TW202212436A - 染色三醋酸纖維素薄膜、使用該薄膜之偏光板、偏光板之製造方法、附相位差層之偏光板、影像顯示裝置、及影像顯示裝置之影像調整方法 - Google Patents

染色三醋酸纖維素薄膜、使用該薄膜之偏光板、偏光板之製造方法、附相位差層之偏光板、影像顯示裝置、及影像顯示裝置之影像調整方法 Download PDF

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Abstract

本發明提供一種在應用於影像顯示裝置時可實現中性反射色相之偏光板及附相位差層之偏光板。本發明偏光板包含偏光膜與配置於偏光膜之視辨側的保護層。偏光膜之厚度為8µm以下；保護層係以經碘染色之三醋酸纖維素薄膜構成，且保護層在波長400nm下之透射率為65%以下。本發明附相位差層之偏光板包含上述偏光板及配置於偏光板之與視辨側相反之側的相位差層。相位差層之Re(550)為100nm~190nm，Re(450)/Re(550)為0.8以上且小於1；相位差層的慢軸與偏光板之偏光膜的吸收軸形成之角度為40°~50°。

Description

染色三醋酸纖維素薄膜、使用該薄膜之偏光板、偏光板之製造方法、附相位差層之偏光板、影像顯示裝置、及影像顯示裝置之影像調整方法
本發明涉及染色三醋酸纖維素薄膜、使用該薄膜之偏光板、偏光板之製造方法、附相位差層之偏光板、影像顯示裝置、及影像顯示裝置之影像調整方法。
近年來，以液晶顯示裝置及電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)為代表之影像顯示裝置急速普及。影像顯示裝置代表上係使用偏光板及相位差板。在實際應用上，廣泛使用偏光板與相位差板一體化而成的附相位差層之偏光板(例如專利文獻1)，而最近隨著對影像顯示裝置之薄型化的需求增強，對偏光板及附相位差層之偏光板之薄型化的需求亦增強。偏光板及附相位差層之偏光板之薄型化手段之一可舉偏光膜之薄型化。但是，當將包含薄型偏光膜之偏光板或附相位差層之偏光板用於影像顯示裝置時，有反射色相帶藍色之問題。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利第3325560號公報
發明欲解決之課題 本發明係為了解決上述以往之課題而成者，其主要目的在於提供一種在應用於影像顯示裝置時可實現中性反射色相之偏光板及附相位差層之偏光板，以及一種可實現所述偏光板及附相位差層之偏光板的染色三醋酸纖維素薄膜。
用以解決課題之手段 本發明實施形態之染色三醋酸纖維素薄膜業經碘染色，並且在波長400nm下之透射率為65%以下，且視感度校正後之透射率Y為80%以上。 根據本發明另一面向，提供一種偏光板。該偏光板包含偏光膜與配置於該偏光膜之至少單側的保護層。該偏光膜之厚度為8µm以下，該保護層係以上述染色三醋酸纖維素薄膜構成。 根據本發明另一面向，提供一種上述偏光板之製造方法。該製造方法包含以下步驟：於長條狀熱塑性樹脂基材之單側形成聚乙烯醇系樹脂層而製成積層體；對該積層體施行染色處理及延伸處理，以將聚乙烯醇系樹脂層製成偏光膜；利用碘將三醋酸纖維素薄膜染色，以使其在波長400nm下之透射率為65%以下，且使視感度校正後之透射率Y為80%以上；及，將該經染色之三醋酸纖維素薄膜貼合於該偏光膜。 在一實施形態中，上述染色包含將上述三醋酸纖維素薄膜浸漬於碘濃度0.1重量%以上之碘水溶液中。 根據本發明又另一面向，提供一種附相位差層之偏光板。該附相位差層之偏光板包含上述偏光板及配置於該偏光板之與視辨側相反之側的相位差層。該相位差層之Re(550)為100nm~190nm，Re(450)/Re(550)為0.8以上且小於1；該相位差層的慢軸與該偏光板之偏光膜的吸收軸形成之角度為40°~50°。 在一實施形態中，上述相位差層係以聚碳酸酯系樹脂薄膜構成。 在一實施形態中，上述附相位差層之偏光板於上述相位差層之外側更具有另一相位差層，該另一相位差層之折射率特性展現nz＞nx=ny之關係。 在一實施形態中，上述附相位差層之偏光板為長條狀，上述偏光膜於長條方向上具有吸收軸，且上述相位差層為於相對於長條方向形成40°~50°角度之方向上具有慢軸之斜向延伸薄膜。在一實施形態中，上述附相位差層之偏光板可捲繞成捲狀。 本發明另一實施形態之附相位差層之偏光板包含上述偏光板及配置於該偏光板之與視辨側相反之側的相位差層。該相位差層具有第1液晶化合物之定向固化層與第2液晶化合物之定向固化層的積層結構。該第1液晶化合物之定向固化層的Re(550)為200nm~300nm，且其慢軸與上述偏光膜的吸收軸形成之角度為10°~20°；該第2液晶化合物之定向固化層的Re(550)為100nm~190nm，且其慢軸與該偏光膜的吸收軸形成之角度為70°~80°。 在一實施形態中，上述附相位差層之偏光板於上述相位差層之外側更具有導電層或附導電層之各向同性基材。 根據本發明又另一面向，提供一種影像顯示裝置。該影像顯示裝置具備上述偏光板或附相位差層之偏光板。 在一實施形態中，上述影像顯示裝置係有機電致發光顯示裝置或無機電致發光顯示裝置。 根據本發明又另一面向，提供一種影像顯示裝置之影像調整方法。該方法包含以下步驟：將上述偏光板或上述附相位差層之偏光板貼合於影像顯示單元之視辨側，使反射色相接近中性。
發明效果 根據本發明，藉由使用在預定波長下具有預定透射率及預定之視感度校正後之透射率Y之業經碘染色的三醋酸纖維素薄膜作為偏光膜之保護層，可實現一種在應用於影像顯示裝置時可實現中性反射色相之偏光板及附相位差層之偏光板。
以下說明本發明之實施形態，惟本發明不受該等實施形態所限。
(用語及符號之定義) 本說明書中之用語及符號之定義如下。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」為面內折射率達最大之方向(亦即慢軸方向)的折射率，「ny」為在面內與慢軸正交之方向(亦即快軸方向)的折射率，而「nz」為厚度方向的折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測定之面內相位差。例如，「Re(550)」係於23℃下以波長550nm之光測定之面內相位差。Re(λ)可於令層(薄膜)之厚度為d(nm)時，藉由式：Re(λ)=(nx-ny)×d求算。 (3)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測定之厚度方向之相位差。例如，「Rth(550)」係於23℃下以波長550nm之光測定之厚度方向之相位差。Rth(λ)可於令層(薄膜)厚度為d(nm)時，藉由式：Rth(λ)=(nx-nz)×d求算。 (4)Nz係數 Nz係數可以Nz=Rth/Re求算。 (5)角度 本說明書中提及角度時，該角度包含相對於基準方向往順時針方向及逆時針方向兩者。因此，例如「45°」係指±45°。
A.偏光板 根據本發明實施形態，提供一種業經碘染色之三醋酸纖維素(TAC)薄膜。該染色TAC薄膜在波長400nm下之透射率為65%以下，且視感度校正後之透射率Y(以下有時亦稱Y值透射率)為80%以上。染色TAC薄膜可適宜用於偏光板之保護層。本發明實施形態之偏光板包含偏光膜與配置於偏光膜之至少單側的保護層。即，保護層可設於偏光膜兩側，可僅設於偏光膜之視辨側，亦可僅設於偏光膜之與視辨側相反之側。本發明實施形態中，保護層之至少一者係以染色TAC薄膜構成。根據一實施形態，於具有視辨側保護層/偏光膜之構成的偏光板中，視辨側保護層係以染色TAC薄膜構成。
A-1.偏光膜 偏光膜代表上係以含碘之聚乙烯醇(PVA)系樹脂薄膜構成。偏光膜之厚度代表上為8µm以下，宜為7µm以下，較宜為5µm以下，更宜為3µm以下。偏光膜之厚度之下限在一實施形態中可為1µm，在另一實施形態中可為2µm。
