TW202312482A - 感測器封裝結構及其製造方法 - Google Patents

感測器封裝結構及其製造方法 Download PDF

Info

Publication number
TW202312482A
TW202312482A TW110133494A TW110133494A TW202312482A TW 202312482 A TW202312482 A TW 202312482A TW 110133494 A TW110133494 A TW 110133494A TW 110133494 A TW110133494 A TW 110133494A TW 202312482 A TW202312482 A TW 202312482A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
light
substrate
layer
transmitting
area
Prior art date
Application number
TW110133494A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI787999B (zh
Inventor
王建元
李建成
Original Assignee
同欣電子工業股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 同欣電子工業股份有限公司 filed Critical 同欣電子工業股份有限公司
Priority to TW110133494A priority Critical patent/TWI787999B/zh
Priority to CN202111070253.2A priority patent/CN115799279A/zh
Priority to US17/564,142 priority patent/US20230073527A1/en
Application granted granted Critical
Publication of TWI787999B publication Critical patent/TWI787999B/zh
Publication of TW202312482A publication Critical patent/TW202312482A/zh

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144—Devices controlled by radiation
    • H01L27/146—Imager structures
    • H01L27/14601—Structural or functional details thereof
    • H01L27/14618—Containers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144—Devices controlled by radiation
    • H01L27/146—Imager structures
    • H01L27/14601—Structural or functional details thereof
    • H01L27/1462—Coatings
    • H01L27/14623—Optical shielding
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144—Devices controlled by radiation
    • H01L27/146—Imager structures
    • H01L27/14601—Structural or functional details thereof
    • H01L27/14636—Interconnect structures
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144—Devices controlled by radiation
    • H01L27/146—Imager structures
    • H01L27/14683—Processes or apparatus peculiar to the manufacture or treatment of these devices or parts thereof
    • H01L27/14685—Process for coatings or optical elements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)
  • Measuring Fluid Pressure (AREA)
  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)

Abstract

本發明公開一種感測器封裝結構及其製造方法。所述感測器封裝結構包含一基板、一感測晶片、及一蓋體。所述感測晶片設置於所述基板上、並電性耦接於所述基板。所述蓋體沿一安裝方向設置於所述基板上，以使所述感測晶片位於所述蓋體所包圍的空間之內。所述蓋體包含有一透光片、一遮光膜、及一不透光支架。所述遮光膜呈環形且設置於所述透光片的內表面，以使所述內表面區隔成位在所述遮光膜內側的一透光區域、及位在所述遮光膜外側的一成形區域。所述不透光支架無間隙地形成於所述成形區域上並設置於所述基板上，但未覆蓋所述遮光膜。

