TW202140656A - 著色組成物、膜、濾光器、固體攝像元件及圖像顯示裝置 - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 222
- 238000004040 coloring Methods 0.000 title claims abstract description 147
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 376
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims abstract description 167
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 149
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 149
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 74
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 73
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 35
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 86
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 78
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 76
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 52
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 43
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 40
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 38
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 claims description 36
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 33
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 30
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 27
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 claims description 26
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 claims description 24
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 21
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 19
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 17
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical group [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical group [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 16
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 16
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 15
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 14
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 14
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 claims description 10
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 23
- -1 methacryloyl Chemical group 0.000 description 199
- 239000010408 film Substances 0.000 description 106
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 77
- 238000000034 method Methods 0.000 description 66
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 62
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 57
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 45
- 239000002585 base Substances 0.000 description 44
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 39
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 38
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 38
- 239000000047 product Substances 0.000 description 37
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 35
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 34
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical class C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 28
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 27
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 26
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 25
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 24
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 24
- 229940051201 quinoline yellow Drugs 0.000 description 24
- 239000004172 quinoline yellow Substances 0.000 description 24
- 235000012752 quinoline yellow Nutrition 0.000 description 24
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 23
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 22
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 21
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 21
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 21
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 19
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 18
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 18
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 18
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 18
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 17
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 17
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 17
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 17
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 16
- 125000004644 alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 16
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 16
- 125000005135 aryl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 16
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 16
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 16
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 16
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 15
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 15
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 15
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 15
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 15
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 15
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 15
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 14
- 238000011161 development Methods 0.000 description 14
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 14
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 13
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 12
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 12
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 12
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 11
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 11
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 11
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 10
- 230000008859 change Effects 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 10
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 10
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 9
- 125000005163 aryl sulfanyl group Chemical group 0.000 description 9
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 9
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 9
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 8
- 150000004292 cyclic ethers Chemical group 0.000 description 8
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 8
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 8
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 8
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 8
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 8
- IHXWECHPYNPJRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxycyclobut-2-en-1-one Chemical class OC1=CC(=O)C1 IHXWECHPYNPJRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 7
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 7
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 7
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 7
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 7
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 7
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 6
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 6
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 6
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 6
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 6
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 6
- 239000001057 purple pigment Substances 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 5
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 5
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 5
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 5
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 5
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 5
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 5
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 5
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 5
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 5
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 5
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FNJSWIPFHMKRAT-UHFFFAOYSA-N Monomethyl phthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O FNJSWIPFHMKRAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 4
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 125000004466 alkoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004656 alkyl sulfonylamino group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000006598 aminocarbonylamino group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005162 aryl oxy carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004657 aryl sulfonyl amino group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 4
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 4
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000005368 heteroarylthio group Chemical group 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole-5,6-dione Chemical class C1=CN=C2C(=O)C(=O)N=C21 FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 4
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 4
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical class [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FMRHJJZUHUTGKE-UHFFFAOYSA-N Ethylhexyl salicylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1O FMRHJJZUHUTGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical group CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical class N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 3
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 3
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 3
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 3
- NWFNSTOSIVLCJA-UHFFFAOYSA-L copper;diacetate;hydrate Chemical compound O.[Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O NWFNSTOSIVLCJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005226 heteroaryloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005150 heteroarylsulfinyl group Chemical group 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- GWVMLCQWXVFZCN-UHFFFAOYSA-N isoindoline Chemical class C1=CC=C2CNCC2=C1 GWVMLCQWXVFZCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 3
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 3
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 3
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 3
- 125000005328 phosphinyl group Chemical group [PH2](=O)* 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 3
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 3
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 3
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 3
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole Chemical compound C1=NC2=CC=NC2=C1 RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical group C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 3
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 3
