TW202216665A - 經醯亞胺連接的聚合光起始劑 - Google Patents

經醯亞胺連接的聚合光起始劑 Download PDF

Info

Publication number
TW202216665A
TW202216665A TW110125547A TW110125547A TW202216665A TW 202216665 A TW202216665 A TW 202216665A TW 110125547 A TW110125547 A TW 110125547A TW 110125547 A TW110125547 A TW 110125547A TW 202216665 A TW202216665 A TW 202216665A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
styrene
imide
photoinitiator
poly
linked
Prior art date
Application number
TW110125547A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI794876B (zh
Inventor
唐納德 赫爾
湯瑪士 哈利爾
Original Assignee
法商阿科瑪法國公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 法商阿科瑪法國公司 filed Critical 法商阿科瑪法國公司
Publication of TW202216665A publication Critical patent/TW202216665A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI794876B publication Critical patent/TWI794876B/zh

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F236/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds
    • C08F236/02Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds
    • C08F236/04Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds conjugated
    • C08F236/06Butadiene
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D207/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D207/02Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D207/30Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D207/34Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D207/36Oxygen or sulfur atoms
    • C07D207/402,5-Pyrrolidine-diones
    • C07D207/4042,5-Pyrrolidine-diones with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms directly attached to other ring carbon atoms, e.g. succinimide
    • C07D207/408Radicals containing only hydrogen and carbon atoms attached to ring carbon atoms
    • C07D207/412Acyclic radicals containing more than six carbon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D409/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D409/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D409/12Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/04Anhydrides, e.g. cyclic anhydrides
    • C08F222/06Maleic anhydride
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2810/00Chemical modification of a polymer
    • C08F2810/50Chemical modification of a polymer wherein the polymer is a copolymer and the modification is taking place only on one or more of the monomers present in minority
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/0275Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with dithiol or polysulfide compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymerization Catalysts (AREA)

Abstract

一種經醯亞胺連接的聚合光起始劑和可用於製備此類聚合光起始劑之組成物,以及使用這些聚合物於例如紫外線可固化黏合劑、紫外線可固化塗料組成物和紫外線可固化封裝劑之用途。

