TW202311275A - 烷基矽烷氧取代苄基化合物之製造方法 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種反應步驟易於控制，工業上有利之烷基矽烷氧取代苄基化合物之製造方法。
本發明係一種下述通式(5)所表示之烷基矽烷氧取代苯甲醯基化合物之製造方法，
(式中，R
1c～R
5c中之1～5個表示經1～3個烷基矽烷氧基取代之碳數1～29之烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基；
R
C表示氫原子、羥基、碳數1～6之烷氧基或下式所表示之基，
(R
1c～R
5c中之1～5個表示經1～3個烷基矽烷氧基取代之碳數1～29之烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，或者於R
C表示該式之結構時，R
5c可與式(5)中之R
5c一起形成醚鍵(-O-)；再者，﹡表示與R
C之鍵結部位))
上述製造方法之特徵在於，使烷基矽烷基化劑與下述通式(3)所表示之苯甲醯基化合物發生反應，
(式中，R
1b～R
5b中之1～5個表示碳數1～16之羥基烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基；
R
B表示氫原子、羥基、碳數1～6之烷氧基或下式所表示之基，
(R
1b～R
5b中之1～5個表示碳數1～16之羥基烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，或者於R
B表示該式之結構時，R
5b可與式(3)中之R
5b一起形成醚鍵(-O-)；再者，﹡表示與R
B之鍵結部位))。
Description
本發明係關於一種烷基矽烷氧取代苄基化合物之製造方法。
關於液相肽合成，提出有一種液相肽合成用載體(Tag)。液相肽合成用載體(Tag)係疏水性較高之化合物，故藉由將親水性較高之胺基酸、肽或胺基醯胺(以下有時稱為胺基酸等)與本載體鍵結，可明顯提昇於有機溶劑中之溶解性。因此，於在本載體鍵結有胺基酸等之狀態下實施肽伸長反應之情形時，具有如下優點：藉由使鍵結於載體之胺基酸等溶解於有機層中，使例如用於肽伸長反應之剩餘之原料胺基酸或其分解物、對原料胺基酸之保護基進行去保護時副產之化合物等無用成分溶解於水層中，利用液液分離，即可簡便地使鍵結於載體之胺基酸等純化。
於液相肽合成用載體(Tag)中，專利文獻1～7及非專利文獻1所示之液相肽合成用載體(Tag)係一個以上之鍵結有烷基矽烷氧基之碳數1～16之烷氧基側鏈與苄基骨架、二苯甲烷骨架或𠮿
骨架等之母核鍵結而成之結構。該等液相肽合成用載體(Tag)藉由鍵結有烷基矽烷氧基之側鏈結構，可絕妙地控制液相肽合成用載體(Tag)整體之疏水性，尤其適宜用作液相肽合成用載體(Tag)。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開第6116782號公報
[專利文獻2]日本專利特開第6201076號公報
[專利文獻3]日本專利特開第6283774號公報
[專利文獻4]日本專利特開第6283775號公報
[專利文獻5]日本專利特開第6322350號公報
[專利文獻6]日本專利特開第6393857號公報
[專利文獻7]日本專利特開第6531235號公報
[非專利文獻]
[非專利文獻1]Molecules 2021, 26, 3497-3505.
[發明所欲解決之問題]
該等液相肽合成用載體(Tag)之製造方法揭示於專利文獻1～7中。然而，於該先前方法中，作為製造過程之原料之一的Br-(CH
2)
11-O-TIPS為油狀，穩定性更加不良，不易操作。又，該原料及中間化合物之物性均為油狀，較為相近，不易進行液液分離。因此，原料或原料之分解物容易作為雜質混入目標物中，僅憑通常之工業操作不易提高液相肽合成用載體(Tag)本身之純度，故產生了需要利用管柱層析法進行精密純化等繁雜之操作之課題。
因此，本發明之課題在於提供一種反應步驟易於控制之烷基矽烷氧取代苄基化合物之工業製造方法。
[解決問題之技術手段]
因此，本發明人等發現一種烷基矽烷氧取代苄基化合物之工業製造方法，其預先向苯甲醯基骨架、二苯基酮骨架(二苯甲酮骨架)或𠮿酮骨架之化合物中導入羥基烷氧基，其次，向該羥基中導入烷基矽烷基後，使鍵結於各骨架之羰基還原。根據本發明之方法，無需再使用先前方法中存在穩定性不良或難以與中間化合物分離之問題的原料即Br-(CH
2)
11-O-TIPS。又，由於中間化合物為固體，故反應步驟易於控制，且易於去除原料或原料之分解物。綜上，本發明人等發現可於工業上有利地獲得烷基矽烷氧取代苄基化合物，而完成本發明。
再者，於本發明中，「固體」表示具有結晶結構者與非晶狀固形物兩者。
即，本發明提供如下之發明[1]～[4]。
[1]一種下述通式(5)所表示之烷基矽烷氧取代苯甲醯基化合物之製造方法，
[化3]
(式中，R
1c～R
5c中之1～5個表示經1～3個烷基矽烷氧基取代之碳數1～29之烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基；
R
C表示氫原子、羥基、碳數1～6之烷氧基或下式所表示之基，
[化4]
(R
1c～R
5c中之1～5個表示經1～3個烷基矽烷氧基取代之碳數1～29之烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，或者於R
C表示該式之結構時，R
5c可與式(5)中之R
5c一起形成醚鍵(-O-)；再者，﹡表示與R
C之鍵結部位))，
上述製造方法之特徵在於，使烷基矽烷基化劑與下述通式(3)所表示之苯甲醯基化合物發生反應，
[化1]
(式中，R
1b～R
5b中之1～5個表示碳數1～16之羥基烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基；
R
B表示氫原子、羥基、碳數1～6之烷氧基或下式所表示之基，
[化2]
(R
1b～R
5b中之1～5個表示碳數1～16之羥基烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，或者於R
B表示該式之結構時，R
5b可與式(3)中之R
5b一起形成醚鍵(-O-)；再者，﹡表示與R
B之鍵結部位))。
[2]一種下述通式(6)所表示之烷基矽烷氧取代苄基化合物之製造方法，
[化9]
R
D表示氫原子或下式所表示之基，
[化10]
(R
1c～R
5c中之1～5個表示經1～3個烷基矽烷氧基取代之碳數1～29之烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，或者於R