- OVTCUIZCVUGJHS-VQHVLOKHSA-N trans-dipyrrin Chemical compound C=1C=CNC=1/C=C1\C=CC=N1 OVTCUIZCVUGJHS-VQHVLOKHSA-N 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 1-Ethyl-2-pyrrolidinone Chemical compound CCN1CCCC1=O ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- LBVMWHCOFMFPEG-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-n,n-dimethylpropanamide Chemical compound COCCC(=O)N(C)C LBVMWHCOFMFPEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005725 8-Hydroxyquinoline Substances 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDUZWPPSSHEDFK-VVXQKDJTSA-N C(C(C)(C)C)C([C@H](O)[C@H](O)CO)O Chemical compound C(C(C)(C)C)C([C@H](O)[C@H](O)CO)O XDUZWPPSSHEDFK-VVXQKDJTSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001420 alkaline earth metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- JGDITNMASUZKPW-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.Cl[Al](Cl)Cl JGDITNMASUZKPW-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229940009861 aluminum chloride hexahydrate Drugs 0.000 description 2
- HUVXQFBFIFIDDU-UHFFFAOYSA-N aluminum phthalocyanine Chemical compound [Al+3].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 HUVXQFBFIFIDDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 2
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N bumetrizole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 2
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000412 dendrimer Substances 0.000 description 2
- 229920000736 dendritic polymer Polymers 0.000 description 2
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005553 heteroaryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005143 heteroarylsulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 2
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 2
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N methyl pentane Natural products CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 239000001053 orange pigment Substances 0.000 description 2
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 2
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 2
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004043 oxo group Chemical group O=* 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N oxophosphane Chemical compound P=O AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960003540 oxyquinoline Drugs 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N phosphine group Chemical group P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical class OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000412 polyarylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 2
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical group [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N thioindigo Chemical class S\1C2=CC=CC=C2C(=O)C/1=C1/C(=O)C2=CC=CC=C2S1 JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 2
- 125000004953 trihalomethyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 239000012855 volatile organic compound Substances 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical group O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGSHZSDDBWTHDU-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC(=O)C(C)=NOS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 PGSHZSDDBWTHDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRUDPRFGMHTPFJ-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) acetate Chemical compound CC(=O)ON=C(C)C(C)=O MRUDPRFGMHTPFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQLZSJJJXHJANW-UHFFFAOYSA-N (3-oxopentan-2-ylideneamino) acetate Chemical compound CCC(=O)C(C)=NOC(C)=O HQLZSJJJXHJANW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N (z)-1-[(z)-octadec-9-enoxy]octadec-9-ene Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- BCNBMSZKALBQEF-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethylpyrrolidin-2-one Chemical compound CC1CCN(C)C1=O BCNBMSZKALBQEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical group O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical group C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQKDBQTXMIUPSY-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol;1-methoxypropan-2-yl acetate Chemical compound COCC(C)O.COCC(C)OC(C)=O GQKDBQTXMIUPSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KILGMXHYMFIPHS-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-2-phenylmethoxyiminopropan-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(C)=NOCC1=CC=CC=C1 KILGMXHYMFIPHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical group CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 2,3-ditert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1C(C)(C)C QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXOFYPKXCSULTL-UHFFFAOYSA-N 2,4,7,9-tetramethyldec-5-yne-4,7-diol Chemical compound CC(C)CC(C)(O)C#CC(C)(O)CC(C)C LXOFYPKXCSULTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 2,4-D Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(Cl)C=C1Cl OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIAFURWZWWWBQT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-aminoethoxy)ethanol Chemical compound NCCOCCO GIAFURWZWWWBQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-methylbutan-2-yl)phenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZUNCLSDTUBVCN-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-6-(2-phenylpropan-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 UZUNCLSDTUBVCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SITYOOWCYAYOKL-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(3-dodecoxy-2-hydroxypropoxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCC(O)COCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 SITYOOWCYAYOKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRGJXXWAXMTTAM-UHFFFAOYSA-N 2-butylbenzenecarboperoxoic acid Chemical group CCCCC1=CC=CC=C1C(=O)OO RRGJXXWAXMTTAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVUNTIMPQCQCAQ-UHFFFAOYSA-N 2-dodecanoyloxyethyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OCCOC(=O)CCCCCCCCCCC ZVUNTIMPQCQCAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[4-[[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenyl]methyl]phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(O)C)=CC=C1CC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical group CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLXYHLHNIRJAIG-UHFFFAOYSA-N 2h-benzo[e]isoindole Chemical compound C1=CC=C2C3=CNC=C3C=CC2=C1 WLXYHLHNIRJAIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBNVWXKPFORCRI-UHFFFAOYSA-N 2h-naphtho[2,3-f]quinolin-1-one Chemical class C1=CC=CC2=CC3=C4C(=O)CC=NC4=CC=C3C=C21 XBNVWXKPFORCRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNUOBYLNEXVUMC-UHFFFAOYSA-N 2h-pyren-1-one Chemical compound C1=C2C(=O)CC=C(C=C3)C2=C2C3=CC=CC2=C1 QNUOBYLNEXVUMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVYXPOCADCXMLP-UHFFFAOYSA-N 3-butoxy-n,n-dimethylpropanamide Chemical compound CCCCOCCC(=O)N(C)C LVYXPOCADCXMLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEMXPVDXFSROA-UHFFFAOYSA-N 3-butylbenzene-1,2-diol Chemical group CCCCC1=CC=CC(O)=C1O BJEMXPVDXFSROA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXYQHDXDCJQOFD-UHFFFAOYSA-N 3-cyanopropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC#N BXYQHDXDCJQOFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQYSALLXMHVJAV-UHFFFAOYSA-M 3-heptyl-2-[(3-heptyl-4-methyl-1,3-thiazol-3-ium-2-yl)methylidene]-4-methyl-1,3-thiazole;iodide Chemical compound [I-].CCCCCCCN1C(C)=CS\C1=C\C1=[N+](CCCCCCC)C(C)=CS1 DQYSALLXMHVJAV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-1-butanol Chemical compound COC(C)CCO JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPKHFQXMFPSMJO-UHFFFAOYSA-N 3-phenylmethoxyiminobutan-2-one Chemical compound CC(=O)C(C)=NOCC1=CC=CC=C1 RPKHFQXMFPSMJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 5-(2,4-dioxooxolan-3-yl)-7-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C(C(OC2=O)=O)C2C(C)=CC1C1C(=O)COC1=O FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRBSGTUCLRTVDE-UHFFFAOYSA-N 9h-carbazole-1,2-diol Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=C(O)C(O)=C3NC2=C1 QRBSGTUCLRTVDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- GKIHEXCPBDVIIV-UHFFFAOYSA-N C(C(C)(C)C)C(O)(C(CO)(CO)CO)CC(C)(C)C Chemical compound C(C(C)(C)C)C(O)(C(CO)(CO)CO)CC(C)(C)C GKIHEXCPBDVIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCMBMARJJBENSK-UHFFFAOYSA-N C(CC)(=O)OC(C(CN)=O)C Chemical compound C(CC)(=O)OC(C(CN)=O)C YCMBMARJJBENSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZRPIZSSEMKEEW-UHFFFAOYSA-N C1CO1.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 Chemical compound C1CO1.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 HZRPIZSSEMKEEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWNXGZKSIKQKAH-UHFFFAOYSA-N Cc1cc(CNC(CO)C(O)=O)c(OCc2cccc(c2)C#N)cc1OCc1cccc(c1C)-c1ccc2OCCOc2c1 Chemical compound Cc1cc(CNC(CO)C(O)=O)c(OCc2cccc(c2)C#N)cc1OCc1cccc(c1C)-c1ccc2OCCOc2c1 UWNXGZKSIKQKAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000000703 Cerium Chemical class 0.000 description 1
- PMPVIKIVABFJJI-UHFFFAOYSA-N Cyclobutane Chemical compound C1CCC1 PMPVIKIVABFJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N Cyclohexyl acetate Chemical compound CC(=O)OC1CCCCC1 YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPVVYTCTZKCSOJ-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol distearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCOC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC FPVVYTCTZKCSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000035126 Facies Diseases 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- 235000017858 Laurus nobilis Nutrition 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N Phenanthrene Natural products C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002035 Pluronic® L 10 Polymers 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N Stilbene Natural products C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000005212 Terminalia tomentosa Nutrition 0.000 description 1
- 244000125380 Terminalia tomentosa Species 0.000 description 1
- 229920002359 Tetronic® Polymers 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPQRMIPRAHPPNE-UHFFFAOYSA-N [(1-oxo-1-phenylpropan-2-ylidene)amino] acetate Chemical compound CC(=O)ON=C(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 DPQRMIPRAHPPNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N [2-[[4-methyl-3-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]carbonylamino]phenyl]carbamoyloxymethyl]-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound CC1=CC=C(NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C)C=C1NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIVQCJOGAHNXBO-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] propanoate Chemical group CCC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HIVQCJOGAHNXBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOKIPOOTKLLKDI-UHFFFAOYSA-N acetic acid;iron Chemical compound [Fe].CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O GOKIPOOTKLLKDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000008360 acrylonitriles Chemical class 0.000 description 1
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004844 aliphatic epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- GRKUXCWELVWVMZ-UHFFFAOYSA-N amino acetate Chemical compound CC(=O)ON GRKUXCWELVWVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000013475 authorization Methods 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 1
