TW202310113A - 塗覆顯影設備 - Google Patents

Abstract

本發明揭示一種塗覆顯影設備，包括依次連接的設備前端模組、工藝站以及介面站，工藝站包括塗覆單元、顯影單元、至少一個橫向移動的移動傳輸部以及至少一個側面機械手，當基板在塗覆單元完成處理後，由至少一個側面機械手將基板搬入移動傳輸部中，並由移動傳輸部傳送至介面站；當基板在顯影單元完成處理後，由至少一個側面機械手將基板搬入移動傳輸部中，並由移動傳輸部傳送至設備前端模組。在本發明中，配置移動傳輸部和側面機械手，負責在設備前端模組和介面站之間傳送在塗覆或顯影單元完成處理之後的基板，能夠降低塗覆或顯影單元內部的機械手運行負荷，從而降低機械手運行效率對塗覆顯影設備產出率的影響，進而提高塗覆顯影設備的產出率。

Description

塗覆顯影設備

本發明關於半導體製造設備領域，特別是關於一種塗覆顯影設備。

目前實現光刻工藝的內連線台是由塗膠顯影機台和曝光機組成。光刻工藝的一般流程為：基板在塗膠顯影機台完成塗膠工藝處理後，送入曝光機中進曝光處理，經曝光後的基板再次返回塗膠顯影機台完成顯影工藝處理。

傳統的塗膠顯影機台，例如專利文獻1（CN104465460B）所記載，包括依次串聯的載體塊、處理塊和介面塊。其中，處理塊具備疊層佈置的四層塗覆用單位塊，以及堆疊在四層塗覆用單位塊之上的顯影用單位塊。各層單位塊內配置一個在其中央搬運區域水平移動的機械手。受限於設備總高度的設計要求，可能沒有足夠的空間為每層單位塊均配置風機過濾機組（FFU），進而無法保證各層單位塊內工藝環境的潔淨度，最終會增加基板表面產生顆粒污染的風險。

此外，各層單位塊內的機械手既要忙於在單位塊內的各處理模組（例如塗覆模組、顯影模組或熱處理模組）之間傳送基板，還要忙於在載體塊和介面塊之間傳遞基板，這將導致工藝機器人十分忙碌，一定程度上會抑制設備的運行效率。

本發明提出的塗覆顯影設備及其基板傳輸方法，可減少基板顆粒污染風險，並提高設備的整體運行效率。

本發明提供的塗覆顯影設備，包括依次連接的設備前端模組、工藝站以及介面站，其中，工藝站包括： 塗覆單元，包含至少一列垂直堆疊的塗覆模組，用於對基板進行塗覆處理； 顯影單元，包含至少一列垂直堆疊的顯影模組，用於對基板進行顯影處理； 至少一個橫向運動的移動傳輸部；以及 至少一個垂直運動的側面機械手； 其中基板在塗覆單元完成處理後，由所述至少一個側面機械手將基板搬入移動傳輸部中，並由移動傳輸部傳送至介面站；基板在顯影單元完成處理後，由所述至少一個側面機械手將基板搬入移動傳輸部中，並由移動傳輸部傳送至設備前端模組。

塗覆單元內的塗覆模組採用垂直佈局，能夠使多層塗覆模組共用同一個塗覆機械手，可以減少塗覆單元內FFU的安裝數量，使得工藝環境控制更加容易。顯影單元與塗覆單元一樣，可以採用較少數量的FFU便可以確保整個單元內部環境的潔淨度。

橫向運動的移動傳輸部和垂直運動的側面機械手有效配合，使得在塗覆或顯影單元完成處理後的基板快速傳送至介面站或設備前端模組，能夠提高設備的運行效率。

作為本發明的一種可選方案，塗覆單元還包括至少一列垂直堆疊的熱處理模組，位於塗覆模組的對面，用於對塗覆處理前後的基板進行加熱和冷卻處理； 顯影單元還包括至少一列垂直堆疊的熱處理模組，位於顯影模組的對面，用於對顯影處理前後的基板進行加熱和冷卻處理。

作為本發明的一種可選方案，所述至少一個移動傳輸部位於塗覆單元和顯影單元的頂部或底部。

作為本發明的一種可選方案，塗覆單元還包括至少一個塗覆機械手，用於在塗覆單元的塗覆模組和熱處理模組之間傳送基板； 顯影單元還包括至少一個顯影機械手，用於在顯影單元的顯影模組和熱處理模組之間傳送基板。

塗覆單元內多列垂直堆疊的塗覆模組可以共用同一塗覆機械手，所以，塗覆單元內僅需配置一個風機過濾機組（FFU），便能保證工藝氛圍的潔淨，減少環境對基板產生顆粒污染。同樣地，顯影單元也可以僅通過配置一個FFU，來實現其內部環境的潔淨，減少顆粒污染。因此，採取塗覆模組和顯影模組各自垂直佈局，能夠使得塗覆或顯影工藝環境的控制更加容易。

作為本發明的一種可選方案，所述至少一個移動傳輸部位於塗覆單元和顯影單元的頂部和底部之間。

作為本發明的一種可選方案，塗覆單元包括配置在位於塗覆單元和顯影單元的頂部和底部之間的移動傳輸部上下兩側的至少一個塗覆機械手，用於在塗覆單元的塗覆模組和熱處理模組之間傳送基板； 顯影單元包括配置在位於塗覆單元和顯影單元的頂部和底部之間的移動傳輸部上下兩側的至少一個顯影機械手，用於在顯影單元的顯影模組和熱處理模組之間傳送基板。

當移動傳輸部位於塗覆單元和顯影單元的頂部和底部之間時，橫向佈置的移動傳輸部將塗覆單元和顯影單元的內部空間分隔成若干相對獨立的子空間，例如，在塗覆單元和顯影單元的頂部和底部之間設置一對移動傳輸部時，橫向佈置的一對移動傳輸部將塗覆單元和顯影單元分隔成相對獨立的上部空間和下部空間，此時，上部空間和下部空間各自配置一個塗覆機械手和顯影機械手，同樣地，為確保工藝環境的潔淨，上部空間和下部空間各自配置一個FFU便能實現對各單元內部環境的控制。

作為本發明的一種可選方案，至少一個所述側面機械手配置在塗覆單元和顯影單元之間，用於將在塗覆單元完成處理之後的基板搬入移動傳輸部，或者將在顯影單元完成處理之後的基板搬入移動傳輸部。

