TW202321373A - 光吸收體、附光吸收體之物品、攝像裝置、及光吸收性組成物 - Google Patents

光吸收體、附光吸收體之物品、攝像裝置、及光吸收性組成物 Download PDF

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Abstract

光吸收體10於0°之入射角度之穿透光譜滿足下述之條件:(I)於波長450 nm~600 nm之範圍的穿透率之平均值為75%以上;(II)於波長350 nm~450 nm之範圍中,穿透率達到50%之第一波長為380 nm以上且440 nm以下;(III)於波長650 nm~750 nm之範圍中,穿透率達到50%之第二波長為680 nm以上且740 nm以下;(IV)於波長350 nm~370 nm之範圍的穿透率之最大值為1%以下;(V)於波長800 nm~900 nm之範圍的穿透率之最大值為5%以下;(VI)於波長1100 nm~1200 nm之範圍的穿透率之最大值為5%以下。

Description

光吸收體、附光吸收體之物品、攝像裝置、及光吸收性組成物
本發明係關於一種光吸收體、附光吸收體之物品、攝像裝置、及光吸收性組成物。
於使用CCD(Charge Coupled Device,電荷耦合元件)或CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor,互補金氧半導體)等固體攝像元件之攝像裝置中,為了獲得具有良好之顏色再現性之圖像,於固體攝像元件之前表面配置有各種濾光器。一般而言,固體攝像元件於紫外線區域至紅外線區域之廣波長範圍內具有分光靈敏度(spectral sensitivity)。另一方面,人類之視覺靈敏度僅存在於可見光區域。因此,為了使攝像裝置中之固體攝像元件之分光靈敏度接近人類之視覺靈敏度,已知有於固體攝像元件之前表面配置遮蔽紅外線或紫外線之一部分光之濾光器的技術。
先前,作為此種濾光器,一般利用由介電質多層膜所引起之光反射來遮蔽紅外線或紫外線。另一方面,近年來,具備含有光吸收劑之膜的濾光器受到關注。由於具備含有光吸收劑之膜的濾光器之穿透率特性不易受入射角之影響,故即便於在攝像裝置中光傾斜入射至濾光器之情形時,亦可獲得色調變化少之良好圖像。又,由於不使用光反射膜之光吸收型濾光器可抑制由光反射膜所引起之多重反射所造成的重影或閃光,故容易於逆光狀態或夜景攝影中獲得良好之圖像。此外,具備含有光吸收劑之膜的濾光器,就攝像裝置之小型化及薄型化之方面而言亦有利。
作為該種光吸收劑,已知一種由膦酸及銅離子所形成之光吸收劑。例如,於專利文獻1中記載有一種濾光器,其具備光吸收層,該光吸收層含有由具有苯基或鹵化苯基之膦酸(苯基系膦酸)及銅離子所形成之光吸收劑。
又,於專利文獻2中記載有一種濾光器,其具備可吸收紅外線及紫外線之UV-IR吸收層。UV-IR吸收層含有由膦酸及銅離子所形成之UV-IR吸收劑。為了使濾光器滿足特定之光學特性,UV-IR吸收性組成物例如含有苯基系膦酸及具有烷基或鹵化烷基之膦酸(烷基系膦酸)。
又,於專利文獻3中記載有一種紅外線截止濾光器,其具備含有機色素層及含膦酸銅層。
另一方面,於專利文獻4中記載有一種濾光器,其具備吸收層、反射層及透明基板,且於入射角0°之分光穿透率曲線中滿足特定要件。吸收層含有方酸菁色素(squarylium pigment)等近紅外線吸收色素。 [先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1:日本特許第6339755號公報 專利文獻2:日本特許第6232161號公報 專利文獻3:日本特許第6281023號公報 專利文獻4:國際公開第2020/004641號
[發明所欲解決之課題]
於專利文獻1~3所記載之濾光器中,接近紅外線區域之截止波長被調整至600~680 nm之範圍。自良好地遮蔽紅外線之觀點,該情況為有利,但自提高紅色波段之穿透率之觀點,難以說是有利的。另一方面,於專利文獻4所記載之濾光器中,於紅外線區域附近穿透率達到50%之波長為680 nm以上,但需要反射層,且必須藉由反射層來彌補吸收層所未充分遮蔽之光。因此,於專利文獻4所記載之濾光器中,為了形成反射層而需要繁雜之步驟。
因此,本發明提供一種光吸收體,其容易提高可見光區域、特別是紅色波段之穿透率,且可良好地遮蔽近紅外線。 [解決課題之技術手段]
本發明提供一種光吸收體,其於0°之入射角度之穿透光譜滿足下述(I)、(II)、(III)、(IV)、(V)及(VI)之條件。 (I)於波長450 nm~600 nm之範圍的穿透率之平均值為75%以上。 (II)於波長350 nm~450 nm之範圍中,穿透率達到50%之第一波長為380 nm以上且440 nm以下。 (III)於波長650 nm~750 nm之範圍中,穿透率達到50%之第二波長為680 nm以上且740 nm以下。 (IV)於波長350 nm~370 nm之範圍的穿透率之最大值為1%以下。 (V)於波長800 nm~900 nm之範圍的穿透率之最大值為5%以下。 (VI)於波長1100 nm~1200 nm之範圍的穿透率之最大值為5%以下。
又,本發明提供一種附光吸收體之物品,其具備: 物品;及 上述光吸收體,其形成於上述物品之一部分表面。
又,本發明提供一種光吸收性組成物,係硬化該光吸收性組成物而獲得之光吸收體於0°之入射角度之穿透光譜滿足下述(i)、(ii)、(iii)、(iv)、(v)及(vi)之條件者。 (i)於波長450 nm~600 nm之範圍的穿透率之平均值為75%以上。 (ii)於波長350 nm~450 nm之範圍中,穿透率達到50%之第一波長為380 nm以上且440 nm以下。 (iii)於波長650 nm~750 nm之範圍中,穿透率達到50%之第二波長為680 nm以上且740 nm以下。 (iv)於波長350 nm~370 nm之範圍的穿透率之最大值為1%以下。 (v)於波長800 nm~900 nm之範圍的穿透率之最大值為5%以下。 (vi)於波長1100 nm~1200 nm之範圍的穿透率之最大值為5%以下。 [發明之效果]
於上述光吸收體中,容易提高可見光區域、特別是紅色波段之穿透率。此外,上述光吸收體可良好地遮蔽近紅外線。
考慮將具備CMOS感測器等之攝影機作為車載系統之一部分搭載於車輛中。此外,還考慮將此種攝影機用於無人機及自主機器人等驅動裝置、移動裝置及搬運裝置。於該情形時,藉由攝影機主要以拍攝圖像等資訊之形式獲取外部之狀況,根據該所獲取之資訊,可以輔助駕駛、操縱者或用於自動操縱之控制系統之動作。於該情形時,自提升外部環境之識別精度之觀點,攝影機具備可見光範圍之穿透率高且可良好地遮蔽紅外線之濾光器為有利。可見光範圍係指電磁波中人能識別為光之波長之範圍,該波長之範圍的下限為360~400 nm,該波長之範圍的上限為760~830 nm。又,根據日本產業規格(JIS)Z 8120:2001,可見光範圍可為380~780 nm之範圍。紅外線、特別是近紅外線(NIR)被定義為具有超過可見光範圍之波長範圍且直至波長1400 nm左右之範圍之波長的電磁波。
信號及道路標誌等有時以紅色來表示與危險或安全相關之標示。例如,除紅色燈號以外,交通標誌(道路標誌)中之車輛禁止進入、停止及慢行等管制標誌亦屬於此種標示。為了確實地識別包括如上述之紅色燈號及管制標誌等之周邊物體,重要的是於濾光器之穿透光譜中,與紅色對應之波長範圍之穿透率高。標示於管制標誌等之紅色亦取決於復歸反射性片材等構件之規格,例如於下限為580~620 nm、上限為約超過780 nm之波長範圍內顯示出高反射率。當假設可見光範圍之波長上限為780 nm時,於濾光器之穿透光譜中,下述情形為有利:於波長580~780 nm之範圍的穿透率高,或者於波長620~760 nm之範圍的穿透率高,或者於波長620~750 nm之範圍的穿透率高。
此外,為了抑制例如受到周邊行駛之車輛、移動裝置或搬運裝置中使用紅外線進行感測之影響而使得攝影機無法獲得良好之拍攝圖像等問題,重要的是濾光器可良好地遮蔽紅外線。可以理解到,於專利文獻4所記載之濾光器之特性係基於此種觀點而進行調整。另一方面,於專利文獻4所記載之濾光器除吸收層以外,還具備反射層。因此,本發明人為了開發即便不使用反射層,亦可提高紅色波段之穿透率,且可良好地遮蔽近紅外線之技術,反覆進行了大量試誤。結果,終於完成了本發明。
於本說明書中,只要未特別指定,則可見光範圍或可見光區域被定義為波長380~780 nm之範圍,紅色波段被定義為波長580~780 nm之範圍的波段或該範圍內之一部分波段。又,只要未特別指定,則紅外線被定義為屬於波長大於作為可見光範圍之上限的780 nm,且直至波長1400 nm之範圍的光(電磁波),且與近紅外線(NIR)對應。紫外線被定義為屬於自波長280 nm至作為可見光範圍之下限的380 nm之範圍的光(電磁波),且與UV-A及UV-B之一部分對應。