D表示該式之結構時，R
5c可與式(6)中之R
5c一起形成醚鍵(-O-)；再者，﹡表示與R
D之鍵結部位))，
上述製造方法之特徵在於，使烷基矽烷基化劑與下述通式(3)所表示之苯甲醯基化合物發生反應，而獲得下述通式(5)所表示之烷基矽烷氧取代苯甲醯基化合物，其次使該烷基矽烷氧取代苯甲醯基化合物還原，
[化5]
(式中，R
1b～R
5b中之1～5個表示碳數1～16之羥基烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基；
R
B表示氫原子、羥基、碳數1～6之烷氧基或下式所表示之基，
[化6]
(R
1b～R
5b中之1～5個表示碳數1～16之羥基烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，或者於R
B表示該式之結構時，R
5b可與式(3)中之R
5b一起形成醚鍵(-O-))；
再者，﹡表示與R
B之鍵結部位)，
[化7]
(式中，R
1c～R
5c中之1～5個表示經1～3個烷基矽烷氧基取代之碳數1～29之烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基；
R
C表示氫原子、羥基、碳數1～6之烷氧基或下式所表示之基，
[化8]
(R
1c～R
5c中之1～5個表示經1～3個烷基矽烷氧基取代之碳數1～29之烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基)，或者於R
C表示該式之結構時，R
5c可與式(5)中之R
5c一起形成醚鍵(-O-)；再者，﹡表示與R
C之鍵結部位)。
[3]如[1]或[2]所記載之製造方法，其中上述通式(3)所表示之烷基矽烷氧取代苯甲醯基化合物為下述通式(1)所表示之化合物與鹵代醇反應而得者，
[化11]
(式中，R
1a～R
5a中之1～5個表示羥基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基；
R
A表示氫原子、羥基、碳數1～6之烷氧基或下式所表示之基，
[化12]
(R
1a～R
5a中之1～5個表示羥基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基)，或者於R
A表示該式之結構時，R
5a可與式(1)中之R
5a一起形成醚鍵(-O-)；再者，﹡表示與R
A之鍵結部位)。
[4]一種苯甲醯基化合物，其由下述通式(3)表示，
[化13]
(式中，R
1b～R
5b中之1～5個表示碳數1～16之羥基烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基；
R
B表示氫原子、羥基、碳數1～6之烷氧基或下式所表示之基，
[化14]
(R
1b～R
5b中之1～5個表示碳數1～16之羥基烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，或者於R
B表示該式之結構時，R
5b可與式(3)中之R
5b一起形成醚鍵(-O-)；再者，﹡表示與R
B之鍵結部位))。
[發明之效果]
根據本發明方法，無需再使用先前方法中存在穩定性不良或難以與中間化合物分離之問題的原料。又，由於中間化合物為固體，故反應步驟易於控制，且容易去除原料或原料之分解物，能夠於工業上有利地獲得烷基矽烷氧取代苄基化合物。
若以反應式表示本發明中之通式(1)之化合物至通式(6)之化合物之反應，則如下所述。
[化15]
(式中，R
1a～R
5a中之1～5個表示羥基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基；
R
A表示氫原子、羥基、碳數1～6之烷氧基或下式所表示之基，
[化16]
(R
1a～R
5a中之1～5個表示羥基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，或者於R
A表示該式之結構時，R
5a可與式(1)中之R
5a一起形成醚鍵(-O-)；再者，﹡表示與R
A之鍵結部位)；
R
1b～R
5b中之1～5個表示碳數1～16之羥基烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基；
R
B表示氫原子、羥基、碳數1～6之烷氧基或下式所表示之基，
[化17]
(R
1b～R
5b中之1～5個表示碳數1～16之羥基烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，或者於R
B表示該式之結構時，R
5b可與式(3)中之R
5b一起形成醚鍵(-O-)；再者，﹡表示與R
B之鍵結部位)；
R
1c～R
5c中之1～5個表示經1～3個烷基矽烷氧基取代之碳數1～29之烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基；
R
C表示氫原子、羥基、碳數1～6之烷氧基或下式所表示之基，
[化18]
(R
1c～R
5c中之1～5個表示經1～3個烷基矽烷氧基取代之碳數1～29之烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，或者於R
C表示該式之結構時，R
5c可與式(6)中之R
5c一起形成醚鍵(-O-)；再者，﹡表示與R
C之鍵結部位)；
R
D表示氫原子或下式所表示之基，
[化19]
(R
1c～R
5c中之1～5個表示經1～3個烷基矽烷氧基取代之碳數1～29之烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，或者於R
D表示該式之結構時，R
5c可與式(6)中之R
5c一起形成醚鍵(-O-)；再者，﹡表示與R
D之鍵結部位))。
本發明係一種通式(5)所表示之烷基矽烷氧基-烷氧基苯甲醯基化合物之製造方法，其特徵在於，使烷基矽烷基化劑與上述通式(3)所表示之羥基烷氧基苯甲醯基化合物發生反應。於說明書中，當記載為「烷基矽烷氧取代苯甲醯基化合物」時，表示該結構。
又，本發明係一種通式(6)所表示之烷基矽烷氧基-烷氧基苄基化合物之製造方法，其特徵在於，使烷基矽烷基化劑與上述通式(3)所表示之羥基烷氧基苯甲醯基化合物發生反應，獲得通式(5)所表示之烷基矽烷氧基-烷氧基苯甲醯基化合物，其次，使該烷基矽烷氧基-烷氧基苯甲醯基化合物還原。於說明書中，當記載為「烷基矽烷氧取代苄基化合物」時，表示該結構。
此處，上述通式(3)所表示之羥基烷氧基苯甲醯基化合物較佳為鹵代醇與通式(1)所表示之羥基苯甲醯基化合物發生反應所得者。