偏光膜宜在波長380nm~780nm之任一波長下顯示吸收二色性。偏光膜之單體透射率宜為42.0%以上，較宜為42.5%以上，更宜為43.0%以上。另一方面，單體透射率宜為47.0%以下，較宜為46.0%以下。偏光膜之偏光度宜為99.95%以上，較宜為99.99%以上。另一方面，偏光度宜為99.998%以下。本發明實施形態所用偏光膜如所述可兼顧高單體透射率與高偏光度。上述單體透射率代表上係使用紫外可見光分光光度計來測定並進行視感度校正所得之Y值。又，單體透射率是將偏光板一表面之折射率換算為1.50，並將另一表面之折射率換算為1.53時的值。上述偏光度代表上係基於使用紫外可見光分光光度計測定並進行視感度校正所得之平行透射率Tp及正交透射率Tc，透過下述式來求算。 偏光度(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)} 1 /2×100
在一實施形態中，8µm以下的薄型偏光膜之透射率代表上係以偏光膜(表面之折射率：1.53)與保護薄膜(折射率：1.50)之積層體為測定對象，使用紫外可見光分光光度計來測定。在各層界面的反射率會因應偏光膜表面之折射率及/或保護薄膜之與空氣界面接觸的表面之折射率而改變，結果有透射率之測定值改變之情形。因此，例如在使用折射率非1.50之保護薄膜時，亦可因應保護薄膜之與空氣界面接觸的表面之折射率來校正透射率之測定值。具體言之，透射率之校正值C係使用保護薄膜及空氣層之界面之與透射軸平行的偏光之反射率R 1(透射軸反射率)，以以下式來表示。 C=R 1-R 0R 0=((1.50-1) 2/(1.50+1) 2)×(T 1/100) R 1=((n 1-1) 2/(n 1+1) 2)×(T 1/100) 在此，R 0為使用折射率為1.50之保護薄膜時之透射軸反射率，n 1為所使用之保護薄膜的折射率，而T 1為偏光膜之透射率。例如，在使用表面折射率為1.53之基材(環烯烴系薄膜、附硬塗層之薄膜等)作為保護薄膜時，校正量C為約0.2%。此時，將測得之透射率加上0.2%，可將表面折射率為1.53之偏光膜換算成使用折射率為1.50之保護薄膜時之透射率。此外，經依上述式進行計算，在使偏光膜之透射率T 1變化了2%後之校正值C的變化量為0.03%以下，故而偏光膜之透射率對校正值C之值的影響是有限的。又，在保護薄膜具有表面反射以外之吸收時，可依吸收量來進行適當的校正。
偏光膜可用單一樹脂薄膜來製作，亦可用二層以上之積層體來製作。
使用積層體所得之偏光膜的具體例，可舉出使用樹脂基材與經塗佈形成於該樹脂基材上之PVA系樹脂層的積層體所得之偏光膜。使用樹脂基材與經塗佈形成於該樹脂基材上之PVA系樹脂層的積層體所得之偏光膜，例如可藉由以下方式來製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材，並使其乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層的積層體；及，將該積層體延伸及染色而將PVA系樹脂層製成偏光膜。在本實施形態中，延伸在代表上包含使積層體浸漬於硼酸水溶液中並延伸。並且視需要，延伸可更包含在硼酸水溶液中進行延伸前在高溫(例如95℃以上)下將積層體進行空中延伸。
更詳細言之，偏光膜之製造方法包含以下步驟：於長條狀熱塑性樹脂基材之單側形成含鹵化物與聚乙烯醇系樹脂之聚乙烯醇系樹脂層，而製成積層體；及，對上述積層體依序施行空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理及乾燥收縮處理，該乾燥收縮處理係一邊將上述積層體沿長邊方向輸送一邊進行加熱，藉此使其於寬度方向收縮2%以上。藉此，可提供厚度為8µm以下且具有優異光學特性之偏光膜。亦即，藉由導入輔助延伸，即便是在將PVA塗佈於熱塑性樹脂上時仍可提升PVA之結晶性，而可達成高光學特性。又，同時事先提高PVA之定向性，可在後續的染色步驟或延伸步驟中浸漬於水中時，防止PVA之定向性降低或溶解等問題，而可達成高光學特性。並且，將PVA系樹脂層浸漬於液體中時，相較於PVA系樹脂層不含鹵化物之情況，更能抑制聚乙烯醇分子之定向紊亂及定向性之降低。藉此，可提升經由染色處理及水中延伸處理等將積層體浸漬於液體中來進行的處理步驟而得之偏光膜的光學特性。並且，透過乾燥收縮處理使積層體於寬度方向收縮，可提升光學特性。偏光膜之製造方法的詳細內容將於B項說明。
A-2.保護層 如上述，本發明實施形態中，配置於視辨側的保護層(以下為視辨側保護層)及配置於與視辨側相反之側的保護層(以下為內側保護層)中之至少一者係以染色TAC薄膜構成。由偏光板之薄型化及輕量化之觀點來看，內側保護層可適宜省略，因此根據一實施形態，於具有視辨側保護層/偏光膜之構成的偏光板中，係視辨側保護層以染色TAC薄膜構成。藉由於視辨側保護層及/或內側保護層使用染色TAC薄膜，即便在使用薄型(例如厚度8µm以下之)偏光膜之情況下，仍可防止影像顯示裝置之反射色相帶藍色，結果可實現非常優異之(中性)反射色相。
於配置有視辨側保護層及內側保護層且僅其中一者以染色TAC薄膜構成時，另一保護層係以可作為偏光膜之保護層使用之任意適當的薄膜形成。作為成為該薄膜之主成分的材料之具體例，可列舉三醋酸纖維素(TAC)等之纖維素系樹脂、或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降莰烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系及乙酸酯系等之透明樹脂等。又，亦可列舉(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等之熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。其他還可舉例如矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又，亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)所記載之聚合物薄膜。作為該薄膜之材料，例如可使用含有在側鏈具有取代或非取代之醯亞胺基之熱塑性樹脂、及在側鏈具有取代或非取代之苯基以及腈基之熱塑性樹脂的樹脂組成物，可舉例如具有由異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺構成之交替共聚物及丙烯腈-苯乙烯共聚物的樹脂組成物。該聚合物薄膜例如可為上述樹脂組成物之擠製成形物。
染色TAC薄膜在波長400nm下之透射率為65%以下，宜為60%以下，較宜為55%以下，更宜為40%以下，尤宜為35%以下。該透射率之下限例如可為0.1%。該透射率若在所述範圍內，便可使反射色相更優異。並且，染色TAC薄膜之Y值透射率為80%以上，宜為85%以上，較宜為90%以上。Y值透射率愈高愈佳。Y值透射率之上限例如可為98%。染色TAC薄膜之特徵之一為：在波長400nm下之透射率會顯著減少，而另一方面Y值透射率可維持高的值。
所述染色TAC薄膜所帶來之上述效果推測係因以下機制所致：薄型偏光膜之碘含量(絕對量)小。本發明實施形態之偏光膜藉由以如後述B項記載之方法製造，即便碘含量(絕對量)小，仍可將成為有助於可見光吸收的PVA-I 5 -錯合物及PVA-I 3 -錯合物源的I 5 -離子及I 3 -離子之總量維持在所期望之範圍內，因此雖為薄型卻可以高程度維持單體透射率及偏光度。雖說如此，薄型偏光膜有因碘含量(絕對量)小，造成短波長(例如400nm以下)之光的吸收變小之傾向。根據本發明實施形態，藉由使用染色TAC薄膜作為保護層，保護層可吸收短波長之光。結果可以偏光板整體充分吸收短波長之光，從而可補填薄型偏光膜之短波長的吸收性。結果可維持本發明實施形態所用薄型偏光膜之優異特性，同時可防止影像顯示裝置之反射色相帶藍色，結果可實現非常優異之(中性之)反射色相。並且，若薄型偏光膜中含有過多之碘，便會形成PVA-碘錯合物，故Y值透射率亦會同時降低。另一方面，在TAC薄膜中碘不會錯合物化，故碘之吸收不限於短波長，而可在維持Y值透射率之狀態抑制短波長之透射率。
