TW202204084A - 抓取裝置以及產業用機器人 - Google Patents
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Abstract
提供一種可更容易抓取種種工件之抓取裝置以及產業用機器人。抓取裝置10係包括:抓取本體26,呈袋狀;粉體27,被收容於抓取本體26的內部;複數之吸附口28,被設於抓取本體26的表面;複數之管體29,被設於抓取本體26的內部,分別與複數之吸附口28相連接;以及複數之夾頭部30,分別與複數之管體29相連接,個別進行複數之吸附口28之開閉。
Description
本發明係關於一種抓取裝置以及產業用機器人。
將抓取工件當作目的之抓取裝置,已知有包括吸附墊,藉真空產生器而使吸附墊內為真空,藉此,吸附工件,藉使吸附墊內為大氣壓,而放開工件之抓取裝置(例如專利文獻1~3)。
在專利文獻1中,係開示有一種包括被密閉之柔軟之袋、被填充於此袋的內部之粉體、及吸附工件之吸附部,利用粉體之干擾轉移之抓取裝置。此抓取裝置係在使袋追蹤於工件之狀態下,可藉吸附部吸附工件以抓取,所以,可藉簡單之控制,對應於種種工件。在專利文獻2中,也與專利文獻1同樣地,開示有一種包括柔軟的袋、粉體及吸附部之抓取裝置。
在專利文獻3中,係開示有一種構成使得關閉往不與工件相接觸之吸附部之氣體之流動,防止真空洩漏之抓取裝置。
[先行技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特表2008-528408號公報
[專利文獻2]日本特開2019-214121號公報
[專利文獻3]日本特開平2-116488號公報
[發明所欲解決的問題]
但是,在上述專利文獻1~3之抓取裝置之,吸附墊係被朝向特定方向設置,所以,有時無法汎用性地吸附尺寸或形狀、吸附面之位置不同之種種工件。
本發明之目的,係在於提供一種可更容易抓取種種工件之抓取裝置以及產業用機器人。
[用以解決問題的手段]
本發明之抓取裝置係包括:抓取本體,呈袋狀;粉體,被收容於該抓取本體的內部;複數吸附口,被設於該抓取本體的表面;複數管體,被設於該抓取本體的內部,分別與該複數吸附口相連接;以及複數夾頭部,分別與該複數管體相連接,個別進行該複數吸附口之開閉。
本發明之產業用機器人之特徵,係設有上述抓取裝置。
[發明功效]
當依據本發明時,抓取本體係變形,使得追蹤於工件之形狀,與工件不相接觸之吸附口係藉夾頭部,而為閉狀態,藉此,不與工件相接觸之吸附口係吸附工件,可更容易抓取種種工件。
[用以實施發明的型態]
以下,參照圖面,詳細說明本發明之實施形態。以下所示之實施形態及變形例,係本發明之一例,本發明並不侷限於此。在關於各實施形態及各變形例之以下之說明中,對於同樣之構造,係賦予同樣之編號,適宜地省略說明。
(整體構造)
圖1係表示適用有本實施形態之抓取裝置10之產業用機器人12的構造。產業用機器人12係直交機器人,其中,其包括軌道14、沿著軌道14移動之移動體16、及被固定於移動體16之空壓缸18。軌道14係被設成在圖中XY軸方向上,可移動。
空壓缸18係具有壓缸管19、及被設成相對於壓缸管19而言可進退之活塞桿20。在壓缸管19係設有空壓缸用配管21,22。透過空壓缸用配管21,22,氣體係被供排氣,藉此,活塞桿20係成為相對於壓缸管19而言可進退。在活塞桿20的尖端,係安裝有抓取裝置10。