Description

經醯亞胺連接的聚合光起始劑
發明領域
本發明相關於一種經醯亞胺連接的聚合光起始劑和可用於製備此類聚合光起始劑之組成物,以及使用這些聚合物於例如輻射可固化黏合劑、輻射可固化塗料組成物和輻射可固化封裝劑之用途。
發明背景
光起始劑的主要功能為當該光起始劑被紫外光(UV)照射時,會產生聚合反應起始自由基。根據有效起始自由基的產生途徑,光起始劑分為“第I型”(或光裂解型)光起始劑和“第II型”(或H-提取(H-abstraction))光起始劑。
與被紫外光直接分解成能有效起始聚合反應的自由基之光裂解光起始劑相較,氫-提取光起始劑需要氫供體,或更一般地為可提取氫的來源,以產生可有效起始聚合反應的自由基。氫提取過程通常為雙分子反應,需要遇到光起始劑和氫供體。 任何可提取氫的來源皆可使用(例如,在氫-提取後產生穩定自由基的任一結構均可作為“氫供體”),此類來源包括胺、硫醇、聚醚、不飽和橡膠如聚丁二烯或聚異戊二烯,以及醇類。
α-裂解(第I 型)和 H-提取(第II型)光起始劑的基本光化學和光物理學,已在UV固化系統中得到充分研究和工業應用(請參見 (a) Cowan, D. O.; Drisko, R. L. Elements of Organic Photochemistry, 1976, Plenum Press,第3與4章 (b) Turro, N. J. Modern Molecular Photochemistry, 1991, University Science Books,第7、10和13章)。在塗料和黏合劑應用中使用紫外線可固化系統之眾所周知的問題為固化過程會產生的光照副產品。在典型的α裂解型光起始劑的情況下,從毒性和產品氣味的角度來看,苯甲醛(以及通常相關的化合物)的產生通常為重要問題。當考慮將該輻射可固化材料使用於皮膚或食品接觸的應用時,此類問題變得尤為重要。目前已採取各種有效的方法來減少紫外線可固化材料的氣味和可萃取副產品的含量。其中一種方法為使用可共聚合或聚合光起始劑,其化學性地加至已固化的聚合物基質中,而非作為小分子殘留在經輻射照射之材料中(請參見 (a) Fouassier, J. P.; Rabek, J. F., Eds. Radiation Curing in Science and Technology, 1993, Elsevier Appl. Sci., vol. 2, 283-321. (b) Fouassier, J. P. Photoinitiation, Photopolymerization and Photocuring, Fundamentals and Applications, 1995, Hanser Publishers, 71-73.)。不太幸運地,當使用α-裂解光起始劑時,會有至少一裂解副產物仍作為小分子殘留,即使另一片段整合至該系統之聚合物成分中。因此,儘管可藉由使用聚合性或可聚合的第I型光起始劑來減少可萃取和有氣味的副產物,但它們並無法完全消除。
使用可聚合或聚合性氫提取型光起始劑,原則上提供了創造一個不含有與光起始系統相關的可萃取成分之系統的可能性。各研究團隊提出基於聚(乙烯基二苯基酮)及其共聚物或衍生自丙烯酸化二苯基酮衍生物之聚合物的系統(請參見(a) David, C.; Demarteu, W.; Geuskens, G. Polymer, 1969, 10, 21-27. (b) Carlini, C.; Ciardelli, F.; Donati, D.; Gurzoni, F. Polymer, 1983, 24, 599-606.)。 亦揭示直接使用丙烯酸化二苯基酮(美國專利第 3,429,852 號)。 不太幸運地,相較於類似的小分子光起始系統,這些第II 型系統通常存在與光效率有關的問題。因此,通常最希望可使用聚合光起始劑,而非可聚合光起始劑。
美國專利號7,795,364揭示經醯胺連接之可聚合光起始劑。 雖然有效,但經醯胺連接的光起始劑容易在醯胺鍵處斷裂,因此穩定性可能會受到影響。 此外,經醯胺連接的光起始劑在聚合物系統中的溶解度較低,且會傾向於增加不希望的黏度。
因此,在本領域中持續需要增進的H-提取光起始劑,其可用於製造輻射可固化黏合劑和塗料配方,而不會有上述缺點,且仍可產生具有較低( 或無)固有的可萃取光化學副產物。本發明滿足此一需要。
發明概要
在一態樣中,本文揭示一種經醯亞胺連接的光起始劑,選自於由結構(I)和(II)組成之群組:
Figure 02_image001
(I)以及
Figure 02_image003
(II), 其中Q 1和Q 2每一者均為小分子或聚合物,其中Q 1和Q 2可相同或不同;Ar選自於由以下組成的群組
Figure 02_image006
Figure 02_image008
Figure 02_image010
Figure 02_image012
Figure 02_image014
Figure 02_image016
,以及
Figure 02_image018
;R為一直鏈或分支烷基、環烷基、伸烷基氧基、烯基或芳基、含一雜原子或羰基的烷基; R 1獨立地為一直鏈或分支烷基、環烷基、伸烷基氧基、烯基、芳基、含一雜原子或羰基的烷基、H、OR、NR 2、SR、F、Cl、Br或I;Y 1為一直鏈或分支(C 1至C 8)伸烷基或一鍵結;L f為一官能基鍵聯,選自於由醚、酯、醯胺、胺基甲酸酯和碳酸酯組成之群組;m = 0或1;n = 0 或1;p = 0或1;以及x = 1至100。
在另一態樣中,本文揭示一種包含經醯亞胺連接的光起始劑之組成物,該經醯亞胺連接的光起始劑,選自於由結構(I)和(II)組成之群組:
Figure 02_image001
(I) 以及
Figure 02_image003
(II), 其中Q 1和Q 2每一者均為小分子或聚合物,其中Q 1和Q 2可相同或不同;Ar選自於由以下組成的群組
Figure 02_image006
Figure 02_image008
Figure 02_image010
Figure 02_image012
Figure 02_image014
Figure 02_image016
,以及
Figure 02_image018
;R為一直鏈或分支烷基、環烷基、伸烷基氧基、烯基或芳基、含一雜原子或羰基的烷基; R 1獨立地為一直鏈或分支烷基、環烷基、伸烷基氧基、烯基、芳基、含一雜原子或羰基的烷基、H、OR、NR 2、SR、F、Cl、Br或I;Y 1為一直鏈或分支(C 1至C 8)伸烷基或一鍵結;L f為一官能基鍵聯,選自於由醚、酯、醯胺、胺基甲酸酯和碳酸酯組成之群組;m = 0或1;n = 0 或1;p = 0或1;以及x = 1至100。
較佳實施例之詳細說明
在此引用的所有文件皆經由引用完整并入。
經由參考以下詳細描述、範例和附圖,可更容易地理解本文描述的實施例。然而,本文描述的元件、裝置和過程不限於詳細描述、範例和附圖中呈現的特定實施例。應當認知到,這些實施例僅為對本揭示原理的說明。在不脫離本揭示的精神和範圍的情況下,許多修飾和改造對於本領域技術人員而言將為顯而易見的。
此外,本文揭示的所有範圍應理解為涵蓋其中包含的任何和所有子範圍。例如,“1.0至10.0”的陳述範圍應被視為包括以1.0或更高的最小值開始,並以10.0 或更低的最大值結束的任何和所有子範圍,例如,1.0 至 5.3,或 4.7 至 10.0,或 3.6 到 7.9。
除非另外明確說明,否則本文揭示的所有範圍也被認為包括該範圍的端點。例如,“介於5和10之間”或“從5到10”或“5-10”的範圍通常應被視為包括端點 5 和 10。
當片語“至多”與一含量或量結合使用時,應理解為該含量至少為一可偵測的含量或量。例如,以“至多”指定含量之含量存在的材料,可以從可偵測之量到至多並包括該指定之量存在。
範圍在本文中可表示為從“約”一特定值及/或至“約”另一特定值。當表達此類範圍時,另一態樣包括從一特定值及/或至另一特定值。 類似地,當數值表示為近似值時,藉由使用先行詞“約”,將理解為該特定值形成另一態樣。 將進一步理解的是,每一範圍的端點相對於另一端點是明顯的,且獨立於另一端點。
如本文在說明書和申請專利範圍中使用的,片語“至少一”指稱一或多個元件列表時,應理解為意指至少一元件選自於該元件列表中的任一或多者,但非必要包括該元件列表中具體列出的每一元件中的至少一者,且不排除該元件列表中元件的任何組合。此定義亦允許該元件可任擇地存在除了在片語“至少一”所指的元素列表中具體指出的元素之外的元件,無論與那些具體指出的元件相關或不相關。因此,作為非限制性範例,“A和B中的至少一者”(或等效地,“A或B中的至少一者”,或等效地“A及/或B中的至少一者”)可指在一實施例中,有至少一個,任擇地包括大於一個A且B不存在(且任擇地包括除B以外的元素);在另一實施例中,有至少一個,任擇地包括大於一個B且A不存在(且任擇地包括除A以外的元素);在又一實施例中,有至少一個,任擇地包括大於一個A,且有至少一個,任擇地包括大於一個B(和任擇地包括其他元素)等。
如本文所用,術語“烷基”係指直鏈或分支的飽和烴基。在一些實施例中,該烷基具有1至20個碳原子、2至20個碳原子、1至10個碳原子、2至10個碳原子、1至8個碳原子、2至8個碳原子、 1至6個碳原子、2至6個碳原子、1至4個碳原子、2至4個碳原子、1至3個碳原子,或2或3個碳原子。烷基的範例包括但不限於甲基(Me)、乙基(Et)、丙基(例如正丙基和異丙基)、丁基(例如正丁基、第三-丁基、異丁基)、戊基(例如,正戊基、異戊基、新戊基)、己基、異己基、庚基、辛基、壬基、4,4-二甲基戊基、2,2,4-三甲基戊基、癸基、十一烷基、十二烷基、2-甲基-1-丙基、2-甲基-2-丙基、2-甲基-1-丁基、3-甲基-1-丁基、2-甲基-3-丁基、2-甲基-1-戊基、2,2-二甲基-1-丙基、3-甲基-1-戊基、4-甲基-1-戊基、2-甲基-2-戊基、3-甲基-2-戊基、4-甲基-2-戊基、2,2-二甲基-1-丁基、3,3-二甲基-1-丁基、2-乙基-1-丁基,及類似基團。術語“伸烷基”係指二價烷基連接基團。伸烷基的範例包括但不限於伸甲基(-CH 2-)、伸乙基(-CH 2-CH 2-)和伸丙基(-CH 2-CH 2-CH 2-)。
如本文所用,術語“烯基”係指具有2至20個碳原子並具有一或多個雙碳-碳鍵的直鏈或分支烷基。在一些實施例中,該烯基具有2至10個碳原子、2至8個碳原子、2至6個碳原子、2至4個碳原子、3至10個碳原子、3至8個碳原子、 3至6個碳原子,或3或4個碳原子。烯基範例包括但不限於乙烯基、1-丙烯基、2-甲基-1-丙烯基、2-丙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基及類似基團。 術語“伸烯基”係指二價烯基連接基團。
如本文所用,術語“胺基”係指-NH 2
如本文所用,術語“芳基”係指單環、雙環或多環(例如,具有2、3或4個稠環)芳烴。在一些實施例中,該芳基具有6至20個碳原子或6至10個碳原子。芳基的範例包括但不限於苯基、萘基、蒽基、菲基、二氫茚基(indanyl)、茚基(indenyl)和四氫萘基及類似基團。 術語“伸芳基”係指二價芳基連接基團。
