TW202221955A - 光學積層體 - Google Patents

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矢野孝伸
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日商日東電工股份有限公司
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Abstract

光學積層體往厚度方向一側依序具備第1薄膜、第1接著劑層、玻璃板、第2接著劑層及第2薄膜。厚度方向一側係視辨側。在下述落筆破裂試驗中，直至玻璃板開始破裂為止之筆的落下高度H1為20cm以上。＜落筆破裂試驗＞將在25℃下之剪切儲存彈性模數G'為0.03MPa且厚度為15µm之黏著劑層配置於第1薄膜之厚度方向另一面，前述在25℃下之剪切儲存彈性模數G'係藉由頻率1Hz、升溫速度5℃/分鐘、溫度-40℃~150℃、扭轉模式之動態黏彈性試驗求算。使10g之筆朝第2薄膜落下。將筆之落下高度每次提高1cm且提高至30cm為止，並取得確認玻璃板有破裂時之高度作為落筆破裂試驗中之高度H1。或者，在筆之落下高度30cm未確認玻璃板有破裂時，判斷為具有30cm以上之抗剝落耐久性。

Description

光學積層體
本發明涉及具備玻璃板之光學積層體。
已知有一種光學積層體，其具備玻璃板、接著劑層及三醋酸纖維素薄膜(例如參照下述專利文獻1)。玻璃板之光學特性優異，但另一方面耐衝擊性低。耐衝擊性係在玻璃板受到衝擊時，會抑制玻璃板發生包含裂痕之損傷的性質。
專利文獻1記載之光學積層體具備於有機EL顯示器中。以專利文獻1記載之光學積層體測定玻璃板之鉛筆硬度。鉛筆硬度係使鉛筆筆芯直接接觸玻璃板之表面(露出面)後，評估有無表面之傷痕來測定。因此，專利文獻1記載之光學積層體具備於有機EL顯示器時，玻璃板係配置於視辨側，而三醋酸纖維素薄膜係配置於有機EL構件側。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2019-25899號公報
發明欲解決之課題 近年來，要求更高等級之耐衝擊性。
用以解決課題之手段 因此，本案發明人等積極檢討，結果發現了一種新穎的光學積層體，其第2薄膜配置於玻璃板之視辨側，且第1薄膜配置於玻璃板之視辨側的對側，並且發現該光學積層體之耐衝擊性優異。
本發明(1)係一種光學積層體，其往厚度方向一側依序具備第1薄膜、第1接著劑層、玻璃板、第2接著劑層及第2薄膜；前述厚度方向一側係視辨側；在下述落筆破裂試驗中，直至前述玻璃板開始破裂為止之筆的落下高度H1為20cm以上。 ＜落筆破裂試驗＞ 將在25℃下之剪切儲存彈性模數G'為0.03MPa且厚度為15µm之黏著劑層配置於前述光學積層體之厚度方向另一面，前述在25℃下之剪切儲存彈性模數G'係藉由頻率1Hz、升溫速度5℃/分鐘、溫度-40℃~150℃、扭轉模式之動態黏彈性試驗求算。使7g且球珠徑0.7mm之原子筆朝前述第2薄膜落下。將筆之落下高度每次提高1cm且提高至30cm為止，並取得確認前述玻璃板有破裂時之高度作為落筆破裂試驗中之高度H1。或者，在筆之落下高度30cm未確認前述玻璃板有破裂時，判斷為具有30cm以上之抗破裂耐久性。
本發明(2)包含如(1)之光學積層體，其中在下述落筆剝落試驗中，直至前述第1薄膜或前述第2薄膜開始剝落為止之筆的落下高度H2為20cm以上。 ＜落筆剝落試驗＞ 將前述黏著劑層配置於前述光學積層體之厚度方向另一面。使7g且球珠徑0.7mm之原子筆朝前述第2薄膜落下。將筆之落下高度每次提高1cm且提高至30cm為止，並取得確認前述第1薄膜或前述第2薄膜有剝落時之高度作為落筆剝落試驗中之高度H2。或者，於確認前述玻璃板有破裂時，判斷為具有破裂高度H1以上之抗剝落耐久性。 或者，在筆之落下高度30cm未確認前述第1薄膜及前述第2薄膜有剝落時，判斷為具有30cm以上之抗剝落耐久性。
本發明(3)包含如(1)或(2)之光學積層體，其中相對於前述第1薄膜藉由頻率10Hz、升溫速度2℃/分鐘、拉伸模式之動態黏彈性試驗求算之在-100℃至-50℃下之tanδ的平均值，前述第2薄膜藉由前述動態黏彈性試驗求算之在-100℃至-50℃下之tanδ的平均值之比為0.8以上且1.5以下。
本發明(4)包含如(1)至(3)中任一項之光學積層體，其中前述第1薄膜藉由頻率10Hz、升溫速度2℃/分鐘、拉伸模式之動態黏彈性試驗求算之在-100℃至-50℃下之tanδ的平均值為0.04以上；並且，前述第1薄膜藉由前述動態黏彈性試驗求算之在-100℃至-50℃下之拉伸儲存彈性模數E'的平均值為3GPa以上且6GPa以下。
本發明(5)包含如(1)至(4)中任一項之光學積層體，其中前述第1薄膜與前述第1接著劑層之密著力為3.0kN/m以上，前述第1接著劑層與前述玻璃板之密著力為3.0kN/m以上，前述玻璃板與前述第2接著劑層之密著力為3.0kN/m以上，且前述第2接著劑層與前述第2薄膜之密著力為3.0kN/m以上。
本發明(6)包含如(1)至(5)中任一項之光學積層體，其中前述第1薄膜與前述第2薄膜分別為三醋酸纖維素薄膜。
本發明(7)包含如(6)之光學積層體，其中前述第2薄膜較前述第1薄膜更厚。
本發明(8)包含如(7)之光學積層體，其更具備配置於前述第2薄膜之前述厚度方向一面的硬塗層。
發明效果 本發明光學積層體中，第2薄膜係配置於視辨側，且在落筆破裂試驗中直至玻璃板開始破裂為止之筆的落下高度H1為20cm以上，因此耐衝擊性優異。
＜光學積層體1＞ 參照圖1至圖3說明本發明光學積層體之一實施形態。
