TW202241721A - 製造多層體之方法、多層體、多層體之應用、由第一金屬構成之第一層及由第二金屬構成之第二層在多層體中的應用以及熱施加裝置之應用 - Google Patents

製造多層體之方法、多層體、多層體之應用、由第一金屬構成之第一層及由第二金屬構成之第二層在多層體中的應用以及熱施加裝置之應用 Download PDF

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Abstract

本發明係有關於一種製造多層體（12）之方法、一種多層體（12）、一種多層體（12）之應用、一種由第一金屬構成之第一層（1）及由第二金屬構成之第二層（2）在多層體（12）中的應用、及一種熱施加裝置（14）之應用。該多層體（12）在此包含由第一金屬構成之第一層（1）及由第二金屬構成之第二層（2），其中，該第一層（1）與該第二層（2）係在至少一個第一區域（10）內直接設置在彼此上，使得在該至少一個第一區域（10）內，特別是由於該第一層（1）與該第二層（2）之相互的化學及/或物理反應，第一層（1）及/或第二層（2）之光學外觀及/或物理特性發生改變。

Description

製造多層體之方法、多層體、多層體之應用、由第一金屬構成之第一層及由第二金屬構成之第二層在多層體中的應用以及熱施加裝置之應用
本發明係有關於一種製造多層體之方法、一種多層體、一種多層體之應用、一種由第一金屬構成之第一層及由第二金屬構成之第二層在多層體中的應用、及一種熱施加裝置之應用。
為了對構件進行裝飾，及為了保障諸如紙幣、護照、證件、支票卡、信用卡、簽證或證書之類的安全證件的安全性，常使用單層或多層的結構來實現令人印象深刻或起模仿作用的光學效果。據此，例如藉由在轉移層中包含金屬層的轉移膜來賦予構件以金屬外觀。舉例而言，亦可以藉由例如包含電子組件（如觸摸屏）的轉移層針對性地為構件配備功能。此外，為了保障安全證件的安全性，但亦出於其他裝飾目的，亦採用光學可變之干涉層結構，其在傾斜的情況下向觀察者傳達不同的色彩印象，進而傳達光學可變效果。
WO 2004/016441 A2揭露過此種干涉層結構，且其必定具有一設於反射層與半透明層之間的間隔層，用於藉由干涉產生光學可變效果。
本發明之目的在於，提供一種製造多層體之方法及一種多層體，其特徵在於改進的、較佳新穎的光學效果，此光學效果更佳地有別於前述習知的光學效果。本發明之目的特別是另在於，較佳藉由由第一金屬構成之第一層與由第二金屬構成之第二層，產生多層體之改善的、較佳新穎的光學效果及/或物理特性。
本發明用以達成上述目的之解決方案在於一種製造多層體之方法，其中該方法包含以下步驟，該些步驟特別是以如下順序實施： 提供基材； 將由第一金屬構成之第一層施覆至該基材上； 在至少一個第一區域內，將由第二金屬構成之第二層直接施覆至該第一層上，使得在該至少一個第一區域內，特別是由於該第一層與第二層之相互的化學及/或物理反應，改變第一層及/或第二層之光學外觀及/或物理特性。
此外，本發明用以達成上述目的之解決方案為一種以如請求項1～16中任一項之方法製造的多層體，包含由第一金屬構成之第一層及由第二金屬構成之第二層，其中，該第一層與第二層係在至少一個第一區域內直接設置在彼此上，使得在該至少一個第一區域內，特別是由於第一層與第二層之相互的化學及/或物理反應，第一層及/或第二層之光學外觀及/或物理特性發生改變。
此外，本發明用以達成上述目的之解決方案為如請求項17～32中任一項之多層體之作為較佳針對車輛、尤佳針對機動車輛的構件（特別是裝飾構件）、作為包裝材料、作為感測器及/或作為安全元件的應用。
本發明用以達成上述目的之解決方案亦在於由第一金屬構成之第一層及由第二金屬構成之第二層在多層體中的應用，用以透過在至少一個第一區域內將該第一層與第二層直接施覆及/或設置在彼此上，在該至少一個第一區域內改變第一層及/或第二層之光學外觀及/或物理特性。
此外，本發明用以達成上述目的之解決方案為熱施加裝置之應用，用以在至少一個第一區域內改變多層體之由第一金屬構成之第一層及/或由第二金屬構成之第二層的光學外觀及/或物理特性，其中，該第一層與第二層係在該至少一個第一區域內直接設置及/或施覆在彼此上。
在此，事實表明，透過本發明之用於製造多層體之方法、多層體、多層體之應用、由第一金屬構成之第一層及由第二金屬構成之第二層在多層體中的應用、及熱施加裝置之根據本發明的應用，產生該多層體之改善的光學外觀及/或改善的物理特性。在此，改善的光學外觀及/或改善的物理特性的特色在於改善的金屬般的光學效果，其特別是具有改善的色度。藉此特別是實現與該二金屬層自身之色度或共同作用後之色度不同的色度。據此，第一層及/或第二層之色度較佳有別於第一層與第二層之單一色度之加總。改善的物體特性的特色特別是另在於有所改變的表面電導率。此外，除了改善的金屬般的光學效果以外，特別是能夠同時利用涉及其他改善之物理特性（如有所改變之表面電導率）的改善的色度，從而藉由該多層體針對性地確定配設有多層體的構件的光學外觀及例如表面電導率。藉此能夠簡化複雜的生產過程，進而降低複雜度及成本。
顏色或色度，亦或單色或單一色度，係指位於一色空間中之一色度座標。該色空間特別是可以為CIELAB色空間。該色空間亦可以為RGB色空間（R＝紅色；G＝綠色；B＝藍色），或CMYK色空間（C＝青色；M＝品紅色；Y＝黃色；K＝黑色），或諸如RAL、HKS或Pantone ®色空間的色空間。
不同或有區別的色度係指兩個色度座標在一色空間中之色差dE。該色空間特別是可以為CIELAB色空間。可以為人眼足夠良好感知之不同色度之在CIELAB色空間中的色差dE至少為2、較佳至少為3、尤佳至少為5、更佳至少為10。
特別是在CIELAB色空間中，通常藉由測色儀、例如分光光度計「Datacolor 650」測定色度座標。
介於色度座標(L*,a*,b*) p與(L*,a*,b*) v之間之dE（亦或Delta E或ΔE）之值被作為歐幾里德距離計算：
Figure 02_image001
其中，亮度值L*垂直於色平面(a*,b*)。a座標給出介於綠色與紅色之間之顏色類型及顏色強度，並且b座標給出介於藍色與黃色之間之顏色類型及顏色強度。正的a值及b值愈大，並且負的a值及b值愈小，色調之強度便愈大。若a＝0且b＝0，則在亮度軸上存在無色色調。通常，L*值可以介於0～100之間，且a與b可以介於-128～+127之間。
經套準或套準，或說精確配準或精確套準，或說配準精度或套準精度，係指兩個或兩個以上的層相對於彼此的位置精度。其中，套準精度應在預定公差以內變化，且應儘可能地低。數個元件及/或層彼此間之套準精度同時係為用來提高製程穩定性之重要特徵。其中，特別是藉由基於感測器的、較佳為可光學偵測的配準標記或套準標記，可以實現精確定位。其中，此等配準標記或套準標記既可以為特殊的、單獨的元件或區域或層，亦可以本身為待定位之要素或區域或層的一部分。
亦可以提供一種製造多層體之方法，其中該方法包含以下步驟，該些步驟特別是以如下順序實施： 提供基材； 將由第一金屬構成之第一層整面地施覆至、特別是蒸鍍至該基材上； 可選地，局部地施覆障壁層，較佳為透明的及/或非金屬的障壁層； 如此整面地施覆、特別是蒸鍍由第二金屬構成之第二層，使得在未設障壁層的區域內，該第二層直接與該第一層接觸，並且在設有障壁層的區域內，第一層與第二層係透過該障壁層相互隔開。
亦可以提供一多層體，其中，該多層體包含由第一金屬構成之第一層及由第二金屬構成之第二層，並且可選地包含一局部施覆的障壁層，其中，在未設障壁層的區域內，該第二層直接與該第一層接觸，並且在設有障壁層的區域內，第一層與第二層係透過該障壁層相互隔開。
此外，亦可以提供一種製造多層體之方法，其中該方法包含以下步驟，該些步驟特別是以如下順序實施： 提供基材； 將由第一金屬構成之第一層施覆至該基材上； 在至少一個第一區域內，將由第二金屬構成之第二層直接施覆至該第一層上。
藉此特別是獲得一多層體，其包含由第一金屬構成之第一層及由第二金屬構成之第二層，其中該第一層與該第二層在至少一個第一區域內直接設置在彼此上。
在此，直接或直接設置在彼此上係指，第一層與第二層具有直接的及/或緊挨的接觸。換言之，在第一層與第二層之間未設其他層，使得特別是在該至少一個第一區域內，第一層與第二層直接地及/或緊挨地彼此鄰接，或直接地及/或緊挨地設置在彼此上。
在此較佳地，特別是在該至少一個第一區域及/或該至少一個第二區域內，不存在干涉層結構。據此，特別是在該第一區域內不存在干涉層結構，尤其包含設於反射層與半透明層之間之間隔層。在此，在該至少一個第二區域內亦可以不存在干涉層結構，特別是當在此施覆具有一定層厚之障壁層時，其特別是針對處於380～800 nm波長範圍內的光，較佳由於不滿足λ/2或λ/4條件，抑制或防止干涉效果。此外，在該至少一個第二區域內，障壁層可以為不透明或相應具備較低之透明度或較低之半透明度，使得亦基於在入射至及/或穿過障壁層的過程中對輻射的削弱，抑制或防止干涉的出現。原則上亦可行的是，第一層及第二層已具有一定層厚及/或反射率，使得基於在入射過程中對輻射的反射及/或在穿過第一層及/或第二層的過程中對輻射的削弱，抑制或防止干涉的出現。
