TW202349038A - 濾光器、光吸收性組成物、濾光器之製造方法、感測裝置、及感測方法 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 202
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 90
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 claims abstract description 103
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 90
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 47
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 29
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 29
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 104
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 82
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 62
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 28
- 230000035515 penetration Effects 0.000 claims description 20
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 13
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 claims description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 99
- -1 alkyl phosphonic acid Chemical compound 0.000 description 72
- 239000000047 product Substances 0.000 description 40
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 32
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 32
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 30
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 29
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 26
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 26
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 26
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 24
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 24
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 21
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 21
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 21
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 21
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 20
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 19
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 14
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000006870 function Effects 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 10
- 230000008859 change Effects 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 10
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 10
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 9
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 8
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Natural products CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 7
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 7
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 7
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 7
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 6
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 6
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 6
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 6
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 6
- UGAPHEBNTGUMBB-UHFFFAOYSA-N acetic acid;ethyl acetate Chemical compound CC(O)=O.CCOC(C)=O UGAPHEBNTGUMBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NWFNSTOSIVLCJA-UHFFFAOYSA-L copper;diacetate;hydrate Chemical compound O.[Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O NWFNSTOSIVLCJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 5
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 4
- 238000004807 desolvation Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 4
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 4
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UOKRBSXOBUKDGE-UHFFFAOYSA-N butylphosphonic acid Chemical compound CCCCP(O)(O)=O UOKRBSXOBUKDGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- 241001326510 Phacelia sericea Species 0.000 description 2
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 2
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 2
- YEOCHZFPBYUXMC-UHFFFAOYSA-L copper benzoate Chemical compound [Cu+2].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1.[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 YEOCHZFPBYUXMC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- HRFMZHBXTDWTJD-UHFFFAOYSA-N dihexyltin Chemical compound CCCCCC[Sn]CCCCCC HRFMZHBXTDWTJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 description 2
- XDGIQCFWQNHSMV-UHFFFAOYSA-N (4-bromophenyl)phosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=C(Br)C=C1 XDGIQCFWQNHSMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOBOXHGSEJBUPB-MTOQALJVSA-N (z)-4-hydroxypent-3-en-2-one;zirconium Chemical compound [Zr].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O YOBOXHGSEJBUPB-MTOQALJVSA-N 0.000 description 1
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- TYKCBTYOMAUNLH-MTOQALJVSA-J (z)-4-oxopent-2-en-2-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O TYKCBTYOMAUNLH-MTOQALJVSA-J 0.000 description 1
- OLFNXLXEGXRUOI-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-phenylpropan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C(O)C(C(C)(C)C=2C=CC=CC=2)=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 OLFNXLXEGXRUOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZUNCLSDTUBVCN-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-6-(2-phenylpropan-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 UZUNCLSDTUBVCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDOPITICNQWATG-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(4-chlorophenyl)-2,5-dioxoimidazolidin-4-yl]acetic acid Chemical compound O=C1C(CC(=O)O)NC(=O)N1C1=CC=C(Cl)C=C1 UDOPITICNQWATG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTXWGMUMDPYXNN-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-] KTXWGMUMDPYXNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWLBGMIXKSTLSX-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyisobutyric acid Chemical compound CC(C)(O)C(O)=O BWLBGMIXKSTLSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIFLGMNWQFPTAJ-UHFFFAOYSA-J 2-hydroxypropanoate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O AIFLGMNWQFPTAJ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- HAEFDDOAYBQRGK-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropylphosphonic acid Chemical compound CC(C)CP(O)(O)=O HAEFDDOAYBQRGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2,4-dioxopentan-3-yl)alumanyl]pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)[Al](C(C(C)=O)C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXSRRBVHLUJJFC-UHFFFAOYSA-N 7-amino-2-methylsulfanyl-[1,2,4]triazolo[1,5-a]pyrimidine-6-carbonitrile Chemical compound N1=CC(C#N)=C(N)N2N=C(SC)N=C21 JXSRRBVHLUJJFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZKDYJTXYPYDMAW-UHFFFAOYSA-N C(CCC)O[Zr](OCCCC)OCCCC.