該光學積層體1例如具有朝面方向延伸之平板形狀。面方向係與光學積層體1之厚度方向正交。光學積層體1具備於有機電致發光顯示裝置10(參照圖3)時，係配置於使用者視辨之側的視辨側(以下僅稱為視辨側)。光學積層體1往厚度方向一側依序具備第1薄膜2、第1接著劑層3、玻璃板4、第2接著劑層5及第2薄膜6。 厚度方向一側係視辨側。厚度方向另一側係視辨側之對側(以下僅稱為對側)。
＜第1薄膜2＞ 第1薄膜2係朝面方向延伸。第1薄膜2係形成光學積層體1之厚度方向另一面(對側面)。
第1薄膜2藉由頻率10Hz、升溫速度2℃/分鐘、數據取得間隔0.5分鐘、拉伸模式之動態黏彈性試驗求算之在-100℃至-50℃下之tanδ的平均值例如為0.02以上，宜為0.04以上，又例如為0.20以下，宜小於0.06，較宜為0.05以下。第1薄膜2在-100℃至-50℃下之tanδ的平均值若大於上述下限，便可提升光學積層體1之耐衝擊性。第1薄膜2在-100℃至-50℃下之tanδ的平均值係顯示物體高速衝撞光學積層體1時之反應度的指標。tanδ的平均值若高，則即使物體高速衝撞玻璃板4，第1薄膜2仍可充分緩和玻璃板4受到之衝擊，而可提升光學積層體1之耐衝擊性。動態黏彈性試驗記載於之後之實施例中。
第1薄膜2藉由頻率10Hz、升溫速度2℃/分鐘、拉伸模式之動態黏彈性試驗求算之在-100℃至-50℃下之拉伸儲存彈性模數E'的平均值例如為3GPa以上，且宜為4GPa以上，又例如為10GPa以下，宜為6GPa以下，較宜為5GPa以下，更宜為4.7GPa以下。第1薄膜2在-100℃至-50℃下之拉伸儲存彈性模數E’的平均值若在上述下限以上，便可提升光學積層體1之耐衝擊性。
第1薄膜2可舉例如聚酯薄膜及纖維素薄膜。聚酯薄膜可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(PET)、聚對苯二甲酸丁二酯(PBT)薄膜及聚萘二甲酸乙二酯(PEN)薄膜。纖維素薄膜可舉例如二醋酸纖維素薄膜，具體上可舉三醋酸纖維素(TAC)薄膜。由提高第1薄膜2對第1接著劑層3之密著力的觀點來看，第1薄膜2宜可舉纖維素薄膜，較佳可舉TAC薄膜。
第1薄膜2之厚度無限定。第1薄膜2之厚度例如為10µm以上，且宜為20µm以上。第1薄膜2之厚度若在上述下限以上，便可提升光學積層體1之耐衝擊性。又，第1薄膜2之厚度例如為200µm以下，宜為150µm以下，較宜為100µm以下，更宜為80µm以下，特別宜為50µm以下，最宜為30µm以下，且23µm以下為佳。
第1薄膜2之全光線透射率例如為40%以上，且宜為50%以上，又例如為99%以下。
＜第1接著劑層3＞ 第1接著劑層3係朝面方向延伸。第1接著劑層3係配置於第1薄膜2之厚度方向一面。具體而言，第1接著劑層3係接觸第1薄膜2之厚度方向一面。第1接著劑層3並非由黏著劑(壓敏接著劑)構成之黏著劑層(壓敏接著劑層)，而是硬化型接著劑之硬化物。詳細而言，第1接著劑層3係藉由活性能量線之照射或加熱而進行硬化反應之硬化型接著劑之硬化物。
硬化型接著劑係第1接著劑層3之硬化原料，可舉活性能量硬化型及熱硬化型，較佳可舉活性能量硬化型。具體而言，硬化型接著劑可舉例如丙烯酸接著劑組成物、環氧接著劑組成物及聚矽氧接著劑組成物，而由獲得優異耐衝擊性之觀點來看，可舉環氧接著劑組成物。
環氧接著劑組成物包含環氧樹脂作為主劑。環氧樹脂可舉例如含有2個環氧基之2官能環氧樹脂、含有3個以上環氧基之多官能環氧樹脂等。該等可單獨使用或可併用2種以上。 較佳可舉併用2官能環氧樹脂與多官能環氧樹脂。
2官能環氧樹脂可舉例如雙酚型環氧樹脂、酚醛型環氧樹脂、萘型環氧樹脂、茀型環氧樹脂、三苯甲烷型環氧樹脂等芳香族系環氧樹脂，且可舉例如三聚異氰酸三環氧丙酯、乙內醯脲環氧樹脂等含氮環環氧樹脂，更可舉脂肪族型環氧樹脂、環氧丙基醚型環氧樹脂、環氧丙基胺型環氧樹脂。2官能環氧樹脂較佳可舉脂肪族型環氧樹脂。脂肪族型環氧樹脂包含脂肪族脂環式環氧樹脂。2官能環氧樹脂之環氧當量例如為100g/eq.以上，且宜為120g/eq.以上，又例如為250g/eq.以下，且宜為150g/eq.以下。環氧樹脂中之2官能環氧樹脂之比率例如為80質量%以上，且宜為90質量%以上，又例如為99質量%以下，且宜為97質量%以下。
多官能環氧樹脂可舉例如苯酚酚醛型環氧樹脂、甲酚酚醛型環氧樹脂、參羥甲苯型環氧樹脂、四羥苯基乙烷型環氧樹脂、二環戊二烯型環氧樹脂、3官能脂肪族環氧樹脂等3官能以上之多官能環氧樹脂。多官能環氧樹脂較佳可舉3官能脂肪族環氧樹脂。多官能環氧樹脂之環氧當量例如為130g/eq.以上，且宜為150g/eq.以上，又例如為220g/eq.以下，且宜為200g/eq.以下。環氧樹脂中之多官能環氧樹脂之比率例如為1質量%以上，且宜為3質量%以上，又例如為20質量%以下，且宜為10質量%以下。
環氧接著劑組成物中之環氧樹脂之比率例如為60質量%以上，且宜為75質量%以上，又例如為90質量%以下，且宜為80質量%以下。
環氧樹脂可使用市售物，脂肪族脂環式環氧樹脂可使用CELLOXIDE 2021P(Daicel化學公司製)，3官能脂肪族環氧樹脂可使用EHPE3150(Daicel化學公司製)等。
又，環氧接著劑組成物若為活性能量硬化型，則會包含光酸產生劑。光酸產生劑可舉例如三芳基鋶鹽等。光酸產生劑可使用市售物，三芳基鋶鹽可使用CPI101A(San-Apro公司製)等。環氧接著劑組成物中之光酸產生劑之比率例如為1質量%以上，且宜為10質量%以上，又例如為30質量%以下，且宜為20質量%以下。
並且，環氧接著劑組成物例如可以適當之比率包含氧雜環丁烷系樹脂、矽烷耦合劑等添加劑。
氧雜環丁烷系樹脂可舉例如3-乙-3-氧雜環丁烷甲醇、2-乙基己基氧雜環丁烷等單官能氧雜環丁烷，可舉例如伸茬基雙氧雜環丁烷、3-乙-3{[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧雜環丁烷等2官能氧雜環丁烷。氧雜環丁烷系樹脂可使用市售物，可使用ARON OXETANE(東亞合成公司製)等。
