TW202246185A - 水處理方法及水處理裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明之去除被處理水中之溶氧之水處理裝置,具備陽極11、陰極12,以及配置於陽極11與陰極12之間並填充有離子交換體之溶氧去除室23。填充於溶氧去除室23之離子交換體的至少一部份係載持有金屬催化劑之離子交換體,例如載持鈀之陰離子交換樹脂(Pd AER),載持金屬催化劑之離子交換體,在溶氧去除室23的至少一部份中係以單床形態填充。向陽極與陰極之間施加直流電流,並將通過設有陰極12之陰極室25而含有氫之被處理水供給至溶氧去除室23。
Description
本發明係關於一種可去除水中之溶氧等之水處理裝置及水處理方法。
作為在處理被處理水而生成純水等時去除被處理水中之溶氧之方法,習知有利用脫氣膜之膜脫氣法。但膜脫氣法中,必須保持夾著脫氣膜而與被處理水為相反側之氣相側之真空度,為此必須設置真空泵等。於是,在被處理水中添加氫或聯氨等還原劑後,使其與載持鈀等之脫氧催化劑接觸,進行從溶氧及氫(或者聯氨)生成水之反應而去除溶氧之方法正在被實際應用。專利文獻1中揭示藉由在氫的存在下與脫氧催化劑接觸而去除溶氧之例。專利文獻2中,揭示使用以固體高分子電極膜區隔成陰極室及陽極室之電解槽,一邊向陰極室供給被處理水,一邊進行水之電解,在陰極室中透過陰極反應將溶氧還原而去除的同時,使未去除之溶氧及在電解中生成之氫一同與脫氧催化劑接觸而去除溶氧。
另外,作為從被處理水生成脫鹽水之裝置之一,有電去離子水製造裝置(EDI(Electrodeionization)裝置)。EDI裝置係組合電泳及電透析而成之裝置,至少於其脫鹽室中填充離子交換樹脂。EDI裝置具有無須進行利用化學藥劑使離子交換樹脂再生之處理之益處。專利文獻3中,揭示了在EDI裝置之脫鹽室中混合填充陰離子交換樹脂及陽離子交換樹脂,並且將陰離子交換樹脂的一部份設為載持銅或鈀之催化劑樹脂,藉由在供給至脫鹽室之被處理水中添加氫,在脫鹽室中進行被處理水之脫鹽處理以及從被處理水去除溶氧。從EDI裝置之陰極室排出之陰極水中含有氫,故專利文獻3中亦揭示將陰極水作為氫源使用,而將陰極水加入被處理水。但,若要將陰極水加入被處理水,因陰極室之出口的壓力一般而言比脫鹽室之入口之被處理水的壓力低,故需要加壓陰極水之泵以將陰極水加入被處理水。專利文獻4中,揭示了可藉由與載持鉑或鈀等之陰離子交換樹脂接觸而將被處理水中之過氧化氫分解去除。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
專利文獻1:日本特開平5-96283號公報
專利文獻2:日本特開平7-241569號公報
專利文獻3:日本特開平10-272474號公報
專利文獻4:日本特開2007-185587號公報
[發明欲解決之課題]
經本案發明人之探討,發現專利文獻3中揭示之技術,仍有提升被處理水中之溶氧之去除率的餘地。又,專利文獻3中揭示之技術,係無需真空泵等即可進行脫鹽及去除被處理水中之溶氧之技術,但額外需要用於在被處理水中添加氫之機構。若將陰極水加入被處理水,因陰極室之出口的壓力一般而言比脫鹽室之入口的壓力低,故需要加壓陰極水之泵。
本發明之目的在於提供一種可透過簡單的構成有效率地去除被處理水中之溶氧等之水處理方法及水處理裝置。
[解決課題之手段]
專利文獻3中揭示之EDI裝置中,將填充於脫鹽室之陰離子交換樹脂的一部份設為載持銅或鈀之催化劑樹脂,並將催化劑樹脂與非催化劑樹脂之陽離子交換樹脂混合,亦即以混床形態填充於脫鹽室。但,經本案發明人之探討,如後述之實施例及比較例所示,相較於將催化劑樹脂以混床填充於脫鹽室之情況,在脫鹽室的至少一部份中以單床形態填充催化劑樹脂時,更能提升溶氧之去除率並且降低消耗電力。再者,本案發明人亦著眼於在習知的EDI裝置中未有效活用於脫鹽處理等之陰極室,而發現可藉由使陰極室中之陰極反應所產生之氫在陰極室內與溶氧反應而去除被處理水中之溶氧。此情況下,由於目的在於去除溶氧,故作為EDI裝置之脫鹽室並非必須。
基於本發明之第1態樣,一種水處理方法係至少去除被處理水中含有的溶氧,並包含在陽極與陰極之間施加直流電流之步驟及將被處理水向配置於陽極與陰極之間且填充有離子交換體之溶氧去除室通水之步驟,填充於溶氧去除室之離子交換體的至少一部份係載持有金屬催化劑之離子交換體,載持有金屬催化劑之離子交換體,在溶氧去除室的至少一部份中以單床形態填充。在此水處理方法中,在陽極與陰極之間施加直流電流之步驟及將被處理水向溶氧去除室通水之步驟可同時執行,或者亦可分別執行。
又,實施上述方法之水處理裝置,係至少去除被處理水中含有的溶氧之水處理裝置,並包含陽極及陰極,以及配置於陽極與陰極之間且填充離子交換體並通水被處理水之溶氧去除室,填充於溶氧去除室之離子交換體的至少一部份係載持有金屬催化劑之離子交換體,載持有金屬催化劑之離子交換體,在溶氧去除室的至少一部份中以單床形態填充,並在陽極與陰極之間施加直流電流。
在第1態樣中,可在溶氧去除室內去除溶氧係由於溶氧與氫在金屬催化劑之存在下反應而成為水。從而,除了被處理水本來便含有氫之情況,必須在溶氧去除室內產生氫,或在溶氧去除室之上游側於被處理水中添加氫。第1態樣中之水處理裝置,除了進行溶氧之去除,基本而言係與一般的EDI裝置相同之構成。由於EDI裝置之陰極室中,會因陰極表面上之陰極反應而產生氫,在第1態樣之水處理裝置中,亦可藉由先將被處理水供給至陰極室,並將陰極室之出口水亦即通過陰極室之被處理水向溶氧去除室通水,而將含有氫之被處理水供給至溶氧去除室。或者,可將陰極室本身作為溶氧去除室使用。
