TW202340101A - 超純水生產設備 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種超純水生產設備，包含：供應管線，連接至純水儲存槽且其中依序配置有多個純水處理裝置；分支管線，在供應管線的下游分支且連接至純水儲存槽；以及第一自動閥，連接至分支管線且經組態以由往復式致動器致動。
Description
本發明概念是關於一種超純水生產設備。更特定而言，本發明概念是關於一種能夠減少或防止提供至半導體製造設備的超純水的供應中斷的超純水生產設備。
[相關申請案的交叉參考]
本申請案基於且主張2022年2月22日在韓國智慧財產局申請的韓國專利申請案第10-2022-0023212號的優先權，所述申請案的揭露內容以全文引用的方式併入本文中。
超純水理論上指代具有18兆歐·公分或以上的電阻率的水。隨著半導體裝置的整合度增加，高純度超純水在半導體製造製程中可為有利的。一般超純水製造設備主要包含預處理設備、初級處理設備以及二級處理設備。藉由超純水製造設備製造的超純水供應至半導體製造設備。在此情況下，需要超純水的連續供應以改良半導體製造製程中的半導體生產效率。
本發明概念提供一種超純水生產設備，其中即使當用於操作經組態以操作自動閥的致動器的電力歸因於故障而未供應時，亦可維持超純水的供應。
本發明概念亦提供一種超純水生產設備，其中即使當經組態以操作自動閥的致動器歸因於控制裝置的故障而不可控制時，亦可維持超純水的供應。
根據本發明概念的態樣，提供一種超純水生產設備，包含：供應管線，連接至純水儲存槽且其中依序配置有多個純水處理裝置；分支管線，在供應管線的下游分支且連接至純水儲存槽；以及第一自動閥，連接至分支管線且經組態以由往復式致動器致動。
根據本發明概念的另一態樣，提供一種超純水生產設備，包含：供應管線，連接至純水儲存槽且其中依序配置有多個純水處理裝置；分支管線，在供應管線的下游分支且連接至純水儲存槽；次分支管線，自分支管線分支且連接至回收設備；第一自動閥，連接至分支管線且位於分支管線上的純水儲存槽的上游；第二自動閥，連接至次分支管線且位於次分支管線上的回收設備的上游；以及控制裝置，經組態以控制第一自動閥及第二自動閥，其中第一自動閥及第二自動閥為開關閥，且經組態以由往復式致動器致動。
根據本發明概念的另一態樣，提供一種超純水生產設備，包含：預處理設備，包含經組態以儲存正經處理的水的第一水儲存槽及多個第一水處理裝置；第一補給設備，包含經組態以儲存正經處理的水的第二水儲存槽及多個第二水處理裝置；第二補給設備，包括：第三水儲存槽，經組態以儲存正經處理的水；第三供水管線，經組態以供應正經處理的水，第三供水管線連接至第三水儲存槽；以及多個第三水處理裝置，依序配置於第三供水管線中；以及拋光設備，包括：純水儲存槽；供應管線，連接至純水儲存槽；多個純水處理裝置，依序配置於供應管線中；分支管線，在供應管線的下游分支且連接至純水儲存槽；第一自動閥，連接至分支管線；次分支管線，自分支管線分支；以及第二自動閥，連接至所述次分支管線，其中第一自動閥及第二自動閥經組態以由往復式致動器致動。
在下文中，將參考隨附圖式更充分描述本發明概念的示例性實施例。在隨附圖式中，相似參考標號可指代相似元件，且將省略對相似元件的重複描述。
圖1為示意性地繪示正經處理的水的流程的方塊圖。
