TW202314298A - 成像光學鏡頭、取像裝置及電子裝置 - Google Patents

成像光學鏡頭、取像裝置及電子裝置 Download PDF

Info

Publication number
TW202314298A
TW202314298A TW111129234A TW111129234A TW202314298A TW 202314298 A TW202314298 A TW 202314298A TW 111129234 A TW111129234 A TW 111129234A TW 111129234 A TW111129234 A TW 111129234A TW 202314298 A TW202314298 A TW 202314298A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
optical lens
imaging
index film
film
refractive
Prior art date
Application number
TW111129234A
Other languages
English (en)
Inventor
蔡溫祐
張建邦
蔡承諭
鄧鈞鴻
朱國強
Original Assignee
大立光電股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 大立光電股份有限公司 filed Critical 大立光電股份有限公司
Priority to US17/820,604 priority Critical patent/US20230073044A1/en
Priority to BR102022017371-0A priority patent/BR102022017371A2/pt
Priority to CN202211061380.0A priority patent/CN115728846A/zh
Priority to EP22193435.9A priority patent/EP4145187A3/en
Priority to CN202222313547.XU priority patent/CN218383357U/zh
Publication of TW202314298A publication Critical patent/TW202314298A/zh

Links

Images

Landscapes

  • Lenses (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)

Abstract

本揭示內容提供一種成像光學鏡頭，其包含至少一光學鏡片，光學鏡片包含一抗反射膜，抗反射膜包含一高低折射率膜與一漸變折射率膜，高低折射率膜配置在光學鏡片與漸變折射率膜之間。高低折射率膜包含至少一高折射率膜層與至少一低折射率膜層，高折射率膜層與低折射率膜層交替堆疊配置。漸變折射率膜包含複數個孔洞，遠離光學鏡片的孔洞相對大於靠近光學鏡片的孔洞。透過在成像光學鏡頭表面製鍍均勻緻密的抗反射膜，使光學鏡片具顯著抗氧化能力，有助於達到廣域波長範圍的抗反射效果，以滿足需具有高成像品質的成像光學鏡頭。

