CN218350605U - 光学镜头、取像装置及电子装置 - Google Patents

光学镜头、取像装置及电子装置 Download PDF

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CN218350605U CN202221200403.7U CN202221200403U CN218350605U CN 218350605 U CN218350605 U CN 218350605U CN 202221200403 U CN202221200403 U CN 202221200403U CN 218350605 U CN218350605 U CN 218350605U
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Abstract

本揭示内容提供一种光学镜头、取像装置及电子装置，光学镜头包含至少二光学镜片以及至少一反射元件。反射元件由塑胶材料所制成，反射元件包含一反射镀膜，反射镀膜位于反射元件的一表面。反射镀膜包含不同材质的至少三膜层，其中三膜层分别由第一材料、第二材料及第三材料所制成，第一材料主要包含银，第二材料主要包含钛，第三材料主要包含铬氧化物，且第一材料及第二材料制成的膜层位于第三材料制成的膜层与反射元件之间。借此，反射元件具有高反射效果的膜层组合，且具有优异高效率反射光线的转折光线路径的能力，更可以有效避免反射镀膜产生膜裂问题。

Description

光学镜头、取像装置及电子装置
技术领域
本揭示内容是有关于一种光学镜头及取像装置，且特别是有关于一种应用在电子装置上且具有高反射效果的光学镜头及取像装置。
背景技术
传统反射元件的反射镀膜容易因膜层的材料配置不当或环境因素，而导致膜裂缺陷的问题，且反射镀膜不论是在可见光区域或是红外线区域，其反射效率均不足，无法达到符合需求的反射效果，因此亟需发展具有特定膜层组合配置的技术来克服上述问题。
实用新型内容
本揭示内容提供的光学镜头、取像装置及电子装置，透过配置具有高反射效果的膜层组合，具有优异高效率反射光线的转折光线路径的能力，更可以有效避免反射镀膜产生膜裂问题。
依据本揭示内容一实施方式提供一种光学镜头，其包含至少二光学镜片以及至少一反射元件。反射元件为塑胶反射元件，反射元件包含一反射镀膜，反射镀膜位于反射元件的一表面。反射镀膜包含不同材质的至少三膜层，其中三膜层分别由第一材料、第二材料及第三材料所制成，第一材料为银，第二材料为钛，第三材料为铬氧化物，且第一材料及第二材料制成的膜层位于第三材料制成的膜层与反射元件之间。反射镀膜于波长800nm至1000nm的平均反射率为R80100，其满足下列条件：97.5％≤R80100。
依据本揭示内容一实施方式提供一种光学镜头，第二材料制成的膜层位于第三材料及第一材料制成的膜层之间。
依据本揭示内容一实施方式提供一种光学镜头，反射镀膜还包含由一第四材料所制成的一膜层，第四材料为硅化合物，且第三材料制成的膜层位于第四材料及第一材料制成的膜层之间。
依据本揭示内容一实施方式提供一种光学镜头，反射镀膜还包含由一第五材料所制成的一膜层，第五材料为金属氧化物，且第五材料制成的膜层位于第一材料制成的膜层与反射元件之间。
依据本揭示内容一实施方式提供一种光学镜头，反射镀膜于波长400nm 至1000nm的平均反射率为R40100，其满足下列条件：98.0％≤R40100。
依据本揭示内容一实施方式提供一种光学镜头，反射镀膜于波长850nm 的反射率为R85，其满足下列条件：98.0％≤R85。