產業用機器人12係以抓取裝置10,抓取被置於水平的基台23上之工件W,使抓取後之工件W,往X軸、Y軸、及Z軸方向移動。工件W係並未特別侷限。
在圖2中,抓取裝置10係包括:殼體25,與活塞桿20相連結;抓取本體26,被固定於殼體25,呈袋狀;粉體27,被收容於抓取本體26的內部;複數之吸附口28,被設於抓取本體26的表面;複數之管體29,被設於抓取本體26的內部,分別與該複數之吸附口28相連接;以及複數之夾頭部30,分別與複數之管體29相連接,個別進行複數之吸附口28之開閉。殼體25側係上側(圖中Z方向側),抓取本體26側係下側(圖中Z方向之相反側)。在本實施形態中,吸附口28、管體29、及夾頭部30,係皆各設有11個。在圖2中,為了簡略化圖面,而省略重複之構件。
殼體25係由例如不銹鋼等之金屬,或塑膠等之硬質塑膠所形成。殼體25之外形形狀係例如圓盤狀,但是,並未特別侷限。圖2所示之殼體25係一例,可適宜設計。
在殼體25係設有第1接頭31與第2接頭32。第1接頭31與第2接頭32,係一端被配設於抓取本體26的外部,另一端被配設於抓取本體26的內部。
在第1接頭31的一端,係連接有第1配管33的一端。第1配管33的另一端,係連接有未圖示之例如三通閥。在第1接頭31的另一端係設有過濾器35。過濾器35係防止粉體27進入第1接頭31之情事。在本實施形態中,第1接頭31及第1配管33係分別設有一個。
在第2接頭32的一端,係連接有夾頭部30的一端。夾頭部30的另一端,係連接有第2配管34的一端。在本實施形態中,第2接頭32及第2配管34,係與吸附口28、管體29、及夾頭部30為相同數量,亦即,分別設有11個。在第2配管34的另一端,係連接有歧管36的一端。歧管36的另一端,係統整複數(在本例中係11個)之第2配管34,以連接到集合配管37的一端。集合配管37的另一端,係與未圖示之例如三通閥相連接。第2配管34係透過歧管36及集合配管37,與三通閥相連接。在第2接頭32的另一端,係連接有管體29的一端。
與第1配管33相連接之三通閥,及與第2配管34相連接之三通閥係不同個體。各三通閥係具有真空端口、供排氣端口、及排放大氣端口(皆未圖示)。真空端口係與真空幫浦或真空噴射器等之真空產生器相連接。在本例中,真空產生器係使用真空幫浦。供排氣端口係與抓取裝置10相連接。排放大氣端口係與抓取裝置10外部的大氣相連接。氣體係通過第1配管33,在抓取本體26的內部與外部之間流通。真空幫浦、三通閥、及切換閥,雖然未圖示,但是,係與例如控制器電性連接,被此控制器所控制。
抓取本體26係被設於殼體25的下方。抓取本體26係在本實施形態中,被形成為球狀,在內部具有空間38。抓取本體26係透過第1配管33,以與真空幫浦(未圖示)相連接,藉真空幫浦動作,存在於內部的空間38之氣體係被吸引。抓取本體26係上部開口,此開口係被殼體25所阻塞。抓取本體26係在開口的周緣具有法蘭部39,在法蘭部39中,被固定於殼體25。
抓取本體26係由具有氣密性、彈性、及柔軟性之材料,例如天然橡膠或合成橡膠等所形成。抓取本體26之材料,也可以係具有回復力之材料。抓取本體26之材料,無須必定係一種材料,其也可以係組合異種材料之複合材料。抓取本體26之硬度,係可以因應用途而適宜設計。抓取本體26之硬度,係依據日本工業規格JIS K6253,以類型A硬度計量測。抓取本體26之硬度係例如70左右。抓取本體26之厚度係例如1mm,但是,可適宜設計。