專利文獻3中揭示之EDI裝置中,係在供給至作為溶氧去除室發揮機能之脫鹽室之被處理水中加入陰極室之出口水,但由於陰極水之出口水之壓力一般而言顯著地小於脫鹽室之入口之被處理水的壓力,而須有將陰極室之出口水升壓之泵。以泵進行升壓時,有因陰極室之出口水中含有的氣泡狀之氫引起泵之所謂空氣夾雜的可能性。為防止空氣夾雜等,可思及將陰極室之出口水收入儲槽再以泵進行送水,但在將出口水收入儲槽之時點,存在溶解度以上之氫會擴散至大氣中,故降低氫之利用效率。相對於此,第1態樣之水處理裝置中,將陰極室之出口水直接作為送至溶氧去除室之入口水使用。亦即,就被處理水之流向而言,溶氧去除室係串聯於陰極室。藉由如此之構成,無需升壓用之泵,又,亦不會發生陰極室中生成之氫的逸散,而可提高氫的利用效率。僅有陰極室之出口水中含有的氫量不足以進行溶氧之去除時,例如,可向連接陰極室之出口與溶氧去除室之入口之管線注入氫。即使在不將陰極室中生成之氫使用於溶氧之去除之情況,只要在溶氧去除室之上游設置向被處理水供給氫之手段,仍可將含有氫的被處理水供給至溶氧去除室。
就化學量而論,與氧反應之氫的質量係氧的質量之八分之一,亦即0.125倍。有鑑於此,第1態樣之水處理方法中,無論向被處理水添加氫之手段係何種態樣,較佳將供給至溶氧去除室之被處理水中含有的氫量調整至使每單位時間供給至溶氧去除室之氫量相對於被處理水中之處理對象之溶氧負荷量之質量比為0.1以上、0.4以下。
第1態樣中之水處理裝置,典型而言係設為在EDI裝置之脫鹽室中亦進行溶氧之去除者。從而,較佳將溶氧去除室以離子交換膜進行區隔,藉由以離子交換膜區隔,在溶氧去除室中亦可有效率地進行對於被處理水之脫鹽處理。或者,可將EDI裝置中之陽極室或者陰極室作為溶氧去除室使用,此情況下,溶氧去除室係由作為陽極之電極板或者作為陰極之電極板進行區隔。
基於本發明之第2態樣,一種水處理方法係至少去除被處理水中含有的溶氧,並包含在設於陽極室之陽極與設於填充有離子交換體之陰極室之陰極之間施加直流電流之步驟,以及將被處理水向陰極室通水之步驟,填充於陰極室之離子交換體的至少一部份係載持有金屬催化劑之離子交換體。在此水處理方法中,在陽極與陰極之間施加直流電流之步驟及將被處理水向陰極室通水之步驟,可同時執行或者亦可分別執行。
實施第2態樣之水處理方法之水處理裝置,包含具備陽極之陽極室以及具備陰極且填充有離子交換體並被供給被處理水之陰極室,填充於陰極室之離子交換體的至少一部份係載持有金屬催化劑之離子交換體,在陽極與陰極之間施加有直流電流。
在第2態樣之水處理裝置中,較佳將陰極室於其陽極室之側以離子交換膜區隔。藉由以離子交換膜區隔,可使陰極室內之離子交換體所捕集之離子經由離子交換膜而向陰極室之外部移動,而使陰極室內之離子交換體再生,故可長期維持溶氧之去除性能。更具體而言,較佳將填充於陰極室之離子交換體設為陰離子交換樹脂等陰離子交換體,並將區隔陰極室之離子交換膜設為陰離子交換膜。藉由如此之構成,被處理水中之陰離子,例如碳酸根離子或碳酸氫根離子,會吸附於陰離子交換體,接著,透過在陰極進行之水的電解反應所生成之氫氧根離子將陰離子交換體再生,而游離之陰離子會經由陰離子交換膜向陰極室之外部移動。其結果,在陰極室中對被處理水進行了對於碳酸根離子及碳酸氫根離子等陰離子之脫鹽處理。亦即,在陰極室中,不只對被處理水進行溶氧之去除處理,亦進行了脫碳酸處理。
在一般的EDI裝置之陰極室中進行上述之溶氧之去除處理之情況,此去除處理與EDI裝置之脫鹽室中的脫鹽處理係獨立進行。從而,第2態樣中之水處理裝置,可藉由使用既有的EDI裝置,並利用載持有金屬催化劑之離子交換體作為填充於其陰極室之離子交換體而容易地實現。此情況下,可向EDI裝置之脫鹽室以與去除溶氧之對象之被處理水不同之被處理水進行通水。或者,亦可將藉由通過陰極室而去除了溶氧後之被處理水向脫鹽室通水,並進行該被處理水之脫鹽。
在上述之第1態樣中填充於溶氧去除室之離子交換體所載持之金屬催化劑與在第2態樣中填充於陰極室之金屬催化劑,只要係促進從氫與氧生成水之反應之催化劑,皆可使用任意者。作為如此之金屬催化劑之例,可舉出鐵、銅、錳、鈀、鉑等。其中,鉑族金屬催化劑不僅促進氧之還原反應,對於過氧化氫分解之催化劑活性亦高,故可理想地在被處理水中含有過氧化氫之情況下利用。鉑族金屬催化劑係包含從釕、銠、鈀、鋨、銥及鉑之中選出之一種以上之金屬之催化劑。鉑族金屬催化劑可單獨包含此等金屬元素之任一者,亦可由此等之中的兩種以上組合而成。在此等之中,鉑、鈀及鉑/鈀合金因催化劑活性高,而可理想地作為鉑族金屬催化劑使用。
[發明效果]
透過上述之態樣,可透過簡單的構成有效率地去除被處理水中之溶氧等。
接著,參照圖式說明本發明之較佳實施態樣。圖1表示基於本發明之第1實施態樣之水處理裝置之基本構成。