如本文所用,術語“環烷基”係指非芳族環狀烴,包括具有至多20個成環碳原子的環狀烷基、烯基和炔基。環烷基具有3至15個成環碳原子、3至10個成環碳原子、3至8個成環碳原子、3至6個成環碳原子、4至6個成環碳原子碳原子,3至5個成環碳原子,或5或6個成環碳原子。環烷基的成環碳原子可任擇地被氧代基或硫代基取代。環烷基包括但不限於單環或多環之環系統,例如稠環系統、橋環系統和螺環系統。在一些實施例中,多環系統包括2、3或4個稠環。環烷基的範例包括但不限於環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環庚基、環辛基、環壬基、環戊烯基、環己烯基、環己二烯基、環庚三烯基、降莰基(norbornyl)、降蒎烷基(norpinyl)、降蒈烷基(norcarnyl)、金剛烷基及類似基團。環烷基亦可具有一或多個與環烷基環稠合(具有一共同鍵)的芳環,例如戊烷、戊烯、己烷或類似基團之苯并或噻吩基衍生物(例如,2,3-二氫-1H-茚-1-基,或1H-茚-2(3H)-酮-1-基)。術語“伸環烷基”係指二價環烷基連接基團。
如本文所用,術語“雜芳基”係指具有至多20個成環原子(例如C),且具有至少一雜原子環成員(成環原子)例如硫、氧或氮。在一些實施例中,雜芳基具有至少一或多個雜原子成環原子,每個雜原子獨立地為硫、氧或氮。在一些實施例中,該雜芳基具有3至20個成環原子、3至10個成環原子、3至6個成環原子或3至5個成環原子。在一些實施例中,該雜芳基含有2至14個碳原子、2至7個碳原子、或5或6個碳原子。在一些實施例中,該雜芳基具有1至4個雜原子、1至3個雜原子,或1或2個雜原子。雜芳基包括單環和多環(例如,具有 2、3 或 4 個稠環)系統。雜芳基的範例包括但不限於吡啶基、嘧啶基、吡𠯤基、噠𠯤基、吡啶基(包括2-胺基吡啶)、三𠯤基、呋喃基、喹啉基、異喹啉基、噻吩基、咪唑基、噻唑基、吲哚基(例如吲哚-3-基)、吡咯基、㗁唑基、苯并呋喃基、苯并噻吩基、吡唑基、苯并噻唑基、異㗁唑基、三唑基(包括1,2,4-三唑、1,2,3-三唑和5-胺基-1,2,4-三唑)、四唑基、吲唑基、異噻唑基、1,2,4-噻二唑基、苯并噻吩基、嘌呤基、咔唑基、異㗁唑基、苯并咪唑基、二氫吲哚基、吡喃基、吡唑基、三唑基、㗁二唑基(包括1,2,3-㗁二唑、1,2,4-㗁二唑基、 1,2,5-㗁二唑、3-胺基-1,2,4-㗁二唑、1,3,4-㗁二唑)、噻蒽基、吲哚茚基、異吲哚基、異苯并呋喃基、吡咯基、苯并㗁唑基、𠮿基、2H-吡咯基、3H-吲哚基、4H-喹𠯤基、呔𠯤基、吖啶基、萘啶基、喹唑啉基、啡啶基、𠰐啶基、啡啉基、啡𠯤基、異噻唑基、吩噻𠯤基、異㗁唑基、呋吖基、啡㗁𠯤基及類似基團。
如本文所用,術語“伸烷基氧基”或“氧基伸烷基”係指與一氧原子連接之具有一至六個碳原子的直鏈或分支自由基(即連接基團),包括但不限於伸甲基氧基、伸乙基氧基、 伸丙基氧基、異伸丙基氧基、伸丁基氧基、異伸丁基氧基、第三-伸丁基氧基、伸戊基氧基和伸己基氧基。 術語“聚氧基伸烷基”係指包含複數個氧基伸烷基重複單元,尤其是複數個氧基伸乙基(-O-CH 2-CH 2-)及/或氧基伸丙基(-O-CH(CH 3)-CH 2- 或 -O-CH 2-CH(CH 3)-)重複單元。聚氧基伸烷基可包含式-Alk-(O-Alk) q-O-部分,其中每一Alk獨立地為伸烷基,特別是伸乙基或伸丙基,以及q為1至100。
如本文所用,術語“胺甲酸酯(carbamate)”,單獨或組合使用,係指胺基甲酸之酯類(─NHCOO─),其可以從氮端或酸端連接到本體分子部分,且其可任擇地經取代。術語胺甲酸酯(carbamate)和胺基甲酸酯(urethane)對於本領域技術人員而言為相同基團。術語“胺基甲酸酯(urethane)鍵聯”係指-NH-C(=O)-O-或-O-C(=O)-NH-。
如本文所用,術語“碳酸酯”係指含有基團─OC(O)O─的部分。術語“碳酸酯鍵聯”係指-O-C(=O)-O-。
如本文所用,術語“羧基”係指由式─CO 2H代表的基團。
如本文所用,術語“酯類”係指基團─C(O)OR。術語“酯鍵聯”係指-C(=O)-O- 或 -O-C(=O)-。
如本文所用,術語“醚類”係指通過氧與另一個烴基連接的烴基,其具有通式R─O─R。醚類可為對稱或不對稱。術語“醚鍵聯”係指-O-。
術語“醯胺鍵聯”係指-NH-C(=O)- 或 -C(=O)-NH-。
如本文所用,除非另有明確說明,否則術語“分子量”係指數目平均分子量。
本發明提供聚合性H-提取型光起始劑,特別是橡膠結合之H-提取光起始劑組成物,以及包含此類聚合光起始劑之黏合劑、塗料組成物和類似物。
本文揭示的含醯亞胺聚合性H-提取型光起始劑,係由聚合物或寡聚物前驅物製備,其包含經由任擇性間隔單元連接至該聚合物/寡聚物主鏈的發色基團。該醯亞胺官能基和發色基團之間的間隔單元可為任何有機部分,較佳為直鏈和分支烷基或芳基,可能包括(但不限於)雜原子,例如O、S、N和Si。該間隔單元亦可具有含雜原子的側接取代基,例如但不限於烷氧基、巰基烷基、胺基和烷基胺基。這些官能性前驅物隨後共價連接至小分子或聚合物上,以產生本文揭示之本發明聚合光起始劑分子。
本發明的官能基化發色基團通過一含醯亞胺的連接基團連接至小分子或聚合物上。該小分子或聚合物較佳含有可與該發色基團上存在的官能基反應之基團。
較佳將一或多種官能性發色基團接枝(graft)到聚合物材料上,以產生聚合光起始劑。例如,官能性發色基團可藉由本領域已知的反應接枝到不飽和聚合物如聚(丁二烯)上。所得之聚合光起始劑的每一聚合物鏈通常含有大於一個共價性連接的發色基團,且每一鏈的發色基團平均數目可經由化學計量控制。在聚合光起始劑也可參與UV交聯反應以及作為光起始劑的情況下,通常較佳該聚合光起始劑包含大於兩個發色基團。通常較佳在單一聚合物鏈上側接有許多發色基團,以提供每克聚合光起始劑之高位準紫外線反應性。這有效地降低達成反應性之目標位準所需的聚合光起始劑之量。相對於先前技術的遙爪聚合光起始劑(telechelic polymeric photoinitiators),此較具優勢,其中聚合物/寡聚物MW決定了每克聚合光起始劑的發色基團官能度位準。本發明材料的側接基團結構允許將高位準的發色基團官能度接枝到該聚合物主鏈上。
用於本文揭示之光起始劑系統中的光吸收發色基團係經選擇,以盡可能匹配該光源的發射帶。可使用的發色基團包括進行H-提取光化學反應的化合物,包括但不限於二苯基酮和相關的芳族酮,例如𠮿酮、噻噸酮(thioxanthone)、4,4'-雙(N,N'-二甲基胺基)二苯基酮、二苯乙二酮、醌、喹啉、蒽醌、茀、苯乙酮、𠮿酮、菲和茀酮。有關這些可使用的發色基團和光物理數據之合理完整列表可見於Polymer Handbook, Brandrup J.; Immergut, E. H.; Grulke, E. A.; Eds., John Wiley & Sons, Inc., II/169, "Photopolymerization Reactions", Fouassier, J. P.; 1999。
本文揭示一種經醯亞胺連接的光起始劑,選自於由結構(I)和(II)組成之群組:
Figure 02_image001
(I)  以及
Figure 02_image003
(II), 其中Q 1和Q 2每一者均為小分子或聚合物,其中Q 1和Q 2可相同或不同;Ar選自於由以下組成的群組
Figure 02_image006
Figure 02_image008
Figure 02_image010
Figure 02_image012
Figure 02_image014
Figure 02_image016
,以及
Figure 02_image018
;R為一直鏈或分支烷基、環烷基、伸烷基氧基、烯基或芳基、含一雜原子或羰基的烷基; R 1獨立地為一直鏈或分支烷基、環烷基、伸烷基氧基、烯基、芳基、含一雜原子或羰基的烷基、H、OR、NR 2、SR、F、Cl、Br或I;Y 1為一直鏈或分支(C 1至C 8)伸烷基或一鍵結;L f為一官能基鍵聯,選自於由醚、酯、醯胺、胺基甲酸酯和碳酸酯組成之群組;m = 0或1;n = 0 或1;p = 0或1;以及x = 1至100。
Ar可為二苯基酮衍生物。該二苯基酮衍生物可對應於以下結構
Figure 02_image006
其中R 1如上述定義。
Ar可為噻噸酮衍生物。該噻噸酮衍生物可對應於以下結構
Figure 02_image010
其中R 1如上述定義。
R基團可以相同或不同。特別地,每一R可獨立地選自於直鏈或分支伸烷基、伸環烷基、伸烷基氧基、伸烯基、伸芳基和含有一雜原子或羰基的伸烷基。
特別地,將每一Ar基團連接至一醯亞胺基團之-(R) m-(L f) n-(R) m-部分,可選自於一鍵結或具有下式的連接基: *-Alk-O-C(=O)-Alk-O- § *-Alk-NH-C(=O)-Alk-O- § 其中每一Alk獨立地為一直鏈或分支伸烷基,* 為與醯亞胺基之氮原子連接之點,§ 為與Ar基團連接之點。
在一實施例中,當結構 I 的 p = 0 時,該聚合物經醯亞胺連接的光起始劑包含以下結構 III 的重複單元:
Figure 02_image022
, 其中Q 1、Q 2、R、L f、Ar、m和n如上述定義。
本發明的聚合光起始劑中發色基團(即Ar基團)的存在,使其對於紫外線及/或可見光的照射敏感,因此在暴露於此種光源時能夠引發及/或參與交聯。
Q 1和Q 2可包含衍生自一或多種乙烯性不飽和單體之聚合作用之重複單元。如本文所用,術語“乙烯性不飽和單體”係指包含一可聚合碳-碳雙鍵的單體。可聚合碳-碳雙鍵為在聚合反應中可與另一碳-碳雙鍵反應的碳-碳雙鍵。合適的乙烯性不飽和單體的範例包括烯烴、二烯、(甲基)丙烯酸單體、乙烯基醚、苯乙烯單體及其混合物。烯烴可選自於乙烯、丙烯、異丙烯、1-丁烯、異丁烯、1-戊烯、1-己烯、1-庚烯、1-辛烯、1-壬烯、1-癸烯、1-十二烯、1-十四烯、 1-十六烯、1-十八烯、1-二十烯及其混合物。該二烯可選自於丁二烯、異戊二烯、氯丁二烯、二環戊二烯及其混合物。該(甲基)丙烯酸單體可為具有式-C(=O)-CR=CH 2之(甲基)丙烯醯基之化合物,其中R為H或甲基。特別地,該(甲基)丙烯酸單體可選自於(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸的烷基酯、(甲基)丙烯醯胺及其混合物。乙烯基醚可以為具有式-O-CH=CH 2基團之化合物。特別地,該乙烯基醚可選自於甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、異丙基乙烯基醚、正丁基乙烯基醚、異丁基乙烯基醚、正十六烷基乙烯基醚、2-氯乙基乙烯基醚、芐基乙烯基醚、環己基乙烯基醚,及其混合物。該苯乙烯單體可為在芳環的α位置包含一碳-碳雙鍵的單體。特別地,該苯乙烯單體可選自於苯乙烯、α-甲基苯乙烯、第三-丁基苯乙烯、鄰-、間-和對-甲基苯乙烯、鄰-、間-和對-乙基苯乙烯、鄰-甲基-對-異丙基苯乙烯、對-氯苯乙烯、對-溴苯乙烯、鄰、對-二氯苯乙烯、鄰、對-二溴苯乙烯、鄰-、間-和對-甲氧基苯乙烯、任擇地經取代之茚、任擇地經取代之乙烯基萘、苊、二苯基乙烯、乙烯基蒽及其混合物。