換言之，透過多層體之第一層與第二層產生之光學外觀較佳並非為尤其基於干涉的光學可變效果。
在此，區域係指一層或覆層之一定義的面，當垂直於多層體所形成之平面觀察時，該面被佔據。據此，多層體例如具有至少一個區域或一或多個區域，其中當垂直於多層體所形成之平面觀察時，該至少一個區域或該些區域中之每一個分別佔據一定義的面。
較佳亦可以採用以下方案：透過在該至少一個第一區域內將第一層與第二層直接設置及/或施覆在彼此上，將由第一金屬構成之第一層及由第二金屬構成之第二層應用在多層體中，用以在該至少一個第一區域內改變第一層及/或第二層之光學外觀及/或物理特性、特別是色度及/或表面電導率。
此外，較佳可以採用蒸鍍裝置，特別是基於真空之蒸鍍裝置，其中，藉由該蒸鍍裝置將由第一金屬構成之第一層及由第二金屬構成之第二層施覆至基材上，用以透過在至少一個第一區域內將該第一層與第二層直接施覆在彼此上，在該至少一個第一區域內改變第一層及/或第二層之光學外觀及/或物理特性。
該蒸鍍裝置較佳包含一或數個構件，其選自：塗佈室，特別是接受器，支架，特別是用於容置基材，供氣裝置，至少一個蒸發器，特別是用於蒸發及/或用於容置第一金屬及/或第二金屬，真空裝置，特別是用於藉由真空泵在殼體中產生真空。較佳地，該蒸發器特別是藉由雷射束及/或磁偏轉之離子及/或電子，及/或透過電弧放電及/或電阻加熱，將該第一金屬及/或第二金屬蒸發。在此，該支架可以具備可旋轉特性，特別是能夠使得基材亦較佳在塗佈室中發生旋轉。
亦可以將本發明之特別是如請求項17～32中任一項之多層體用作轉移膜，其中該轉移膜特別是包含一載體層及一較佳可以自該載體層分離之轉移層，其中較佳地，該轉移層係由本發明之特別是如請求項17～32中任一項之多層體構成，及/或包含本發明之特別是如請求項17～32中任一項之多層體。
此外，可以將此種轉移膜及/或本發明之多層體用作熱壓印膜及/或模內膜、特別是用作模內裝飾膜（IMD膜）、嵌件模塑膜、模內打標膜（IML膜）及/或印模設計膜（PMD膜）。
本發明的更多有利技術方案記載於附屬項中。
較佳地，在該至少一個第一區域內，在該第一層與第二層之間特別是至少局部地形成有/形成混合層，其特別是包含該第一金屬與該第二金屬。藉此，特別是使第一層與第二層之色度有別於第一層及第二層之單一色度及單一色度之加總。其中，單一色度之加總較佳表示：在剛剛將第二金屬蒸鍍或施覆至第一金屬上之後，而在此未形成混合層、特別是未形成至少一合金的狀態。該混合層較佳表示：在將第二金屬蒸鍍或施覆至第一金屬上之後，經過一定時間間隔後的狀態，其中已形成至少一合金。
此外較佳地，在該至少一個第一區域內及/或在該混合層中，特別是至少局部地，透過該第一金屬與該第二金屬形成有/形成合金。藉此亦特別是使第一層與第二層之色度有別於第一層及第二層之單一色度及單一色度之加總。
據此，該混合層至少部分地包含該第一層及/或該第二層，特別是使得在第一層及/或第二層之一個及/或兩個表面上，該至少一個第一區域內之光學外觀及/或物理特性發生改變。
此外，在該至少一個第一區域內，第一層及/或第二層之光學外觀及/或物理特性可以如此發生了改變，使得該至少一個第一區域內之光學外觀及/或物理特性的變化存在於第一層及/或第二層之一個及/或兩個表面上。
亦可以採用以下方案：在該至少一個第一區域內，特別是由於第一層與第二層之相互的化學及/或物理反應，第一層及/或第二層之光學外觀及/或物理特性如此改變/被改變，使得較之於第一層及/或第二層自身或共同作用後之光學外觀及/或物理特性，第一層及/或第二層之光學外觀及/或物理特性發生改變/被改變。
在此，就光學外觀及特別是色度而言，在共同作用後、或在組合後、或在加總後有所不同或發生變化較佳係指：如此產生之顏色不同於依據由第一金屬構成之第一層與由第二金屬構成之第二層之顏色之加色混合或減色混合而產生的顏色。
換言之，較佳地，在該至少一個第一區域內，如此改變該第一層及/或第二層及/或該混合層之光學外觀及/或物理特性，特別是色度、反射率、透明度及/或表面電導率，使得第一層及/或第二層及/或該混合層之光學外觀及/或物理特性有別於第一層及/或第二層自身或共同作用後之光學外觀及/或物理特性。
據此，亦較佳地，在該至少一個第一區域內，色度及/或反射率及/或透明度及/或表面粗糙度及/或表面電導率發生改變/被改變。換言之，在該至少一個第一區域內，選自下列特性的至少一個特性發生改變/被改變：色度、反射率、透明度、表面粗糙度、表面電導率。
在此，光學外觀及/或物理特性較佳係指顏色，次佳係指反射率及/或透明度。在此，物理特性進一步地指表面電導率。
據此，尤佳地，在該至少一個第一區域內進行變色，其特別是有別於該由第一金屬構成之第一層及該由第二金屬構成之第二層自身或共同作用後之顏色。
據此，該第一層及第二層之色度可以有別於第一層與第二層之單一色度及單一色度之加總。
較佳地，透過物理氣相沈積（physical vapour deposition，PVD），較佳透過熱蒸鍍、電子束蒸發（electron beam evaporation）、雷射束蒸發（pulsed laser deposition，pulsed laser ablation）、電弧蒸發（arc evaporation，Arc-PVD）、分子束磊晶（molecular beam epitaxy，MBE）、濺鍍，更佳透過離子束輔助沈積（ion beam assisted deposition，IBAD）、離子電鍍及/或ICB技術（ionized cluster beam deposition，ICBD）來施覆該第一層及/或第二層。
亦較佳地，將該第一層及該第二層整面地特別是施覆至該基材上，及/或，將該第二層整面地施覆至該第一層上。
亦較佳地，在介於-50～+30℃之間、較佳介於-30～+30℃之間、尤佳介於-10～+10℃之間的基材溫度下施覆該第一層及/或第二層，及/或，在介於1×10 -6～1×10 -3mbar之間、較佳介於9×10 -5～5×10 -4mbar之間的壓力下施覆該第一層及/或第二層。
此外較佳地，該第一金屬及/或第二金屬具有100～2,000℃、較佳150～1,100℃的熔化溫度（melting temperature）。
較佳地，在一塗佈室中、特別是一接受器中存在此等溫度及/或此壓力，在該塗佈室中將該第一層及/或該第二層蒸發及/或施覆。
此外，亦可以透過化學氣相沈積（chemical vapour deposition ，CVD）及/或金屬沈積（metal deposition），特別是電解金屬沈積（electrolytic metal deposition）及/或化學金屬沈積（chemical metal deposition），來施覆該第一層及/或該第二層。
較佳地，該化學及/或物理反應包含氧化（oxidation）、該第一層與第二層之進入彼此的擴（diffusion）散及/或界面反應（interface reaction）。
此外較佳地，如此藉由溫度、壓力、層厚、時間及/或氧濃度參數施覆該由第一金屬構成之第一層及/或由第二金屬構成之第二層，使得該第一層與該第二層在該至少一個第一區域內發生化學及/或物理反應，特別是藉由氧化、該第一層與第二層之進入彼此的擴散及/或界面反應實現，特別是使得第一層及/或第二層之光學外觀及/或物理特性發生改變/被改變。換言之，該第一層及/或該第二層之施覆條件，特別是選自溫度、壓力、層厚、時間及/或氧濃度的參數，係如此選取，使得第一層與第二層特別是藉由氧化、該第一層與第二層之進入彼此的擴散及/或界面反應，發生化學及/或物理反應。
亦可以採用以下方案：該第一層之第一金屬之熔點（melting point）低於或高於該第二層之第二金屬。
下面主要對該第一層及第二層之更佳的技術方案進行描述：
較佳地，以介於1～200 nm之間、較佳介於5～40 nm之間、更佳介於10～30 nm之間的層厚施覆該第一層及/或該第二層。如此一來，該第一層及/或該第二層便可以具有介於1～200 nm之間、較佳介於5～40 nm之間、更佳介於10～30 nm之間的層厚。
亦可以採用以下方案：該第一層具有介於0.1～4之間、較佳介於0.4～1.4之間之光密度（OD），及/或，該第二層具有介於0.1～4之間、較佳介於0.3～1.3之間之光密度（OD）。據此，更佳地，特別是在施覆後，該第一層具有介於0.1～4之間、較佳介於0.4～1.4之間之光密度（OD），及/或，特別是在施覆後，該第二層具有介於0.1～4之間、較佳介於0.3～1.3之間之光密度（OD）。
光密度（optical density，OD）係光在穿過介質後的衰減程度。光密度（OD）可以如下依據入射光（I 0）與出射光（I）之比例，進而依據透射率（T）之倒數確定：OD＝log 10(I 0/I)＝-log 10(1/T)。
除使用的層厚以外，金屬層之光密度（OD）特別是主要取決於使用的金屬。
此外較佳地，該金屬層具有介於2～400 nm之間、較佳介於10～80 nm之間、更佳介於20～60 nm之間的層厚。