以下,對本發明之實施方式進行說明。再者,以下之說明係關於本發明之例示,本發明並不限於以下之實施方式。
(光吸收體) 圖1A係表示光吸收體10之剖視圖。光吸收體10於0°之入射角度之穿透光譜滿足下述(I)、(II)、(III)、(IV)、(V)及(VI)之條件。 (I)於波長450 nm~600 nm之範圍的穿透率之平均值T A 0 450-600 為75%以上。 (II)於波長350 nm~450 nm之範圍中,穿透率達到50%之第一波長λ 50 0 UV 為380 nm以上且440 nm以下。 (III)於波長650 nm~750 nm之範圍中,穿透率達到50%之第二波長λ 50 0 IR 為680 nm以上且740 nm以下。 (IV)於波長350 nm~370 nm之範圍的穿透率之最大值T M 0 350-370 為1%以下。 (V)於波長800 nm~900 nm之範圍的穿透率之最大值T M 0 800-900 為5%以下。 (VI)於波長1100 nm~1200 nm之範圍的穿透率之最大值T M 0 1100-1200 為5%以下。
藉由滿足(I)、(II)及(III)之條件,容易提高可見光區域之穿透率,特別是藉由滿足(III)之條件,容易提高光吸收體10於紅色波段之穿透率。此外,藉由滿足(V)及(VI)之條件,光吸收體10可良好地遮蔽紅外線。又,藉由滿足(IV)之條件,光吸收體10可良好地遮蔽紫外線。
關於(I)之條件,平均值T A 0 450-600 較理想為80%以上,更理想為85%以上。此外,光吸收體10於0°之入射角度之穿透光譜較理想為進而滿足下述(Ia)之條件。 (Ia)於波長650 nm~670 nm之範圍的穿透率之平均值T A 0 650-670 為70%以上。
關於(Ia)之條件,平均值T A 0 650-670 較理想為72%以上,更理想為74%以上。
關於(II)之條件,第一波長λ 50 0 UV 較理想為385 nm以上且420 nm以下,更理想為390 nm以上且410 nm以下。
關於(III)之條件,第二波長λ 50 0 IR 較理想為超過680 nm且740 nm以下,更理想為685 nm以上且730 nm以下,進而理想為690 nm以上且720 nm以下。
關於(IV)之條件,最大值T M 0 350-370 較理想為0.5%以下。
關於(V)之條件,最大值T M 0 800-900 較理想為3%以下。
關於(VI)之條件,最大值T M 0 1100-1200 較理想為3%以下。
光吸收體10於0°之入射角度之穿透光譜例如進而滿足下述(VII)之條件。藉此,容易更加確實地提高光吸收體10於紅色波段之穿透率。 (VII)於波長750 nm之穿透率T 0 750 為7%以上。
關於(VII)之條件,穿透率T 0 750 較理想為10%以上,更理想為15%以上。
光吸收體10於0°之入射角度之穿透光譜例如進而滿足下述(VIII)之條件。藉此,容易更加確實地提高光吸收體10於紅色波段之穿透率。 (VIII)於波長780 nm之穿透率T 0 780 為3%以上。
關於(VIII)之條件,穿透率T 0 780 較理想為4%以上,更理想為5%以上。
光吸收體10於55°之入射角度之穿透光譜例如具有於波長350 nm~450 nm之範圍中穿透率達到50%之第三波長λ 50 55 UV 。第三波長λ 50 55 UV 與第一波長λ 50 0 UV 之差的絕對值Δλ 50 0/55 UV 例如為12 nm以下。藉此,容易減少光吸收體10之穿透光譜之入射角依存性。因此,例如可抑制在藉由具備光吸收體10之攝像裝置所獲得之圖像的中心部及周邊部發生色調變化。此外,還可抑制存在於具備光吸收體10之攝像裝置所能拍攝之視角範圍內的被攝體之圖像中發生色調變化。絕對值Δλ 50 0/55 UV 較理想為10 nm以下,更理想為8 nm以下,進而理想為6 nm以下。
光吸收體10於55°之入射角度之穿透光譜例如具有於波長650 nm~750 nm之範圍中穿透率達到50%之第四波長λ 50 55 IR 。第四波長λ 50 55 IR 與第二波長λ 50 0 IR 之差的絕對值Δλ 50 0/55 IR 例如為24 nm以下。藉此,容易減少光吸收體10之穿透光譜之入射角依存性。因此,例如可抑制在藉由具備光吸收體10之攝像裝置所獲得之圖像的中心部及周邊部發生色調變化。此外,還可抑制存在於具備光吸收體10之攝像裝置所能拍攝之視角範圍內的被攝體之圖像中發生色調變化。絕對值Δλ 50 0/55 IR 較理想為20 nm以下,更理想為18 nm以下,進而理想為16 nm以下。
光吸收體10於45°之入射角度之穿透光譜例如具有於波長350 nm~450 nm之範圍的穿透率達到50%之波長λ 50 45 UV 。波長λ 50 45 UV 與第一波長λ 50 0 UV 之差的絕對值Δλ 50 0/45 UV 例如為10 nm以下,較理想為8 nm以下,更理想為5 nm以下。
光吸收體10於35°之入射角度之穿透光譜例如具有於波長350 nm~450 nm之範圍的穿透率達到50%之波長λ 50 35 UV 。波長λ 50 35 UV 與第一波長λ 50 0 UV 之差的絕對值Δλ 50 0/35 UV 例如為8 nm以下,較理想為6 nm以下,更理想為4 nm以下。
光吸收體10於45°之入射角度之穿透光譜例如具有於波長650 nm~750 nm之範圍中穿透率達到50%之波長λ 50 45 IR 。波長λ 50 45 IR 與第二波長λ 50 0 IR 之差的絕對值Δλ 50 0/45 IR 例如為18 nm以下,較理想為16 nm以下,更理想為12 nm以下。
光吸收體10於35°之入射角度之穿透光譜例如具有於波長650 nm~750 nm之範圍中穿透率達到50%之波長λ 50 35 IR 。波長λ 50 35 IR 與第二波長λ 50 0 IR 之差的絕對值Δλ 50 0/35 IR 例如為12 nm以下,較理想為10 nm以下,更理想為8 nm以下。
光吸收體10典型地含有特定之光吸收劑。光吸收體10中所含之光吸收劑並不限於特定物質,只要光吸收體10於0°之入射角度之穿透光譜滿足(I)~(VI)之條件即可。光吸收體10例如可含有:含有膦酸及銅成分之光吸收性化合物作為光吸收劑,還可含有會吸收至少一部分紫外線之紫外線吸收劑。光吸收體10為形成於薄膜或特定對象物上之膜等固體狀態,光吸收體10可藉由使作為其前驅物之液態光吸收性組成物進行硬化來製作。於光吸收體10中含有可發揮特定功能之化合物之情形時,作為光吸收體前驅物之光吸收性組成物中當然亦可含有該化合物或其前驅物。
(膦酸) 光吸收體10或光吸收性組成物中所含之光吸收性化合物中之膦酸並不限於特定膦酸,只要光吸收體10於0°之入射角度之穿透光譜滿足(I)~(VI)之條件即可。該膦酸例如由下述式(a)表示。於式(a)中,R 1為烷基或烷基中之至少一個氫原子被取代為鹵素原子而成之鹵化烷基。於該情形時,光吸收體10之穿透波段容易擴展至波長700 nm附近,且光吸收體10容易具有所需之穿透率特性。
Figure 02_image001
膦酸例如為甲基膦酸、乙基膦酸、正(n-)丙基膦酸、異丙基膦酸、正(n-)丁基膦酸、異丁基膦酸、第二丁基膦酸、第三丁基膦酸或溴甲基膦酸。
(銅成分) 光吸收體10或光吸收性組成物中所含之光吸收化合物中之銅成分係包括銅離子、銅錯合物及含有銅之化合物等的概念。銅成分可具有對屬於近紅外線區域之一部分光較佳之吸收特性、及於波長450 nm~680 nm之可見光範圍之高透光性。具體而言,因二價銅離子於d軌道之電子躍遷,而會選擇性地吸收與該能量對應之屬於近紅外線區域之波長的光,藉此發揮優異之近紅外線吸收特性。特別是二價銅離子能夠以銅鹽之形態與膦酸混合,使得膦酸配位於銅離子而形成銅錯合物(銅鹽)。
供膦酸配位之銅成分的供給源並不限於該等,可為乙酸銅、苯甲酸銅、焦磷酸銅及硬脂酸銅等有機酸之無水銅鹽或水合銅鹽、或者該等之混合體。又,可單獨使用該等銅鹽,亦可使用複數種銅鹽或其等之混合物。
光吸收體10中之銅成分及膦酸之含量並不限於特定值。光吸收體10中之膦酸含量相對於銅成分含量之比,例如以物質量(莫耳)基準計為0.3~1.5。光吸收體10中之膦酸含量相對於銅成分含量之比較佳可為0.4~1.4,更佳可為0.6~1.2,進而較佳可為0.8~1.1。
(磷酸酯) 光吸收體10或光吸收性組成物例如可進而含有磷酸酯化合物。藉由磷酸酯之作用,光吸收性化合物容易適當地分散於光吸收體10中。磷酸酯可作為光吸收性化合物之分散劑發揮功能,亦可其一部分與金屬成分反應而形成化合物。例如磷酸酯可配位於光吸收性化合物,或者可與該化合物反應,亦可與銅成分形成部分錯合物。只要光吸收體10滿足與特定之穿透光譜相關之條件,則含有磷酸酯及銅成分之化合物亦可吸收一部分波長之光。只要至少含有膦酸及銅成分之光吸收性物質適當地分散於作為光吸收體10之前驅物之光吸收性組成物中,則亦可實質上不含磷酸酯。又,例如於光吸收性組成物含有下述烷氧基矽烷單體以賦予分散功能之情形時,可降低磷酸酯之添加量。
