離氯4.9ppm以及臭氧2.9ppm之電解水作用於耐氯甲基桿菌處時的殺菌效果作展示之圖。
[圖21]係將在電解水中所包含之臭氧以及游離氯之濃度的理想範圍作為藉由式1、式2、式3而被作包圍之區域來可視性地作展示。
Claims (17)
- 一種單元，係為建築物內之包含使用自來水的設備之單元， 該單元，係具備有對於前述使用自來水之設備而提供自來水之手段、和將自來水作電解並產生電解水之電解裝置、以及能夠使前述電解水與前述單元之表面作接觸之電解水吐出手段， 前述電解水，係為下述A、B、C之其中一者： A：包含0.05ppm以上之臭氧和1.5ppm以上之游離氯； B：包含0.1ppm以上之臭氧和超過0.75ppm之游離氯； C：包含0.2ppm以上之臭氧和0.1ppm以上之游離氯。
- 如請求項1所記載之單元，其中， 前述電解水，係包含0.1ppm以上之臭氧和超過0.75 ppm之游離氯，或者是包含0.2ppm以上之臭氧和0.1ppm以上之游離氯。
- 如請求項1或2所記載之單元，其中， 對於前述使用自來水之設備提供自來水之手段，係包含有經由前述電解裝置來對於前述使用自來水之設備提供自來水之第1自來水提供手段、和並不經由前述電解裝置地來對於前述使用自來水之設備提供自來水之第2自來水提供手段。
- 如請求項3所記載之單元，其中， 對於前述使用自來水之設備提供自來水之手段，係為經由前述電解裝置來對於前述使用自來水之設備提供自來水之第1自來水提供手段，當前述電解裝置為OFF時，自來水係被提供至前述使用自來水之設備處，當前述電解裝置為ON時，電解水係被提供至前述使用自來水之設備處。
- 如請求項1或2所記載之單元，其中， 在前述電解水中所包含之臭氧之濃度，係為未滿3ppm。
- 如請求項1或2所記載之單元，其中， 在前述電解水中所包含之游離氯之濃度，係為未滿5 ppm。
- 如請求項5所記載之單元，其中， 在前述電解水中所包含之游離氯之濃度，係為未滿5 ppm。
- 如請求項1或2所記載之單元，其中， 前述電解裝置，係具備有將自來水作電解而產生電解水之電解槽、和對於前述電解進行控制之控制部， 前述電解槽，係具備有使自來水流入之流入口、和與該流入口相通連之通水路、和被設置在該通水路之途中並用以將流入的自來水作電解之電極、和被設置在前述通水路之下游側且較前述電極而更靠下游側處之使電解水流出之流出口， 前述流出口與前述電解水吐出手段係成為相互通連， 前述控制部，係對於前述電解水之從前述電解水吐出手段所對於前述單元之表面之吐出作控制。
- 如請求項8所記載之單元，其中， 前述電極，係具備有產生臭氧以及游離氯的雙方之1個的電極對。
- 如請求項8所記載之單元，其中， 前述電極，係彼此獨立地而具備有產生臭氧之電極對以及產生游離氯之電極對。
- 如請求項8所記載之單元，其中， 前述電解裝置，係並不具備有對於前述電極供給氯化合物之手段。
- 一種方法，係為用以對於在建築物內之包含使用自來水的設備之單元之表面上而耐氯甲基桿菌增生的情形作抑制或者是用以將已經在前述單元之表面上增生的耐氯甲基桿菌殺菌的方法， 該方法，係包含有使將自來水作電解所得到的電解水與前述單元之表面作接觸之步驟， 前述電解水，係為A、B、C之其中一者： A：包含0.05ppm以上之臭氧和1.5ppm以上之游離氯； B：包含0.1ppm以上之臭氧和超過0.75ppm之游離氯； C：包含0.2ppm以上之臭氧和0.1ppm以上之游離氯。
- 如請求項12所記載之方法，其中， 前述電解水，係包含0.1ppm以上之臭氧和超過0.75ppm之游離氯，或者是包含0.2ppm以上之臭氧和0.1ppm以上之游離氯。
- 如請求項12或13所記載之方法，其中， 在前述電解水中所包含之臭氧之濃度，係為未滿3 ppm。
- 如請求項12或13所記載之方法，其中， 在前述電解水中所包含之游離氯之濃度，係為未滿5 ppm。
- 如請求項14所記載之方法，其中， 在前述電解水中所包含之游離氯之濃度，係為未滿5 ppm。
- 一種單元，係為建築物內之包含使用自來水的設備之單元， 該單元，係具備有對於前述使用自來水之設備而提供自來水之手段、和將自來水作電解並產生電解水之電解裝置、以及能夠使前述電解水與前述單元之表面作接觸之電解水吐出手段， 前述電解水，係包含有臭氧與游離氯，並且，前述臭氧之濃度與前述游離氯之濃度，當將後者設為y(ppm)，並將前者設為x(ppm)時，係滿足以下述式1、式2以及式3所表現之各條件之全部； 式1：y≧4.1079e -18.35x式2：0.1≦y＜5 式3：0＜x＜3
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022-122127 | 2022-07-29 | ||
| JP2023-119228 | 2023-07-21 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW202413285A true TW202413285A (zh) | 2024-04-01 |
Family
ID=
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