矽烷耦合劑可舉例如3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷耦合劑等。矽烷耦合劑可使用市售物，可舉KBM系列(信越Silicones公司製)等。
第1接著劑層3之厚度無限定。第1接著劑層3之厚度例如為0.1µm以上，又例如為10µm以下，宜為5µm以下，3µm以下較佳。
第1接著劑層3之全光線透射率例如為80%以上，且宜為85%以上，又例如為99%以下。
第1接著劑層3在25℃下之拉伸儲存彈性模數E'例如為1GPa以上，且宜為2GPa以上，較宜為3GPa以上，更宜為4GPa以上，又例如為100GPa以下。第1接著劑層3在25℃下之拉伸儲存彈性模數E'可藉由在頻率1Hz、升溫速度5℃/分鐘之條件的溫度分散模式下測定動態黏彈性來求算。又，第1接著劑層3利用奈米壓痕儀法測定之在25℃下之彈性模數為1GPa以上，且宜為2GPa以上，較宜為3GPa以上，更宜為4GPa以上，又例如為100GPa以下。奈米壓痕儀法之測定條件如下述。
裝置：Triboindenter(Hysitron Inc.製) 試樣尺寸：10×10mm 壓頭：Concial(球形壓頭：曲率半徑10µm)、 測定方法：單一壓痕測定 測定溫度：25℃ 壓頭之壓痕深度：100nm 溫度：25℃ 解析：根據荷重-位移曲線之Oliver Pharr解析
第1薄膜2與第1接著劑層3之密著力例如為0.5kN/m以上，且宜為1.5kN/m以上，較宜為3.0kN/m以上，更宜為3.5kN/m以上，特別宜為4.0kN/m以上，最宜為5.0kN/m以上，又例如為10kN/m以下。第1薄膜2與第1接著劑層3之密著力係以下述方式求得：如圖2B所示，將裝置41具備之刀42之刀尖43插入第1薄膜2與第1接著劑層3之界面，使刀42沿面方向移動，並求出第1薄膜2從第1接著劑層3剝離時之剝離強度而得。密著力之測定方法的詳細內容記載於之後之實施例中。第1薄膜2與第1接著劑層3之密著力若在上述下限以上，便可抑制第1薄膜2從第1接著劑層3之剝落。
＜玻璃板4＞ 玻璃板4係朝面方向延伸。玻璃板4位於第1接著劑層3之相對於第1薄膜2之相反側。玻璃板4係配置於第1接著劑層3之厚度方向一面。 具體而言，玻璃板4係接觸第1接著劑層3之厚度方向一面。藉此，第1接著劑層3係接觸玻璃板4之厚度方向另一面及第1薄膜2之厚度方向一面，而接著(接合)第1薄膜2與玻璃板4。
玻璃板4之全光線透射率例如為80%以上，且宜為85%以上，又例如為99%以下。玻璃板4可使用市售物，例如可使用G-leaf系列(註冊商標，日本電氣硝子公司製)。
玻璃板4與第1接著劑層3之密著力例如為3.0kN/m以上，且宜為3.5kN/m以上，較宜為4.0kN/m以上，又例如為10kN/m以下。玻璃板4與第1接著劑層3之密著力係以下述方式求得：如圖2C所示，將裝置41具備之刀42之刀尖43插入玻璃板4與第1接著劑層3之界面，使刀42沿面方向移動，並求出玻璃板4從第1接著劑層3剝離時之剝離強度而得。密著力之測定方法的詳細內容記載於之後之實施例中。
玻璃板4之厚度無限定。玻璃板4之厚度例如為5µm以上，宜為10µm以上，較宜為20µm。玻璃板4之厚度為100µm以下，宜為80µm以下，較宜為60µm以下，更宜為50µm以下。
＜第2接著劑層5＞ 第2接著劑層5係朝面方向延伸。第2接著劑層5係配置於玻璃板4之厚度方向一面。具體而言，第2接著劑層5係接觸玻璃板4之厚度方向一面。第2接著劑層5並非由黏著劑(壓敏接著劑)構成之黏著劑層(壓敏接著劑層)，而是硬化型接著劑之硬化物。詳細而言，第2接著劑層5係藉由活性能量線之照射或加熱而進行硬化反應之硬化型接著劑之硬化物。第2接著劑層5之硬化原料、厚度、全光線透射率、拉伸儲存彈性模數E'及利用奈米壓痕儀法測定之彈性模數，係與第1接著劑層3之硬化原料、厚度、全光線透射率、拉伸儲存彈性模數E'及利用奈米壓痕儀法測定之彈性模數相同。
玻璃板4與第2接著劑層5之密著力例如為3.0kN/m以上，且宜為3.5kN/m以上，較宜為4.0kN/m以上，又例如為10kN/m以下。玻璃板4與第2接著劑層5之密著力可藉由與上述玻璃板4與第1接著劑層3之密著力的測定方法相同之方法求得。
＜第2薄膜6＞ 第2薄膜6係形成光學積層體1之厚度方向一面(視辨側面)。第2薄膜6位於第2接著劑層5之相對於玻璃板4的相反側。第2薄膜6係朝面方向延伸。第2薄膜6係配置於第2接著劑層5之厚度方向一面。第2薄膜6係接觸第2接著劑層5之厚度方向一面。藉此，第2接著劑層5係接觸玻璃板4之厚度方向一面及第2薄膜6之厚度方向另一面，而接著(接合)玻璃板4與第2薄膜6。
第2薄膜6藉由頻率10Hz、升溫速度2℃/分鐘、數據取得間隔0.5分鐘、拉伸模式之動態黏彈性試驗求算之在-100℃至-50℃下之tanδ的平均值，係設定成以與後述之第1薄膜2之tanδ的平均值之比成為特定範圍。第2薄膜6在-100℃至-50℃下之tanδ的平均值例如為0.02以上，宜為0.04以上，又例如為0.20以下，宜小於0.06，較宜為0.05以下。第2薄膜6在-100℃至-50℃下之tanδ的平均值若大於上述下限，便可提升光學積層體1之耐衝擊性。第2薄膜6在-100℃至-50℃下之tanδ的平均值係顯示物體高速衝撞光學積層體1時之反應度的指標。tanδ的平均值若高，則即使物體高速衝撞玻璃板4，第2薄膜6仍可充分緩和玻璃板4受到之衝擊，而可提升光學積層體1之耐衝擊性。動態黏彈性試驗記載於之後之實施例中。
第2薄膜在-100℃至-50℃下之tanδ的平均值相對於第1薄膜在-100℃至-50℃下之tanδ的平均值之比例如為0.5以上，宜為0.8以上，較宜為0.9以上，又例如為2.0以下，宜為1.5以下，較宜為1.1以下。上述比若在上述下限以上且在上限以下，便可提升光學積層體1之耐衝擊性。