視辨側保護層亦可視需要施行有硬塗處理、抗反射處理、抗黏著處理、防眩處理等表面處理。並且/或者，視辨側保護層亦可視需求施行有用以改善透過偏光太陽眼鏡視辨時之視辨性的處理(代表上為賦予(橢)圓偏光機能、賦予超高相位差)。藉由施行所述處理，即使透過偏光太陽眼鏡等偏光透鏡視辨顯示畫面時，仍可實現優異的視辨性。因此，偏光板或附相位差層之偏光板亦可適宜用於可用於戶外之影像顯示裝置。
視辨側保護層之厚度宜為5µm~80µm，較宜為10µm~40µm，更宜為10µm~35µm。此外，在施有表面處理時，視辨側保護層之厚度係包含表面處理層之厚度的厚度。
內側保護層在一實施形態中於光學上宜為各向同性。本說明書中，「在光學上為各向同性」意指面內相位差Re(550)為0nm~10nm，且厚度方向之相位差Rth(550)為-10nm~+10nm。內側保護層在一實施形態中可為具有任意適當之相位差值的相位差層。此時，相位差層之面內相位差Re(550)例如為110nm~150nm。內側保護層之厚度宜為5µm~80µm，較宜為10µm~40µm，更宜為10µm~30µm。如上述，由薄型化及輕量化之觀點來看，宜可省略內側保護層。
B.偏光板之製造方法 B-1.偏光膜之製造方法 偏光膜例如可經由包含以下步驟之製造方法而得：於長條狀熱塑性樹脂基材單側形成含鹵化物與聚乙烯醇系樹脂(PVA系樹脂)之聚乙烯醇系樹脂層(PVA系樹脂層)而做成積層體；及，對積層體依序施行空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理及乾燥收縮處理，該乾燥收縮處理係一邊將積層體沿長邊方向輸送一邊進行加熱，藉此使其於寬度方向收縮2%以上。PVA系樹脂層中之鹵化物之含量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份。乾燥收縮處理宜使用加熱輥進行處理，且加熱輥之溫度宜為60℃~120℃。積層體在乾燥收縮處理下之寬度方向之收縮率宜為2%以上。根據所述製造方法可獲得在上述A-1項所說明之偏光膜。尤其是藉由下述方式可獲得具有優異光學特性(代表上為單體透射率及偏光度)之偏光膜：製作包含含鹵化物之PVA系樹脂層的積層體後，將上述積層體之延伸進行包含空中輔助延伸及水中延伸的多階段延伸，再將延伸後之積層體以加熱輥進行加熱。
B-1-1.積層體之製作 製作熱塑性樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體的方法可採用任意適當之方法。宜將含鹵化物與PVA系樹脂之塗佈液塗佈於熱塑性樹脂基材之表面並乾燥，藉此於熱塑性樹脂基材上形成PVA系樹脂層。如上述，PVA系樹脂層中之鹵化物之含量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份。
塗佈液之塗佈方法可採用任意適當的方法。例如可舉出輥塗法、旋塗法、線棒塗佈法、浸塗法、模塗法、簾塗法、噴塗法、刮刀式塗佈法(缺角輪塗佈法等)等。上述塗佈液之塗佈、乾燥溫度宜為50℃以上。
PVA系樹脂層之厚度宜為3µm~40µm，更宜為3µm~20µm。
在形成PVA系樹脂層之前，可對熱塑性樹脂基材施行表面處理(例如電暈處理等)，也可於熱塑性樹脂基材上形成易接著層。藉由進行所述處理，可提升熱塑性樹脂基材與PVA系樹脂層之密著性。
B-1-1-1.熱塑性樹脂基材 熱塑性樹脂基材可採用任意適當的熱塑性樹脂薄膜。關於熱塑性樹脂薄膜基材的詳細內容，例如記載於日本專利特開2012-73580號公報或日本專利第6470455號中。本說明書中即引用該等公報其整體之記載作為參考。
B-1-1-2.塗佈液 塗佈液係如上述包含鹵化物與PVA系樹脂。上述塗佈液代表上係使上述鹵化物及上述PVA系樹脂溶解於溶劑而成之溶液。作為溶劑，可舉例如水、二甲基亞碸、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮、各種甘醇類、三羥甲丙烷等多元醇類、伸乙二胺、二伸乙三胺等胺類。該等可單獨使用或可組合二種以上來使用。該等中又以水為佳。溶液之PVA系樹脂濃度相對於溶劑100重量份宜為3重量份~20重量份。若為所述樹脂濃度，便可形成密著於熱塑性樹脂基材之均勻的塗佈膜。塗佈液中之鹵化物之含量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份。
塗佈液中亦可摻混添加劑。添加劑可舉例如塑化劑、界面活性劑等。塑化劑可舉例如乙二醇或甘油等多元醇。界面活性劑可舉例如非離子界面活性劑。該等可為了更提升所得PVA系樹脂層的均勻性或染色性、延伸性而使用。
上述PVA系樹脂可採用任意適當的樹脂。PVA系樹脂之詳細內容例如記載於日本專利特開2012-73580號公報或日本專利第6470455號(上述)中。
上述鹵化物可採用任意適當之鹵化物。可舉例如碘化物及氯化鈉。碘化物可舉例如碘化鉀、碘化鈉及碘化鋰。該等之中又以碘化鉀為佳。
塗佈液中之鹵化物之量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份，較佳為相對於PVA系樹脂100重量份為10重量份~15重量份。若鹵化物相對於PVA系樹脂100重量份之量大於20重量份，則有鹵化物溢出而最後獲得之偏光膜變白濁之情形。
一般而言，PVA系樹脂層經延伸，PVA樹脂層中之聚乙烯醇分子之定向性會變高，但若將延伸後之PVA系樹脂層浸漬於含水之液體中，則有聚乙烯醇分子之定向紊亂而定向性降低之情形。尤其是在對熱塑性樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體進行硼酸水中延伸時，為了使熱塑性樹脂基材之延伸穩定而在相對較高溫度下將上述積層體在硼酸水中進行延伸時，上述定向度降低之傾向很明顯。舉例而言，PVA薄膜單體在硼酸水中之延伸一般係在60℃下進行，相對於此，A-PET(熱塑性樹脂基材)與PVA系樹脂層之積層體之延伸係在70℃前後之溫度的較高溫度下進行，此時，延伸初始之PVA的定向性會在藉由水中延伸而上升之前的階段便降低。對此，藉由製作含鹵化物之PVA系樹脂層與熱塑性樹脂基材之積層體，並將積層體於在硼酸水中進行延伸前在空氣中進行高溫延伸(輔助延伸)，可促進輔助延伸後之積層體之PVA系樹脂層中的PVA系樹脂之結晶化。結果，在將PVA系樹脂層浸漬於液體中時，相較於PVA系樹脂層不含鹵化物之情況，更能抑制聚乙烯醇分子之定向紊亂及定向性降低。藉此，可提升經由染色處理及水中延伸處理等將積層體浸漬於液體中來進行的處理步驟而得之偏光膜的光學特性。
B-1-2.空中輔助延伸處理 尤其為了獲得高光學特性，會選擇組合乾式延伸(輔助延伸)與硼酸水中延伸之2段延伸之方法。如2段延伸之方式，藉由導入輔助延伸，可一邊抑制熱塑性樹脂基材之結晶化一邊進行延伸，解決在之後的硼酸水中延伸中因熱塑性樹脂基材之過度結晶化造成延伸性降低之問題，而可以更高倍率延伸積層體。並且，在將PVA系樹脂塗佈於熱塑性樹脂基材上時，為了抑制熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度之影響，必須使塗佈溫度比將PVA系樹脂塗佈於一般的金屬滾筒上之情況更低，結果會發生PVA系樹脂之結晶化相對變低而無法獲得充分光學特性之問題。對此，藉由導入輔助延伸，即使是在將PVA系樹脂塗佈於熱塑性樹脂上之情況下仍可提升PVA系樹脂之結晶性，而可達成高光學特性。又，同時事先提高PVA系樹脂之定向性，可在後續的染色步驟或延伸步驟中浸漬於水中時，防止PVA系樹脂之定向性降低或溶解等問題，而可達成高光學特性。
