TW202243876A

TW202243876A - 光學薄膜、顯示裝置、及著色層形成用組成物

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Publication number: TW202243876A
Application number: TW111108955A
Authority: TW
Inventors: 石川真也; 石丸佳子; 二俣開
Original assignee: 日商凸版印刷股份有限公司
Priority date: 2021-03-12
Filing date: 2022-03-11
Publication date: 2022-11-16
Also published as: JP7088352B1; KR20230155454A; EP4307021A1; JP2022140095A; JP2022140434A; US20230422567A1; WO2022191318A1; CN116981969A

Abstract

本發明之光學薄膜，具備紫外線遮蔽率為85%以上的透明基材、及含有色素之著色層，著色層係由一層以上所構成，其含有：第1色材，極大吸收波長在470nm以上530nm以下，吸光光譜的半高寬為15nm以上45nm以下；第2色材，極大吸收波長在560nm以上620nm以下，吸光光譜的半高寬為15nm以上55nm以下；及第3色材，在400nm～780nm的波長範圍中穿透率最低的波長在650nm以上780nm以下之範圍內。光學薄膜從與著色層相反側的最表層的表面照射D65光源，光學薄膜中a ^*、b ^*分別在-5以上+5以下的範圍內。

Description

光學薄膜、顯示裝置、及著色層形成用組成物

本發明係關於光學薄膜、顯示裝置及著色層形成用組成物。本案針對2021年3月12日於日本提出申請的日本特願2021-040750號主張優先權，並將其內容援用至此。

具備有機發光元件等自發光元件的自發光顯示裝置係與液晶顯示裝置等不同，具有小型化優良而且低消耗電力、高輝度、高反應速度等優良的特徵，作為次世代的顯示裝置備受期待。自發光顯示裝置的顯示面之區域內形成有金屬製的電極及配線。因此，由於從顯示畫面的外部入射的光(亦即外部光)在電極或配線反射，而容易導致對比降低等顯示品質降低。

為了解決上述問題，例如有提案在自發光顯示裝置的表面配置偏光板及相位延遲板的構成。然而，在使用偏光板及相位差延遲板的構成中，從顯示裝置射出之光通過偏光板及相位差延遲板而放出至外部時，大部分的光損失而容易導致元件壽命降低。

又，對於顯示裝置要求高的色純度。色純度係表示顯示裝置可顯示之色彩的廣度，亦稱為色彩再現範圍。因此，高色純度意指色彩再現範圍廣、色彩再現性良好。作為提升色彩再現性的手段，對於發出白色光的光源使用彩色濾光片而進行色彩分離的手法、或者以彩色濾光片校正發出三原色RGB之單色光的光源而縮小其半高寬的手法已為人所知，但使用彩色濾光片提升顯示裝置之色彩再現性時，變得需要彩色濾光片的厚膜化及色材的高濃度化，而有像素形狀及視角特性變差等顯示品質降低的問題。又，對於發出三原色RGB之單色光的顯示裝置而言，變得需要形成彩色濾光片的步驟，而有成本增加的課題。

作為與前述配置偏光板及相位差延遲板的構成以及使用彩色濾光片的構成不同的顯示裝置，例如，專利文獻1揭示一種有機發光顯示裝置，其具備包含有機發光元件的顯示基板、及與顯示基板隔著間隔配置的密封基板，在顯示基板與密封基板之間的空間中埋入填充劑，該填充劑係對於每個波長帶挑選地吸收外部光而調節穿透率。此構成抑制外部光反射而提升視覺識別性，並且選擇性吸收從顯示裝置射出之光中尤其會使色純度降低之波長帶的光，因此色純度亦提升。然而，所揭示的技術中，對於外部光反射的抑制並不充分，且有發生反射光具有色調的課題。又，吸收特定波長之光的色材係耐光性等可靠度不充分，難以實用化。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利第5673713號公報

[發明欲解決之課題]

然而，如上述之以往技術中有如下述的問題。使用偏光板及相位延遲板的裝置，雖可抑制因外部光所造成的反射光之光量，但有於有機發光元件發出之顯示光的光量亦降低這樣的問題。再者，有提案在專利文獻1揭示的具有波長選擇吸收性的填充劑中含有在480nm～510nm的波長區域具有吸收極大波長的色素與在580nm～610nm的波長區域具有吸收極大波長的色素之構成。因此，有難以去除小於480nm之波長帶及超過610nm之波長帶中的外部光之影響這樣的問題。若無法抑制這種波長帶的外部光，則降低反射率的效果不充分，又有發生反射色相變差這樣的問題。再者，前述賦予波長選擇吸收性的色素係耐光性等的可靠度不充分，若不改善可靠度則難以實用化。

鑒於上述情事，本發明之目的在於提供一種可提升顯示品質與實現發光元件之長壽命化的光學薄膜及使用其之顯示裝置、以及用於製造薄膜的著色層形成用組成物。 [用以解決課題之手段]

為了解決上述課題，本發明之第1態樣的光學薄膜具備：依據JIS L 1925的紫外線遮蔽率為85%以上的透明基材、形成於前述透明基材之第一面側的一層以上之功能層、及形成於前述透明基材之第二面側的一層以上的著色層。前述著色層係一層以上的著色層，其包含極大吸收波長在470nm以上530nm以下之範圍內且吸光光譜的半高寬為15nm以上45nm以下的第1色材、極大吸收波長在560nm以上620nm以下之範圍內且吸光光譜的半高寬為15nm以上55nm以下的第2色材、在400nm～780nm的波長範圍中穿透率最低的波長在650nm以上780nm以下之範圍內的第3色材，且由下式(1)～(9)所定義的反射色相之色彩度指數(chromaticness index) a ^*及b ^*分別在-5以上+5以下的範圍內。a ^*及b ^*係在厚度方向上從功能層的最表層側照射D65光源，著色層之最下層部的反射率R _E(λ)在從波長380nm至780nm的所有波長中皆為100%反射時，從光源照射側的反射率R(λ)算出。

此處，λ係表示波長的變數，t係表示X、Y、Z相對於X _n、Y _n、Z _n之比率的變數。由式(1)～(3)計算出來的a ^*、b ^*係依照CIE1976L ^*a ^*b ^*色空間(CIELAB色空間)的計算方法算出。式(1)、(2)中，X _n、Y _n、Z _n為D65光源的白色點中的3刺激值。式(4)中，R _E(λ)係表示在完全漫反射面的反射率[%]之函數(各波長100%)，R2(λ)係表示前述功能層的最表面之表面反射率[%]的函數，T(λ)係表示前述光學薄膜之穿透率[%]的函數。式(6)～(9)中，P _D65(λ)為D65光源光譜，上橫線x(λ)、上橫線y(λ)、上橫線z(λ)係在CIE1931 2°視野中的色匹配函數。式(6)至式(9)中的定積分可藉由適宜的數值積分求出。進行數值積分時的波長間隔為例如1nm間隔。

式(5)中，R(λ)表示在考慮光學薄膜中的透明基材之內部反射下，光學薄膜對於來自與前述著色層相反側之入射光的反射率。式(6)～(8)所示的X、Y、Z表示D65光源的白色點中的3刺激值。

本發明之第2態樣的顯示裝置具備光源與上述光學薄膜。

本發明的第3態樣之著色層形成用組成物係含有活性能量線硬化性樹脂、光聚合起始劑、色素、添加劑及溶劑之著色層形成用組成物，前述色素包含第1色材及第2色材中的至少一色材與第3色材，且不包含在波長390～435nm具有主吸收波長帶之染料，該第1色材的極大吸收波長在470nm以上530nm以下之範圍內且吸光光譜的半高寬為15nm以上45nm以下，該第2色材的極大吸收波長在560nm以上620nm以下之範圍內且吸光光譜的半高寬在15nm以上55nm以下，該第3色材在400nm～780nm的波長範圍中穿透率最低的波長在650nm以上780nm以下之範圍內；前述添加劑含有自由基捕捉劑、過氧化物分解劑及單重態氧淬滅劑中的至少一種。 [發明之效果]

根據本發明，可提供一種可提升基於外部光反射之顯示品質且可提升顯示裝置之發光元件壽命的光學薄膜、顯示裝置、及著色層形成用組成物。

[用以實施發明的形態]

以下參照所附圖式說明本發明的實施形態。所有圖式中，即使在實施形態不同的情況中，亦對於相同或相當的構件賦予相同的符號，並省略共通的說明。

[第1實施形態] 說明本發明的第1實施形態之光學薄膜及顯示裝置。圖1係顯示本發明的第1實施形態之光學薄膜及顯示裝置之一例的示意剖面圖。圖1中顯示厚度方向之剖面的本實施形態之顯示裝置50A，係基於影像訊號顯示彩色影像。顯示裝置50A具備顯示部20及本實施形態的光學薄膜10A。