Description

感測器封裝結構及其製造方法
本發明涉及一種封裝結構，尤其涉及一種感測器封裝結構及其製造方法。
現有的感測器封裝結構是將玻璃板通過膠層而設置於感測晶片上，並且所述膠層是圍繞在所述感測晶片的感測區域外圍。然而，由於穿過所述玻璃板的光線有可能部分會被所述膠層所反射，因而對所述感測晶片的所述感測區域會造成影響（如：眩光現象）。
於是，本發明人認為上述缺陷可改善，乃特潛心研究並配合科學原理的運用，終於提出一種設計合理且有效改善上述缺陷的本發明。
本發明實施例在於提供一種感測器封裝結構及其製造方法，能有效地改善現有感測器封裝結構所可能產生的缺陷。
本發明實施例公開一種感測器封裝結構，其包括：一基板；一感測晶片，設置於所述基板上、並電性耦接於所述基板；以及一蓋體，設置於所述基板上，以使所述感測晶片位於所述蓋體所包圍的空間之內；其中，所述蓋體包含有：一透光片，具有一外表面與一內表面；一遮光膜，呈環形且設置於所述內表面，以使所述內表面區隔成位在所述遮光膜內側的一透光區域、及位在所述遮光膜外側的一成形區域；及一不透光支架，無間隙地形成於所述成形區域上，並且所述不透光支架設置於所述基板上；其中，所述遮光膜未埋置於所述不透光支架內。
本發明實施例也公開一種感測器封裝結構的製造方法，其包括：實施一劃界步驟：在一透光層的內表面上形成有間隔排列的多個遮光膜，以使所述透光層的所述內表面被區隔成位於多個所述遮光膜內側的多個透光區域、及位在多個所述遮光膜外側的一成形區域；實施一模製步驟：以一模具無間隙地壓抵於多個所述遮光膜上，並在所述透光層的所述成形區域上模製形成有一不透光支架層；實施一預切步驟：切割所述透光層與所述不透光支架層，以形成有多個蓋體；實施一封裝步驟：在承載有多個感測晶片的一基板層上安裝有多個所述蓋體，以使每個所述蓋體包覆一個所述感測晶片於其內，並且每個所述透光區域面向一個所述感測晶片；以及實施一切割步驟：切割所述基板層，以形成多個感測器封裝結構。
本發明實施例另公開一種感測器封裝結構的製造方法，其包括：實施一劃界步驟：在一透光層的內表面上形成有間隔排列的多個遮光膜，以使所述透光層的所述內表面被區隔成位於多個所述遮光膜內側的多個透光區域、及位在多個所述遮光膜外側的一成形區域；實施一模製步驟：以一模具無間隙地壓抵於多個所述遮光膜上，並在所述透光層的所述成形區域上模製形成有一不透光支架層；實施一封裝步驟：在承載有多個感測晶片的一基板層上安裝所述不透光支架層，以使每個所述透光區域面向一個所述感測晶片；以及實施一切割步驟：切割所述透光層、所述不透光支架層、及所述基板層，以形成多個感測器封裝結構。
綜上所述，本發明實施例所公開的感測器封裝結構及其製造方法，通過在所述透光片的所述內表面形成有所述遮光膜，據以在所述內表面準確地劃分出所述透光區域，並有效地避免光線自所述遮光膜穿過而降低眩光現象的產生。再者，所述遮光膜還能在所述不透光支架的成形過程中阻擋其流向所述透光區域，據以利於所述不透光支架可以精準地被成形於所述成形區域上。
為能更進一步瞭解本發明的特徵及技術內容，請參閱以下有關本發明的詳細說明與附圖，但是此等說明與附圖僅用來說明本發明，而非對本發明的保護範圍作任何的限制。
以下是通過特定的具體實施例來說明本發明所公開有關“感測器封裝結構及其製造方法”的實施方式，本領域技術人員可由本說明書所公開的內容瞭解本發明的優點與效果。本發明可通過其他不同的具體實施例加以施行或應用，本說明書中的各項細節也可基於不同觀點與應用，在不悖離本發明的構思下進行各種修改與變更。另外，本發明的附圖僅為簡單示意說明，並非依實際尺寸的描繪，事先聲明。以下的實施方式將進一步詳細說明本發明的相關技術內容，但所公開的內容並非用以限制本發明的保護範圍。
應當可以理解的是，雖然本文中可能會使用到“第一”、“第二”、“第三”等術語來描述各種元件或者信號，但這些元件或者信號不應受這些術語的限制。這些術語主要是用以區分一元件與另一元件，或者一信號與另一信號。另外，本文中所使用的術語“或”，應視實際情況可能包括相關聯的列出項目中的任一個或者多個的組合。
[實施例一]