參考圖1，將作為由超純水生產設備1000製造的超純水的一部分的第一超純水UPW1提供至半導體製造設備500。作為由超純水生產設備1000製造的超純水的剩餘部分的第二超純水UPW2分支為如下所述的沿分支管線723（參看圖2）流動的第一循環超純水RUWP1（參看圖2）及沿次分支管線725（參看圖2）流動的第二循環超純水RUWP2。第一循環超純水RUWP1循環至如稍後描述的純水儲存槽410（參看圖2），且第二循環超純水RUPW2供應至回收設備600。供應至半導體製造設備500的第一超純水UPW1在半導體製造製程期間包含若干污染物且因此變成工業廢水IW。作為第一工業廢水IW1的工業廢水IW的一部分可經由回收設備600循環至超純水生產設備1000，且作為第二工業廢水IW2的工業廢水IW的剩餘部分可經由單獨淨化器（未繪示）排放至外部。第一工業廢水IW1可由回收設備600處理且隨後與第二循環超純水RUWP2混合以變成再循環水RWW，且再循環水RWW可循環至超純水生產設備1000。現將參考圖2及圖3描述根據本發明概念的示例性實施例的超純水生產設備400。
圖2為示意性地示出根據本發明概念的示例性實施例的超純水生產設備400的方塊圖。
參考圖2，超純水生產設備400可包含純水儲存槽410、多個純水處理裝置420、純水處理裝置430、純水處理裝置440、純水處理裝置450、純水處理裝置460以及純水處理裝置470、控制裝置711、供應管線721、分支管線723及/或第一自動閥733。
純水儲存槽410可將純水DW儲存某一時間段。儲存於純水儲存槽410中的純水DW可經由供應管線721供應至多個純水處理裝置420、純水處理裝置430、純水處理裝置440、純水處理裝置450、純水處理裝置460以及純水處理裝置470。
多個純水處理裝置420、純水處理裝置430、純水處理裝置440、純水處理裝置450、純水處理裝置460以及純水處理裝置470可位於純水儲存槽410的下游，且可依序配置於供應管線721上。多個純水處理裝置420、純水處理裝置430、純水處理裝置440、純水處理裝置450、純水處理裝置460以及純水處理裝置470可各自為獨立地選自熱量交換器、紫外線滅菌器、拋光器、脫氣器以及過濾膜中的任一者。舉例而言，多個純水處理裝置420、純水處理裝置430、純水處理裝置440、純水處理裝置450、純水處理裝置460以及純水處理裝置470可為依序配置的熱量交換器、紫外線滅菌器、第一拋光器、脫氣器、第二拋光器以及超過濾膜。在一些示例性實施例中，第一拋光器及第二拋光器可為填充有不同離子交換樹脂的離子交換樹脂塔。舉例而言，第一拋光器可為填充有用於移除過氧化氫的催化劑樹脂的離子交換樹脂塔，且第二拋光器可為用於移除離子及類似者的混合床離子交換樹脂塔。多個純水處理裝置420、純水處理裝置430、純水處理裝置440、純水處理裝置450、純水處理裝置460以及純水處理裝置470可屬於相同類型。舉例而言，多個純水處理裝置420、純水處理裝置430、純水處理裝置440、純水處理裝置450、純水處理裝置460以及純水處理裝置470可為依序配置的紫外線滅菌器、第一拋光器、脫氣器、第二拋光器、第一過濾膜以及第二過濾膜。在一些示例性實施例中，第一過濾膜及第二過濾膜可屬於相同類型。脫氣器可為例如膜脫氣器，但示例性實施例不限於此。熱量交換器可設置為多個，但示例性實施例不限於此。多個純水處理裝置420、純水處理裝置430、純水處理裝置440、純水處理裝置450、純水處理裝置460以及純水處理裝置470可處理經由供應管線721供應的純水DW以製造超純水UPW。
控制裝置711可控制第一自動閥733的操作。舉例而言，控制裝置711可經組態以將電訊號傳輸至電源供應器713及自電源供應器713接收電訊號，且可控制電源713向第一自動閥733供應或不供應電力，藉此控制第一自動閥733是打開還是關閉。