顯示部20具備基板21、發光元件22及彩色濾光片部23。基板21例如係以矽基板形成。發光元件22發出白色光。例如亦可使用有機EL元件作為發光元件22。有機EL元件，係在陽極與陰極之間施加直流電壓，在有機發光層注入電子及電洞而使其再結合，藉此生成激子(exciton)，利用此激子失去活性時所釋放之光來發光。來自發光元件22的光，係以與有機發光層正交的光軸為中心，在從圖示下側朝向上側的光射出方向上射出。發光元件22，例如係使用半導體製程而製作於基板21上。

各發光元件22中的電極，係通過形成於基板21上的金屬製配線而與省略圖示的驅動電路連接。驅動電路係基於影像訊號而控制各發光元件22的點燈及熄燈。例如，發光元件22係在進行色彩顯示的各像素內配置對應紅色成分之影像訊號而點燈的第1發光元件22R、對應綠色成分之影像訊號而點燈的第2發光元件22G及對應藍色成分之影像訊號而點燈的第3發光元件22B。

彩色濾光片部23係配置於各發光元件22的光放射方向上。彩色濾光片部23具有使紅色光穿透的紅色濾光片、使綠色光穿透的綠色濾光片及使藍色光穿透的藍色濾光片。紅色濾光片配置於與第1發光元件22R對向的位置，綠色濾光片配置於與第2發光元件22G對向的位置，藍色濾光片配置於與第3發光元件22B對向的位置。彩色濾光片部23亦可具有將穿透各紅色濾光片、各綠色濾光片及各藍色濾光片的光聚光的透鏡。

本實施形態的光學薄膜10A係積層於顯示部20的彩色濾光片部23上。光學薄膜10A係設置用以提升顯示部20之顯示區域中的色純度，並抑制因外部光反射所造成的顯示品質降低。光學薄膜10A係在顯示部20的光射出方向上依序具備著色層12、透明基材11、硬塗層13及低折射率層14A。

透明基材11係在厚度方向上具有第1面11a與第2面11b的板或薄片。透明基材11的第2面11b夾住著色層12而配置於顯示部20的彩色濾光片部23側。透明基材11的材料的可見光之穿透率越接近100%越佳。此處可見光係指380nm以上780nm以下的可見光波長帶的光。再者，透明基材11具有紫外線遮蔽率為85%以上的紫外線吸收功能，發揮作為紫外線吸收層的功能，用以保護著色層12所包含之色素不受紫外線影響。此處，紫外線遮蔽率係基於JIS L 1925測量及計算，並以由100%減去290nm至400nm之波長範圍中的平均穿透率(單位；[%])所得之值[%]來表示。

作為透明基材11的材質，可利用聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯、聚甲基丙烯酸甲酯等聚丙烯酸酯、尼龍6、尼龍66等聚醯胺、聚醯亞胺、聚芳酯(polyarylate)、聚碳酸酯、三乙醯纖維素、聚乙烯醇、聚氯乙烯、環烯烴共聚物、含降莰烯的樹脂、聚醚碸、聚碸等透明樹脂及無機玻璃。其中可適合地利用包含聚對苯二甲酸乙二酯的薄膜(PET)、包含三乙醯纖維素的薄膜(TAC)、包含聚甲基丙烯酸甲酯的薄膜(PMMA)、包含聚酯的薄膜。透明基材11的厚度並無特別限定，較佳係設為10μm～100μm。圖2中顯示包含此等材質的透明基材之光線穿透曲線。圖2的例子中，各透明基材的紫外線遮蔽率如下，皆適合作為透明基材11使用。 TAC：92.9% PMMA：93.4% PET：88.6%

透明基材11的紫外線吸收性，例如可藉由在用以形成透明基材11的樹脂材料中摻合紫外線吸收劑而賦予。作為紫外線吸收劑，並無特別限定，可使用二苯甲酮系、苯并三唑系、三𠯤系、草醯苯胺系、氰基丙烯酸酯系的化合物。

著色層12係含有色素的層狀部，與透明基材11的第2面11b重疊配置。因此，著色層12配置於顯示部20的彩色濾光片部23側與透明基材11之間。著色層12含有第1色材、第2色材及第3色材作為色素。第1色材，極大吸收波長在470nm以上530nm以下的範圍內，吸光光譜的半高寬(半峰全幅值)為15nm以上45nm以下。此處，極大吸收波長意指在光吸收率的光譜(吸收光譜)中，賦予光吸收率的極大值中之最大值的波長。在光穿透率的光譜中，則意指賦予極小值中之最小值的波長。以下亦同樣。第2色材，極大吸收波長在560nm以上620nm以下的範圍內，吸光光譜的半高寬為15nm以上55nm以下。第3色材，在400～780nm的波長範圍中穿透率最低的波長在650nm以上780nm以下的範圍內。第3色材的吸光光譜的半高寬為例如10nm以上300nm以下，但無特別限定。以下，將第1色材、第2色材及第3色材予以統稱的情況，有時僅稱為色材。

作為著色層12所包含的第1色材、第2色材及第3色材，可使用包含下述化合物者：選自包含具有卟啉結構、部花青結構、酞花青結構、偶氮結構、花青結構、方酸鎓(squarylium)結構、香豆素結構、多烯結構、醌結構、四氮雜卟啉結構、吡咯亞甲基(pyrromethene)結構及靛青結構中任一結構之化合物及其金屬錯合物之群組中的一種以上之化合物。例如，特佳係使用分子內具有卟啉結構、吡咯亞甲基結構、酞花青結構、方酸鎓結構的化合物。本實施形態中的著色層12不包含在波長390～435nm具有主吸收波長帶的染料。著色層12亦可包含在波長390～435nm具有主吸收波長帶之染料，但在波長390～435nm具有主吸收波長帶之染料，不具有作為本發明目的之提升耐光性及耐熱性之可靠度的功能。因此，單純為了調整著色層12的色彩特性，可使著色層12含有在波長390～435nm具有主吸收波長帶之染料。又，藉由使著色層12之上層的透明基材11含有在波長390～435nm具有主吸收波長帶的染料，可謀求提升著色層12的可靠度。

又，本發明的光學薄膜10A，從透明基材11之第1面11a側的作為功能層之硬塗層13及低折射率層14A的最表層之表面10a側照射D65光源，並從表面10a側測量在光學薄膜之最下層10b側完全漫反射時的反射率R(λ)之際，上述式(1)至式(9)所示的因光學薄膜所造成之反射色相的色彩度指數(值)a ^*及b ^*分別在-5以上+5以下的範圍內。前述的色相係由國際照明委員會(CIE)所訂定之均勻色空間的一種(亦稱為CIE1976L ^*a ^*b ^*色空間或者CIE LAB色空間)，並以3維正交座標來表示，該3維正交座標係將上述式(1)、式(2)加上下述式(10)所示之明度指數L ^*的3個值作為軸。

此處，Y係D65光源之反射率R(λ)下的反射光之3刺激值，由式(4)、(5)、(7)、(9)算出，Y _n係D65光源的白色點中的3刺激值。

使用圖3詳述作為本發明之光學薄膜的外部光反射色相之指標的色彩度指數a ^*及b ^*的計算方法。

在厚度方向上從光學薄膜10A的功能層之最表層的表面10a面照射D65光源時，從光學薄膜10A射出的光可分成表面反射成分與內部反射成分來考量。表面反射成分係藉由R2(λ)[%]而規定在表面10a的表面反射率，內部反射成分係藉由R1(λ)[%]所規定，該R1(λ)[%]係從無論波長而皆為100%的完全漫反射面之反射率R _E(λ)[%]、光學薄膜10A的穿透率T(λ)及在表面10a之表面反射率R2(λ)[%]並藉由式(4)所算出。若將D65光源照射側的表面10a側之光學薄膜10A的反射率設為R(λ)[%]，則R(λ)係由上述式(5)算出。 R(λ)係與R1(λ)及R2(λ)同樣，為波長λ的函數，因此藉由求出式(6)至式(9)之與λ相關的定積分，可求出3刺激值X、Y、Z。此處，定積分亦可藉由適宜的數值積分來求出。例如，進行數值積分時的波長間隔亦可為例如1nm間隔般的等間隔。

如前所述，式(1)及式(2)中的X、Y、Z係在前述光學薄膜10A之表面10a側的D65光源之反射率R(λ)的反射光之3刺激值，X _n、Y _n、Z _n表示D65光源之白色點中的3刺激值。由此可算出作為光學薄膜10A之外部光反射色相指標的色彩度指數a ^*及b ^*。從提高外部光反射之顯示品質的觀點來看，光學薄膜10A之外部光反射色相的色彩度指數(值)a ^*及b ^*較佳係分別在-5以上+5以下的範圍內。在有機發光顯示裝置等自發光顯示裝置的顯示部及電極配線部等的內面所產生的內部反射率，在波長380nm至780nm的各波長中一般分別為不同的值，但本發明中詳細研究的結果，發現在將R _E(λ)設為在所有波長中皆為100%的完全漫反射面之反射率，且光學薄膜10A的外部光反射色相的色彩度指數(值)a ^*及b ^*分別在-5以上+5以下的範圍內時，即使在將R _E(λ)替換為實際的自發光顯示裝置之顯示部20的內部反射率的情況，作為外部光反射色相指標的色彩度指數a ^*及b ^*亦在-5以上+5以下的範圍內，而成為優良的顯示品質。