作為本發明的一種可選方案，工藝站包括至少兩個所述側面機械手，所述至少兩個所述側面機械手中的至少一個側面機械手配置在塗覆單元和設備前端模組之間，用於將在塗覆單元完成處理之後的基板搬入移動傳輸部，或者將在顯影單元完成處理之後的基板從移動傳輸部搬出；以及 所述至少兩個所述側面機械手中的至少一個側面機械手配置在顯影單元和介面站之間，用於將在顯影單元完成處理之後的基板搬入移動傳輸部，或者將在塗覆單元完成處理之後的基板從移動傳輸部搬出。

側面機械手設置在工藝站的兩側，取消塗覆單元和顯影單元之間的側面機械手，一方面能夠縮短設備長度，減少設備占地面積，另一方面移動傳輸部的行程縮短有利於提高其傳輸效率，進而提高整個設備的運行效率。

作為本發明的一種可選方案，工藝站包括至少三個所述側面機械手，其中，所述至少三個所述側面機械手中的至少一個側面機械手配置在塗覆單元和設備前端模組之間，用於將在顯影單元完成處理之後的基板從移動傳輸部搬出； 所述至少三個所述側面機械手中的至少一個側面機械手配置在塗覆單元和顯影單元之間，用於將在塗覆單元完成處理之後的基板搬入移動傳輸部，或者將在顯影單元完成處理之後的基板搬入移動傳輸部；以及 所述至少三個所述側面機械手中的至少一個側面機械手配置在顯影單元和介面站之間，用於將在塗覆單元完成處理之後的基板從移動傳輸部搬出。

作為本發明的一種可選方案，設備前端模組包括設備前端機械手，設備前端機械手將在顯影單元完成處理後的基板從移動傳輸部中搬出； 介面站包括介面機械手，介面機械手將在塗覆單元完成處理後的基板從移動傳輸部中搬出。

本發明還提出了塗覆顯影設備的基板傳輸方法，採用上述塗覆顯影設備，其中， 設備前端模組內設置有設備前端機械手，設備前端機械手將基板從設備前端模組搬出傳送至工藝站； 工藝站的塗覆單元內設置有塗覆機械手，塗覆機械手將基板送入塗覆單元，基板在塗覆單元內進行塗覆處理和熱處理； 塗覆機械手將在塗覆單元完成處理後的基板搬出塗覆單元； 側面機械手將從塗覆單元搬出的基板搬入移動傳輸部； 移動傳輸部將在塗覆單元完成處理後的基板傳送至介面站； 介面站內設置有介面機械手，介面機械手將在塗覆單元完成處理後基板從移動傳輸部搬出並搬入介面站，或者由另一側面機械手將在塗覆單元完成處理後基板從移動傳輸部搬出，再由介面機械手將基板搬入介面站； 介面機械手將曝光處理後的基板從介面站搬出並傳送至工藝站； 工藝站的顯影單元內設置顯影機械手，顯影機械手將基板送入顯影單元，基板在顯影單元內進行顯影和熱處理； 在顯影單元完成處理後的基板由顯影機械手搬出顯影單元； 側面機械手將顯影單元搬出的基板搬入移動傳輸部； 移動傳輸部將在顯影單元完成處理後的基板傳送至設備前端模組； 設備前端機械手將在顯影單元完成處理後基板從移動傳輸部搬出並搬入設備前端模組，或者由另一側面機械手將在顯影單元完成處理後基板從移動傳輸部搬出，再由設備前端機械手將基板搬入設備前端模組。

為詳細說明本發明的技術內容、構造特徵、所達成目的及效果，下面將結合實施例並配合圖式予以詳細說明。

本發明提出的塗覆顯影設備，包括依次串接的設備前端模組（EFEM）、工藝站以及介面站，設備前端模組內設置有設備前端機械手（EFEM機械手），介面站內設置有介面機械手。

工藝站包括塗覆單元、顯影單元、至少一個橫向運動的移動傳輸部以及至少一個垂直運動的側面機械手。基板在塗覆單元完成處理後，由側面機械手將基板搬入移動傳輸部中，並由移動傳輸部傳送至介面站；基板在顯影單元完成處理後，由側面機械手將基板搬入移動傳輸部中，並由移動傳輸部傳送至設備前端模組。

塗覆單元包含至少一列垂直堆疊的塗覆模組、至少一列垂直堆疊的熱處理模組以及至少一個塗覆機械手。塗覆模組用於對基板進行塗覆處理，熱處理模組用於對塗覆處理前後的基板進行加熱和冷卻處理，熱處理模組位於塗覆模組的對面，塗覆機械手用於在塗覆單元的塗覆模組和熱處理模組之間傳遞基板。

顯影單元包含至少一列垂直堆疊的顯影模組、至少一列垂直堆疊的熱處理模組以及至少一個顯影機械手。顯影模組用於對基板進行顯影處理，熱處理模組用於對顯影處理前後的基板進行加熱和冷卻處理，熱處理模組位於顯影模組的對面，顯影機械手用於在顯影單元的顯影模組和熱處理模組之間傳遞基板。

至少一個橫向運動的移動傳輸部位於塗覆單元和顯影單元的頂部或底部，或者至少一個橫向運動的移動傳輸部位於塗覆單元和顯影單元的頂部和底部之間。當至少一個橫向運動的移動傳輸部位於塗覆單元和顯影單元的頂部和底部之間時，塗覆單元在位於塗覆單元和顯影單元的頂部和底部之間的移動傳輸部上下兩側各配置至少一個塗覆機械手，用於在塗覆單元的塗覆模組和熱處理模組之間傳送基板；顯影單元在位於塗覆單元和顯影單元的頂部和底部之間的移動傳輸部上下兩側各配置至少一個顯影機械手，用於在顯影單元的顯影模組和熱處理模組之間傳送基板。

側面機械手設置在設備前端模組和塗覆單元之間，或者設置在塗覆單元和顯影單元之間，或者設置在顯影單元和介面站之間。

下面將結合具體實施例詳細介紹側面機械手設置的位置和數量，以及對應的基板傳輸方法。

實施例一 請參閱圖1至圖7示出的本發明實施例提出的塗覆顯影設備。圖1和圖2示出了本發明提出的塗覆顯影設備的透視圖。塗覆顯影設備主要由呈直線排列的設備前端模組（EFEM）100、工藝站200和介面站300構成。圖3示出了本實施例中塗覆顯影設備的橫截面圖。設備前端模組100具備多個裝載埠110，用於保持一個或多個收納有多片基板的晶圓盒120。設備前端模組100內設置有一個EFEM機械手R10，能夠在EFEM 100和工藝站200之間傳送基板。介面站300用於連接外部設備，例如曝光機，用以對在塗覆單元210完成處理之後的基板進行曝光處理。介面站300內設置有一個介面機械手R30，用於在工藝站200和介面站300之間傳送基板。