[Zr] Chemical compound C(CCC)O[Zr](OCCCC)OCCCC.[Zr] ZKDYJTXYPYDMAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLRVHKOZCPNEOI-UHFFFAOYSA-N C[O-].CC[Zn+] Chemical compound C[O-].CC[Zn+] JLRVHKOZCPNEOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGFIGKLEYOPECQ-UHFFFAOYSA-K [Al+3].C(C)(=O)CCCC(=O)[O-].C(C)(=O)CCCC(=O)[O-].C(C)(=O)CCCC(=O)[O-] Chemical compound [Al+3].C(C)(=O)CCCC(=O)[O-].C(C)(=O)CCCC(=O)[O-].C(C)(=O)CCCC(=O)[O-] OGFIGKLEYOPECQ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- RRJHFUHAKCSNRY-UHFFFAOYSA-L [Cu+2].[O-]P([O-])=O Chemical compound [Cu+2].[O-]P([O-])=O RRJHFUHAKCSNRY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CKSGWIDYCGETEA-UHFFFAOYSA-N [SiH4].CO[Si](C)(C)OC Chemical compound [SiH4].CO[Si](C)(C)OC CKSGWIDYCGETEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- REEVUBVBEQNVEP-UHFFFAOYSA-N acetic acid;methyl acetate Chemical compound CC(O)=O.COC(C)=O REEVUBVBEQNVEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQMPDJWASLSMFZ-UHFFFAOYSA-N acetic acid;tert-butyl acetate Chemical compound CC(O)=O.CC(=O)OC(C)(C)C VQMPDJWASLSMFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- OYWFWDQOWQBTHK-UHFFFAOYSA-N bromomethylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CBr OYWFWDQOWQBTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N bumetrizole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 150000004699 copper complex Chemical class 0.000 description 1
- 229940120693 copper naphthenate Drugs 0.000 description 1
- DIZMNGDBDDPYEZ-UHFFFAOYSA-N copper phosphoric acid Chemical compound [Cu].P(O)(O)(O)=O DIZMNGDBDDPYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SEVNKWFHTNVOLD-UHFFFAOYSA-L copper;3-(4-ethylcyclohexyl)propanoate;3-(3-ethylcyclopentyl)propanoate Chemical compound [Cu+2].CCC1CCC(CCC([O-])=O)C1.CCC1CCC(CCC([O-])=O)CC1 SEVNKWFHTNVOLD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HFDWIMBEIXDNQS-UHFFFAOYSA-L copper;diformate Chemical compound [Cu+2].[O-]C=O.[O-]C=O HFDWIMBEIXDNQS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- WCOATMADISNSBV-UHFFFAOYSA-K diacetyloxyalumanyl acetate Chemical compound [Al+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O WCOATMADISNSBV-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N dibutyl(oxo)tin Chemical compound CCCC[Sn](=O)CCCC JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWBOFUGDKHMVPI-UHFFFAOYSA-K dicopper;2-oxidopropane-1,2,3-tricarboxylate Chemical compound [Cu+2].[Cu+2].[O-]C(=O)CC([O-])(C([O-])=O)CC([O-])=O FWBOFUGDKHMVPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- PEVJCYPAFCUXEZ-UHFFFAOYSA-J dicopper;phosphonato phosphate Chemical compound [Cu+2].[Cu+2].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O PEVJCYPAFCUXEZ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- CQYBWJYIKCZXCN-UHFFFAOYSA-N diethylaluminum Chemical compound CC[Al]CC CQYBWJYIKCZXCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBZUGMBTDHTVLI-UHFFFAOYSA-N diheptyl(oxo)tin Chemical compound CCCCCCC[Sn](=O)CCCCCCC WBZUGMBTDHTVLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- WNVQCJNZEDLILP-UHFFFAOYSA-N dimethyl(oxo)tin Chemical compound C[Sn](C)=O WNVQCJNZEDLILP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORVACBDINATSAR-UHFFFAOYSA-N dimethylaluminum Chemical compound C[Al]C ORVACBDINATSAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- NVPXEWPKAICFCQ-UHFFFAOYSA-N ethyl acetate;titanium Chemical compound [Ti].CCOC(C)=O NVPXEWPKAICFCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GATNOFPXSDHULC-UHFFFAOYSA-N ethylphosphonic acid Chemical compound CCP(O)(O)=O GATNOFPXSDHULC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- PTCGDEVVHUXTMP-UHFFFAOYSA-N flutolanil Chemical compound CC(C)OC1=CC=CC(NC(=O)C=2C(=CC=CC=2)C(F)(F)F)=C1 PTCGDEVVHUXTMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 1
- 239000002075 main ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- ITNVWQNWHXEMNS-UHFFFAOYSA-N methanolate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].[O-]C.[O-]C.[O-]C.[O-]C ITNVWQNWHXEMNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YACKEPLHDIMKIO-UHFFFAOYSA-N methylphosphonic acid Chemical compound CP(O)(O)=O YACKEPLHDIMKIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- UZPVVYLJBOXNOH-UHFFFAOYSA-N octyl 2-hydroxyacetate;titanium Chemical compound [Ti].CCCCCCCCOC(=O)CO UZPVVYLJBOXNOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGHLYBKDIPRXHA-UHFFFAOYSA-N octyl(oxo)tin Chemical compound CCCCCCCC[Sn]=O KGHLYBKDIPRXHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- RPITYOFBUIYBJD-UHFFFAOYSA-N oxo(dipentyl)tin Chemical compound CCCCC[Sn](=O)CCCCC RPITYOFBUIYBJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHRUIJPOAATFRO-UHFFFAOYSA-N oxo(dipropyl)tin Chemical compound CCC[Sn](=O)CCC JHRUIJPOAATFRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCMHUQGSSVZPDG-UHFFFAOYSA-N phenoxybenzene;phosphoric acid Chemical class OP(O)(O)=O.C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 RCMHUQGSSVZPDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATLPLEZDTSBZQG-UHFFFAOYSA-N propan-2-ylphosphonic acid Chemical compound CC(C)P(O)(O)=O ATLPLEZDTSBZQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOTCNYPJDCKTCB-UHFFFAOYSA-N propylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CC=[CH] XOTCNYPJDCKTCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000000985 reflectance spectrum Methods 0.000 description 1