請參閱圖1至圖8所示，其為本發明的實施例一。本實施例公開一種感測器封裝結構100及其製造方法，而為便於說明本實施例，以下將先介紹所述感測器封裝結構100的各個元件構造及其連接關係，而後再說明所述感測器封裝結構100的製造方法。
如圖1至圖3所示，所述感測器封裝結構100於本實施例中包含一基板1、設置於所述基板1上的一感測晶片2、電性耦接所述感測晶片2與所述基板1的多條導線3、及設置於所述基板1上的一蓋體4。
需先說明的是，所述感測器封裝結構100於本實施例中雖是以包含上述元件來做說明，但所述感測器封裝結構100也可以依據設計需求而加以調整變化。舉例來說，在本發明未繪示的其他實施例中，所述感測器封裝結構100可以省略多條所述導線3，並且所述感測晶片2通過覆晶方式固定且電性耦接於所述基板1。
如圖2和圖3所示，所述基板1於本實施例中為呈正方形或矩形的一印刷電路板（printed circuit board，PCB），但本發明不受限於此。其中，所述基板1於其上表面11的大致中央處設有一晶片固定區111，並且所述基板1於其上表面11形成有位於所述晶片固定區111外側的多個第一焊墊112。多個所述第一焊墊112於本實施例中是大致排列呈環狀，但本發明不限於此。舉例來說，在本發明未繪示的其他實施例中，多個所述第一焊墊112也可以是在所述晶片固定區111的相反兩側分別排成兩列。
此外，所述基板1也可以於其下表面12設有多個焊接球（圖未標示），並且所述感測器封裝結構100能通過多個所述焊接球而焊接固定於一電子構件上，據以使所述感測器封裝結構100能電性連接所述電子構件。
所述感測晶片2於本實施例中是以一影像感測晶片來說明，但本發明不以此為限。其中，所述感測晶片2是固定於所述基板1的所述晶片固定區111；也就是說，所述感測晶片2是位於多個所述第一焊墊112的內側。再者，所述感測晶片2的一頂面21包含有一感測區域211、及位於所述感測區域211外側的多個第二焊墊212。
其中，所述感測晶片2的多個所述第二焊墊212的數量及位置於本實施例中是分別對應於所述基板1的多個所述第一焊墊112的數量及位置。再者，多個所述導線3的一端分別連接於多個所述第一焊墊112，並且多個所述導線3的另一端分別連接於多個所述第二焊墊212，據以使所述基板1能通過多個所述導線3而電性耦接於所述感測晶片2。
所述蓋體4於本實施例中沿（垂直所述基板1的）一安裝方向D設置於所述基板1上，以使所述感測晶片2（及多條所述導線3）位於所述蓋體4所包圍的空間之內。也就是說，所述蓋體4與所述基板1共同包圍形成有一封閉空間E，用以供所述感測晶片2（及多條所述導線3）置於其內。
更詳細地說，所述蓋體4包含有一透光片41、一遮光膜42、及一不透光支架43。其中，所述透光片41於本實施例中是以呈透明狀的一平板玻璃來說明，並且所述透光片41具有一外表面411與一內表面412，但本發明不受限於此。舉例來說，在本發明未繪示的其他實施例中，所述透光片41也可以是透光的塑膠材質所製成。
所述遮光膜42呈環形且不透光，並且所述遮光膜42設置於所述透光片41的所述內表面412，以使所述內表面412區隔成位在所述遮光膜42內側的一透光區域4121、及位在所述遮光膜42外側的一成形區域4122。再者，所述不透光支架43無間隙地形成於所述透光片41的所述成形區域4122上（也就是：所述遮光膜42未埋置於所述不透光支架43內），並且所述不透光支架43設置於所述基板1（的多個所述第一焊墊112外側）上。
據此，所述感測器封裝結構100於本實施例中通過在所述透光片41的所述內表面412形成有所述遮光膜42，據以在所述內表面412準確地劃分出所述透光區域4121，並有效地避免光線自所述遮光膜42穿過而降低眩光現象的產生。再者，所述遮光膜42還能在所述不透光支架43的成形過程中阻擋其流向所述透光區域4121，據以利於所述不透光支架43可以精準地被成形於所述成形區域4122上。
進一步地說，所述蓋體4相對於所述感測晶片2與多條所述導線3的關係較佳是符合下述條件，但本發明不以此為限。其中，所述遮光膜42的厚度小於所述透光片41的厚度、且不大於40微米（μm）。所述感測晶片2的所述感測區域211位在所述透光區域4121朝向所述頂面21正投影所形成的一投影區域之內。 再者，每條所述導線3的至少90%體積位於所述遮光膜42朝向所述基板1正投影所形成的一投影空間之內。