根據這種構成的著色層12，就整體而言在470nm以上530nm以下的範圍、及560nm以上620nm以下的範圍具有極大吸收波長、亦即極小穿透率，而且因為包含400nm～780nm的範圍內的最大吸收在650nm以上780nm以下之範圍的第3色材，可得到在620nm～780nm的範圍具有極小吸收波長、亦即極大穿透率的分光吸收光譜。因此，從顯示部20射出的紅色光、綠色光及藍色光大部分穿透著色層12。相對於此，著色層12中，紅色光及綠色光的各極大波長之間的波長成分、綠色光及藍色光的各極大波長之間的波長成分、紫外光及紅外光之各自一部分的透光量降低。因此，例如外部光在顯示部20之配線等所反射的光之中，使顯示光之色純度降低的波長成分被著色層12所吸收。

著色層12亦可含有自由基捕捉劑、過氧化物分解劑及單重態氧淬滅劑的至少一種作為添加劑。藉由含有這樣的添加劑，如以下所說明，可抑制著色層12包含的色材因光或熱等所造成的退色，而可提升耐久性。

例如，自由基捕捉劑具有捕捉色素氧化劣化時的自由基來抑制自動氧化的作用，而抑制色素劣化(退色)。若使用分子量2000以上的受阻胺系光穩定劑作為自由基捕捉劑，可得到高退色抑制效果。自由基捕捉劑之分子量低的情況容易揮發，因此留在著色層內的分子少，難以得到充分的退色抑制效果。就適合作為自由基捕捉劑使用的材料而言，可列舉例如：BASF公司製Chimassorb(註冊商標) 2020FDL、Chimassorb(註冊商標) 944FDL、Tinuvin(註冊商標) 622、ADEKA公司製LA-63P等。

就過氧化物分解劑而言，有將色素氧化劣化時所產生之過氧化物分解來停止自動氧化循環，而抑制色素劣化(退色)的作用。作為過氧化物分解劑，可使用磷系抗氧化劑、硫系抗氧化劑。

作為磷系抗氧化劑，可列舉例如：2,2’-亞甲基雙(4,6-二-三級丁基-1-苯氧基)(2-乙基己氧基)磷、3,9-雙(2,6-二-三級丁基-4-甲基苯氧基)-2,4,8,10-四氧雜-3,9-二磷雜螺[5.5]十一烷及6-[3-(3-三級丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙氧基]-2,4,8,10-四-三級丁基二苯并[d,f][1,3,2]二氧磷雜環庚二烯(dioxaphosphepin)等。

作為硫系抗氧化劑，可列舉例如：雙[3-(十二基硫基)丙酸]2,2-雙({[3-(十二基硫基)丙醯基]氧基}甲基)-1,3-丙烷二基酯、2-巰基苯并咪唑、3,3’-硫二丙酸二月桂酯、3,3’-硫二丙酸二肉豆蔻酯、3,3’-硫二丙酸二硬脂酯、新戊四醇-肆(3-月桂基硫基丙酸酯)、2-巰基苯并噻唑等。

單重態氧淬滅劑有下述作用：將具有容易使色素氧化劣化(退色)之性質的高反應性單重態氧不活性化，而抑制色素的氧化劣化(退色)。作為單重態氧淬滅劑，可列舉過渡金屬錯合物、色素類、胺類、酚類、硫化物類，作為特別適合使用的材料，為磷酸二烷酯、二硫胺甲酸二烷酯或苯二硫酚(benzenedithiol)的過渡金屬錯合物，作為中心金屬，適合使用鎳、銅或鈷。可列舉例如：林原生物化學研究所感光色素研究所(股)製NKX1199、NKX113、NKX114、東京化成公司製D1781、B1350、B4360、T3204等。

著色層12所包含的各色材雖具有優良的色彩校正功能，但對於光線、尤其是紫外線的耐性不充分，因此若照射紫外線則隨著時間經過而劣化，變得無法吸收極大吸收波長附近的光。本實施形態中，光學薄膜10A中，在相較於著色層12外部光先入射之一側配置紫外線遮蔽率為85%以上的透明基材11，因此可抑制外部光所包含之紫外線入射著色層12的量。因此可提升著色層12對於紫外線的耐光性。具有紫外線吸收功能的透明基材11在圖1所示的例中係直接形成有著色層12，但透明基材11只要相較於著色層12配置在外部光入射側即可，亦可在透明基材11與著色層12之間夾入其他層而進行配置。

又，可具備硬塗層13作為本實施形態的功能層。硬塗層13係保護透明基材11不受外力影響並具有透光性的層狀部。硬塗層13對於可見光的穿透率接近100%者為較佳。又，配置有硬塗層13的光學薄膜10A之表面硬度，在500gf (4.9N)載重(以下，500g載重)下的鉛筆硬度為H以上，鉛筆硬度係基於JIS-K5600-5-4：1999測量。

硬塗層13可藉由塗布含有活性能量線硬化性樹脂、光聚合起始劑及溶劑的組成物並進行乾燥，照射紫外線等能量線使其硬化而形成。

活性能量線硬化性樹脂，係藉由照射紫外線、電子束等活性能量線進行聚合而硬化的樹脂，例如可使用單官能、2官能或3官能以上的(甲基)丙烯酸酯單體。此外，本說明書中，「(甲基)丙烯酸酯」為丙烯酸酯與甲基丙烯酸酯兩者的統稱，「(甲基)丙烯醯基」為丙烯醯基與甲基丙烯醯基兩者的統稱。

作為單官能之(甲基)丙烯酸酯化合物的例子，可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、丙烯醯基𠰌啉、N-乙烯吡咯啶酮、丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸十三酯、(甲基)丙烯酸鯨蠟酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、磷酸(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質磷酸(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧酯、環氧乙烷改質(甲基)丙烯酸苯氧酯、環氧丙烷改質(甲基)丙烯酸苯氧酯、壬基酚(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質壬基酚(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改質壬基酚(甲基)丙烯酸酯、甲氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基丙二醇(甲基)丙烯酸酯、鄰苯二甲酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯、鄰苯二甲酸氫2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、鄰苯二甲酸氫2-(甲基)丙烯醯氧基丙酯、六氫鄰苯二甲酸氫2-(甲基)丙烯醯氧基丙酯、四氫鄰苯二甲酸氫2-(甲基)丙烯醯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸二甲胺乙酯、(甲基)丙烯酸三氟乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟丙酯、由2-金剛烷、金剛烷二醇衍生的具有1價之單(甲基)丙烯酸酯的丙烯酸金剛烷酯等金剛烷衍生物單(甲基)丙烯酸酯等。

作為2官能之(甲基)丙烯酸酯化合物的例子，可列舉：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙氧化己二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙氧化己二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙氧化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等二(甲基)丙烯酸酯等。

作為3官能以上之(甲基)丙烯酸酯化合物的例子，可列舉：三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、乙氧化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、丙氧化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、參2-羥乙基三聚異氰酸三(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯等三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等3官能之(甲基)丙烯酸酯化合物；及新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷六(甲基)丙烯酸酯等3官能以上之多官能(甲基)丙烯酸酯化合物；及以烷基或ε-己內酯取代此等(甲基)丙烯酸酯之一部分而成的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等。

又，作為活性能量線硬化性樹脂，亦可使用胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯。作為胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯，可列舉例如：藉由對於異氰酸酯單體或預聚物與聚酯多元醇反應所得之生成物，使具有羥基之(甲基)丙烯酸酯單體進行反應而得者。

作為胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的例子，可列舉：新戊四醇三丙烯酸酯六亞甲基二異氰酸酯胺基甲酸酯預聚物、二新戊四醇五丙烯酸酯六亞甲基二異氰酸酯胺基甲酸酯預聚物、新戊四醇三丙烯酸酯甲苯二異氰酸酯胺基甲酸酯預聚物、二新戊四醇五丙烯酸酯甲苯二異氰酸酯胺基甲酸酯預聚物、新戊四醇三丙烯酸酯異佛爾酮二異氰酸酯胺基甲酸酯預聚物、二新戊四醇五丙烯酸酯異佛爾酮二異氰酸酯胺基甲酸酯預聚物等。