Description

成像光學鏡頭、取像裝置及電子裝置
本揭示內容是有關於一種成像光學鏡頭及取像裝置，且特別是有關於一種應用在電子裝置上且具有良好抗反射效果的成像光學鏡頭及取像裝置。
傳統抗反射膜（ARC）技術膜層於降低廣波域範圍的反射率效果不足，長波長區域的強光導致影像品質下降；當入射角度增加時，因內部光線路線程度的增加，導致反射光在膜層間的光程差不足以達成破壞性干涉條件，因此無法解決當光線大角度入射鏡片表面時產生的嚴重反射問題；在玻璃材料的特性上，色散程度越小可以提供越清晰的影像，雖然對於大口徑攝影鏡頭的色散修正有明顯的幫助，但是對於空氣中水氧的抗氧化能力卻相較於差；傳統抗反射膜技術主要藉由製鍍材料在接觸表面產生凝固或是沉積作用，鍍膜的均勻度與覆蓋緻密程度與材料粒徑大小以及接觸表面的平坦度有直接的關係，因此傳統抗反射膜技術往往受限於面形變化劇烈的光學鏡片，導致無法滿足高階光學系統對於降低鏡片反射率的需求。因此在面形變化自由度較大的高階光學系統中，研發具優良保護底材效果與良好抗反射效果的鍍膜技術已成為重要目標。
本揭示內容提供的成像光學鏡頭、取像裝置及電子裝置，透過在成像光學鏡頭表面製鍍均勻緻密的抗反射膜，使耐水、耐酸性較不足的光學鏡片具顯著抗氧化能力，有助於達到廣域波長範圍的抗反射效果，以滿足需具有高成像品質的成像光學鏡頭。
依據本揭示內容一態樣的一實施方式提供一種成像光學鏡頭，其包含至少一光學鏡片。光學鏡片的材質為玻璃，光學鏡片包含一抗反射膜，抗反射膜位於光學鏡片的至少一表面。抗反射膜包含一高低折射率膜與一漸變折射率膜，高低折射率膜配置在光學鏡片與漸變折射率膜之間。高低折射率膜包含至少一高折射率膜層與至少一低折射率膜層，高折射率膜層與低折射率膜層交替堆疊配置，低折射率膜層接觸光學鏡片，且低折射率膜層的主要材質為氧化鋁。漸變折射率膜包含複數個孔洞，遠離光學鏡片的孔洞相對大於靠近光學鏡片的孔洞，且漸變折射率膜的主要材質為金屬氧化物。位於光學鏡片中心處的抗反射膜的總厚度為Tc，位於光學鏡片周邊處的抗反射膜的總厚度為Tp，其滿足下列條件：0% ＜ |Tc-Tp|/Tc ≤ 15.0%。
依據前述實施方式的成像光學鏡頭，其中抗反射膜的總膜厚為tTK，其可滿足下列條件：200 nm ≤ tTK ≤ 800 nm。
依據前述實施方式的成像光學鏡頭，其中高折射率膜層的折射率為NH，其可滿足下列條件：2.00 ≤ NH。
依據前述實施方式的成像光學鏡頭，其中低折射率膜層的折射率為NL，其可滿足下列條件：NL ≤ 1.80。
依據前述實施方式的成像光學鏡頭，其中高折射率膜層的總膜厚為TNH，其可滿足下列條件：1 nm ≤ TNH ≤ 60 nm。
依據前述實施方式的成像光學鏡頭，其中低折射率膜層的總膜厚為TNL，其可滿足下列條件：1 nm ≤ TNL ≤ 300 nm。
依據前述實施方式的成像光學鏡頭，其中接觸光學鏡片的低折射率膜層的膜厚為TL1，其可滿足下列條件：10 nm ≤ TL1 ≤ 100 nm。
依據前述實施方式的成像光學鏡頭，其中漸變折射率膜的膜厚為TNG，抗反射膜的總膜厚為tTK，其可滿足下列條件：0.45 ≤ TNG/tTK ≤ 0.85。
依據前述實施方式的成像光學鏡頭，其中漸變折射率膜的材質可為氧化鋁。
依據前述實施方式的成像光學鏡頭，其中位於光學鏡片中心處的抗反射膜的總厚度為Tc，位於光學鏡片周邊處的抗反射膜的總厚度為Tp，其可滿足下列條件：0% ＜ |Tc-Tp|/Tc ≤ 10.0%。
依據前述實施方式的成像光學鏡頭，其中光學鏡片的表面於最大有效徑處的水平位移為SAG，抗反射膜的總膜厚為tTK，其可滿足下列條件：0 ≤ |SAG|/tTK ≤ 10.0。
依據前述實施方式的成像光學鏡頭，其中光學鏡片於波長400 nm至1000 nm的平均反射率為R40100，其可滿足下列條件：0% ＜ R40100 ≤ 1.00%。
依據前述實施方式的成像光學鏡頭，其中光學鏡片於波長400 nm至700 nm的平均反射率為R4070，其可滿足下列條件：0% ＜ R4070 ≤ 1.00%。
依據前述實施方式的成像光學鏡頭，其中光學鏡片於波長700 nm 至1000 nm的平均反射率為R70100，其可滿足下列條件：0% ＜ R70100 ≤ 1.00%。
依據前述實施方式的成像光學鏡頭，其中光學鏡片的色散係數為Vs，其可滿足下列條件：35.0 ≤ Vs ≤ 85.0。
依據前述實施方式的成像光學鏡頭，其中光學鏡片的折射率為Ns，其可滿足下列條件：Ns ≤ 1.85。
依據前述實施方式的成像光學鏡頭，其中光學鏡片的耐酸性為Da，光學鏡片的色散係數為Vs，其可滿足下列條件：0.6 ≤ Vs×Da/10 ≤ 13.0。
依據前述實施方式的成像光學鏡頭，其中光學鏡片的耐酸性為Da，光學鏡片的折射率為Ns，其可滿足下列條件：0.1 ≤ Ns×Da ≤ 4.5。
依據前述實施方式的成像光學鏡頭，其中光學鏡片的耐水性為Dw，光學鏡片的色散係數為Vs，其可滿足下列條件：0 ＜ Vs×Dw ≤ 10.0。
依據前述實施方式的成像光學鏡頭，其中光學鏡片的耐水性為Dw，光學鏡片的折射率為Ns，其可滿足下列條件：0 ＜ Ns×Dw×100 ≤ 50。
依據前述實施方式的成像光學鏡頭，其可更包含至少一光學元件，光學元件的材質可為玻璃，光學元件可包含一抗反射膜，光學元件的抗反射膜可位於光學元件的至少一表面，且光學元件可為一稜鏡。
依據本揭示內容另一態樣提供一種取像裝置，其包含如前述態樣的成像光學鏡頭以及一電子感光元件，且電子感光元件設置於成像光學鏡頭的一成像面。
依據本揭示內容又一態樣提供一種電子裝置，其為一車用裝置，且電子裝置包含如前述態樣的取像裝置。
依據本揭示內容一態樣的另一實施方式提供一種成像光學鏡頭，其包含至少二光學鏡片以及至少一光學元件。所述至少二光學鏡片中至少一光學鏡片包含一長波長吸收材料，包含長波長吸收材料的光學鏡片由一塑膠材料所製成，長波長吸收材料均勻混合於塑膠材料中。所述至少二光學鏡片中至少一光學鏡片包含一長波長濾除鍍膜，長波長濾除鍍膜位於光學鏡片的物側表面或像側表面，長波長濾除鍍膜包含複數個高折射率膜層與複數個低折射率膜層，且長波長濾除鍍膜的高折射率膜層與長波長濾除鍍膜的低折射率膜層交替堆疊配置。光學元件的材質為玻璃，光學元件包含一抗反射膜，光學元件的抗反射膜位於光學元件的至少一表面，且光學元件為一平板玻璃。光學元件的抗反射膜包含一高低折射率膜與一漸變折射率膜，高低折射率膜配置在光學元件與漸變折射率膜之間。高低折射率膜包含至少一高折射率膜層與至少一低折射率膜層，高低折射率膜的高折射率膜層與高低折射率膜的低折射率膜層交替堆疊配置，高低折射率膜的低折射率膜層接觸光學元件，且高低折射率膜的低折射率膜層的主要材質為氧化鋁。漸變折射率膜包含複數個孔洞，遠離光學元件的孔洞相對大於靠近光學元件的孔洞，且漸變折射率膜的主要材質為金屬氧化物。
當|Tc-Tp|/Tc滿足上述條件時，可以維持抗反射膜的總膜厚的均勻程度，不僅有效解決因周邊面形變化劇烈時無法均勻鍍膜而產生反射光的缺陷，也有助於提升光線大角度入射表面的抗反射效果。
本揭示內容的一態樣的一實施方式提供一種成像光學鏡頭，其包含至少一光學鏡片。光學鏡片的材質為玻璃，光學鏡片包含一抗反射膜，抗反射膜位於光學鏡片的至少一表面。抗反射膜包含一高低折射率膜與一漸變折射率膜，高低折射率膜配置在光學鏡片與漸變折射率膜之間。高低折射率膜包含至少一高折射率膜層與至少一低折射率膜層，高折射率膜層與低折射率膜層交替堆疊配置，低折射率膜層接觸光學鏡片，且低折射率膜層的主要材質為氧化鋁。漸變折射率膜包含複數個孔洞，遠離光學鏡片的孔洞相對大於靠近光學鏡片的孔洞，且漸變折射率膜的主要材質為金屬氧化物。位於光學鏡片中心處的抗反射膜的總厚度為Tc，位於光學鏡片周邊處的抗反射膜的總厚度為Tp，其滿足下列條件：0% ＜ |Tc-Tp|/Tc ≤ 15.0%。
本揭示內容以多層鍍膜技術應用在成像光學鏡頭的光學鏡片表面上，藉由高低折射率膜的複數個高折射率膜層與低折射率膜層交替堆疊，使光線在膜層表面以破壞性干涉達到減少反射光的目的，並藉由漸變折射率膜中尺寸漸變的孔洞結構及其所具有的梯度變化折射率，有效提供廣域波長範圍的抗反射效果，並解決光線在大角度入射的嚴重反射問題。本揭示內容在成像光學鏡頭表面製鍍均勻緻密的抗反射膜，使耐水、耐酸性較不足的光學鏡片具顯著抗氧化能力，有助於達到廣域波長範圍的抗反射效果，以滿足需具有高成像品質的成像光學鏡頭。
抗反射膜的總膜厚為tTK，其可滿足下列條件：200 nm ≤ tTK ≤ 800 nm。藉由控制抗反射膜的總膜厚，有助於維持整體鍍膜完整性，達最佳抗反射效果。再者，可滿足下列條件：200 nm ≤ tTK ≤ 700 nm；200 nm ≤ tTK ≤ 600 nm；200 nm ≤ tTK ≤ 500 nm；或300 nm ≤ tTK ≤ 400 nm。
高折射率膜層的折射率為NH，其可滿足下列條件：2.00 ≤ NH。藉由控制高折射率膜層的折射率，以提供較大折射率差異，提升抗反射效果。再者，可滿足下列條件：2.05 ≤ NH；2.10 ≤ NH；2.20 ≤ NH；或2.30 ≤ NH ≤ 2.40。
低折射率膜層的折射率為NL，其可滿足下列條件：NL ≤ 1.80。藉由控制低折射率膜層的折射率，有效提升抗反射效果。再者，可滿足下列條件：1.40 ≤ NL ≤ 1.80；1.40 ≤ NL ≤ 1.70；1.45 ≤ NL ≤ 1.70；或1.45 ≤ NL ≤ 1.68。
高折射率膜層的總膜厚為TNH，其可滿足下列條件：1 nm ≤ TNH ≤ 60 nm。藉由控制高折射率膜層達到特定厚度，使反射光容易在間隔的膜層表面產生破壞性干涉現象，有助於提升抗反射效果。再者，可滿足下列條件：1 nm ≤ TNH ≤ 50 nm；1 nm ≤ TNH ≤ 40 nm；1 nm ≤ TNH ≤ 36 nm；或1 nm ≤ TNH ≤ 30 nm。
低折射率膜層的總膜厚為TNL，其可滿足下列條件：1 nm ≤ TNL ≤ 300 nm。藉由控制低折射率膜層達到特定厚度，使反射光容易在間隔的膜層表面產生破壞性干涉現象，有助於提升抗反射效果。再者，可滿足下列條件：20 nm ≤ TNL ≤ 240 nm；30 nm ≤ TNL ≤ 200 nm；40 nm ≤ TNL ≤ 170 nm；或50 nm ≤ TNL ≤ 140 nm。
接觸光學鏡片的低折射率膜層的膜厚為TL1，其可滿足下列條件：10 nm ≤ TL1 ≤ 100 nm。藉由控制接觸光學鏡片的膜層厚度，提供保護玻璃表面的功效，並有效減少鍍膜時間與成本。再者，可滿足下列條件：1 nm ≤ TL1 ≤ 150 nm；10 nm ≤ TL1 ≤ 120 nm；15 nm ≤ TL1 ≤ 100 nm；20 nm ≤ TL1 ≤ 85 nm；或25 nm ≤ TL1 ≤ 70 nm。此外，高低折射率膜的膜層由光學鏡片往外側依序為第一膜層、第二膜層、第三膜層、第四膜層，以此類推，故TL1亦可稱為第一膜層的膜厚。
漸變折射率膜的膜厚為TNG，抗反射膜的總膜厚為tTK，其可滿足下列條件：0.45 ≤ TNG/tTK ≤ 0.85。藉由控制漸變折射率膜的膜厚，維持最佳孔洞結構，有效達到最佳漸變折射率設計，以提升光線在大角度入射的抗反射效果，並避免膜厚不足而降低抗反射效果。再者，可滿足下列條件：0.50 ≤ TNG/tTK ≤ 0.80；0.50 ≤ TNG/tTK ≤ 0.75；0.60 ≤ TNG/tTK ≤ 0.75；或0.60 ≤ TNG/tTK ≤ 0.70。
漸變折射率膜的材質可為氧化鋁。藉由選擇適合進行造孔製程的漸變折射率膜的材質，有效提升表面孔洞分布與增加孔洞間隙，呈現最佳海綿孔洞結構與孔隙密度。
位於光學鏡片中心處的抗反射膜的總厚度為Tc，位於光學鏡片周邊處的抗反射膜的總厚度為Tp，其滿足下列條件：0% ＜ |Tc-Tp|/Tc ≤ 15.0%。藉由維持抗反射膜的總膜厚的均勻程度，不僅有效解決因周邊面形變化劇烈時無法均勻鍍膜而產生反射光的缺陷，也有助於提升光線大角度入射表面的抗反射效果。再者，可滿足下列條件：0% ＜ |Tc-Tp|/Tc ≤ 10.0%；0% ＜ |Tc-Tp|/Tc ≤ 5.0%；0% ＜ |Tc-Tp|/Tc ≤ 1.0%；或0% ＜ |Tc-Tp|/Tc ≤ 0.4%。
光學鏡片的表面於最大有效徑處的水平位移為SAG，抗反射膜的總膜厚為tTK，其可滿足下列條件：0 ≤ |SAG|/tTK ≤ 10.0。藉由控制鍍膜與面形條件，當利用原子層沉積技術鍍膜時，不會受到曲面變化大的光學鏡片的參數限制。再者，可滿足下列條件：0 ≤ |SAG|/tTK ≤ 8.0；0 ≤ |SAG|/tTK ≤ 6.0；0.1 ≤ |SAG|/tTK ≤ 6.0；或0.1 ≤ |SAG|/tTK ≤ 5.0。
光學鏡片於波長400 nm至1000 nm的平均反射率為R40100，其可滿足下列條件：0% ＜ R40100 ≤ 1.00%。藉此，可有效控制廣波域的光線在表面的反射效果，有助於增加廣波長範圍的透光度。再者，可滿足下列條件：0% ＜ R40100 ≤ 0.80%；0% ＜ R40100 ≤ 0.50%；0% ＜ R40100 ≤ 0.25%；或0% ＜ R40100 ≤ 0.15%。
光學鏡片於波長400 nm至700 nm的平均反射率為R4070，其可滿足下列條件：0% ＜ R4070 ≤ 1.00%。藉此，可有效控制可見光波段的光線在表面的反射效果，有助於增加藍、綠與紅可見光區域的透光度。再者，可滿足下列條件：0% ＜ R4070 ≤ 0.50%；0% ＜ R4070 ≤ 0.25%；0% ＜ R4070 ≤ 0.10%；或0% ＜ R4070 ≤ 0.05%。
光學鏡片於波長700 nm 至1000 nm的平均反射率為R70100，其可滿足下列條件：0% ＜ R70100 ≤ 1.00%。藉此，可有效控制紅外光波段的光線在表面的反射效果，有助於增加長波長範圍的透光度。再者，可滿足下列條件：0% ＜ R70100 ≤ 0.80%；0% ＜ R70100 ≤ 0.60%；0% ＜ R70100 ≤ 0.45%；或0% ＜ R70100 ≤ 0.25%。
光學鏡片的色散係數為Vs，其可滿足下列條件：35.0 ≤ Vs ≤ 85.0。藉由選擇適當玻璃材料，有助於顯著提升光學鏡片的抗氧化能力，提供最佳保護功效。再者，可滿足下列條件：35.0 ≤ Vs ≤ 71.0；35.0 ≤ Vs ≤ 60.0；50.0 ≤ Vs ≤ 71.0；或35.0 ≤ Vs ≤ 50.0。
光學鏡片的折射率為Ns，其可滿足下列條件：Ns ≤ 1.85。藉由控制光學鏡片材質的折射率，有助於表面鍍膜發揮最佳抗反射效果。再者，可滿足下列條件：1.45 ≤ Ns ≤ 1.85；1.50 ≤ Ns ≤ 1.85；1.60 ≤ Ns ≤ 1.85；或1.70 ≤ Ns ≤ 1.85。
光學鏡片的耐酸性為Da，光學鏡片的色散係數為Vs，其可滿足下列條件：0.6 ≤ Vs×Da/10 ≤ 13.0。藉由配置光學鏡片的色散係數，有助於發揮膜層的抗氧化保護效果。再者，可滿足下列條件：0.6 ≤ Vs×Da/10 ≤ 10.0；0.85 ≤ Vs×Da/10 ≤ 8.5；3.0 ≤ Vs×Da/10 ≤ 13.0；或0.9 ≤ Vs×Da/10 ≤ 3.5。
光學鏡片的耐酸性為Da，光學鏡片的折射率為Ns，其可滿足下列條件：0.1 ≤ Ns×Da ≤ 4.5。藉由配置光學鏡片的折射率，有助於發揮膜層的抗氧化保護效果。再者，可滿足下列條件：0.2 ≤ Ns×Da ≤ 4.1；0.3 ≤ Ns×Da ≤ 4.0；0.3 ≤ Ns×Da ≤ 2.5；或0.3 ≤ Ns×Da ≤ 1.2。
光學鏡片的耐水性為Dw，光學鏡片的色散係數為Vs，其可滿足下列條件：0 ＜ Vs×Dw ≤ 10.0。藉由配置光學鏡片的色散係數，有助於發揮膜層的抗氧化保護效果。再者，可滿足下列條件：0 ＜ Vs×Dw ≤ 7.5；0 ＜ Vs×Dw ≤ 6.0；0 ＜ Vs×Dw ≤ 5.0；或0 ＜ Vs×Dw ≤ 3.0。
光學鏡片的耐水性為Dw，光學鏡片的折射率為Ns，其可滿足下列條件：0 ＜ Ns×Dw×100 ≤ 50。藉由配置光學鏡片的折射率，有助於發揮膜層的抗氧化保護效果。再者，可滿足下列條件：0 ＜ Ns×Dw×100 ≤ 40；0 ＜ Ns×Dw×100 ≤ 30；0 ＜ Ns×Dw×100 ≤ 25；或0 ＜ Ns×Dw×100 ≤ 17。
前述成像光學鏡頭可更包含至少一光學元件，光學元件的材質可為玻璃，光學元件可包含一抗反射膜，光學元件的抗反射膜可位於光學元件的至少一表面，且光學元件可為一稜鏡。藉由抗反射膜配置，有效減少光線穿透稜鏡的耗損。
本揭示內容的一態樣的另一實施方式提供一種成像光學鏡頭，其包含至少二光學鏡片以及至少一光學元件。所述至少二光學鏡片中至少一光學鏡片包含一長波長吸收材料，包含長波長吸收材料的光學鏡片由一塑膠材料所製成，長波長吸收材料均勻混合於塑膠材料中。所述至少二光學鏡片中至少一光學鏡片包含一長波長濾除鍍膜，長波長濾除鍍膜位於光學鏡片的物側表面或像側表面，長波長濾除鍍膜包含複數個高折射率膜層與複數個低折射率膜層，且長波長濾除鍍膜的高折射率膜層與長波長濾除鍍膜的低折射率膜層交替堆疊配置。光學元件的材質為玻璃，光學元件包含一抗反射膜，光學元件的抗反射膜位於光學元件的至少一表面，且光學元件為一平板玻璃。光學元件的抗反射膜包含一高低折射率膜與一漸變折射率膜，高低折射率膜配置在光學元件與漸變折射率膜之間。高低折射率膜包含至少一高折射率膜層與至少一低折射率膜層，高低折射率膜的高折射率膜層與高低折射率膜的低折射率膜層交替堆疊配置，高低折射率膜的低折射率膜層接觸光學元件，且高低折射率膜的低折射率膜層的主要材質為氧化鋁。漸變折射率膜包含複數個孔洞，遠離光學元件的孔洞相對大於靠近光學元件的孔洞，且漸變折射率膜的主要材質為金屬氧化物。
藉此，本揭示內容提供的成像光學鏡頭具有減少藍玻璃元件與紅外線濾除元件的功能，並有效避免微透鏡表面與保護玻璃表面間反射所造成的瓣狀雜散光線。
本揭示內容的另一態樣提供一種取像裝置，其包含如前述態樣的成像光學鏡頭以及一電子感光元件，且電子感光元件設置於成像光學鏡頭的一成像面。
本揭示內容的又一態樣提供一種電子裝置，其為一車用裝置或一行動裝置，且電子裝置包含如前述態樣的取像裝置。
成像光學鏡頭的全視角為FOV，其可滿足下列條件：15度 ≤ FOV ≤ 180度；30度 ≤ FOV ≤ 150度；或35度 ≤ FOV ≤ 120度。
成像光學鏡頭中，從第一片光學鏡片的物側表面至最後一片光學鏡片的像側表面的距離為TD，其可滿足下列條件：5 mm ≤ TD ≤ 30 mm；5 mm ≤ TD ≤ 25 mm；或10 mm ≤ TD ≤ 20 mm。
光學鏡片的表面於最大有效徑處的水平位移為SAG，其可滿足下列條件：0 mm ≤ |SAG| ≤ 8.00 mm；0 mm ≤ |SAG| ≤ 5.60 mm；0 mm ≤ |SAG| ≤ 3.60 mm；0.02 mm ≤ |SAG| ≤ 3.00 mm；或0.03 mm ≤ |SAG| ≤ 2.00 mm。
所有光學鏡片表面中有效徑的最大值為SDmax，其可滿足下列條件：1 mm ≤ SDmax ≤ 20 mm；1 mm ≤ SDmax ≤ 15 mm；或3 mm ≤ SDmax ≤ 13 mm。
光學鏡片於光軸上的厚度為CT，其可滿足下列條件：0.5 mm ≤ CT ≤ 6.0 mm；0.5 mm ≤ CT ≤ 4.0 mm；或0.7 mm ≤ CT ≤ 2.0 mm。
光學鏡片的耐水等級為RW，其可滿足下列條件：1 ≤ RW ≤ 6；1 ≤ RW ≤ 5；或1 ≤ RW ≤ 3。
光學鏡片的耐酸等級為RA，其可滿足下列條件：1 ≤ RA ≤ 6；2 ≤ RA ≤ 6；或3 ≤ RA ≤ 6。
高低折射率膜的膜層由光學鏡片往外側依序為第一膜層、第二膜層、第三膜層、第四膜層，以此類推。第二膜層的膜厚為TL2，其可滿足下列條件：1 nm ≤ TL2 ≤ 30 nm；1 nm ≤ TL2 ≤ 25 nm；1 nm ≤ TL2 ≤ 20 nm；1 nm ≤ TL2 ≤ 18 nm；或1 nm ≤ TL2 ≤ 15 nm。
