TW202208899A - 偏光板、附相位差層之偏光板、以及包含該偏光板或該附相位差層之偏光板的影像顯示裝置 - Google Patents

偏光板、附相位差層之偏光板、以及包含該偏光板或該附相位差層之偏光板的影像顯示裝置 Download PDF

Info

Publication number
TW202208899A
TW202208899A TW110127551A TW110127551A TW202208899A TW 202208899 A TW202208899 A TW 202208899A TW 110127551 A TW110127551 A TW 110127551A TW 110127551 A TW110127551 A TW 110127551A TW 202208899 A TW202208899 A TW 202208899A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
polarizer
polarizing plate
resin
pva
resin film
Prior art date
Application number
TW110127551A
Other languages
English (en)
Inventor
高永幸佑
上条卓史
近野洋
Original Assignee
日商日東電工股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商日東電工股份有限公司 filed Critical 日商日東電工股份有限公司
Publication of TW202208899A publication Critical patent/TW202208899A/zh

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/13363—Birefringent elements, e.g. for optical compensation
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/02—Details
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H05B33/14—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of the electroluminescent material, or by the simultaneous addition of the electroluminescent material in or onto the light source
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/8791—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

本發明提供一種雖為極薄型卻已抑制住在異形加工部發生裂痕之偏光板。本發明偏光板具有偏光件與配置於偏光件之至少一側的保護層，且具有矩形以外之異形。保護層係以具有10µm以下之厚度的樹脂膜構成。偏光件係以含二色性物質之PVA系樹脂薄膜構成。在一實施形態中，偏光件於令單體透射率為x%、且令PVA系樹脂之雙折射為y時，滿足下述式(1)。在另一實施形態中，偏光件於令單體透射率為x%、且令PVA系樹脂薄膜之面內相位差為znm時，滿足下述式(2)。在又另一實施形態中，偏光件於令單體透射率為x%、且令PVA系樹脂薄膜之定向函數為f時，滿足下述式(3)。在又另一實施形態中，偏光件之穿刺強度為30gf/µm以上。 y＜-0.011x+0.525　　　　　(1) z＜-60x+2875　　　　　  　(2) f＜-0.018x+1.11　　　　   　(3)