圖1所示之水處理裝置,係去除被處理水中之溶氧並進行脫鹽者,與一般的EDI裝置同樣具備設有陽極11之陽極室21及設有陰極12之陰極室25,並在陽極室21與陰極室25之間,從陽極室21之側依序設有濃縮室22、溶氧去除室23及濃縮室24。陽極室21與濃縮室22之間以陽離子交換膜31區隔,濃縮室22與溶氧去除室23之間以陰離子交換膜32區隔,溶氧去除室23與濃縮室24之間以陽離子交換膜33區隔,濃縮室24與陰極室25之間以陰離子交換膜34區隔。於陽極室21填充有陽離子交換體亦即陽離子交換樹脂(CER),於濃縮室22、24及陰極室25填充有陰離子交換體亦即陰離子交換樹脂(AER)。於溶氧去除室23以單床形態填充有表面載持金屬催化劑之離子交換體。本實施態樣中,將表面載持鈀(Pd)之陰離子交換樹脂以單床形態填充於溶氧去除室23。以下之說明中,將表面載持鈀(Pd)之陰離子交換樹脂稱為Pd載持陰離子交換樹脂(Pd AER)。
被處理水係供給至陰極室25,並將陰極室25之出口水直接供給至溶氧去除室23之入口。從溶氧去除室23排出已去除了溶氧並進行了脫鹽處理之處理水。於濃縮室22、24供給供給水,濃縮室22、24之出口水供給至陽極室21,陽極室21之出口水向水處理裝置之外部排出。供給水並未特別限定,例如可係從自來水、工業用水、地下水等去除濁質及氧化性物質後,透過逆滲透膜裝置處理而得到的水。又,亦可將供給水直接流入陽極室21,而非濃縮室22、24之出口水亦即濃縮水。亦可從與陰極室25之出口水不同之管線向溶氧去除室23供給被處理水。
接著,說明利用圖1所示之水處理裝置進行溶氧之去除。在向陽極11與陰極12之間施加直流電流,並向濃縮室22、24供給供給水之狀態下,向陰極室25供給被處理水。陰極室25中透過直流電流在陰極12之表面進行陰極反應而產生氫,故從陰極室25作為出口水排出之被處理水中含有氫。此氫不僅限於溶解於被處理水,亦可作為微小的氣泡分散在被處理水中。如此,含有氫之被處理水直接流入溶氧去除室23。在填充於溶氧去除室23內之Pd載持陰離子交換樹脂(Pd AER)的表面上,被處理水中之溶氧與氫反應而生成水。被處理水中之溶氧減少與氫反應之量。氫與氧在金屬催化劑亦即鈀之存在下的反應速度較大,故只要被處理水中含有足夠量的氫,可從陰極室25排出足夠地去除了溶氧之處理水。只要溶氧去除室23內存在氫即可去除溶氧,故即使考慮到被處理水在溶氧去除室23與陰極室25的滯留時間而間歇地進行陽極11與陰極12之間的直流電流之施加,仍可去除溶氧。進一步而言,亦可連續或間歇地進行直流電流之施加,同時亦使對於溶氧去除室23之被處理水的通水間歇地進行。
Pd載持陰離子交換樹脂係陰離子交換體,故填充有Pd載持陰離子交換樹脂之溶氧去除室23係發揮與一般的EDI裝置中之脫鹽室相同之機能,在溶氧去除室23中亦對被處理水進行脫鹽處理。例如,由Pd載持陰離子交換樹脂捕集被處理水中之碳酸根離子(CO
3 2-)及碳酸氫根離子(HCO
3 -)等陰離子。在陽離子交換膜33之溶氧去除室23側之面因水之解離而亦產生氫氧根離子(OH
-),故Pd載持陰離子交換樹脂(Pd AER)所捕集之陰離子會與氫氧根離子進行離子交換而游離,並透過陽極11與陰極12之間的電場移動,而通過陰離子交換膜32向濃縮室22移動。並且,移動至濃縮室22之陰離子,隨著濃縮室22內之供給水的流動而經由陽極室21向裝置之外部排出。
Pd載持陰離子交換樹脂亦可分解過氧化氫,故本實施態樣之水處理裝置中,亦可去除被處理水中之過氧化氫。Pd載持陰離子交換樹脂分解過氧化氫時,分解生成物為氫及氧。生成之氧在Pd載持陰離子交換樹脂之存在下與氫反應而成為水,故即使分解去除過氧化氫亦不會使溶氧濃度上升。
圖2表示第1實施態樣中之水處理裝置之另一例。圖2所示之水處理裝置係與圖1所示之水處理裝置相同,但在溶氧去除室23係複床之構成,且Pd載持陰離子交換樹脂在溶氧去除室23中僅設於流動方向之上游側之點上與圖1所示者相異。在溶氧去除室23中,於流動方向之下游側填充未載持金屬催化劑之陰離子交換樹脂(AER)。因氫與氧在Pd載持陰離子交換樹脂之存在下的反應速度足夠大,故即使以複床形態填充Pd載持陰離子交換樹脂而配置於溶氧去除室23的一部份,仍可足夠地去除被處理水中之溶氧。以複床形態將Pd載持陰離子交換樹脂配置於溶氧去除室23內時,只要配置有Pd載持陰離子交換樹脂之區域中係不存在Pd載持陰離子交換樹脂以外者之形態(亦即單床形態),可在溶氧去除室23內之任意位置填充Pd載持陰離子交換樹脂之層。此情況下,理所當然,必須設成不會產生未通過Pd載持陰離子交換樹脂之層而在溶氧去除室23內流動之被處理水。圖2所示之構成中,可減少高價的鈀催化劑的使用量,故可減低成本。
圖3表示又另一例之水處理裝置。圖3所示之水處理裝置係與圖2所示之水處理裝置相同,但在形成複床形態之溶氧去除室23中填充於下游側之區域之離子交換體係未載持金屬催化劑之陽離子交換樹脂(CER)而非未載持金屬催化劑之陰離子交換樹脂之點上,與圖2所示者相異。
圖4表示又另一例之水處理裝置。圖4所示之水處理裝置係與圖2所示之水處理裝置相同,但在形成複床形態之溶氧去除室23中之下游側之區域係以混床形態(MB)填充未載持金屬催化劑之陰離子交換樹脂及未載持金屬催化劑之陽離子交換樹脂之點上與圖2所示者相異。
圖1至圖4所示之水處理裝置中,在陽極11與陰極12之間,可於溶氧去除室23之陰極側或陽極側設置經由中間離子交換膜而與溶氧去除室23鄰接之脫鹽室,並將來自溶氧去除室23之出口水向脫鹽室通水,或者,將陰極室25之出口水向脫鹽室通水後再供給至溶氧去除室23。於脫鹽室填充離子交換體。中間離子交換膜可係陰離子交換膜亦可係陽離子交換膜,亦可係雙極膜等複合膜。藉由如此之構成,可更加提高水處理裝置整體之脫鹽性能。