粉體27係被設於抓取本體26內部的空間38。粉體27係可適宜選擇,例如可以氧化鋁、活性碳、發泡苯乙烯、玻璃珠、乾燥後之豆或木片等之集合體形成。抓取本體26內部中之粉體27之填充率,係將填充於抓取本體26內部之粉體27之重量當作A,將最密填充於抓取本體26內部後之粉體27之重量當作B時,以A/B×100(%)表示。粉體27之填充率最好係20~80%左右,40~60%則更佳。
複數之吸附口28,係被設於抓取本體26表面的全域。複數之吸附口28,係被配置為彼此隔開既定間隔設置。吸附口28們之間隔,可為等間隔或非等間隔。複數之吸附口28,係透過第2配管34及管體29,與真空幫浦(未圖示)相連接,藉真空幫浦動作,吸引該吸附口28附近的氣體。
吸附口28係具有開口之筒狀構件,被嵌入於貫穿抓取本體26之厚度方向之孔。吸附口28係塑膠製或金屬製之構件,保持與抓取本體26的孔間之氣密,在一端被配置於抓取本體26外側,另一端被配置於抓取本體26內側之狀態下,被固定於孔。吸附口28的另一端,係與管體29的另一端相連接。
在本實施形態中,抓取裝置10係還包括分別被設於複數之吸附口28之複數之吸附墊41。亦即,吸附墊41之數量係與吸附口28為相同數量(在本例中係11個)。複數之吸附墊41,係被設於抓取本體26表面的全域。吸附墊41係例如塑膠製。吸附墊41之材料,無須必定為一種材料,也可以係組合異種材料之複合材料。
吸附墊41係具有:固定部42,被固定於吸附口28的一端側;以及變形部43,被設於固定部42。固定部42係被形成為例如圓筒狀。變形部43係具有接觸到工件W之接觸面44。變形部43係波紋管狀之筒狀構件,在垂直於接觸面44之方向上,可伸縮,而且,在半徑方向上,可彈性變形。變形部43也可以以具有氣密性、彈性、及柔軟性之材料,例如以天然橡膠或合成橡膠形成。固定固定部42到吸附口28之方法,係並未特別侷限,但是,例如可設置母螺紋於固定部42的內表面,設置公螺紋於吸附口28的外表面,螺入固定部42到吸附口28而固定。
管體29係以具有氣密性、彈性、及柔軟性之材料,例如以天然橡膠或合成橡膠、塑膠等形成。管體29之材料,無須必定為一種材料,也可以係組合異種材料之複合材料。管體29係一端透過第2接頭32以與夾頭部30相連接,另一端係與吸附口28相連接。
複數之夾頭部30,係被配設於殼體25之上方。各夾頭部30係連接管體29與第2配管34。使用圖3及圖4,以下說明夾頭部30的構成之一例。
如圖3所示,各夾頭部30係具有流通自吸附口28流入之氣體之流路45,構成可因應氣體之流量,開放與閉塞流路45。具體來說,各夾頭部30係當自吸附口28流入之氣體之流量,為未滿既定門檻值時,開放流路45,當自吸附口28流入之氣體之流量,為既定門檻值以上時,閉塞流路45。門檻值依據例如後述之密封構件47之質量、推壓構件49的構造或材質等而被決定。當流路45被開放時,吸附口28係成為開狀態。當流路45被閉塞時,吸附口28係成為閉狀態。所謂開狀態,係指藉真空幫浦(未圖示)之吸引,吸附口28成為真空,而可吸附工件W之狀態。所謂閉狀態,係指吸附口28不成為真空,無法吸附工件W之狀態。如此一來,複數之夾頭部30,係因應自每一個之吸附口28流入之氣體之流量,進行每一個之吸附口28之開狀態與閉狀態之切換。
流路45係被連接於管體29與第2配管34。當流路45被閉塞時,管體29側之壓力係大氣壓,第2配管34側之壓力係負壓,藉此,在管體29側之壓力與第2配管34側之壓力之間,產生壓差。為方便說明,將流路45的管體29側稱做「外側」,將流路45的第2配管34側稱做「內側」。亦即,在夾頭部30中,當流路45被閉塞時,在流路45的內側與外側之間,係產生壓差。