控制裝置711可實施為硬體、韌體、軟體或其任何組合。舉例而言，控制裝置711可為計算裝置，諸如工作站電腦、桌上型電腦、膝上型電腦或平板電腦。舉例而言，控制裝置711可包含：記憶體裝置，諸如唯讀記憶體（read only memory；ROM）及隨機存取記憶體（random access memory；RAM）；及經組態以執行某些操作及演算法的處理器，例如微處理器、中央處理單元（central processing unit；CPU）以及圖形處理單元（graphics processing unit；GPU）。控制裝置711亦可包含用於接收及傳輸訊號的接收器及傳輸器。根據示例性實施例，控制裝置711可為可程式化邏輯控制器（programmable logic controller；PLC）。
供應管線721可連接至純水儲存槽410。經由供應管線721供應至多個純水處理裝置420、純水處理裝置430、純水處理裝置440、純水處理裝置450、純水處理裝置460以及純水處理裝置470的純水DW可由多個純水處理裝置420、純水處理裝置430、純水處理裝置440、純水處理裝置450、純水處理裝置460以及純水處理裝置470處理以變成已自其中移除有機材料、離子等的超純水UPW，且可將作為超純水UPW的一部分的第一超純水UPW1提供至半導體製造設備500（參看圖1）。根據示例性實施例，控制閥（未繪示）可連接至供應管線721，可位於純水儲存槽410與多個純水處理裝置420、純水處理裝置430、純水處理裝置440、純水處理裝置450、純水處理裝置460以及純水處理裝置470之間。控制閥可控制沿供應管線721供應的純水DW的流動速率、壓力等。
分支管線723可在供應管線721的下游分支且可連接至純水儲存槽410。作為由多個純水處理裝置420、純水處理裝置430、純水處理裝置440、純水處理裝置450、純水處理裝置460以及純水處理裝置470處理的超純水UPW的剩餘部分的第二超純水UPW2可沿分支管線723循環且儲存於純水儲存槽410中。因此，儲存於純水儲存槽410中的純水DW可維持恆定水位。
第一自動閥733可連接至分支管線723且可位於分支管線723上的純水儲存槽410的上游。根據示例性實施例，第一自動閥733可為由控制裝置711打開或關閉的開關閥。舉例而言，第一自動閥733可根據電力是否自由控制裝置711控制的電源供應器713供應而打開或關閉。取決於第一自動閥733是打開還是關閉，第二超純水UPW2可或可不循環至純水儲存槽410。舉例而言，當第一自動閥733打開時，第二超純水UPW2可沿分支管線723循環至純水儲存槽410。
根據示例性實施例，第一自動閥733可經組態以由往復式致動器操作。往復式致動器指代能夠打開及關閉經組態以由往復式致動器操作的閥的致動器，所述致動器藉由歸因於獨立供應至兩個電力埠的電力而操作。舉例而言，往復式致動器可包含第一電力埠及第二電力埠，且可當第一電力埠供應有電力時打開閥及當第二電力埠供應有電力時關閉閥。如上文所描述，因為往復式致動器歸因於供應至兩個電力埠的電力而操作閥，故即使當電源歸因於電源供應器的故障而中斷同時電力供應至任何一個電力埠時，經組態以由往復式致動器致動的閥可維持其最後操作狀態。
在習知超純水生產設備中，連接至分支管線的自動閥經組態以由單一式致動器操作。因此，當單一式致動器的一個電力埠歸因於故障而不供應電力時，自動閥不能維持其最後操作狀態且因此不能維持打開狀態且關閉。由於自動閥關閉，因此由超純水生產設備生產的超純水的一部分不循環至純水儲存槽，且因此，不能維持儲存於純水儲存槽中的純水的流動速率及壓力，使得純水供應不流暢。由於純水供應不流暢，因此使用純水的超純水生產製程亦不能流暢執行，使得超純水供應停止。此導致使用超純水的半導體製造製程的效率降低的問題。然而，根據本發明概念的示例性實施例的超純水生產設備400連接至分支管線723，且包含經組態以由往復式致動器操作的第一自動閥733。因此，即使當供應至往復式致動器的電力歸因於故障而停止時，第一自動閥733仍可維持打開狀態，使得純水的供應可不停止。因此，可繼續藉由使用超純水生產設備400的超純水的生產，且所生產的超純水可連續供應至半導體製造設備500（參看圖1）。因此，可改良半導體製造製程的效率。