磷酸酯並不限於特定之磷酸酯或其化合物。磷酸酯例如具有聚氧烷基。作為此種磷酸酯,可例舉:Plysurf A208N:聚氧乙烯烷基(C12、C13)醚磷酸酯;Plysurf A208F:聚氧乙烯烷基(C8)醚磷酸酯;Plysurf A208B:聚氧乙烯月桂醚磷酸酯;Plysurf A219B:聚氧乙烯月桂醚磷酸酯;Plysurf AL:聚氧乙烯苯乙烯化苯醚磷酸酯;Plysurf A212C:聚氧乙烯十三烷基醚磷酸酯;或Plysurf A215C:聚氧乙烯十三烷基醚磷酸酯。該等均為第一工業製藥公司製造之製品。此外,作為磷酸酯,可例舉:NIKKOL DDP-2:聚氧乙烯烷基醚磷酸酯;NIKKOL DDP-4:聚氧乙烯烷基醚磷酸酯;或NIKKOL DDP-6:聚氧乙烯烷基醚磷酸酯。該等均為Nikko Chemicals公司製造之製品。該等磷酸酯化合物可單獨或組合複數種使用。
光吸收體10中之膦酸及磷酸酯之含量並不限於特定值。光吸收體10中之膦酸含量相對於磷酸酯含量之比,例如以質量基準計為0.6~1.6。藉此,即便光吸收體10與水蒸氣接觸,磷酸酯之水解亦被抑制,光吸收體10容易具有良好之耐候性。光吸收體10中之膦酸含量相對於磷酸酯含量之比,較佳可為0.7~1.5,更佳可為0.8~1.4。
又,光吸收體10中之銅成分含量相對於磷成分含量之比,並不限於特定值。光吸收體10中之銅成分含量相對於磷成分含量之比,以質量基準計例如為1.0~3.0,較佳可為1.5~2.0。磷成分可源自光吸收體10或作為其前驅物之光吸收性組成物中所含之膦酸,亦可源自光吸收體10或作為其前驅物之光吸收性組成物中所含之膦酸及磷酸酯,亦可被含於其他添加物中。
(烷氧基矽烷或其水解物) 光吸收體10或光吸收性組成物例如可進而含有烷氧基矽烷。烷氧基矽烷包括烷氧基矽烷之單體或其等之一部分經水解而成者。藉由烷氧基矽烷存在,可防止光吸收劑之粒子彼此凝聚,故即便降低上述磷酸酯之含量,光吸收劑亦良好地分散於光吸收性組成物或其硬化而成之光吸收體中。又,較理想為於使用光吸收性組成物來製造光吸收體或光吸收性濾光器之情形時,以會充分發生烷氧基矽烷之水解反應及縮聚反應之方式進行處理,藉此,形成矽氧烷鍵(-Si-O-Si-),且光吸收體具有良好之耐濕性。此外,光吸收體還具有良好之耐熱性。其原因在於:矽氧烷鍵其鍵結能高於-C-C-鍵及-C-O-鍵等鍵,化學上穩定,且耐熱性及耐濕性優異。
又,於光吸收性組成物含有烷氧基矽烷之情形時,使光吸收性組成物硬化來製作光吸收體時,可進行所謂之加濕處理,即置於濕度相對較高之環境一定時間。認為藉由加濕處理,環境中之水分會促進光吸收性組成物或光吸收體中所含之烷氧基矽烷之水解,從而促進矽氧烷鍵之生成。又,藉由加濕處理,可於含有光吸收劑之微粒子不凝聚之狀態形成硬質緻密之光吸收體10。
烷氧基矽烷並不限於特定之烷氧基矽烷,只要藉由水解反應及縮聚反應,可於光吸收體10中形成具有矽氧烷鍵之水解縮聚化合物即可。烷氧基矽烷例如可為四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷或3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷等單體,亦可為該等之一部分鍵結而成之二聚物或寡聚物等。
(硬化性樹脂) 光吸收體10或光吸收性組成物例如可進而含有硬化性樹脂。要求樹脂可使上述含有膦酸及銅成分之光吸收性化合物分散或溶解並保持。又,樹脂較理想為於未硬化或未反應之狀態為液態,且可使上述含有膦酸及銅成分之光吸收性化合物分散或溶解。進而,作為樹脂,較理想為含有光吸收性化合物,且可藉由旋轉塗佈、噴灑、浸漬及點膠等塗覆方法將未硬化之液態樹脂塗佈於任意對象物上而形成塗膜者。形成塗膜之對象物係具有任意表面之基材,該表面無論是平面還是曲面均可。未硬化之液態樹脂較理想為藉由加熱、加濕、光等能量照射或該等之組合的方法而可硬化者。樹脂並不限於特定樹脂,只要光吸收體10於0°之入射角度之穿透光譜滿足(I)~(VI)之條件、或使樹脂硬化所形成之表面平滑且具有1 mm之厚度的板狀體之穿透光譜滿足於波長450 nm~800 nm為90%以上之條件的任一者即可。關於樹脂之例,為環狀聚烯烴系樹脂、環氧系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、改質丙烯酸樹脂、聚矽氧樹脂、及PVB等聚乙烯系樹脂。
(硬化觸媒) 光吸收體10或作為其前驅物之光吸收性組成物亦可含有與上述樹脂之硬化有關之硬化觸媒。硬化樹脂可為可控制樹脂之硬化速度、樹脂之硬化的反應性及經硬化之樹脂的硬度等條件之觸媒。
作為硬化觸媒,較佳為含有金屬成分之有機化合物(有機金屬化合物)。有機金屬化合物並不限於特定化合物。作為有機金屬化合物可使用有機鋁化合物、有機鈦化合物、有機鋯化合物、有機鋅化合物或有機錫化合物等。
作為有機鋁化合物可例示:三乙酸鋁及辛酸鋁等鋁鹽化合物、三甲氧鋁、三乙氧鋁、二甲氧鋁、二乙氧鋁、三烯丙氧鋁(aluminum triallyloxide)、二烯丙氧鋁、及異丙氧鋁等烷氧化鋁化合物;以及甲氧鋁雙(乙醯乙酸乙酯)、甲氧鋁雙(乙醯丙酮)、乙氧鋁雙(乙醯乙酸乙酯)、乙氧鋁雙(乙醯丙酮)、異丙氧鋁雙(乙醯乙酸乙酯)、異丙氧鋁雙(乙醯乙酸甲酯)、異丙氧鋁雙(乙醯乙酸第三丁酯)、丁氧鋁雙(乙醯乙酸乙酯)、二甲氧鋁(乙醯乙酸乙酯)、二甲氧鋁(乙醯丙酮)、二乙氧鋁(乙醯乙酸乙酯)、二乙氧鋁(乙醯丙酮)、二異丙氧鋁(乙醯乙酸乙酯)、二異丙氧鋁(乙醯乙酸甲酯)、參(乙醯乙酸乙酯)鋁、及參(乙醯丙酮)鋁等鋁螯合化合物等,但並不限於該等。該等可單獨使用或組合複數種使用。
有機鈦化合物可例示:四乙醯丙酮鈦、二乙醯丙酮二丁氧基鈦、乙醯乙酸乙酯鈦、辛二醇鈦及乳酸鈦等鈦螯合物類;以及鈦酸四異丙酯、鈦酸四丁酯、鈦酸四甲酯、四(鈦酸2-乙基己酯)、四-2-乙基己氧鈦、丁氧鈦二聚物、四正丁氧鈦、四異丙氧鈦及二異丙氧鈦雙(乙醯乙酸乙酯)等烷氧化鈦類,但並不限於該等。該等可單獨使用或組合複數種使用。
有機鋯化合物可例示:四乙醯丙酮鋯、二丁氧鋯雙(乙醯乙酸乙酯)、乙醯丙酮單丁氧鋯雙(乙醯乙酸乙酯)、單乙醯丙酮三丁氧鋯及四乙醯丙酮鋯等鋯螯合物類;以及四正丁氧鋯及四正丙氧鋯等烷氧化鋯類,但並不限於該等。該等可單獨使用或組合複數種使用。
作為有機鋅化合物,可例示:二甲氧鋅、二乙氧鋅及乙基甲氧鋅等烷氧化鋅等。該等可單獨使用或組合複數種使用。
作為有機錫化合物,可例示:氧化二甲基錫、氧化二乙基錫、氧化二丙基錫、氧化二丁基錫、氧化二戊基錫、氧化二己基錫、氧化二庚基錫及氧化二辛基錫等烷氧化錫等。該等可單獨使用或組合複數種來使用。
作為硬化觸媒,可進而含有如上述般具有金屬成分之烷氧化物及具有金屬成分之烷氧化物的水解物之至少1種。將具有金屬成分之烷氧化物及具有金屬成分之烷氧化物的水解物總稱為「金屬烷氧化物化合物」。金屬烷氧化物係以通式M(OR) n(M為金屬元素,n為1以上之整數)表示,且係醇之羥基的氫原子被取代為金屬元素M而成之化合物。金屬烷氧化物係藉由水解形成M-OH,進而藉由與其他分子之金屬烷氧化物之反應形成M-O-M鍵。例如,光吸收性組成物含有硬化性樹脂等化合物,使流動性之光吸收性組成物硬化而形成光吸收體10時,金屬烷氧化物化合物可作為促進光吸收性組成物之硬化之觸媒而發揮功能。藉由加熱處理使光吸收性組成物硬化時,加熱處理之溫度越高,耐熱性等抗環境性越容易提升。另一方面,若加熱處理之溫度高,則一部分光吸收性化合物或下述紫外線吸收劑之特性有可能降低。若紫外線吸收劑之特性降低,則紫外線吸收劑所吸收之光的波長有可能偏離預定之吸收波長。亦有可能導致紫外線吸收劑之吸收能力的降低或消失。但是,於光吸收體10含有金屬烷氧化物化合物之情形時,即便加熱處理之溫度不高,亦可促進光吸收性組成物之硬化。結果,光吸收體10容易具有高抗環境性。
金屬烷氧化物化合物中所含之金屬成分並不限於特定成分。關於該金屬成分之例,例如為Al、Ti、Zr、Zn、Sn及Fe。作為金屬烷氧化物,例如可使用:信越化學工業公司製造之烷氧化鋁即CAT-AC及DX-9740、Matsumoto Fine Chemical公司製造之烷氧化鋁即ORGATIX AL-3001;東京化成公司製造之烷氧化鋁即異丙氧鋁;信越化學工業公司製造之烷氧化鈦即D-20、D-25及DX-175;Matsumoto Fine Chemical公司製造之烷氧化鈦即ORGATIX TA-8、TA-21、TA-30、TA-80及TA-90;信越化學工業公司製造之烷氧化鋯即D-15及D-31;以及Matsumoto Fine Chemical公司製造之烷氧化鋯即ORGATIX ZA-45及ZA-65。
光吸收體10中銅成分之含量相對於金屬烷氧化物化合物中所含之金屬成分之含量的比,並不限於特定值。光吸收體10中銅成分之含量相對於金屬烷氧化物化合物中所含之金屬成分之含量的比,以質量基準計可為1×10 2~7×10 2,較佳可為2×10 2~6×10 2,進而較佳可為3×10 2~5×10 2