Description

偏光板、附相位差層之偏光板、以及包含該偏光板或該附相位差層之偏光板的影像顯示裝置
本發明涉及偏光板、附相位差層之偏光板、以及包含該偏光板或該附相位差層之偏光板的影像顯示裝置。
發明背景 近年來，以液晶顯示裝置及電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)為代表之影像顯示裝置急速普及。由於影像顯示裝置之影像形成方式，而於影像顯示裝置之至少一側配置有偏光板。近年來，隨著對影像顯示裝置薄型化之需求提高，對偏光板之薄型化需求亦高漲。然而，近年有時會期望將偏光板加工成矩形以外之形狀(異形加工：例如形成缺口及/或貫通孔)。但卻有於薄型偏光板之異形加工部容易發生裂痕之問題。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2001-343521號公報
發明欲解決之課題 本發明係為了解決上述以往之課題而成者，其主要目的在於提供一種雖為極薄型卻已抑制住在異形加工部發生裂痕之偏光板。
用以解決課題之手段 本發明一實施形態之偏光板具有偏光件與配置於該偏光件之至少一側的保護層，且具有矩形以外之異形。該保護層係以具有10µm以下之厚度的樹脂膜構成。該偏光件係以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成，且於令單體透射率為x%、令該聚乙烯醇系樹脂之雙折射為y時，滿足下述式(1)： y＜-0.011x+0.525　　　　　　　　(1)。 本發明另一實施形態之偏光板具有偏光件與配置於該偏光件之至少一側的保護層，且具有矩形以外之異形。該保護層係以具有10µm以下之厚度的樹脂膜構成。該偏光件係以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成，且於令單體透射率為x%、令該聚乙烯醇系樹脂薄膜之面內相位差為znm時，滿足下述式(2)： z＜-60x+2875　　　　　　　　(2)。 本發明又另一實施形態之偏光板具有偏光件與配置於該偏光件之至少一側的保護層，且具有矩形以外之異形。該保護層係以具有10µm以下之厚度的樹脂膜構成。該偏光件係以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成，且於令單體透射率為x%、令該聚乙烯醇系樹脂之定向函數為f時，滿足下述式(3)： f＜-0.018x+1.11　　　　(3)。 本發明又另一實施形態之偏光板具有偏光件與配置於該偏光件之至少一側的保護層，且具有矩形以外之異形。該保護層係以具有10µm以下之厚度的樹脂膜構成。該偏光件係以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成，且偏光件之穿刺強度為30gf/µm以上。 在一實施形態中，上述偏光件之厚度為10µm以下。 在一實施形態中，上述偏光件之單體透射率為40.0%以上，且偏光度為99.0%以上。 在一實施形態中，上述異形係選自於由下述所構成之群組：貫通孔、V字缺口、U字缺口、俯視時呈近似船形之形狀的凹部、俯視時呈矩形之凹部、俯視時呈近似浴缸形狀之R形狀的凹部及該等之組合。 在一實施形態中，上述U字缺口之曲率半徑為5mm以下。 在一實施形態中，上述樹脂膜包含選自環氧樹脂及(甲基)丙烯酸系樹脂中之至少1種樹脂。 在一實施形態中，上述樹脂膜係以環氧樹脂之光陽離子硬化物構成，且該樹脂膜之軟化溫度為100℃以上。 在一實施形態中，上述樹脂膜係以環氧樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物構成，且該樹脂膜之軟化溫度為100℃以上。 在一實施形態中，上述樹脂膜係以熱塑性(甲基)丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物構成，且該樹脂膜之軟化溫度為100℃以上。在一實施形態中，上述熱塑性(甲基)丙烯酸系樹脂具有選自於由內酯環單元、戊二酸酐單元、戊二醯亞胺單元、馬來酸酐單元及馬來醯亞胺單元所構成群組中之至少1種。 根據本發明另一面向提供一種附相位差層之偏光板。該附相位差層之偏光板包含上述偏光板與相位差層；且該相位差層係配置於上述偏光件之與配置有上述保護層之側相反之側。 在一實施形態中，上述相位差層之Re(550)為100nm~190nm，Re(450)/Re(550)為0.8以上且小於1，且該相位差層的慢軸與上述偏光件的吸收軸形成之角度為40°~50°。 在一實施形態中，上述相位差層係透過黏著劑層積層於上述偏光板上。 根據本發明又另一面向提供一種影像顯示裝置。該影像顯示裝置包含上述偏光板或上述附相位差層之偏光板。
發明效果 根據本發明實施形態，藉由對具有異形(異形加工部)之偏光板控制偏光件之聚乙烯醇(PVA)系樹脂之定向狀態，可實現一種雖為極薄型卻已抑制住在異形加工部發生裂痕之偏光板。又，所述偏光件(以結果而言為偏光板)可發揮實際使用上可容許之光學特性。
以下說明本發明之實施形態，惟本發明不受該等實施形態所限。
A.偏光板 A-1.偏光板之整體構成 圖1係本發明一實施形態之偏光板的概略截面圖。圖式例之偏光板100具有偏光件10與配置於偏光件10之一側的保護層20。亦可因應目的於偏光件10之與保護層20相反之側設置另一保護層(未圖示)。保護層20係以具有10µm以下之厚度的樹脂膜構成。偏光板可作為影像顯示裝置之視辨側偏光板來使用，亦可作為背面側偏光板來使用。偏光板代表上可作為視辨側偏光板使用。此時，保護層20可配置於視辨側(與影像顯示單元相反之側)。
本發明實施形態之偏光板具有矩形以外之異形。本說明書中「具有矩形以外之異形」係指偏光板之俯視形狀具有矩形以外之形狀。異形代表上係經異形加工之異形加工部。因此，「具有矩形以外之異形的偏光板」(以下有時稱為「異形偏光板」)不僅包含異形偏光板整體(即，用來規定偏光板之俯視形狀的外緣)為矩形以外之情況，還包含在自矩形偏光板之外緣往內退離之部分形成有異形加工部之情況。以偏光板來說，在所述異形加工部容易發生裂痕，但根據本發明實施形態，可顯著抑制所述裂痕。更詳細如下述。以一般(亦即非異形)偏光板(實質上為偏光件)來說，裂痕大多情況下係沿著偏光件之吸收軸(延伸方向)發生。另一方面，在異形加工部中可能會發生L字裂痕(相對於吸收軸呈斜向之裂痕)。根據本發明實施形態，如後述，藉由使偏光件之PVA系樹脂之分子鏈往吸收軸方向之定向較以往之偏光件更和緩，不僅可顯著抑制一般之裂痕，還可顯著抑制所述L字裂痕。
異形(異形加工部)例如如圖2及圖3所示，可舉將隅部去角成R形狀者、貫通孔、於俯視時呈凹部之切削加工部。凹部之代表例可舉近似船形之形狀、矩形、近似浴缸形狀之R形狀、V字缺口、U字缺口。異形(異形加工部)之另一例如圖4及圖5所示，可舉與汽車之儀表盤對應之形狀。該形狀係外緣形成沿著儀表針之旋轉方向的圓弧狀，且包含外緣形成往面方向內側凸之V字形狀(包含R形狀)之部位。當然，異形(異形加工部)之形狀不限於圖式例。例如，貫通孔之形狀除圖式例之大致圓形外，還可因應目的採用任意適當之形狀(例如橢圓形、三角形、四角形、五角形、六角形、八角形)。且，貫通孔可因應目的設於任意適當之位置。貫通孔可如圖3所示設於矩形偏光板之長邊方向端部的大致中央部，可設於長邊方向端部之預定位置，亦可設於偏光板之隅部；雖未圖示，但可設於矩形偏光板之短邊方向端部；亦可如圖4或圖5所示，設於異形偏光板之中央部。如圖3所示，亦可設置複數個貫通孔。並且可視目的適當組合圖式例之形狀。例如，可於圖2之異形偏光板之任意位置形成貫通孔；亦可於圖4或圖5之異形偏光板之外緣的任意適當位置形成V字缺口及/或U字缺口。所述異形偏光板可適宜用於汽車儀表盤、智慧型手機、平板型PC或智慧手錶等影像顯示裝置。此外，例如異形包含R形狀時，其曲率半徑例如為0.2mm以上，且例如為1mm以上，又例如為2mm以上。另一方面，曲率半徑例如為10mm以下，且例如為5mm以下。又例如，異形為U字缺口時，其曲率半徑(U字部分之曲率半徑)例如為5mm以下，又例如為1mm~4mm，又例如為2mm~3mm。
異形(異形加工部)可藉由任意適當之方法形成。形成方法之具體例可舉藉由端銑刀進行之切削、利用湯姆遜刀等沖裁刀進行之沖裁、利用雷射光照射進行之切斷。該等方法亦可組合。
A-2.偏光件 偏光件係以含二色性物質之PVA系樹脂薄膜構成。在一實施形態中，偏光件於令單體透射率為x%、且令構成該偏光件之聚乙烯醇系樹脂之雙折射為y時，滿足下述式(1)。在一實施形態中，偏光件於令單體透射率為x%、且令構成該偏光件之聚乙烯醇系樹脂薄膜之面內相位差為znm時，滿足下述式(2)。在一實施形態中，偏光件於令單體透射率為x%、且令構成該偏光件之聚乙烯醇系樹脂薄膜之定向函數為f時，滿足下述式(3)。在一實施形態中，偏光件之穿刺強度為30gf/µm以上。 y＜-0.011x+0.525　　　　　(1) z＜-60x+2875　　　　　　　　　(2) f＜-0.018x+1.11　　　　　　(3)
上述偏光件之PVA系樹脂之雙折射(以下表記為PVA之雙折射或PVA之Δn)、PVA系樹脂薄膜之面內相位差(以下表記為「PVA之面內相位差」)、PVA系樹脂之定向函數(以下表記為「PVA之定向函數」)及偏光件之穿刺強度，皆為與構成偏光件之PVA系樹脂之分子鏈的定向度相關之值。具體而言，PVA之雙折射、面內相位差及定向函數可隨著定向度之上升而變成大的值，穿刺強度則可隨著定向度之上升而降低。本發明實施形態之偏光件(亦即滿足上述式(1)~(3)或穿刺強度之偏光件)，其PVA系樹脂之分子鏈往吸收軸方向之定向較以往之偏光件更和緩，因此吸收軸方向之加熱收縮便被抑制。結果，所述偏光件(以結果而言為偏光板)雖為極薄型，卻可抑制在異形加工部發生裂痕。又，因所述偏光件(以結果而言為偏光板)之可撓性及彎折耐久性亦佳，故宜可應用於彎曲的影像顯示裝置、較佳可應用於可彎折的影像顯示裝置、更佳可應用於可折疊的影像顯示裝置。以往，定向度低之偏光件難以獲得可容許之光學特性(代表上為單體透射率及偏光度)，但本發明實施形態所用之偏光件可兼顧較以往更低之PVA系樹脂之定向度與可容許之光學特性。
偏光件宜滿足下述式(1a)及/或式(2a)，較宜滿足下述式(1b)及/或式(2b)。 -0.004x+0.18＜y＜-0.011x+0.525　　(1a) -0.003x+0.145＜y＜-0.011x+0.520　　(1b) -40x+1800＜z＜-60x+2875　　(2a) -30x+1450＜z＜-60x+2850　　(2b)
本說明書中，上述PVA之面內相位差係PVA系樹脂薄膜在23℃、波長1000nm下之面內相位差值。藉由將近紅外線區域設為測定波長，可排除偏光件中之碘吸收的影響，從而可測定相位差。又，上述PVA之雙折射(面內雙折射)係將PVA之面內相位差除以偏光件之厚度所得之值。
PVA之面內相位差係如下述進行評估。首先，以複數個波長850nm以上之波長測定相位差值，並將測定之相位差值：R(λ)與波長：λ進行繪圖，將其用最小平方法擬合至下述色邁耶爾(Sellmeier)公式。在此，A及B為擬合參數，係利用最小平方法決定之係數。 R(λ)=A+B/(λ2 -6002 ) 此時，該相位差值R(λ)可以下述方式分離成無波長依存性之PVA的面內相位差(Rpva)與波長依存性強之碘的面內相位差值(Ri)。 Rpva=A Ri=B/(λ2 -6002 ) 根據該分離式，可算出PVA在波長λ=1000nm下之面內相位差(亦即Rpva)。此外，關於該PVA之面內相位差之評估方法，亦記載於日本專利第5932760號公報中，可因應需要參照。 又，將該相位差除以厚度，藉此可算出PVA之雙折射(Δn)。
用以測定上述PVA在波長1000nm下之面內相位差的市售裝置，可舉王子計測公司製之KOBRA-WR/IR系列、KOBRA-31X/IR系列等。
偏光件之定向函數(f)宜滿足下述式(3a)，較宜滿足下述式(3b)。定向函數若過小，有無法獲得可容許之單體透射率及/或偏光度之情形。 -0.01x+0.50＜f＜-0.018x+1.11　　　(3a) -0.01x+0.57＜f＜-0.018x+1.1　　　　(3b)
定向函數(f)例如係用傅立葉轉換紅外光譜光度計(FT-IR)並以偏光作為測定光，藉由衰減全反射分光(ATR：attenuated total reflection)測定來求得。具體而言，用以使偏光件密著之微晶係使用鍺，測定光之入射角設為45°入射，且令欲入射之經偏光的紅外線(測定光)為平行於使鍺結晶試樣密著的面而振動之偏光(s偏光)，並在將偏光件之延伸方向相對於測定光之偏光方向作平行及垂直配置之狀態下實施測定，然後使用所得吸光度光譜之2941cm-1 的強度，依下述式算出。在此，強度I係以3330cm-1 為參考波峰，而為2941cm-1 /3330cm-1 之值。另外，f=1時為完全定向，f=0時為無規。又，吾等認為2941cm-1 之波峰為起因於偏光件中之PVA主鏈(-CH2 -)振動的吸收。 f=(3＜cos2 θ＞-1)/2 =(1-D)/[c(2D+1)] =-2×(1-D)/(2D+1) 惟， 當c=(3cos2 β-1)/2且為2941cm-1 之振動時，β=90°。 θ：分子鏈相對於延伸方向之角度 β：躍遷偶極矩相對於分子鏈軸之角度 D=(I⊥ )/(I// )  (此時，PVA分子越定向，D越大) I⊥ ：測定光之偏光方向與偏光件之延伸方向呈垂直時之吸收強度 I// ：測定光之偏光方向與偏光件之延伸方向呈平行時之吸收強度
偏光件之厚度宜為10µm以下，較宜為8µm以下。偏光件之厚度的下限例如可為1µm。偏光件之厚度在一實施形態中亦可為2µm~10µm，在另一實施形態中亦可為2µm~8µm。藉由使偏光件之厚度如所述般非常薄，可使熱收縮變得非常小。推測所述構成亦有助於抑制偏光板在異形加工部發生裂痕。
偏光件宜在波長380nm~780nm之任一波長下顯示吸收二色性。偏光件之單體透射率宜為40.0%以上，較宜為41.0%以上。單體透射率之上限例如可為49.0%。偏光件之單體透射率在一實施形態中為40.0%~45.0%。偏光件之偏光度宜為99.0%以上，較宜為99.4%以上。偏光度之上限例如可為99.999%。偏光件之偏光度在一實施形態中為99.0%~99.9%。本發明實施形態之偏光件之一特徵在於：即便構成該偏光件之PVA系樹脂之定向度較以往更低，且具有如上述之面內相位差、雙折射及/或定向函數，仍可實現所述之實際使用上可容許之單體透射率及偏光度。吾等推測其係因後述之製造方法所致。此外，單體透射率代表上係使用紫外線可見光分光光度計來測定並進行視感度校正所得之Y值。偏光度代表上可基於使用紫外線可見光分光光度計測定並進行視感度校正所得之平行透射率Tp及正交透射率Tc，透過下述式來求得。 偏光度(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1 /2 ×100
偏光件之穿刺強度例如為30gf/µm以上，且宜為35gf/µm以上，較宜為40gf/µm以上，更宜為45gf/µm以上，尤宜為50gf/µm以上。穿刺強度之上限例如可為80gf/µm。藉由將偏光件之穿刺強度設為所述範圍，可顯著抑制在異形加工部發生裂痕及偏光件沿吸收軸方向裂開。結果可獲得撓曲性非常優異之偏光件(以結果而言為偏光板)。穿刺強度係表示以預定強度穿刺偏光件時偏光件的抗破裂耐性。穿刺強度例如可以下述強度來表示：於壓縮試驗機裝設預定之針並將該針以預定速度向偏光件穿刺時偏光件破裂之強度(斷裂強度)。此外，從單位可明顯知道，穿刺強度意指偏光件之每單位厚度(1µm)的穿刺強度。
偏光件如上述係以含二色性物質之PVA系樹脂薄膜構成。宜為構成PVA系樹脂薄膜(實質上為偏光件)之PVA系樹脂包含經乙醯乙醯基改質之PVA系樹脂。若為所述構成，便可獲得具有所期望之穿刺強度的偏光件。當令PVA系樹脂整體為100重量%時，經乙醯乙醯基改質之PVA系樹脂之摻混量宜為5重量%~20重量%，較宜為8重量%~12重量%。摻混量若在所述範圍內，便可將穿刺強度設為更適宜之範圍。
