TW202346984A - 複合偏光板的製造方法 - Google Patents

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中里成志
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Abstract

本發明提供一種複合偏光板的製造方法，係製造可抑制氣泡混入偏光板及/或表面處理膜與黏著劑層之間的複合偏光板。
複合偏光板積層有表面處理膜和偏光板。表面處理膜具有基材膜和形成在基材膜的表面上之表面處理層。偏光板至少含有偏光元件。複合偏光板的製造方法包含步驟(a)：隔著在拉伸800%時的應力為0.8N/mm2以下之狀態的黏著劑，將表面處理膜和偏光板貼合而得積層體，和步驟(b)：積層體中，將黏著劑層在溫度23℃之拉伸為800%時的應力調整成為0.9N/mm2以上。

Description

複合偏光板的製造方法
本發明係有關複合偏光板的製造方法。
液晶顯示器(LCD)不僅使用在液晶電視中，且已廣泛應用於個人電腦、手機等行動終端及汽車導航器等車載用途上。通常，液晶顯示器具有液晶面板，係液晶單元之兩側貼合有含偏光元件之線性偏光板的液晶面板，並藉由以液晶面板控制來自背光源的光而顯示圖像等。近年來，有機EL顯示器也和液晶顯示器相同，已廣泛應用在電視、手機等行動終端、汽車導航器等車載用途上。在有機EL顯示器中，為防止外部光線受金屬電極(陰極)反射而被認為鏡面觀看，而有在圖像顯示元件的觀看側表面配置圓偏光板(包含偏振元件和λ/4板)的情形。
在液晶顯示器或有機EL顯示器等顯示器中，為改善視認性或抑制刮傷，有時會使用表面處理膜。為抑制因外部光線的反射引起之視認性降低，以提高視認性，已知有使用在偏光元件上貼合防眩性硬塗層膜之積層體的顯示器(例如，專利文獻1等)。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2011-81219號公報
在製造積層有含偏光元件的偏光板和表面處理膜之複合偏光板時，有使用黏著劑層將偏光板和表面處理膜貼合的情形。為確保複合偏光板的表面硬度時，有時會使用硬質(不易塑性變形)黏著劑層作為上述黏著劑層。當使用硬質黏著劑層貼合偏光板和表面處理時，在偏光板及/或表面處理膜和黏著劑層之間發現有時會有氣泡混入。
本發明的目的係供一種複合偏光板之製造方法，其可抑制氣泡混入偏光板及/或表面處理膜和黏著劑層之間。
本發明係提供下述的複合偏光板之製造方法。
〔1〕一種複合偏光板的製造方法，係製造積層有表面處理膜和偏光板的複合偏光板，其中，
前述表面處理膜具有基材膜和形成在前述基材膜的表面之表面處理層，
前述偏光板至少含有偏光元件，
前述製造方法包含
步驟(a)：隔著在拉伸800%時的應力為0.8N/mm2以下的狀態之黏著劑，將前述表面處理膜和前述偏光板貼合而得積層體，和
步驟(b)：於前述積層體中，將前述黏著劑層於溫度23℃之拉伸為800%時的應力調整成為0.9N/mm2以上。
〔2〕如〔1〕所述之複合偏光板的製造方法，其中，前述步驟(a)包含：
在前述表面處理膜形成前述黏著劑層的步驟(a1)，以及
在前述表面處理膜形成之前述黏著劑層上積層前述偏光板的步驟(a2)。
〔3〕如〔2〕所述之複合偏光板的製造方法，其中，前述步驟(a2)係在前述步驟(a1)後6天以內進行。
〔4〕如〔1〕至〔3〕中任一項所述之複合偏光板的製造方法，其中，前述步驟(b)係保存前述積層體的步驟。
〔5〕如〔1〕至〔4〕中任一項所述之複合偏光板的製造方法，其中，前述表面處理膜係在前述基材膜的單面具有前述表面處理層膜，前述積層體係在前述表面處理膜的前述基材膜側具有前述黏著劑層。
〔6〕如〔1〕至〔5〕中任一項所述之複合偏光板的製造方法，其中，前述偏光板係在前述偏光元件的單面或雙面具有保護膜。
〔7〕如〔1〕至〔6〕中任一項所述之複合偏光板的製造方法，其中，前述黏著劑層的厚度係10μm以下。
〔8〕如〔1〕至〔7〕中任一項所述之複合偏光板的製造方法，其中，前述黏著劑層係使用含有(甲基)丙烯系樹脂的黏著劑組成物而形成，
前述(甲基)丙烯系樹脂的玻璃轉移溫度係-30℃以下。
〔9〕如〔1〕至〔8〕中任一項所述之複合偏光板的製造方法，其中，前述表面處理層係選自由抗反射層、防眩層、硬塗層及防污層所組成之群組中的1種以上。
依照本發明的複合偏光板之製造方法，可抑制氣泡混入偏光板及/或表面處理膜和黏著劑層之間。
1:複合偏光板
10:偏光板
11:偏光元件
12:貼合層
13:保護膜
20:表面處理膜
21:基材膜
22:表面處理層
31:黏著劑層
圖1示意呈示本發明的一實施型態之複合偏光板的剖面圖。
圖2呈示測定實施例中製作的黏著劑層之應力對拉伸的之結果的圖。
以下，雖然係參照圖示說明本發明的實施型態，但本發明並非侷限於下述實施型態者。
(複合偏光板)
圖1係示意呈示本發明的一實施型態之複合偏光板的剖面圖。複合偏光板1係積層有表面處理膜20和偏光板10的。複合偏光板1在表面處理膜20和偏光板10之間具有黏著劑層31。複合偏光板1中的黏著劑層31在溫度23℃之拉伸為800%時的應力(以下，亦稱「拉伸應力(23℃)」。)係0.9N/mm2以上。
表面處理膜20具有基材膜21和形成在基材膜21的表面之表面處理層22。在複合偏光板1中，係以在表面處理膜20的基材膜21之單面具有表面處理層22，並使表面處理膜20的基材膜21側與黏著劑層31相對向者為佳。表面處理層22可以為選自抗反射層、防眩層、硬塗層及防污層所組成之群組中的1種以上。
偏光板10至少含有偏光元件11。偏光板10係以在偏光元件11的單面或雙面具有保護膜13為佳。偏光元件11和保護膜13可以為隔著貼合層12(接著劑層或黏著劑層)而積層，貼合層12係以直接接觸在偏光元件11及保護膜13為佳。
複合偏光板1中，黏著劑層31係直接接觸表面處理膜20及偏光板10。複合偏光板1中的黏著劑層31之拉伸應力(23℃)係0.9N/mm2以上，可以為1.0N/mm2以上，可以為1.2N/mm2以上，可以為1.3N/mm2以上。因為使黏著劑層31的拉伸應力(23℃)在上述範圍中時，可提高複合偏光板1的表面處理膜20側的表面之表面硬度，故可抑制複合偏光板1的表面刮傷。黏著劑層31的拉伸應力(23℃)可用後述的實施例所述之方法確定。
複合偏光板1可進一步在偏光板10側上具有其他的黏著劑層，可在其他的偏光板10之相反側上具有剝離膜，以被覆保護其他的黏著劑層。其他的黏著劑層係例如貼合在顯示器的圖像顯示元件用之貼合層。其他的黏著劑層可直接接觸偏光板10而設置，也可隔著配置在偏光板10的表面處理膜20側之相反側的其他層而設置。
複合偏光板1可進一步在表面處理膜20的偏光板10側之相反側上，積層可從表面處理膜20剝離的防護膜(protect film)。防護膜係保護表面處理膜20之表面而用者。