進而,光吸收體10中磷成分之含量相對於金屬烷氧化物化合物中所含之金屬成分之含量的比,並不限於特定值。光吸收體10中磷成分之含量相對於金屬烷氧化物化合物中所含之金屬成分之含量的比,以質量基準計可為0.5×10 2~5×10 2,較佳可為1×10 2~4×10 2,進而較佳可為1.5×10 2~3×10 2
(紫外線吸收劑) 光吸收體10或作為其前驅物之光吸收性組成物可含有吸收屬於紫外線之一部分光之紫外線吸收劑。紫外線吸收劑並不限於特定化合物,只要光吸收體10於0°之入射角度之穿透光譜滿足(I)~(VI)之條件即可。紫外線吸收劑例如為分子內不具有羥基及羰基兩者之化合物,且係以結構式表示時於一個分子內不具有羥基及羰基這兩種基之化合物。藉由反應物質或前驅物配位於具有金屬成分之烷氧化物等分子內之特定位置等,可促進光吸收性組成物之硬化。例如,若下述之基存在則有可能減弱觸媒之作用,該基係藉由除提供在用於使光吸收性組成物硬化之反應之物質以外的物質而容易配位者。特別是羥基及羰基均具有高電子供應性,且烷氧化物化合物與具有該等基之紫外線吸收劑反應或配位,而使得該等之一部分形成錯合物,藉此,紫外線吸收劑原本所具備之紫外線吸收特性有可能發生變化。但是,於紫外線吸收劑為分子內不具有羥基及羰基這兩種基之化合物之情形時,烷氧化物化合物不易與紫外線吸收劑形成錯合物,容易發揮紫外線吸收劑原本之紫外線吸收特性。再者,紫外線吸收劑可於分子內僅含有羥基及羰基中之任一種基。
紫外線吸收劑較理想為基於下述觀點來選擇:吸收所需之波長範圍之光;與特定溶劑具有相溶性;良好地分散於光吸收性組成物、特別是硬化性樹脂等;及抗環境性優異等。關於紫外線吸收劑之例,為二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、水楊酸系化合物及三
Figure 110144278-A0101-12-01
系化合物。例如作為紫外線吸收劑可使用TinuvinPS、Tinuvin99-2、Tinuvin234、Tinuvin326、Tinuvin329、Tinuvin900、Tinuvin928、Tinuvin405及Tinuvin460。該等為BASF公司製造之紫外線吸收劑,Tinuvin為註冊商標。
光吸收體10中之紫外線吸收劑之含量並不限於特定值,只要光吸收體10於0°之入射角度之穿透光譜滿足(I)~(VI)之條件即可。可藉由含有少量紫外線吸收劑而發揮高吸收能力。光吸收體10中紫外線吸收劑之含量相對於銅成分之含量的比,以質量基準計例如為0.01~1,較理想為0.02~0.5,更理想為0.07~0.14。光吸收體10中紫外線吸收劑之含量相對於磷成分之含量的比,以質量基準計例如為0.02~2,較理想為0.04~1,更理想為0.12~0.26。
如圖1所示,光吸收體10例如為膜狀。於本說明書中,「膜」與塗層或層同義。光吸收體10並不限於膜狀。
光吸收體10之厚度並不限於特定值,只要光吸收體10於0°之入射角度之穿透光譜滿足(I)~(VI)之條件即可。光吸收體10之厚度例如為120 μm以下,較理想為100 μm以下,更理想為80 μm以下。自具備光吸收體10之攝像裝置的低背化之觀點,光吸收體10之厚度小為有利。
就可對薄膜狀之光吸收體10賦予柔軟性,且可包含光吸收性優異之含有膦酸及銅成分之光吸收性化合物作為光吸收劑之方面而言,較佳為含有聚矽氧樹脂作為硬化性樹脂。又,為了謀求提升聚矽氧樹脂等樹脂之硬化性,可添加硬化觸媒。聚矽氧樹脂之硬化觸媒較佳為含有金屬成分之螯合物及含有金屬成分之烷氧化物等含有金屬成分之化合物。另一方面,於以往為了控制短波長側之光譜而添加紫外線吸收劑之情形時,有時含有於硬化觸媒等之金屬成分與紫外線吸收劑會產生交互作用,使短波長側之截止波長大幅度位移等紫外線吸收劑原本所具備之吸收特性發生變化。因此,以往,含有紫外線吸收劑之層及包含含有膦酸及銅之光吸收劑的樹脂之層,需要以各自為不同層的形式來具備,作為光吸收體,厚度有增大之趨勢。於本發明中,即使於單一之層或膜中包含由含金屬成分之化合物所構成之樹脂的硬化觸媒時,亦可藉由使用特定之紫外線吸收劑,而使紫外線吸收劑包含於同一層或膜中。藉此,可發揮紫外線吸收劑原本之紫外線吸收性能,而能夠以更少之層數獲得光吸收體10,進而可縮小光吸收體10之厚度。
光吸收體10例如可藉由使特定之光吸收性組成物硬化而製作。
光吸收性組成物並不限於特定組成物,只要光吸收體10於0°之入射角度之穿透光譜滿足(I)~(VI)之條件即可。光吸收性組成物例如可含有含膦酸及銅成分之光吸收性化合物、及吸收至少一部分紫外線之紫外線吸收劑。關於光吸收性化合物,可參照光吸收體10中之光吸收性化合物之記載。
光吸收性組成物例如進而含有具有金屬成分之烷氧化物及具有金屬成分之烷氧化物的水解物之至少1種。關於具有金屬成分之烷氧化物及具有金屬成分之烷氧化物的水解物,可參照光吸收體10中之烷氧化物化合物之記載。
光吸收性組成物中之紫外線吸收劑並不限於特定化合物,只要光吸收體10於0°之入射角度之穿透光譜滿足(I)~(VI)之條件即可。關於紫外線吸收劑之例,可參照光吸收體10中之紫外線吸收劑之記載。紫外線吸收劑例如為分子內不含羥基及羰基這兩種基之化合物。即,紫外線吸收劑可為僅含有羥基及羰基中之任一種基之化合物。
光吸收性組成物例如進而含有磷酸酯。藉此,光吸收性化合物容易適當地分散於光吸收性組成物。關於磷酸酯,可參照光吸收體10中之磷酸酯之記載。
光吸收性組成物例如進而含有硬化性樹脂。關於硬化性樹脂,可參照光吸收體10中之樹脂之記載。
製備光吸收性組成物時,光吸收性化合物中之銅成分之供給源並不限於特定物質。銅成分之供給源例如為銅鹽。銅鹽可為氯化銅、甲酸銅、硬脂酸銅、苯甲酸銅、焦磷酸銅、環烷酸銅及檸檬酸銅之無水物或水合物。例如,乙酸銅一水合物表示為Cu(CH 3COO) 2・H 2O,且藉由1莫耳之乙酸銅一水合物來供給1莫耳之銅離子。
例如,可使用在物品之表面形成光吸收體10之構件作為濾光器。此外,亦可藉由在物品之表面形成光吸收體10後將其剝離,而將光吸收體10本身獨立地用作濾光器。光吸收體10之製作方法並不限於特定方法。光吸收體10可藉由鑄造(澆鑄)、壓縮成形、真空成形、加壓成形、射出成形、吹塑成形及擠壓成形法等方法來製作。
如圖1A所示,光吸收體10可單獨使用。另一方面,如圖1B所示,可提供附光吸收體之物品1a。附光吸收體之物品1a具備物品20、及光吸收體10。光吸收體10覆蓋物品20之至少一部分表面。
附光吸收體之物品1a中之物品20之形狀並不限於特定形狀。物品20可為平板狀之構件或基板。物品20並不限於特定物品。物品20例如可為透鏡、反射鏡、稜鏡、散光器(diffuser)、平板微透鏡陣列、偏光元件、繞射光柵、全像片、光調變元件、光偏轉元件、及濾光器等光學元件(包括聲光學元件),物品20亦可為固體攝像裝置、建築物或汽車之窗戶或擋風玻璃、頭盔、及護目鏡等透光性之罩、或者顯示器及螢幕等顯示裝置,附光吸收體之物品1a可為所謂之濾光器。被光吸收體10覆蓋之物品20之表面可為平面,亦可為曲面,還可為具有凹凸之面。
可藉由使用光吸收性組成物將透鏡等光學元件成形而獲得光吸收體10。於該情形時,光吸收體10可單獨使用。
(功能性膜) 如圖1C及圖1D所示,附光吸收體之物品1a或光吸收體10可具備其他功能性膜30。其他功能性膜並不限於特定膜,可為:用於謀求提升耐擦傷性之硬塗膜(硬塗層);在使光入射至附光吸收體之物品1a或光吸收體10時,用於減少來自該等之表面之屬於特定波長範圍之反射光或防止反射光之產生的降低反射膜或抗反射膜(以下,將該等總稱為「抗反射膜」);在使光入射至附光吸收體之物品1a或光吸收體10時,用於更大地反射來自該等之表面之屬於特定波長範圍之光的膜(以下,稱為「反射膜」);在使光入射至附光吸收體之物品1a或光吸收體10時,降低具有除特定方向以外之偏光方向的光之穿透率的偏光膜;或藉由其他構成或特定之作用等來吸收一部分波長範圍之光的波長選擇光吸收膜。功能性膜30可由該等功能性膜之任一者單獨構成,亦可由複數種功能性膜所構成。
於附光吸收體之物品1a或光吸收體10具備抗反射膜作為功能性膜30之情形時,附光吸收體之物品1a或光吸收體10可於其一主面或兩主面側具備抗反射膜。此處,主面為附光吸收體之物品1a或光吸收體10等之具有基材最大面積之面。
抗反射膜例如以一種以上之材料具有一層以上之層。構成抗反射膜之材料並不限於特定材料。抗反射膜例如可為藉由以SiO 2或SiO 1.5、TiO 2或TiO 1.5為主成分之溶膠凝膠法等而形成之膜,亦可為於該主成分中分散有中空微粒子或低折射率材料之微粒子之膜。抗反射膜可為含有TiO 2、Ta 2O 3、SiO 2、Nb 2O 5、ZnS、MgF或該等之混合物,且藉由蒸鍍法、濺鍍法或離子鍍法等方法而形成之膜。蒸鍍法可為離子束輔助蒸鍍法。抗反射膜可為含有上述材料之單層構成之膜,亦可為不同材料之膜交替地積層而成之多層膜(介電質多層膜)。又,抗反射膜可與光吸收體10相接地形成,亦可與相接於光吸收體10而形成之其他功能層膜相接地形成。