偏光件在代表上可使用兩層以上之積層體來製作。使用積層體獲得之偏光件的具體例，可舉出使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層的積層體而獲得之偏光件。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而得之偏光件，例如可藉由以下步驟來製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材並使其乾燥，於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；及，將該積層體延伸及染色，以將PVA系樹脂層製成偏光件。本實施形態中，宜於樹脂基材之單側形成含鹵化物與聚乙烯醇系樹脂之聚乙烯醇系樹脂層。延伸在代表上包含使積層體浸漬於硼酸水溶液中來延伸。並且，延伸宜更包含下述步驟：在硼酸水溶液中延伸之前，在高溫(例如95℃以上)下將積層體進行空中延伸。本發明實施形態中，延伸之總倍率宜為3.0倍~4.5倍，與一般相較下顯著較小。即便為所述延伸之總倍率，藉由添加鹵化物及乾燥收縮處理之組合，可獲得具有可容許之光學特性之偏光件。並且，本發明實施形態中，空中輔助延伸之延伸倍率宜大於硼酸水中延伸之延伸倍率。藉由製成所述構成，即便延伸之總倍率小，仍可獲得具有可容許之光學特性之偏光件。並且，積層體宜供於一邊沿長邊方向輸送一邊進行加熱藉此使其於寬度方向收縮2%以上之乾燥收縮處理。在一實施形態中，偏光件之製造方法包含對積層體依序施行空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理及乾燥收縮處理。藉由導入輔助延伸，即使是在將PVA系樹脂塗佈於熱塑性樹脂上之情況下仍可提升PVA系樹脂之結晶性，而可達成高光學特性。又，同時事先提高PVA系樹脂之定向性，可防止在之後的染色步驟或延伸步驟中浸漬於水中時，PVA系樹脂之定向性降低或溶解等問題，而可達成高光學特性。並且，將PVA系樹脂層浸漬於液體中時，相較於PVA系樹脂層不含鹵化物之情況，更能抑制聚乙烯醇分子之定向紊亂及定向性之降低。藉此，可提升經由染色處理及水中延伸處理等將積層體浸漬於液體中來進行的處理步驟而得之偏光件的光學特性。並且，透過乾燥收縮處理使積層體於寬度方向收縮，可提升光學特性。所得樹脂基材/偏光件之積層體可直接使用(即，亦可將樹脂基材作為偏光件之保護層)，亦可從樹脂基材/偏光件之積層體剝離樹脂基材並於該剝離面積層因應目的之任意適當的保護層後來使用。關於偏光件之製造方法的詳細內容將於A-3項說明。
A-3.偏光件之製造方法 上述偏光件之製造方法宜包含以下步驟：於長條狀熱塑性樹脂基材之單側形成含鹵化物與聚乙烯醇系樹脂(PVA系樹脂)之聚乙烯醇系樹脂層(PVA系樹脂層)，而製成積層體；及，對積層體依序施行空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理及乾燥收縮處理，該乾燥收縮處理係將積層體一邊沿長邊方向輸送一邊加熱，藉此使其於寬度方向收縮2%以上。PVA系樹脂層中之鹵化物之含量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份。乾燥收縮處理宜使用加熱輥進行處理，且加熱輥之溫度宜為60℃~120℃。積層體在乾燥收縮處理下之寬度方向之收縮率宜為2%以上。並且，空中輔助延伸之延伸倍率宜大於水中延伸之延伸倍率。根據所述製造方法可獲得在上述A-2項所說明之偏光件。尤其是藉由下述方式可獲得具有優異光學特性(代表上為單體透射率及偏光度)之偏光件：製作包含含有鹵化物之PVA系樹脂層的積層體後，將上述積層體之延伸進行包含空中輔助延伸及水中延伸的多階段延伸，再將延伸後之積層體以加熱輥進行加熱使其於寬度方向收縮2%以上。
A-3-1.積層體之製作 製作熱塑性樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體的方法可採用任意適當之方法。宜將含鹵化物與PVA系樹脂之塗佈液塗佈於熱塑性樹脂基材之表面並乾燥，藉此於熱塑性樹脂基材上形成PVA系樹脂層。如上述，PVA系樹脂層中之鹵化物之含量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份。
塗佈液之塗佈方法可採用任意適當的方法。例如可舉出輥塗法、旋塗法、線棒塗佈法、浸塗法、模塗法、簾塗法、噴塗法、刮刀式塗佈法(缺角輪塗佈法等)等。上述塗佈液之塗佈、乾燥溫度宜為50℃以上。
PVA系樹脂層之厚度宜為2µm~30µm，更宜為2µm~20µm。藉由使延伸前之PVA系樹脂層之厚度如所述般非常薄且如後述縮小延伸之總倍率，可獲得即便PVA系樹脂之定向度較以往更低卻具有可容許之單體透射率及偏光度之偏光件。
在形成PVA系樹脂層之前，可對熱塑性樹脂基材施行表面處理(例如電暈處理等)，也可於熱塑性樹脂基材上形成易接著層。藉由進行所述處理，可提升熱塑性樹脂基材與PVA系樹脂層之密著性。
A-3-1-1.熱塑性樹脂基材 熱塑性樹脂基材可採用任意適當的熱塑性樹脂薄膜。關於熱塑性樹脂薄膜基材的詳細內容，例如記載於日本專利特開2012-73580號公報中。本說明書中係援用該公報整體之記載作為參考。
A-3-1-2.塗佈液 塗佈液係如上述包含鹵化物與PVA系樹脂。上述塗佈液代表上係使上述鹵化物及上述PVA系樹脂溶解於溶劑而成之溶液。作為溶劑，可舉例如水、二甲基亞碸、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮、各種甘醇類、三羥甲丙烷等多元醇類、伸乙二胺、二伸乙三胺等胺類。該等可單獨使用或可組合二種以上來使用。該等中又以水為佳。溶液之PVA系樹脂濃度相對於溶劑100重量份宜為3重量份~20重量份。若為所述樹脂濃度，便可形成密著於熱塑性樹脂基材之均勻的塗佈膜。塗佈液中之鹵化物之含量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份。
塗佈液中亦可摻混添加劑。添加劑可舉例如塑化劑、界面活性劑等。塑化劑可舉例如乙二醇或甘油等多元醇。界面活性劑可舉例如非離子界面活性劑。該等可為了更提升所得PVA系樹脂層的均勻性或染色性、延伸性而使用。
上述PVA系樹脂可採用任意適當的樹脂。可舉例如聚乙烯醇及乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇可藉由將聚乙酸乙烯酯皂化而得。乙烯-乙烯醇共聚物可藉由將乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化而得。PVA系樹脂之皂化度通常為85莫耳%~100莫耳%，宜為95.0莫耳%~99.95莫耳%，更宜為99.0莫耳%~99.93莫耳%。皂化度可依循JIS K 6726-1994而求得。藉由使用所述皂化度之PVA系樹脂，可獲得耐久性優異之偏光件。皂化度過高時，會有膠化之虞。如上述，PVA系樹脂宜包含經乙醯乙醯基改質之PVA系樹脂。
PVA系樹脂的平均聚合度可按目的適當選擇。平均聚合度通常為1000~10000，宜為1200~4500，更宜為1500~4300。此外，平均聚合度可依循JIS K 6726-1994而求得。
上述鹵化物可採用任意適當之鹵化物。可舉例如碘化物及氯化鈉。碘化物可舉例如碘化鉀、碘化鈉及碘化鋰。該等之中又以碘化鉀為佳。
塗佈液中之鹵化物之量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份，較佳為相對於PVA系樹脂100重量份為10重量份~15重量份。若鹵化物之量相對於PVA系樹脂100重量份為大於20重量份，則會有鹵化物溢出而使最後所得偏光件變白濁之情形。
一般而言，PVA系樹脂層經延伸，PVA樹脂層中之聚乙烯醇分子之定向性會變高，但若將延伸後之PVA系樹脂層浸漬於含水之液體中，則有聚乙烯醇分子之定向紊亂而定向性降低之情形。尤其是在對熱塑性樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體進行硼酸水中延伸時，為了使熱塑性樹脂基材之延伸穩定而在相對較高溫度下將上述積層體在硼酸水中進行延伸時，上述定向度降低之傾向很明顯。舉例而言，PVA薄膜單體在硼酸水中之延伸一般係在60℃下進行，相對於此，A-PET(熱塑性樹脂基材)與PVA系樹脂層之積層體之延伸係在70℃前後之溫度的較高溫度下進行，此時，延伸初始之PVA的定向性會在藉由水中延伸而上升之前的階段便降低。對此，藉由製作含鹵化物之PVA系樹脂層與熱塑性樹脂基材之積層體，並將積層體於在硼酸水中進行延伸前在空氣中進行高溫延伸(輔助延伸)，可促進輔助延伸後之積層體之PVA系樹脂層中的PVA系樹脂之結晶化。結果，在將PVA系樹脂層浸漬於液體中時，相較於PVA系樹脂層不含鹵化物之情況，更能抑制聚乙烯醇分子之定向紊亂及定向性降低。藉此，可提升經由染色處理及水中延伸處理等將積層體浸漬於液體中來進行的處理步驟而得之偏光件的光學特性。
A-3-2.空中輔助延伸處理 尤其為了獲得高光學特性，會選擇組合乾式延伸(輔助延伸)與硼酸水中延伸之2段延伸之方法。如2段延伸之方式，藉由導入輔助延伸，可一邊抑制熱塑性樹脂基材之結晶化一邊進行延伸。並且，在將PVA系樹脂塗佈於熱塑性樹脂基材上時，為了抑制熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度之影響，必須使塗佈溫度比將PVA系樹脂塗佈於一般的金屬滾筒上之情況更低，結果會發生PVA系樹脂之結晶化相對變低而無法獲得充分光學特性之問題。對此，藉由導入輔助延伸，即使是在將PVA系樹脂塗佈於熱塑性樹脂上之情況下仍可提升PVA系樹脂之結晶性，而可達成高光學特性。又，同時事先提高PVA系樹脂之定向性，可防止在之後的染色步驟或延伸步驟中浸漬於水中時，PVA系樹脂之定向性降低或溶解等問題，而可達成高光學特性。
空中輔助延伸之延伸方法可為固定端延伸(例如使用拉幅延伸機進行延伸之方法)，亦可為自由端延伸(例如使積層體通過周速相異之輥間進行單軸延伸之方法)，惟為了獲得高光學特性，可積極採用自由端延伸。在一實施形態中，空中延伸處理包含加熱輥延伸步驟，該步驟係將上述積層體一邊沿其長邊方向輸送一邊利用加熱輥間之周速差進行延伸。空中延伸處理代表上包含區域(zone)延伸步驟與加熱輥延伸步驟。此外，區域延伸步驟與加熱輥延伸步驟之順序無限定，可先進行區域延伸步驟，亦可先進行加熱輥延伸步驟。亦可省略區域延伸步驟。在一實施形態中，係依序進行區域延伸步驟及加熱輥延伸步驟。又，在另一實施形態中，係於拉幅延伸機中把持薄膜端部，並將拉幅機間之距離往行進方向擴大來延伸(拉幅機間距離的增幅即為延伸倍率)。此時，寬度方向(相對於行進方向為垂直方向)之拉幅機的距離係設定成可任意接近。宜可設定成相對於行進方向之延伸倍率來利用自由端延伸作接近。為自由端延伸時，係以寬度方向之收縮率=(1/延伸倍率)1/2 來計算。
空中輔助延伸可在一階段中進行亦可分多階段進行。分多階段進行時，延伸倍率為各階段之延伸倍率之積。空中輔助延伸中之延伸方向宜與水中延伸之延伸方向大致相同。
空中輔助延伸之延伸倍率宜為1.0倍~4.0倍，較宜為1.5倍~3.5倍，更宜為2.0倍~3.0倍。空中輔助延伸之延伸倍率若在所述範圍內，便可在與水中延伸組合時將延伸之總倍率設定為所期望之範圍，而可實現所期望之雙折射、面內相位差及/或定向函數。結果，可獲得已抑制住在異形加工部發生裂痕之偏光件(以結果而言為偏光板)。並且，如上述，空中輔助延伸之延伸倍率宜大於水中延伸之延伸倍率。藉由製成所述構成，即便延伸之總倍率小，仍可獲得具有可容許之光學特性之偏光件。更詳細而言，空中輔助延伸之延伸倍率與水中延伸之延伸倍率的比(水中延伸/空中輔助延伸)宜為0.4~0.9，較宜為0.5~0.8。
空中輔助延伸之延伸溫度可因應熱塑性樹脂基材之形成材料、延伸方式等設定成任意適當之值。延伸溫度宜為熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)以上，更宜為熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)+10℃以上，尤宜為Tg+15℃以上。另一方面，延伸溫度之上限宜為170℃。藉由在所述溫度下延伸可抑制PVA系樹脂之結晶化急速進展，而可抑制該結晶化所造成的不良情況(例如，因延伸而妨礙PVA系樹脂層之定向)。
A-3-3.不溶解處理、染色處理及交聯處理 視需要，在空中輔助延伸處理之後且在水中延伸處理或染色處理之前，施行不溶解處理。上述不溶解處理代表上係將PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液中來進行。上述染色處理代表上係以二色性物質(代表上為碘)將PVA系樹脂層染色來進行。視需要，在染色處理之後且在水中延伸處理之前，施行交聯處理。上述交聯處理代表上可藉由使PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液中來進行。關於不溶解處理、染色處理及交聯處理的詳細內容，例如記載於日本專利特開2012-73580號公報中。
A-3-4.水中延伸處理 水中延伸處理係使積層體浸漬於延伸浴來進行。藉由水中延伸處理，可在比上述熱塑性樹脂基材或PVA系樹脂層之玻璃轉移溫度(代表上為80℃左右)更低的溫度下延伸，而可一邊抑制PVA系樹脂層結晶化一邊進行延伸。結果可製出具有優異光學特性之偏光件。
積層體之延伸方法可採用任意適當的方法。具體而言，可為固定端延伸，亦可為自由端延伸(例如使積層體通過周速相異之輥間進行單軸延伸的方法)。宜選擇自由端延伸。積層體之延伸可在一階段中進行亦可分多階段進行。分多階段進行時，延伸之總倍率為各階段之延伸倍率之積。
水中延伸宜使積層體浸漬於硼酸水溶液中來進行(硼酸水中延伸)。藉由使用硼酸水溶液作為延伸浴，可對PVA系樹脂層賦予得以承受延伸時施加之張力的剛性與不溶於水的耐水性。具體上，硼酸在水溶液中會生成四羥基硼酸陰離子而可藉由氫鍵與PVA系樹脂交聯。結果可賦予PVA系樹脂層剛性與耐水性，進行良好地延伸，從而製出具有優異光學特性之偏光件。
上述硼酸水溶液宜使硼酸及/或硼酸鹽溶解於屬溶劑的水而獲得。硼酸濃度相對於水100重量份宜為1重量份~10重量份，較宜為2.5重量份~6重量份，尤宜為3重量份~5重量份。藉由將硼酸濃度設為1重量份以上，可有效抑制PVA系樹脂層之溶解，製造更高特性之偏光件。此外，除硼酸或硼酸鹽外，亦可使用將硼砂等之硼化合物、乙二醛、戊二醛等溶解於溶劑而得之水溶液。
宜於上述延伸浴(硼酸水溶液)中摻混碘化物。藉由摻混碘化物，可抑制已吸附於PVA系樹脂層之碘的溶出。碘化物之具體例如上述。碘化物之濃度相對於水100重量份宜為0.05重量份~15重量份，較宜為0.5重量份~8重量份。
延伸溫度(延伸浴之液溫)宜為40℃~85℃，較宜為60℃~75℃。若為所述溫度，便可抑制PVA系樹脂層溶解，同時又可高倍率地延伸。具體而言如上所述，以與形成PVA系樹脂層之關係來說，熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)以60℃以上為宜。此時，延伸溫度若低於40℃，則即使考慮以水將熱塑性樹脂基材塑化，也恐無法良好地延伸。另一方面，延伸浴之溫度愈高溫，PVA系樹脂層之溶解性就愈高，而恐無法獲得優異的光學特性。積層體浸漬於延伸浴之浸漬時間宜為15秒~5分鐘。
水中延伸進行之延伸倍率宜為1.0倍~2.2倍，較宜為1.1倍~2.0倍，更宜為1.1倍~1.8倍，又更宜為1.2倍~1.6倍。水中延伸之延伸倍率若在所述範圍內，便可將延伸之總倍率設定為所期望之範圍，而可實現所期望之雙折射、面內相位差及/或定向函數。結果，可獲得已抑制住在異形加工部發生裂痕之偏光件(以結果而言為偏光板)。延伸之總倍率(組合空中輔助延伸與水中延伸時之延伸倍率的合計)如上述，相對於積層體之原長宜為3.0倍~4.5倍，較宜為3.0倍~4.3倍，更宜為3.0倍~4.0倍。藉由適當組合對塗佈液添加鹵化物、調整空中輔助延伸及水中延伸之延伸倍率、及乾燥收縮處理，即便為所述延伸之總倍率，仍可獲得具有可容許之光學特性之偏光件。
A-3-5.乾燥收縮處理 上述乾燥收縮處理可透過將區域整體加熱所進行之區域加熱來進行，亦可透過將輸送輥加熱(所謂使用加熱輥)來進行(加熱輥乾燥方式)。較佳為使用這兩者。藉由使用加熱輥使其乾燥，可有效率地抑制積層體之加熱捲曲，而製造出外觀優異的偏光件。具體而言，藉由在使積層體巡經加熱輥之狀態下進行乾燥，可有效率地促進上述熱塑性樹脂基材之結晶化而增加結晶度，即使是在相對較低的乾燥溫度下，仍可良好增加熱塑性樹脂基材之結晶度。結果熱塑性樹脂基材之剛性增加而成為得以承受PVA系樹脂層因乾燥而收縮的狀態，從而捲曲受到抑制。又，藉由使用加熱輥，可在將積層體維持平坦狀態的同時進行乾燥，因此不只能抑制捲曲還能抑制起皺的發生。此時，積層體可透過乾燥收縮處理使其於寬度方向收縮，來提升光學特性。其係因可有效提升PVA及PVA/碘錯合物之定向性之故。積層體在乾燥收縮處理下之寬度方向之收縮率宜為1%~10%，較宜為2%~8%，尤宜為2%~6%。
圖6係顯示乾燥收縮處理之一例的概略圖。在乾燥收縮處理中，係利用已加熱至預定溫度的輸送輥R1~R6與導輥G1~G4來一邊輸送積層體200一邊使其乾燥。在圖式例中，係將輸送輥R1~R6配置成可交替連續加熱PVA樹脂層之面與熱塑性樹脂基材之面，但例如亦可將輸送輥R1~R6配置成僅連續加熱積層體200的其中一面(例如熱塑性樹脂基材面)。
藉由調整輸送輥之加熱溫度(加熱輥之溫度)、加熱輥之數量及與加熱輥的接觸時間等，可控制乾燥條件。加熱輥之溫度宜為60℃~120℃，更宜為65℃~100℃，尤宜為70℃~80℃。可在可良好地增加熱塑性樹脂之結晶度而良好地抑制捲曲的同時，製造出耐久性極優異的光學積層體。此外，加熱輥之溫度可以接觸式溫度計來測定。在圖式例中設置有6個輸送輥，惟輸送輥若為複數個則無特別限制。輸送輥通常為2個~40個，宜設置4個~30個。積層體與加熱輥之接觸時間(總接觸時間)以1秒~300秒為宜，以1~20秒較佳，以1~10秒更佳。