較佳地，該第一金屬為銦（In）、錫（Sn）、銀（Ag）、鉻（Cr）、鋁（Al）、鋅（Zn）或銅（Cu），及/或，該第二金屬為銦（In）、錫（Sn）、銀（Ag）、鉻（Cr）、鋁（Al）、鋅（Zn）或銅（Cu）。
更佳地，為該第一層及第二層，及/或為該第一金屬及第二金屬使用下列金屬組合：錫（Sn）與銅（Cu）、銦（In）與銅（Cu）、銀（Ag）與銅（Cu）、鋁（Al）與銅（Cu）、鉻（Cr）與銦（In）、鉻（Cr）與鋁（Al）、或銦（In）與銀（Ag），特別是或者反之。
此外，亦可以進一步地為該第一層及第二層，及/或為該第一金屬及第二金屬使用下列金屬組合：鉻（Cr）與鋁（Al），特別是或者反之。
在此特別是可以改變該由第一金屬構成之第一層與該由第二金屬構成之第二層的施覆順序。
下面主要對該障壁層之更佳的技術方案進行描述：
尤佳地，該方法另包含以下步驟，其特別是在該第一層之施覆步驟與該第二層之施覆步驟之間實施： 在至少一個第二區域內，將障壁層、較佳透明的及/或非金屬的障壁層施覆至該第一層上，使得在該至少一個第二區域內，該第一層與該第二層透過該障壁層相互隔開。
據此，較佳地，該多層體在至少一個第二區域內另包含障壁層、較佳透明的及/或非金屬的障壁層，其係設置在該第一層與該第二層之間，特別是使得在該至少一個第二區域內，第一層與第二層係透過該障壁層相互隔開。
亦可以採用以下方案：另使用障壁層，其在該第一層與該第二層之間設置在至少一個第二區域內，其中特定言之，該至少一個第一區域與該至少一個第二區域係並排地、特別是直接並排地設置，使得在該至少一個第二區域內，該第一層與該第二層係透過該障壁層相互隔開。
較佳地，該至少一個第一區域與該至少一個第二區域不重疊。換言之，該至少一個第一區域與該至少一個第二區域較佳並排地、特別是直接並排地設置。
藉此能夠產生金屬般的光學效果，其依據表面區域而具有不同之色度、反射率、透明度及/或表面電導率。據此，該多層體可以在該至少一個第一區域內具有例如紅金色乃至黃金色的顏色，並且在該至少一個第二區域內具有微紅的、特別是銅色的顏色。
特別是可以在該至少一個第一區域內及在該至少一個第二區域內存在不同的顏色或色度，特別是由於在該至少一個第一區域內，由於該第一層與第二層之相互的化學及/或物理反應，第一層及/或第二層之光學外觀及/或物理特性發生改變。特別是在該第二區域內，該第一層與該第二層係透過障壁層相互隔開，故在此大體為第二金屬之本色，可以視情況而定如下文所述透過進一步之製程改變該顏色。然而，特別是在該至少一個第一區域內，存在的顏色有別於該第一層及第二層之金屬自身或共同作用後及/或組合後的顏色。
因此，該第一層及/或第二層在該至少一個第一區域內及該至少一個第二區域內之光學外觀及/或物理特性可以不同。
此外，藉此產生第一層與第二層之相互精確配準的組合，及/或產生第一金屬與第二金屬之相互精確配準的組合。特別是在整面地施覆該第一層及/或第二層的情況下，第二層既將第一層亦將障壁層覆蓋，故就相互套準而言，能夠無公差地在該至少一個第一區域內及該至少一個第二區域內產生不同的顏色或色度。若僅局部地施覆該第一層及/或該第二層，則至少在第一層與第二層或障壁層發生重疊的區域內，產生此種相互精確配準的組合。
較佳地，該至少一個第二區域形成一維的或二維的網格。此外較佳地，該至少一個第二區域係以圖案、字符（特別是字母數字字符）及/或符號的形式建構。
較佳地，藉由凹版印刷（gravure printing）、網板印刷（screen printing）、柔版印刷（flexographic printing）及/或數位印刷（digital printing），特別是藉由噴墨印刷（inkjet printing）或靜電印刷（xerography），來施覆該障壁層。藉此能夠實現個性化定製及/或高解析度之複雜圖案。
但亦可以在真空室中蒸鍍障壁層。
此外較佳地，該至少一個第二區域係作為整面或作為裝飾（具有整面並且特別是具有半色調）施覆，特別是印刷。藉此特別是能夠產生中間色調，其特別是出自以半色調印刷之障壁層。在此，該些中間色調較佳由以下顏色產生：在該至少一個第一區域內出自該些直接貼靠在彼此上之第一層與第二層的顏色，及在該至少一個第二區域內出自由第二金屬構成之第二層的顏色。
在此，半色調較佳係指藉由網格點對色調或亮度級的模擬，該些網格點皆具有統一之顏色及/或亮度。為此，網格點之尺寸處於眼睛之解析能力以下，特別是低於約200 µm。其中，規定之表面區域內之網格點的數目及/或尺寸決定了在此規定之表面區域內針對人眼產生之顏色或亮度級。例如若使用位於白色背景上之黑色網格點，則規定之表面區域中之被網格點100%佔據對應黑色，並且規定之表面區域中之被網格點0%佔據對應白色，並且規定之表面區域中之被網格點50%佔據對應中灰色。視進一步之分級而定，特別是能夠針對人眼模擬更多的灰色調。藉此，可以藉由位於白色背景上之紅色網格點，對介於100%紅色（＝0%白色）與白色（＝0%紅色）之間之不同分級進行模擬。
較佳地，該障壁層具有基於溶劑或基於水之組分，該些組分單獨或組合地選自：聚胺酯（polyirethane，PU）、丙烯酸酯（acrylate）、聚烯烴（polyolefin）、多元醇（polyol）、聚酯多元醇（polyester polyol）、聚氯乙烯（polyvinyl chloride，PVC）、環氧樹脂（epoxy）或上述之混合物，其係可以藉由交聯組分交聯，該些交聯組分單獨或組合地選自：異氰酸酯（isocyanate）、三聚氰胺（melamine）、胺（amine）、碳二亞胺（carbodiimide）、氮丙啶（azordome）、UV可固化的物質。
此外較佳地，該障壁層具有介於0.1～15 µm之間、較佳介於0.5～7.5 µm之間、更佳介於1～5 µm之間的層厚。
此外，該障壁層可以經過著色，特別是，障壁層係用染料及/或色素著色，及/或，障壁層之著色度介於1～50%之間、較佳介於2.5～15%之間。
此外可以採用以下方案：該障壁層係經色素、染料、遮光劑、填料著色或填充。藉此便能為該障壁層產生透明、有色、半透明或不透明的光學印象。透過填料特別是能夠產生起漫反射作用之金屬表面。據此，例如可以產生白色或黑色之障壁層。
透明較佳係指：針對較佳在介於380～780 nm之間之波長範圍內的可見光，相應層的透射率高於50%，較佳高於70%，尤佳高於85%，更佳高於90%。
不透明較佳係指：針對較佳在介於380～780 nm之間之波長範圍內的可見光，相應層的透射率低於50%，特別是低於20%，較佳低於5%。
較佳地，該障壁層係可以物理乾式固化或輻射固化，特別是藉由在介於100～380 nm波長範圍內的光實現。據此可行的是，該障壁層係可以藉由紫外輻射（UV輻射，UV光）固化。此外亦可行的是，該障壁層係可以藉由電子束固化，及/或，該障壁層具有或包含一或數個熱塑性塑膠。
此外較佳地，該障壁層特別是另經過化學交聯，例如透過交聯組分實現，其單獨或組合地選自：異氰酸酯、三聚氰胺、胺、碳二亞胺、氮丙啶。
此外，該障壁層可以為單層的或多層的。據此，該障壁層可以包含第一障壁層及第二障壁層，其特別是疊置在彼此上。
該障壁層亦可以包含並排設置的第一障壁層及第二障壁層。據此，第二障壁層可以設置在第一障壁層旁。較佳地，該第一障壁層與該第二障壁層係根據一維或二維的網格設置。此外可以採用更多的障壁層，其係並排設置或疊置。較佳地，此類障壁層係用染料及/或色素進行不同的著色。但亦可以採用以下方案：該施覆有第一障壁層的至少一個第二區域，及該施覆有第二障壁層的至少一個第二區域，形成不同的圖案、字符（特別是字母數字字符）及/或符號。
此外較佳地，該第一及/或第二層之在該至少一個第一區域內及該至少一個第二區域內的表面電阻不同，特別是，該至少一個第一區域與該至少一個第二區域之間的表面電阻差別至少為10倍，較佳為15倍，更佳為20倍。藉此便能針對性地在該至少一個第一區域內及該至少一個第二區域內調整表面電阻。較佳將此類局部不同之表面電阻應用在微電子機構、感測機構及/或柔性導電通路中。
下面主要就對該多層體的施加熱量進行描述：
此外較佳地，該方法另包含以下步驟，其特別是在該施覆第二層的步驟後實施： 對該多層體、尤其對該第一層及/或該第二層施加熱量，特別是使得在該至少一個第一區域內及/或該至少一個第二區域內，進一步改變該第一層及/或第二層之光學外觀及/或物理特性。
藉此便能進一步改變或調節該多層體之由第一金屬構成之第一層及/或由第二金屬構成之第二層之光學外觀及/或物理特性。據此，例如可以進一步改變該至少一個第一及/或第二區域內之色度。舉例而言，特別是根據溫度或施加熱量操作之持續時間，能夠將該至少一個第一區域內之色度自紅金色至黃金色進一步改變為金色至青銅色。
亦可以根據色差dE改變色度，尤其在針對上述至少一個第一區域而言，單獨存在之金屬與兩個特別是直接被蒸鍍或施覆至彼此上之金屬的色差dE大於5的情況下，較佳在dE大於10、尤佳在dE大於15的情況下。
據此，（特別是單獨存在之）第一層及第二層及/或第一金屬及第二金屬獨自之顏色，與在該至少一個第一區域中直接施覆及/或設置在彼此上之第一層及第二層及/或第一金屬與第二金屬之顏色，二者之間之色差dE可以大於5，較佳大於10，更佳大於15。