空中輔助延伸之延伸方法可為固定端延伸(例如使用拉幅延伸機進行延伸之方法)，亦可為自由端延伸(例如使積層體通過周速相異之輥間進行單軸延伸之方法)，惟為了獲得高光學特性，可積極採用自由端延伸。在一實施形態中，空中延伸處理包含加熱輥延伸步驟，該步驟係將上述積層體一邊沿其長邊方向輸送一邊利用加熱輥間之周速差進行延伸。空中延伸處理代表上包含區域(zone)延伸步驟與加熱輥延伸步驟。此外，區域延伸步驟與加熱輥延伸步驟之順序無限定，可先進行區域延伸步驟，亦可先進行加熱輥延伸步驟。亦可省略區域延伸步驟。在一實施形態中，係依序進行區域延伸步驟及加熱輥延伸步驟。又，在另一實施形態中，係於拉幅延伸機中把持薄膜端部，並將拉幅機間之距離往行進方向擴大來延伸(拉幅機間距離的增幅即為延伸倍率)。此時，寬度方向(相對於行進方向為垂直方向)之拉幅機的距離係設定成可任意接近。宜可設定成相對於行進方向之延伸倍率來利用自由端延伸作接近。為自由端延伸時，係以寬度方向之收縮率=(1/延伸倍率) 1/2來計算。
空中輔助延伸可在一階段中進行亦可分多階段進行。分多階段進行時，延伸倍率為各階段之延伸倍率之積。空中輔助延伸中之延伸方向宜與水中延伸之延伸方向大致相同。
空中輔助延伸之延伸倍率宜為2.0倍~3.5倍。組合空中輔助延伸與水中延伸時之最大延伸倍率，相對於積層體之原長以5.0倍以上為宜，以5.5倍以上較佳，以6.0倍以上為更佳。本說明書中「最大延伸倍率」意指積層體將要斷裂前的延伸倍率，其係較另外確認積層體發生斷裂時的延伸倍率所得數值低0.2之值。
空中輔助延伸之延伸溫度可因應熱塑性樹脂基材之形成材料、延伸方式等設定成任意適當之值。延伸溫度宜為熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)以上，更宜為熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)+10℃以上，尤宜為Tg+15℃以上。另一方面，延伸溫度之上限宜為170℃。藉由在所述溫度下延伸可抑制PVA系樹脂之結晶化急速進展，而可抑制該結晶化所造成的不良情況(例如，因延伸而妨礙PVA系樹脂層之定向)。空中輔助延伸後之PVA系樹脂的結晶化指數宜為1.3~1.8，較宜為1.4~1.7。PVA系樹脂之結晶化指數可用傅立葉轉換紅外分光光度計，藉由ATR法進行測定。具體上是以偏光作為測定光來實施測定，並用所得光譜之1141cm -1及1440cm -1之強度，按下述式算出結晶化指數。 結晶化指數=(I C/I R) 惟， I C：入射測定光並進行測定時之1141cm -1的強度， I R：入射測定光並進行測定時之1440cm -1的強度。
B-1-3.不溶解處理、染色處理及交聯處理 視需要，在空中輔助延伸處理之後且在水中延伸處理或染色處理之前，施行不溶解處理。上述不溶解處理代表上係將PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液中來進行。上述染色處理代表上係以二色性物質(代表上為碘)將PVA系樹脂層染色來進行。視需要，在染色處理之後且在水中延伸處理之前，施行交聯處理。上述交聯處理代表上可藉由使PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液中來進行。關於不溶解處理、染色處理及交聯處理之詳細內容，例如記載於日本專利特開2012-73580號公報或日本專利第6470455號(上述)中。
B-1-4.水中延伸處理 水中延伸處理係使積層體浸漬於延伸浴來進行。藉由水中延伸處理，可在比上述熱塑性樹脂基材或PVA系樹脂層之玻璃轉移溫度(代表上為80℃左右)更低的溫度下延伸，而可在抑制PVA系樹脂層結晶化的同時進行高倍率延伸。結果可製出具有優異光學特性之偏光膜。
積層體之延伸方法可採用任意適當的方法。具體言之，可為固定端延伸，亦可為自由端延伸(例如使積層體通過周速相異之輥間進行單軸延伸的方法)。宜選擇自由端延伸。積層體之延伸可在一階段中進行亦可分多階段進行。分多階段進行時，後述積層體之延伸倍率(最大延伸倍率)為各階段之延伸倍率之積。
水中延伸宜使積層體浸漬於硼酸水溶液中來進行(硼酸水中延伸)。藉由使用硼酸水溶液作為延伸浴，可對PVA系樹脂層賦予得以承受延伸時施加之張力的剛性與不溶於水的耐水性。具體上，硼酸在水溶液中會生成四羥基硼酸陰離子而可藉由氫鍵與PVA系樹脂交聯。結果可賦予PVA系樹脂層剛性與耐水性，進行良好地延伸，從而製出具有優異光學特性之偏光膜。
上述硼酸水溶液宜使硼酸及/或硼酸鹽溶解於屬溶劑的水而獲得。硼酸濃度相對於水100重量份宜為1重量份~10重量份，較宜為2.5重量份~6重量份，尤宜為3重量份~5重量份。藉由令硼酸濃度為1重量份以上，可有效抑制PVA系樹脂層之溶解，製造更高特性之偏光膜。此外，除硼酸或硼酸鹽外，亦可使用將硼砂等之硼化合物、乙二醛、戊二醛等溶解於溶劑而得之水溶液。
宜於上述延伸浴(硼酸水溶液)中摻混碘化物。藉由摻混碘化物，可抑制已吸附於PVA系樹脂層之碘的溶出。碘化物之具體例如上述。碘化物之濃度相對於水100重量份宜為0.05重量份~15重量份，較宜為0.5重量份~8重量份。
延伸溫度(延伸浴之液溫)宜為40℃~85℃，較宜為60℃~75℃。若為所述溫度，便可抑制PVA系樹脂層溶解，同時又可高倍率地延伸。具體而言如上所述，以與形成PVA系樹脂層之關係來說，熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)以60℃以上為宜。此時，延伸溫度若低於40℃，則即使考慮以水將熱塑性樹脂基材塑化，也恐無法良好地延伸。另一方面，延伸浴之溫度愈高溫，PVA系樹脂層之溶解性便愈高，而恐無法獲得優異的光學特性。積層體浸漬於延伸浴之浸漬時間宜為15秒~5分鐘。
水中延伸所進行之延伸倍率宜為1.5倍以上，較宜為3.0倍以上。積層體之總延伸倍率相對於積層體的原長宜為5.0倍以上，更宜為5.5倍以上。藉由達成所述高延伸倍率，可製造出光學特性極優異的偏光膜。所述高延伸倍率可藉由採用水中延伸方式(硼酸水中延伸)來達成。
B-1-5.乾燥收縮處理 上述乾燥收縮處理可透過將區域整體加熱所進行之區域加熱來進行，亦可透過將輸送輥加熱(所謂使用加熱輥)來進行(加熱輥乾燥方式)。較佳為使用這兩者。藉由使用加熱輥使其乾燥，可有效率地抑制積層體之加熱捲曲，而製造出外觀優異的偏光膜。具體而言，藉由在使積層體巡經加熱輥之狀態下進行乾燥，可有效率地促進上述熱塑性樹脂基材之結晶化而增加結晶度，即使是在相對較低的乾燥溫度下，仍可良好地增加熱塑性樹脂基材之結晶度。結果熱塑性樹脂基材之剛性增加而成為得以承受PVA系樹脂層因乾燥而收縮的狀態，從而抑制捲曲。又，藉由使用加熱輥，可在將積層體維持平坦狀態的同時進行乾燥，因此不只能抑制捲曲還能抑制起皺的發生。此時，積層體可透過乾燥收縮處理使其於寬度方向收縮，來提升光學特性。其係因可有效提升PVA及PVA/碘錯合物之定向性之故。積層體在乾燥收縮處理下之寬度方向之收縮率宜為1%~10%，較宜為2%~8%，尤宜為4%~6%。藉由使用加熱輥，可在輸送積層體的同時使其連續於寬度方向收縮，而可實現高生產性。
圖1係顯示乾燥收縮處理之一例的概略圖。在乾燥收縮處理中，係利用已加熱至預定溫度的輸送輥R1~R6與導輥G1~G4來一邊輸送積層體200一邊使其乾燥。在圖式例中，係將輸送輥R1~R6配置成可交替連續加熱PVA樹脂層之面與熱塑性樹脂基材之面，但例如亦可將輸送輥R1~R6配置成僅連續加熱積層體200的其中一面(例如熱塑性樹脂基材面)。