夾頭部30係具有:外殼46;密封構件47,被設於外殼46的內部;底座部48,支撐密封構件47;以及推壓構件49,推壓密封構件47往底座部48。
外殼46係具有:第1流路51,與管體29相連接;第2流路52,與第2配管34相連接;以及第3流路53,連接第1流路51與第2流路52。藉第1流路51與第2流路52與第3流路53,構成流路45。第1流路51與第2流路52係被形成為圓筒狀。第2流路52之剖面積,係小於第1流路51之剖面積。第3流路53係被形成為自第1流路51往第2流路52,剖面積變小之圓錐梯形。而且,第1流路51、第2流路52、及第3流路53之形狀,並不侷限於上述形狀,而可適宜設計。
密封構件47係在使吸附口28為開狀態之第1位置,與使吸附口28為閉狀態之第2位置之間位移。圖3係表示密封構件47被配置於第1位置之狀態。在第1位置中,密封構件47係與底座部48相接觸,流路45係被開放,容許氣體自第1流路51往第2流路52流通。圖4係表示密封構件47被配置於第2位置之狀態。在第2位置中,密封構件47係與第3流路53的壁面相接觸,流路45係被閉塞,遮斷氣體自第1流路51往第2流路52之流通。密封構件47係在圖3中,被形成為球狀,但是,並不侷限於此。密封構件47之形狀,係只要為當該密封構件47與第3流路53的壁面相接觸後,遮斷氣體自第1流路51往第2流路52之流通之形狀即可。密封構件47之形狀,可配合第3流路53之形狀而適宜設計。在此,所謂「遮斷氣體之流通」,係指在完全遮斷氣體之流通之外,也包含氣體少許流通之大多遮斷之情形。
底座部48係被設於第1流路51。底座部48在此例中,係被形成為圓筒狀,但是,也可以係方管狀。底座部48係一端被固定於第1流路51,另一端係與密封構件47相向。在底座部48的壁部,係設有複數之孔48a。複數之孔48a係可流通氣體。
推壓構件49係授予推壓力到密封構件47,配置密封構件47於第1位置或第2位置。推壓構件49在本例中,係被固定於第2流路52之螺旋彈簧,當自吸附口28流入之氣體之流量,係未滿既定門檻值時,則伸長,當自吸附口28流入之氣體之流量,為既定之門檻值以上時,則收縮。推壓構件49並不侷限於螺旋彈簧之情形,也可以係板狀彈簧等。
夾頭部30係在初期狀態中,密封構件47被配置於第1位置。當密封構件47被配置於第1位置時(圖3),流路45係被開放,所以,吸附口28係處於開狀態,自該吸附口28流入之氣體,係依據流過管體29、流路45、及第2配管34。密封構件47係因應流通在流路45之氣體之流量,自第1位置往第2位置移動。當密封構件47係自第1位置往第2位置移動後(圖4),流路45係被閉塞,所以,吸附口28係自開狀態轉變成閉狀態。在流路45的內側與外側之間,產生壓差。藉此壓差,密封構件47係不回到第1位置,而被配置於第2位置,所以,吸附口28之閉狀態係被維持。如上所述,在流路45被閉塞之前,密封構件47係藉氣體之流量而移動,在流路45被閉塞後,藉流路45的內側與外側之壓差,吸附口28之閉狀態係被維持。
當使吸附口28自閉狀態轉變為開狀態時,遮斷與第2配管34相連接之三通閥的真空端口,使供排氣端口與排放大氣端口相連接,藉此,使第2配管34內部之壓力為大氣壓。結果,流路45的內側與外側之壓差消失,所以,密封構件47係藉推壓構件49之推壓力,而自第2位置往第1位置移動,吸附口28係自閉狀態轉變成開狀態。
(動作及效果)