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001338 self-assembly Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- OGDSVONAYZTTDA-UHFFFAOYSA-N tert-butylphosphonic acid Chemical compound CC(C)(C)P(O)(O)=O OGDSVONAYZTTDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYERSNHTHORBCJ-UHFFFAOYSA-N trimethylalumane;hydrate Chemical compound O.C[Al](C)C QYERSNHTHORBCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
- WXKZSTUKHWTJCF-UHFFFAOYSA-N zinc;ethanolate Chemical compound [Zn+2].CC[O-].CC[O-] WXKZSTUKHWTJCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXNCWJJAQLTWKR-UHFFFAOYSA-N zinc;methanolate Chemical compound [Zn+2].[O-]C.[O-]C JXNCWJJAQLTWKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
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- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
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Abstract
濾光器1a具有光吸收性化合物、及含有該光吸收性化合物之樹脂。濾光器1a具有滿足下述(i)、(ii)、(iii)、及(iv)之條件之第一穿透光譜。絕對值|λ
1-UV 25℃-λ
2-UV 25℃|為8 nm以下。(i)波長300 nm~380 nm時之穿透率之平均值為1%以下。(ii)波長450 nm~600 nm時之穿透率之平均值為80%以上。(iii)波長700 nm~725 nm時之穿透率之平均值為10%以下。(iv)波長950 nm~1150 nm時之穿透率之平均值為5%以下。
Description
本發明係關於一種濾光器、光吸收性組成物、濾光器之製造方法、感測裝置、及感測方法。
於使用有CCD(Charge Coupled Device,電荷耦合元件)或CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor,互補金氧半導體)等固態攝像元件之攝像裝置中,為了獲得具有良好之顏色再現性之圖像,於固態攝像元件之前面配置有各種各樣之濾光器。通常,固態攝像元件於紫外線區域至紅外線區域之較廣波長範圍內具有光譜靈敏度。另一方面,人類之視覺靈敏度僅存在於可見光之區域。因此,為了使攝像裝置中之固態攝像元件之光譜靈敏度接近於人類之視覺靈敏度,已知有於固態攝像元件之前面配置遮蔽紅外線或紫外線之一部分光之濾光器之技術。
以往,此種濾光器通常為利用介電質多層膜之光反射來遮蔽紅外線或紫外線者。另一方面,近年來,具備含有光吸收劑之膜之濾光器受到關注。由於具備含有光吸收劑之膜之濾光器之穿透率特性不易受到入射角之影響,故而即便於攝像裝置中光傾斜入射至濾光器之情形時,亦可獲得色調之變化較少、面內之顏色不均較少、再現性良好之圖像。又,由於未使用光反射膜之光吸收型濾光器可抑制由光反射膜之多重反射所導致之重影或閃光(flare)之發生,故而容易於逆光狀態或夜景之拍攝中獲得良好之圖像。而且,具備含有光吸收劑之層之濾光器在攝像裝置之小型化及薄型化方面亦有利。
作為此種濾光器,例如已知具備含有由膦酸及銅離子所形成之光吸收劑之層的濾光器。例如,專利文獻1中記載具備可吸收紅外線及紫外線之UV-IR吸收層之濾光器。UV-IR吸收層含有由膦酸及銅離子所形成之UV-IR吸收劑。為了使濾光器滿足特定之光學特性,UV-IR吸收性組成物例如含有苯基系膦酸及烷基系膦酸。
又,專利文獻2中記載具備含有膦酸銅及有機色素之光吸收層之濾光器。
先前技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本專利第6232161號公報
專利文獻2:日本專利第6709885號公報
[發明所欲解決之課題]
專利文獻1及2中所記載之技術,就提高具備濾光器之製品之良率之觀點而言,存在進一步研究之餘地。因此,本發明提供一種就提高具備濾光器之製品之良率之觀點而言有利之濾光器。
[解決課題之技術手段]
本發明提供一種濾光器,
上述濾光器具有光吸收性化合物、及含有上述光吸收性化合物之樹脂,
上述濾光器於上述濾光器在125℃加熱200小時之加熱試驗前,於25℃、入射角度0°時具有第一穿透光譜,上述第一穿透光譜滿足下述(i)、(ii)、(iii)、及(iv)之條件,
上述濾光器於上述加熱試驗後,於25℃、入射角度0°時具有第二穿透光譜,
上述第一穿透光譜中於波長350 nm~450 nm之範圍內穿透率達到50%之波長λ
1-UV 25℃與上述第二穿透光譜中於波長350 nm~450 nm之範圍內穿透率達到50%之波長λ
2-UV 25℃之差的絕對值為8 nm以下。
(i)波長300 nm~380 nm時之穿透率之平均值為1%以下。
(ii)波長450 nm~600 nm時之穿透率之平均值為80%以上。
(iii)波長700 nm~725 nm時之穿透率之平均值為10%以下。
(iv)波長950 nm~1150 nm時之穿透率之平均值為5%以下。
又,本發明提供一種光吸收性組成物,其包含:
光吸收性化合物、
硬化性樹脂、
選自由烷氧基矽烷及烷氧基矽烷之水解物所組成之群中之至少一種、以及
水。
又,本發明提供一種濾光器之製造方法,其包括:
藉由包含下述(a)、(b)、(c)、及(d)之加熱步驟之步驟,使上述光吸收性組成物之上述硬化性樹脂硬化。
(a)於室溫~60℃之溫度範圍中所包含之第一加熱溫度下加熱2小時以上
(b)於上述第一加熱溫度~100℃之溫度範圍中所包含之第二加熱溫度下加熱2小時以上
(c)於上述第二加熱溫度~140℃之溫度範圍中所包含之第三加熱溫度下加熱2小時以上
(d)於上述第三加熱溫度~200℃之溫度範圍中所包含之第四加熱溫度下加熱1小時以上
又,本發明提供一種攝像裝置,
其具備上述濾光器。
又,本發明提供一種感測裝置,其具備:
攝像裝置、及
連接於上述攝像裝置之電腦,且
上述攝像裝置具備上述濾光器。
又,本發明提供一種感測方法,其包括:
利用電腦對藉由攝像裝置所獲得之圖像資料執行特定之處理,且
上述攝像裝置具備上述濾光器。
[發明之效果]
上述濾光器就提高具備濾光器之製品之良率之觀點而言有利。
將遮蔽入射光之一部分之濾光器置於特定之環境中可能會導致具備該濾光器之製品之良率降低。例如,當針對濾光器等光學系統之構成構件或具備濾光器之製品進行伴隨加熱之篩選試驗時,加熱條件等篩選試驗之條件可能會導致具備濾光器之製品之良率降低。此處,篩選試驗並不限定於特定之試驗。篩選試驗例如可為於具備濾光器之製品之設計時,為了確認該濾光器是否具備所要求之耐熱性而進行之試驗。篩選試驗亦可為於濾光器出貨前,為了篩選出具有初始故障或潛在缺陷之濾光器而進行之試驗。篩選試驗亦可為於將濾光器投入至搭載濾光器之製品之製造步驟之前,為了篩選出具有初始故障或潛在缺陷之濾光器而進行之試驗。篩選試驗還可為於搭載濾光器之製品出貨前,為了篩選出具有初始故障或潛在缺陷之製品而進行之試驗。篩選試驗包括對照特定之基準進行適合與否之判別、合格與否之判別、或良好與否之判別之檢查行為。篩選試驗之種類及條件係根據所要求之耐久性或耐熱性而適當決定。又,就製造業態方面而言,篩選試驗較理想為於短時間內結束並進行判別。篩選試驗例如可為於60℃~120℃之上限溫度及-40℃~5℃之下限溫度之條件下進行之熱循環試驗,亦可為伴隨急遽之溫度變化之熱震試驗(heat shock試驗)。又,就某一製品是否具有特定之耐熱性之觀點而言,篩選試驗可為加熱試驗。加熱試驗之條件例如可為80℃~200℃之上限溫度之維持時間為5分鐘至數小時之條件。較理想為藉由此種條件之加熱試驗來判別適合與否。關於加熱試驗之上限溫度,例如預定將濾光器搭載於電子基板之情形時,可考慮製造該電子基板時所利用之焊接之上限溫度(例如260℃)而決定。加熱試驗可為如下試驗,即,將供試驗之濾光器靜置於室溫之恆溫槽內部,並將恆溫槽內部之溫度升溫至例如125℃等目標溫度,於該目標溫度下保持特定時間(例如200小時),其後降溫至室溫。
作為具備濾光器之製品,例如設想為車載相機等攝像裝置。車載相機例如搭載於汽車及火車等交通工具。車載相機例如拍攝交通狀況、有無障礙物、及與其他車輛之間隙等本車周圍之狀況、或車內之狀況。使用車載相機拍攝之目的為例如對車內或車外之顯示器等之顯示、對記憶裝置之記錄、對用於圖像感測之電腦之輸入、圖像解析、及資料之處理應用等。汽車例如亦設想在中東地區等相對高溫之地區使用。而且,在炎炎烈日下,汽車之車內溫度有時會顯著升高。因此,對於搭載於汽車等交通工具之車載相機之各部件要求耐熱性。因此,用於車載相機之濾光器在搭載於模組等之前,有時會進行篩選試驗。車載相機亦包括帶入車內而預定於車內使用之相機。篩選試驗包括於高溫環境下暴露或加速試驗等以確保濾光器之耐熱性。車載相機中,只有通過此種關於耐熱性之試驗之部件才能成為適合品(良品)而被組入相機模組等。另一方面,未通過所要求之關於耐熱性之試驗之濾光器等部件被視為不適合品、不良品、或不合格品等而自組裝步驟中被去除。因此,若不適合品、不良品、或不合格品之數量較多,則濾光器之關於耐熱性之篩選試驗或是否滿足耐熱性之檢查相關之產率降低,製造成本增大,直接導致收益變差。因此,關於耐熱性,有強烈要求具有超過閾值或基準之性能之濾光器之傾向。
本發明人等就提供具有充分之耐熱性之濾光器,進而提高車載相機等具備濾光器之製品之良率之觀點出發,反覆進行深入研究。反覆進行大量試誤試驗,結果查明利用光吸收之特定濾光器具有特定之耐熱性,就提高製品之良率之觀點而言有利,從而完成本發明。
以下,對本發明之實施方式進行說明。再者,以下說明係關於本發明之例示者,本發明並不限定於以下實施方式。
圖1A係表示濾光器1a之剖視圖。濾光器1a具有光吸收性化合物、及含有該光吸收性化合物之樹脂。濾光器1a吸收特定波長範圍之光。濾光器1a於25℃使波長300 nm~1200 nm之光以0°之入射角度入射至濾光器1a時,具有滿足下述(i)、(ii)、(iii)、及(iv)之條件之第一穿透光譜。藉此,可遮蔽屬於紫外線及紅外線之一部分之光,例如,具備濾光器1a之攝像裝置中,藉由大致屬於可見光區域之光而獲得圖像。第一穿透光譜係對進行於125℃加熱200小時之加熱試驗之前之濾光器1a進行測定而獲得之穿透光譜。
(i)波長300 nm~380 nm時之穿透率之平均值為1%以下。
(ii)波長450 nm~600 nm時之穿透率之平均值為80%以上。
(iii)波長700 nm~725 nm時之穿透率之平均值為10%以下。
(iv)波長950 nm~1150 nm時之穿透率之平均值為5%以下。
關於(i)之條件,第一穿透光譜之波長300 nm~380 nm時之穿透率之平均值較理想為0.8%以下,更理想為0.6%以下,進而較理想為0.4%以下,尤其理想為0.2%以下。波長300 nm~380 nm之光屬於紫外線之一部分。該等光難以被人眼識別,除了特定之領域以外,於濾光器中該波長範圍時之穿透率較低,較為有利的是對該波長範圍之光之遮蔽性較高。
關於(ii)之條件,第一穿透光譜之波長450 nm~600 nm時之穿透率之平均值較理想為82%以上,更理想為85%以上。該波長屬於可見光區域(380 nm~780 nm),人眼對於該波長範圍之光之靈敏度(視覺靈敏度)相對較高。因此,對於該波長範圍之光,人眼能夠識別明亮度,故較為有利的是於濾光器中該波長範圍下之穿透率較高。
關於(iii)之條件,第一穿透光譜之波長700 nm~725 nm時之穿透率之平均值較理想為8%以下,更理想為6%以下,進而較理想為4%以下。該波長對應於呈紅色之波長。由於紅色相較於藍色及綠色等其他原色,可被人眼明亮地識別,故較為有利的是於濾光器中該波長範圍下之穿透率較低。
關於(iv)之條件,第一穿透光譜之波長950 nm~1150 nm時之穿透率之平均值較理想為4%以下,更理想為2%以下,進而較理想為1%以下。攝像裝置中所使用之CMOS或CCD等固態攝像元件含有矽等半導體。因此,固態攝像元件於達到人眼無法識別之1150 nm之波長範圍中可具有特定之靈敏度。因此,較為有利的是於濾光器中該波長範圍下之穿透率足夠低。
第一穿透光譜之波長900 nm~950 nm時之穿透率之平均值並不限定於特定值。該平均值例如為5%以下,較理想為3%以下,更理想為1%以下,進而較理想為0.5%以下,尤其理想為0.1%以下。例如,於使用雷射之位置感測中,將含有905 nm及940 nm等波長之光作為參照光出射。可使此種波長之光於測定對象物反射,接收反射光而進行感測。因此,於濾光器中在包含對應參照光之波長之範圍內穿透率足夠低時較為有利。