圖5A表示如此將脫鹽室與溶氧去除室23鄰接設置之水處理裝置之例。圖5A所示之水處理裝置,係在圖1所示之水處理裝置中,將脫鹽室26配置於溶氧去除室23與濃縮室24之間而成者。溶氧去除室23與脫鹽室26之間,以中間離子交換膜亦即陽離子交換膜35分隔,脫鹽室26與濃縮室24之間以陽離子交換膜33分隔。於脫鹽室26填充有陽離子交換樹脂。陰極室25之出口水先供給至溶氧去除室23,溶氧去除室23之出口水供給至脫鹽室26,從脫鹽室26流出已去除了溶氧並進行了脫鹽處理之處理水。
圖5B所示之水處理裝置,係在圖5A所示之水處理裝置中,向陽極室21直接供給供給水而取代將濃縮室22、24之出口水供給至陽極室21,再者,將從與供給至陰極室25之被處理水不同之管線供給之被處理水與陰極室25之出口水一同供給至溶氧去除室23者。藉由將來自不同的管線之被處理水供給至溶氧去除室23,提升水處理裝置整體之被處理水的處理能力。從陽極室21排出電極水,從濃縮室22、24排出濃縮水。
可作為區隔溶氧去除室23與脫鹽室26之中間離子交換膜使用之離子交換膜,不限於陽離子交換膜。圖5C所示之水處理裝置,係在圖5A所示之水處理裝置中,利用陰離子交換膜36作為區隔溶氧去除室23與脫鹽室26之中間離子交換膜,並將脫鹽室26設為複床構成者。在脫鹽室26中,於其入口側填充未載持金屬催化劑之陽離子交換樹脂(CER),並於出口側填充未載持金屬催化劑之陰離子交換樹脂(AER)。
圖1、圖2、圖3、圖4、圖5A、圖5B及圖5C所示之水處理裝置,除了設為可將脫鹽室作為溶氧去除室並在溶氧去除室中進行脫鹽處理亦進行溶氧之去除之點以外,與一般的EDI裝置具有相同之構成。一般的EDI裝置中,可在陽極與陰極之間配置複數之脫鹽室。圖1、圖2、圖3、圖4、圖5A、圖5B及圖5C所示之水處理裝置中,亦可藉由將由陰離子交換膜32、溶氧去除室23、陽離子交換膜33及濃縮室24組成之構成作為重複單位,並在「鄰接於陽極室21之濃縮室22」與「區隔出陰極室25之陰離子交換膜34」之間配置複數此重複單位,而在陽極11與陰極12之間配置複數之溶氧去除室23。
圖6A所示之水處理裝置,係在圖1所示之水處理裝置中配置複數溶氧去除室23而成者,陰極室25之出口水係以並聯方式分配並通水至複數之溶氧去除室23。從各溶氧去除室23排出已去除了溶氧,並且進行了脫鹽處理之脫鹽水。
圖6B所示之水處理裝置,係在圖6A所示之水處理裝置中,向陽極室21直接供給供給水而取代將濃縮室22、24之出口水供給至陽極室21,再者,將從與供給至陰極室25之被處理水不同之管線供給之被處理水與陰極室25之出口水一同供給至溶氧去除室23者。從陽極室21排出電極水,從濃縮室22、24排出濃縮水。
基於本發明之水處理裝置中,可使陰極室本身作為溶氧去除室發揮機能,此情況下,無須額外設置與陰極室不同之溶氧去除室。以下,作為第2實施態樣,說明使陰極室本身作為溶氧去除室發揮機能之水處理裝置。圖7表示基於本發明之第2實施態樣之水處理裝置之基本構成。
圖7所示之水處理裝置,具備設有陽極11之陽極室21、由陽離子交換膜31從陽極室21區隔出之濃縮室24,以及設有陰極12並由陰離子交換膜34從濃縮室24區隔出之陰極室25。於陽極室21填充有陽離子交換體亦即陽離子交換樹脂(CER),於濃縮室24填充有陰離子交換體亦即陰離子交換樹脂(AER)。於陰極室25填充有表面載持金屬催化劑之離子交換體。具體而言,於陰極室25以單床填充Pd載持陰離子交換樹脂。將含有溶氧之被處理水供給至陰極室25,被處理水通過陰極室25。向濃縮室24供給供給水,濃縮室24之出口水直接供給至陽極室21。通過陽極室21之供給水,作為排水從陽極室21排出。供給水並未特別限定,例如,可係從自來水、工業用水、地下水等去除了濁質及氧化性物質後,透過逆滲透膜裝置處理而得到的水。
圖7所示之水處理裝置中,在向陽極11與陰極12之間施加直流電流,並向濃縮室24供給供給水之狀態下,向陰極室25供給被處理水。陰極室25中透過直流電流在陰極12之表面進行陰極反應而產生氫。此氫在Pd載持陰離子交換樹脂(Pd AER)之表面與被處理水中之溶氧反應,其結果會生成水。被處理水中之溶氧減少與氫反應之量。在金屬催化劑亦及鈀的存在下,氫與氧之反應速度較大,故只要產生足夠量之氫,可從陰極室25排出足夠地去除了溶氧之處理水。其結果,從陰極室25排出足夠地去除了溶氧之處理水。只要陰極室25內存在氫即可去除溶氧,故亦可考慮到被處理水在陰極室25的滯留時間,而間歇地進行陽極11與陰極12之間的直流電流的施加。進一步而言,亦可連續或者間歇地進行直流電流的施加,同時亦使對於溶氧去除室23之被處理水的通水間歇地進行。
由於Pd載持陰離子交換樹脂係陰離子交換體,在陰極室25中,被處理水中以碳酸根離子(CO
3 2-)及碳酸氫根離子(HCO
3 -)等為首之陰離子會被Pd載持陰離子交換樹脂捕集。由於陰極12之陰極反應亦會產生氫氧根離子(OH
-),Pd載持陰離子交換樹脂所捕集的陰離子與氫氧根離子進行離子交換而游離,並透過陽極11與陰極12之間的電場移動,而通過陰離子交換膜34向濃縮室24移動。並且,移動至濃縮室24之陰離子,會隨著濃縮室24內之供給水的流動而經由陽極室21向裝置外部排出。亦即,在圖7所示之水處理裝置中,陰極室25中亦進行對於陰離子之脫鹽處理。又,Pd載持陰離子交換樹脂亦可分解過氧化氫,故在此水處理裝置中,與圖1至圖6所示之水處理裝置同樣亦可去除被處理水中之過氧化氫。