工藝站200包含直線排列的塗覆單元210和顯影單元220，至少一個橫向（例如圖4中水平方向）運動的移動傳輸部230以及至少一個垂直（例如圖4中垂直方向）運動的側面機械手R0。塗覆單元210用以對基板執行塗覆和熱處理，且包含至少一列垂直堆疊的塗覆模組211、至少一列垂直堆疊的熱處理模組212以及至少一個塗覆機械手R21。塗覆模組211和熱處理模組212相對設置，圖25a至圖25c示出了塗覆模組211和熱處理模組212相對設置的各種不同佈局。塗覆模組211用於對基板進行塗覆處理，熱處理模組212用於對基板進行加熱和冷卻處理，塗覆機械手R21用於在塗覆單元210的塗覆模組211和熱處理模組212之間傳送基板。顯影單元220用以對基板執行顯影和熱處理，包含至少一列垂直堆疊的顯影模組221、至少一列垂直堆疊的熱處理模組222以及至少一個顯影機械手R22。顯影模組221和熱處理模組222相對設置，圖26a至圖26c示出了顯影模組221和熱處理模組222相對設置的各種不同佈局。顯影模組221用於對基板進行顯影處理，熱處理模組222用於對基板進行加熱和冷卻處理。顯影機械手R22用於在顯影單元220的顯影模組221和熱處理模組222之間傳送基板。當基板在塗覆單元210完成處理後，由側面機械手R0搬入移動傳輸部230中，並由移動傳輸部230傳送至介面站300；當基板在顯影單元220完成處理後，由側面機械手R0搬入移動傳輸部230中，並由移動傳輸部230傳送至設備前端模組100。

相較現有技術中由塗覆或顯影單元內部的機械手在EFEM和介面站之間傳送基板，在本發明的實施例中，單獨配置移動傳輸部和側面機械手，負責在EFEM和介面站之間傳送塗覆或顯影處理之後的基板，能夠降低塗覆或顯影單元內部的機械手運行負荷，從而降低機械手運行效率對塗覆顯影設備產出率的影響，進而提高塗覆顯影設備的產出率。

如圖1所示，在本實施例中，塗覆單元210包含三列垂直堆疊的塗覆模組C1~C3，每列包含四個塗覆模組211，顯影單元220包含三列垂直堆疊的顯影模組D1~D3，每列包含四個顯影模組221。塗覆和顯影單元中的塗覆、顯影以及熱處理模組的列數以及數量可根據具體工藝產能以及設備尺寸要求進行調整。

需要指出的是，在本發明實施例中提及的塗覆模組包括三種，分別為用於形成光刻膠塗層的塗覆模組，用於形成頂部抗反射塗層的塗覆模組，以及用於形成底部抗反射塗層的塗覆模組。塗覆單元根據具體工藝要求配置相應的塗覆模組，其中，塗覆單元配置的同類型塗覆模組之間可以共用供液噴嘴，也可各自配置供液噴嘴，不同類型塗覆模組之間各自配置供液噴嘴。

參見圖4和圖5，在塗覆單元210和顯影單元220的頂部和底部之間配置有一個橫向運動的移動傳輸部230，移動傳輸部230能夠在連接EFEM 100和介面站300的直線傳送路徑上橫向移動。塗覆單元210設置兩個塗覆機械手R21，一個塗覆機械手R21位於移動傳輸部230的上側，用於在位於移動傳輸部230上側的塗覆模組211和熱處理模組212之間傳送基板，另一個塗覆機械手R21位於移動傳輸部230的下側，用於在位於移動傳輸部230下側的塗覆模組211和熱處理模組212之間傳送基板。顯影單元220設置兩個顯影機械手R22，一個顯影機械手R22位於移動傳輸部230的上側，用於在位於移動傳輸部230上側的顯影模組221和熱處理模組222之間傳送基板，另一個顯影機械手R22位於移動傳輸部230的下側，用於在位於移動傳輸部230下側的顯影模組221和熱處理模組222之間傳送基板。在其他實施例中，在塗覆單元和顯影單元的頂部和底部之間還可以設置多個橫向運動的移動傳輸部，塗覆單元在位於塗覆單元和顯影單元的頂部和底部之間的移動傳輸部上下兩側各配置至少一個塗覆機械手，用於在塗覆單元的塗覆模組和熱處理模組之間傳送基板；顯影單元在位於塗覆單元和顯影單元的頂部和底部之間的移動傳輸部上下兩側各配置至少一個顯影機械手，用於在顯影單元的顯影模組和熱處理模組之間傳送基板。

在其他實施例中，移動傳輸部230還可以設置在塗覆單元210和顯影單元220的頂部或底部，分別如圖6和圖7所示。當移動傳輸部230位於塗覆單元210和顯影單元220的頂部或底部時，塗覆單元210配置至少一個塗覆機械手，例如兩個，參見圖6或圖7，塗覆單元210內部分隔成上下兩個空間，其中一個塗覆機械手R21用於在位於塗覆單元210上部空間的塗覆模組211和熱處理模組212之間傳送基板；另一個塗覆機械手R21用於在位於塗覆單元210下部空間的塗覆模組211和熱處理模組212之間傳送基板，此時，塗覆單元210的上部空間和下部空間分別配置一個風機過濾機組（FFU），來確保塗覆單元210的上下兩個空間的工藝環境的潔淨。當然，塗覆單元210也可以僅配置一個塗覆機械手R21，用於在塗覆單元210整個空間內的所有塗覆模組211和熱處理模組212之間傳送基板，此時，塗覆單元210僅需要配置一個風機過濾機組（FFU），實現塗覆單元210工藝環境的潔淨，這使得設備工藝環境的控制更加容易操作。同樣地，顯影單元220可以僅配置一個顯影機械手R22，也可以配置多個顯影機械手R22。

在實施一中，在塗覆單元210和顯影單元220之間配置有一個側面機械手R0，用於將在塗覆單元210完成處理之後的基板或者在顯影單元220完成處理之後的基板搬入移動傳輸部230。為方便不同機械手之間傳送基板，在EFEM 100和塗覆單元210之間配置有第一緩存部（241，242），在塗覆單元210和顯影單元220之間配置有第二緩存部（251，252），在顯影單元220和介面站300之間配置有第三緩存部（261，262）。緩存部能夠收容多片基板，並使基板停留，側面機械手R0能夠沿塗覆顯影設備的高度方向垂直上下移動，以訪問到不同高度處的緩存部。