又,於附光吸收體之物品1a或光吸收體10具備光反射膜作為功能性膜30之情形時,藉由光吸收體10與光反射膜之協同作用,可發揮光之遮蔽功能,藉由該等之協同作用可減少或遮蔽屬於特定之波長範圍之光之穿透,因此關於光吸收特性,可減輕光吸收體10所要求之負擔。因此,例如可縮小光吸收體10之厚度。又,亦可降低光吸收體10中之光吸收劑等光吸收性化合物之含量或紫外線吸收劑之含量。
波長選擇光吸收膜並不限於特定膜,可為Ag(銀)、Al(鋁)、Au(金)及Pt(鉑)等金屬之膜,亦可為包含含有一種以上之該等金屬或除該等以外之金屬的化合物之膜。特別是金屬膜由於可對應之波長範圍大,且構造簡單,故可用作發揮光反射或光吸收功能之簡單的膜。此種波長選擇光吸收膜可用作中性密度(ND)或半反射鏡。
於在光吸收體中使用含有羥基及羰基者作為紫外線吸收劑之情形時,有時反射膜及抗反射膜等功能性膜中所含之金屬離子與紫外線吸收劑發生反應,會產生伴隨錯合作用之結構變化。於該情形時,吸收波段位移至長波長側等紫外線吸收能力產生變化,從而無法獲得所需之光學特性。光吸收體10所含之紫外線吸收劑由分子內不具有羥基及羰基這兩種基之化合物所構成,故即便形成含有Ti、Mg及Ta等Si以外之金屬成分之功能性膜,亦不會在功能性膜與光吸收體之界面產生因金屬成分與紫外線吸收劑之反應所導致之光學特性之變化,特別是所假設之可見光範圍之穿透率降低,故為有利。又,就可抑制於同一界面因錯合作用反應所導致之膜剝離或皺褶之產生等問題之方面而言,亦為有利。
可提供一種具備光吸收體10之裝置。此種裝置之用途並不限於特定用途。此種裝置例如為車載用攝影機及車載用感測器。於該情形時,由於光吸收體10具有特定之紫外線吸收性,故可保護攝像元件及感測器素子免受紫外線傷害。又,由於光吸收體10於波長700 nm附近具有較高之穿透率,故於使用紅外線或紅色雷射之光學雷達(light detection and ranging,Lidar)系統等感測系統可使用光吸收體10。光吸收體10中,特別是屬於紅色之光之穿透性較高,故具備光吸收體10之裝置識別紅色燈號及道路標識等對象物之能力容易提高。此外,由於光吸收體10藉由吸收來遮蔽特定之波長區域之光,故具備光吸收體10之裝置可抑制重影及閃光。進而,Lidar系統不僅可搭載於車載用途之機器,且可搭載於智慧型手機等可攜式資訊終端。
如圖2所示,例如可提供一種具備光吸收體10之攝像裝置100。攝像裝置100例如進而具備透鏡系統40及攝像元件50。光吸收體10例如配置於透鏡系統40與攝像元件50之間。攝像裝置100之適用對象並不限於特定製品。攝像裝置100例如可用作搭載於智慧型手機等可攜式資訊終端之攝影機模組、組裝於車載用感測模組之裝置、及組裝於無人機等無人飛機或無人水面載具(USV)中之感測模組之裝置。光吸收體10亦可用於環境光感測器,該環境光感測器用於偵測搭載光吸收體10之裝置等之周圍明度。 [實施例]
藉由實施例,更詳細地說明本發明。再者,本發明並不限於以下之實施例。首先,對各實施例及各比較例之濾光器之評價方法進行說明。
(穿透光譜測定) 使用日本分光公司製造之紫外可見近紅外分光光度計V-670,對各實施例之濾光器於0°、35°、45°及55°之入射角度之穿透光譜進行測定。將實施例1~3之濾光器之穿透光譜示於圖3A~圖5C。另一方面,同樣地,對各比較例之濾光器於0°之入射角度之穿透光譜進行測定。將結果示於圖6~圖9。將觀察該等穿透光譜所獲取之各濾光器之特性值示於表7~9。表7~9中之各項目之下標「IA」表示入射角度[°]。
(厚度測定) 使用基恩斯(KEYENCE)公司製造之雷射位移計LK-H008,來測定濾光器之厚度。將結果示於表3。
<實施例1> 將4.500 g之乙酸銅一水合物及240 g之四氫呋喃(THF)混合並攪拌3小時,獲得乙酸銅溶液。繼而,向所獲得之乙酸銅溶液中添加2.572 g之第一工業製藥公司製造之磷酸酯化合物Plysurf A208N並攪拌30分鐘,獲得A液。又,向2.886 g之正丁基膦酸中添加40 g之THF並攪拌30分鐘,獲得B液。攪拌A液,同時向A液中添加B液,且於室溫攪拌1分鐘。繼而,向該溶液中添加100 g之甲苯後,於室溫攪拌1分鐘,獲得C液。將該C液加入至燒瓶中,利用油浴(東京理化器械公司製造,型號:OSB-2100)加溫,同時藉由旋轉蒸發器(東京理化器械公司製造,型號:N-1110SF)進行脫溶劑處理。油浴之設定溫度調整為105℃。其後,自燒瓶中取出脫溶劑處理後之D液。如此獲得含有由膦酸及銅成分所形成之化合物的組成物α。推測由膦酸及銅成分所形成之化合物以微粒子之形式分散於組成物中。
以5 g之用量將BASF公司製造之苯并三唑系紫外線吸收劑Tinuvin326添加至95 g之甲苯中,攪拌30分鐘,獲得含有紫外線吸收劑之組成物β-1。再者,Tinuvin326含有由下述式(b-1)所表示之2-[5-氯-(2H)-苯并三唑-2-基]-4-甲基-6-(第三丁基)苯酚(2-[5-Chloro-(2H)-Benzotriazol-2-yl]-4-methyl-6-(tert-butyl)phenol)。
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將組成物α、2.0 g之組成物β-1、及0.09 g之含有烷氧化鋁化合物之信越化學工業公司製造之CAT-AC添加至8.80 g之信越化學工業公司製造之聚矽氧樹脂KR-300中,攪拌30分鐘,獲得實施例1之光吸收性組成物。將製備光吸收性組成物時之材料的添加量或光吸收性組成物中之特定成分的含量示於表1。又,將成分的含量之比示於表4。再者,確定用作磷酸酯之Plysurf A208N之平均分子量為632 g/mol。
將0.1 g之大金工業公司製造之表面防污塗佈劑OPTOOL DSX(有效成分之濃度:20質量%)及19.9 g之3M公司製造之含氫氟醚之液體NOVEC 7100混合,攪拌5分鐘,製備氟處理劑(有效成分之濃度:0.1質量%)。藉由流塗(flow coat)法將該氟處理劑塗佈於具有130 mm×100 mm×0.70 mm之尺寸的硼矽酸玻璃(SCHOTT公司製造,製品名:D263 T eco)。其後,將該玻璃基板於室溫放置24小時,使氟處理劑之塗膜乾燥,其後,利用含有NOVEC 7100之無塵布輕輕地擦拭玻璃表面,去除多餘之氟處理劑。如此製作氟處理基板。
使用點膠機,於氟處理基板之一主面之中心部的80 mm×80 mm之範圍塗佈實施例1之光吸收性組成物,而形成塗膜。將所獲得之塗膜於室溫充分乾燥後,放入烘箱中,於室溫~45℃之範圍內緩慢地提高溫度同時使溶劑揮發,而進行乾燥,最終在85℃進行6小時熱處理,使溶劑完全揮發而使其硬化。其後,自氟處理基板剝離塗膜,獲得由薄膜狀之光吸收體所構成之實施例1之濾光器。將實施例1之濾光器於0°及35°之入射角度、0°及45°之入射角度、0°及55°之入射角度之穿透光譜分別示於圖3A、圖3B及圖3C。又,將觀察穿透光譜所獲取之各參數示於表7。
<實施例2> 將作為紫外線吸收劑之5.0 g之BASF公司製造之苯并三唑系紫外線吸收劑Tinuvin234添加至95.0 g之甲苯中並攪拌30分鐘,從而製備含有紫外線吸收劑之組成物β-2。Tinuvin234含有由下述式(b-2)所表示之2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-雙(1-甲基-1-苯乙基)苯酚(Phenol,2-(2H-Benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(1-methyl-1-Phenylethyl))。製備光吸收性組成物時,添加3.6 g之組成物β-2來代替2.0 g之組成物β-1,除此以外,以與實施例1相同之方式製備實施例2之光吸收性組成物。將製備光吸收性組成物時之材料的添加量或光吸收性組成物中之特定成分的含量示於表1。又,將成分的含量之比示於表4。
Figure 02_image005
使用實施例2之光吸收性組成物來代替實施例1之光吸收性組成物,除此以外,以與實施例1相同之方式製作由薄膜狀之光吸收體所構成之實施例2之濾光器。將實施例2之濾光器於0°及35°之入射角度、0°及45°之入射角度、0°及55°之入射角度之穿透光譜分別示於圖4A、圖4B及圖4C。又,將觀察穿透光譜所獲取之各參數示於表7。
<實施例3> 將作為紫外線吸收劑之5.0 g之BASF公司製造之苯并三唑系紫外線吸收劑Tinuvin329添加至95.0 g之甲苯中並攪拌30分鐘,從而製備含有紫外線吸收劑之組成物β-3。Tinuvin329含有由下述式(b-3)所表示之2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)2苯酚(2Phenol,2-(2H-Benzotriazol-2-yl)-4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl))。製備光吸收性組成物時,添加4.0 g之組成物β-3來代替2.0 g之組成物β-1,除此以外,以與實施例1相同之方式製備實施例3之光吸收性組成物。將製備光吸收性組成物時之材料的添加量或光吸收性組成物中之特定成分的含量示於表1。又,將成分的含量之比示於表4。