濾光器1a在上述加熱試驗後,於25℃使波長300 nm~1200 nm之光以0°之入射角度入射至濾光器1a時,具有第二穿透光譜。於濾光器1a中,波長λ
1-UV 25℃與波長λ
2-UV 25℃之差之絕對值|λ
1-UV 25℃-λ
2-UV 25℃|例如為8 nm以下。波長λ
1-UV 25℃係第一穿透光譜中於波長350 nm~450 nm之範圍內穿透率達到50%之波長。波長λ
2-UV 25℃係第二穿透光譜中於波長350 nm~450 nm之範圍內穿透率達到50%之波長。藉由使絕對值|λ
1-UV 25℃-λ
2-UV 25℃|為8 nm以下,而在加熱試驗前後,於波長350 nm~450 nm之範圍內穿透率達到50%之波長不易發生變動。因此,例如即使對濾光器1a進行伴隨加熱之篩選試驗,具備濾光器之製品之良率亦不易降低。又,加熱試驗可為如下試驗,即,將濾光器1a靜置於室溫之恆溫槽內部,並將恆溫槽內部之溫度升溫至125℃,於125℃保持200小時,其後自然降溫至室溫。又,濾光器1a之升溫亦可藉由投入至預先維持為125℃之恆溫槽內部而進行。濾光器1a之降溫亦可藉由如下方式進行,即,將恆溫槽內部之溫度於125℃保持200小時之後,自內部溫度為高溫狀態之恆溫槽之內部取出濾光器1a,於恆溫槽之外部自然降溫。若進行該等作業,則需留意是否有熱震性要素施加於濾光器1a。於加熱試驗中,恆溫槽內部之濕度可順其自然。具體而言,恆溫槽內部之濕度可依照濕度維持為40~60%之房間內部之濕度。加熱試驗中之恆溫槽內部之濕度可為40~60%。又,有時會對市場上流通之濾光器進行加熱試驗。只要滿足本案之主旨,則無論其過去是否進行過同樣或其他加熱試驗均可。對市場上流通之濾光器再次或首次進行加熱試驗之情形時,只要滿足本案之主旨即可。
波長λ
1-UV 25℃只要屬於波長350 nm~450 nm之範圍內,則並不限定於特定值。波長λ
1-UV 25℃係對應人眼可識別之光之波長區域下限之波長。就與人類視覺靈敏度特性之一致性或相似性之觀點而言,波長λ
1-UV 25℃屬於此種範圍內時較為有利。波長λ
1-UV 25℃例如為390 nm~450 nm,較理想為395 nm~445 nm,更理想為400 nm~440 nm。
絕對值|λ
1-UV 25℃-λ
2-UV 25℃|較理想為7 nm以下,更理想為6 nm以下,進而較理想為5 nm以下。
於濾光器1a中,波長λ
1-IR 25℃與波長λ
2-IR 25℃之差之絕對值|λ
1-IR 25℃-λ
2-IR 25℃|並不限定於特定值。波長λ
1-IR 25℃係第一穿透光譜中於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到50%之波長。波長λ
2-IR 25℃係第二穿透光譜中於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到50%之波長。絕對值|λ
1-IR 25℃-λ
2-IR 25℃|例如為5 nm以下。於該情形時,在加熱試驗前後,於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到50%之波長不易發生變動。因此,即使例如對濾光器1a進行伴隨加熱之篩選試驗,具備濾光器之製品之良率亦不易進一步降低。
絕對值|λ
1-IR 25℃-λ
2-IR 25℃|較理想為4 nm以下,更理想為3 nm以下。
波長λ
1-IR 25℃只要屬於波長600 nm~700 nm之範圍內,則並不限定於特定值。波長λ
1-IR 25℃係對應於人眼可識別之光之波長區域上限之波長,就與人類視覺靈敏度特性之一致性或相似性之觀點而言,波長λ
1-IR 25℃屬於此種範圍內時較為有利。波長λ
1-IR 25℃例如為610 nm~690 nm,較理想為615 nm~685 nm,更理想為620 nm~680 nm。
於濾光器1a中,波長λ
1-20 25℃與波長λ
2-20 25℃之差之絕對值|λ
1-20 25℃-λ
2-20 25℃|並不限定於特定值。波長λ
1-20 25℃係第一穿透光譜中於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到20%之波長。波長λ
2-20 25℃係第二穿透光譜中於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到20%之波長。絕對值|λ
1-20 25℃-λ
2-20 25℃|例如為5 nm以下。於該情形時,在加熱試驗前後,於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到20%之波長不易發生變動。因此,例如即使對濾光器1a進行伴隨加熱之篩選試驗,具備濾光器1a之製品之良率亦不易進一步降低。又,於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到20%之波長或其附近,穿透光譜之陡度增加,因此,藉由將絕對值|λ
1-20 25℃-λ
2-20 25℃|設為特定值以下,不易感知穿透光譜之變動。
絕對值|λ
1-20 25℃-λ
2-20 25℃|較理想為4 nm以下,更理想為3 nm以下。
於濾光器1a中,平均值T
1-450 25℃與平均值T
2-450 25℃之差之絕對值|T
1-450 25℃-T
2-450 25℃|並不限定於特定值。平均值T
1-450 25℃係第一穿透光譜之波長400 nm~450 nm之範圍內之穿透率的平均值。平均值T
2-450 25℃係第二穿透光譜之波長400 nm~450 nm之範圍內之穿透率的平均值。絕對值|T
1-450 25℃-T
2-450 25℃|例如為8%以下。於該情形時,在加熱試驗前後,波長400 nm~450 nm之範圍內之穿透率之平均值不易發生變動。因此,例如即使對濾光器1a進行伴隨加熱之篩選試驗,具備濾光器1a之製品之良率亦不易進一步降低。
絕對值|T
1-450 25℃-T
2-450 25℃|較理想為7%以下,更理想為6%以下。
於濾光器1a中,平均值T
1-VIS 25℃與平均值T
2-VIS 25℃之差之絕對值|T
1-VIS 25℃-T
2-VIS 25℃|並不限定於特定值。平均值T
1-VIS 25℃係第一穿透光譜之波長450 nm~600 nm之範圍內之穿透率的平均值。平均值T
2-VIS 25℃係第二穿透光譜之波長450 nm~600 nm之範圍內之穿透率的平均值。絕對值|T
1-VIS 25℃-T
2-VIS 25℃|例如為3%以下。於該情形時,在加熱試驗前後,波長450 nm~600 nm之範圍內之穿透率之平均值不易發生變動,所感受到之通過濾光器1a獲取之圖像之亮度變化較小。因此,例如即使對濾光器1a進行伴隨加熱之篩選試驗,具備濾光器1a之製品之良率亦不易進一步降低。
絕對值|T
1-VIS 25℃-T
2-VIS 25℃|較理想為2.5%以下,更理想為2%以下。
第二穿透光譜亦可滿足上述(i)、(ii)、(iii)、及(iv)之條件等關於第一穿透光譜之條件。上述(i)、(ii)、(iii)、及(iv)之條件係要求濾光器之光譜對於人類視覺靈敏度之適合性良好之條件。於加熱試驗後亦滿足上述(i)、(ii)、(iii)、及(iv)之條件表明濾光器於加熱試驗後亦可維持良好之適合性,暗示本發明之濾光器具有耐熱性,即便於伴隨加熱之篩選試驗後,亦可維持、提高良好之良率。
於溫度25℃使波長300 nm~1200 nm之光以5°之入射角度入射至濾光器1a時所獲得之反射光譜並不限定於特定之光譜。例如,濾光器1a當於溫度25℃使波長300 nm~1200 nm之光以5°之入射角度入射至濾光器1a時,具有滿足下述(I)及(II)之條件之反射光譜。於該情形時,在濾光器1a中,屬於可見光區域及紅外線區域之光之一部分之反射減少,例如,於具備濾光器1a之攝像裝置中不易產生重影及閃光。而且,滿足(I)之條件亦有利於減少該波長範圍所特有之出現於被攝體輪廓處之作為紫色滲色之一種的紫邊(purple fringe)。
(I)波長300 nm~400 nm時之反射率之最大值為8%以下。
(II)波長800 nm~1150 nm時之反射率之平均值為10%以下。
關於(I)之條件,上述反射光譜之波長300 nm~400 nm時之反射率之最大值較理想為6%以下。
關於(II)之條件,上述反射光譜之波長800 nm~1150 nm時之反射率之平均值較理想為8%以下,更理想為6%以下。
將濾光器搭載於相機模組等時,自濾光器反射之光有時會被構成相機模組之鏡筒、殼體、或透鏡等進一步反射而到達攝像元件。當此種內部反射光到達攝像元件時,圖像內有可能產生重影或閃光,而導致所獲得之圖像之畫質降低。因此,較理想為濾光器之反射率較低。於溫度25℃使波長300 nm~1200 nm之光以5°之入射角度入射至濾光器1a時所獲得之反射光譜中,波長450 nm~600 nm之範圍內之反射率之最大值大於例如波長800 nm~1150 nm之範圍內之反射率之最大值。於該反射光譜中,波長450 nm~600 nm之範圍內之反射率之最大值減去波長800 nm~1150 nm之範圍內之反射率之最大值所得的差例如為5%以下,較理想為4%以下。
較理想為:藉由具備濾光器之攝像裝置所獲得之圖像中,重影及閃光得到抑制,進而紫邊等得到抑制,於1個圖像內,例如中央部與周邊部之色調不同之顏色不均得到抑制。於攝像元件之受光面,入射至中央部之光線與入射至周邊部之光線,包括主光線之情形在內,入射至濾光器之入射光線之入射角度均產生差異。入射至攝像元件之受光面之中央部之光線向濾光器之入射角度變小,入射至該周邊部之光線向濾光器之入射角度變大。若如上所訴,入射光線之入射角度不同,則濾光器之穿透光譜有可能會不同,從而色調可能會產生差異。因此,較為有利的是不同入射角度下之濾光器之穿透光譜之差異較小。因此,濾光器1a較理想為滿足下述(i')~(vi')之條件中之1個或2個以上條件。於下述(i')~(vi')之條件中,|A-B|之記法意指A之值與B之值之差的絕對值。
將「在溫度25℃使波長300 nm~1200 nm之光以40°及60°之入射角度入射至濾光器1a時之穿透光譜中,於波長350 nm~450 nm之範圍內穿透率達到50%之波長」分別表示為λ
40/UV 25℃及λ
60/UV 25℃。該穿透光譜係對上述加熱試驗前之濾光器1a進行測定而得。
(i')|λ
40/UV 25℃-λ
1-UV 25℃|之值為7 nm以下,較理想為5 nm以下。
(ii')|λ
60/UV 25℃-λ
1-UV 25℃|之值為14 nm以下,較理想為10 nm以下。
將「在溫度25℃使波長300 nm~1200 nm之光以40°及60°之入射角度入射至濾光器1a時之穿透光譜中,於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到50%之波長」分別表示為λ
40/IR 25℃及λ
60/IR 25℃。該穿透光譜係對上述加熱試驗前之濾光器1a進行測定而得。
(iii')|λ
40/IR 25℃-λ
1-IR 25℃|之值為8 nm以下,較理想為6 nm以下。
(iv')|λ
60/IR 25℃-λ
1-IR 25℃|之值為16 nm以下,較理想為12 nm以下。
將「在溫度25℃使波長300 nm~1200 nm之光以0°、40°、及60°之入射角度入射至濾光器1a時之穿透光譜中,於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到20%之波長」分別表示為λ
0/20 25℃、λ
40/20 25℃、及λ
60/20 25℃。該穿透光譜係對上述加熱試驗前之濾光器1a進行測定而得。λ
0/20 25℃亦可與λ
1-20 25℃相等。
(v')|λ
40/20 25℃-λ
0/20 25℃|之值為8 nm以下,較理想為6 nm以下。
(vi')|λ
60/20 25℃-λ
0/20 25℃|之值為16 nm以下,較理想為12 nm以下。
濾光器1a於70℃使波長300 nm~1200 nm之光以0°之入射角度入射至濾光器時,具有第三穿透光譜。第三穿透光譜係對上述加熱試驗前之濾光器1a進行測定而得。第三穿透光譜並不限定於特定之光譜。於濾光器1a中,波長λ
1-UV 25℃與波長λ
UV 70℃之差之絕對值|λ
1-UV 25℃-λ
UV 70℃|並不限定於特定值。波長λ
UV 70℃係第三穿透光譜中於波長350 nm~450 nm之範圍內穿透率達到50%之波長。絕對值|λ
1-UV 25℃-λ
UV 70℃|例如為10 nm以下。於該情形時,即便將濾光器1a置於常溫及相對高溫之環境中,於波長350 nm~450 nm之範圍內穿透率達到50%之波長亦不易發生變動,穿透光譜之位移或偏差得到抑制。因此,濾光器1a容易具有溫度依存性較小之穿透光譜,容易具有所需之耐熱性。
絕對值|λ
1-UV 25℃-λ
UV 70℃|較理想為9 nm以下,更理想為8 nm以下。
於濾光器1a中,波長λ
1-IR 25℃與波長λ
IR 70℃之差之絕對值|λ
1-IR 25℃-λ
IR 70℃|並不限定於特定值。波長λ
IR 70℃係第三穿透光譜中於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到50%之波長。絕對值|λ
1-IR 25℃-λ
IR 70℃|例如為10 nm以下。於該情形時,即便將濾光器1a置於常溫及相對高溫之環境中,於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到50%之波長亦不易發生變動,穿透光譜之位移或偏差得到抑制。因此,濾光器1a容易具有溫度依存性較小之穿透光譜,容易具有所需之耐熱性。
於濾光器1a中,穿透率T
400 25℃與穿透率T
400 70℃之差之絕對值|T
400 25℃-T