藉由利用Pd載持陰離子交換樹脂,在本實施態樣之水處理裝置中,亦可去除被處理水中之過氧化氫。Pd載持陰離子交換樹脂在分解過氧化氫時,分解生成物為氫及氧。生成之氧會在Pd載持陰離子交換樹脂的存在下與氫反應而成為水,故即使將過氧化氫分解去除,亦不會使溶氧濃度上升。又,在圖7所示之水處理裝置中,陽極室21亦可作為濃縮室24發揮機能。此情況下,只要採用取出陽離子交換膜31而使陽極室21與濃縮室24成為一體之構成即可。
圖8表示第2實施態樣中之水處理裝置之另一例。圖8所示之水處理裝置係與圖7所示之水處理裝置相同,但在陰極室25係複床構成,且Pd載持陰離子交換樹脂在陰極室25中僅設於流動方向之下游側之點上,與圖7所示者相異。在陰極室25中流動方向之上游側填充有未載持金屬催化劑之陰離子交換樹脂(AER)。陰極室25中之陰極反應係在陰極12的整個面進行,又,氫與氧在Pd載持陰離子交換樹脂的存在下之反應速度足夠大,故即使僅在陰極室25之出口側配置Pd載持陰離子交換樹脂,仍可足夠地去除被處理水中之溶氧。圖8所示之構成中,可減少高價的鈀催化劑的使用量,故可減低成本。對於減少Pd載持陰離子交換樹脂的使用量,亦可思及將Pd載持陰離子交換樹脂與其他陰離子交換樹脂或陽離子交換樹脂以混合(混床)形態填充於陰極室25之方法,但為了提升氫的利用效率,較佳在陰極室25內的至少一部份以單床形態填充Pd載持陰離子交換樹脂。亦即,於陰極室25填充Pd載持陰離子交換樹脂時,較佳以單床形態或複床形態進行填充。
圖7及圖8所示之水處理裝置,係從一般的EDI裝置除去脫鹽室之構成,但在第2實施態樣之水處理裝置中,亦可設置脫鹽室而採用與一般的EDI裝置相同之構成,在脫鹽室執行脫鹽處理,並在陰極室執行溶氧之去除處理。圖9表示作為EDI裝置構成之第2實施態樣之水處理裝置。圖9所示之水處理裝置係在圖7所示之水處理裝置中,於陽極室21與濃縮室24之間從陽極室21之側依序設置濃縮室22及脫鹽室26者。陽極室21與濃縮室22之間係以陽離子交換膜31分隔,濃縮室22與脫鹽室26之間係以陰離子交換膜32分隔,脫鹽室26與濃縮室24之間係以陽離子交換膜33分隔。於濃縮室22填充陰離子交換樹脂(AER),於脫鹽室26以混床(MB)填充陽離子交換樹脂及陰離子交換樹脂。於脫鹽室26供給與作為去除溶氧之對象之被處理水不同之被處理水。於陽極室21、濃縮室22、24供給供給水,從陽極室21排出電極水,從濃縮室22、24排出濃縮水。
圖9所示之水處理裝置中,藉由在陽極11與陰極12之間施加直流電流,在脫鹽室26中與一般的EDI裝置中的脫鹽室同樣對被處理水進行脫鹽處理,而從脫鹽室26排出脫鹽水。另一方面,陰極室25中,與圖7所示之水處理裝置之情況相同,進行去除被處理水中含有的溶氧之處理,而從陰極室25排出已去除了溶氧之處理水。此時,如上所述,亦去除被處理水中含有的過氧化氫。
圖10表示作為EDI裝置構成之第2實施態樣之水處理裝置之另一例。圖10所示之水處理裝置,係將從圖9所示之水處理裝置之陰極室25排出之處理水直接供給至脫鹽室26者。從而,透過圖10所示之水處理裝置,可得到去除了溶氧亦去除了過氧化氫之脫鹽水。
一般而言,在EDI裝置中,可在陽極與陰極之間配置複數之脫鹽室。在作為EDI裝置構成之圖9及圖10所示之水處理裝置中,亦可藉著將由陰離子交換膜32、脫鹽室26、陽離子交換膜33及濃縮室24組成之構成作為重複單位,並在鄰接於陽極室21之濃縮室22與區隔出陰極室25之陰離子交換膜34之間配置複數此重複單位,而在陽極11與陰極12之間配置複數之脫鹽室26。圖11所示之水處理裝置係在圖10所示之水處理裝置中配置複數脫鹽室26而成者,從陰極室25排出之處理水係以並聯方式分配並通水至複數之脫鹽室26。從各脫鹽室26排出已去除了溶氧並且進行了脫鹽處理之脫鹽水。
以上,說明了基於本發明之各實施態樣之水處理裝置,但還可將該等水處理裝置加入到製造純水或者超純水之水處理系統中。製造純水或者超純水之水處理系統,例如係將活性碳裝置(AC)、逆滲透膜裝置(RO)、紫外線照射裝置(UV)、離子交換樹脂裝置(IER)、膜脫氣裝置(MD)、EDI裝置、非再生型離子交換裝置(CP)及各種過濾器等加以組合而構成。基於本發明之水處理裝置,可進行溶氧之去除、過氧化氫之去除及脫鹽處理等,故可用以替換膜脫氣裝置、離子交換樹脂裝置、EDI裝置、非再生型離子交換裝置之中的一者以上,或者設於膜脫氣裝置、離子交換樹脂裝置、EDI裝置、非再生型離子交換裝置之前段或後段而提升雜質成分之去除性能。圖12表示包含基於本發明之水處理裝置之水處理系統之一例。
圖12所示之水處理系統,係從自來水等原水生成超純水之系統,並由從原水生成一次純水之一次純水系統及從一次純水生成超純水之子系統構成。圖中之符號100係已利用圖1至圖11說明之水處理裝置中的任一者。一次純水系統中,依序配置原水儲槽41、第1逆滲透膜裝置51、第2逆滲透膜裝置52、逆滲透膜處理水儲槽42、紫外線照射裝置(UV)55及水處理裝置100,原水依照此順序接受處理,其結果,製造出一次純水。若不使用基於本發明之水處理裝置100,則設置離子交換樹脂裝置及EDI裝置或者非再生型離子交換裝置,再設置膜脫氣裝置,以取代水處理裝置100。一次純水系統中,純水之供給對象亦即後段之設備滿水時,使製造出之一次純水向逆滲透膜處理水儲槽42循環。