第2薄膜6藉由頻率10Hz、升溫速度2℃/分鐘、拉伸模式之動態黏彈性試驗求算之在-100℃至-50℃下之拉伸儲存彈性模數E'的平均值例如為3GPa以上，且宜為4GPa以上，又例如為10GPa以下，宜為6GPa以下，較宜為5GPa以下，更宜為4.7GPa以下。第2薄膜6在-100℃至-50℃下之拉伸儲存彈性模數E’的平均值若在上述下限以上，便可提升光學積層體1之耐衝擊性。
第2薄膜6與第2接著劑層5之密著力例如為0.5kN/m以上，且宜為1.5kN/m以上，較宜為3.0kN/m以上，更宜為3.5kN/m以上，特別宜為4.0kN/m以上，最宜為5.0kN/m以上，又例如為10kN/m以下。第2薄膜6與第2接著劑層5之密著力若在上述下限以上，於物體衝撞光學積層體1之第2薄膜6時，可抑制於第2薄膜6與第2接著劑層5之界面的剝離。第2薄膜6與第2接著劑層5之密著力可藉由與上述第1薄膜2與第1接著劑層3之密著力的測定方法相同之方法求得。
第2薄膜6可舉例如於第1薄膜2所例示之薄膜。由提高第2薄膜6對第2接著劑層5之密著力，以抑制物體衝撞光學積層體1時之第2薄膜6之剝離的觀點來看，第2薄膜6宜可舉纖維素薄膜，較佳可舉TAC薄膜。
第1薄膜2及第2薄膜6之組合宜可舉以下組合：第1薄膜2為PET薄膜且第2薄膜6為TAC薄膜之組合、第1薄膜2為TAC薄膜且第2薄膜6為TAC薄膜之組合。 較佳可舉第1薄膜2為TAC薄膜且第2薄膜6為TAC薄膜之組合，亦即第1薄膜2及第2薄膜6分別為TAC薄膜之組合。
第2薄膜6之厚度無限定。宜為第2薄膜6較第1薄膜2更厚。尤其，第1薄膜2及第2薄膜6分別若為TAC薄膜，則第2薄膜6較第1薄膜2更厚。第2薄膜6若較第1薄膜2更厚，便可提高光學積層體1之耐衝擊性，同時可抑制第2薄膜6之剝離。
具體而言，第2薄膜6之厚度例如為10µm以上，宜為20µm以上，較宜為30µm以上。第2薄膜6之厚度若在上述下限以上，便可提升光學積層體1之耐衝擊性。又，第2薄膜6之厚度例如為200µm以下，且宜為100µm以下，亦較宜為60µm以下。第2薄膜6之厚度若在上述上限以下，便可抑制物體衝撞光學積層體1時之第2薄膜6之剝離。
第2薄膜6之全光線透射率例如為80%以上，且宜為85%以上，又例如為99%以下。
＜黏著劑層12＞ 光學積層體1亦可更具備假想線所示之黏著劑層12。黏著劑層12係配置於第1薄膜2之厚度方向另一面。具體而言，黏著劑層12係接觸第1薄膜2之厚度方向另一側。亦即，該光學積層體1往厚度方向一側依序具備：黏著劑層12、第1薄膜2、第1接著劑層3、玻璃板4、第2接著劑層5及第2薄膜6。黏著劑層12係一不伴隨硬化反應而壓敏接著之黏著體。
黏著劑層12之材料無限定。黏著劑層12之材料可舉例如丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、聚酯系黏著劑、聚醯胺系黏著劑、胺甲酸酯系黏著劑、氟系黏著劑、環氧系黏著劑及聚醚系黏著劑。材料較佳可舉丙烯酸系黏著劑。黏著劑層12之處方及物性例如詳細記載於日本專利特開2018-28573號公報中。
黏著劑層12在25℃下之剪切儲存彈性模數G'例如為0.01MPa以上，又例如為0.20MPa以下。剪切儲存彈性模數G'可藉由頻率1Hz、升溫速度5℃/分鐘、剪切(扭轉)模式之動態黏彈性試驗求算。
黏著劑層12之厚度例如為5µm以上，且宜為5µm以上，又例如為50µm以下，且宜為30µm以下，較宜為20µm以下。
光學積層體1之厚度例如為50µm以上，又例如為300µm以下以下。
＜落筆破裂試驗＞ 光學積層體1中，在落筆破裂試驗中直至玻璃板4開始破裂為止之筆的落下高度H1為20cm以上。
首先，將光學積層體1隔著假想線所示樹脂薄膜34配置於水平台(未圖示)之表面。將厚度15µm之光學積層體1配置於玻璃板4之厚度方向一面。 此外，該黏著劑層12在落筆破裂試驗中兼作用以將光學積層體1固定於水平台之固定構件。藉由頻率1Hz、升溫速度5℃/分鐘、溫度-40℃~150℃、扭轉模式之動態黏彈性試驗求算之在25℃下之剪切儲存彈性模數G'為0.03MPa。
如圖1所示，使筆29(Pentel原子筆 BK407黑，球珠徑0.7mm)朝第2薄膜6落下。筆29之質量為7g。從第2薄膜6至筆29之前端部32為止之高度為5cm。前端部32係朝下側尖凸。若未因筆29之上述落下而於玻璃板4發生破裂，便每次提高1cm高度。取得確認玻璃板4有破裂時之高度作為落筆破裂試驗中之高度H1。或者，在筆之落下高度30cm未確認玻璃板4有破裂時，判斷為具有30cm以上之抗剝落耐久性。
另一方面，落筆破裂試驗中之落下高度H1若小於20cm，則光學積層體1之耐衝擊性低。
另一方面，落筆破裂試驗中之落下高度H1宜為25cm以上，較宜為30cm以上。
＜落筆剝落試驗＞ 光學積層體1中，在落筆剝落試驗中直至第2薄膜6開始剝落為止之筆29的落下高度H2為20cm以上。
落筆剝落試驗係與上述落筆破裂試驗並行實施。首先，將光學積層體1隔著假想線所示樹脂薄膜34配置於水平台(未圖示)之表面。於光學積層體1未配置有黏著劑層12時，係將與落筆破裂試驗中所用黏著劑層12相同之黏著劑層12配置於光學積層體1之厚度方向一面。
如圖1所示，使筆29(Pentel原子筆 BK407黑，球珠徑0.7mm)朝第2薄膜6落下。筆29之質量為7g。從玻璃板4至筆29之前端部32為止之高度為5cm。前端部32係朝下側尖凸。若未因筆29之上述落下而發生第1薄膜2從第1接著劑層3之剝落、玻璃板4從第1接著劑層3之剝落、玻璃板4從第2接著劑層5之剝落及第2薄膜6從第2接著劑層5之剝落，便每次提高1cm高度。取得確認有上述任一剝落時之高度作為落筆剝落試驗中之高度H2。或者，於確認玻璃板4有破裂時，判斷為具有破裂高度H1以上之抗剝落耐久性。或者，在筆之落下高度30cm未確認有上述剝落時，判斷為具有30cm以上之抗剝落耐久性。