亦較佳地，就（特別是第一層及第二層之）單獨存在之第一金屬及第二金屬或單獨存在之第一層及第二層，與在該至少一個第一區域內直接施覆至彼此上之第一金屬及第二金屬或直接彼此鄰接之第一層及第二層而言，色差dE大於5，較佳大於10，尤佳大於15。據此，較佳地，就較佳由第一金屬及第二金屬構成之單獨存在之第一層及第二層，與在該至少一個第一區域區域內直接施覆至彼此上、更佳由第一金屬及第二金屬構成之第一層及第二層而言，色差dE大於5，較佳大於10，尤佳大於15。
換言之，單獨存在之由第一金屬構成之第一層及由第二金屬構成之第二層，與在該至少一個第一區域內特別是直接施覆及/或設置在彼此上之第一層及第二層及/或特別是直接施覆及/或設置在彼此上之第一金屬及第二金屬，其色差可以大於5，較佳大於10，尤佳大於15。
據此，較佳地，就該單獨存在之由第一金屬構成之第一層及該單獨存在之由第二金屬構成之第二層，與在該至少一個第一區域內直接施覆至彼此上之由第一金屬構成之第一層及由第二金屬構成之第二層（其特別是藉此如上所述共同作用並且不單獨存在）而言，色差dE大於5，較佳大於10，尤佳大於15。
較佳藉由熱施加裝置對該多層體、特別是該第一層及/或該第二層施加熱量。
據此，可以藉由特別是包含雷射器、乾燥箱、加熱輥及/或紅外輻射器的熱施加裝置，對該多層體施加熱量。
在此，該熱施加裝置較佳包含選自輸送帶、輸送輥、雷射器、乾燥箱、加熱輥及/或紅外輻射器的一或數個構件。
亦可以採用以下方案：另將該熱施加裝置用於在至少一個第二區域內改變該多層體之由第一金屬構成之第一層及/或由第二金屬構成之第二層的光學外觀及/或物理特性，其中在該至少一個第二區域內，在該第一層與該第二層之間設有障壁層，特別是使得第一層與第二層在該至少一個第二區域內透過該障壁層相互隔開。藉此便能在該至少一個第二區域內，進一步改變或調節該多層體之由第一金屬構成之第一層及/或由第二金屬構成之第二層之光學外觀及/或物理特性。
較佳地，在該至少一個第一區域內，將該第一層及/或第二層之表面電阻以因數（factor）15、較佳以因數20、更佳以因數22增大，及/或，在該至少一個第二區域內以因數2.5、較佳以因數5、更佳以因數10增大。藉此便能針對性地在該至少一個第一區域內及該至少一個第二區域內調整表面電阻。
亦較佳地，在該至少一個第一區域內及該至少一個第二區域內，透過對該多層體施加熱量，在該至少一個第一區域內，以因數15、較佳以因數20、更佳以因數22增大該第一層及/或第二層之表面電阻，及/或，在該至少一個第二區域內，以因數2.5、較佳以因數5、更佳以因數10增大。
較佳地，以介於80～250℃之間、較佳介於160～230℃之間的溫度對該多層體施加熱量，及/或，以介於0.5～120 min之間、較佳介於1～3 min之間的持續時間對多層體施加熱量，及/或，在對多層體施加熱量的情況下，使得多層體以介於1～40 m/min之間、較佳介於1～3 m/min之間的速度運動。透過選擇此等參數，能夠根據此等參數針對性地改變該第一層及/或第二層及/或該多層體之光學外觀及/或物理特性。
此外，該方法亦可以另包含以下步驟，其特別是在該施覆第一層及/或第二層的步驟期間及/或在此之後實施： 對該多層體、特別是該第一層及/或該第二層施加氧氣及/或氫氣，特別是氣態的氧氣及/或氫氣。
藉此，特別是透過施加氧氣，能夠較佳透過後續之氧化，產生該第一層及/或該第二層及/或該多層體之另一變色。此外，特別是透過施加氫氣，能夠較佳透過後續之還原，將鈍化層還原。
下面主要對該多層體之其他技術方案進行描述：
更佳地，該方法另包含以下步驟，其特別是在該第一層之施覆步驟前及/或在該第二層之施覆步驟後實施： 將一或數個層特別是施覆至該基材上及/或該第二層上，該些層係選自以下群組：保護層，離型層，色層，助黏層，裝飾層，黏著層。
據此，該多層體另可以包含一或數個選自以下群組的層：保護層，離型層，色層，助黏層，裝飾層，黏著層。
較佳地，此等層中之一或數個係設置在該基材與該第一層之間，及/或設置在該第二層之背離第一層的一側上。
較佳地，該方法另包含以下步驟，其特別是在該第一層之施覆步驟後及/或在該第二層之施覆步驟後實施： 至少局部地將該第一層及/或第二層移除。
據此，該第一層及/或第二層可以至少局部地被移除。
較佳地，透過習知之脫金屬方法（demetallization method），例如藉由蝕刻法（etching method）以部分施覆至金屬層上之抗蝕劑，及/或藉由曝光法（exposure method）、特別是遮罩曝光法（mask exposure method）以經部分曝光、顯影及蝕刻之光阻，及/或藉由剝離法（lift-off process）以部分施覆至金屬層下之洗滌染料（Waschfarbe），來至少局部地將該第一層及/或第二層移除。但亦可以僅在具有浮雕結構之區域內，或僅在不具有浮雕結構之區域內，將該第一層及/或第二層局部地移除，或，在不同區域內存在不同浮雕結構的情況下，僅在具有該二不同浮雕結構中之一者的區域內將第一層及/或第二層移除。舉例而言，為此亦可以使用特別是於WO 2006084686 A2中揭露之脫金屬方法，其中，基於局部不同之浮雕結構，依據浮雕結構之不同區域對光敏層或洗滌遮罩進行不同的曝光，並藉此依據不同的曝光將由金屬構成之層局部移除或局部保留。
此外較佳地，該基材為載體層或包含載體層。
該載體層較佳由ABS（＝丙烯腈─丁二烯─苯乙烯）、ABS/PC、PET（＝聚對苯二甲酸乙二醇酯）、PC（＝聚碳酸酯）、PMMA（＝聚甲基丙烯酸甲酯）、PE（＝聚乙烯）、PP（＝聚丙烯）及/或PPP（＝聚醚聚碳酸酯多元醇）形成。該載體層之層厚較佳介於5～500 µm之間，特別是介於6～100 µm之間。
較佳地，至少該第一層及第二層形成一轉移層，其可以被轉移至目標基材上。此外，該轉移層亦可以包含其他層，較佳選自：保護層、裝飾層、色層及/或黏著層。
據此，在該載體層與該轉移層之間，特別是在載體層與該第一層之間，較佳設有離型層，其特別是用於將轉移層自載體層分離。
較佳地，該離型層具有介於0.01～10 µm之間、較佳介於0.1～5 µm之間的層厚，及/或由蠟（wax）、聚乙烯（polyethylene，PE）、聚丙烯（polypropylene，PP）、纖維素衍生物（cellulose derivatives）及/或聚（有機）矽氧烷（poly(organo)siloxanes）構成。
據此，該多層體亦可以形成轉移膜或為轉移膜，其中，該轉移膜特別是包含一載體層及一較佳可以自該載體層分離之轉移層。在此，該轉移層可以由本發明之多層體構成，及/或包含本發明之多層體。
較佳地，將此種轉移膜及/或該多層體用作熱壓印膜及/或模內膜、特別是用作模內裝飾膜（IMD膜）、嵌件模塑膜、模內打標膜（IML膜）及/或印模設計膜（PMD膜）。
較佳地，該保護層為一或數個層，其中一保護層之層厚特別是介於1～15 µm之間、較佳介於2～8 µm之間，及/或，該保護層單獨或組合地具有：具有羥基的異氰酸酯基團，具有羥基的三聚氰胺樹脂，具有含羥基聚合物的聚異氰酸酯，具有含羥基聚合物的三聚氰胺樹脂。
此外，該一或數個保護層亦可以具有組分，其單獨或組合地選自：基於溶劑或基於水之聚胺酯（PU）、丙烯酸酯、聚烯烴、多元醇、聚酯多元醇、聚氯乙烯（PVC）、環氧樹脂、聚偏氟乙烯（PVDF）或上述之混合物，其係可以藉由交聯組分交聯，該些交聯組分單獨或組合地選自：異氰酸酯、三聚氰胺、胺、碳二亞胺、氮丙啶、UV可固化的物質。
較佳地，該一或數個保護層係透明，及/或特別是在介於380～780 nm之間之波長範圍內具有至少25%、較佳至少35%、更佳至少85%之透射率。
此外可行的是，該一或數個保護層係經著色，特別是，該一或數個保護層係用染料及/或色素著色，及/或，該一或數個保護層之著色度小於15%，較佳小於10%，更佳小於5%。亦可行的是，該一或數個保護層係無色，及/或，該一或數個保護層之著色度為0%。據此，該一或數個保護層可以為特別是未著色之清漆層，或形成清漆層。
較佳地，該裝飾層為一單層或多層之層，其特別是具有一或數個較佳不透明、半透明或透明的層，單獨或組合地選自：有色漆層、清漆層、複製漆層、金屬層、光學可變的層、具有高折射率的層（HRI層）、障壁層、助黏層、黏著層、離型層。
在此，該裝飾層酌情地為單層式或多層式。據此，該裝飾層例如可以包含一或數個有色漆層，該些有色漆層如此地成型，從而在共同作用下形成裝飾性的有色圖案或要素。
此外，該裝飾層可以整面地或呈圖案狀成型，例如採用字母數字字符、圖案、符號或花紋圖案的形式。此外較佳地，該裝飾層具有其他光學可變的層，例如包含色素、全息圖、光學繞射結構、透鏡、稜鏡、干涉層結構或交聯液晶。據此，該裝飾覆層較佳具有至少一個有裝飾效果之層。
該裝飾層之層厚較佳介於0.1～15 µm之間、更佳介於0.5～3 µm之間。
該色層較佳為經染料及/或色素著色之漆層。該色層較佳為一由基於溶劑或基於水之組分構成之層，該些組分單獨或組合地選自：聚胺酯（PU）、丙烯酸酯、聚烯烴、多元醇、聚酯多元醇、聚氯乙烯（PVC）、環氧樹脂或上述之混合物，其係可以藉由交聯組分交聯，該些交聯組分單獨或組合地選自：異氰酸酯、三聚氰胺、胺、碳二亞胺、氮丙啶、UV可固化的物質，及更佳地，該色層具有介於0.1～15 µm之間、較佳介於0.5～10 µm之間、更佳介於1～3 µm之間的層厚。