子系統中,設有儲存來自一次純水系統之一次純水之純水儲槽45,並在純水儲槽45之出口,依序配置紫外線照射裝置(UV)61、非再生型離子交換裝置(CP)63、膜脫氣裝置(MD)65及超過濾膜(UF)67而使一次純水依照此順序接受處理以製造超純水。製造出之超純水的一部份向純水儲槽45循環。亦可利用精密過濾膜而取代超過濾膜(UF)67。又,亦可在子系統中設置基於本發明之水處理裝置而取代非再生型離子交換裝置63及膜脫氣裝置65,或將其設於非再生型離子交換裝置63、膜脫氣裝置65之前段或後段。在一次純水系統及子系統中設置膜脫氣裝置時,皆可藉由串聯設置複數之膜脫氣裝置而提升整體的溶氧去除率,但亦可在如此串聯設置複數之膜脫氣裝置時,將一部份的膜脫氣裝置替換成基於本發明之水處理裝置。
圖13表示包含基於本發明之水處理裝置之水處理系統之另一例。圖13所示之水處理系統係在圖12所示之水處理系統中,將水處理裝置100之位置設在一次純水系統之紫外線照射裝置55的前段,並在紫外線照射裝置55之後段配置離子交換樹脂裝置或EDI裝置亦即處理裝置(IER/EDI)56而成者。逆滲透膜處理水儲槽42內之水依序向基於本發明之水處理裝置100、紫外線照射裝置55及處理裝置56通水,而從離子交換樹脂裝置或EDI裝置亦即處理裝置56排出一次純水。已知在紫外線照射裝置55中向被處理水照射紫外線而進行總有機碳(TOC)成分之分解去除時,若被處理水中之溶氧濃度較高,會降低TOC之去除率。從而,圖13所示之水處理系統中,可降低紫外線照射裝置55之入口水中之溶氧濃度,而提升原水中之溶氧濃度較高時之紫外線照射裝置中的TOC去除率。
圖14表示包含基於本發明之水處理裝置之水處理系統之又另一例。圖14所示之水處理系統,係在圖12所示之水處理系統中,亦在子系統之紫外線照射裝置61之出口與非再生型離子交換裝置63之入口之間配置基於本發明之水處理裝置100而成者。透過紫外線照射將水中之有機物分解去除時會生成碳酸根離子及碳酸氫根離子等,但由於水處理裝置100亦可去除碳酸根離子及碳酸氫根離子,故藉由在子系統內如圖14所示配置水處理裝置100,可減低後段之非再生型離子交換裝置63中的處理負荷而提升雜質之去除性能。
[實施例]
接著,透過實施例及比較例更詳細地說明本發明。
[實施例1]
組建圖1所示之水處理裝置作為實施例1。陽極室21、濃縮室22、24及陰極室25的尺寸皆為105mm×105mm×9.5mm,溶氧去除室23的尺寸為105mm×105mm×19.5mm。實施例1中,於溶氧去除室23以單床填充Pd載持陰離子交換樹脂(Pd AER)。陽極11及陰極12的大小係105mm×105mm,可將施加電流除以此等電極之面積而計算出電流密度。
[實施例2]
組建圖3所示之水處理裝置作為實施例2。此水處理裝置在構成及尺寸上與實施例1相同,但在溶氧去除室23中係以複床填充Pd載持陰離子交換樹脂(Pd AER)之點上與實施例1相異。具體而言,實施例2之溶氧去除室23中,於被處理水之入口側配置Pd載持陰離子交換樹脂(Pd AER)之層,並於被處理水之出口側配置未載持金屬催化劑之陽離子交換樹脂(CER)之層。Pd載持陰離子交換樹脂之層中的流路長度與未載持金屬催化劑之陽離子交換樹脂之層中的流路長度之比為1:1。
[比較例1]
組建圖15所示之水處理裝置作為比較例1。此水處理裝置在構成及尺寸上與實施例1相同,但在溶氧去除室23中係以混床形態填充Pd載持陰離子交換樹脂及未載持金屬催化劑之陽離子交換樹脂之點上與實施例1相異。具體而言,比較例1中,將Pd載持陰離子交換樹脂與未載持金屬催化劑之陽離子交換樹脂以總體積1:1混合,並以將該等混合之狀態(Pd AER MB)填充於溶氧去除室23。
對於實施例1、2及比較例1之各水處理裝置,使施加電流在0.5A~2.5A之範圍內變化,同時以50L/h之流量通水被處理水,並以5L/h之流量通水供給水,而使該等水處理裝置運轉。從陰極室25之入口之被處理水的溶氧濃度及從溶氧去除室23排出之處理水的溶氧濃度,研究溶氧濃度對應於電流密度之變化。其結果如圖16所示。根據圖16,Pd載持陰離子交換樹脂之填充形態為混床形態之比較例1中,即使增大電流密度,溶氧去除率仍在約70%到達極限,而在單床形態之實施例1及複床形態之實施例2中,可藉由增大電流密度,而使溶氧去除率達到80%以上。又,根據圖16,為達成至少20%之溶氧去除率,較佳將電流密度設在0.45A/dm
2以上、2.3A/dm
2以下。為得到更佳的溶氧去除率,較佳將電流密度設在1.0A/dm
2以上、2.0A/dm
2以下。
在水處理裝置中,使陽極11與陰極12之間的施加電流變化時,該時之施加電壓亦會變化,而電流與電壓之乘積亦即消耗電力之變化幅度會在施加電流之變化以上。計算圖16所示之各結果中之消耗電力,並將換算成被處理水之每單位流量之消耗電力之結果於圖17中表示。圖17中橫軸係每單位流量之被處理水之消耗電力,比較例1相較於實施例1、2,消耗電力更大。就施加電流而言實施例1、2與比較例1相同,故混床形態之比較例1中,相較於實施例1、2,施加電壓較高,為得到相同溶氧去除率所需的消耗電力較大。換言之,實施例1所表示之單床形態及實施例2所表示之複床形態中,可較為節能地去除溶氧。進行與電流密度之較佳範圍相同之研究,被處理水之每單位流量之消耗電力較佳在0.06W・h/L以上、0.70W・h/L以下,更佳在0.17W・h/L以上、0.50W・h/L以下。
