TW202206271A - 透明積層體、影像顯示裝置、雙面抗反射積層體、及臉部用透明防護裝備 - Google Patents

Abstract

提供一種具有抗反射性及優異防霧性，且即使於容易起霧之環境下視感反射率亦不易變化的透明積層體，及具備該透明積層體之影像顯示裝置。若根據本發明之一態樣，可提供一種具備功能層12與折射率低於功能層12的低折射率層13之透明積層體10，低折射率層13之表面13A形成透明積層體10之表面10A，於進行防霧性試驗時，透明積層體10之表面10A不會起霧，且於防霧性試驗前後之透明積層體10其表面10A的視感反射率Y之差的絕對值ΔY1為0.2％以下，該防霧性試驗係將透明積層體10放置於－15℃之環境下5分鐘後，移至20℃以上且25℃以下，相對濕度40％以上且70％以下之環境下放置5分鐘。

Description

透明積層體、影像顯示裝置、雙面抗反射積層體、及臉部用透明防護裝備

本發明係關於一種透明積層體、影像顯示裝置、雙面抗反射積層體、及臉部用透明防護裝備。

近年來，一直在開發如數位標示（電子看板）等在室外亦可使用的影像顯示裝置。於可在室外使用之影像顯示裝置中，為了提高耐久性，有時會在較顯示面板靠近觀察者側介隔空氣層（氣隙）配置前板。

前板通常由玻璃板構成，但為了抑制外部光線之反射，有時會在較玻璃板靠近顯示面板側設置抗反射膜（例如，參照專利文獻1）。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本特開2016－35519號公報

然而，室外所使用之影像顯示裝置雖有防雨及防風措施，但沒有防霧措施。尤其是在前板與顯示面板之間具有空氣層之構造的影像顯示裝置，若於室外使用，則存在於空氣層中之水分量會變多。因此，若以抗反射膜成為顯示面板側之方式將抗反射膜設置於前板，則於影像顯示裝置之使用時，抗反射膜之表面（具體而言，為低折射率層之表面）會因空氣層中之水分而起霧，而有因抗反射膜表面之視感反射率降低而導致影像的清晰度、辨視性及穿透性降低之虞。尤其是於大型影像顯示裝置中，若抗反射膜之一部份的表面起霧，而因此造成影像之清晰度局部降低，則亦有時會出現起因於影像之清晰度與其他部分不同的不均勻。

又，目前新型冠狀病毒正在世界肆虐。已知新型冠狀病毒等係藉由飛沫感染，而為了預防此飛沫感染，有時會穿戴面罩等臉部用透明防護裝備，或隔著透明隔板等進行談話。又，在預防其他病毒之感染或抗污等衛生方面上，於所有人與人接觸之場合，皆需要此種防護裝備。

然而，若隔著臉部用透明防護裝備或隔著透明隔板進行談話，則可能會因光之反射而難以看見口部之動作，及因呼氣而使得臉部用透明防護裝備等起霧，給談話的對方帶來不安或壓力。

本發明係為了解決上述問題而完成者。亦即，目的在於提供一種具有抗反射性及優異防霧性，且即使於容易起霧之環境下視感反射率亦不易變化的透明積層體及具備該透明積層體之影像顯示裝置、雙面抗反射積層體、以及具備雙面抗反射積層體之臉部用透明防護裝備。

[1]一種透明積層體，具備功能層與折射率低於該功能層的低折射率層，該低折射率層之表面形成該透明積層體之表面，於進行防霧性試驗時，該透明積層體之該表面不會起霧，且於該防霧性試驗前後之該透明積層體的該表面之視感反射率Y之差的絕對值ΔY1為0.2％以下，該防霧性試驗係將該透明積層體放置於－15℃之環境下5分鐘後，移至20℃以上且25℃以下，相對濕度40％以上且70％以下之環境下放置5分鐘。

[2]一種透明積層體，具備功能層與折射率低於該功能層的低折射率層，於該透明積層體之表面藉由傅立葉轉換紅外光譜術所得到的吸收光譜中，1780cm^-1 ～1700cm^-1 之第2波數域的第2波峰強度相對於1150cm^-1 ～1000cm^-1 之第1波數域的第1波峰強度之比為1.25以上且2.20以下。

[3]一種透明積層體，具備功能層與折射率低於該功能層的低折射率層，於該透明積層體之表面藉由傅立葉轉換紅外光譜術所得到的吸收光譜中，1780cm^-1 ～1700cm^-1 之第2波數域的第2波峰強度相對於1150cm^-1 ～1000cm^-1 之第1波數域的第1波峰強度之比為0.01以上且0.40以下。

[4]如上述[1]至[3]中任一項之透明積層體，其中，於該透明積層體之該表面之算術平均粗糙度相對於最大高度的比為0.02以上且0.15以下。

[5]如上述[1]至[4]中任一項之透明積層體，其中，於該透明積層體之該表面的壓痕硬度為20MPa以上且100MPa以下，且於該透明積層體之該表面的複合彈性模數為0.15GPa以上且1.5GPa以下。

[6]如上述[1]至[5]中任一項之透明積層體，其中，該低折射率層之膜厚為200nm以下。

[7]如上述[1]至[6]中任一項之透明積層體，其中，該功能層之膜厚為3μm以上。

[8]如上述[1]至[9]中任一項之透明積層體，其中，該功能層含有親水基，該低折射率層與該功能層鄰接。

[9]如上述[1]至[8]中任一項之透明積層體，其中，於該透明積層體之該表面對水的接觸角為90°以上。

[10]如上述[1]至[9]中任一項之透明積層體，其中，該低折射率層含有中空二氧化矽粒子。

[11]如上述[1]至[10]中任一項之透明積層體，其中，該功能層為硬塗層（hard coat layer）。

[12]如上述[1]至[11]中任一項之透明積層體，其進一步具備設置於該功能層之與該低折射率層側之面相反側之面的基材。

[13]如上述[12]之透明積層體，其中，該基材包含樹脂或玻璃。

[14]如上述[1]至[13]中任一項之透明積層體，其係使用於影像顯示裝置、臉部用透明防護裝備、透明膜簾或透明隔板。

[15]如上述[14]之透明積層體，該影像顯示裝置為室外用影像顯示裝置。

[16]一種影像顯示裝置，具備顯示面板與透光性前板，該透光性前板在與該顯示面板之間介隔空氣層而配置於該顯示面板之觀察者側，該前板具備：基材、與配置於該基材之該顯示面板側及觀察者側之至少任一側的上述[1]至[13]中任一項之透明積層體。

[17]一種雙面抗反射積層體，於雙面具有抗反射功能，該雙面抗反射積層體具備有上述[1]至[13]中任一項之透明積層體、配置於該透明積層體之與該表面相反之背面側的抗反射膜、及接合該透明積層體與該抗反射膜之透明接著層。

[18]如上述[17]之雙面抗反射積層體，其被用於臉部用透明防護裝備，該透明積層體之該表面位於臉側。

[19]如上述[17]或[18]之雙面抗反射積層體，其總光線穿透率為90％以上。

[20]如[17]至[19]中任一項之雙面抗反射積層體，其雙面反射率為0.1％以上且2％以下，且該透明積層體之該表面的視感反射率為該抗反射膜的視感反射率以上。

[21]如上述[17]至[19]中任一項之雙面抗反射積層體，其雙面反射率為0.1％以上且2％以下，且該透明積層體其視感反射率與該抗反射膜其視感反射率之差的絕對值ΔY2為1.0％以下。

[22]一種臉部用透明防護裝備，具備有支持構件及安裝於該支持構件之上述[17]至[21]中任一項之雙面抗反射積層體，該透明積層體之該表面位於臉側。

若根據本發明，可提供一種具有抗反射性及優異防霧性，且即使於容易起霧之環境下視感反射率亦不易變化的透明積層體、具備該透明積層體之影像顯示裝置、雙面抗反射積層體以及具備雙面抗反射積層體之臉部用透明防護裝備。

以下，一邊參照圖式，一邊說明本發明之實施形態的透明積層體、雙面抗反射積層體、影像顯示裝置及臉部用透明防護裝備。於本說明書中，「膜」、「片」等用語並非僅基於名稱之差異而相互有所區別。因此，例如「膜」能以亦包含也被稱為片之類的構件之意思來使用。圖1係本實施形態之透明積層體的概略構成圖，圖2～圖5係本實施形態之其他透明積層體的概略構成圖。圖6係本實施形態之影像顯示裝置的概略構成圖，圖7係本實施形態之臉部用透明防護裝備的概略構成圖。圖8係圖7所示之雙面抗反射積層體的概略構成圖，圖9～圖11係本實施形態之其他雙面抗反射積層體的概略構成圖，圖12係本實施形態之單面抗反射積層體的概略構成圖。

＜＜＜透明積層體＞＞＞ 圖1所示之透明積層體10為具有抗反射性及防霧性之透明的積層體。亦即，透明積層體10係作為抗反射膜及防霧性膜發揮功能者。所謂本說明書中之「透明」，若具有可實現視用途之穿透辨視性之程度的透明性即可。

透明積層體10依序具備有基材11、功能層12及折射率低於功能層12的低折射率層13。低折射率層13鄰接於功能層12。透明積層體10雖具備有基材11，但亦可不具備有基材11。又，於低折射率層13上，亦可設置有至少1層以上之其他功能層。

圖1所示之透明積層體10的表面10A，係成為低折射率層13之表面13A。本說明書中之透明積層體的「表面」此一用語，係作為意指透明積層體之低折射率層側的表面者來使用，因此關於透明積層體之與表面相反側之面，為了與透明積層體之表面區別，而稱為「背面」。透明積層體10之背面10B，係成為基材11之第2面11B。於低折射率層13上，當設置有至少1層以上之其他功能層的情形時，透明積層體之表面係成為此功能層中之最上層的表面。另，作為此功能層，例如可舉1nm以上且50nm以下之極薄膜的抗污層或抗靜電層等。

構成透明積層體10之至少任何一層，較佳含有紫外線吸收劑。作為紫外線吸收劑，可使用公知之紫外線吸收劑。

於透明積層體10，當進行防霧性試驗時，透明積層體10之表面10A不會起霧，上述防霧性試驗係將透明積層體10放置於－15℃之環境下5分鐘後，移至20℃以上且25℃以下，相對濕度40％以上且70％以下之環境下放置5分鐘。防霧性試驗中的－15℃之環境可藉由冰箱而得。又，當進行防霧性試驗時，係使用從透明積層體10切下之樣品進行，樣品之大小係設為100mm×100mm。然後，以膜厚25μm之透明黏著劑（製品名「PD－S1」，汎納克股份有限公司製）將此樣品貼合於100mm×100mm×2mm大小之丙烯酸製的黑板（例如，製品名「comoglas acrylic plate」，可樂麗股份有限公司製）。此時，係以透明積層體之背面成為上述丙烯酸製之黑板側的方式貼合，以透明積層體之表面作為觀察側。然後，將以此方式形成者作為測量樣品。將相同之測量樣品各製成3片，分別以3片（n＝3）之測量樣品進行防霧性試驗。測量樣品之表面（低折射率層13之表面13A）是否不會起霧，係以目視來觀察剛進行防霧性試驗後之測量樣品的表面，藉此加以判斷。另，於上述防霧性試驗中，將透明積層體10在20℃以上且25℃以下，相對濕度40％以上且70％以下之環境下放置5分鐘，係因為有時剛將透明積層體10移至20℃以上且25℃以下之環境下後雖然不會起霧，但隨著時間經過卻會起霧的緣故。

於透明積層體10，上述防霧性試驗前後之透明積層體10其表面10A的視感反射率Y之差的絕對值（│防霧性試驗前之透明積層體的視感反射率－防霧性試驗後之透明積層體的視感反射率│）ΔY1為0.2％以下。視感反射率Y可使用分光光度計（例如，製品名「UV－2600」，島津製作所股份有限公司製）進行測量。具體而言，首先，從透明積層體10切下上述大小之樣品後，使用上述分光光度計，從防霧性試驗前之樣品的表面（低折射率層13之表面13A等）側照射入射角度5度之光，接收在樣品被反射之鏡面反射方向的反射光，測量380nm～780nm之波長範圍的反射率。本說明書中的「入射角度5度之光」，意指將樣品之表面（低折射率層之表面）的法線方向設為0度時，相對於前述法線方向傾斜5度之光。然後，藉由換算為人類用眼睛感受之明度的軟體（例如，內置於UV－2600之軟體）算出視感反射率Y。之後，對樣品進行防霧性試驗。然後，與防霧性試驗前之樣品的視感反射率Y同樣方式求出防霧性試驗後之樣品的視感反射率Y，再求出防霧性試驗前後之透明積層體10其表面10A的視感反射率Y之差的絕對值。上述防霧性試驗前之透明積層體的視感反射率及上述防霧性試驗後之透明積層體的視感反射率，係分別於樣品隨機測量40點，設定為所測量之40點的視感反射率之算術平均值。上述ΔY1之上限更佳為0.2％以下、0.15％以下、0.125％以下。而上述ΔY1之下限則為0％以上，但亦可為0.03％以上。

於透明積層體10，在63℃，相對濕度50％之環境下對透明積層體10照光（例如來自碳弧燈之光）200小時的耐光性試驗前後之透明積層體10其視感反射率Y之差的絕對值（│耐光性試驗前之透明積層體的視感反射率－耐光性試驗後之透明積層體的視感反射率│）ΔY3亦較佳為0.5％以下。耐光性試驗可使用褪色測試儀（例如，製品名「紫外線褪色測試儀U48AU」，須賀試驗機股份有限公司製）進行。具體而言，首先，從透明積層體切下上述大小之樣品後，使用上述分光光度計，與上述同樣方式求出耐光性試驗前之視感反射率Y。之後，將樣品設置於上述褪色測試儀內，以上述條件進行耐光性試驗。然後，與耐光性試驗前之樣品的視感反射率Y同樣方式求出耐光性試驗後之樣品的視感反射率Y，再求出耐光性試驗前後之透明積層體10其表面10A的視感反射率Y之差的絕對值。上述耐光性試驗前之透明積層體的視感反射率及上述防霧性試驗後之透明積層體的視感反射率，係分別於樣品隨機測量40點，設定為所測量之40點的視感反射率之算術平均值。上述ΔY3之上限更佳為0.5％以下、0.4％以下、0.3％以下或0.2％以下。而上述ΔY3之下限則為0％以上。

於透明積層體10，較佳在未進行上述防霧性試驗或上述耐光性試驗之狀態下的表面10A之視感反射率Y為3.5％以下。藉此，由於透明積層體10整體之透光率亦上升，故例如臉部用透明防護裝備之佩戴者於具備透明積層體10之臉部用透明防護裝備容易看見對方等，且對方側亦容易看見佩戴者，並且於影像顯示裝置中，亦可提升影像清晰度。透明積層體之視感反射率，係以涵蓋透明積層體整體之方式於上述大小之樣品以大致等間隔測量40點，設定為所測量之40點的視感反射率之算術平均值。上述視感反射率Y從更加抑制外部光線之反射的觀點，更佳為2.0％以下、1.5％以下或1.2％以下。另，當透明積層體10被使用於臉部用透明防護裝備之透明遮蔽膜的情形時，最好是臉部用透明防護裝備的佩戴側之面（內面）及對方側之面（外面）的視感反射率低，但可至少藉由對方側之面的視感反射率低於佩戴側之面，來改善溝通上的課題。

於透明積層體10之表面10A的傅立葉轉換紅外光譜術（FT－IR法）之吸收光譜中，1780cm^-1 ～1700cm^-1 之第2波數域的第2波峰強度相對於1150cm^-1 ～1000cm^-1 之第1波數域的第1波峰強度之比（第2波峰強度／第1波峰強度）較佳為1.25以上且2.20以下。存在於第1波數域之波峰係來自酯基之波峰，存在於第2波數域之波峰則是來自醚基之波峰，故於上述吸收光譜中在第1波數域具有波峰且在第2波數域具有波峰，係意指透明積層體10（例如，功能層12及低折射率層13之至少任一層）含有酯成分及防霧材等醚成分。若上述比為1.25以上，則含有醚成分之防霧材多，故可更加提升防霧性或柔軟性，又，若為2.20以下，則含有醚成分之防霧材不會過多，故可抑制硬度降低或耐刮傷性降低。上述比較佳為1.30以上且2.20以下、1.35以上且2.20以下、1.40以上且2.20以下、1.25以上且2.15以下、1.30以上且2.15以下、1.35以上且2.15以下、1.40以上且2.15以下、1.25以上且2.10以下、1.30以上且2.10以下、1.35以上且2.10以下、1.40以上且2.10以下、1.25以上且2.00以下、1.30以上且2.00以下或1.35以上且2.00以下、1.25以上且1.95以下、1.30以上且1.95以下或1.35以上且1.95以下。尤其是當例如將透明積層體10用於臉部用透明防護裝備之情形時，必須可承受室外之粉塵等，但於耐鋼絲絨試驗中由於無法評價粉塵耐久性，故於進行落砂試驗（ASTMD968）作為粉塵攻擊之類的試驗時，若上述比為1.30以上且1.95以下，則由於可兼具實際使用時之粉塵耐久性與防霧性兩者，故更佳為1.30以上且1.95以下。又，於更加提升粉塵耐久性之情形時，亦可為1.25以上且1.30以下，並且於更加提升防霧性之情形時，亦可為1.95以上且2.20以下。

於透明積層體10之表面10A的傅立葉轉換紅外光譜術（FT－IR法）之吸收光譜中，當在1540cm^-1 ～1560cm^-1 之第3波數域存在波峰的情形時（例如，透明積層體含有具有胺酯骨架之材料的情形），較佳為1780cm^-1 ～1700cm^-1 之第2波數域的第2波峰強度相對於1150cm^-1 ～1000cm^-1 之第1波數域的第1波峰強度之比為0.01以上且0.4以下。若上述比為0.01以上，則含有醚成分之防霧材多，故可更加提升防霧性或柔軟性，又，若為0.4以下，則含有醚成分之防霧材不會過多，故可抑制硬度降低或耐刮傷性降低。關於上述比，較佳為0.03以上且0.4以下、0.05以上且0.4以下、0.01以上且0.35以下、0.03以上且0.35以下、0.05以上且0.35以下、0.10以上且0.35以下、0.01以上且0.30以下、0.03以上且0.30以下、0.05以上且0.30以下或0.10以上且0.30以下。又，於更加提升粉塵耐久性之情形時，亦可為0.01以上且0.1以下，並且於更加提升防霧性之情形時，亦可為0.3以上且0.4以下。

以傅立葉轉換紅外分析法進行之測量，能以下述方式進行。首先，從透明積層體切下10mm×10mm大小以上之樣品。另一方面，使用在傅立葉轉換紅外光譜光度計（製品名「Nicolet iS10 FT－IR」，Thermo Fisher Scientific製）安裝有測量用輔助裝置（製品名「Thunderdome」，Spectra－Tech公司製，ATR結晶：Ge，紅外線入射角：45°）之測量裝置，於不設置樣品下，進行背景測量。之後，將樣品之測量面朝向晶體側設置於測量用輔助裝置。然後，轉動壓緊夾具之旋鈕，使樣品充分接地於晶體。之後，使用監測器確認樣品之吸收光譜後，以下述測量條件藉由上述測量裝置開始測量。從所得到之吸收光譜中的背景，使用測量裝置附帶的計算軟體分別求出存在於第1波數域之波峰及存在於第2波數域之波峰其至峰頂的高度，從其結果算出強度比。 （測量條件） ・波數範圍：4000～800cm^-1 ・累積次數：64次 ・解析度：8cm^-1 ・檢測器：TGS ・ATR校正：無 ・測量及分析軟體：Thermo Scientific OMINIC