Figure 02_image007
使用實施例3之光吸收性組成物來代替實施例1之光吸收性組成物,除此以外,以與實施例1相同之方式製作由薄膜狀之光吸收體所構成之實施例3之濾光器。將實施例3之濾光器於0°及35°之入射角度、0°及45°之入射角度、0°及55°之入射角度之穿透光譜分別示於圖5A、圖5B及圖5C。又,將觀察穿透光譜所獲取之各參數示於表7。
<實施例4> 添加0.025 g之東京化成公司製造之異丙氧鋁(Al成分之含量為13.21質量%)來代替含有烷氧化鋁之CAT-AC,除此以外,以與實施例1相同之方式製備實施例4之光吸收性組成物。將製備光吸收性組成物時之材料的添加量或光吸收性組成物中之特定成分的含量示於表2。又,將成分的含量之比示於表5。
使用實施例4之光吸收性組成物來代替實施例1之光吸收性組成物,除此以外,以與實施例1相同之方式製作由薄膜狀之光吸收體所構成之實施例4之濾光器。對於實施例4之濾光器,測定0°、35°、45°及55°之入射角度之穿透光譜。將觀察0°及55°之入射角度之穿透光譜與該等之比較而可獲取之各參數示於表8。
<實施例5> 添加0.038 g之含有三第二丁氧鋁之Matsumoto Fine Chemical公司製造之ORGATIX AL-3001(Al成分之含量為10.7質量%)來代替含有烷氧化鋁之CAT-AC,除此以外,以與實施例1相同之方式製備實施例5之光吸收性組成物。將製備光吸收性組成物之材料的添加量或光吸收性組成物中之特定成分的含量示於表2。又,將成分的含量之比示於表5。
使用實施例5之光吸收性組成物來代替實施例1之光吸收性組成物,除此以外,以與實施例1相同之方式製作由薄膜狀之光吸收體所構成之實施例5之濾光器。對於實施例5之濾光器,測定0°、35°、45°及55°之入射角度之穿透光譜。將觀察0°及55°之入射角度之穿透光譜與該等之比較而可獲取之各參數示於表8。
<實施例6> 添加0.05 g之含有四異丙氧鈦之Matsumoto Fine Chemical公司製造之ORGATIX TA-8(Ti成分之含量為16.9質量%)來代替含有烷氧化鋁之CAT-AC,除此以外,以與實施例1相同之方式製備實施例6之光吸收性組成物。將製備光吸收性組成物時之材料的添加量或光吸收性組成物中之特定成分的含量示於表2。又,將成分的含量之比示於表5。
使用實施例6之光吸收性組成物來代替實施例1之光吸收性組成物,除此以外,以與實施例1相同之方式製作由薄膜狀之光吸收體所構成之實施例6之濾光器。對於實施例6之濾光器,測定0°、35°、45°及55°之入射角度之穿透光譜。將觀察自0°及55°之入射角度之穿透光譜與該等之比較而可獲取之各參數示於表8。
<實施例7> 添加0.07 g之含有四-2-乙基己氧鈦之Matsumoto Fine Chemical公司製造之ORGATIX TA-30(Ti成分之含量為8.5質量%)來代替含有烷氧化鋁之CAT-AC,除此以外,以與實施例2相同之方式製備實施例7之光吸收性組成物。將製備光吸收性組成物時之材料的添加量或光吸收性組成物中之特定成分的含量示於表2。又,將成分的含量之比示於表5。
使用實施例7之光吸收性組成物來代替實施例2之光吸收性組成物,除此以外,以與實施例2相同之方式製作由薄膜狀之光吸收體所構成之實施例7之濾光器。對於實施例7之濾光器,測定0°、35°、45°及55°之入射角度之穿透光譜。將觀察自0°及55°之入射角度之穿透光譜與該等之比較而可獲取之各參數示於表8。
<實施例8> 添加0.06 g之含有四正丙氧鋯之Matsumoto Fine Chemical公司製造之ORGATIX ZA-45(Zr成分之含量為21.0質量%)來代替含有烷氧化鋁之CAT-AC,除此以外,以與實施例1相同之方式製備實施例8之光吸收性組成物。將製備光吸收性組成物時之材料的添加量或光吸收性組成物中之特定成分的含量示於表2。又,將成分之含量的比示於表5。
使用實施例8之光吸收性組成物來代替實施例1之光吸收性組成物,除此以外,以與實施例1相同之方式製作由薄膜狀之光吸收體所構成之實施例8之濾光器。對於實施例8之濾光器,測定0°、35°、45°及55°之入射角度之穿透光譜。將觀察0°及55°之入射角度之穿透光譜與該等之比較而可獲取之各參數示於表8。
<比較例1> 不添加組成物β-1,除此以外,以與實施例1相同之方式製備比較例1之光吸收性組成物。將製備光吸收性組成物時之材料的添加量或光吸收性組成物中之特定成分的含量示於表3。又,將成分的含量之比示於表6。
使用比較例1之光吸收性組成物來代替實施例1之光吸收性組成物,除此以外,以與實施例1相同之方式製作由薄膜狀之光吸收體所構成之比較例1之濾光器。將比較例1之濾光器於0°之入射角度之穿透光譜示於圖6。又,將觀察穿透光譜而可獲取之各參數示於表9。
<比較例2> 將作為紫外線吸收劑之2.0 g之BASF公司製造之羥基二苯甲酮系紫外線吸收劑Uvinul3049添加至98.0 g之甲苯中並攪拌30分鐘,從而製備含有紫外線吸收劑之組成物β-4。Uvinul3049含有由下述式(b-4)所表示之化合物。製備光吸收性組成物時,添加5.0 g之組成物β-4來代替2.0 g之組成物β-1,除此以外,以與實施例1相同之方式製備比較例2之光吸收性組成物。將製備光吸收性組成物時之材料的添加量或光吸收性組成物中之特定成分的含量示於表3。又,將成分的含量之比示於表6。
Figure 02_image009
使用比較例2之光吸收性組成物來代替實施例1之光吸收性組成物,除此以外,以與實施例1相同之方式製作由薄膜狀之光吸收體所構成之比較例2之濾光器。將比較例2之濾光器於0°之入射角度之穿透光譜示於圖7。又,將觀察穿透光譜而可獲取之各參數示於表9。
<比較例3> 將2.0 g之紫外線吸收劑Uvinul3049添加至98.0 g之甲苯中並攪拌30分鐘,製作含有紫外線吸收劑之組成物。將5.0 g之該組成物添加至10.0 g之信越化學工業公司製造之聚矽氧樹脂KR-300中並攪拌30分鐘,獲得比較例3之光吸收性組成物。將製備光吸收性組成物時之材料的添加量或光吸收性組成物中之特定成分的含量示於表3。又,將成分的含量之比示於表6。
使用比較例3之光吸收性組成物來代替實施例1之光吸收性組成物,除此以外,以與實施例1相同之方式製作由薄膜狀之光吸收體所構成之比較例3之濾光器。將比較例3之濾光器於0°之入射角度之穿透光譜示於圖8。又,將觀察穿透光譜而可獲取之各參數示於表9。
<比較例4> 將2.0 g之紫外線吸收劑Uvinul3049添加至98.0 g之甲苯中並攪拌30分鐘,製作含有紫外線吸收劑之組成物。將5.0 g之該組成物及0.10 g之信越化學工業公司製造之烷氧化鋁CAT-AC添加至10.0 g之信越化學工業公司製造之聚矽氧樹脂KR-300中並攪拌30分鐘,獲得比較例4之光吸收性組成物。將製備光吸收性組成物時之材料的添加量或光吸收性組成物中之特定成分的含量示於表3。又,將成分的含量之比示於表6。
使用比較例4之光吸收性組成物來代替實施例1之光吸收性組成物,除此以外,以與實施例1相同之方式製作由薄膜狀之光吸收體所構成之比較例4之濾光器。將比較例4之濾光器於0°之入射角度之穿透光譜示於圖9。又,將觀察穿透光譜而可獲取之各參數示於表9。
如表7及表8所示,根據各實施例之濾光器之穿透光譜,該等濾光器具有所需之穿透率特性。另一方面,根據比較例1之濾光器於0°之入射角度之穿透光譜,於波長350 nm~450 nm之範圍之穿透率達到50%之波長λ 50 0 UV 為354 nm,且T M 350-370 超過70%。因此,難謂比較例1之濾光器具有所需之穿透率特性。
根據比較例2之濾光器於0°之入射角度之穿透光譜,λ 50 0 UV 為443 nm。因此,難謂比較例2之濾光器具有所需之穿透率特性。可推測為:製作比較例2之濾光器所使用之紫外線吸收劑Uvinul3049係分子內含有羥基及羰基這兩種基,作為觸媒之含有金屬成分之烷氧化物化合物與紫外線吸收劑會部分發生反應,紫外線吸收劑原本之吸收波長位移至長波長側。
比較例3及4係用於研究濾光器之穿透光譜根據光吸收性組成物中有無烷氧化鋁而會產生何種差異的例子。比較例3及4之濾光器之光吸收特性之差異特別是出現在於波長350 nm~450 nm之範圍內之穿透率達到50%之波長λ 50 0 UV 。於同時含有紫外線吸收劑及烷氧化鋁之比較例4之濾光器中,波長λ 50 0 UV 為444 nm。另一方面,於不含烷氧化鋁之比較例3之濾光器中,波長λ 50 0 UV 為400 nm。由該等結果可以理解:若「分子內含有羥基及羰基這兩種基之紫外線吸收劑」及「烷氧化鋁之類的含有金屬成分的烷氧化物化合物」同時含有,則紫外線吸收劑原本所具備之特性會發生變化。