400 70℃|並不限定於特定值。穿透率T
400 25℃係第一穿透光譜中波長400 nm時之穿透率。穿透率T
400 70℃係第三穿透光譜中波長400 nm時之穿透率。絕對值|T
400 25℃-T
400 70℃|例如為20%以下。於該情形時,即便將濾光器1a置於常溫及相對高溫之環境中,波長400 nm時之穿透率亦不易發生變動,穿透光譜之位移或偏差得到抑制。因此,濾光器1a容易具有溫度依存性較小之穿透光譜,容易具有所需之耐熱性。進而,當400 nm<λ
1-UV 25℃時及/或400 nm<λ
UV 70℃時,於濾光器1a之光譜中,波長400 nm時之穿透率為零或接近零,故而屬於急遽增加之帶域,因此可進一步減小濾光器1a之穿透光譜之溫度依存性。
絕對值|T
400 25℃-T
400 70℃|較理想為19%以下,更理想為18%以下,進而較理想為17%以下。
如圖1A所示,濾光器1a例如為膜狀,含有樹脂作為主成分。於本說明書中,主成分係指以質量基準計含有最多之成分。濾光器1a之厚度並不限定於特定值。其厚度例如為65 μm~600 μm,較理想為90 μm~300 μm。濾光器1a越薄,則越可有助於攝像裝置之低背位化。另一方面,藉由使濾光器1a具有特定值以上之厚度,可防止製造攝像裝置時濾光器1a產生翹曲或褶皺而導致畫質降低。
濾光器1a之霧度(或霧度值、濁度)並不限定於特定值。濾光器1a例如具有0.5%以下之霧度。濾光器之霧度越小,則濾光器之透明性越高,越有利於提高可藉由攝像裝置獲取之圖像之畫質。例如,即便於濾光器具有可見光區域下之穿透率較高之光譜之情形時,若濾光器之霧度較大,則濾光器內部或濾光器表面亦會產生光散射,白濁或不透明之傾向亦會變大。因此,以霧度對濾光器進行評價較為重要。濾光器1a較理想為具有0.3%以下之霧度。
濾光器1a例如可藉由使特定之光吸收性組成物硬化而製造。光吸收性組成物包含光吸收性化合物、硬化性樹脂、選自由烷氧基矽烷及烷氧基矽烷之水解物所組成之群中之至少一種、以及水。光吸收性化合物吸收屬於波長300 nm~380 nm之範圍之光之一部分、及屬於波長700 nm~1200 nm之範圍之光之一部分。對此種光吸收性組成物進行加熱而使其硬化之過程中,藉由自常溫(15℃~35℃)相對緩慢地使溫度上升,可期待以「水不會過度蒸發且矽烷化合物不會揮發」之方式發生反應。可經由水解之烷氧基矽烷之矽醇基促進-O-Si-O-鍵之形成,從而於濾光器1a中形成牢固之交聯結構。濾光器1a藉由含有適度多之此種牢固交聯結構,而容易具有所需之耐熱性。
光吸收性組成物中之水含量並不限定於特定值。光吸收性組成物中之水含量例如以質量基準計為700 ppm(parts per million)~7000 ppm。於該情形時,在光吸收性組成物之硬化中供給烷氧基矽烷水解所需之水,可期待經由水解之烷氧基矽烷之矽醇基促進縮聚之功能。
光吸收性組成物中之水含量較理想為1200 ppm以上,更理想為3500 ppm以上。又,光吸收性組成物中之水含量較理想為6600 ppm以下,亦可為5000 ppm以下,亦可為4000 ppm以下,還可未達1000 ppm。光吸收性組成物中之水含量可根據濾光器1a所要求之耐熱性而進行調整。光吸收性組成物中之水含量可藉由在製備光吸收性組成物時添加水來進行調整。於製備光吸收性組成物時使用水合物之情形時,亦可考慮水之添加量與來自水合物之量之合計而進行水含量之調整。
若光吸收性組成物中之水含量為7000 ppm以下,則可降低光吸收性組成物之硬化中水所參與之反應局部性地急遽進行之可能性,容易抑制光吸收性化合物之凝集或相分離之發生。其結果為,容易抑制濾光器1a之內部或表面形成散射體、產生龜裂或裂痕、及霧度增大。
藉由使光吸收性組成物硬化而製造濾光器1a之方法並不限定於特定之方法。例如,藉由包含下述(a)、(b)、(c)、及(d)之加熱步驟之步驟,使光吸收性組成物之硬化性樹脂硬化。藉此可製造濾光器1a。室溫例如為15℃~35℃。藉由此種方法,容易使「伴隨加熱之水及矽烷化合物等成分之蒸發」與「光吸收性組成物之硬化時之反應之促進」之間的平衡達到所需狀態。例如,可抑制水過度蒸發,藉由副產物之蒸發而進行之去除及用以硬化之反應被調整為所需狀態,可抑制「用以硬化之反應過快而於濾光器形成褶皺,霧度增大」。
(a)於室溫~60℃之溫度範圍中所包含之第一加熱溫度下加熱2小時以上
(b)於上述第一加熱溫度~100℃之溫度範圍中所包含之第二加熱溫度下加熱2小時以上
(c)於上述第二加熱溫度~140℃之溫度範圍中所包含之第三加熱溫度下加熱2小時以上
(d)於上述第三加熱溫度~200℃之溫度範圍中所包含之第四加熱溫度下加熱1小時以上
於濾光器1a之製造中,亦可進行於濕度相對較高之環境下暴露一定時間之所謂加濕處理。藉由加濕處理,環境中之水分可促進光吸收性組成物中所含有之烷氧基矽烷之水解,有助於-O-Si-O-鍵之生成。又,藉由加濕處理,可製造含有光吸收劑之微粒子為不凝集狀態之硬質緻密之濾光器1a。
光吸收性化合物只要吸收屬於波長300 nm~380 nm之範圍之光之一部分、及屬於波長700 nm~1200 nm之範圍之光之一部分,則並不限定於特定之物質。光吸收性化合物例如含有膦酸及銅成分。
光吸收性化合物中之膦酸並不限定於特定之膦酸。其膦酸例如由下述式(a)表示。式(a)中,R
1係烷基或烷基中之至少一個氫原子被鹵素原子取代而得之鹵化烷基。於該情形時,濾光器1a之透過帶域容易達到波長700 nm附近,濾光器1a容易具有所需之穿透率特性。
膦酸例如為甲基膦酸、乙基膦酸、正(n-)丙基膦酸、異丙基膦酸、正(n-)丁基膦酸、異丁基膦酸、第二丁基膦酸、第三丁基膦酸、或溴甲基膦酸。
關於光吸收性化合物中之膦酸,式(a)中,R
1亦可包含芳基或芳基中之至少一個氫原子被鹵素原子取代而得之鹵化芳基。芳基例如為苯基。鹵化芳基例如為鹵化苯基。藉此,濾光器1a更容易具有所需之穿透率特性。
光吸收性化合物中之銅成分係包括銅離子、銅錯合物、及含有銅之化合物等之概念。銅成分可具有對於屬於近紅外線區域之光之一部分較理想之吸收特性、及波長450 nm~680 nm之可見光區域之光之高穿透性。具體而言,藉由二價銅離子於d軌道上之電子遷移,選擇性地吸收與該能量對應之屬於近紅外線區域之波長之光,藉此發揮優異之近紅外線吸收特性。尤其是,二價銅離子亦可以銅鹽之形態與膦酸混合而使膦酸配位至銅離子,從而形成銅錯合物(銅鹽)。
光吸收性化合物中之銅成分之供給源並不限定於特定之物質。銅成分之供給源例如為銅鹽。銅鹽可為氯化銅、甲酸銅、硬脂酸銅、苯甲酸銅、焦磷酸銅、環烷酸銅、或檸檬酸銅之無水物或水合物。例如,乙酸銅一水合物表示為Cu(CH
3COO)
2-H
2O,藉由1莫耳之乙酸銅一水合物供給1莫耳之銅離子。該等銅鹽可單獨使用,亦可使用多種銅鹽或其等之混合物。
光吸收性組成物中之銅成分及膦酸之含量並不限定於特定值。光吸收性組成物中之膦酸含量相對於銅成分含量之比例如以物質量(莫耳)基準計為0.3~1.5。光吸收性組成物中之膦酸含量相對於銅成分含量之比較理想為0.4~1.4,更理想為0.6~1.2,進而較理想為0.8~1.1。
光吸收性化合物可為含有磺酸及銅成分之化合物,亦可為M
nCu
yPO
4-z(M為除Cu以外之金屬元素)所表示之磷酸-銅錯合物。光吸收性化合物可為M
xWO
4-y(M為除W以外之金屬元素)所表示之鎢錯合物等無機系化合物,亦可為酞青化合物、花青化合物、方酸鎓(squarylium)化合物、及偶氮系化合物等有機系化合物。
硬化性樹脂並不限定於特定之樹脂。硬化性樹脂例如為可使光吸收性化合物分散或溶解並保持之樹脂。硬化性樹脂較理想為於未硬化或未反應之狀態下為液態,可使光吸收性化合物分散或溶解者。進而,硬化性樹脂較理想為可藉由旋轉塗佈、噴霧、浸漬、及點膠(dispensing)等塗佈方法塗佈於任意之對象物上而形成塗膜。供塗膜形成之對象物係具有任意表面之基材,不論平面抑或曲面。硬化性樹脂較理想為可藉由加熱、加濕、光等能量照射、或組合該等之方法而硬化。硬化性樹脂亦可滿足使硬化性樹脂硬化而形成之表面平滑且具有1 mm之厚度之板狀體之穿透光譜係於波長450 nm~800 nm下為90%以上之條件之至少1個。硬化性樹脂之示例為環狀聚烯烴系樹脂、環氧系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、改質丙烯酸樹脂、聚矽氧樹脂、及PVB等聚乙烯系樹脂。
藉由使光吸收性組成物中含有選自由烷氧基矽烷及烷氧基矽烷之水解物所組成之群中之至少一種,可防止光吸收性化合物之粒子彼此凝集。因此,光吸收性組成物中光吸收性化合物容易良好地分散,濾光器1a中光吸收劑容易良好地分散。因此,於光吸收性組成物之硬化中,藉由以烷氧基矽烷之水解反應及縮聚反應充分進行之方式進行處理,而形成-O-Si-O-鍵,濾光器1a容易具有良好之耐濕性。而且,濾光器1a容易具有良好之耐熱性。其原因在於,矽氧烷鍵相較於-C-C-鍵及-C-O-鍵等鍵,鍵結能量更高而化學性更穩定,從而耐熱性及耐濕性優異。
烷氧基矽烷只要可藉由水解反應及縮聚反應於濾光器1a中形成具有矽氧烷鍵之水解縮聚化合物,則並不限定於特定之烷氧基矽烷。烷氧基矽烷例如可為四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、或3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷等單體,亦可為其等之一部分鍵結而成之二聚物或寡聚物等。
光吸收性組成物例如可進而含有磷酸酯化合物。藉由磷酸酯化合物之作用,於光吸收性組成物中光吸收性化合物容易良好地分散。磷酸酯可作為光吸收性化合物之分散劑而發揮功能,亦可其一部分與金屬成分發生反應而形成化合物。例如,磷酸酯可配位至光吸收性化合物或與該化合物發生反應,亦可與銅成分一同形成部分錯合物。只要濾光器1a滿足特定之關於穿透光譜之條件,則含有磷酸酯及銅成分之化合物亦可吸收一部分波長之光。只要於作為濾光器1a之前驅物之光吸收性組成物中,至少含有膦酸及銅成分之光吸收性物質良好地分散,則亦可不實質性地含有磷酸酯。又,為了賦予分散功能而使光吸收性組成物中含有例如選自由烷氧基矽烷及烷氧基矽烷之水解物所組成之群中之至少一種之情形時,可減少磷酸酯之添加量。
磷酸酯並不限定於特定之磷酸酯或其化合物。磷酸酯例如具有聚氧烷基(polyoxyalkyl)。作為此種磷酸酯,可例舉Plysurf A208N:聚氧乙烯烷基(C12、C13)醚磷酸酯、Plysurf A208F:聚氧乙烯烷基(C8)醚磷酸酯、Plysurf A208B:聚氧乙烯月桂醚磷酸酯、Plysurf A219B:聚氧乙烯月桂醚磷酸酯、Plysurf AL:聚氧乙烯苯乙烯化苯醚磷酸酯、Plysurf A212C:聚氧乙烯十三烷基醚磷酸酯、或Plysurf A215C:聚氧乙烯十三烷基醚磷酸酯。該等均為第一工業製藥公司製造之製品。而且,作為磷酸酯,可例舉NIKKOL DDP-2:聚氧乙烯烷基醚磷酸酯、NIKKOL DDP-4:聚氧乙烯烷基醚磷酸酯、或NIKKOL DDP-6:聚氧乙烯烷基醚磷酸酯。該等均為日光化學公司製造之製品。該等磷酸酯化合物可單獨使用,亦可將多種組合使用。
光吸收性組成物或濾光器1a中之膦酸及磷酸酯之含量並不限定於特定值。光吸收性組成物或濾光器1a中之膦酸含量相對於磷酸酯含量之比例如以質量基準計為0.6~1.6。藉此,即便濾光器1a與水蒸氣接觸,磷酸酯之水解亦會得到抑制而濾光器1a容易具有良好之耐候性。光吸收性組成物或濾光器1a中之膦酸含量相對於磷酸酯含量之比例較理想為0.7~1.5,更理想為0.8~1.4。
光吸收性組成物或濾光器1a中之銅成分含量相對於磷成分含量之比並不限定於特定值。光吸收性組成物或濾光器1a中之銅成分含量相對於磷成分含量之比以質量基準計例如為1.0~3.0,較理想為1.5~2.0。磷成分可源自光吸收性組成物中所含有之膦酸,亦可源自光吸收性組成物中所含有之膦酸及磷酸酯,還可含有於其他添加物中。
光吸收性組成物亦可含有參與硬化性樹脂之硬化之硬化觸媒。硬化觸媒可為能夠控制硬化性樹脂之硬化速度、硬化性樹脂之硬化之反應性、及硬化性樹脂之硬化物之硬度等條件的觸媒。
作為硬化觸媒,較理想為含有金屬成分之有機化合物(有機金屬化合物)。有機金屬化合物並不限定於特定之化合物。作為有機金屬化合物,可使用有機鋁化合物、有機鈦化合物、有機鋯化合物、有機鋅化合物、或有機錫化合物等。
作為有機鋁化合物,可例示:三乙酸鋁及辛酸鋁等鋁鹽化合物;三甲氧化鋁、三乙氧化鋁、二甲氧化鋁、二乙氧化鋁、三烯丙氧化鋁、二烯丙氧化鋁、及異丙氧化鋁等烷氧化鋁化合物;以及甲氧基雙(乙醯乙酸乙酯)鋁、甲氧基雙(乙醯丙酮)鋁、乙氧基雙(乙醯乙酸乙酯)鋁、乙氧基雙(乙醯丙酮)鋁、異丙氧基雙(乙醯乙酸乙酯)鋁、異丙氧基雙(乙醯乙酸甲酯)鋁、異丙氧基雙(乙醯乙酸第三丁酯)鋁、丁氧基雙(乙醯乙酸乙酯)鋁、二甲氧基(乙醯乙酸乙酯)鋁、二甲氧基(乙醯丙酮鋁、二乙氧基(乙醯乙酸乙酯)鋁、二乙氧基(乙醯丙酮)鋁、二異丙氧基(乙醯乙酸乙酯)鋁、二異丙氧基(乙醯乙酸甲酯)鋁、三(乙醯乙酸乙酯)鋁、及三(乙醯丙酮)鋁等鋁螯合物化合物等,但並不限定於其等。其等可單獨使用,亦可將多種組合使用。
作為有機鈦化合物,可例示:四乙醯丙酮鈦、二丁氧基二乙醯丙酮鈦(dibutyloxy titanium diacetylacetonate)、乙醯乙酸乙酯鈦、伸辛基乙醇酸鈦、及乳酸鈦等鈦螯合物類;以及鈦酸四異丙酯(tetraisopropyl titanate)、鈦酸四丁酯(tetrabutyl titanate)、鈦酸四甲酯(tetramethyl titanate)、四(2-乙基己基)鈦酸酯、四-2-乙基己醇鈦(titanium tetra-2-ethylhexoxide)、丁醇鈦二聚物、四正丁醇鈦、四異丙醇鈦、及二異丙氧基雙(乙醯乙酸乙酯)鈦等烷氧化鈦類,但並不限定於其等。其等可單獨使用,亦可將多種組合使用。