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 238000010296 bead milling Methods 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- MYONAGGJKCJOBT-UHFFFAOYSA-N benzimidazol-2-one Chemical compound C1=CC=CC2=NC(=O)N=C21 MYONAGGJKCJOBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001562 benzopyrans Chemical class 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000000649 benzylidene group Chemical group [H]C(=[*])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M benzyltrimethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RKTGAWJWCNLSFX-UHFFFAOYSA-M bis(2-hydroxyethyl)-dimethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].OCC[N+](C)(C)CCO RKTGAWJWCNLSFX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001041 brightray Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- UPIWXMRIPODGLE-UHFFFAOYSA-N butyl benzenecarboperoxoate Chemical group CCCCOOC(=O)C1=CC=CC=C1 UPIWXMRIPODGLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010216 calcium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 235000012730 carminic acid Nutrition 0.000 description 1
- CZPLANDPABRVHX-UHFFFAOYSA-N cascade blue Chemical compound C=1C2=CC=CC=C2C(NCC)=CC=1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 CZPLANDPABRVHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000599 controlled substance Substances 0.000 description 1
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 1
- 125000000332 coumarinyl group Chemical class O1C(=O)C(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- CFBGXYDUODCMNS-UHFFFAOYSA-N cyclobutene Chemical compound C1CC=C1 CFBGXYDUODCMNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013480 data collection Methods 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYAAVKFHBMJOJZ-UHFFFAOYSA-N diimidazo[1,3-b:1',3'-e]pyrazine-5,10-dione Chemical compound O=C1C2=CN=CN2C(=O)C2=CN=CN12 UYAAVKFHBMJOJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N diiodomethane Chemical compound ICI NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012972 dimethylethanolamine Substances 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDMWUMUNUXUYKT-UHFFFAOYSA-N ethyl [(1-oxo-1-phenylpropan-2-ylidene)amino] carbonate Chemical compound CCOC(=O)ON=C(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 YDMWUMUNUXUYKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVFVBPYVNUCWJX-UHFFFAOYSA-M ethyl(trimethyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](C)(C)C KVFVBPYVNUCWJX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000003631 expected effect Effects 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000012847 fine chemical Substances 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 239000004845 glycidylamine epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229940100608 glycol distearate Drugs 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine group Chemical group NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Chemical class N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N indium;tin;hydrate Chemical compound O.[In].[Sn] MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002475 indoles Chemical class 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 150000008040 ionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000002510 isobutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N isoindolin-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NCC2=C1 PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 229940097364 magnesium acetate tetrahydrate Drugs 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKPKPGCRSHFTKM-UHFFFAOYSA-L magnesium;diacetate;tetrahydrate Chemical compound O.O.O.O.[Mg+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O XKPKPGCRSHFTKM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- UJRDRFZCRQNLJM-UHFFFAOYSA-N methyl 3-[3-(benzotriazol-2-yl)-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O UJRDRFZCRQNLJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N methyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OC HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 238000000199 molecular distillation Methods 0.000 description 1
- PJUIMOJAAPLTRJ-UHFFFAOYSA-N monothioglycerol Chemical compound OCC(O)CS PJUIMOJAAPLTRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002757 morpholinyl group Chemical group 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N n-hydroxy-n-phenylnitrous amide Chemical group O=NN(O)C1=CC=CC=C1 DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004780 naphthols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N octabenzone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002114 octoxynol-9 Polymers 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N omega-Hydroxydodecanoic acid Natural products OCCCCCCCCCCCC(O)=O ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004010 onium ions Chemical class 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSWAOPJLTADLTN-UHFFFAOYSA-N oxidanimine Chemical compound [O-][NH3+] GSWAOPJLTADLTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical class [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBDSZLJBMIMQRS-UHFFFAOYSA-N p-Cumylphenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 QBDSZLJBMIMQRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKTOLZVEWDHZMU-UHFFFAOYSA-N p-cumyl phenol Natural products CC1=CC=C(C)C(O)=C1 NKTOLZVEWDHZMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010951 particle size reduction Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 239000013500 performance material Substances 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-M phenolate Chemical compound [O-]C1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229940067265 pigment yellow 138 Drugs 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 210000004508 polar body Anatomy 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 229920006350 polyacrylonitrile resin Polymers 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940116423 propylene glycol diacetate Drugs 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 125000001042 pteridinyl group Chemical class N1=C(N=CC2=NC=CN=C12)* 0.000 description 1
- MCSKRVKAXABJLX-UHFFFAOYSA-N pyrazolo[3,4-d]triazole Chemical class N1=NN=C2N=NC=C21 MCSKRVKAXABJLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 125000000719 pyrrolidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- GGVMPKQSTZIOIU-UHFFFAOYSA-N quaterrylene Chemical group C12=C3C4=CC=C2C(C2=C56)=CC=C5C(C=57)=CC=CC7=CC=CC=5C6=CC=C2C1=CC=C3C1=CC=CC2=CC=CC4=C21 GGVMPKQSTZIOIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003902 salicylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000012321 sodium triacetoxyborohydride Substances 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N stibanylidynetin;hydrate Chemical compound O.[Sn].[Sb] SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021286 stilbenes Nutrition 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M sulfamate Chemical compound NS([O-])(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LZOZLBFZGFLFBV-UHFFFAOYSA-N sulfene Chemical compound C=S(=O)=O LZOZLBFZGFLFBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 125000004001 thioalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005000 thioaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000001003 triarylmethane dye Substances 0.000 description 1
- 125000006168 tricyclic group Chemical group 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000003981 vehicle Substances 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 1
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Abstract
本發明提供一種能夠製造耐熱性優異且可抑制缺陷的產生之膜之著色組成物、使用著色組成物而成之膜、濾光器、固體攝像元件及圖像顯示裝置。著色組成物含有選自由式(1)表示之化合物S-1及在金屬原子上配位有前述化合物S-1之化合物S-2中之至少1種化合物S、顏料、樹脂及溶劑。
Description
本發明係關於一種包含顏料之著色組成物。又,本發明係有關一種使用著色組成物而成之膜、濾光器、固體攝像元件及圖像顯示裝置。
近年來,隨著數位相機、附相機的移動電話等的普及,電荷耦合元件(CCD)影像感測器等固體攝像元件的需求大幅增加。作為顯示器或光學元件的核心裝置,使用濾色器。濾色器通常具備紅色、綠色及藍色這3原色的像素,並發揮將光透射分解成3原色之作用。
濾色器的各色的著色像素使用包含著色劑之著色組成物來製造。在專利文獻1中記載有使用著色組成物來形成濾色器的像素之內容,前述著色組成物含有包含甲亞胺金屬錯合物系顏料之顏料、在甲亞胺金屬錯合物系顏料上導入有2個磺酸基之顏料衍生物、樹脂及溶劑。
[專利文獻1]日本特開2009-035671號公報
近年來,對於濾色器等濾光器的要求不斷增加。作為該等要求特性之一,可舉出即使加熱後分光特性的變動亦小且耐熱性優異等。儘管藉由將顏料用作著色劑容易形成耐熱性優異之膜,但是仍有進一步改善的餘地。又,在將顏料用作著色劑之情況下,有時在膜中形成源自顏料的凝聚物,存在容易產生缺陷之傾向。
又,依據本發明人的研究可知,在使用專利文獻1的實施例中所記載之著色組成物獲得之膜中,耐熱性不充分,加熱後的分光特性的變動較大。進而,在膜中容易產生缺陷。
從而,本發明的目的在於提供一種能夠製造耐熱性優異且可抑制缺陷的產生之膜之著色組成物。又,本發明的目的在於提供一種使用著色組成物而成之膜、濾光器、固體攝像元件及圖像顯示裝置。
依據本發明人的研究,發現了藉由後述之著色組成物能夠實現上述目的,從而完成了本發明。藉此,本發明提供以下內容。
<1>一種著色組成物,其含有:
選自由式(1)表示之化合物S-1及在金屬原子上配位有上述化合物S-1之化合物S-2中之至少1種化合物S;
顏料;
樹脂;及
溶劑,
[化學式1]
式中,R1
表示氫原子、烷基或芳基,R2
~R9
分別獨立地表示氫原子或取代基,R2
~R9
中的相鄰之2個基團可以鍵結而形成環;其中,R2
~R9
中的至少1個包含由式(R-1)表示之基團;
-W1
-(X1
)n
……(R-1)
式(R-1)中,W1
表示n+1價的連接基,X1
表示酸基或鹼基,n表示1~5的整數。
<2>如<1>所述之著色組成物,其中
上述式(R-1)的X1
所表示之酸基為羧基、磺酸基、磷酸基、由-SO2
NHSO2
Rf1
表示之基團或該等的鹽,Rf1
表示含有氟原子之基團,
上述式(R-1)的X1
所表示之鹼基為胺基或銨基的鹽。
<3>如<1>或<2>所述之著色組成物,其中
上述式(R-1)的X1
為鹼基。
<4>如<1>至<3>之任一項所述之著色組成物,其中
上述化合物S-2為由式(1a)表示之化合物,
[化學式2]
式中,R1
表示氫原子、烷基或芳基,R2
~R9
分別獨立地表示氫原子或取代基,R2
~R9
中的相鄰之2個基團可以鍵結而形成環,M1
表示配位體可以配位之金屬原子,其中,R2
~R9
中的至少1個包含由上述式(R-1)表示之基團。
<5>如<4>所述之著色組成物,其中
上述式(1a)中的M1
為配位體可以配位之銅原子或配位體可以配位之鋅原子。
<6>如<1>至<5>之任一項所述之著色組成物,其中
上述顏料包含選自黃色顏料、綠色顏料及紅色顏料中之至少1種。
<7>如<1>至<6>之任一項所述之著色組成物,其中
上述顏料包含具有金屬原子之顏料。
<8>如<7>所述之著色組成物,其中
具有上述金屬原子之顏料包含甲亞胺金屬錯合物。
<9>如<8>所述之著色組成物,其中
上述甲亞胺金屬錯合物包含選自甲亞胺銅錯合物及甲亞胺鋅錯合物中之至少1種。
<10>如<1>至<9>之任一項所述之著色組成物,其中
相對於上述顏料100質量份含有1~30質量份的上述化合物S。
<11>如<1>至<10>之任一項所述之著色組成物,其還含有聚合性化合物及光聚合起始劑。
<12>如<1>至<11>之任一項所述之著色組成物,其係用於濾色器或用於紅外線透過濾波器。
<13>如<1>至<12>之任一項所述之著色組成物,其係用於固體攝像元件。
<14>一種膜,其係由<1>至<13>之任一項所述之著色組成物獲得。
<15>一種濾光器,其具有<14>所述之膜。
<16>一種固體攝像元件,其具有<14>所述之膜。
<17>一種圖像顯示裝置,其具有<14>所述之膜。
[發明效果]
依據本發明,能夠提供一種能夠製造耐熱性優異且可抑制缺陷的產生之膜。又,能夠提供一種使用著色組成物而成之膜、濾光器、固體攝像元件及圖像顯示裝置。
以下,對本發明的內容進行詳細說明。
本說明書中,“~”係以將記載於其前後之數值作為下限值及上限值而包含之含義來使用。
本說明書中之基團(原子團)的標記中,未標有經取代及未經取代之標記包含不具有取代基之基團(原子團),並且亦包含具有取代基之基團(原子團)。例如,“烷基”不僅包含不具有取代基之烷基(未經取代之烷基),而且還包含具有取代基之烷基(經取代之烷基)。
本說明書中,“曝光”只要沒有特別指定,不僅包含使用光之曝光,而且使用電子束、離子束等粒子束之描畫亦包含於曝光中。又,作為曝光中所使用之光,可舉出水銀燈的明線光譜、以準分子雷射為代表之遠紫外線、極紫外線(EUV光)、X射線、電子束等光化射線或放射線。
本說明書中,“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯兩者或任一者,“(甲基)丙烯酸”表示丙烯酸及甲基丙烯酸兩者或任一者,“(甲基)丙烯醯基”表示丙烯醯基及甲基丙烯醯基兩者或任一者。
本說明書中,結構式中的Me表示甲基,Et表示乙基,Bu表示丁基,Ph表示苯基。
本說明書中,重量平均分子量及數量平均分子量為藉由GPC(凝膠滲透層析)法測量出的聚苯乙烯換算值。
本說明書中,總固體成分係指從組成物的所有成分中去除溶劑之成分的總質量。
本說明書中,顏料係指難以溶解於溶劑中的化合物。
本說明書中,“步驟”這一用語,不僅包含獨立之步驟,而且即使在無法與其他步驟明確地進行區分之情況下,只要發揮該步驟的所期待的作用,則亦包含於本用語中。
<著色組成物>
本發明的著色組成物的特徵為,含有:
選自由式(1)表示之化合物S-1及在金屬原子上配位有前述化合物S-1之化合物S-2中之至少1種化合物S;
顏料;
樹脂;及
溶劑。
依據本發明的著色組成物,能夠製造耐熱性優異且可抑制缺陷的產生之膜。可得到該等效果之詳細理由雖不明確,但是可推測為如下。推測為化合物S-1具有芳香族環及甲亞胺結構,化合物S能夠與顏料形成牢固的分子間鍵。又,化合物S-1中,式(1)中的R2
~R9
中的至少1個具有由式(R-1)表示之基團。亦即,化合物S-1具有在芳香族環上經由連接基W1
鍵結有酸基或鹼基而成之結構,酸基或鹼基從芳香族環隔著距離鍵結。推測為藉由化合物S-1具有這等結構,顏料與化合物S的相互作用難以被樹脂阻礙,並且化合物S與樹脂的相互作用亦難以被顏料阻礙。因此,推測為能夠在著色組成物中或膜中形成顏料、化合物S及樹脂之間的牢固的網絡。因此,推測為能夠抑制顏料的分散製程或著色組成物的保管時的顏料的凝聚,其結果能夠抑制缺陷的產生。又,推測為,即使在製膜後進行加熱,亦形成顏料、化合物S及樹脂之間的牢固的網絡,因此顏料與樹脂難以分離,並且亦能夠抑制由顏料的凝聚化引起之分光變動或裂紋的產生等。因此,依據本發明的著色組成物,能夠製造耐熱性優異且可抑制缺陷的產生之膜。
尤其,化合物S容易與具有金屬原子之顏料相互作用,在使用具有金屬原子之顏料之情況下,能夠有效地抑制缺陷的產生。尤其,在使用甲亞胺金屬錯合物或酞菁金屬錯合物之情況下,能更有效地抑制缺陷的產生。
本發明的著色組成物可較佳地用作濾色器用或紅外線透過濾波器用著色組成物。更具體而言,能夠較佳地用作濾色器的像素形成用著色組成物或紅外線透射濾波器形成用著色組成物,能夠更佳地用作濾色器的像素形成用著色組成物。