複合偏光板1的表面處理膜20側之表面的鉛筆硬度，較佳為HB以上為佳，更佳為F以上，又更佳為H以上，最佳為2H以上。鉛筆硬度為上述的硬度以上時，容易防止複合偏光板1的表面處理膜20側之表面中產生刮傷。鉛筆硬度係如後述的實施例所述，可遵照JIS K 5600-5-4：1999測定。
複合偏光板1可積層於液晶顯示器、有機EL顯示器等顯示器的圖像顯示元件而使用。
(複合偏光板的製造方法)
複合偏光板1的製造方法係上述結構的複合偏光板1之製造方法，其中包含步驟(a)：隔著在拉伸800%時的應力(以下，有時稱為「拉伸應力」)為0.8N/mm2以下之狀態的黏著劑，將表面處理膜和偏光板貼合而得積層體，和步驟(b)：於經步驟(a)獲得的積層體中，將黏著劑層31在溫度23℃之拉伸為800%時的應力(拉伸應力(23℃))調整成為0.9N/mm2以上。
步驟(a)中的黏著劑層31之拉伸應力可以為0.8N/mm2以下，可以為不到0.8N/mm2，可以為0.75N/mm2以下，可以為0.7N/mm2以下。步驟(a)中的拉伸應力通常為0.2N/mm2以上，可以為0.3N/mm2以上，可以為0.4N/mm2以上。拉伸應力可用後述的實施例所述之方法測定。
步驟(b)中的黏著劑層31之拉伸應力(23℃)可以為1.0N/mm2以上，可以為1.1N/mm2以上，可以為1.2N/mm2以上，可以為1.3N/mm2以上，通常為2.0N/mm2以下。拉伸應力(23℃)可用後述的實施例所述之方法測定。
步驟(a)中將黏著劑層31的拉伸應力作成上述的範圍，並且步驟(b)中將黏著劑層31的拉伸應力作成上述範圍的方法，可列舉調整形成黏著劑層31用的黏著劑組成物中之成分的方法、調整執行步驟(a)的環境條件之方法。調整黏著劑組成物中的成分之方法，可列舉：調整黏著劑組成物含有的基質聚合物之種類及/或分子量；調整構成基質聚合物的具有反應性官能基之單體的種類及/或量；調整黏著劑組成物含有的交聯劑之種類及/或量；使用作為黏著劑組成物 中的成分之具有反應性基的基質聚合物及聚合起始劑等。調整執行步驟(a)的環境條件之方法，可列舉調整執行步驟(a)的溫度之方法等。
步驟(b)為保存後述的積層體之步驟時，形成黏著劑層31用之黏著劑組成物係以含有基質聚合物及交聯劑為佳。此時，步驟(a)中使用於貼合的黏著劑層31，基質聚合物和交聯劑之間的反應係以未充分進行之狀態為佳，經過步驟(b)的黏著劑層31，基質聚合物和交聯劑之間的反應係以充分進行過之狀態為佳。
如上述的以步驟(a)進行表面處理膜20和偏光板10間的貼合，係使用在拉伸應力0.8N/mm2以下的狀態之黏著劑層31進行。拉伸應力為此範圍的黏著劑層31，因係柔軟的狀態，故容易使黏著劑層31密合至表面處理膜20及/或偏光板10。因此，在步驟(a)中獲得的積層體中，可抑制氣泡混入表面處理膜20及/或偏光板10和黏著劑層31之間。在步驟(b)中，抑制氣泡混入的積層體中，因使黏著劑層31的拉伸應力(23℃)調整成上述的範圍，故可提高黏著劑層31的硬度。因此，可得表面硬度大並且抑制氣泡混入的複合偏光板1。
上述的拉伸應力係黏著劑層31的塑性變形區域之指標，係形成黏著劑層31後隨經過時間變化之值。另一方面，屬於黏著劑層31的彈性變形區域之指標的楊氏模數，可確認形成黏著劑層31後隨經過時間並無明顯差異，並且不論經過時間如何都是大致相同之值。因此，在本實施型態的複合偏光板1之製造方法中，為抑制氣泡混入偏光板及/或表面處理膜和黏著劑層之間，乃依照作為黏著劑層31的塑性變形區域之指標的上述拉伸應力製造複合偏光板1。
複合偏光板1的製造方法可使用片狀物進行，也可使用長條物進行。從連續生產複合偏光板1的觀點，係以使用長條物為佳。此時，可將各步驟 中或步驟之中所得的或膜繞捲成卷狀作成繞捲體，由此繞捲體中抽出層或膜以進下一個步驟。本說明書中，長條物係指例如具有30至10,000m的長度之層或膜。
以下，具體說明複合偏光板1的製造方法之各步驟-。
(步驟(a))
步驟(a)係使用拉伸應力0.8N/mm2以下的狀態之黏著劑層，將表面處理膜20和偏光板10貼合而得積層體的步驟。執行步驟(a)的環境條件係只要可將黏著劑層31的拉伸應力作成0.8N/mm2以下的狀態，即無特別的限制。執行步驟(a)時的較佳溫度係例如10℃以上，可以為15℃以上，可以為20℃以上，此外，可以為例如35℃以下，可以為30℃以下。執行步驟(a)時的較佳濕度，通常可以為30%RH以上，可以為40%RH，可以為45%RH，此外，通常可以70%RH以下，可以為65%RH以下，可以為65%RH以下。
步驟(a)可包含：例如在表面處理膜20及偏光板10之中的一者形成黏著劑層31的步驟(a1’)，和在步驟(a’)中形成的黏著劑層31上，積層表面處理膜20及偏光板10之中的另一者之步驟(a2’)。步驟(a)包含步驟(a1’)及步驟(a2’)時，步驟(a1’)及步驟(a2’)中的黏著劑層31之拉伸應力均係在上述步驟(a)中說明的範圍(0.8N/mm2以下)。
步驟(a1’)係將形成在剝離膜上的黏著劑層31和表面處理膜20或偏光板10貼合之後，執行剝離剝離膜之步驟。包含此步驟時，步驟(a1’)中的黏著劑層31之拉伸應力係和步驟(a2’)中的黏著劑層31之拉伸應力相同，或是以小於步驟(a2’)中的黏著劑層31之拉伸應力為佳。步驟(a2’)中的黏著劑層31之拉伸應力，係以上述中說明步驟(a)中的拉伸應力之範圍為佳。
步驟(a1’)後至執行步驟(a2’)的期間可以為6天以內，可以為5天以內，可以為4天以內，可以為3天以內，可以為2天以內，可以為1天以內。因在上述的期間內，使黏著劑層31的拉伸應力在0.8N/mm2以下之狀態，容易進行步驟(a2’)。
當執行步驟(a1’)時使用形成在上述的剝離膜上之黏著劑層31時，係以在剝離膜上形成黏著劑層31後，即刻將該黏著劑層31和表面處理膜20或偏光板10貼合為佳。因此，即可使在剝離膜上形成黏著劑層31後至執行步驟(a2’)的期間與步驟(a1’)後至執行步驟(a2’)的期間實質相同。使用形成在剝離膜上的黏著劑層31而執行步驟(a1’)時，在剝離膜上形成黏著劑層31後，經步驟(a1’)至執行步驟(a2’)的期間，可以為在6天以內，可以為在5天以內，可以為在4天以內，可以為在3天以內，可以為在2天以內，可以為在1天以內。因在上述的期間內，可使黏著劑層31的拉伸應力在0.8N/mm2以下之狀態，而容易進行步驟(a2’)。
步驟(a1’)係以在表面處理膜20上形成黏著劑層31的步驟(a1)為佳，步驟(a2’)係以在表面處理膜20上形成的黏著劑層31上積層偏光板10之步驟(a2)為佳。
在步驟(a)中使用的偏光板10上，也可貼合上述的其他黏著劑層(貼合在圖像顯示元件上用的貼合層)及積層剝離膜。步驟(a)中使用的表面處理膜20上，可積層防護膜。
可在表面處理膜20及偏光板10和黏著劑層31之間的貼合面上執行電暈處理、電漿處理、均質處理等表面活化處理，以提高此等的密合性。
(步驟(b))
步驟(b)係將步驟(a)獲得的積層體之黏著劑層31的拉伸應力(23℃)調整至0.9N/mm2以上之步驟。藉由經由步驟(b)，可將步驟(a)中所得的積層體中呈柔軟狀態之黏著劑層31變硬，並提高複合偏光板1的表面硬度。步驟(b)能夠以板狀的積層體進行，也能夠將積層體繞捲成卷狀以繞捲體狀態進行。