換個角度來看，所述不透光支架43具有一內側面431與一外側面432， 並且所述不透光支架43的所述外側面432共平面於所述透光片41的外側面413、並共平面於所述基板1的外側緣13。其中，所述不透光支架43的所述內側面431與所述外側面432之間的距離朝遠離所述透光片41的方向呈漸縮狀（也就是，垂直於所述安裝方向D的所述不透光支架43的任一橫截面，其面積不大於所述成形區域4122的面積），以使每條所述導線3的局部位於所述內側面431朝向所述基板1正投影所形成的一投影空間之內。
以上為本實施例的所述感測器封裝結構100的說明，以下接著介紹所述感測器封裝結構100的製造方法。需先說明的是，所述感測器封裝結構100於本實施例中雖是以下述方法所製成，但本發明不受限於此。舉例來說，在本發明未繪示的其他實施例中，所述感測器封裝結構100也可以通過調整下述方法中的步驟或是以其他方法所製成。
如圖4至圖8所示，於本實施例中，所述感測器封裝結構100的製造方法較佳是依序包含有以下步驟：一劃界步驟S110、一模製步驟S120、一預切步驟S130、一封裝步驟S140、及一切割步驟S150，但本發明不受限於此。舉例來說，在本發明未繪示的其他實施例中，上述多個步驟S110～S150可以依據設計需求而加以調整其順序或進行增減。
如圖4所示，實施所述劃界步驟S110：在一透光層L41的內表面上形成有間隔排列的多個遮光膜42，以使所述透光層L41的所述內表面被區隔成位於多個所述遮光膜42內側的多個透光區域4121、及位在多個所述遮光膜42外側的一成形區域4122。
如圖5A和圖5B所示，實施所述模製步驟S120：以一模具200無間隙地壓抵於多個所述遮光膜42上，並在所述透光層L41的所述成形區域4122上模製形成有一不透光支架層L43。其中，多個所述遮光膜42（具有彈性且）完全被所述模具200所壓抵並彈性地變形，因而彼此無間隙地相連接，以使多個所述遮光膜42皆未埋置於所述不透光支架層L43內，並據以使得所述不透光支架層L43的成形過程中無法穿過所述模具200與任一個所述遮光膜42之間的無間隙交接面流向相對應的所述透光區域4121。
更詳細地說，如圖5A所示，通過融熔狀的塑料或膠體（圖中未示出）沿著所述模具200的流道（如：標示於圖5A的模具200內的多個箭頭）流動至所述透光層L41的所述成形區域4122上，而後固化且移除所述模具200，據以在所述透光層L41的所述成形區域4122上形成如圖5B所示的所述不透光支架層L43。
如圖5B和圖6所示，實施所述預切步驟S130：切割所述透光層L41與所述不透光支架層L43，以形成有多個蓋體4。其中，所述透光層L41被切割成多個所述透光片41，而所述不透光支架層L43則是被切割成多個所述不透光支架43，並且每個所述透光片41的所述內表面412上形成有一個所述遮光膜42與一個所述不透光支架43，進而共同構成一個所述蓋體4。
如圖7所示，實施所述封裝步驟S140：在承載有多個感測晶片2的一基板層L1上安裝有多個所述蓋體4，以使每個所述蓋體4包覆一個所述感測晶片2於其內，並且每個所述透光區域4121面向一個所述感測晶片2。其中，每個所述感測晶片2可以是通過多條所述導線3而電性耦接於所述基板層L1，並且多個所述感測晶片2之間未彼此電性耦接。
據此，由於多個所述蓋體4於本實施例中是逐個安裝至所述基板層L1的相對應部位，所以任一個所述蓋體4與所述基板層L1之間的相對應安裝位置可以具備有較高準確度，進而符合高規格產品的要求。
如圖7和圖8所示，實施所述切割步驟S150：切割所述基板層L1，以形成多個所述感測器封裝結構100。其中，所述基板層L1被切割成多個所述基板1，並且每個所述基板1上設置有一個所述感測晶片2、相對應的多條所述導線3、與一個所述蓋體4，進而共同構成一個所述感測器封裝結構100。
[實施例二]
請參閱圖9和圖10所示，其為本發明的實施例二。由於本實施例類似於上述實施例一，所以兩個實施例的相同處（如：所述感測器封裝結構、所述劃界步驟、所述模製步驟）不再加以贅述，而本實施例相較於上述實施例一的差異大致說明如下：