圖8a示出了實施例一曝光處理之前基板在塗覆顯影設備中的傳輸方法。待加工基板由EFEM機械手R10從設備前端模組100搬出並搬入第一緩存部241，再由塗覆機械手R21從第一緩存部241搬出並搬入塗覆單元210，基板在塗覆單元210中進行塗覆處理和熱處理，接下來，在塗覆單元210完成處理後的基板，由塗覆機械手R21搬出塗覆單元210並搬入第二緩存部251，再由側面機械手R0從第二緩存部251搬出並搬入移動傳輸部230中，再由移動傳輸部230傳輸至介面站300，之後，由位於介面站300內的介面機械手R30從移動傳輸部230中搬出並送入曝光機中進行曝光處理。

圖8b示出了實施例一曝光處理之後基板在塗覆顯影設備中的傳輸方法。完成曝光處理後的基板，由介面機械手R30從曝光機接收後並搬入第三緩存部262，再由顯影機械手R22從第三緩存部262搬出並搬入顯影單元220，基板在顯影單元220中進行顯影處理和熱處理，接下來，在顯影單元220完成處理後的基板，由顯影機械手R22搬出顯影單元220並搬入第二緩存部252，再由側面機械手R0從第二緩存部252搬出並搬入移動傳輸部230中，再由移動傳輸部230傳輸至EFEM 100，之後，再由位於EFEM 100內的EFEM機械手R10從移動傳輸部230中搬出並送入位於裝載埠110的晶圓盒120中。

實施例二 參見圖9至圖11，實施例二與實施例一的區別在於，1）在塗覆單元210和顯影單元220之間配置兩個側面機械手，分別為第一側面機械手R1和第二側面機械手R2；2）在塗覆單元210和顯影單元220的頂部和底部之間配置了一對移動傳輸部，分別為第一移動傳輸部231和第二移動傳輸部232，第一側面機械手R1用於將在塗覆單元210完成處理後的基板搬入第一移動傳輸部231，第二側面機械手R2用於將在顯影單元220完成處理後的基板搬入第二移動傳輸部232。實施例二提出的塗覆顯影設備其他結構與實施例一基本相同，下文將不再描述。

圖12a示出了實施例二曝光處理之前基板在塗覆顯影設備中的傳輸方法。待加工基板由EFEM機械手R10從EFEM 100搬出並搬入第一緩存部241，再由塗覆機械手R21從第一緩存部241搬出並搬入塗覆單元210，基板在塗覆單元210中進行塗覆處理和熱處理，接下來，在塗覆單元210完成處理後的基板，由塗覆機械手R21搬出塗覆單元210並搬入第二緩存部251，再由第一側面機械手R1從第二緩存部251搬出並搬入第一移動傳輸部231中，再由第一移動傳輸部231傳輸至介面站300，之後，由位於介面站300內的介面機械手R30從第一移動傳輸部231中搬出並送入曝光機中進行曝光處理。

圖12b示出了實施例二曝光處理之後基板在塗覆顯影設備中的傳輸方法。完成曝光處理後的基板，由介面機械手R30從曝光機接收後並搬入第三緩存部262，再由顯影機械手R22從第三緩存部262搬出基板並搬入顯影單元220，基板在顯影單元220中進行顯影處理和熱處理，接下來，在顯影單元220完成處理後的基板，由顯影機械手R22搬出顯影單元220並搬入第二緩存部252，再由第二側面機械手R2從第二緩存部252搬出並搬入第二移動傳輸部232中，再由第二移動傳輸部232傳輸至EFEM 100，之後，再由位於EFEM內的EFEM機械手R10從第二移動傳輸部232中搬出並送入位於裝載埠110的晶圓盒120中。

在不改變設備占地面積的同時，設置兩個側面機械手與一對移動傳輸部，以使在塗覆單元和顯影單元完成處理後的基板搬運路徑不重疊，能夠避免共用側面機械手和移動傳輸部引起的交叉污染，並能一定程度上提高設備的傳輸效率。

實施例三 參見圖13至圖15，實施三與實施例一的區別在於，1）在塗覆單元210和顯影單元220之間未設置側面機械手R0以及第二緩存部（251，252），而是在EFEM 100和塗覆單元210之間以及顯影單元220和介面站300之間各設置一個側面機械手，分別定義為第三側面機械手R3和第四側面機械手R4；2）在塗覆單元210和顯影單元220的頂部和底部之間配置了一對移動傳輸部，分別為第一移動傳輸部231和第二移動傳輸部232，第三側面機械手R3用於將在塗覆單元210完成處理後的基板搬入第一移動傳輸部231，或者將在顯影單元220完成處理後的基板從第二移動傳輸部232搬出，第四側面機械手R4用於將在顯影單元220完成處理後的基板搬入第二移動傳輸部232，或者將在塗覆單元210完成處理後的基板從第一移動傳輸部231搬出。實施例三提出的塗覆顯影設備其他結構與實施例一基本相同，下文將不再描述。

實施例三中，取消塗覆單元210和顯影單元220之間的側面機械手，能夠縮短塗覆顯影設備的長度，減少設備的占地面積，與此同時，能夠縮短移動傳輸部的運動行程提高其傳輸效率，進而提高整個設備的運行效率。

圖16a示出了實施例三曝光處理之前基板在塗覆顯影設備中的傳輸方法。待加工基板由EFEM機械手R10從設備前端模組100搬出並搬入第一緩存部241，再由塗覆機械手R21從第一緩存部241搬出並搬入塗覆單元210，基板在塗覆單元210中進行塗覆處理和熱處理，接下來，在塗覆單元210完成處理後的基板，由塗覆機械手R21搬出塗覆單元210並搬入第一緩存部241，再由第三側面機械手R3從第一緩存部241搬出並搬入第一移動傳輸部231中，再由第一移動傳輸部231傳輸至介面站300，之後，由位於介面站300內的介面機械手R30直接從第一移動傳輸部231中搬出並送入曝光機中進行曝光處理，或由第四側面機械手R4從第一移動傳輸部231中搬出並搬入第三緩存部261之後，再由介面機械手R30從第三緩存部261搬出並送入曝光機中進行曝光處理。