藉由調整輸送輥之加熱溫度(加熱輥之溫度)、加熱輥之數量及與加熱輥的接觸時間等，可控制乾燥條件。加熱輥之溫度宜為60℃~120℃，更宜為65℃~100℃，尤宜為70℃~80℃。可在可良好地增加熱塑性樹脂之結晶度而良好地抑制捲曲的同時，製造出耐久性極優異的光學積層體。此外，加熱輥之溫度可以接觸式溫度計來測定。在圖式例中設置有6個輸送輥，惟輸送輥若為複數個則無特別限制。輸送輥通常為2個~40個，宜設置4個~30個。積層體與加熱輥之接觸時間(總接觸時間)以1秒~300秒為宜，以1~20秒較佳，以1~10秒更佳。
加熱輥可設置於加熱爐(例如烘箱)內，亦可設置於一般的製造產線(室溫環境下)。宜設置於具備送風機構的加熱爐內。藉由併用以加熱輥進行之乾燥與熱風乾燥，可抑制在加熱輥間急遽的溫度變化，而可容易控制寬度方向之收縮。熱風乾燥之溫度宜為30℃~100℃。且，熱風乾燥時間宜為1秒~300秒。熱風之風速宜為10m/s~30m/s左右。此外，該風速係在加熱爐內之風速，可以迷你扇葉型數位風速計來測定。
B-1-6.其他處理 宜在水中延伸處理之後且在乾燥收縮處理之前，施行洗淨處理。上述洗淨處理代表上可藉由使PVA系樹脂層浸漬於碘化鉀水溶液中來進行。
依以上方式，可製作熱塑性樹脂基材/偏光膜之積層體。
B-2.TAC薄膜之染色 另一方面，利用碘將TAC薄膜染色。染色可藉由任意適當之態樣進行。染色例如可將長條狀TAC薄膜一邊進行輥輸送一邊浸漬於染色液(代表上為碘水溶液)中來進行。染色係以使所得染色TAC薄膜在波長400nm下之透射率成為65%以下且Y值透射率成為80%以上之方式來進行。該透射率及Y值透射率可藉由適當調整碘水溶液之碘濃度、碘水溶液之溫度及染色時間(浸漬時間)來控制。碘水溶液之碘濃度可因應染色時間(浸漬時間)變化。碘水溶液之碘濃度宜為0.1重量%以上，較宜為0.5重量%~5.0重量%，更宜為1.0重量%~3.0重量%。碘濃度若太低，有即使長時間進行染色處理也無法獲得所期望之透射率的情形。碘水溶液之溫度宜為20℃~30℃。染色時間可因應碘水溶液之碘濃度變化。染色時間宜為30秒以上，較宜為50秒~400秒。染色時間若過短，有無法獲得所期望之透射率之情形。另一方面，考慮到製造效率，無端拉長染色時間的作法並非有效。
B-3.偏光板之製作 透過任意適當之接著劑將上述B-2項所得染色TAC薄膜貼合於上述B-1項所得熱塑性樹脂基材/偏光膜之積層體的偏光膜表面。接著劑可舉例如水系接著劑、活性能量線硬化型接著劑。依上述方式可製作出熱塑性樹脂基材/偏光膜/染色TAC薄膜之積層體。該積層體亦可直接作為偏光板使用。此時，熱塑性樹脂基材可作為內側保護層發揮功能。或者，亦可從熱塑性樹脂基材/偏光膜/染色TAC薄膜之積層體剝離熱塑性樹脂基材，並將染色TAC薄膜/偏光膜之積層體作為偏光板來使用。或者，亦可從熱塑性樹脂基材/偏光膜/染色TAC薄膜之積層體剝離熱塑性樹脂基材，並於該剝離面貼合樹脂薄膜作為內側保護層，而將染色TAC薄膜/偏光膜/內側保護層之積層體作為偏光板來使用。
C.附相位差層之偏光板 C-1.附相位差層之偏光板之整體構成 圖2係本發明一實施形態之附相位差層之偏光板的概略截面圖。本實施形態之附相位差層之偏光板100具有偏光板10與相位差層20。偏光板係上述A項及B項記載之偏光板。圖式例之偏光板10包含偏光膜11、視辨側保護層12及內側保護層13。如上述，宜可省略內側保護層13。附相位差層之偏光板中，相位差層代表上配置於偏光板之與視辨側相反之側。
如圖3所示，另一實施形態之附相位差層之偏光板101中，亦可設有另一相位差層50以及/或者導電層或附導電層之各向同性基材60。另一相位差層50以及導電層或附導電層之各向同性基材60代表上可設於相位差層20之與偏光板10相反之側(與視辨側相反之側)。另一相位差層代表上折射率特性展現nz＞nx=ny之關係。另一相位差層50以及導電層或附導電層之各向同性基材60代表上係自相位差層20側起依序設置。另一相位差層50以及導電層或附導電層之各向同性基材60代表上係可因應需要設置之任意層，亦可省略任一者或兩者。此外，為求方便，有時會將相位差層20稱為第1相位差層，且將另一相位差層50稱為第2相位差層。此外，在可設置導電層或附導電層之各向同性基材時，附相位差層之偏光板可應用於在影像顯示單元(例如有機EL單元)與偏光板間組入有觸控感測器的所謂內觸控面板型輸入顯示裝置。
本發明實施形態中，第1相位差層20的Re(550)為100nm~190nm，Re(450)/Re(550)為0.8以上且小於1。並且，第1相位差層20的慢軸與偏光膜11的吸收軸形成之角度為40°~50°。
上述實施形態可適當組合，亦可於上述實施形態之構成要素中加入本業界中顯明的變更。例如亦可將於第2相位差層50的外側設置附導電層之各向同性基材60的構成替換為在光學上等效之構成(例如第2相位差層與導電層之積層體)。
附相位差層之偏光板亦可更包含有其他相位差層。其他相位差層之光學特性(例如折射率特性、面內相位差、Nz係數、光彈性係數)、厚度、配置位置等可按目的適當設定。
附相位差層之偏光板可為單片狀亦可為長條狀。本說明書中所謂「長條狀」意指相對於寬度而言長度足夠長的細長形狀，例如包含相對於寬度而言長度為10倍以上、且宜為20倍以上之細長形狀。長條狀附相位差層之偏光板可捲繞成捲狀。附相位差層之偏光板為長條狀時，偏光板及相位差層亦為長條狀。此時，偏光膜宜於長條方向上具有吸收軸。第1相位差層宜為於相對於長條方向形成40°~50°角度之方向上具有慢軸之斜向延伸薄膜。偏光膜及第1相位差層若為所述構成，便可藉由捲對捲製作附相位差層之偏光板。
於實際使用上，可於相位差層之與偏光板相反之側設置黏著劑層(未圖示)，且附相位差層之偏光板可貼附於影像顯示單元。並且，宜在附相位差層之偏光板供於使用之前，於黏著劑層之表面暫時黏附有剝離薄膜。藉由暫時黏附剝離薄膜，可在保護黏著劑層的同時形成捲料。
附相位差層之偏光板的總厚度宜為140µm以下，較宜為120µm以下，更宜為100µm以下，又更宜為90µm以下，又更宜為85µm以下。總厚度之下限例如可為80µm。根據本發明實施形態，可實現如所述極薄之附相位差層之偏光板。所述附相位差層之偏光板可具有極優異之可撓性及彎折耐久性。所述附相位差層之偏光板尤可適於應用於彎曲的影像顯示裝置及/或可撓曲或可彎折的影像顯示裝置。此外，所謂附相位差層之偏光板的總厚度係指扣除用以使附相位差層之偏光板與面板或玻璃等外部被黏體密著的黏著劑層後，構成附相位差層之偏光板的所有層之厚度合計(亦即附相位差層之偏光板的總厚度不包含用以將附相位差層之偏光板貼附於影像顯示單元等鄰接構件的黏著劑層及可暫時黏附於其表面的剝離薄膜之厚度)。
以下，具體說明第1相位差層、第2相位差層以及導電層或附導電層之各向同性基材。此外，第1相位差層亦可為液晶化合物之定向固化層(以下為液晶定向固化層)。關於液晶定向固化層，將以第1相位差層之變形例於C-4項說明。
C-2.第1相位差層 第1相位差層20可因應目的具有任意適當之光學特性及/或機械特性。第1相位差層20代表上具有慢軸。在一實施形態中，第1相位差層20的慢軸與偏光膜11的吸收軸形成之角度θ如上述，為40°~50°，宜為42°~48°，更宜為約45°。角度θ若在所述範圍內，如後述藉由將第1相位差層做成λ/4板，可獲得具有非常優異圓偏光特性(以結果而言為非常優異之抗反射特性)的附相位差層之偏光板。
第1相位差層宜折射率特性展現nx＞ny≧nz之關係。第1相位差層代表上係為了賦予偏光板抗反射特性而設置，在一實施形態中可作為λ/4板發揮功能。此時，第1相位差層之面內相位差Re(550)如上述為100nm~190nm，宜為110nm~170nm，較宜為130nm~160nm。此外，在此「ny=nz」不只ny與nz完全相同之情況，還包含實質上相同之情況。因此，在不損及本發明效果之範圍下可有成為ny＜nz之情形。