上述活性能量線硬化性樹脂可使用1種，亦可組合2種以上使用。又，上述活性能量線硬化性樹脂，在硬塗層形成用組成物中可為單體，亦可為部分聚合而成之寡聚物。

作為光聚合起始劑，只要是在照射紫外線時產生自由基者即可，就具體例而言，可列舉：苯乙酮系化合物、苯偶姻系化合物、二苯甲酮系化合物、肟酯系化合物、氧硫

(thioxanthone)系化合物、三𠯤系化合物、膦系化合物、醌系化合物、硼酸酯系化合物、咔唑系化合物、咪唑系化合物、二茂鈦系化合物等。可使用例如：2,2-乙氧基苯乙酮、1-羥基環己基苯基酮、二苯甲醯(dibenzoyl)、苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、對氯二苯甲酮、對甲氧基二苯甲酮、米其勒酮、苯乙酮、2-氯氧硫

、氧化二苯基(2,4,6-三甲基苯甲醯基)膦及氧化苯基雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)膦等。此等之中，可單獨使用1種，亦可組合2種以上使用。

作為溶劑，可列舉：二丁醚、二甲氧甲烷、二甲氧乙烷、二乙氧乙烷、環氧丙烷、1,4-二㗁

、1,3-二㗁

、1,3,5-三㗁

、四氫呋喃、苯甲醚及苯乙醚等醚類；又，丙酮、甲乙酮、二乙酮、二丙酮、二異丁酮、甲基異丁酮、環戊酮、環己酮及甲基環己酮等酮類；又，甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸正戊酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、乙酸正戊酯及γ-丁內酯等酯類；再者，甲基賽路蘇、賽路蘇、丁基賽路蘇、乙酸賽路蘇等賽路蘇類。此等可單獨使用或組合2種以上使用。

又，硬塗層13的形成用組成物中，以調整折射率及賦予硬度為目的，亦可含有金屬氧化物微粒子。作為金屬氧化物微粒子，可列舉：氧化鋯、氧化鈦、氧化鈮、三氧化二銻、五氧化二銻、氧化錫、氧化銦、氧化銦錫、氧化鋅等。

又，硬塗層13的形成用組成物中，亦可含有賦予撥水性及撥油性中至少一者且提高防汙性的矽氧化物、含氟之矽烷化合物、氟烷基矽氮烷、氟烷基矽烷、含氟之矽系化合物、含全氟聚醚基之矽烷偶合劑中的任一者。

又，硬塗層13的形成用組成物中，作為其他添加劑，亦可加入調平劑、消泡劑、光敏劑、四級銨陽離子或導電性金屬微粒子等導電材料等。導電性材料可賦予光學薄膜抗靜電性。

又，可具備低折射率層14A作為本實施形態的功能層。低折射率層14A，在光學薄膜10A應用於顯示裝置50A時，配置在最靠近觀看顯示之使用者(視覺識別者)的一側。本實施形態中，低折射率層14A積層於硬塗層13之與透明基材11相反側的表面上。低折射率層14A的層厚並無特別限定，較佳係設為40nm～1μm。低折射率層14A包含折射率低於硬塗層13的材料。藉此，從外部入射之外部光在與硬塗層13之界面的反射光和在低折射率層14A表面的反射光發生干涉，因此外部光的表面反射率降低。藉由設置低折射率層14A，可抑制外部光的表面反射，因此顯示裝置50A的視覺識別性提升。低折射率層14A係包含無機物或無機化合物的層狀部。作為無機物或無機化合物，可例示LiF、MgF、3NaF･AlF、AlF、Na ₃AlF ₆等微粒子或氧化矽微粒子等。又，使用多孔質氧化矽微粒子或中空氧化矽微粒子等粒子內部具有空隙者作為氧化矽微粒子，對於低折射率化有效。又，低折射率層14A的形成用組成物中，除了無機物或無機化合物以外，亦可適宜摻合硬塗層13所說明的活性能量線硬化性樹脂、光聚合起始劑、溶劑、其他添加劑。

低折射率層14A的形成用組成物中，亦可含有矽氧化物、含氟之矽烷化合物、氟烷基矽氮烷、氟烷基矽烷、含氟之矽系化合物、含全氟聚醚基之矽烷偶合劑的任一者。藉由含有此等材料，可賦予低折射率層14撥水性及撥油性中至少一者，而提高防汙性。

著色層12係形成於透明基材11之第2面11b側的一層以上的層狀部，該形成用組成物中含有活性能量線硬化性樹脂、光聚合起始劑、色素、添加劑及溶劑。活性能量線硬化性樹脂、光聚合起始劑、溶劑分別可使用硬塗層13所說明者。色素包含上述第1色材及第2色材中至少一者與第3色材。作為添加劑，含有自由基捕捉劑、過氧化物分解劑及單重態氧淬滅劑中的至少一種。

光學薄膜10A可藉由在透明基材11的第2面11b上形成著色層12，並在透明基材11的第1面11a上依序形成硬塗層13及低折射率層14A而製造。惟著色層12、硬塗層13及低折射率層14A並無特別限定。例如，亦可在先形成著色層12之後，形成硬塗層13及低折射率層14A，亦可以與此相反的順序來形成。著色層12、硬塗層13及低折射率層14A可藉由塗覆包含各層之構成材料的塗覆液並進行乾燥，照射紫外線等活性能量線進行硬化而形成。又，除此之外，低折射率層14A亦可藉由例如蒸鍍或濺鍍等形成。

又，本實施形態的光學薄膜10A，只要可得到所需之正面輝度、外部光反射視覺識別性及顯示光的色純度，則亦可在光學薄膜的透明基材11之第1面11a側上適宜設置其他功能層。

顯示裝置50A可藉由準備顯示部20，隔著黏著層等將光學薄膜10A的著色層12貼合於彩色濾光片部23的表面上並進行固定來製造。

根據本實施形態的顯示裝置50A，若發光元件22對應影像訊號點燈，則發光元件22所產生的顯示光穿透彩色濾光片部23。藉此，來自第1發光元件22R的光係作為紅色光、來自第2發光元件22G的光係作為綠色光、來自第3發光元件22B的光係作為藍色光而穿透著色層12、透明基材11、硬塗層13及低折射率層14A，射出至光學薄膜10A的外部。此時，著色層12因為具有顯示光的紅色、綠色及藍色之波長光的穿透率良好的波長帶，可抑制各色的顯示光之輝度降低，可提升各色顯示光的色純度。又，透明基材11中主要吸收紫外線區域的光，因此顯示光係輝度幾乎未降低而穿透。低折射率層14A對於可見光的穿透率良好，因此顯示光係輝度幾乎未降低而射出至外部。

另一方面，顯示裝置50A中，外部光係通過光學薄膜10A而入射。藉由低折射率層14A，可抑制外部光的表面反射率，因此可抑制因外部光的表面反射過強所造成的視覺識別性降低。入射透明基材11的外部光，在紫外線區域的波長成分被透明基材11吸收的狀態下入射著色層12。著色層12中進一步吸收外部光中在著色層12所包含之各色材的吸收波長附近的波長成分。之後，外部光穿透彩色濾光片部23，到達基板21。基板21包含例如配線及電極等高反射率的金屬部分。因此，外部光在配線及電極等反射，依序穿透彩色濾光片部23、著色層12、透明基材11、硬塗層13及低折射率層14A而射出至外部。顯示裝置50A的觀察者，除了顯示光以外，亦會看到反射光，該反射光係合併有：因顯示裝置50A的外部光所造成的表面反射光、及外部光穿透顯示裝置50A內部並反射的內部反射光。

本實施形態中，外部光穿透著色層12兩次而射出至外部，藉此使與顯示光之波長成分不同的波長成分減少，因而一方面可減少外部光的內部反射，一方面可抑制顯示光的輝度降低，而提升顯示光的色純度。又，顯示裝置50A為非顯示狀態時，藉由使作為光學薄膜10A之外部反射光的反射色相指標的色彩度指數a ^*、b ^*的值成為-5以上且+5以下，而光學薄膜的色調影響變小，可保持顯示畫面的黑色調。本實施形態中，因為藉由透明基材11來吸收外部光的紫外光成分，可防止因著色層12接收紫外線而色材劣化。因此，容易隨著時間經過地維持著色層12中的色材之分光特性。

[第2實施形態] 說明本發明的第2實施形態之光學薄膜及顯示裝置。圖4係顯示本發明的第2實施形態之光學薄膜及顯示裝置之一例的示意剖面圖。圖4中顯示厚度方向之剖面的本實施形態之顯示裝置50C，具備本實施形態的光學薄膜10C來代替第1實施形態的顯示裝置50A的光學薄膜10A。光學薄膜10C在著色層12與硬塗層13之間具備阻氧層16，除此之外係與光學薄膜10A同樣地構成。以下，以與第1實施形態不同的點為中心進行說明。

阻氧層16係具有透光性的透明層。阻氧層16的透氧度為10cc/m ²･day･atm以下。作為阻氧層16的主要構成材料，較佳係含有聚乙烯醇(PVA)、乙烯-乙烯醇共聚物(EVOH)、偏二氯乙烯、矽氧烷樹脂等，可使用Mitsubishi Gas Chemical公司製的MAXIVE(註冊商標)、Kuraray股份有限公司製的EVAL(註冊商標)、POVAL、旭化成股份有限公司的Saran Latex(註冊商標)、Saran(註冊商標) Resin等。又，阻氧層16中，為了降低透氧度，亦可分散有氧化矽粒子、氧化鋁粒子、銀粒子、銅粒子、鈦粒子、氧化鋯粒子、錫粒子等無機物粒子。