第三膜層的膜厚為TL3，其可滿足下列條件：1 nm ≤ TL3 ≤ 150 nm；10 nm ≤ TL3 ≤ 120 nm；15 nm ≤ TL3 ≤ 100 nm；20 nm ≤ TL3 ≤ 85 nm；或25 nm ≤ TL3 ≤ 70 nm。
第四膜層的膜厚為TL4，其可滿足下列條件：1 nm ≤ TL4 ≤ 30 nm；1 nm ≤ TL4 ≤ 25 nm；1 nm ≤ TL4 ≤ 20 nm；1 nm ≤ TL4 ≤ 18 nm；或1 nm ≤ TL4 ≤ 15 nm。
漸變折射率膜的膜厚為TNG，其可滿足下列條件：90 nm ≤ TNG ≤ 680 nm；100 nm ≤ TNG ≤ 560 nm；100 nm ≤ TNG ≤ 450 nm；120 nm ≤ TNG ≤ 375 nm；或180 nm ≤ TNG ≤ 280 nm。
光學鏡片於波長400 nm至600 nm的平均反射率為R4060，其可滿足下列條件：0% ＜ R4060 ≤ 1.00%；0% ＜ R4060 ≤ 0.50%；0% ＜ R4060 ≤ 0.25%；0% ＜ R4060 ≤ 0.10%；或0% ＜ R4060 ≤ 0.05%。
光學鏡片於波長500 nm至600 nm的平均反射率為R5060，其可滿足下列條件：0% ＜ R5060 ≤ 1.00%；0% ＜ R5060 ≤ 0.50%；0% ＜ R5060 ≤ 0.25%；0% ＜ R5060 ≤ 0.10%；或0% ＜ R5060 ≤ 0.05%。
光學鏡片於波長500 nm至700 nm的平均反射率為R5070，其可滿足下列條件：0% ＜ R5070 ≤ 1.00%；0% ＜ R5070 ≤ 0.50%；0% ＜ R5070 ≤ 0.25%；0% ＜ R5070 ≤ 0.10%；或0% ＜ R5070 ≤ 0.05%。
光學鏡片於波長800 nm 至1000 nm的平均反射率為R80100，其可滿足下列條件：0% ＜ R80100 ≤ 1.00%；0% ＜ R80100 ≤ 0.85%；0% ＜ R80100 ≤ 0.70%；0% ＜ R80100 ≤ 0.50%；或0% ＜ R80100 ≤ 0.35%。
光學鏡片於波長900 nm 至1000 nm的平均反射率為R90100，其可滿足下列條件：0% ＜ R90100 ≤ 1.00%；0% ＜ R90100 ≤ 0.90%；0% ＜ R90100 ≤ 0.75%；0% ＜ R90100 ≤ 0.60%；或0% ＜ R90100 ≤ 0.50%。
本揭示內容的反射率以單光學鏡片進行量測數據，反射率以0度、30度入射角的數據作為比較基準。
本揭示內容的主要材質可表示所述材質占整體的重量比例至少50%以上。
本揭示內容的一種成像光學鏡頭，其包含至少二光學鏡片以及至少一光學元件，光學元件可位於所述至少二光學鏡片的物側或像側，或可位於所述至少二光學鏡片之間。
本揭示內容的玻璃材料可為含高鹼金屬氧化物玻璃或是含高矽氧玻璃或是含氟化物與磷酸鹽的特種玻璃，可提供最佳抗氧化功效；亦可選擇本身耐水性耐酸性良好的玻璃材料作為鍍膜基材，提供更佳的抗氧化能力。
本揭示內容的光學鏡片的耐酸數值測試方法，係依據GB/T 171292的測試方法，將粒徑425 μm～600 μm的粉末玻璃，取相當比重的質量加入體積莫耳濃度0.01 mol/L的硝酸水溶液，根據其減少的質量百分比（%）作為光學鏡片的耐酸數值，並分成6種等級。
本揭示內容的光學鏡片的耐水數值測試方法，係依據GB/T 171292的測試方法，將粒徑425 μm～600 μm的粉末玻璃，取相當比重的質量加入80ml純水（pH 6.5～7.5）並煮沸處理60分鐘，根據其減少的質量百分比（%）作為光學鏡片的耐水數值，並分成6種等級。
本揭示內容的抗反射膜係在玻璃表面上製鍍多層薄膜，其使用物理氣相沉積（PVD），如蒸發沉積或濺射沉積等，或使用化學氣相沉積法（CVD），如超高真空化學氣相沉積、微波電漿輔助化學氣相沉積、電漿增強化學氣相沉積或原子層沉積（ALD）等。
本揭示內容的抗反射膜製作可為兩面皆鍍膜，但亦可僅在適當的一表面製作，藉由在光學鏡片面形變化劇烈的表面應用本揭示內容技術，使原子層沉積製作鍍膜具最佳化價值，在成本與品質間取得平衡，並在最適當的光學鏡片材質的表面上製作，可使抗反射效果達到最佳效果。
本揭示內容的膜層造孔製程能有效提升表面孔洞分布，使表面的孔洞間隙增加、呈現海綿孔洞狀結構或改變孔隙密度變化等，造孔效果亦可隨深度增加而改變，如接觸空氣的外側具較大的孔隙結構，而較深內側具有相對較小的孔隙結構，所述孔隙是由不規則奈米纖維結構（nanofiber）間的空間組成，具有讓空氣留存或連通在孔隙間的效果，所述抗反射膜層的外側與內側意指於斷面圖中，其外側為遠離光學鏡片的一側，內側為靠近光學鏡片的一側，外側分布的孔洞（缺口、孔隙）相對大於內側孔洞，亦可說明為同一平面下外側的不規則支狀結構分布密度較稀疏，同一平面下內側的不規則支狀結構分布密度較緊密。造孔製程可使用電漿蝕刻、化學反應蝕刻、時間控制結晶顆粒大小技術或使用高溫溶液處理，如浸潤在溫度50度以上的醇類或水中達成。
本揭示內容的漸變折射率膜的主要材質為金屬氧化物，可為氧化鋁，或可為氮化鋁（AlN）、氫氧化鋁（Al(OH) 3）或含鋁混合物。
本揭示內容的高低折射率膜亦可在高折射率膜層與低折射率膜層中間額外增加膜層，藉由鍍膜的配置設計，可使膜層間具有梯度變化的折射率，也滿足高低折射率差異並以破壞性干涉達到減少反射光目的，有效提升廣域波長範圍的抗反射效果。
本揭示內容的梯度變化可以是折射率與位置關係的多項式函數（含線性函數與曲線函數）或高斯函數，或其組合。
本揭示內容的高折射率膜層或低折射率膜層皆可為接觸光學鏡片或光學元件的膜層，且其主要材質為氧化鋁，或可為氮化鋁、氫氧化鋁或含鋁混合物；或可為氧化鋅或氧化鎂；或可為上述的氧化鋁、氧化鋅、氧化鎂中至少一種與其他金屬氧化物的混合材料，其具有緻密結構的特性，可強化材料與光學鏡片間的附著性，以避免鍍膜脫落，達到鍍膜製程中的光學鏡片表面保護效果，有效強化光學鏡片的環境耐候性。
本揭示內容的抗反射膜中的高折射率膜層的材質的折射率可大於2.0，低折射率膜層的材質的折射率可小於1.8。高折射率膜層的材質與低折射率膜層的材質（於波長587.6 nm的折射率）可分別例如為：氟化鎂（MgF 2，1.3777）、二氧化矽（SiO 2，1.4585）、氟化釷（ThF 4，1.5125）、一氧化矽（SiO，1.55）、氟化鈰（CeF 3，1.63）、氧化鋁（Al 2O 3，1.7682）、三氧化二釔（Y 2O 3，1.79）、二氧化鉿（HfO 2，1.8935）、氧化鋅（ZnO，1.9269）、氧化鈧（Sc 2O 3，1.9872）、氮化鋁（AlN，2.0294）、氮化矽（Si 3N 4，2.0381）、五氧化二鉭（Ta 2O 5，2.1306）、二氧化鋯（ZrO 2，2.1588）、硫化鋅（ZnS，2.2719）、五氧化二鈮（Nb 2O 5，2.3403）、二氧化鈦（TiO 2，2.6142）、氮化鈦（TiN，3.1307）。或可為氟化鎂－二氧化矽（MgF 2-SiO 2）的混合材料，其中各成分的含量比率可例如為[SiO 2] ＞ [MgF 2]。
本揭示內容的電子裝置，其亦可為車用裝置、行動裝置、航空裝置或監視裝置等。
本揭示內容提供一種電子裝置，其包含前述的取像裝置。藉此，可提升成像品質。較佳地，前述電子裝置皆可進一步包含控制單元、顯示單元、儲存單元、暫儲存單元或其組合。
本揭示內容提供的成像光學鏡頭亦可多方面應用於三維（3D）影像擷取、數位相機、行動產品、數位平板、智慧型電視、網路監控設備、體感遊戲機、行車紀錄器、倒車顯影裝置、穿戴式產品或空拍機等電子裝置中。
取像裝置可對應電子裝置外側的一非圓形開口進行取像。
根據上述說明，以下提出具體實施例予以詳細說明。
＜第一實施例＞
請參照第1圖，其為依照本揭示內容第一實施例的一種取像裝置1的示意圖。由第1圖可知，第一實施例的取像裝置1包含成像光學鏡頭（未另標號）以及電子感光元件IS。成像光學鏡頭由光路的物側至像側依序包含光學鏡片E1、光學鏡片E2、光圈ST、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、濾光元件FL1、濾光元件FL2以及成像面IMG，而電子感光元件IS設置於成像光學鏡頭的成像面IMG，其中成像光學鏡頭包含五片光學鏡片（E1、E2、E3、E4、E5），所述五片光學鏡片間無其他內插的光學鏡片，且各二相鄰的光學鏡片之間於光軸上皆具有一空氣間距。
各光學鏡片分別具有物側表面及像側表面。光學鏡片E1的材質為玻璃，且光學鏡片E1包含二抗反射膜C1、C2，所述二抗反射膜C1、C2分別位於光學鏡片E1的物側表面及像側表面。光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4及光學鏡片E5的材質為塑膠。
取像裝置1的全視角為FOV，其滿足條件：FOV = 124度。從光學鏡片E1的物側表面至光學鏡片E5的像側表面的距離為TD，其滿足條件：TD = 12 mm。光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4及光學鏡片E5的物側表面及像側表面於最大有效徑處的水平位移為SAG，其滿足條件：0.98 mm ≤ |SAG| ≤ 1.59 mm。所有光學鏡片表面中有效徑的最大值為SDmax，在第一實施例中，SDmax為光學鏡片E1物側表面的有效徑且滿足條件：SDmax = 8 mm。
光學鏡片E1於光軸上的厚度為CT，其滿足條件：CT = 1.0 mm。光學鏡片E1的折射率為Ns，其滿足條件：Ns = 1.80。光學鏡片E1的色散係數為Vs，其滿足條件：Vs = 46.5。光學鏡片E1的耐水等級為RW，其滿足條件：RW = 1。光學鏡片E1的耐水性為Dw，其滿足條件：Dw ≤ 0.05。光學鏡片E1的耐酸等級為RA，其滿足條件：RA = 4。光學鏡片E1的耐酸性為Da，其滿足條件：0.65 ≤ Da ≤ 1.20。
光學鏡片E1的耐水性為Dw，光學鏡片E1的折射率為Ns，其滿足條件：Ns×Dw×100 ≤ 9。光學鏡片E1的耐酸性為Da，光學鏡片E1的折射率為Ns，其滿足條件：1.2 ≤ Ns×Da ≤ 2.2。光學鏡片E1的耐水性為Dw，光學鏡片E1的色散係數為Vs，其滿足條件：Vs×Dw ≤ 2.3。光學鏡片E1的耐酸性為Da，光學鏡片E1的色散係數為Vs，其滿足條件：3.0 ≤ Vs×Da/10 ≤ 5.6。
光學鏡片E1的物側表面於最大有效徑處的水平位移為SAG，其滿足條件：|SAG| = 0.98 mm。光學鏡片E1的物側表面的有效徑為SD，其滿足條件：|SD|×2 = 8.08。光學鏡片E1的像側表面於最大有效徑處的水平位移為SAG，其滿足條件：|SAG| = 1.59 mm。光學鏡片E1的像側表面的有效徑為SD，其滿足條件：|SD|×2 = 4.79。
第一實施例的取像裝置1的詳細參數大小已列於下表1，其中光學鏡片組成的「1G4P」表示第一實施例的取像裝置1包含一個光學鏡片由玻璃材料所製成，以及四個光學鏡片由塑膠材料所製成。
表1
光學鏡片組成 1G4P
模造玻璃的 光學鏡片位置 無
FOV (度) 124
TD (mm) 12
SDmax (mm) 8
E1物側表面
  E1
CT (mm) 1.0
Ns 1.80
Vs 46.5
材料 (玻璃/ 模造玻璃/塑膠) 玻璃
RW 1
Dw (下限/上限) 0.05
RA 4
Da (下限/上限) 0.65 1.20
Ns×Dw×100 9
Ns×Da 1.2 2.2
Vs×Dw 2.3
Vs×Da/10 3.0 5.6
物側 表面 |SAG| 0.98
|SD|×2 8.08
像側 表面 |SAG| 1.59
|SD|×2 4.79
＜第二實施例＞
第二實施例的取像裝置包含成像光學鏡頭以及電子感光元件。成像光學鏡頭由光路的物側至像側依序包含光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、光學鏡片E6、光學鏡片E7以及成像面，而電子感光元件設置於成像光學鏡頭的成像面，其中成像光學鏡頭包含七片光學鏡片（E1、E2、E3、E4、E5、E6、E7），所述七片光學鏡片間無其他內插的光學鏡片，且各二相鄰的光學鏡片之間於光軸上皆具有一空氣間距。
各光學鏡片分別具有物側表面及像側表面。光學鏡片E1的材質為模造玻璃，且光學鏡片E1包含一抗反射膜，抗反射膜位於光學鏡片E1的物側表面及像側表面中至少一表面。光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、光學鏡片E6及光學鏡片E7的材質為塑膠。
第二實施例的取像裝置的詳細參數大小已列於下表2，其中光學鏡片組成的「1MG6P」表示第二實施例的取像裝置包含一個光學鏡片由模造玻璃材料所製成，以及六個光學鏡片由塑膠材料所製成，表2其餘的參數定義皆與第一實施例相同，於此不再贅述。
表2
光學鏡片組成 1MG6P
模造玻璃的 光學鏡片位置 E1
FOV (度) 80
TD (mm) 6
SDmax (mm) 4
E1物側表面
  E1
CT (mm) 1.1
Ns 1.59
Vs 67.0
材料 (玻璃/ 模造玻璃/塑膠) 模造玻璃
RW 1
Dw (下限/上限) 0.05
RA 4
Da (下限/上限) 0.65 1.20
Ns×Dw×100 8
Ns×Da 1.0 1.9
Vs×Dw 3.4
Vs×Da/10 4.4 8.0
物側 表面 |SAG| 0.91
|SD|×2 3.70
像側 表面 |SAG| 0.21
|SD|×2 3.37
＜第三實施例＞
第三實施例的取像裝置包含成像光學鏡頭以及電子感光元件。成像光學鏡頭由光路的物側至像側依序包含光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、光學鏡片E6以及成像面，而電子感光元件設置於成像光學鏡頭的成像面，其中成像光學鏡頭包含六片光學鏡片（E1、E2、E3、E4、E5、E6），所述六片光學鏡片間無其他內插的光學鏡片，且各二相鄰的光學鏡片之間於光軸上皆具有一空氣間距。
各光學鏡片分別具有物側表面及像側表面。光學鏡片E3的材質為玻璃，且光學鏡片E3包含一抗反射膜，抗反射膜位於光學鏡片E3的物側表面及像側表面中至少一表面。光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E4、光學鏡片E5及光學鏡片E6的材質為塑膠。
第三實施例的取像裝置的詳細參數大小已列於下表3，表3的參數定義皆與第一實施例相同，於此不再贅述。
表3
光學鏡片組成 1G5P
模造玻璃的 光學鏡片位置 無
FOV (度) 20
TD (mm) 7
SDmax (mm) 3
E3物側表面
  E3
CT (mm) 1.0
Ns 1.49
Vs 70.4
材料 (玻璃/ 模造玻璃/塑膠) 玻璃
RW 2
Dw (下限/上限) 0.05 0.10
RA 4
Da (下限/上限) 0.65 1.20
Ns×Dw×100 7 15
Ns×Da 1.0 1.8
Vs×Dw 3.5 7.0
Vs×Da/10 4.6 8.5
物側 表面 |SAG| 0.27
|SD|×2 3.03
像側 表面 |SAG| 0.05
|SD|×2 2.79
＜第四實施例＞
第四實施例的取像裝置包含成像光學鏡頭以及電子感光元件。成像光學鏡頭由光路的物側至像側依序包含光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、光學鏡片E6、光學鏡片E7以及成像面，而電子感光元件設置於成像光學鏡頭的成像面，其中成像光學鏡頭包含七片光學鏡片（E1、E2、E3、E4、E5、E6、E7），所述七片光學鏡片間無其他內插的光學鏡片，且各二相鄰的光學鏡片之間於光軸上皆具有一空氣間距。
各光學鏡片分別具有物側表面及像側表面。光學鏡片E4的材質為玻璃，且光學鏡片E4包含一抗反射膜，抗反射膜位於光學鏡片E4的物側表面及像側表面中至少一表面。光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E5、光學鏡片E6及光學鏡片E7的材質為塑膠。
第四實施例的取像裝置的詳細參數大小已列於下表4，表4的參數定義皆與第一實施例相同，於此不再贅述。
表4
光學鏡片組成 1G6P
模造玻璃的 光學鏡片位置 無
FOV (度) 36
TD (mm) 24
SDmax (mm) 7
E4物側表面
  E4
CT (mm) 1.5
Ns 1.52
Vs 64.2
材料 (玻璃/ 模造玻璃/塑膠) 玻璃
RW 3
Dw (下限/上限) 0.10 0.25
RA 1
Da (下限/上限) 0.20
Ns×Dw×100 15 38
Ns×Da 0.3
Vs×Dw 6.4 16.1
Vs×Da/10 1.3
物側 表面 |SAG| 0.11
|SD|×2 7.13
像側 表面 |SAG| 0.79
|SD|×2 7.00
＜第五實施例＞
第五實施例的取像裝置包含成像光學鏡頭以及電子感光元件。成像光學鏡頭由光路的物側至像側依序包含光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、光學鏡片E6、光學鏡片E7、光學鏡片E8、光學鏡片E9以及成像面，而電子感光元件設置於成像光學鏡頭的成像面，其中成像光學鏡頭包含九片光學鏡片（E1、E2、E3、E4、E5、E6、E7、E8、E9），所述九片光學鏡片間無其他內插的光學鏡片，且各二相鄰的光學鏡片之間於光軸上皆具有一空氣間距。
各光學鏡片分別具有物側表面及像側表面。光學鏡片E4的材質為玻璃，且光學鏡片E4包含一抗反射膜，抗反射膜位於光學鏡片E4的物側表面及像側表面中至少一表面。光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E5、光學鏡片E6、光學鏡片E7、光學鏡片E8及光學鏡片E9的材質為塑膠。
第五實施例的取像裝置的詳細參數大小已列於下表5，表5的參數定義皆與第一實施例相同，於此不再贅述。
表5
光學鏡片組成 1G8P
模造玻璃的 光學鏡片位置 無
FOV (度) 32
TD (mm) 22
SDmax (mm) 6
E4物側表面
  E4
CT (mm) 1.4
Ns 1.52
Vs 64.2
材料 (玻璃/ 模造玻璃/塑膠) 玻璃
RW 3
Dw (下限/上限) 0.10 0.25
RA 1
Da (下限/上限) 0.20
Ns×Dw×100 15 38
Ns×Da 0.3
Vs×Dw 6.4 16.1
Vs×Da/10 1.3
物側 表面 |SAG| 0.48
|SD|×2 6.32
像側 表面 |SAG| 0.19
|SD|×2 6.00
＜第六實施例＞
第六實施例的取像裝置包含成像光學鏡頭以及電子感光元件。成像光學鏡頭由光路的物側至像側依序包含光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、光學鏡片E6以及成像面，而電子感光元件設置於成像光學鏡頭的成像面，其中成像光學鏡頭包含六片光學鏡片（E1、E2、E3、E4、E5、E6），所述六片光學鏡片間無其他內插的光學鏡片，且各二相鄰的光學鏡片之間於光軸上皆具有一空氣間距。
各光學鏡片分別具有物側表面及像側表面。光學鏡片E1及光學鏡片E2的材質為玻璃，且光學鏡片E1及光學鏡片E2分別包含一抗反射膜，抗反射膜分別位於光學鏡片E1及光學鏡片E2的物側表面及像側表面中至少一表面。光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5及光學鏡片E6的材質為塑膠。
第六實施例的取像裝置的詳細參數大小已列於下表6，表6的參數定義皆與第一實施例相同，於此不再贅述。
表6
光學鏡片組成 2G4P
模造玻璃的 光學鏡片位置 無
FOV (度) 80
TD (mm) 9
SDmax (mm) 5
E1物側表面
  E1 E2
CT (mm) 0.6 2.6
Ns 1.83 1.81
Vs 37.2 40.9
材料 (玻璃/ 模造玻璃/塑膠) 玻璃 玻璃
RW 1 1
Dw (下限/上限) 0.05   0.05
RA 3 3
Da (下限/上限) 0.35 0.65 0.35 0.65
Ns×Dw×100 9   9