滿足上述要件之光學積層體1中，第1薄膜2對第1接著劑層3之密著力高，玻璃板4對第1接著劑層3之密著力高，第2接著劑層5對玻璃板4之密著力高，及第2薄膜6對第2接著劑層5之密著力高。因此，光學積層體1之可靠性優異。
＜光學積層體1之製造方法＞ 說明光學積層體1之製造方法。光學積層體1之製造方法中，例如係於玻璃板4之厚度方向另一面及/或第1薄膜2之厚度方向一面配置(塗佈)硬化型接著劑，並以玻璃板4及第1薄膜2包夾上述硬化型接著劑。於玻璃板4之厚度方向一面及/或第2薄膜6之厚度方向另一面配置(塗佈)硬化型接著劑，並以玻璃板4及第2薄膜6包夾上述硬化型接著劑。
然後，使2個硬化型接著劑硬化。硬化型接著劑若為活性能量硬化型，便將包含紫外線之活性能量照射至硬化型接著劑。硬化型接著劑若為熱硬化型，則將硬化型接著劑加熱。藉此形成第1接著劑層3與第2接著劑層5。第1接著劑層3係用以將第1薄膜2及玻璃板4牢固固著。第2接著劑層5係用以將玻璃板4及第2薄膜6牢固接著。
藉此獲得具備第1薄膜2、第1接著劑層3、玻璃板4、第2接著劑層5及第2薄膜6之光學積層體1。
然後，欲於光學積層體1更具備黏著劑層12時，係於第1薄膜2之厚度方向另一面配置黏著劑層12。例如係將含黏著劑之清漆塗佈至第1薄膜2之厚度方向另一面並乾燥。或者，亦可將形成於未圖示之剝離片的黏著劑層12轉印至第1薄膜2之厚度方向另一面。藉此獲得具備黏著劑層12、第1薄膜2、第1接著劑層3、玻璃板4、第2接著劑層5及第2薄膜6之光學積層體1。此外，亦可使未圖式之剝離片具備於光學積層體1中。此時，光學積層體1具備：未圖示之剝離片、黏著劑層12、第1薄膜2、第1接著劑層3、玻璃板4、第2接著劑層5及第2薄膜6。
＜光學積層體1之用途＞ 光學積層體1可用於各種光學用途，例如可具備於影像顯示裝置中。作為影像顯示裝置可舉例如有機電致發光顯示裝置(以下有僅稱為「有機EL顯示裝置」之情形)。
接著，參照圖3說明具備光學積層體1之有機EL顯示裝置10。
＜有機EL顯示裝置10＞ 有機EL顯示裝置10具有朝面方向延伸之平板形狀。有機EL顯示裝置10具備接下來進行說明之導電性薄膜13，故作為觸控面板型輸入顯示裝置發揮功能。有機EL顯示裝置10往表側依序具備：光學積層體1、導電性薄膜13、第2黏著劑層14及影像顯示構件15。此外，該有機EL顯示裝置10中，紙面上側為使用者之視辨側，其為表側(相當於圖1之厚度方向另一側)，而紙面下側為背側(相當於圖1之厚度方向一側)。
＜光學積層體1＞ 光學積層體1往表側(視辨側)依序具備：黏著劑層12、第1薄膜2、第1接著劑層3、玻璃板4、第2接著劑層5及第2薄膜6。
＜導電性薄膜13＞ 導電性薄膜13往背側依序具備導電層16與基材層17。
＜導電層16＞ 導電層16具有預定圖案。導電層16之表面及側面係接觸黏著劑層12。導電層16之材料可舉例如金屬氧化物、導電性纖維(纖維)及金屬。金屬氧化物可舉複合氧化物。複合氧化物可舉例如銦鋅複合氧化物(IZO)、銦鎵鋅複合氧化物(IGZO)、銦鎵複合氧化物(IGO)、銦錫複合氧化物(ITO)及銻錫複合氧化物(ATO)。導電性纖維可舉例如金屬奈米線及奈米碳管。金屬可舉例如金、鉑、銀及銅。導電層16係一體地具有位於面方向中央部之感測器電極部18及位於感測器電極部18之周邊的導引配線部19。導電層16之詳細內容例如記載於日本專利特開2017-102443號公報、日本專利特開2014-113705號公報及日本專利特開2014-219667號公報中。
＜基材層17＞ 基材層17係配置於導電層16之背面及黏著劑層12之背面。基材層17係朝面方向延伸。基材層17例如為樹脂層。基材層17之材料可舉烯烴樹脂、聚酯樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚芳酯樹脂、三聚氰胺樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、纖維素樹脂及聚苯乙烯樹脂。烯烴樹脂可舉例如聚乙烯、聚丙烯及環烯烴聚合物(COP)。聚酯樹脂可舉例如PET、PBT及PEN。(甲基)丙烯酸樹脂可舉例如聚(甲基)丙烯酸酯樹脂。基材層17之詳細內容例如記載於日本專利特開2018-181722號公報中。
＜第2黏著劑層14＞ 第2黏著劑層14係配置於導電性薄膜13之背面。具體而言，第2黏著劑層14係接觸導電性薄膜13之背面。第2黏著劑層14之材料與黏著劑層12之材料相同。
＜影像顯示構件15＞ 影像顯示構件15係形成有機EL顯示裝置10之背面。影像顯示構件15係隔著第2黏著劑層14配置於導電性薄膜13之背側。影像顯示構件15係朝面方向延伸。影像顯示構件15具體而言為有機EL元件。例如，影像顯示構件15中雖未圖示，但包含顯示基板、2個電極、被2個電極包夾之有機EL層及密封層。此外，影像顯示構件15之構成及物性例如詳細記載於日本專利特開2018-28573號公報中。
＜一實施形態之作用效果＞ 一實施形態之光學積層體1為第2薄膜6配置於玻璃板4之視辨側且第1薄膜2配置於玻璃板4之對側之新穎的構成。而該光學積層體1中，在落筆破裂試驗中直至玻璃板4開始破裂為止之筆的落下高度H1為20cm以上。因此，光學積層體1之耐衝擊性優異。
又，該光學積層體1中，較佳為在落筆剝落試驗中，直至第1薄膜2或第2薄膜6開始剝落為止之筆的落下高度H2為20cm以上。因此，光學積層體1之可靠性優異。
又，該光學積層體1中，第1薄膜2在-100℃至-50℃下之tanδ的平均值相對於第2薄膜6在-100℃至-50℃下之tanδ的平均值之比若在0.8以上且1.5以下，便可縮小第1薄膜2與第2薄膜6之衝擊吸收行為的差。因此，可抑制第1薄膜2或第2薄膜6之剝落。結果，光學積層體1之可靠性優異。