第1相位差層的Nz係數宜為0.9~3，較宜為0.9~2.5，更宜為0.9~1.5，尤宜為0.9~1.3。藉由滿足所述關係，在將所得附相位差層之偏光板使用於影像顯示裝置時，可達成非常優異之反射色相。
第1相位差層可展現相位差值隨測定光之波長變大的逆色散波長特性，可展現相位差值隨測定光之波長變小的正常波長色散特性，亦可展現相位差值幾乎不隨測定光之波長變化的平坦的波長色散特性。在一實施形態中，第1相位差層展現逆色散波長特性。此時，相位差層之Re(450)/Re(550)如上述為0.8以上且小於1，宜為0.8以上且0.95以下。若為所述構成，便可實現非常優異之抗反射特性。
第1相位差層包含光彈性係數的絕對值宜為2×10 -11m 2/N以下、較宜為2.0×10 -13m 2/N~1.5×10 -11m 2/N、更宜為1.0×10 -12m 2/N~1.2×10 -11m 2/N之樹脂。光彈性係數的絕對值若在所述範圍內，加熱時產生收縮應力時便不易發生相位差變化。結果，可良好地防止所得影像顯示裝置的熱不均。
第1相位差層代表上係以樹脂薄膜的延伸薄膜構成。第1相位差層之厚度宜為70µm以下，較宜為45µm~60µm。第1相位差層之厚度若在所述範圍內，便既可良好地抑制加熱時之捲曲，同時可良好地調整貼合時之捲曲。
第1相位差層20可以可滿足上述特性之任意適當之樹脂薄膜構成。所述樹脂之代表例可列舉聚碳酸酯系樹脂、聚酯碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯縮醛系樹脂、聚芳酯系樹脂、環狀烯烴系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂。該等樹脂可單獨使用，亦可組合(例如摻合、共聚)來使用。第1相位差層以顯示逆色散波長特性之樹脂薄膜構成時，可適宜使用聚碳酸酯系樹脂或聚酯碳酸酯系樹脂(以下有時僅稱作聚碳酸酯系樹脂)。
只要可獲得本發明之效果，上述聚碳酸酯系樹脂便可使用任意適當之聚碳酸酯系樹脂。例如，聚碳酸酯系樹脂包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元及源自選自於由脂環式二醇、脂環式二甲醇、二、三或聚乙二醇、以及伸烷基二醇或螺甘油所構成群組中之至少1種二羥基化合物之結構單元。聚碳酸酯系樹脂宜包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元、源自脂環式二甲醇之結構單元以及/或是源自二、三或聚乙二醇之結構單元；更宜包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元與源自二、三或聚乙二醇之結構單元。聚碳酸酯系樹脂亦可因應需要包含有源自其他二羥基化合物之結構單元。此外，可適宜用於第1相位差層之聚碳酸酯系樹脂及第1相位差層之形成方法的詳細內容，例如記載於日本專利特開2014-10291號公報、日本專利特開2014-26266號公報、日本專利特開2015-212816號公報、日本專利特表2015-212817號公報、日本專利特表2015-212818號公報中，本說明書即援用該等公報之記載作為參考。
C-3.第2相位差層 第2相位差層如上述，可為折射率特性展現nz＞nx=ny之關係的所謂正C板(Positive C-plate)。藉由使用正C板作為第2相位差層，可良好地防止斜向之反射，而可使抗反射功能廣視角化。此時，第2相位差層的厚度方向的相位差Rth(550)宜為-50nm~-300nm，較宜為-70nm~-250nm，更宜為-90nm~-200nm，尤宜為-100nm~-180nm。在此，「nx=ny」不僅包含nx與ny嚴格上相等之情況，還包含nx與ny實質上相等之情況。即，第2相位差層的面內相位差Re(550)可小於10nm。
具有nz＞nx=ny之折射率特性的第2相位差層可以任意適當之材料形成。第2相位差層宜由包含固定為垂面排列定向之液晶材料的薄膜構成。可使垂面排列定向的液晶材料(液晶化合物)可為液晶單體亦可為液晶聚合物。該液晶化合物及該相位差層之形成方法的具體例可舉日本專利特開2002-333642號公報中段落[0020]~[0028]記載之液晶化合物及該相位差層之形成方法。此時，第2相位差層之厚度宜為0.5µm~10µm，較宜為0.5µm~8µm，更宜為0.5µm~5µm。
C-4.第1相位差層之變形例 第1相位差層20亦可具有第1液晶定向固化層與第2液晶定向固化層之積層結構。此時，第1液晶定向固化層及第2液晶定向固化層之任一者可作為λ/4板發揮功能，另一者可作為λ/2板發揮功能。因此，第1液晶定向固化層及第2液晶定向固化層之厚度可調整成可獲得λ/4板或λ/2板之所期望的面內相位差。例如，第1液晶定向固化層作為λ/2板發揮功能、第2液晶定向固化層作為λ/4板發揮功能時，第1液晶定向固化層之厚度例如為2.0µm~3.0µm，而第2液晶定向固化層之厚度例如為1.0µm~2.0µm。此時，第1液晶定向固化層之面內相位差Re(550)宜為200nm~300nm，較宜為230nm~290nm，更宜為250nm~280nm。第2液晶定向固化層之面內相位差Re(550)宜為100nm~190nm，較宜為110nm~170nm，更宜為130nm~160nm。第1液晶定向固化層的慢軸與偏光膜的吸收軸形成之角度宜為10°~20°，較宜為12°~18°，更宜為約15°。第2液晶定向固化層的慢軸與偏光膜的吸收軸形成之角度宜為70°~80°，較宜為72°~78°，更宜為約75°。若為所述構成，便可獲得接近理想之逆波長色散特性的特性，結果可實現非常優異之抗反射特性。第1液晶定向固化層及第2液晶定向固化層代表上皆折射率特性展現nx＞ny=nz之關係。第1液晶定向固化層及第2液晶定向固化層皆Nz係數宜為0.9~1.5，較宜為0.9~1.3。關於構成第1液晶定向固化層及第2液晶定向固化層之液晶化合物、以及第1液晶定向固化層及第2液晶定向固化層之形成方法，例如記載於日本專利特開2006-163343號公報中。本說明書中係援用該公報之記載作為參考。此外，第1相位差層具有所述積層結構時，第2相位差層代表上可省略。
C-5.導電層或附導電層之各向同性基材 導電層可利用任意適當之成膜方法(例如真空蒸鍍法、濺鍍法、CVD法、離子鍍法、噴霧法等)，將金屬氧化物膜成膜於任意適當之基材上來形成。金屬氧化物可列舉例如氧化銦、氧化錫、氧化鋅、銦錫複合氧化物、錫銻複合氧化物、鋅鋁複合氧化物、銦鋅複合氧化物。其中宜為銦錫複合氧化物(ITO)。
導電層包含金屬氧化物時，該導電層之厚度宜為50nm以下，較宜為35nm以下。導電層之厚度的下限宜為10nm。
導電層可由上述基材轉印至第1相位差層(或若有第2相位差層存在則為第2相位差層)而以導電層單獨作為附相位差層之偏光板的構成層，亦可以導電層與基材之積層體(附導電層之基材)的形式積層於第1相位差層(或若有第2相位差層存在則為第2相位差層)。較佳為上述基材在光學上為各向同性，因此導電層可作為附導電層之各向同性基材用於附相位差層之偏光板。
在光學上為各向同性的基材(各向同性基材)可採用任意適當之各向同性基材。構成各向同性基材之材料可舉例如以降莰烯系樹脂或烯烴系樹脂等不具有共軛系之樹脂為主骨架的材料、於丙烯酸系樹脂之主鏈中具有內酯環或戊二醯亞胺環等環狀結構的材料等。若使用所述材料，便可於形成各向同性基材時將伴隨分子鏈定向而展現之相位差抑制得較小。各向同性基材之厚度宜為50µm以下，較宜為35µm以下。各向同性基材之厚度的下限例如為20µm。