Ns×Da 0.6 1.2 0.6 1.2
Vs×Dw 1.9   2.1
Vs×Da/10 1.3 2.4 1.4 2.7
物側 表面 |SAG| 0.99 0.37
|SD|×2 5.47 3.86
像側 表面 |SAG| 1.11 0.04
|SD|×2 4.27 1.88
＜第七實施例＞
第七實施例的取像裝置包含成像光學鏡頭以及電子感光元件。成像光學鏡頭由光路的物側至像側依序包含光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、光學鏡片E6以及成像面，而電子感光元件設置於成像光學鏡頭的成像面，其中成像光學鏡頭包含六片光學鏡片（E1、E2、E3、E4、E5、E6），所述六片光學鏡片間無其他內插的光學鏡片，且各二相鄰的光學鏡片之間於光軸上皆具有一空氣間距。
各光學鏡片分別具有物側表面及像側表面。光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5及光學鏡片E6的材質為玻璃，且光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5及光學鏡片E6分別包含一抗反射膜，抗反射膜分別位於光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5及光學鏡片E6的物側表面及像側表面中至少一表面。
第七實施例的取像裝置的詳細參數大小已列於下表7，表7的參數定義皆與第一實施例相同，於此不再贅述。
表7
光學鏡片組成 6G
模造玻璃的 光學鏡片位置 無
FOV (度) 58
TD (mm) 17
SDmax (mm) 8
E1物側表面
  E1 E2 E3 E4
CT (mm) 1.1 2.8 1.6 3.1
Ns 1.78 1.92 1.80 1.80
Vs 25.7 18.9 46.6 46.6
材料 (玻璃/ 模造玻璃/塑膠) 玻璃 玻璃 玻璃 玻璃
RW 1 1 1 1
Dw (下限/上限)   0.05   0.05   0.05   0.05
RA 1 1 3 3
Da (下限/上限)   0.20   0.20 0.35 0.65 0.35 0.65
Ns×Dw×100   9   10   9   9
Ns×Da   0.4   0.4 0.6 1.2 0.6 1.2
Vs×Dw   1.3   1.0   2.3   2.3
Vs×Da/10   0.5   0.4 1.6 3.0 1.6 3.0
物側 表面 |SAG| 1.41 1.09 0.29 0.21
|SD|×2 8.33 6.32 4.42 4.41
像側 表面 |SAG| 1.87 0.75 0.05 0.96
|SD|×2 6.34 4.44 3.98 5.82
  E5 E6  
CT (mm) 4.5 0.8
Ns 1.77 1.85
Vs 49.6 23.8
材料 (玻璃/ 模造玻璃/塑膠) 玻璃 玻璃
RW 1 1
Dw (下限/上限)   0.05   0.05
RA 3 1
Da (下限/上限) 0.35 0.65   0.20
Ns×Dw×100   9   9
Ns×Da 0.6 1.2   0.4
Vs×Dw   2.5   1.2
Vs×Da/10 1.7 3.2   0.5
物側 表面 |SAG| 0.62 0.90
|SD|×2 6.11 5.72
像側 表面 |SAG| 0.91 0.19
|SD|×2 5.73 5.60
＜第八實施例＞
第八實施例的取像裝置包含成像光學鏡頭以及電子感光元件。成像光學鏡頭由光路的物側至像側依序包含光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、光學鏡片E6以及成像面，而電子感光元件設置於成像光學鏡頭的成像面，其中成像光學鏡頭包含六片光學鏡片（E1、E2、E3、E4、E5、E6），所述六片光學鏡片間無其他內插的光學鏡片，且各二相鄰的光學鏡片之間於光軸上皆具有一空氣間距。
各光學鏡片分別具有物側表面及像側表面。光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5及光學鏡片E6的材質為玻璃，且光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5及光學鏡片E6分別包含一抗反射膜，抗反射膜分別位於光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5及光學鏡片E6的物側表面及像側表面中至少一表面。
第八實施例的取像裝置的詳細參數大小已列於下表8，表8的參數定義皆與第一實施例相同，於此不再贅述。
表8
光學鏡片組成 6G
模造玻璃的 光學鏡片位置 無
FOV (度) 35
TD (mm) 15
SDmax (mm) 9
E1物側表面
  E1 E2 E3 E4
CT (mm) 0.8 2.4 2.2 2.8
Ns 1.70 1.82 1.81 1.83
Vs 30.1 46.6 40.9 37.2
材料 (玻璃/ 模造玻璃/塑膠) 玻璃 玻璃 玻璃 玻璃
RW 1 1 1 1
Dw (下限/上限)   0.05   0.05   0.05   0.05
RA 1 2 3 3
Da (下限/上限)   0.20 0.20 0.35 0.35 0.65 0.35 0.65
Ns×Dw×100   8   9   9   9
Ns×Da   0.3 0.4 0.6 0.6 1.2 0.6 1.2
Vs×Dw   1.5   2.3   2.1   1.9
Vs×Da/10   0.6 0.9 1.6 1.4 2.7 1.3 2.4
物側 表面 |SAG| 0.49 0.78 1.30 0.40
|SD|×2 9.12 8.15 6.58 4.58
像側 表面 |SAG| 1.45 0.20 0.78 0.60
|SD|×2 8.13 7.75 4.63 5.44
  E5 E6  
CT (mm) 3.6 0.7
Ns 1.82 1.81
Vs 46.6 25.4
材料 (玻璃/ 模造玻璃/塑膠) 玻璃 玻璃
RW 1 1
Dw (下限/上限)   0.05   0.05
RA 2 1
Da (下限/上限) 0.20 0.35   0.20
Ns×Dw×100   9   9
Ns×Da 0.4 0.6   0.4
Vs×Dw   2.3   1.3
Vs×Da/10 0.9 1.6   0.5
物側 表面 |SAG| 0.35 1.06
|SD|×2 5.77 5.83
像側 表面 |SAG| 1.06 0.00
|SD|×2 5.83 5.85
＜第九實施例＞
第九實施例的取像裝置包含成像光學鏡頭以及電子感光元件。成像光學鏡頭由光路的物側至像側依序包含光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、光學鏡片E6以及成像面，而電子感光元件設置於成像光學鏡頭的成像面，其中成像光學鏡頭包含六片光學鏡片（E1、E2、E3、E4、E5、E6），所述六片光學鏡片間無其他內插的光學鏡片，且各二相鄰的光學鏡片之間於光軸上皆具有一空氣間距。
各光學鏡片分別具有物側表面及像側表面。光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5及光學鏡片E6的材質為玻璃，且光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5及光學鏡片E6分別包含一抗反射膜，抗反射膜分別位於光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5及光學鏡片E6的物側表面及像側表面中至少一表面。
第九實施例的取像裝置的詳細參數大小已列於下表9，表9的參數定義皆與第一實施例相同，於此不再贅述。
表9
光學鏡片組成 6G
模造玻璃的 光學鏡片位置 無
FOV (度) 135
TD (mm) 18
SDmax (mm) 10
E1物側表面
  E1 E2 E3 E4
CT (mm) 1.0 0.8 2.3 4.0
Ns 1.88 1.77 1.73 1.80
Vs 40.8 49.6 28.3 46.6
材料 (玻璃/ 模造玻璃/塑膠) 玻璃 玻璃 玻璃 玻璃
RW 1 1 1 1
Dw (下限/上限)   0.05   0.05   0.05   0.05
RA 1 3 1 3
Da (下限/上限)   0.20 0.35 0.65   0.20 0.35 0.65
Ns×Dw×100   9   9   9   9
Ns×Da   0.4 0.6 1.2   0.4 0.6 1.2
Vs×Dw   2.0   2.5   1.4   2.3
Vs×Da/10   0.8 1.7 3.2   0.6 1.6 3.0
物側 表面 |SAG| 1.18 0.63 0.54 0.18
|SD|×2 10.39 5.39 4.15 3.10
像側 表面 |SAG| 2.12 0.92 0.33 0.40
|SD|×2 6.14 4.39 2.93 4.07
  E5 E6  
CT (mm) 4.0 0.8
Ns 1.68 1.96
Vs 55.3 17.5
材料 (玻璃/ 模造玻璃/塑膠) 玻璃 玻璃
RW 2 1
Dw (下限/上限) 0.05 0.10   0.05
RA 5 1
Da (下限/上限) 1.20 2.20   0.20
Ns×Dw×100 8 17   10
Ns×Da 2.0 3.7   0.4
Vs×Dw 2.8 5.5   0.9
Vs×Da/10 6.6 12.2   0.4
物側 表面 |SAG| 0.29 0.85
|SD|×2 4.20 4.36
像側 表面 |SAG| 0.85 0.24
|SD|×2 4.36 4.77
＜第十實施例＞
第十實施例的取像裝置包含成像光學鏡頭以及電子感光元件。成像光學鏡頭由光路的物側至像側依序包含光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、光學鏡片E6、光學鏡片E7以及成像面，而電子感光元件設置於成像光學鏡頭的成像面，其中成像光學鏡頭包含七片光學鏡片（E1、E2、E3、E4、E5、E6、E7），所述七片光學鏡片間無其他內插的光學鏡片，且各二相鄰的光學鏡片之間於光軸上皆具有一空氣間距。
各光學鏡片分別具有物側表面及像側表面。光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E4、光學鏡片E5及光學鏡片E6的材質為玻璃，光學鏡片E3及光學鏡片E7的材質為模造玻璃，且光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、光學鏡片E6及光學鏡片E7分別包含一抗反射膜，抗反射膜分別位於光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、光學鏡片E6及光學鏡片E7的物側表面及像側表面中至少一表面。
第十實施例的取像裝置的詳細參數大小已列於下表10，表10的參數定義皆與第一實施例及第二實施例相同，於此不再贅述。
表10
光學鏡片組成 2MG5G
模造玻璃的 光學鏡片位置 E3、E7
FOV (度) 100
TD (mm) 25
SDmax (mm) 13
E1物側表面
  E1 E2 E3 E4
CT (mm) 1.0 0.8 2.2 2.6
Ns 1.57 1.52 1.85 1.74
Vs 56.1 64.2 40.6 44.9
材料 (玻璃/ 模造玻璃/塑膠) 玻璃 玻璃 模造玻璃 玻璃
RW 1 3 1 1
Dw (下限/上限)   0.05 0.10 0.25   0.05   0.05
RA 1 1 5 3
Da (下限/上限)   0.20   0.20 1.20 2.20 0.35 0.65
Ns×Dw×100   8 15 38   9   9
Ns×Da   0.3   0.3 2.2 4.1 0.6 1.1
Vs×Dw   2.8 6.4 16.1   2.0   2.3
Vs×Da/10   1.1   1.3 4.9 8.9 1.6 2.9
物側 表面 |SAG| 0.40 0.92 0.52 1.03
|SD|×2 12.62 8.27 8.47 9.62
像側 表面 |SAG| 2.50 0.55 0.35 0.57
|SD|×2 8.60 8.31 8.61 9.70
  E5 E6 E7  
CT (mm) 3.4 0.8 5.0
Ns 1.62 1.95 1.85
Vs 63.9 17.9 40.6
材料 (玻璃/ 模造玻璃/塑膠) 玻璃 玻璃 模造玻璃
RW 1 1 1
Dw (下限/上限)   0.05   0.05   0.05
RA 4 1 5
Da (下限/上限) 0.65 1.20   0.20 1.20 2.20
Ns×Dw×100   8   10   9
Ns×Da 1.1 2.0   0.4 2.2 4.1
Vs×Dw   3.2   0.9   2.0
Vs×Da/10 4.2 7.7   0.4 4.9 8.9
物側 表面 |SAG| 1.14 1.25 0.73
|SD|×2 9.35 8.86 7.97
像側 表面 |SAG| 1.26 0.05 0.93
|SD|×2 8.87 8.49 10.16
＜第十一實施例＞
第十一實施例的取像裝置包含成像光學鏡頭以及電子感光元件。成像光學鏡頭由光路的物側至像側依序包含光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、光學鏡片E6、光學鏡片E7、光學鏡片E8以及成像面，而電子感光元件設置於成像光學鏡頭的成像面，其中成像光學鏡頭包含八片光學鏡片（E1、E2、E3、E4、E5、E6、E7、E8），所述八片光學鏡片間無其他內插的光學鏡片，且各二相鄰的光學鏡片之間於光軸上皆具有一空氣間距。
各光學鏡片分別具有物側表面及像側表面。光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E6、光學鏡片E7及光學鏡片E8的材質為玻璃，光學鏡片E1及光學鏡片E5的材質為模造玻璃，且光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、光學鏡片E6、光學鏡片E7及光學鏡片E8分別包含一抗反射膜，抗反射膜分別位於光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、光學鏡片E6、光學鏡片E7及光學鏡片E8的物側表面及像側表面中至少一表面。
第十一實施例的取像裝置的詳細參數大小已列於下表11，表11的參數定義皆與第一實施例及第二實施例相同，於此不再贅述。
表11
光學鏡片組成 2MG6G
模造玻璃的 光學鏡片位置 E1、E5
FOV (度) 95
TD (mm) 27
SDmax (mm) 12
E5物側表面
  E1 E2 E3 E4
CT (mm) 0.9 1.9 2.2 3.3
Ns 1.81 1.92 1.60 1.62
Vs 40.7 18.9 38.0 63.4
材料 (玻璃/ 模造玻璃/塑膠) 模造玻璃 玻璃 玻璃 玻璃
RW 1 1 2 1
Dw (下限/上限)   0.05   0.05 0.05 0.10   0.05
RA 3 1 1 4
Da (下限/上限) 0.35 0.65   0.20   0.20 0.65 1.20
Ns×Dw×100   9   10 8 16   8
Ns×Da 0.6 1.2   0.4   0.3 1.1 1.9
Vs×Dw   2.0   1.0 1.9 3.8   3.2
Vs×Da/10 1.4 2.7   0.4   0.8 4.1 7.6
物側 表面 |SAG| 0.43 0.09 0.51 0.41
|SD|×2 8.66 5.90 5.30 8.53
像側 表面 |SAG| 1.20 0.29 0.41 1.56
|SD|×2 6.57 5.37 8.53 9.87
  E5 E6 E7 E8
CT (mm) 4.9 3.6 0.7 4.8
Ns 1.69 1.80 1.85 1.62
Vs 53.2 46.6 23.8 58.2
材料 (玻璃/ 模造玻璃/塑膠) 模造玻璃 玻璃 玻璃 玻璃
RW 1 1 1 2
Dw (下限/上限)   0.05   0.05   0.05 0.05 0.10
RA 4 3 1 4
Da (下限/上限) 0.65 1.20 0.35 0.65   0.20 0.25 0.60
Ns×Dw×100   8   9   9 8 16
Ns×Da 1.1 2.0 0.6 1.2   0.4 0.4 1.0
Vs×Dw   2.7   2.3   1.2 2.9 5.8
Vs×Da/10 3.5 6.4 1.6 3.0   0.5 1.5 3.5
物側 表面 |SAG| 1.19 0.69 1.52 1.52
|SD|×2 12.11 11.46 10.94 10.79
像側 表面 |SAG| 1.36 1.52 1.43 0.40
|SD|×2 12.11 10.94 9.67 10.06
＜第十二實施例＞
第十二實施例的取像裝置包含成像光學鏡頭以及電子感光元件。成像光學鏡頭由光路的物側至像側依序包含光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、光學鏡片E6、光學鏡片E7、光學鏡片E8以及成像面，而電子感光元件設置於成像光學鏡頭的成像面，其中成像光學鏡頭包含八片光學鏡片（E1、E2、E3、E4、E5、E6、E7、E8），所述八片光學鏡片間無其他內插的光學鏡片，且各二相鄰的光學鏡片之間於光軸上皆具有一空氣間距。
各光學鏡片分別具有物側表面及像側表面。光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、光學鏡片E6及光學鏡片E7的材質為玻璃，光學鏡片E8的材質為模造玻璃，且光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、光學鏡片E6、光學鏡片E7及光學鏡片E8分別包含一抗反射膜，抗反射膜分別位於光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、光學鏡片E6、光學鏡片E7及光學鏡片E8的物側表面及像側表面中至少一表面。
第十二實施例的取像裝置的詳細參數大小已列於下表12，表12的參數定義皆與第一實施例及第二實施例相同，於此不再贅述。
表12
光學鏡片組成 1MG7G
模造玻璃的 光學鏡片位置 E8
FOV (度) 101
TD (mm) 26
SDmax (mm) 11
E1物側表面
  E1 E2 E3 E4
CT (mm) 0.7 1.7 1.5 4.0
Ns 1.52 1.80 1.83 1.50
Vs 64.2 46.6 42.7 81.6
材料 (玻璃/ 模造玻璃/塑膠) 玻璃 玻璃 玻璃 玻璃
RW 3 1 1 1
Dw (下限/上限) 0.10 0.25   0.05   0.05   0.05
RA 1 3 2 2
Da (下限/上限)   0.20 0.35 0.65 0.20 0.35 0.20 0.35
Ns×Dw×100 15 38   9   9   7
Ns×Da   0.3 0.6 1.2 0.4 0.6 0.3 0.5
Vs×Dw 6.4 16.1   2.3   2.1   4.1
Vs×Da/10   1.3 1.6 3.0 0.9 1.5 1.6 2.9
物側 表面 |SAG| 0.16 1.18 0.37 0.23
|SD|×2 11.34 6.97 7.45 9.26
像側 表面 |SAG| 2.11 0.97 0.40 2.27
|SD|×2 8.01 7.65 7.79 9.66
  E5 E6 E7 E8
CT (mm) 0.7 0.7 3.7 3.3
Ns 1.65 1.95 1.77 1.69
Vs 33.8 17.9 49.6 53.2