又，該光學積層體1中，第1薄膜2在-100℃至-50℃下之tanδ的平均值若為0.04以上，且第1薄膜2藉由動態黏彈性試驗求算之在-100℃至-50℃下之拉伸儲存彈性模數E'的平均值若在3GPa以上且6GPa以下，便可抑制玻璃板4在落筆破裂試驗中破裂。因此，光學積層體1之耐衝擊性優異。
又，該光學積層體1中，第1薄膜2與第1接著劑層3之密著力若為3.0kN/m以上，第1接著劑層3與玻璃板4之密著力若為3.0kN/m以上，玻璃板4與第2接著劑層5之密著力若為3.0kN/m以上，且第2接著劑層5與第2薄膜6之密著力若為3.0kN/m以上，第1薄膜2對玻璃板4之密著力及第2薄膜6對玻璃板4之密著力便優異。因此，光學積層體1之可靠性優異。
又，該光學積層體1中，第1薄膜2與第2薄膜6分別若為TAC薄膜，第1薄膜2對第1接著劑層3之密著力及第2薄膜6對第2接著劑層5之密著力便優異。因此，光學積層體1之可靠性優異。
又，第2薄膜6若較第1薄膜2更厚，則可縮小第1薄膜2對於第2薄膜6之衝擊吸收行為之阻力，結果可抑制第1薄膜2或第2薄膜6之剝落。因此，光學積層體1之可靠性優異。
＜變形例＞ 以下變形例中，關於與上述一實施形態相同之構件及步驟係賦予相同的參照符號，並省略其詳細說明。又，變形例除特別註記外，係可發揮與一實施形態相同之作用效果。
在一實施形態中，第1薄膜2為單層，惟第1薄膜2之層數無限定。第1薄膜2亦可為複數層。
在一實施形態中，第2薄膜6為單層，惟第2薄膜6之層數無限定。第2薄膜6亦可為複數層。
如圖1之點劃線所示，光學積層體1亦可更具備硬塗層38。硬塗層38係配置於第2薄膜6之厚度方向一面。硬塗層38係接觸第2薄膜6之厚度方向一面。光學積層體1往視辨側依序具備：第1薄膜2、第1接著劑層3、玻璃板4、第2接著劑層5、第2薄膜6及硬塗層38。硬塗層38之處方、物性及尺寸無特別限定。在該變形例中，光學積層體1具備硬塗層38，因此可提升光學積層體1之耐衝擊性及耐擦傷性。
可取代硬塗層38，或可更具備其他機能層。其他機能層可舉例如防飛散層、防污層及抗反射層。該等可為單層亦可積層複數層。
本發明光學積層體之耐衝擊性優異，因此即使為厚度小於40µm之玻璃板亦具有充分之耐衝擊性。厚度小於40µm之玻璃板之撓曲性優異，因此本發明光學積層體亦可適宜用於折疊式顯示器及卷軸式(rollable)顯示器等撓性顯示器。
實施例 以下記載所用摻混比率(含有比率)、物性值、參數等具體數值，可替代成上述「用以實施發明之形態」中記載之與其等對應之摻混比率(含有比率)、物性值、參數等該記載之上限值(「以下」、「小於」所定義之數值)或下限值(「以上」、「大於」所定義之數值)。又，以下記載中只要未特別言及，「份」及「%」即為質量基準。
在以下的實施例及比較例中，係製造光學積層體1，接著於光學積層體1配置黏著劑層12後，評估光學積層體1之耐衝擊性及耐剝落性。
實施例1 準備厚度30µm之玻璃板4(G-leaf)、由厚度25µm之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜構成之第1薄膜2(DIAFOIL S100 Chemical Co.，Mitsubishi製)、及由厚度40µm之三醋酸纖維素薄膜(KC4UYW，Konica Minolta製)構成之第2薄膜6。又，摻混脂肪族脂環式環氧樹脂(CELLOXIDE 2021P，環氧當量128~133g/eq.，Daicel化學公司製)70質量份、3官能脂肪族環氧樹脂(EHPE3150，環氧當量170~190g/eq.，Daicel化學公司製)5質量份、氧雜環丁烷系樹脂(ARON OXETANE，東亞合成公司製)19質量份、矽烷耦合劑(KBM-403，3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷，信越化學工業公司製)4質量份、光酸產生劑(CPI101A，三芳基鋶鹽，San San-Apro公司製)2質量份，而調製出環氧接著劑組成物(硬化型接著劑)。以玻璃板4與第1薄膜2包夾該環氧接著劑組成物。又，以玻璃板4與第2薄膜6包夾環氧接著劑組成物。以玻璃板4與第2薄膜6包夾經塗佈於玻璃板4之一面的丙烯酸接著劑組成物。以玻璃板4與第2薄膜2包夾經塗佈於玻璃板4之另一面的丙烯酸接著劑組成物。
然後，將紫外線照射至2個硬化型接著劑。藉此形成厚度1µm之第1接著劑層3與厚度1µm之第2接著劑層5。第1接著劑層3係由用以將第1薄膜2及玻璃板4牢固接著之硬化物構成。第1接著劑層3利用奈米壓痕儀法測定之在25℃下之彈性模數為4.9GPa。第2接著劑層5係由用以將第2薄膜6及玻璃板4牢固接著之硬化物構成。第2接著劑層5利用奈米壓痕儀法測定之在25℃下之彈性模數為4.9GPa。
藉此製造出往厚度方向一側依序具備第1薄膜2、第1接著劑層3、玻璃板4、第2接著劑層5及第2薄膜6之光學積層體1。
接著，將厚度15µm之黏著劑層12藉由轉印配置於第1薄膜2之厚度方向另一面。黏著劑層12係如下述進行調製。
摻混丙烯酸月桂酯(LA)43質量份、丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)44質量份、丙烯酸4-羥丁酯(4HBA)6質量份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)7質量份及BASF製「IRGACURE 184」0.015質量份，並照射紫外線進行聚合，而獲得基底聚合物組成物(聚合率：約10%)。