所述感測器封裝結構100的製造方法於本實施例中不具有上述實施例一的所述預切步驟S130；也就是說，所述感測器封裝結構100的製造方法於本實施例中在所述模製步驟之後，接著實施一封裝步驟S240與一切割步驟S250，其進一步說明如下。
如圖9所示，實施所述封裝步驟S240：在承載有多個感測晶片2的一基板層L1上安裝所述不透光支架層L43，以使每個所述透光區域4121面向一個所述感測晶片2。其中，每個所述感測晶片2可以是通過多條所述導線3而電性耦接於所述基板層L1，並且多個所述感測晶片2之間未彼此電性耦接。
再者，由於所述不透光支架層L43於本實施例中是在未切割的狀態下，直接安裝於所述基板層L1，因而能夠省略上述實施例一中的所述預切割步驟S130，進而有效地縮短所述感測器封裝結構100的生產時程、並降低其生產成本。
如圖9和圖10所示，實施所述切割步驟S250：切割所述透光層L41、所述不透光支架層L43、及所述基板層L1，以形成多個所述感測器封裝結構100。其中，所述透光層L41被切割成多個所述透光片41，而所述不透光支架層L43則是被切割成多個所述不透光支架43，並且每個所述透光片41上形成有一個所述遮光膜42與一個所述不透光支架43，進而共同構成一個所述蓋體4。再者，所述基板層L1被切割成多個所述基板1，並且每個所述基板1上設置有一個所述感測晶片2、相對應的多條所述導線3、與一個所述蓋體4，進而共同構成一個所述感測器封裝結構100。
[本發明實施例的技術效果]
綜上所述，本發明實施例所公開的感測器封裝結構及其製造方法，通過在所述透光片的所述內表面形成有所述遮光膜，據以在所述內表面準確地劃分出所述透光區域，並有效地避免光線自所述遮光膜穿過而降低眩光現象的產生。再者，所述遮光膜還能在所述不透光支架的成形過程中阻擋其流向所述透光區域，據以利於所述不透光支架精準地成形於所述成形區域上。
進一步地說，於本發明實施例所公開的感測器封裝結構及其製造方法中，多個所述遮光膜具有彈性且完全被所述模具所壓抵並彈性地變形，因而彼此無間隙地相連接，以使得所述不透光支架層的成形過程中無法穿過所述模具與任一個所述遮光膜之間的無間隙交接面，據以避免流向相對應的所述透光區域。
以上所公開的內容僅為本發明的優選可行實施例，並非因此侷限本發明的專利範圍，所以凡是運用本發明說明書及圖式內容所做的等效技術變化，均包含於本發明的專利範圍內。
100:感測器封裝結構 1:基板 11:上表面 111:晶片固定區 112:第一焊墊 12:下表面 13:外側緣 2:感測晶片 21:頂面 211:感測區域 212:第二焊墊 3:導線 4:蓋體 41:透光片 411:外表面 412:內表面 4121:透光區域 4122:成形區域 413:外側面 42:遮光膜 43:不透光支架 431:內側面 432:外側面 E:封閉空間 D:安裝方向 L1:基板層 L41:透光層 L43:不透光支架層 200:模具 S110:劃界步驟 S120:模製步驟 S130:預切步驟 S140、S240:封裝步驟 S150、S250:切割步驟
圖1為本發明實施例一的感測器封裝結構的立體示意圖。
圖2為圖1的俯視示意圖。
圖3為圖2沿剖線III-III的剖視示意圖。
圖4為本發明實施例一的感測器封裝結構的製造方法的劃界步驟示意圖。
圖5A為本發明實施例一的感測器封裝結構的製造方法的模製步驟示意圖（一）。
圖5B為本發明實施例一的感測器封裝結構的製造方法的模製步驟示意圖（二）。
圖6為本發明實施例一的感測器封裝結構的製造方法的預切步驟示意圖。
圖7為本發明實施例一的感測器封裝結構的製造方法的封裝步驟示意圖。
圖8為本發明實施例一的感測器封裝結構的製造方法的切割步驟示意圖。
圖9為本發明實施例二的感測器封裝結構的製造方法的封裝步驟示意圖。
圖10為本發明實施例二的感測器封裝結構的製造方法的切割步驟示意圖。
100:感測器封裝結構
1:基板
11:上表面
111:晶片固定區
112:第一焊墊
12:下表面
13:外側緣
2:感測晶片
21:頂面
211:感測區域
212:第二焊墊
3:導線
4:蓋體
41:透光片
411:外表面
412:內表面
4121:透光區域
4122:成形區域
413:外側面
42:遮光膜
43:不透光支架
431:內側面
432:外側面
E:封閉空間
D:安裝方向