又，上述通式(3)所表示之羥基烷氧基苯甲醯基化合物為新穎化合物，故本發明提供該羥基烷氧基苯甲醯基化合物。
首先，對作為原料化合物之通式(1)之化合物進行說明。
R
1a～R
5a中之1～5個表示羥基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基。
該羥基較佳為1～4個，更佳為2～4個，進而較佳為2～3個，進而更佳為2個。
作為其餘之基，可例舉：氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，較佳為氫原子、鹵素原子或碳數1～4之烷基，更佳為氫原子。
此處，作為碳數1～4之烷基，可例舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基等。作為碳數1～4之烷氧基，可例舉：甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基等。作為鹵素原子，可例舉：氯原子、溴原子、氟原子、碘原子。
R
A表示氫原子、羥基、碳數1～6之烷氧基或下式所表示之基。
[化20]
(R
1a～R
5a中之1～5個表示羥基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，或者於R
A表示該式之結構時，R
5a可與式(1)中之R
5a一起形成醚鍵(-O-)；再者，﹡表示與R
A之鍵結部位)
作為碳數1～6之烷氧基，可例舉：甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、第三丁氧基、異丁氧基、正戊基、正己基等。其中，較佳為碳數1～5之烷氧基，更佳為碳數1～4之烷氧基。
作為R
1a～R
5a所表示之基，較佳為與上述相同之基。
藉由使鹵代醇(2)(式中記載為Hal-醇)與通式(1)之化合物發生反應，可獲得通式(3)之苯甲醯基化合物。
作為鹵代醇，可例舉碳數1～16之鹵代醇，較佳為碳數2～16之鹵代醇，更佳為碳數4～16之鹵代醇，進而較佳為碳數6～16之鹵代醇，進而更佳為碳數8～16之鹵代醇。作為鹵素原子，可例舉：溴原子、氯原子、碘原子、氟原子，較佳為溴原子、氯原子、碘原子。作為醇，可例舉直鏈或支鏈之醇。
通式(1)之化合物與鹵代醇(2)之反應較佳為於溶劑中存在鹼之情況下進行。
作為所用之反應溶劑，可例舉：二甲基甲醯胺(以下稱為DMF)、二乙基甲醯胺、1-甲基-2-吡咯啶酮(以下稱為NMP)、二甲基乙醯胺等醯胺系溶劑；1,3-二甲基-2-咪唑啶酮(以下稱為DMI)等脲系溶劑；二氯甲烷等鹵化溶劑；四氫呋喃、2-甲基四氫呋喃等醚類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類；甲醇、乙醇、異丙醇、正丙醇、正丁醇等醇系溶劑；乙腈等極性溶劑；又，該等各種之混合溶劑。其中，較佳為醯胺系溶劑、脲系溶劑，進而較佳為DMF、DMI。
作為鹼，可例舉：氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸氫鈉、碳酸氫鉀、氫化鈉、氫化鉀等無機鹼、及該等之水合物；甲醇鋰、乙醇鋰、甲醇鈉、乙醇鈉、甲醇鉀、乙醇鉀等金屬烷氧化物；1,8-二氮雜雙環[5.4.0]-7-十一烯、二異丙基乙基胺、三乙胺、二甲基苯胺、咪唑等有機鹼。作為較佳之鹼，可例舉：碳酸鉀、氫氧化鋰。
反應可於0℃～200℃之溫度下進行，較佳為50～150℃，進而較佳為70～120℃。反應較佳為進行15分鐘～48小時。
該反應中所得之通式(3)之苯甲醯基化合物可作為固體單離，故易於純化，使用性良好。再者，單離純化藉由清洗、再結晶等通常工業上可採用之方法可容易地實施。
通式(3)中之R
1b～R
5b中之1～5個表示碳數1～16之羥基烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基。
該羥基烷氧基較佳為1～4個，更佳為2～4個，進而較佳為2～3個，進而更佳為2個。
作為其餘之基，可例舉：氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，較佳為氫原子、鹵素原子或碳數1～4之烷基，更佳為氫原子。
R
B表示氫原子、羥基、碳數1～6之烷氧基或下式所表示之基。
[化21]
(R
1b～R
5b中之1～5個表示碳數1～16之羥基烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，或者於R
B表示該式之結構時，R
5b可與式(3)中之R
5b一起形成醚鍵(-O-)；再者，﹡表示與R
B之鍵結部位)
此處，碳數1～16之羥基烷氧基等基較佳為與上述R
1b～R
5b相同。
於上述通式(3)所表示之化合物中，可為如下化合物，其中R
1b～R
5b中之1～5個表示碳數1～16之羥基烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基；
R
B表示氫原子、羥基、碳數1～6之烷氧基或下式所表示之基。
[化22]
(R
1b～R
4b中之1～4個表示碳數1～16之羥基烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，於R
B表示該式之結構時，R
5b與式(3)中之R
5b一起形成醚鍵(-O-)；再者，﹡表示與R
B之鍵結部位)
藉由使烷基矽烷基化劑(4)與上述通式(3)之羥基烷氧基苯甲醯基化合物發生反應，可獲得通式(5)之烷基矽烷氧基-烷氧基苯甲醯基化合物。
用於該反應之烷基矽烷基化劑(4)為具有1～3個烷基矽烷基之矽烷化劑，較佳為具有下式(7)～(17)所表示之烷基矽烷基之矽烷化劑。再者，圖中﹡表示與羥基之氧原子之鍵結點。
[化23]
(此處，R
7、R
8、R
9相同或不同，表示碳數1～6之直鏈或支鏈之烷基、或者可具有取代基之芳基；R
10表示單鍵或碳數1～3之直鏈或支鏈之伸烷基；R
11、R
12及R
13分別表示碳數1～3之直鏈或支鏈之伸烷基)
此處，作為碳數1～6之直鏈或支鏈之烷基，可例舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、正己基等。其中，更佳為碳數1～4之烷基，進而較佳為甲基、第三丁基、異丙基。
作為可具有取代基之芳基，可例舉碳數6～10之芳基，具體可例舉：可經碳數1～3之烷基取代之苯基、萘基等。其中，進而較佳為苯基。
作為烷基矽烷基化劑，可例舉：烷基矽烷基鹵化物、烷基矽烷基咪唑、烷基矽烷基苯并三唑、烷基矽烷基三氟甲磺醯等。此處，作為鹵素原子，可例舉：溴原子、氯原子、碘原子。