酯成分主要為來自功能層12或低折射率層13所含之游離輻射聚合性化合物之聚合物的成分。醚成分主要為後述防霧材所含之成分，例如若防霧材為具有環氧乙烷（EO）等環氧烷（alkylene oxide）之材料，則為來自環氧烷之成分，當防霧材為聚醚系胺酯（甲基）丙烯酸酯之情形時，為來自聚醚之成分。

於透明積層體10之表面10A的算術平均粗糙度（Ra）相對於最大高度（Rz）之比（Ra／Rz）較佳為0.02以上且0.15以下。於防霧性上，透明積層體之表面的表面積大較為有利，因此透明積層體之表面較佳具有凹凸形狀。惟，若此凹凸形狀過大，則有顯現出防眩性，辨視性惡化之虞。因此，為了抑制辨視性降低且同時提升防霧性，上述比值較佳為0.02以上且0.15以下。亦即，若上述比為0.02以上，則由於可抑制透明積層體10之表面10A的防眩性，故可得到良好之辨視性，又若為0.15以下，則可提升防霧性。上述比值更佳為0.03以上且0.15以下、0.04以上且0.15以下、0.05以上且0.15以下、0.02以上且0.14以下、0.03以上且0.14以下、0.04以上且0.14以下、0.05以上且0.14以下、0.02以上且0.13以下、0.03以上且0.13以下、0.04以上且0.13以下、0.05以上且0.13以下、0.02以上且0.12以下、0.03以上且0.12以下、0.04以上且0.12以下或0.05以上且0.12以下。

上述Ra及Rz，係將掃描探針顯微鏡SPM－9600升級套件使用說明書（SPM－9600 2016年2月，P.194－195）所記載之2維粗糙度參數的粗糙度擴展至3維者。關於Ra，係從粗糙度曲線於其平均線之方向上僅截取基準長度（L），於此截取部分之平均線的方向上取X軸，於縱倍率之方向上取Y軸，而以y＝f（x）表示粗糙度曲線時，可用下式求得。

而關於Rz，則是從粗糙度曲線於其平均線之方向上僅截取基準長度，而於粗糙度曲線之縱倍率的方向上測量此截取部分之山頂線與谷底線的間隔所得到之值。

於上述比中使用Rz及Ra之原因如下。Ra由於為算出存在於基準長度上之全部凹凸的面積，然後除以基準長度，藉此而算出之平均值，故亦非實際之凹凸的平均值，且即使假設具有過小之凹凸或過大之凹凸，亦會完全被整平，並無法測量此種顯眼之凹凸。另一方面，Rz由於為最大高度，故可測量顯眼之凹凸。因此，為了掌握表面積之大小而使用Ra，又，為了掌握凹凸之極限值，而使用Rz。

上述Rz、Ra能以下述方式進行測量。首先，從透明積層體得到切下成5mm×5mm大小之樣品。然後，使用島津製作所股份有限公司製之原子力顯微鏡（Atomic Force Microscope；AFM）SPM－9700，於軟體：SPM管理器中之在線（On‐Line）（測量）模式時，以下述條件測量樣品之表面形狀。之後，使用離線（Off‐Line）（解析）模式，進行影像處理。分析所得到之AFM影像，得到各樣品之Rz（最大高度）及Ra（算術平均粗糙度）。對各樣品分別求出14處之Rz及Rz／Ra的算術平均值，將此等之值作為Rz及Rz／Ra。 （AFM測量條件） 測量模式：相位 掃描範圍：5μm×5μm 掃描速度：0.2Hz 像素數：512×512 所使用之懸臂：NanoWorld公司製NCHR（共振頻率：320kHz，彈簧常數42N／m） （AFM影像處理條件） 傾斜校正：X方向之平均值，面擬合（自動）

於透明積層體10之表面10A的壓痕硬度（H_IT ）較佳為20MPa以上且100MPa以下。壓痕硬度H_IT 係使用卸載曲線，算出測量樣品接觸壓頭之深度（接觸深度），從其接觸深度求出接觸面積，然後將最大載重除以接觸面積所得到之值。若壓痕硬度H_IT 為20MPa以上，則透明積層體10之表面10A不易受損，又，若為100MPa以下，則可得到良好之可撓性及良好之成形性。從透明積層體10之表面10A所測得的壓痕硬度H_IT 較佳為25MPa以上且100MPa以下、30MPa以上且100MPa以下、20MPa以上且90MPa以下、25MPa以上且90MPa以下、30MPa以上且90MPa以下、20MPa以上且80MPa以下、25MPa以上且80MPa以下或30MPa以上且80MPa以下，此等之中，尤佳為30MPa以上且80MPa以下。又，從更加提升防霧性之觀點或賦予成形性之觀點，亦可為20MPa以上且30MPa以下，又，從提升耐刮傷性之觀點，亦可為80MPa以上且100MPa以下。

於透明積層體10之表面10A的複合彈性模數（E_r ）較佳為0.15GPa以上且1.5GPa以下。複合彈性模數E_r 係從卸載曲線之斜率所算出的值。若複合彈性模數E_r 為0.15GPa以上，則透明積層體10之表面10A更不易受損，又，若為1.5GPa以下，則可得到更良好之可撓性及良好之成形性。從透明積層體10之表面10A所測得的複合彈性模數E_r 較佳為0.16GPa以上且1.5GPa以下、0.17GPa以上且1.5GPa以下、0.15GPa以上且1.45GPa以下、0.16GPa以上且1.45GPa以下、0.17GPa以上且1.45GPa以下、0.15GPa以上且1.40GPa以下、0.16GPa以上且1.40GPa以下或0.17GPa以上且1.40GPa以下，尤佳為0.25GPa以上且1.00G以下。又，從更加提升防霧性之觀點或賦予成形性之觀點，亦可為0.15GPa以上且0.25GPa以下，又，從提升耐刮傷性之觀點，亦可為1.0GPa以上且1.5GPa以下。

上述壓痕硬度H_IT 及複合彈性模數E_r 係藉由以下之方法測量。首先，以切下成20mm×20mm大小之透明積層體的表面側成為上面的方式，透過接著樹脂（製品名「Aron Alpha（註冊商標）一般用」，東亞合成股份有限公司製）固定於市售之載玻片。具體而言，將上述接著樹脂滴加於載玻片1（製品名「載玻片（切放型）1－9645－11」，AS ONE公司製）之中央部。此時，不將接著樹脂塗開，又如後述般滴加係以擠壓推開時接著樹脂不從透明積層體溢出之方式設定為1滴。之後，使切下成上述大小之透明積層體以表面側成為上面，且接著樹脂位於透明積層體之中央部的方式接觸載玻片，於載玻片1與透明積層體之間將接著樹脂擠壓推開，進行預接著。然後，將另外新的載玻片2放置於透明積層體上，而得到載玻片1／接著樹脂／透明積層體／載玻片2之積層體。接著，於載玻片2上放置30g以上且50g以下之砝碼，於該狀態下，於室溫放置12小時。之後，將砝碼與載玻片2卸下，將其作為測量樣品。另，亦可將以接著樹脂所固定之透明積層體的4個角落進一步用膠帶（製品名「Sellotape（註冊商標）」，日絆公司製）加以固定。然後，將此測量樣品固定於平行設置在防震桌之微小硬度計（製品名「TI950  TriboIndenter」，HYSITRON（海思創）公司製）的測量載台。關於此固定，用膠帶（製品名「Sellotape（註冊商標），日絆公司製」等將載玻片1之4邊加以固定等方法為任意，若測量樣品不會移動即可。又，若微小硬度計具有吸氣系統，則亦可藉由吸氣系統加以固定。將測量樣品固定於微小硬度計之測量載台後，以下述測量條件分別測量透明積層體表面之壓痕硬度H_IT 或複合彈性模數E_r 。關於壓痕硬度H_IT 或複合彈性模數E_r ，係對測量樣品之透明積層體其表面中央附近（存在接著樹脂之區域）的任意5點進行測量，設定為所得到之5點之硬度的算術平均值。惟，所測量之任意5點，係使用TI950 TriboIndenter附帶之顯微鏡，以倍率50倍～500倍觀察透明積層體，避開透明積層體中為極端之凸構造的部分及相反地為極端之凹部構造的部分，盡可能從具平坦性之部分加以選擇。 （測量條件） ・壓頭形狀：Berkovich ・載重控制方式：至最大載重40mN ・載重之增加時間：4秒 ・潛變時間（creep time）：5秒 ・載重之去除時間：4秒 ・測量時之溫度：25℃ ・測量時之濕度：50％

於透明積層體10之表面10A對水的接觸角較佳為90°以上。亦即，透明積層體10之表面10A較佳為疏水性。若此接觸角未達90°，則有與水之融合佳，吸水（吸濕）性變高，功能層或基材變形或膨脹之虞。又，若此接觸角為90°以上，則即使產生水滴，亦不會停留於表面而流下，且加工時指紋等髒汙不易附著。於透明積層體10之表面10A對水的接觸角，係依照JIS R3257：1999所記載之躺滴法，使用顯微鏡式接觸角計（製品名「DropMaster300」，協和界面科學股份有限公司製）進行測量。具體而言，首先從透明積層體10切下25mm×30mm大小之樣品。然後，將此樣品以雙面膠帶平坦地貼合於50mm×125mm大小之載玻片上。因此，成為載玻片／雙面膠帶／樣品之積層體。之後，為了使樣品之靜電不對測量結果造成影響，以離化器（例如，製品名「KD－730B」，春日電機股份有限公司製）照射離子，藉此對樣品進行靜電消除30秒鐘。靜電消除後，以注射器將1μL之水滴加於樣品之表面（低折射率層之表面），保持5秒鐘。然後，按下顯微鏡式接觸角計之開關，測量對水之接觸角。接觸角之測量，係溫度20℃以上且25℃以下，相對濕度40％以上且70％以下之環境下進行。又，接觸角係測量10點，將其等之算術平均值作為透明積層體10之表面10A的接觸角。透明積層體10之表面10A對水的接觸角更佳為90°以上且130°以下、90°以上且125°以下、90°以上且120°以下、92°以上且130°以下、92°以上且125°以下、92°以上且120°以下、95°以上且130°以下、95°以上且125°以下或95°以上且120°以下。

透明積層體10之總光線穿透率較佳為90％以上。若透明積層體10之總光線穿透率為90％以上，則可得到足夠之光學性能。透明積層體10之總光線穿透率更佳為91％以上或92％以上。透明積層體10之總光線穿透率的上限為100％以下。

上述總光線穿透率，可於溫度23±5℃及相對濕度30％以上且70％以下之環境下，使用霧度計（例如，製品名「HM－150」，村上色彩技術研究所股份有限公司製）藉由依照JIS K7361－1：1997之方法進行測量。上述總光線穿透率，係從透明積層體10切下50mm×100mm大小之樣品後，於沒有捲曲或皺褶且沒有指紋或塵埃等之狀態下進行設置，對1片樣品測量3次，設定為測量3次所得到之值的算術平均值。所謂本說明書中之「測量3次」，並非是對相同部位測量3次，而是意指測量不同之3處。於透明積層體10中，所目視之表面10A為平坦，且功能層12等積層之層亦為平坦，又，膜厚之變動亦收斂於±10％之範圍內。因此，認為藉由在所切下之樣品的不同3處測量總光線穿透率，可得到大致之透明積層體其面內整體之總光線穿透率的平均值。另，當無法從透明積層體切下上述大小之樣品的情形時，亦可適當將樣品切下成22mm×22mm以上之大小。當樣品大小較小之情形時，於光源點不脫離之範圍逐漸移動或改變角度等將測量點設為3處。

透明積層體10較佳為霧度值（總霧度值）在1％以下。若透明積層體10之霧度值在1％以下，則可得到足夠之光學性能及透明性。上述霧度值，可於溫度23±5℃及相對濕度30％以上且70％以下之環境下，使用霧度計（製品名「HM－150」，村上色彩技術研究所股份有限公司製）藉由依照JIS K7136：2000之方法進行測量。具體而言，霧度值係藉由與總光線穿透率之測量方法同樣的方法進行測量。霧度值係設定為經測量3次所得到之值的算術平均值。透明積層體10之霧度值更佳為0.8％以下或0.5％以下。透明積層體10之霧度值的下限為0％以上。

於透明積層體10之表面10A的鉛筆硬度較佳為H以上。若透明積層體10之表面10A的鉛筆硬度為H以上，則可提升耐久性。鉛筆硬度試驗係藉由下述方式進行，亦即對從透明積層體10切下成50mm×100mm大小之樣品的表面，使用鉛筆硬度試驗機（製品名「鉛筆劃刮塗膜硬度試驗機（電動式）」，東洋精機製作所股份有限公司製），於溫度23±5℃及相對濕度30％以上且70％以下之環境下，對鉛筆（製品名「uni」，三菱鉛筆股份有限公司製）施加500g之載重且同時以1.4mm／秒之移動速度使其移動。鉛筆硬度係設定為鉛筆硬度試驗中未對透明積層體10之表面10A造成損傷的最高硬度。另，當測量鉛筆硬度時，雖使用複數根硬度不同之鉛筆進行，但每1根鉛筆進行5次鉛筆硬度試驗，當5次之中有4次以上未對透明積層體10之表面10A造成損傷的情形時，判斷為此硬度之鉛筆不會對透明積層體10之表面10A造成損傷。上述損傷，係指於螢光燈下對經進行鉛筆硬度試驗之透明積層體10的表面10A進行穿透觀察而可被辨視者。

透明積層體10之厚度（合計厚度）根據透明積層體10之用途而有所不同。當透明積層體10被使用於影像顯示裝置之情形時，透明積層體10之厚度較佳為25μm以上且400μm以下。若為此厚度，則影像顯示裝置具備所需之足夠功能（例如，透明積層體10不易因濕度溫度而變形，維持用以可清晰看見影像之平坦性等），並且處理容易（例如，加工性良好）。

當透明積層體10被使用於臉部用透明防護裝備之情形時，由於對透明積層體10要求薄型化或輕量化，故透明積層體10之厚度較佳為400μm以下。若此用途之透明積層體的厚度過薄，則容易變形，加工性或佩戴時之處理性差，又，若長時間佩戴，則有時會感到痛苦。為了抑制此種情形，且同時謀求更薄型化或更輕量化，透明積層體10之厚度更佳為30μm以上且400μm以下、40μm以上且400μm以下、25μm以上且300μm以下、30μm以上且300μm以下、40μm以上且300μm以下、25μm以上且200μm以下、30μm以上且200μm以下或40μm以上且200μm以下。

當透明積層體10被使用於透明隔板之情形時，由於對透明積層體10要求透明性、搬運等處理性，故透明積層體10之厚度較佳為10000μm以下。此用途之透明積層體10的厚度，從得到獨立性及一定程度之強度的觀點以及得到更良好之透明性及更良好之處理性的觀點，更佳為500μm以上且10000μm以下、1000μm以上且10000μm以下或3000μm以上且10000μm以下、500μm以上且9000μm以下、1000μm以上且9000μm以下、3000μm以上且9000μm以下、500μm以上且8000μm以下、1000μm以上且8000μm以下、3000μm以上且8000μm以下、500μm以上且5000μm以下、1000μm以上且5000μm以下或3000μm以上且5000μm以下。

而當透明積層體10被使用於透明膜簾之情形時，由於對透明積層體10要求設置容易（處理性）、輕盈、柔軟、強度，故透明積層體10之厚度較佳為3000μm以下。另，所謂透明膜簾之容易設置，包含例如於透明膜簾之切割、開孔、安裝時，透明膜簾不易破裂等。此用途之透明積層體10的厚度，從得到更良好之處理性及更良好之強度的觀點及謀求輕量化且得到良好之透明性的觀點，更佳為25μm以上且3000μm以下、30μm以上且3000μm以下、40μm以上且3000μm以下、25μm以上且800μm以下、30μm以上且800μm以下、40μm以上且800μm以下、25μm以上且400μm以下、30μm以上且400μm以下、40μm以上且400μm以下、25μm以上且200μm以下、30μm以上且200μm以下、40μm以上且200μm以下。

上述透明積層體10之厚度，例如使用厚度測量裝置（製品名「Digimatic Indicator IDF－130」，三豐公司製），測量10點透明積層體10之厚度，設定為該10點之厚度的算術平均值。

透明積層體10之重量（合計重量）根據透明積層體10之用途而有所不同。當透明積層體10被使用於影像顯示裝置之情形時，透明積層體10之重量較佳為30g／m² 以上且500g／m² 以下。若為此重量，則具備足夠之功能，並且處理容易（例如，加工性良好）。

當透明積層體10被使用於臉部用透明防護裝備之情形時，由於對透明積層體10要求薄型化或輕量化，故透明積層體10之重量較佳為500g／m² 以下。若此用途之透明積層體的厚度過薄，則有時容易變形，加工性差。為了抑制此情形，且謀求更薄型化或更輕量化，透明積層體10之重量更佳為35g／m² 以上且500g／m² 以下、40g／m² 以上且500g／m² 以下或45g／m² 以上且500g／m² 以下、35g／m² 以上且400g／m² 以下、40g／m² 以上且400g／m² 以下、45g／m² 以上且400g／m² 以下、35g／m² 以上且350g／m² 以下、40g／m² 以上且350g／m² 以下、45g／m² 以上且350g／m² 以下、35g／m² 以上且300g／m² 以下、40g／m² 以上且300g／m² 以下或45g／m² 以上且300g／m² 以下。

當透明積層體10被使用於透明隔板之情形時，由於對透明積層體10要求透明性、處理性，故透明積層體10之重量較佳為10000g／m² 以下。此用途之透明積層體10的重量，從得到獨立性及一定程度之強度的觀點以及得到更良好之透明性及更良好之處理性的觀點，更佳為100g／m² 以上且10000g／m² 以下、200g／m² 以上且10000g／m² 以下或500g／m² 以上且10000g／m² 以下、100g／m² 以上且7000g／m² 以下、200g／m² 以上且7000g／m² 以下、500g／m² 以上且7000g／m² 以下、100g／m² 以上且6000g／m² 以下、200g／m² 以上且6000g／m² 以下、500g／m² 以上且6000g／m² 以下、100g／m² 以上且5000g／m² 以下、200g／m² 以上且5000g／m² 以下或500g／m² 以上且5000g／m² 以下。

而當透明積層體10被使用於透明膜簾之情形時，由於對透明積層體10要求設置容易（處理性）、輕盈、柔軟、強度，故透明積層體10之重量較佳為2000g／m² 以下。此用途之透明積層體10的重量，從得到更良好之處理性及更良好之強度的觀點及謀求輕量化且得到良好之透明性的觀點，更佳為50g／m² 以上且2000g／m² 以下、100g／m² 以上且2000g／m² 以下或200g／m² 以上且2000g／m² 以下、50g／m² 以上且1700g／m² 以下、100g／m² 以上且1700g／m² 以下、200g／m² 以上且1700g／m² 以下、50g／m² 以上且1600g／m² 以下、100g／m² 以上且1600g／m² 以下、200g／m² 以上且1600g／m² 以下、50g／m² 以上且1500g／m² 以下、100g／m² 以上且1500g／m² 以下、200g／m² 以上且1500g／m² 以下。

＜基材＞ 基材11之厚度根據用途而有所不同。例如當透明積層體10被使用於影像顯示裝置之情形時，基材11之厚度較佳為25μm以上且300μm以下。若基材11之厚度為25μm以上，則由於硬度高，且可抑制捲曲，故加工容易，又，若基材11之厚度為300μm以下，則可抑制成本上升，且重量亦不會變得過重，處理容易。基材11之厚度從得到優異之硬度的觀點及謀求更輕量化的觀點，更佳為30μm以上且300μm以下、40μm以上且300μm以下、50μm以上且300μm以下、25μm以上且200μm以下、30μm以上且200μm以下、40μm以上且200μm以下、50μm以上且200μm以下、25μm以上且150μm以下、30μm以上且150μm以下、40μm以上且150μm以下、50μm以上且150μm以下、25μm以上且100μm以下、30μm以上且100μm以下、40μm以上且100μm以下或50μm以上且100μm以下。