又,本發明的著色組成物可較佳地用作固體攝像元件。更具體而言,可較佳地用作固體攝像元件用中所使用之濾色器的像素形成用著色組成物或紅外線透射濾波器形成用著色組成物。
在使用本發明的著色組成物來形成厚度0.65μm的膜時,膜的透光率成為50%之波長存在於470~520nm的波長範圍內為較佳,存在於475~520nm的波長範圍內為更佳,存在於480~520nm的波長範圍內為進一步較佳。其中,透光率成為50%之波長分別存在於470~520nm的波長範圍內及575~625nm的波長範圍內為較佳。在該態樣中,透光率成為50%之短波長側的波長存在於475~520nm的波長範圍內為較佳,存在於480~520nm的波長範圍內為更佳。又,透光率成為50%之長波長側的波長存在於580~620nm的波長範圍內為較佳,存在於585~615nm的波長範圍內為更佳。能夠形成具有該等分光特性之膜之著色組成物可較佳地用作濾色器的綠色像素形成用著色組成物。
以下,對本發明的著色組成物中所使用之各成分進行說明。
<<顏料>>
本發明的著色組成物含有顏料。顏料的平均一次粒徑為1~200nm為較佳。下限為5nm以上為較佳,10nm以上為更佳。上限為180nm以下為較佳,150nm以下為更佳,100nm以下為進一步較佳。若顏料的平均一次粒徑在上述範圍內,則樹脂組成物中的顏料的分散穩定性良好。另外,在本發明中,顏料的一次粒徑能夠藉由透過型電子顯微鏡觀察顏料的一次粒子,並依據所獲得之照片來求出。具體而言,求出顏料的一次粒子的投影面積,並計算與其相對應之等效圓直徑作為顏料的一次粒徑。又,將本發明中的平均一次粒徑設為關於400個顏料的一次粒子的一次粒徑的算數平均值。又,顏料的一次粒子係指未凝聚的獨立粒子。
作為顏料,可舉出彩色顏料及黑色顏料,彩色顏料為較佳。又,顏料可以為無機顏料、有機顏料中的任一種,從顏色變化的多少、分散的容易性、安全性等觀點考慮,有機顏料為較佳。
從能夠形成更抑制缺陷的產生之膜之理由考慮,顏料為具有金屬原子之顏料為較佳,具有金屬原子之有機顏料為更佳,甲亞胺金屬錯合物、偶氮金屬錯合物及酞菁金屬錯合物為進一步較佳,甲亞胺金屬錯合物及酞菁金屬錯合物為更進一步較佳,甲亞胺金屬錯合物為特佳。
甲亞胺金屬錯合物為黃色顏料為較佳。又,甲亞胺金屬錯合物包含選自甲亞胺銅錯合物及甲亞胺鋅錯合物中之至少1種為較佳,包含甲亞胺銅錯合物為更佳。甲亞胺金屬錯合物可以僅為一種,亦可以併用2種以上。又,在併用2種以上的甲亞胺金屬錯合物之情況下,2種以上的甲亞胺金屬錯合物彼此亦可以形成混晶(固溶體)。
作為甲亞胺銅錯合物,可舉出C.I.顏料黃117、129等。C.I.顏料黃117為由下述式(ACu-2)表示之化合物,C.I.顏料黃129為由下述式(ACu-1)表示之化合物。另外,在以下結構式中,氮原子與銅(Cu)原子配位,但是氮原子亦有時不與銅原子配位。
[化學式3]
作為甲亞胺鋅錯合物,可舉出由式(AZn-1)表示之化合物、由式(AZn-2)表示之化合物等。另外,在以下結構式中,氮原子與鋅(Zn)原子配位,但是氮原子亦有時不與鋅原子配位。
[化學式4]
式(AZn-2)中,X1
及X2
分別獨立地表示氫原子、鹵素原子或烷氧基。
作為X1
及X2
所表示之鹵素原子,可舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子,氯原子或溴原子為較佳,氯原子為更佳。
作為X1
及X2
所表示之烷氧基,可舉出甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、異丁氧基、二級丁氧基、三級丁氧基、戊氧基、1-甲基丁氧基、2-甲基丁氧基、3-甲基丁氧基、1,1-二甲基丙氧基、1,2-二甲基丙氧基、2,2-二甲基丙氧基、1-乙基丙氧基、己氧基、1-甲基戊氧基、2-甲基戊氧基、3-甲基戊氧基、4-甲基戊氧基、1,1-二甲基丁氧基、1,2-二甲基丁氧基、1,3-二甲基丁氧基、2,2-二甲基丁氧基、2,3-二甲基丁氧基、3,3-二甲基丁氧基、1-乙基丁氧基、2-乙基丁氧基、1,1,2-三甲基丙氧基、1,2,2-三甲基丙氧基、1-乙基-1-甲基丙氧基、1-乙基-2-甲基丙氧基等。其中,作為適當的例子可舉出碳數1~8的烷氧基。
作為偶氮金屬錯合物,可舉出C.I.顏料黃150等。
又,作為偶氮金屬錯合物,亦能夠使用含有選自由下述式(Az1)表示之偶氮化合物及其互變異構結構的偶氮化合物中之至少1種陰離子、2種以上的金屬離子及三聚氰胺化合物之偶氮金屬錯合物Az。
[化學式7]
式中,R1
及R2
分別獨立地為-OH或-NR5
R6
,R3
及R4
分別獨立地為=O或=NR7
,R5
~R7
分別獨立地為氫原子或烷基。R5
~R7
所表示之烷基的碳數為1~10為較佳,1~6為更佳,1~4為進一步較佳。烷基可以為直鏈、支鏈及環狀中的任一種,直鏈或支鏈為較佳,直鏈為更佳。烷基可以具有取代基。取代基為鹵素原子、羥基、烷氧基、氰基及胺基為較佳。
式(Az1)中,R1
及R2
為-OH為較佳。又,R3
及R4
為=O為較佳。
偶氮金屬錯合物Az為含有選自由上述之式(Az1)表示之偶氮化合物及其互變異構結構的偶氮化合物中之至少1種陰離子、至少包含Zn2+
及Cu2+
之金屬離子及三聚氰胺化合物之顏料為較佳。關於偶氮金屬錯合物Az,能夠參閱日本特開2017-171912號公報的0011~0062、0137~0276段、日本特開2017-171913號公報的0010~0062、0138~0295段、日本特開2017-171914號公報的0011~0062、0139~0190段、日本特開2017-171915號公報的0010~0065、0142~0222段的記載,該等內容被編入本說明書中。
作為酞菁金屬錯合物,可舉出作為中心金屬具有銅、鋅、鋁、鐵、鈷、釩、鈦或鎂之酞菁金屬錯合物(金屬酞菁顏料)等。作為酞菁金屬錯合物的具體例,可舉出比色指數(C.I.)顏料綠7、36、58、59、62、63等綠色顏料、C.I.顏料藍15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6等藍色顏料。
以下,對彩色顏料及黑色顏料進行進一步詳細說明。
(彩色顏料)
作為彩色顏料,可舉出在波長400~700nm的範圍內具有極大吸收波長之顏料。例如可舉出黃色顏料、橙色顏料、紅色顏料、綠色顏料、紫色顏料、藍色顏料等。本發明的著色組成物中所使用之顏料包含選自黃色顏料、綠色顏料及紅色顏料中之至少1種為較佳,包含黃色顏料為更佳。
作為黃色顏料,可舉出甲亞胺化合物、偶氮化合物、異吲哚啉化合物、蝶啶化合物及喹啉黃化合物,甲亞胺化合物及偶氮化合物為較佳,甲亞胺金屬錯合物及偶氮金屬錯合物為更佳,從能夠形成缺陷少且耐熱性優異之膜之理由考慮,甲亞胺金屬錯合物為較佳。作為甲亞胺金屬錯合物、偶氮金屬錯合物,可舉出上述者。
作為除了甲亞胺金屬錯合物及偶氮金屬錯合物以外的黃色顏料的具體例,可舉出C.I.顏料黃1、2、3、4、5、6、10、11、12、13、14、15、16、17、18、20、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、86、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、118、119、120、123、125、126、127、128、137、138、139、147、148、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、185、187、188、193、194、199、213、214、215、228、231、232(次甲基系)、233(喹啉系)、234(胺基酮系)、235(胺基酮系)、236(胺基酮系)等。
又,作為黃色顏料,亦能夠使用日本特開2013-054339號公報的0011~0034段中所記載之喹啉黃化合物、日本特開2014-026228號公報的0013~0058段中所記載之喹啉黃化合物、日本特開2018-062644號公報中所記載之異吲哚啉化合物、日本特開2018-203798號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本特開2018-062578號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本專利第6432076號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本特開2018-155881號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本特開2018-111757號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本特開2018-040835號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本特開2017-197640號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本特開2016-145282號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本特開2014-085565號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本特開2014-021139號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本特開2013-209614號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本特開2013-209435號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本特開2013-181015號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本特開2013-061622號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本特開2013-032486號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本特開2012-226110號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本特開2008-074987號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本特開2008-081565號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本特開2008-074986號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本特開2008-074985號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本特開2008-050420號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本特開2008-031281號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本特公昭48-032765號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本特開2019-008014號公報中所記載之喹啉黃化合物、日本專利第6607427號公報中所記載之喹啉黃化合物。又,從提高色值的觀點考慮,亦可較佳地使用對該等化合物進行多聚體化者。
作為黃色顏料,C.I.顏料黃117、129、138、139、150、185為較佳,C.I.顏料黃117、129為更佳,C.I.顏料黃129為進一步較佳。
作為紅色顏料,可舉出二酮吡咯并吡咯化合物、蒽醌化合物、偶氮化合物、萘酚化合物、甲亞胺化合物、口山口星化合物、喹吖酮化合物、苝化合物及硫靛藍化合物等,從能夠形成缺陷少且耐熱性優異之膜之理由考慮,二酮吡咯并吡咯化合物及喹吖酮化合物為較佳,二酮吡咯并吡咯化合物為更佳。
作為紅色顏料的具體例,可舉出C.I.顏料紅1、2、3、4、5、6、7、9、10、14、17、22、23、31、38、41、48:1、48:2、48:3、48:4、49、49:1、49:2、52:1、52:2、53:1、57:1、60:1、63:1、66、67、81:1、81:2、81:3、83、88、90、105、112、119、122、123、144、146、149、150、155、166、168、169、170、171、172、175、176、177、178、179、184、185、187、188、190、200、202、206、207、208、209、210、216、220、224、226、242、246、254、255、264、269、270、272、279、291、294、295、296、297等。又,作為紅色顏料,亦能夠使用日本特開2017-201384號公報中所記載之在結構中至少一個溴原子經取代之二酮吡咯并吡咯化合物、日本專利第6248838號的0016~0022段中所記載之二酮吡咯并吡咯化合物、國際公開第2012/102399號中所記載之二酮吡咯并吡咯化合物、國際公開第2012/117965號中所記載之二酮吡咯并吡咯化合物、日本特開2012-229344號公報中所記載之萘酚偶氮化合物、日本專利第6516119號公報中所記載之紅色顏料、日本專利第6525101號公報中所記載之紅色顏料等。又,作為紅色顏料,亦能夠使用具有如下結構之化合物,前述結構係將鍵結有氧原子、硫原子或氮原子之基團導入到芳香族環而得之芳香族環基鍵結於二酮吡咯并吡咯骨架而成。
作為紅色顏料,C.I.顏料紅122、177、254、255、264、269、272為較佳,C.I.顏料紅254、255、264、272為更佳。
作為綠色顏料,可舉出酞菁化合物、方酸菁化合物等,從能夠形成缺陷少且耐熱性優異之膜之理由考慮,酞菁化合物為較佳,酞菁金屬錯合物為更佳。
作為綠色顏料的具體例,可舉出C.I.顏料綠7、10、36、37、58、59、62、63、64、65、66等。又,作為綠色顏料,亦能夠使用一分子中的鹵素原子數平均為10~14個、溴原子數平均為8~12個、氯原子數平均為2~5個之鹵化鋅酞菁顏料。作為具體例,可舉出國際公開第2015/118720號公報中所記載之化合物。
又,作為綠色顏料,能夠使用中國專利申請第106909027號說明書中所記載之化合物、國際公開第2012/102395號中所記載之作為配位體具有磷酸酯之酞菁化合物、日本特開2019-008014號公報中所記載之酞菁化合物、日本特開2018-180023號公報中所記載之酞菁化合物、日本特開2019-038958號公報中所記載之化合物、國際公開第2019/167589號的0141~0151段中所記載之方酸菁化合物等。作為綠色顏料,C.I.顏料綠7、36、58、59、62、63為較佳。
作為橙色顏料,可舉出C.I.顏料橙2、5、13、16、17:1、31、34、36、38、43、46、48、49、51、52、55、59、60、61、62、64、71、73等。
作為紫色顏料,可舉出C.I.顏料紫1、19、23、27、32、37、42、60、61等。
作為藍色顏料,可舉出C.I.顏料藍1、2、15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、22、29、60、64、66、79、80、87、88等。
關於各種顏料所具有之較佳的繞射角,能夠參閱日本專利第6561862號公報、日本專利第6413872號公報、日本專利第6281345號公報、日本特開2020-026503號公報的記載,該等內容被編入本說明書中。
著色組成物中可以包含2種以上的彩色顏料。例如,含有黃色顏料及綠色顏料之著色組成物能夠較佳地用作濾色器的綠色像素形成用著色組成物。該情況下的黃色顏料含有甲亞胺金屬錯合物為較佳。又,綠色顏料含有酞菁金屬錯合物為較佳。
又,含有黃色顏料及紅色顏料之著色組成物能夠較佳地用作濾色器的紅色像素形成用著色組成物。該情況下的黃色顏料含有甲亞胺金屬錯合物為較佳。又,紅色顏料含有二酮吡咯并吡咯化合物為較佳。
又,著色組成物中含有2種以上的彩色顏料,並且可以由2種以上的彩色顏料的組合形成黑色。該等著色組成物可較佳地用作紅外線透過濾波器形成用著色組成物。作為由2種以上的彩色顏料的組合形成黑色時的彩色顏料的組合可舉出以下。
(A1)含有紅色顏料、藍色顏料及黃色顏料之態樣。
(A2)含有紅色顏料、藍色顏料、黃色顏料及紫色顏料之態樣。
(A3)含有紅色顏料、藍色顏料、黃色顏料、紫色顏料及綠色顏料之態樣。
(A4)含有紅色顏料、藍色顏料、黃色顏料及綠色顏料之態樣。
(A5)含有黃色顏料及紫色顏料之態樣。
(黑色顏料)
作為黑色顏料,並無特別限定,能夠使用公知者。例如可舉出碳黑、鈦黑、石墨等無機顏料,碳黑、鈦黑為較佳,鈦黑為更佳。鈦黑係指含有鈦原子之黑色粒子,低價氧化鈦或氮氧化鈦為較佳。以提高分散性、抑制凝聚性等為目的,能夠依據需要對鈦黑的表面進行修飾。例如能夠藉由氧化矽、氧化鈦、氧化鍺、氧化鋁、氧化鎂或氧化鋯來被覆鈦黑的表面。又,亦能夠藉由如日本特開2007-302836號公報中所示的撥水性物質進行處理。鈦黑係每個粒子的一次粒徑及平均一次粒徑中的任一個較小為較佳。具體而言,平均一次粒徑為10~45nm為較佳。鈦黑亦能夠用作分散物。例如可舉出含有鈦黑粒子及二氧化矽粒子並且分散物中的Si原子與Ti原子的含有比調節在0.20~0.50的範圍內之分散物等。關於上述分散物,亦能夠參閱日本特開2012-169556號公報的0020~0105段的記載,該內容被編入本說明書中。作為鈦黑的市售品的例,可舉出鈦黑10S、12S、13R、13M、13M-C、13R-N、13M-T(產品名:Mitsubishi Materials Corporation製造)、Tilack D(產品名:Ako Kasei Co.,Ltd.製造)等。
著色組成物的總固體成分中的顏料的含量為20質量%以上為較佳,30質量%以上為更佳,40質量%以上為進一步較佳,50質量%以上為特佳。上限為80質量%以下為較佳,75質量%以下為更佳,70質量%以下為進一步較佳。
著色組成物中所含有之顏料中的具有金屬原子之顏料的含量為15質量%以上為較佳,15.5質量%以上為更佳,16質量%以上為進一步較佳。上限亦能夠設為100質量%,亦能夠設為95質量%以下,還能夠設為90質量%以下。
著色組成物中所含有之顏料中的甲亞胺金屬錯合物的含量為15質量%以上為較佳,15.5質量%以上為更佳,16質量%以上為進一步較佳。上限亦能夠設為100質量%,亦能夠設為95質量%以下,還能夠設為90質量%以下。
著色組成物中所含有之顏料中的黃色顏料的含量為30質量%以上為較佳,33質量%以上為更佳,35質量%以上為進一步較佳。上限亦能夠設為100質量%,亦能夠設為95質量%以下,還能夠設為90質量%以下。
將本發明的著色組成物用作濾色器的黃色像素形成用著色組成物之情況下,顏料中的黃色顏料的含量為90質量%以上為較佳,95質量%以上為更佳,99質量%以上為進一步較佳。
將本發明的著色組成物用作濾色器的綠色像素形成用著色組成物之情況下,顏料使用包含黃色顏料及綠色顏料者為較佳。又,黃色顏料與綠色顏料的質量比為黃色顏料:綠色顏料=30:70~70:30為較佳,30:70~60:40為更佳,30:70~50:50為進一步較佳。又,甲亞胺金屬錯合物的含量相對於綠色顏料的100質量份為3質量份以上為較佳,5質量份以上為更佳,10質量份以上為進一步較佳。
將本發明的著色組成物用作濾色器的紅色像素形成用著色組成物之情況下,顏料使用包含黃色顏料及紅色顏料者為較佳。又,黃色顏料與紅色顏料的質量比為黃色顏料:紅色顏料=30:70~70:30為較佳,30:70~60:40為更佳,30:70~50:50為進一步較佳。又,甲亞胺金屬錯合物的含量相對於紅色顏料的100質量份為3質量份以上為較佳,5質量份以上為更佳,10質量份以上為進一步較佳。
<<染料>>
本發明的著色組成物能夠含有染料。作為染料,並無特別限制,能夠使用公知的染料。作為染料,可舉出彩色染料及黑色染料。作為彩色染料,可舉出吡唑偶氮化合物、苯胺基偶氮化合物、三芳基甲烷化合物、蒽醌化合物、蒽吡啶酮化合物、苯亞甲基化合物、氧雜菁化合物、吡唑并三唑偶氮化合物、吡啶酮偶氮化合物、花青化合物、啡噻𠯤化合物、吡咯并吡唑次甲基偶氮化合物、口山口星化合物、酞菁化合物、苯并哌喃化合物、靛藍化合物、吡咯亞甲基化合物。作為黑色染料,可舉出雙苯并呋喃酮化合物、甲亞胺化合物、苝化合物、偶氮化合物等。
染料的含量相對於顏料的100質量份為100質量份以下為較佳,50質量份以下為更佳,30質量份以下為進一步較佳,10質量份以下為特佳。
又,本發明的著色組成物亦能夠設為實質上不含有染料。本發明的著色組成物實質上不含有染料之情況下,本發明的著色組成物的總固體成分中的染料的含量為0.1質量%以下為較佳,0.05質量%以下為更佳,不含有為特佳。
<<化合物S>>
本發明的著色組成物含有選自由式(1)表示之化合物S-1及在金屬原子上配位有前述化合物S-1之化合物S-2中之至少1種化合物S。
[化學式8]
式中,R1
表示氫原子、烷基或芳基,R2
~R9
分別獨立地表示氫原子或取代基,R2
~R9
中的相鄰之2個基團可以鍵結而形成環;其中,R2
~R9
中的至少1個包含由式(R-1)表示之基團;
-W1
-(X1
)n
……(R-1)
式(R-1)中,W1
表示n+1價的連接基,X1
表示酸基或鹼基,n表示1~5的整數。
式(1)的R1
所表示之烷基的碳數為1~30為較佳,1~15為更佳,1~8為進一步較佳。烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種,直鏈或支鏈為較佳,直鏈為更佳。烷基可以具有取代基。作為取代基,可舉出後述之取代基T。
式(1)的R1
所表示之芳基的碳數為6~30為較佳,6~20為更佳,6~12為進一步較佳。芳基可以具有取代基。作為取代基,可舉出後述之取代基T。
式(1)的R1
為氫原子或烷基為較佳,氫原子為更佳。
R2
~R9
分別獨立地表示氫原子或取代基。作為取代基,可舉出後述之取代基T及由式(R-1)表示之基團。作為除了由式(R-1)表示之基團以外的取代基,鹵素原子、烷基、烯基、炔基、芳基、雜芳基、氰基、羥基、硝基、羧基、烷氧基、芳氧基、矽氧基、雜環氧基、醯氧基、胺甲醯氧基、胺基、醯胺基、胺基羰基胺基、烷氧基羰基胺基、芳氧基羰基胺基、胺磺醯基胺基、烷基磺醯基胺基、芳基磺醯基胺基、巰基、烷硫基、芳硫基、雜芳硫基、胺磺醯基基、磺酸基、烷基亞磺醯基、芳基亞磺醯基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、醯基、芳氧羰基、烷氧羰基、胺甲醯基、芳基偶氮基、雜芳基偶氮基、醯亞胺基、膦基、氧膦基、氧膦基氧基、氧膦基胺基或甲矽烷基為較佳,鹵素原子、烷基、芳基、雜芳基、氰基、羥基、硝基、烷氧基、芳氧基、醯基、芳氧羰基、烷氧羰基或胺甲醯基為更佳,鹵素原子、芳基、氰基、羥基、硝基、烷氧基、芳氧基或醯基為進一步較佳,鹵素原子、芳基、氰基或硝基為特佳。
式(1)中,R2
~R9
中的至少1個包含由式(R-1)表示之基團,R2
~R9
中的1~4個包含由式(R-1)表示之基團為較佳,R2
~R9
中的1~2個包含由式(R-1)表示之基團為更佳,R2
~R9
中的任一個包含由式(R-1)表示之基團為進一步較佳。
又,從能夠使分散之顏料的粒徑更小且能夠提高顏料的分散性之理由考慮,R6
~R9
中的至少1個包含由式(R-1)表示之基團為較佳,R6
~R9
中的1~2個包含由式(R-1)表示之基團為更佳,R6
~R9
中的任一個包含由式(R-1)表示之基團為進一步較佳。
R2
~R9
中的相鄰之2個基團可以鍵結而形成環。所形成之環為芳香族環為較佳。
接著,對由式(R-1)表示之基團進行說明。由式(R-1)表示之基團中,W1
表示n+1價的連接基。
作為W1
所表示之n+1價的連接基,可舉出脂肪族烴基、芳香族烴基、雜環基、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-SO2
-、-NRW
-、-NRW
CO-、-CONRW
-、-NRW
SO2
-、-SO2
NRW
-及由該等組合構成之基團,RW
表示氫原子、烷基或芳基。
脂肪族烴基的碳數為1~20為較佳,2~20為更佳,2~10為進一步較佳,2~5為特佳。脂肪族烴基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種。又,環狀脂肪族烴基可以為單環、多環中的任一種。芳香族烴基的碳數為6~18為較佳,6~14為更佳,6~10為進一步較佳。芳香族烴基為單環或縮合數為2~4的縮合環的芳香族烴基為較佳。作為芳香族烴基,苯環基為較佳。雜環基為單環或縮合數為2~4的縮合環為較佳。構成雜環基的環之雜原子的數為1~3為較佳。構成雜環基的環之雜原子為氮原子、氧原子或硫原子為較佳。構成雜環基的環之碳原子的數為3~30為較佳,3~18為更佳,3~12為更佳。作為雜環基,三𠯤環基為較佳。脂肪族烴基、芳香族烴基及雜環基亦可以具有取代基。作為取代基,可舉出以後述之取代基T例舉之基團。又,RW
所表示之烷基的碳數為1~20為較佳,1~15為更佳,1~8為進一步較佳。烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種,直鏈或支鏈為較佳,直鏈為更佳。RW
所表示之烷基還可以具有取代基。作為取代基,可舉出後述之取代基T。RW
所表示之芳基的碳數為、6~30為較佳,6~20為更佳,6~12為進一步較佳。RW