通式(3)之苯甲醯基化合物與烷基矽烷基化劑(4)之反應較佳為於溶劑中存在鹼之情況下進行。
作為所用之反應溶劑，可例舉：DMF、二乙基甲醯胺、NMP、二甲基乙醯胺等醯胺系溶劑；DMI等脲系溶劑；二氯甲烷等鹵化溶劑；四氫呋喃、2-甲基四氫呋喃等醚類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類；乙腈等極性溶劑；又，該等各種之混合溶劑。其中，較佳為醯胺系溶劑、脲系溶劑，進而較佳為DMF、NMP、DMI。
作為鹼，可例舉：氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸氫鈉、碳酸氫鉀、氫化鈉、氫化鉀等無機鹽；以及該等之水合物；甲醇鋰、乙醇鋰、甲醇鈉、乙醇鈉、甲醇鉀、乙醇鉀等金屬烷氧化物；1,8-二氮雜雙環[5.4.0]-7-十一烯、二異丙基乙基胺、三乙胺、二甲基苯胺、咪唑等有機鹼。作為較佳之鹼，可例舉咪唑。
反應可於0℃～150℃之溫度下進行，較佳為20～100℃，進而較佳為50～80℃。又，反應較佳為進行15分鐘～48小時。
於該反應中，反應混合液中會副產出來自烷基矽烷基化劑之微量矽烷基系化合物。於此情形時，較佳為藉由液液分離去除矽烷基系化合物。作為目標物之烷基矽烷氧取代苯甲醯基化合物(5)溶解於庚烷等烷烴系溶劑中。對此，較佳為使用乙腈、甲醇、DMF、二甲基亞碸等極性溶劑進行液液分離。極性溶劑較佳為使用兩種以上之混合溶劑，特佳為乙腈與甲醇之組合。
通式(5)中之R
1c～R
5c中之1～5個表示經1～3個烷基矽烷氧基取代之碳數1～29之烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基。該經烷基矽烷氧基取代之碳數1～29之烷氧基之結構以下式表示。
[化24]
(R
E表示碳數1～16之直鏈或支鏈之烷基，A表示式(7)～(17)；再者，﹡表示與作為母核之苯甲醯基骨架、二苯基酮骨架、𠮿酮骨架上之碳原子之鍵結部位)
烷氧基之碳數1～29為來自鹵代醇(2)之碳數1～16之羥基烷氧基鏈之碳數與式(7)～(17)所示之矽烷化劑中之R
10、R
11、R
12及R
13所含之碳數之合計值。
該經1～3個烷基矽烷氧基取代之碳數1～29之烷氧基較佳為1～4個，更佳為2～4個，進而較佳為2～3個，進而更佳為2個。
作為其餘之基，可例舉：氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，較佳為氫原子、鹵素原子或碳數1～4之烷基，更佳為氫原子。
R
C表示氫原子、羥基、碳數1～6之烷氧基或下式所表示之基。
[化25]
(R
1b～R
5b中之1～5個表示經1～3個烷基矽烷氧基取代之碳數1～29之烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，或者於R
C表示該式之結構時，R
5c可與式(5)中之R
5c一起形成醚鍵(-O-)；再者，﹡表示與R
C之鍵結部位)
此處，經1～3個烷基矽烷氧基取代之碳數1～29之烷氧基可例舉與上述烷基矽烷基相同者。又，R
1c～R
5c之其他取代基較佳為與上述R
1b～R
5b相同。
藉由使所得之烷基矽烷氧基-烷氧基苯甲醯基化合物(5)還原，可獲得通式(6)之烷基矽烷氧基-烷氧基苄基化合物。
還原反應並無特別限定，可使羰基還原之方法即可，較佳為使用還原劑之方法。作為還原劑，可例舉：亞鐵離子、氫化鋁鋰、硼氫化鈉、硼氫化鋰、氫化雙(2-乙氧基乙氧基)鋁鈉(以下稱為SBAH)、硼烷、二異丁基氫化鋁等。
還原反應較佳為於苯、甲苯等芳香族烴系溶劑，四氫呋喃、2-甲基四氫呋喃、環戊基甲醚等醚系溶劑，甲醇、乙醇、異丙醇、正丙醇、正丁醇等醇系溶劑，或者該等之混合溶劑中，以0℃～100℃之溫度進行15分鐘～48小時。
藉由上述還原反應，可獲得通式(6)之烷基矽烷氧基-烷氧基苄基化合物。
通式(6)之烷基矽烷氧基-烷氧基苄基化合物如專利文獻1～3所記載，適宜用作液相肽合成用載體。又，亦可將式(6)中之羥基轉換為鹵代羰氧基、活性酯型羰氧基、活性酯型磺醯氧基等。
[實施例]
其次，例舉實施例，進一步詳細地對本發明進行說明，但本發明並不受該等實施例任何限定。
比較例1 利用先前方法進行之TIPS2-Dpm-OH之合成
[化26]
(以下，Br-(CH
2)
11-OTIPS、TIPS2-Dpm-C=O、TIPS2-Dpm-OH表示式中之結構)
(1-a) Br-(CH
2)
11-O-TIPS
將11-溴-1-十一醇0.90 g(3.58 mmol)溶解於二氯甲烷12.8 mL中，添加咪唑0.61 g(8.96 mmol)，冷卻至5℃，滴加氯化三異丙基矽烷(以下稱為TIPS-Cl)0.91 mL(4.30 mmol)。5分鐘後，恢復至室溫，攪拌2小時。向反應溶液中添加環戊基甲醚51.2 mL，以蒸餾水12.8 mL清洗1次，以1 M鹽酸水溶液12.8 mL清洗1次，以蒸餾水12.8 mL清洗3次，蒸餾去除有機層。將殘渣溶解於庚烷51.2 mL中，以乙腈25.6 mL進行分液清洗。向所得之庚烷層中添加庚烷12.8 mL，以乙腈25.6 mL進行分液清洗。進而進行一次上述利用庚烷及乙腈之分液清洗後，蒸餾去除溶劑，獲得Br-(CH
2)
11-O-TIPS 1.45 g(產率99.3%)。所得之Br-(CH
2)
11-O-TIPS為油狀。
1H-NMR (400 MHz, CDCl
3) δ1.03-1.20 (m, 21H), 1.24-1.49 (m, 14H), 1.54 (quin., 2H), 1.85 (quin., 2H), 3.41 (t, 2H), 3.66 (t, 2H)
ESIMS MH+ 407.1
(1-b) TIPS2-Dpm-C=O
使Br-(CH
2)
11-OTIPS 9.81 g(24.1 mmol)、4,4'-二羥基二苯甲酮2.29 g(10.7 mmol)、碳酸鉀5.33 g(38.5 mmol)懸浮於DMF3.2 mL中，加熱至85℃，攪拌2小時。過濾反應溶液，以庚烷150 mL清洗濾渣。對濾液進行分液，向所得之庚烷層中添加庚烷71 mL，以DMF 71 mL進行分液清洗。進而進行1次上述利用庚烷及DMF之分液清洗。向所得之庚烷層中添加庚烷71 mL，以1 M鹽酸水溶液71 mL進行1次分液清洗，以5%碳酸氫鈉水溶液71 mL進行1次分液清洗，以蒸餾水71 mL進行1次分液清洗。向所得之庚烷層中添加庚烷71 mL，以DMF 71 mL進行1次分液清洗，以乙腈71 mL進行1次分液清洗。於減壓下濃縮庚烷層，獲得TIPS2-Dpm-C=O 10.7 g。