圖16b示出了實施例三曝光處理之後基板在塗覆顯影設備中的傳輸方法。完成曝光處理後的基板，由介面機械手R30從曝光機接收並搬入第三緩存部262，再由顯影機械手R22從第三緩存部262搬出並搬入顯影單元220，基板在顯影單元220中進行顯影處理和熱處理，接下來，在顯影單元220完成處理後的基板，由顯影機械手220搬出顯影單元220並搬入第三緩存部262，再由第四側面機械手R4從第三緩存部262搬出並搬入第二移動傳輸部232中，再由第二移動傳輸部232傳輸至EFEM 100，之後，再由位於EFEM內的EFEM機械手R10直接從第二移動傳輸部232中搬出並送入位於裝載埠110的晶圓盒120中，或者由第三側面機械手R3從第二移動傳輸部232中搬出並搬入第一緩存部242之後，再由EFEM機械手R10從第一緩存部242搬出並送入位於裝載埠110的晶圓盒120中。

實施例四 參見圖17至圖19，實施四與實施例一的區別在於，1）在塗覆單元210和顯影單元220之間配置兩個側面機械手，分別為第一側面機械手R1和第二側面機械手R2；在EFEM 100和塗覆單元210之間配置兩個側面機械手，分別為第三側面機械手R3和第五側面機械手R5；在顯影單元220和介面站300之間配置一個側面機械手，定義為第四側面機械手R4，多個側面機械手的運作流程將配合基板的傳輸工藝在下文詳細描述；2）在塗覆單元210和顯影單元220的頂部和底部之間配置了一對移動傳輸部，分別為第一移動傳輸部231和第二移動傳輸部232，第一側面機械手R1用於將在塗覆單元210完成處理之後的基板搬入第一移動傳輸部231，第二側面機械手R2用於將在顯影單元220完成處理之後的基板搬入第二移動傳輸部232，第三側面機械手R3用於將在顯影單元220完成處理之後的基板從第二移動傳輸部232搬出，第四側面機械手R4用於將在塗覆單元210完成處理之後的基板從第一移動傳輸部231搬出；3）多個功能模組，功能模組的具體佈局及作用將在下文進行詳細闡述。實施例四提出的塗覆顯影設備其他結構與實施例一基本相同，下文將不再描述。

功能模組包括增粘模組271、前冷卻模組272、邊緣曝光模組273、預清洗模組274、後冷卻模組275以及後清洗模組276。

在本實施例中，多個垂直堆疊的增粘模組271和多個垂直堆疊的前冷卻模組272佈置在EFEM 100和塗覆單元210之間。增粘模組271用以在基板送入塗覆單元210內進行處理之前在基板表面形成增粘薄膜，例如採用HMDS氣體吹拂基板表面，改善基板表面的疏水性，有利於增強光刻膠與基板的粘附性。經增粘處理後的基板溫度處於120℃~130℃的高溫，通過第五側面機械手R5將基板由增粘模組271傳送至前冷卻模組272，將基板從高溫冷卻至22℃~23℃。

多個垂直堆疊的邊緣曝光模組273佈置在塗覆單元210和顯影單元220之間，用以對塗覆工藝後的基板進行邊緣曝光處理。若介面站300外接浸沒式曝光機，一般情況在基板傳送至曝光機執行浸沒式曝光操作之前，需要對基板執行預清洗操作，以減少曝光處理時散焦現象的產生。因此，在本實施例中，多個垂直堆疊的預清洗模組274佈置在塗覆單元210和顯影單元220之間，用以對邊緣曝光處理後的基板進行清洗。

多個後冷卻模組275佈置在顯影單元220和介面站300之間，對預清洗後的基板進行冷卻。此外，對於浸沒式曝光處理後的基板，在進入顯影單元220進行處理之前，需要對基板進行清洗，以避免浸沒式曝光處理後殘留在基板表面的浸沒液加熱時對光刻膠的損壞。因此，在本實施例中，多個垂直堆疊的後清洗模組276佈置在顯影單元220和介面站300之間，用以對浸沒式曝光處理後的基板進行清洗。

圖20a示出了實施例四曝光處理之前基板在塗覆顯影設備中的傳輸方法。EFEM機械手R10將待加工基板送入第一緩存部241，第五側面機械手R5從第一緩存部241搬出基板並送入增粘模組271，再將增粘處理之後的基板傳送至前冷卻模組272，塗覆機械手R21從前冷卻模組272取出基板並送入塗覆單元210，基板在塗覆單元210中進行塗覆處理和熱處理，接下來，塗覆機械手R21將在塗覆單元210完成處理後的基板送入第二緩存部251，第一側面機械手R1從第二緩存部251搬出基板並送入邊緣曝光模組273，然後將邊緣曝光處理之後的基板傳送至預清洗模組274進行預清洗，再將預清洗之後的基板搬入第一移動傳輸部231中，第一移動傳輸部231將基板傳送至介面站300，第四側面機械手R4將基板從第一移動傳輸部232中搬出並送入第三緩存部261或後冷卻模組275，介面機械手R30將基板從第三緩存部261或後冷卻模組275中搬出並送入曝光機中進行曝光處理。

圖20b示出了本實施例中曝光處理之後基板在塗覆顯影設備中的傳輸方法。介面機械手R30從曝光機接收曝光處理之後的基板，並送入第三緩存部262，第四側面機械手R4從第三緩存部262中取出基板並送入後清洗模組276進行曝光後清洗，再將清洗後的基板傳送至第三緩存部262，顯影機械手R22從第三緩存部262搬出基板並送入顯影單元220，基板在顯影單元220中進行顯影處理和熱處理，接下來，顯影機械手R22將在顯影單元完成處理後的基板送入第二緩存部252，第二側面機械手R2從第二緩存部252搬出基板並搬入第二移動傳輸部232中，第二移動傳輸部232將基板傳送至EFEM 100，第三側面機械手R3從第二移動傳輸部232中將基板搬出並送入第一緩存部242，再由EFEM機械手R10從第一緩存部242取出並送入位於裝載埠110的晶圓盒120中。

在實施例四中，相對實施例一，還可以包括兩個暫存部，分別為第一暫存部281和第二暫存部282，第一暫存部281和第二暫存部282堆疊佈置並設置在顯影單元220和介面站300之間。第一暫存部281用於暫存在塗覆單元210完成處理之後的基板，以等待進入曝光機進行曝光處理，當曝光機中有空閒工位時，優先從第一暫存部281中獲取基板送入曝光機中進行曝光處理，這樣可以使在塗覆單元210完成處理之後的基板在曝光機之前暫存，使得等待進入曝光機進行曝光處理的基板充足，從而減少曝光機的等待時間，提高曝光機的使用效率。