光學薄膜10C安裝於顯示裝置50C時，外部氣體所包含的氧若未穿透阻氧層16則不會到達著色層12。藉此，可抑制外部氣體中的氧存在於其中之著色層12之各色材因光或熱所造成的劣化。因此，著色層12的吸光性能係長期持續。

本實施形態的阻氧層16可配置於欲抑制氧進入的適宜部位。例如，欲抑制從顯示裝置50C的外部進入著色層12的氧時，阻氧層16可配置在比著色層12更外部側的適宜構件間或層間。例如，欲抑制從顯示裝置50C的顯示部20進入著色層12的氧時，阻氧層16亦可配置於彩色濾光片部23與著色層12之間。

根據本實施形態的光學薄膜10C及顯示裝置50C，因為具備與第1實施形態同樣的著色層12、硬塗層13及低折射率層14A，而具備與第1實施形態同樣的作用。特別是本實施形態的光學薄膜10C進一步具備阻氧層16，因此可抑制著色層12的色素因氧影響導致之因光或熱所造成的氧化劣化。

[第3實施形態] 說明本發明的第3實施形態之光學薄膜及顯示裝置。圖5係顯示本發明的第3實施形態之光學薄膜及顯示裝置之一例的示意剖面圖。圖5中顯示厚度方向之剖面的本實施形態之顯示裝置50D，具備本實施形態的光學薄膜10D來代替第1實施形態的顯示裝置50A的光學薄膜10A。光學薄膜10D具備防眩層17來代替低折射率層14A及硬塗層13，除此之外，係與光學薄膜10A同樣地構成。以下，以與第1實施形態不同的點為中心進行說明。

防眩層17係具備防眩功能的層狀部。防眩功能係指在表面具有微細的凹凸，以此凹凸使外部光散射，藉此降低外部光之映入的功能。具備防眩層17的光學薄膜10D表面的鉛筆硬度係與第1實施形態同樣，為H以上。

防眩層17，可藉由使含有與硬塗層13同樣的組成物加上賦予防眩功能之有機微粒子及無機微粒子中至少一者的塗覆液硬化而形成。有機微粒子係在防眩層17表面上形成微細的凹凸而賦予使外部光漫射之功能者，例如可使用包含丙烯酸樹脂、聚苯乙烯樹脂、苯乙烯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、聚乙烯樹脂、環氧樹脂、聚矽氧樹脂、聚偏二氟乙烯、聚氟化乙烯系樹脂等透光性樹脂材料的樹脂粒子。為了調整折射率及樹脂粒子的分散性，亦可混合使用材質(折射率)不同的2種以上之樹脂粒子。無機微粒子係調整防眩層17中的有機微粒子之沉降及凝集者，可使用氧化矽微粒子、金屬氧化物微粒子或各種礦物微粒子等。作為氧化矽微粒子，例如可使用膠質氧化矽、或經(甲基)丙烯醯基等反應性官能基進行表面修飾的氧化矽微粒子等。作為金屬氧化物微粒子，例如可使用氧化鋁、氧化鋅、氧化錫、氧化銻、氧化銦、氧化鈦或氧化鋯等。作為礦物微粒子，例如可使用雲母、合成雲母、蛭石、微晶高嶺石、鐵微晶高嶺石、膨潤土、鋁膨潤石、鎂膨潤石、鋰膨潤石、滑鎂皂石、鐵膨潤石、麥烴矽鈉石、伊利石(illite)、水矽鈉石、層狀鈦酸、膨潤石、合成膨潤石等。礦物微粒子可為天然物及合成物(包含取代體、衍生物)的任一者，亦可使用兩者的混合物。礦物微粒子之中，更佳為層狀有機黏土。層狀有機黏土係指將有機鎓離子導入膨潤性黏土之層間而成者。有機鎓離子只要是可利用膨潤性黏土的陽離子交換性而有機化者即可，並無限制。使用層狀有機黏土礦物作為礦物微粒子時，可適合地使用上述合成膨潤石。合成膨潤石具有增加防眩層形成用之塗覆液的黏性、抑制樹脂粒子及無機微粒子之沉降而調整光學功能層之表面凹凸形狀的功能。

防眩層17形成用組成物，亦可含有矽氧化物、含氟之矽烷化合物、氟烷基矽氮烷、氟烷基矽烷、含氟之矽系化合物、含全氟聚醚基之矽烷偶合劑之任一者。此等材料可賦予防眩層17撥水性及撥油性中的至少一者來提高光學薄膜10D的防汙性。

防眩層17亦可形成為從第一面11a側依序積層折射率相對較高之層及折射率相對較低之層而成的層。使材料不均勻分布而成的防眩層17，例如可藉由塗覆含有低折射率材料及高折射率材料的組成物，並利用兩者的表面自由能之差使其相分離而形成，該低折射率材料含有經表面修飾之氧化矽微粒子或中空氧化矽微粒子。以相分離之雙層來構成防眩層17時，較佳係將透明基材11的第1面11a側的折射率相對較高之層的折射率設為1.50～2.40，且將光學薄膜10D之表面側的折射率相對較低之層的折射率設為1.20～1.55。

根據本實施形態的光學薄膜10D及顯示裝置50D，因為具備與第1實施形態同樣的著色層12及透明基材11，而具備與第1實施形態同樣的作用。特別是本實施形態的光學薄膜10D，因為具備防眩層17，而外部光在防眩層17中散射。因此，抑制外部光的表面反射及映入，故顯示畫面及顯示光的視覺識別性提升，可抑制因外部光反射所造成的顯示品質降低。

[第4實施形態] 說明本發明的第4實施形態之光學薄膜及顯示裝置。圖6係顯示本發明的第4實施形態之光學薄膜及顯示裝置之一例的示意剖面圖。圖6中顯示厚度方向之剖面的本實施形態的顯示裝置50E，具備本實施形態的光學薄膜10E來代替第3實施形態的顯示裝置50D的光學薄膜10D。光學薄膜10E在防眩層17上積層有低折射率層14E，除此之外，係與光學薄膜10D同樣地構成。以下，以與第3實施形態不同的點為中心進行說明。

低折射率層14E具有比防眩層17的折射率更低的折射率，除此之外，係與第1實施形態中的低折射率層14A同樣。藉此，從外部入射的外部光在與防眩層17之界面的反射光和在低折射率層14E表面的反射光發生干涉，因此外部光的反射率降低。藉由設置低折射率層14E，可抑制外部光的反射，故顯示裝置50E的視覺識別性提升。

根據本實施形態的光學薄膜10E及顯示裝置50E，因為具備與第3實施形態同樣的著色層12及防眩層17，而具備與第3實施形態同樣的作用。特別是本實施形態的光學薄膜10E，在外部側具有低折射率層14E，藉由此點，亦抑制外部光的表面反射及映入，故顯示畫面及顯示光的視覺識別性提升，可抑制因外部光反射所造成的顯示品質降低。

此外，上述各實施形態及變形例中說明發光元件為有機EL元件的情況。然而，發光元件的種類不限定於有機EL元件。例如，作為發光元件的例子，可列舉白色LED元件、無機螢光體發光元件、量子點發光元件等，光源發出三原色RGB之單色光的情況，亦可為去除彩色濾光片部23的顯示部20之構成。

上述各實施形態及變形例中雖敘述光學薄膜為低折射率層、硬塗層、阻氧層、防眩層等著色層以外的各種功能層之構成，但光學薄膜的功能層之構成不限定於此等。例如，光學薄膜亦可含有具有撥水性之防汙層、含有導電性材料之抗靜電層。又，上述功能層亦可為具備2種以上各功能層之功能的層狀部。

上述各實施形態及變形例中說明至少透明基材具有紫外線吸收性的情況的例子。然而，光學薄膜亦可更具備具有紫外線吸收功能的紫外線吸收層。光學薄膜，其著色層或著色層以外的功能層亦可兼作紫外線吸收層。例如，紫外線吸收層亦可配置於比欲防止紫外線照射之層狀部更外側。此情況中，可保護更內側的層狀部不受從光學薄膜外部照射之紫外線的影響。 [實施例]

針對本發明之光學薄膜，使用實施例1～12及比較例1～6進一步進行說明。本發明不因以下各實施例的具體內容而有任何限定。

以下的實施例及比較例中，製作下述[表1]、[表2]所示之層構成的光學薄膜1～18，針對所製作之光學薄膜1～15評價光學薄膜的特性。又，使用光學薄膜7、12、16～18，藉由模擬來確認有機EL面板的顯示裝置特性。

[表1]