設有如上述地構成之抓取裝置10之產業用機器人12之動作及效果,係使用圖1,圖5~圖8以說明之。
產業用機器人12係將活塞桿20後退到壓缸管19內,空壓缸18收縮後之狀態,當作原點。抓取裝置10係在初期狀態中,第1配管33與第2配管34係透過各三通閥,被連接於排放大氣端口,抓取本體26內部的空間38之壓力係大氣壓。亦即,與第1配管33相連接之三通閥、及與第2配管34相連接之三通閥,皆係真空端口被遮斷,供排氣端口係與排放大氣端口相連接之狀態。抓取裝置10係抓取本體26為朝下之狀態。被收容於抓取本體26內部之粉體27,係處於可流動之狀態(軟化後之狀態)。抓取本體26軟化後之狀態,也稱做接近狀態。
產業用機器人12係移動體16沿著軌道14移動,藉此,定位抓取裝置10到被置於基台23上之工件W之鉛直線上(圖1)。
如圖5所示,產業用機器人12係活塞桿20自壓缸管19進出,藉此,伸長空壓缸18,壓抵抓取本體26往工件W(接近)。抓取本體26係被壓抵到工件W,藉此,變形使得追蹤於工件W之形狀。此時,被設於抓取本體26表面的全域之複數之吸附墊41之中,至少一個之吸附墊41,係接觸面44(參照圖2)與工件W的表面相接觸。在圖5中,係將接觸面44與工件W的表面相接觸之吸附墊,當作吸附墊41A,將接觸面44不與工件W的表面相接觸之吸附墊,當作吸附墊41B,以做區別。
如圖6所示,與第1配管33相連接之三通閥,係排放大氣端口被遮斷,被切換為供排氣端口與真空端口相連接之狀態。藉此,通過第1配管33,以存在於抓取本體26內部的空間38之氣體係被吸引。空間38之壓力,係被減壓到例如-0.05MPa以下。如此一來,被收容於抓取本體26內部之粉體27,係藉干擾轉移而硬化。藉此,抓取本體26係成為在追蹤於工件W之形狀之形狀上,具有明顯之剛性。抓取本體26硬化後之狀態,也稱做抓取狀態。
如圖7所示,與第2配管34相連接之三通閥,係排放大氣端口被遮斷,被切換為供排氣端口與真空端口相連接之狀態。藉此,透過第2配管34及管體29,複數之吸附墊41的接觸面44(參照圖2)附近的氣體係被吸引。
複數之吸附墊41之中,於接觸面44與工件W的表面相接觸之吸附墊41A中,氣體不被吸附口28所吸引。自吸附口28流入之氣體之流量,係成為未滿既定之門檻值,所以,在夾頭部30中,流路45係被開放,成為密封構件47與底座部48相接觸之狀態,亦即,密封構件47係被配置於第1位置之狀態(參照圖3)。吸附墊41A的吸附口28係成為開狀態。另外,複數之吸附墊41之中,於接觸面44不與工件W的表面相接觸之吸附墊41B中,氣體係被吸附口28所吸引。自吸附口28流入之氣體之流量,係成為既定之門檻值以上,所以,在夾頭部30中,流路45係被閉塞,成為密封構件47與外殼46(第3流路53的壁面)相接觸之狀態,亦即,密封構件47被配置於第2位置之狀態(參照圖4)。吸附墊41B的吸附口28係成為閉狀態。藉此,來自外部之氣體變得不流入第1流路51。在夾頭部30中,在流路45的內側與外側之間,產生壓差。藉此壓差,吸附墊41B的吸附口28之閉狀態係被維持。結果,抓取裝置10係吸附墊41A內部成為真空,藉此,藉吸附墊41A而吸附(抓取)工件W。
如圖8所示,產業用機器人12係使活塞桿20後退到壓缸管19內,以收縮空壓缸18,藉此,自基台23提起工件W。而且,產業用機器人12係藉移動體16之移動與軌道14之移動,移動工件W往水平方向。