較佳地，該助黏層具有介於0.1～10 µm之間、較佳介於0.5～6 µm之間、尤佳介於1～3 µm之間的層厚。在此，較佳地，該助黏層具有由基於溶劑及/或基於水之組分構成之層，該些組分單獨或組合地選自：聚胺酯（PU）、丙烯酸酯、聚烯烴、多元醇、聚酯多元醇、聚氯乙烯（PVC）、環氧樹脂或上述之混合物，其係可以藉由交聯組分交聯，該些交聯組分單獨或組合地選自：異氰酸酯、三聚氰胺、胺、碳二亞胺、氮丙啶、UV可固化的物質。
該黏著層較佳為一包含基於溶劑及/或基於水之組分的層，該些組分單獨或組合地選自：聚胺酯（PU）、丙烯酸酯、聚烯烴、多元醇、聚酯多元醇、聚氯乙烯（PVC）、環氧樹脂或上述之混合物，其係可以藉由交聯組分交聯，該些交聯組分單獨或組合地選自：異氰酸酯、三聚氰胺、胺、碳二亞胺、氮丙啶、UV可固化的物質，且其中，該黏著層具有介於0.1～10 µm之間、較佳介於0.3～4 µm之間、更佳介於0.5～3 µm之間的層厚。
該多層體可以具有以下層結構： 載體層； 可選的離型層； 可選的一或數個保護層； 由第一金屬構成之第一層； 可選的局部的障壁層； 由第二金屬構成之第二層； 黏著層。
該些層之可行技術方案在此參閱上文之闡述。此外，該多層體另可以具有至少一個裝飾層，其特別是至少局部地設置在該可選的一或數個保護層與該第一層之間，及/或設置在第一層與第二層之間，及/或設置在第二層與該黏著層之間。
結合該製造多層體的方法描述的特徵、效果及優點亦可以類似地適用於該多層體、該多層體之應用、由第一金屬構成之第一層及由第二金屬構成之第二層在多層體中的應用、及熱施加裝置之應用，進而被視作已揭露。反之亦然：結合該多層體、該多層體之應用、由第一金屬構成之第一層及由第二金屬構成之第二層在多層體中的應用、及熱施加裝置之應用描述的特徵、效果及優點亦適用於該製造多層體的方法，進而被視作已揭露。
第1a～1c圖為製造多層體12之方法的示意圖。
如第1a圖所示，首先提供基材3。如第1a圖所示，基材3在此已包含載體層5、離型層6及保護層7。
但基材3亦可以為載體層5，並且層6及7係在先前之步驟中例如藉由印刷施覆，從而獲得如第1a圖所示之基材3。
載體層5較佳為由ABS（＝丙烯腈─丁二烯─苯乙烯）、ABS/PC、PET（＝聚對苯二甲酸乙二醇酯）、PC（＝聚碳酸酯）、PMMA（＝聚甲基丙烯酸甲酯）、PE（＝聚乙烯）、PP（＝聚丙烯）及/或PPP（＝聚醚聚碳酸酯多元醇）構成之層。載體層5之層厚較佳介於5～500 µm之間，特別是介於6～100 µm之間。如第1a～1c圖所示之載體層5例如為由PET構成之層厚75 µm的層。
保護層7較佳為一或數個層，其特別是具有介於1～15 µm之間、較佳介於2～8 µm之間的層厚，及/或包含具有羥基的異氰酸酯基團，具有羥基的三聚氰胺樹脂，具有含羥基聚合物的聚異氰酸酯，或具有含羥基聚合物的三聚氰胺樹脂。此外，該一或數個保護層亦可以具有基於溶劑或基於水之組分（solvent-based or water-based component），該些組分單獨或組合地選自：聚胺酯（PU）、丙烯酸酯、聚烯烴、多元醇、聚酯多元醇、聚氯乙烯（PVC）、環氧樹脂、聚偏氟乙烯（PVDF）或上述之混合物，並且該些組分係可以藉由交聯組分交聯，該些交聯組分單獨或組合地選自：異氰酸酯、三聚氰胺、胺、碳二亞胺、氮丙啶、UV可固化的物質。如第1a～1c圖所示之保護層7例如為：包含具有含羥基聚合物的聚異氰酸酯、層厚5 µm的層。
較佳地，離型層6具有介於0.01～10 µm之間、較佳介於0.1～5 µm之間的層厚，及/或由蠟、聚乙烯（PE）、聚丙烯（PP）、纖維素衍生物及/或聚（有機）矽氧烷構成。如第1a～1c圖所示之離型層6例如為層厚1 µm的蠟層。
如第1b圖所示，將由第一金屬構成之第一層1施覆至基材3上。隨後，如第1c圖所示，在至少一個第一區域10內，將由第二金屬構成之第二層2直接施覆至該第一層上，使得在該至少一個第一區域10內，特別是由於第一層1與第二層2之相互的化學及/或物理反應，改變第一層1及/或第二層2之光學外觀及/或物理特性。
如第1a～1c圖所示，該製造多層體12之方法包含以下步驟，該些步驟特別是以如下順序實施： 提供基材3； 將由第一金屬構成之第一層1施覆至基材3上； 在至少一個第一區域10內，將由第二金屬構成之第二層2直接地施覆至第一層1上，使得在該至少一個第一區域10內，特別是由於第一層1與第二層2之相互的化學及/或物理反應，改變第一層1及/或第二層2之光學外觀及/或物理特性。
如此便獲得如第1c圖所示之多層體12，其中，多層體12包含由第一金屬構成之第一層1及由第二金屬構成之第二層2，其中，第一層1與第二層2係在至少一個第一區域10內直接地設置在彼此上，使得在該至少一個第一區域10內，特別是由於第一層1與第二層2之相互的化學及/或物理反應，第一層1及/或第二層2之光學外觀及/或物理特性發生改變。
較佳地，透過物理氣相沈積（physical vapour deposition，PVD），較佳透過熱蒸鍍、電子束蒸發（electron beam evaporation）、雷射束蒸發（pulsed laser deposition，pulsed laser ablation）、電弧蒸發（arc evaporation，Arc-PVD）、分子束磊晶（molecular beam epitaxy，MBE）、濺鍍，更佳透過離子束輔助沈積（ion beam assisted deposition，IBAD）、離子電鍍及/或ICB技術（ionized cluster beam deposition，ICBD）來施覆該第一層1及/或第二層2。
亦較佳地，如第1a～1c圖所示，將第一層1及第二層2整面地特別是施覆至基底3上及/或第一層1上。
亦較佳地，在介於-50～+50℃之間、較佳介於-30～+30℃之間、尤佳介於-10～+10℃之間的基材溫度下施覆第一層1及/或第二層2，及/或，在介於1*10 -6～1*10 -3mbar之間、較佳介於9*10 -5～5*10 -4mbar之間的壓力下施覆第一層1及/或第二層2。
此外較佳地，該第一金屬及/或第二金屬具有100～2,000℃、較佳150～1,100℃的熔化溫度。
較佳地，在一塗佈室中、特別是一接受器中存在此溫度及/或此壓力，在該塗佈室中將第一層1及/或該第二層2蒸發及/或施覆。
較佳地，該化學及/或物理反應包含氧化、該第一層1與第二層2之進入彼此的擴散及/或界面反應。
此外較佳地，如此藉由溫度、壓力、層厚、時間及/或氧濃度參數施覆該由第一金屬構成之第一層1及/或由第二金屬構成之第二層2，使得第一層1與第二層2在該至少一個第一區域10內發生化學及/或物理反應，特別是藉由氧化、該第一層與第二層2之進入彼此的擴散及/或界面反應實現，特別是使得第一層1及/或第二層2之光學外觀及/或物理特性發生改變/被改變。換言之，第一層1及/或第二層2之施覆條件，特別是選自溫度、壓力、層厚、時間及/或氧濃度的參數，係如此選取，使得第一層1與第二層2特別是藉由氧化、該第一層1與第二層2之進入彼此的擴散及/或界面反應，發生化學及/或物理反應。
較佳地，以介於1～200 nm之間、較佳介於5～40 nm之間、更佳介於10～30 nm之間的層厚施覆第一層1及/或第二層2。
據此，更佳地，特別是在施覆後，第一層1具有介於0.1與4之間、較佳介於0.4與1.4之間之光密度（OD），及/或，特別是在施覆後，第二層2具有介於0.1與4之間、較佳介於0.3與1.3之間之光密度（OD）。
較佳地，以介於1～200 nm之間、較佳介於5～40 nm之間、更佳介於10～30 nm之間的層厚施覆第一層1及/或第二層2。如此一來，該第一層及/或該第二層便可以具有介於1～200 nm之間、較佳介於5～40 nm之間、更佳介於10～30 nm之間的層厚。
除使用的層厚以外，金屬層之光密度（OD）特別是主要取決於使用的金屬。
較佳地，該第一金屬為銦（In）、錫（Sn）、銀（Ag）、鉻（Cr）、鋁（Al）、鋅（Zn）或銅（Cu），及/或，該第二金屬為銦（In）、錫（Sn）、銀（Ag）、鉻（Cr）、鋁（Al）、鋅（Zn）或銅（Cu）。
更佳地，為第一層1及第二層2，及/或為該第一金屬及第二金屬使用下列金屬組合：錫（Sn）與銅（Cu）、銦（In）與銅（Cu）、銀（Ag）與銅（Cu）、鋁（Al）與銅（Cu）、鉻（Cr）與銦（In）、鉻（Cr）與鋁（Al）、或銦（In）與銀（Ag），特別是或者反之。
此外較佳地，在該至少一個第一區域內，特別是至少局部地，透過該第一金屬與該第二金屬形成合金。
如第1b～1c圖所示之第一層1為由錫（Sn）構成之層，並且具有0.7的光密度。如第1c圖所示之第一層2為由銅（Cu）構成之層，並且具有0.3的光密度。在此可以採用以下方案：在此為錫（Sn）的第一金屬與在此為銅（Cu）的第二金屬較佳形成一混合層，及/或至少部分地形成青銅（Sn-Cu）合金。藉由蒸鍍如上所述施覆如第1b～1c圖所示之層。