另外，混合甲基丙烯酸二環戊酯(DCPMA)60質量份、甲基丙烯酸甲酯(MMA)40質量份、α-硫甘油3.5質量份及甲苯100質量份，並在氮氣環境下在70℃下攪拌1小時。接著，投入2,2'-偶氮雙異丁腈(AIBN)0.2質量份，並在70℃下反應2小時後，升溫至80℃，使其反應2小時。之後，將反應液加熱至130℃，並將甲苯、鏈轉移劑及未反應單體乾燥去除而獲得固態丙烯酸系寡聚物。丙烯酸系寡聚物之重量平均分子量為5100。玻璃轉移溫度(Tg)為130℃。
相對於基底聚合物組成物之固體成分100質量份，添加1,6-己二醇二丙烯酸酯(HDDA)0.07質量份、丙烯酸系寡聚物1質量份、矽烷耦合劑(信越化學製「KBM403」)0.3質量份後，將該等均勻混合，而調製出黏著劑組成物。
將黏著劑組成物塗佈於由PET薄膜(Mitsubishi Chemical Co.製「DIAFOIL MRF75」)構成之剝離片表面，然後將由另一PET薄膜(Mitsubishi Chemical Co.製「DIAFOIL MRF75」)構成之剝離片貼合至塗膜上。之後，對塗膜照射紫外線，而調製出厚度15µm之黏著劑層12。該黏著劑層12在25℃下之剪切儲存彈性模數G'為0.03MPa。測定方法如下。 將黏著劑層12進行外形加工成圓盤狀，並以平行板包夾，再使用Rheometric Scientific公司製「Advanced Rheometric Expansion System(ARES)」，藉由以下條件之動態黏彈性測定，求出黏著劑層12在25℃下之剪切儲存彈性模數G'。
[條件] 模式：扭轉 溫度：-40℃至150℃ 升溫速度：5℃/分鐘 頻率：1Hz
實施例2 依與實施例1相同方式而製作出光學積層體1。惟，將第1薄膜2之厚度變更成50µm。
實施例3 依與實施例2相同方式而製作出光學積層體1。惟，將第2薄膜6變更成厚度20µm之三醋酸纖維素薄膜(KC2CT，Konica Minolta製)。
實施例4 依與實施例1相同方式而製作出光學積層體1。惟，將第2薄膜6變更成厚度20µm之三醋酸纖維素薄膜(KC2CT，Konica Minolta製)。
實施例5 依與實施例3相同方式而製作出光學積層體1。惟，將第1薄膜2變更成厚度40µm之三醋酸纖維素薄膜(KC4UYW，Konica Minolta製)。
實施例6 依與實施例1相同方式而製作出光學積層體1。惟，將第1薄膜2變更成厚度20µm之三醋酸纖維素薄膜(KC2CT，Konica Minolta製)。
實施例7 依與實施例5相同方式而製作出光學積層體1。惟，將第1薄膜2變更成厚度20µm之三醋酸纖維素薄膜(KC2CT，Konica Minolta製)。
比較例1 依與實施例3相同方式而製作出光學積層體1。惟，第1薄膜2與第1接著劑層3不具備於光學積層體1中。該光學積層體1具備玻璃板4、第2接著劑層5及第2薄膜6。
比較例2 依與實施例5相同方式而製作出光學積層體1。惟，第2接著劑層5與第2薄膜6不具備於光學積層體1中。該光學積層體1具備第1薄膜2、第1接著劑層3及玻璃板4。
於表1中記載各實施例及比較例中之第1薄膜2與第2薄膜6的種類及厚度。
＜評估＞ 針對各實施例及比較例，測定及評估了下述事項。將該等結果記載於表1。
＜第1薄膜2及第2薄膜6之tanδ及拉伸儲存彈性模數E'＞ 將各實施例及比較例所準備之第1薄膜2及第2薄膜6供於動態黏彈性試驗。將裝置及條件記載於下。
裝置：Hitachi High-Tech Science Co.製 多官能動態黏彈性測定裝置 DMS6100 溫度範圍：-100~200℃ 升溫速度：2℃/分鐘 模式：拉伸 試樣寬度：10mm 夾具間距離：20mm 頻率：10Hz 應變振幅：10µm 氣體環境：大氣(250ml/分鐘) 數據之取得間隔：0.5分鐘(每1℃)
第1薄膜2在-100℃至-50℃下之拉伸儲存彈性模數E'的平均值係分別將上述取得之在-100℃至-50℃下之所有數據的總和除以數據之數量而算出。第1薄膜2在-100℃至-50℃下之tanδ的平均值係分別將上述取得之在-100℃至-50℃下之所有數據的總和除以數據之數量而算出。針對第2薄膜6之tanδ的平均值亦以與上述相同方式算出。
＜第1薄膜2與第1接著劑層3之密著力、及第2薄膜6與第2接著劑層5之密著力＞ 使用表面、界面物性解析裝置，藉由以下裝置、條件及方法測定第1薄膜2與第1接著劑層3之密著力。
裝置：DAIPLA WINTES CO.,LTD.製 表面、界面物性解析裝置(SAICAS DN-20型)
刀42之材料：單晶鑽石 刀尖43之寬度：1mm 刀尖43之前傾角：10°
表面、界面物性解析裝置41如圖2A所示，具備刀42與未圖示之移動裝置及壓力測定部。刀42可移動。刀42具備形成為前端部之刀尖43。
如圖2A所示，將光學積層體1設置於測定裝置41上。
使刀尖43移動至水平方向(相當於光學積層體1之面方向)斜向厚度方向一側。水平方向速度為10µm/秒，鉛直方向速度為0.5µm/秒。 藉此，刀尖43便切入第1薄膜2。
如圖2B所示，當刀尖43達至第1薄膜2與第1接著劑層3之界面時，便使刀尖43僅於水平方向上移動。水平方向速度為10µm/秒之狀態。藉由刀尖43之水平方向之移動，第1薄膜2便從第1接著劑層3剝離。測定此時之剝離強度作為第1薄膜2與3之密著力。
第2薄膜6與第2接著劑層5之密著力係以與上述相同方式求得。
＜第1接著劑層3與玻璃板4之密著力、及玻璃板4與第2接著劑層5之密著力＞ 藉由與上述相同之裝置、條件及方法測定第1接著劑層3與玻璃板4之密著力。惟，如圖2C所示，刀尖43切入第1薄膜2後，亦會切入第1接著劑層3，而在刀尖43達至第1接著劑層3與玻璃板4之界面時，使刀尖43水平移動。藉此，第1接著劑層3便從玻璃板4剝離。測定此時之剝離強度作為第1接著劑層3與玻璃板4之密著力。第1接著劑層3與玻璃板4之密著力為4.5kN/m。
以與上述相同方式求得玻璃板4與第2接著劑層5之密著力。玻璃板4與第2接著劑層5之密著力為4.5kN/m。