Q 1和Q 2可進一步包含一或多個具有以下結構(IV)或(V)之單元:
Figure 02_image024
(IV)
Figure 02_image026
(V) 其中Y 1和p如上述定義;以及Z為不包含如上定義的Ar基之部分。例如,Z可為烷基、環烷基或聚醚部分。特別地,Z可為聚醚部分,更特別地,Z可為聚氧基伸烷基部分,甚至更特別地,Z可為包含複數個氧基伸乙基及/或氧基伸丙基重複單元之部分。例如,Z可為由烷基封端之聚(氧基伸烷基),特別是由烷基封端之聚(氧基伸丙基)、聚(氧基伸乙基)或聚(氧基伸丙基-共-氧基伸乙基)。
結構(IV)或(V)之單元可用於增加光起始劑在其將被引入的組成物中之溶解度。該Z基團亦可提供可提取的氫原子,其可在光起始過程中與發色基團協同作用。
結構(I)、(II)和(III)的第II型經醯亞胺連接的光起始劑,經由連接部分將發色基團接枝到聚合物主鏈(Q 1及/或Q 2)上而合成。任何含有酸酐官能性的聚合物均可用於實施本發明。例如,可被順-丁烯二酸化(通常通過“-烯基”反應)並用於實施本發明之不飽和聚合物包括但不限於,苯乙烯-丁二烯-苯乙烯(SBS);苯乙烯-異戊二烯-苯乙烯(SIS);聚(丁二烯) (pBD); 隨機苯乙烯-丁二烯-苯乙烯橡膠(SBR);乙烯-丙烯-二環戊二烯 (EPDM),以及含有側鏈或主鏈不飽和度之丙烯酸酯聚合物。順-丁烯二酸化系聚合物包括:丙烯酸酯、聚丁二烯、聚異戊二烯、SIS、SBS、苯乙烯-b-乙烯/丁烯-b-苯乙烯、苯乙烯-b-乙烯/丙烯-b-苯乙烯,或聚異丁烯。在額外範例中,亦可使用具有包含酸酐基團之飽和主鏈的聚合物。範例包括苯乙烯-順丁烯二酸酐共聚物和丙烯酸共聚物,其含有衍生自順丁烯二酸酐或伊康酸酐(itaconic anhydride)之重複單元。
在一些實施例中,Q 1和Q 2獨立地衍生自順丁烯二酸化聚(丁二烯)、順丁烯二酸化聚(異戊二烯)、順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-丁二烯-b-苯乙烯)或順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-異戊二烯- 苯乙烯)、順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-乙烯/丁烯-b-苯乙烯)、順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-乙烯/丙烯-b-苯乙烯)、苯乙烯-共-順丁烯二酸酐、順丁烯二酸酐-共-乙基乙烯基醚、順丁烯二酸酐-共-甲基乙烯基醚、順丁烯二酸酐-共-癸烯或酸酐官能性丙烯酸聚合物。
在其他實施例中,Q 1和Q 2獨立地衍生自苯乙烯-丁二烯-苯乙烯(SBS);苯乙烯-異戊二烯-苯乙烯(SIS);聚(丁二烯); 隨機苯乙烯-丁二烯-苯乙烯橡膠(SBR);含有側鏈或主鏈不飽和度的丙烯酸酯聚合物;順丁烯二酸化聚(丁二烯)、順丁烯二酸化聚(異戊二烯)、順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-丁二烯-b-苯乙烯),或順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-異戊二烯-苯乙烯)、順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-乙烯/丁烯)-b-苯乙烯)、順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-乙烯/丙烯-b-苯乙烯)、苯乙烯-共-順丁烯二酸酐、順丁烯二酸酐-共-乙基乙烯基醚、順丁烯二酸酐-共-甲基乙烯基醚、順丁烯二酸酐-共 -癸烯或酸酐官能性丙烯酸聚合物。
根據某些實施例,上述重複單元沿著該第II型經醯亞胺連接的光起始劑的主鏈隨機性或統計性排列。 然而,在其他實施例中,該第II型經醯亞胺連接的的光起始劑可具有更有序的結構。
該第II型經醯亞胺連接的的光起始劑可對應於包含以任何順序排列之以下重複單元的結構:
Figure 02_image028
Figure 02_image030
Figure 02_image032
Figure 02_image034
Figure 02_image036
Figure 02_image038
其中w、x、y、y’、y’’ 和z獨立地為1至100的整數; 以及 Z如上述定義。
特別地,w、x和z可為2至80,或5至70,或10至60; y可為2至50,或5至40,或8至30; 以及 y’ + y’’的總和可為2至50,或5至40,或8至30。
例如,結構(I)和(II)的第II型經醯亞胺連接的的光起始劑之一合成途徑,係利用各種酸酐官能性聚合物主鏈(例如苯乙烯-共-順丁烯二酸酐(SMA)和順丁烯二酸化聚丁二烯) ,並經由一級胺基官能性發色基團之醯亞胺化反應形成接枝光起始劑官能性。尤佳以4-胺基二苯基酮作為前驅物,但也可以使用其他胺基官能性發色基團。 一示範性合成流程如下所示:
Figure 02_image040
結構(I)和(II)的第II型經醯亞胺連接的光起始劑之另一合成途徑,係利用各種酸酐官能性聚合物主鏈(例如苯乙烯-共-順丁烯二酸酐(SMA)和順丁烯二酸化聚丁二烯) ,並經由一級胺基官能性發色基團之醯亞胺化反應形成接枝光起始劑官能性,藉由在加入發色基團的芳族部分之前,先將連接部分構建到該聚合物/寡聚物主鏈上:
Figure 02_image042
以下合成流程提供結構(I)和(II)之第II型經醯亞胺連接的光起始劑之另一示範合成途徑,其藉由在加入發色基團的芳族部分之前,先構建該連接部分:
Figure 02_image044
側接結構允許合成高官能度、高分子量之聚合光起始劑。 如前所述,與遙爪類似物(telechelic analogs)相較,側接聚合物結構允許獨立控制發色基團官能度位準,相對於主鏈MW。較佳地,該含醯亞胺聚合光起始劑具有約500至約500,000之M n,更佳約1000至約50,000之M n,最佳約1000至約20,000之M n。較高分子量的好處為該聚合物不太可能從固化塗層中移動出來,在其沒有與固化網絡呈共價性連接之此種很少發生的情況下。
本文揭示的聚合物經醯亞胺連接的光起始劑,可用於製備多種輻射可固化材料,包括塗料、油墨、黏合劑(包括熱熔壓力敏感性黏合劑和層壓黏合劑)、密封劑和封裝劑。術語塗料組成物的使用在本文中廣泛用於指稱裝飾性和抗磨塗層、漆、纖維增強複合材料、微電子封裝、光纖塗層、模製化合物、UV-固化結構樹脂,及類似物質。新型光起始劑之高分子量、高反應性,以及不會產生與光起始劑有關的光照片段(photo-fragments)的潛力,使其特別適用於需要低氣味和低可萃取物的應用,例如醫療黏合劑、食品包裝油墨和電子黏合劑或封裝劑。可使用本發明聚合光起始劑的應用不受限制,且為本領域技術人員已知。
本文揭示之聚合物經醯亞胺連接的光起始劑,在熱和水解方面,較相對應的經醯胺連接之聚合光起始劑更穩定。在此方面,該醯亞胺鍵可使在高溫使用期間發色基團從主鏈上斷裂,因而導致在含有該聚合光起始劑的固化產物中形成可萃取成分的可能性最小化。該醯亞胺鍵亦可使在潮濕環境中使用期間發色基團從主鏈上斷裂,因而導致在含有該聚合光起始劑的固化產物中形成可萃取成分的可能性最小化。相對於該相對應的經醯胺連接的聚合光起始劑,本文揭示的聚合物經醯亞胺連接的光起始劑通常更易溶於一般溶劑和UV可固化樹脂成分中。
本文揭示之經醯亞胺連接的聚合光起始劑可用於製備多種輻射可固化材料,包括熱熔壓敏感性黏合劑和塗料組成物。術語塗料組成物在本文中廣泛用於指稱裝飾性和抗磨塗層、漆、纖維增強複合材料、微電子封裝、光纖塗層、模製化合物、UV-固化結構樹脂,及類似物質。
在輻射可固化組成物中,藉由暴露於光化及/或離子化輻射而發生交聯。術語“輻射”在本文中用於包括光化輻射如紫外線輻射,以及藉由電子發射或高度加速核粒子(例如中子、α粒子等)產生的離子化輻射。
相對於典型的市售光起始劑,本發明的聚合光起始劑在UV固化之前和之後為熱和水解穩定性,在UV可固化組成物中展現出固化後氣味減少、在UV可固化組成物中展現出降低的可萃取物,且如果使用適當的燈/發色基團對,則可有效地UV固化為厚膜。
在本發明的實施中,本領域技術人員已知的適用於配製黏合劑和塗料組成物的任何基礎樹脂,皆可用於實施本發明。與新型光起始劑一起使用的樹脂不受限制,只要它們可溶解該聚合光起始劑即可。關於溶解度,相對於現有技術的經醯胺連接材料,本發明之經醯亞胺連接的聚合光起始劑的完全醯亞胺化性質,增進其在典型的UV/EB可固化樹脂中的溶解度。可使用的液體和固體樹脂範例包括可得自Sartomer之丙烯酸酯官能性單體和寡聚物。對於熱熔壓敏感性和層壓黏合劑、固體/薄膜型熱封或薄膜基材而言,可使用的熔融或可溶液加工之聚合物包括非晶形聚烯烴、含乙烯聚合物和橡膠嵌段共聚物,以及其摻合物。可使用基於丙烯酸酯、環氧化物、矽氧烷、苯乙烯氧基、乙烯基醚和其他單體、寡聚物或預聚物,如聚醯亞胺和氰酸酯樹脂及/或聚合物及其混成物(hybrids)的系統。該組成物可選自於液體或固體烯烴系不飽和系統,例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、順丁烯二醯亞胺、苯乙烯、順丁烯二酸酯、反丁烯二酸酯、不飽和聚酯樹脂、烷基樹脂、聚異戊二烯、聚丁二烯和硫醇-烯組成物。聚合物如聚異戊二烯或聚丁二烯,或其與苯乙烯的隨機或嵌段共聚物,可在該二烯烴具有或不具有部分氫化的情況下使用。為了增加反應性,此具有無至完全氫化之二烯烴,可經由順丁烯二酸酐的接枝,之後與羥基丙烯酸酯進行開環反應而丙烯酸酯化。此類材料可為得自Cray Valley之商品名RICACRYL™,及得自Kuraray Chemical之商品UC Resins。以主鏈結構為基礎,例如有機矽、聚酯和胺基甲酸酯,例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、順丁烯二醯亞胺或乙烯基封端的樹脂,之官能性寡聚或聚合樹脂,亦可使用。
輻射可固化的硫醇-烯組成物包含多硫醇、烯烴或“烯”化合物,和本文揭示之經醯亞胺連接的聚合光起始劑。該硫烯系統中的聚烯成分可為包含反應性、不飽和基團的任一成分,最佳連接到富含電子之原子或基團上。因此,較佳的聚烯為聚官能性乙烯基醚;其他合適的基團包括但不限於烯丙基醚、乙烯基硫化物、苯乙烯、丙烯醯胺和乙炔。另一類合適的化合物為衍生自多元醇和雙環烯之酯化之材料,例如降莰烯羧酸酯(環戊二烯和丙烯酸酯的反應產物),儘管它們的酯官能性可能會損害水解穩定性。對於巰基(硫醇)成分,可使用含有6至40個碳原子的一級硫醇,例如1,10-癸烷二硫醇,或任何含有1至10個硫醇基團的直鏈、環狀或分支烴硫醇。較佳為一級硫醇,因為它們反應性最強,其次為二級硫醇,最後為反應性最低的三級硫醇。可使用之聚硫醇範例包括但不限於乙二醇雙(巰基乙酸酯)、乙二醇雙(β-巰基丙酸酯)、三羥甲基丙烷三(巰基乙酸酯)、三羥甲基丙烷三(β-巰基丙酸酯)、新戊四醇四(巰基乙酸酯)、新戊四醇四(β-巰基丙酸酯),所有這些都為可商購的。通常,本領域技術人員可應用各種方法來合成適合特定應用領域的聚硫醇。其中一類特別適用的聚硫醇衍生自各種多元醇與巰基酸(例如3-巰基丙酸)的酯化反應。