依据本揭示内容一实施方式提供一种光学镜头，反射镀膜的总层数为tLs，其满足下列条件：4≤tLs。
依据本揭示内容一实施方式提供一种光学镜头，反射元件位于光学镜头的物侧或像侧。
依据本揭示内容一实施方式提供一种光学镜头，反射元件位于所述至少二光学镜片之间。
依据本揭示内容一实施方式提供一种光学镜头，反射元件为一棱镜或一反射镜。
依据本揭示内容一实施方式提供一种光学镜头，反射元件可水平移动地或可旋转地设置于光学镜头的像侧。
依据本揭示内容一实施方式提供一种取像装置，其包含如前述实施方式的光学镜头以及一电子感光元件，且电子感光元件设置于光学镜头的一成像面。
依据本揭示内容一实施方式提供一种电子装置，其为一移动装置，且电子装置包含如前述实施方式的取像装置。
当R80100满足上述条件时，可以具有优异的反射近红外线效果。
附图说明
为让本揭示内容的上述和其他目的、特征、优点与实施例能更明显易懂，所附附图的说明如下：
图1A为比较例的反射元件的表面品质图；
图1B为第一实施例的反射元件的表面品质图；
图2为第一实施例的反射元件的反射率与波长的关系图；
图3A绘示依照本揭示内容的光路转折元件在光学镜头中的一种配置关系示意图；
图3B绘示依照本揭示内容的光路转折元件在光学镜头中的另一种配置关系示意图；
图3C绘示依照本揭示内容的二光路转折元件在光学镜头中的一种配置关系示意图；
图3D绘示依照本揭示内容的二光路转折元件在光学镜头中的另一种配置关系示意图；以及
图3E绘示依照本揭示内容的光路转折元件在光学镜头中的又一种配置关系示意图。
【符号说明】
R38105:反射镀膜于波长380nm至1050nm的平均反射率
R4050:反射镀膜于波长400nm至500nm的平均反射率
R4060:反射镀膜于波长400nm至600nm的平均反射率
R4070:反射镀膜于波长400nm至700nm的平均反射率
R40100:反射镀膜于波长400nm至1000nm的平均反射率
R65105:反射镀膜于波长650nm至1050nm的平均反射率
R70100:反射镀膜于波长700nm至1000nm的平均反射率
R80100:反射镀膜于波长800nm至1000nm的平均反射率
R90100:反射镀膜于波长900nm至1000nm的平均反射率
R45:反射镀膜于波长450nm的反射率
R55:反射镀膜于波长550nm的反射率
R65:反射镀膜于波长650nm的反射率
R75:反射镀膜于波长750nm的反射率
R85:反射镀膜于波长850nm的反射率
R95:反射镀膜于波长950nm的反射率
R105:反射镀膜于波长1050nm的反射率
tLs:反射镀膜的总层数
Tsi:第四材料制成的膜层厚度
Tcr:第三材料制成的膜层厚度
Tti:第二材料制成的膜层厚度
Tag:第一材料制成的膜层厚度
Tmo:第五材料制成的膜层厚度
N4:第四材料的折射率
N3:第三材料的折射率
N2:第二材料的折射率
N5:第五材料的折射率
Ns:反射元件的折射率
LF,LF1,LF2:光路转折元件
IMG:成像面
OA1:第一光轴
OA2:第二光轴
OA3:第三光轴
FL:滤光元件
LG:透镜群
具体实施方式
本揭示内容提供一种光学镜头，其包含至少二光学镜片以及至少一反射元件。反射元件由塑胶材料所制成，反射元件包含一反射镀膜，反射镀膜位于反射元件的一表面。反射镀膜包含不同材质的至少三膜层，其中三膜层分别由第一材料、第二材料及第三材料所制成，第一材料主要包含银，第二材料主要包含钛，第三材料主要包含铬氧化物，且第一材料及第二材料制成的膜层位于第三材料制成的膜层与反射元件之间。
借此，本揭示内容的光学镜头所配置的反射元件具有高反射效果的膜层组合，且具有优异高效率反射光线的转折光线路径的能力，更可以有效避免反射镀膜产生膜裂问题。