Claims (10)

  1. 一種感測器封裝結構，其包括： 一基板； 一感測晶片，設置於所述基板上、並電性耦接於所述基板；以及 一蓋體，設置於所述基板上，以使所述感測晶片位於所述蓋體所包圍的空間之內；其中，所述蓋體包含有： 一透光片，具有一外表面與一內表面； 一遮光膜，呈環形且設置於所述內表面，以使所述內表面區隔成位在所述遮光膜內側的一透光區域、及位在所述遮光膜外側的一成形區域；及 一不透光支架，無間隙地形成於所述成形區域上，並且所述不透光支架設置於所述基板上；其中，所述遮光膜未埋置於所述不透光支架內。
  2. 如請求項1所述的感測器封裝結構，其中，所述感測器封裝結構包含有電性耦接所述基板與所述感測晶片的多條導線，並且每條所述導線的至少90%體積位於所述遮光膜朝向所述基板正投影所形成的一投影空間之內。
  3. 如請求項2所述的感測器封裝結構，其中，所述不透光支架具有一內側面與一外側面，所述不透光支架的所述外側面共平面於所述透光片的外側面、並共平面於所述基板的外側緣。
  4. 如請求項3所述的感測器封裝結構，其中，所述不透光支架的所述內側面與所述外側面之間的距離朝遠離所述透光片的方向呈漸縮狀，以使每條所述導線的局部位於所述內側面朝向所述基板正投影所形成的一投影空間之內。
  5. 如請求項1所述的感測器封裝結構，其中，所述感測晶片的頂面具有一感測區域，並且所述感測區域位在所述透光區域朝向所述頂面正投影所形成的一投影區域之內。
  6. 如請求項1所述的感測器封裝結構，其中，所述蓋體沿一安裝方向設置於所述基板上，並且垂直於所述安裝方向的所述不透光支架的任一橫截面，其面積不大於所述成形區域的面積。
  7. 一種感測器封裝結構的製造方法，其包括： 實施一劃界步驟：在一透光層的內表面上形成有間隔排列的多個遮光膜，以使所述透光層的所述內表面被區隔成位於多個所述遮光膜內側的多個透光區域、及位在多個所述遮光膜外側的一成形區域； 實施一模製步驟：以一模具無間隙地壓抵於多個所述遮光膜上，並在所述透光層的所述成形區域上模製形成有一不透光支架層； 實施一預切步驟：切割所述透光層與所述不透光支架層，以形成有多個蓋體； 實施一封裝步驟：在承載有多個感測晶片的一基板層上安裝有多個所述蓋體，以使每個所述蓋體包覆一個所述感測晶片於其內，並且每個所述透光區域面向一個所述感測晶片；以及 實施一切割步驟：切割所述基板層，以形成多個感測器封裝結構。
  8. 如請求項7所述的感測器封裝結構的製造方法，其中，於所述模製步驟中，多個所述遮光膜完全被所述模具所壓抵且彈性地變形，因而彼此無間隙地相連接，以使多個所述遮光膜皆未埋置於所述不透光支架層內。
  9. 一種感測器封裝結構的製造方法，其包括： 實施一劃界步驟：在一透光層的內表面上形成有間隔排列的多個遮光膜，以使所述透光層的所述內表面被區隔成位於多個所述遮光膜內側的多個透光區域、及位在多個所述遮光膜外側的一成形區域； 實施一模製步驟：以一模具無間隙地壓抵於多個所述遮光膜上，並在所述透光層的所述成形區域上模製形成有一不透光支架層； 實施一封裝步驟：在承載有多個感測晶片的一基板層上安裝所述不透光支架層，以使每個所述透光區域面向一個所述感測晶片；以及 實施一切割步驟：切割所述透光層、所述不透光支架層、及所述基板層，以形成多個感測器封裝結構。
  10. 如請求項9所述的感測器封裝結構的製造方法，其中，於所述模製步驟中，多個所述遮光膜完全被所述模具所壓抵且彈性地變形，因而彼此無間隙地相連接，以使多個所述遮光膜皆未埋置於所述不透光支架層內。
TW110133494A 2021-09-09 2021-09-09 感測器封裝結構及其製造方法 TWI787999B (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW110133494A TWI787999B (zh) 2021-09-09 2021-09-09 感測器封裝結構及其製造方法
CN202111070253.2A CN115799279A (zh) 2021-09-09 2021-09-13 传感器封装结构及其制造方法
US17/564,142 US20230073527A1 (en) 2021-09-09 2021-12-28 Sensor package structure and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW110133494A TWI787999B (zh) 2021-09-09 2021-09-09 感測器封裝結構及其製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TWI787999B TWI787999B (zh) 2022-12-21
TW202312482A true TW202312482A (zh) 2023-03-16