當透明積層體10被使用於臉部用透明防護裝備之情形時，基材11之厚度較佳為20μm以上且200μm以下。若基材11之厚度為20μm以上，則具有足夠之性能，使用感或處理性良好，又，若基材11之厚度為200μm以下，則可抑制成本上升，且為輕量，易於加工。基材11之厚度從得到更良好之處理性的觀點及謀求輕量化的觀點，更佳為25μm以上且200μm以下、40μm以上且200μm以下、50μm以上且200μm以下、20μm以上且150μm以下、25μm以上且150μm以下、40μm以上且150μm以下、50μm以上且150μm以下、20μm以上且100μm以下、25μm以上且100μm以下、40μm以上且100μm以下、50μm以上且100μm以下、20μm以上且80μm以下、25μm以上且80μm以下、40μm以上且80μm以下或50μm以上且80μm以下。

當透明積層體10被使用於透明隔板之情形時，基材11之厚度較佳為20μm以上且9500μm以下。若基材11之厚度為20μm以上，則具備足夠之性能，並且可得到良好之處理性，又，若基材11之厚度為9500μm以下，則可得到良好之透明性（透光性）。基材11之厚度，從得到獨立性及一定程度之強度的觀點以及得到良好之透明性（透光性）及更良好之處理性的觀點，更佳為450μm以上且9500μm以下、950μm以上且9500μm以下、2500μm以上且9500μm以下、20μm以上且6500μm以下、450μm以上且6500μm以下、950μm以上且6500μm以下、2500μm以上且6500μm以下、20μm以上且5500μm以下、450μm以上且5500μm以下、950μm以上且5500μm以下、2500μm以上且5500μm以下、20μm以上且4500μm以下、450μm以上且4500μm以下、950μm以上且4500μm以下、2500μm以上且4500μm以下。

而當透明積層體10被使用於透明膜簾之情形時，基材11之厚度較佳為20μm以上且2500μm以下。若基材11之厚度為20μm以上，則可得到良好之處理性及良好之強度，又，若基材11之厚度為2500μm以下，則可得到良好之輕量化及良好之透明性。基材11之厚度，從得到更良好之處理性及更良好之強度的觀點以及謀求更輕量化且得到更良好之透明性的觀點，更佳為25μm以上且2500μm以下、30μm以上且2500μm以下、40μm以上且2500μm以下、20μm以上且750μm以下、25μm以上且750μm以下、30μm以上且750μm以下、40μm以上且750μm以下、20μm以上且550μm以下、25μm以上且550μm以下、30μm以上且550μm以下、40μm以上且550μm以下、20μm以上且350μm以下、25μm以上且350μm以下、30μm以上且350μm以下或40μm以上且350μm以下。

基材11之厚度，可使用掃描式電子顯微鏡（SEM）拍攝基材11之剖面，於該剖面之影像中測量10處基材11之厚度，求出該10處之厚度的算術平均值，藉此而求得。具體之剖面照片的拍攝方法如下。首先，從透明積層體10切下1mm×10mm大小之樣品，製作藉由包埋樹脂將該切下之樣品包埋而成的嵌塊。然後，從該嵌塊藉由一般之切片製作方法切下無孔等之均一之厚度70nm以上且100nm以下的切片。切片之製作，例如使用Leica Microsystems股份有限公司製之Ultramicrotome EM UC7。然後，將切下此無孔等之均一之切片後的剩餘之嵌塊作為測量樣品。之後，使用掃描式電子顯微鏡（SEM）（製品名「S－4800」，日立全球先端科技股份有限公司製），拍攝測量樣品之剖面照片。當使用上述S－4800拍攝剖面照片時，係將檢測器設定為「SE」，將加速電壓設定為「5kV」，將發射電流設定為「10μA」，進行剖面觀察。關於倍率，則是調節焦點，觀察是否可分辨出各層，且同時以100～10萬倍對對比度及亮度進行適當調節。並且，將束監測器光圈設定為「3」，將物鏡光圈設定為「3」，又，使W.D.為「8mm」。另，藉由掃描式電子顯微鏡進行之拍攝，係以適於基材厚度之倍率，使基材與功能層之界面線明確後再進行。具體而言，例如，當基材之厚度為50μm的情形時如1000倍，又為100μm的情形時如500倍般根據基材厚度對倍率作適當調整。基材11其厚度之變動較佳為15％以下、10％以下或7％以下。基材11其厚度之變動的下限為0％以上。

作為基材11之構成材料，若具有透光性，則並無特別限定，例如可舉玻璃或樹脂（例如，乙酸纖維素系樹脂、環烯聚合物系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、丙烯酸系樹脂或聚酯系樹脂）。當使用聚對酞酸乙二酯之類的聚酯系樹脂或聚碳酸酯系樹脂作為基材11之構成材料的情形時，具有適於大型顯示器，掉落時不易破裂，重複使用之情形時的耐久性佳，且剛性優異之優點。又，當使用三乙醯基纖維素（triacetyl cellulose）之類的乙酸纖維素系樹脂作為基材11之構成材料的情形時，則具有下述優點：富柔軟性，且由於水分亦容易從基材本身消除，故防霧功能優異。

作為玻璃，例如可舉鹼鈣氧化矽玻璃、硼矽酸鹽玻璃、無鹼玻璃等。

作為乙酸纖維素系樹脂，例如可舉三乙醯基纖維素（TAC）、二乙醯基纖維素。三乙醯基纖維素係可於可見光域380～780nm中使平均透光率為50％以上之樹脂。三乙醯基纖維素之平均透光率較佳為50％以上、70％以上或85％以上。三乙醯基纖維素之平均透光率的上限為100％以下。

另，作為由三乙醯基纖維素系樹脂構成之基材，除了純粹之三乙醯基纖維素以外，亦可為如醋酸丙酸纖維素、醋酸丁酸纖維素般亦合併使用醋酸以外之成分作為與纖維素形成酯的脂肪酸者。又，於此等三乙醯基纖維素，視需要亦可添加有二乙醯基纖維素等其他之纖維素低級脂肪酸酯，或者塑化劑、紫外線吸收劑、光滑劑等各種添加劑。

作為環烯聚合物系樹脂，例如可舉降

烯系樹脂、單環之環狀烯烴系樹脂、環狀共軛二烯系樹脂或乙烯基脂環式烴系樹脂。作為環烯共聚物系樹脂，例如可舉乙烯與降

烯系單體之共聚物，或乙烯與四環十二烯（tetracyclododecene）之共聚物等。

作為聚碳酸酯系樹脂，例如可舉以雙酚類（雙酚A等）作為基質之芳香族聚碳酸酯系樹脂、二甘氧醯二烯丙酯等脂肪族聚碳酸酯系樹脂等。

作為丙烯酸系樹脂，例如可舉聚（甲基）丙烯酸甲酯系樹脂、聚（甲基）丙烯酸乙酯系樹脂、（甲基）丙烯酸甲酯-（甲基）丙烯酸丁酯共聚物樹脂等。

作為聚酯系樹脂，例如可舉以聚對酞酸乙二酯（PET）、聚對酞酸丙二酯（polypropylene terephthalate）、聚對酞酸丁二酯（polybutylene terephthalate）、聚萘二甲酸乙二酯（polyethylene naphthalate）之至少1種作為構成成分的樹脂等。

＜功能層＞ 功能層12係於透明積層體10中發揮某些功能之層。防霧功能雖主要是藉由功能層發揮，但除了防霧功能外，亦可為發揮硬塗功能者。本實施形態中之「功能層」為單層構造者。圖1所示之功能層12由於為發揮防霧功能及硬塗功能者，故是以功能層12為防霧性硬塗層之形態來加以說明。

功能層12由於為防霧性硬塗層，故為對透明積層體10賦予硬度，使透明積層體10之表面10A（低折射率層13之表面13A）的鉛筆硬度在「H」以上之層。功能層12如圖1所示，係形成於基材11之第1面11A。

功能層12之折射率若高於低折射率層13，則並無特別限定，例如亦可為1.45以上且1.60以下。本說明書中之「折射率」意指於波長550nm之折射率。功能層12之折射率亦可為1.48以上且1.60以下、1.45以上且1.57以下或1.48以上且1.57以下。

功能層12或低折射率層13之折射率，例如可從透明積層體之剖面照片特定各層之膜厚是否超過780nm或在780nm以下後，以下述方法測量或算出。

膜厚超過780nm之層的折射率，將此層之黏合劑成分的折射率看作是此層之折射率。而膜厚超過780nm之層（例如，功能層12）的折射率，例如可用貝克法加以測量。所謂「貝克法」，係下述之方法：以切斷機等將成為折射率之測量對象的層削掉，製作使黏合劑成分為粉末狀態之樣品，依照JIS K7142：2008之B法（粉體或粒狀之透明材料用）測量折射率。當藉由貝克法測量層之折射率的情形時，係對10個樣品藉由貝克法分別測量折射率，將所測得之10個樣品之折射率的算術平均值作為上述層之折射率。

膜厚為780nm以下之層難以採集黏合劑成分。因此，膜厚為780nm以下之層（例如，低折射率層）的折射率，例如可使用具有厚度為780nm以下之層的透明積層體，以下述（次序1）、（次序2）之順序算出。 （次序1）從透明積層體之剖面照片，算出膜厚超過780nm之層的膜厚及膜厚為780nm以下之層的膜厚。然後，以上述貝克法算出構成透明積層體之層中膜厚超過780nm之層的折射率。 （次序2）使用上述（次序1）所算出之膜厚超過780nm之層的折射率及膜厚之資訊，以及膜厚為780nm以下之層的膜厚之資訊，藉由擬合法算出膜厚為780nm以下之層的折射率。所謂「擬合法」，係藉由以反射光度計所測得之反射光譜與從使用菲涅耳係數之多層薄膜的光學模型所算出之反射光譜的擬合而算出之方法。

功能層12之膜厚相對於低折射率層13之膜厚的比（功能層12之膜厚／低折射率層13之膜厚）較佳為30以上。若此比為30以上，則功能層12之膜厚不會過薄，且低折射率層13之膜厚不會過厚，故可謀求兼顧良好之硬度及良好之抗反射性。此比從得到優異之硬度及優異之抗反射性的觀點以及抑制成本上升、透明性降低或加工性降低的觀點，更佳為30以上且250以下、35以上且250以下、40以上且250以下、45以上且250以下、30以上且200以下、35以上且200以下、40以上且200以下、45以上且200以下、30以上且150以下、35以上且150以下、40以上且150以下、45以上且150以下、30以上且100以下、35以上且100以下、40以上且100以下或45以上且100以下。

功能層12之膜厚較佳為3μm以上。若功能層12之膜厚為3μm以上，則可得到期望之硬度，且可使功能層12含有期望量之防霧材。功能層12之厚度從得到優異之硬度的觀點及抑制成本上升、透明性降低或加工性降低的觀點，更佳為3μm以上且25μm以下、3.5μm以上且25μm以下、4μm以上且25μm以下、4.5μm以上且25μm以下、3μm以上且20μm以下、3.5μm以上且20μm以下、4μm以上且20μm以下、4.5μm以上且20μm以下、3μm以上且15μm以下、3.5μm以上且15μm以下、4μm以上且15μm以下、4.5μm以上且15μm以下、3μm以上且10μm以下、3.5μm以上且10μm以下、4μm以上且10μm以下、4.5μm以上且10μm以下、3μm以上且未達10μm、3.5μm以上且未達10μm、4μm以上且未達10μm、4.5μm以上且未達10μm、3μm以上且9.5μm以下、3.5μm以上且9.5μm以下或4μm以上且9.5μm以下、4.5μm以上且9.5μm以下。

功能層12之膜厚，係使用掃描穿透式電子顯微鏡（STEM）或穿透式電子顯微鏡（TEM），拍攝功能層12之剖面，於該剖面之影像中測量20處功能層12之膜厚，設定為該20處之膜厚的算術平均值。具體之剖面照片的拍攝方法記載於下。首先，製作藉由包埋樹脂將切下成1mm×10mm大小之透明積層體包埋而成的嵌塊，從該嵌塊藉由一般之切片製作方法切下無孔等之均一之厚度70nm以上且100nm以下的切片。切片之製作，例如可使用Leica Microsystems股份有限公司之Ultramicrotome EM UC7等。然後，將此無孔等之均一的切片作為測量樣品。之後，使用掃描穿透式電子顯微鏡（STEM）（製品名「S－4800」，日立全球先端科技股份有限公司製），拍攝測量樣品之剖面照片。當使用上述S－4800拍攝剖面照片時，係將檢測器設定為「TE」，將加速電壓設定為「30kV」，將發射電流設定為「10μA」進行剖面觀察。關於倍率，則是調節焦點，觀察是否可分辨出各層，且同時以5000倍～20萬倍對對比度及亮度進行適當調節。較佳之倍率為1萬倍～10萬倍，更佳之倍率為1萬倍～5萬倍，最佳之倍率係2.5萬倍～5萬倍。另，當使用上述S－4800拍攝剖面照片時，亦可進一步將束監測器光圈設定為「3」，將物鏡光圈設定為「3」，又，使W.D.為「8mm」。當測量功能層之膜厚時，於進行剖面觀察的時候，盡可能可明確地觀察到功能層與其他層（例如，基材）之界面對比度是重要的。假設當因對比度不足而難以看到該界面之情形時，若施加四氧化鋨、四氧化釕、磷鎢酸等染色處理，則會容易看見有機層間之界面，故亦可進行染色處理。又，界面之對比度有時高倍率較難以理解。於該情形時，低倍率亦同時進行觀察。例如，以2.5萬倍與5萬倍，或5萬倍與10萬倍等高低2種倍率進行觀察，用兩倍率求出上述算術平均值，並且將該平均值作為功能層膜厚之值。

功能層12，例如可由樹脂構成。樹脂含有聚合性化合物之聚合物（交聯物）及防霧材。功能層12除了樹脂之外，為了提高硬度，較佳還含有粒子。樹脂除了聚合性化合物之聚合物（交聯物）及防霧材之外，亦可含有溶劑乾燥型樹脂。

功能層12較佳含有羥基、羧基、環氧乙烷基等環氧烷基、胺基、氯化銨基等四級銨鹽基等之親水基。具有親水基之功能層12，可藉由使之含有防霧材而得。上述官能基，例如可藉由傅立葉轉換紅外光譜術（FT－IR法）來確認。

（聚合性化合物） 聚合性化合物為於分子內具有至少1個聚合性官能基者。作為聚合性化合物，可舉游離輻射聚合性化合物及／或熱聚合性化合物。游離輻射聚合性化合物，係於1分子中具有至少1個游離輻射聚合性官能基之化合物。所謂本說明書中之「游離輻射聚合性官能基」，係指可藉由游離輻射照射進行聚合反應之官能基。作為游離輻射聚合性官能基，例如可舉（甲基）丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等乙烯性不飽和基。另，所謂「（甲基）丙烯醯基」，意指包含「丙烯醯基」及「甲基丙烯醯基」兩者。又，作為使游離輻射聚合性化合物聚合時所照射之游離輻射，可舉可見光、紫外線、X射線、電子射線、α射線、β射線及γ射線。

作為游離輻射聚合性化合物，可舉游離輻射聚合性單體、游離輻射聚合性寡聚物或游離輻射聚合性預聚合物，可適當調整此等來加以使用。作為游離輻射聚合性化合物，較佳為游離輻射聚合性單體與游離輻射聚合性寡聚物或游離輻射聚合性預聚合物之組合。

作為游離輻射聚合性化合物，可舉游離輻射聚合性單體、游離輻射聚合性寡聚物或游離輻射聚合性聚合物，可適當調整此等來加以使用。

作為游離輻射聚合性單體，較佳為聚合性官能基為2個（亦即，雙官能）以上之多官能單體。作為多官能之單體，例如可舉三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、三伸丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、二乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、二丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、新戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、新戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、二新戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、1,6-己二醇二（甲基）丙烯酸酯、新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四（甲基）丙烯酸酯、二新戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、三新戊四醇八（甲基）丙烯酸酯、四新戊四醇十（甲基）丙烯酸酯、異三聚氰酸三（甲基）丙烯酸酯、異三聚氰酸二（甲基）丙烯酸酯、聚酯三（甲基）丙烯酸酯、聚酯二（甲基）丙烯酸酯、雙酚二（甲基）丙烯酸酯、二甘油四（甲基）丙烯酸酯、金剛烷基二（甲基）丙烯酸酯、異莰基二（甲基）丙烯酸酯、二環戊烷二（甲基）丙烯酸酯、三環癸烷二（甲基）丙烯酸酯或此等經以PO、EO等改質者。

此等之中，從與防霧材之相容性的觀點，較佳為三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、二新戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、1,6-己二醇二（甲基）丙烯酸酯等。

作為游離輻射聚合性寡聚物，較佳為雙官能以上之多官能寡聚物。作為多官能寡聚物，可舉聚酯（甲基）丙烯酸酯、胺酯（甲基）丙烯酸酯、聚酯－胺酯（甲基）丙烯酸酯、聚醚（甲基）丙烯酸酯、多元醇（甲基）丙烯酸酯、三聚氰胺（甲基）丙烯酸酯、三聚異氰酸酯（isocyanurate）（甲基）丙烯酸酯、環氧基（甲基）丙烯酸酯等。

游離輻射聚合性預聚合物較佳為重量平均分子量在3000以上，更佳在3000以上且80000以下、3000以上且40000以下、10000以上且80000以下、10000以上且40000以下。當重量平均分子量超過80000之情形時，由於黏度高，故具有塗覆適性降低、所得到之透明積層體的外觀惡化之虞。作為上述預聚合物，可舉胺酯（甲基）丙烯酸酯、三聚異氰酸酯（甲基）丙烯酸酯、聚酯－胺酯（甲基）丙烯酸酯、環氧基（甲基）丙烯酸酯等。另，於本說明書中，所謂「重量平均分子量」，係指藉由凝膠滲透層析術（GPC）所測得之聚苯乙烯換算值。

熱聚合性化合物為於1分子中具有至少1個熱聚合性官能基者。所謂本說明書中之「熱聚合性官能基」，係指可藉由加熱而於相同官能基彼此或與其他官能基之間進行聚合反應的官能基。作為熱聚合性官能基，可舉環氧基等環狀醚基、羥基、異氰酸基（isocyanate group）、胺基等。

作為熱聚合性化合物，並無特別限定，例如可舉環氧化合物、聚醇化合物、異氰酸酯化合物、三聚氰胺化合物、脲化合物、酚化合物等。

溶劑乾燥型樹脂為熱塑性樹脂等僅使於塗覆時添加用以調整固體含量之溶劑乾燥而成為被膜之類的樹脂。當添加有溶劑乾燥型樹脂之情形時，可於形成功能層12時，有效地防止塗液之塗布面的被膜缺陷。作為溶劑乾燥型樹脂並無特別限定，一般可使用熱塑性樹脂。

作為熱塑性樹脂，例如可舉苯乙烯系樹脂、（甲基）丙烯酸系樹脂、乙酸乙烯酯系樹脂、乙烯基醚系樹脂、含鹵素樹脂、脂環式烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、纖維素衍生物、聚矽氧系樹脂及橡膠或彈性體等。