對於錫（Sn）而言，針對上述光密度及作為單獨存在之金屬層，存在L＝76.95；a＝-2.76；b＝0.24的L*a*b*值，及，對於銅（Cu）而言，針對上述光密度及作為單獨存在之金屬層，存在L＝79.68；a＝6.04；b＝16.44的L*a*b*值，參閱第1表。
  L a B
Sn 76.95 -2.76 0.24
Cu 79.68 6.04 16.44
Sn+Cu 70.51 1.2 11.42
Sn+Cu（180°） 65.84 0.6 31.15
Sn+Cu（200℃） 60.9 4.64 44.26
（第1表）
如第1c圖所示之多層體4在此包含位於層1及2中之該二金屬錫（Sn）及銅（Cu），由此產生紅金色乃至黃金色的顏色，其特別是不同於錫（Sn）與銅（Cu）之本色之加總。
對於蒸鍍至錫（Sn）上之銅（Cu）而言，針對上述光密度，作為蒸鍍至彼此上之金屬層並且在剛實施蒸鍍後，例如存在L＝70.51；a＝1.2；b＝11.42的L*a*b*值。
在第2表中例示性地列出相應的色差。色差係依據以下針對dE的式計算：
Figure 02_image003
在此，如在第2表中所列舉的那般，作為單獨存在之金屬層的錫（Sn）與作為多層體之蒸鍍至錫（Sn）上之銅（Cu）的色差dE＝13.49。在此，亦如在第2表中所列舉的那般，作為單獨存在之金屬層的銅（Cu）與作為多層體之蒸鍍至錫（Sn）上之銅（Cu）的色差dE＝11.52。
因此，如第1a～1c圖所示，使用由第一金屬構成之第一層1及由第二金屬構成之第二層2，用以透過在至少一個第一區域10內將第一層1與第二層2直接地施覆及/或設置在彼此上，在多層體12中在該至少一個第一區域10內改變第一層1及/或第二層2之光學外觀及/或物理特性。
第2a～2c圖為製造多層體12之方法的示意圖。
如第2a～2c圖所示之方法對應於如第1a～1c圖所示之方法，區別在於，如第2c圖所示，在該至少一個第一區域10內，在第一層1與第二層2之間形成混合層4，其特別是包含該第一金屬及第二金屬。在此，另可以在該混合層中在該至少一個第一區域10內，特別是至少局部地，透過該第一金屬與該第二金屬形成合金。
如第2c圖所示之混合體4在此包含該二金屬錫（Sn）及銅（Cu），由此產生紅金色乃至黃金色的顏色，其特別是不同於錫（Sn）與銅（Cu）之本色之加總。
混合層4特別是在熱調節後形成。舉例而言，在180℃的熱調節後，可以測得L＝65.84；a＝0.6；b＝31.15的L*a*b*值，及，在200℃的熱調節後，可以測得L＝60.9；a＝4.64；b＝44.26的L*a*b*值（參閱第1表）。在180℃下及在200℃下的熱調節在此基於兩個獨立的材料試樣。
在此，如在第2表中所列舉的那般，在180℃的熱調節後，作為單獨存在之金屬層的錫（Sn）與作為多層體之蒸鍍至錫（Sn）上之銅（Cu）的色差dE＝33.02。
在此，亦如在第2表中所列舉的那般，在180℃的熱調節後，作為單獨存在之金屬層的銅（Cu）與作為多層體之蒸鍍至錫（Sn）上之銅（Cu）的色差dE＝20.92。
在此，亦如在第2表中所列舉的那般，在200℃的熱調節後，作為單獨存在之金屬層的錫（Sn）與作為多層體之蒸鍍至錫（Sn）上之銅（Cu）的色差dE＝47.43。
在此，亦如在第2表中所列舉的那般，在200℃的熱調節後，作為單獨存在之金屬層的銅（Cu）與作為多層體之蒸鍍至錫（Sn）上之銅（Cu）的色差dE＝33.59。
  dE
dE Sn, Sn+Cu 13.49
dE Sn, Sn+Cu （ 180° ） 33.02
dE Sn, Sn+Cu （ 200° ） 47.43
dE Cu, Sn+Cu 11.52
dE Cu, Sn+Cu （ 180° ） 20.92
dE Cu, Sn+Cu （ 200° ） 33.59
（第2表）
第3a～3d圖為製造多層體12之方法的示意圖。
如第3a～3d圖所示之方法對應於如第1a～1c圖或如第2a～2c圖所示之方法，區別在於，如第3c圖所示，在第一層1之施覆步驟與第二層2之施覆步驟之間，在至少一個第二區域11內，將障壁層8、較佳透明的及/或非金屬的障壁層8施覆至第一層1上，特別是使得在該至少一個第二區域11內，第一層1與第二層2係透過障壁層8相互隔開。
如此便獲得多層體12，其在至少一個第二區域11內另包含障壁層8、較佳透明的及/或非金屬的障壁層8，其係設置在第一層1與第二層2之間，特別是使得在該至少一個第二區域11內，第一層1與第二層2係透過障壁層8相互隔開。
如第3c～3d圖所示，該至少一個第一區域10與該至少一個第二區域11較佳不重疊，而是直接地並排設置。換言之，特別是可以採用該至少一個第一區域10與該至少一個第二區域11互補的技術方案。
較佳地，該至少一個第二區域11形成一維的或二維的網格。此外較佳地，該至少一個第二區域11係以圖案、字符（特別是字母數字字符）及/或符號的形式建構。
較佳地，藉由凹版印刷、網板印刷、柔版印刷及/或數位印刷，特別是藉由噴墨印刷或靜電印刷，特別是在裝飾物中施覆障壁層8。
但亦可以在真空室中蒸鍍障壁層。
較佳地，障壁層8具有基於溶劑或基於水之組分，該些組分單獨或組合地選自：聚胺酯（PU）、丙烯酸酯、聚烯烴、多元醇、聚酯多元醇、聚氯乙烯（PVC）、環氧樹脂或上述之混合物，其係可以藉由交聯組分交聯，該些交聯組分單獨或組合地選自：異氰酸酯、三聚氰胺、胺、碳二亞胺、氮丙啶、UV可固化的物質，及/或，該障壁層具有介於0.1～15 µm之間、較佳介於0.5～7.5 µm之間、更佳介於1～5 µm之間的層厚。
如第3d圖所示之障壁層8為藉由凹版印刷特別是在裝飾物中施覆之障壁層8，由透過碳二亞胺交聯之水性聚氨酯分散體構成，特別是在固化後具有1.5 µm的層厚。
如第3d圖所示，及如在第1a～1c圖或第2a～2c圖中闡釋的那般，隨後整面地施覆該由第二金屬構成之第二層2，使得在該些第一區域10內，將第二層2直接地，即以無任何中間層的方式施覆至第一層1上。
如在第3d圖中進一步示出的那般，在該至少一個第一區域10內，第二層2之銅（Cu）直接地貼靠在第一層1之錫（Sn）上，及，在該至少一個第二區域11內，銅（Cu）貼靠在障壁層8上。藉此，在該至少一個第一區域10內可以檢知紅金色乃至黃金色的顏色，在該至少一個第二區域內則可以檢知銅之微紅的「銅色」本色。因此，在該至少一個第一區域內及該至少一個第二區域內亦存在不同的物理特性，具體形式在此為不同的色彩印象。
此外，在該至少一個第一區域內及該至少一個第二區域內亦存在不同的表面電阻。據此，在如第3d圖所示之多層體中，在該至少一個第一區域10內存在5 Ωm的表面電阻，並且在該至少一個第二區域11內存在100 Ωm的表面電阻。藉由Loresta-GP MCP-T610儀器以4極法（MCP-TP03P測頭）測定該些表面電阻。
此外較佳地，第一層1及/或第二層2之在該至少一個第一區域10內及該至少一個第二區域11內的電阻不同，特別是，該至少一個第一區域10與該至少一個第二區域11之間的表面電阻差別至少為10倍，較佳為15倍，更佳為20倍。
第4圖為多層體12之剖視示意圖。
如第4圖所示之多層體12大體對應於如第1c圖所示之多層體12。據此，多層體12包含由第一金屬構成之第一層1及由第二金屬構成之第二層2，其中，第一層1與第二層2係在至少一個第一區域10內直接地設置在彼此上，使得在該至少一個第一區域10內，特別是由於第一層1與第二層2之相互的化學及/或物理反應，該第一層及/或第二層2之光學外觀及/或物理特性發生改變。與如第1c圖所示之多層體12的不同之處在於，如第4圖所示之多層體12之第一層1由鉻（Cr）構成並且具有1.13的光密度OD。與如第1c圖所示之多層體12的不同之處亦在於，如第4圖所示之多層體12之第二層2由鋁（Al）構成並且具有1.35的光密度OD。如第4圖所示，兩個層1及2皆係整面地施覆。
第5圖為多層體12之剖視示意圖。
如第5圖所示之多層體12對應於如第3d圖所示之多層體12，因此，多層體12之技術方案在此參閱上文之闡述。
因此，如第5圖所示之多層體12包含由第一金屬構成之第一層1及由第二金屬構成之第二層2及局部施覆的障壁層8，其中，在未設障壁層的區域內，第二層2直接地與第一層1接觸，並且在設有障壁層8的區域內，第一層1與第二層2係透過該障壁層8相互隔開。
此外，障壁層8可以經過著色，特別是，該障壁層係用染料及/或色素著色，及/或，障壁層8之著色度介於1～50%之間、較佳介於2.5～15%之間。
此外可以採用以下方案：障壁層8係經色素、染料、遮光劑、填料著色或填充。藉此便能為障壁層8產生透明、有色、半透明或不透明的光學印象。透過填料特別是能夠產生起漫反射作用之金屬表面。據此，例如可以產生白色或黑色之障壁層8。
較佳地，障壁層8係可以物理乾式固化或輻射固化，特別是藉由在介於100～380 nm波長範圍內的光實現。據此可行的是，障壁層8係可以藉由紫外輻射或UV光固化。此外亦可行的是，障壁層8係可以藉由電子束固化，及/或，該障壁層具有或包含一或數個熱塑性塑膠。