反射镀膜于波长800nm至1000nm的平均反射率为R80100，其满足下列条件：95.0％≤R80100，借此，可以具有优异的反射近红外线效果。再者，其可满足下列条件：95.5％≤R80100；96.0％≤R80100；96.5％≤R80100； 97.0％≤R80100；97.5％≤R80100；98.0％≤R80100；或98.25％≤ R80100。
第二材料制成的膜层可位于第三材料及第一材料制成的膜层之间，借此，可以有效保护第一材料制成的膜层，以避免氧化并避免膜裂。
反射镀膜可还包含由第四材料所制成的一膜层，第四材料主要包含硅化合物，例如，可以为硅氧化物或硅氮化物等，且第三材料制成的膜层可以位于第四材料及第一材料制成的膜层之间，有助于提供更有效的膜层抗刮保护效果与抗氧化效果。
反射镀膜可还包含由第五材料所制成的一膜层，第五材料主要包含金属氧化物，且第五材料制成的膜层可以位于第一材料制成的膜层与反射元件之间，有助于提升第一材料制成的膜层与反射元件之间的粘附效果。
反射镀膜于波长850nm的反射率为R85，其可满足下列条件：95.0％≤ R85，借此，可以具有优异的反射近红外线效果。再者，其可满足下列条件： 95.5％≤R85；96.0％≤R85；96.5％≤R85；97.0％≤R85；97.5％≤ R85；98.0％≤R85；或98.2％≤R85。
反射镀膜于波长400nm至1000nm的平均反射率为R40100，其可满足下列条件：95.0％≤R40100，借此，可以具有优异的反射可见光与近红外线效果。再者，其可满足下列条件：95.5％≤R40100；96.0％≤R40100；96.5％≤R40100；97.0％≤R40100；或98.0％≤R40100。
反射镀膜的总层数为tLs，其可满足下列条件：4≤tLs，通过完整的膜层组合，可以发挥保护与避免膜裂效果。
反射元件可为具有转折光路功能的元件，如棱镜(Prism)或反射镜 (Mirror)，通过将反射镀膜配置在适当的反射元件上，可以具有高成本效益。
反射元件可位于光学镜头的物侧或像侧，通过适当位置的反射元件配置，有助于终端产品微型化。
反射元件可位于所述光学镜片之间，通过适当位置的反射元件配置，有助于终端产品微型化。
反射元件可呈可水平移动地或可旋转地设置于光学镜头的像侧，借此，反射元件可以达到对焦与防手震效果。
反射镀膜于波长380nm至1050nm的平均反射率为R38105，其可满足下列条件：95.0％≤R38105；95.5％≤R38105；96.0％≤R38105；96.5％≤ R38105；或97.0％≤R38105。借此，可以具有优异的反射可见光效果。
反射镀膜于波长400nm至500nm的平均反射率为R4050，其可满足下列条件：94.0％≤R4050；94.5％≤R4050；或95.0％≤R4050。借此，可以具有优异的反射可见光效果。
反射镀膜于波长400nm至600nm的平均反射率为R4060，其可满足下列条件：95.0％≤R4060；95.5％≤R4060；或96.0％≤R4060。借此，可以具有优异的反射可见光效果。
反射镀膜于波长400nm至700nm的平均反射率为R4070，其可满足下列条件：95.0％≤R4070；95.5％≤R4070；96.0％≤R4070；或96.5％≤ R4070。借此，可以具有优异的反射可见光效果。
反射镀膜于波长650nm至1050nm的平均反射率为R65105，其可以满足下列条件：95.0％≤R65105；95.5％≤R65105；96.0％≤R65105；96.5％≤R65105；97.0％≤R65105；97.5％≤R65105；或98.0％≤R65105。借此，可以具有优异的反射近红外线效果。