第二暫存部282用於暫存完成曝光處理後的基板，以等待進入顯影單元進行處理，當顯影單元中有空閒工位元時，優先從第二暫存部282中獲取基板送入顯影單元中進行工藝處理，這樣可以使曝光處理後的基板在顯影單元220之前暫存，使得在曝光機中完成曝光處理的基板及時送出，從而減少曝光機的佔用或等待時間，提高曝光機的使用效率。

實施例五 參見圖21和圖22，實施五與實施例一的區別在於，1）在塗覆單元210和顯影單元220之間未設置側面機械手R0以及第二緩存部（251，252），而是在EFEM 100和塗覆單元210之間設置兩個側面機械手，定義為第三側面機械手R3和第五側面機械手R5，以及顯影單元220和介面站300之間設置兩個側面機械手，分別定義為第四側面機械手R4和第六側面機械手R6，多個側面機械手的運作流程將配合基板的傳輸工藝在下文詳細描述；2）在塗覆單元210和顯影單元220的頂部和底部之間配置了一對移動傳輸部，分別為第一移動傳輸部231和第二移動傳輸部232，第五側面機械手R5用於將在塗覆單元210完成處理後的基板搬入第一移動傳輸部231，第六側面機械手R6用於將在塗覆單元210完成處理後的基板從第一移動傳輸部231搬出，第四側面機械手R4用於將在顯影單元220完成處理後的基板搬入第二移動傳輸部232，第三側面機械手R3用於將在顯影單元220完成處理後的基板從第二移動傳輸部232搬出；3）多個功能模組，功能模組的具體佈局及作用將在下文進行詳細闡述。實施例五提出的塗覆顯影設備其他結構與實施例一基本相同，下文將不再描述。

功能模組包括增粘模組271、前冷卻模組272、邊緣曝光模組273、預清洗模組274、後冷卻模組275以及後清洗模組276，各功能模組的作用與實施例四相同。在本實施例中，多個垂直堆疊的增粘模組271和多個垂直堆疊的前冷卻模組272佈置在EFEM 100和塗覆單元210之間；多個垂直堆疊的邊緣曝光模組273、多個垂直堆疊的預清洗模組274、多個垂直堆疊的後冷卻模組275以及多個垂直堆疊的後清洗模組276均佈置在顯影單元220和介面站300之間。在其他實施例中，多個垂直堆疊的邊緣曝光模273和多個垂直堆疊的預清洗模組274還可以佈置在EFEM 100和塗覆單元210之間。

圖23a示出了實施例五曝光處理之前基板在塗覆顯影設備中的傳輸方法。EFEM機械手R10將待加工基板送入第一緩存部241，第五側面機械手R5從第一緩存部241搬出基板並送入增粘模組271，再將增粘處理之後的基板傳送至前冷卻模組272，塗覆機械手R21從前冷卻模組272取出基板並送入塗覆單元210，基板在塗覆單元210中進行塗覆處理和熱處理，接下來，塗覆機械手R21將在塗覆單元210完成處理後的基板送入第一緩存部241，第五側面機械手R5從第一緩存部241搬出基板並送入第一移動傳輸部231，基板由第一移動傳輸部231傳送至介面站300，第六側面機械手R6將基板從第一移動傳輸部231中搬出並送入邊緣曝光模組273，然後將邊緣曝光處理之後的基板傳送至預清洗模組274進行預清洗，再將預清洗之後的基板搬入第三緩存部261，或後冷卻模組275，介面機械手R30將基板從第三緩存部261或後冷卻模組275中搬出並送入曝光機中進行曝光處理。

圖23b示出了實施例五曝光處理之後基板在塗覆顯影設備中的傳輸方法。介面機械手R30從曝光機接收曝光處理之後的基板，並送入第三緩存部262，第四側面機械手R4從第三緩存部262中取出基板並送入後清洗模組276進行曝光後清洗，再將清洗後的基板傳送至第三緩存部262，顯影機械手R22從第三緩存部262搬出基板並送入顯影單元220，基板在顯影單元220中進行顯影處理和熱處理，接下來，顯影機械手R22將在顯影單元220完成處理後的基板送入第三緩存部262，第四側面機械手R4從第三緩存部262搬出基板並搬入第二移動傳輸部232中，第二移動傳輸部232將基板傳送至EFEM 100，第三側面機械手R3從第二移動傳輸部232中將基板搬出並送入第一緩存部242，再由EFEM機械手R10從第一緩存部242取出並送入位於裝載埠110的晶圓盒120。

同樣地，第一暫存部281和第二暫存部282也可以應用到實施例五中。

實施例六 圖24示出了實施例六塗覆顯影設備的一縱截面示意圖。實施例六與實施例五的區別在於，1）塗覆單元210具有兩列垂直堆疊的塗覆模組211，每列具有五個塗覆模組211，顯影單元220具有兩列垂直堆疊的顯影模組221，每列具有五個顯影模組221；2）塗覆顯影設備內還集成有光刻膠罐280以及光刻膠泵（圖未示出），光刻膠罐280存放光刻膠，光刻膠罐280通過光刻膠泵向塗覆模組211供給光刻膠。其中，光刻膠罐280位於移動傳輸部（231，232）傳輸方向的一側，光刻膠泵位於EFEM 100和塗覆單元210之間（圖未示出）。實施例六提出的塗覆顯影設備其他結構以及相同部件的編號與實施例五基本相同，下文將不再描述。

實施例六中各功能模組在圖24中未示出，實施例六各功能模組的具體佈局及作用可參考實施例五。

在其他實施例中，光刻膠罐和光刻膠泵也可以佈置在塗覆顯影設備的外部，例如存放於外置櫃內。

本發明提出的塗覆顯影設備及其基板傳輸方法，採取塗覆模組和顯影模組各自垂直佈局，塗覆和顯影工藝氛圍完全獨立，能夠更容易控制環境氛圍的潔淨度，減少基板顆粒污染風險，與此同時，通過橫向運動的移動傳輸部與垂直運動的側面機械手的配合，專門用於向介面站或設備前端模組運送在塗覆或顯影單元完成處理後的基板，以此提高塗覆或顯影單元內機械手的運行效率，進而提高設備的整體運行效率。

上述實施例僅例示性說明本發明的原理及其功效，而非用於限制本發明。任何熟悉此技術的人士皆可在不違背本發明的精神及範疇下，對上述實施例進行修飾或改變。因此，舉凡所屬技術領域中具有通常知識者在未脫離本發明所揭示的精神與技術思想下所完成的一切等效修飾或改變，仍應由本發明的申請專利範圍所涵蓋。