所表示之芳基還可以具有取代基。作為取代基,可舉出後述之取代基T。
由式(R-1)表示之基團中,X1
表示酸基或鹼基,從容易形成耐熱性更優異之膜之理由考慮,鹼基為較佳。
作為X1
所表示之酸基,可舉出羧基、磺酸基、磷酸基、由-SO2
NHSO2
Rf1
表示之基團或該等的鹽。由-SO2
NHSO2
Rf1
表示之基團中的Rf1
表示含有氟原子之基團。作為Rf1
所表示之含有氟原子之基團,可舉出氟原子、含有氟原子之烷基、含有氟原子之芳基,含有氟原子之烷基為較佳。含有氟原子之烷基的碳數為1~10為較佳,1~5為更佳,1~3為進一步較佳。含有氟原子之芳基的碳數為6~20為較佳,6~12為更佳,6為進一步較佳。
作為構成鹽之原子或原子團,可舉出鹼金屬離子(Li+
、Na+
、K+
等)、鹼土類金屬離子(Ca2+
、Mg2+
等)、銨離子、咪唑鎓離子、吡啶鎓離子、鏻離子等。
X1
所表示之酸基為磺酸基、磷酸基、由-SO2
NHSO2
Rf1
表示之基團或該等的鹽為較佳,磺酸基、由-SO2
NHSO2
Rf1
表示之基團或該等的鹽為更佳。
作為X1
所表示之鹼基,可舉出胺基、銨基的鹽及酞醯亞胺甲基,胺基及銨基的鹽為較佳,胺基為更佳。作為銨基的鹽中的構成鹽之原子或原子團,可舉出氫氧化物離子、鹵素離子、羧酸根離子、磺酸根離子、苯氧離子等。
作為胺基,可舉出由-NRx1
Rx2
表示之基團及環狀胺基。
由-NRx1
Rx2
表示之基團中,Rx1
及Rx2
分別獨立地表示氫原子、烷基及芳基,烷基為較佳。烷基的碳數為1~10為較佳,1~5為更佳,1~3為進一步較佳。烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種,直鏈或支鏈為較佳,直鏈為更佳。烷基可以具有取代基。作為取代基,可舉出後述之取代基T。芳基的碳數為6~30為較佳,6~20為更佳,6~12為進一步較佳。芳基可以具有取代基。作為取代基,可舉出後述之取代基T。
作為環狀胺基,可舉出吡咯啶基、哌啶基、哌𠯤基、嗎啉基等。該等基團還可以具有取代基。作為取代基,可舉出後述之取代基T。作為取代基的具體例,可舉出烷基及芳基等。
由式(R-1)表示之基團中,n為1~3為較佳,1或2為更佳,1為進一步較佳。
由式(R-1)表示之基團為由式(R-11)表示之基團為較佳。
-W11
-W12
-(W13
-X1
)n
……(R-11)
式(R-11)的W11
表示單鍵、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCO2
-、-NRW
-、-SO2
-、-NRW
CO-、-CONRW
-、-NRW
CO2
-、-OCONRW
-、-NRW
SO2
-或-SO2
NRW
-,RW
表示氫原子、烷基或芳基。RW
所表示之烷基的碳數為1~20為較佳,1~15為更佳,1~8為進一步較佳。烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種,直鏈或支鏈為較佳,直鏈為更佳。RW
所表示之烷基還可以具有取代基。作為取代基,可舉出後述之取代基T。RW
所表示之芳基的碳數為、6~30為較佳,6~20為更佳,6~12為進一步較佳。RW
所表示之芳基還可以具有取代基。作為取代基,可舉出後述之取代基T。又,RW
可以與X1
連接而形成環。例如,X1
為由-NRx1
Rx2
表示之基團的情況下,RW
可以與Rx1
或Rx2
連接而形成環。所形成之環為5員環或6員環為較佳。
式(R-11)的W12
表示單鍵或n+1價的連接基。其中,n為1時,W12
為單鍵或2價的連接基,n為2以上時,W12
為n+1價的連接基。作為W12
所表示之連接基,可舉出脂肪族烴基、芳香族烴基、雜環基、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-SO2
-、-NRW
-、-N<、-NRW
CO-、-CONRW
-、-NRW
SO2
-、-SO2
NRW
-及組合該等而成之基團等。RW
的含義與上述Rw
的含義相同。W12
為包含選自脂肪族烴基、芳香族烴基及雜環基中之至少1種之基團為較佳。脂肪族烴基、芳香族烴基及雜環基可舉出上述者。作為W12
所表示之連接基的具體例,可舉出脂肪族烴基;芳香族烴基;雜環基;組合選自脂肪族烴基、芳香族烴基及雜環基中之至少1種與選自-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-SO2
-、-NRW
-、-N<、-NRW
CO-、-CONRW
-、-NRW
SO2
-及-SO2
NRW
- 中之至少1種而成之基團等。作為W12
的較佳的一態樣,可舉出包含選自芳香族烴基及雜環基中之至少1種之基團。作為包含選自芳香族烴基及雜環基中之至少1種之基團,可舉出由以下的式(W12-1)~式(W12-6)表示之基團。
[化學式9]
式(W12-1)~(W12-6)中,*為與式(R-1)的W11
的鍵結部,波線為與式(R-1)的W13
的鍵結部。
式(W12-1)的A1
表示O或NRW12
。RW12
的含義與上述Rw
的含義相同。n1
表示1~4的整數。
式(W12-2)的A2
、n2
的含義與A1
、n1
的含義相同。B2
表示單鍵、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-SO2
-、-NRW
-、-NRW
CO-、-CONRW
-、-NRW
SO2
-或-SO2
NRW
-。RW12
的含義與上述Rw
的含義相同。
式(W12-3)的T3
表示後述之取代基T。A3
的含義與A1
的含義相同。
式(W12-4)的T4
、A4
、B4
的含義與T3
、A1
、B2
的含義相同。
式(W12-5)的A5
的含義與A1
的含義相同。
式(W12-6)的A6
、B6
的含義與A1
、B2
的含義相同。
上述T3
及T4
為羥基、胺基、烷氧基、芳氧基、硫基烷基、硫基芳基或鹵素原子為較佳,羥基或胺基為更佳。胺基為烷胺基或芳胺基為較佳,芳胺基為更佳。
式(R-11)的W13
表示伸烷基。伸烷基的碳數為2~10為較佳,2~8為更佳,2~5為進一步較佳。
式(R-11)的X1
表示酸基或鹼基。式(R-11)的X1
的含義與式(R-1)的X1
的含義相同。
式(R-11)的n表示1~5的整數,1~3為較佳,1或2為更佳,1為進一步較佳。
上述表中,Me表示甲基,Et表示乙基。又,尤其表示a、b之部位表示鍵結部,a為與W11
的鍵結部,b為與W13
的鍵結部。另外,R-127的基團為具有W11
與X1
鍵結而形成環之結構的基團,且為具有以下所示之結構的基團。*表示鍵結鍵。
[化學式10]
(取代基T)
作為取代基T,可舉出以下基團。鹵素原子(例如為氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)、烷基(較佳為碳數1~30的烷基)、烯基(較佳為碳數2~30的烯基)、炔基(較佳為碳數2~30的炔基)、芳基(較佳為碳數6~30的芳基)、雜芳基(較佳為碳數1~30的雜芳基)、胺基(較佳為碳數0~30的胺基)、烷氧基(較佳為碳數1~30的烷氧基)、芳氧基(較佳為碳數6~30的芳氧基)、雜芳氧基(較佳為碳數1~30的雜芳氧基)、醯基(較佳為碳數2~30的醯基)、烷氧羰基(較佳為碳數2~30的烷氧羰基)、芳氧羰基(較佳為碳數7~30的芳氧羰基)、雜芳氧羰基(較佳為碳數2~30的雜芳氧羰基)、醯氧基(較佳為碳數2~30的醯氧基)、醯胺基(較佳為碳數2~30的醯胺基)、胺基羰基胺基(較佳為碳數2~30的胺基羰基胺基)、烷氧基羰基胺基(較佳為碳數2~30的烷氧基羰基胺基)、芳氧基羰基胺基(較佳為碳數7~30的芳氧基羰基胺基)、胺磺醯基(較佳為碳數0~30的胺磺醯基)、胺磺醯基胺基(較佳為碳數0~30的胺磺醯基胺基)、胺甲醯基(較佳為碳數1~30的胺甲醯基)、烷硫基(較佳為碳數1~30的烷硫基)、芳硫基(較佳為碳數6~30的芳硫基)、雜芳硫基(較佳為碳數1~30的雜芳硫基)、烷基磺醯基(較佳為碳數1~30的烷基磺醯基)、烷基磺醯基胺基(較佳為碳數1~30的烷基磺醯基胺基)、芳基磺醯基(較佳為碳數6~30的芳基磺醯基)、芳基磺醯基胺基(較佳為碳數6~30的芳基磺醯基胺基)、雜芳基磺醯基(較佳為碳數1~30的雜芳基磺醯基)、雜芳基磺醯基胺基(較佳為碳數1~30的雜芳基磺醯基胺基)、烷基亞磺醯基(較佳為碳數1~30的烷基亞磺醯基)、芳基亞磺醯基(較佳為碳數6~30的芳基亞磺醯基)、雜芳基亞磺醯基(較佳為碳數1~30的雜芳基亞磺醯基)、脲基(較佳為碳數1~30的脲基)、羥基、硝基、羧基、磺酸基、磷酸基、羧酸醯胺基、磺酸醯胺基、醯亞胺基、膦基、巰基、氰基、烷基亞磺酸基、芳基亞磺酸基、芳基偶氮基、雜芳基偶氮基、氧膦基、氧膦基氧基、氧膦基胺基、甲矽烷基、肼基、亞胺基。該等基團係還能夠取代之基團之情況下,還可以具有取代基。作為取代基,可舉出上述之取代基T中所說明之基團。
式(11)中,R21
表示氫原子、烷基或芳基,R22
~R31
分別獨立地表示氫原子或取代基;其中,R22
~R31
中的至少1個為由式(R-1)表示之基團。
式(11)的R21
的含義與式(1)的R1
的含義相同,較佳的範圍亦相同。
作為式(11)的R22
~R31
所表示之取代基,可舉出取代基T及由式(R-1)表示之基團。作為除了由式(R-1)表示之基團以外的取代基,鹵素原子、烷基、烯基、炔基、芳基、雜芳基、氰基、羥基、硝基、羧基、烷氧基、芳氧基、矽氧基、雜環氧基、醯氧基、胺甲醯氧基、胺基、醯胺基、胺基羰基胺基、烷氧基羰基胺基、芳氧基羰基胺基、胺磺醯基胺基、烷基磺醯基胺基、芳基磺醯基胺基、巰基、烷硫基、芳硫基、雜芳硫基、胺磺醯基基、磺酸基、烷基亞磺醯基、芳基亞磺醯基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、醯基、芳氧羰基、烷氧羰基、胺甲醯基、芳基偶氮基、雜芳基偶氮基、醯亞胺基、膦基、氧膦基、氧膦基氧基、氧膦基胺基或甲矽烷基為較佳,鹵素原子、烷基、芳基、雜芳基、氰基、羥基、硝基、烷氧基、芳氧基、醯基、芳氧羰基、烷氧羰基或胺甲醯基為更佳,鹵素原子、芳基、氰基、羥基、硝基、烷氧基、芳氧基或醯基為進一步較佳,鹵素原子、芳基、氰基或硝基為特佳。
式(11)中,R22
~R31
中的1~4個為由式(R-1)表示之基團為較佳,1個或2個為由式(R-1)表示之基團為更佳,1個為由式(R-1)表示之基團為進一步較佳。又,R29
或R30
為由式(R-1)表示之基團為較佳。
化合物S中,化合物S-2為具有在金屬原子上配位有前述化合物S-1之結構的化合物。作為金屬原子,可舉出銅、鋅、鐵、鈦、鋁、錫、鎂及鉻,銅及鋅為較佳。化合物S-2中,可以在該等金屬原子上配位1個化合物S-1,亦可以配位2個以上。又,進而可以在金屬原子上配位除了化合物S-1以外的配位體。作為配位體,可舉出雜環化合物(例如吡啶、嘧啶、咪唑、吡唑、三唑、四唑、喹啉、1,10-啡啉等)、質子性化合物(例如水、甲醇、乙醇等)、胺化合物(例如三乙胺、N,N,N’,N’-四甲基乙二胺、乙二胺四乙酸N,N,N’,N’’,N’’-五甲基二乙三胺等)、醯胺化合物(例如為N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮等)、二甲基亞碸、環丁碸、腈化合物(例如乙腈等)等。
化合物S-2為由式(1a)表示之化合物為較佳,由式(11a)表示之化合物為更佳。另外,以下所示之式中,氮原子在金屬原子(M1
或M2
)上配位,但是藉由金屬原子的狀態,氮原子亦有時不與金屬原子(M1
或M2
)配位。
[化學式12]
式(1a)中,R1
表示氫原子、烷基或芳基,R2
~R9
分別獨立地表示氫原子或取代基,R2
~R9
中的相鄰之2個基團可以鍵結而形成環,M1
表示配位體可以配位之金屬原子;其中,R2
~R9
中的至少1個包含由式(R-1)表示之基團。
式(11a)中,R21
表示氫原子、烷基或芳基,R22
~R31
分別獨立地表示氫原子或取代基,M2
表示配位體可以配位之金屬原子;其中,R22
~R31
中的至少1個為由式(R-1)表示之基團。
式(1a)的R1
~R9
的含義與式(1)的R1
~R9
的含義相同,較佳的範圍亦相同。
式(11a)的R21
~R31
的含義與式(11)的R21
~R31
的含義相同,較佳的範圍亦相同。
作為式(1a)的M1
及式(11a)的M2
所表示之配位體可以配位之金屬原子,可舉出銅、鋅、鐵、鈦、鋁、錫、鎂及鉻,銅及鋅為較佳。作為可以在該等金屬原子上配位之配位體,可舉出以除了化合物S-1以外的配位體例舉之配位體等。又,由式(1)表示之化合物進而可以配位。
作為化合物S的具體例,可舉出後述之實施例中所記載之化合物(S-1)~(S-38)。
作為化合物S的合成方法,可舉出以下所示之方法。
(i)使預先導入酸基或鹼基之原料(羥基取代芳基醛或羥基取代苯胺)與金屬源進行反應而合成之方法。
(ii)向使羥基取代芳基醛或羥基取代苯胺與金屬源進行反應而合成之甲亞胺化合物中導入酸基或鹼基而合成之方法。
在(i)的合成方法的情況下,反應中亦能夠使羥基取代芳基醛或羥基取代苯胺與金屬源同時混合而進行反應,亦能夠首先使羥基取代苯胺與羥基取代芳基醛進行反應之後與金屬源進行反應。本反應中,例如可以添加酸性化合物(例如乙酸、硫酸等)、鹼性化合物(例如三乙胺、吡啶等)。溶劑能夠選擇公知的溶劑,可舉出醇系溶劑(例如甲醇、乙醇、異丙醇、丙二醇單甲醚等)、醯胺系溶劑(例如N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、N-甲基吡咯啶酮、N-乙基吡咯啶酮、3-甲氧基-N,N-二甲基丙醯胺等)、其他極性溶劑(二甲基亞碸、二甲基咪唑啶酮、環丁碸等)、水、酯系溶劑(例如丙二醇單甲醚乙酸酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等)、酸系溶劑(例如乙酸等)、醚系溶劑(例如四氫呋喃、三級丁基甲醚等)、酮系溶劑(例如環己酮、環戊酮、丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等)、烴系溶劑(例如己烷、庚烷等)、芳香族系溶劑(例如甲苯等)、鹼性溶劑(例如吡啶等),醇系溶劑、醯胺系溶劑、二甲基亞碸、二甲基咪唑啶酮為較佳。儘管不能唯一確定溫度、時間,但是在10~100℃的範圍內使其反應1~24小時為較佳。
作為金屬源,能夠無特別限制地使用在合成C.I.顏料黃129型化合物時所使用之金屬源,例如可舉出乙酸鹽、鹵化物鹽、磺酸鹽等。又,亦可以混合8-羥基喹啉等配位體而進行反應。
(i)的合成方法中的具有酸基或鹼之羥基取代芳基醛、羥基取代苯胺例如能夠參閱日本特表2013-510156號公報或Chemistry - A European Journal, 2009, vol. 15, sha-pu 33, p. 8283 - 8295等進行合成。
在(ii)的合成方法中,能夠藉由預先將OH、NH2
、CO2
H或SO3
H導入到甲亞胺化合物中並且使其官能基與具有酸基或胺基之化合物進行反應來合成。
著色組成物的總固體成分中的化合物S的含量為0.1~30質量%為較佳。下限為0.5質量%以上為較佳,1質量%以上為更佳。上限為20質量%以下為較佳,15質量%以下為更佳。
又,化合物S的含量相對於顏料100質量份為1~50質量份為較佳。下限為3質量份以上為較佳,50質量份以上為更佳。上限為40質量份以下為較佳,30質量份以下為更佳。
<<樹脂>>
本發明的著色組成物含有樹脂。樹脂例如以將顏料等分散於著色組成物中之用途或黏合劑的用途進行摻合。另外,將主要為了將顏料等分散於著色組成物中而使用之樹脂稱為分散劑。但是,樹脂的該等用途為一例,亦能夠以該等用途以外的目的使用樹脂。
樹脂的重量平均分子量(Mw)係2000~2000000為較佳。上限為1000000以下為較佳,500000以下為更佳。下限為3000以上為較佳,5000以上為更佳。
作為樹脂,可舉出(甲基)丙烯酸樹脂、環氧樹脂、烯-硫醇樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醚樹脂、聚芳酯樹脂、聚碸樹脂、聚醚碸樹脂、聚苯樹脂、聚伸芳基醚氧化膦樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚醯胺醯亞胺樹脂、聚亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、環狀烯烴樹脂、聚酯樹脂、苯乙烯樹脂等。可以從該等樹脂中單獨使用1種,亦可以將2種以上混合使用。
本發明的著色組成物含有鹼可溶性樹脂亦較佳。由於本發明的著色組成物含有鹼可溶性樹脂,能夠藉由鹼性顯影形成所期望的圖案。作為鹼可溶性樹脂,可舉出具有酸基之樹脂等。作為酸基的種類,可舉出羧基、磷酸基、磺酸基、酚性羥基等。又,作為具有酸基之樹脂,亦可以使用使酸酐與在環氧開環上生成之羥基反應而導入酸基之樹脂。作為該等樹脂,可舉出日本專利6349629號公報中所記載之樹脂。具有酸基之樹脂亦能夠用作分散劑。又,作為鹼可溶性樹脂,亦能夠使用日本特開2017-173787號公報中所記載之鹼可溶性樹脂。
鹼可溶性樹脂的酸值為30~500mgKOH/g為較佳。下限為50mgKOH/g以上為較佳,70mgKOH/g以上為更佳。上限為400mgKOH/g以下為較佳,200mgKOH/g以下為更佳,150mgKOH/g以下為進一步較佳,120mgKOH/g以下為最佳。
本發明的著色組成物含有具有鹼基之樹脂亦較佳。具有鹼基之樹脂為含有在側鏈上具有鹼基之重複單元之樹脂為較佳,具有在側鏈上具有鹼基之重複單元及不含有鹼基之重複單元之共聚物為更佳,具有在側鏈上具有鹼基之重複單元及不含有鹼基之重複單元之嵌段共聚物為進一步較佳。具有鹼基之樹脂亦能夠用作分散劑。具有鹼基之樹脂的胺值為5~300mgKOH/g為較佳。下限為10mgKOH/g以上為較佳,20mgKOH/g以上為更佳。上限為200mgKOH/g以下為較佳,100mgKOH/g以下為更佳。作為具有鹼基之樹脂中所含有之鹼基,可舉出由下述式(a-1)表示之基團、由下述式(a-2)表示之基團等。
[化學式13]
式(a-1)中,Ra1
及Ra2
分別獨立地表示氫原子、烷基或芳基,Ra1
與Ra2
可以鍵結而形成環。
式(a-2)中,Ra11
表示氫原子、羥基、烷基、烷氧基、芳基、芳氧基、醯基或氧自由基,Ra12
~Ra19
分別獨立地表示氫原子、烷基或芳基。
Ra1
、Ra2
、Ra11
~Ra19
所表示之烷基的碳數為1~30為較佳,1~15為更佳,1~8為進一步較佳,1~5為特佳。烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種,直鏈或支鏈為較佳,直鏈為更佳。烷基可以具有取代基。
Ra1
、Ra2
、Ra11
~Ra19
所表示之芳基的碳數為6~30為較佳,6~20為更佳,6~12為進一步較佳。芳基可以具有取代基。
Ra11
所表示之烷氧基的碳數為1~30為較佳,1~15為更佳,1~8為進一步較佳,1~5為特佳。烷氧基可以具有取代基。
Ra11
所表示之芳氧基的碳數為6~30為較佳,6~20為更佳,6~12為進一步較佳。芳氧基可以具有取代基。
Ra11
所表示之醯基的碳數為2~30為較佳,2~20為更佳,2~12為進一步較佳。醯基可以具有取代基。
作為具有鹼基之樹脂的市售品,可舉出DISPERBYK-161、162、163、164、166、167、168、174、182、183、184、185、2000、2001、2050、2150、2163、2164、BYK-LPN6919(以上為BYK Japan KK製造)、SOLSPERSE11200、13240、13650、13940、24000、26000、28000、32000、32500、32550、32600、33000、34750、35100、35200、37500、38500、39000、53095、56000、7100(以上為Lubrizol Japan Limited.製造)、Efka PX 4300、4330、4046、4060、4080(以上為BASF公司製造)等。又,具有鹼基之樹脂亦能夠使用日本特開2014-219665號公報的0063~0112段中所記載之嵌段共聚物(B)、日本特開2018-156021號公報的0046~0076段中所記載之嵌段共聚物A1,該等內容被編入本說明書中。
本發明的著色組成物分別含有具有酸基之樹脂及具有鹼基之樹脂亦較佳。依據該態樣,能夠更提高著色組成物的保存穩定性。併用具有酸基之樹脂及具有鹼基之樹脂之情況下,具有鹼基之樹脂的含量相對於具有酸基之樹脂的100質量份為20~500質量份為較佳,30~300質量份為更佳,50~200質量份為進一步較佳。
作為樹脂,含有包含來自於由下述式(ED1)表示之化合物及/或由下述式(ED2)表示之化合物(以下,有時將該等化合物亦稱為“醚二聚物”。)之重複單元之樹脂亦較佳。
式(ED1)中,R1
及R2
分別獨立地表示氫原子或可以具有取代基之碳數1~25的烴基。
[化學式15]
式(ED2)中,R表示氫原子或碳數1~30的有機基。作為式(ED2)的具體例,能夠參閱日本特開2010-168539號公報的記載。
關於醚二聚物的具體例,能夠參閱日本特開2013-029760號公報的0317段,該內容被編入本說明書中。
作為樹脂,含有包含具有聚合性基之重複單元之樹脂亦較佳。
作為樹脂,含有包含來自於由式(X)表示之化合物之重複單元之樹脂亦較佳。
[化學式16]
式中,R1
表示氫原子或甲基,R21
及R22
分別獨立地表示伸烷基,n表示0~15的整數。R21
及R22
所表示之伸烷基的碳數為1~10為較佳,1~5為更佳,1~3為進一步較佳,2或3為特佳。n表示0~15的整數,0~5的整數為較佳,0~4的整數為更佳,0~3的整數為進一步較佳。
作為由式(X)表示之化合物,可舉出對枯基苯酚的環氧乙烷或環氧丙烷改質(甲基)丙烯酸酯等。作為市售品,可舉出ARONIX M-110(TOAGOSEI CO.,LTD.製造)等。
作為樹脂,含有具有芳香族羧基之樹脂(以下,亦稱為樹脂Ac)亦較佳。樹脂Ac中,芳香族羧基可以包含在重複單元的主鏈上,亦可以包含在重複單元的側鏈上。芳香族羧基包含於重複單元的主鏈上為較佳。另外,本說明書中,芳香族羧基係指具有在芳香族環鍵結1個以上羧基之結構的基團。芳香族羧基中,與芳香族環鍵結而成之羧基的數量係1~4個為較佳,1~2個為更佳。
樹脂Ac係包含選自由式(Ac-1)表示之重複單元及由式(Ac-2)表示之重複單元中之至少1種重複單元之樹脂為較佳。
[化學式17]
式(Ac-1)中,Ar1
表示包含芳香族羧基之基團,L1
表示-COO-或-CONH-,L2
表示2價的連接基。
式(Ac-2)中,Ar10
表示包含芳香族羧基之基團,L11
表示-COO-或-CONH-,L12
表示3價的連接基,P10
表示聚合物鏈。
Ar1
所表示之包含芳香族羧基之基團可以具有聚合性基。聚合性基為含乙烯性不飽和鍵之基團及環狀醚基為較佳,含乙烯性不飽和鍵之基團為更佳。作為Ar1
所表示之包含芳香族羧基之基團的具體例,可舉出由式(Ar-11)表示之基團、由式(Ar-12)表示之基團、由式(Ar-13)表示之基團等。
[化學式20]
式(Ar-11)中,n1表示1~4的整數,1或2為較佳,2為更佳。
式(Ar-12)中,n2表示1~8的整數,1~4的整數為較佳,1或2為更佳,2為進一步較佳。
式(Ar-13)中,n3及n4分別獨立地表示0~4的整數,0~2的整數為較佳,1或2為更佳,1為進一步較佳。其中,n3及n4的至少一個為1以上的整數。
式(Ar-13)中,Q1
表示單鍵、-O-、-CO-、-COOCH2
CH2
OCO-、-SO2
-、-C(CF3
)2
-、由上述式(Q-1)表示之基團或由上述式(Q-2)表示之基團。
式(Ar-11)~(Ar-13)中,*1表示與L1
的鍵結位置。
式(Ac-1)中,L1
表示-COO-或-CONH-,表示-COO-為較佳。
作為式(Ac-1)中L2
所表示之2價的連接基,可舉出伸烷基、伸芳基、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NH-、-S-及組合該等2種以上而成之基團。伸烷基的碳數為1~30為較佳,1~20為更佳,1~15為進一步較佳。伸烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種。伸芳基的碳數為6~30為較佳,6~20為更佳,6~10為進一步較佳。伸烷基及伸芳基可以具有取代基。作為取代基,可舉出羥基等。L2
所表示之2價的連接基為由-L2a
-O-表示之基團為較佳。L2a
可舉出伸烷基;伸芳基;伸烷基與伸芳基組合而成之基團;選自伸烷基及伸芳基中之至少1種與選自-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NH-及-S-中之至少1種組合而成之基團,伸烷基為較佳。伸烷基的碳數為1~30為較佳,1~20為更佳,1~15為進一步較佳。伸烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種。伸烷基及伸芳基可以具有取代基。作為取代基,可舉出羥基等。
作為式(Ac-2)中Ar10
所表示之包含芳香族羧基之基團,與式(Ac-1)的Ar1
的含義相同,較佳之範圍亦相同。
式(Ac-2)中,L11
表示-COO-或-CONH-,表示-COO-為較佳。
作為式(Ac-2)中L12
所表示之3價的連接基,可舉出烴基、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NH-、-S-及組合該等2種以上而成之基團。烴基可舉出脂肪族烴基、芳香族烴基。脂肪族烴基的碳數為1~30為較佳,1~20為更佳,1~15為進一步較佳。脂肪族烴基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種。芳香族烴基的碳數為6~30為較佳,6~20為更佳,6~10為進一步較佳。烴基可以具有取代基。作為取代基,可舉出羥基等。L12