<實施例9> 藉由真空蒸鍍方法於實施例1之濾光器之兩主面上形成抗反射膜,而製作實施例9之濾光器。抗反射膜係將由SiO 2所構成之層及由TiO 2所構成之層交替地積層而成之介電質多層膜,層數為9,且膜厚約為0.4 μm。實施例9之濾光器具備實施例1之光吸收體及形成於光吸收體之兩主面上之抗反射膜。將實施例9之濾光器於0°之入射角度之穿透光譜示於圖10。又,將觀察穿透光譜而可獲取之各參數示於表8。
[表1]
使用材料及其添加量[g]
膦酸 磷酸酯化合物 乙酸銅一水合物 紫外線吸收劑 樹脂 硬化觸媒(金屬烷氧化物)
正丁基膦酸 Plysurf A208N 種類 添加量 KR-300 添加量 金屬成分量
實施例1 2.886 2.572 4.500 Tinuvin326 0.100 8.800 0.090 0.0036
實施例2 2.886 2.572 4.500 Tinuvin234 0.180 8.800 0.090 0.0036
實施例3 2.886 2.572 4.500 Tinuvin329 0.200 8.800 0.090 0.0036
[表2]
使用材料及其添加量[g]
膦酸 磷酸酯化合物 乙酸銅一水合物 紫外線吸收劑 樹脂 硬化觸媒(金屬烷氧化物)
正丁基膦酸 Plysurf A208N 種類 添加量 KR-300 添加量 金屬成分量
實施例4 2.886 2.572 4.500 Tinuvin326 0.100 8.800 0.025 0.0033
實施例5 2.886 2.572 4.500 Tinuvin326 0.100 8.800 0.038 0.0041
實施例6 2.886 2.572 4.500 Tinuvin326 0.100 8.800 0.020 0.0034
實施例7 2.886 2.572 4.500 Tinuvin234 0.180 8.800 0.042 0.0036
實施例8 2.886 2.572 4.500 Tinuvin326 0.100 8.800 0.020 0.0042
[表3]
使用材料及其添加量[g]
膦酸 磷酸酯化合物 乙酸銅一水合物 紫外線吸收劑 樹脂 硬化觸媒(金屬烷氧化物)
正丁基膦酸 Plysurf A208N 種類 添加量 KR-300 添加量 金屬成分量
比較例1 2.886 2.572 4.500 - 0.000 8.800 0.090 0.0036
比較例2 2.886 2.572 4.500 Uvinul3049 0.100 8.800 0.090 0.0036
比較例3 - - - Uvinul3049 0.100 10.000 - -
比較例4 - - - Uvinul3049 0.100 10.000 0.100 0.0040
[表4]
紫外線吸收劑相對於銅成分之質量比 紫外線吸收劑相對於磷成分之質量比 銅成分相對於磷成分之質量比 銅成分相對於金屬烷氧化物之金屬成分之質量比(×10 2 磷成分相對於金屬烷氧化物之金屬成分之質量比(×10 2 膦酸相對於磷酸酯化合物之質量比 膦酸相對於銅成分之質量比 膦酸相對於紫外線吸收劑之質量比(×10 1
實施例1 0.070 0.129 1.852 3.980 2.148 1.122 0.927 2.886
實施例2 0.126 0.233 1.852 3.980 2.148 1.122 0.927 1.603
實施例3 0.140 0.259 1.852 3.980 2.148 1.122 0.927 1.443
[表5]
紫外線吸收劑相對於銅成分之質量比 紫外線吸收劑相對於磷成分之質量比 銅成分相對於磷成分之質量比 銅成分相對於金屬烷氧化物之金屬成分之質量比(×10 2 磷成分相對於金屬烷氧化物之金屬成分之質量比(×10 2 膦酸相對於磷酸酯化合物之質量比 膦酸相對於銅成分之質量比 膦酸相對於紫外線吸收劑之質量比(×10 1
實施例4 0.070 0.129 1.852 4.342 2.343 1.122 0.927 2.886
實施例5 0.070 0.129 1.852 3.495 1.886 1.122 0.927 2.886
實施例6 0.070 0.129 1.852 4.214 2.274 1.122 0.927 2.886
實施例7 0.126 0.233 1.852 3.980 2.148 1.122 0.927 1.603
實施例8 0.070 0.129 1.852 3.411 1.841 1.122 0.927 2.886
[表6]
紫外線吸收劑相對於銅成分之質量比 紫外線吸收劑相對於磷成分之質量比 銅成分相對於磷成分之質量比 銅成分相對於金屬烷氧化物之金屬成分之質量比(×10 2 磷成分相對於金屬烷氧化物之金屬成分之質量比(×10 2 膦酸相對於磷酸酯化合物之質量比 膦酸相對於銅成分之質量比 膦酸相對於紫外線吸收劑之質量比(×10 1
比較例1 0.000 0.000 1.852 3.980 2.148 1.122 0.927 -
比較例2 0.070 0.129 1.852 3.980 2.148 1.122 0.927 2.886
比較例3 - - - - - - - -
比較例4 - - - - - - - -
[表7]
   T A IA 450-600 [%] λ 50 IA UV [nm] λ 50 IA IR [nm] T M IA 350-370 [%] T M IA 800-900 [%] T M IA 1100-1200 [%] T IA 750 [%] T IA 760 [%] T IA 780 [%] ⊿λ 50 0/IA UV [nm] ⊿λ 50 0/IA IR [nm] T A IA 650-670 [%] T A IA 800-900 [%] T A IA 750-1100 [%] T A IA 750-1200 [%] 厚度[μm]
   入射角度IA[°]
實施例1 0 87.33 402 710 0.37 2.41 2.64 19.01 13.28 5.96 - - 79.16 0.73 1.72 1.60 72
35 86.74 403 707 0.21 1.08 1.85 16.21 10.93 4.52 1 3 77.85 0.46 1.28 1.17
45 86.09 404 703 0.12 0.53 1.25 13.60 8.82 3.34 2 7 76.44 0.28 0.95 0.85
55 83.04 405 698 0.07 0.78 0.88 11.44 7.18 2.53 3 12 73.08 0.18 0.73 0.64
實施例2 0 86.36 397 711 0.33 2.78 3.03 20.16 14.35 6.60 - - 79.01 0.88 1.95 1.82 69
35 85.68 398 708 0.19 1.96 2.15 17.29 11.90 5.06 1 3 77.69 0.56 1.46 1.34
45 84.93 399 704 0.10 1.33 1.48 14.60 9.68 3.78 2 7 76.27 0.35 1.08 0.97
55 81.84 401 699 0.06 0.94 1.05 12.34 7.94 2.89 4 12 72.90 0.23 0.83 0.74
實施例3 0 87.01 390 711 0.44 2.43 2.62 19.13 13.45 6.01 - - 79.57 0.74 1.73 1.61 72
35 86.39 391 707 0.26 1.69 1.83 16.33 11.08 4.57 1 4 78.30 0.46 1.29 1.18
45 85.71 392 703 0.14 1.13 1.23 13.71 8.95 3.38 2 8 76.92 0.28 0.96 0.85
55 82.64 394 699 0.09 0.79 0.87 11.54 7.29 2.56 4 12 73.58 0.18 0.74 0.64
[表8]
   T A IA 450-600 [%] λ 50 IA UV [nm] λ 50 IA IR [nm] T M IA 350-370 [%] T M IA 800-900 [%] T M IA 1100-1200 [%] T IA 750 [%] T IA 760 [%] T IA 780 [%] ⊿λ 50 0/IA UV [nm] ⊿λ 50 0/IA IR [nm] T A IA 650-670 [%] T A IA 800-900 [%] T A IA 750-1100 [%] T A IA 750-1200 [%] 厚度[μm]
   入射角度IA[°]
實施例4 0 87.44 402 711 0.24 2.52 2.75 19.12 13.37 6.11 - - 79.25 0.81 1.83 1.70 71