熱塑性樹脂較佳為非結晶性且可溶於有機溶劑（尤其是可溶解複數種聚合物或硬化性化合物之共通溶劑）。尤其從透明性或耐候性之觀點，較佳為苯乙烯系樹脂、（甲基）丙烯酸系樹脂、脂環式烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素衍生物（纖維素酯類等）等。

（防霧材） 防霧材係用以抑制透明積層體10之表面10A起霧的材料。防霧材亦可為樹脂。防霧材較佳於功能層12中含有10質量％以上且85質量％以下。若防霧材之含量為10質量％以上，則可得到足夠之防霧性，又，若防霧材之含量為85質量％以下，則可得到足夠之硬度及透明性。功能層12中之防霧材的含量較佳為30質量％以上且85％質量％以下、50質量％以上且85質量％以下或70質量％以上且85質量％以下。另，藉由增加防霧材之含量，可提升成形性或彎曲性，故當提升成形性或彎曲性之情形時，功能層12中之防霧材的含量較佳為10質量％以上且95質量％以下、50質量％以上且95質量％以下或70質量％以上且95質量％以下。

防霧材亦可為不具有聚合性官能基之非聚合性防霧材，但從將防霧材固定於功能層之觀點，較佳為具有聚合性官能基之聚合性防霧材者。

作為聚合性防霧材，例如可舉聚醚系等胺酯（甲基）丙烯酸酯、環氧乙烷（EO）改質（甲基）丙烯酸酯、（甲基）丙烯醯胺系化合物、羥烷基（甲基）丙烯酸酯等。

胺酯（甲基）丙烯酸酯可藉由使異氰酸酯與具有羥基之（甲基）丙烯酸酯反應而得。此時，亦可合併使用各種多元醇。胺酯（甲基）丙烯酸酯從提升硬度及與低折射率層之密合性的觀點，較佳為（甲基）丙烯醯基為2個以上之多官能胺酯（甲基）丙烯酸酯。胺酯（甲基）丙烯酸酯之重量平均分子量，從抑制因黏度上升所導致之塗覆不良的觀點，較佳為1000以上且50000以下。

作為用於製造胺酯（甲基）丙烯酸酯之異氰酸酯，可舉鄰甲伸苯基二異氰酸酯、對伸苯基二異氰酸酯、間伸苯基二異氰酸酯、對二甲苯二異氰酸酯、間二甲苯二異氰酸酯、2,4-甲伸苯基二異氰酸酯、2,6-甲伸苯基二異氰酸酯、4,4’-二苯甲烷二異氰酸酯、3,3’-二甲基二苯基-4,4’-二異氰酸酯、3,3’-二乙基二苯基-4,4’-二異氰酸酯、萘二異氰酸酯等芳香族異氰酸酯類；異佛酮二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、4,4’-二環己基甲烷二異氰酸酯、氫化二甲苯二異氰酸酯、降

烯二異氰酸酯、離胺酸二異氰酸酯等脂肪族或脂環族之異氰酸酯類等。

環氧乙烷改質（甲基）丙烯酸酯從提升硬度及與低折射率層之密合性的觀點，較佳為（甲基）丙烯醯基為2個以上之多官能環氧乙烷改質（甲基）丙烯酸酯。又，環氧乙烷改質（甲基）丙烯酸酯中之環氧乙烷的平均加成莫耳數較佳為超過0但在30以下。若環氧乙烷之平均加成莫耳數為0，則有無法得到足夠的防霧性之虞，又，若環氧乙烷之平均加成莫耳數超過30，則有柔軟之環氧乙烷鏈過度變長，透明積層體的耐刮傷性差之虞。

作為環氧乙烷（EO）改質（甲基）丙烯酸酯，可舉乙氧基化新戊四醇四（甲基）丙烯酸酯或乙氧基化甘油三（甲基）丙烯酸酯等。

作為（甲基）丙烯醯胺系化合物，例如可舉（甲基）丙烯醯胺、N-甲基（甲基）丙烯醯胺、N,N-二甲基（甲基）丙烯醯胺、N-乙基（甲基）丙烯醯胺、N,N-二乙基（甲基）丙烯醯胺、N-丙基（甲基）丙烯醯胺、N-異丙基（甲基）丙烯醯胺、二丙酮（甲基）丙烯醯胺、N-（甲基）丙烯醯基哌啶、N-（甲基）丙烯醯基

啉等。又，作為羥烷基（甲基）丙烯酸酯，可舉羥乙基（甲基）丙烯酸酯、羥丙基（甲基）丙烯酸酯等。

防霧材，例如可使用以下之化合物。

上述式中，R為環氧乙烷基，a＋b＋c＋d為25～45。於本說明書中，所謂環氧乙烷基，意指以－CH₂ －CH₂ －O－所表示之基。

上述式中，R為環氧乙烷基，l＋m＋n為4～14。

上述式中，R為環氧乙烷基，l＋m＋n為10～30。

作為防霧材之市售品，可舉尼歐斯股份有限公司製之NFX－551，大成精細化工股份有限公司製之8WX－022A、8WX－030、8WX－083，大賽璐湛新股份有限公司製之KRM 8713B，新中村化學工業股份有限公司製之ATM－35E、A－GLY－20E，共榮社化學股份有限公司製之KBP－1，三井化學股份有限公司製之Urethane Acrylate nostra（註冊商標），東亞合成股份有限公司製之防霧用塗料用Aronix（註冊商標）MT－3563～3567，荒川化學工業股份有限公司製之DHY－1，SHOWA INK MANUFACTURING股份有限公司製之UVF－1，阪本藥品工業股份有限公司製之SA－TE60，大阪有機化學工業股份有限公司製之LAMBIC－771W，富士軟片股份有限公司製之FOM系列，第一工業製藥股份有限公司製之R－1220等。

（粒子） 作為粒子，若可提升硬度，則有機粒子及無機粒子皆可。作為有機粒子，例如可舉塑膠珠粒。作為塑膠珠粒，具體例可舉聚苯乙烯珠粒、三聚氰胺樹脂珠粒、丙烯酸珠粒、丙烯酸－苯乙烯珠粒、聚矽氧珠粒、苯胍𠯤珠粒、苯胍𠯤/甲醛縮合珠粒、聚碳酸酯珠粒、聚乙烯珠粒等。作為無機粒子，例如可舉二氧化矽（SiO₂ ）粒子、氧化鋁粒子、氧化鈦粒子、氧化錫粒子、摻銻氧化錫（簡稱；ATO）粒子、氧化鋅粒子等無機氧化物粒子。於無機氧化物粒子之中，從得到優異之硬度的觀點，較佳為二氧化矽粒子，而於二氧化矽粒子之中，較佳為反應性二氧化矽粒子。上述反應性二氧化矽粒子為可於與上述多官能（甲基）丙烯酸酯之間構成交聯構造的二氧化矽粒子，藉由含有此反應性二氧化矽粒子，可固定於功能層中。

上述反應性二氧化矽粒子較佳於其表面具有反應性官能基，作為該反應性官能基，例如可適用上述游離輻射聚合性官能基。

作為上述反應性二氧化矽粒子，並無特別限定，可使用以往公知者，例如可舉日本特開2008－165040號公報記載之反應性二氧化矽粒子等。又，作為上述反應性二氧化矽粒子之市售品，例如可舉日產化學工業股份有限公司製之MIBK－SD、MIBK－SD－L等。

又，上述粒子可為球狀粒子，但較佳為變形粒子，又，亦可將球狀粒子與變形粒子加以混合。另，本說明書中之「球狀粒子」，意指例如真球狀、橢圓球狀等之粒子，而「變形粒子」，則意指馬鈴薯狀之於表面具有無規凹凸之形狀的粒子。上述變形粒子由於其表面積較球狀粒子大，故藉由含有此種變形粒子，而可使得與上述聚合性化合物等之接觸面積變大，使功能層12之鉛筆硬度更加優異。功能層44是否含有上述變形粒子，可藉由以穿透式電子顯微鏡（TEM）或掃描穿透式電子顯微鏡（STEM）觀察功能層12之剖面來加以確認。

粒子之平均粒徑較佳為0.01μm以上且10μm以下。若為0.01μm以上，則可抑制粒子彼此之凝聚，並且可於塗覆前之組成物的階段抑制粒子之分散性的惡化。另一方面，若粒子之平均粒徑為10μm以下，則抑制於功能層形成巨大之凹凸，可抑制發生霧度上升等不良情形。當粒子為球形粒子之情形時，關於粒子之平均粒徑，係從使用掃描式電子顯微鏡（SEM）所拍攝之粒子之剖面的影像測量20個粒子之粒徑，設定為20個粒子之粒徑的算術平均值。又，當粒子為變形粒子之情形時，關於粒子之平均粒徑，則是從使用掃描式電子顯微鏡（SEM）所拍攝之功能層之剖面的影像測量粒子之外圍之2點間距離的最大值（長徑）與最小值（短徑），加以平均求出粒徑，設定為20個粒子之粒徑的算術平均值。當使用掃描穿透式電子顯微鏡（STEM）（例如，製品名「S－4800（TYPE2）」，日立全球先端科技股份有限公司製），進行剖面照片之拍攝時，係將檢測器（選擇訊號）設定為「TE」，將加速電壓設定為「30kV」，將發射電流設定為「10μA」進行觀察。

＜低折射率層＞ 低折射率層13為具有較功能層12低的折射率之層。具體而言，低折射率層13之折射率可為1.20以上且1.50以下。低折射率層13之折射率係藉由在功能層12之部分所說明的方法進行測量。低折射率層13之折射率亦可為1.20以上且1.49以下、1.20以上且1.40以下或1.20以上且1.32以下。功能層12與低折射率層13之折射率差可為0.10以上且0.25以下。

低折射率層13之膜厚較佳為200nm以下。若低折射率層13之膜厚為200nm以下，則可抑制外部光線之反射。又，若低折射率層之膜厚較厚，則有功能層之防霧功能受到低折射率層阻礙之虞，但若低折射率層13之膜厚為200nm以下，則由於低折射率層13之膜厚極薄，故即使於透明積層體10之表面10A，亦可發揮防霧功能，藉此，可得到具有更優異防霧性的透明積層體10。低折射率層13之膜厚，係從使用穿透式電子顯微鏡（TEM）或掃描穿透式電子顯微鏡（STEM）所拍攝之低折射率層13之剖面的影像測量20處之膜厚，設定為20處之值的算術平均值。低折射率層13之膜厚，可藉由與功能層12之膜厚同樣的方法進行測量。低折射率層13之膜厚較佳為50nm以上且200nm以下、60nm以上且200nm以下、70nm以上且200nm以下、80nm以上且200nm以下、50nm以上且175nm以下、60nm以上且175nm以下、70nm以上且175nm以下、80nm以上且175nm以下、50nm以上且150nm以下、60nm以上且150nm以下、70nm以上且150nm以下、80nm以上且150nm以下、50nm以上且125nm以下、60nm以上且125nm以下、70nm以上且125nm以下、80nm以上且125nm以下、50nm以上且100nm以下、60nm以上且100nm以下、70nm以上且100nm以下或80nm以上且100nm以下。

作為低折射率層13，若為具有較功能層12低的折射率之層，則並無特別限定，低折射率層13例如可由黏合劑樹脂及低折射率粒子或由低折射率樹脂構成。又，低折射率層13另外亦可含有抗污劑等。

（低折射率粒子） 作為低折射率粒子，例如可舉由二氧化矽或氟化鎂構成之實心或中空粒子等。此等之中，較佳為中空二氧化矽粒子，此種中空二氧化矽粒子，例如可藉由日本特開2005－099778號公報之實施例所記載的製造方法進行製作。

低折射率粒子之平均粒徑較佳為5nm以上且100nm以下。若低折射率粒子之平均粒徑為上述範圍內，則可在不損及低折射率層之透明性下，得到良好之粒子的分散狀態。低折射率粒子之平均粒徑，係從使用穿透式電子顯微鏡（TEM）或掃描穿透式電子顯微鏡（STEM）所拍攝之低折射率層之剖面的影像測量20個低折射率粒子之粒徑，設定為20個低折射率粒子之粒徑的算術平均值。低折射率粒子之平均粒徑，更佳為10nm以上且100nm以下、5nm以上且80nm以下、10nm以上且80nm以下、5nm以上且70nm以下或10nm以上且70nm以下。

作為低折射率粒子，較佳使用表面具有反應基之二氧化矽粒子（反應性二氧化矽粒子），尤佳為反應性中空二氧化矽粒子。此種表面具有反應基之二氧化矽粒子，可藉由矽烷偶合劑等對二氧化矽粒子進行表面處理，藉此而製成。作為以矽烷偶合劑對二氧化矽粒子之表面進行處理的方法，可舉將矽烷偶合劑噴霧於二氧化矽粒子之乾式法，或將二氧化矽粒子分散於溶劑後加入矽烷偶合劑使之反應的濕式法等。

（黏合劑樹脂） 作為構成低折射率層13之黏合劑樹脂，可舉聚合性化合物之聚合物。作為聚合性化合物，並無特別限定，可使用游離輻射聚合性單體、寡聚物、預聚合物。惟，亦可於黏合劑樹脂混合導入有氟原子之樹脂或有機聚矽氧等折射率低的材料。作為單官能之游離輻射聚合性單體，可舉乙基（甲基）丙烯酸酯、乙基己基（甲基）丙烯酸酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯基吡咯啶酮（vinyl pyrrolidone）等。又，作為雙官能以上之游離輻射聚合性單體，例如可舉聚羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、己二醇（甲基）丙烯酸酯、三伸丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、二乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、新戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、新戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、二新戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、二新戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、1,6-己二醇二（甲基）丙烯酸酯、新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯、此等化合物經環氧乙烷、聚環氧乙烷等改質之化合物等。

（低折射率樹脂） 作為低折射率樹脂，可舉導入有氟原子之樹脂或有機聚矽氧等折射率低之樹脂。

＜＜透明積層體之製造方法＞＞ 透明積層體10，例如可藉由以下之方法製作。首先，將功能層用組成物塗布於基材11之第1面11A上，形成功能層用組成物之塗膜。

＜功能層用組成物＞ 功能層用組成物含有聚合性化合物及防霧材。功能層用組成物另外亦可視需要而含有粒子、調平劑、溶劑、聚合起始劑。

（溶劑） 作為上述溶劑，可舉醇（例如，甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、正丁醇、二級丁醇、三級丁醇、苯甲醇、PGME、乙二醇、二丙酮醇）、酮（例如，丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環戊酮、環己酮、庚酮、二異丁酮、二乙酮、二丙酮醇）、酯（乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸正丙酯、乙酸異丙酯、甲酸甲酯、PGMEA）、脂肪族烴（例如，已烷、環己烷）、鹵化烴（例如，二氯甲烷、氯仿、四氯化碳）、芳香族烴（例如，苯、甲苯、二甲苯）、醯胺（例如，二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮）、醚（例如，二乙基醚、二㗁烷、四氫呋喃）、醚醇（例如，1-甲氧基-2-丙醇）、碳酸酯（碳酸二甲酯、碳酸二乙酯、碳酸乙基甲基酯）等。此等溶劑可單獨使用，亦可合併使用2種以上。其中，作為上述溶劑，於使聚合性化合物等成分溶解或者分散，可適合塗覆功能層用組成物之方面上，較佳為甲基異丁基酮、甲基乙基酮。

（聚合起始劑） 聚合起始劑係可藉由照射游離輻射而分解，產生自由基，使聚合性化合物之聚合（交聯）開始或進行之成分。

聚合起始劑若可藉由照射游離輻射而釋出使自由基聚合開始之物質，則並無特別限定。作為聚合起始劑，並無特別限定，可使用公知者，於具體例，例如可舉苯乙酮類、二苯基酮類、米其勒苯甲醯基苯甲酸酯、α-戊基肟酯、9-氧硫𠮿

類、乙基苯基酮類、二苯乙二酮類、安息香類、醯基膦氧化物類。又，較佳混合光敏劑使用，作為其具體例，例如可舉正丁胺、三乙胺、聚正丁膦等。

形成功能層用組成物之塗膜後，用各種公知方法將此塗膜例如以30℃以上且120℃以下之溫度加熱，藉此使之乾燥，將溶劑蒸發。

使塗膜乾燥後，對塗膜照射紫外線等游離輻射，使塗膜硬化，形成功能層12。形成功能層12後，將低折射率層用組成物塗布於功能層12上，形成低折射率層用組成物之塗膜。

＜低折射率層用組成物＞ 低折射率層用組成物例如含有聚合性化合物及低折射率粒子。低折射率層用組成物亦可含有低折射率樹脂來代替聚合性化合物及低折射率粒子，又，低折射率樹脂另外亦可視需要而含有調平劑、溶劑、聚合起始劑。

形成低折射率層用組成物之塗膜後，用各種公知方法將此塗膜例如以30℃以上且120℃以下之溫度加熱，藉此使之乾燥，使溶劑蒸發。

使塗膜乾燥後，對塗膜照射紫外線等游離輻射，使塗膜硬化。藉此，可形成低折射率層13，得到透明積層體10。

若根據本實施形態，由於透明積層體10具有低折射率層13，故具有抗反射性，且對透明積層體10進行上述防霧性試驗時，透明積層體10之表面10A不會起霧，故可得到優異防霧性。又，於透明積層體10，由於ΔY1為0.2％以下，故即使於容易起霧之環境下，視感反射率Y亦不易變化。因此，可提供具有抗反射性及優異防霧性，且即使於容易起霧之環境下視感反射率Y亦不易變化的透明積層體10。

透明積層體10由於具有抗反射性及優異防霧性，且即使於容易起霧之環境下，視感反射率Y亦不易變化，故當將透明積層體10使用於影像顯示裝置之情形時，在影像顯示裝置之使用時，可抑制因空氣層中之水分造成透明積層體10之表面10A起霧，藉此可抑制因視感反射率降低所導致之影像清晰度、辨視性及穿透性的降低。又，於大型影像顯示裝置中，由於可抑制抗反射膜之一部份的表面起霧，故可抑制因影像清晰度局部降低所導致之不均勻的發生。又，當將透明積層體10使用於臉部用透明防護裝備或透明隔板之情形時，即使是隔著臉部用透明防護裝備或隔著透明隔板進行談話之情形，亦可抑制因光反射而使得難以看見口部動作之現象，又，可抑制因呼氣而使得臉部用透明防護裝備等起霧，造成談話之對方不安或壓力的現象。

低折射率層若相較於功能層，則由於膜厚非常薄，故若僅使低折射率層含有防霧材，則有防霧材之含量過少，而於進行上述防霧性試驗時，透明積層體表面起霧之虞。因此，本發明人等經潛心研究後，結果發現即使是於功能層上存在低折射率層之情形時，若至少使功能層含有防霧材，則亦可於透明積層體表面得到優異防霧性。於本實施形態中，由於使功能層12含有防霧材，故可使透明積層體10之表面10A不起霧。

中空二氧化矽粒子，廣為熟知由於為中空，故容易含有水分。若中空二氧化矽粒子含有水分，則由於中空二氧化矽粒子會白濁，故有於透明積層體中成為污垢之虞。相對於此，即使是於本實施形態之透明積層體10中使用中空二氧化矽粒子的情形時，亦難以於透明積層體10中發生起因於中空二氧化矽粒子白濁之污垢。其原因雖不清楚，但認為是因功能層12中之防霧材比中空二氧化矽粒子先吸收水分的緣故。