本文揭示之經醯亞胺連接的聚合光起始劑之用量通常為聚合發色基團部分之約0.05重量%至約15重量%,以配製的組成物重量為基準,較佳用量範圍為約0.1重量%至約12重量%,更佳約0.5重量%至約10重量%。濃度可經選擇,基於未固化的輻射可固化組成物的施加厚度、所需的固化速度和使用的燈類型。二或更多種光起始劑的組合也可用於達成該配製組成物之可能最佳固化。光起始劑較佳以在製程之生產線速度(line speed)下引發固化,和希望最終用途所需強度所需的最低量使用。此量將取決於該聚合物組成物以及輻射光源、接收的輻射量、生產線速度和基材上塗層的厚度。在沒有氧氣的情況下,例如在有氮氣的情況下,固化過程通常更有效率,因此在有氧氣的情況下通常需要更大量的光起始劑。
包含本文揭示之經醯亞胺連接的聚合光起始劑之黏合劑和塗料,將與技術人員已知和使用的常規添加物一起配製。該聚合物組成物亦可包含基於該聚合物的預期最終用途而選擇的各種其他添加物。例如,如果最終用途為壓力敏感黏合劑,則可加入添加物如塑化劑、增黏劑和填料,這些添加物通常用於製備塗料、黏合劑、密封劑、油墨、熱熔膠和壓力敏感黏合劑。這些添加物的選擇和用量在本領域技術人員的專業知識範圍內。
通常將抗氧化劑添加到本文揭示的組成物中,以保護成分在組成物的製備和使用期間免於降解,但不會干擾聚合物的輻射固化。由於各種聚合物所進行的降解機制不同,因此使用抗氧化劑組合通常更有效。市售抗氧化劑的範例包括氫醌 (HQ)、甲氧基氫醌 (MEHQ)、丁基化羥基甲苯 (BHT)、維生素 E、啡噻𠯤、IRGANOX™ 3052、IRGANOX™ 1010 (季戊四醇-四[3-(3,5-二-第三-丁基-4-羥基苯基)丙酸酯-);IONOL™(2,6-二-第三-丁基-4-甲基酚);IONOX™ 330(3,4,6-三(3,5-二-第三-丁基-對羥基芐基)-1,3,5-三甲苯-);以及POLYGARD™ HR(三-(2,4-二-第三-丁基-苯基)亞磷酸鹽)。為了確保長期熱穩定性,黏合劑組成物中通常包括約0.1重量%至約3重量%、較佳約0.4重量%至約1.5重量%之一或多種抗氧化劑。
除了上述額外材料之外,本文揭示的各種組成物可包括本領域技術人員已知的其他添加物。這些添加物可包括但不限於顏料、填料、螢光添加物、流動和整平添加物、潤濕劑、界面活性劑、消泡劑、流變修飾劑、穩定劑、光敏劑和抗氧化劑。較佳的添加物為在有興趣波長中沒有明顯吸收者。
顏料和填料材料的範例包括但不限於二氧化鈦、炭黑、奈米碳管、石墨烯、氮化硼、氧化鋁、疏水性非晶形鍛燒二氧化矽、非晶形沉澱二氧化矽和聚合物粉末。流動和整平添加物、潤濕劑和消泡劑的範例包括聚矽氧、烴類、含氟化合物和非聚矽氧聚合物和共聚物,例如共聚丙烯酸酯。
本文揭示的組成物係藉由常規方法製備。對於液體配方,這通常只需要所有液體和固體成分的低切力混合。對於熔融加工的材料,可以使用本領域技術人員熟悉的加工條件。例如,嵌段共聚物、增黏樹脂和其他希望的成分可使用擠出機、Z-葉片混合器或其他常規混合裝置,在高溫(例如約300 °F的溫度)下混合。第II型起始劑的熱穩定性優於第I 型裂解系統,因此第II 型起始劑較佳用於熱熔加工和應用。
本文揭示的聚合物組成物可用於將黏合劑或塗料組成物施加至背襯或基材上的大多數應用中。該基材可為最終產品或裝置、薄膜、膠帶、薄片、面板,及類似形式,且可由材料如玻璃、紙、織物、塑膠、非織造纖維(例如可拋棄式吸收面料)、金屬、箔、天然橡膠、合成橡膠、木材和木材複合材料製備。
可使用任何常規方式施加本文揭示的組成物至基材上,例如基於輥塗、注射器或卡匣分散、狹縫孔口塗覆、噴灑或擠出塗覆來達成。如果經塗覆之基材將以滾軸形式使用,則基材的背面可塗有防黏膠(release back size),以防止組成物附著至基材之該側。如果要在基材的兩面塗佈並捲起,可以在組成物的一層上放置隔離紙(release paper)或其他保護裝置,以防止該層附著至基材另一側的組成物上。在一些用途中,可以將第二基材直接施加到該組成物上。
在將該聚合物組成物施加到基材上之後,在空氣或氮氣環境下藉由紫外線(UV)或電子束(EB)照射使其進行交聯。該交聯可在施加聚合物時立即、在施加期間或之後完成。將含有光起始劑的組成物暴露於波長範圍為180至450 nm,較佳200至390 nm的紫外線輻射、持續足夠的時間以完成希望的交聯量。確切的曝光時間將取決於輻射的性質和強度、特定的紫外線光起始劑和用量、該聚合物系統、薄膜的厚度、環境因素以及輻射光源和黏合薄膜之間的距離。這些參數的決定在本領域技術人員的專業知識範圍內。實際使用的輻射可為來自任何光源的光化光,條件為能提供有效量的紫外線輻射,因為可被光化光激活的本發明組成物通常展現出它們對紫外線範圍內的波長具最大敏感性。輻射可在任何溫度下進行,就經濟因素考量,最適合在室溫下進行。輻射光源與塗覆基材上的黏合劑之間的距離範圍可為約0.32 cm至25.4 cm (1/8至10英吋),較佳為0.32 cm至17.8 cm (1/8至7英吋)。常見的光源包括中壓汞燈、氙氣閃光燈和發光二極管。亦可使用電子束能源來固化材料。 本發明之態樣態樣1.  一種經醯亞胺連接的光起始劑,選自於由結構(I)和(II)組成之群組:
Figure 02_image001
(I) 以及
Figure 02_image003
(II), 其中 Q 1和Q 2每一者均為小分子或聚合物,其中Q 1和Q 2可相同或不同; Ar選自於由以下組成的群組
Figure 02_image006
Figure 02_image008
Figure 02_image010
Figure 02_image012
Figure 02_image014
Figure 02_image016
,以及
Figure 02_image018
; R為一直鏈或分支烷基、環烷基、伸烷基氧基、烯基或芳基、含一雜原子或羰基的烷基; R 1獨立地為一直鏈或分支烷基、環烷基、伸烷基氧基、烯基、芳基、含一雜原子或羰基的烷基、H、OR、NR 2、SR、F、Cl、Br或I; Y 1為一直鏈或分支(C 1至C 8)伸烷基或一鍵結; L f為一官能基鍵聯,選自於由醚、酯、醯胺、胺基甲酸酯和碳酸酯組成之群組; m = 0或1;n = 0 或1;p = 0或1;以及x = 1至100。 態樣2.  如態樣1所述之經醯亞胺連接的光起始劑,其中Q 1和Q 2每一者皆衍生自順丁烯二酸化聚(丁二烯)、順丁烯二酸化聚(異戊二烯)、順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-丁二烯-b-苯乙烯),或順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-異戊二烯-苯乙烯)、順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-乙烯/丁烯)- b-苯乙烯)、順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-乙烯/丙烯-b-苯乙烯)、苯乙烯-共-順丁烯二酸酐、順丁烯二酸酐-共-乙基乙烯基醚、順丁烯二酸酐-共-甲基乙烯基醚、順丁烯二酸酐-共 -癸烯或酸酐官能性丙烯酸聚合物。 態樣3.  如態樣1或2所述之經醯亞胺連接的光起始劑,其中Q 1和Q 2為相同。 態樣4.  如態樣1所述之經醯亞胺連接的光起始劑,其中Q 1和Q 2為順丁烯二酸化聚(丁二烯)。 態樣5.  如態樣1至4所述之經醯亞胺連接的光起始劑,其中p為1。 態樣6.  如態樣1至5所述之經醯亞胺連接的光起始劑,其中m為1。 態樣7.  如態樣1至5所述之經醯亞胺連接的光起始劑,其中m為0。 態樣8.  如態樣1所述之經醯亞胺連接的光起始劑,其中Q 1和Q 2每一者皆衍生自苯乙烯-丁二烯-苯乙烯(SBS);苯乙烯-異戊二烯-苯乙烯(SIS);聚(丁二烯); 隨機苯乙烯-丁二烯-苯乙烯橡膠(SBR);含有側鏈或主鏈不飽和度的丙烯酸酯聚合物;順丁烯二酸化聚(丁二烯)、順丁烯二酸化聚(異戊二烯)、順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-丁二烯-b-苯乙烯),或順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-異戊二烯-苯乙烯)、順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-乙烯/丁烯)- b-苯乙烯)、順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-乙烯/丙烯-b-苯乙烯)、苯乙烯-共-順丁烯二酸酐、順丁烯二酸酐-共-乙基乙烯基醚、順丁烯二酸酐-共-甲基乙烯基醚、順丁烯二酸酐-共 -癸烯或酸酐官能性丙烯酸聚合物。 態樣9.  如態樣1、3、5所述之經醯亞胺連接的光起始劑,其中m為0;Y為伸乙基;Q衍生自順丁烯二酸化聚(丁二烯)、順丁烯二酸化聚(異戊二烯)、順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-乙烯/丁烯-b-苯乙烯)和順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-乙烯/丙烯-b-苯乙烯) ; 以及Ar為
Figure 02_image055
。 態樣10. 如態樣1-5或7-9所述之經醯亞胺連接的光起始劑,其中m為0;以及R 1為H。 態樣11.  如態樣1所述之經醯亞胺連接的光起始劑,其選自於由以下組成之群組:
Figure 02_image057
以及
Figure 02_image059
。 態樣12.  如態樣1-8或10所述之經醯亞胺連接的光起始劑,其中Ar為二苯基酮衍生物。 態樣13.  一種光可固化組成物,包含如態樣1-12任一項所述之經醯亞胺連接的光起始劑。 態樣14. 如態樣1-12任一項所述之經醯亞胺連接的光起始劑,其中p為0且該聚合性經醯亞胺連接的光起始劑包含以下結構(III)的重複單元:
Figure 02_image022
。 態樣15.  如態樣13所述之組成物,其中p為0且該聚合性經醯亞胺連接的光起始劑包含以下結構(III)的重複單元:
Figure 02_image022
將參考以下範例更詳細地說明本文揭示的組成物和方法,但應理解,不應認為僅限於此。 範例 範例 1. 經醯亞胺 連接的二苯基酮官能性聚合光起始劑 1 之合成