上述導電層及/或上述附導電層之各向同性基材的導電層可因應需要進行圖案化。藉由圖案化可形成導通部與絕緣部。結果可形成電極。電極可作為用以感測對觸控面板之接觸的觸控感測電極發揮功能。圖案化方法可採用任意適當之方法。圖案化方法的具體例可舉濕式蝕刻法、網版印刷法。
D.影像顯示裝置 上述A項及B項記載之偏光板或上述C項記載之附相位差層之偏光板可應用於影像顯示裝置。因此，本發明實施形態包含使用有所述偏光板或附相位差層之偏光板的影像顯示裝置。影像顯示裝置的代表例可舉液晶顯示裝置、電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)。本發明實施形態之影像顯示裝置於其視辨側具備偏光板或附相位差層之偏光板。附相位差層之偏光板係以使相位差層成為在影像顯示單元(例如液晶單元、有機EL單元、無機EL單元)側之方式(使偏光膜成為視辨側之方式)積層。在一實施形態中，影像顯示裝置具有彎曲的形狀(實質上為彎曲的顯示畫面)，及/或可撓曲或可彎折。藉由使用如上述之偏光板或附相位差層之偏光板，可使影像顯示裝置之反射色相接近中性。因此，根據本發明實施形態，亦可提供一種所述影像顯示裝置之影像調整方法。
實施例 以下，以實施例來具體說明本發明，惟本發明不受該等實施例所限。各特性之測定方法如以下所述。此外，只要無特別註記，實施例及比較例中之「份」及「%」即為重量基準。 (1)厚度 10µm以下的厚度係使用干涉膜厚計(大塚電子公司製，製品名「MCPD-3000」)進行測定。大於10µm的厚度係使用數位測微器(Anritsu公司製，產品名「KC-351C」)進行測定。 (2)單體透射率及偏光度 針對實施例及比較例所用偏光板，使用紫外可見光分光光度計(日本分光公司製V-7100)進行測定，並將測得之單體透射率Ts、平行透射率Tp、正交透射率Tc分別作為偏光膜之Ts、Tp及Tc。該等Ts、Tp及Tc係以JIS Z8701之2度視野(C光源)進行測定並進行視感度校正所得之Y值。此外，實施例及比較例所用偏光板之保護層於表面具有硬塗(HC)層，保護層之折射率為1.50，HC層之折射率為1.53。且，偏光膜之與保護層相反之側的表面之折射率為1.53。 從所得Tp及Tc利用下述式求得偏光度P。 偏光度P(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)} 1 /2×100 此外，分光光度計亦可使用大塚電子公司製 LPF-200等進行同等之測定。 以透射率來說，不論是保護層之透射率及偏光板之透射率任一者，表面之折射率皆為1.50/1.53時之值，而當測定構成之表面折射率的組合與此不同時，會依表面折射率之變化從空氣界面之反射(表面反射)之變化量大小進行理論校正。例如，測定附HC層之TAC/偏光膜(設為透射率40%)之構成時，表面折射率之組合為1.53/1.53，因此藉由設為測定值+0.2%，可換算成以1.50/1.53計之偏光板之透射率。附HC層之TAC薄膜單體之透射率其折射率組合為1.50/1.53，故不進行校正。 (3)正面反射色相 利用無紫外線吸收功能之丙烯酸系黏著劑將實施例及比較例所得附相位差層之偏光板貼合於反射板(TORAY薄膜公司製，商品名「DMS-X42」；反射率86%，無偏光板時之反射色相a *=-0.22、b *=0.32)上，製出測定試樣。此時，係以附相位差層之偏光板的相位差層側與反射板相對向之方式作貼合。對該測定試樣用分光測色計(Konica Minolta製CM-2600d)以SCE方式進行測定，並將a *及b *的值代入√(a *2+b *2)求出正面反射色相。
[實施例1-1] 1.偏光膜之製作 熱塑性樹脂基材是使用長條狀且吸水率0.75%、Tg約75℃之非晶質間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(厚度：100µm)。並對樹脂基材之單面施行了電暈處理。 在以9：1混合聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(日本合成化學工業公司製，商品名「GOHSEFIMER Z410」)而成之PVA系樹脂100重量份中添加碘化鉀13重量份後溶解於水中，而調製出PVA水溶液(塗佈液)。 於樹脂基材之電暈處理面塗佈上述PVA水溶液並在60℃下乾燥，藉此形成厚度13µm之PVA系樹脂層，而製作出積層體。 將所得積層體於130℃之烘箱內在周速相異之輥間往縱方向(長邊方向)進行自由端單軸延伸成2.4倍(空中輔助延伸處理)。 接著，使積層體浸漬於液溫40℃的不溶解浴(相對於水100重量份摻混4重量份之硼酸而得之硼酸水溶液)中30秒鐘(不溶解處理)。 接著，於液溫30℃的染色浴(相對於水100重量份，以1：7之重量比摻混碘與碘化鉀而得之碘水溶液)中調整濃度同時使其浸漬於其中60秒鐘，以使最後所得偏光膜的單體透射率(Ts)成為所期望之值(染色處理)。 接著，使其浸漬於液溫40℃的交聯浴(相對於水100重量份摻混3重量份之碘化鉀並摻混5重量份之硼酸而得之硼酸水溶液)中30秒鐘(交聯處理)。 然後，一邊使積層體浸漬於液溫70℃的水溶液(硼酸濃度4.0重量%、碘化鉀5.0重量%)中，一邊在周速相異的輥間往縱向(長邊方向)進行單軸延伸以使總延伸倍率達5.5倍(水中延伸處理)。 之後，使積層體浸漬於液溫20℃的洗淨浴(相對於水100重量份摻混4重量份之碘化鉀而得之水溶液)中(洗淨處理)。 之後，一邊在保持於90℃之烘箱中乾燥，一邊使其接觸表面溫度保持於75℃之SUS製加熱輥約2秒(乾燥收縮處理)。積層體在乾燥收縮處理下之寬度方向之收縮率為5.2%。 經由以上程序，於樹脂基材上形成了厚度5µm之偏光膜。
2.TAC薄膜之染色 一邊輸送於長條狀TAC薄膜(Konica Minolta公司製，商品名「KC-2UA」，厚度25µm)上形成有厚度7µm、折射率1.53之HC層的HC-TAC薄膜，一邊將其浸漬於液溫25℃之染色浴(碘濃度1.0重量%之碘水溶液)中。浸漬時間為60秒。所得染色TAC薄膜在波長400nm下之透射率為59.8%，透射率Y值為90.1%。
3.偏光板之製作 透過紫外線硬化型接著劑將上述2.所得附HC層之染色TAC薄膜貼合於上述1.所得偏光膜表面(與樹脂基材相反之側的面)。具體言之，是塗敷成硬化型接著劑之總厚度成為1.0µm，並使用輥軋機進行貼合。然後，從TAC薄膜側照射UV光線使接著劑硬化。接著，將兩端部切開後，剝離樹脂基材，而獲得具有保護層(染色TAC薄膜)/接著層/偏光膜之構成的長條狀偏光板(寬度：1300mm)。偏光板(實質上為偏光膜)的單體透射率為43.0%，偏光度為99.995%。
4.構成相位差層之相位差薄膜之製作 4-1.聚酯碳酸酯系樹脂之聚合 使用由2台具備有攪拌葉片及控制成100℃之回流冷卻器的直立式反應器構成之批次聚合裝置進行聚合。饋入雙[9-(2-苯氧基羰基乙基)茀-9-基]甲烷29.60質量份(0.046mol)、異山梨醇(ISB)29.21質量份(0.200mol)、螺甘油(SPG)42.28質量份(0.139mol)、碳酸二苯酯(DPC)63.77質量份(0.298mol)及作為觸媒的乙酸鈣一水合物1.19×10 -2質量份(6.78×10 -5mol)。將反應器內進行減壓氮取代後，以熱介質加溫，並於內溫達100℃之時間點開始攪拌。於升溫開始40分鐘後使內溫達到220℃，控制維持該溫度的同時開始減壓，在達到220℃後以90分鐘使其成為13.3kPa。將隨聚合反應副生成之苯酚蒸氣導入100℃之回流冷卻器，使苯酚蒸氣中所含些許量之單體成分返回反應器，並將未凝聚之苯酚蒸氣導入45℃的凝聚器中回收。將氮導入第1反應器暫時使其回復到大氣壓後，將第1反應器內之經寡聚化的反應液移至第2反應器。接著，開始進行第2反應器內的升溫及減壓，並以50分鐘使內溫成為240℃、壓力成為0.2kPa。然後，進行聚合直到達到預定之攪拌功率。在達到預定功率之時間點將氮導入反應器中使壓力回復，並將所生成之聚酯碳酸酯系樹脂擠出至水中，裁切束狀物而獲得丸粒。