本發明人等經對防霧性進行潛心研究後，結果發現若功能層及低折射率層之至少任一者含有一定程度之含有如環氧乙烷等環氧烷之醚成分的防霧材，則防霧性會更加提升。具體而言，當於透明積層體10之表面10A藉由傅立葉轉換紅外光譜術所得到的吸收光譜中，1780cm^-1 ～1700cm^-1 之第2波數域的第2波峰強度相對於1150cm^-1 ～1000cm^-1 之第1波數域的第1波峰強度之比為1.25以上且2.20以下的情形時，在對透明積層體10進行上述防霧性試驗時，透明積層體10之表面10A不會起霧，可得到優異防霧性，且可使ΔY1為0.2％以下。因此，若上述第2波峰強度相對於第1波峰強度之比為1.25以上且2.20以下，可提供具有抗反射性及優異防霧性，且即使於容易起霧之環境下視感反射率Y亦不易變化的透明積層體10。

本發明人等經對防霧性進行潛心研究後，結果發現當含有在透明積層體表面藉由傅立葉轉換紅外光譜術所得到之吸收光譜中於1540cm^-1 ～1560cm^-1 之第3波數域具有第3波峰的材料（例如，如胺酯（甲基）丙烯酸酯之類具有胺酯骨架的材料）之情形時，即使為於透明積層體藉由傅立葉轉換紅外光譜術所得到之吸收光譜中1780cm^-1 ～1700cm^-1 之第2波數域的第2波峰強度相對於1150cm^-1 ～1000cm^-1 之第1波數域的第1波峰強度之比有點低的情況，防霧性亦會更加提升。具體而言，即使於透明積層體10藉由傅立葉轉換紅外光譜術所得到之吸收光譜中，上述第2波峰強度相對於第1波峰強度之比為0.01以上且0.40以下的情形，對透明積層體10進行上述防霧性試驗時，透明積層體10之表面10A亦不會起霧，可得到優異防霧性，且可使ΔY1為0.2％以下。因此，若上述第2波峰強度相對於第1波峰強度之比為0.01以上且0.40以下，則可提供具有抗反射性及優異防霧性，且即使於容易起霧之環境下視感反射率Y亦不易變化的透明積層體10。

例如，當於臉部附近使用如臉部用透明防護裝備之透明積層體的情形時，容易感到透明積層體之臭味。因此，當於臉部附近使用透明積層體之情形時，要求抑制透明積層體之臭味。另一方面，於防霧性優異的防霧材之中，四級銨系防霧材由於臭味強，故於臉部附近使用之用途上，四級銨系防霧材並不適合。對於此種臭味之問題，藉由選擇四級銨系防霧材以外之防霧材作為防霧材，且／或選定在未達波長350nm具有最大吸收波長之聚合起始劑作為聚合起始劑，可抑制臭味，故即使於臉部附近使用之用途上，亦可使用。

抑制臭味之情形時的上述聚合起始劑，亦可為陽離子聚合起始劑，但較佳為自由基聚合起始劑。又，亦可同時使用在未達波長350nm具有最大吸收波長之聚合起始劑與在波長350nm以上具有最大吸收波長之聚合起始劑。

作為抑制臭味之情形時的上述聚合起始劑，若為在未達波長350nm具有最大吸收波長者，則並無特別限定，例如可使用安息香化合物、二苯基酮化合物、苄基縮酮（benzyl ketal）化合物、α-羥基酮化合物、α-胺酮化合物、三𠯤化合物、錪鹽、鋶鹽等。

在未達波長350nm具有最大吸收波長的聚合起始劑之中，較佳為α-苯乙酮化合物。作為α-苯乙酮化合物，例如可舉2-羥基-1-｛4-[4-（2-羥基-2-甲基-丙醯基）苄基]苯基｝-2-甲基丙（methylprop）-1-酮、2-甲基-2-N-

啉基-1-（4-甲基氫硫基苯基）丙烷-1-酮、2-二甲胺基-1-（4-N-

啉基苯基）-2-苄基丁烷-1-酮及2-二甲胺基-1-（4-N-

啉基苯基）-2-（4-甲基苯基甲基）丁烷-1-酮等，更佳為2-甲基-2-N-

啉基-1-（4-甲基氫硫基苯基）丙烷-1-酮及2-二甲胺基-1-（4-N-

啉基苯基）-2-苄基丁烷-1-酮。作為α-苯乙酮化合物之市售品，可舉Omnirad127、Omnirad369、Omnirad379EG、Omnirad907（皆為IGM Resins B.V.公司製）及Seikuor BEE（精工化學股份有限公司製）等。而作為在未達波長350nm具有最大吸收波長之二苯基酮化合物的市售品，可舉Omnipol BP（IGM Resins B.V.公司製），又，作為在未達波長350nm具有最大吸收波峰之α-羥基酮化合物的市售品，則可舉ESACURE KIP150（IGM Resins B.V.公司製）等。

＜＜＜其他之透明積層體＞＞＞ 透明積層體10雖於基材11之第1面11A側具備有功能層12與低折射率層13，但亦可如圖2所示之透明積層體20般，不僅於基材11之第1面11A，且於與第1面11A相反側之第2面11B側亦具備有功能層21與低折射率層22。功能層21可與功能層12相同，亦可不同，又，低折射率層22可與低折射率層13相同，亦可不同。透明積層體20之表面20A成為低折射率層13之表面13A。

透明積層體10雖具備有基材11，但亦可如圖3所示之透明積層體30般不具備基材。亦即，透明積層體30為無基材之積層體。本實施形態中之「基材」，係指用以形成透明積層體之支持體，且亦於使用透明積層體時存在於透明積層體中的膜或片。透明積層體30係形成於脫模膜31之單面側。脫模膜31由於會在使用透明積層體30時剝離，故不視為基材。透明積層體30之表面30A係成為低折射率層13之表面13A。

透明積層體10之低折射率層13雖不含有防霧材，但亦可如圖4所示之透明積層體40般，使用含有防霧材之低折射率層41來代替低折射率層13。低折射率層41所含之防霧材，由於與在功能層12之部分所說明的防霧材相同，故此處省略說明。藉由低折射率層41含有防霧材，不僅功能層12，且低折射率層41亦發揮防霧功能，故可謀求更進一步之防霧性的提升。透明積層體40之表面40A係成為低折射率層41之表面41A。

透明積層體10雖然功能層12與低折射率層13鄰接，但亦可如圖5所示之透明積層體50般，於功能層12與低折射率層13之間設置高折射率層51。藉由設置高折射率層51，可謀求更進一步之抗反射性的提升。透明積層體50之表面50A係成為低折射率層13之表面13A。另，圖5所示之透明積層體50的低折射率層13，雖不具有防霧性，但亦可使用透明積層體40之低折射率層41來代替低折射率層13。

高折射率層51為折射率高於低折射率層之層。具體而言，高折射率層51之折射率可為1.55以上且1.85以下。高折射率層51之折射率可藉由在功能層12之部分所說明的方法測量。高折射率層51之折射率亦可為1.56以上且1.85以下、1.57以上且1.85以下、1.55以上且1.80以下、1.56以上且1.80以下、1.57以上且1.80以下、1.55以上且1.75以下、1.56以上且1.75以下、或1.57以上以上且1.75以下。低折射率層13與高折射率層51之折射率差可為0.1以上且0.65以下。

高折射率層51之膜厚較佳為200nm以下。若高折射率層51之膜厚為200nm以下，則可於不損及外觀下抑制外部光線之反射。高折射率層51之膜厚可藉由與低折射率層13之膜厚同樣的方法測量。高折射率層51之膜厚較佳為50nm以上且200nm以下、60nm以上且200nm以下、70nm以上且200nm以下、80nm以上且200nm以下、50nm以上且195nm以下、60nm以上且195nm以下、70nm以上且195nm以下、80nm以上且195nm以下、50nm以上且190nm以下、60nm以上且190nm以下、70nm以上且190nm以下、80nm以上且190nm以下、50nm以上且185nm以下、60nm以上且185nm以下、70nm以上且185nm以下、80nm以上且185nm以下、50nm以上且180nm以下、60nm以上且180nm以下、70nm以上且180nm以下或80nm以上且180nm以下。

透明積層體10可於各式各樣之用途使用。例如，作為透明積層體10之用途，例如可舉影像顯示裝置、臉部用透明防護裝備、透明隔板、透明膜簾等。本說明書中之「臉部用透明防護裝備」，係指藉由覆蓋臉部整體或臉部之一部份（例如，眼睛）來加以保護者。作為臉部用透明防護裝備，例如可舉眼罩或面罩等。臉部用透明防護裝備可為單次使用型，又，亦可為重複使用型。作為單次使用型之臉部用透明防護裝備，可舉換膜眼罩型、附面罩之外科口罩型、面罩型等，又，作為重複使用型之臉部用透明防護裝備，則可舉眼罩型、護目鏡型、面罩型等。以下，說明將透明積層體10使用於影像顯示裝置或臉部用透明防護裝備之情形。

＜＜＜影像顯示裝置＞＞＞ 圖6所示之影像顯示裝置60係主要於室外使用者，但亦可於屋內使用。影像顯示裝置60具備有顯示面板70、與在較顯示面板70靠近觀察者側並介隔空氣層（氣隙）90而配置之透明的前板100。空氣層90之厚度（顯示面板70與前板100之間的距離）d並無特別限定，例如可超過0mm但設定在50mm以下。影像顯示裝置60另外於顯示面板70之背面側，具備有照射顯示面板70之背光裝置110。惟，根據顯示面板之種類，影像顯示裝置亦可不具備背光裝置。

＜＜顯示面板＞＞ 顯示面板70如圖6所示，具備有顯示元件71與分別配置於顯示元件71之觀察者側及背光裝置110側之偏光板72、73，顯示元件71與偏光板72、73係透過壓敏接著劑（PSA）等透明黏著層74、75而一體化。

＜顯示元件＞ 顯示元件71為液晶顯示元件。惟，顯示元件並不限於液晶顯示元件，例如，亦可為有機發光二極體（OLED）元件等。作為液晶顯示元件，可使用公知之液晶顯示元件，例如，於2片玻璃基材間配置有液晶層、配向膜、電極層、濾色器等者。

＜偏光板＞ 偏光板72具備有偏光元件76、貼合於偏光元件76之觀察者側之面的抗反射膜77及貼合於偏光元件76之背光裝置110側之面的保護膜78。另，於偏光元件76之觀察者側之面，亦可貼合與保護膜78相同者來代替抗反射膜77，又，亦可貼合其他之光學膜。

（偏光元件） 偏光元件76可舉藉由碘或雙色染料進行染色且經單軸延伸之聚乙烯醇系樹脂膜。作為聚乙烯醇系樹脂，可使用聚乙酸乙烯酯系樹脂經皂化者。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，除了可舉為乙酸乙烯酯之單獨聚合物的聚乙酸乙烯酯外，亦可舉乙酸乙烯酯及可與其共聚合之其他單體的共聚物等。作為可與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體，例如可舉不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基醚類、不飽和磺酸類、具有銨基之丙烯醯胺類等。聚乙烯醇系樹脂亦可經改質，例如亦可使用經以醛類改質之聚乙烯甲醛或聚乙烯縮醛（polyvinyl acetal）等。

當將偏光元件76與抗反射膜77或保護膜78積層時，較佳預先對抗反射膜77或保護膜78實施皂化處理。與偏光元件76之接著性會因對抗反射膜77或保護膜78實施皂化處理而變良好。

（抗反射膜） 抗反射膜77係用以保護偏光元件76且得到抗反射性者。本說明書中之「抗反射性」，意指使反射光減少之性質，具體而言，係意指後述之視感反射率Y為3.5％以下。抗反射膜77具備有透光性基材79、設置於基材79之觀察者側之面的功能層80及設置於功能層80之觀察者側之面且折射率低於功能層80的低折射率層81。基材79、低折射率層81由於與基材11、低折射率層13相同，故此處省略說明。惟，基材79、低折射率層81亦可非為與後述之基材11、低折射率層13相同者。

功能層80除了不含有後述之防霧材以外，其餘皆與後述之功能層12相同，故此處省略說明。惟，功能層80亦可含有防霧材。亦即，抗反射膜77相較於透明積層體10更容易受到來自顯示面板70側之熱，故不易起霧，但亦可使用與透明積層體10相同者。

抗反射膜77之功能層80由於不含有防霧材，故不具有防霧性，但當使抗反射膜77之功能層80含有防霧材的情形時，於抗反射膜77之觀察者側之表面77A（低折射率層81之表面）對水的接觸角可為90°以上。

（保護膜） 保護膜78為用以保護偏光元件76者，係由三乙醯基纖維素膜（TAC膜）等透光性基材構成。

偏光板73具備有偏光元件82、貼合於偏光元件82之一面的保護膜83及貼合於偏光元件82之另一面的保護膜84。由於偏光元件82與偏光元件76相同，又，保護膜83、84與保護膜78相同，故此處省略說明。

＜＜背光裝置＞＞ 作為背光裝置110，可使用公知之背光裝置。背光裝置110可為側光型及直下型背光裝置之任一者。

＜＜前板＞＞ 前板100具備有基材101與較基材101靠近配置於顯示面板70側之透明積層體10。於前板100中，透明積層體10雖較基材101靠近配置於顯示面板70側，但較基材101靠近配置於顯示面板70側及觀察者側之至少任一側即可。基材101與透明積層體10係藉由透明黏著層102貼合。於基材101與透明積層體10之間，亦可隔著其他之功能層。此情形時，基材101、其他之功能層及透明積層體10係藉由貼合等而一體化。

＜基材＞ 基材101係用以對影像顯示裝置60賦予硬度者。基材101之表面101A成為影像顯示裝置60之觀察者側的表面60A。

基材101之厚度較佳為50μm以上且5mm以下。若基材101之厚度為50μm以上，則基材101不易破裂，又，不易受到因吸水而導致前板翹曲等外界氣體之影響。又，若基材101之厚度為5mm以下，則可抑制因發生透光率降低及影像變形等所造成之辨視性惡化，又，重量不會過重而容易處理。基材101之厚度可藉由與基材11之厚度相同方法測量。

基材101之構成材料並無特別限定，可舉玻璃、乙酸纖維素系樹脂、環烯聚合物（COP）系樹脂、環烯共聚物（COC）系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂或此等樹脂之混合物。此等之中，從高硬度及高透明性之觀點，較佳為玻璃。基材之構成材料由於與在基材所說明之玻璃、乙酸纖維素基材、環烯聚合物基材、聚碳酸酯基材、丙烯酸基材或聚酯基材相同，故此處省略說明。

若根據本實施形態，由於具備有透明積層體10，故可提供在顯示面板70與前板100之間存在空氣層90，且在前板100之顯示面板70側具有優異防霧性，且即使於容易起霧之環境下視感反射率Y亦不易變化的影像顯示裝置60。

＜＜＜臉部用透明防護裝備＞＞＞ 圖7所示之臉部用透明防護裝備120係成為面罩。臉部用透明防護裝備120，例如具備有支持構件130與安裝於支持構件130之雙面抗反射積層體140。另，雙面抗反射積層體140雖被用於臉部用透明防護裝備120，但用途並無特別限定。

＜＜雙面抗反射積層體＞＞ 雙面抗反射積層體140係於雙面具有抗反射功能者。圖7所示之雙面抗反射積層體140係作為面罩之透明遮蔽膜發揮功能者，覆蓋臉部整體或臉部之一部份（例如眼睛）。對於臉部用透明防護裝備，由於輕薄是重要的，故雙面抗反射積層體140之厚度從要求薄型化及輕量化的觀點，較佳為1000μm以下。雙面抗反射積層體140，除了面罩之透明遮蔽膜外，亦可用於用以防止飛沫之板狀隔板或膜簾等。於此等之情形時，由於薄型、輕量較容易處理，故雙面抗反射積層體之厚度較佳為15000μm以下。關於雙面抗反射積層體140之厚度，係使用厚度測量裝置（製品名「Digimatic Indicator IDF－130」，三豐公司製），測量10點雙面抗反射積層體140之厚度，設定為該10點之厚度的算術平均值。若雙面抗反射積層體之厚度過薄，則容易變形，又，若雙面抗反射積層體沒有彈性，則會纏在臉部，故雙面抗反射積層體140之厚度從抑制上述變形且使之具有彈性的觀點及謀求更薄型化又更輕量化的觀點，更佳為85μm以上且1000μm以下、150μm以上且1000μm以下、250μm以上且1000μm以下、85μm以上且700μm以下、150μm以上且700μm以下或250μm以上且700μm以下、85μm以上且600μm以下、150μm以上且600μm以下、250μm以上且600μm以下、85μm以上且500μm以下、150μm以上且500μm以下或250μm以上且500μm以下。尤其若雙面抗反射積層體140之厚度為110μm以上且450μm以下，則除了視感反射率Y低，防霧性及辨視性優異外，厚度亦最適當，故當使用雙面抗反射積層體140製作面罩之情形時，可得到輕量且佩戴感佳之面罩。

雙面抗反射積層體140如圖8所示，例如，依序積層有透明積層體10、透明接著層150及抗反射膜160。亦即，雙面抗反射積層體140係於雙面具備抗反射膜者。藉由在雙面具備抗反射膜，而可更加提升透明性，明瞭口部之動作，更加給談話之對方安心感。

成為雙面抗反射積層體140之臉側的第1面（內面）140A，係成為透明積層體10之表面10A（低折射率層13之表面13A），而雙面抗反射積層體140之第2面（外面）140B則成為抗反射膜160之表面160A。

雙面抗反射積層體140之雙面反射率，較佳為0.1％以上且2％以下。若雙面抗反射積層體140之雙面反射率為0.1％以上，則可抑制耐刮傷性降低，若為2％以下，則可充分抑制反射，故會容易看見口部之動作。所謂「雙面反射率」，意指使光從雙面抗反射積層體之單面入射時，於雙面抗反射積層體之雙面所反射之光的合計反射率。當將雙面抗反射積層體140使用於臉部用透明防護裝備之情形時，為了日常生活，辨視性也很重要，故雙面抗反射積層體140之雙面反射率越低越佳。雙面抗反射積層體140之雙面反射率較佳為0.13％以上且2％以下、0.17％以上且2％以下、0.20％以上且2％以下、0.1％以上且1.97％以下、0.13％以上且1.97％以下、0.17％以上且1.97％以下、0.20％以上且1.97％以下、0.1％以上且1.93％以下、0.13％以上且1.93％以下、0.17％以上且1.93％以下、0.20％以上且1.93％以下、0.1％以上且1.90％以下、0.13％以上且1.90％以下、0.17％以上且1.90％以下或0.20％以上且1.90％以下。

上述雙面反射率能以下述方式測量。首先，將雙面抗反射積層體140切成70mm×70mm之大小，而得到樣品。又，從黑色壓克力板（例如，製品名「CLAREX N－885」，日東樹脂工業股份有限公司製，厚度1mm）切下2片10mm×50mm大小之黑色壓克力板（以下，稱為「黑色壓克力板1」。）及1片50mm×50mm大小之黑色壓克力板（以下，稱為「黑色壓克力板2」。）。以相互對向之方式將黑色壓克力板1置於黑色壓克力板2上，以膠帶（製品名「Sellotape（註冊商標），日絆公司製」等加以固定，製作圖9所示之支架170。之後，將樣品S放置於支架170上使樣品橫跨於2個黑色壓克力板1。然後，於此狀態設置於分光光度計（例如，製品名「UV－2600」，島津製作所股份有限公司製）之測量部，測量視感反射率。然後，從所測得之視感反射率減去黑色壓克力板之視感反射率乘以2次雙面抗反射積層體之總光線穿透率所得到的值（例如，若為雙面抗反射積層體140之情形時，黑色壓克力板之反射率（％）×雙面抗反射積層體140之總光線穿透率（％）／100×雙面抗反射積層體140之總光線穿透率（％）／100），藉此求出樣品S之雙面反射率。