用於合成的設備為具有襯套和插至中心連接處的攪拌軸/葉片的 500 ml圓底燒瓶、具有插至一側連接處的冷凝器、插至第二側連接處的熱電偶,以及插至第三側連接處的氮氣噴射器之 20 ml Dean-Stark分離器。攪拌軸與攪拌馬達相連。將加熱套置於燒瓶下方並以溫度控制器控制。於燒瓶中加入59.3 g之Ricon 131MA17 (聚丁二烯順丁烯二酸酯)、16.525 g之4-胺基二苯基酮、75.91 g之對-二甲苯和16.96 g之三乙基胺。Dean-Stark分離器中注滿對-二甲苯,反應攪拌並加熱至緩慢回流速率(約128°C)。反應保持回流8小時,此時在Dean-Stark分離器中會收集到水。將反應冷卻至 120°C,並以100 ml 接收瓶代替 Dean-Stark 分離器。在120℃和<50 mmHg的壓力下,將三甲基胺和對-二甲苯由反應產物中真空蒸餾除去。產率為74.0 g,為棕色半橡膠固體。殘留的4-胺基二苯基酮為 0.14%,此對應於 99.4% 的轉化率,以及有21.4重%之胺基二苯基酮醯亞胺整合至聚合物PI中。紫外線吸收最大值在 258 nm。60°C 時的黏度為 241,000 cP。分子量為9875 Mn,以聚苯乙烯標準品為準。 範例 2.  SMA 系之經醯亞胺連接的聚合光起始劑
用於合成的設備為具有襯套和插至中心連接處的攪拌軸/葉片之 500 ml 圓底燒瓶、具有插至一側連接處的冷凝器、插至第二側連接處的熱電偶,以及插至第三側連接處的氮氣噴射器之 20 ml Dean-Stark 分離器。攪拌軸與攪拌馬達相連。將加熱套置於燒瓶下方並以溫度控制器控制。於燒瓶中加入30.00克PolyScope XIRAN 1000P (苯乙烯順丁烯二酸酐共聚物)、17.84克4-胺基二苯基酮和130克乙酸丁酯。The Dean-Stark分離器中注滿乙酸丁酯,反應攪拌並加熱至緩慢回流(約127°C)。將反應保持回流80分鐘,之後冷卻至80℃,之後將18.31克三甲基胺加入反應器中。將反應加熱至緩慢回流8小時。反應變成亮橙色,存在一些固體。將其冷卻,之後倒入托盤中並在真空烘箱中、於125°C/40 mmHg下乾燥,得到43.5克橙色固體。殘留的 4-胺基二苯基酮為2.86%,此對應於 92.4% 的轉化率,以及有34.5 重%之胺基二苯基酮醯亞胺整合至該聚合物PI中。紫外線吸收最大值在 250 nm。分子量為1997 Mn,以聚苯乙烯標準品為準。 範例 3. 噻噸酮 官能性 pBD 聚合光起始劑 2 之合成 ( 前階段 )
將乙醇胺(2.7 g,44 mmol)溶解在置於配備有機械攪拌器、加料漏斗和內部溫度探針的100 mL圓底燒瓶中之甲苯(20mL)中。將溶液於冰浴上攪拌冷卻至0°C。於加料漏斗中加入Ricon 131MA17  (28.0g,約44 mmol酸酐)之甲苯溶液(50 mL)。在攪拌下將順丁烯二酸化橡膠之甲苯溶液緩慢加入反應燒瓶中,保持內部溫度低於5°C。 一旦緩慢添加完成,將反應在冰上攪拌2小時,之後使其升溫至室溫,以產生產物,其具有與形成醯胺酸加成物一致的FT-IR譜帶。
燒瓶與Dean-Stark分離器和回流冷凝器連結,並可加入過量的三乙基胺(88 mmol)至該反應器中。使反應回流並保持回流7小時。由醯胺酸閉環為醯亞胺而產生的水,被收集在Dean-Stark分離器中。將水從分離器中移出,約30 mL 甲苯與殘餘的三甲基胺(其為甲苯共沸物)由反應器中蒸餾移出。
將羧基甲基噻噸酮(CMTX, 7.2 g, 44 mmol)與甲苯(50 mL)一起加入到反應器中。濃硫酸(2 mL)作為酸催化劑加入到反應中。之後使反應回流並在Dean-Stark分離器中收集水,歷時5小時,此時CMTX在其醇官能性主鏈上進行酯化反應。使反應冷卻至室溫。產物的甲苯溶液以10% KOH aq溶液(100 mL)洗滌,之後以蒸餾水(2x100 mL)洗滌兩次。分離出的有機層以MgSO 4除水、真空除去溶劑,以製備噻噸酮系之經醯亞胺連接的聚合光起始劑 2範例 4. 使用聚合光起始劑 1 之光差式掃描熱分析研究
使用光差式掃描熱分析(photoDSC) 評估顯影中的聚合光起始劑 (1) 的光反應性和固化動力學,並與常用基準如二苯基 (2,4,6-三甲基苯甲醯基) 氧化膦 (TPO,第I型光起始劑)和樟腦醌/2-乙基己基-4-(二甲基胺基)苯甲酸酯(CQ/EHAB,第II型光起始劑)進行比較。將每一光起始劑溶解在SR355(雙三羥甲基丙烷四丙烯酸酯)中,以獲得約3 重量%的活性發色基團於該配方中。聚合物鍵結之光起始劑在SR355中顯示出良好的溶解性,並經由在樣本滾輪上溶解整夜而溶解。
對於每一配方,將質量在5-10 mg範圍內的樣本,置於配備有 photoDSC轉接器和Exfo點固化單元(該單元外罩有中壓汞燈泡)之TA Instruments DSC 80 中。在平底鋁製 DSC盤中分析樣本。燈光輸出係經由連接到 photoDSC 樣本槽的液體二氧化矽光導過濾。樣本表面的UVA (310-390 nm)強度約為 50 mW/cm 2等級,藉由使用EIT Power Puck II 輻射計進行測量。樣本總共被照射約3分鐘。光反應性係藉由計算從聚合反應開始(燈打開)到放熱速率尖峰的時間來量化。每一系統的固化程度係藉由對完整放熱曲線下的面積進行積分(從接近聚合反應開始到完全聚合(定義為零聚合焓))而測得。值得注意的是,在這些情況下,此為近似的放熱值,因為初始積分時間點的確切位置對於計算出的放熱面積有重大影響。如圖1至3所示,其目標為藉由積分近似計算曲線下面積,使用從積分之右方時間側上挑選作為零放熱(完成聚合反應)之點而導出的平坦基線。鑑於這些系統的初始放熱曲線的快速動力學和陡峭斜率,根據定義,這種積分方法近似於光聚合反應之早期階段釋放的熱量。亦注意到,理論上預計的放熱值會由實驗3到實驗2到實驗1而略微升高,由於配方中SR355的含量增加以及因此每克丙烯酸酯的莫耳數增加所致。
photoDSC 表現度數據顯示,本發明的聚合光起始劑 (1) 展現出與業界領先的光起始劑如第I型 TPO 和 CQ/EHAB第II型系統相似的反應性,此由起始至尖峰時間 (t o-p) 決定。請參考表 1,三種系統的近似聚合焓 (ΔH p) 皆相似,說明每種系統都可引發大量的光聚合轉化。亦值得注意的是,儘管聚合光起始劑(1)為第II型起始系統,但本發明的材料不需要加入氫供體(例如胺協同劑EHAB)來有效發揮作用。 表 1. 配方和 PhotoDSC 結果
Expt # 起始劑份重 * SR355 份重 EHAB 協同劑份重 聚合起始 至尖峰 時間 (t o-p, 分鐘 ) 光聚合 反應 的近似焓 (ΔHp, J/g)
1 3份 TPO 97 -- 0.02 403
2 3份 CQ 95 2 0.02 383
3 8份聚合性PI (1) 92 -- 0.03 307
* 在所有情況下皆達到 3 wt.% 之活性發色基團 範例 5. 經醯亞胺 連接的二苯基酮官能性聚合光起始劑之合成
用於合成的設備為具有襯套和插至中心連接處的攪拌軸/葉片之250 ml 圓底燒瓶、具有插至一側連接處的冷凝器以及插至另一側連接處的熱電偶和氮氣噴射器之 20 ml Dean-Stark 分離器。攪拌軸與高架攪拌馬達相連。將加熱套置於燒瓶下方並以溫度控制器控制。於燒瓶中加入 25.9克之Ricon 131MA17、7.1克之4-胺基二苯基酮和 112.5克之甲苯。在室溫下加入4.5克 Jeffamine M-2005,歷時5分鐘。在加入所有Jeffamine之後,於燒瓶中加入 9.1克之三乙基胺。Dean-Stark分離器中注滿甲苯,反應攪拌並加熱至緩慢回流速率(約110°C)。將反應保持回流 4.5 小時,並以FT-IR 追蹤1780 cm -1處的酸酐C=O轉化為1716 cm -1處的醯亞胺C=O。一旦所有酸酐完全轉化便將反應冷卻。使用旋轉蒸發儀除去剩餘的溶劑和三乙基胺。 範例6. 經醯亞胺 連接的噻噸酮官能性聚合光起始劑之合成 步驟 1. 噻噸酮官能性醯氯之合成
用於合成的設備為250 ml琥珀色三頸圓底燒瓶,裝配有磁性攪拌子、熱電偶和溫度控制器,其具有插至一側連接處的氮氣噴射器、插入中心連接處的冷凝器,以及插入另一側連接處的Suba-密封膠墊。磁性攪拌子使用磁性攪拌台控制。將加熱套置在燒瓶下方,並使用溫度控制器進行控制。對於 25% 固體的反應而言,將Speedcure CMTX (15.015 g, 52.5 mmol)和無水的四氫呋喃(75 克)加入到燒瓶中。使用氣密注射器穿過膠墊將草醯氯(9.985 g,79.3 mmol)滴加到燒瓶中。加入所有草醯氯後,加入 1-2 滴二甲基甲醯胺至燒瓶中。一旦冒泡停止。將該材料加熱至40℃。使用FT-IR追蹤反應。隨著反應的進行,C=O 譜帶從粗材料(約1736 cm -1)移動至希望之醯氯(約1791cm -1)。在 1736 cm -1處的 C=O 帶消失後,將反應冷卻。使用旋轉蒸發器除去剩餘的溶劑,產物在乾燥氮氣下儲存至後續使用之前。 步驟 2. 噻噸酮官能性醯胺之合成
用於合成的設備為250 ml琥珀色三頸圓底燒瓶,裝配有磁性攪拌子、熱電偶和溫度控制器,其具有插至一側連接處的氮氣噴射器、插入中心連接處的冷凝器,以及插入另一側連接處的Suba-密封膠墊。磁性攪拌子使用磁性攪拌台控制。於反應燒瓶中加入來自步驟1的噻噸酮官能性醯氯(9.361 g,30.8 mmol)並加入無水的四氫呋喃(37.5 g)。之後將3.139克之Dytek EP二胺(3.139 g, 30.8 mmol)滴加到該反應燒瓶中。反應使用FT-IR追蹤,藉由觀察在約1791 cm -1處的醯氯C=O峰移動至約1776 cm -1處的所得醯胺C=O峰的位移。 一旦所有的醯氯消耗完便停止反應,並進行旋轉蒸發,以產生具有預期FT-IR特性的產物。 步驟 3. 疏水性經醯亞胺連接之噻噸酮官能性聚合光起始劑之合成
用於合成的設備為250 ml琥珀色三頸圓底燒瓶,裝配有磁性攪拌子、熱電偶和溫度控制器,其具有插至一側連接處的氮氣噴射器、插入中心連接處的冷凝器,以及插入另一側連接處的Suba-密封膠墊。磁性攪拌子使用磁性攪拌台控制。將加熱套置於燒瓶下方,並使用溫度控制器進行控制。將步驟2的噻噸酮官能性醯胺(2.069 g, 5.6 mmol)和甲苯(20 g)加入燒瓶中。在單獨的燒杯中,將 Ricon131MA17 (2.931 g,約 5 mmol 酸酐) 和甲苯 (25 g) 合併。稍微加熱 Ricon131MA17,使材料與甲苯形成溶液。溶入溶液後,Ricon131MA17冷卻至室溫。將所得的Ricon131MA17溶液滴加到胺溶液的燒瓶中。在加入所有 Ricon131MA17溶液後,加入三乙基胺(2.57 g) 並將燒瓶加熱至回流(約110°C)。反應使用 FT-IR追蹤,藉由觀察噻噸酮在約1776 cm -1處之醯胺峰移動至約1700 cm -1處之所得的醯亞胺峰,其在1750 cm -1處帶有一個小的次級峰。一旦所有噻噸酮之醯胺峰消失且噻噸酮之醯亞胺峰沒有變化,便冷卻反應。旋轉蒸發剩餘的溶劑。
在不脫離本發明精神和範疇的情況下,可對本發明進行許多修改和變化,這對於本領域技術人員而言為顯而易見的。本文描述的特定實施例僅作為範例提供,且本發明僅受後附的申請專利範圍以及這些申請專利範圍的等效物之全部範圍限制。
(無)
圖1為說明市售第I型TPO組成物的photoDSC表現度之DSC圖;
圖2為說明市售CQ/EHAB第II型組成物的photoDSC表現度之DSC圖; 以及
圖3為說明本發明揭示之組成物的photoDSC表現度之DSC圖。
Figure 110125547-A0101-11-0002-1