反射镀膜于波长700nm至1000nm的平均反射率为R70100，其可以满足下列条件：95.0％≤R70100；95.5％≤R70100；96.0％≤R70100；96.5％≤R70100；97.0％≤R70100；97.5％≤R70100；98.0％≤R70100；或 98.2％≤R70100。借此，可以具有优异的反射近红外线效果。
反射镀膜于波长900nm至1000nm的平均反射率为R90100，其可以满足下列条件：95.0％≤R90100；95.5％≤R90100；96.0％≤R90100；96.5％≤R90100；97.0％≤R90100；97.5％≤R90100；98.0％≤R90100；或 98.25％≤R90100。借此，可以具有优异的反射近红外线效果。
反射镀膜于波长450nm的反射率为R45，其可满足下列条件：94.0％≤ R45；94.5％≤R45；95.0％≤R45；或95.5％≤R45。借此，可以具有优异的反射可见光效果。
反射镀膜于波长550nm的反射率为R55，其可以满足下列条件：95.0％≤R55；95.5％≤R55；96.0％≤R55；96.5％≤R55；或97.0％≤R55。借此，可以具有优异的反射可见光效果。
反射镀膜于波长650nm的反射率为R65，其可满足下列条件：95.0％≤ R65；95.5％≤R65；96.0％≤R65；96.5％≤R65；97.0％≤R65；或97.5％≤R65。借此，可以具有优异的反射可见光效果。
反射镀膜于波长750nm的反射率为R75，其可满足下列条件：95.0％≤ R75；95.5％≤R75；96.0％≤R75；96.5％≤R75；97.0％≤R75；97.5％≤R75；或98.0％≤R75。借此，可以具有优异的反射近红外线效果。
反射镀膜于波长950nm的反射率为R95，其可满足下列条件：95.0％≤ R95；95.5％≤R95；96.0％≤R95；96.5％≤R95；97.0％≤R95；97.5％≤R95；98.0％≤R95；或98.25％≤R95。借此，可以具有优异的反射近红外线效果。
反射镀膜于波长1050nm的反射率为R105，其可满足下列条件：95.0％≤ R105；95.5％≤R105；96.0％≤R105；96.5％≤R105；97.0％≤R105； 97.5％≤R105；98.0％≤R105；或98.2％≤R105。借此，可以具有优异的反射近红外线效果。
第四材料制成的膜层厚度为Tsi，其可以满足下列条件：10nm≤Tsi≤ 100nm；20nm≤Tsi≤80nm；或40nm≤Tsi≤70nm。借此，具保护作用。
第三材料制成的膜层厚度为Tcr，其可以满足下列条件：5nm≤Tcr≤ 200nm；10nm≤Tcr≤150nm；或30nm≤Tcr≤100nm。借此，具保护作用与避免氧化。
第二材料制成的膜层厚度为Tti，其可满足下列条件：1nm≤Tti≤50 nm；10nm≤Tti≤40nm；或20nm≤Tti≤30nm。借此，可以避免膜裂问题。
第一材料制成的膜层厚度为Tag，其可满足下列条件：50nm≤Tag≤ 250nm；60nm≤Tag≤150nm；或80nm≤Tag≤100nm。借此，可以强化反射效果。
第五材料制成的膜层厚度为Tmo，其可满足下列条件：0nm<Tmo≤50 nm；1nm≤Tmo≤30nm；或Tmo≤25nm。借此，可以强化膜层与反射元件的粘结效果。
第四材料的折射率为N4，其可以满足下列条件：N4≤1.6。借此，具保护作用。