Family

ID=85386746

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW110133494A TWI787999B (zh) 2021-09-09 2021-09-09 感測器封裝結構及其製造方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20230073527A1 (zh)
CN (1) CN115799279A (zh)
TW (1) TWI787999B (zh)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6075237A (en) * 1998-07-29 2000-06-13 Eastman Kodak Company Image sensor cover with integral light shield
TWI254389B (en) * 2005-04-29 2006-05-01 Sigurd Microelectronics Corp Package structure of photo sensor and manufacturing method thereof
TWI356267B (en) * 2006-01-06 2012-01-11 Hon Hai Prec Ind Co Ltd A lens module
TWI671872B (zh) * 2018-10-11 2019-09-11 勝麗國際股份有限公司 感測器封裝結構
TWI703679B (zh) * 2019-03-26 2020-09-01 勝麗國際股份有限公司 感測器封裝結構

Also Published As

Publication number Publication date
TWI787999B (zh) 2022-12-21
US20230073527A1 (en) 2023-03-09
CN115799279A (zh) 2023-03-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11627239B2 (en) Photosensitive assembly and camera module and manufacturing method thereof
JP6415648B2 (ja) センサパッケージ構造
US10600830B2 (en) Sensor package structure
JP6563538B2 (ja) 積層型センサ実装構造
TWI690779B (zh) 感光晶片封裝模組及其形成方法
JP2010166021A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP6479099B2 (ja) センサパッケージ構造
TW202015224A (zh) 感光晶片封裝模組及其形成方法
TWI667752B (zh) 感測器封裝結構
TWI761670B (zh) 鏡頭模組及電子裝置
TWI518886B (zh) 光感裝置及其製法
CN105355641A (zh) 高像素影像传感芯片的封装结构及封装方法
CN101162711A (zh) 封装盖板、芯片封装结构及其制造方法
JP2002009265A (ja) 固体撮像装置
TWI692287B (zh) 感測器封裝結構
TWI787999B (zh) 感測器封裝結構及其製造方法
TWI564610B (zh) 攝像模組及其製造方法
US20080061425A1 (en) Chip package structure and fabricating method thereof
TWI778862B (zh) 非迴焊式感測鏡頭
TW202002187A (zh) 感光晶片封裝模組及其形成方法
TWI745575B (zh) 半導體裝置封裝及其製造方法
JP4147171B2 (ja) 固体撮像装置およびその製造方法
TWI810734B (zh) 無焊接式感測鏡頭
TW202032725A (zh) 晶片級感測器封裝結構
TWI832587B (zh) 感測鏡頭