Claims (21)

  1. 一種經醯亞胺連接的光起始劑,選自於由結構(I)和(II)組成之群組:
    Figure 03_image001
    (I) 與
    Figure 03_image003
    (II), 其中 Q 1和Q 2每一者均為小分子或聚合物,其中Q 1和Q 2可相同或不同; Ar選自於由以下組成的群組:
    Figure 03_image006
    Figure 03_image008
    Figure 03_image010
    Figure 03_image012
    Figure 03_image014
    Figure 03_image016
    ,以及
    Figure 03_image018
    ; R為一直鏈或分支烷基、環烷基、伸烷基氧基、烯基或芳基、含一雜原子或羰基的烷基; R 1獨立地為一直鏈或分支烷基、環烷基、伸烷基氧基、烯基、芳基、含一雜原子或羰基的烷基、H、OR、NR 2、SR、F、Cl、Br或I; Y 1為一直鏈或分支(C 1至C 8)伸烷基或一鍵結; L f為一官能基鍵聯,選自於由醚、酯、醯胺、胺基甲酸酯和碳酸酯組成之群組; m = 0或1;n = 0 或1;p = 0或1;以及x = 1至100。
  2. 如請求項1之經醯亞胺連接的光起始劑,其中每一R獨立地選自於直鏈或分支伸烷基、伸環烷基、伸烷基氧基、伸烯基、伸芳基和含有一雜原子或羰基的伸烷基。
  3. 如請求項1之經醯亞胺連接的光起始劑,其中Q 1和Q 2包含衍生自一或多種乙烯性不飽和單體之聚合作用之單元,特別地,該一或多種乙烯性不飽和單體選自於烯烴、二烯、(甲基)丙烯酸單體、乙烯基醚、苯乙烯單體及其混合物。
  4. 如請求項1之經醯亞胺連接的光起始劑,其中Q 1和Q 2獨立地衍生自苯乙烯-丁二烯-苯乙烯(SBS);苯乙烯-異戊二烯-苯乙烯(SIS);聚(丁二烯); 隨機苯乙烯-丁二烯-苯乙烯橡膠(SBR);含有側鏈或主鏈不飽和度的丙烯酸酯聚合物;順丁烯二酸化聚(丁二烯)、順丁烯二酸化聚(異戊二烯)、順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-丁二烯-b-苯乙烯),或順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-異戊二烯-苯乙烯)、順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-乙烯/丁烯)- b-苯乙烯)、順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-乙烯/丙烯-b-苯乙烯)、苯乙烯-共-順丁烯二酸酐、順丁烯二酸酐-共-乙基乙烯基醚、順丁烯二酸酐-共-甲基乙烯基醚、順丁烯二酸酐-共-癸烯或酸酐官能性丙烯酸聚合物。
  5. 如請求項1之經醯亞胺連接的光起始劑,其中Q 1和Q 2更包含一或多個具有以下結構(IV)或(V)的單元:
    Figure 03_image024
    (IV)
    Figure 03_image026
    (V) 其中Y 1和p如請求項1中所定義;以及Z為不包含如上所定義之Ar基團的部分。
  6. 如請求項5之經醯亞胺連接的光起始劑,其中Z為烷基、環烷基或聚醚部分;特別地,Z為聚醚部分;更特別地,Z為聚氧基伸烷基部分;甚至更特別地,Z為包含複數個氧基伸乙基及/或氧基伸丙基重複單元的部分。
  7. 如請求項1之經醯亞胺連接的光起始劑,其中Q 1和Q 2獨立地衍生自順丁烯二酸化聚(丁二烯)、順丁烯二酸化聚(異戊二烯)、順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-丁二烯-b-苯乙烯),或順丁烯二酸化聚(苯乙烯)-b-異戊二烯-苯乙烯)、順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-乙烯/丁烯-b-苯乙烯)、順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-乙烯/丁烯-b-苯乙烯)、苯乙烯-共-順丁烯二酸酐、順丁烯二酸酐-共-乙基乙烯基醚、順丁烯二酸酐-共-甲基乙烯基醚、順丁烯二酸酐-共-癸烯或酸酐官能性丙烯酸聚合物。
  8. 如請求項1之經醯亞胺連接的光起始劑,其中Q 1和Q 2相同。
  9. 如請求項1之經醯亞胺連接的光起始劑,其中Q 1和Q 2為順丁烯二酸化聚(丁二烯)。
  10. 如請求項1之經醯亞胺連接的光起始劑,其中Ar為二苯基酮衍生物。
  11. 如請求項1之經醯亞胺連接的光起始劑,其Ar為噻噸酮(thioxanthone)衍生物。
  12. 如請求項1之經醯亞胺連接的光起始劑,其中p為1。
  13. 如請求項1之經醯亞胺連接的光起始劑,其中p為0且該聚合性經醯亞胺連接的光起始劑包含以下結構(III)的重複單元:
    Figure 03_image022
    (III)。
  14. 如請求項1之經醯亞胺連接的光起始劑,其中m為1。
  15. 如請求項1之經醯亞胺連接的光起始劑,其中m為0。
  16. 如請求項1之經醯亞胺連接的光起始劑,其中m為0;Y為伸乙基;Q 1和Q 2衍生自順丁烯二酸化聚(丁二烯)、順丁烯二酸化聚(異戊二烯)、順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-乙烯/丁烯-b-苯乙烯)和順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-乙烯/丙烯-b-苯乙烯);以及Ar為
    Figure 03_image055
  17. 如請求項16之經醯亞胺連接的光起始劑,其中R 1為H。
  18. 如請求項1之經醯亞胺連接的光起始劑,其中m和n為1;Y為伸乙基;Q 1和Q 2衍生自順丁烯二酸化聚(丁二烯)、順丁烯二酸化聚(異戊二烯)、順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-乙烯/丁烯-b-苯乙烯)和順丁烯二酸化聚(苯乙烯-b-乙烯/丙烯-b-苯乙烯);以及Ar為
    Figure 03_image010
  19. 如請求項18之經醯亞胺連接的光起始劑,其中R 1為H。
  20. 如請求項1之經醯亞胺連接的光起始劑,其對應於包含以任何順序排列之以下重複單元的結構
    Figure 03_image028
    Figure 03_image030
    Figure 03_image032
    Figure 03_image034
    Figure 03_image036
    Figure 03_image038
    其中w、x、y、y’、y’’和z為1至100之整數; Z如請求項5或6中所定義。
  21. 一種光可固化組成物,包含如請求項1之經醯亞胺連接的光起始劑。
TW110125547A 2020-07-10 2021-07-12 經醯亞胺連接的聚合光起始劑 TWI794876B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US202063050487P 2020-07-10 2020-07-10
US63/050,487 2020-07-10