第三材料的折射率为N3，其可满足下列条件：N3≥2.0。借此，具保护作用与避免氧化。
第二材料的折射率为N2，其可满足下列条件：N2≥2.0。借此，可以避免膜裂。
第五材料的折射率为N5，其可满足下列条件：1.6≤N5≤1.7。借此，可以强化膜层与反射元件的粘结效果。
反射元件的折射率为Ns，其可满足下列条件：Ns≤1.7。借此，可以有效控制成本。
第一材料制成的膜层与第五材料制成的膜层的厚度比值为Tag/Tmo，其可满足下列条件：1≤Tag/Tmo≤10；2≤Tag/Tmo≤8；或3≤Tag/Tmo ≤7。借此，可以强化膜层与反射元件的粘结效果与维持高反射效果。
第一材料制成的膜层与第二材料制成的膜层的厚度比值为Tag/Tti，其可满足下列条件：1≤Tag/Tti≤10；2≤Tag/Tti≤8；或3≤Tag/Tti≤ 7。借此，可以避免膜裂与强化反射效果。
第三材料制成的膜层与第二材料制成的膜层的厚度比值为Tcr/Tti，其可满足下列条件：1≤Tcr/Tti≤10；1≤Tcr/Tti≤5；或1≤Tcr/Tti≤3。借此，具保护作用与避免膜裂。
第三材料与第二材料制成的膜层总厚度与第一材料制成的膜层厚度的比值为(Tcr+Tti)/Tag，其可满足下列条件：0<(Tcr+Tti)/Tag≤1.00；0.10≤ (Tcr+Tti)/Tag≤0.80；或0.25≤(Tcr+Tti)/Tag≤0.70。借此，具保护作用，可以避免氧化、避免膜裂与强化反射效果。
第四材料制成的膜层与第三材料制成的膜层的厚度比值为Tsi/Tcr，其可满足下列条件：1≤Tsi/Tcr≤5；1≤Tsi/Tcr≤3；或1≤Tsi/Tcr≤2。借此，具保护作用与避免氧化。
本揭示内容的光学镜头可在光学镜片表面设置长波长滤除镀膜，长波长滤除镀膜是在塑胶材料表面上沉积多层薄膜，其使用物理气相沉积法，如蒸发沉积法或溅射沉积法等，或使用化学气相沉积法，如超高真空化学气相沉积法、微波电浆辅助化学气相沉积法或电浆增强化学气相沉积法等。
本揭示内容的光学镜头可在光学镜片内添加吸收材料，使其具有较佳的吸收均匀性，并使各视场的色均匀度一致。光学镜头中的光学镜片可具有长波长吸收材料，长波长吸收材料与光学镜片的塑胶材料混合且均匀分布其中，长波长吸收材料须能承受射出成型过程的高温且不会裂解，以维持应有的长波长吸收效果。光学镜片另可具有短波长吸收材料，短波长吸收材料与光学镜片的塑胶材料混合且均匀分布其中，短波长吸收材料须能承受射出成型过程的高温且不会裂解，以维持应有的短波长吸收效果。本揭示内容所定义的长波长范围为波长500nm以上区域，短波长范围为波长500nm以下区域。
本揭示内容的反射率数据一般为单一反射元件的数据，若反射镀膜配置在多个反射元件或多个表面上，则反射率数据可为经过多个反射元件或多个表面后的综合数据。
塑胶光学镜片因高温导致面型变化误差过大，当反射镀膜的膜层数越多，则温度影响面型精度的状况越明显。通过镜片补正技术，能有效解决塑胶光学镜片表面镀膜时的温度效应问题，有助于维持光学镜片的镀膜完整性与塑胶光学镜片的高精度，为达成高品质光学镜头的关键技术。
光学镜片补正技术可应用模流(Moldflow)分析方法、曲线拟合函数方法或波前误差方法等，但不以此为限。其中模流分析方法是通过模流分析找出光学镜片表面于Z轴收缩的立体轮廓节点，转成非球面曲线后再与原始曲线比较差异，同时考虑光学镜片的材料收缩率与面型变形趋势，计算得到补正值。曲线拟合函数方法是通过量测光学镜片表面的轮廓误差，以函数进行曲线拟合后并配合最佳化演算法，将拟合曲线逼近量测点而得到补正值。函数可以是指数 (Exponential)或多项式(Polynomial)等，演算法可以是高斯牛顿法(Gauss Newton)、单形演算法(Simplex Algorithm)或最大陡降法(Steepest DescentMethod)等。其中波前误差方法是通过干涉仪量测光学镜头的波前误差(成像误差)数据，以原始设计值波前误差综合分析制造组装所产生的波前误差，再经光学软件优化得到补正值。