加熱輥可設置於加熱爐(例如烘箱)內，亦可設置於一般的製造產線(室溫環境下)。宜設置於具備送風機構的加熱爐內。藉由併用以加熱輥進行之乾燥與熱風乾燥，可抑制在加熱輥間急遽的溫度變化，而可容易控制寬度方向之收縮。熱風乾燥之溫度宜為30℃~100℃。且，熱風乾燥時間宜為1秒~300秒。熱風之風速宜為10m/s~30m/s左右。此外，該風速係在加熱爐內之風速，可以迷你扇葉型數位風速計來測定。
A-3-6.其他處理 宜在水中延伸處理之後且在乾燥收縮處理之前，施行洗淨處理。上述洗淨處理代表上可藉由使PVA系樹脂層浸漬於碘化鉀水溶液中來進行。
A-4.保護層 保護層之厚度為10µm以下。藉由保護層之厚度為10µm以下，可有助於偏光板之薄型化。又，以往由追隨偏光件在加熱時之收縮來保護偏光件之觀點，係使用具有20µm以上之厚度的保護層。對此，本發明實施形態所用偏光件如同上述，PVA系樹脂之定向度較以往更低，結果加熱造成之收縮就小，故即便在使用厚度在10µm以下之保護層之情況下，仍可抑制加熱時發生裂痕。並且，所述偏光件亦有助於抑制在異形加工部之裂痕。
保護層之厚度宜為7µm以下，較宜為5µm以下，更宜為3µm以下。保護層之厚度例如為1µm以上。
保護層係以樹脂膜構成。形成樹脂膜之樹脂可按目的使用任意適當之樹脂。具體例可舉(甲基)丙烯酸系、三醋酸纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、聚酯系、聚胺甲酸酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降莰烯系、聚烯烴系及乙酸酯系等熱塑性樹脂；(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型樹脂或活性能量線硬化型樹脂；矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。在一實施形態中，形成樹脂膜之樹脂可舉環氧樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂。該等可單獨使用，也可組合使用。
構成保護層之樹脂膜例如可為熔融樹脂之成形物，可為將樹脂溶解或分散於水性溶劑或有機溶劑中而得之樹脂溶液之塗佈膜的固化物，亦可為硬化型樹脂之硬化物(例如光陽離子硬化物)。
在一實施形態中，保護層可為熱塑性(甲基)丙烯酸系樹脂(以下，有時僅將(甲基)丙烯酸系樹脂稱為「丙烯酸系樹脂」)之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物、環氧樹脂之光陽離子硬化物或環氧樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物。於以下進行具體說明。
A-4-1.熱塑性丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物 在一實施形態中，保護層係以熱塑性丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物構成。由加濕耐久性之觀點來看，本實施形態之保護層的軟化溫度宜為100℃以上，較宜為115℃以上，更宜為120℃以上，尤宜為125℃以上；又，由成形性之觀點來看，宜為300℃以下，較宜為250℃以下，更宜為200℃以下，尤宜為160℃以下。
丙烯酸系樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)宜為100℃以上。結果，保護層之軟化溫度亦幾乎成為100℃以上。丙烯酸系樹脂之Tg若在100℃以上，包含從所述樹脂所得之保護層的偏光板會成為不僅抗裂痕耐性優異、加濕耐久性亦優異者。丙烯酸系樹脂之Tg較宜為110℃以上，更宜為115℃以上，又更宜為120℃以上，尤宜為125℃以上。另一方面，丙烯酸系樹脂之Tg宜為300℃以下，較宜為250℃以下，更宜為200℃以下，尤宜為160℃以下。丙烯酸系樹脂之Tg若在所述範圍內，成形性便佳。
丙烯酸系樹脂只要具有如上述之Tg，便可採用任意適當之丙烯酸系樹脂。丙烯酸系樹脂在代表上含有(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分作為單體單元(重複單元)。本說明書中，「(甲基)丙烯酸」意指丙烯酸及/或甲基丙烯酸。構成丙烯酸系樹脂之主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯，可例示直鏈狀或支鏈狀烷基之碳數1~18者。該等可單獨使用或可組合來使用。並且亦可藉由共聚而於丙烯酸系樹脂導入任意適當的共聚單體。藉由適當設定(甲基)丙烯酸烷基酯之種類、數量、組合及摻混比、共聚單體之種類、數量、組合及摻混比、以及聚合條件等，可獲得可形成所期望之保護層的丙烯酸系樹脂。
丙烯酸系樹脂宜具有包含環結構之重複單元。包含環結構之重複單元可舉內酯環單元、戊二酸酐單元、戊二醯亞胺單元、馬來酸酐單元、馬來醯亞胺(N-取代馬來醯亞胺)單元。包含環結構之重複單元可僅1種含於丙烯酸系樹脂之重複單元中，亦可2種以上含於其中。具有內酯環單元之丙烯酸系樹脂記載於例如日本專利特開2008-181078號公報中。具有戊二醯亞胺單元之丙烯酸系樹脂例如記載於日本專利特開2006-309033號公報、日本專利特開2006-317560號公報、日本專利特開2006-328334號公報、日本專利特開2006-337491號公報、日本專利特開2006-337492號公報、日本專利特開2006-337493號公報、日本專利特開2006-337569號公報中。本說明書即援用該等公報之記載作為參考。
丙烯酸系樹脂中包含環結構之重複單元的含有比率宜為1莫耳%~50莫耳%，較宜為10莫耳%~40莫耳%，更宜為20莫耳%~30莫耳%。含有比率過少時，會有Tg低於100℃之情形，而有所得保護層之耐熱性、耐溶劑性及表面硬度不充分之情形。含有比率過多時，有成形性及透明性不充分之情形。
本發明實施形態中，亦可併用丙烯酸系樹脂與其他樹脂。亦即，可將構成丙烯酸系樹脂之單體成分與構成其他樹脂之單體成分共聚，並將該共聚物供於後述保護層之成形；亦可將丙烯酸系樹脂與其他樹脂之摻合物供於保護層之成形。
本實施形態之保護層例如可藉由於偏光件表面塗佈丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液而形成塗佈膜，並使該塗佈膜固化來形成。
有機溶劑可使用可將丙烯酸系樹脂溶解或均勻分散之任意適當之有機溶劑。有機溶劑之具體例可舉乙酸乙酯、甲苯、甲基乙基酮(MEK)、甲基異丁基酮(MIBK)、環戊酮、環己酮。
溶液之丙烯酸系樹脂濃度相對於溶劑100重量份宜為3重量份~20重量份。若為所述樹脂濃度，便可形成密著於偏光件且均勻的塗佈膜。
溶液可塗佈於任意適當之基材上，亦可塗佈於偏光件上。當塗佈於基材時，形成於基材上之塗佈膜的固化物會轉印至偏光件上。當塗佈於偏光件時，藉由使塗佈膜乾燥(固化)，而於偏光件上直接形成保護層。較佳為溶液塗佈於偏光件上，而於偏光件上直接形成保護層。若為所述構成，便可省略轉印所需之接著劑層或黏著劑層，故可使偏光板更薄。溶液之塗佈方法可採用任意適當的方法。具體例可列舉輥塗法、旋塗法、線棒塗佈法、浸塗法、模塗法、簾塗法、噴塗法、刮刀塗佈法(缺角輪塗佈法等)。
藉由使溶液之塗佈膜乾燥(固化)，可形成保護層。乾燥溫度宜為100℃以下，較宜為50℃~70℃。乾燥溫度若在所述範圍內，便可防止對偏光件造成不良影響。乾燥時間可按乾燥溫度變化。乾燥時間例如可為1分鐘~10分鐘。
A-4-2.環氧樹脂之光陽離子硬化物 在一實施形態中，保護層係以環氧樹脂之光陽離子硬化物構成。藉由使用所述保護層，可抑制裂痕發生，且可獲得優異之加濕耐久性。如上述，保護層為光陽離子硬化物，故保護層形成用組成物包含光陽離子聚合引發劑。光陽離子聚合引發劑係具有光酸產生劑之功能的感光劑，代表上可舉由陽離子部與陰離子部構成之離子性鎓鹽。在該鎓鹽中，陽離子部會吸收光，而陰離子部會成為酸的產生源。藉由從該光陽離子聚合引發劑產生之酸，進行環氧基之開環聚合。屬所得光陽離子硬化物的保護層之軟化溫度高，可降低碘吸附量。因此，可提供一種已抑制住裂痕發生且具有優異加濕耐久性之偏光板。
由加濕耐久性之觀點來看，本實施形態之保護層的軟化溫度宜為100℃以上，較宜為110℃以上，更宜為120℃以上，尤宜為125℃以上；又，由成形性之觀點來看，宜為300℃以下，較宜為250℃以下，更宜為200℃以下，尤宜為160℃以下。
A-4-2-1.環氧樹脂 環氧樹脂可使用任意適當之環氧樹脂，且可適宜使用具有芳香環或脂環之環氧樹脂。在本實施形態中，宜使用具有選自於由芳香族骨架及經氫化之芳香族骨架所構成群組中之至少1種的環氧樹脂。芳香族骨架可舉例如苯環、萘環、茀環等。環氧樹脂可僅使用1種亦可組合2種以上來使用。宜可使用具有聯苯骨架或雙酚骨架作為芳香族骨架之環氧樹脂或其氫化物。藉由使用所述環氧樹脂，可提供一種具有更優異之耐久性且撓曲性亦優異之偏光板。
在一實施形態中，具有聯苯骨架之環氧樹脂係包含以下結構之環氧樹脂。具有聯苯骨架之環氧樹脂可僅使用1種，亦可組合2種以上來使用。 [化學式1]
Figure 02_image001
(式中，R14 ~R21 分別獨立表示氫原子、碳數1~12之直鏈狀或支鏈狀之取代或非取代的烴基、或鹵素元素)。
在一實施形態中，具有聯苯骨架之環氧樹脂為下式所示環氧樹脂。 [化學式2]
Figure 02_image003
(式中，R14 ~R21 如上述，n表示0~6之整數)。
在一實施形態中，具有聯苯骨架之環氧樹脂為僅具有聯苯骨架之環氧樹脂。藉由使用僅具有聯苯骨架之環氧樹脂，可更提升所得保護層之耐久性。在另一實施形態中，具有聯苯骨架之環氧樹脂亦可包含有聯苯骨架以外之化學結構。聯苯骨架以外之化學結構可舉例如雙酚骨架、脂環式結構、芳香族環結構等。此時，聯苯骨架以外之化學結構的比率(莫耳比)宜少於聯苯骨架。
上述環氧樹脂(光陽離子硬化後之環氧樹脂)宜為玻璃轉移溫度(Tg)在100℃以上。結果，保護層之軟化溫度亦幾乎成為100℃以上。環氧樹脂之Tg若為100℃以上，包含所得保護層之偏光板便容易成為耐久性優異者。環氧樹脂之Tg較宜為110℃以上，更宜為120℃以上，尤宜為125℃以上。另一方面，環氧樹脂之Tg宜為300℃以下，較宜為250℃以下，更宜為200℃以下，尤宜為160℃以下。環氧樹脂之Tg若在所述範圍內，成形性便可優異。
上述環氧樹脂之環氧當量宜為100g/當量以上，較宜為150g/當量以上，更宜為200g/當量以上。又，環氧樹脂之環氧當量宜為3000g/當量以下，較宜為2500g/當量以下，更宜為2000g/當量以下。藉由環氧當量為上述範圍，可獲得更穩定的保護層(殘存單體少且已充分硬化之保護層)。此外，在本說明書中，「環氧當量」意指「包含1當量環氧基之環氧樹脂的質量」，可依循JIS K 7236測定。
本實施形態中，亦可併用上述環氧樹脂與其他樹脂。即，亦可將上述環氧樹脂(例如具有選自於由芳香族骨架及經氫化之芳香族骨架所構成群組中之至少1種的環氧樹脂)與其他樹脂之摻合物供於保護層之成形。其他樹脂可舉例如丙烯酸系樹脂、氧雜環丁烷系樹脂。
丙烯酸系樹脂可使用任意適當之(甲基)丙烯酸系化合物。例如(甲基)丙烯酸系化合物可舉例如分子內具有一個(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸系化合物(以下亦稱「單官能(甲基)丙烯酸系化合物」)、分子內具有二個以上(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸系化合物(以下亦稱「多官能(甲基)丙烯酸系化合物」)。該等(甲基)丙烯酸系化合物可單獨使用，亦可組合2種以上來使用。關於該等丙烯酸系樹脂例如記載於日本專利特開2019-168500號公報中。本說明書中係援用該公報整體之記載作為參考。
氧雜環丁烷樹脂可使用分子內具有1個以上氧雜環丁烷基之任意適當的化合物。可舉例如：3-乙-3-羥甲基氧雜環丁烷、3-乙-3-(2-乙基己基氧基甲基)氧雜環丁烷、3-乙-3-(苯氧基甲基)氧雜環丁烷、3-乙-3-(環己基氧基甲基)氧雜環丁烷、3-乙-3-(環氧乙烷基甲氧基)氧雜環丁烷、(甲基)丙烯酸(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲酯等分子內具有1個氧雜環丁烷基之氧雜環丁烷化合物；3-乙-3{[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧雜環丁烷、1,4-雙[(3-乙-3-氧雜環丁烷基)甲氧基甲基]苯、4,4'-雙[(3-乙-3-氧雜環丁烷基)甲氧基甲基]聯苯等分子內具有2個以上氧雜環丁烷基之氧雜環丁烷化合物等。該等氧雜環丁烷樹脂可僅使用1種亦可組合2種以上。氧雜環丁烷樹脂宜可使用3-乙-3-羥甲基氧雜環丁烷、1,4-雙[(3-乙-3-氧雜環丁烷基)甲氧基甲基]苯、3-乙-3-(2-乙基己基氧基甲基)氧雜環丁烷、3-乙-3-(環氧乙烷基甲氧基)氧雜環丁烷、(甲基)丙烯酸(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲酯、3-乙-3{[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧雜環丁烷等。該等氧雜環丁烷樹脂可輕易取得，且稀釋性(低黏度)、相溶性優異。
在一實施形態中，由相溶性或接著性之觀點來看，宜使用分子量500以下且在室溫(25℃)下呈液態的氧雜環丁烷樹脂。在一實施形態中，宜使用分子內含有2個以上氧雜環丁烷基之氧雜環丁烷化合物、分子內含有1個氧雜環丁烷基與1個(甲基)丙烯醯基或1個環氧基之氧雜環丁烷化合物，較宜使用3-乙-3{[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧雜環丁烷、3-乙-3-(環氧乙烷基甲氧基)氧雜環丁烷、(甲基)丙烯酸(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲酯。藉由使用該等氧雜環丁烷樹脂可提升保護層之硬化性及耐久性。
A-4-2-2.光陽離子聚合引發劑 光陽離子聚合引發劑係具有光酸產生劑之功能的感光劑，代表上可舉由陽離子部與陰離子部構成之離子性鎓鹽。在該鎓鹽中，陽離子部會吸收光，而陰離子部會成為酸的產生源。藉由從該光陽離子聚合引發劑產生之酸，進行環氧基之開環聚合。光陽離子聚合引發劑可使用可藉由紫外線等光照射使具有選自於由芳香族骨架及經氫化之芳香族骨架所構成群組中之至少1種的環氧樹脂硬化的任意適當之化合物。光陽離子聚合引發劑可僅使用1種，亦可組合2種以上來使用。
光陽離子聚合引發劑可舉例如三苯基鋶六氟銻酸鹽、三苯基鋶六氟磷酸鹽、對(苯硫基)苯基二苯基鋶六氟銻酸鹽、對(苯硫基)苯基二苯基鋶六氟磷酸鹽、4-氯苯基二苯基鋶六氟磷酸鹽、4-氯苯基二苯基鋶六氟銻酸鹽、雙[4-(二苯基鋶基)苯基]硫醚雙六氟磷酸鹽、雙[4-(二苯基鋶基)苯基]硫醚雙六氟銻酸鹽、(2,4-環戊二烯-1-基)[(1-甲基乙基)苯]-Fe-六氟磷酸鹽、二苯基碘鎓六氟銻酸鹽等。宜使用三苯基鋶鹽系六氟銻酸鹽型之光陽離子聚合引發劑、二苯基碘鎓鹽系六氟銻酸鹽型之光陽離子聚合引發劑。
本實施形態之保護層例如可藉由塗佈包含上述環氧樹脂與光陽離子聚合引發劑之組成物而形成塗膜，並對該塗膜照射光(例如紫外線)而形成。
上述組成物中之環氧樹脂濃度相對於溶劑100重量份宜為10重量份~30重量份。若為所述樹脂濃度，便可形成密著於偏光件且均勻的塗佈膜。
上述組成物可塗佈於任意適當之基材上，亦可塗佈於偏光件上。當塗佈於基材時，形成於基材上的塗佈膜之硬化物會轉印至偏光件上。當塗佈於偏光件時，例如藉由光照射使塗佈膜硬化，藉此於偏光件上直接形成保護層。宜為上述組成物塗佈於偏光件上，而於偏光件上直接形成保護層。若為所述構成，便可省略轉印所需之接著劑層或黏著劑層，故可使偏光板更薄。組成物之塗佈方法如上述。
塗佈膜之硬化可藉由使用任意適當之光源以達到任意適當照射量之方式照射光(代表上為紫外線)來進行。光照射後，為了使光反應進行之硬化結束，亦可進一步施行加熱處理。加熱處理可在任意適當之溫度及時間下進行。
A-4-3.環氧樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物 在一實施形態中，保護層係以環氧樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物構成。由加濕耐久性之觀點來看，本實施形態之保護層的軟化溫度宜為100℃以上，較宜為110℃以上，更宜為120℃以上，尤宜為125℃以上；又，由成形性之觀點來看，宜為300℃以下，較宜為250℃以下，更宜為200℃以下，尤宜為160℃以下。
A-4-3-1.環氧樹脂 在本實施形態中，環氧樹脂宜玻璃轉移溫度(Tg)為100℃以上。結果，保護層之軟化溫度亦幾乎成為100℃以上。環氧樹脂之Tg若在100℃以上，包含由所述樹脂所得保護層的偏光板便容易成為耐久性優異者。環氧樹脂之Tg較宜為110℃以上，更宜為120℃以上，尤宜為125℃以上。另一方面，環氧樹脂之Tg宜為300℃以下，較宜為250℃以下，更宜為200℃以下，尤宜為160℃以下。環氧樹脂之Tg若在所述範圍內，成形性便可優異。