根據示例性實施例，往復式致動器可屬於齒條齒輪式。
根據示例性實施例，第一自動閥733可為氣動閥。在一些示例性實施例中，由電源供應器713供應的電力可為空氣，且空氣供應至包含於第一自動閥733中的兩個電力埠中的任一者，使得第一自動閥733可打開或關閉，且空氣供應至兩個電力埠中的另一者，使得第一自動閥733可關閉或打開。
根據示例性實施例，第一自動閥733可為通常打開的類型閥。換言之，第一自動閥733可經組態以在電力由電源供應器713供應時關閉且在電力不由電源供應器713供應時打開。習知地，因為連接至分支管線的自動閥為通常關閉的自動閥，所以當歸因於控制裝置的故障而不能控制電源供應器時，通常關閉的自動閥關閉。因此，由超純水生產設備生產的超純水的一部分不循環至純水儲存槽，且因此，不能維持儲存於純水儲存槽中的純水的水位。一般而言，將氮氣供應至純水儲存槽中以減少或防止氧氣溶解在儲存於純水儲存槽中的純水中。若超純水的一部分歸因於控制裝置的故障而不循環，則儲存於純水儲存槽中的純水的水位降低。因為將氮氣供應至純水儲存槽中的速率不立即反映純水的水位降低的速率，故氧氣溶解於儲存於純水儲存槽中的純水中，此導致純水的品質降低。然而，因為根據本發明概念的示例性實施例的超純水生產設備400包含通常打開的類型的第一自動閥733，故即使當控制裝置711中出現故障時，第一自動閥733可維持打開狀態。因此，第二超純水UPW2可經由分支管線723連續循環至純水儲存槽410。因此，可維持純水儲存槽410的水位，且因此可減少或防止儲存於純水儲存槽410中的純水DW中溶解氧量的增加，藉此改良純水DW的品質。亦可改良藉由使用超純水生產設備400生產的超純水UPW的品質。
根據示例性實施例，超純水生產設備400可更包含自分支管線723分支的次分支管線725及連接至次分支管線725的第二自動閥735。
次分支管線725可在分支管線723上的第一自動閥733的上游分支。在一些示例性實施例中，作為第二超純水UPW2的一部分的第一循環超純水RUPW1可沿分支管線723循環至純水儲存槽410，且作為第二超純水UPW2的剩餘部分的第二循環超純水RUPW2可沿次分支管線725供應至回收設備600。
第二自動閥735可連接至次分支管線725且可位於次分支管線725上的回收設備600的上游。根據第二自動閥735的打開或關閉，第二循環超純水RUPW2可或可不供應至回收設備600。第二自動閥735可由控制裝置711及電源供應器713控制。舉例而言，第二自動閥735可藉由控制裝置711控制的電源供應器713供應或不供應電力而打開或關閉。
根據示例性實施例，第二自動閥735可為通常關閉的閥。換言之，第二自動閥735可經組態以在電力由電源供應器713供應時打開及在電力不由電源供應器713供應時關閉。當第二自動閥735為通常關閉的閥且控制裝置711出現故障時，第二自動閥735關閉，使得第二循環超純水RUPW2不再經由次分支管線725供應至回收設備600。因此，可維持儲存於純水儲存槽410中的純水的水位，且因此可減少或防止儲存於純水儲存槽410中的純水DW中溶解氧量的增加，藉此改良純水DW的品質。亦可改良藉由使用超純水生產設備400生產的超純水UPW的品質。
根據示例性實施例，第二自動閥735可經組態以由往復式致動器操作。因此，第二自動閥735可根據與參考圖2描述的第一自動閥733相同的原理操作。
根據示例性實施例，第二自動閥735可為根據閥的打開及關閉將第二循環超純水RUPW2供應或不供應至回收設備600的開關閥。
根據示例性實施例，操作第二自動閥735的往復式致動器可為齒條齒輪式閥。
根據實施例，第二自動閥735可為氣動閥。