作為有機鋯化合物,可例示:四乙醯丙酮鋯、二丁氧基雙(乙醯乙酸乙酯)鋯、單丁氧基乙醯丙酮雙(乙醯乙酸乙酯)鋯、及三丁氧基單乙醯丙酮鋯等鋯螯合物類;以及四正丁醇鋯及四正丙醇鋯等烷氧化鋯類,但並不限定於其等。其等可單獨使用,亦可將多種組合使用。
作為有機鋅化合物,可例示二甲氧基鋅、二乙氧基鋅、及乙基甲氧基鋅等烷氧化鋅等。其等可單獨使用,亦可將多種組合使用。
作為有機錫化合物,可例示二甲基氧化錫、二乙基氧化錫、二丙基氧化錫、二丁基氧化錫、二戊基氧化錫、二己基氧化錫、二庚基氧化錫、及二辛基氧化錫等烷氧化錫等。其等可單獨使用,亦可將多種組合使用。
作為硬化觸媒,還可進而含有選自由上述具有金屬成分之烷氧化物及具有金屬成分之烷氧化物之水解物所組成之群中之至少一種。將具有金屬成分之烷氧化物及具有金屬成分之烷氧化物之水解物統稱為「金屬烷氧化物化合物」。金屬烷氧化物係由通式M(OR)
n(M係金屬元素,n係1以上之整數)表示,為醇之羥基之氫原子被金屬元素M取代而得之化合物。金屬烷氧化物藉由水解而形成M-OH,進而藉由與其他分子之金屬烷氧化物發生反應而形成M-O-M鍵。例如,使具有流動性之光吸收性組成物硬化而形成濾光器1a時,金屬烷氧化物化合物亦可作為促進光吸收性組成物之硬化之觸媒而發揮功能。藉由加熱處理使光吸收性組成物硬化時之加熱處理之溫度越高,則耐熱性等耐環境性越容易提高。另一方面,若加熱處理之溫度較高,則光吸收性化合物之特性有可能降低。但是,於濾光器1a含有金屬烷氧化物化合物之情形時,即便加熱處理之溫度不高,亦可促進光吸收性組成物之硬化。其結果為,濾光器1a容易具有較高之耐環境性。
金屬烷氧化物化合物中所含有之金屬成分並不限定於特定之成分。關於其金屬成分之示例,例如為Al、Ti、Zr、Zn、Sn、及Fe。作為金屬烷氧化物,例如可使用信越化學工業公司製造之作為烷氧化鋁之CAT-AC及DX-9740、Matsumoto Fine Chemical公司製造之作為烷氧化鋁之Orgatix AL-3001、東京化成公司製造之作為烷氧化鋁之異丙氧化鋁、信越化學工業公司製造之作為烷氧化鈦之D-20、D-25、及DX-175、Matsumoto Fine Chemical公司製造之作為烷氧化鈦之Orgatix TA-8、TA-21、TA-30、TA-80、及TA-90、信越化學工業公司製造之作為氧化鋯烷氧化物之D-15及D-31、以及Matsumoto Fine Chemical公司製造之作為氧化鋯烷氧化物之Orgatix ZA-45及ZA-65。
濾光器1a中之銅成分之含量相對於金屬烷氧化物化合物中所含有之金屬成分之含量的比並不限定於特定值。濾光器1a中之銅成分之含量相對於金屬烷氧化物化合物中所含有之金屬成分之含量的比以質量基準計可為1×10
2~7×10
2,較理想為2×10
2~6×10
2,進而較理想為3×10
2~5×10
2。
進而,濾光器1a中之磷成分之含量相對於金屬烷氧化物化合物中所含有之金屬成分之含量的比並不限定於特定值。濾光器1a中之磷成分之含量相對於金屬烷氧化物化合物中所含有之金屬成分之含量的比以質量基準計可為0.5×10
2~5×10
2,較理想為1×10
2~4×10
2,進而較理想為1.5×10
2~3×10
2。
光吸收性組成物亦可含有吸收屬於紫外線之一部分光之紫外線吸收劑。只要濾光器1a之第一穿透光譜滿足特定之條件,則紫外線吸收劑並不限定於特定之化合物。
紫外線吸收劑較理想為基於吸收所需波長範圍之光、對特定之溶劑具有相溶性、於光吸收性組成物、尤其是硬化性樹脂等中良好地分散、及耐環境性優異等觀點進行選擇。紫外線吸收劑之示例為二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、水楊酸系化合物、及三系化合物。例如,作為紫外線吸收劑,可使用TinuvinPS、Tinuvin99-2、Tinuvin234、Tinuvin326、Tinuvin329、Tinuvin900、Tinuvin928、Tinuvin405、及Tinuvin460。該等係BASF公司製造之紫外線吸收劑,Tinuvin係註冊商標。
只要濾光器1a之第一穿透光譜滿足特定之條件,則濾光器1a中之紫外線吸收劑之含量並不限定於特定值。藉由含有少量紫外線吸收劑便可發揮較高之吸收能力。濾光器1a中之紫外線吸收劑之含量相對於銅成分之含量的比以質量基準計例如為0.01~1,較理想為0.02~0.5,更理想為0.07~0.14。光吸收體10中之紫外線吸收劑之含量相對於磷成分之含量的比以質量基準計例如為0.02~2,較理想為0.04~1,更理想為0.12~0.26。
例如,如圖1B、圖1C、及圖1D所示,可提供一種具備濾光器1a之附濾光器之物品10a、10b、及10c。
如圖1B所示,濾光器1a可配置於支持體20上。支持體20並不限定於特定之支持體。支持體20例如為玻璃及樹脂等透明介電體。於支持體20例如為剛性之情形時,具備濾光器1a之物品之剛性提高,於攝像裝置等製品之組裝中,濾光器1a之操作處理變得容易,亦可抑制畫質降低。支持體20可為板狀,亦可為攝像裝置之透鏡系統中所含有之一個或多個透鏡。支持體20可具有平面狀之主面,亦可具有曲面狀之主面。支持體20亦可為反射鏡、稜鏡、擴散體、平板微透鏡陣列、偏光鏡、繞射光柵、全像元件、光調變元件、偏光元件、及濾光器等光學元件(包括聲光元件)。支持體20亦可為固態攝像裝置、建築物或者汽車之窗戶或風擋、頭盔、或護目鏡等光穿透性遮罩。支持體20還可為顯示器及螢幕等顯示裝置。
如圖1C所示,於濾光器1a為板狀時,亦可於濾光器1a之至少一主面上形成特定之功能性膜31或功能性層32。功能性膜31或功能性層32並不限定於特定之膜或層。功能性膜31或功能性層32可為硬塗膜(hard coating film)(硬膜(hard coating))或硬塗層,亦可為反射減少膜、反射減少層、抗反射膜、抗反射層,亦可為反射膜或反射層,還可為偏光膜或偏光層,還可為選擇波長光吸收膜或選擇波長光吸收層。硬塗膜或硬塗層係用以謀求耐擦傷性之提高之膜或層。反射減少膜或反射減少層或者抗反射膜或抗反射層係於向濾光器1a入射光時,用以減少來自其等表面之屬於特定波長範圍之反射光或防止該反射光產生的膜或層。以下,於本說明書中,將反射減少膜及抗反射膜統稱為「抗反射膜」。反射膜或反射層係於向濾光器1a入射光時,用以更多地反射來自其表面之屬於特定波長範圍之光之膜或層。偏光膜或偏光層係於向濾光器1a入射光時,用以降低具有除特定方向以外之偏光方向之光之穿透率的膜或層。選擇波長光吸收膜或選擇波長光吸收層係用以吸收一部分波長範圍之光之膜或層。功能性膜31或功能性層32可由該等功能性膜及功能性層中之任一單獨膜或層構成,亦可由多個功能性膜或功能性層構成。
於功能性膜31為抗反射膜之情形時,可於濾光器1a之一主面或兩主面側配置抗反射膜。濾光器1a之主面為濾光器1a中具有最大面積之面。
抗反射膜例如由一種以上之材料形成。構成抗反射膜之材料並不限定於特定之材料。抗反射膜例如為以SiO
2、SiO
1.5、TiO
2、或TiO
1.5作為主成分之膜。抗反射膜例如藉由溶膠凝膠法等方法形成。於抗反射膜中,其主成分中亦可分散有中空微粒子或低折射率材料之微粒子。抗反射膜亦可為含有TiO
2、Ta
2O
3、SiO
2、Nb
2O
5、ZnS、MgF、或該等之混合物之膜。該膜可藉由蒸鍍法、濺鍍、或離子鍍等方法形成。蒸鍍法可為離子束輔助蒸鍍法。抗反射膜可為含有上述材料之一層構成之膜,亦可為不同材料之膜交替地積層而成之多層膜(介電質多層膜)。又,抗反射膜可與濾光器1a相接而形成,亦可與和濾光器1a相接而形成之其他功能性膜或功能性層相接而形成。
抗反射膜亦可為含有矽之藉由溶膠凝膠法形成之膜。藉由溶膠凝膠法,可於低溫下形成抗反射膜,可形成與玻璃同樣地含有藉由-O-Si-O-鍵之交聯性結構之膜。因此,抗反射膜之可靠性容易提高,由於可將具有相對較低之折射率之二氧化矽成分作為膜之主成分,故而溶膠凝膠法適合作為形成抗反射膜之方法。
作為用於溶膠凝膠法之材料,可含有甲基三乙氧基矽烷(MTES)等含有烴基之三官能矽烷及四乙氧基矽烷(TEOS)等四官能矽烷。用於溶膠凝膠法之材料中之三官能矽烷之含量A1相對於四官能矽烷之含量A2的比A1/A2例如以質量基準計為0.5~5。藉由三官能矽烷,可抑制膜產生裂痕,藉由四官能矽烷,可期待形成牢固之骨架。
而且,例如於濾光器1a係由包含選自由烷氧基矽烷及烷氧基矽烷之水解物所組成之群中之至少一種之光吸收性組成物形成之情形時,可期待濾光器1a與抗反射膜之界面之剝離等問題得到抑制。於溶膠凝膠法中,例如於60℃~170℃之範圍進行塗膜之焙燒。塗膜之焙燒較理想為於60℃~150℃之範圍進行,亦可於60℃~115℃之範圍進行。由於濾光器1a具有所需之耐熱性,故即便於較高之溫度下進行塗膜之焙燒之情形時,亦可不出現產生分解物等問題而形成牢固之抗反射膜。塗膜之焙燒時間例如為1分鐘~10小時,較理想為0.5小時~6小時。又,焙燒亦可於每經過特定時間便階段性地改變加熱溫度之條件下進行,例如40℃下1小時、60℃下1小時、85℃下1小時。
於功能性膜31為光反射膜之情形時,亦可藉由濾光器1a與功能性膜31之協作而發揮特定之光遮蔽能力。藉由此種協作,可減少或遮蔽屬於特定波長範圍之光之穿透,容易減輕對濾光器1a所要求之關於光吸收特性之負擔。因此,例如容易減少濾光器1a之厚度。又,例如容易減少濾光器1a中之光吸收劑等光吸收性化合物之含量。
選擇波長光吸收膜並不限定於特定之膜。選擇波長光吸收膜可為Ag(銀)、Al(鋁)、Au(金)、及Pt(鉑)等金屬之膜,亦可為含有包含一種以上該等金屬或除該等以外之金屬之化合物的膜。尤其是,金屬膜容易對應較廣之波長範圍,且容易具有簡單之結構。因此,金屬膜可用作發揮光反射或光吸收功能之簡便膜。此種選擇波長光吸收膜可用作中性密度(ND)濾光器或半反射鏡。
如圖1D所示,亦可於含有支持體20及濾光器1a之積層體之至少一主面上形成特定之功能性膜31或功能性層32。
例如,可提供一種具備濾光器1a之攝像裝置。攝像裝置有時亦被稱為相機或相機模組。圖2A係示意性地表示本發明之攝像裝置之一例之剖視圖。攝像裝置2a具備濾光器1a。
攝像裝置2a進而具備固態攝像元件3、及透鏡群5。固態攝像元件3例如包含CMOS或CCD。透鏡群5使來自被攝體之光聚光於固態攝像元件3。攝像裝置2a亦可進而具備包含遮罩或罩體之殼體、透鏡驅動裝置、用以驅動固態攝像元件3之電路基板、或驅動器等。於圖2A中,省略了該等零件或構件之圖示。於攝像裝置2a中,來自被攝體之光通過透鏡群5及濾光器1a,屬於特定波長區域之光到達固態攝像元件3。
圖2B係示意性地表示本發明之攝像裝置之另一例之剖視圖。攝像裝置2b除了特別說明之部分以外,以與攝像裝置2a相同之方式構成。於攝像裝置2b中,透鏡群5中所包含之一個或兩個以上之透鏡5a之表面配置有濾光器1a。攝像裝置2b具備具有濾光器1a及透鏡5a之附濾光器之透鏡10d。攝像裝置2b亦可進而具備包含遮罩或罩體之殼體、透鏡驅動裝置、用以驅動固態攝像元件3之電路基板、或驅動器等。於圖2B中,省略了該等零件或構件之圖示。於攝像裝置2b中,來自被攝體之光通過包含附濾光器之透鏡10d之透鏡群5,屬於特定波長區域之光到達固態攝像元件3。透鏡群5中之附濾光器之透鏡10d之配置並不限定於特定之配置。
攝像裝置(相機)除了以數位相機之形式提供以外,亦可搭載於智慧型手機。此外,攝像裝置還可搭載於汽車、船舶、飛機、及無人機等有人或無人駕駛之移動體。尤其是,於有人駕駛汽車(以下,簡稱為「汽車」)領域,可將攝像裝置用於預防安全、周圍監視、或車內監視。
圖3係示意性地表示具備本發明之攝像裝置之汽車之圖。圖3之圖示係例示性者,攝像裝置之用途、攝像裝置所參與之功能、及攝像裝置之場所等並不限定於以下說明之態樣。此處,將配備於車內或車外之攝像裝置稱為車載相機。車載相機除了汽車以外,亦可搭載於以上述船舶、飛機、及無人機等無人飛行器為代表之所有移動體,有人駕駛、無人駕駛均可。搭載於汽車之攝像裝置例如亦可用於行車記錄器、以確保預防安全性為目的之駕駛輔助功能、車外周圍或車內之監視。
如圖3所示,於汽車70中,攝像裝置7a係車內之前置相機,攝像裝置7b係車外之前置相機。攝像裝置7c係車內之後置相機,攝像裝置7d係車外之後置相機。攝像裝置7e係側置相機。於圖3中,「F」表示汽車70之前側,「R」表示汽車之後側。攝像裝置7a、攝像裝置7b、攝像裝置7c、攝像裝置7d、及攝像裝置7e皆分別具備濾光器1a。
預定搭載於汽車之攝像裝置對於環境之溫度變化具有耐性較為重要。汽車可能會於南北極附近之極寒環境、赤道上之灼熱環境、或晝夜溫差顯著較大之環境下使用。當用於攝像裝置之濾光器尤其含有有機色素作為光吸收劑時,認為光吸收劑可能會於高溫環境下劣化而吸收光之能力顯著降低。另一方面,即便將濾光器1a放置於例如70℃之環境或125℃之環境下,濾光器1a之性能亦不會大幅降低,可大致維持初始性能。因此,濾光器1a適合於預定搭載於汽車車內之攝像裝置。
由車載相機拍攝之圖像例如可在用於汽車之駕駛輔助功能之裝置中使用。由車載相機拍攝之圖像亦可以車內或車外之人可識別之方式顯示於特定之顯示器上。另一方面,亦可將由車載相機拍攝之圖像輸入至特定之電腦中而藉由電腦來識別圖像。藉此,可提供一種基於電腦中之圖像之分析結果來發揮特定之功能之圖像感測技術(以下,簡稱為「圖像感測」)。藉由圖像感測,例如可實現汽車之自動刹車或緊急時碰撞減少刹車。此外,亦可期待圖像感測向自動駕駛之應用。
攝像裝置7a及7b例如可參與碰撞防止、碰撞衝擊減輕、標識識別、車道線偏離警報、車道線維持輔助、及自動遠光控制等功能。攝像裝置7c及7d例如可參與後退時之碰撞防止、碰撞衝擊減少、及泊車輔助等功能。攝像裝置7e可參與後方側面接近注意輔助、車道線變更輔助、狹窄道路之行駛輔助、及捲入防止輔助等功能。
圖4係表示本發明之感測裝置之一例之方塊圖。如圖4所示,感測裝置80具備攝像裝置2a、圖像處理部81、及輸出部82。圖像處理部81連接於攝像裝置2a,可由對自攝像裝置2a獲得之圖像資料執行特定處理之資訊處理裝置或電腦構成。輸出部82例如可包含顯示器。