實施例 1

實施例 2

實施例 3

實施例 4

實施例 5

實施例 6

實施例 7

實施例 8

實施例 9

實施例 10

實施例 11

實施例 12

光學薄膜

光學薄膜1

光學薄膜2

光學薄膜3

光學薄膜4

光學薄膜5

光學薄膜6

光學薄膜7

光學薄膜8

光學薄膜9

光學薄膜10

光學薄膜11

光學薄膜12

功能層 1

-

低折射率層1

功能層 2

硬塗層 1

防眩層 1

硬塗層 1

防眩層 1

硬塗層 1

功能層 3

-

阻氧層 1

-

透明基材

TAC

PMMA

PET1

PET2

TAC

著色層

著色層 1

著色層 2

著色層 3

著色層 4

著色層 1

著色層 5

[表2]

	比較例 1	比較例 2	比較例 3	比較例 4	比較例 5	比較例 6
光學薄膜	光學薄膜 13	光學薄膜 14	光學薄膜 15	光學薄膜 16	光學薄膜 17	光學薄膜 18
	功能層1	低折射率層 1	低折射率層 1	低折射率層 1	低折射率層 1	低折射率層 1	低折射率層 1
功能層2	硬塗層 1	硬塗層 1	硬塗層 2	硬塗層 1	-	硬塗層 1
功能層3	-	-	-	-	-	-
透明基材	著色層1	著色層6	著色層1	TAC	TAC	TAC
著色層	TAC	TAC	TAC	著色層 7	著色層 8	-

＜光學薄膜的製作＞以下說明各層的形成方法。

[著色層的形成] (著色層形成用組成物的使用材料) 使用下述者作為用於形成著色層的著色層形成用組成物的使用材料。此外，色材的最大吸收波長及半高寬係從分光穿透率算出在硬化塗膜中的特性值。

･第1色材： Dye-1 下述化學式1所示之吡咯亞甲基鈷錯合物染料(最大吸收波長 493nm，半高寬 26nm) [化1]

･第2色材： Dye-2 四氮雜卟啉銅錯合物染料(山田化學公司製 FDG-007，最大吸收波長595nm，半高寬 22nm) Dye-3 四氮雜卟啉銅錯合物染料(山本化成公司製 PD-311S，最大吸收波長 586nm，半高寬 22nm) ･第3色材： Dye-4 酞花青銅錯合物染料(山田化學公司製 FDN-002，最大吸收波長 800nm，在400～780nm中的最小穿透率波長 780nm) Dye-5 酞花青鈷錯合物染料(山田化學公司製 FDR-002，最大吸收波長 683nm，在400～780nm中的最小穿透率波長 683nm) ･添加劑：受阻胺系光穩定劑 Chimassorb(註冊商標) 944FDL (BASF JAPAN公司製，分子量 2000～3100) 受阻胺系光穩定劑 Tinuvin(註冊商標) 249 (BASF JAPAN公司製，分子量 482) 單重態氧淬滅劑 D1781(東京化成工業公司製) ･紫外線吸收劑： Tinuvin(註冊商標) 479 (BASF JAPAN公司製，極大吸收波長 322nm) LA-36 (ADEKA公司製，極大吸收波長 310nm、350nm) ･活性能量線硬化樹脂： UA-306H(共榮社化學公司製，新戊四醇三丙烯酸酯六亞甲基二異氰酸酯胺基甲酸酯預聚物) DPHA(二新戊四醇六丙烯酸酯) PETA(新戊四醇三丙烯酸酯) ･起始劑：Omnirad(註冊商標) TPO (IGM Resing B.V.公司製，吸收波長峰值 275nm、379nm) ･溶劑： MEK(甲乙酮) 乙酸甲酯著色層形成用組成物不包含在波長390～435nm具有主吸收波長帶之染料，因此本實施例中所使用之著色層不包含在波長390～435nm具有主吸收波長帶之染料。

(透明基材) 使用下述者作為透明基材。･TAC：三乙醯纖維素薄膜(FUJIFILM公司製 TG60UL，基材厚60μm，紫外線遮蔽率92.9%) ･PMMA：聚甲基丙烯酸甲酯薄膜(住友化學公司製 W001U80，基材厚80μm，紫外線遮蔽率93.4%) ･PET1：聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(東洋紡公司製 SRF，基材厚80μm，紫外線遮蔽率 88.3%) ･PET2：聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(SKC公司製 TOR20，基材厚40μm，紫外線遮蔽率88.6%)

(著色層形成) 在[表1]、「表2」所示的透明基材之一面上塗布表3所示的著色層形成用組成物，並以80℃的烘箱使其乾燥60秒鐘。之後，使用紫外線照射裝置以照射劑量150mJ/cm ²(Fusion UV systems Japan公司製，光源H bulb)進行紫外線照射，藉此使塗膜硬化，以使硬化後之膜厚為5.0μm的方式形成著色層1～8。此外，添加量為質量比。

[表3]

		著色層1	著色層2	著色層3	著色層4	著色層5	著色層6	著色層7	著色層8
色材	第1色材	Dye-1
添加量	0.28%	0.31%	0.28%	0.12%	0.36%
第2色材	Dye-2/Dye-3	Dye-2	Dye-2/Dye-3
比率	60/40	88/22	60/40	100	10/90
添加量	0.44%	0.42%	0.44%	0.61%	0.82%
第3色材	Dye-4/Dye-5	-
比率	79/21	75/25	79/21	87/13	-
添加量	1.90%	1.86%	1.90%	1.73%	-
添加劑	種類	-	Tinuvin249	Chimassorb 944FDL	Chimassorb 944FDL /D1781	Chimassorb 944FDL /D1781	-	-	-
比率	-	100	100	67/33	67/33	-	-	-
添加量	-	1.40%	1.40%	2.18%	2.18%	-	-	-
紫外線吸收劑	種類	-	-	-	Tinuvin479/LA36	-	-
比率	-	-	-	40/60	-	-
添加量	-	-	-	3.20%	-	-
活性能量線硬化樹脂	種類	UA-306H/DPHA/PETA
比率	70/20/10
添加量	42.85%	41.44%	41.44%	40.66%	40.69%	39.64%	43.00%	44.28%
光聚合起始劑	種類	Omnirad TPO
添加量	4.54%
溶劑	種類	MEK/乙酸甲酯
比率	50/50
添加量	50.00%

[功能層的形成] ･阻氧層1形成組成物： PVA117 (Kuraray公司製)80%水溶液

(阻氧層形成) 在[表1]所示的實施例11之構成上塗布上述的阻氧層1形成用組成物並使其乾燥，形成透氧度為1cc/m ²･day･atm的阻氧層1。

(硬塗層形成用組成物的使用材料) 使用下述者作為用於形成硬塗層的硬塗層形成用組成物的使用材料。･紫外線吸收劑： Tinuvin(註冊商標) 479 (BASF JAPAN公司製，極大吸收波長 322nm) LA-36 (ADEKA公司製，極大吸收波長 310nm、350nm)･活性能量線硬化樹脂： UA-306H(共榮社化學公司製，新戊四醇三丙烯酸酯六亞甲基二異氰酸酯胺基甲酸酯預聚物) DPHA(二新戊四醇六丙烯酸酯) PETA(新戊四醇三丙烯酸酯) ･起始劑： Omnirad(註冊商標) TPO (IGM Resins B.V.公司製，吸收波長峰值 275nm、379nm) Omnirad(註冊商標) 184 (IGM Resins B.V.公司製，吸收波長峰值 243nm、331nm) ･溶劑： MEK(甲乙酮) 乙酸甲酯

(硬塗層形成) 在[表1]及[表2]所示的透明基材上、著色層上或阻氧層上塗布下述[表4]所示的硬塗層形成用組成物，並以80℃的烘箱使其乾燥60秒鐘，之後，使用紫外線照射裝置以照射劑量150mJ/cm ²進行紫外線照射(Fusion UV systems Japan公司製，光源H bulb)，藉此使塗膜硬化，形成硬化後膜厚為5.0μm的[表1]及[表2]記載之硬塗層1及2。

[表4]

		硬塗層1	硬塗層2
UV吸收劑	種類	-	Tinuvin479/LA36
比率	-	40/60
添加量	-	3.2%
活性能量線硬化樹脂	種類	UA-306H/DPHA/PETA
比率	70/20/10
添加量	45.40%	42.20%
光聚合起始劑	種類	Omnirad TPO	Omnirad 184
添加量	4.6%
溶劑	種類	MEK/乙酸甲酯
比率	50/50
添加量	50.00%

(防眩層1形成用組成物) 使用下述者作為防眩層1形成用組成物。･活性能量線硬化樹脂： Light acrylate PE-3A(共榮社化學股份有限公司製，折射率1.52) 43.7質量份･光聚合起始劑： Omnirad(註冊商標) TPO (IGM Resins B.V.公司製，吸收波長峰值 275nm、379nm) 4.55質量份･樹脂粒子：苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物粒子(折射率1.515，平均粒徑2.0μm) 0.5質量份･無機微粒子1：合成膨潤石 0.25質量份･無機微粒子2：氧化鋁奈米粒子，平均粒徑40nm 1.0質量份･溶劑甲苯 15質量份異丙醇 35質量份