在此較佳地，特別是在該至少一個第一區域10及/或該至少一個第二區域11內，不存在干涉層結構。據此，特別是在該第一區域10內不存在干涉層結構，此干涉層結構尤其包含設於反射層與半透明層之間之間隔層。在此，在該至少一個第二區域11內亦可以不存在干涉層結構，特別是當在此施覆具有一定層厚之障壁層8時，其特別是針對處於380～800 nm波長範圍內的光，較佳由於不滿足λ/2或λ/4條件，抑制或防止干涉效果。此外，障壁層8可以在該至少一個第二區域11內採用不透明的建構方案，藉此亦抑制或防止干涉的出現。原則上亦可行的是，第一層1及第二層2已具有一定層厚及/或反射率，使得藉此即已抑制或防止干涉的出現。
換言之，透過多層體12之第一層1與第二層2產生之光學外觀較佳並非為尤其基於干涉的光學可變效果。
如第5圖所示，層1及層2在此皆係整面地施覆。
第6圖為多層體12之剖視示意圖。
如第6圖所示之多層體12對應於如第5圖所示之多層體12，區別在於，第一層1及第二層2係至少局部地經移除。
較佳地，透過脫金屬，例如藉由蝕刻法以部分施覆至金屬層上之抗蝕劑，及/或藉由曝光法、特別是遮罩曝光法以經部分曝光、顯影及蝕刻之光阻，及/或藉由剝離法以部分施覆至金屬層下之洗滌染料（Waschfarbe），來至少局部地將第一層1及/或第二層2移除。但亦可以僅在具有浮雕結構之區域內，或僅在不具有浮雕結構之區域內，將第一層1及/或第二層2局部地移除，或，在不同區域內存在不同浮雕結構的情況下，僅在具有該二不同浮雕結構中之一者的區域內將第一層1及/或第二層2移除。
第7a～7c圖為對多層體12施加熱量的方法的示意圖。
如第7a～7b圖所示，另可以對多層體12、尤其對第一層1及/或第二層2施加熱量，特別是使得在該至少一個第一區域10內及/或該至少一個第二區域11內，進一步改變該第一層1及/或第二層2之光學外觀及/或物理特性。
據此，如第7a圖所示之多層體12為已在第3d圖或第5圖中示出之多層體12。如第7b圖所示，首先為時2 min地對多層體12施加160℃的溫度，使得在該至少一個第一區域10內，發生自紅金色乃至黃金色起，至金色乃至青銅色為止的變色，該變色透過在200℃下為時6 min的供熱進一步強化。除變色以外，發生光澤度之降低，具體形式特別是為亞光效應。此外，在該至少一個第一區域10內及該至少一個第二區域11內，表面電阻亦進一步改變。據此，在如第7b圖所示之多層體12中，在熱施加後，在該至少一個第一區域內現存在110 Ωm的表面電阻，並且在該至少一個第二區域內存在高於1000 Ωm的表面電阻。
據此，較佳地，在該至少一個第一區域10內，以因數15、較佳以因數20、更佳以因數22增大第一層1及/或第二層2之表面電阻，及/或，在該至少一個第二區域內係以因數2.5、較佳以因數5、更佳以因數10增大。
據此，較佳地，以介於80～250℃之間、較佳介於160～230℃之間的溫度對多層體12施加熱量，及/或，以介於0.5～120 min之間、較佳介於1～3 min之間的持續時間對多層體12施加熱量。
較佳地，為對多層體12進行進一步施加，使用第一層1及第二層2具有以下金屬組合的多層體：錫（Sn）與銅（Cu）、銦（In）與銅（Cu）、銀（Ag）與銅（Cu）、鋁（Al）與銅（Cu）、鉻（Cr）與銦（In）、鉻（Cr）與鋁（Al）、或銦（In）與銀（Ag），特別是或者反之。
如第7c圖所示，較佳藉由熱施加裝置14對多層體12、特別是對第一層1及/或第二層2施加熱量。熱施加裝置14較佳包含雷射器、乾燥箱、加熱輥及/或紅外輻射器。
如第7c圖所示，熱施加裝置14包含選自輸送帶13a、輸送輥13b、雷射器、乾燥箱、加熱輥及/或紅外輻射器13c的一或數個構件。
就如第7c圖所示之熱施加裝置14而言，使得位於輸送帶13a上之多層體12較佳以介於1～40 m/min之間的速度穿過用於對多層體12施加熱量的紅外輻射器13c運動。在此，例如藉由輸送輥13b對輸送帶13a進行驅動。
據此，較佳將熱施加裝置14用於在至少一個第一區域10內改變多層體12之由第一金屬構成之第一層1及/或由第二金屬構成之第二層2的光學外觀及/或物理特性，其中，該第一層1與第二層2係在該至少一個第一區域10內直接地設置在彼此上，如第7a～7c圖所示。
因此，藉由如第7c圖所示之熱施加裝置14，能夠在至少一個第二區域11內進一步改變多層體12之由第一金屬構成之第一層1及/或由第二金屬構成之第二層2的光學外觀及/或物理特性，其中，在該至少一個第二區域11內，在第一層1與第二層2之間設有障壁層8，特別是使得第一層1與第二層2在該至少一個第二區域11內透過該障壁層8相互隔開。
此外，可以在乾燥箱中在200℃的溫度下對多層體12施加熱量。該乾燥箱為此具有數個例如採用加熱盤管形式的加熱元件。
﹝本發明﹞ 1:由第一金屬構成之第一層 2:由第二金屬構成之第二層 3:基材 4:混合層 5:載體層 6:離型層 7:保護層 8:障壁層 9:黏著層 9:本體 10,11:區域 12:多層體 13a:輸送帶 13b:輸送輥 13c:雷射器、乾燥箱、加熱輥及/或紅外輻射器 14:熱施加裝置
下面參照未遵循實際比例繪示之附圖對本發明之實施例進行例示性說明。 ［第1a～1c圖］   製造多層體之方法的示意圖。 ［第2a～2c圖］   製造多層體之方法的示意圖。 ［第3a～3d圖］   製造多層體之方法的示意圖。 ［第4圖］ 多層體之剖視示意圖。 ［第5圖］ 多層體之剖視示意圖。 ［第6圖］ 多層體之剖視示意圖。 ［第7a～7c圖］   對多層體施加熱量的方法的示意圖。
1:由第一金屬構成之第一層
2:由第二金屬構成之第二層
4:混合層
5:載體層
6:離型層
7:保護層
8:障壁層
9:黏著層
12:多層體

Claims (38)

  1. 一種製造一多層體（12）之方法，該方法包含以下步驟，該些步驟特別是以如下順序實施： 提供一基材（3）； 將由一第一金屬構成之一第一層（1）施覆至該基材（3）上； 在至少一個第一區域（10）內，將由一第二金屬構成之一第二層（2）直接地施覆至該第一層（1）上，使得在該至少一個第一區域（10）內，特別是由於該第一層（1）與該第二層（2）之相互的化學及/或物理反應，改變該第一層（1）及/或該第二層（2）之光學外觀及/或物理特性。
  2. 如請求項1之方法，其中，在該至少一個第一區域（10）內，在該第一層（1）與第二層（2）之間形成一混合層（4），特別是至少局部地，該混合層（4）特別是包含該第一金屬與該第二金屬。
  3. 如請求項1或2中任一項之方法，其中，在該至少一個第一區域（10）內及/或在該混合層（4）中，透過該第一金屬與該第二金屬形成一合金，特別是至少局部地。
  4. 如請求項1～3中任一項之方法，其中，透過物理氣相沈積（physical vapour deposition，PVD），較佳地透過熱蒸鍍、電子束蒸發（electron beam evaporation）、雷射束蒸發（pulsed laser deposition，pulsed laser ablation）、電弧蒸發（arc evaporation，Arc-PVD）、分子束磊晶（molecular beam epitaxy，MBE）、濺鍍，更佳地透過離子束輔助沈積（ion beam assisted deposition，IBAD）、離子電鍍及/或ICB技術（ionized cluster beam deposition，ICBD），施覆該第一層（1）及/或該第二層（2）。
  5. 如請求項4之方法，其中，於一基材溫度下施覆該第一層（1）及/或第二層（2），該基材溫度介於-50～+50℃之間，較佳介於-30～+30℃之間，尤佳介於-10～+10℃之間；及/或 於一壓力下施覆該第一層（1）及/或該第二層（2），該壓力介於1×10 -6～1×10 -3mbar之間，較佳介於9×10 -5～5×10 -4mbar之間。
  6. 如請求項1～5中任一項之方法，其中，以一層厚施覆該第一層（1）及/或該第二層（2），該層厚介於1～200 nm之間，較佳介於5～40 nm之間，更佳介於10～30 nm之間。
  7. 如請求項1～6中任一項之方法，另包含以下步驟，該步驟特別是在施覆該第一層（1）之步驟與施覆該第二層（2）之步驟之間實施： 將一障壁層（8），較佳為一透明的及/或非金屬的障壁層（8），施覆至該第一層（1）上的至少一個第二區域（11）內，特別是使得在該至少一個第二區域（11）內，該第一層（1）與該第二層（2）藉由該障壁層（8）相互隔開。
  8. 如請求項7之方法，其中，藉由凹版印刷、網板印刷、柔版印刷及/或數位印刷，特別是藉由噴墨印刷或靜電印刷，以施覆該障壁層（8）。
  9. 如請求項1～8中任一項之方法，另包含以下步驟，該步驟係在施覆該第一層（1）之步驟之前及/或在施覆該第二層（2）之步驟之後實施： 施覆一或數個層（6、7、9），特別是施覆至該基材（3）上及/或該第二層（2）上，該一或數個層（6、7、9）係選自以下群組：保護層（7）、離型層（6）、色層、助黏層、裝飾層及/或黏著層（9）。
  10. 如請求項1～9中任一項之方法，其中，將該第一層（1）及/或該第二層（2）整面地施覆，特別是施覆至該基底（3）上及/或該第一層（1）上。