材料 (玻璃/ 模造玻璃/塑膠) 玻璃 玻璃 玻璃 模造玻璃
RW 2 1 1 1
Dw (下限/上限) 0.05 0.10   0.05   0.05   0.05
RA 1 1 3 4
Da (下限/上限)   0.20   0.20 0.35 0.65 0.25 0.60
Ns×Dw×100 8 16   10   9   8
Ns×Da   0.3   0.4 0.6 1.2 0.4 1.0
Vs×Dw 1.7 3.4   0.9   2.5   2.7
Vs×Da/10   0.7   0.4 1.7 3.2 1.3 3.2
物側 表面 |SAG| 2.27 1.47 2.46 0.99
|SD|×2 9.66 11.06 10.33 9.25
像側 表面 |SAG| 1.02 2.46 0.13 0.76
|SD|×2 10.52 10.32 9.96 10.45
＜第十三實施例＞
第十三實施例的取像裝置包含成像光學鏡頭以及電子感光元件。成像光學鏡頭由光路的物側至像側依序包含光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、光學鏡片E6、光學鏡片E7、光學鏡片E8、光學鏡片E9以及成像面，而電子感光元件設置於成像光學鏡頭的成像面，其中成像光學鏡頭包含九片光學鏡片（E1、E2、E3、E4、E5、E6、E7、E8、E9），所述九片光學鏡片間無其他內插的光學鏡片，且各二相鄰的光學鏡片之間於光軸上皆具有一空氣間距。
各光學鏡片分別具有物側表面及像側表面。光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、光學鏡片E6、光學鏡片E7及光學鏡片E9的材質為玻璃，光學鏡片E8的材質為模造玻璃，且光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、光學鏡片E6、光學鏡片E7、光學鏡片E8及光學鏡片E9分別包含一抗反射膜，抗反射膜分別位於光學鏡片E1、光學鏡片E2、光學鏡片E3、光學鏡片E4、光學鏡片E5、光學鏡片E6、光學鏡片E7、光學鏡片E8及光學鏡片E9的物側表面及像側表面中至少一表面。
第十三實施例的取像裝置的詳細參數大小已列於下表13，表13的參數定義皆與第一實施例及第二實施例相同，於此不再贅述。
表13
光學鏡片組成 1MG8G
模造玻璃的 光學鏡片位置 E8
FOV (度) 181
TD (mm) 21
SDmax (mm) 11
E1物側表面
  E1 E2 E3 E4
CT (mm) 0.8 0.7 0.7 0.7
Ns 1.90 1.49 2.00 1.95
Vs 31.4 70.4 25.4 17.9
材料 (玻璃/ 模造玻璃/塑膠) 玻璃 玻璃 玻璃 玻璃
RW 1 2 1 1
Dw (下限/上限)   0.05 0.05 0.10   0.05   0.05
RA 1 4 1 1
Da (下限/上限)   0.20 0.65 1.20   0.20   0.20
Ns×Dw×100   10 7 15   10   10
Ns×Da   0.4 1.0 1.8   0.4   0.4
Vs×Dw   1.6 3.5 7.0   1.3   0.9
Vs×Da/10   0.6 4.6 8.5   0.5   0.4
物側 表面 |SAG| 2.18 0.45 0.50 0.10
|SD|×2 11.28 5.60 3.84 3.47
像側 表面 |SAG| 2.65 0.60 0.43 0.03
|SD|×2 5.76 4.38 3.89 3.86
  E5 E6 E7 E8
CT (mm) 2.8 3.3 0.7 4.3
Ns 1.73 1.73 1.95 1.81
Vs 54.7 54.7 17.9 41.0
材料 (玻璃/ 模造玻璃/塑膠) 玻璃 玻璃 玻璃 模造玻璃
RW 1 1 1 1
Dw (下限/上限)   0.05   0.05   0.05   0.05
RA 3 3 1 6
Da (下限/上限) 0.35 0.65 0.35 0.65   0.20 2.20  
Ns×Dw×100   9   9   10 0 9
Ns×Da 0.6 1.1 0.6 1.1   0.4 4.0  
Vs×Dw   2.7   2.7   0.9 0.0 2.1
Vs×Da/10 1.9 3.6 1.9 3.6   0.4 9.0  
物側 表面 |SAG| 0.11 0.46 1.85 1.98
|SD|×2 5.55 7.26 7.24 9.96
像側 表面 |SAG| 0.84 1.86 0.16 0.68
|SD|×2 6.70 7.24 8.11 9.20
  E9  
CT (mm) 0.7
Ns 2.00
Vs 25.4
材料 (玻璃/ 模造玻璃/塑膠) 玻璃
RW 1
Dw (下限/上限)   0.05
RA 1
Da (下限/上限)   0.20
Ns×Dw×100   10
Ns×Da   0.4
Vs×Dw   1.3
Vs×Da/10   0.5
物側 表面 |SAG| 0.95
|SD|×2 9.07
像側 表面 |SAG| 0.00
|SD|×2 8.93
＜抗反射膜配置方式＞
以下針對第一比較例至第三比較例及第一實施例至第三實施例的抗反射膜配置方式做進一步的解說及比較。第一比較例及第二比較例的抗反射膜配置方式已列於下表14。
表14
第一比較例 第二比較例
PVD ALD
層數 材質 折射率 物理 厚度 (nm) 層數 材質 折射率 物理 厚度 (nm)
基材 塑膠 1.55 - 基材 玻璃 1.82 -
1 TiO 2 2.35 14 1 TiO 2 2.31 9
2 SiO 2 1.46 33 2 SiO 2 1.47 63
3 TiO 2 2.35 56 3 TiO 2 2.31 5
4 SiO 2 1.46 9 4 Al 2O 3 漸變 224
5 TiO 2 2.35 42
6 SiO 2 1.46 92
總膜厚 (tTK，nm) 246 總膜厚 (tTK，nm) 301
第三比較例及第一實施例的抗反射膜配置方式已列於下表15。
表15
第三比較例 第一實施例
ALD ALD
層數 材質 折射率 物理 厚度 (nm) 層數 材質 折射率 物理 厚度 (nm)
基材 玻璃 1.82 - 基材 玻璃 1.82 -
1 Al 2O 3 1.64 36 1 Al 2O 3 1.64 36
2 TiO 2 2.31 9 2 TiO 2 2.31 9
3 SiO 2 1.47 63 3 SiO 2 1.47 63
4 TiO 2 2.31 5 4 TiO 2 2.31 5
  5 Al 2O 3 漸變 224
總膜厚 (tTK，nm) 113 總膜厚 (tTK，nm) 337
本揭示內容第一實施例的第一膜層接觸光學鏡片表面，材質為Al 2O 3，膜厚為36 nm，折射率為1.64；第二膜層在第一膜層之上且接觸第一膜層，材質為TiO 2，膜厚為9 nm，折射率為2.31；第三膜層在第二膜層之上且接觸第二膜層，材質為SiO 2，膜厚為63 nm，折射率為1.47；第四膜層在第三膜層之上且接觸第三膜層，材質為TiO 2，膜厚為5 nm，折射率為2.31；第五膜層在第四膜層之上且接觸第四膜層，材質為Al 2O 3，膜厚為224 nm，其折射率成梯度變化，且越遠離光學鏡片折射率越小。
本揭示內容的TNL表示整體低折射率膜層的總膜厚，TL1表示第一膜層的膜厚，TL3表示第三膜層的膜厚，第一實施例的TNL為TL1與TL3的總和，即TNL = TL1+TL3，其滿足條件：TNL = 99 nm。
本揭示內容的TNH表示整體高折射率膜層的總膜厚，TL2表示第二膜層的膜厚，TL4表示第四膜層的膜厚，第一實施例的TNH為TL2與TL4的總和，即TNH = TL2+TL4，其滿足條件：TNH = 14 nm。
本揭示內容的TNG表示漸變折射率膜的膜厚，TL5表示第五膜層的膜厚，第一實施例的TNG即為TL5，故TNG/tTK = TL5/tTK，其滿足條件：TNG/tTK = 0.66。
第二實施例及第三實施例的抗反射膜配置方式已列於下表16，表16的參數定義皆與前述段落相同，於此不再贅述。
表16
第二實施例 第三實施例
ALD ALD
層數 材質 折射率 物理 厚度 (nm) 層數 材質 折射率 物理 厚度 (nm)
基材 玻璃 1.95 - 基材 玻璃 1.68 -
1 Al 2O 3 1.64 29 1 Al 2O 3 1.64 61
2 TiO 2 2.31 13 2 TiO 2 2.31 3
3 SiO 2 1.47 58 3 SiO 2 1.47 66
4 TiO 2 2.31 6 4 TiO 2 2.31 3
5 Al 2O 3 漸變 224 5 Al 2O 3 漸變 224
總膜厚 (tTK，nm) 330 總膜厚 (tTK，nm) 357
TNG/tTK (= TL5/tTK) 0.68 TNG/tTK (= TL5/tTK) 0.63
TNL (= TL1+TL3，nm) 87 TNL (= TL1+TL3，nm) 127
TNH (= TL2+TL4，nm) 19 TNH (= TL2+TL4，nm) 6
上述結果皆以參考波長（reference wavelength）為510 nm且入射角為0度的入射光進行測試。
由表14至表16可以得知，本揭示內容的抗反射膜具有適當的膜層配置，其藉由控制漸變折射率膜的膜厚，維持最佳孔洞結構，有效達到最佳漸變折射率設計，以提升光線在大角度入射的抗反射效果，並避免膜厚不足而降低抗反射效果，更藉由控制高折射率膜層與低折射率膜層達到特定厚度，使反射光容易在間隔的膜層表面產生破壞性干涉現象，有助於提升抗反射效果。
＜抗反射膜的厚度測量結果＞
以下針對第一比較例及第一實施例至第三實施例的抗反射膜進行測量，位於光學鏡片中心處的抗反射膜的總厚度（Tc）以及位於光學鏡片周邊處的抗反射膜的總厚度（Tp）的測量結果已列於下表17。
表17
第一比較例 第一實施例 第二實施例 第三實施例
中心處 總厚度 (Tc) (nm) 周邊處 總厚度 (Tp) (nm) 中心處 總厚度 (Tc) (nm) 周邊處 總厚度 (Tp) (nm) 中心處 總厚度 (Tc) (nm) 周邊處 總厚度 (Tp) (nm) 中心處 總厚度 (Tc) (nm) 周邊處 總厚度 (Tp) (nm)
246.65 208.02 336.60 336.00 330.00 329.00 357.00 356.00
|Tc-Tp|/Tc |Tc-Tp|/Tc |Tc-Tp|/Tc |Tc-Tp|/Tc
18.57% 0.18% 0.30% 0.28%
由表17可以得知，本揭示內容的抗反射膜於光學鏡片中心處及周邊處的總厚度差異極小，證明本揭示內容的抗反射膜厚度相當均勻，不僅有效解決因周邊面形變化劇烈時無法均勻鍍膜而產生反射光的缺陷，也有助於提升光線大角度入射表面的抗反射效果。
＜不同波長的反射率量測結果＞
以下針對第一比較例、第三比較例及第一實施例至第三實施例測量不同波長下的反射率，第一比較例及第三比較例的反射率量測結果已列於下表18。
表18
第一比較例 第三比較例
光學鏡片總數 7 6
包含抗反射膜的光學鏡片位置 (由物側至像側) 6 3
鍍膜表面 物側表面及 像側表面 物側表面及 像側表面
R4060 (%) 1.82 0.76 2.83 3.18
R4070 (%) 1.33 0.70 2.95 3.29
R40100 (%) 1.56 0.89 3.49 3.87
R5060 (%) 0.43 0.66 3.03 3.31
R5070 (%) 0.38 0.62 3.10 3.42
R70100 (%) 1.76 1.07 4.04 4.45
R80100 (%) 2.45 1.33 4.27 4.70
R90100 (%) 4.55 1.97 4.51 4.93
反射率 (%)
波長 (nm) 中心處 (0度) 周邊處 (0度) 中心處 (0度) 中心處 (30度)
400 30.73 2.33 1.82 2.40
405 16.78 1.33 1.97 2.53
410 7.17 0.88 2.11 2.65
415 2.44 0.72 2.23 2.76
420 0.88 0.74 2.34 2.85
425 0.67 0.80 2.44 2.93
430 0.79 0.86 2.53 2.99
435 0.81 0.92 2.60 3.04
440 0.70 0.94 2.66 3.09
445 0.52 0.92 2.72 3.13
450 0.37 0.89 2.77 3.16
455 0.28 0.83 2.81 3.19
460 0.26 0.79 2.85 3.21
465 0.30 0.73 2.88 3.23
470 0.36 0.68 2.91 3.25
475 0.43 0.65 2.93 3.26
480 0.48 0.62 2.95 3.27
485 0.50 0.61 2.97 3.27
490 0.49 0.60 2.98 3.28
495 0.47 0.60 2.99 3.29
500 0.43 0.61 3.00 3.29
505 0.39 0.62 3.00 3.29
510 0.36 0.63 3.01 3.29
515 0.34 0.65 3.01 3.29
520 0.33 0.67 3.01 3.29
525 0.34 0.68 3.01 3.29
530 0.36 0.69 3.02 3.29
535 0.38 0.70 3.02 3.29
540 0.41 0.70 3.02 3.29
545 0.44 0.70 3.02 3.30
550 0.46 0.70 3.02 3.30
555 0.48 0.70 3.02 3.31
560 0.49 0.69 3.03 3.31
565 0.49 0.68 3.03 3.31
570 0.49 0.67 3.03 3.32
575 0.49 0.66 3.03 3.32
580 0.49 0.64 3.04 3.33
585 0.48 0.63 3.04 3.34
590 0.47 0.62 3.05 3.35
595 0.46 0.61 3.06 3.36
600 0.45 0.60 3.06 3.37
605 0.45 0.59 3.07 3.38
610 0.44 0.58 3.08 3.39
615 0.43 0.58 3.09 3.41
620 0.42 0.57 3.10 3.42
625 0.41 0.57 3.11 3.43
630 0.40 0.57 3.12 3.45
635 0.39 0.57 3.13 3.46
640 0.37 0.57 3.14 3.48
645 0.36 0.57 3.16 3.50
650 0.34 0.57 3.17 3.51
655 0.32 0.57 3.19 3.53
660 0.30 0.57 3.20 3.55
665 0.29 0.58 3.22 3.57
670 0.27 0.58 3.23 3.59
675 0.25 0.58 3.25 3.61
680 0.24 0.58 3.27 3.63
685 0.23 0.58 3.29 3.65
690 0.22 0.58 3.30 3.67
695 0.22 0.58 3.32 3.70
700 0.22 0.57 3.34 3.72
705 0.23 0.57 3.36 3.74
710 0.23 0.57 3.38 3.76
715 0.25 0.56 3.40 3.78
720 0.26 0.56 3.42 3.81
725 0.28 0.55 3.44 3.83
730 0.30 0.54 3.47 3.86
735 0.32 0.54 3.49 3.88
740 0.34 0.53 3.51 3.91
745 0.36 0.52 3.54 3.93
750 0.38 0.51 3.56 3.96
755 0.39 0.50 3.58 3.98
760 0.41 0.50 3.61 4.01
765 0.41 0.49 3.63 4.03
770 0.42 0.48 3.65 4.06
775 0.42 0.48 3.68 4.08
780 0.41 0.47 3.70 4.11
785 0.40 0.47 3.72 4.13
790 0.38 0.47 3.75 4.16
795 0.37 0.47 3.77 4.18
800 0.34 0.47 3.79 4.21
805 0.32 0.48 3.82 4.23
810 0.28 0.48 3.84 4.26
815 0.25 0.49 3.87 4.29
820 0.22 0.50 3.89 4.31
825 0.18 0.51 3.92 4.34
830 0.16 0.53 3.94 4.36
835 0.13 0.55 3.97 4.39
840 0.11 0.57 3.99 4.41
845 0.09 0.59 4.02 4.44
850 0.09 0.62 4.04 4.46
855 0.09 0.65 4.07 4.49
860 0.11 0.69 4.09 4.51
865 0.14 0.72 4.11 4.54
870 0.19 0.77 4.14 4.56
875 0.25 0.81 4.16 4.59
880 0.34 0.86 4.19 4.61
885 0.44 0.91 4.21 4.64
890 0.57 0.96 4.23 4.66
895 0.72 1.02 4.26 4.68
900 0.89 1.08 4.28 4.71
905 1.09 1.15 4.31 4.73
910 1.31 1.22 4.33 4.75
915 1.57 1.30 4.35 4.78
920 1.85 1.38 4.38 4.80
925 2.15 1.46 4.40 4.82
930 2.49 1.54 4.42 4.84
935 2.86 1.63 4.44 4.87
940 3.24 1.72 4.47 4.89
945 3.66 1.82 4.49 4.91
950 4.10 1.92 4.51 4.93
955 4.57 2.02 4.53 4.96
960 5.06 2.13 4.55 4.98
965 5.57 2.23 4.58 5.00
970 6.12 2.34 4.60 5.02
975 6.67 2.45 4.62 5.04
980 7.25 2.57 4.64 5.06
985 7.85 2.69 4.66 5.08
990 8.45 2.81 4.68 5.10
995 9.07 2.93 4.70 5.12
1000 9.72 3.05 4.72 5.14
第一實施例至第三實施例的反射率量測結果已列於下表19。
表19
第一實施例 第二實施例 第三實施例
光學鏡片總數 6 6 6
包含抗反射膜的光學鏡片位置 (由物側至像側) 3 2 1
鍍膜表面 物側表面及 像側表面 物側表面及 像側表面 物側表面及 像側表面
R4060 (%) 0.02 0.02 0.03 0.03
R4070 (%) 0.02 0.02 0.03 0.02
R40100 (%) 0.05 0.12 0.05 0.07
R5060 (%) 0.02 0.02 0.02 0.03
R5070 (%) 0.02 0.02 0.03 0.02
R70100 (%) 0.08 0.22 0.06 0.11
R80100 (%) 0.11 0.31 0.08 0.16
R90100 (%) 0.18 0.44 0.14 0.24
反射率 (%)
波長 (nm) 中心處 (0度) 中心處 (30度) 中心處 (0度) 中心處 (0度)
400 0.08 0.00 0.06 0.06
405 0.05 0.00 0.03 0.05
410 0.03 0.01 0.02 0.04
415 0.02 0.01 0.02 0.03
420 0.01 0.02 0.02 0.03
425 0.01 0.03 0.02 0.02
430 0.01 0.03 0.03 0.02
435 0.02 0.04 0.04 0.02