本揭示内容提供的光学镜头中，亦可于光路上在被摄物至成像面间选择性设置至少一具有转折光路功能的元件，如棱镜或反射镜等，以提供光学镜头较高弹性的空间配置，使电子装置的轻薄化不受制于光学镜头的光学总长度。进一步说明，请参照图3A以及图3B，其中图3A绘示依照本揭示内容的光路转折元件LF在光学镜头中的一种配置关系示意图，图3B绘示依照本揭示内容的光路转折元件LF在光学镜头中的另一种配置关系示意图。如图3A以及图 3B所示，光学镜头可沿光路由被摄物(未绘示)至成像面IMG，依序具有第一光轴OA1、光路转折元件LF、第二光轴OA2与滤光元件FL，其中光路转折元件LF是设置于被摄物与光学镜头的透镜群LG之间，且光路转折元件LF 的入射面与出射面可以如图3A所示是呈平面，或者如图3B所示是呈曲面。此外，请参照图3C以及图3D，其中图3C绘示依照本揭示内容的二光路转折元件LF1、LF2在光学镜头中的一种配置关系示意图，图3D绘示依照本揭示内容的二光路转折元件LF1、LF2在光学镜头中的另一种配置关系示意图。如图3C以及图3D所示，光学镜头亦可沿光路由被摄物(未绘示)至成像面IMG，依序具有第一光轴OA1、光路转折元件LF1、第二光轴OA2、滤光元件FL、光路转折元件LF2与第三光轴OA3，其中光路转折元件LF1是设置于被摄物与光学镜头的透镜群LG之间，光路转折元件LF2是设置于光学镜头的透镜群 LG与成像面IMG之间，且光路转折元件LF2可以如图3C所示是为一棱镜，或者如图3D所示是为一反射镜。此外，请参照图3E，其中图3E绘示依照本揭示内容的光路转折元件LF在光学镜头中的又一种配置关系示意图。如图3E 所示，光学镜头亦可沿光路由被摄物(未绘示)至成像面IMG，依序具有第一光轴OA1、滤光元件FL、光路转折元件LF、第二光轴OA2与第三光轴OA3，其中光路转折元件LF是设置于光学镜头的透镜群LG与成像面IMG之间，且光路可以如图3E所示于光路转折元件LF内进行二次转折。光学镜头亦可选择性配置三个以上的光路转折元件，本揭示内容不以附图所揭露的光路转折元件的种类、数量与位置为限。
本揭示内容提供一种取像装置，其包含前述的光学镜头以及一电子感光元件，且电子感光元件设置于光学镜头的一成像面。
本揭示内容提供一种电子装置，其为一移动装置，且电子装置包含前述的取像装置。
本揭示内容提供一种电子装置，其包含前述的取像装置。借此，可提升成像品质。较佳地，前述电子装置皆可进一步包含控制单元、显示单元、储存单元、随机存取存储器或其组合。
本揭示内容提供的光学镜头亦可多方面应用于三维(3D)影像撷取、数字相机、移动产品、数字平板、智能电视、网络监控设备、体感游戏机、行车记录器、倒车显影装置、穿戴式产品或空拍机等电子装置中。
取像装置是为一相机模块，取像装置包含成像镜头、驱动装置组以及电子感光元件，其中成像镜头包含本揭示内容的光学镜头以及一承载光学镜头的镜筒。取像装置利用成像镜头聚光且对被摄物进行摄像并配合驱动装置组进行影像对焦，最后成像于电子感光元件，并将影像数据输出。
取像装置可为广角取像装置、超广角取像装置、望远取像装置(可包含光路转折元件)或TOF模块(Time-Of-Flight；飞时测距模块)，但并不以此配置为限。另外，取像装置与其他构件的连接关系可依照取像装置的类型适应性调整，在此不另绘示及详述。