1H-NMR (400 MHz, CDCl
3) δ1.04-1.08 (m, 42H), 1.20-1.39 (m, 24H), 1.41-1.49 (m, 4H), 1.49-1.57 (m, 4H), 1.71-1.85 (m, 4H), 3.67 (t, 4H), 4.03 (t, 4H), 6.94 (d,4H), 7.77 (d,4H)
13C-NMR (100 MHz, CDCl
3) δ12.2 (6C), 18.2 (12C), 26.0 (2C), 26.2 (2C), 29.2-29.8 (12C), 33.2 (2C), 63.7 (2C), 68.4 (2C), 114.0 (4C), 130.7 (2C), 132.4 (4C), 162.6 (2C), 194.6
ESIMS MNa+ 889.8
(1-c) TIPS2-Dpm-OH
將TIPS2-Dpm-C=O 0.81 g(0.93 mmol)溶解於THF(無水)7.1 mL、甲醇0.36 mL之混合溶液中，添加硼氫化鈉42 mg(1.12 mmol)，攪拌1.5小時。向反應溶液中添加1 M鹽酸水溶液0.89 mL而停止反應，添加20.3 mL之環戊基甲醚，以1 M鹽酸水溶液6.1 mL清洗1次，以5%碳酸氫鈉水溶液6.1 mL清洗1次，以蒸餾水6.1 mL清洗1次，於減壓下濃縮有機層。將所得之殘渣溶解於庚烷20.0 mL中，以DMF 10.0 mL進行分液清洗。向所得之庚烷層中添加庚烷10.0 mL，以乙腈10.0 mL進行分液清洗。進而進行一次上述利用庚烷及乙腈之分液清洗後，於減壓下濃縮庚烷層，獲得TIPS2-Dpm-OH 0.81 g。
1H-NMR (400 MHz, 苯-d) δ1.12-1.16 (m, 42H), 1.23-1.54 (m, 32H), 1.57-1.71 (m, 4H), 1.79 (s, 1H), 3.68 (t, 8H), 5.61 (s, 1H), 6.84-6.89 (m, 4H), 7.27-7.33 (m, 4H)
13C-NMR (100 MHz, 苯-d) δ12.8 (6C), 18.7 (12C), 26.7 (2C), 26.8 (2C), 30.2-30.5 (12C), 33.9 (2C), 64.1 (2C), 68.3 (2C), 75.9, 114.9 (4C), 128.6 (4C), 137.8 (2C), 159.4 (2C)
藉由HPLC(high performance liquid chromatography，高效液相層析法)分析TIPS2-Dpm-OH之部分純化物中所含之作為雜質之HO-(CH
2)
11-OTIPS之比率，結果包含5.1重量%。
分析條件(HPLC)
管柱：YMC-Triart C18
(內徑3.0 mm，長100 mm，粒徑1.9 μm)
流動相A：含0.01 M甲酸銨，乙腈：水＝8：2溶液
流動相B：含0.01 M甲酸銨，異丙醇：水＝100：1溶液
流速：0.25 mL/分鐘
管柱溫度：40℃
檢測波長：200 nm
梯度條件：0%B(0分鐘)→0%B(5分鐘)→100%B(22分鐘)→100%B(27分鐘)→0%B(29分鐘)→0%B(31分鐘)
實施例1 利用本發明之方法進行之TIPS2-Dpm-OH之合成
[化27]
(以下，HO-Dpm-C=O、TIPS2-Dpm-C=O表示式中之結構)
(2-a) HO-Dpm-C=O
將4,4'-二羥基二苯甲酮40.0 g(186.9 mmol)、11-溴-1-十一醇112.0 g(445.8 mmol)、碳酸鉀75.9 g(548.2 mmol)溶解於DMF 400 mL中，加熱至90℃，攪拌2小時。將蒸餾水480 mL滴加至反應液中，析出產物，自然冷卻至室溫。過濾析出物，以蒸餾水清洗濾渣。使濾得之固體再次懸浮於甲醇480 mL中，加熱至60℃，攪拌1小時。自然冷卻至室溫後，過濾固體，以甲醇進行清洗。對所得之固體進行減壓乾燥，獲得HO-Dpm-C=O 100.6 g(產率97%)。
1H-NMR (400 MHz, 吡啶-D5) δ8.04 (d, J=8.7 Hz, 4H),7.17 (d, J=8.7 Hz, 4H),5.93 (brs, 2H),4.04 (t, J=6.6 Hz, 4H),3.90 (t, J=6.2 Hz, 4H)1.70-1.84 (m, 8H), 1.39-1.59 (m, 8H), 1.20-1.39 (m, 20H)
13C-NMR (100 MHz, 吡啶-D5) δ26.3, 26.6, 29.4, 29.6, 29.8, 29.9, 30.0, 33.8, 62.1, 68.5, 114.6, 131.1, 132.6, 163.0, 194.0
ESIMS [M＋Na]
+Calculated for [C
35H
54Na
1O
5]
+：577.3864, found: 577.3863
(2-b) TIPS2-Dpm-C=O
將HO-Dpm-C=O 100.0 g(180.2 mmol)、咪唑44.2 g(649.3 mmol)、TIPS-Cl 83.7 g(434.2 mmol)溶解於DMF 600 mL中，加熱至50℃，攪拌2小時。添加甲醇58.3 mL，攪拌8小時。進而添加蒸餾水601 mL、庚烷661 mL，於室溫下攪拌30分鐘後，將下層廢棄。向上層添加庚烷120 mL、乙腈300 mL、甲醇300 mL而進行分液，將下層廢棄。進一步進行1次本操作。對所得之上層進行減壓濃縮，獲得TIPS2-Dpm-C=O 158.5 g(quant.)。
(2-c) TIPS2-Dpm-OH
將所得之TIPS2-Dpm-C=O 146.0 g(168.3 mmol)溶解於甲苯584 mL中，進行冰浴冷卻。歷時30分鐘以上滴加SBAH(70%甲苯溶液)94 mL，進而於冰浴冷卻下攪拌2小時。滴加30%酒石酸鉀鈉水溶液584 mL，進而攪拌1小時。升溫至室溫，以甲苯 150 mL轉移至分液漏斗，將上層回收。減壓濃縮，獲得TIPS2-Dpm-OH 145 g(產率99%)。
藉由與比較例1相同之方法分析TIPS2-Dpm-OH中所含之作為雜質之HO-(CH
2)
11-OTIPS之量。TIPS2-Dpm-OH中所含之HO-(CH
2)
11-OTIPS為1.6重量%。
實施例2 利用本發明之方法進行之TIPS2-Dpm-OH之合成
(3-a) HO-Dpm-C=O