100:設備前端模組 110:裝載埠 120:晶圓盒 200:工藝站 210:塗覆單元 211:塗覆模組 212:熱處理模組 220:顯影單元 221:顯影模組 222:熱處理模組 230:移動傳輸部 231:第一移動傳輸部 232:第二移動傳輸部 241,242:第一緩存部 251,252:第二緩存部 261,262:第三緩存部 271:增粘模組 272:前冷卻模組 273:邊緣曝光模組 274:預清洗模組 275:後冷卻模組 276:後清洗模組 280:光刻膠罐 281:第一暫存部 282:第二暫存部 300:介面站 C1,C2,C3:塗覆模組 D1,D2,D3:顯影模組 R0:側面機械手 R1:第一側面機械手 R2:第二側面機械手 R3:第三側面機械手 R4:第四側面機械手 R5:第五側面機械手 R6:第六側面機械手 R10:EFEM機械手 R21:塗覆機械手 R22:顯影機械手 R30:介面機械手

圖1示出了實施例一的塗覆顯影設備的前透視圖； 圖2示出了實施例一的塗覆顯影設備的後透視圖； 圖3示出了實施例一的塗覆顯影設備的一橫截面圖； 圖4示出了實施例一的塗覆顯影設備的一縱截面圖； 圖5示出了實施例一的塗覆顯影設備的另一橫截面圖； 圖6示出了實施例一的塗覆顯影設備的另一縱截面圖； 圖7示出了實施例一的塗覆顯影設備的另一縱截面圖； 圖8a示出了實施例一曝光處理之前基板在塗覆顯影設備中的搬運路徑； 圖8b示出了實施例一曝光處理之後基板在塗覆顯影設備中的搬運路徑； 圖9示出了實施例二的塗覆顯影設備的一橫截面圖； 圖10示出了實施例二的塗覆顯影設備的一縱截面圖； 圖11示出了實施例二的塗覆顯影設備的另一橫截面圖； 圖12a示出了實施例二曝光處理之前基板在塗覆顯影設備中的搬運路徑； 圖12b示出了實施例二曝光處理之後基板在塗覆顯影設備中的搬運路徑； 圖13示出了實施例三的塗覆顯影設備的一橫截面圖； 圖14示出了實施例三的塗覆顯影設備的一縱截面圖； 圖15示出了實施例三的塗覆顯影設備的另一橫截面圖； 圖16a示出了實施例三曝光處理之前基板在塗覆顯影設備中的搬運路徑； 圖16b示出了實施例三曝光處理之後基板在塗覆顯影設備中的搬運路徑； 圖17示出了實施例四塗覆顯影設備的一橫截面圖； 圖18示出了實施例四塗覆顯影設備的另一橫截面圖； 圖19示出了實施例四塗覆顯影設備中工藝站隱藏塗覆和顯影模組的透視圖； 圖20a示出了實施例四曝光處理之前基板在塗覆顯影設備中的搬運路徑； 圖20b示出了實施例四曝光處理之後基板在塗覆顯影設備中的搬運路徑； 圖21示出了實施例五塗覆顯影設備的一橫截面圖； 圖22示出了實施例五塗覆顯影設備的另一橫截面圖； 圖23a示出了實施例五曝光處理之前基板在塗覆顯影設備中的搬運路徑； 圖23b示出了實施例五曝光處理之後基板在塗覆顯影設備中的搬運路徑； 圖24示出了實施例六的塗覆顯影設備的一縱截面圖； 圖25a至圖25c示出了塗覆單元內塗覆模組和加熱模組的縱向佈局示意圖；以及 圖26a至圖26c示出了顯影單元內顯影模組和加熱模組的縱向佈局示意圖。

100:設備前端模組

120:晶圓盒

210:塗覆單元

220:顯影單元

231:第一移動傳輸部

232:第二移動傳輸部

241,242:第一緩存部

251,252:第二緩存部

261,262:第三緩存部

300:介面站

R1:第一側面機械手

R2:第二側面機械手

R10:EFEM機械手

R21:塗覆機械手

R22:顯影機械手

R30:介面機械手

Claims (18)