從雙面抗反射積層體140之第1面140A所測得的視感反射率Y，較佳為從雙面抗反射積層體140之第2面140B所測得的視感反射率Y以上。當將雙面抗反射積層體使用於臉部用透明防護裝備之情形時，由於外面之視感反射率低較可抑制映入，故容易從對方側看見臉部用透明防護裝備之佩戴者的臉部。又，若欲於雙面抗反射積層體之內面側提高防霧性，則視感反射率Y有變高之傾向。因此，藉由使從雙面抗反射積層體140之第1面140A所測得的視感反射率Y為從雙面抗反射積層體140之第2面140B所測得的視感反射率Y以上，而可容易從對方側看見臉部用透明防護裝備之佩戴者的臉部，且可於內面側提高防霧性。

從雙面抗反射積層體140之第1面140A（透明積層體10之表面10A）所測得的視感反射率Y與從第2面140B（抗反射膜160之表面160A）所測得的視感反射率Y之差的絕對值（｜第1面之視感反射率－第2面之視感反射率｜）ΔY2，較佳為1.0％以下。 若此ΔY2為1.0％以下，則即使是從第1面140A側及第2面140B側之任一側辨視的情形時，亦可抑制光反射，透明性高，且辨視性佳。此ΔY2更佳為0.5％以下。上述ΔY2之下限為0％以上。

雙面抗反射積層體140之總光線穿透率較佳為90％以上。若雙面抗反射積層體140之總光線穿透率為90％以上，則可得到足夠之光學性能。雙面抗反射積層體140之總光線穿透率更佳為90％以上、91％以上或92％以上。雙面抗反射積層體140之總光線穿透率的上限為100％以下。雙面抗反射積層體140之總光線穿透率能以與透明積層體10之總光線穿透率同樣方式測量。

＜透明接著層＞ 透明接著層150係用以將透明積層體10與抗反射膜160接合者。本說明書中之「透明接著層」，係用以接合構件彼此之具有透明性之層，為包含透明黏著層之概念。透明接著層150之膜厚並無特別限定，例如較佳為2μm以上且200μm以下。若透明接著層150之膜厚為2μm以上，則可確實地將透明積層體10與抗反射膜160接合，又，若為200μm以下，則可維持透明性（透光性）。透明接著層150之膜厚更佳為5μm以上且200μm以下、10μm以上且200μm以下、15μm以上且200μm以下、2μm以上且170μm以下、5μm以上且170μm以下、10μm以上且170μm以下、15μm以上且170μm以下、2μm以上且160μm以下、5μm以上且160μm以下、10μm以上且160μm以下、15μm以上且160μm以下、2μm以上且150μm以下、5μm以上且150μm以下、10μm以上且150μm以下或15μm以上且150μm以下。透明接著層150之膜厚，可藉由與功能層12之膜厚相同方法測量。

＜抗反射膜＞ 抗反射膜160係用以抑制外部光線反射之膜。作為抗反射膜160之構成，並無特別限定，例如，圖8所示之抗反射膜160係成為依序積層有基材161、功能層162及低折射率層163之透明積層體。由於基材161與基材11相同，低折射率層163與低折射率層13相同，故此處省略說明。

（功能層） 功能層162除了未含有防霧材以外，其餘皆與功能層12相同。惟，功能層162亦可與功能層12同樣地含有防霧材。

＜＜其他之雙面抗反射積層體＞＞ 雙面抗反射積層體140雖僅於單面具備透明積層體10，但例如亦可如圖10所示之雙面抗反射積層體180，於雙面具備透明積層體10。於此情形時，雙面抗反射積層體180之第1面（內面）180A及第2面（外面）180B皆成為透明積層體10之表面10A。若根據具備此種雙面抗反射積層體180之臉部用透明防護裝備，則不僅是雙面抗反射積層體180之內面側，且即使於外面側亦存在起霧之要因的情形時，亦可抑制雙面抗反射積層體180之起霧。

雙面抗反射積層體140係依序設置有透明積層體10、透明接著層150、抗反射膜160，但亦可如圖11所示之雙面抗反射積層體190，將透明膜191配置於透明積層體10與抗反射膜160之間。此情形時，於雙面抗反射積層體190中，係依序設置有透明積層體10、透明接著層192、透明膜191、透明接著層193、抗反射膜160。此情形時，雙面抗反射積層體190之第1面（內面）190A成為透明積層體10之表面10A，而雙面抗反射積層體190之第2面（外面）190B則成為抗反射膜160之表面160A。此種雙面抗反射積層體190可較雙面抗反射積層體140更具有彈性或韌性。

＜透明膜＞ 透明膜191之厚度較佳為20μm以上且200μm以下。若透明膜191之厚度為20μm以上，則可使雙面抗反射積層體190具有一定的彈性或韌性，又，若為200μm以下，則可謀求輕量化。透明膜191之厚度能以與基材之厚度同樣方式測量。透明膜191之厚度更佳為25μm以上且200μm以下、40μm以上且200μm以下、50μm以上且200μm以下、20μm以上且150μm以下、25μm以上且150μm以下、40μm以上且150μm以下、50μm以上且150μm以下、20μm以上且120μm以下、25μm以上且120μm以下、40μm以上且120μm以下、50μm以上且120μm以下、20μm以上且100μm以下、25μm以上且100μm以下、40μm以上且100μm以下或50μm以上且100μm以下。作為透明膜191，並無特別限定，例如可舉由在基材11之項目所說明之樹脂構成的膜。

＜透明接著層＞ 透明接著層192、193由於與透明接著層150相同，故省略說明

臉部用透明防護裝備120雖具備有雙面抗反射積層體140，但亦可使用如圖12所示之僅於單面具有抗反射功能的單面抗反射積層體200來代替雙面抗反射積層體140。於單面抗反射積層體200中，亦可使用不具備有基材之透明積層體30。於圖12所示之單面抗反射積層體200中，透明積層體10係透過透明接著層202貼合於基材201。亦即，於單面抗反射積層體200中，依序積層有基材201、透明接著層202及透明積層體10。又，單面抗反射積層體200之第1面（內面）201A係成為透明積層體10之表面10A。另，於單面抗反射積層體200中，脫模膜被剝離。由於基材201與基材11相同，透明接著層202與透明接著層150相同，故省略說明。

於臉部用透明防護裝備中，由於呼氣會與雙面抗反射積層體之內面接觸，故容易起霧。相對於此，若根據本實施形態，則藉由使雙面抗反射積層體140、180、190之第1面140A、180A、190A為透明積層體10之表面10A，可抑制雙面抗反射積層體140、180、190之起霧。又，由於透明積層體10具有低折射率層13，故可抑制光之反射。藉此，可掌握口部動作，賦予談話之對方安心感。 [實施例]

為了詳細說明本發明，以下舉實施例來加以說明，但本發明並不限於此等記載。

＜防霧材之製作＞ 藉由以下之次序製作防霧材A～D。 （防霧材A） 對新戊四醇重複進行環氧乙烷（EO）加成，最後將丙烯酸作酯加成，而得到為EO改質數35之乙氧基化新戊四醇四丙烯酸酯的防霧材A。

（防霧材B） 對二新戊四醇重複進行EO加成，最後將丙烯酸作酯加成，而得到為EO改質數48之乙氧基化二新戊四醇聚丙烯酸酯的防霧材B。

（防霧材C） 對甘油重複進行EO加成，最後將丙烯酸作酯加成，而得到為EO改質數9之乙氧基化新戊四醇四丙烯酸酯的防霧材C。

（防霧材D） 對三羥甲基丙烷重複進行EO加成，最後將丙烯酸作酯加成，而得到為EO改質數20之乙氧基化新戊四醇四丙烯酸酯的防霧材D。

＜硬塗層用組成物之製備＞ 以成為下述所示之組成的方式摻合各成分，而得到硬塗層用組成物。

（硬塗層用組成物1） ・防霧材（製品名「NFK－551」，尼歐斯股份有限公司製）：7質量份 ・1,6-己二醇二丙烯酸酯（製品名「HDDA」，大賽璐湛新股份有限公司製）：0.9質量份 ・聚合起始劑（1-羥基環己基苯基酮，製品名「Omnirad184」，IGM Resins B.V.公司製）：0.12質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：1.05質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：1.05質量份

（硬塗層用組成物2） ・防霧材（製品名「8WX－083」，大成精細化工股份有限公司製）：5.56質量份 ・1,6-己二醇二丙烯酸酯（製品名「HDDA」，大賽璐湛新股份有限公司製）：0.9質量份 ・聚合起始劑（1-羥基環己基苯基酮，製品名「Omnirad184」，BASF日本公司製）：0.12質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：1.77質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：1.77質量份

（硬塗層用組成物3） ・防霧材（製品名「KRM 8713B」，大賽璐湛新公司製）：4.67質量份 ・1,6-己二醇二丙烯酸酯（製品名「HDDA」，大賽璐湛新公司製）：0.9質量份 ・聚合起始劑（1-羥基環己基苯基酮，製品名「Omnirad184」，IGM Resins B.V.公司製）：0.12質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：2.215質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：2.215質量份

（硬塗層用組成物4） ・防霧材A：2.10質量份 ・1,6-己二醇二丙烯酸酯（製品名「HDDA」，大賽璐湛新公司製）：0.9質量份 ・聚合起始劑（1-羥基環己基苯基酮，製品名「Omnirad184」，IGM Resins B.V.公司製）：0.12質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：3.5質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：3.5質量份

（硬塗層用組成物5） ・防霧材（製品名「A－GLY－20E」，新中村化學工業股份有限公司製）：2.10質量份 ・1,6-己二醇二丙烯酸酯（製品名「HDDA」，大賽璐湛新股份有限公司製）：0.9質量份 ・聚合起始劑（1-羥基環己基苯基酮，製品名「Omnirad184」，IGM Resins B.V.公司製）：0.12質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：3.5質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：3.5質量份

（硬塗層用組成物6） ・胺酯丙烯酸酯（製品名「Aronix M－1100」，東亞合成股份有限公司製）：2.10質量份 ・1,6-己二醇二丙烯酸酯（製品名「HDDA」，大賽璐湛新股份有限公司製）：0.9質量份 ・聚合起始劑（1-羥基環己基苯基酮，製品名「Omnirad184」，IGM Resins B.V.公司製）：0.12質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：3.5質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：3.5質量份

（硬塗層用組成物7） ・防霧材（製品名「KRM 8713B」，大賽璐湛新公司製）：5.67質量份 ・1,6-己二醇二丙烯酸酯（製品名「HDDA」，大賽璐湛新股份有限公司製）：0.45質量份 ・聚合起始劑（1-羥基環己基苯基酮，製品名「Omnirad184」，IGM Resins B.V.公司製）：0.12質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：1.94質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：1.94質量份

（硬塗層用組成物8） ・防霧材（製品名「KRM 8713B」，大賽璐湛新股份有限公司製）：0.67質量份 ・1,6-己二醇二丙烯酸酯（製品名「HDDA」，大賽璐湛新股份有限公司製）：2.7質量份 ・聚合起始劑（1-羥基環己基苯基酮，製品名「「Omnirad184」，IGM Resins B.V.公司製）：0.12質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：3.315質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：3.315質量份

（硬塗層用組成物9） ・防霧材（製品名「KRM 8713B」，大賽璐湛新股份有限公司製）：4.67質量份 ・三羥甲基丙烷三丙烯酸酯（製品名「LIGHT ACRYLATE TMP－A」，共榮社化學股份有限公司製）：0.9質量份 ・聚合起始劑（1-羥基環己基苯基酮，製品名「Omnirad184」，IGM Resins B.V.公司製）：0.12質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：2.215質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：2.215質量份

（硬塗層用組成物10） ・防霧材（製品名「KRM 8713B」，大賽璐湛新股份有限公司製）：4.67質量份 ・二新戊四醇六丙烯酸酯與二新戊四醇五丙烯酸酯之混合物（製品名「KAYARAD DPHA」，日本化藥股份有限公司製）：0.9質量份 ・聚合起始劑（1-羥基環己基苯基酮，製品名「Omnirad184」，IGM Resins B.V.公司製）：0.12質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：2.215質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：2.215質量份

（硬塗層用組成物11） ・防霧材（製品名「KRM 8713B」，大賽璐湛新股份有限公司製）：4.67質量份 ・三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯（製品名「IRR214－K」，大賽璐湛新股份有限公司製）：0.9質量份 ・聚合起始劑（1-羥基環己基苯基酮，製品名「Omnirad184」，IGM Resins B.V.公司製）：0.12質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：2.215質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：2.215質量份

（硬塗層用組成物12） ・1,6-己二醇二丙烯酸酯（製品名「HDDA」，大賽璐湛新股份有限公司製）：3質量份 ・聚合起始劑（1-羥基環己基苯基酮，製品名「Omnirad184」，IGM Resins B.V.公司製）：0.12質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：3.5質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：3.5質量份

（硬塗層用組成物13） ・三羥甲基丙烷三丙烯酸酯（製品名「LIGHT ACRYLATE TMP－A」，共榮社化學股份有限公司製）：3質量份 ・聚合起始劑（1-羥基環己基苯基酮，製品名「Irgacure（註冊商標）184」，BASF日本公司製）：0.12質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：3.5質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：3.5質量份

（硬塗層用組成物14） ・二新戊四醇六丙烯酸酯與二新戊四醇五丙烯酸酯之混合物（製品名「KAYARAD DPHA」，日本化藥公司製）：3質量份 ・聚合起始劑（1-羥基環己基苯基酮，製品名「Omnirad184」，IGM Resins B.V.公司製）：0.12質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：3.5質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：3.5質量份

（硬塗層用組成物15） ・防霧材A：3.20質量份 ・三羥甲基丙烷三丙烯酸酯（製品名「LIGHT ACRYLATE TMP－A」，共榮社化學股份有限公司製）：0.80質量份 ・氟系非反應型界面活性劑（調平劑，製品名「F－477」，DIC股份有限公司製）：0.1質量份 ・聚合起始劑（製品名「Omnirad127」，IGM Resins B.V.公司製）：0.16質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：4.80質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：1.20質量份

（硬塗層用組成物16） ・防霧材B：2.80質量份 ・三羥甲基丙烷三丙烯酸酯（製品名「LIGHT ACRYLATE TMP－A」，共榮社化學股份有限公司製）：1.20質量份 ・氟系非反應型界面活性劑（調平劑，製品名「F－477」，DIC股份有限公司製）：0.1質量份 ・聚合起始劑（製品名「Omnirad127」，IGM Resins B.V.公司製）：0.16質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：4.80質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：1.20質量份

（硬塗層用組成物17） ・防霧材A：2.60質量份 ・三羥甲基丙烷三丙烯酸酯（製品名「LIGHT ACRYLATE TMP－A」，共榮社化學股份有限公司製）：1.40質量份 ・氟系非反應型界面活性劑（調平劑，製品名「F－477」，DIC股份有限公司製）：0.1質量份 ・聚合起始劑（製品名「Omnirad127」，IGM Resins B.V.公司製）：0.16質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：4.80質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：1.20質量份

（硬塗層用組成物18） ・防霧材A：3.60質量份 ・三羥甲基丙烷三丙烯酸酯（製品名「LIGHT ACRYLATE TMP－A」，共榮社化學股份有限公司製）：0.40質量份 ・氟系非反應型界面活性劑（調平劑，製品名「F－477」，DIC股份有限公司製）：0.1質量份 ・聚合起始劑（製品名「Omnirad127」，IGM Resins B.V.公司製）：0.16質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：4.80質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：1.20質量份

（硬塗層用組成物19） ・防霧材B：3.20質量份 ・三羥甲基丙烷三丙烯酸酯（製品名「LIGHT ACRYLATE TMP－A」，共榮社化學股份有限公司製）：0.80質量份 ・氟系非反應型界面活性劑（調平劑，製品名「F－477」，DIC股份有限公司製）：0.1質量份 ・聚合起始劑（製品名「Omnirad127」，IGM Resins B.V.公司製）：0.16質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：4.80質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：1.20質量份

（硬塗層用組成物20） ・防霧材D：3.20質量份 ・三羥甲基丙烷三丙烯酸酯（製品名「LIGHT ACRYLATE TMP－A」，共榮社化學股份有限公司製）：0.80質量份 ・氟系非反應型界面活性劑（調平劑，製品名「F－477」，DIC股份有限公司製）：0.1質量份 ・聚合起始劑（製品名「Omnirad127」，IGM Resins B.V.公司製）：0.16質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：4.80質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：1.20質量份

（硬塗層用組成物21） ・胺酯丙烯酸酯（製品名「Aronix M－1100」，東亞合成股份有限公司製）：2.80質量份 ・防霧材A：0.40質量份 ・三羥甲基丙烷三丙烯酸酯（製品名「LIGHT ACRYLATE TMP－A」，共榮社化學股份有限公司製）：0.80質量份 ・氟系非反應型界面活性劑（調平劑，製品名「F－477」，DIC股份有限公司製）：0.1質量份 ・聚合起始劑（製品名「Omnirad127」，IGM Resins B.V.公司製）：0.16質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：4.80質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：1.20質量份

（硬塗層用組成物22） ・胺酯丙烯酸酯（製品名「Aronix M－1100」，東亞合成股份有限公司製）：3.20質量份 ・三羥甲基丙烷三丙烯酸酯（製品名「LIGHT ACRYLATE TMP－A」，共榮社化學股份有限公司製）：0.80質量份 ・氟系非反應型界面活性劑（調平劑，製品名「F－477」，DIC股份有限公司製）：0.1質量份 ・聚合起始劑（製品名「Omnirad127」，IGM Resins B.V.公司製）：0.16質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：4.80質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：1.20質量份

（硬塗層用組成物23） ・胺酯丙烯酸酯（製品名「Aronix M－1100」，東亞合成股份有限公司製）：2.00質量份 ・三羥甲基丙烷三丙烯酸酯（製品名「LIGHT ACRYLATE TMP－A」，共榮社化學股份有限公司製）：2.00質量份 ・氟系非反應型界面活性劑（調平劑，製品名「F－477」，DIC股份有限公司製）：0.1質量份 ・聚合起始劑（製品名「Omnirad127」，IGM Resins B.V.公司製）：0.16質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：4.80質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：1.20質量份

（硬塗層用組成物24） ・防霧材A：3.20質量份 ・三羥甲基丙烷三丙烯酸酯（製品名「LIGHT ACRYLATE TMP－A」，共榮社化學股份有限公司製）：0.80質量份 ・氟系非反應型界面活性劑（調平劑，製品名「F－477」，DIC股份有限公司製）：0.1質量份 ・聚合起始劑（1-羥基環己基苯基酮，製品名「Omnirad184」，IGM Resins B.V.公司製）：0.16質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：4.80質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：1.20質量份

（硬塗層用組成物25） ・防霧材A：2.00質量份 ・三羥甲基丙烷三丙烯酸酯（製品名「LIGHT ACRYLATE TMP－A」，共榮社化學股份有限公司製）：2.00質量份 ・氟系非反應型界面活性劑（調平劑，製品名「F－477」，DIC股份有限公司製）：0.1質量份 ・聚合起始劑（製品名「Omnirad127」，IGM Resins B.V.公司製）：0.16質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：4.80質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：1.20質量份

（硬塗層用組成物26） ・防霧材C：3.20質量份 ・三羥甲基丙烷三丙烯酸酯（製品名「LIGHT ACRYLATE TMP－A」，共榮社化學股份有限公司製）：0.80質量份 ・氟系非反應型界面活性劑（調平劑，製品名「F－477」，DIC股份有限公司製）：0.1質量份 ・聚合起始劑（製品名「Omnirad127」，IGM Resins B.V.公司製）：0.16質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：4.80質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：1.20質量份