環氧樹脂只要具有如上述之Tg，便可採用任意適當之環氧樹脂。環氧樹脂代表上係指分子結構內具有環氧基之樹脂。作為環氧樹脂宜可使用分子結構內具有芳香族環之環氧樹脂。藉由使用具有芳香族環之環氧樹脂，可獲得具有更高Tg之環氧樹脂。分子結構內具有芳香族環之環氧樹脂的芳香族環，可舉例如苯環、萘環、茀環等。環氧樹脂可僅使用1種亦可組合2種以上來使用。使用2種以上環氧樹脂時，亦可組合含芳香族環之環氧樹脂與不含芳香族環之環氧樹脂來使用。
分子結構內具有芳香族環之環氧樹脂具體上可列舉：雙酚A二環氧丙基醚型環氧樹脂、雙酚F二環氧丙基醚型環氧樹脂、雙酚S二環氧丙基醚型環氧樹脂、間苯二酚二環氧丙基醚型環氧樹脂、氫醌二環氧丙基醚型環氧樹脂、對苯二甲酸二環氧丙基酯型環氧樹脂、雙苯氧基乙醇茀二環氧丙基醚型環氧樹脂、雙酚茀二環氧丙基醚型環氧樹脂、雙甲酚茀二環氧丙基醚型環氧樹脂等具有2個環氧基之環氧樹脂；酚醛型環氧樹脂、N,N,O-三環氧丙基-對或-間-胺基苯酚型環氧樹脂、N,N,O-三環氧丙基-4-胺基-間-或-5-胺基-鄰甲酚型環氧樹脂、1,1,1-(三環氧丙基氧基苯基)甲烷型環氧樹脂等具有3個環氧基之環氧樹脂；環氧丙基胺型環氧樹脂(例如二胺基二苯甲烷型、二胺基二苯基碸型、間茬二胺型)等具有4個環氧基之環氧樹脂等。又，亦可使用六氫酞酸酐型環氧樹脂、四氫酞酸酐型環氧樹脂、二體酸型環氧樹脂、對氧基苯甲酸型等環氧丙基酯型環氧樹脂。
環氧樹脂之環氧當量宜為1000g/當量以上，較宜為3000g/當量以上，更宜為5000g/當量以上。又，環氧樹脂之環氧當量宜為30000g/當量以下，較宜為25000g/當量以下，更宜為20000g/當量以下。藉由令環氧當量為上述範圍，可獲得更穩定之保護層。此外，在本說明書中，「環氧當量」意指「包含1當量環氧基之環氧樹脂的質量」，可依循JIS K 7236測定。
本實施形態中，亦可併用環氧樹脂與其他樹脂。即，亦可將環氧樹脂與其他樹脂之摻合物供於保護層之成形。其他樹脂可按目的適當選擇。
本實施形態之保護層例如可藉由塗佈包含上述環氧樹脂之有機溶劑溶液而形成塗膜，並使該塗膜固化而形成。有機溶劑溶液中之環氧樹脂濃度相對於溶劑100重量份宜為3重量份~20重量份。若為所述樹脂濃度，便可形成密著於偏光件且均勻的塗佈膜。
上述有機溶劑可使用可將環氧樹脂溶解或均勻分散之任意適當之溶劑。溶劑之具體例可舉乙酸乙酯、甲苯、甲基乙基酮(MEK)、甲基異丁基酮(MIBK)、環戊酮、環己酮。
溶液可塗佈於任意適當之基材上，亦可塗佈於偏光件上。當塗佈於基材時，形成於基材上之塗佈膜的固化物會轉印至偏光件上。當塗佈於偏光件時，藉由使塗佈膜乾燥(固化)，而於偏光件上直接形成保護層。較佳為溶液塗佈於偏光件上，而於偏光件上直接形成保護層。若為所述構成，便可省略轉印所需之接著劑層或黏著劑層，故可使偏光板更薄。溶液之塗佈方法如上述。
藉由使溶液之塗佈膜乾燥(固化)，可形成屬塗佈膜之固化物的保護層。乾燥溫度宜為100℃以下，較宜為50℃~70℃。乾燥溫度若在所述範圍內，便可防止對偏光件造成不良影響。乾燥時間可因應乾燥溫度變化。乾燥時間例如可為1分鐘~10分鐘。
B.附相位差層之偏光板 B-1.附相位差層之偏光板之整體構成 圖7係本發明一實施形態之附相位差層之偏光板的概略截面圖。圖式例之附相位差層之偏光板200包含上述A項記載之偏光板100與相位差層120。因此，附相位差層之偏光板200具有與偏光板100相同之異形。附相位差層之偏光板200中，相位差層120亦可作為偏光件10之保護層發揮功能。相位差層120代表上係透過接著層(未圖示)積層於偏光板100(圖式例中為偏光件10)。接著層為接著劑層或黏著劑層，而由重工性等觀點來看宜為黏著劑層(例如丙烯酸系黏著劑層)。雖未示於圖式中，但附相位差層之偏光板亦可因應需求在偏光件10之相位差層120側具有另一保護層(未圖示)。又，附相位差層之偏光板亦可因應需求於相位差層120之與偏光板100相反之側具有另一相位差層(未圖示)。另一相位差層代表上為折射率特性展現nz＞nx=ny之關係的所謂正C板。
相位差層120之Re(550)宜為100nm~190nm，Re(450)/Re(550)宜為0.8以上且小於1。並且，相位差層120的慢軸與偏光件10的吸收軸形成之角度宜為40°~50°。
B-2.相位差層 相位差層120可因應目的具有任意適當之光學特性及/或機械特性。相位差層代表上具有慢軸。在一實施形態中，相位差層的慢軸與偏光件10的吸收軸形成之角度θ如上述宜為40°~50°，較宜為42°~48°，更宜為約45°。角度θ若在所述範圍內，如後述藉由將相位差層做成λ/4板，可獲得具有非常優異圓偏光特性(以結果而言為非常優異的抗反射特性)的附相位差層之偏光板。
相位差層較佳為折射率特性展現nx＞ny≧nz之關係。相位差層代表上係為了賦予偏光板抗反射特性而設置，在一實施形態中可作為λ/4板發揮功能。此時，相位差層之面內相位差Re(550)宜為100nm~190nm，較宜為110nm~170nm，更宜為130nm~160nm。此外，在此「ny=nz」不只ny與nz完全相同之情況，還包含實質上相同之情況。因此，在不損及本發明效果之範圍下可有成為ny＜nz之情形。
相位差層之Nz係數宜為0.9~3，較宜為0.9~2.5，更宜為0.9~1.5，尤宜為0.9~1.3。藉由滿足所述關係，在將所得附相位差層之偏光板使用於影像顯示裝置時，可達成非常優異之反射色相。
相位差層可展現相位差值隨測定光之波長變大的逆色散波長特性，亦可展現相位差值隨測定光之波長變小的正波長色散特性，又可展現相位差值幾乎不隨測定光之波長變化的平坦的波長色散特性。在一實施形態中，相位差層展現逆色散波長特性。此時，相位差層之Re(450)/Re(550)宜為0.8以上且小於1，較宜為0.8以上且0.95以下。若為所述構成，便可實現非常優異的抗反射特性。
相位差層包含光彈性係數的絕對值宜為2×10-11 m2 /N以下、較宜為2.0×10-13 m2 /N~1.5×10-11 m2 /N、更宜為1.0×10-12 m2 /N~1.2×10-11 m2 /N之樹脂。光彈性係數的絕對值若在所述範圍內，加熱時產生收縮應力時便不易發生相位差變化。結果，可良好地防止所得影像顯示裝置的熱不均。
相位差層代表上係以樹脂薄膜之延伸薄膜構成。在一實施形態中，相位差層之厚度宜為70µm以下，較宜為45µm~60µm。相位差層之厚度若在所述範圍內，便可良好地抑制加熱時之捲曲，同時可良好地調整貼合時之捲曲。又，如後述，在相位差層以聚碳酸酯系樹脂薄膜構成之實施形態中，相位差層之厚度宜為40µm以下，較宜為10µm~40µm，更宜為20µm~30µm。相位差層藉由以具有所述厚度之聚碳酸酯系樹脂薄膜構成，可抑制捲曲發生，並可有助於提升抗彎折耐久性及反射色相。
相位差層可以可滿足上述特性之任意適當之樹脂薄膜構成。所述樹脂之代表例可舉聚碳酸酯系樹脂、聚酯碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯縮醛系樹脂、聚芳酯系樹脂、環狀烯烴系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂。該等樹脂可單獨使用，亦可組合(例如摻合、共聚)來使用。相位差層以顯示逆色散波長特性之樹脂薄膜構成時，可適宜使用聚碳酸酯系樹脂或聚酯碳酸酯系樹脂(以下有時僅稱作聚碳酸酯系樹脂)。
只要可獲得本發明之效果，上述聚碳酸酯系樹脂便可使用任意適當之聚碳酸酯系樹脂。例如，聚碳酸酯系樹脂包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元及源自選自於由脂環式二醇、脂環式二甲醇、二、三或聚乙二醇、以及伸烷基二醇或螺甘油所構成群組中之至少1種二羥基化合物之結構單元。聚碳酸酯系樹脂宜包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元、源自脂環式二甲醇之結構單元以及/或是源自二、三或聚乙二醇之結構單元；更宜包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元與源自二、三或聚乙二醇之結構單元。聚碳酸酯系樹脂亦可因應需要包含有源自其他二羥基化合物之結構單元。此外，本發明可適宜使用之聚碳酸酯系樹脂的詳細內容例如記載於日本專利特開2014-10291號公報、日本專利特開2014-26266號公報、日本專利特開2015-212816號公報、日本專利特開2015-212817號公報、日本專利特開2015-212818號公報中，而本說明書即援用該記載作為參考。
前述聚碳酸酯系樹脂的玻璃轉移溫度宜為110℃以上且150℃以下，較宜為120℃以上且140℃以下。玻璃轉移溫度若過低，耐熱性有變差之傾向，而有在薄膜成形後造成尺寸變化之可能性，或有降低所得有機EL面板之影像品質的情況。玻璃轉移溫度若過高，有薄膜成形時之成形穩定性變差之情況，或有損及薄膜之透明性之情況。此外，玻璃轉移溫度可依循JIS K 7121(1987)求得。
前述聚碳酸酯系樹脂的分子量可以比濃黏度表示。比濃黏度係用二氯甲烷作為溶劑，將聚碳酸酯濃度精密調製成0.6g/dL後，在溫度20.0℃±0.1℃下用烏氏黏度管進行測定。比濃黏度的下限通常宜為0.30dL/g，較宜為0.35dL/g以上。比濃黏度的上限通常宜為1.20dL/g，較宜為1.00dL/g，更宜為0.80dL/g。比濃黏度若小於前述下限值，則有發生成形品之機械強度變小之問題的情形。另一方面，比濃黏度若大於前述上限值，則進行成形時之流動性會降低，而有發生生產性或成形性降低之問題的情形。
聚碳酸酯系樹脂薄膜亦可使用市售薄膜。市售品之具體例可舉帝人公司製之商品名「PURE-ACE WR-S」、「PURE-ACE WR-W」、「PURE-ACE WR-M」、日東電工公司製之商品名「NRF」。
相位差層例如可藉由將由上述聚碳酸酯系樹脂形成之薄膜延伸而得。由聚碳酸酯系樹脂形成薄膜之方法可採用任意適當之成形加工法。具體例可舉：壓縮成形法、轉注成形法、射出成形法、擠製成形法、吹氣成形法、粉末成形法、FRP成形法、澆鑄塗敷法(例如流延法)、砑光成形法、熱壓法等。宜為擠製成形法或澆鑄塗敷法。其係因可提高所得薄膜之平滑性，從而可獲得良好的光學均勻性。成形條件可因應使用樹脂之組成或種類、對相位差層所期望之特性等適當設定。此外，如上述，聚碳酸酯系樹脂在市面上販售有很多薄膜製品，故可將該市售薄膜直接供於延伸處理。
樹脂薄膜(未延伸薄膜)的厚度可因應相位差層所期望之厚度、所期望之光學特性、後述延伸條件等設定成任意適當之值。宜為50µm~300µm。
上述延伸可採用任意適當之延伸方法、延伸條件(例如延伸溫度、延伸倍率、延伸方向)。具體而言，可單獨使用自由端延伸、固定端延伸、自由端收縮、固定端收縮等各種延伸方法，亦可同步或逐次使用。關於延伸方向，亦可沿長度方向、寬度方向、厚度方向、斜向等各種方向或維度進行。延伸的溫度相對於樹脂薄膜的玻璃轉移溫度(Tg)宜為Tg-30℃~Tg+60℃，較宜為Tg-10℃~Tg+50℃。
藉由適當選擇上述延伸方法、延伸條件，可獲得具有上述所期望之光學特性(例如折射率特性、面內相位差、Nz係數)的相位差薄膜。
在一實施形態中，相位差薄膜可藉由將樹脂薄膜進行單軸延伸或固定端單軸延伸來製作。固定端單軸延伸之具體例，可舉一邊使樹脂薄膜在長邊方向上移動，一邊往寬度方向(橫向)進行延伸之方法。延伸倍率宜為1.1倍~3.5倍。
在另一實施形態中，相位差薄膜可藉由將長條狀樹脂薄膜往相對於長邊方向呈上述角度θ之方向連續進行斜向延伸來製作。藉由採用斜向延伸，可獲得相對於薄膜之長邊方向具有角度θ之定向角(於角度θ之方向上具有慢軸)的長條狀延伸薄膜，例如在與偏光件積層時，可進行捲對捲，從而可簡化製造步驟。此外，角度θ可為附相位差層之偏光板中偏光件的吸收軸與相位差層的慢軸形成之角度。角度θ如上述，宜為40°~50°，較宜為42°~48°，更宜為約45°。
斜向延伸所用延伸機可舉拉幅式延伸機，其係例如可對橫向及/或縱向附加左右相異之速度的輸送力或是拉伸力或拉抽力者。拉幅式延伸機有橫式單軸延伸機、同步雙軸延伸機等，只要可將長條狀樹脂薄膜連續地進行斜向延伸，便可使用任意適當的延伸機。
藉由分別適當控制上述延伸機中之左右速度，可獲得具有上述所期望之面內相位差且於上述所期望之方向上具有慢軸之相位差層(實質上為長條狀相位差薄膜)。
上述薄膜的延伸溫度可因應對相位差層所期望之面內相位差值及厚度、所使用之樹脂的種類、所使用之薄膜的厚度、延伸倍率等變化。具體而言，延伸溫度宜為Tg-30℃~Tg+30℃，更宜為Tg-15℃~Tg+15℃，最宜為Tg-10℃~Tg+10℃。藉由以所述溫度延伸，本發明中可獲得具有適當特性之相位差層。此外，Tg係薄膜之構成材料的玻璃轉移溫度。
C.影像顯示裝置 上述偏光板或附相位差層之偏光板可應用於影像顯示裝置。因此，本發明實施形態包含含有所述偏光板或附相位差層之偏光板的影像顯示裝置。影像顯示裝置的代表例可舉液晶顯示裝置、電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)。本發明實施形態之影像顯示裝置於其視辨側具備上述A項記載之偏光板或B項記載之附相位差層之偏光板。附相位差層之偏光板係以使相位差層成為影像顯示單元(例如液晶單元、有機EL單元、無機EL單元)側之方式(使偏光件成為視辨側)積層。影像顯示裝置宜具有矩形以外之異形。在所述影像顯示裝置中，本發明實施形態所帶來之效果很顯著。具有異形之影像顯示裝置之具體例可舉如汽車儀表盤、智慧型手機、平板型PC、智慧型手錶。
實施例 以下，以實施例來具體說明本發明，惟本發明不受該等實施例所限。各特性之測定方法如以下所述。此外，只要無特別註記，實施例及比較例中之「份」及「%」即為重量基準。
(1)厚度 使用干涉膜厚計(大塚電子公司製，製品名「MCPD-3000」)進行測定。厚度計算所用之計算波長範圍係在400nm~500nm，且折射率設為1.53。 (2)PVA之面內相位差(Re) 針對從實施例及比較例中所得偏光件/熱塑性樹脂基材之積層體剝離去除樹脂基材後的偏光件(偏光件單體)，使用相位差測定裝置(王子計測機器公司製 製品名「KOBRA-31X100/IR」)評估PVA在波長1000nm下之的面內相位差(Rpva)(根據所說明之原理，係在波長1000nm下之總面內相位差減去碘之面內相位差(Ri)後之數值)。吸收端波長設為600nm。 (3)PVA之雙折射(Δn) 將上述(2)測定之PVA的面內相位差除以偏光件之厚度，藉此算出PVA之雙折射(Δn)。 (4)單體透射率及偏光度 針對從實施例及比較例中所得偏光件/熱塑性樹脂基材之積層體剝離去除樹脂基材後的偏光件(偏光件單體)，使用紫外線可見光分光光度計(日本分光公司製「V-7100」)測定單體透射率Ts、平行透射率Tp、正交透射率Tc。該等Ts、Tp及Tc係以JIS Z 8701之2度視野(C光源)進行測定並進行視感度校正所得之Y值。從所得Tp及Tc利用下述式求得偏光度P。 偏光度P(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1 /2 ×100 此外，分光光度計亦可使用大塚電子公司製「LPF-200」等進行同等之測定，不論在使用何種分光光度計之情況下皆可確認有獲得同等的測定結果。 (5)穿刺強度(每單位厚度之斷裂強度) 從實施例及比較例所得偏光件/熱塑性樹脂基材之積層體剝離偏光件，並載置於裝設有針之壓縮試驗機(KATO TECH CO., LTD.製，製品名「NDG5」針貫通力測定規格)，在室溫(23℃±3℃)環境下，以穿刺速度0.33cm/秒穿刺，並將偏光件破裂時之強度作為斷裂強度。評估值係測定10個試料片之斷裂強度並採用其平均值。此外，針係使用前端徑1mmφ、0.5R者。針對要測定之偏光件，使用具有直徑11mm之圓形開口部的治具從偏光件兩面夾住固定後，使針向開口部之中央部穿刺來進行試驗。 (6)PVA之定向函數 針對從實施例及比較例中所得偏光件/熱塑性樹脂基材之積層體剝離去除樹脂基材後的偏光件(偏光件單體)，對與已剝離樹脂基材之面為相反側的面，使用傅立葉轉換紅外線分光光度計(FT-IR)(Perkin Elmer公司製，商品名：「Frontier」)，以經偏光之紅外線作為測定光，進行偏光件表面之衰減全反射分光(ATR：attenuated total reflection)測定。用以使偏光件密著之微晶係使用鍺，並將測定光之入射角設為45°入射。定向函數之計算依以下程序進行。欲使入射之經偏光的紅外線(測定光)係設為平行於使鍺結晶試樣密著之面而振動的偏光(s偏光)，並在將偏光件之延伸方向相對於測定光之偏光方向作垂直(⊥)及平行(//)配置的狀態下測定各個吸光度光譜。從所得吸光度光譜算出以(3330cm-1 強度)為參考之(2941cm-1 強度)I。I⊥ 係從將偏光件之延伸方向相對於測定光之偏光方向作垂直(⊥)配置時所得吸光度光譜而獲得的(2941cm-1 強度)/(3330cm-1 強度)。又，I// 係從將偏光件之延伸方向相對於測定光之偏光方向作平行(//)配置時所得吸光度光譜而獲得的(2941cm-1 強度)/(3330cm-1 強度)。於此，(2941cm-1 強度)係吸光度光譜底部之將2770cm-1 與2990cm-1 作為基線時之2941cm-1 的吸光度，(3330cm-1 強度)係將2990cm-1 與3650cm-1 作為基線時之3330cm-1 的吸光度。用所得I⊥ 及I// ，依式1算出定向函數f。此外，f=1時為完全定向，f=0時為無規。又，可謂2941cm-1 之波峰係起因於偏光件中之PVA主鏈(-CH2 -)振動的吸收。又，可謂3330cm-1 之波峰係起因於PVA之羥基振動的吸收。 (式1)f=(3＜cos2 θ＞-1)/2 =(1-D)/[c(2D+1)] 惟， 當c=(3cos2 β-1)/2且如上述使用2941cm-1 時，β=90°⇒y=-2×(1-D)/(2D+1)。 θ：分子鏈相對於延伸方向之角度 β：躍遷偶極矩相對於分子鏈軸之角度 D=(I⊥ )/(I// ) I⊥ ：測定光之偏光方向與偏光件之延伸方向呈垂直時之吸收強度 I// ：測定光之偏光方向與偏光件之延伸方向呈平行時之吸收強度 (7)裂痕發生率 於實施例及比較例所得偏光板(或附相位差層之偏光板)之保護層表面暫時黏著表面保護薄膜。接著，於該偏光板(或附相位差層之偏光板)之黏著劑層暫時黏著分離件。將該積層體裁切成約130mm×約70mm。此時係以偏光件之吸收軸成為短邊方向之方式進行裁切。於裁切出之積層體之短邊中央部形成寬度5mm、深度(凹部長度)6.85mm、曲率半徑2.5mm之U字缺口。U字缺口係藉由端銑刀加工形成。端銑刀之外徑為4mm、進給速度為500mm/分鐘、旋轉數為35000rpm、切削量及切削次數為粗削0.2mm/次、精削0.1mm/次之合計2次。從形成有U字缺口之積層體剝離分離件，並透過丙烯酸系黏著劑層貼附於玻璃板(厚度1.1mm)。最後，剝離表面保護薄膜，而獲得具有保護層/偏光件/黏著劑層/玻璃板(或保護層/偏光件/黏著劑層/相位差層/黏著劑層/玻璃板)之構成的試驗試樣。將該試驗試樣供於熱震試驗，該熱震試驗係將於-40℃下維持30分鐘後在85℃下維持30分鐘之操作反覆300個循環，然後，以肉眼確認試驗後有無L字裂痕發生。使用3片偏光板(或附相位差層之偏光板)進行該評估，評估有發生裂痕(實質上為L字裂痕)之偏光板(或附相位差層之偏光板)的數量。