之後,產業用機器人12係活塞桿20自壓缸管19進出,藉此,伸長空壓缸18直到工件W接觸到基台23為止。接著,與各第2配管34相連接之三通閥,係真空端口被遮斷,被切換到供排氣端口與排放大氣端口相連接之狀態。氣體透過第2配管34而往吸附墊41A流入,吸附墊41A內部之壓力係回到大氣壓。藉此,由吸附墊41A所致之吸附係被解除。吸附墊41B的吸附口28,係變得沒有夾頭部30中之流路45的內側與外側之壓差,所以,密封構件47係自第2位置往第1位置移動,自閉狀態轉變為開狀態。接著,與第1配管33相連接之三通閥,係真空端口被遮斷,被切換為供排氣端口與排放大氣端口相連接之狀態。氣體係透過第1配管33,往抓取本體26內部的空間38流入,空間38之壓力係回到大氣壓。藉此,硬化之粉體27係軟化,回到可流動之狀態。結果,抓取裝置10係放開工件W。
接著,產業用機器人12係使活塞桿20後退到壓缸管19內,收縮空壓缸18,藉此,使抓取裝置10自工件W離開。藉此,抓取本體26係自追蹤於工件W之形狀,回到原來之形狀。如此一來,產業用機器人12係以抓取裝置10,吸附(抓取)被置於基台23上之工件W,可往期望之位置移動。
如上所述,抓取裝置10係抓取本體26追蹤於複雜之工件形狀,所以,可對應於柔軟的工件W。又,可藉抓取本體26之柔軟性,擔保往工件W表面之接近方向,所以,可減少治具或機器人教導之工夫。又,可藉干擾轉移,切換抓取本體26之抓取狀態(硬化)與接近狀態(軟化),所以,可穩定而不傷害地抓取柔軟的工件W。因此,抓取裝置10係可容易地抓取種種之工件W。
抓取裝置10係複數之吸附口28,被設於抓取本體26表面的全域,所以,吸附口28與工件W表面之接觸處所係增加,可容易地吸附種種之工件W。
抓取裝置10係包括分別被設於複數之吸附口28之複數之吸附墊41,所以,接觸面44可更確實地接觸到工件W表面,可容易地吸附種種之工件W。
抓取裝置10係抓取本體26不僅為朝下之狀態,也可以係橫向之狀態。因此,抓取裝置10可不僅提起水平的基台23上之工件W,也可吸附被配設於垂直的壁之工件W,或自天花板垂下之工件W等。
接觸面44與工件W的表面相接觸之吸附墊41A,在接觸面44與工件W表面之間,沒有間隙為佳,但是,也可以有少許間隙。當在接觸面44與工件W表面之間,有少許間隙時,接觸面44係被拉近到工件W表面。當係具有柔軟性之工件W時,接觸面44及工件W表面係被彼此拉近。藉此,成為沒有接觸面44與工件W表面之間隙,所以,吸附墊41係內部成為真空,藉此,可吸附工件W。
(變形例)
本發明係不侷限於上述實施形態,在本發明之旨趣之範圍內,係可適宜變更。
上述實施形態係藉使用複數之吸附墊41,而可以確實地吸附工件W者,但是,也可以不使用吸附墊41,藉複數之吸附口28而吸附工件W。也可以取代吸附墊41,而設置另一附件於吸附口28。
在上述實施形態中,當抓取工件W時,係透過第1配管33,吸引存在於抓取本體26內部的空間38之氣體後,透過第2配管34,吸引複數之吸附墊41的接觸面44附近的氣體,但是,也可以反向進行上述工序。亦即,也可以在透過第2配管34,吸引複數之吸附墊41的接觸面44附近的氣體後,透過第1配管33,吸引存在於抓取本體26內部的空間38之氣體。
在上述實施形態中,係當放開工件W時,透過第2配管34,流入氣體往吸附墊41A,使吸附墊41A內部之壓力回到大氣壓之後,透過第1配管33,流入氣體往抓取本體26內部的空間38,使空間38之壓力回到大氣壓,但是,也可以反向進行上述工序。亦即,也可以透過第1配管33,流入氣體往抓取本體26內部的空間38,使空間38之壓力回到大氣壓之後,透過第2配管34,流入氣體往吸附墊41A,使吸附墊41A內部之壓力回到大氣壓。