將4,4'-二羥基二苯甲酮10.0 g(46.7 mmol)、11-溴-1-十一醇28.1 g(112.0 mmol)、氫氧化鋰一水合物4.9 g(116.5 mmol)溶解於DMI 117 mL中，於70℃下攪拌4小時。將蒸餾水175 mL滴加至反應液中，析出產物，自然冷卻至室溫。過濾析出物，以蒸餾水清洗濾渣。使濾得之固體再次懸浮於甲醇117 Ml中，於60℃下攪拌1小時。自然冷卻至室溫後，過濾固體，以甲醇進行清洗。對所得之固體進行減壓乾燥，獲得HO-Dpm-C=O 25.2 g(產率97%)。
(3-b) TIPS2-Dpm-C=O
將HO-Dpm-C=O 5.0 g(9.0 mmol)、咪唑2.2 g(32.4 mmol)、TIPS-Cl 4.58 mL(21.6 mmol)溶解於NMP 30.0 mL中，於50℃下攪拌3小時。其後，添加甲醇2.9 mL，於室溫下攪拌8小時。向其中添加蒸餾水30.0 mL、庚烷30.0 mL，於室溫下攪拌30分鐘後，將下層廢棄。向上層添加甲醇15.0 mL、乙腈15.0 mL而進行分液，將下層廢棄。向上層添加庚烷15.0 mL、甲醇15.0 mL、乙腈15.0 mL而再次進行分液，將下層廢棄。對所得之上層進行減壓濃縮，獲得TIPS2-Dpm-C=O 7.86 g(quant.)。
(3-c) TIPS2-Dpm-OH
將所得之TIPS2-Dpm-C=O 1.0 g(1.2 mmol)溶解於甲苯4.0 mL中，進行冰浴冷卻。滴加SBAH(70%甲苯溶液)650 μL，於冰浴冷卻下攪拌2小時。滴加30%酒石酸鉀鈉水溶液4.0 mL，進而攪拌1小時。升溫至室溫後，轉移至分液漏斗，將上層回收。藉由無水硫酸鎂使所得之上層乾燥後，對其進行過濾。使所得之溶液減壓濃縮，獲得TIPS2-Dpm-OH 1.0 g(quant.)。
藉由與比較例1相同之方法分析TIPS2-Dpm-OH中所含之作為雜質之HO-(CH
2)
11-OTIPS之量。TIPS2-Dpm-OH中所含之HO-(CH
2)
11-OTIPS為檢測極限以下。
於比較例1中，Br-(CH
2)
11-O-TIPS相對於4,4'-二羥基二苯甲酮添加了2.25當量。作為剩餘量之0.25當量之Br-(CH
2)
11-O-TIPS、以及本化合物經分解所得之HO-(CH
2)
11-O-TIPS為脂溶性，具有與分液操作上作為目標物之TIPS2-Dpm-C=O、TIPS2-Dpm-OH相似之物性，不易分離。伸長了側鏈之作為中間物之TIPS2-Dpm-C=O、TIPS2-Dpm-OH均為油狀化合物，故未能完成使TIPS2-Dpm-C=O或TIPS2-Dpm-OH固化，使用特定之溶劑清洗Br-(CH
2)
11-O-TIPS而將其去除之操作。因此，該等來自側鏈伸長反應之原料之化合物相對於4,4'-二羥基二苯甲酮維持著0.25當量左右之較多量而混入至最終目標物中，使得TIPS2-Dpm-OH之部分純化物之純度降低。作為目標物之TIPS2-Dpm-OH中仍包含5.1重量%之HO-(CH
2)
11-OTIPS。
相對於此，於實施例1中，使用11-溴-1-十一醇使側鏈伸長而成之中間物HO-Dpm-C=O為固狀物。因此，藉由利用11-溴-1-十一醇之溶解力較高之甲醇之類的有機溶劑清洗HO-Dpm-C=O，可容易去除11-溴-1-十一醇，可提昇作為最終目標物之TIPS2-Dpm-OH之部分純化物之純度。作為目標物之TIPS2-Dpm-OH中所含之HO-(CH
2)
11-OTIPS為1.6重量%，較比較例1有所減少。又，於實施例2中，藉由變更反應溶劑及所用之鹼，而成功抑制了曾成為HO-(CH
2)
11-OTIPS殘存之原因之HO-(CH
2)
11-Br與HO-Dpm-C=O之碳酸交聯體之生成，使作為最終目標物之TIPS2-Dpm-OH中所含之HO-(CH
2)
11-OTIPS之量減少至檢測極限以下。
綜上，於本發明之製造方法中，使不易分離之作為雜質之HO-(CH
2)
11-OTIPS之混入量與先前方法相比大幅減少。
於先前之方法中，難以使HO-(CH
2)
11-OTIPS液液分離，故所得之HO-(CH
2)
11-OTIPS需進一步藉由管柱層析法等進行精密純化。如此，於先前方法中，不易以工業規模大量製造烷基矽烷氧基-烷氧基苄基化合物。相對於此，於本案之製造方法中，大幅減少了HO-(CH
2)
11-OTIPS之混入量，可於工業上有利地獲得烷基矽烷氧取代苄基化合物。
再者，先前方法中所用之Br-(CH
2)
11-O-TIPS係於室溫下會緩慢分解之不穩定之化合物，於本發明之方法中，亦具有避免了使用不穩定之原料之優點。
比較例2 利用先前方法進行之TIPS2-B-OH之合成
[化28]
(以下，TIPS2-B-CHO、TIPS2-B-OH表示圖中之結構)
(4-a)：TIPS2-B-CHO
使Br-(CH
2)
11-O-TIPS 1.20 g(2.95 mmol)、2,4-二羥基苯甲醛0.17 g(1.23 mmol)、碳酸鉀0.612 g(4.43 mmol)懸浮於DMF 8.2 mL中，加熱至85℃，攪拌2小時。過濾反應溶液，以庚烷17.2 mL清洗濾渣。對濾液進行分液，向所得之庚烷層添加庚烷8.2 mL，以DMF 8.2 mL進行分液清洗。進而進行1次上述利用庚烷及DMF之分液清洗。向所得之庚烷層添加庚烷8.2 mL，以1 M鹽酸水溶液8.2 mL進行1次分液清洗，以5%碳酸氫鈉水溶液8.2 mL進行1次分液清洗，以蒸餾水8.2 mL進行1次分液清洗。向所得之庚烷層添加庚烷8.2 mL，以DMF 8.2 mL進行分液清洗。向所得之庚烷層添加庚烷8.2 mL，以乙腈8.2 mL進行分液清洗。以矽膠管柱層析法(己烷：乙酸乙酯＝100：1)對蒸餾去除庚烷層所得之殘渣A進行純化，獲得TIPS2-B-CHO 0.82 g(84.2%)。再者，於本反應中，蒸餾去除溶劑所得之殘渣A中包含大量Br-(CH
2)
11-O-TIPS及作為其分解物之HO-(CH
2)
11-O-TIPS。該等衍生為作為最終製品之TIPS2-B-OH後不易被去除，故將殘渣A供於矽膠管柱層析法，於本步驟中，將Br-(CH
2)
11-O-TIPS及作為其分解物之HO-(CH
2)
11-O-TIPS去除。
1H-NMR (400 MHz, CDCl
3) δ1.03-1.06 (m, 42H), 1.20-1.39 (m, 28H), 1.40-1.56 (m, 4H), 1.73-1.86 (m, 4H), 3.64-3.68 (m, 4H), 3.96-4.04 (m, 4H), 6.41 (d, 1H), 6.48-6.52 (m, 1H), 7.79 (d, 1H), 10.33 (s, 1H)
13C-NMR (100 MHz, CDCl