步驟(b)係只要將黏著劑層31的拉伸應力(23℃)作成上述的範圍，即無特別的限制。步驟(b)可依據黏著劑層31中含有的成分等進行，例如，可以為保存步驟(a)中獲得的積層體之步驟，也可以為黏著劑層31中含有聚合起始劑時進行加熱或照射活性能線的步驟。步驟(b)係以保存積層體的步驟為佳。保存積層體的步驟可以為例如藉由將步驟(a)中獲得的積層體熟化，使黏著劑層31中含有的反應性成分(例如，基質聚合物及交聯劑)進行反應之步驟。
步驟(b)係保存積層體的步驟時，執行保管的環境條件係只要可將黏著劑層31的拉伸應力(23℃)作成0.9N/mm2以上即無特別的限制。進行步驟(b)時的較佳溫度通常為10℃以上，可以為15℃以上，可以為20℃以上，此外，通常為35℃以下，可以為30℃以下。通常執行步驟(b)時的較佳相對濕度係30%RH以上，可以為40%RH以上，可以為45%RH以上，此外，通常為70%%RH以下，可以為65%RH以下，可以為60%RH以下。
步驟(b)係保存積層體的步驟時，執行保存期間只要依據形成黏著劑層31用的黏著劑組成物之種類、上述的環境條件等選定即可，例如可以為6天以上，可以為7天以上，可以為8天以上，可以為9天以上，可以為10天以上。在上述期間藉由步驟(b)，即可容易將黏著劑層31的拉伸應力(23℃)調整至0.9N/mm2以上。
以下，詳細說明構成複合偏光板1之層及膜。
(黏著劑層)
黏著劑層係使用黏著劑組成物而形成之層。黏著劑組成物係將其本身附著在被黏體上而顯現接著性者，即所謂的感壓型接著劑。
黏著劑層的厚度並無特別限制，但係以10μm以下為佳，可以為8μm以下，可以為7μm以下，可以為6μm以下，此外，通常為1μm以上，可以為3μm以上。由於黏著劑層的厚度在上述的範圍中，故可提高複合偏光板的表面硬度。
形成黏著劑層用之黏著劑組成物係可將(甲基)丙烯酸系樹脂、橡膠系樹脂、聚胺酯系樹脂、酯系樹脂、矽氧系樹脂、聚乙烯醚系樹脂作成主成分(基質聚合物)。主成分係指黏著劑組成物的全固形分之中含有50重量%以上之成分。其中，適合以透明性、耐候性、耐熱性等優異的(甲基)丙烯酸系樹脂作成基質聚合物之黏著劑組成物。黏著劑組成物可以為活性能量線硬化型或熱硬化型。(甲基)丙烯酸基係指丙烯酸基及甲基丙烯酸基之中的至少一者。
可使用作為黏著劑組成物中的基質聚合物之(甲基)丙烯酸系樹脂，適合使用將例如(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙酯己酯的(甲基)丙烯酸酯之1種或2種以上作成單體的聚合物或共聚物。
基質聚合物中係以可使具有反應性官能基的單體共聚合為佳。具有反應性官能基的單體可列舉：例如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基胺基(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯的具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等之單體。
黏著劑組成物中含有的(甲基)丙烯酸系樹脂之玻璃轉移溫度係以-30℃以下為佳，以-35℃以下更佳，通常為-50℃以上，也可以為-45℃以上。因(甲基)丙烯酸系樹脂的玻璃轉移溫度在上述的範圍內，故可容易獲得上述的拉伸應力及拉伸應力(23℃)為上述範圍的黏著劑層。玻璃轉移溫度可用後述的實施例所述之方法測定。
黏著劑組成物可以為含有上述基質聚合物者，但通常又含有交聯劑。交聯劑可例示如2價以上的金屬離子，且在和羧基之間形成羧酸金屬鹽等者；聚胺化合物，且在和羧基之間形成醯胺鍵等者；聚環氧化合物或多元醇，且在和羧基之間形成酯鍵等者；異氰酸酯，且在和羧基之間形成醯胺鍵等者。其中，係以異氰酸酯化合物為佳。
異氰酸酯化合物係分子內具有至少2個異氰酸酯基(-NCO)的化合物。異氰酸酯化合物可列舉：例如六亞甲二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、氯苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、氫化二甲苯二異氰酸酯、聚亞甲聚苯基異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等。異氰酸酯化合物可以為上述化合物的多元醇化合物加成物(附加物)(例如與甘油、三羥甲基丙烷等的加成物)、異三聚氰酸酯化合物、二縮脲型化合物、另外可以為和聚醚多元醇或聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇等附加反應的聚胺酯預聚物型之異氰酸酯化合物、有機多元異氰酸酯化合物的嵌段化異氰酸酯基之嵌段異氰酸酯化合物等的衍生物。
相對於基質聚合物(特別係(甲基)丙烯酸系樹脂)100質量份，異氰酸酯化合物的含有量係0.1質量份以上，可以為1質量份以上，可以為3質量份，此外，係10質量份以下，可以為8質量份以下，可以為6質量份以下。
(表面處理膜)
表面處理膜具有基材膜和形成在基材膜的表面上之表面處理層。表面處理層22可以為基材膜21的一部分，可以為基材膜21的表層部分，可以為積層在基材膜21上和基材膜21不同的層。表面處理層22係和基材膜21不同之層時，基材膜21和表面處理層22係以直接接觸為佳。
基材膜可使用作為後述的保護膜中所使用之材料所說明的樹脂膜。
如上述，表面處理層可以為選自由抗反射層、防眩層、硬塗層及防污層所組成之群組中的1種以上。表面處理層可以為防眩性硬塗層和抗反射層與防污層之積層體。表面處理層可以為在基材膜的表面上塗布塗布液而形成之塗布層，可以為用化學蒸鍍法或物理蒸鍍法形成之成膜層。
抗反射層具有防止外部光線的反射之機能。複合偏光板具有的表面處理膜具有抗反射層時，可抑制因外部光線反射引起的對比下降。
抗反射層可列舉：例如表面處理層係基材膜表面的凹凸圖案結構部分，且凹凸的周期控制在可見光之波長以下(表面具有蛾眼(moth-eye)結構的基材膜)者；表面處理層係基材膜的表面經組成物之塗布等而形成微細凹凸圖案者；表面處理層係具有單層或多層已調整折射率之層者等。
抗反射層適用已嚴密控制厚度及折射率之薄膜或積層2層以上的薄膜者。薄膜係指厚度1μm以下之膜。抗反射層可作成利用光的干擾效應抵消 入射光和反射光之逆轉相位而顯現抗反射功能之構成。可顯現抗反射功能的可見光之波長域，係例如380至780nm，可見度特別高的波長域係450至650nm之範圍，以使其中心波長的550nm之反射率最小化的設計抗反射層為佳。抗反射層的厚度係以100nm至350nm為佳，以150nm至300nm更佳。