(防眩層之形成) 在[表1]所示的透明基材上塗布防眩層1形成用組成物，並以80℃的烘箱使其乾燥60秒鐘，之後，使用紫外線照射裝置以照射劑量150mJ/cm ²進行紫外線照射(Fusion UV systems Japan公司製，光源H bulb)，藉此使塗膜硬化，形成硬化後膜厚為5.0μm的[表1]記載之防眩層1。

(低折射率層1形成用組成物) 使用下述者作為低折射率層1形成用組成物。･折射率調整劑：多孔質氧化矽微粒子分散液(平均粒徑75nm，固體成分20%，溶劑甲基異丁酮) 8.5質量份･防汙性賦予劑： OPTOOL AR-110(大金工業公司製，固體成分15%，溶劑甲基異丁酮) 5.6質量份･活性能量線硬化樹脂：新戊四醇三丙烯酸酯 0.4質量份･起始劑： Omnirad(註冊商標) 184 (IGM Resins B.V.公司製) 0.07質量份･調平劑： RS-77 (DIC公司製) 1.7質量份･溶劑：甲基異丁酮 83.73質量份

(低折射率層1之形成) 在[表1]及[表2]記載之硬塗層上、防眩層上塗布上述組成的低折射率層1形成用組成物，並以80℃的烘箱使其乾燥60秒鐘，之後，使用紫外線照射裝置(Fusion UV systems Japan公司製，光源H bulb)以照射劑量200mJ/cm ²進行紫外線照射，藉此使塗膜硬化，形成硬化後之膜厚為100nm的[表1]及[表2]記載之低折射率層1。

[薄膜特性評價] 針對所得之光學薄膜1～15進行以下評價。

(紫外線遮蔽率) 在比著色層更上層為透明基材的實施例1～12，對於基材使用自動分光光度計(日立製作所(股)製，U-4100)測量穿透率。又，針對著色層在比基材更上層的比較例1～3，使用依據JIS-K5600附著性試驗的透明膠帶(cellophane tape)從著色層將上層剝離，使用自動分光光度計(日立製作所(股)製，U-4100)，將膠帶作為參考而測量著色層上層的穿透率。使用此等的穿透率，算出紫外區域(290nm～400nm)的平均穿透率[%]，將紫外線遮蔽率[%]作為由100%減去紫外區域(290nm～400nm)的平均穿透率[%]的值而算出。

(鉛筆硬度試驗) 對於光學薄膜的表面，使用克萊門型刮痕硬度試驗機(TESTER SANGYO股份有限公司製，HA-301)，依據JIS-K5600-5-4：1999，使用施加500gf (4.9N)之載重(以下，500g載重)的鉛筆(三菱鉛筆公司製 UNI，鉛筆硬度H)進行試驗，以目視評價因刮傷所造成的外觀變化，將未觀察到刮傷的情況視為良好(在下述[表5]、[表6]中記載為「○」)，將觀察到刮傷的情況視為不良(下述[表6]中記載為「×」)。

(耐光性試驗) 作為包含所得之著色層的光學薄膜之可靠度試驗，係使用氙耐候性試驗機(Suga Test Instruments股份有限公司製，X75)，在氙燈照度60W/cm ²(300nm～400nm)、試驗機內溫度45℃･濕度50%RH的條件下試驗120小時，並在試驗前後使用自動分光光度計(日立製作所(股)製，U-4100)進行穿透率測量，算出波長範圍470nm～530nm中試驗前顯示最小穿透率的波長λ1下的試驗前後穿透率差ΔTλ1、波長範圍560nm～620nm中試驗前顯示最小穿透率的波長λ2下的試驗前後穿透率差ΔTλ2、波長範圍650nm～780nm中試驗前顯示最小穿透率的波長下的試驗前後之穿透率差ΔTλ3。穿透率差接近零者為良好，較佳係|ΔTλN|≤20(N=1～3)者，進一步較佳係|ΔTλN|≤10(N=1～3)者。

將針對上述項目進行評價的結果示於下述[表5]、[表6]。

[表5]

	實施例1	實施例2	實施例3	實施例4	實施例5	實施例6	實施例7	實施例8	實施例9	實施例10	實施例11	實施例12
紫外線遮蔽率	92.9%	92.9%	92.9%	92.9%	92.9%	92.9%	92.9%	93.4%	88.3%	88.6%	92.9%	92.9%
鉛筆硬度	○	○	○	○	○	○	○	○	○	○	○	○
耐光性	⊿Tλ1	19.5	19.2	19.8	19.7	19.6	9.1	6.0	5.8	7.0	6.8	6.4	5.4
⊿Tλ2	5.1	5.0	5.4	5.4	4.6	3.1	1.2	1.0	1.7	1.5	3.5	1.0
⊿Tλ3	11.3	11.0	11.5	11.8	10.8	6.4	4.5	4.2	5.3	5.0	2.8	4.0

[表6]

	比較例 1	比較例 2	比鮫例 3
紫外線遮蔽率	7.2%	7.2%	92.9%
鉛筆硬度	○	○	×
耐光性	⊿Tλ1	41.4	49.1	19.5
⊿Tλ2	46.0	25.0	8.2
⊿Tλ3	27.6	22.0	13.0

如[表5]及[表6]所示，藉由在上層具備紫外線遮蔽率85%以上的透明基材而保持光學薄膜的硬度，且包含第1至第3色材的著色層之耐光性亦大幅改善。將紫外線吸收能設於著色層係效果小，較佳係作為另外的層而配置於上層來形成。又，藉由積層阻氧層以及於著色層內含有高分子量受阻胺光穩定劑作為自由基捕捉劑、含有二硫胺甲酸二烷酯鎳錯合物作為單重態氧淬滅劑，而著色層的耐光性進一步改善。

[顯示裝置特性評價] 針對所得之光學薄膜7、12、16～18進行以下評價。

(白顯示穿透特性) 使用自動分光光度計(日立製作所(股)製，U-4100)測量所得之光學薄膜的穿透率，使用此穿透率算出在白顯示時穿透光學薄膜之光的效率，作為白顯示穿透特性進行評價。針對前述的效率，係作為下述的比而算出：在將從白色有機EL光源(以下有時稱為有機EL光源)射出且通過彩色濾光片而輸出的白顯示時的各波長中之光強度設為100時，與穿透光學薄膜之光的各波長中的光強度值的比。光強度比越高則光源的輝度效率越高。將EL光源射出之光的光譜示於圖7。

(顯示裝置反射特性1) 使用自動分光光度計(日立製作所(股)製，U-4100)測量所得之光學薄膜的穿透率T(λ)及表面反射率R2(λ)。針對表面反射率R2(λ)的測量，在透明基材的三乙醯纖維素薄膜之未形成著色層及功能層的面上塗布消光黑色塗料而進行抗反射處理，進行入射角5°的分光反射率測量，作為表面反射率R2(λ)。將電極反射率R _E(λ)從波長380nm至780nm全部皆設為100%，不考慮在各層的界面反射、表面反射，基於上述式(4)、(5)、(7)、(9)而算出將不配置光學薄膜下D65光源反射的反射光之光強度設為100時的相對反射值，作為顯示裝置反射特性1進行評價。相對反射值越低則反射光強度越小、顯示品質越高。

(顯示裝置反射色相1) 使用自動分光光度計(型號：U-4100，日立製作所股份有限公司製)測量所得之光學薄膜的穿透率T(λ)及表面反射率R2(λ)。針對表面反射率R2(λ)的測量，在透明基材的三乙醯纖維素薄膜之未形成著色層及功能層的面上塗布消光黑色塗料而進行抗反射處理，進行入射角5°的分光反射率測量，作為表面反射率R2(λ)。將電極反射率R _E(λ)從波長380nm至780nm全部皆設為100%，不考慮在各層的界面反射及表面反射，基於上述式(1)～(9)而算出對於D65光源的反射色相之色彩度指數(值)a ^*及b ^*，作為顯示裝置反射色相1進行評價。 a ^*及b ^*越接近零則越無色調而良好，較佳為-5以上+5以內。

(顯示裝置反射特性2) 將電極反射率R _E(λ)設為圖9所示的由有機發光顯示裝置(LG Electronics公司製有機EL電視，OLED55C8PJA)的反射率測量所得之電極反射率，除此之外，係與顯示裝置反射特性1同樣地計算，將計算結果作為顯示裝置反射特性2進行評價。與顯示裝置反射特性1同樣，相對反射值越低則反射光的強度越小、顯示品質越高。

(顯示裝置反射色相2) 將電極反射率R _E(λ)設為圖9所示的由有機發光顯示裝置(LG Electronics公司製有機EL電視，OLED55C8PJA)的反射率測量所得之電極反射率，除此之外，係與顯示裝置反射色相1同樣地計算，將計算結果作為顯示裝置反射色相2進行評價。與顯示裝置反射色相1同樣，a ^*及b ^*越接近零則越無色調而良好，較佳係在-5以上+5以內。