[實施例1] 1.偏光件之製作 熱塑性樹脂基材是使用長條狀且吸水率0.75%、Tg約75℃之非晶質間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(厚度：100µm)。並對樹脂基材之單面施行電暈處理(處理條件：55W・min/m2 )。 在以9：1混合聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(日本合成化學工業公司製，商品名「GOHSEFIMER Z410」)而成之PVA系樹脂100重量份中，添加碘化鉀13重量份，而調製出PVA水溶液(塗佈液)。 於樹脂基材之電暈處理面塗佈上述PVA水溶液並在60℃下乾燥，藉此形成厚度13µm之PVA系樹脂層，而製作出積層體。 將所得積層體於130℃之烘箱內在周速相異之輥間沿縱向(長邊方向)進行自由端單軸延伸成2.4倍(空中輔助延伸處理)。 接著，使積層體浸漬於液溫40℃的不溶解浴(相對於水100重量份摻混4重量份之硼酸而得之硼酸水溶液)中30秒鐘(不溶解處理)。 接著，於液溫30℃的染色浴(相對於水100重量份，以1：7之重量比摻混碘與碘化鉀而得之碘水溶液)中調整濃度的同時使其浸漬於其中60秒鐘，以使最後所得偏光件的單體透射率(Ts)成為40.5%(染色處理)。 接著，使其浸漬於液溫40℃的交聯浴(相對於水100重量份摻混3重量份之碘化鉀並摻混5重量份之硼酸而得之硼酸水溶液)中30秒鐘(交聯處理)。 然後，使積層體一邊浸漬於液溫62℃的硼酸水溶液(硼酸濃度4.0重量%，碘化鉀5.0重量%)中，一邊在周速相異的輥間沿縱向(長邊方向)進行單軸延伸以使延伸之總倍率達3.0倍(水中延伸處理：水中延伸處理之延伸倍率為1.25倍)。 之後，使積層體浸漬於液溫20℃的洗淨浴(相對於水100重量份摻混4重量份之碘化鉀而得之水溶液)中(洗淨處理)。 之後，一邊在維持於90℃之烘箱中乾燥，一邊使其接觸表面溫度維持於75℃之SUS製加熱輥約2秒鐘(乾燥收縮處理)。積層體在乾燥收縮處理下之寬度方向之收縮率為2%。 經由以上程序，於樹脂基材上形成了厚度7.4µm之偏光件。
2.偏光板之製作 將具有聯苯骨架之環氧樹脂(Mitsubishi Chemical Co.製，商品名：jER(註冊商標) YX4000)15份與氧雜環丁烷樹脂(東亞合成公司製，商品名：ARON OXETANE(註冊商標) OXT-221)10重量份溶解於甲基乙基酮73份中，而獲得環氧樹脂溶液。於所得環氧樹脂溶液中添加光陽離子聚合引發劑(San-Apro Ltd.製，商品名：CPI(註冊商標)-100P)2份，而獲得保護層形成組成物。使用線棒將所得保護層形成組成物直接(亦即不形成易接著層)塗佈於上述1.所得樹脂基材/偏光件之積層體的偏光件表面，並將塗佈膜在60℃下乾燥3分鐘。接著，使用高壓水銀燈以使累積光量為600mJ/cm2 之方式照射紫外線，形成保護層。保護層之厚度為3µm。接著，剝離樹脂基材，並於剝離面設置丙烯酸系黏著劑層(厚度15µm)。依上述方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件/黏著劑層之構成之偏光板。
[實施例2~4] 除了使用碘濃度不同之染色浴(碘與碘化鉀之重量比=1：7)外，依與實施例1相同方式而於樹脂基材上形成了偏光件(厚度：7.4µm)。以下程序係依與實施例1相同方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件/黏著劑層之構成的偏光板。
[實施例5] 將水中延伸之延伸倍率設為1.46倍(以結果而言，將延伸之總倍率設為3.5倍)，除此之外依與實施例1相同方式而於樹脂基材上形成了偏光件(厚度：6.7µm)。以下程序係依與實施例1相同方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件/黏著劑層之構成的偏光板。
[實施例6-1] 除了使用碘濃度不同之染色浴(碘與碘化鉀之重量比=1：7)外，依與實施例5相同方式而於樹脂基材上形成了偏光件(厚度：6.7µm)。以下程序係依與實施例1相同方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件/黏著劑層之構成的偏光板。
[實施例6-2] 依與實施例6-1相同方式而獲得樹脂基材/偏光件(厚度：6.7µm)之積層體。另一方面，將環氧樹脂(Mitsubishi Chemical Co.製，商品名：jER(註冊商標) YX6954BH30，重量平均分子量：36000，環氧當量：13000)20份溶解於甲基乙基酮80份中，而獲得環氧樹脂溶液(20%)。使用線棒將該環氧樹脂溶液塗佈於上述積層體的偏光件表面，並將塗佈膜在60℃下乾燥3分鐘，而形成以塗佈膜的固化物的形式構成之保護層。保護層之厚度為3µm。接著，剝離樹脂基材，並於剝離面設置與實施例1相同之丙烯酸系黏著劑層。依上述方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之塗佈膜的固化層)/偏光件/黏著劑層之構成的偏光板。
[實施例6-3] 依與實施例6-1相同方式而獲得樹脂基材/偏光件(厚度：6.7µm)之積層體。於所得積層體之偏光件面，將聚胺甲酸酯系水系分散樹脂(第一工業製藥公司製，製品名：SUPERFLEX SF210)塗佈成厚度成為0.1µm作為易接著層，而形成易接著層。另一方面，，將100%聚甲基丙烯酸甲酯之丙烯酸系樹脂(楠本化成公司製，製品名：B-728)20重量份溶解於甲基乙基酮80重量份中，而獲得丙烯酸系樹脂溶液(20%)。將該丙烯酸系樹脂溶液用線棒塗佈於易接著層表面，並在60℃下將塗佈膜乾燥5分鐘後，形成以塗佈膜的固化物的形式構成之保護層。保護層之厚度為2µm。並於保護層之與易接著層為相反側的面進一步形成硬塗層(厚度3µm)。硬塗層(HC)係藉由以下方式來形成：將二羥甲基-三環癸烷二丙烯酸酯(共榮社化學製，商品名：LIGHT ACRYLATE DCP-A)70重量份、丙烯酸異莰酯(共榮社化學製，商品名：LIGHT ACRYLATE IB-XA)20重量份、1,9-壬二醇二丙烯酸酯(共榮社化學製、商品名：LIGHT ACRYLATE 1.9NA-A)10重量份、進而光聚合引發劑(BASF公司製，商品名：IRGACURE 907)3重量份，使用適當之溶劑混合，並將所得塗敷液以使硬化後成為3µm之方式塗佈於保護層面上，接著使溶劑乾燥，並使用高壓水銀燈以累積光量成為300mJ/cm2 之方式在氮氣環境下照射紫外線來形成。最後，剝離樹脂基材，並於剝離面設置與實施例1相同之丙烯酸系黏著劑層。依上述方式，而獲得具有HC層/保護層(丙烯酸樹脂之塗佈膜的固化層)/易接著層/偏光件/黏著劑層之構成的偏光板。
[實施例7~8] 除了使用碘濃度不同之染色浴(碘與碘化鉀之重量比=1：7)外，依與實施例5相同方式而於樹脂基材上形成了偏光件(厚度：6.7µm)。以下程序係依與實施例1相同方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件/黏著劑層之構成的偏光板。
[實施例9~12] 將水中延伸之延伸倍率設為1.67倍(以結果而言，將延伸之總倍率設為4.0倍)、及使用碘濃度相異之染色浴(碘與碘化鉀之重量比=1：7)，除此之外依與實施例1相同方式而於樹脂基材上形成了偏光件(厚度：6.2µm)。以下程序係依與實施例1相同方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件/黏著劑層之構成的偏光板。
[實施例13~16] 將水中延伸之延伸倍率設為1.88倍(以結果而言，將延伸之總倍率設為4.5倍)、及使用碘濃度相異之染色浴(碘與碘化鉀之重量比=1：7)，除此之外依與實施例1相同方式而於樹脂基材上形成了偏光件(厚度：6.0µm)。以下程序係依與實施例1相同方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件/黏著劑層之構成的偏光板。
[比較例1] 將水中延伸之延伸倍率設為2.29倍(以結果而言，將延伸之總倍率設為5.5倍)，除此之外依與實施例1相同方式而於樹脂基材上形成了偏光件(厚度：5.5µm)。以下程序係依與實施例1相同方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件/黏著劑層之構成的偏光板。
[比較例2-1] 除了使用碘濃度不同之染色浴(碘與碘化鉀之重量比=1：7)外，依與比較例1相同方式而於樹脂基材上形成了偏光件(厚度：5.5µm)。以下程序係依與實施例1相同方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件/黏著劑層之構成的偏光板。
[比較例2-2] 使用與實施例6-2相同環氧樹脂溶液來形成保護層，除此之外依與比較例2-1相同方式而獲得具有保護層(環氧樹脂之塗佈膜的固化層)/偏光件/黏著劑層之構成的偏光板。
[比較例2-3] 使用與實施例6-3相同丙烯酸樹脂溶液來形成保護層，除此之外依與比較例2-1相同方式而獲得具有保護層(丙烯酸樹脂之塗佈膜的固化層)/偏光件/黏著劑層之構成的偏光板。
[比較例3~4] 除了使用碘濃度不同之染色浴(碘與碘化鉀之重量比=1：7)外，依與比較例1相同方式而於樹脂基材上形成了偏光件(厚度：5.5µm)。以下程序係依與實施例1相同方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件/黏著劑層之構成的偏光板。
[實施例17] 1.構成相位差層之相位差薄膜之製作 使用由2台具備有攪拌葉片及控制成100℃之回流冷卻器的直立式反應器構成之批次聚合裝置進行聚合。饋入雙[9-(2-苯氧基羰基乙基)茀-9-基]甲烷29.60質量份(0.046mol)、異山梨醇(ISB)29.21質量份(0.200mol)、螺甘油(SPG)42.28質量份(0.139mol)、碳酸二苯酯(DPC)63.77質量份(0.298mol)及作為觸媒的乙酸鈣一水合物1.19×10-2 質量份(6.78×10-5 mol)。將反應器內進行減壓氮取代後，以加熱介質加溫，並於內部溫度達到100℃之時間點開始攪拌。於升溫開始40分鐘後使內部溫度達到220℃，控制維持該溫度的同時開始減壓，在達到220℃後以90分鐘使其成為13.3kPa。將隨聚合反應副生成之苯酚蒸氣導入100℃之回流冷卻器，使苯酚蒸氣中所含些許量單體成分返回反應器，並將未凝聚之苯酚蒸氣導入45℃的凝聚器中回收。將氮導入第1反應器暫時使其回復到大氣壓力後，將第1反應器內之經寡聚化的反應液移至第2反應器。接著，開始進行第2反應器內的升溫及減壓，並以50分鐘使內溫成為240℃、壓力成為0.2kPa。其後，進行聚合直到達到預定之攪拌功率。在達到預定功率之時間點將氮導入反應器中使壓力回復，並將所生成之聚酯碳酸酯系樹脂擠出至水中，裁切束狀物而獲得丸粒。
將所得聚酯碳酸酯系樹脂(丸粒)在80℃下真空乾燥5小時後，使用具備單軸擠製機(東芝機械公司製，缸筒設定溫度：250℃)、T型模(寬200mm，設定溫度：250℃)、冷卻輥(設定溫度：120~130℃)及捲取機之薄膜製膜裝置，製作出厚度130µm之長條狀樹脂薄膜。以可獲得預定相位差之方式一邊調整所得長條狀樹脂薄膜一邊進行延伸，而獲得厚度48µm的相位差薄膜。延伸條件係沿寬度方向，延伸溫度為143℃，延伸倍率為2.8倍。所得相位差薄膜之Re(550)為141nm，Re(450)/Re(550)為0.86，且Nz係數為1.12。
2.附相位差層之偏光板之製作 依與實施例6-1相同方式而獲得樹脂基材/偏光件(厚度：6.7µm)之積層體。於積層體之偏光件表面依與實施例1相同方式形成保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)。接著，剝離樹脂基材，並於剝離面透過厚度5µm之丙烯酸系黏著劑層貼合上述所得相位差薄膜(相位差層)。此時，係以相位差層的慢軸與偏光件的吸收軸呈45°之角度之方式貼合。最後，於相位差層表面設置與實施例1相同之丙烯酸系黏著劑層。依上述方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件/黏著劑層/相位差層/黏著劑層之構成的附相位差層之偏光板。
[比較例5] 依與比較例2-1相同方式而獲得樹脂基材/偏光件(厚度：5.5µm)之積層體。除了使用該積層體外，依與實施例17相同方式而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件/黏著劑層/相位差層/黏著劑層之構成的附相位差層之偏光板。
將實施例及比較例所得偏光板或附相位差層之偏光板供於上述(2)~(7)之評估。將結果列於表1。
[表1]
Figure 02_image005
由表1明顯可知，實施例之偏光板及附相位差層之偏光板已抑制住在異形加工部(U字缺口部分)之裂痕發生。
又，於圖8~圖10分別顯示實施例及比較例所得偏光件之單體透射率與PVA之Δn、面內相位差或定向函數的關係。如圖8及圖10所示，可知即便雙折射、面內相位差或定向函數為相同程度(以結果而言，定向度為相同程度)，在單體透射率高時，仍容易在異形加工部發生裂痕。例如在圖8中觀看Δn為35(×10-3 )附近時，單體透射率若大於約44.2%則會變得不滿足式(1)，結果就如比較例4所示會發生裂痕。因此，可知為了有效抑制在異形加工部發生裂痕，不僅PVA系樹脂之定向度，單體透射率(以結果而言為二色性物質之吸附量)之調整亦很重要。又，可知滿足式(1)、式(2)及/或式(3)之偏光件係已適當進行該等之調整者，而可適當抑制在異形加工部發生裂痕。
產業上之可利用性 本發明偏光板可用於影像顯示裝置，尤其可適宜用於汽車儀表盤、智慧型手機、平板型PC、智慧型手錶等具有異形之影像顯示裝置。
10:偏光件 20:保護層 100:偏光板 120:相位差層 200:附相位差層之偏光板(積層體) G1~G4:導輥 R1~R6:輸送輥
圖1係本發明一實施形態之偏光板的概略截面圖。 圖2係說明本發明實施形態之偏光板的異形或異形加工部之一例的概略俯視圖。 圖3係說明本發明實施形態之偏光板的異形或異形加工部之變形例的概略俯視圖。 圖4係說明本發明實施形態之偏光板的異形或異形加工部之其他變形例的概略俯視圖。 圖5係說明本發明實施形態之偏光板的異形或異形加工部之其他變形例的概略俯視圖。 圖6係概略圖，其顯示可用於本發明實施形態之偏光板的偏光件之製造方法中，利用加熱輥之乾燥收縮處理之一例。 圖7係本發明一實施形態之附相位差層之偏光板的概略截面圖。 圖8係顯示實施例及比較例所製作之偏光件之單體透射率與PVA系樹脂之雙折射之關係的圖表。 圖9係顯示實施例及比較例所製作之偏光件之單體透射率與PVA系樹脂薄膜之面內相位差之關係的圖表。 圖10係顯示實施例及比較例所製作之偏光件之單體透射率與PVA系樹脂之定向函數之關係的圖表。