基於光的干擾效果之抗反射層的設計中，改善其干擾效果的方式有：例如增大抗反射層和後述的防眩層之折射率差的方法。一般積層有2至15層的薄膜(已嚴密控制厚度及折射率的薄膜)之結構的多層抗反射層中，藉由將不同折射率的成分形成僅預定厚度的多層，即可提高抗反射層的光學設計之自由度，進而改善抗反射效果，在可見光域中使分光反射特性均勻(平坦)。由於薄膜需要較高的厚度精度，故通常可用乾式之真空蒸鍍、濺鍍、CVD(化學氣相蒸鍍)等)實施各層的形成。藉由使用濺鍍形成之各層的抗反射膜，可得耐擦傷性高的複合偏光板。
抗反射層係以使用低折射率層和高折射率層交互積層者為佳。高折射率層之間或低折射率層彼此之間可具有相同的折射率，但從抑制材料成本及成膜成本等觀點，係以作成相同材料且相同折射率為佳。
構成低折射率層的材料，可列舉二氧化矽(SiO2)、氧氮化矽(SiON)、氧化鎵(Ga2O3)、氧化鋁(Al2O3)、氧化鑭(La2O3)、氟化鑭(LaF3)、氟化鎂(MgF2)、氟化鈉鋁(Na3AlF6)等。其中，從折射率低、可見光域中不具有吸收、膜強度的高度等觀點，係以二氧化矽(SiO2)為最佳。
構成高折射率層的材料，可列舉五氧化二鈮(Nb2O5)、二氧化鈦(TiO2)、二氧化鋯(ZrO2)、五氧化二鉭(Ta2O5)、氧氮化矽(SiON)、氮化矽(Si3N4)及氧化矽鈮(SiNbO)等。其中，從折射率的高度、膜強度的高度等觀點，係以五 氧化二鈮(Nb2O5)或二氧化鈦(TiO2)更佳，再以可見光域中不具有吸收而言，係以五氧化二鈮(Nb2O5)最佳。
任何化合物均藉由控制成偏離化學計量比的組成比之構成元素比，或控制成膜密度而成膜，而可使折射率改變一定程度。構成低反射率層及高反射率層的材料，只要係滿足上述的折射率之條件者，即不限制上述化合物。此外，也可含有不可避免的雜質。
表面處理膜具有基材膜上積層有抗射層的結構時，基材膜的形成抗反射層之側的表面之算術平均粗糙度Ra，係以1.5nm以下為佳，以1.0nm以下更佳。算術平均粗糙度Ra可以為0.00nm以上，可以為0.05nm以上。算術平均粗糙度Ra可從使用原子力顯微鏡(AFM)的1μm見方之觀察圖像中求得。
防眩層可具有改善視認性、防止外部光線的反射、減少波紋(干涉條紋)等功能。防眩層可在表面具有微細的凹凸形狀。微細的凹凸形狀可藉由添加填料、表面加以精細壓花等方法形成。
防眩層，可以為例如使微粒子分散在含有形成後述的硬塗層用之硬化性樹脂的塗布液中，而形成之防眩性硬塗層。可分散在塗布液中的微粒子係可使用之二氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、氧化鈣、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等各種金屬氧化物微粒子；玻璃微粒子；聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚胺酯、丙烯酸-苯乙烯共聚物、苯胍胺、三聚氰胺、聚碳酸酯等從各種透明聚合物形成之交聯或不交聯的有機系微粒子；矽系微粒子等具有透明性者，無特別限制。此等微粒子可適宜選擇使用1種或2種以上。其中，折射率高的微粒子係比塗布液中含有的硬化性樹脂佳，例如係以苯乙烯粒子(折射率1.59)等折射率1.5以上之有機系微粒子為佳。微粒子的平均粒徑係以1至10μm為佳，以2 至5μm更佳。微粒子的比例並無特別的限制，但相對於母體樹脂100重量份，係以6至20重量份為佳。
在形成防眩層用之塗布液中，可含有觸變劑(thixotropic agent，粒徑0.1μm以下的氧化矽、雲母等)。藉此，即可容易形成突出粒子的微細凹凸結構。
硬塗層具有提高基材膜的表面硬度之功能，可改善表面的耐擦傷性。表面處理膜為硬塗層時，表面處理膜的表面處理層側之表面硬度係例如HB以上，可以為F以上，可以為H以上，可以為2H以上，可以為3H以上。鉛筆硬度係如後述的實施例所述，可遵照JIS K 5600-5-4：1999測定。
硬塗層可藉由例如在基材膜上塗布含有硬化性樹脂的組成物之塗布液而形成。除了硬化性樹脂以外，塗布液中也可含有整平劑、觸變劑、抗靜電性劑等添加劑。
硬化性樹脂可列舉熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子束硬化型樹脂等。硬化性樹脂的種類可列舉聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、胺酯系樹脂、丙烯酸胺酯系樹脂、醯胺系樹脂、聚矽氧系樹脂、矽酸鹽系樹脂、環氧系樹脂、三聚氰胺系樹脂、環氧丙烷系樹脂、丙烯酸胺酯系樹脂等各種樹脂。此等硬化性樹脂可適宜選擇1種或2種以上而使用。
此等樹脂之中，從硬度變高、可因照射紫外線的硬化而使產率優良而言，硬化性樹脂係以(甲基)丙烯酸系樹脂、(甲基)丙烯酸胺酯系樹脂及環氧系樹脂為佳，其中並以(甲基)丙烯酸胺酯系樹脂為佳。紫外線硬化型樹脂中包含紫外線硬化型的單體、寡聚物、聚合物等。較佳可使用的紫外線硬化型樹脂可列 舉：例如具有紫外線聚合性者，其中含有將具有2個以上的該官能基，特別係具有3至6個的(甲基)丙烯酸系之單體或寡聚物作為成分者。
硬塗層的厚度雖然無特別的限制，但為獲得較高的硬度，係以0.5μm以上為佳，以1μm以上更佳。如考量容易以塗布形成時，硬塗層的厚度係以15μm以下為佳，以12μm以下更佳，以10μm以下又更佳。
如表面處理膜具有基材膜上積層有硬塗層之結構時，硬塗層的算術平均粗糙度係作為形成基材膜的硬塗層之側的表面之算術平均粗糙度。算術平均粗糙度Ra可從使用原子力顯微鏡(AFM)的1μm見方之觀察圖像中求得。如上述，藉由塗布形成硬塗層的話，便可使基材膜的表面之算術平均粗糙度變小。
防污層可賦予表面處理膜撥水性、撥油性、耐汗性、防污性等功能。防污層可含有氟碳化合物、全氟矽烷、此等的高分子化合物等含氟有機化合物等之防污劑。
(偏光元件)
偏光元件係一種吸收型的偏光膜，其具有吸收其吸收軸具有的平行振動面之線性偏光，並透射吸收軸具有的垂直(和透射軸平行)振動面之線性偏光的性質。
偏光元件係聚乙烯醇系樹脂層(以下亦稱「PVA系樹脂層」)中已吸附配向有二色性色素者。偏光元件可使用已周知者。偏光元件可列舉：用二色性色素將聚乙烯醇系樹脂層(以下亦稱「PVA系樹脂層」)染色，並經單軸延伸而得之延伸膜，或使用在基材膜上塗布含有聚乙烯醇系樹脂(以下亦稱「PVA系樹脂」)的塗布液而形成之具有塗布層的積層膜，用二色性色素將塗布層染色，並 將積層膜單軸延伸而得之延伸層。延伸可在經二色性色素染色之後進行，也可染色同時延伸，也可延伸同時染色。
將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化，即可得PVA系樹脂。聚乙酸乙烯酯系樹脂除了係單獨乙酸乙烯酯的聚合物以外，也可列舉乙酸乙烯酯和可與乙酸乙烯酯共聚合的其他單體之共聚物。可共聚的其他單體可列舉：例如不飽和羧酸類、乙烯等烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類等。