(色彩再現性) 使用自動分光光度計(日立製作所(股)製，U-4100)測量所得之光學薄膜的穿透率，使用此穿透率與通過圖7所示之光譜的有機EL光源與彩色濾光片而輸出的圖8所示之紅色顯示、綠色顯示、藍色顯示光譜算出CIE1931色度值，由該色度值算出NTSC比，作為色彩再現性進行評價。 NTSC比越高則色彩再現性越廣而較佳。

將針對上述項目進行評價的結果示於下述[表7]。

[表7]

	實施例7	實施例12	比較例4	比較例5	比較例6
白顯示穿透特性	51.9	51.8	52.6	50.1	91.4
	比較例6比	57%	57%	58%	55%	100%
顯示裝置反射特性1	25.8	25.7	25.8	25.8	83.7
	比較例6比	31%	31%	31%	31%	100%
顯示裝置反射色相1	a ^*	4.5	2.5	11.0	12.0	-0.2
b ^*	-4.8	-3.0	-21.3	-10.0	0.9
顯示裝置反射特性2	11.2	11.2	11.2	11.3	34.8
	比較例6比	32%	32%	32%	32%	100%
顯示裝置反射色相2	a ^*	4.4	3.0	9.0	10.5	1.4
b ^*	-1.7	-0.4	-13.4	-4.9	2.7
色彩再現性	NTSC比	97.0%	96.8%	98.3%	101.8%	91.7%

如[表7]所示，具備著色層的顯示裝置係反射特性大幅降低。又，據說在圓偏光板中穿透率減半，相對於此，如白顯示穿透特性的評價值所示，具備著色層的顯示裝置係輝度效率亦優良，而且色彩再現性亦提升。又，本實施例所示的具備第1、第2、第3色材的著色層，可調整色材的吸收強度，而使電極反射R _E(λ)在波長380nm至780nm的所有波長皆為100%的情況中的反射色相之色彩度指數a ^*及b ^*分別在-5以上+5以下的範圍內。亦即，可使反射色相接近中性。又，此特性在變更為實際的有機發光顯示裝置之電極反射率的顯示裝置反射色相2中，亦顯示可使反射色相維持在中性，確認到提升顯示裝置的顯示品質。如前所述，藉由相對於具有各種波長分散性的有機發光顯示裝置之電極反射率，調整第1、第2、第3色材的摻合比以使具備著色層的光學薄膜之反射色相成為中性，此亦為本發明的一態樣。

以上雖與實施例一併說明本發明較佳的各實施形態及變形例，但本發明不限定於各實施形態及各實施例。在不脫離本發明之旨趣的範圍內，可進行構成的附加、省略、取代及其他變更。又，本發明不因前述說明而有所限定，僅由所附的申請專利範圍所限定。 [產業上利用之可能性]

根據本發明，可提供一種可提升基於外部光反射的顯示品質並可提升顯示裝置之發光元件壽命的光學薄膜、顯示裝置及著色層形成用組成物。

10A,10B,10C,10D,10E:光學薄膜 11:透明基材 11a:第1面 11b:第2面 12:著色層 14A,14B,14E:低折射率層 16:阻氧層 17:防眩層 20:顯示部 21:基板 22:發光元件 22R:第1發光元件 22G:第2發光元件 22B:第3發光元件 23:彩色濾光片部 50A,50C,50D,50E:顯示裝置

圖1係顯示本發明之第1實施形態之光學薄膜及顯示裝置之一例的示意剖面圖。圖2係顯示本發明之第1實施形態之光學薄膜所使用之透明基材的光線穿透曲線(profile)之例子的圖表。圖3係本發明的光學薄膜之反射色相的色彩度指數a ^*及b ^*的計算方法的說明圖。圖4係顯示本發明的第2實施形態之光學薄膜及顯示裝置之一例的示意剖面圖。圖5係顯示本發明的第3實施形態之光學薄膜及顯示裝置之一例的示意剖面圖。圖6係顯示本發明的第4實施形態之光學薄膜及顯示裝置之一例的示意剖面圖。圖7係顯示實施例中通過有機EL光源及彩色濾光片而輸出的白色顯示時之光譜的圖表。圖8係實施例中通過有機EL光源及彩色濾光片而輸出的紅色顯示時、綠色顯示時及藍色顯示時之各光譜的圖表。圖9係實施例中算出顯示裝置反射特性2、顯示裝置反射色相2的有機EL顯示裝置之電極反射率。

無。

Claims

一種光學薄膜，其具備：透明基材，依據JIS L 1925的紫外線遮蔽率為85%以上；一層以上的功能層，形成於該透明基材的第一面側；及著色層，由一層以上所構成，其含有色素，形成於該透明基材的第二面側；該著色層包含：第1色材，極大吸收波長在470nm以上530nm以下之範圍內，吸光光譜的半高寬為15nm以上45nm以下；第2色材，極大吸收波長在560nm以上620nm以下之範圍內，吸光光譜的半高寬為15nm以上55nm以下；及第3色材，在400nm～780nm的波長的範圍中穿透率最低的波長在650nm以上780nm以下之範圍內；且以下式(1)～(9)所定義之色相的值a ^*及b ^*分別在-5以上+5以下的範圍內；

此處，λ係表示波長的變數，t係表示X、Y、Z相對於X _n、Y _n、Z _n之比率的變數；由式(1)～(3)算出的a ^*、b ^*係依照CIE1976L ^*a ^*b ^*色空間(CIELAB色空間)的計算方法算出；式(1)、(2)中，X _n、Y _n、Z _n為D65光源的白色點中的3刺激值；式(4)中，R _E(λ)係表示在完全漫反射面的反射率[%]的函數(各波長100%)，R2(λ)係表示該功能層的最表面之表面反射率[%]的函數，T(λ)係表示該光學薄膜之穿透率[%]的函數；式(6)～(9)中，P _D65(λ)為D65光源光譜，上橫線x(λ)、上橫線y(λ)、上橫線z(λ)係在CIE1931 2°視野中的色匹配函數；式(6)至式(9)中的定積分可藉由適宜的數值積分求出；進行數值積分時的波長間隔為例如1nm間隔。
如請求項1之光學薄膜，其中該著色層不包含在波長390～435nm具有主吸收波長帶的染料。
如請求項1或2之光學薄膜，其中該功能層側的表面在500g載重下的鉛筆硬度為H以上。
如請求項1至3中任一項之光學薄膜，其中該著色層含有自由基捕捉劑、過氧化物分解劑及單重態氧淬滅劑中的至少一種。
如請求項4之光學薄膜，其中該著色層含有分子量2000以上的受阻胺系光穩定劑作為該自由基捕捉劑。
如請求項4或5之光學薄膜，其中該著色層含有磷酸二烷酯、二硫胺甲酸二烷酯、苯二硫酚及此等的過渡金屬錯合物中的任一者作為該單重態氧淬滅劑。
如請求項1至6中任一項之光學薄膜，其中該色素包含：選自由具有卟啉結構、部花青結構、酞花青結構、偶氮結構、花青結構、方酸鎓(squarylium)結構、香豆素結構、多烯結構、醌結構、四氮雜卟啉結構、吡咯亞甲基(pyrromethene)結構及靛青結構中任一者之化合物及其金屬錯合物構成的群組中之至少一種以上的化合物。
如請求項1至7中任一項之光學薄膜，其中該功能層包含透氧度為10cc/m ²･day･atm以下的阻氧層。
如請求項1至8中任一項之光學薄膜，其中該功能層更具備第1層及第2層；該第1層與該第2層係在從該著色層朝向該透明基材的方向上依序積層，該第2層的折射率低於該第1層的折射率。
如請求項1至9中任一項之光學薄膜，其中該功能層更具備防眩層。
如請求項1至10中任一項之光學薄膜，其中該功能層更包含含有抗靜電劑的抗靜電層及具有撥水性的防汙層中的至少一者。
一種顯示裝置，其具備：光源；及如請求項1至11中任一項之光學薄膜。
如請求項12之顯示裝置，其中該光源包含基於影像訊號發光的多個發光元件。
一種著色層形成用組成物，其係含有活性能量線硬化性樹脂、光聚合起始劑、色素、添加劑及溶劑的著色層形成用組成物；該色素包含：第1色材，極大吸收波長在470nm以上530nm以下之範圍內，吸光光譜的半高寬為15nm以上45nm以下；第2色材，極大吸收波長在560nm以上620nm以下之範圍內，吸光光譜的半高寬為15nm以上55nm以下；及第3色材，在400～780nm的波長範圍中穿透率最低的波長在650nm以上780nm以下的範圍內；且不包含在波長390～435nm具有主吸收波長帶之染料；該添加劑含有自由基捕捉劑、過氧化物分解劑、及單重態氧淬滅劑中的至少一種。