基於得到圖16所示之結果時之陰極室25之入口之被處理水的溶氧濃度及該時之電流值,研究每溶氧負荷量(單位時間中流入之被處理水中含有的溶氧的質量)之電流值與溶氧去除率之關係。其結果於圖18表示。根據圖18,為達成50%以上之溶氧去除率,每溶氧負荷量之電流值需要2mA・h/mg;為達成80%以上之溶氧去除率則需要4mA・h/mg。從而,每溶氧負荷量之電流值,較佳在2mA・h/mg以上、8mA・h/mg以下,更佳在4mA・h/mg以上、8mA・h/mg以下。
將施加電流固定在2A使實施例1、2及比較例1之水處理裝置運轉,並研究改變被處理水之流量時之溶氧去除率的變化。將其結果作為溶氧去除率對於以溶氧去除室23內之Pd載持陰離子交換樹脂的體積為基準之空間速度之變化,於圖19中表示。如圖19所示,隨著被處理水之流量增大,溶氧去除率降低,單床形態之情況,以Pd載持陰離子交換樹脂的體積為基準之被處理水之空間速度亦即被處理水之流量除以Pd載持陰離子交換樹脂的體積之商為500h
-1時,溶氧去除率降低至50%。吾人認為若再將被處理水之流量增大,溶氧去除率應該會繼續降低,而得知在實際利用上,以填充於溶氧去除室23之Pd載持陰離子交換樹脂的體積為基準之被處理水之空間速度較佳在1000h
-1以下,更佳在500h
-1以下。
[實施例3]
作為被處理水,使用溶氧濃度為7.9mg/L、碳酸濃度為3.2mg/L之被處理水並以50L/h之流量供給至單床形態之實施例1之水處理裝置,並將施加電流設為1.0A而使水處理裝置運轉。並且,測定從溶氧去除室23排出之處理水中的溶氧濃度及碳酸濃度,並求出各自的去除率。其結果如表1所示。根據表1,得知透過基於本發明之水處理裝置,不僅可去除被處理水中之溶氧,亦可去除碳酸。
[表1]
被處理水 | 處理水 | 去除率 | |
溶氧濃度 | 7.9mg/L | 3.8mg/L | 51.9% |
碳酸濃度 | 3.2mg/L | <2μg/L | >99.9% |
[實施例4]
作為被處理水,使用溶氧濃度為7.8mg/L~8.2mg/L之被處理水,並以50L/h之流量供給至實施例1、2及比較例1之水處理裝置,並將施加電流設為1.5A而使各水處理裝置運轉。測定陰極室25之出口水中之氫濃度,以及從溶氧去除室23排出之處理水之溶氧濃度。從處理水之溶氧濃度,計算出在溶氧去除室23去除之氧量,並從該去除之氧量與陰極室出口水之氫濃度,計算出在陰極室25生成之氫的利用效率。在計算時,假設1莫耳的氫(H
2)與0.5莫耳的氧(O
2)反應。其結果如表2所示。
[表2]
實施例1(單床) | 實施例2(複床) | 比較例1(混床) | |
氫利用效率 | 98.5% | 97.7% | 90.5% |
若比較複床形態之實施例2與混床形態之比較例1,即使溶氧去除室23內之Pd載持陰離子交換樹脂的填充量相同,混床形態之比較例1之氫利用效率仍較低。另一方面,若比較複床形態之實施例2與單床形態之實施例1,即使實施例1之溶氧去除室23內之Pd載持陰離子交換樹脂的填充量為實施例2的兩倍,對於氫之利用效率仍未發現較大的差異。實施例1、2中,在陰極室25產生之氫的幾乎全部量皆用於溶氧之去除。
[實施例5]
組建圖7所示之水處理裝置。陽極室21、濃縮室24及陰極室25的尺寸皆為105mm×105mm×9.5mm。準備溶氧濃度為8.2mg/L之水,並將此水作為被處理水並以50L/h向陰極室25通水,並作為供給水以5L/h向濃縮室24通水。使流向陽極11與陰極12之間的電流值在0.5A至2.5A之範圍內變化而使水處理裝置運轉,並測定從陰極室25排出之處理水之溶氧濃度而求出溶氧去除率。其結果如圖20所示。根據圖20,得知電流值與溶氧去除率相關,可藉由增大電流密度而提升溶氧去除率。此意味著已有效地利用在陰極室25內產生之氫進行溶氧之去除。
[實施例6]
利用與實施例5相同之裝置,進行除了在被處理水中添加過氧化氫且將運轉時之電流設定為1.5A以外與實施例1相同之實驗,並測定處理水中之過氧化氫濃度而求出過氧化氫之去除率。其結果如表3所示。
[表3]
過氧化氫濃度[mg/L] | 過氧化氫去除率[%] | |
被處理水(入口) | 處理水(出口) | |
0.33 | 0.044 | 86.7 |
0.56 | 0.060 | 89.3 |
0.98 | 0.103 | 89.5 |
從表3之結果,得知在陰極室25中填充有Pd載持陰離子交換樹脂之情況下,亦可去除過氧化氫。又,對此時之溶氧去除率進行實際測量之結果為約27%,係與實施例5之溶氧去除率相同程度之值。
11:陽極
12:陰極
21:陽極室
22,24:濃縮室
23:溶氧去除室
25:陰極室
26:脫鹽室
31,33,35:陽離子交換膜
32,34,36:陰離子交換膜
41:原水儲槽
42:逆滲透膜處理水儲槽
45:純水儲槽
51:第1逆滲透膜裝置
52:第2逆滲透膜裝置
55:紫外線照射裝置
56:處理裝置
61:紫外線照射裝置
63:非再生型離子交換裝置
65:膜脫氣裝置
67:超過濾膜
100:水處理裝置
圖1係表示基於第1實施態樣之水處理裝置之圖。