PVA系樹脂的皂化度係以85莫耳%以上為佳，以90莫耳%以上更佳，以99莫耳%以上100莫耳%以下又更佳。PVA系樹脂的聚合度係例如1000以上10000以下，以1500以上5000以下為佳。PVA系樹脂也可改質，可以為例如經醛類改質的聚乙烯縮甲醛、聚乙烯縮乙醛、聚乙烯縮丁醛等。
吸附配向在PVA系樹脂層中的二色性色素，可列舉碘或二色性染料。二色性色素係以碘為佳。二色性染料可列舉紅BR、紅LR、紅R、粉紅LB、Rubin BL、Bordeaux GS、天空藍LG、檸檬黃、藍BR、藍2R、海軍藍RY、綠LG、紫LB、紫B、黑H、黑B、黑GSP、黃3G、黃R、橙LR、橙3R、深紅GL、深紅KGL、剛果紅、亮紫BK、Supra Blue(超藍)G、Supra Blue GL、Supra Orange(超橙)GL、直接天藍、直接堅橙S、牢黑等。
偏光元件的厚度係以3μm以上35μm以下為佳，以4μm以上30μm以下更佳，以5μm以上25μm以下又更佳。因偏光元件的厚度在35μm以下，故可例如在高溫環境下抑制PVA系樹脂的多烯化受到光學特性降低之影響。因偏光元件的厚度在3μm以上，故容易構成達到所期望之光學特性。
(偏光元件的製造方法)
偏光元件的製造方法並無特別的限制，代表性的有：將預先捲成卷狀的PVA系樹脂膜送出後進行延伸、染色、交聯等而製作的方法(以下作為「製造方法1」)；包含將含有PVA系樹脂的塗布液塗布在基材膜上形成作為塗布層的PVA系樹脂層，將所得的積層體延伸之步驟的方法(以下作為「製造方法2」)。
製造方法1係經過下列內容而製造：將PVA系樹脂膜單軸延伸的步驟、用碘等二色性色素將PVA系樹脂膜染色使其吸附二色性色素的步驟、用硼酸水溶液處理吸附有二色性色素的PVA系樹脂膜之步驟，及硼酸水溶液處理後的水洗步驟。
膨潤步驟係將PVA系樹脂膜浸泡在膨潤浴中的處理步驟。經膨潤步驟除了可去除PVA系樹脂膜表面的污漬，也可因使PVA系樹脂膜膨潤而抑制染色不均。膨潤浴中通常為使用將水、蒸餾水、純水等水作成主成分之介質。膨潤浴中可依照常用方法而適當添加界面活性劑、醇等。從控制偏光元件的鉀之含有率的觀點，膨潤浴中可使用碘化鉀，此時，膨潤浴中的碘化鉀之濃度係以1.5質量%以下為佳，以1.0質量%以下更佳，以0.5質量%以下又更佳。
膨潤浴的溫度係以10℃以上60℃以下為佳，15℃以上45℃以下更佳，18℃以上30℃以下又更佳。由於PVA系樹脂膜的膨潤程度會受膨潤浴溫度之影響，故浸泡膨潤浴的時間不能一概而論，但以5秒以上300秒以下為佳，以10秒以上200秒以下更佳，以20秒以上100秒以下又更佳。膨潤步驟可僅執行一次，也可視需要而複數次進行。
染色步驟係將PVA系樹脂膜浸泡在含有二色性色素的處理浴(染色浴)中之處理步驟，可使碘等二色性色素吸附及配向在PVA系樹脂膜中。染色浴係含有二色性色素的染色液，以碘溶液為佳。碘溶液係以碘水溶液為佳，以含 有碘及作為溶解助劑的碘化物為佳。碘化物可列舉碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等，此等之中，從控制偏光元件中的鉀之含有率的觀點，係以碘化鉀較合適。
碘溶液中的碘濃度係以0.01質量%以上1質量%以下為佳，以0.02質量%以上0.5質量%以下更佳。碘溶液中的碘化物濃度係以0.01質量%以上10質量%以下為佳，以0.05質量%以上5質量%以下更佳，以0.1質量%以上3質量%以下又更佳。
染色浴的溫度係以10℃以上50℃以下為佳，以15℃以上45℃以下更佳，以18℃以上30℃以下又更佳。由於PVA系樹脂膜的染色程度會受染色浴的溫度影響，故浸泡染色浴的時間不能一概而論，但以10秒以上300秒以下為佳，以20秒以上240秒以下更佳。染色步驟可僅執行一次，也可視需要而複數次進行。
交聯步驟係將經染色步驟染色的PVA系樹脂膜浸泡在含有硼化合物的處理浴(交聯浴)中之處理步驟，用硼化合物使PVA系樹脂膜交聯，可使碘分子或染料分子吸附在該交聯結構中。硼化合物可列舉：例如硼酸、硼酸鹽、硼砂等。交聯浴通常為水溶液，也可以為和水具有混合性的有機溶劑及水的混合溶液。從控制偏光元件中的鉀之含有率的觀點，交聯浴係以含有碘化鉀為佳。
交聯浴中，硼化合物的濃度係以1質量%以上15質量%以下為佳，以1.5質量%以上10質量%以下更佳，以2質量%以上5質量%以下又更佳。在交聯浴中使用碘化鉀時，交聯浴中的碘化鉀之濃度係以1質量%以上15質量%以下為佳，以1.5質量%以上10質量%以下更佳，以2質量%以上5質量%以下又更佳。
交聯浴的溫度係以20℃以上70℃以下為佳，以30℃以上60℃以下更佳。由於PVA系樹脂膜的交聯程度會受交聯浴之溫度影響，故浸泡交聯浴的時間不能一概而論，但以5秒以上300秒以下為佳，以10秒以上200秒以下更佳。交聯步驟可僅執行一次，也可視需要而複數次進行。
延伸步驟係將PVA系樹脂膜朝至少一方向延伸至預定倍率的處理步驟。通常為將PVA系樹脂膜朝運送方向(長度方向)單軸延伸。延伸方法並無特別的限制，可採用濕潤延伸法和乾式延伸法的任一方式。延伸步驟可僅執行一次，也可視需要而複數次進行。偏光元件的製造中，延伸步驟可在任一階段中進行。
濕潤延伸法中的處理浴(延伸浴)，通常為使用水或可和水混合的有機溶劑及水之混合溶液。從控制偏光元件中的鉀之含有率的觀點，延伸浴係以含有碘化鉀為佳。延伸浴中使用碘化鉀時，延伸浴中碘化鉀的濃度係以1質量%以上15質量%以下為佳，以2質量%以上10質量%以下更佳，以3質量%以上6質量%以下又更佳。從防止延伸中的膜破裂之觀點，處理浴(延伸浴)係以含有硼化合物為佳。含有硼化合物時，延伸浴中的硼化合物之濃度係以1質量%以上15質量%以下為佳，以1.5質量%以上10質量%以下更佳，以2質量%以上5質量%以下又更佳。
延伸浴的溫度係以25℃以上80℃以下為佳，以40℃以上80℃以下更佳，以50℃以上75℃以下又更佳。由於PVA系樹脂膜的延伸程度會受延伸浴之溫度影響，故浸泡延伸浴的時間不能一概而論，但以10秒以上800秒以下為佳，以30秒以上500秒以下更佳。濕潤延伸法中的延伸處理可和膨潤步驟、染色步驟、交聯步驟及清洗步驟的任何1個以上之處理步驟同時進行。
乾式延伸法可列舉：例如輥間延伸方法、加熱輥延伸方法、壓縮延伸方法等。又，乾式延伸法可和乾燥步驟同時施行。
施在PVA系樹脂膜上的總延伸倍率(累計的延伸倍率)可配合目的而適當設定，但以2倍以上7倍以下為佳，以3倍以上6.8倍以下更佳，以3.5倍以上6.5倍以下又更佳。
清洗步驟係將PVA系樹脂膜浸泡在清洗浴中的處理步驟，可去除殘留在PVA系樹脂膜的表面等上之異物。清洗浴通常為使用水、蒸餾水、純水等水作成主成分的介質。此外，從控制偏光元件中的鉀之含有率的觀點，清洗浴中係以使用碘化鉀為佳，此時，清洗浴中碘化鉀的濃度係以1質量%以上10質量%以下為佳，以1.5質量%以上4質量%以下更佳，以1.8質量%以上3.8質量%以下又更佳。
清洗浴的溫度係以5℃以上50℃以下為佳，以10℃以上40℃以下更佳，以15℃以上30℃以下又更佳。清由於PVA系樹脂膜的清洗程度會受清洗浴之溫度影響，故浸泡清洗浴中時間不能一概而論，但以1秒以上100秒以下為佳，以2秒以上50秒以下更佳，以3秒以上20秒以下又更佳。清洗步驟可僅執行一次，也可視需要而複數次進行。