55 83.15 405 699 0.13 0.88 0.99 11.53 13.38 6.09 3 12 73.17 0.27 0.83 0.77
實施例5 0 87.36 403 712 0.40 0.77 2.66 19.04 13.30 5.97 - - 79.19 0.75 1.75 1.64 70
55 83.07 406 699 0.10 0.81 0.91 11.46 7.23 2.57 3 13 73.10 0.20 0.77 0.67
實施例6 0 87.32 402 711 0.28 2.62 2.85 19.22 13.49 6.17 - - 79.34 0.94 1.93 1.81 74
55 83.25 405 699 0.18 0.99 1.09 11.65 7.39 2.74 3 12 73.29 0.38 0.94 0.86
實施例7 0 86.58 397 712 0.35 3.00 3.25 20.38 14.57 6.82 - - 79.23 1.10 1.97 1.99 77
55 82.06 401 700 0.28 1.16 1.27 12.56 8.16 3.11 4 12 73.12 0.45 1.05 0.96
實施例8 0 87.62 402 711 0.45 2.70 2.93 19.30 12.57 6.25 - - 79.45 1.02 2.00 1.89 72
55 83.33 405 699 0.32 1.07 1.17 11.73 7.47 2.82 3 12 73.37 0.47 1.02 0.93
實施例9 0 93.58 401 714 0.40 2.52 2.70 19.95 13.93 6.24 - - 83.72 0.76 1.80 1.66 72
[表9]
   T A IA 450-600 [%] λ 50 IA UV [nm] λ 50 IA IR [nm] T M IA 350-370 [%] T M IA 800-900 [%] T M IA 1100-1200 [%] T IA 750 [%] T IA 760 [%] T IA 780 [%] ⊿λ 50 0/IA UV [nm] ⊿λ 50 0/IA IR [nm] T A IA 650-670 [%] T A IA 800-900 [%] T A IA 750-1100 [%] T A IA 750-1200 [%] 厚度[μm]
   入射角度IA[°]
比較例1 0 88.56 354 710 72.36 2.08 2.28 17.87 12.39 5.34       79.49 0.61 1.53 1.41 74
比較例2 0 85.78 443 712 0.01 2.64 2.87 19.59 13.97 6.35       79.16 0.82 1.85 1.73 70
比較例3 0 90.47 400    0.04 92.26 91.87 91.31 91.81 91.13       91.16 91.57 91.62 91.63 27
比較例4 0 90.19 444    0.07 92.74 92.62 92.40 92.58 92.51       92.36 92.50 92.53 92.51 29
1a:附光吸收體之物品 10:光吸收體 20:物品 30:功能性膜 40:透鏡系統 50:攝像元件 100:攝像裝置
[圖1A]係表示本發明之光吸收體之一例的剖視圖。 [圖1B]係表示本發明之附光吸收體之物品之一例的剖視圖。 [圖1C]係表示本發明之附光吸收體之物品之另一例的剖視圖。 [圖1D]係表示具備本發明之光吸收體之光學構件之一例的剖視圖。 [圖2]係表示本發明之攝像裝置之一例的圖。 [圖3A]係實施例1之濾光器之穿透光譜。 [圖3B]係實施例1之濾光器之穿透光譜。 [圖3C]係實施例1之濾光器之穿透光譜。 [圖4A]係實施例2之濾光器之穿透光譜。 [圖4B]係實施例2之濾光器之穿透光譜。 [圖4C]係實施例2之濾光器之穿透光譜。 [圖5A]係實施例3之濾光器之穿透光譜。 [圖5B]係實施例3之濾光器之穿透光譜。 [圖5C]係實施例3之濾光器之穿透光譜。 [圖6]係比較例1之濾光器之穿透光譜。 [圖7]係比較例2之濾光器之穿透光譜。 [圖8]係比較例3之濾光器之穿透光譜。 [圖9]係比較例4之濾光器之穿透光譜。 [圖10]係實施例9之濾光器之穿透光譜。
10:光吸收體

Claims (18)

  1. 一種光吸收體,其於0°之入射角度之穿透光譜滿足下述(I)、(II)、(III)、(IV)、(V)及(VI)之條件: (I)於波長450 nm~600 nm之範圍的穿透率之平均值為75%以上; (II)於波長350 nm~450 nm之範圍中,穿透率達到50%之第一波長為380 nm以上且440 nm以下; (III)於波長650 nm~750 nm之範圍中,穿透率達到50%之第二波長為680 nm以上且740 nm以下; (IV)於波長350 nm~370 nm之範圍的穿透率之最大值為1%以下; (V)於波長800 nm~900 nm之範圍的穿透率之最大值為5%以下; (VI)於波長1100 nm~1200 nm之範圍的穿透率之最大值為5%以下。
  2. 如請求項1之光吸收體,其中,上述穿透光譜進而滿足下述(VII)之條件: (VII)於波長750 nm之穿透率為7%以上。
  3. 如請求項1或2之光吸收體,其中,上述穿透光譜進而滿足下述(VIII)之條件: (VIII)於波長780 nm之穿透率為3%以上。
  4. 如請求項1至3中任一項之光吸收體,其於55°之入射角度之穿透光譜具有:於波長350 nm~450 nm之範圍中穿透率達到50%之第三波長,且 上述第三波長與上述第一波長之差的絕對值為12 nm以下。
  5. 如請求項1至4中任一項之光吸收體,其於55°之入射角度之穿透光譜具有:於波長650 nm~750 nm之範圍中穿透率達到50%之第四波長,且 上述第四波長與上述第二波長之差的絕對值為24 nm以下。
  6. 如請求項1至5中任一項之光吸收體,其含有:光吸收性化合物,其含有膦酸及銅成分;及 紫外線吸收劑,其吸收至少一部分紫外線。
  7. 如請求項6之光吸收體,其進而含有:具有金屬成分之烷氧化物及具有金屬成分之烷氧化物的水解物之至少1種。
  8. 如請求項7之光吸收體,其中,上述紫外線吸收劑為分子內不具有羥基及羰基這兩種基之化合物。
  9. 一種附光吸收體之物品,其具備:物品;及 請求項1至8中任一項之光吸收體,其形成於上述物品之一部分表面。
  10. 一種攝像裝置,其具備請求項1至8中任一項之光吸收體。
  11. 一種光吸收性組成物,係硬化該光吸收性組成物而獲得之光吸收體於0°之入射角度之穿透光譜滿足下述(i)、(ii)、(iii)、(iv)、(v)及(vi)之條件者: (i)於波長450 nm~600 nm之範圍的穿透率之平均值為75%以上; (ii)於波長350 nm~450 nm之範圍中,穿透率達到50%之第一波長為380 nm以上且440 nm以下; (iii)於波長650 nm~750 nm之範圍中,穿透率達到50%之第二波長為680 nm以上且740 nm以下; (iv)於波長350 nm~370 nm之範圍的穿透率之最大值為1%以下; (v)於波長800 nm~900 nm之範圍的穿透率之最大值為5%以下; (vi)於波長1100 nm~1200 nm之範圍的穿透率之最大值為5%以下。
  12. 如請求項11之光吸收性組成物,其中,上述穿透光譜進而滿足下述(vii)之條件: (vii)於波長750 nm之穿透率為7%以上。
  13. 如請求項11或12之光吸收性組成物,其中,上述穿透光譜進而滿足下述(viii)之條件: (viii)於波長780 nm之穿透率為3%以上。
  14. 如請求項11至13中任一項之光吸收性組成物,其中,上述光吸收體於55°之入射角度之穿透光譜具有:於波長350 nm~450 nm之範圍中穿透率達到50%之第三波長,且 上述第三波長與上述第一波長之差的絕對值為12 nm以下。
  15. 如請求項11至14中任一項之光吸收性組成物,其中,上述光吸收體於55°之入射角度之穿透光譜具有:於波長650 nm~750 nm之範圍中穿透率達到50%之第四波長,且 上述第四波長與上述第二波長之差的絕對值為24 nm以下。
  16. 如請求項11至15中任一項之光吸收性組成物,其含有:光吸收性化合物,其含有膦酸及銅成分;及 紫外線吸收劑,其吸收至少一部分紫外線。
  17. 如請求項16之光吸收性組成物,其進而含有:具有金屬成分之烷氧化物及具有金屬成分之烷氧化物的水解物之至少1種。
  18. 如請求項17之光吸收性組成物,其中,上述紫外線吸收劑為分子內不具有羥基及羰基這兩種基之化合物。
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