1. 一種塗覆顯影設備，包括依次連接的設備前端模組、工藝站以及介面站，其中，工藝站包括： 塗覆單元，包含至少一列垂直堆疊的塗覆模組，用於對基板進行塗覆處理； 顯影單元，包含至少一列垂直堆疊的顯影模組，用於對基板進行顯影處理； 至少一個橫向運動的移動傳輸部；以及 至少一個垂直運動的側面機械手； 其中基板在塗覆單元完成處理後，由所述至少一個側面機械手將基板搬入移動傳輸部中，並由移動傳輸部傳送至介面站；基板在顯影單元完成處理後，由所述至少一個側面機械手將基板搬入移動傳輸部中，並由移動傳輸部傳送至設備前端模組。
2. 根據請求項1所述的塗覆顯影設備，其中， 塗覆單元還包括至少一列垂直堆疊的熱處理模組，位於塗覆模組的對面，用於對塗覆處理前後的基板進行加熱和冷卻處理； 顯影單元還包括至少一列垂直堆疊的熱處理模組，位於顯影模組的對面，用於對顯影處理前後的基板進行加熱和冷卻處理。
3. 根據請求項2所述的塗覆顯影設備，其中，所述至少一個移動傳輸部位於塗覆單元和顯影單元的頂部或底部。
4. 根據請求項3所述的塗覆顯影設備，其中， 塗覆單元還包括至少一個塗覆機械手，用於在塗覆單元的塗覆模組和熱處理模組之間傳送基板； 顯影單元還包括至少一個顯影機械手，用於在顯影單元的顯影模組和熱處理模組之間傳送基板。
5. 根據請求項2所述的塗覆顯影設備，其中，所述至少一個移動傳輸部位於塗覆單元和顯影單元的頂部和底部之間。
6. 根據請求項5所述的塗覆顯影設備，其中， 塗覆單元包括配置在位於塗覆單元和顯影單元的頂部和底部之間的移動傳輸部上下兩側的至少一個塗覆機械手，用於在塗覆單元的塗覆模組和熱處理模組之間傳送基板； 顯影單元包括配置在位於塗覆單元和顯影單元的頂部和底部之間的移動傳輸部上下兩側的至少一個顯影機械手，用於在顯影單元的顯影模組和熱處理模組之間傳送基板。
7. 根據請求項1所述的塗覆顯影設備，其中，至少一個所述側面機械手配置在塗覆單元和顯影單元之間，用於將在塗覆單元完成處理之後的基板搬入移動傳輸部，或者將在顯影單元完成處理之後的基板搬入移動傳輸部。
8. 根據請求項1所述的塗覆顯影設備，其中， 工藝站包括至少兩個所述側面機械手，所述至少兩個所述側面機械手中的至少一個側面機械手配置在塗覆單元和設備前端模組之間，用於將在塗覆單元完成處理之後的基板搬入移動傳輸部，或者將在顯影單元完成處理之後的基板從移動傳輸部搬出；以及 所述至少兩個所述側面機械手中的至少一個側面機械手配置在顯影單元和介面站之間，用於將在顯影單元完成處理之後的基板搬入移動傳輸部，或者將在塗覆單元完成處理之後的基板從移動傳輸部搬出。
9. 根據請求項1所述的塗覆顯影設備，其中， 工藝站包括至少三個所述側面機械手，所述至少三個所述側面機械手中的至少一個側面機械手配置在塗覆單元和設備前端模組之間，用於將在顯影單元完成處理之後的基板從移動傳輸部搬出； 所述至少三個所述側面機械手中的至少一個側面機械手配置在塗覆單元和顯影單元之間，用於將在塗覆單元完成處理之後的基板搬入移動傳輸部，或者將在顯影單元完成處理之後的基板搬入移動傳輸部；以及 所述至少三個所述側面機械手中的至少一個側面機械手配置在顯影單元和介面站之間，用於將在塗覆單元完成處理之後的基板從移動傳輸部搬出。
10. 根據請求項1所述的塗覆顯影設備，其中， 設備前端模組包括設備前端機械手，設備前端機械手將在顯影單元完成處理後的基板從移動傳輸部中搬出； 介面站包括介面機械手，介面機械手將在塗覆單元完成處理後的基板從移動傳輸部中搬出。
11. 根據請求項1所述的塗覆顯影設備，其中，工藝站還包括： 多個垂直堆疊的增粘模組，用以在基板表面形成增粘薄膜；以及 多個垂直堆疊的前冷卻模組，用以對增粘處理後的基板進行冷卻； 其中多個增粘模組和多個前冷卻模組位於塗覆單元和設備前端模組之間； 在基板被送入塗覆單元進行處理之前，至少一個側面機械手將基板傳送至增粘模組，之後，再將增粘處理後的基板傳送至前冷卻模組。
12. 根據請求項1所述的塗覆顯影設備，其中，工藝站還包括： 多個垂直堆疊的邊緣曝光模組，用以對在塗覆單元完成處理後的基板進行邊緣曝光處理； 多個邊緣曝光模組位於塗覆單元和顯影單元之間，或者位於塗覆單元和設備前端模組之間，或者位於顯影單元和介面站之間； 至少一個側面機械手將在塗覆單元完成處理後的基板被送入介面站之前，將基板傳送至邊緣曝光模組進行邊緣曝光處理。
13. 根據請求項12所述的塗覆顯影設備，其中，工藝站還包括： 多個垂直堆疊的預清洗模組，用以對邊緣曝光處理後的基板進行清洗； 其中多個預清洗模組位於塗覆單元和顯影單元之間，或者位於塗覆單元和設備前端模組之間，或者位於顯影單元和介面站之間； 至少一個側面機械手在邊緣曝光之後的基板被送入介面站之前，將基板傳送至預清洗模組進行清洗。
14. 根據請求項13所述的塗覆顯影設備，其中，工藝站還包括： 多個垂直堆疊的後冷卻模組，用以對預清洗後的基板進行冷卻； 其中多個後冷卻模組位於顯影單元和介面站之間； 至少一個側面機械手在預清洗之後的基板被送入介面站之前，將基板傳送至後冷卻模組中進行冷卻。
15. 根據請求項1所述的塗覆顯影設備，其中，工藝站還包括： 多個垂直堆疊的後清洗模組，用以在浸沒式曝光處理後且基板送入顯影單元前，對基板進行後清洗； 其中多個後清洗模組位於顯影單元和介面站之間； 至少一個側面機械手將曝光處理之後的基板傳送至後清洗模組中進行清洗，再將後清洗處理後的基板傳送至顯影單元進行處理。
16. 根據請求項1所述的塗覆顯影設備，其中，工藝站還包括： 第一暫存部，用於暫存在塗覆單元完成處理之後的基板，以等待進入曝光機進行曝光處理； 第二暫存部，用於暫存完成曝光處理後的基板，以等待進入顯影單元進行處理； 其中第一暫存部和第二暫存部位於顯影單元和介面站之間。
17. 根據請求項1所述的塗覆顯影設備，其中，工藝站還包括： 光刻膠泵，位於設備前端模組和塗覆單元之間；以及 光刻膠罐，位於移動傳輸部的一側，用於存儲光刻膠，並通過光刻膠泵向塗覆模組供給光刻膠。
18. 一種塗覆顯影設備的基板傳輸方法，採用請求項1所述的塗覆顯影設備，其中， 設備前端模組內設置有設備前端機械手，設備前端機械手將基板從設備前端模組搬出傳送至工藝站； 工藝站的塗覆單元內設置有塗覆機械手，塗覆機械手將基板送入塗覆單元，基板在塗覆單元內進行塗覆處理和熱處理； 塗覆機械手將在塗覆單元完成處理後的基板搬出塗覆單元； 側面機械手將從塗覆單元搬出的基板搬入移動傳輸部； 移動傳輸部將在塗覆單元完成處理後的基板傳送至介面站； 介面站內設置有介面機械手，介面機械手將在塗覆單元完成處理後的基板從移動傳輸部搬出並搬入介面站，或者由另一側面機械手將在塗覆單元完成處理後的基板從移動傳輸部搬出，再由介面機械手將基板搬入介面站； 介面機械手將曝光處理後的基板從介面站搬出並傳送至工藝站； 工藝站的顯影單元內設置顯影機械手，顯影機械手將基板送入顯影單元，基板在顯影單元內進行顯影和熱處理； 在顯影單元完成處理後的基板由顯影機械手搬出顯影單元； 側面機械手將顯影單元搬出的基板搬入移動傳輸部； 移動傳輸部將在顯影單元完成處理後的基板傳送至設備前端模組； 設備前端機械手將在顯影單元完成處理後基板從移動傳輸部搬出並搬入設備前端模組，或者由另一側面機械手將在顯影單元完成處理後基板從移動傳輸部搬出，再由設備前端機械手將基板搬入設備前端模組。

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