  11. 如請求項1～10中任一項之方法，另包含以下步驟，該步驟特別是在施覆該第一層（1）之步驟之後及/或在施覆該第二層（2）之步驟之後實施： 至少局部地移除該第一層（1）及/或第二層（2）。
  12. 如請求項1～11中任一項之方法，另包含以下步驟，該步驟特別是在施覆該第二層（2）之步驟之後實施： 對該多層體（12）施加熱量，尤其是對該第一層（1）及/或該第二層（2），特別是使得在該至少一個第一區域（10）內及/或該至少一個第二區域（11）內，進一步改變該第一層（1）及/或第二層（2）之光學外觀及/或物理特性。
  13. 如請求項12之方法，其中， 以介於80～250℃之間，較佳介於160～230℃之間的溫度，對該多層體（12）施加熱量；及/或 以介於0.5～120 min之間，較佳介於1～3 min之間的持續時間對多層體（12）施加熱量。
  14. 如請求項12或13中任一項之方法，其中，藉由對該多層體（12）施加熱量，在該至少一個第一區域（10）及該至少一個第二區域（11）內，該第一層（1）及/或該第二層（2）的表面電阻，在該至少一個第一區域（10）內，以因數（factor）15，較佳為因數20，更佳為因數22增大表面電阻，及/或在該至少一個第二區域（11）內，以因數2.5，較佳為因數5，更佳為因數10增大表面電阻。
  15. 如請求項1～14中任一項之方法，其中，單獨地存在的由一第一金屬構成的第一層和單獨地存在的由一第二金屬構成的第二層到在該至少一個第一區域內直接地施覆至彼此上之由該第一金屬構成的該第一層及由該第二金屬構成的該第二層的色差dE大於5，較佳大於10，尤佳大於15。
  16. 如請求項1～15中任一項之方法，另包含以下步驟，該步驟特別是在施覆該第一層（2）及/或施覆該第二層（3）之步驟期間或在施覆該第一層（2）及/或施覆該第二層（3）之步驟之後實施： 對該多層體（12），特別是該第一層（2）及/或該第二層（3），施加氧氣及/或氫氣，特別是氣態的氧氣及/或氫氣。
  17. 一種多層體（12），包含由一第一金屬構成之一第一層（1）及由一第二金屬構成之一第二層（2），該第一層（1）與該第二層（2）係在至少一個第一區域（10）內直接地設置在彼此上，使得在該至少一個第一區域（10）內，特別是由於該第一層（1）與該第二層（2）之相互的化學及/或物理反應，該第一層（1）及/或該第二層（2）之光學外觀及/或物理特性發生改變。
  18. 如請求項17之多層體（12），其中，在該至少一個第一區域（10）內，在該第一層（1）與該第二層（2）之間形成一混合層（4），特別是至少局部地，該混合層（4）特別是包含該第一金屬與該第二金屬。
  19. 如請求項17或18中任一項之多層體（12），其中，在該至少一個第一區域（10）內及/或在該混合層（4）中，該第一金屬與該第二金屬形成一合金，特別是至少局部地。
  20. 如請求項17～19中任一項之多層體（12），其中，在該至少一個第一區域（10）內，特別是由於該第一層（1）與該第二層（2）之相互的化學及/或物理反應，該第一層（1）及/或該第二層（2）之光學外觀及/或物理特性改變，使得較之於該第一層（1）及/或該第二層（2）自身或共同作用後之光學外觀及/或物理特性，該第一層（1）及/或該第二層（2）之光學外觀及/或物理特性發生改變。
  21. 如請求項17～20中任一項之多層體（12），其中， 該第一金屬為銦（In）、錫（Sn）、銀（Ag）、鉻（Cr）、鋁（Al）、鋅（Zn）或銅（Cu）；及/或 該第二金屬為銦（In）、錫（Sn）、銀（Ag）、鉻（Cr）、鋁（Al）、鋅（Zn）或銅（Cu）。
  22. 如請求項17～21中任一項之多層體（12），其中， 該第一層（1）具有介於0.1～4之間，較佳介於0.4～1.4之間之光密度（OD）；及/或 該第二層（2）具有介於0.1～4之間、較佳介於0.3～1.3之間之光密度（OD）。
  23. 如請求項17～22中任一項之多層體（12），其中，該第一層（1）及/或該第二層（2）具有一層厚，介於1～200 nm之間，較佳介於5～40 nm之間，更佳介於10～30 nm之間。
  24. 如請求項17～23中任一項之多層體（12），其中，在至少一個第二區域（11）內，該多層體（12）另包含一障壁層（8），較佳為一透明的及/或非金屬的障壁層（8），該障壁層（8）係設置在該第一層（1）與該第二層（2）之間，使得在該至少一個第二區域（11）內，該第一層（1）與該第二層（2）藉由該障壁層（8）相互隔開。
  25. 如請求項24之多層體（12），其中， 該至少一個第二區域（11）形成一維或二維的網格；及/或 該至少一個第二區域（11）呈現圖案、字符，特別是字母數字字符，及/或符號的形式。
  26. 如請求項24或25中任一項之多層體（12），其中， 該障壁層（8）包含基於溶劑或基於水之組分，該些組分選自：聚胺酯（PU）、丙烯酸酯、聚烯烴、多元醇、聚酯多元醇、聚氯乙烯（PVC）、環氧樹脂或上述之混合物，該些組分特別是可以藉由異氰酸酯、三聚氰胺、胺、碳二亞胺、氮丙啶及/或UV可固化的物質交聯；及/或 該障壁層（8）具有一層厚，介於0.1～15 µm之間，較佳介於0.5～7.5 µm之間，更佳介於1～5 µm之間。
  27. 如請求項24～26中任一項之多層體（12），其中， 該障壁層（8）係經過著色，特別是該障壁層（8）係用染料及/或色素著色；及/或 該障壁層（8）之著色度介於1～50%之間，較佳介於2.5～15%之間。
  28. 如請求項24～27中任一項之多層體（12），其中，在該至少一個第一區域（10）內及該至少一個第二區域（11）內，該第一層（1）及/或該第二層（2）之光學外觀及/或物理特性不同。
  29. 如請求項24～28中任一項之多層體（12），其中，在該第一層（1）及/或該第二層（2）的該至少一個第一區域（10）內及該至少一個第二區域（11）內的表面電阻不同，特別是該至少一個第一區域（10）與該至少一個第二區域（11）之間的表面電阻差至少為10倍，較佳為15倍，更佳為20倍。
  30. 如請求項17～29中任一項之多層體（12），其中，該多層體（12）另包含一或數個層（6、7、9），該一或數個層（6、7、9）係選自以下群組：保護層（7）、離型層（6）、色層、助黏層、裝飾層及/或黏著層（9）。
  31. 如請求項17～30中任一項之多層體（12），其中，該第一層（1）及/或第二層（2）係至少局部地被移除。
  32. 如請求項17～31中任一項之多層體，其中，單獨地存在的由一第一金屬構成的第一層和單獨地存在的由一第二金屬構成的第二層到在該至少一個第一區域內直接地施覆至彼此上之由該第一金屬構成的該第一層及由該第二金屬構成的該第二層的色差dE大於5，較佳大於10，尤佳大於15。
  33. 一種如請求項17～32中任一項之多層體（12）之作為構件、作為包裝材料，作為感測器及/或作為安全元件的應用，該構件特別是一裝飾構件，較佳係針對車輛，尤佳係針對機動車輛、針對筆記型電腦、針對消費性電子產品、針對家用器具。
  34. 一種由一第一金屬構成之一第一層（1）及由一第二金屬構成之一第二層（2）在一多層體（12）中的應用，藉由在至少一個第一區域（10）內將該第一層與該第二層直接地施覆在彼此上，以在該至少一個第一區域內改變該第一層（1）及/或第該二層（2）之光學外觀及/或物理特性。
  35. 如請求項34之應用，其中，另使用一障壁層（8），該障壁層（8）在該第一層（1）與該第二層（2）之間設置在至少一個第二區域（11）內，特別是該至少一個第一區域（10）與該至少一個第二區域（11）係並排地，特別是直接並排地設置，使得在該至少一個第二區域（11）內，該第一層（1）與該第二層（2）藉由該障壁層（8）相互隔開。
  36. 一種熱施加裝置（14）之應用，用於在至少一個第一區域（10）內改變一多層體（12）之由一第一金屬構成之一第一層（1）及/或由一第二金屬構成之一第二層（2）的光學外觀及/或物理特性，該第一層（1）與該第二層（2）係在該至少一個第一區域（10）內直接地設置在彼此上。
  37. 如請求項36之應用，其中， 另將該熱施加裝置（14）用於在至少一個第二區域（11）內改變該多層體（12）之由第一金屬構成之第一層（1）及/或由第二金屬構成之第二層（2）的光學外觀及/或物理特性，其中在該至少一個第二區域（11）內，在該第一層（1）與該第二層（2）之間設有障壁層（8），特別是使得第一層（1）與第二層（2）在該至少一個第二區域（11）內透過該障壁層（8）相互隔開。
  38. 如請求項37之應用，其中，在該至少一個第一區域（10）及該至少一個第二區域（11）內，該第一層（1）及/或該第二層（2）的表面電阻，在該至少一個第一區域（10）內以因數15，較佳為因數20，更佳為因數22增大；及/或在該至少一個第二區域（11）內以因數2.5，較佳為因數5，更佳為因數10增大。
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