（硬塗層用組成物27） ・聚乙二醇二丙烯酸酯（製品名「Aronix M－240」，東亞合成股份有限公司製）：3.20質量份 ・三羥甲基丙烷三丙烯酸酯（製品名「LIGHT ACRYLATE TMP－A」，共榮社化學股份有限公司製）：0.80質量份 ・氟系非反應型界面活性劑（調平劑，製品名「F－477」，DIC股份有限公司製）：0.1質量份 ・聚合起始劑（製品名「Omnirad127」，IGM Resins B.V.公司製）：0.16質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：4.80質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：1.20質量份

（硬塗層用組成物28） ・1,6-己二醇二丙烯酸酯（製品名「HDDA」，大賽璐湛新股份有限公司製）：1質量份 ・高折射率單官能單體（製品名「LIGHT ACRYLATE POB－A」，共榮社化學股份有限公司製）：2質量份 ・氟系非反應型界面活性劑（調平劑，製品名「F－477」，DIC股份有限公司製）：0.1質量份 ・聚合起始劑（1-羥基環己基苯基酮，製品名「Omnirad184」，IGM Resins B.V.公司製）：0.12質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：3.5質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：3.5質量份

（硬塗層用組成物29） ・乙氧基化（15）三羥甲基丙烷三丙烯酸酯（製品名「SR9035」，Sartomer公司製）：3.45質量份 ・新戊四醇烷氧基四丙烯酸酯（製品名「EBECRYL 40」，大賽璐湛新股份有限公司製）：0.86質量份 ・丙烯酸酯改質全氟聚醚（製品名「Optool DAC－HP」，大金工業股份有限公司製）：0.23質量份 ・聚合起始劑（1-羥基環己基苯基酮，製品名「Omnirad184」，IGM Resins B.V.公司製）：0.14質量份 ・異丙醇（IPA）：0.5質量份

（硬塗層用組成物30） ・防霧材A：4.00質量份 ・氟系非反應型界面活性劑（調平劑，製品名「F－477」，DIC股份有限公司製）：0.1質量份 ・聚合起始劑（製品名「Omnirad127」，IGM Resins B.V.公司製）：0.16質量份 ・甲基乙基酮（MEK）：4.80質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：1.20質量份

＜低折射率層用組成物之製備＞ 以成為下述所示之組成的方式摻合各成分，而得到低折射率層用組成物。 （低折射率層用組成物1） ・新戊四醇三丙烯酸酯與新戊四醇四丙烯酸酯之混合物（製品名「KAYARAD PET－30」，日本化藥股份有限公司製，3官能）：0.14質量份 ・中空二氧化矽微粒子分散液（微粒子，日揮觸媒化成股份有限公司製，平均粒徑55nm，固體含量20質量％，甲基異丁基酮分散）：0.80質量份 ・甲基異丁基酮：4.44質量份 ・丙二醇單甲醚乙酸酯：1.00質量份 ・具有反應性官能基之有機聚矽氧（製品名「X－22－164E」，信越化學股份有限公司製）：0.03質量份 ・聚合起始劑（製品名「Irgacure（註冊商標）127」，BASF日本公司製）：0.01質量份

（低折射率層用組成物2） ・新戊四醇三丙烯酸酯與新戊四醇四丙烯酸酯之混合物（製品名「KAYARAD PET－30」，日本化藥公司製，3官能）0.16質量份 ・中空二氧化矽微粒子分散液（微粒子，日揮觸媒化成股份有限公司製，平均粒徑55nm，固體含量20質量％，甲基異丁基酮分散）：0.80質量份 ・甲基異丁基酮：8.10質量份 ・丙二醇單甲醚乙酸酯：1.10質量份 ・具有反應性官能基之有機聚矽氧（製品名「X－22－164E」，信越化學公司製）：0.03質量份 ・聚合起始劑（製品名「Omnirad127」，IGM Resins B.V.公司製）：0.01質量份

（低折射率層用組成物3） ・新戊四醇三丙烯酸酯與新戊四醇四丙烯酸酯之混合物（製品名「KAYARAD PET－30」，日本化藥股份有限公司製，3官能）：0.20質量份 ・中空二氧化矽微粒子分散液（微粒子，日揮觸媒化成股份有限公司製，平均粒徑55nm，固體含量20質量％，甲基異丁基酮分散）：0.80質量份 ・甲基異丁基酮：9.10質量份 ・丙二醇單甲醚乙酸酯：1.20質量份 ・具有反應性官能基之有機聚矽氧（製品名「X－22－164E」，信越化學股份有限公司製）：0.04質量份 ・聚合起始劑（製品名「Omnirad127」，IGM Resins B.V.公司製）：0.01質量份

（低折射率層用組成物4） ・新戊四醇三丙烯酸酯與新戊四醇四丙烯酸酯之混合物（製品名「KAYARAD PET－30」，日本化藥股份有限公司製，3官能）：0.16質量份 ・中空二氧化矽微粒子分散液（微粒子，日揮觸媒化成股份有限公司製，平均粒徑55nm，固體含量20質量％，甲基異丁基酮分散）：0.80質量份 ・甲基異丁基酮：8.86質量份 ・丙二醇單甲醚乙酸酯：1.00質量份 ・具有反應性官能基之有機聚矽氧（製品名「X－22－164E」，信越化學股份有限公司製）：0.03質量份 ・聚合起始劑（製品名「Omnirad127」，IGM Resins B.V.公司製）：0.01質量份

（低折射率層用組成物5） ・新戊四醇三丙烯酸酯與新戊四醇四丙烯酸酯之混合物（製品名「KAYARAD PET－30」，日本化藥股份有限公司製，3官能）：0.09質量份 ・中空二氧化矽微粒子分散液（微粒子，日揮觸媒化成股份有限公司製，平均粒徑55nm，固體含量20質量％，甲基異丁基酮分散）：0.80質量份 ・甲基異丁基酮：6.90質量份 ・丙二醇單甲醚乙酸酯：0.84質量份 ・具有反應性官能基之有機聚矽氧（製品名「X－22－164E」，信越化學股份有限公司製）：0.01質量份 ・聚合起始劑（製品名「Omnirad127」，IGM Resins B.V.公司製）：0.01質量份

（低折射率層用組成物6） ・防霧材A：0.16質量份 ・中空二氧化矽微粒子分散液（微粒子，日揮觸媒化成股份有限公司製，平均粒徑55nm，固體含量20質量％，甲基異丁基酮分散）：0.80質量份 ・甲基異丁基酮：8.86質量份 ・丙二醇單甲醚乙酸酯：1.00質量份 ・具有反應性官能基之有機聚矽氧（製品名「X－22－164E」，信越化學股份有限公司製）：0.03質量份 ・聚合起始劑（製品名「Omnirad127」，IGM Resins B.V.公司製）：0.01質量份

＜實施例1＞ 準備作為基材之厚度60μm的三乙醯基纖維素基材（製品名「TD P60」，東麗股份有限公司製），將上述硬塗層用組成物1塗布於三乙醯基纖維素基材之單面，形成塗膜。接著，將所形成之塗膜以70℃乾燥30秒鐘，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，於氮環境（氧濃度200ppm以下）下以累積光量成為200mJ／cm² 之方式照射紫外線，使塗膜硬化，藉此形成折射率1.51及膜厚5μm之硬塗層。接著，將上述低折射率層用組成物1塗布於硬塗層上，形成塗膜。然後，將所形成之塗膜以室溫乾燥60秒鐘，之後以50℃使之乾燥60秒鐘後，於氮環境（氧濃度200ppm以下）下，以累積光量100mJ／cm² 照射紫外線，使塗膜硬化，形成折射率1.35及膜厚100nm之低折射率層，藉此製作厚度為65.1μm之透明積層體。

關於三乙醯基纖維素基材之厚度，係使用掃描式電子顯微鏡（SEM，製品名「S－4800」，日立全球先端科技股份有限公司製），拍攝三乙醯基纖維素之剖面，於該剖面之影像中測量10處三乙醯基纖維素基材之厚度，求出該10處厚度之算術平均值，藉此而求得。具體之剖面照片的拍攝方法如下。首先，從透明積層體切下1mm×10mm大小之樣品，將該切下之樣品以包埋樹脂包埋，而製得嵌塊。然後，從該嵌塊藉由一般之切片製作方法切下無孔等之均一之厚度70nm以上且100nm以下的切片。於切片之製作，係使用Leica Microsystems股份有限公司製之Ultramicrotome EM UC7。然後，將該經切下無孔等之均一之切片的剩餘之嵌塊作為測量樣品。之後，使用上述掃描式電子顯微鏡，拍攝測量樣品之剖面照片。此處，於拍攝剖面照片時，係將檢測器設定為「SE」，將加速電壓設定為「5kV」，將發射電流設定為「10μA」進行剖面觀察。關於倍率，則是調節焦點，觀察是否可分辨出各層，且同時以100～10萬倍對對比度及亮度進行適當調節。並且，將束監測器光圈設定為「3」，將物鏡光圈設定為「3」，又，使W.D.為「8mm」。

關於硬塗層之膜厚，係使用掃描穿透式電子顯微鏡（STEM，製品名「S－4800」，日立全球先端科技股份有限公司製），拍攝硬塗層之剖面，於該剖面之影像中測量20處硬塗層之膜厚，設定為該20處膜厚之算術平均值。以下記載具體之剖面照片的拍攝方法。首先，與上述同樣地使用Leica Microsystems股份有限公司之Ultramicrotome EM UC7從透明積層體切下70nm以上且100nm以下之切片，將此無孔等之均一之切片作為測量樣品。之後，使用上述掃描穿透式電子顯微鏡，拍攝測量樣品之剖面照片。此處，於拍攝剖面照片時，係將檢測器設定為「TE」，將加速電壓設定為「30kV」，將發射電流設定為「10μA」，進行剖面觀察。又，於使用上述S－4800拍攝剖面照片時，進一步將束監測器光圈設定為「3」，將物鏡光圈設定為「3」，又，使W.D.為「8mm」。低折射率層之膜厚亦藉由與硬塗層之膜厚相同方法測量。

關於硬塗層及低折射率層之折射率，由於硬塗層之膜厚為5μm，低折射率層之膜厚為100nm，故可依照功能層12之部分所說明的（次序1）及（次序2）測量或算出。具體而言，首先，藉由貝克法測量硬塗層之折射率。當藉由貝克法測量硬塗層之折射率的情形時，係將硬塗層削掉，取出10個樣品，對所取出之10個樣品，使用折射率標準液，藉由貝克法分別測量折射率，將所測得之10個樣品之折射率的算術平均值作為硬塗層之折射率。接著，使用硬塗層之折射率及膜厚的資訊，以及低折射率層之膜厚的資訊，藉由擬合法算出低折射率層之折射率。

於實施例2～32及比較例1～18中，亦藉由與實施例1相同方法，測量基材之厚度、硬塗層及低折射率層之膜厚及折射率。

＜實施例2～13、15～25及比較例1～3、7～13＞ 於實施例2～13、15～25及比較例1～3、7～13中，除了使用表1或表2所示之硬塗層用組成物及低折射率層用組成物以外，其餘皆以與實施例1同樣方式得到透明積層體。

＜實施例14＞ 於實施例14中，係使用膜厚25μm之透明黏著層（製品名「PD－S1」，汎納克股份有限公司製），將實施例9之透明積層體與比較例2之透明積層體以基材彼此對向之方式貼合，而得到雙面抗反射積層體。另，於實施例14之雙面抗反射積層體或後述之樣品中，係將實施例9之透明積層體的表面（低折射率層之表面）作為第1面，比較例2之透明積層體的表面（低折射率層之表面）則作為第2面。

＜比較例4、5＞ 於比較例4、5中，除了使用表1所示之硬塗層用組成物代替硬塗層用組成物1，又，未形成低折射率層以外，其餘皆以與實施例1同樣方式得到透明積層體。

＜比較例6＞ 於比較例6中，係使用膜厚25μm之透明黏著層（製品名「PD－S1」，汎納克股份有限公司製），將2片比較例2之透明積層體以基材彼此對向之方式貼合，而得到雙面抗反射積層體。另，於比較例6之雙面抗反射積層體或後述之樣品中，係將其中一個比較例2之透明積層體的表面（低折射率層之表面）作為第1面，另一個比較例2之透明積層體的表面（低折射率層之表面）則作為第2面。

＜實施例26～32及比較例14～18＞ 於實施例26中，首先，使用表3所示之硬塗層用組成物及低折射率層用組成物，與實施例1同樣方式得到2片透明積層體1、2。然後，使用膜厚25μm之透明黏著層（製品名「PD－S1」，汎納克股份有限公司製），將2片透明積層體1、2以基材彼此對向之方式貼合，而得到雙面抗反射積層體。另，將透明積層體1之表面作為雙面抗反射積層體之第1面，透明積層體2之表面則作為雙面抗反射積層體之第2面。又，於實施例27～32及比較例14～18中，除了使用表4所示之硬塗層用組成物及低折射率層用組成物以外，其餘皆以與實施例26同樣方式得到雙面抗反射積層體。

＜防霧性試驗＞ 對實施例1～25及比較例1～13之透明積層體及雙面抗反射積層體，進行將透明積層體放入－15℃之冰箱5分鐘後，立即移至25℃、相對濕度50％之環境下放置5分鐘的防霧性試驗，確認防霧性試驗後之透明積層體的表面（於實施例1～13、15～25及比較例1～3、7～13中，為低折射率層之表面，於比較例4、5中，則為硬塗層之表面）或防霧性試驗後之雙面抗反射積層體的第1面（低折射率層之表面）是否起霧。當進行防霧性試驗時，雖使用從透明積層體及雙面抗反射積層體切下之樣品來進行，但樣品之大小分別為100mm×100mm。然後，將此樣品以膜厚25μm之透明黏著劑（製品名「PD－S1」，汎納克股份有限公司製）貼合於100mm×100mm×2mm大小之丙烯酸製黑板（製品名「comoglas acrylic plate」，可樂麗股份有限公司製）的表面。此時，透明積層體之背面或雙面抗反射積層體之第2面係以成為上述丙烯酸製之黑板側的方式貼合，而將透明積層體之表面或雙面抗反射積層體之第1面作為觀察側。然後，將以此方式所形成者作為測量樣品。製作相同之測量樣品各3片，分別使用3片（n＝3）之測量樣品進行防霧性試驗。測量樣品（透明積層體或雙面抗反射積層體）有無起霧，係將剛進行防霧性試驗後之測量樣品置於平坦之桌子上，以目視觀察測量樣品之表面（透明積層體之表面或雙面抗反射積層體之第1面），藉此來加以判斷。以目視進行之觀察，係於1000Lux之室內（光源：白色光源），在距離測量樣品之表面30cm的位置，從測量樣品之正面進行。評價基準如下。 A：全部3片之透明積層體的表面或雙面抗反射積層體的第1面皆未起霧。 B：3片中2片以上之透明積層體的表面或雙面抗反射積層體的第1面起霧。

＜呼氣試驗＞ 對實施例1～13、15～25及比較例1～5、7～13之透明積層體，以及實施例14、26～32及比較例6、14～18之雙面抗反射積層體，進行呼氣試驗。具體而言，首先，係從透明積層體切下100mm×100mm大小之樣品，或從雙面抗反射積層體切下17cm×27cm大小之樣品。然後，於透明積層體之情形時，將市售露面口罩（mouth shield）（透明遮罩）之膜卸下，以樣品配置於嘴前之方式將樣品貼合於露面口罩之支持體，來代替該膜。此時，將樣品貼合成透明積層體之表面（於實施例1～13、15～25及比較例1～3、7～13中，為低折射率層之表面，而於比較例4、5中，則為硬塗層之表面）成為嘴側。又，於雙面抗反射積層體之情形時，則是將市售面罩之膜卸下，以樣品配置於臉部前特別是嘴前之方式將樣品貼合於面罩之膜的支持體，來代替該膜。此時，將樣品貼合成雙面抗反射積層體之第1面成為嘴側。然後，將此等樣品於25℃、相對濕度50％之環境下，對透明積層體之表面或雙面抗反射積層體之第1面的中央部，從離該表面或第1面沿表面或第1面之法線方向10cm的距離大力吹氣，一旦因呼氣而起霧後，於1000Lux之室內（光源：白色光源）談話30分鐘。然後，於此30分鐘內，觀察起霧是否消失，又是否可清楚看見嘴形。觀察距離設定為1m，從露面口罩或面罩之穿戴者的正面觀察。評價基準如下。受試者為20多歲～50多歲之10人。 AA：於所有人中，透明積層體之表面或雙面抗反射積層體之第1面的起霧於3秒以內消失，之後亦不易起霧，可清楚看見嘴形。 A：於8人～9人中，透明積層體之表面或雙面抗反射積層體之第1面的起霧於3秒以內消失，之後亦不易起霧，可清楚看見嘴形。 B：於3人以上中，透明積層體之表面或雙面抗反射積層體之第1面的起霧未消失，無法清楚看見嘴形。

＜ΔY1、視感反射率Y測量及抗反射性評價＞ 對實施例1～25及比較例1～13之透明積層體及雙面抗反射積層體，分別測量上述防霧性試驗前後之透明積層體或雙面抗反射積層體的視感反射率Y，算出視感反射率Y之差的絕對值ΔY1。又，從上述防霧性試驗前之透明積層體或雙面抗反射積層體的視感反射率Y評價抗反射性。具體而言，首先，從透明積層體及雙面抗反射積層體切下25mm×50mm大小之樣品。然後，使用分光光度計（製品名「UV－2600」，島津製作所製），從防霧性試驗前之樣品的表面（於實施例1～13、15～25及比較例1～3、7～13中，為低折射率層之表面，於實施例14及比較例6中，為雙面抗反射積層體之第1面，於比較例4、5中，則為硬塗層之表面）側照射入射角度5度之光，接收於樣品所反射之鏡面反射方向的反射光，測量380nm～780nm之波長範圍的反射率，之後，藉由換算為人類以眼睛所感受到之明度的軟體（內置於UV－2600之軟體）求出防霧性試驗前之視感反射率Y。視感反射率Y，係以涵蓋樣品整體之方式以大致相等間隔測量40點，設定為所測得之40點之視感反射率的算術平均值。然後，對樣品以與上述防霧性試驗相同條件進行防霧性試驗。然後，以與防霧性試驗前之樣品的視感反射率Y同樣方式求出防霧性試驗後之樣品的視感反射率Y，求出防霧性試驗前後之透明積層體其表面10A的視感反射率Y之差的絕對值。另，視感反射率Y之測量，於實施例1～13、15～25及比較例1～5、7～13中，係將100mm×100mm×2mm之黑板（製品名「comoglas acrylic plate」，可樂麗股份有限公司製）貼合於三乙醯基纖維素基材中與形成有硬塗層之面相反側之面的狀態下進行，於實施例14及比較例6中，則是將100mm×100mm×2mm之黑板（製品名「comoglas acrylic plate」，可樂麗股份有限公司製）貼合於雙面抗反射積層體之第2面的狀態下進行。又，抗反射性之評價基準如下。 A：視感反射率Y為3.5％以下。 B：視感反射率Y超過3.5％。

＜總光線穿透率測量＞ 於溫度23℃及相對濕度50％之環境下，依據JIS K7361－1：1997，使用霧度計（製品名「HM－150」，村上色彩技術研究所製），測量實施例及比較例之透明積層體及雙面抗反射積層體的總光線穿透率。具體而言，係從透明積層體及雙面抗反射積層體分別切下50mm×100mm大小之樣品後，於沒有捲曲或皺褶且沒有指紋或塵埃等之狀態下，將樣品設置於上述霧度計。然後，對1片樣品進行3次測量，將測量3次所得到之值的算術平均值作為總光線穿透率。