圖2係表示水處理裝置之另一例之圖。
圖3係表示水處理裝置之另一例之圖。
圖4係表示水處理裝置之另一例之圖。
圖5A係表示水處理裝置之另一例之圖。
圖5B係表示水處理裝置之另一例之圖。
圖5C係表示水處理裝置之另一例之圖。
圖6A係表示水處理裝置之另一例之圖。
圖6B係表示水處理裝置之另一例之圖。
圖7係表示水處理裝置之另一例之圖。
圖8係表示基於第2實施態樣之水處理裝置之圖。
圖9係表示水處理裝置之另一例之圖。
圖10係表示作為EDI裝置構成之水處理裝置之圖。
圖11係表示作為EDI裝置構成之水處理裝置之另一例之圖。
圖12係表示作為EDI裝置構成之水處理裝置之另一例之圖。
圖13係表示具備水處理裝置之水處理系統之一例之流程圖。
圖14係表示具備水處理裝置之水處理系統之另一例之流程圖。
圖15係表示具備水處理裝置之水處理系統之另一例之流程圖。
圖16係表示比較例1之水處理裝置之圖。
圖17係表示電流密度與溶氧去除率之關係之圖表。
圖18係表示消耗電力與溶氧去除率之關係之圖表。
圖19係表示每溶氧負荷量之電流與溶氧去除率之關係之圖表。
圖20係表示Pd載持陰離子交換樹脂中之空間速度與溶氧去除率之關係之圖表。
11:陽極
12:陰極
21:陽極室
22,24:濃縮室
23:溶氧去除室
25:陰極室
31,33:陽離子交換膜
32,34:陰離子交換膜
Claims (19)
- 一種水處理方法,係至少去除被處理水中含有的溶氧,其包含以下步驟: 在陽極與陰極之間施加直流電流之步驟;以及, 將該被處理水向配置於該陽極與該陰極之間並填充有離子交換體之溶氧去除室通水之步驟; 填充於該溶氧去除室之該離子交換體的至少一部份係載持有金屬催化劑之離子交換體; 該載持有金屬催化劑之離子交換體,在該溶氧去除室的至少一部份中係以單床形態填充。
- 如請求項1所述之水處理方法,其中, 將該被處理水供給至設有該陰極之陰極室,並使通過該陰極室後之該被處理水向該溶氧去除室通水。
- 一種水處理方法,係至少去除被處理水中含有的溶氧,其包含以下步驟: 在設於陽極室之陽極與設於填充有離子交換體之陰極室之陰極之間施加直流電流之步驟;以及, 將該被處理水向該陰極室通水之步驟; 填充於該陰極室之該離子交換體的至少一部份係載持有金屬催化劑之離子交換體。
- 如請求項3所述之水處理方法,其中, 該陰極室在該陽極室之側係以離子交換膜區隔。
- 如請求項4所述之水處理方法,其中, 區隔該陰極室之該離子交換膜係陰離子交換膜,填充於該陰極室之該離子交換體係陰離子交換體。
- 如請求項3至5中任一項所述之水處理方法,更包含以下步驟: 對於在該陽極室與該陰極室之間以該離子交換膜區隔出並填充有該離子交換體之脫鹽室,使通過該陰極室後之該被處理水通水而進行該被處理水之脫鹽之步驟。
- 如請求項1至5中任一項所述之水處理方法,其中, 該金屬催化劑係鉑族金屬催化劑,並且除了該被處理水中之溶氧,亦去除過氧化氫。
- 一種水處理裝置,係至少去除被處理水中含有的溶氧,包含: 陽極; 陰極;以及, 溶氧去除室,配置於該陽極與該陰極之間,並填充有離子交換體,並通水該被處理水; 填充於該溶氧去除室之該離子交換體的至少一部份係載持有金屬催化劑之離子交換體; 該載持有金屬催化劑之離子交換體,在該溶氧去除室的至少一部份中係以單床形態填充; 在該陽極與該陰極之間施加有直流電流。
- 如請求項8所述之水處理裝置,其中, 該溶氧去除室,係以作為該陽極之電極板、作為該陰極之電極板,以及離子交換膜中的任一者以上區隔。
- 如請求項8或9所述之水處理裝置,其中, 該溶氧去除室,係包含該陰極之陰極室,或者係在該被處理水之流動方向上串聯於該陰極室。
- 如請求項8或9所述之水處理裝置,其中, 於該溶氧去除室之上游,設有向該被處理水供給氫之手段。
- 如請求項8或9所述之水處理裝置,其中, 該直流電流對於該被處理水中之處理對象之溶氧負荷量之電流值係設定為在2mA・h/mg以上、8mA・h/mg以下。
- 如請求項8或9所述之水處理裝置,其中, 以填充於該溶氧去除室之該載持有金屬催化劑之離子交換體之體積為基準之該被處理水的空間速度係設定為在1000h -1以下。
- 如請求項8或9所述之水處理裝置,其中, 調整供給至該溶氧去除室之該被處理水中含有的氫的量,以使每單位時間供給至該溶氧去除室之氫的量對於該被處理水中之處理對象之溶氧負荷量的質量比成為0.1以上、0.4以下。
- 如請求項8或9所述之水處理裝置,其中, 該溶氧去除室中的電流密度在0.45A/dm 2以上、2.3A/dm 2以下。
- 如請求項8或9所述之水處理裝置,其中, 該溶氧去除室中之該被處理水之每流量的消耗電力在0.06W・h/L以上、0.70W・h/L以下。
- 一種水處理裝置,包含: 陽極室,包含陽極;以及, 陰極室,包含陰極,並填充有離子交換體,並被供給被處理水; 填充於該陰極室之該離子交換體的至少一部份係載持有金屬催化劑之離子交換體; 在該陽極與該陰極之間施加有直流電流。
- 如請求項17所述之水處理裝置,其中, 該陰極室,在該陽極室之側以離子交換膜區隔。
- 如請求項18所述之水處理裝置,其中, 區隔該陰極室之該離子交換膜係陰離子交換膜,填充於該陰極室之該離子交換體係陰離子交換體。
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