所表示之3價的連接基為由式(L12-1)表示之基團為較佳,由式(L12-2)表示之基團為更佳。
[化學式21]
式(L12-1)中,L12b
表示3價的連接基,X1
表示S,*1表示與式(Ac-2)的L11
的鍵結位置,*2表示與式(Ac-2)的P10
的鍵結位置。作為L12b
所表示之3價的連接基,可舉出烴基;烴基與選自-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NH-及-S-中之至少1種組合而成之基團等,烴基或烴基與-O-組合而成之基團為較佳。
式(L12-2)中,L12c
表示3價的連接基,X1
表示S,*1表示與式(Ac-2)的L11
的鍵結位置,*2表示與式(Ac-2)的P10
的鍵結位置。作為L12c
所表示之3價的連接基,可舉出烴基;烴基與選自-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NH-及-S-中之至少1種組合而成之基團等,烴基為較佳。
式(Ac-2)中,P10
表示聚合物鏈。P10
所表示之聚合物鏈具有選自聚(甲基)丙烯酸重複單元、聚醚重複單元、聚酯重複單元及多元醇重複單元中之至少1種重複單元為較佳。聚合物鏈P10
的重量平均分子量為500~20000為較佳。下限為1000以上為較佳。上限為10000以下為較佳,5000以下為更佳,3000以下為進一步較佳。若P10
的重量平均分子量在上述範圍內,則組成物中的顏料的分散性良好。具有芳香族羧基之樹脂為具有由式(Ac-2)表示之重複單元之樹脂之情況下,該樹脂可較佳地用作分散劑。
樹脂含有作為分散劑的樹脂為較佳。作為分散劑,可舉出酸性分散劑(酸性樹脂)、鹼性分散劑(鹼性樹脂)。在此,酸性分散劑(酸性樹脂)表示酸基的量多於鹼基的量的樹脂。作為酸性分散劑(酸性樹脂),將酸基的量與鹼性基的量的總計量設為100莫耳%時,酸基的量為70莫耳%以上之樹脂為較佳。酸性分散劑(酸性樹脂)所具有之酸基係羧基為較佳。酸性分散劑(酸性樹脂)的酸值為10~105mgKOH/g為較佳。又,鹼性分散劑(鹼性樹脂)表示鹼基的量多於酸基的量的樹脂。作為鹼性分散劑(鹼性樹脂),將酸基的量與鹼性基的量的總量設為100莫耳%時鹼性基的量超過50莫耳%之樹脂為較佳。鹼性分散劑所具有之鹼性基為胺基為較佳。
用作分散劑之樹脂為接枝樹脂亦較佳。關於接枝樹脂的詳細內容,能夠參閱日本特開2012-255128號公報的0025~0094段的記載,且該內容被編入本說明書中。
用作分散劑之樹脂為具有芳香族羧基之樹脂(樹脂Ac)亦較佳。作為具有芳香族羧基之樹脂,可舉出上述者。
用作分散劑之樹脂係在主鏈及側鏈中的至少一處包含氮原子之聚亞胺系分散劑亦較佳。作為聚亞胺系分散劑,係具有主鏈及側鏈且在主鏈及側鏈中的至少一處具有鹼性氮原子之樹脂為較佳,該主鏈包含具有pKa14以下的官能基之部分結構,該側鏈的原子數為40~10000。鹼性氮原子只要係呈鹼性之氮原子,則並沒有特別限制。關於聚亞胺系分散劑,能夠參閱日本特開2009-203462號公報的0022~0097段、日本特開2012-255128號公報的0102~0166段的記載,該等內容被編入本說明書中。
用作分散劑之樹脂為在核部鍵結有複數個聚合物鏈之結構的樹脂亦較佳。作為該種樹脂,例如可舉出樹枝狀聚合物(包含星型聚合物)。又,作為樹枝狀聚合物的具體例,可舉出日本特開2013-043962號公報的0196~0209段中所記載之高分子化合物C-1~C-31等。
用作分散劑之樹脂為含有在側鏈上具有含乙烯性不飽和鍵之基團之重複單元之樹脂亦較佳。在側鏈上具有含乙烯性不飽和鍵之基團之重複單元的含量係樹脂的所有重複單元中10莫耳%以上為較佳,10~80莫耳%為更佳,20~70莫耳%為進一步較佳。又,分散劑亦能夠使用日本特開2018-087939號公報中所記載之樹脂。
分散劑亦能夠作為市售品而獲得,作為該等具體例,可舉出BYK Japan KK製造的DISPERBYK系列、Lubrizol Japan Limited.製造的SOLSPERSE系列、BASF公司製造的Efka系列、Ajinomoto Fine-Techno Co.,Inc.製造的AJISPER系列等。又,亦能夠將日本特開2012-137564號公報的0129段中所記載之產品、日本特開2017-194662號公報的0235段中所記載之產品用作分散劑。
又,用作分散劑之樹脂亦能夠使用日本專利第6432077號公報的0219~0221段中所記載之嵌段共聚物(EB-1)~(EB-9)。
著色組成物的總固體成分中的樹脂的含量為1~60質量%為較佳。下限為5質量%以上為較佳,10質量%以上為更佳,15質量%以上為進一步較佳,20質量%以上為特佳。上限為50質量%以下為較佳,40質量%以下為更佳。
分散劑的含量相對於顏料100質量份為10~100質量份為較佳。下限為15質量份以上為較佳,20質量份以上為更佳。上限為80質量份以下為較佳,60質量份以下為更佳。
本發明的著色組成物可以僅包含1種樹脂,亦可以包含2種以上。包含2種以上樹脂之情況下,該等的合計在上述範圍內為較佳。
<<溶劑>>
本發明的著色組成物含有溶劑。作為溶劑,可舉出有機溶劑。溶劑的種類只要滿足各成分的溶解性或組成物的塗佈性,則基本上並無特別限制。作為有機溶劑,可舉出酯系溶劑、酮系溶劑、醇系溶劑、醯胺系溶劑、醚系溶劑、烴系溶劑等。關於該等的詳細內容,能夠參閱國際公開第2015/166779號的0223段,且該內容被編入本說明書中。又,亦能夠較佳地使用環狀烷基經取代之酯系溶劑、環狀烷基經取代之酮系溶劑。作為有機溶劑的具體例,可舉出聚乙二醇單甲醚、二氯甲烷、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纖劑乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、環己酮、乙酸環己酯、環戊酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲基醚乙酸酯、3-甲氧基-N,N-二甲基丙醯胺、3-丁氧基-N,N-二甲基丙醯胺、丙二醇二乙酸酯、3-甲氧基丁醇等。但是,有時出於環境方面等原因,減少作為有機溶劑之芳香族烴類(苯、甲苯、二甲苯、乙苯等)為較佳(例如,相對於有機溶劑總量,能夠設為50質量ppm(百萬分率(parts per million))以下,亦能夠設為10質量ppm以下,亦能夠設為1質量ppm以下)。
本發明中,使用金屬含量少的有機溶劑為較佳,有機溶劑的金屬含量例如係10質量ppb(十億分率(parts per billion))以下為較佳。依據需要,可以使用質量ppt(parts per trillion:兆分率)級別的有機溶劑,該種有機溶劑例如由Toyo Gosei Co.,Ltd提供(化學工業日報,2015年11月13日)。
作為自有機溶劑中去除金屬等雜質之方法,例如能夠舉出蒸餾(分子蒸餾或薄膜蒸餾等)或使用了過濾器之過濾。作為過濾中所使用之過濾器的過濾器孔徑,10μm以下為較佳,5μm以下為更佳,3μm以下為進一步較佳。過濾器的材質係聚四氟乙烯、聚乙烯或尼龍為較佳。
有機溶劑可以包含異構體(雖然原子數相同,但是結構不同之化合物)。又,異構體可以僅包含1種,亦可以包含複數種。
有機溶劑中的過氧化物的含有率為0.8mmol/L以下為較佳,實質上不含有過氧化物為更佳。
著色組成物中的溶劑的含量係10~95質量%為較佳,20~90質量%為更佳,30~90質量%為進一步較佳。
又,從環境管制的觀點考慮,本發明的著色組成物實質上不含環境管制物質為較佳。另外,本發明中,實質上不含有環境管制物質係指著色組成物中之環境管制物質的含量為50質量ppm以下,30質量ppm以下為較佳,10質量ppm以下為進一步較佳,1質量ppm以下為特佳。環境管制物質例如可舉出苯;甲苯、二甲苯等烷基苯類;氯苯等鹵化苯類等。該等在REACH(Registration Evaluation Authorization and Restriction of CHemicals)管制、PRTR(Pollutant Release and Transfer Register)法、VOC(Volatile Organic Compounds)管制等下註冊為環境管制物質,使用量和處理方法受到嚴格管制。該等化合物有時在製造用於著色組成物之各成分等時用作溶劑,有時會作為殘留溶劑混入著色組成物中。從對人的安全性、對環境的考慮的觀點而言,盡可能地減少該等物質為較佳。作為減少環境管制物質之方法,可舉出將系統內部進行加熱和減壓而設為環境管制物質的沸點以上,並從系統內部中蒸餾去除環境管制物質並將其減少之方法。又,在蒸餾去除少量的環境管制物質之情況下,為了提高效率而與具有與該溶劑相同的沸點之溶劑共沸亦為有用。又,當含有具有自由基聚合性之化合物時,可以在添加聚合抑制劑之後減壓蒸餾去除,以便抑制在減壓蒸餾去除中進行自由基聚合反應導致在分子間進行交聯。該等蒸餾去除方法能夠在原料階段、使原料進行反應之產物(例如聚合後的樹脂溶液和多官能單體溶液)的階段或藉由混合該等化合物而製作之著色組成物的階段等中的任一階段中進行。
<<其他顏料衍生物>>
本發明的著色組成物能夠含有除了上述之化合物S以外的顏料衍生物(以下,亦稱為其他顏料衍生物)。作為其他顏料衍生物,可舉出具有在色素骨架上鍵結有酸基或鹼基之結構之化合物。作為構成顏料衍生物之色素骨架,可舉出喹啉色素骨架、苯并咪唑酮色素骨架、苯并異吲哚色素骨架、苯并噻唑色素骨架、亞胺色素骨架、方酸菁色素骨架、克酮鎓色素骨架、氧雜菁色素骨架、吡咯并吡咯色素骨架、二酮吡咯并吡咯色素骨架、偶氮色素骨架、酞菁色素骨架、萘酞菁色素骨架、蒽醌色素骨架、喹吖酮色素骨架、二㗁𠯤色素骨架、芘酮色素骨架、苝色素骨架、硫靛色素骨架、異吲哚啉色素骨架、異吲哚啉酮色素骨架、喹啉黃色素骨架、亞銨色素骨架、二硫醇色素骨架、三芳基甲烷色素骨架、吡咯亞甲基色素骨架等。作為酸基,可舉出磺酸基、羧基、磷酸基及該等的鹽等。作為構成鹽之原子或原子團,可舉出鹼金屬離子(Li+
、Na+
、K+
等)、鹼土類金屬離子(Ca2+
、Mg2+
等)、銨離子、咪唑鎓離子、吡啶鎓離子、鏻離子等。作為鹼基,可舉出胺基、銨基的鹽及酞醯亞胺甲基。作為構成鹽之原子或原子團,可舉出氫氧根離子、鹵素離子、羧酸根離子、磺酸根離子、苯氧離子等。
作為其他顏料衍生物,亦能夠含有可視透明性優異之顏料衍生物(以下,亦稱為透明顏料衍生物)。透明顏料衍生物在400~700nm的波長區域內的莫耳吸光係數的最大值(εmax)為3000L・mol-1
・cm-1
以下為較佳,1000L・mol-1
・cm-1
以下為更佳,100L・mol-1
・cm-1
以下為進一步較佳。εmax的下限例如為1L・mol-1
・cm-1
以上,亦可以為10L・mol-1
・cm-1
以上。
作為其他顏料衍生物的具體例,可舉出後述之實施例中所記載之化合物、日本特開昭56-118462號公報、日本特開昭63-264674號公報、日本特開平01-217077號公報、日本特開平03-009961號公報、日本特開平03-026767號公報、日本特開平03-153780號公報、日本特開平03-045662號公報、日本特開平04-285669號公報、日本特開平06-145546號公報、日本特開平06-212088號公報、日本特開平06-240158號公報、日本特開平10-030063號公報、日本特開平10-195326號公報、國際公開第2011/024896號的0086~0098段、國際公開第2012/102399號的0063~0094段、國際公開第2017/038252號的0082段、日本特開2015-151530號公報的0171段、日本特開2011-252065號公報的0162~0183段、日本特開2003-081972號公報、日本專利第5299151號公報、日本特開2015-172732號公報、日本特開2014-199308號公報、日本特開2014-085562號公報、日本特開2014-035351號公報、日本特開2008-081565號公報中所記載之化合物。
其他顏料衍生物的含量相對於顏料100質量份為30質量份以下為較佳,20質量份以下為更佳,15質量份以下為進一步較佳,10質量份以下為特佳。
又,其他顏料衍生物的含量相對於化合物S的1質量份為0.01~100質量份為較佳,0.1~10質量份為更佳,0.2~5質量份以下為進一步較佳。
又,其他顏料衍生物與上述之化合物S的合計含量相對於顏料100質量份為1~30質量份為較佳。下限為2質量份以上為較佳,3質量份以上為更佳。上限為20質量份以下為較佳,15質量份以下為更佳。
其他顏料衍生物可以僅使用1種,亦可以併用2種以上。在併用2種以上之情況下,該等的合計在上述範圍內為較佳。
<<紅外線吸收劑>>
本發明的著色組成物還能夠含有紅外線吸收劑。例如,使用本發明的著色組成物來形成紅外線透過濾波器之情況下,能夠使透過藉由在著色組成物中含有紅外線吸收劑來獲得之膜之光的波長位移到更長波長側。紅外線吸收劑為在比波長700nm更長波長側具有極大吸收波長之化合物為較佳。紅外線吸收劑為在超過波長700nm且1800nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物為較佳。又,紅外線吸收劑在波長500nm下的吸光度A1
與在極大吸收波長下的吸光度A2
的比率A1
/A2
為0.08以下為較佳,0.04以下為更佳。
作為紅外線吸收劑,可舉出吡咯并吡咯化合物、花青化合物、方酸菁化合物、酞菁化合物、萘酞菁化合物、夸特銳烯(quaterrylene)化合物、部花青素化合物、克酮鎓化合物、氧雜菁化合物、亞銨化合物、二硫醇化合物、三芳基甲烷化合物、吡咯亞甲基化合物、甲亞胺化合物、蒽醌化合物、雙苯并呋喃酮化合物、二硫代烯金屬錯合物、金屬氧化物、金屬硼化物等。作為吡咯并吡咯化合物,可舉出日本特開2009-263614號公報的0016~0058段中所記載之化合物、日本特開2011-068731號公報的0037~0052段中所記載之化合物、國際公開第2015/166873號的0010~0033段中所記載之化合物等。作為方酸菁化合物,可舉出日本特開2011-208101號公報的0044~0049段中所記載之化合物、日本專利第6065169號公報的0060~0061段中所記載之化合物、國際公開第2016/181987號的0040段中所記載之化合物、日本特開2015-176046號公報中所記載之化合物、國際公開第2016/190162號的0072段中所記載之化合物、日本特開2016-074649號公報的0196~0228段中所記載之化合物、日本特開2017-067963號公報的0124段中所記載之化合物、國際公開第2017/135359號中所記載之化合物、日本特開2017-114956號公報中所記載之化合物、日本專利6197940號公報中所記載之化合物、國際公開第2016/120166號中所記載之化合物等。作為花青化合物,可舉出日本特開2009-108267號公報的0044~0045段中所記載之化合物、日本特開2002-194040號公報的0026~0030段中所記載之化合物、日本特開2015-172004號公報中所記載之化合物、日本特開2015-172102號公報中所記載之化合物、日本特開2008-088426號公報中所記載之化合物、國際公開第2016/190162號的0090段中所記載之化合物、日本特開2017-031394號公報中所記載之化合物等。作為克酮鎓化合物,可舉出日本特開2017-082029號公報中所記載之化合物。作為亞銨化合物,例如,可舉出日本特表2008-528706號公報中所記載之化合物、日本特開2012-012399號公報中所記載之化合物、日本特開2007-092060號公報中所記載之化合物、國際公開第2018/043564號的0048~0063段中所記載之化合物。作為酞菁化合物,可舉出日本特開2012-077153號公報的0093段中所記載之化合物、日本特開2006-343631號公報中所記載之酞菁氧鈦、日本特開2013-195480號公報的0013~0029段中所記載之化合物、日本專利第6081771號公報中所記載之釩酞菁化合物。作為萘酞菁化合物,可舉出日本特開2012-077153號公報的0093段中所記載之化合物。作為二硫代烯金屬錯合物,可舉出日本專利第5733804號公報中所記載之化合物。作為金屬氧化物,例如可舉出氧化銦錫、氧化銻錫、氧化鋅、Al摻雜氧化鋅、氟摻雜二氧化錫、鈮摻雜二氧化鈦、氧化鎢等。關於氧化鎢的詳細內容,能夠參閱日本特開2016-006476號公報的0080段,該內容被編入本說明書中。作為金屬硼化物,可舉出硼化鑭等。作為硼化鑭的市售品,可舉出LaB6
-F(JAPAN NEW METALS CO.,LTD製造)等。又,作為金屬硼化物,亦能夠使用國際公開第2017/119394號中所記載之化合物。作為氧化銦錫的市售品,可舉出F-ITO(DOWA HOLDINGS CO.,LTD製造)等。
又,作為紅外線吸收劑,亦能夠使用日本特開2017-197437號公報中所記載之方酸菁化合物、日本特開2017-025311號公報中所記載之方酸菁化合物、國際公開第2016/154782號中所記載之方酸菁化合物、日本專利第5884953號公報中所記載之方酸菁化合物、日本專利第6036689號公報中所記載之方酸菁化合物、日本專利第5810604號公報中所記載之方酸菁化合物、國際公開第2017/213047號的0090~0107段中所記載之方酸菁化合物、日本特開2018-054760號公報的0019~0075段中所記載之含吡咯環之化合物、日本特開2018-040955號公報的0078~0082段中所記載之含吡咯環之化合物、日本特開2018-002773號公報的0043~0069段中所記載之含吡咯環之化合物、日本特開2018-041047號公報的0024~0086段中所記載之在醯胺α位具有芳香環之方酸菁化合物、日本特開2017-179131號公報中所記載之醯胺連接型方酸菁化合物、日本特開2017-141215號公報中所記載之具有吡咯雙型方酸菁骨架或克酮鎓骨架之化合物、日本特開2017-082029號公報中所記載之二羥基咔唑雙型方酸菁化合物、日本特開2017-068120號公報的0027~0114段中所記載之非對稱型化合物、日本特開2017-067963號公報中所記載之含吡咯環之化合物(咔唑型)、日本專利第6251530號公報中所記載之酞菁化合物等。
在本發明的著色組成物含有紅外線吸收劑之情況下,著色組成物的總固體成分中的紅外線吸收劑的含量為1~40質量%為較佳。下限為2質量%以上為較佳,5質量%以上為更佳,10質量%以上為進一步較佳。上限為30質量%以下為較佳,25質量%以下為更佳。本發明的著色組成物可以僅包含1種紅外線吸收劑,亦可以包含2種以上。在包含2種以上紅外線吸收劑之情況下,該等合計量在上述範圍內為較佳。
<<聚合性化合物>>
本發明的著色組成物能夠含有聚合性化合物。作為聚合性化合物,能夠使用藉由自由基、酸、熱而能夠交聯之公知的化合物。本發明中,聚合性化合物例如為具有含乙烯性不飽和鍵之基團之化合物為較佳。作為含乙烯性不飽和鍵之基團,可舉出乙烯基、(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯醯基等。本發明中所使用之聚合性化合物為自由基聚合性化合物為較佳。
作為聚合性化合物,可以為單體、預聚物、低聚物等化學形態的任一種,但單體為較佳。聚合性化合物的分子量為100~3000為較佳。上限為2000以下為更佳,1500以下為進一步較佳。下限為150以上為更佳,250以上為進一步較佳。
聚合性化合物為含有3個以上的含乙烯性不飽和鍵之基團之化合物為較佳,含有3~15個含乙烯性不飽和鍵之基團之化合物為更佳,含有3~6個含乙烯性不飽和鍵之基團之化合物為進一步較佳。又,聚合性化合物為3~15官能的(甲基)丙烯酸酯化合物為較佳,3~6官能的(甲基)丙烯酸酯化合物為更佳。作為聚合性化合物的具體例,可舉出日本特開2009-288705號公報的0095~0108段、日本特開2013-029760號公報的0227段、日本特開2008-292970號公報的0254~0257段、日本特開2013-253224號公報的0034~0038段、日本特開2012-208494號公報的0477段、日本特開2017-048367號公報、日本專利第6057891號公報、日本專利第6031807號公報中所記載之化合物,且該等內容被編入本說明書中。
作為聚合性化合物,二新戊四醇三丙烯酸酯(作為市售品為KAYARAD D-330;Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造)、二新戊四醇四丙烯酸酯(作為市售品為KAYARAD D-320;Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造)、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯(作為市售品為KAYARAD D-310;Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造)、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(作為市售品為KAYARAD DPHA;Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造、NK ESTER A-DPH-12E;Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.製造)及經由乙二醇和/或丙二醇殘基而鍵結有該等(甲基)丙烯醯基之結構的化合物(例如,由SARTOMER Company,Inc.製造市售之SR454、SR499)為較佳。又,作為聚合性化合物,亦能夠使用二甘油EO(環氧乙烷)改質(甲基)丙烯酸酯(作為市售品,M-460;TOAGOSEI CO.,LTD.製造)、新戊四醇四丙烯酸酯(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.製造、NK ESTER A-TMMT)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造、KAYARAD HDDA)、RP-1040(Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造)、ARONIX TO-2349(TOAGOSEI CO.,LTD.製造)、NK OLIGO UA-7200(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.製造)、DPHA-40H(Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600、LINC-202UA(KYOEISHA CHEMICAL CO.,LTD.製造)、8UH-1006、8UH-1012(以上,TAISEI FINE CHEMICAL CO,.LTD.製造)、LIGHT ACRYLATEPOB-A0(KYOEISHA CHEMICAL CO.,LTD.製造)等。
又,作為聚合性化合物亦能夠使用三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷環氧丙烷改質三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷環氧乙烷改質三(甲基)丙烯酸酯、異氰脲酸環氧乙烷改質三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯等3官能的(甲基)丙烯酸酯化合物。作為3官能的(甲基)丙烯酸酯化合物的市售品,可舉出ARONIX M-309、M-310、M-321、M-350、M-360、M-313、M-315、M-306、M-305、M-303、M-452、M-450(TOAGOSEI CO.,LTD.製造)、NK ESTER A9300、A-GLY-9E、A-GLY-20E、A-TMM-3、A-TMM-3L、A-TMM-3LM-N、A-TMPT、TMPT(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.製造)、KAYARAD GPO-303、TMPTA、THE-330、TPA-330、PET-30(Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造)等。
又,聚合性化合物中亦能夠使用具有酸基之化合物。藉由使用具有酸基之聚合性化合物,顯影時容易去除未曝光部的聚合性化合物,能夠抑制顯影殘渣的產生。作為酸基,可舉出羧基、磺酸基、磷酸基等,羧基為較佳。作為具有酸基之聚合性化合物,可舉出丁二酸改質二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯等。作為具有酸基之聚合性化合物的市售品可舉出ARONIX M-510、M-520、ARONIX TO-2349(TOAGOSEI CO.,LTD.製造)等。作為具有酸基之聚合性化合物的較佳之酸值為0.1~40mgKOH/g,5~30mgKOH/g為更佳。若聚合性化合物的酸值為0.1mgKOH/g以上,則在顯影液中之溶解性良好,若為40mgKOH/g以下,則在製造或處理上有利。
又,作為聚合性化合物亦能夠使用具有己內酯結構之化合物。作為具有己內酯結構之聚合性化合物的市售品,可舉出KAYARAD DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60、DPCA-120(以上,Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造)等。