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202216665A true TW202216665A (zh) 2022-05-01
TWI794876B TWI794876B (zh) 2023-03-01

Family

ID=77838878

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW110125547A TWI794876B (zh) 2020-07-10 2021-07-12 經醯亞胺連接的聚合光起始劑

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20230265231A1 (zh)
EP (1) EP4178947A1 (zh)
JP (1) JP2023533302A (zh)
KR (1) KR20230037607A (zh)
CN (1) CN115884960A (zh)
TW (1) TWI794876B (zh)
WO (1) WO2022008975A1 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024038845A1 (ja) * 2022-08-16 2024-02-22 株式会社レゾナック 樹脂組成物

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3429852A (en) 1967-03-30 1969-02-25 Nat Starch Chem Corp Ethylenically unsaturated derivatives of benzophenone and crosslinkable polymers thereof
US7157535B2 (en) 2002-06-19 2007-01-02 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Polymeric photoinitiators
US11034779B2 (en) * 2017-08-17 2021-06-15 Coloplast A/S Amide and imide photoinitiators

Also Published As

Publication number Publication date
WO2022008975A1 (en) 2022-01-13
EP4178947A1 (en) 2023-05-17
KR20230037607A (ko) 2023-03-16
TWI794876B (zh) 2023-03-01
JP2023533302A (ja) 2023-08-02
CN115884960A (zh) 2023-03-31
US20230265231A1 (en) 2023-08-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5882938B2 (ja) 重合体光開始剤
JPH06506014A (ja) 放射線硬化性ビニル/シリコーン剥離コーティング
JP4846176B2 (ja) 反応性押し出しによるアクリルホットメルトの加工
TWI794876B (zh) 經醯亞胺連接的聚合光起始劑
JP2000290610A (ja) 長鎖アルキル系剥離剤とその製造方法ならびにセパレ―タおよび背面剥離処理された粘着シ―ト類
JPH04227909A (ja) 合成樹脂
JPH02218712A (ja) 陽イオン重合性スチリルオキシ樹脂類とその重合性組成物および、その樹脂の硬化法
JP4253977B2 (ja) 活性エネルギー線硬化型組成物
EP3421477B1 (en) Organopolysiloxane and production method therefor, and curable composition
JPH08259623A (ja) 反応性樹脂の製造方法
JPS62295979A (ja) ホツトメルト型接着剤組成物
EP1093481B1 (en) Radiation-curable polymer and a composition comprising this polymer
JP4320952B2 (ja) 硬化型組成物
JPS6050368B2 (ja) 光硬化性ヒドロゾル
JP2001187806A (ja) 活性エネルギー線硬化型組成物
EP1116734A1 (en) Radiation-curable composition
JP2008069306A (ja) (メタ)アクリレート変性エポキシ樹脂の製造方法