圖3為示出根據本發明概念的示例性實施例的超純水生產設備1000的方塊圖。
參考圖3，超純水生產設備1000可包含預處理設備100、第一補給設備200、第二補給設備300及/或拋光設備400a。拋光設備400a包含純水儲存槽410a、多個純水處理裝置420a、純水處理裝置430a、純水處理裝置440a、純水處理裝置450a、純水處理裝置460a以及純水處理裝置470a、供應管線721、分支管線723、次分支管線725、第一自動閥733、第二自動閥735、電源供應器713及/或控制裝置711。控制裝置711、供應管線721、分支管線723、次分支管線725、第一自動閥733以及第二自動閥735分別與參考圖2描述的控制裝置711、供應管線721、分支管線723、次分支管線725、第一自動閥733以及第二自動閥735類似，且因此現將集中於且描述其間的差異。
預處理設備100可包含用於儲存正經處理的水的第一水儲存槽110及多個第一水處理裝置120、第一水處理裝置130以及第一水處理裝置140。第一水儲存槽110可將第一待處理水W1儲存某一時間段。第一待處理水W1可自第一水儲存槽110供應至多個第一水處理裝置120、第一水處理裝置130以及第一水處理裝置140。多個第一水處理裝置120、第一水處理裝置130以及第一水處理裝置140可依序配置於第一水儲存槽110的下游。多個第一水處理裝置120、第一水處理裝置130以及第一水處理裝置140可分別為例如熱量交換器、過濾膜以及逆滲透膜。圖3示出預處理設備100包含三個第一水處理裝置120、第一水處理裝置130以及第一水處理裝置140的示例性實施例，但本發明概念的示例性實施例不限於此。第一待處理水W1由多個第一水處理裝置120、第一水處理裝置130以及第一水處理裝置140依序處理，且因此可生產已自其中移除包含於第一待處理水W1中的一些離子、有機材料等的第二待處理水W2。第二待處理水W2可經受由第一補給設備200提供的額外處理。
根據示例性實施例，控制閥（未繪示）可位於第一水儲存槽110與多個第一水處理裝置120、第一水處理裝置130以及第一水處理裝置140之間。控制閥可控制供應的第一待處理水W1的流動速率、壓力等。
第一補給設備200可包含用於儲存正經處理的水的第二水儲存槽210及多個第二水處理裝置220、第二水處理裝置230、第二水處理裝置240以及第二水處理裝置250。第二水儲存槽210可將第二待處理水W2儲存某一時間段。第二待處理水W2可自第二水儲存槽210供應至多個第二水處理裝置220、第二水處理裝置230、第二水處理裝置240以及第二水處理裝置250。多個第二水處理裝置220、第二水處理裝置230、第二水處理裝置240以及第二水處理裝置250可依序配置於第二水儲存槽210的下游。多個第二水處理裝置220、第二水處理裝置230、第二水處理裝置240以及第二水處理裝置250可分別為例如紫外線滅菌器、過濾器、逆滲透膜以及電極游離裝置。圖3示出第一補給設備200包含四個第二水處理裝置220、第二水處理裝置230、第二水處理裝置240以及第二水處理裝置250的示例性實施例，但本發明概念的示例性實施例不限於此。第二待處理水W2由多個第二水處理裝置220、第二水處理裝置230、第二水處理裝置240以及第二水處理裝置250依序處理，且因此可生產已自其中移除包含於第二待處理水W2中的一些離子、有機材料等的第三待處理水W3。第三待處理水W3可經受由第二補給設備300提供的額外處理。
根據示例性實施例，控制閥（未繪示）可位於第二水儲存槽210與多個第二水處理裝置220、第二水處理裝置230、第二水處理裝置240以及第二水處理裝置250之間。控制閥可控制供應的第二待處理水W2的流動速率、壓力等。