440 0.02 0.04 0.04 0.02
445 0.02 0.04 0.04 0.02
450 0.03 0.04 0.05 0.02
455 0.03 0.04 0.05 0.02
460 0.03 0.04 0.05 0.02
465 0.03 0.04 0.05 0.02
470 0.03 0.04 0.05 0.02
475 0.03 0.03 0.05 0.02
480 0.03 0.03 0.05 0.02
485 0.03 0.03 0.04 0.02
490 0.03 0.03 0.04 0.02
495 0.03 0.02 0.03 0.02
500 0.03 0.02 0.03 0.02
505 0.03 0.02 0.03 0.02
510 0.03 0.02 0.02 0.02
515 0.02 0.02 0.02 0.02
520 0.02 0.02 0.02 0.03
525 0.02 0.02 0.01 0.03
530 0.02 0.02 0.01 0.03
535 0.02 0.01 0.01 0.03
540 0.02 0.02 0.01 0.03
545 0.01 0.02 0.01 0.03
550 0.01 0.02 0.01 0.03
555 0.01 0.02 0.01 0.03
560 0.01 0.02 0.01 0.03
565 0.01 0.02 0.01 0.03
570 0.01 0.02 0.01 0.03
575 0.01 0.02 0.02 0.03
580 0.01 0.02 0.02 0.03
585 0.02 0.02 0.02 0.03
590 0.02 0.02 0.02 0.03
595 0.02 0.02 0.03 0.03
600 0.02 0.03 0.03 0.03
605 0.02 0.03 0.03 0.03
610 0.02 0.03 0.03 0.03
615 0.02 0.03 0.03 0.03
620 0.02 0.03 0.04 0.03
625 0.02 0.03 0.04 0.03
630 0.02 0.03 0.04 0.03
635 0.02 0.03 0.04 0.02
640 0.02 0.03 0.04 0.02
645 0.02 0.03 0.04 0.02
650 0.02 0.03 0.04 0.02
655 0.02 0.03 0.04 0.02
660 0.02 0.03 0.04 0.02
665 0.02 0.03 0.04 0.02
670 0.02 0.03 0.04 0.02
675 0.02 0.03 0.04 0.02
680 0.02 0.03 0.04 0.01
685 0.02 0.03 0.04 0.01
690 0.02 0.03 0.04 0.01
695 0.02 0.03 0.04 0.01
700 0.02 0.03 0.04 0.01
705 0.02 0.03 0.03 0.01
710 0.02 0.03 0.03 0.01
715 0.02 0.03 0.03 0.01
720 0.01 0.03 0.03 0.01
725 0.01 0.03 0.03 0.01
730 0.01 0.03 0.02 0.01
735 0.01 0.03 0.02 0.01
740 0.01 0.03 0.02 0.01
745 0.01 0.04 0.02 0.01
750 0.01 0.04 0.01 0.01
755 0.01 0.04 0.01 0.01
760 0.01 0.04 0.01 0.01
765 0.01 0.05 0.01 0.01
770 0.01 0.05 0.01 0.01
775 0.01 0.05 0.01 0.02
780 0.01 0.06 0.00 0.02
785 0.01 0.06 0.00 0.02
790 0.01 0.07 0.00 0.02
795 0.01 0.07 0.00 0.03
800 0.01 0.08 0.00 0.03
805 0.01 0.08 0.00 0.03
810 0.01 0.09 0.00 0.04
815 0.01 0.10 0.00 0.04
820 0.01 0.11 0.00 0.04
825 0.02 0.11 0.00 0.05
830 0.02 0.12 0.00 0.05
835 0.02 0.13 0.00 0.06
840 0.02 0.14 0.01 0.06
845 0.03 0.15 0.01 0.07
850 0.03 0.16 0.01 0.07
855 0.03 0.17 0.01 0.08
860 0.04 0.18 0.02 0.08
865 0.04 0.19 0.02 0.09
870 0.05 0.20 0.02 0.10
875 0.05 0.21 0.03 0.10
880 0.06 0.23 0.03 0.11
885 0.06 0.24 0.04 0.12
890 0.07 0.25 0.04 0.13
895 0.08 0.27 0.05 0.13
900 0.08 0.28 0.05 0.14
905 0.09 0.29 0.06 0.15
910 0.10 0.31 0.07 0.16
915 0.11 0.32 0.07 0.17
920 0.12 0.34 0.08 0.18
925 0.12 0.35 0.09 0.19
930 0.13 0.37 0.10 0.20
935 0.14 0.39 0.11 0.21
940 0.15 0.40 0.12 0.22
945 0.16 0.42 0.13 0.23
950 0.17 0.44 0.14 0.24
955 0.18 0.46 0.15 0.25
960 0.20 0.47 0.16 0.26
965 0.21 0.49 0.17 0.27
970 0.22 0.51 0.18 0.28
975 0.23 0.53 0.19 0.29
980 0.24 0.55 0.21 0.31
985 0.26 0.57 0.22 0.32
990 0.27 0.59 0.23 0.33
995 0.28 0.61 0.25 0.34
1000 0.30 0.63 0.26 0.35
請一併參照第2圖至第6圖，第2圖為第一比較例的反射率與波長的關係圖，第3圖為第三比較例的反射率與波長的關係圖，第4圖為第一實施例的反射率與波長的關係圖，第5圖為第二實施例的反射率與波長的關係圖，第6圖為第三實施例的反射率與波長的關係圖。由表18、表19及第2圖至第6圖可以得知，本揭示內容的取像裝置可以有效提供廣域波長範圍的抗反射效果，並解決光線在大角度入射的嚴重反射問題。
＜抗氧化性質測試＞
請一併參照第7A圖及第7B圖，第7A圖為第二比較例的光學鏡片基材表面品質圖，第7B圖為第一實施例的光學鏡片基材表面品質圖。從第7A圖及第7B圖中可以看出，第二比較例的光學鏡片基材已明顯氧化，表面呈現斑點缺陷，而第一實施例的光學鏡片基材具抗氧化效果，表面品質優異，說明本揭示內容的取像裝置的抗反射膜可以提供光學鏡片基材抗氧化的功效。
＜第十四實施例＞
請參照第8圖，其繪示依照本揭示內容第十四實施例的一種取像裝置100的立體示意圖。由第8圖可知，第十四實施例的取像裝置100係為一相機模組，取像裝置100包含成像鏡頭101、驅動裝置組102以及電子感光元件103，其中成像鏡頭101包含本揭示內容的成像光學鏡頭以及一承載成像光學鏡頭的鏡筒（未另標號）。取像裝置100利用成像鏡頭101聚光且對被攝物進行攝像並配合驅動裝置組102進行影像對焦，最後成像於電子感光元件103，並將影像資料輸出。
驅動裝置組102可為自動對焦模組，其驅動方式可使用如音圈馬達、微機電系統、壓電系統、或記憶金屬等驅動系統。驅動裝置組102可讓成像光學鏡頭取得較佳的成像位置，可提供被攝物於不同物距的狀態下，皆能拍攝清晰影像。
取像裝置100可搭載一感光度佳及低雜訊的電子感光元件103（如CMOS、CCD）設置於成像光學鏡頭的成像面，可真實呈現成像光學鏡頭的良好成像品質。此外，取像裝置100更可包含影像穩定模組104，其可為加速計、陀螺儀或霍爾元件（Hall Effect Sensor）等動能感測元件，而第十四實施例中，影像穩定模組104為陀螺儀，但不以此為限。藉由調整成像光學鏡頭不同軸向的變化以補償拍攝瞬間因晃動而產生的模糊影像，進一步提升動態以及低照度場景拍攝的成像品質，並提供例如光學防手震（Optical Image Stabilization；OIS）、電子防手震（Electronic Image Stabilization；EIS）等進階的影像補償功能。
＜第十五實施例＞
請參照第9A圖、第9B圖及第9C圖，其中第9A圖繪示依照本揭示內容第十五實施例的一種電子裝置200的一側的示意圖，第9B圖繪示依照第9A圖中電子裝置200的另一側的示意圖，第9C圖繪示依照第9A圖中電子裝置200的系統示意圖。由第9A圖、第9B圖及第9C圖可知，第十五實施例的電子裝置200係一智慧型手機，電子裝置200包含取像裝置100、110、120、130、140、閃光燈模組201、對焦輔助模組202、影像訊號處理器203（Image Signal Processor；ISP）、使用者介面204以及影像軟體處理器205，其中取像裝置120、130、140為前置鏡頭。當使用者透過使用者介面204對被攝物206進行拍攝，電子裝置200利用取像裝置100、110、120、130、140聚光取像，啟動閃光燈模組201進行補光，並使用對焦輔助模組202提供的被攝物物距資訊進行快速對焦，再加上影像訊號處理器203以及影像軟體處理器205進行影像最佳化處理，來進一步提升影像鏡頭所產生的影像品質。對焦輔助模組202可採用紅外線或雷射對焦輔助系統來達到快速對焦，使用者介面204可採用觸控螢幕或實體拍攝按鈕，配合影像處理軟體的多樣化功能進行影像拍攝以及影像處理。
第十五實施例中的取像裝置100、110、120、130、140中至少一者可包含本揭示內容的成像光學鏡頭，且可與前述第十四實施例中的取像裝置100相同或具有類似的結構，在此不另贅述。詳細來說，第十五實施例中的取像裝置100、110可分別為廣角取像裝置與超廣角取像裝置，亦可分別為廣角取像裝置與望遠取像裝置，而取像裝置120、130、140可分別為廣角取像裝置、超廣角取像裝置以及TOF模組（Time-Of-Flight；飛時測距模組），但並不以此配置為限。另外，取像裝置110、120、130、140與其他構件的連接關係皆可與第9C圖中繪示的取像裝置100相同，或依照取像裝置的類型適應性調整，在此不另繪示及詳述。
＜第十六實施例＞
請參照第10圖，其繪示依照本揭示內容第十六實施例的一種電子裝置300的一側的示意圖。第十六實施例的電子裝置300係一智慧型手機，電子裝置300包含取像裝置310、320、330以及閃光燈模組301。
第十六實施例的電子裝置300可包含與前述第十五實施例中相同或相似的元件，且取像裝置310、320、330與其他元件的連接關係也可與第十五實施例所揭露的相同或相似，在此不另贅述。第十六實施例中的取像裝置310、320、330皆可包含本揭示內容的成像光學鏡頭，且皆可與前述第十四實施例中的取像裝置100相同或具有類似的結構，在此不另贅述。詳細來說，取像裝置310可為超廣角取像裝置，取像裝置320可為廣角取像裝置，取像裝置330可為望遠取像裝置（可包含光路轉折元件），或另可為其他種類的取像裝置，並不限於此配置方式。
＜第十七實施例＞
請參照第11圖，其繪示依照本揭示內容第十七實施例的一種電子裝置400的一側的示意圖。第十七實施例的電子裝置400係一智慧型手機，電子裝置400包含取像裝置410、420、430、440、450、460、470、480、490以及閃光燈模組401。
第十七實施例的電子裝置400可包含與前述第十五實施例中相同或相似的元件，且取像裝置410、420、430、440、450、460、470、480、490以及閃光燈模組401與其他元件的連接關係也可與第十五實施例所揭露的相同或相似，在此不另贅述。第十七實施例中的取像裝置410、420、430、440、450、460、470、480、490皆可包含本揭示內容的成像光學鏡頭，且皆可與前述第十四實施例中的取像裝置100相同或具有類似的結構，在此不另贅述。
詳細來說，取像裝置410、420可分別為超廣角取像裝置，取像裝置430、440可分別為廣角取像裝置，取像裝置450、460可分別為望遠取像裝置，取像裝置470、480可分別為望遠取像裝置（可包含光路轉折元件），取像裝置490可為TOF模組，或另可為其他種類的取像裝置，並不限於此配置方式。
＜第十八實施例＞
請參照第12A圖以及第12B圖，其中第12A圖繪示依照本揭示內容第十八實施例的一種電子裝置500的一側的示意圖，第12B圖繪示依照第12A圖中電子裝置500的另一側的示意圖。由第12A圖以及第12B圖可知，第十八實施例的電子裝置500係一智慧型手機，電子裝置500包含取像裝置510、520、530、540以及使用者介面504。
第十八實施例的電子裝置500可包含與前述第十五實施例中相同或相似的元件，且取像裝置510、520、530、540以及使用者介面504與其他元件的連接關係也可與第十五實施例所揭露的相同或相似，在此不另贅述。詳細來說，取像裝置510可對應電子裝置外側的一非圓形開口進行取像，取像裝置520、530、540則分別為望遠取像裝置、廣角取像裝置以及超廣角取像裝置，或另可為其他種類的取像裝置，並不限於此配置方式。
＜第十九實施例＞
請參照第13A圖，其繪示依照本揭示內容第十九實施例的車輛工具600的上視圖。如第13A圖所示，車輛工具600包含複數相機模組610。相機模組610可包含前述任一實施例的成像光學鏡頭及一電子感光元件（圖未繪示），且電子感光元件設置於成像光學鏡頭的一成像面（圖未繪示），但本揭示內容不以此為限。
請配合參照第13B圖及第13C圖，其中第13B圖繪示依照第13A圖的車輛工具600的局部放大示意圖，第13C圖繪示依照第13A圖的車輛工具600的另一示意圖。如第13A圖及第13B圖所示，相機模組610可設置於車輛工具600內部的空間。具體而言，所述相機模組610分別設置於靠近車內後視鏡的位置以及靠近後車窗的位置。再者，相機模組610可分別設置於車輛工具600左右後照鏡的非鏡面。如第13C圖所示，透過相機模組610的配置，有助於駕駛人藉此獲得駕駛艙以外的外部空間資訊，例如是外部空間資訊S1、S2、S3、S4，但本揭示內容不以此為限。藉此，可提供更多視角以減少死角，進而有助於提升行車安全。
本揭示內容以多層鍍膜技術應用在成像光學鏡頭的光學鏡片或光學元件表面上，以高低折射率膜與漸變折射率膜的組合配置發揮優異的抗反射效果，減少光線大角度入射光學鏡片表面時造成的光學鏡片周邊區域產生嚴重反射的問題，有效提升成像光學鏡頭的透光度，並達到最佳抗反射效果。
本揭示內容利用均勻緻密的抗反射膜，顯著提升材料的抗氧化能力，達到保護光學鏡片與光學元件的效果。本揭示內容藉由原子層沉積技術，達成精準控制膜厚與維持整體鍍膜均勻度，適用於曲面設計自由度高的高階成像光學鏡頭。
本揭示內容藉由高低折射率膜的複數個高折射率膜層與低折射率膜層交替堆疊，利用光學干涉現象，以折射率的差異與適當膜層厚度的調配設計，使光線在膜層表面以破壞性干涉達到減少反射光的目的，並藉由漸變折射率膜中尺寸漸變的孔洞結構及其所具有的梯度變化折射率，有效提供廣域波長範圍的抗反射效果，並解決光線在大角度入射的嚴重反射問題。
本揭示內容藉由原子層沉積技術，達到原子級尺度的精準度，不再受限於成像光學鏡頭表面的幾何形狀，能精準控制膜厚與均勻鍍膜能力，有助於提升光學鏡片面形設計的變化自由度，並在成像光學鏡頭表面製鍍均勻緻密的抗反射膜，能夠有效的阻隔空氣中的水氧進一步接觸成像光學鏡頭表面，使耐水、耐酸性較不足的光學鏡片具顯著抗氧化能力，有助於光學鏡片與光學元件品質提升，以滿足需具有高成像品質的成像光學鏡頭。
雖然本揭示內容已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本揭示內容，任何熟習此技藝者，在不脫離本揭示內容的精神和範圍內，當可作各種更動與潤飾，因此本揭示內容的保護範圍視後附的申請專利範圍所界定者為準。
200,300,400,500:電子裝置 1,100,110,120,130,140,310,320,330,410,420,430,440,450,460,470,480,490,510,520,530,540:取像裝置 101:成像鏡頭 102:驅動裝置組 103:電子感光元件 104:影像穩定模組 201,301,401:閃光燈模組 202:對焦輔助模組 203:影像訊號處理器 204,504:使用者介面 205:影像軟體處理器 206:被攝物 600:車輛工具 610:相機模組 S1,S2,S3,S4:外部空間資訊 ST:光圈 IMG:成像面 IS:電子感光元件 Tc:位於光學鏡片中心處的抗反射膜的總厚度 Tp:位於光學鏡片周邊處的抗反射膜的總厚度 tTK:抗反射膜的總膜厚 TNG:漸變折射率膜的膜厚 TNH:高折射率膜層的總膜厚 TNL:低折射率膜層的總膜厚 TL1:接觸光學鏡片的低折射率膜層的膜厚 TL2:第二膜層的膜厚 TL3:第三膜層的膜厚 TL4:第四膜層的膜厚 TL5:第五膜層的膜厚 TD:第一片光學鏡片的物側表面至最後一片光學鏡片的像側表面的距離 NH:高折射率膜層的折射率 NL:低折射率膜層的折射率 SAG:光學鏡片的表面於最大有效徑處的水平位移 SD:光學鏡片的表面的有效徑 SDmax:所有光學鏡片表面中有效徑的最大值 R4060:光學鏡片於波長400 nm至600 nm的平均反射率 R4070:光學鏡片於波長400 nm至700 nm的平均反射率 R40100:光學鏡片於波長400 nm至1000 nm的平均反射率 R5060:光學鏡片於波長500 nm至600 nm的平均反射率 R5070:光學鏡片於波長500 nm至700 nm的平均反射率 R70100:光學鏡片於波長700 nm 至1000 nm的平均反射率 R80100:光學鏡片於波長800 nm 至1000 nm的平均反射率 R90100:光學鏡片於波長900 nm 至1000 nm的平均反射率 RW:光學鏡片的耐水等級 RA:光學鏡片的耐酸等級 Vs:光學鏡片的色散係數 Ns:光學鏡片的折射率 Da:光學鏡片的耐酸性 Dw:光學鏡片的耐水性 FOV:成像光學鏡頭的全視角 CT:光學鏡片於光軸上的厚度 E1,E2,E3,E4,E5,E6,E7,E8,E9:光學鏡片 C1,C2:抗反射膜 FL1,FL2:濾光元件
為讓本揭示內容的上述和其他目的、特徵、優點與實施例能更明顯易懂，所附圖式的說明如下： 第1圖為依照本揭示內容第一實施例的一種取像裝置的示意圖； 第2圖為第一比較例的反射率與波長的關係圖； 第3圖為第三比較例的反射率與波長的關係圖； 第4圖為第一實施例的反射率與波長的關係圖； 第5圖為第二實施例的反射率與波長的關係圖； 第6圖為第三實施例的反射率與波長的關係圖； 第7A圖為第二比較例的光學鏡片基材表面品質圖； 第7B圖為第一實施例的光學鏡片基材表面品質圖； 第8圖繪示依照本揭示內容第十四實施例的一種取像裝置的立體示意圖； 第9A圖繪示依照本揭示內容第十五實施例的一種電子裝置的一側的示意圖； 第9B圖繪示依照第9A圖中電子裝置的另一側的示意圖； 第9C圖繪示依照第9A圖中電子裝置的系統示意圖； 第10圖繪示依照本揭示內容第十六實施例的一種電子裝置的一側的示意圖； 第11圖繪示依照本揭示內容第十七實施例的一種電子裝置的一側的示意圖； 第12A圖繪示依照本揭示內容第十八實施例的一種電子裝置的一側的示意圖； 第12B圖繪示依照第12A圖中電子裝置的另一側的示意圖； 第13A圖繪示依照本揭示內容第十九實施例的車輛工具的上視圖； 第13B圖繪示依照第13A圖的車輛工具的局部放大示意圖；以及 第13C圖繪示依照第13A圖的車輛工具的另一示意圖。
1:取像裝置
ST:光圈
IMG:成像面
IS:電子感光元件
E1,E2,E3,E4,E5:光學鏡片
C1,C2:抗反射膜
FL1,FL2:濾光元件