乾燥步驟係將經清洗步驟的PVA系樹脂膜乾燥而得偏光元件的步驟。可用任何適當的方法進行乾燥，可列舉：例如自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥。
製造方法2係經過下列內容而製造：將含有PVA系樹脂的塗布液塗布在基材膜上的步驟、將所得的積層膜單軸延伸之步驟、用二色性色素將已單軸延伸的積層膜之PVA系樹脂層染色使其吸附作成偏光元件之步驟、用硼酸水 溶液處理吸附有二色性色素的膜之步驟，及以硼酸水溶液處理後水洗的步驟。形成偏光元件用的基材膜可作成偏光元件的保護膜使用。也可視需要而從偏光元件中去除基材膜。
(偏光板)
偏光板至少含有偏光元件。偏光板可以為在偏光元件的單面或雙面具有保護膜者。如偏光板在雙面具有保護膜時，保護膜可以為其種類及/或厚度互為相同，也可互不相同。
偏光元件和保護膜係以隔著貼合層(黏著劑層或接著劑層)而積層為佳。貼合偏光元件和保護膜的貼合層係以接著劑層為佳，以後述的水系接著劑或活性能量線接著劑的硬化物層為佳。
偏光板可以為線性偏光板，也可以為圓偏光板。如偏光板為圓偏光板時，偏光板具有λ/4波長板等。偏光板中含有的相位差層可以為1或2個以上，相位差層可隔著貼合層而積層。
(保護膜)
保護膜係以透明性、機械強度、熱穩定性、水分遮蔽性、相位差值的穩定性等優異者為佳。保護膜係以使用樹脂膜為佳。
構成保護膜的樹脂材料可列舉：例如(甲基)丙烯酸甲酯系樹脂、聚烯烴系樹脂、環狀烯烴系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、纖維素系樹脂、苯乙烯系樹脂、丙烯腈‧丁二烯‧苯乙烯系樹脂、丙烯腈‧苯乙烯系樹脂、聚乙酸乙烯酯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚縮醛系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、改質聚苯醚系樹脂、聚對苯二甲酸丁二酯系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、 及此等之中的2種以上之組合等。此等樹脂可在任何適當的聚合物改質後使用，此聚合物改質可列舉：例如共聚合、交聯、分子末端改質、控制立體規則性、及包含伴有不同種聚合物之間的反應之混合等之改質。
纖維素系樹脂可以為纖維素的羥基中之部份或全部的氫原子經乙醯基、丙醯基及/或丁醯基取代的纖維素之纖維素的有機酸酯或混合有機酸酯。可列舉：例如從纖維素的乙酸酯、丙酸酯、丁酸酯、此等之混合酯等形成者。其中，係以三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素、纖維素醯化物、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯等為佳。
環狀烯烴系樹脂係將環狀烯烴作為聚合單元而聚合成之樹脂的統稱，可列舉：例如日本特開平1-240517號公報、日本特開平3-14882號公報、日本特開平3-122137號公報等所述之樹脂。環狀烯烴系樹脂係以降冰片烯系樹脂為佳。具體例可列舉環狀烯烴的開環(共)聚合物、環狀烯烴的附加聚合物、環狀烯烴和乙烯、丙烯等α-烯烴和其共聚物(代表上為無規共聚物)、及此等化合物經不飽合羧酸或其衍生物改質的接枝聚合物，以及該等的氫化物等。環狀烯烴之具體例可列舉降冰片烯系單體。
在不損及透明性的範圍中，構成保護膜的樹脂材料中除了上述的樹脂以外，也可調配適合的添加物。作為添加物，可列舉：例如抗氧化劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑、滑劑、造核劑、防暈劑、抗結塊劑、相位差減低劑、穩定劑、加工助劑、塑化劑、耐衝擊助劑、消光劑、抗菌劑、防霉劑等。此等添加物可合併使用多種。
保護膜的厚度通常為1μm以上100μm以下，但從強度或使用性等觀點，係以5μm以上60μm以下為佳，以10μm以上55μm以下更佳，以15μm以上50μm以下又更佳。
保護膜可同時具有其他的光學功能，可形成積層多層之積層結構。從光學特性之觀點，保護膜的膜厚雖然係以較薄者為佳，但太薄時會變成強度降低且加工性劣化者。合適的膜厚係5至100μm，以10至80μm為佳，以15至70μm更佳。
保護膜可以為單層結構，也可具有多層結構。保護膜可在其單面或雙面具備抗靜電層。
保護膜可因視角補償等目的而具備相位差功能，此時，膜自身也可具有相位差功能，也可具有另外的相位差層，也可將兩者組合。具備相位差功能的保護膜可以為隔著貼合在偏光元件之另一保護膜而隔著貼合層(黏著劑層或接著劑層)貼合之構成。
(貼合層、其他的黏著劑層)
貼合層係黏著劑層(以下稱為「黏著劑層〔貼合層〕」。)或接著劑層。為黏著劑層〔貼合層〕時的貼合層、及將複合偏光板貼合在圖像顯示元件上用之其他黏著劑層，可列舉已在貼合上述的表面處理膜和偏光板用之黏著劑層中的說明者。
黏著劑層〔貼合層〕及其他的黏著劑層之厚度係分別獨立的以1μm以上200μm以下為佳，以2μm以上100μm以下更佳，以2μm以上80μm以下又更佳，以3μm以上50μm以下特別佳。
構成接著劑層的接著劑可使用任何適合的接著劑。接著劑雖然可使用水系接著劑、溶劑系接著劑、活性能量線硬化型接著劑等，但以水系接著劑為佳。
塗布接著劑時的厚度可設定成任何適合之值。例如，設定成硬化後或加熱(乾燥)後可得具有期望厚度的接著劑層。接著劑層的厚度較佳為0.01μm以上7μm以下，更佳為0.01μm以上5μm以下，又更佳為0.01μm以上2μm以下，最佳為0.01μm以上1μm以下。
水系接著劑可使用公知的水系接著劑。水系接著劑係以使用含有PVA系樹脂的水系接著劑(以下有時亦稱「PVA系接著劑」)為佳。從接著性的觀點，水系接著劑中含有的PVA系樹脂之平均聚合度係以100至5,500為佳，以1,000至4,500更佳。從接著性的觀點，PVA系樹脂的平均皂化度係以85莫耳%至100莫耳%為佳，以90莫耳%至100莫耳%更佳。
貼合偏光元件和保護膜時使用的PVA系接著劑中含有的PVA系樹脂，係以含有乙醯乙醯基者為佳。因可使構成偏光元件的PVA系樹脂層和保護膜之間的密合性變優、耐久性變優。含有乙醯乙醯基的PVA系樹脂可由例如用任何的方法使PVA系樹脂和二烯酮反應即得。含有乙醯乙醯基的PVA系樹脂之乙醯乙醯基的改質度，代性的係0.1莫耳%以上，以0.1莫耳%至20莫耳%為佳。
PVA系接著劑中的PVA系樹脂之濃度係以0.1重量%至15重量%為佳，以0.5重量%至10重量%更佳。
PVA系樹脂含有乙醯乙醯基時，PVA系接著劑係以含有乙二醛、乙醛酸鹽及羥甲基三聚氰胺之中的1種以上作為交聯劑為佳，以至少含有乙二醛及乙醛酸鹽之中的至少1者為佳，以含有乙二醛特別佳。