第二補給設備300可包含用於儲存正經處理的水的第三水儲存槽310、用於供應正經處理的水的第三供水管線727以及多個第三水處理裝置320、第三水處理裝置330以及第三水處理裝置340。第三水儲存槽310可將第三待處理水W3儲存某一時間段。第三供水管線727可連接至第三水儲存槽310，且可將儲存於第三水儲存槽310中的第三待處理水W3供應至多個第三水處理裝置320、第三水處理裝置330以及第三水處理裝置340。在第三供水管線727上，多個第一水處理裝置320、第一水處理裝置330以及第一水處理裝置340可依序配置於第三水儲存槽310的下游。多個第三水處理裝置320、第三水處理裝置330以及第三水處理裝置340中的各者可各自為紫外線滅菌器、過濾器、逆滲透膜以及電極游離裝置及類似者中的任一者。圖3示出第二補給設備300包含三個第三水處理裝置320、第三水處理裝置330以及第三水處理裝置340的示例性實施例，但本發明概念的示例性實施例不限於此。第三待處理水W3由多個第三水處理裝置320、第三水處理裝置330以及第三水處理裝置340依序處理，且因此可生產已自其中移除包含於第三待處理水W3中的一些離子、有機材料等的純水DW。純水DW可經受拋光設備400a提供的額外處理。
根據示例性實施例，超純水生產設備1000可更包含第三自動閥737。第三自動閥737可連接至第三供水管線727，且可配置於第三水儲存槽310與多個第三水處理裝置320、第三水處理裝置330以及第三水處理裝置340之間。
根據示例性實施例，第三自動閥737可經組態以由往復式致動器操作。因此，即使當供應至往復式致動器的電力歸因於故障而停止時，第三自動閥737仍可維持打開狀態，使得第三待處理水W3的供應可不停止。因此，可繼續藉由使用第三自動閥737經由超純水生產設備1000生產超純水，且所生產的超純水可連續供應至半導體製造設備500（參看圖1）。因此，可改良半導體製造製程的效率。
根據示例性實施例，第三自動閥737可為氣動閥。
根據示例性實施例，第三自動閥737可為齒條齒輪式閥。
根據示例性實施例，第三自動閥737可為根據閥的打開及關閉供應或不供應第三待處理水W3的開關閥。
拋光設備400a的純水儲存槽410a及多個純水處理裝置420a、純水處理裝置430a、純水處理裝置440a、純水處理裝置450a、純水處理裝置460a以及純水處理裝置470a可與圖2的超純水生產設備400的純水儲存槽410及多個純水處理裝置420、純水處理裝置430、純水處理裝置440、純水處理裝置450、純水處理裝置460以及純水處理裝置470類似。由於純水DW由拋光設備400a處理，故可生產已自其中移除包含於純水DW中的離子、有機材料、微生物、粒子等的超純水UPW。超純水UPW可供應至待用於半導體製造製程中的半導體製造設備500（參看圖1）。
已參考其示例性實施例特定繪示及描述本發明概念。本文中所使用的術語僅出於描述示例性實施例的目的，且並不意欲限制本發明概念。因此，所屬領域中具通常知識者將理解，在不脫離如由所附申請專利範圍定義的本發明概念的精神及範疇的情況下，可在其中進行形式及細節的各種改變。
100:預處理設備
110:第一水儲存槽
120、130、140:第一水處理裝置
200:第一補給設備
210:第二水儲存槽
220、230、240、250:第二水處理裝置
300:第二補給設備
310:第三水儲存槽
320、330、340:第三水處理裝置
400、1000:超純水生產設備
400a:拋光設備
410、410a:純水儲存槽
420、420a、430、430a、440、440a、450、450a、460、460a、470、470a:純水處理裝置
500:半導體製造設備
600:回收設備
711:控制裝置
713:電源供應器
721:供應管線
723:分支管線
725:次分支管線
727:第三供水管線