如圖4所示,輸出部82例如藉由通訊路徑85而連接於電子控制單元(ECU)。藉由圖像處理部81中之處理而生成之資料通過通訊路徑85而自輸出部82被送至ECU。通訊路徑85中之通訊協定可為控制器區域網路(CAN),亦可為區域互聯網路(LIN),還可為FlexRay,還可為乙太網路。作為通訊路徑85中之通訊協定,亦可選擇該等通訊協定中之1個以上而加以組合。
如圖4所示,感測裝置80亦可具備記憶部83。記憶部83例如連接於圖像處理部81。例如,藉由圖像處理部81中之處理而生成之資料亦可記憶於記憶部83。
實施例
藉由實施例更詳細地說明本發明。再者,本發明並不限定於以下實施例。
<實施例1>
將乙酸銅一水合物4.500 g與四氫呋喃(THF)240 g混合,攪拌3小時而獲得乙酸銅溶液。繼而,向所獲得之乙酸銅溶液中添加作為磷酸酯化合物之Plysurf A208N(第一工業製藥公司製造)1.646 g,攪拌30分鐘而獲得A1液。
向苯基膦酸0.706 g中添加THF40 g,攪拌30分鐘而獲得B1α液。向4-溴苯基膦酸4.230 g中添加THF40 g,攪拌30分鐘而獲得B1β液。繼而,將B1α液與B1β液混合,攪拌1分鐘而獲得混合液。將甲基三乙氧基矽烷(MTES)(信越化學工業公司製造、製品名:KBE-13)8.664 g、及四乙氧基矽烷(TEOS)(Kishida Chemical公司製造 特級)2.840 g添加至該混合液中,進而攪拌1分鐘而獲得B1液。
一面攪拌A1液,一面向A1液中添加B1液,於室溫下攪拌1分鐘。繼而,向該溶液中添加甲苯100 g之後,於室溫下攪拌1分鐘而獲得C1液。將C1液加入至燒瓶中,一面藉由油浴(東京理化器械公司製造、型號:OSB-2100)進行加溫,一面藉由旋轉蒸發器(東京理化器械公司製造、型號:N-1110SF)進行脫溶劑處理。將油浴之設定溫度調整為105℃。其後,自燒瓶中將脫溶劑處理後之D1液取出。如此獲得含有光吸收性化合物之D1液,該光吸收性化合物包含具有芳基之膦酸、及銅成分。
將乙酸銅一水合物4.500 g與THF240 g混合,攪拌3小時而獲得乙酸銅溶液。繼而,向所獲得之乙酸銅溶液中添加Plysurf A208N 2.573 g,攪拌30分鐘而獲得E1液。
向正丁基膦酸2.885 g中添加THF40 g,攪拌30分鐘而獲得F1液。
一面攪拌E1液,一面向E1液中添加F1液,於室溫下攪拌1分鐘。繼而,向該溶液中添加甲苯100 g之後,於室溫下攪拌1分鐘而獲得G1液。將G1液加入至燒瓶中,一面藉由油浴進行加溫,一面藉由旋轉蒸發器進行脫溶劑處理。將油浴之設定溫度調整為105℃。其後,自燒瓶中將脫溶劑處理後之H1液取出。如此,獲得含有光吸收性化合物之H1液,該光吸收性化合物包含具有烷基之膦酸、及銅成分。
以具有芳基之膦酸之含量Cf及具有烷基之膦酸之含量Cs以質量基準計成為Cf:Cs=71:29之方式,將D1液及H1液混合,進而混合硬化性樹脂(信越化學工業公司製造、製品名:KR-300)8.925 g、觸媒(信越化學工業公司製造、製品名:CAT-AC)0.089 g、作為三官能烷氧基矽烷之甲基三乙氧基矽烷(MTES)(信越化學工業公司製造、製品名:KBE-13)7.696 g、作為四官能烷氧基矽烷之四乙氧基矽烷(TEOS)(Kishida Chemical公司製造 特級)4.015 g、及作為二官能烷氧基矽烷之二甲基二乙氧基矽烷(DMDES)(信越化學工業公司製造、製品名:KBE-22)3.476 g,攪拌30分鐘。繼而,不考慮乙酸銅一水合物中所包含之水成分之量,以混合後之質量比計水含量達到700 ppm之方式,向該液體中添加水,進行5分鐘攪拌而獲得實施例1之光吸收性組成物。
將表面防污塗佈劑(大金工業公司製造、製品名:OPTOOL DSX、有效成分之濃度:20質量%)0.1 g與含氫氟醚液體(3M公司製造、製品名:NOVEC 7100)19.9 g混合而獲得混合物。將該混合物攪拌5分鐘而製備氟處理劑(有效成分之濃度:0.1質量%)。
將氟處理劑塗佈於具有130 mm×100 mm×0.70 mm之尺寸之硼矽酸玻璃(SCHOTT公司製造、製品名:D263 T eco)之一主面上。其後,將該玻璃基板於室溫下放置24小時使氟處理劑之塗膜乾燥,其後,用含有NOVEC 7100之無塵布輕輕擦拭玻璃表面將多餘之氟處理劑去除。以此方式製作氟處理基板。
使用點膠器,於氟處理基板之一主面之中心部之80 mm×80 mm之範圍內塗佈實施例1之光吸收性組成物而形成塗膜。使所獲得之塗膜於室溫下充分乾燥後,放入至烘箱中,一面於室溫~45℃之範圍內歷時6小時進行升溫,一面將溶劑及副產物去除,並且,進而一面歷時8小時自45℃升溫至85℃,一面進一步進行溶劑及副產物之去除。其後,以125℃下3小時、150℃下1小時、170℃下3小時之方式進一步階段性地進行加熱處理而充分地促進反應。其後,於溫度85℃且相對濕度85%之環境下進行24小時之後硬化,使塗膜之硬化反應結束。最後,自氟處理基板將塗膜之硬化物剝離,獲得實施例1之膜狀濾光器。
<實施例2>
除了以水含量成為1470 ppm之方式調整水之添加量以外,以與實施例1相同之方式製備實施例2之光吸收性組成物。除了使用實施例2之光吸收性組成物代替實施例1之光吸收性組成物以外,以與實施例1相同之方式獲得實施例2之濾光器。
<實施例3>
除了以水含量成為4370 ppm之方式調整水之添加量以外,以與實施例1相同之方式製備實施例3之光吸收性組成物。除了使用實施例3之光吸收性組成物代替實施例1之光吸收性組成物以外,以與實施例1相同之方式獲得實施例3之濾光器。
<實施例4>
除了以水含量成為6510 ppm之方式調整水之添加量以外,以與實施例1相同之方式製備實施例4之光吸收性組成物。除了使用實施例4之光吸收性組成物代替實施例1之光吸收性組成物以外,以與實施例1相同之方式獲得實施例4之濾光器。
<實施例5>
製作含有烷氧基矽烷、水、及乙醇之作為抗反射膜用前驅物之透明液態材料(抗反射膜用組成物)。抗反射膜用組成物以4:1之質量比含有甲基三乙氧基矽烷(MTES)及四乙氧基矽烷(TEOS)作為烷氧基矽烷。
於實施例1之濾光器之一面,藉由旋轉塗佈將抗反射膜用組成物塗佈成特定之厚度而形成塗膜,於室溫下靜置1分鐘使塗膜乾燥。繼而,於實施例1之濾光器之另一面,藉由旋轉塗佈將抗反射膜用組成物塗佈成特定之厚度而形成塗膜,於室溫下靜置1分鐘使塗膜乾燥。以此方式,於實施例1之濾光器之兩面形成抗反射膜之前驅物之塗膜。於該狀態下,將實施例1之濾光器於85℃加熱1小時,促進塗膜中所含有之烷氧基矽烷之水解及藉由所生成之矽醇基之縮聚而使塗膜硬化,獲得於兩面具有抗反射膜之濾光器。
<比較例1>
除了以水含量成為8630 ppm之方式調整水之添加量以外,以與實施例1相同之方式製備比較例1之光吸收性組成物。除了使用比較例1之光吸收性組成物代替實施例1之光吸收性組成物以外,以與實施例1相同之方式獲得比較例1之濾光器。
<比較例2>
除了不添加水以外,以與實施例1相同之方式製備比較例2之光吸收性組成物。除了使用比較例2之光吸收性組成物代替實施例1之光吸收性組成物以外,以與實施例1相同之方式獲得比較例2之濾光器。
<比較例3>
除了使用比較例2之光吸收性組成物代替實施例1之光吸收性組成物,且不實施125℃下3小時、150℃下1小時、及170℃下3小時之加熱以外,以與實施例1相同之方式製備比較例3之濾光器。
<穿透光譜>
對於實施例及比較例之濾光器之穿透光譜之測定,使用日本分光公司製造之紫外可見近紅外分光光度計V-770。於25℃以0°、40°及60°之各入射角度使光入射至各實施例及各比較例之濾光器,測定此時之波長300 nm~1200 nm時之穿透光譜。濾光器之穿透光譜之測定係將濾光器固定於可調節及維持內部溫度之OPTQUEST公司製造之小型恆溫槽之內部,將該小型恆溫槽配置於上述分光光度計而進行。將可自0°之入射角度下之各實施例及各比較例之濾光器之穿透光譜讀取之參數示於表1。將可自0°、40°及60°之各入射角度下之實施例1、4及5之濾光器之穿透光譜讀取之參數示於表2。又,將實施例1、4及5之濾光器之穿透光譜分別示於圖5、圖6、及圖7。
繼而,於70℃下以0°、40°及60°之各入射角度使光入射至實施例1~5及比較例1之濾光器、比較例2及3之濾光器,測定此時之波長300 nm~1200 nm時之穿透光譜。將25℃及70℃時之0°之入射角度下之實施例1之濾光器之穿透光譜示於圖8。又,將可自穿透光譜讀取之參數示於表1。
<反射光譜>
對於濾光器之反射光譜之測定,使用日本分光公司製造之紫外可見近紅外分光光度計V-770。於25℃以5°之入射角度使光入射至各實施例及各比較例之濾光器,測定此時之波長300 nm~1200 nm時之反射光譜。關於反射光譜,亦與穿透光譜之測定同樣地使用小型恆溫槽進行測定。將實施例1、4及5之濾光器之反射光譜分別示於圖9、圖10及圖11。將自所獲得之反射光譜讀取之參數示於表1。
<厚度>
使用KEYENCE公司製造之雷射位移計LK-H008,測定各實施例及比較例之濾光器之厚度。將結果示於表1。
<霧度>
使用村上色彩技術研究所公司製造之霧度計HM-65L2,依據日本產業標準JIS K 7136:2000測定各實施例及比較例之濾光器之霧度。
<加熱試驗>
於上述穿透光譜、反射光譜、厚度、及霧度之測定後,將各實施例及各比較例之濾光器放入至槽內溫度為室溫左右(18℃~28℃)之恆溫槽中,使恆溫槽之內部溫度升溫至125℃,於該溫度下靜置200小時。其後,使恆溫槽之內部溫度自然降溫至室溫,取出濾光器。作為恆溫槽,使用AS ONE公司製造之送風定溫恆溫器DKM400。
繼而,自恆溫槽中取出各濾光器,於25℃以0°、40°及60°之各入射角度使光入射至各實施例及各比較例之濾光器,測定此時之波長300 nm~1200 nm時之穿透光譜。將實施例1、實施例4、比較例2及比較例3之加熱試驗前後之穿透光譜(入射角度0°、測定溫度25℃)分別示於圖12、圖13、圖14及圖15。於加熱試驗前之25℃下之各濾光器之穿透光譜及加熱試驗後之25℃下之各濾光器之穿透光譜中,特定出下述參數之值。將結果示於表3。
於波長350 nm~450 nm之範圍內穿透率達到50%之波長
於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到50%之波長
於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到20%之波長
波長400 nm~450 nm之範圍內之穿透率之平均值
波長450 nm~600 nm之範圍內之穿透率之平均值
如表1所示,各實施例之濾光器之加熱試驗前之於25℃、0°之入射角度時之穿透光譜滿足上述(i)~(iv)之條件。而且,如表3所示,例如於實施例1及4之濾光器之加熱試驗前後之25℃、0°之入射角度下之穿透光譜中,於波長350 nm~450 nm之範圍內穿透率達到50%之波長彼此之差的絕對值為8 nm以下。另一方面,於比較例2及3之濾光器之加熱試驗前後之25℃、0°之入射角度下之穿透光譜中,於波長350 nm~450 nm之範圍內穿透率達到50%之波長彼此之差的絕對值超過8 nm。
又,如表1所示,加熱試驗前之各實施例之濾光器之霧度值均小於0.5%,適合作為搭載於攝像裝置等之濾光器。另一方面,比較例1之濾光器由於添加之水分量較多,故而其霧度超過0.5,暗示了其不適合作為用以搭載於攝像裝置之濾光器。
[表1]
實施例 | 比較例 | ||||||||
1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 1 | 2 | 3 | ||
測定溫度 | 25℃ | 70℃ | 25℃ | 25℃ | 25℃ | 25℃ | 25℃ | 25℃ | 25℃ |
波長300 nm~380 nm之範圍內之穿透率之平均值[%] | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 |
波長400 nm~450 nm之範圍內之穿透率之平均值[%] | 69.0 | 61.2 | 69.0 | 68.9 | 67.4 | 77.9 | 65.5 | 65.7 | 64.1 |
波長450 nm~600 nm之範圍內之穿透率之平均值[%] | 86.1 | 86.2 | 86.2 | 86.4 | 85.5 | 94.7 | 85.4 | 86.7 | 86.1 |
波長700 nm~725 nm之範圍內之穿透率之平均值[%] | 2.4 | 2.5 | 1.8 | 2 | 1.6 | 2.2 | 1.7 | 2.3 | 1.9 |
波長900 nm~950 nm之範圍內之穿透率之平均值[%] | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 |
波長950 nm~1150 nm之範圍內之穿透率之平均值[%] | 0.5 | 0.4 | 0.3 | 0.4 | 0.3 | 0.3 | 0.1 | 0.3 | 0.2 |
波長400 nm時之穿透率[%] | 37.0 | 20.6 | 35.9 | 35.0 | 34.1 | 40.5 | 28.4 | 31.6 | 30.7 |
於波長350 nm~450 nm之範圍內穿透率達到50%之波長[nm] | 406 | 414 | 407 | 407 | 408 | 404 | 410 | 409 | 410 |
於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到50%之波長[nm] | 638 | 637 | 636 | 637 | 635 | 642 | 638 | 639 | 637 |
於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到20%之波長[nm] | 669 | 668 | 666 | 668 | 665 | 670 | 667 | 669 | 667 |