又,作為聚合性化合物亦能夠使用具有伸烷氧基之聚合性化合物。具有伸烷氧基之聚合性化合物為具有乙烯氧基及/或伸丙氧基之聚合性化合物為較佳,具有乙烯氧基之聚合性化合物為更佳,具有4~20個乙烯氧基之3~6官能(甲基)丙烯酸酯化合物為進一步較佳。作為具有伸烷氧基之聚合性化合物的市售品,例如可舉出Sartomer Company,Inc製造的作為具有4個伸乙氧基之4官能(甲基)丙烯酸酯之SR-494、作為具有3個異伸丁氧基之3官能(甲基)丙烯酸酯之KAYARAD TPA-330等。
又,作為聚合性化合物亦能夠使用具有茀骨架之聚合性化合物。作為具有茀骨架之聚合性化合物的市售品,可舉出OGSOL EA-0200、EA-0300(Osaka Gas Chemicals Co.,Ltd.製造、具有茀骨架之(甲基)丙烯酸酯單體)等。
作為聚合性化合物,亦能夠使用實質上不包含甲苯等環境管制物質之化合物亦較佳。作為該種化合物的市售品,可舉出KAYARAD DPHA LT、KAYARAD DPEA-12 LT(Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造)等。
著色組成物的總固體成分中的聚合性化合物的含量為0.1~50質量%為較佳。下限為0.5質量%以上為更佳,1質量%以上為進一步較佳。上限為45質量%以下為更佳,40質量%以下為進一步較佳。聚合性化合物可以為單獨1種,亦可以併用2種以上。併用2種以上之情況下,該等的合計在上述範圍內為較佳。
<<聚合起始劑>>
本發明的著色組成物能夠含有聚合起始劑。作為聚合起始劑,可舉出光聚合起始劑及熱聚合起始劑等,光聚合起始劑為較佳。又,聚合起始劑為自由基聚合起始劑為較佳。
作為熱聚合起始劑,例如可舉出2,2’-偶氮雙異丁腈(AIBN)、3-羧基丙腈、偶氮雙丙二腈、二甲基-(2,2’)-偶氮雙(2-丙酸甲酯)等偶氮化合物、三級丁基過氧化苯甲酸、過酸化苯甲醯、過酸化月桂醯及過硫酸鉀等有機過氧化物。
作為光聚合起始劑,可舉出鹵化烴衍生物(例如具有三𠯤骨架之化合物、具有㗁二唑骨架之化合物等)、醯基膦化合物、六芳基聯咪唑、肟化合物、有機過氧化物、硫化合物、酮化合物、芳香族鎓鹽、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物等。從曝光靈敏度的觀點考慮,光聚合起始劑係三鹵甲基三𠯤(trihalo methyl triazine)化合物、苄基二甲基縮酮化合物、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦化合物、氧化膦化合物、茂金屬化合物、肟化合物、三芳基咪唑二聚物、鎓化合物、苯并噻唑化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物、環戊二烯-苯-鐵錯合物、鹵甲基㗁二唑化合物及3-芳基取代香豆素化合物為較佳,選自肟化合物、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物及醯基膦化合物中之化合物為更佳,肟化合物為進一步較佳。又,作為光聚合起始劑,可舉出日本特開2014-130173號公報的0065~0111段、日本專利第6301489號公報中所記載之化合物、MATERIAL STAGE 37~60p,vol.19,No.3,2019中所記載之過氧化物系光聚合起始劑、國際公開第2018/221177號中所記載之光聚合起始劑、國際公開第2018/110179號中所記載之光聚合起始劑、日本特開2019-043864號公報中所記載之光聚合起始劑、日本特開2019-044030號公報中所記載之光聚合起始劑,該等內容被編入本說明書中。
作為α-羥基酮化合物的市售品,可舉出Omnirad 184、Omnirad 1173、Omnirad 2959、Omnirad 127(以上為IGM Resins B.V.公司製造)、Irgacure 184、Irgacure 1173、Irgacure 2959、Irgacure 127(以上為BASF公司製造)等。作為α-胺基酮化合物的市售品,Omnirad 907、Omnirad 369、Omnirad 369E、Omnirad 379EG(以上為IGM Resins B.V.公司製造)、Irgacure 907、Irgacure 369、Irgacure 369E、Irgacure 379EG(以上為BASF公司製造)等。作為醯基膦化合物的市售品,可舉出Omnirad 819、Omnirad TPO(以上為IGM Resins B.V.公司製造)、Irgacure 819、Irgacure TPO(以上為BASF公司製造)等。
作為肟化合物,可舉出日本特開2001-233842號公報中所記載之化合物、日本特開2000-080068號公報中所記載之化合物、日本特開2006-342166號公報中所記載之化合物、J.C.S.Perkin II(1979年、pp.1653-1660)中所記載之化合物、J.C.S.Perkin II(1979年、pp.156-162)中所記載之化合物、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995年、pp.202-232)中所記載之化合物、日本特開2000-066385號公報中所記載之化合物、日本特表2004-534797號公報中所記載之化合物、日本特開2017-019766號公報中所記載之化合物、日本專利第6065596號公報中所記載之化合物、國際公開第2015/152153號中所記載之化合物、國際公開第2017/051680號中所記載之化合物、日本特開2017-198865號公報中所記載之化合物、國際公開第2017/164127號的0025~0038段中所記載之化合物、國際公開第2013/167515號中所記載之化合物等。作為肟化合物的具體例,可舉出3-苯甲醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-乙醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-丙醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、2-乙醯氧基亞胺基戊烷-3-酮、2-乙醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、2-苯甲醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、3-(4-甲苯磺醯氧基)亞胺基丁烷-2-酮及2-乙氧基羰氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮等。作為市售品,可舉出Irgacure-OXE01、Irgacure-OXE02、Irgacure-OXE03、Irgacure-OXE04(以上為BASF公司製造)、TR-PBG-304(Changzhou Tronly New Electronic Materials CO.,LTD.製造)、Adeka Optomer N-1919(ADEKA CORPORATION製造,日本特開2012-014052號公報中所記載之光聚合起始劑2)。又,作為肟化合物,使用無著色性之化合物或透明性高且不易變色之化合物亦較佳。作為市售品,可舉出ADEKA ARKLS NCI-730、NCI-831、NCI-930(以上為ADEKA CORPORATION製造)等。
作為光聚合起始劑,亦能夠使用具有茀環之肟化合物。作為具有茀環之肟化合物的具體例,可舉出日本特開2014-137466號公報中所記載之化合物。
作為光聚合起始劑,亦能夠使用具有咔唑環中的至少一個苯環成為萘環之骨架之肟化合物。作為該種肟化合物的具體例,可舉出國際公開第2013/083505號中所記載之化合物。
作為光聚合起始劑,亦能夠使用具有氟原子之肟化合物。作為具有氟原子之肟化合物的具體例,可舉出日本特開2010-262028號公報中所記載之化合物、日本特表2014-500852號公報中所記載之化合物24、36~40、日本特開2013-164471號公報中所記載之化合物(C-3)等。
作為光聚合起始劑,能夠使用具有硝基之肟化合物。將具有硝基之肟化合物設為二聚體亦較佳。作為具有硝基之肟化合物的具體例,可舉出日本特開2013-114249號公報的0031~0047段、日本特開2014-137466號公報的0008~0012、0070~0079段中所記載之化合物、日本專利4223071號公報的0007~0025段中所記載之化合物、ADEKA ARKLS NCI-831(ADEKA CORPORATION製造)。
作為光聚合起始劑,亦能夠使用具有苯并呋喃骨架之肟化合物。作為具體例,可舉出國際公開第2015/036910號中所記載之OE-01~OE-75。
作為光聚合起始劑,亦能夠使用在咔唑骨架鍵結有具有羥基之取代基之肟化合物。作為該等光聚合起始劑,可舉出國際公開第2019/088055號中所記載之化合物等。
作為光聚合起始劑,亦能夠使用具有在芳香族環導入拉電子基團而成之芳香族環基ArOX1
之肟化合物(以下,亦稱為肟化合物OX)。作為上述芳香族環基ArOX1
所具有之拉電子基團,可舉出醯基、硝基、三氟甲基、烷基亞磺醯基、芳基亞磺醯基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、氰基,醯基及硝基為較佳,從容易形成耐光性優異之膜之理由考慮,醯基為更佳,苯甲醯基為進一步較佳。苯甲醯基可以具有取代基。作為取代基,鹵素原子、氰基、硝基、羥基、烷基、烷氧基、芳基、芳氧基、雜環基、雜環氧基、烯基、烷基硫烷基、芳基硫烷基、醯基或胺基為較佳,烷基、烷氧基、芳基、芳氧基、雜環氧基、烷基硫烷基、芳基硫烷基或胺基為更佳,烷氧基、烷基硫烷基或胺基為進一步較佳。
肟化合物OX為選自由式(OX1)表示之化合物及由式(OX2)表示之化合物中之至少1種為較佳,由式(OX2)表示之化合物為更佳。
[化學式22]
式中,RX1
表示烷基、烯基、烷氧基、芳基、芳氧基、雜環基、雜環氧基、烷基硫烷基、芳基硫烷基、烷基亞磺醯基、芳基亞磺醯基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、醯基、醯氧基、胺基、膦醯基、胺甲醯基或胺磺醯基,
RX2
表示烷基、烯基、烷氧基、芳基、芳氧基、雜環基、雜環氧基、烷基硫烷基、芳基硫烷基、烷基亞磺醯基、芳基亞磺醯基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、醯氧基或胺基,
RX3
~RX14
分別獨立地表示氫原子或取代基;
其中,RX10
~RX14
中的至少一個為拉電子基團。
上述式中,RX1
為烷基、烷氧基、芳基、芳氧基或雜環基為較佳,烷基、芳基或雜環基為更佳,烷基為進一步較佳。又,RX2
為烷基、烯基、烷氧基、芳基、芳氧基、雜環基、雜環氧基或醯氧基為較佳,烷基、烯基、芳基或雜環基為更佳,烷基為進一步較佳。
上述式中,RX3
~RX14
分別獨立地表示氫原子或取代基。
RX3
~RX5
分別獨立地為氫原子、鹵素原子、氰基、硝基、烷基、烯基、烷氧基、芳基、芳氧基、雜環基、雜環氧基、烷基硫烷基、芳基硫烷基、醯基或胺基為較佳,氫原子、鹵素原子、硝基、烷基、芳基或雜環基為更佳,氫原子、硝基、烷基或芳基為進一步較佳,氫原子為特佳。
RX6
~RX10
分別獨立地為氫原子、鹵素原子、氰基、烷基、烯基、烷氧基、芳基、芳氧基、雜環基、雜環氧基、烷基硫烷基、芳基硫烷基、烷基亞磺醯基、芳基亞磺醯基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、胺基、由式(OR-11)表示之基團或由式(OR-12)表示之基團為較佳,氫原子、鹵素原子、氰基、烷基、芳基、雜環基或胺基為更佳,氫原子、氰基、烷基或芳基為進一步較佳,氫原子、烷基或芳基為更進一步較佳,氫原子或烷基為更進一步較佳,氫原子為特佳。
[化學式23]
式中,ROX11
表示烷基、烯基、烷氧基、芳基、芳氧基、雜環基、雜環氧基、烷基硫烷基、芳基硫烷基、烷基亞磺醯基、芳基亞磺醯基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、醯基、醯氧基、胺基、膦醯基、胺甲醯基或胺磺醯基,
ROX12
表示烷基、烯基、烷氧基、芳基、芳氧基、雜環基、雜環氧基、烷基硫烷基、芳基硫烷基,烷基亞磺醯基、芳基亞磺醯基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、醯氧基或胺基,
波線表示鍵結鍵。
RX10
~RX14
所表示之取代基為硝基、鹵素原子、氰基、烷基、烷氧基、芳基、芳氧基、雜環基、雜環氧基、烯基、烷基硫烷基、芳基硫烷基、醯基或胺基為較佳。其中,RX10
~RX14
中的至少一個為拉電子基團。
作為RX10
~RX14
所表示之拉電子基團,可舉出醯基、硝基、三氟甲基、烷基亞磺醯基、芳基亞磺醯基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、氰基,醯基及硝基為較佳,從容易形成耐光性優異之膜之理由考慮,醯基為更佳,苯甲醯基為進一步較佳。苯甲醯基可以具有取代基。作為取代基,鹵素原子、氰基、硝基、羥基、烷基、烷氧基、芳基、芳氧基、雜環基、雜環氧基、烯基、烷基硫烷基、芳基硫烷基、醯基或胺基為較佳,烷基、烷氧基、芳基、芳氧基、雜環氧基、烷基硫烷基、芳基硫烷基或胺基為更佳,烷氧基、烷基硫烷基或胺基為進一步較佳。
上述式中,RX12
為拉電子基團,RX10
、RX11
、RX13
、RX14
為氫原子為較佳。
作為肟化合物OX的具體例,可舉出日本專利第4600600號公報的0083~0105段中所記載之化合物。
以下示出在本發明中較佳地使用之肟化合物的具體例,但本發明並不限定於該等。
肟化合物係在波長350~500nm的範圍內具有極大吸收波長之化合物為較佳,在波長360~480nm的範圍內具有極大吸收波長之化合物為更佳。又,從靈敏度的觀點考慮,肟化合物在波長365nm或波長405nm下的莫耳吸光係數高為較佳,1000~300000為更佳,2000~300000為進一步較佳,5000~200000為特佳。化合物的莫耳吸光係數能夠使用公知的方法進行測量。例如,藉由分光光度計(Varian公司製造的Cary-5分光光度計(spectrophotometer)),使用乙酸乙酯溶劑以0.01g/L的濃度測量為較佳。
作為光聚合起始劑,組合使用Irgacure OXE01(BASF公司製造)及/或Irgacure OXE02(BASF公司製造)和Omnirad 2959(IGM Resins B.V.公司製造)亦較佳。
作為光聚合起始劑,可以使用2官能或3官能以上的光自由基聚合起始劑。藉由使用該等光自由基聚合起始劑,由光自由基聚合起始劑的一分子產生2個以上的自由基,因此可獲得良好的靈敏度。又,在使用非對稱結構的化合物之情況下,結晶性下降而在溶劑等中的溶解性得到提高,隨時間而變得難以析出,從而能夠提高著色組成物的經時穩定性。作為2官能或3官能以上的光自由基聚合起始劑的具體例,可舉出日本特表2010-527339號公報、日本特表2011-524436號公報、國際公開第2015/004565號、日本特表2016-532675號公報的0407~0412段、國際公開第2017/033680號的0039~0055段中所記載之肟化合物的二聚體、日本特表2013-522445號公報中所記載之化合物(E)及化合物(G)、國際公開第2016/034963號中所記載之Cmpd1~7、日本特表2017-523465號公報的0007段中所記載之肟酯類光起始劑、日本特開2017-167399號公報的0020~0033段中所記載之光起始劑、日本特開2017-151342號公報的0017~0026段中所記載之光聚合起始劑(A)、日本專利第6469669號公報中所記載之肟酯光起始劑等。
著色組成物的總固體成分中的聚合起始劑的含量為0.1~30質量%為較佳。下限為0.5質量%以上為較佳,1質量%以上為更佳。上限為20質量%以下為較佳,15質量%以下為更佳。本發明的著色組成物中,聚合起始劑可以僅使用1種,亦可以使用2種以上。在使用2種以上之情況下,該等的合計在上述範圍內為較佳。
<<具有環狀醚基之化合物>>
本發明的著色組成物能夠含有具有環狀醚基之化合物。作為環狀醚基,可舉出環氧基、氧雜環丁基等。具有環狀醚基之化合物為具有環氧基之化合物(以下,亦稱為環氧化合物)為較佳。作為環氧化合物,亦能夠使用日本特開2013-011869號公報的0034~0036段、日本特開2014-043556號公報的0147~0156段、日本特開2014-089408號公報的0085~0092段中所記載之化合物、日本特開2017-179172號公報中所記載之化合物。該等內容被編入本說明書中。
環氧化合物可以為低分子化合物(例如,分子量小於2000,進而分子量小於1000),亦可以為高分子化合物(macromolecule)(例如,分子量1000以上,聚合物的情況下,重量平均分子量為1000以上)中的任一個。環氧化合物的重量平均分子量為200~100000為較佳,500~50000為更佳。重量平均分子量的上限為10000以下為較佳,5000以下為更佳,3000以下為進一步較佳。
作為環氧化合物,能夠較佳地使用環氧樹脂。作為環氧樹脂,例如可舉出作為酚化合物的縮水甘油醚化物之環氧樹脂、作為各種酚醛清漆樹脂的縮水甘油醚化物之環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、脂肪族系環氧樹脂、雜環式環氧樹脂、縮水甘油酯系環氧樹脂、縮水甘油胺系環氧樹脂、將鹵代酚類縮水甘油基化而得之環氧樹脂、具有環氧基之矽化合物與除其以外的矽化合物的縮合物、具有環氧基之聚合性不飽和化合物與除其以外的其他聚合性不飽和化合物的共聚物等。環氧樹脂的環氧當量為310~3300g/eq為較佳,310~1700g/eq為更佳,310~1000g/eq為進一步較佳。
作為具有環狀醚基之化合物的市售品,例如可舉出EHPE3150(Daicel Corporation製造)、EPICLON N-695(DIC CORPORATION製造)、Marproof G-0150M、G-0105SA、G-0130SP、G-0250SP、G-1005S、G-1005SA、G-1010S、G-2050M、G-01100、G-01758(以上為NOF CORPORATION製造,含有環氧基之聚合物)等。
著色組成物的總固體成分中的具有環狀醚基之化合物的含量為0.1~20質量%為較佳。下限例如為0.5質量%以上為較佳,1質量%以上為更佳。上限例如係15質量%以下為較佳,10質量%以下為進一步較佳。具有環狀醚基之化合物可以僅為1種,亦可以為2種以上。2種以上之情況下,該等的合計在上述範圍內為較佳。
<<硬化促進劑>>
本發明的著色組成物可以含有硬化促進劑。作為硬化促進劑,可舉出硫醇化合物、羥甲基化合物、胺化合物、鏻鹽化合物、脒氯化合物、醯胺化合物、鹼產生劑、異氰酸酯化合物、烷氧基矽烷化合物、鎓鹽化合物等。作為硬化促進劑的具體例,可舉出國際公開第2018/056189號的0094~0097段中所記載之化合物、日本特開2015-034963號公報的0246~0253段中所記載之化合物、日本特開2013-041165號公報的0186~0251段中所記載之化合物、日本特開2014-055114號公報中所記載之離子性化合物、日本特開2012-150180號公報的0071~0080段中所記載之化合物、日本特開2011-253054號公報中所記載之具有環氧基之烷氧基矽烷化合物、日本專利第5765059號公報的0085~0092段中所記載之化合物、日本特開2017-036379號公報中所記載之含羧基之環氧硬化劑等。著色組成物的總固體成分中的硬化促進劑的含量為0.3~8.9質量%為較佳,0.8~6.4質量%為更佳。
<<紫外線吸收劑>>
本發明的著色組成物能夠含有紫外線吸收劑。紫外線吸收劑能夠使用共軛二烯化合物、胺基二烯化合物、水楊酸酯化合物、二苯甲酮化合物、苯并三唑化合物、丙烯腈化合物、羥苯基三𠯤化合物、吲哚化合物、三𠯤化合物等。作為該等化合物,可舉出日本特開2009-217221號公報的0038~0052段、日本特開2012-208374號公報的0052~0072段、日本特開2013-068814號公報的0317~0334段、日本特開2016-162946號公報的0061~0080段中所記載之化合物,該等內容被編入本說明書中。作為紫外線吸收劑的市售品,可舉出UV-503(DAITO CHEMICAL CO.,LTD.製造、共軛二烯化合物)、TINUVIN 400、TINUVIN 405、TINUVIN 460、TINUVIN 477、TINUVIN 479(以上為BASF公司製造、三𠯤化合物)、TINUVIN PS、TINUVIN 99-2、TINUVIN 109、TINUVIN 326、TINUVIN 328、TINUVIN 384-2、TINUVIN 900、TINUVIN 928、TINUVIN 171、TINUVIN 1130(以上為BASF公司製造、苯并三唑化合物)、ADK STAB LA-31RG(ADEKA Corporation製造、苯并三唑化合物)、Uvinul A、Uvinul 3049、Uvinul 3050(以上為BASF公司製造、二苯甲酮化合物)、Sumisorb130(Sumika Chemtex Company, Limited製造、二苯甲酮化合物)等。又,作為苯并三唑化合物,可舉出MIYOSHI OIL & FAT CO.,LTD.製造的MYUA系列(化學工業日報、2016年2月1日)。又,紫外線吸收劑還能夠使用日本專利第6268967號公報的0049~0059段中所記載之化合物。
在著色組成物的總固體成分中,紫外線吸收劑的含量為0.01~10質量%為較佳,0.01~5質量%為更佳。本發明中,紫外線吸收劑可以僅使用1種,亦可以使用2種以上。當使用2種以上時,總量成為上述範圍為較佳。
<<聚合抑制劑>>
本發明的著色組成物能夠含有聚合抑制劑。作為聚合抑制劑,可舉出對苯二酚、對甲氧基苯酚、二-三級丁基-對甲酚、鄰苯三酚、三級丁基兒茶酚、苯醌、4,4’-硫代雙(3-甲基-6-三級丁基苯酚)、2,2’-亞甲基雙(4-甲基-6-三級丁基苯酚)、N-亞硝基苯基羥胺鹽(銨鹽、初級鈰鹽等)。其中,對甲氧基苯酚為較佳。在著色組成物的總固體成分中,聚合抑制劑的含量為0.0001~5質量%為較佳。聚合抑制劑可以僅為1種,亦可以為2種以上。2種以上的情況下,總量在上述範圍內為較佳。
<<矽烷偶合劑>>
本發明的著色組成物能夠含有矽烷偶合劑。本發明中,矽烷偶合劑係指具有水解性基團和除其以外的官能基之矽烷化合物。又,水解性基團係指與矽原子直接鍵結,並藉由水解反應及縮合反應中的至少一種而可產生矽氧烷鍵之取代基。作為水解性基團,例如可舉出鹵素原子、烷氧基、醯氧基等,烷氧基為較佳。亦即,矽烷偶合劑係具有烷氧基矽基之化合物為較佳。又,作為除了水解性基團以外的官能基,例如,可舉出乙烯基、(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯醯基、巰基、環氧基、氧雜環丁基、胺基、脲基、硫醚基、異氰酸酯基、苯基等,胺基、(甲基)丙烯醯基及環氧基為較佳。作為矽烷偶合劑的具體例,有N-β-胺基乙基-γ-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷(Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.製造、產品名 KBM-602)、N-β-胺基乙基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷(Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.製造、產品名 KBM-603)、N-β-胺基乙基-γ-胺基丙基三乙氧基矽烷(Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.製造、產品名 KBE-602)、γ-胺基丙基三甲氧基矽烷(Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.製造、產品名 KBM-903)、γ-胺基丙基三乙氧基矽烷(Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.製造、產品名 KBE-903)、3-甲基丙烯醯氧丙基甲基二甲氧基矽烷(Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.製造、產品名 KBM-502)、3-甲基丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷(Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.製造、產品名 KBM-503)等。又,關於矽烷偶合劑的具體例,可舉出日本特開2009-288703號公報的0018~0036段中所記載之化合物、日本特開2009-242604號公報的0056~0066段中所記載之化合物,且該等內容被編入本說明書中。著色組成物的總固體成分中的矽烷偶合劑的含量為0.01~15.0質量%為較佳,0.05~10.0質量%為更佳。矽烷偶合劑可以僅為1種,亦可以為2種以上。2種以上的情況下,總量在上述範圍內為較佳。
<<界面活性劑>>