Claims (24)

  1. 一種成像光學鏡頭，包含： 至少一光學鏡片； 其中，該光學鏡片的材質為玻璃，該光學鏡片包含一抗反射膜，該抗反射膜位於該光學鏡片的至少一表面； 其中，該抗反射膜包含一高低折射率膜與一漸變折射率膜，該高低折射率膜配置在該光學鏡片與該漸變折射率膜之間； 其中，該高低折射率膜包含至少一高折射率膜層與至少一低折射率膜層，該高折射率膜層與該低折射率膜層交替堆疊配置，該低折射率膜層接觸該光學鏡片，且該低折射率膜層的主要材質為氧化鋁； 其中，該漸變折射率膜包含複數個孔洞，遠離該光學鏡片的該些孔洞相對大於靠近該光學鏡片的該些孔洞，且該漸變折射率膜的主要材質為金屬氧化物； 其中，位於該光學鏡片中心處的該抗反射膜的總厚度為Tc，位於該光學鏡片周邊處的該抗反射膜的總厚度為Tp，其滿足下列條件： 0% ＜ |Tc-Tp|/Tc ≤ 15.0%。
  2. 如請求項1所述的成像光學鏡頭，其中該抗反射膜的總膜厚為tTK，其滿足下列條件： 200 nm ≤ tTK ≤ 800 nm。
  3. 如請求項1所述的成像光學鏡頭，其中該高折射率膜層的折射率為NH，其滿足下列條件： 2.00 ≤ NH。
  4. 如請求項1所述的成像光學鏡頭，其中該低折射率膜層的折射率為NL，其滿足下列條件： NL ≤ 1.80。
  5. 如請求項1所述的成像光學鏡頭，其中該高折射率膜層的總膜厚為TNH，其滿足下列條件： 1 nm ≤ TNH ≤ 60 nm。
  6. 如請求項1所述的成像光學鏡頭，其中該低折射率膜層的總膜厚為TNL，其滿足下列條件： 1 nm ≤ TNL ≤ 300 nm。
  7. 如請求項1所述的成像光學鏡頭，其中接觸該光學鏡片的該低折射率膜層的膜厚為TL1，其滿足下列條件： 10 nm ≤ TL1 ≤ 100 nm。
  8. 如請求項1所述的成像光學鏡頭，其中該漸變折射率膜的膜厚為TNG，該抗反射膜的總膜厚為tTK，其滿足下列條件： 0.45 ≤ TNG/tTK ≤ 0.85。
  9. 如請求項1所述的成像光學鏡頭，其中該漸變折射率膜的材質為氧化鋁。
  10. 如請求項1所述的成像光學鏡頭，其中位於該光學鏡片中心處的該抗反射膜的總厚度為Tc，位於該光學鏡片周邊處的該抗反射膜的總厚度為Tp，其滿足下列條件： 0% ＜ |Tc-Tp|/Tc ≤ 10.0%。
  11. 如請求項1所述的成像光學鏡頭，其中該光學鏡片的表面於最大有效徑處的水平位移為SAG，該抗反射膜的總膜厚為tTK，其滿足下列條件： 0 ≤ |SAG|/tTK ≤ 10.0。
  12. 如請求項1所述的成像光學鏡頭，其中該光學鏡片於波長400 nm至1000 nm的平均反射率為R40100，其滿足下列條件： 0% ＜ R40100 ≤ 1.00%。
  13. 如請求項1所述的成像光學鏡頭，其中該光學鏡片於波長400 nm至700 nm的平均反射率為R4070，其滿足下列條件： 0% ＜ R4070 ≤ 1.00%。
  14. 如請求項1所述的成像光學鏡頭，其中該光學鏡片於波長700 nm 至1000 nm的平均反射率為R70100，其滿足下列條件： 0% ＜ R70100 ≤ 1.00%。
  15. 如請求項1所述的成像光學鏡頭，其中該光學鏡片的色散係數為Vs，其滿足下列條件： 35.0 ≤ Vs ≤ 85.0。
  16. 如請求項15所述的成像光學鏡頭，其中該光學鏡片的折射率為Ns，其滿足下列條件： Ns ≤ 1.85。
  17. 如請求項1所述的成像光學鏡頭，其中該光學鏡片的耐酸性為Da，該光學鏡片的色散係數為Vs，其滿足下列條件： 0.6 ≤ Vs×Da/10 ≤ 13.0。
  18. 如請求項14所述的成像光學鏡頭，其中該光學鏡片的耐酸性為Da，該光學鏡片的折射率為Ns，其滿足下列條件： 0.1 ≤ Ns×Da ≤ 4.5。
  19. 如請求項1所述的成像光學鏡頭，其中該光學鏡片的耐水性為Dw，該光學鏡片的色散係數為Vs，其滿足下列條件： 0 ＜ Vs×Dw ≤ 10.0。
  20. 如請求項16所述的成像光學鏡頭，其中該光學鏡片的耐水性為Dw，該光學鏡片的折射率為Ns，其滿足下列條件： 0 ＜ Ns×Dw×100 ≤ 50。
  21. 如請求項1所述的成像光學鏡頭，更包含至少一光學元件，該光學元件的材質為玻璃，該光學元件包含一抗反射膜，該光學元件的該抗反射膜位於該光學元件的至少一表面，且該光學元件為一稜鏡。
  22. 一種取像裝置，包含： 如請求項1所述的成像光學鏡頭；以及 一電子感光元件，設置於該成像光學鏡頭的一成像面。
  23. 一種電子裝置，係為一車用裝置，該電子裝置包含： 如請求項22所述的取像裝置。
  24. 一種成像光學鏡頭，包含： 至少二光學鏡片；以及 至少一光學元件； 其中，至少一該光學鏡片包含一長波長吸收材料，包含該長波長吸收材料的該光學鏡片由一塑膠材料所製成，該長波長吸收材料均勻混合於該塑膠材料中； 其中，至少一該光學鏡片包含一長波長濾除鍍膜，該長波長濾除鍍膜位於該光學鏡片的物側表面或像側表面，該長波長濾除鍍膜包含複數個高折射率膜層與複數個低折射率膜層，且該長波長濾除鍍膜的該些高折射率膜層與該長波長濾除鍍膜的該些低折射率膜層交替堆疊配置； 其中，該光學元件的材質為玻璃，該光學元件包含一抗反射膜，該光學元件的該抗反射膜位於該光學元件的至少一表面，且該光學元件為一平板玻璃； 其中，該光學元件的該抗反射膜包含一高低折射率膜與一漸變折射率膜，該高低折射率膜配置在該光學元件與該漸變折射率膜之間； 其中，該高低折射率膜包含至少一高折射率膜層與至少一低折射率膜層，該高低折射率膜的該高折射率膜層與該高低折射率膜的該低折射率膜層交替堆疊配置，該高低折射率膜的該低折射率膜層接觸該光學元件，且該高低折射率膜的該低折射率膜層的主要材質為氧化鋁； 其中，該漸變折射率膜包含複數個孔洞，遠離該光學元件的該些孔洞相對大於靠近該光學元件的該些孔洞，且該漸變折射率膜的主要材質為金屬氧化物。
TW111129234A 2021-09-01 2022-08-03 成像光學鏡頭、取像裝置及電子裝置 TW202314298A (zh)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US17/820,604 US20230073044A1 (en) 2021-09-01 2022-08-18 Optical imaging lens assembly, imaging apparatus and electronic device
BR102022017371-0A BR102022017371A2 (pt) 2021-09-01 2022-08-30 Conjunto de lentes de imagem óptica, aparelho de imagem e dispositivo eletrônico
CN202211061380.0A CN115728846A (zh) 2021-09-01 2022-09-01 成像光学镜头、取像装置及电子装置
EP22193435.9A EP4145187A3 (en) 2021-09-01 2022-09-01 Optical imaging lens assembly, imaging apparatus and electronic device
CN202222313547.XU CN218383357U (zh) 2021-09-01 2022-09-01 成像光学镜头、取像装置及电子装置