Claims (17)

  1. 一種偏光板，具有偏光件與配置於該偏光件之至少一側的保護層； 該偏光板具有矩形以外之異形； 該保護層係以具有10µm以下之厚度的樹脂膜構成； 該偏光件係以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成，且於令單體透射率為x%、令該聚乙烯醇系樹脂薄膜之雙折射為y時，滿足下述式(1)： y＜-0.011x+0.525　　　　　(1)。
  2. 一種偏光板，具有偏光件與配置於該偏光件之至少一側的保護層； 該偏光板具有矩形以外之異形； 該保護層係以具有10µm以下之厚度的樹脂膜構成； 該偏光件係以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成，且於令單體透射率為x%、令該聚乙烯醇系樹脂薄膜之面內相位差為znm時，滿足下述式(2)： z＜-60x+2875　　　　　　　　(2)。
  3. 一種偏光板，具有偏光件與配置於該偏光件之至少一側的保護層； 該偏光板具有矩形以外之異形； 該保護層係以具有10µm以下之厚度的樹脂膜構成； 該偏光件係以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成，且於令單體透射率為x%、令該聚乙烯醇系樹脂薄膜之定向函數為f時，滿足下述式(3)： f＜-0.018x+1.11　　　　(3)。
  4. 一種偏光板，具有偏光件與配置於該偏光件之至少一側的保護層； 該偏光板具有矩形以外之異形； 該保護層係以具有10µm以下之厚度的樹脂膜構成； 該偏光件係以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成，且穿刺強度為30gf/µm以上。
  5. 如請求項1至4中任一項之偏光板，其中前述偏光件之厚度為10µm以下。
  6. 如請求項1至5中任一項之偏光板，其中前述偏光件之單體透射率為40.0%以上，且偏光度為99.0%以上。
  7. 如請求項1至6中任一項之偏光板，其中前述異形係選自於由下述所構成之群組：貫通孔、V字缺口、U字缺口、俯視時呈近似船形之形狀的凹部、俯視時呈矩形之凹部、俯視時呈近似浴缸形狀之R形狀的凹部及該等之組合。
  8. 如請求項7之偏光板，其中前述U字缺口之曲率半徑為5mm以下。
  9. 如請求項1至8中任一項之偏光板，其中前述樹脂膜包含選自環氧樹脂及(甲基)丙烯酸系樹脂中之至少1種樹脂。
  10. 如請求項1至9中任一項之偏光板，其中前述樹脂膜係以環氧樹脂之光陽離子硬化物構成，且該樹脂膜之軟化溫度為100℃以上。
  11. 如請求項1至9中任一項之偏光板，其中前述樹脂膜係以環氧樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物構成，且該樹脂膜之軟化溫度為100℃以上。
  12. 如請求項1至9中任一項之偏光板，其中前述樹脂膜係以熱塑性(甲基)丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物構成，且該樹脂膜之軟化溫度為100℃以上。
  13. 如請求項12之偏光板，其中前述熱塑性(甲基)丙烯酸系樹脂具有選自於由內酯環單元、戊二酸酐單元、戊二醯亞胺單元、馬來酸酐單元及馬來醯亞胺單元所構成群組中之至少1種。
  14. 一種附相位差層之偏光板，包含如請求項1至13中任一項之偏光板與相位差層；且 該相位差層係配置於前述偏光件之與配置有前述保護層之側相反之側。
  15. 如請求項14之附相位差層之偏光板，其中前述相位差層之Re(550)為100nm~190nm，Re(450)/Re(550)為0.8以上且小於1；且 該相位差層的慢軸與前述偏光件的吸收軸形成之角度為40°~50°。
  16. 如請求項14或15之附相位差層之偏光板，其中前述相位差層係透過黏著劑層積層於前述偏光板上。
  17. 一種影像顯示裝置，具備如請求項1至13中任一項之偏光板或如請求項14至16中任一項之附相位差層之偏光板。
TW110127551A 2020-07-29 2021-07-27 偏光板、附相位差層之偏光板、以及包含該偏光板或該附相位差層之偏光板的影像顯示裝置 TW202208899A (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020127940 2020-07-29
JP2020-127940 2020-07-29
JP2020133463 2020-08-06
JP2020-133463 2020-08-06