驱动装置组可为自动对焦模块，其驱动方式可使用如音圈马达、微机电系统、压电系统、或记忆金属等驱动系统。驱动装置可让光学镜头取得较佳的成像位置，可提供被摄物于不同物距的状态下，皆能拍摄清晰影像。
取像装置可搭载一感光度佳及低杂讯的电子感光元件(如CMOS、CCD) 设置于光学镜头的成像面，可真实呈现光学镜头的良好成像品质。此外，取像装置还可包含影像稳定模块，其可为加速计、陀螺仪或霍尔元件(Hall Effect Sensor)等动能感测元件，但不以此为限。通过调整光学镜头不同轴向的变化以补偿拍摄瞬间因晃动而产生的模糊影像，进一步提升动态以及低照度场景拍摄的成像品质，并提供例如光学防手震(Optical ImageStabilization；OIS)、电子防手震(Electronic Image Stabilization；EIS)等进阶的影像补偿功能。
电子装置是一智能手机，电子装置包含取像装置、闪光灯模块、对焦辅助模块、影像信号处理器(Image Signal Processor；ISP)、使用者界面以及影像软件处理器，其中取像装置可为前置镜头或后置镜头。当使用者透过使用者界面对被摄物进行拍摄，电子装置利用取像装置聚光取像，启动闪光灯模块进行补光，并使用对焦辅助模块提供的被摄物物距信息进行快速对焦，再加上影像信号处理器以及影像软件处理器进行影像最佳化处理，来进一步提升影像镜头所产生的影像品质。对焦辅助模块可采用红外线或激光对焦辅助系统来达到快速对焦，使用者界面可采用触控屏幕或实体拍摄按钮，配合影像处理软件的多样化功能进行影像拍摄以及影像处理。
取像装置可对应电子装置外侧的一非圆形开口进行取像。
根据上述说明，以下提出具体实施例予以详细说明。
＜第一实施例＞
第一实施例为一光学镜头，其包含二光学镜片以及一反射元件，由光路的物侧至像侧依序为一第一光学镜片、一第二光学镜片及反射元件，各光学镜片皆具有一物侧表面朝向物侧以及一像侧表面朝向像侧，其中反射元件由一塑胶材料所制成，反射元件包含一反射镀膜，反射镀膜位于反射元件的一表面。第一实施例中，反射镀膜包含五膜层，所述五膜层依序由靠近空气的一侧至靠近反射元件的一侧分别由第四材料、第三材料、第二材料、第一材料及第五材料所制成。其中，第四材料为二氧化硅(SiO2)、第三材料为铬氧化物(CrOx)、第二材料为钛(Ti)、第一材料为银(Ag)且第五材料为金属氧化物。
比较例的反射镀膜则包含四膜层，所述四膜层依序由靠近空气的一侧至靠近反射元件的一侧分别由二氧化硅、铬氧化物、铬(Cr)及银所制成。
第一实施例与比较例的反射镀膜的详细配置方式已列于下表一。
Figure DEST_PATH_GDA0003909627880000121
此外，第一实施例的反射镀膜的各膜层的折射率与厚度等性质已列于下表二。
Figure DEST_PATH_GDA0003909627880000122
Figure DEST_PATH_GDA0003909627880000131
请一并参照图1A及图1B，图1A为比较例的反射元件的表面品质图，图 1B为第一实施例的反射元件的表面品质图。由图1A及图1B可以看出，比较例的反射元件表面产生膜裂现象，而第一实施例通过适当地配置不同材料的膜层，使得反射元件表面保持完整且无膜裂现象。
请一并参照表三及图2，图2为第一实施例的反射元件的反射率与波长的关系图，而第一实施例的反射元件于不同波长下的反射率量测结果则列于下表三。
Figure DEST_PATH_GDA0003909627880000132
由上表三的结果可以得知，针对可见光及近红外线，第一实施例的反射元件均可以有效反射不同波长的光线，且其反射效果相当优异，有助于避免反射元件上的反射镀膜产生膜裂问题。