＜落筆破裂試驗＞ 針對各實施例及比較例之光學積層體1實施了下述落筆破裂試驗。首先，如圖1所示，以第2薄膜6朝上側之方式將光學積層體1置於樹脂薄膜34(假想線)之表面。具體而言，係將黏著劑層12貼附於樹脂薄膜34之表面。樹脂薄膜34係感壓薄膜(FUJIFILM製，Prescale MS中壓用單面型，厚度95µm)。樹脂薄膜34係配置於未圖示之水平台的表面上。接著，實施從距離第2薄膜6為5cm之高度使7g且球珠徑0.7mm之原子筆29落下之落筆破裂試驗。上述高度5cm係第2薄膜6之厚度方向一面與筆29之前端部32之距離。前端部32係朝下側尖凸。該光學積層體1中，若因筆29之上述落下而於玻璃板4發生破裂時，則落筆破裂試驗之高度H1為5cm。若玻璃板4未發生破裂，便每次提高1cm高度。藉此，可獲得玻璃板4發生破裂時之高度H1。
＜落筆剝落試驗＞ 依與上述落筆破裂試驗相同方式，使筆29落下至第2薄膜6。將最初之落下高度設定為5cm。之後，若未發生第2薄膜6從第2接著劑層5之剝落、玻璃板4從第2接著劑層5之剝落、玻璃板4從第1接著劑層3之剝落或第1薄膜2從第1接著劑層3之剝落，便每次提高1cm高度。取得確認有上述剝落時之高度作為落筆剝落試驗中之高度H2。或者，於確認玻璃板4板有破裂時，具有破裂高度H1以上之抗剝落耐久性。或者，在筆29之落下高度30cm仍未確認有上述剝落時，判斷為「具有30cm以上之抗剝落耐久性」。
[表1]
Figure 02_image001
另，上述發明雖提供作為本發明例示之實施形態，但僅為例示，不得作限定解釋。該技術領域之熟知此項技藝之人士明瞭可知本發明變形例包含於後述申請專利範圍中。
產業上之可利用性 光學積層體可具備於影像顯示裝置中。
1:光學積層體 2:第1薄膜 3:第1接著劑層 4:玻璃板 5:第2接著劑層 6:第2薄膜 10:有機EL顯示裝置 12:黏著劑層 13:導電性薄膜 14:第2黏著劑層 15:影像顯示構件 16:導電層 17:基材層 18:感測器電極部 19:導引配線部 29:筆 32:前端部 34:樹脂薄膜 38:硬塗層 41:表面、界面物性解析裝置(測定裝置) 42:刀 43:刀尖
圖1係本發明光學積層體之一實施形態的截面圖。 圖2中，圖2A至圖2C係密著力之測定方法的說明圖。圖2A係將裝置之刀尖切入第1薄膜之態樣。圖2B係刀尖達至第1薄膜與第1接著劑層之間的界面並測定該等之密著力之態樣。圖2C係刀尖達至玻璃板與第1接著劑層之間的界面並測定該等之密著力之態樣。 圖3係具備圖1所示光學積層體之有機電致發光顯示裝置的截面圖。
1:光學積層體
2:第1薄膜
3:第1接著劑層
4:玻璃板
5:第2接著劑層
6:第2薄膜
12:黏著劑層
29:筆
32:前端部
34:樹脂薄膜
38:硬塗層

Claims (8)

  1. 一種光學積層體，往厚度方向一側依序具備第1薄膜、第1接著劑層、玻璃板、第2接著劑層及第2薄膜； 前述厚度方向一側係視辨側； 在下述落筆破裂試驗中，直至前述玻璃板開始破裂為止之筆的落下高度H1為20cm以上； ＜落筆破裂試驗＞ 將在25℃下之剪切儲存彈性模數G'為0.03MPa且厚度為15µm之黏著劑層配置於前述光學積層體之厚度方向另一面，前述在25℃下之剪切儲存彈性模數G'係藉由頻率1Hz、升溫速度5℃/分鐘、溫度-40℃~150℃、扭轉模式之動態黏彈性試驗求算；使7g且球珠徑0.7mm之原子筆朝前述第2薄膜落下；將筆之落下高度每次提高1cm且提高至30cm為止，並取得確認前述玻璃板有破裂時之高度作為落筆破裂試驗中之高度H1；或者，在筆之落下高度30cm未確認前述玻璃板有破裂時，判斷為具有30cm以上之抗破裂耐久性。
  2. 如請求項1之光學積層體，其中在下述落筆剝落試驗中，直至前述第1薄膜或前述第2薄膜開始剝落為止之筆的落下高度H2為20cm以上； ＜落筆剝落試驗＞ 將前述黏著劑層配置於前述光學積層體之厚度方向另一面；使7g且球珠徑0.7mm之原子筆朝前述第2薄膜落下；將筆之落下高度每次提高1cm且提高至30cm為止，並取得確認前述第1薄膜或前述第2薄膜有剝落時之高度作為落筆剝落試驗中之高度H2；或者，於確認前述玻璃板有發生破裂時，判斷為具有破裂高度H1以上之抗剝落耐久性； 或者，在筆之落下高度30cm未確認前述第1薄膜及前述第2薄膜有剝落時，判斷為具有30cm以上之抗剝落耐久性。
  3. 如請求項1或2之光學積層體，其中相對於前述第1薄膜藉由頻率10Hz、升溫速度2℃/分鐘、拉伸模式之動態黏彈性試驗求算之在-100℃至-50℃下之tanδ的平均值，前述第2薄膜藉由前述動態黏彈性試驗求算之在-100℃至-50℃下之tanδ的平均值之比為0.8以上且1.5以下。
  4. 如請求項1或2之光學積層體，其中前述第1薄膜藉由頻率10Hz、升溫速度2℃/分鐘、拉伸模式之動態黏彈性試驗求算之在-100℃至-50℃下之tanδ的平均值為0.04以上；並且， 前述第1薄膜藉由前述動態黏彈性試驗求算之在-100℃至-50℃下之拉伸儲存彈性模數E'的平均值為3GPa以上且6GPa以下。
  5. 如請求項1或2之光學積層體，其中前述第1薄膜與前述第1接著劑層之密著力為3.0kN/m以上， 前述第1接著劑層與前述玻璃板之密著力為3.0kN/m以上， 前述玻璃板與前述第2接著劑層之密著力為3.0kN/m以上，且 前述第2接著劑層與前述第2薄膜之密著力為3.0kN/m以上。
  6. 如請求項1或2之光學積層體，其中前述第1薄膜與前述第2薄膜分別為三醋酸纖維素薄膜。
  7. 如請求項6之光學積層體，其中前述第2薄膜較前述第1薄膜更厚。
  8. 如請求項1或2之光學積層體，其更具備配置於前述第2薄膜之前述厚度方向一面的硬塗層。
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