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US202163239434P 2021-09-01 2021-09-01
US63/239,434 2021-09-01

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW202314298A true TW202314298A (zh) 2023-04-01

Family

ID=86943372

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW111129234A TW202314298A (zh) 2021-09-01 2022-08-03 成像光學鏡頭、取像裝置及電子裝置

Country Status (1)

Country Link
TW (1) TW202314298A (zh)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI432770B (zh) 光學系統
TWI236547B (en) Optical multilayer-film filter, method for fabricating optical multilayer-film filter, optical low-pass filter, and electronic apparatus
TWI789043B (zh) 攝影機構造
JP4768995B2 (ja) 光学フィルタおよび撮像装置
KR102104081B1 (ko) 카메라 구조, 정보 통신 기기
CN212255765U (zh) 成像镜头、相机模块及电子装置
JP2015004919A (ja) 反射防止膜及びそれを有する光学素子
CN107615101A (zh) 防反射膜、光学元件以及光学系统
JP5885595B2 (ja) 反射防止膜、および、それを有する光学素子、光学系、光学機器
CN111399095A (zh) 光学元件、制造光学元件的方法和光学镜头
TW202314298A (zh) 成像光學鏡頭、取像裝置及電子裝置
CN218350605U (zh) 光学镜头、取像装置及电子装置
CN218383357U (zh) 成像光学镜头、取像装置及电子装置
JP2002014203A (ja) 反射防止膜及びそれを用いた光学部材
TWI823325B (zh) 光學鏡頭、取像裝置及電子裝置
US20230305200A1 (en) Low reflection layer, optical lens assembly, imaging apparatus and electronic device
TWI793836B (zh) 成像鏡頭與電子裝置
US20240118462A1 (en) Bokeh filter membrane, imaging optical lens assembly, imaging apparatus and electronic device
CN221101080U (zh) 折反射光学膜、成像光学镜头、取像装置及电子装置
TW202409612A (zh) 光學鏡頭、取像裝置及電子裝置
TW202415984A (zh) 散景濾光膜、成像光學鏡頭、取像裝置及電子裝置
EP4345525A2 (en) Catadioptric optical membrane, imaging optical lens assembly, imaging apparatus and electronic device
TW202415982A (zh) 折反射光學膜、成像光學鏡頭、取像裝置及電子裝置
JP2019039961A (ja) 反射防止膜を有する光学系および光学装置
JP2002014204A (ja) 反射防止膜及びそれを用いた光学部材