4-2.相位差薄膜之製作 將所得聚酯碳酸酯系樹脂(丸粒)在80℃下真空乾燥5小時後，使用具備單軸擠製機(東芝機械公司製，缸筒設定溫度：250℃)、T型模(寬200mm，設定溫度：250℃)、冷卻輥(設定溫度：120~130℃)及捲取機之薄膜製膜裝置，製作出厚度135µm之長條狀樹脂薄膜。將所得長條狀樹脂薄膜以延伸溫度133℃、延伸倍率2.8倍往寬度方向延伸，而獲得厚度48µm之相位差薄膜。所得相位差薄膜之Re(550)為144nm，Re(450)/Re(550)為0.82，且Nz係數為1.12。
5.附相位差層之偏光板之製作 透過丙烯酸系黏著劑(厚度5µm)將上述4.所得相位差薄膜貼合於上述3.所得偏光板之偏光膜表面。此時，係以使偏光膜之吸收軸與相位差薄膜之慢軸形成45°角度的方式貼合。依上述方式，獲得具有保護層/接著層/偏光膜/黏著劑層/相位差層之構成的附相位差層之偏光板。所得附相位差層之偏光板的總厚度為84µm。將所得附相位差層之偏光板供於上述(3)的評估。將結果列於表1。
[實施例1-2] 除了將染色時間設為120秒外，依與實施例1-1相同方式將TAC薄膜染色。所得染色TAC薄膜在波長400nm下之透射率為52.8%，透射率Y值為89.2%。除了使用該染色TAC薄膜外，依與實施例1-1相同方式而製出附相位差層之偏光板。將所得附相位差層之偏光板供於與實施例1-1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例1-3] 除了將染色時間設為300秒外，依與實施例1-1相同方式將TAC薄膜染色。所得染色TAC薄膜在波長400nm下之透射率為31.9%，透射率Y值為88.4%。除了使用該染色TAC薄膜外，依與實施例1-1相同方式而製出附相位差層之偏光板。將所得附相位差層之偏光板供於與實施例1-1相同之評估。將結果列於表1。
[比較例1] 除了使用未染色之TAC薄膜外，依與實施例1-1相同方式而製出附相位差層之偏光板。未染色之TAC薄膜在波長400nm下之透射率為68.5%，透射率Y值為92.1%。將所得附相位差層之偏光板供於與實施例1-1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例2-1] 調整染色條件，而製出單體透射率為44.0%之偏光膜。除了使用該偏光膜外，依與實施例1-1相同方式而製出附相位差層之偏光板。將所得附相位差層之偏光板供於與實施例1-1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例2-2] 除了使用實施例2-1製出之偏光膜外，依與實施例1-2相同方式而製出附相位差層之偏光板。將所得附相位差層之偏光板供於與實施例1-1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例2-3] 除了使用實施例2-1製出之偏光膜外，依與實施例1-3相同方式而製出附相位差層之偏光板。將所得附相位差層之偏光板供於與實施例1-1相同之評估。將結果列於表1。
[比較例2] 除了使用實施例2-1製出之偏光膜外，依與比較例1相同方式而製出附相位差層之偏光板。將所得附相位差層之偏光板供於與實施例1-1相同之評估。將結果列於表1。
[表1]
Figure 02_image001
[評估] 由表1可知，根據本發明實施例，藉由使用染色TAC薄膜作為保護層，可使反射色相較比較例更接近中性之狀態。
產業上之可利用性 本發明附相位差層之偏光板可適宜用作液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置及無機EL顯示裝置用之圓偏光板。
10:偏光板 11:偏光膜 12:視辨側保護層 13:內側保護層 20:相位差層(第1相位差層) 50:另一相位差層(第2相位差層) 60:導電層或附導電層之各向同性基材 100:附相位差層之偏光板 101:附相位差層之偏光板 200:積層體 G1~G4:導輥 R1~R6:輸送輥
圖1係概略圖，其顯示本發明實施形態之偏光板或附相位差層之偏光板所用偏光膜之製造方法中，利用加熱輥之乾燥收縮處理之一例。 圖2係本發明一實施形態之附相位差層之偏光板的概略截面圖。 圖3係本發明另一實施形態之附相位差層之偏光板的概略截面圖。
10:偏光板
11:偏光膜
12:視辨側保護層
13:內側保護層
20:相位差層(第1相位差層)
100:附相位差層之偏光板

Claims (15)

  1. 一種染色三醋酸纖維素薄膜，其業經碘染色，並且在波長400nm下之透射率為65%以下，且視感度校正後之透射率Y為80%以上。
  2. 一種偏光板，包含偏光膜與配置於該偏光膜之至少單側的保護層； 該偏光膜之厚度為8µm以下； 該保護層係以如請求項1之染色三醋酸纖維素薄膜構成。
  3. 一種偏光板之製造方法，係製造如請求項2之偏光板之方法，其包含以下步驟： 於長條狀熱塑性樹脂基材之單側形成聚乙烯醇系樹脂層而製成積層體； 對該積層體施行染色處理及延伸處理，以將聚乙烯醇系樹脂層製成偏光膜； 利用碘將三醋酸纖維素薄膜染色，以使其在波長400nm下之透射率為65%以下，且使視感度校正後之透射率Y為80%以上；及 將該經染色之三醋酸纖維素薄膜貼合於該偏光膜。
  4. 如請求項3之偏光板之製造方法，其中前述染色包含將前述三醋酸纖維素薄膜浸漬於碘濃度0.1重量%以上之碘水溶液中。
  5. 一種附相位差層之偏光板，包含如請求項2之偏光板及配置於該偏光板之與視辨側相反之側的相位差層； 該相位差層之Re(550)為100nm~190nm，Re(450)/Re(550)為0.8以上且小於1； 該相位差層的慢軸與該偏光板之偏光膜的吸收軸形成之角度為40°~50°。
  6. 如請求項5之附相位差層之偏光板，其中前述相位差層係以聚碳酸酯系樹脂薄膜構成。
  7. 如請求項5或6之附相位差層之偏光板，其中於前述相位差層之外側更具有另一相位差層，該另一相位差層之折射率特性展現nz＞nx=ny之關係。
  8. 如請求項5至7中任一項之附相位差層之偏光板，其為長條狀； 前述偏光膜於長條方向上具有吸收軸； 前述相位差層為於相對於長條方向形成40°~50°角度之方向上具有慢軸之斜向延伸薄膜。
  9. 如請求項8之附相位差層之偏光板，其可捲繞成捲狀。
  10. 一種附相位差層之偏光板，包含如請求項2之偏光板及配置於該偏光板之與視辨側相反之側的相位差層； 該相位差層具有第1液晶化合物之定向固化層與第2液晶化合物之定向固化層的積層結構； 該第1液晶化合物之定向固化層的Re(550)為200nm~300nm，且其慢軸與前述偏光膜的吸收軸形成之角度為10°~20°； 該第2液晶化合物之定向固化層的Re(550)為100nm~190nm，且其慢軸與該偏光膜的吸收軸形成之角度為70°~80°。
  11. 如請求項5至10中任一項之附相位差層之偏光板，其中於前述相位差層之外側更具有導電層或附導電層之各向同性基材。
  12. 一種影像顯示裝置，具備如請求項2之偏光板。
  13. 一種影像顯示裝置，具備如請求項5至11中任一項之附相位差層之偏光板。
  14. 如請求項12或13之影像顯示裝置，其係有機電致發光顯示裝置或無機電致發光顯示裝置。
  15. 一種影像顯示裝置之影像調整方法，包含以下步驟：將如請求項2之偏光板或如請求項5至11中任一項之附相位差層之偏光板貼合於影像顯示單元之視辨側，使反射色相接近中性。
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