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW202208899A true TW202208899A (zh) 2022-03-01

Family

ID=80036441

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW110127551A TW202208899A (zh) 2020-07-29 2021-07-27 偏光板、附相位差層之偏光板、以及包含該偏光板或該附相位差層之偏光板的影像顯示裝置

Country Status (5)

Country Link
JP (2) JPWO2022024798A1 (zh)
KR (1) KR20230042028A (zh)
CN (1) CN116158208A (zh)
TW (1) TW202208899A (zh)
WO (1) WO2022024798A1 (zh)

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001343521A (ja) 2000-05-31 2001-12-14 Sumitomo Chem Co Ltd 偏光板及びその製造方法
JP5036191B2 (ja) * 2005-03-16 2012-09-26 日本合成化学工業株式会社 ポリビニルアルコール系フィルムおよびその製造方法
JP6202062B2 (ja) * 2014-09-30 2017-09-27 住友化学株式会社 偏光フィルムの強度測定方法及び偏光板
JP6422507B2 (ja) * 2014-12-12 2018-11-14 住友化学株式会社 偏光フィルムの製造方法及び偏光フィルム
JP2017003954A (ja) * 2015-06-12 2017-01-05 住友化学株式会社 偏光フィルム及びそれを含む偏光板
JP6833687B2 (ja) * 2015-07-16 2021-02-24 東海精密工業株式会社 偏光性成形体の製造方法
JP2017187731A (ja) * 2016-03-30 2017-10-12 住友化学株式会社 延伸フィルムの製造方法及び偏光フィルムの製造方法
JP6684630B2 (ja) * 2016-03-31 2020-04-22 住友化学株式会社 偏光板、偏光板の製造方法
JP2017062517A (ja) * 2017-01-12 2017-03-30 日東電工株式会社 位相差層付偏光板および画像表示装置
KR102562326B1 (ko) * 2017-06-22 2023-08-02 닛토덴코 가부시키가이샤 적층체 및 적층체의 제조 방법
JP2019219528A (ja) * 2018-06-20 2019-12-26 日東電工株式会社 偏光フィルム、粘着剤層付き偏光フィルム、及び画像表示装置
JP2020101574A (ja) * 2018-12-11 2020-07-02 住友化学株式会社 偏光板

Also Published As

Publication number Publication date
KR20230042028A (ko) 2023-03-27
CN116158208A (zh) 2023-05-23
WO2022024798A1 (ja) 2022-02-03
JP2024114771A (ja) 2024-08-23
JPWO2022024798A1 (zh) 2022-02-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN112840252A (zh) 带相位差层的偏光板及使用其的图像显示装置
JP2019066882A (ja) 光学補償層付偏光板およびそれを用いた有機ｅｌパネル
TW202125003A (zh) 偏光膜、偏光板及影像顯示裝置
CN112840245A (zh) 带相位差层的偏光板及使用其的图像显示装置
TW202208899A (zh) 偏光板、附相位差層之偏光板、以及包含該偏光板或該附相位差層之偏光板的影像顯示裝置
WO2021261344A1 (ja) 位相差層付偏光板、および、それを用いた画像表示装置
KR102643436B1 (ko) 위상차층 부착 편광판, 및 그것을 이용한 화상 표시 장치
CN112840251B (zh) 带相位差层的偏光板及使用其的图像显示装置
KR20220076468A (ko) 위상차층 부착 편광판 및 이를 이용한 유기 일렉트로루미네센스 표시 장치
WO2021261276A1 (ja) 偏光板、位相差層付偏光板および画像表示装置
TW202104390A (zh) 附相位差層之偏光板及使用其之影像顯示裝置
CN112840250A (zh) 带相位差层的偏光板及使用其的图像显示装置
JP7567808B2 (ja) 位相差フィルムの製造方法
JP7165813B2 (ja) 偏光膜、偏光板および該偏光膜の製造方法
WO2023063129A1 (ja) 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
TWI827659B (zh) 帶相位差層的偏光板及使用了該帶相位差層的偏光板的影像顯示裝置
WO2022107394A1 (ja) 位相差層付偏光板およびそれを用いた有機エレクトロルミネセンス表示装置
KR20240134299A (ko) 편광판 및 유기 일렉트로 루미네센스 표시 장치
KR20240092589A (ko) 광학 적층체 및 화상 표시 장치
KR20240034769A (ko) 위상차층 부착 편광판 및 이를 이용한 화상 표시 장치
CN110858011A (zh) 相位差膜、带相位差层的偏振片及相位差膜的制造方法
JP2023073124A (ja) 位相差層付偏光板および該位相差層付偏光板を含む画像表示装置
TW202202563A (zh) 偏光膜、偏光板、及該偏光膜之製造方法
TW202212436A (zh) 染色三醋酸纖維素薄膜、使用該薄膜之偏光板、偏光板之製造方法、附相位差層之偏光板、影像顯示裝置、及影像顯示裝置之影像調整方法
CN114114511A (zh) 相位差薄膜和偏光板