也可以不使用歧管36。當不使用歧管36時,係使複數之第2配管34分別連接到例如三通閥。在各第2配管34係設有夾頭部30,藉此,不使用包含電磁閥或真空計等之複雜的系統,而可容易地個別開閉各吸附口28。
在殼體25也可以設置拍攝工件W之相機、量測抓取之工件W之重量之重量計、及量測工件W與抓取本體26間之距離之接近偵知器等。
固定抓取本體26於殼體25之方法,係不侷限於在抓取本體26的法蘭部39中,固定於殼體25之情形。例如也可以係在殼體25之下方,設置硬質之筒體,插入此筒體到抓取本體26的開口,以筒體的外周面支撐抓取本體26,藉此,可固定抓取本體26於殼體25。也可以使筒體之外徑,比抓取本體26之開口直徑還要大少許,利用抓取本體26之彈性,安裝使得筒體的外周面與抓取本體26的內表面係緊密接觸。為了固定殼體25與抓取本體26,也可以使用黏著劑。
抓取本體26之大小,也可以配合用途而適宜改變。抓取本體26之外形形狀,並不侷限於係球狀之情形,其也可以係半球狀、長球狀、半長球狀、多角形等。抓取本體26也可以係在表面設有凸部或凹部之具有非等方性之形狀。第1配管33及第1接頭31之數量,並不侷限於每一個為一個之情形,也可以每一個為兩個以上。吸附口28、管體29、夾頭部30、第2接頭32、及第2配管34之數量,係不侷限於每一個為11個之情形,只要係每一個為兩個以上即可。
在上述實施形態中,產業用機器人12係例示直交機器人之例,但是,本發明並不侷限於此,其也可以適用於多關節機器人、垂直多關節機器人等。亦即,抓取裝置10係即使藉產業用機器人12,而以X軸、Y軸、Z軸為中心以旋轉,也可以抓取工件W,同時維持抓取後之狀態。
10:抓取裝置
12:產業用機器人
26:抓取本體
27:粉體
28:吸附口
29:管體
30:夾頭部
41,41A,41B:吸附墊
〔圖1〕係表示適用有抓取裝置之產業用機器人之例之示意圖。
〔圖2〕係表示抓取裝置的構成之局部剖面圖。
〔圖3〕係表示夾頭部的密封構件與底座部相接觸之狀態之示意圖。
〔圖4〕係表示夾頭部的密封構件與外殼相接觸之狀態之示意圖。
〔圖5〕係說明壓抵抓取裝置到工件後之狀態之說明圖。
〔圖6〕係說明吸引抓取本體內部的空間的氣體後之狀態之說明圖。
〔圖7〕係說明藉吸附墊而吸附工件後之狀態之說明圖。
〔圖8〕係說明藉抓取裝置抓取工件以提起後之狀態之說明圖。
10:抓取裝置
20:活塞桿
25:殼體
26:抓取本體
27:粉體
28:吸附口
29:管體
30:夾頭部
31:第1接頭
32:第2接頭
33:第1配管
34:第2配管
35:過濾器
36:歧管
37:集合配管
38:空間
39:法蘭部
41:吸附墊
42:固定部
43:變形部
44:接觸面
Claims (4)
- 一種抓取裝置,其包括: 抓取本體,呈袋狀; 粉體,被收容於該抓取本體的內部; 複數吸附口,被設於該抓取本體的表面; 複數管體,被設於該抓取本體的內部,分別與該複數吸附口相連接;以及 複數夾頭部,分別與該複數管體相連接,個別進行該複數吸附口之開閉。
- 如請求項1之抓取裝置,其中該複數吸附口,係被設於該抓取本體表面的全域。
- 如請求項1或2之抓取裝置,其中還包括分別被設於該複數吸附口之複數吸附墊。
- 一種產業用機器人,設有請求項1~3中任一項之抓取裝置。
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