波長300 nm~400 nm之範圍內之反射率之最大值[%] | 5.3 | - | - | - | 5.2 | 0.1 | - | - | - |
波長800 nm~1150 nm之範圍內之反射率之平均值[%] | 4.1 | - | - | - | 4.1 | 0.1 | - | - | - |
波長450 nm~600 nm之範圍內之反射率之平均值[%] | 7.7 | - | - | - | 7.6 | 0.1 | - | - | - |
霧度[%] | 0.24 | 0.24 | 0.24 | 0.28 | 0.39 | 0.23 | 0.61 | 0.21 | 0.24 |
膜厚[μm] | 195 | 195 | 198 | 198 | 205 | 195 | 210 | 201 | 200 |
[表2]
測定溫度 | 入射角度[°] | 於波長350 nm~450 nm之範圍內穿透率達到50%之波長[nm] | 於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到50%之波長[nm] | 於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到20%之波長[nm] | |
實施例1 | 25℃ | 0 | 406 | 638 | 669 |
40 | 409 | 635 | 665 | ||
60 | 413 | 628 | 660 | ||
實施例4 | 25℃ | 0 | 408 | 635 | 665 |
40 | 410 | 632 | 662 | ||
60 | 414 | 626 | 657 | ||
實施例5 | 25℃ | 0 | 404 | 642 | 670 |
40 | 406 | 639 | 667 | ||
60 | 408 | 634 | 663 |
[表3]
測定 溫度 | 125℃×200小時 (加熱試驗) | 於波長350 nm~450 nm之範圍內穿透率達到50%之波長[nm] | 於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到50%之波長[nm] | 於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到20%之波長[nm] | 波長400 nm~450 nm之範圍內之穿透率之平均值[%] | 波長450 nm~600 nm之範圍內之穿透率之平均值[%] | |
實施例1 | 25℃ | 加熱試驗前 | 406 | 638 | 669 | 69.0 | 86.1 |
加熱試驗後 | 410 | 636 | 666 | 64.0 | 84.4 | ||
實施例4 | 25℃ | 加熱試驗前 | 408 | 635 | 665 | 67.4 | 85.5 |
加熱試驗後 | 410 | 635 | 665 | 63.5 | 84.4 | ||
比較例2 | 25℃ | 加熱試驗前 | 409 | 639 | 669 | 65.7 | 86.7 |
加熱試驗後 | 427 | 638 | 668 | 46.9 | 85.0 | ||
比較例3 | 25℃ | 加熱試驗前 | 410 | 637 | 667 | 64.1 | 86.1 |
加熱試驗後 | 420 | 636 | 666 | 50.6 | 80.1 |
1a:濾光器
2a,2b:攝像裝置
3:固態攝像元件
5:透鏡群
5a:透鏡
10a,10b,10c:附濾光器之物品
10d:附濾光器之透鏡
20:支持體
31:功能性膜
32:功能性層
7a,7b,7c,7d,7e:攝像裝置
70:汽車
80:感測裝置
81:圖像處理部
82:輸出部
83:記憶部
85:通訊路徑
[圖1A]係表示本發明之光學膜之一例之剖視圖。
[圖1B]係表示本發明之光學膜之另一例之剖視圖。
[圖1C]係表示本發明之光學膜之又一例之剖視圖。
[圖1D]係表示本發明之光學膜之再一例之剖視圖。
[圖2A]係示意性地表示本發明之攝像裝置之一例之剖視圖。
[圖2B]係示意性地表示本發明之攝像裝置之另一例之剖視圖。
[圖3]係示意性地表示具備本發明之攝像裝置之汽車之圖。
[圖4]係表示本發明之感測裝置之一例之方塊圖。
[圖5]係表示實施例1之濾光器之穿透光譜之曲線圖。
[圖6]係表示實施例4之濾光器之穿透光譜之曲線圖。
[圖7]係表示實施例5之濾光器之穿透光譜之曲線圖。
[圖8]係表示25℃及70℃時於0°之入射角度下之實施例1之濾光器之穿透光譜的曲線圖。
[圖9]係表示實施例1之濾光器之反射光譜之曲線圖。
[圖10]係表示實施例4之濾光器之反射光譜之曲線圖。
[圖11]係表示實施例5之濾光器之反射光譜之曲線圖。
[圖12]係表示實施例1之濾光器於加熱試驗前後之穿透光譜的曲線圖。
[圖13]係表示實施例4之濾光器於加熱試驗前後之穿透光譜的曲線圖。
[圖14]係表示比較例2之濾光器於加熱試驗前後之穿透光譜的曲線圖。
[圖15]係表示比較例3之濾光器於加熱試驗前後之穿透光譜的曲線圖。
1a:濾光器
Claims (16)
- 一種濾光器, 上述濾光器具有光吸收性化合物、及含有上述光吸收性化合物之樹脂,且 上述濾光器於將上述濾光器在125℃加熱200小時之加熱試驗前,於25℃、入射角度0°時具有第一穿透光譜,上述第一穿透光譜滿足下述(i)、(ii)、(iii)、及(iv)之條件, 上述濾光器於上述加熱試驗後,於25℃、入射角度0°時具有第二穿透光譜, 上述第一穿透光譜中於波長350 nm~450 nm之範圍內穿透率達到50%之波長λ 1-UV 25℃與上述第二穿透光譜中於波長350 nm~450 nm之範圍內穿透率達到50%之波長λ 2-UV 25℃之差的絕對值為8 nm以下, (i)波長300 nm~380 nm時之穿透率之平均值為1%以下, (ii)波長450 nm~600 nm時之穿透率之平均值為80%以上, (iii)波長700 nm~725 nm時之穿透率之平均值為10%以下, (iv)波長950 nm~1150 nm時之穿透率之平均值為5%以下。
- 如請求項1之濾光器,其中,上述濾光器於溫度25℃、入射角度5°時具有反射光譜,上述反射光譜滿足下述(I)及(II)之條件, (I)波長300 nm~400 nm時之反射率之最大值為8%以下, (II)波長800 nm~1150 nm時之反射率之平均值為10%以下。
- 如請求項1或2之濾光器,其中,上述濾光器於70℃、入射角度0°時具有第三穿透光譜, 上述第一穿透光譜中於波長350 nm~450 nm之範圍內穿透率達到50%之波長λ 1-UV 25℃與上述第三穿透光譜中於波長350 nm~450 nm之範圍內穿透率達到50%之波長λ UV 70℃之差的絕對值為10 nm以下。
- 如請求項1至3中任一項之濾光器,其中,上述濾光器於70℃、入射角度0°時具有第三穿透光譜, 上述第一穿透光譜中於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到50%之波長λ 1-IR 25℃與上述第三穿透光譜中於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到50%之波長λ IR 70℃之差的絕對值為10 nm以下。
- 如請求項1至4中任一項之濾光器,其中,上述濾光器於70℃、入射角度0°時具有第三穿透光譜, 上述第一穿透光譜中波長400 nm時之穿透率T 400 25℃與上述第三穿透光譜中波長400 nm時之穿透率T 400 70℃之差的絕對值為20%以下。
- 如請求項1至5中任一項之濾光器,其中,上述第一穿透光譜中於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到50%之波長λ 1-IR 25℃與上述第二穿透光譜中於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到50%之波長λ 2-IR 25℃之差的絕對值為5 nm以下。
- 如請求項1至6中任一項之濾光器,其中,上述第一穿透光譜中於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到20%之波長λ 1-20 25℃與上述第二穿透光譜中於波長600 nm~700 nm之範圍內穿透率達到20%之波長λ 2-20 25℃之差的絕對值為5 nm以下。
- 如請求項1至7中任一項之濾光器,其中,上述第一穿透光譜之波長400 nm~450 nm之範圍內之穿透率之平均值T 1-450 25℃與上述第二穿透光譜之波長400 nm~450 nm之範圍內之穿透率之平均值T 2-450 25℃之差的絕對值為8%以下。
- 如請求項1至8中任一項之濾光器,其中,上述第一穿透光譜之波長450 nm~600 nm之範圍內之穿透率之平均值T 1-VIS 25℃與上述第二穿透光譜之波長450 nm~600 nm之範圍內之穿透率之平均值T 2-VIS 25℃之差的絕對值為3%以下。
- 如請求項1至9中任一項之濾光器,其具有0.5%以下之霧度。
- 一種光吸收性組成物,其包含: 光吸收性化合物、 硬化性樹脂、 選自由烷氧基矽烷及烷氧基矽烷之水解物所組成之群中之至少一種、及 水。
- 如請求項11之光吸收性組成物,其中,上述光吸收性組成物中之上述水之含量以質量基準計為700 ppm(parts per million)~7000 ppm。
- 一種濾光器之製造方法,其包括: 藉由包含下述(a)、(b)、(c)、及(d)之加熱步驟之步驟,使請求項11或12之光吸收性組成物之上述硬化性樹脂硬化, (a)於室溫~60℃之溫度範圍中所包含之第一加熱溫度下加熱2小時以上 (b)於上述第一加熱溫度~100℃之溫度範圍中所包含之第二加熱溫度下加熱2小時以上 (c)於上述第二加熱溫度~140℃之溫度範圍中所包含之第三加熱溫度下加熱2小時以上 (d)於上述第三加熱溫度~200℃之溫度範圍中所包含之第四加熱溫度下加熱1小時以上。
- 一種攝像裝置,其具備請求項1至10中任一項之濾光器。
- 一種感測裝置,其具備: 攝像裝置、及 連接於上述攝像裝置之電腦,且 上述攝像裝置具備請求項1至10中任一項之濾光器。
- 一種感測方法,其包括: 利用電腦對藉由攝像裝置所獲得之圖像資料執行特定之處理,且 上述攝像裝置具備請求項1至10中任一項之濾光器。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022-026018 | 2022-02-22 | ||
JP2022026018 | 2022-02-22 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202349038A true TW202349038A (zh) | 2023-12-16 |
Family
ID=87765957
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW112105954A TW202349038A (zh) | 2022-02-22 | 2023-02-18 | 濾光器、光吸收性組成物、濾光器之製造方法、感測裝置、及感測方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
TW (1) | TW202349038A (zh) |
WO (1) | WO2023162864A1 (zh) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009123016A1 (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 株式会社クレハ | ホスホン酸銅化合物、並びにこれを含む赤外吸収材料及び積層体 |
WO2018030247A1 (ja) * | 2016-08-10 | 2018-02-15 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、カメラモジュールおよび画像表示装置 |
EP3605163B1 (en) * | 2017-03-22 | 2022-01-12 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Ultraviolet and infrared absorbing composition and ultraviolet and infrared absorbing filter |
WO2019208518A1 (ja) * | 2018-04-27 | 2019-10-31 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び光学フィルタ用組成物 |
JP6543746B1 (ja) * | 2018-05-07 | 2019-07-10 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタの製造方法 |
-
2023
- 2023-02-16 WO PCT/JP2023/005580 patent/WO2023162864A1/ja unknown
- 2023-02-18 TW TW112105954A patent/TW202349038A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2023162864A1 (ja) | 2023-08-31 |
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