本揭示内容实施例的光学镜头，其亦可为包含三光学镜片以及一反射元件，四光学镜片以及一反射元件，五光学镜片以及一反射元件，六光学镜片以及一反射元件，七光学镜片以及一反射元件，八光学镜片以及一反射元件，九光学镜片以及一反射元件，十光学镜片以及一反射元件，以此类推；其亦可为包含三光学镜片以及二反射元件，四光学镜片以及二反射元件，五光学镜片以及二反射元件，六光学镜片以及二反射元件，七光学镜片以及二反射元件，八光学镜片以及二反射元件，九光学镜片以及二反射元件，十光学镜片以及二反射元件，以此类推；其亦可为包含三光学镜片以及三反射元件，四光学镜片以及三反射元件，五光学镜片以及三反射元件，六光学镜片以及三反射元件，七光学镜片以及三反射元件，八光学镜片以及三反射元件，九光学镜片以及三反射元件，十光学镜片以及三反射元件，以此类推。
虽然本揭示内容已以实施例揭露如上，然其并非用以限定本揭示内容，任何熟悉此技艺者，在不脱离本揭示内容的精神和范围内，当可作各种的更动与润饰，因此本揭示内容的保护范围当视所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (13)

1.一种光学镜头，其特征在于，包含：
至少二光学镜片；以及
至少一反射元件；
其中，该反射元件为塑胶反射元件，该反射元件包含一反射镀膜，该反射镀膜位于该反射元件的一表面；
其中，该反射镀膜包含不同材质的至少三膜层，三该膜层分别由一第一材料、一第二材料及一第三材料所制成，该第一材料为银，该第二材料为钛，该第三材料为铬氧化物，且该第一材料及该第二材料制成的该些膜层位于该第三材料制成的该膜层与该反射元件之间；
其中，该反射镀膜于波长800nm至1000nm的平均反射率为R80100，其满足下列条件：
97.5％≤R80100。
2.根据权利要求1所述的光学镜头，其特征在于，该第二材料制成的该膜层位于该第三材料及该第一材料制成的该些膜层之间。
3.根据权利要求2所述的光学镜头，其特征在于，该反射镀膜还包含由一第四材料所制成的一膜层，该第四材料为硅化合物，且该第三材料制成的该膜层位于该第四材料及该第一材料制成的该些膜层之间。
4.根据权利要求3所述的光学镜头，其特征在于，该反射镀膜还包含由一第五材料所制成的一膜层，该第五材料为金属氧化物，且该第五材料制成的该膜层位于该第一材料制成的该膜层与该反射元件之间。
5.根据权利要求3所述的光学镜头，其特征在于，该反射镀膜于波长400nm至1000nm的平均反射率为R40100，其满足下列条件：
98.0％≤R40100。
6.根据权利要求4所述的光学镜头，其特征在于，该反射镀膜于波长850nm的反射率为R85，其满足下列条件：
98.0％≤R85。
7.根据权利要求5所述的光学镜头，其特征在于，该反射镀膜的总层数为tLs，其满足下列条件：
4≤tLs。
8.根据权利要求1所述的光学镜头，其特征在于，该反射元件位于该光学镜头的物侧或像侧。
9.根据权利要求1所述的光学镜头，其特征在于，该反射元件位于该至少二光学镜片之间。
10.根据权利要求7所述的光学镜头，其特征在于，该反射元件为一棱镜或一反射镜。
11.根据权利要求1所述的光学镜头，其特征在于，该反射元件可水平移动地或可旋转地设置于该光学镜头的像侧。
12.一种取像装置，其特征在于，包含：
如权利要求1所述的光学镜头；以及
一电子感光元件，其设置于该光学镜头的一成像面。
13.一种电子装置，其特征在于，该电子装置是为一移动装置，该电子装置包含：
如权利要求12所述的取像装置。
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