PVA系接著劑可含有有機溶劑。此時，由於和水具有混合性，故有機溶劑係以醇類為佳，醇類之中，並以甲醇或乙醇為佳。
從提高耐熱性的觀點，PVA系接著劑可進一步含有尿素、尿素衍生物、硫脲及硫脲衍生物等尿素化合物；抗壞血酸、異抗壞血酸、硫代硫酸及亞硫酸等還原劑；順丁烯二酸及隣苯二甲酸等二羧酸；硫酸銨、氯化銨、碳酸銨及氟化銨等銨化合物；α-環糊精、β-環糊精、γ-環糊精等環糊精類；異氰酸酯化合物經嵌段劑嵌段的嵌段異氰酸酯化合物；N-氧基化合物等硝氧自由基；具有硝基氧化基的化合物等。
活性能量線硬化型接著劑係經照射紫外線等活性能量線而硬化的接著劑，可列舉：例如含有聚合性化合物及光聚合性起始劑的接著劑、含有光反應性樹脂的接著劑、含有貼合劑樹脂及光反應性交聯劑的接著劑等。上述聚合性化合物可列舉光硬化性環氧系單體、光硬化性(甲基)丙烯酸系單體、光硬化性聚銨酯系單體等光聚合性單體、及來自此等單體的寡聚物等。上述光聚合起始劑可列舉含有照射紫外線等活性能量線而產生稱為中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基的活性種之物質的化合物。
(剝離膜)
剝離膜係設置成可將複合偏光板貼合在圖像顯示元件上用的其他黏著劑層剝離，並覆蓋保護其他的黏著劑層。基材可以為樹脂膜。樹脂膜可由例如形成上 述的保護膜用之樹脂材料形成。離型處理層只要係已知的離型處理層即可，可列舉：例如將氟化合物或有機矽化合物等離型劑塗布在基材層上而形成之層。
(防護膜)
防護膜係設置成可從表面處理膜中剝離。防護膜可含有基材層和黏著劑層，也可以為自行黏著性膜。基材層可以為樹脂膜，基材層可由例如形成上述保護膜用之樹脂材料形成。黏著劑層可列舉上述的黏著劑層〔貼合層〕中之說明者。構成自行黏著性膜的熱可塑性樹脂可列舉：例如聚丙烯系樹脂及聚乙烯系樹脂等。
[實施例]
以下，呈示實施例及比較例以更具體的說明本發明，但本發明並非侷限於此等例之範圍者。
〔玻璃轉移溫度的測定〕
(甲基)丙烯酸系樹脂的玻璃轉移溫度(Tg)係利用SII Nanotechnology股份有限公司製造的示差掃描熱量計(DSC)「EXSTAR DSC6000」，在氮氣周圍環境氣體下，以測定溫度範圍-80至50℃、昇溫速度10℃/分鐘的條件測定。
〔黏著劑層(Y)的應力測定〕
在使用後述的黏著劑組成物形成之黏著片(Y)之黏著劑層(Y)側的表面，貼合剝離膜(附離型處理層的厚度38μm之聚對苯二甲酸乙二酯膜)而得具有厚度5μm之黏著劑層(Y)的雙面附剝離膜之黏著片(層結構：剝離膜/黏著劑層(Y)/剝離膜)，在溫度23℃、相對濕度50%RH的條件下保存2天、3天、8天及10天。從保存後的各雙面附剝離膜之黏著片中剝離單面的剝離膜，並取出長度150mm×寬度30mm的黏著劑層(Y)，將該黏著劑層(Y)朝長度方向(150mm的方向)繞捲成卷狀，製作成直徑約1mm、高度(寬)30mm的圓柱狀試料。在溫度23℃、相對濕度50 %RH的條件下，利用材料試驗機(STA-1225S，Orientec股份有限公司製造)，以固定具(chucks)間距10mm、拉伸速度300mm/分鐘的條件，對製作成的各試料測定拉伸為0%至1,600%的範圍之應力。將測定結果呈示於圖2中。如圖2所示，和保存天數短(2天、3天)的試料比較時，保存天數長(8天、10天)的試料之於拉伸800%中的應力變大。
〔表面硬度的測定〕
將剝離膜從實施例及比較例中獲得的複合偏光板中剝離，並將露出的黏著劑層(X)貼合在玻璃板上。以此狀態，從複合偏光板的表面處理膜側進行JIS K 5600-5-4：1999「塗料一般試驗方法-第5部：塗膜的機械性質-第4節：划痕硬度(鉛筆法)」中規定的鉛筆硬度試驗。
〔接著力的測定〕
將實施例及比較例中獲得的複合偏光板裁切成長度(和偏光元件的吸收軸方向平行之方向的長度)200mm×寬25mm的大小，將剝離膜剝離且將黏著劑層(X)貼合在玻璃板上，獲得試驗片。將此試驗片置於溫度23℃、相對濕度50%RH的環境下24小時。然後，在試驗片的偏光板和表面處理膜之間插入刀片，在長度方向從邊緣剝離30mm，用試驗機的夾具上方部分夾住該剝離的部分，夾具下方部分則夾住玻璃板。在溫度23℃及相對濕度55%的周圍環境氣體中，遵照JIS K 6854-2：1999「接著劑-剝離接著強度試驗方法-第2部：剝離180度」，以夾具移動速度300mm/分鐘對此狀態的試驗片進行剝離試驗，求取去掉夾具部分30mm之60mm長度上的平均剝離力(單位：N/25mm)，將此作成複合偏光板中的表面處理膜和偏光板之間的黏著劑層(Y)之接著力。將結果呈示於表1中。
<偏光元件的製作>
將從平均聚合度約2,400、皂化度99.9莫耳%以上的聚乙烯醇形成之厚度75μm之聚乙烯醇系樹脂膜，用乾式單軸延伸至大約5倍，接著就保持緊張狀態浸泡在溫度60℃的純水中1分鐘之後，浸泡在碘/碘化鉀/水之重量比0.05/5/100的溫度28℃之水溶液中60秒。然後，浸泡在碘化鉀/硼酸/水的重量比8.5/8.5/100的溫度72℃之水溶液中300秒。接著，用溫度26℃的純水清洗20秒之後，在溫度65℃中乾燥，獲得聚乙烯醇系樹脂膜中吸附配向有碘之厚度28μm的偏光元件。
<水系接著劑的調製>
將含有乙醯乙醯基的改質聚乙烯醇系樹脂(三菱化學股份有限公司製造：Gohsenex Z-410)50克(g)溶解於950g的純水中，在溫度90℃中加熱2小時後，冷卻至常溫，獲得PVA溶液。將此PVA溶液、純水、順丁烯二酸及乙二醛調配成PVA系樹脂的濃度為3.0重量%、順丁烯二酸的濃度為0.01重量%、乙二醛的濃度為0.15重量%，獲得水系接著劑。
<偏光板及附黏著劑層(X)的偏光板之製作>
(偏光板的製作)
將作為保護膜的纖維素醯化物膜「TD40」(富士軟片股份有限公司製造：厚度40μm)浸泡在保持於溫度55℃的1.5mol/L之NaOH水溶液(皂化液)中2分鐘之後，將膜水洗。然後，浸泡在溫度25℃的0.05mol/L之硫酸水溶液0秒之後，再於水洗浴中30秒通過流水下，作成中性狀態。然後，用氣刀排水重複3次。排水後，將膜滯留在溫度70℃的乾燥區中15秒使其乾燥，製作成皂化處理過的保護膜。
將皂化處理過的保護膜隔著上述調製的水系接著劑，利用滾壓貼合機貼合在上述製作的偏光元件之雙面上，在溫度80℃中乾燥5分鐘，獲得偏光板。調節介於偏光元件和保護膜之間的水系接著劑，使乾燥後的接著劑層之厚度在雙面均成為100nm。
(附黏著劑層(X)的偏光板之製作)
在剝離膜(附離型處理層的厚度38μm之聚對苯二甲酸乙二酯膜)上，準備已形成厚度25μm的黏著劑層(X)之黏著片(X)。在上述中獲得的偏光板之單面上，將黏著片(X)的黏著劑層(X)側積層在偏光板上，獲得附黏著劑層(X)之偏光板。在黏著劑層(X)和偏光板之間的貼合面上進行電暈處理。所得的附黏著劑層(X)之偏光板的層結構，係保護膜/接著劑層/偏光元件/接著劑層/保護膜/黏著劑層(X)/剝離膜。
<表面處理膜的製作>
(防眩性硬塗層的形成)