3) δ12.2 (6C), 18.2 (12C), 26.0 (2C), 26.1, 26.2, 29.2-29.8 (12C), 33.2 (2C) 63.7 (2C), 68.6, 68.7, 99.1, 106.3, 119.1, 130.4, 163.5, 165.9, 188.6
ESIMS MH+ 791.6
(4-b)：TIPS2-B-OH
將TIPS2-B-CHO 0.49 g(0.62 mmol)溶解於THF(無水)4.7 mL、甲醇0.24 mL之混合溶液中，冷卻至5℃，添加硼氫化鈉28 mg(0.75 mmol)，攪拌1小時。向反應溶液中添加1 M鹽酸水溶液0.59 mL而停止反應，添加12.3 mL之環戊基甲醚，以1 M鹽酸水溶液3.7 mL進行3次分液清洗，以5%碳酸氫鈉水溶液3.7 mL進行1次分液清洗，以蒸餾水3.7 mL進行1次分液清洗，蒸餾去除溶劑。將所得之殘渣溶解於庚烷12.3 mL中，以DMF 6.2 mL進行分液清洗。向所得之庚烷層添加庚烷6.2 mL，以乙腈6.2 mL進行分液清洗。進一步進行一次上述利用庚烷及乙腈之分液清洗後，蒸餾去除溶劑，獲得TIPS2-B-OH 0.44 g(產率89.6%)。
1H-NMR (400 MHz, CDCl
3) δ1.04-1.07 (m, 42H), 1.20-1.39 (m, 28H), 1.40-1.57 (m, 4H), 1.71-1.85 (m, 4H), 2.24 (t, 1H), 3.64-3.69 (m, 4H), 3.89-4.00 (m, 4H), 4.61 (d, 2H), 6.39-6.44 (m, 1H), 6.45 (d, 1H), 7.13 (d, 1H)
13C-NMR (100 MHz, CDCl
3) δ12.2 (6C), 18.2 (12C), 26.0 (2C), 26.2, 26.3, 29.4-29.8 (12C), 33.2 (2 C), 62.2, 63.7 (2C), 68.2, 68.3, 100.0, 104.6, 121.9, 129.7, 158.3, 160.3
ESIMS MNa+ 815.6
實施例3 利用本發明之方法進行之TIPS2-B-OH之合成
[化29]
(以下，HO2-B-CO
2Me、TIPS2-B-CO
2Me表示式中之結構)
(5-a) HO2-B-CO
2Me
使2,4-二羥基苯甲酸甲酯300 g(1.78 mol)、11-溴-1-十一醇1345 g(5.35 mol)、碳酸銫1976 g(6.06 mol)懸浮於DMF 3 L中，於50℃下攪拌2小時。冷卻至室溫後，將蒸餾水9 L滴加至反應液中，冷卻至10℃而將產物析出。過濾析出物後，以蒸餾水清洗所得之固體，進而以乙腈進行清洗。使濾得之固體懸浮於乙腈4.5 L中，於室溫下攪拌2小時。過濾固體，以乙腈進行清洗。對所得之固體進行減壓乾燥，獲得HO2-B-CO
2Me 814 g(產率90%)。
1H-NMR (400 MHz, CDCl
3) δ7.82 (d, J=9.2 Hz, 1H), 6.43-6.49 (m, 2H), 3.99 (t, J=6.4 Hz, 2H), 3.98 (t, J=6.4 Hz, 2H), 3.85 (s, 3H), 3.59-3.69 (m, 4H), 1.72-1.89 (m, 4H), 1.40-1.61 (m, 8H), 1.24-1.40 (m, 26H)
13C-NMR (100 MHz, CDCl
3) δ25.9, 26.1 (2C), 29.2, 29.3, 29.4, 29.5 (2C), 29.6 (2C), 29.7 (2C), 32.9, 51.7, 63.2, 68.3, 69.0, 100.4, 105.2, 112.4, 133.9, 161.0, 163.9, 166.6
ESIMS [M＋H]
+Calculated for[C
30H
53O
6]
+: 509.3838, found: 509.3837
(5-b) TIPS2-B-CO
2Me
將HO2-B-CO
2Me 813 g(1.60 mol)、咪唑489 g(7.18 mol)溶解於DMF 4872 mL中，添加TIPS-Cl 975 mL(4.60 mol)後，於室溫下攪拌1.5小時。添加甲醇570 mL，攪拌1.5小時。進而添加蒸餾水5690 mL、庚烷4880 mL，於室溫下攪拌15分鐘，靜置，將下層廢棄。向上層添加50%IPA(isopropanol，異丙醇)水溶液2440 mL後，攪拌、靜置，將下層廢棄。進而向上層添加50%IPA水溶液2440 mL後，攪拌、靜置，將下層廢棄。對上層進行減壓濃縮後，添加甲苯 2400 mL，共沸後，獲得TIPS2-B-CO
2Me 1689 g。
1H-NMR (400 MHz, CDCl
3) δ7.82 (d, J=9.2 Hz, 1H), 6.43-6.49 (m, 2H), 3.99 (t, J=6.9 Hz, 2H), 3.98 (t, J=6.4 Hz, 2H), 3.84 (s, 3H),3.63-3.71 (m, 4H), 1.72-1.90 (m, 4H), 1.40-1.60 (m, 8H), 1.24-1.40 (m, 26H), 1.00-1.14 (m, 46H)
13C-NMR (100 MHz, CDCl
3) δ12.2, 18.2, 26.0, 26.1 (2C), 29.3 (2C), 29.5 (2C), 29.6 (2C), 29.7 (3C), 29.8 (2C), 33.2, 51.7, 63.6, 68.4, 69.0, 100.4, 105.2, 112.4, 133.9, 161.0, 163.9, 166.6
ESIMS [M＋H]
+Calculated for[C
48H
93O
6Si
2]
+: 821.6505, found: 821.6507
(5-c) TIPS2-B-OH
將TIPS2-B-CO
2Me 844 g(1.03 mol)溶解於甲苯3282 mL中，於氮氣流下進行冰浴冷卻。歷時30分鐘以上滴加SBAH(70%甲苯溶液)445 mL，進而於冰浴冷卻下攪拌30分鐘。滴加30%酒石酸鉀鈉水溶液3282 mL，進而攪拌1小時。升溫至室溫，分液後，向上層添加無水硫酸鎂，攪拌1小時後過濾，進行甲苯清洗。減壓濃縮，獲得TIPS2-B-OH濃縮殘渣758 g。
藉由與比較例1相同之HPLC條件分析TIPS2-B-OH濃縮殘渣中所含之HO-(CH
2)
11-OTIPS之量，結果包含0.25%重量之HO-(CH
2)
11-OTIPS。
於比較例2中，Br-(CH