733:第一自動閥
735:第二自動閥
737:第三自動閥
DW:純水
IW:工業廢水
IW1:第一工業廢水
IW2:第二工業廢水
RUPW1:第一循環超純水
RUPW2:第二循環超純水
RWW:再循環水
UPW:超純水
UPW1:第一超純水
UPW2:第二超純水
W1:第一待處理水
W2:第二待處理水
W3:第三待處理水
自以下結合隨附圖式的詳細描述，將更清楚地理解本發明概念的示例性實施例，在隨附圖式中：
圖1為示意性地繪示正經處理的水的流程的方塊圖。
圖2為示出根據本發明概念的示例性實施例的超純水生產設備的方塊圖。
圖3為示出根據本發明概念的示例性實施例的超純水生產設備的方塊圖。
400:超純水生產設備
410:純水儲存槽
420、430、440、450、460、470:純水處理裝置
500:半導體製造設備
600:回收設備
711:控制裝置
713:電源供應器
721:供應管線
723:分支管線
725:次分支管線
733:第一自動閥
735:第二自動閥
DW:純水
RUPW1:第一循環超純水
RUPW2:第二循環超純水
UPW:超純水
UPW1:第一超純水
UPW2:第二超純水
Claims (10)
- 一種超純水生產設備，包括： 供應管線，連接至純水儲存槽且其中依序配置有多個純水處理裝置； 分支管線，在所述供應管線的下游分支，且連接至所述純水儲存槽；以及 第一自動閥，連接至所述分支管線且經組態以由往復式致動器致動。
- 如請求項1所述的超純水生產設備，其中所述第一自動閥為通常打開的閥。
- 如請求項1所述的超純水生產設備，更包括自所述分支管線分支的次分支管線，及連接至所述次分支管線的第二自動閥。
- 如請求項3所述的超純水生產設備，其中所述第二自動閥經組態以由往復式致動器致動。
- 如請求項3所述的超純水生產設備，其中所述第二自動閥為通常關閉的閥。
- 一種超純水生產設備，包括： 供應管線，連接至純水儲存槽且其中依序配置有多個純水處理裝置； 分支管線，在所述供應管線的下游分支，且連接至所述純水儲存槽； 次分支管線，自所述分支管線分支且連接至回收設備； 第一自動閥，連接至所述分支管線且位於所述分支管線上的所述純水儲存槽的上游； 第二自動閥，連接至所述次分支管線且位於所述次分支管線上的所述回收設備的上游；以及 控制裝置，經組態以控制所述第一自動閥及所述第二自動閥， 其中所述第一自動閥及所述第二自動閥為開關閥，且經組態以由往復式致動器致動。
- 如請求項6所述的超純水生產設備，其中所述第一自動閥及所述第二自動閥為氣動閥。
- 如請求項6所述的超純水生產設備，其中經組態以操作所述第一自動閥的所述往復式致動器及經組態以操作所述第二自動閥的所述往復式致動器為齒條齒輪式。
- 一種超純水生產設備，包括： 預處理設備，包含經組態以儲存正經處理的水的第一水儲存槽及多個第一水處理裝置； 第一補給設備，包含經組態以儲存正經處理的水的第二水儲存槽及多個第二水處理裝置； 第二補給設備，包括：第三水儲存槽，經組態以儲存正經處理的水；第三供水管線，經組態以供應正經處理的水，所述第三供水管線連接至所述第三水儲存槽；以及多個第三水處理裝置，依序配置於所述第三供水管線中；以及 拋光設備，包括：純水儲存槽；供應管線，連接至所述純水儲存槽；多個純水處理裝置，依序配置於所述供應管線中；分支管線，在所述供應管線的下游分支且連接至所述純水儲存槽；第一自動閥，連接至所述分支管線；次分支管線，自所述分支管線分支；以及第二自動閥，連接至所述次分支管線， 其中所述第一自動閥及所述第二自動閥經組態以由往復式致動器致動。
- 如請求項9所述的超純水生產設備，更包括連接至所述第三供水管線的第三自動閥。
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