將紫外線硬化型的聚胺酯(甲基)丙烯酸酯系單體(折射率1.51)50重量份、紫外線硬化型的(甲基)丙烯酸酯系單體(折射率1.51)50重量份、平均粒徑3.5μm的甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物粒(折射率1.55)14重量份、二苯甲酮系光聚合起始劑5重量份及甲苯混合的固形分濃度40重量%之溶液，塗布在基材膜(厚度40μm的三乙醯基纖維素膜(折射率1.49))上，在溫度120℃中乾燥5分鐘。然後，照射紫外線進行硬化處理，製作成基材膜上形成具有凹凸結構的厚度大約4μm之防眩性硬塗層的防眩性硬塗層膜。
(抗反射層的形成)
依照日本特開2019-035969號公報的實施例，將上述獲得的防眩性硬塗層膜導入卷對卷式的濺鍍成膜裝置中，在掃描膜的同時對防眩性硬塗層形成面進行轟擊處理(bombardment processing，氬氣(Ar)電漿處理)之後，成膜5nm的SiOx層作為密合性改善層，並在其上依20nm的Nb2O5層、35nm的SiO2層、35nm的Nb2O5層及100nm的SiO2層之順序成膜，形成厚度190nm的4層構成之抗反射層。在抗反射層上形成厚度5nm的氟系樹脂作為防污層，製作成表面處理膜。表面處理膜的表面處理層係具有防眩性硬塗層、抗反射層及防污層的積層結構者。
<黏著片(Y)的製作>
((甲基)丙烯酸系樹脂的製造)
在具備攪拌葉、溫度計、氮氣導入管及冷卻器的4口燒瓶中，裝入丙烯酸丁酯74.5質量份、丙烯酸甲酯20質量份、丙烯酸2-羥基乙酯5質量份、丙烯酸0.5質量份、偶氮二異丁腈0.2質量份和乙酸乙酯120質量份，緩緩的攪拌，同時導入氮氣而取代成氮氣之後，將燒瓶內的液溫保持在溫度60℃附近，進行8小時的聚合反應，獲得(甲基)丙烯酸系樹脂的溶液。在上述方法中測定(甲基)丙烯酸系樹脂的玻璃轉移溫度時Tg時，係-40℃。
(黏著劑組成物的調製)
在上述中獲得的(甲基)丙烯酸系樹脂之溶液中，相對於(甲基)丙烯系樹脂100質量份，混合Coronate L(甲苯二異氰酸酯的三羥甲基丙烷加成物之乙酸乙酯溶液：固形分濃度75質量%，TOSOH股份有限公司製造)4質量份(固形分)，獲得黏著劑組成物。
(黏著劑層(Y)的形成)
在剝離膜(附離型處理層的厚度38μm之聚對苯二甲酸乙二酯膜)上塗布上述中調製之黏著劑組成物，形成厚度5μm的黏著劑層(Y)，製作成黏著片(Y)。
〔實施例1〕
作成上述的黏著片(Y)之後，即刻將黏著片(Y)的黏著劑層(Y)側貼合在上述中製作成的表面處理膜之基材膜側的面上。製作黏著片(Y)後的(實質上將黏著片(Y)貼合在表面處理膜上後)2天後，將黏著劑層(Y)上的剝離膜剝離，並在露出的黏著劑層(Y)上積層附黏著劑層(X)的偏光板之偏光板側，獲得積層體。在表面處理膜、黏著劑層(Y)及附黏著劑層(X)的偏光板之貼合面上進行電暈處理。
製作黏著片(Y)、貼合黏著片(Y)及獲得積層體的步驟，均係在溫度23℃、相對濕度50%RH的環境下進行。將所得的積層體保存在溫度23℃、相對濕度50%RH的環境下6天後，獲得複合偏光板(1)。依照圖2所示之圖，黏著片(Y)的製作及黏著片(Y)的貼合係在黏著劑層(Y)之於拉伸800%中的應力為0.6N/mm2以下之狀態進行，獲得積層體的步驟係在黏著劑層(Y)之於拉伸800%中的應力0.6N/mm2以下之狀態進行。此外，複合偏光板(1)的黏著劑層(Y)在溫度23℃的拉伸為800%之應力係1.1N/mm2。
複合偏光板(1)的層結構係表面處理膜(表面處理層/基材膜)/黏著劑層(Y)/偏光板(保護膜/接著劑層/偏光元件/接著劑層/保護膜)/黏著劑層(X)/剝離膜。使用顯微鏡(VHX-5000，佳能(Canon)公司製造)觀察複合偏光板(1)，計算表面處理膜和黏著劑層(Y)之間、及黏著劑層(Y)和偏光板之間的氣泡數(複合偏光板每1m2的氣泡數)。此外，用上述的方法測定複合偏光板(1)的表面硬度及接著力。將結果呈示於表1中。
〔比較例1〕
除了將黏著片(Y)貼合在表面處理膜上的8天後，在表面處理膜之黏著劑層(Y)上積層附黏著劑層(X)的偏光板之偏光板側，獲得積層體以外，也用和實施例1同樣的程序，獲得複合偏光板(2)。依照圖2所示之圖，黏著片(Y)的製作及黏著片(Y)的貼合係在黏著劑層(Y)之於拉伸800%中的應力為0.6N/mm2以下之狀態進行，獲得積層體的步驟係在黏著劑層(Y)之於拉伸800%中的應力1.1N/mm2以下之狀態進行。此外，參照圖2所示之圖，複合偏光板(2)的黏著劑層(Y)在溫度23℃的拉伸為800%之應力係1.1N/mm2。以和實施例1同樣的程序，計算複合偏光板(2)的表面處理膜和黏著劑層(Y)之間、及黏著劑層(Y)和偏光板之間的氣泡數(複合偏光板的每1m2之氣泡數)，測定表面硬度及接著力。將結果呈示於表1中。
[表1]
Figure 112103310-A0202-12-0034-1

Claims (9)

  1. 一種複合偏光板的製造方法，係製造積層有表面處理膜和偏光板的複合偏光板，其中，
    前述表面處理膜具有基材膜和形成在前述基材膜的表面上之表面處理層，
    前述偏光板至少含有偏光元件，
    前述製造方法包含：
    步驟(a)：隔著在拉伸800%時的應力為0.8N/mm2以下的狀態之黏著劑層，將前述表面處理膜和前述偏光板貼合而得積層體，以及
    步驟(b)：於前述積層體中，將前述黏著劑層在溫度23℃之拉伸為800%時的應力調整成為0.9N/mm2以上。
  2. 如請求項1所述之複合偏光板的製造方法，其中，
    前述步驟(a)包含
    在前述表面處理膜上形成前述黏著劑層的步驟(a1)和
    在前述表面處理膜上形成之前述黏著劑層上積層前述偏光板的步驟(a2)。
  3. 如請求項2所述之複合偏光板的製造方法，其中，前述步驟(a2)係在前述步驟(a1)後6日以內進行。
  4. 如請求項1至3中任一項所述之複合偏光板的製造方法，其中，前述步驟(b)係保存前述積層體的步驟。
  5. 如請求項1至4中任一項所述之複合偏光板的製造方法，其中，
    前述表面處理膜係在前述基材膜的單面具有前述表面處理層膜，
    前述積層體係在前述表面處理膜的前述基材膜側具有前述黏著劑層。
  6. 如請求項1至5中任一項所述之複合偏光板的製造方法，其中，
    前述偏光板係在前述偏光元件的單面或雙面上具有保護膜。
  7. 如請求項1至6中任一項所述之複合偏光板的製造方法，其中，
    前述黏著劑層的厚度係10μm以下。
  8. 如請求項1至7中任一項所述之複合偏光板的製造方法，其中，
    前述黏著劑層係使用含有(甲基)丙烯酸系樹脂之黏著劑組成物形成，
    前述(甲基)丙烯系樹脂的玻璃轉移溫度係-30℃以下。
  9. 如請求項1至8中任一項所述之複合偏光板的製造方法，其中，
    前述表面處理層係選自由抗反射層、防眩層、硬塗層及防污層所組成之群組中的1種以上。
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