2)
11-O-TIPS相對於2,4-二羥基苯甲醛添加了2.4當量。作為剩餘量之0.4當量之Br-(CH
2)
11-O-TIPS、以及本化合物經分解所得之HO-(CH
2)
11-O-TIPS為脂溶性，具有與分液操作上作為目標物之TIPS2-B-CHO、TIPS2-B-OH相似之物性，不易分離。伸長了側鏈之作為中間物之TIPS2-B-CHO、TIPS2-B-OH均為油狀化合物，故未能完成使TIPS2-B-CHO、或TIPS2-B-OH固化，使用特定之溶劑清洗Br-(CH
2)
11-O-TIPS而將其去除之操作。因此，該等來自側鏈伸長反應之原料之化合物相對於2,4-二羥基苯甲醛維持著0.4當量左右之較多量而混入至最終目標物中，使得TIPS2-B-OH之部分純化物即液液分離後之殘渣A之純度降低。殘渣A中包含大量Br-(CH
2)
11-O-TIPS及作為其分解物之HO-(CH
2)
11-O-TIPS。該等衍生為作為最終製品之TIPS2-B-OH後不易被去除，故需將殘渣A供於矽膠管柱層析法。如此，於先前方法中，不易以工業規模大量製造TIPS2-B-OH。
相對於此，於實施例2中，使用11-溴-1-十一醇使側鏈伸長而成之中間物HO2-B-CO
2Me為固狀物。因此，藉由利用11-溴-1-十一醇之溶解力較高之乙腈之類的有機溶劑清洗HO2-B-CO
2Me，可容易去除11-溴-1-十一醇，可提昇作為最終目標物之TIPS2-B-OH濃縮殘渣之純度。
Claims (4)
- 一種下述通式(5)所表示之烷基矽烷氧取代苯甲醯基化合物之製造方法， [化3](式中，R 1c～R 5c中之1～5個表示經1～3個烷基矽烷氧基取代之碳數1～29之烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷氧基或碳數1～4之烷氧基； R C表示氫原子、羥基、碳數1～6之烷氧基或下式所表示之基， [化4]
(R 1c～R 5c中之1～5個表示經1～3個烷基矽烷氧基取代之碳數1～29之烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，或者於R C表示該式之結構時，R 5c可與式(5)中之R 5c一起形成醚鍵(-O-)；再者，﹡表示與R C之鍵結部位))， 上述製造方法之特徵在於，使烷基矽烷基化劑與下述通式(3)所表示之苯甲醯基化合物發生反應， [化1]
(式中，R 1b～R 5b中之1～5個表示碳數1～16之羥基烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基； R B表示氫原子、羥基、碳數1～6之烷氧基或下式所表示之基， [化2]
(R 1b～R 5b中之1～5個表示碳數1～16之羥基烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，或者於R B表示該式之結構時，R 5b可與式(3)中之R 5b一起形成醚鍵(-O-)；再者，﹡表示與R B之鍵結部位))。
- 一種下述通式(6)所表示之烷基矽烷氧取代苄基化合物之製造方法， [化9]R D表示氫原子或下式所表示之基， [化10]
(R 1c～R 5c中之1～5個表示經1～3個烷基矽烷氧基取代之碳數1～29之烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，或者於R D表示該式之結構時，R 5c可與式(5)中之R 5c一起形成醚鍵(-O-)；再者，﹡表示與R D之鍵結部位))， 上述製造方法之特徵在於，使烷基矽烷基化劑與下述通式(3)所表示之苯甲醯基化合物發生反應，而獲得下述通式(5)所表示之烷基矽烷氧取代苯甲醯基化合物，其次使該烷基矽烷氧取代苯甲醯基化合物還原， [化5]
(式中，R 1b～R 5b中之1～5個表示碳數1～16之羥基烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基； R B表示氫原子、羥基、碳數1～6之烷氧基或下式所表示之基， [化6]
(R 1b～R 5b中之1～5個表示碳數1～16之羥基烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，或者於R B表示該式之結構時，R 5b可與式(3)中之R 5b一起形成醚鍵(-O-)；再者，﹡表示與R B之鍵結部位))， [化7]
(式中，R 1c～R 5c中之1～5個表示經1～3個烷基矽烷氧基取代之碳數1～29之烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基； R C表示氫原子、羥基、碳數1～6之烷氧基或下式所表示之基， [化8]
(R 1c～R 5c中之1～5個表示經1～3個烷基矽烷氧基取代之碳數1～29之烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，或者於R C表示該式之結構時，R 5c可與式(5)中之R 5c一起形成醚鍵(-O-)；再者，﹡表示與R C之鍵結部位))。
- 如請求項1或2之製造方法，其中上述通式(3)所表示之烷基矽烷氧取代苯甲醯基化合物為下述通式(1)所表示之化合物與鹵代醇反應所得者， [化11](式中，R 1a～R 5a中之1～5個表示羥基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基； R A表示氫原子、羥基、碳數1～6之烷氧基或下式所表示之基， [化12]
(R 1a～R 5a中之1～5個表示羥基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基)， 或者於R A表示該式之結構時，R 5a可與式(1)中之R 5a一起形成醚鍵(-O-)；再者，﹡表示與R A之鍵結部位)。
- 一種苯甲醯基化合物，其由下述通式(3)所表示， [化13](式中，R 1b～R 5b中之1～5個表示碳數1～16之羥基烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基； R B表示氫原子、羥基、碳數1～6之烷氧基或下式所表示之基， [化14]
(R 1b～R 5b中之1～5個表示碳數1～16之羥基烷氧基，其餘表示氫原子、鹵素原子、碳數1～4之烷基、或碳數1～4之烷氧基，或者於R B表示該式之結構時，R 5b可與式(3)中之R 5b一起形成醚鍵(-O-)；再者，﹡表示與R B之鍵結部位))。
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