＜霧度值測量＞ 於溫度23℃及相對濕度50％之環境下，依據JIS K7136：2000，使用霧度計（製品名「HM－150」，村上色彩技術研究所製），測量實施例及比較例之透明積層體及雙面抗反射積層體的霧度值。具體而言，係從透明積層體及雙面抗反射積層體分別切下50mm×100mm大小之樣品後，於沒有捲曲或皺褶且沒有指紋或塵埃等之狀態下，將樣品設置於上述霧度計。然後，對1片樣品進行3次測量，將測量3次所得到之值的算術平均值作為霧度值。

＜透明積層體之接觸角測量＞ 於實施例1～14及比較例1～6之透明積層體的表面（於實施例1～13及比較例1～3中，為低折射率層之表面，於比較例4、5中，則為硬塗層之表面）或雙面抗反射積層體的第1面中，依照JIS R3257：1999所記載之躺滴法，測量於25℃之對水的接觸角。具體而言，首先從透明積層體及雙面抗反射積層體分別切下25mm×30mm大小之樣品。然後，以雙面膠帶將此樣品平坦地貼合於50mm×125mm大小之載玻片上。之後，為了不使樣品中之靜電對測量結果造成影響，以離化器（例如，製品名「KD－730B」，春日電機股份有限公司製）照射離子，藉此對樣品進行靜電消除30秒鐘。使用顯微鏡式接觸角計（製品名「DropMaster300」，協和界面科學公司製），將1μL之水滴加於樣品之表面（於實施例1～13及比較例1～3中，為低折射率層之表面，於實施例14及比較例6中，為雙面抗反射積層體之第1面，於比較例4、5中，則為硬塗層之表面），測量10點剛滴加後之接觸角，將其等之算術平均值作為透明積層體之表面的接觸角。接觸角之測量係於溫度25℃、相對濕度50％之環境下進行。

＜波峰強度比＞ 對實施例15～25及比較例7～13之透明積層體，藉由傅立葉轉換紅外光譜術（FT－IR法）測量吸收光譜，於吸收光譜中，求出得1780cm^-1 ～1700cm^-1 之第2波數域的第2波峰強度相對於1150cm^-1 ～1000cm^-1 之第1波數域的第1波峰強度之比（波峰強度2／波峰強度1）。具體而言，首先從透明積層體切下10mm×10mm大小以上之樣品。另一方面，使用在傅立葉轉換紅外光譜光度計（製品名「Nicolet iS10 FT－IR」，Thermo Fisher Scientific製）安裝有測量用輔助裝置（製品名「Thunderdome」，Spectra－Tech公司製，ATR結晶：Ge，紅外線入射角：45°）之測量裝置，於不設置樣品下，進行背景測量。之後，將樣品之測量面朝向晶體側設置於測量用輔助裝置。然後，轉動壓緊夾具之旋鈕，使樣品充分接地於晶體。之後，使用監測器確認樣品之吸收光譜後，以下述測量條件藉由上述測量裝置開始測量。從所得到之吸收光譜中的背景，使用測量裝置附帶的計算軟體分別求出存在於第1波數域之波峰及存在於第2波數域之波峰其至峰頂的高度，從其結果算出上述波峰強度之比。另，實施例21～23之透明積層體由於硬塗層含有胺酯丙烯酸酯，故藉由傅立葉轉換紅外光譜術（FT－IR法）所得到之吸收光譜中，於1540cm^-1 ～1560cm^-1 之第3波數域測量到波峰。 （測量條件） ・波數範圍：4000～800cm^-1 ・累積次數：64次 ・解析度：8cm^-1 ・檢測器：TGS ・ATR校正：無 ・測量及分析軟體：Thermo Scientific OMINIC

＜壓痕硬度H_IT 及複合彈性模數Er之測量＞ 測量實施例15～25及比較例7～13之透明積層體表面的壓痕硬度H_IT 及複合彈性模數Er。具體而言，首先，以切下成20mm×20mm大小之透明積層體的表面側成為上面的方式，透過接著樹脂（製品名「Aron Alpha（註冊商標）一般用」，東亞合成股份有限公司製）固定於市售之載玻片。具體而言，將上述接著樹脂滴加於載玻片1（製品名「載玻片（切放型）1－9645－11」，AS ONE公司製）之中央部。此時，不將接著樹脂塗開，又後述般滴加係以擠壓推開時接著樹脂不從透明積層體溢出之方式設定為1滴。之後，使切下成上述大小之透明積層體以表面側成為上面，且接著樹脂位於透明積層體之中央部的方式接觸載玻片，於載玻片1與透明積層體之間將接著樹脂擠壓推開，進行預接著。然後，將另外新的載玻片2放置於透明積層體上，而得到載玻片1／接著樹脂／透明積層體／載玻片2之積層體。接著，於載玻片2上放置30g以上且50g以下之砝碼，於該狀態，以室溫放置12小時。之後，將砝碼與載玻片2卸下，將其作為測量樣品。然後，將此測量樣品固定於平行設置在防震桌之微小硬度計（製品名「TI950 TriboIndenter」，HYSITRON（海思創）公司製）的測量載台。將測量樣品固定於微小硬度計之測量載台後，以下述測量條件分別測量透明積層體之表面的壓痕硬度H_IT 或複合彈性模數Er。壓痕硬度H_IT 或複合彈性模數Er，係對測量樣品之透明積層體其表面中央附近（存在接著樹脂之區域）的任意5點進行測量，設定為所得到之5點之硬度的算術平均值。惟，所測量之任意5點，係使用TI950 TriboIndenter附帶之顯微鏡，以倍率50倍～500倍觀察透明積層體，避開透明積層體中為極端之凸構造的部分及相反地為極端之凹部構造的部分，盡可能從具平坦性之部分加以選擇。 （測量條件） ・壓頭形狀：Berkovich ・載重控制方式：至最大載重40mN ・載重之增加時間：4秒 ・潛變時間：5秒 ・載重之去除時間：4秒 ・測量時之溫度：25℃ ・測量時之濕度：50％

＜Ra／Rz＞ 對實施例15～25及比較例7～13之透明積層體，測量透明積層體表面之算術平均粗糙度（Ra）及最大高度（Rz），求出透明積層體表面之Ra相對於Rz之比（Ra／Rz）。具體而言，首先，從透明積層體切下5mm×5mm大小之樣品。然後，使用島津製作所股份有限公司製之原子力顯微鏡（Atomic Force Microscope；AFM）SPM－9700，於軟體：SPM管理器中之在線（On‐Line）（測量）模式時，以下述條件測量樣品之表面形狀。之後，使用離線（Off‐Line）（解析）模式，進行影像處理。分析所得到之AFM影像，得到各樣品之Rz（最大高度）及Ra（算術平均粗糙度）。對各樣品分別求出14處之Rz及Rz／Ra的算術平均值，將此等之值作為Rz及Rz／Ra。 （AFM測量條件） 測量模式：相位 掃描範圍：5μm×5μm 掃描速度：0.2Hz 像素數：512×512 使用之懸臂：NanoWorld公司製NCHR（共振頻率：320kHz，彈簧常數42N／m） （AFM影像處理條件） 傾斜校正：X方向之平均值，面擬合（自動）

＜臭味評價＞ 對實施例15～25及比較例7～13之透明積層體，進行臭味評價。具體而言，首先，從透明積層體切下100mm×100mm大小之樣品。然後，將此等樣品於25℃、相對濕度50％之環境下，距離透明積層體表面之中央部，於此表面之法線方向上5cm的位置，聞樣品之味道。評價基準如下。受試者為20多歲～50多歲之10人。 AA：所有的人皆未感覺到在意之臭味。 A：7人～9人未感覺到在意之臭味。 B：3人以上感覺到在意之臭味。

＜反射特性＞ 對實施例26～32及比較例14～18之雙面抗反射積層體，調查反射特性。具體而言，係求出雙面反射率、視感反射率Y之大小關係及ΔY2。 （1）雙面反射率測量 首先，將雙面抗反射積層體切成70mm×70mm大小，而得到樣品。又，從厚度1mm之黑色壓克力板（製品名「CLAREX N－885」，日東樹脂工業股份有限公司製）切下2片10mm×50mm大小之黑色壓克力板（以下，稱為「黑色壓克力板1」。）及1片50mm×50mm大小之黑色壓克力板（以下，稱為「黑色壓克力板2」。）。以相互對向之方式將黑色壓克力板1置於黑色壓克力板2上，以膠帶（製品名「Sellotape（註冊商標），日絆公司製」加以固定，製作如圖9所示之支架。之後，將樣品S放置於支架上使樣品橫跨於2個黑色壓克力板1。然後，於此狀態下，設置於分光光度計（例如，製品名「UV－2600」，島津製作所股份有限公司製）之測量部，藉由分光光度計從樣品之表面側照射入射角度5度之光，接收於樣品所反射之鏡面反射方向的反射光，測量380nm～780nm之波長範圍的反射率，之後，藉由換算為人類以眼睛所感受到之明度的軟體（內置於UV－2600之軟體）求出視感反射率。視感反射率，係以涵蓋樣品整體之方式以大致相等間隔測量40點，設定為所測得之40點之視感反射率的算術平均值。然後，從所測得之視感反射率減去預先所測得之黑色壓克力板1之視感反射率乘以2次雙面抗反射積層體之總光線穿透率所得到的值（黑色壓克力板1之反射率（％）×雙面抗反射積層體之總光線穿透率（％）／100×雙面抗反射積層體之總光線穿透率（％）／100），藉此求出樣品之雙面反射率。黑色壓克力板1之視感反射率，係將黑色壓克力板1設置於分光光度計（製品名「UV－2600」，島津製作所股份有限公司製）之測量部，以與上述雙面抗反射積層體之視感反射率同樣方式求出。又，雙面抗反射積層體之總光線穿透率，係藉由與上述總光線穿透率測量之部分所記載的方法相同方法求出。

（2）視感反射率Y之大小關係及ΔY2 首先，從各雙面抗反射積層體切下70mm×70mm大小之2片樣品（樣品1、2）。於樣品1，為了測量第1面之視感反射率，係以膜厚25μm之透明黏著劑（製品名「PD－S1」，汎納克股份有限公司製）將100mm×100mm×2mm大小之黑色壓克力板（製品名「comoglas acrylic plate」，可樂麗股份有限公司製）貼合於第2面。又，於樣品2，為了測量第2面之視感反射率，係以膜厚25μm之透明黏著劑（製品名「PD－S1」，汎納克股份有限公司製）將100mm×100mm×2mm大小之黑色壓克力板（製品名「comoglas acrylic plate」，可樂麗股份有限公司製）貼合於第1面。然後，將第2面貼合有黑色壓克力板之樣品1設置於分光光度計（製品名「UV－2600」，島津製作所股份有限公司製）的測量部，測量第1面之視感反射率。又，將第1面貼合有黑色壓克力板之樣品2設置於分光光度計（製品名「UV－2600」，島津製作所股份有限公司製）的測量部，測量第2面之視感反射率。視感反射率係以與上述雙面反射率測量之部分所說明的次序相同次序求出。然後，比較所測得之第1面的視感反射率與第2面的視感反射率，而得到第1面之視感反射率與第2面之視感反射率的大小關係。又，求出第1面之視感反射率與第2面之視感反射率之差的絕對值（｜第1面之視感反射率－第2面之視感反射率｜）ΔY2。

＜辨視性評價＞ 對實施例26～32及比較例14～18之雙面抗反射積層體，進行辨視性評價。具體而言，係從各雙面抗反射積層體切下350mm×250mm大小之樣品。然後，將市售面罩之膜卸下，以樣品配置於臉部前特別是嘴前之方式將樣品貼合於面罩之膜的支持體，來代替該膜。此時，將樣品貼合成雙面抗反射積層體之第1面成為嘴側。然後，將此等樣品於25℃、相對濕度50％之環境下，於明室（1000Lux，光源：白色光源）談話30分鐘。然後，於此30分鐘內，確認有無反射光等之映入、有無嘴形之起霧、視野之良否。觀察距離設定為1m，從面罩之穿戴者的正面觀察。評價基準如下。受試者為20多歲～50多歲之10人。 AA：於所有的人，雙面抗反射積層體之第1面的起霧在3秒內消失，之後亦不易起霧，可清楚看見嘴形。亦沒有無法取讀表情等之程度的映入。 A：於8人～9人中，雙面抗反射積層體之第1面的起霧在3秒內消失，之後亦不易起霧，可清楚看見嘴形。亦沒有無法讀取表情等之程度的映入。 B：於3人以上，雙面抗反射積層體之第1面的起霧未消失，無法清楚看見嘴形。

以下，將結果示於表1～4。 [表1]

[表2]

[表3]

[表4]

以下，就結果加以論述。比較例1～3之透明積層體，視感反射率Y雖低，但防霧性差。又，比較例4、5之透明積層體，雖然防霧性優異，但由於未形成低折射率層，故視感反射率Y高。比較例7～12之透明積層體，由於上述波峰強度比未達1.25或未達0.01，故防霧性差。又，比較例13之透明積層體，由於上述波峰強度比超過2.2，故低折射率層之膜強度不足，而防霧性試驗後之透明積層體，若碰觸低折射率層，則發生剝落。因此，無法測量比較例13之防霧性試驗後之透明積層體的視感反射率Y。認為此係因低折射率層之黏合劑樹脂與聚合起始劑滲透至硬塗層中，而變成幾乎只有中空二氧化矽粒子之低折射率層的緣故。相對於此，實施例1～25之透明積層體，視感反射率Y亦低，且防霧性亦優異。

並且，比較例6之透明遮蔽膜，視感反射率Y雖低，但防霧性差。相對於此，實施例14之透明遮蔽膜，視感反射率Y亦低，且防霧性亦優異。

尤其是實施例15～17之透明積層體，除了視感反射率Y低，防霧性、辨視性優異外，且厚度最佳，故當使用實施例15～17之透明積層體製作面罩的情形時，可得到輕量且佩戴感佳之面罩。

本案係基於先前之日本申請案特願2020－113538（申請日：2020年6月30日）主張優先權者，其揭示內容整體藉由引用而作為本說明書之一部份。

10、20、30、40、50:透明積層體 10A、13A、20A、30A、40A、41A、50A、60A、77A、101A、160A:表面 10B:背面 11、79、101、161、201:基材 11A、140A、180A、190A:第1面 11B、140B、180B、190B:第2面 12、21、80、162:功能層 13、163:低折射率層 22、41、81:低折射率層 31:脫模膜 51:高折射率層 60:影像顯示裝置 70:顯示面板 71:顯示元件 72、73:偏光板 74、75、102:透明黏著層 76、82:偏光元件 77、160:抗反射膜 78、83、84:保護膜 90:空氣層 100:前板 110:背光裝置 120:臉部用透明防護裝備 130:支持構件 140、180、190:雙面抗反射積層體 191:透明膜 150、192、193、202:透明接著層 170:支架 200:單面抗反射積層體 d:厚度 S:樣品

[圖1]圖1係實施形態之透明積層體的概略構成圖。 [圖2]圖2係實施形態之其他透明積層體的概略構成圖。 [圖3]圖3係實施形態之其他透明積層體的概略構成圖。 [圖4]圖4係實施形態之其他透明積層體的概略構成圖。 [圖5]圖5係實施形態之其他透明積層體的概略構成圖。 [圖6]圖6係實施形態之影像顯示裝置的概略構成圖。 [圖7]圖7係實施形態之臉部用透明防護裝備的概略構成圖。 [圖8]圖8係圖7所示之雙面抗反射積層體的概略構成圖。 [圖9]圖9係顯示測量雙面反射率時樣品設置於支架之狀態的示意圖。 [圖10]圖10係實施形態之其他雙面抗反射積層體的概略構成圖。 [圖11]圖11係實施形態之其他雙面抗反射積層體的概略構成圖。 [圖12]圖12係實施形態之單面抗反射積層體的概略構成圖。

Claims (21)

1. 一種透明積層體，具備功能層與折射率低於該功能層的低折射率層， 該低折射率層之表面形成該透明積層體之表面， 於進行防霧性試驗時，該透明積層體之該表面不會起霧，且 於該防霧性試驗前後之該透明積層體的該表面之視感反射率Y之差的絕對值ΔY1為0.2％以下， 該防霧性試驗係將該透明積層體放置於－15℃之環境下5分鐘後，移至20℃以上且25℃以下，相對濕度40％以上且70％以下之環境下放置5分鐘。
2. 一種透明積層體，具備功能層與折射率低於該功能層的低折射率層， 於該透明積層體之表面藉由傅立葉轉換紅外光譜術所得到的吸收光譜中，1780cm^-1 ～1700cm^-1 之第2波數域的第2波峰強度相對於1150cm^-1 ～1000cm^-1 之第1波數域的第1波峰強度之比為1.25以上且2.20以下。
3. 一種透明積層體，具備功能層與折射率低於該功能層的低折射率層， 於該透明積層體之表面藉由傅立葉轉換紅外光譜術所得到的吸收光譜中，1780cm^-1 ～1700cm^-1 之第2波數域的第2波峰強度相對於1150cm^-1 ～1000cm^-1 之第1波數域的第1波峰強度之比為0.01以上且0.40以下。
4. 如請求項1至3中任一項之透明積層體，其中，於該透明積層體之該表面之算術平均粗糙度相對於最大高度的比為0.02以上且0.15以下。
5. 如請求項1至3中任一項之透明積層體，其中，於該透明積層體之該表面的壓痕硬度為20MPa以上且100MPa以下，且於該透明積層體之該表面的複合彈性模數為0.15GPa以上且1.5GPa以下。
6. 如請求項1至3中任一項之透明積層體，其中，該低折射率層之膜厚為200nm以下。
7. 如請求項1至3中任一項之透明積層體，其中，該功能層之膜厚為3μm以上。
8. 如請求項1至3中任一項之透明積層體，其中，該功能層含有親水基，該低折射率層與該功能層鄰接。
9. 如請求項1至3中任一項之透明積層體，其中，於該透明積層體之該表面對水的接觸角為90°以上。
10. 如請求項1至3中任一項之透明積層體，其中，該低折射率層含有中空二氧化矽粒子。
11. 如請求項1至3中任一項之透明積層體，其中，該功能層為硬塗層（hard coat layer）。
12. 如請求項1至3中任一項之透明積層體，其進一步具備設置於該功能層之與該低折射率層側之面相反側之面的基材。
13. 如請求項12之透明積層體，其中，該基材包含樹脂或玻璃。
14. 如請求項1至3中任一項之透明積層體，其係使用於影像顯示裝置、臉部用透明防護裝備、透明膜簾或透明隔板。
15. 一種影像顯示裝置，具備顯示面板與透光性前板，該透光性前板在與該顯示面板之間介隔空氣層而配置於該顯示面板之觀察者側， 該前板具備：基材、與配置於該基材之該顯示面板側及觀察者側之至少任一側的請求項1至3中任一項之透明積層體。
16. 一種雙面抗反射積層體，於雙面具有抗反射功能， 該雙面抗反射積層體具備： 請求項1至3中任一項之透明積層體； 配置於該透明積層體之與該表面相反之背面側的抗反射膜；及 接合該透明積層體與該抗反射膜之透明接著層。
17. 如請求項16之雙面抗反射積層體，其被用於臉部用透明防護裝備，該透明積層體之該表面位於臉側。
18. 如請求項16之雙面抗反射積層體，其總光線穿透率為90％以上。
19. 如請求項16之雙面抗反射積層體，其雙面反射率為0.1％以上且2％以下，且該透明積層體之視感反射率為該抗反射膜的視感反射率以上。
20. 如請求項16之雙面抗反射積層體，其雙面反射率為0.1％以上且2％以下，且該透明積層體其視感反射率與該抗反射膜其視感反射率之差的絕對值ΔY2為1.0％以下。
21. 一種臉部用透明防護裝備，具備有支持構件與安裝於該支持構件之請求項16之雙面抗反射積層體， 該透明積層體之該表面位於臉側。

Images