本發明的著色組成物能夠含有界面活性劑。作為界面活性劑,能夠使用氟系界面活性劑、非離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、陰離子系界面活性劑、聚矽氧系界面活性劑等各種界面活性劑。關於界面活性劑,可舉出國際公開第2015/166779號的0238~0245段中所記載之界面活性劑,且該內容被編入本說明書中。
界面活性劑係氟系界面活性劑為較佳。藉由在著色組成物中含有氟系界面活性劑,液特性(尤其係流動性)得到進一步提高,能夠進一步改善省液性。又,亦能夠形成厚度不均勻小之膜。
氟系界面活性劑中的含氟率為3~40質量%為較佳,更佳為5~30質量%,特佳為7~25質量%。含氟率在該範圍內之氟系界面活性劑在塗佈膜的厚度均勻性和省液性的觀點上有效,在著色組成物中的溶解性亦良好。
作為氟系界面活性劑,可舉出日本特開2014-041318號公報的0060~0064(對應之國際公開第2014/017669號的0060~0064段)段等中所記載之界面活性劑、日本特開2011-132503號公報的0117~0132段中所記載之界面活性劑、日本特開2020-008634號公報中所記載之界面活性劑,該等內容被編入本說明書中。作為氟系界面活性劑的市售品,例如可舉出MEGAFACE F171、F172、F173、F176、F177、F141、F142、F143、F144、R30、F437、F475、F479、F482、F554、F780、EXP、MFS-330(以上為DIC Corporation製造)、Fluorad FC430、FC431、FC171(以上為Sumitomo 3M Limited製造)、Surflon S-382、SC-101、SC-103、SC-104、SC-105、SC-1068、SC-381、SC-383、S-393、KH-40(以上為AGC Inc.製造)、PolyFox PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(以上為OMNOVA SOLUTIONS INC. 製造)等。
又,氟系界面活性劑亦能夠較佳地使用丙烯酸系化合物,該丙烯酸系化合物具備具有含有氟原子之官能基之分子結構,且施加熱時含有氟原子之官能基部分被切斷而氟原子揮發。作為該種氟系界面活性劑,可舉出DIC Corporation製造之MEGAFACE DS系列(化學工業日報(2016年2月22日)、日經產業新聞(2016年2月23日)),例如可舉出MEGAFACE DS-21。
又,關於氟系界面活性劑,使用具有氟化烷基或氟化伸烷基醚基之含氟原子的乙烯基醚化合物與親水性乙烯基醚化合物的聚合物亦較佳。該等氟系界面活性劑可舉出日本特開2016-216602號公報中所記載之氟系界面活性劑,該內容被編入本說明書中。
氟系界面活性劑亦能夠使用嵌段聚合物。氟系界面活性劑亦能夠較佳地使用含氟高分子化合物,該含氟高分子化合物包含:來自於具有氟原子之(甲基)丙烯酸酯化合物之重複單元;及來自於具有2個以上(較佳為5個以上)的伸烷氧基(較佳為伸乙氧基、伸丙氧基)之(甲基)丙烯酸酯化合物之重複單元。又,日本特開2010-032698號公報的0016~0037段中所記載之含氟界面活性劑、下述化合物亦例示為本發明中所使用之氟系界面活性劑。
[化學式29]
上述化合物的重量平均分子量較佳為3000~50000,例如為14000。上述化合物中,表示重複單元的比率之%為莫耳%。
又,氟系界面活性劑亦能夠使用在側鏈上具有含乙烯性不飽和鍵之基團之含氟聚合物。作為具體例,可舉出日本特開2010-164965號公報的0050~0090段及0289~0295段中所記載之化合物、DIC Corporation製造的MEGAFACE RS-101、RS-102、RS-718K、RS-72-K等。又,氟系界面活性劑亦能夠使用日本特開2015-117327號公報的0015~0158段中所記載之化合物。
作為非離子系界面活性劑,可舉出丙三醇(glycerol)、三羥甲基丙烷、三羥甲基乙烷及該等的乙氧基化物及丙氧基化物(例如,丙三醇丙氧基化物、丙三醇乙氧基化物等)、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、脫水山梨糖醇脂肪酸酯、Pluronic L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2(BASF公司製造)、Tetronic 304、701、704、901、904、150R1(BASF公司製造)、Solsperse 20000(Japan Lubrizol Corporation製造)、NCW-101、NCW-1001、NCW-1002(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation製造)、PIONIN D-6112、D-6112-W、D-6315(Takemoto Oil & Fat Co.,Ltd.製造)、OLFIN E1010、Surfynol 104、400、440(Nissin Chemical Co.,Ltd.製造)等。
作為聚矽氧系界面活性劑,例如可舉出Toray Silicone DC3PA、Toray Silicone SH7PA、Toray Silicone DC11PA、Toray Silicone SH21PA、Toray Silicone SH28PA、Toray Silicone SH29PA、Toray Silicone SH30PA、Toray Silicone SH8400(以上為Dow Corning Toray Co.,Ltd.製造)、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452(以上為Momentive Performance Materials Inc.製造)、KP-341、KF-6001、KF-6002(以上為Shin-Etsu Chemical Co.,LTD.製造)、BYK307、BYK323、BYK330(以上為BYK-Chemie Corporation製造)等。
在著色組成物的總固體成分中,界面活性劑的含量為0.001質量%~5.0質量%為較佳,0.005~3.0質量%為更佳。界面活性劑可以僅為1種,亦可以為2種以上。2種以上的情況下,總量在上述範圍內為較佳。
<<抗氧化劑>>
本發明的著色組成物能夠含有抗氧化劑。作為抗氧化劑,可舉出酚化合物、亞磷酸酯化合物、硫醚化合物等。作為酚化合物,能夠使用被稱作酚系抗氧化劑之任意的酚化合物。作為較佳的酚化合物,可舉出受阻酚化合物。在與酚性羥基相鄰之部位(鄰位)具有取代基之化合物為較佳。作為前述取代基,碳數1~22的經取代或未經取代的烷基為較佳。又,抗氧化劑係在同一分子內具有酚基和亞磷酸酯基之化合物亦較佳。又,抗氧化劑亦能夠較佳地使用磷系抗氧化劑。又,抗氧化劑亦能夠使用韓國公開專利第10-2019-0059371號公報中所記載之化合物。著色組成物的總固體成分中的抗氧化劑的含量係0.01~20質量%為較佳,0.3~15質量%為更佳。抗氧化劑可以僅使用1種,亦可以使用2種以上。當使用2種以上時,總量成為上述範圍為較佳。
<<其他成分>>
依據需要,本發明的著色組成物還可以含有增感劑、硬化促進劑、填充劑、熱硬化促進劑、可塑劑及其他助劑類(例如,導電性粒子、填充劑、消泡劑、阻燃劑、調平劑、剝離促進劑、香料、表面張力調節劑、鏈轉移劑等)。能夠藉由適當地含有該等成分來調節膜物理性質等性質。關於該等成分,例如,能夠參閱日本特開2012-003225號公報的0183段以後(所對應之美國專利申請公開第2013/0034812號說明書的0237段)的記載、日本特開2008-250074號公報的0101~0104、0107~0109段等的記載,且該等內容被編入本說明書中。又,依據需要,本發明的著色組成物還可以含有潛在抗氧化劑。作為潛在抗氧化劑,可舉出作為抗氧化劑發揮作用之部位被保護基保護之化合物,且保護基藉由在100~250℃下進行加熱或在酸/鹼觸媒存在下在80~200℃下進行加熱而脫離並作為抗氧化劑發揮作用之化合物。作為潛在抗氧化劑,可舉出國際公開第2014/021023號、國際公開第2017/030005號、日本特開2017-008219號公報中所記載之化合物。作為潛在抗氧化劑的市售品,可舉出ADEKA ARKLS GPA-5001(ADEKA CORPORATION製造)等。
為了調節所獲得的膜的折射率,本發明的著色組成物可以含有金屬氧化物。作為金屬氧化物,可舉出TiO2
、ZrO2
、Al2
O3
、SiO2
等。金屬氧化物的一次粒徑係1~100nm為較佳,3~70nm為更佳,5~50nm為進一步較佳。金屬氧化物可以具有核殼結構。又,在該情況下,核部可以為中空狀。
本發明的著色組成物可以含有耐光性改良劑。作為耐光性改善劑,可舉出日本特開2017-198787號公報的0036~0037段中所記載之化合物、日本特開2017-146350號公報的0029~0034段中所記載之化合物、日本特開2017-129774號公報的0036~0037、0049~0052段中所記載之化合物、日本特開2017-129674號公報的0031~0034、0058~0059段中所記載之化合物、日本特開2017-122803號公報的0036~0037、0051~0054段中所記載之化合物、國際公開第2017/164127號的0025~0039段中所記載之化合物、日本特開2017-186546號公報的0034~0047段中所記載之化合物、日本特開2015-025116號公報的0019~0041段中所記載之化合物、日本特開2012-145604號公報的0101~0125段中所記載之化合物、日本特開2012-103475號公報的0018~0021段中所記載之化合物、日本特開2011-257591號公報的0015~0018段中所記載之化合物、日本特開2011-191483號公報的0017~0021段中所記載之化合物、日本特開2011-145668號公報的0108~0116段中所記載之化合物、日本特開2011-253174號公報的0103~0153段中所記載之化合物等。
本發明的著色組成物實質上不包含對苯二甲酸酯亦較佳。在此,“實質上不包含”係指在著色組成物的總量中對苯二甲酸酯的含量為1000質量ppb以下,100質量ppb以下為更佳,零為特佳。
有時藉由環保方面等理由降低全氟烷基磺酸及全氟烷基羧酸為較佳。全氟烷基磺酸及全氟烷基羧酸(尤其烷基的碳數為6~8的全氟烷基磺酸及全氟烷基羧酸)的含量在樹脂組成物的固體成分中為0.01~1000質量ppb為較佳,0.05~500質量ppb為更佳,0.1~300質量ppb為進一步較佳。又,代替碳數不同之化合物,設為實質上不含有該等化合物之態樣亦較佳。
本發明的著色組成物的含水率通常為3質量%以下,0.01~1.5質量%為較佳,0.1~1.0質量%的範圍為更佳。含水率能夠藉由Karl Fischer法進行測量。
以調節膜面狀(平坦性等)、調節膜厚等為目的,本發明的著色組成物能夠調節黏度來使用。黏度的值能夠依據需要適當地選擇,但是例如在25℃條件下係0.3mPa・s~50mPa・s為較佳,0.5mPa・s~20mPa・s為更佳。作為黏度的測量方法,例如能夠使用錐板類型黏度計在將溫度調節成25℃之狀態下進行測量。
作為本發明的著色組成物的收容容器,並無特別限制,能夠使用公知的收容容器。又,作為收容容器,以抑制雜質混入原材料或組成物中為目的,使用由6種6層的樹脂構成容器內壁之多層瓶或將6種樹脂設為7層結構之瓶亦較佳。作為該種容器,例如可舉出日本特開2015-123351號公報中所記載的容器。
<著色組成物之製備方法>
本發明的著色組成物能夠藉由混合前述成分而製備。製備著色組成物時,可以將所有成分同時溶解和/或分散於溶劑中而製備著色組成物,亦可以依據需要,將各成分適當地作為2個以上的溶液或分散液,並在使用時(塗佈時)將該等進行混合而製備著色組成物。
又,製備著色組成物時,包含使顏料分散之步驟為較佳。作為在使顏料分散之步驟中用於顏料的分散之機械力,可舉出壓縮、壓榨、衝擊、剪切、氣蝕等。作為該等步驟的具體例,可舉出珠磨、砂磨、輥磨、球磨、塗料攪拌、微射流、高速葉輪、混砂、噴射流混合、高壓濕式微粒化、超聲波分散等。又,在砂磨(珠磨)下的顏料的粉碎中,以如下條件進行處理為較佳,該條件為藉由使用直徑小的微珠,且提高微珠的填充率等而提高粉碎效率。又,在粉碎處理後藉由過濾、離心分離等而去除粗粒子為較佳。又,關於使顏料分散之步驟及分散機,能夠較佳地使用“分散技術大全集、JOHOKIKO CO.,LTD.發行,2005年7月15日”或“以懸浮液(固體/液體分散體系)為中心之分散技術與工業上的實際應用綜合資料集,經營開發中心出版部發行,1978年10月10日”、日本特開2015-157893號公報的0022段中所記載的步驟及分散機。又,在使顏料分散之步驟中,可以藉由鹽磨步驟進行粒子的微細化處理。在鹽磨步驟中所使用之原材料、設備、處理條件等例如能夠參閱日本特開2015-194521號公報、日本特開2012-046629號公報的記載。
製備著色組成物時,為了去除雜質或降低缺陷等,用過濾器過濾著色組成物為較佳。作為過濾器,只要係一直以來用於過濾用途等之過濾器,則能夠無特別限制地進行使用。例如可舉出使用聚四氟乙烯(PTFE)、聚偏二氟乙烯(PVDF)等氟樹脂、尼龍(例如尼龍-6、尼龍-6,6)等聚醯胺樹脂、聚乙烯、聚丙烯(PP)等聚烯烴樹脂(包含高密度、超高分子量的聚烯烴樹脂)等原材料之過濾器。在該等原材料之中,聚丙烯(包含高密度聚丙烯)及尼龍為較佳。
過濾器的孔徑係0.01~7.0μm為較佳,0.01~3.0μm為更佳,0.05~0.5μm為進一步較佳。只要過濾器的孔徑在上述範圍,則能夠更可靠地去除微細的雜質。關於過濾器的孔徑值,能夠參閱過濾器廠商的標稱值。關於過濾器,能夠使用由NIHON PALL Corporation(DFA4201NIEY、DFA4201NAEY、DFA4201J006P等)、Advantec Toyo Kaisha, Ltd.、Nihon Entegris K.K.(Formerly Nippon Mykrolis Corporation)及KITZ MICROFILTER Corporation等提供之各種過濾器。
又,作為過濾器,使用纖維狀的過濾材料亦較佳。作為纖維狀的濾材,例如可舉出聚丙烯纖維、尼龍纖維、玻璃纖維等。作為市售品,可舉出ROKI TECHNO CO.,LTD.製造的SBP類型系列(SBP008等)、TPR類型系列(TPR002、TPR005等)、SHPX類型系列(SHPX003等)。在使用過濾器時,可以組合不同之過濾器(例如,第1過濾器和第2過濾器等)。此時,用各過濾器之過濾可以僅進行1次,亦可以進行2次以上。又,可以在上述範圍內組合不同孔徑的過濾器。又,亦可以用第1過濾器之過濾僅對分散液進行,在混合其他成分之後,用第2過濾器進行過濾。又,能夠依據著色組成物的親疏水性適當選擇過濾器。
<膜>
本發明的膜為由上述本發明的著色組成物獲得之膜。本發明的膜亦能夠用於濾色器或紅外線透過濾波器等濾光器。
本發明的膜的膜厚能夠依據目的而適當地進行調節。例如,膜厚係20μm以下為較佳,10μm以下為更佳,5μm以下為進一步較佳。膜厚的下限為0.1μm以上為較佳,0.2μm以上為更佳,0.3μm以上為進一步較佳。
將本發明的膜用作濾色器之情況下,本發明的膜具有綠色、紅色、藍色、藍色、品紅色或黃色的色相為較佳,具有綠色、紅色或黃色的色相為更佳。又,本發明的膜能夠較佳地用作濾色器的著色像素。作為著色像素,可舉出紅色像素、綠色像素、藍色像素、品紅色像素、青色像素、黃色像素等,紅色像素、綠色像素及黃色像素為較佳,紅色像素或綠色像素為更佳,綠色像素為進一步較佳。
又,本發明的膜中,透光率成為50%之波長存在於470~520nm的波長範圍內為較佳,存在於475~520nm的波長範圍內為更佳,存在於480~520nm的波長範圍內為進一步較佳。其中,透光率成為50%之波長分別存在於470~520nm的波長範圍內及575~625nm的波長範圍內為較佳。在該態樣中,透光率成為50%之短波長側的波長存在於475~520nm的波長範圍內為較佳,存在於480~520nm的波長範圍內為更佳。又,透光率成為50%之長波長側的波長存在於580~620nm的波長範圍內為較佳,存在於585~615nm的波長範圍內為更佳。具有該等分光特性之膜可較佳地用作綠色像素。
將本發明的膜用作紅外線透過濾波器之情況下,本發明的膜具有例如以下(1)~(4)中的任一個分光特性為較佳。
(1):膜的厚度方向上的透光率在波長400~640nm的範圍內的最大值係20%以下(較佳為15%以下,更佳為10%以下)且膜的厚度方向上的透光率在波長800~1300nm的範圍內的最小值係70%以上(較佳為75%以上,更佳為80%以上)。具有該等分光特性之膜能夠遮蔽波長400~640nm的範圍的光而使超過波長700nm之光透過。
(2):膜的厚度方向上的透光率在波長400~750nm的範圍內的最大值係20%以下(較佳為15%以下,更佳為10%以下)且膜的厚度方向上的透光率在波長900~1300nm的範圍內的最小值係70%以上(較佳為75%以上,更佳為80%以上)之膜。具有該等分光特性之膜能夠遮蔽波長400~750nm的範圍的光而使超過波長850nm之光透過。
(3):膜的厚度方向上的透光率在波長400~830nm的範圍內的最大值係20%以下(較佳為15%以下,更佳為10%以下)且膜的厚度方向上的透光率在波長1000~1300nm的範圍內的最小值係70%以上(較佳為75%以上,更佳為80%以上)之膜。具有該等分光特性之膜能夠遮蔽波長400~830nm的範圍的光而使超過波長940nm之光透過。
(4):膜的厚度方向上的透光率在波長400~950nm的範圍內的最大值係20%以下(較佳為15%以下,更佳為10%以下)且膜的厚度方向上的透光率在波長1100~1300nm的範圍內的最小值係70%以上(較佳為75%以上,更佳為80%以上)之膜。具有該等分光特性之膜能夠遮蔽波長400~950nm的範圍的光而使超過波長1040nm之光透過。
<膜的製造方法>
接著,對本發明的膜之製造方法進行說明。本發明的膜能夠經由塗佈本發明的著色組成物之步驟來製造。膜之製造方法中,還包括形成圖案(像素)之步驟為較佳。作為圖案(像素)的形成方法,可舉出光微影法、乾式蝕刻法,光微影法為較佳。
基於光微影法之圖案形成包括如下步驟為較佳:使用本發明的著色組成物在支撐體上形成著色組成物層之步驟;將著色組成物層曝光成圖案狀之步驟;及將著色組成物層的未曝光部進行顯影去除而形成圖案(像素)之步驟。依據需要,還可以設置對著色組成物層進行烘烤之步驟(預烘烤步驟)及對經顯影之圖案(像素)進行烘烤之步驟(後烘烤步驟)。
形成本發明的著色組成物層之步驟中,使用著色組成物在支撐體上形成著色組成物層。作為支撐體,並無特別限制,能夠根據用途而適當選擇。例如,可舉出玻璃基板、矽基板等,矽基板為較佳。又,在矽基板上可以形成有電荷耦合元件(CCD)、互補金屬氧化物半導體(CMOS)、透明導電膜等。又,有時在矽基板上形成有將各像素隔離之黑矩陣(black matrix)。又,為了改善與上部層的黏附性、防止物質的擴散或者基板表面的平坦化,可以在矽基板上設置基底層。基底層亦可以使用從本說明書中所記載之著色組成物去除著色劑之組成物或含有本說明書中所記載之硬化性化合物、界面活性劑等之組成物等來形成。用二碘甲烷測量時基底層的表面接觸角係20~70°為較佳。又,用水測量時30~80°為較佳。若基底層的表面接觸角在上述範圍內,則樹脂組成物的潤濕性良好。基底層的表面接觸角的調節例如能夠藉由界面活性劑的添加等方法來進行。
作為著色組成物的塗佈方法,能夠使用公知的方法。例如,可舉出滴加法(滴鑄);狹縫塗佈法;噴霧法;輥塗法;旋轉塗佈法(旋塗);流延塗佈法;狹縫旋塗法;預濕法(例如,日本特開2009-145395號公報中所記載之方法);噴墨(例如按需方式、壓電方式、熱方式)、噴嘴噴射等噴出系印刷、柔版印刷、網版印刷、凹版印刷、逆轉偏移印刷、金屬遮罩印刷法等各種印刷法;使用模具等之轉印法;奈米壓印法等。作為噴墨中之應用方法並沒有特別限定,例如可舉出“可推廣、使用之噴墨-專利中出現之無限可能性-,2005年2月發行,Sumitbe Techon Research Co.,Ltd.”所示之方法(尤其第115頁~第133頁)或日本特開2003-262716號公報、日本特開2003-185831號公報、日本特開2003-261827號公報、日本特開2012-126830號公報、日本特開2006-169325號公報等中所記載之方法。又,關於著色組成物之塗佈方法,能夠參閱國際公開第2017/030174號、國際公開第2017/018419號的記載,且該等內容被編入本說明書中。
形成於支撐體上之著色組成物層可以進行乾燥(預烘烤)。在藉由低溫製程製造膜之情況下,可以不進行預烘烤。當進行預烘烤時,預烘烤溫度係150℃以下為較佳,120℃以下為更佳,110℃以下為進一步較佳。下限例如能夠設為50℃以上,亦能夠設為80℃以上。預烘烤時間係10~300秒鐘為較佳,40~250秒鐘為更佳,80~220秒鐘為進一步較佳。預烘烤能夠用加熱板、烘箱等來進行。
接著,將著色組成物層曝光成圖案狀(曝光步驟)。例如,使用步進曝光機、掃描曝光機等,隔著具有規定的遮罩圖案之遮罩,對著色組成物層進行曝光,藉此能夠曝光成圖案狀。藉此,能夠使曝光部分硬化。
作為能夠在曝光時使用之放射線(光),可舉出g射線、i射線等。又,亦能夠使用波長300nm以下的光(較佳為波長180~300nm的光)。作為波長300nm以下的光,可舉出KrF射線(波長248nm)、ArF射線(波長193nm)等,KrF射線(波長248nm)為較佳。又,亦能夠利用300nm以上的長波長的光源。
又,在曝光時,可以連續照射光而進行曝光,亦可以脈衝照射而進行曝光(脈衝曝光)。另外,脈衝曝光係指以短時間(例如,毫秒級以下)的循環反覆進行光的照射和暫停而進行曝光之方式的曝光方法。
照射量(曝光量)例如係0.03~2.5J/cm2
為較佳,0.05~1.0J/cm2
為更佳。關於曝光時的氧濃度,能夠適當選擇,除在大氣下進行以外,例如可以在氧濃度為19體積%以下的低氧環境下(例如,15體積%、5體積%或實質上無氧)進行曝光,亦可以在氧濃度超過21體積%之高氧環境下(例如,22體積%、30體積%或50體積%)進行曝光。又,曝光照度能夠適當設定,通常能夠從1000W/m2
~100000W/m2
(例如,5000W/m2
、15000W/m2
或35000W/m2
)的範圍選擇。氧濃度和曝光照度可以適當組合條件,例如能夠設為氧濃度10體積%且照度10000W/m2
、氧濃度35體積%且照度20000W/m2
等。
接著,顯影去除著色組成物層的未曝光部分而形成圖案(像素)。著色組成物層的未曝光部分的顯影去除能夠使用顯影液來進行。藉此,曝光步驟中的未曝光部分的著色組成物層溶出於顯影液中,僅殘留經光硬化之部分。顯影液的溫度例如係20~30℃為較佳。顯影時間係20~180秒鐘為較佳。又,為了提高殘渣去除性,可以反覆進行複數次每隔60秒鐘甩掉顯影液進而供給新的顯影液之步驟。
顯影液可舉出有機溶劑、鹼顯影液等,可較佳地使用鹼顯影液。作為鹼顯影液,用純水稀釋鹼劑而得之鹼性水溶液(鹼顯影液)為較佳。作為鹼劑,例如可舉出氨、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、二甘醇胺(diglycolamine)、二乙醇胺、羥胺、乙二胺、四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨、乙基三甲基氫氧化銨、苄基三甲基氫氧化銨、二甲基雙(2-羥基乙基)氫氧化銨、膽鹼、吡咯、哌啶、1,8-二氮雜雙環-[5.4.0]-7-十一碳烯等有機鹼性化合物或氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉等無機鹼性化合物。在環境方面及安全方面上,鹼劑較佳為分子量大的化合物。鹼性水溶液的鹼劑的濃度係0.001~10質量%為較佳,0.01~1質量%為更佳。又,顯影液可進一步含有界面活性劑。從方便運輸或保管等觀點考慮,顯影液可以暫時製造成濃縮液,使用時稀釋成所需濃度。稀釋倍率並無特別限定,例如能夠設定於1.5~100倍的範圍。又,顯影之後用純水進行清洗(沖洗)亦較佳。又,藉由旋轉已形成有顯影後的著色組成物層之支撐體,並且向顯影後的著色組成物層供給沖洗液來進行沖洗為較佳。又,藉由使吐出沖洗液之噴嘴從支撐體的中心部向支撐體的周緣部移動來進行亦較佳。此時,在從噴嘴的支撐體中心部向周緣部移動時,可以在逐漸降低噴嘴的移動速度的同時使其移動。藉由以該種方式進行沖洗,能夠抑制沖洗的面內偏差。又,藉由使噴嘴從支撐體中心部向周緣部移動的同時逐漸降低支撐體的轉速亦可獲得相同的效果。
顯影之後,實施乾燥之後進行追加曝光處理、加熱處理(後烘烤)為較佳。追加曝光處理、後烘烤為用於製成完全硬化者之顯影後的硬化處理。後烘烤中的加熱溫度例如係100~240℃為較佳,200~240℃為更佳。能夠以成為上述條件之方式,使用加熱板或對流烘箱(熱風循環式乾燥機)、高頻加熱機等加熱機構,以連續式或間歇式對顯影後的膜進行後烘烤。在進行追加曝光處理之情況下,用於曝光之光係波長400nm以下的光為較佳。又,追加曝光處理可以藉由韓國公開專利第10-2017-0122130號公報中所記載之方法進行。
基於乾式蝕刻法之圖案形成包括如下步驟為較佳:使用本發明的著色組成物在支撐體上形成著色組成物層,並使該整個著色組成物層硬化而形成硬化物層之步驟;在該硬化物層上形成光阻劑層之步驟;將光阻劑層曝光成圖案狀之後,進行顯影而形成阻劑圖案之步驟;及將該阻劑圖案作為遮罩並使用蝕刻氣體對硬化物層進行乾式蝕刻之步驟。在形成光阻劑層時,進一步實施預烘烤處理為較佳。尤其,作為光阻劑層的形成步驟,實施曝光後的加熱處理、顯影後的加熱處理(後烘烤處理)之形態為較佳。關於利用乾式蝕刻法之圖案形成,能夠參閱日本特開2013-064993號公報的0010~0067段的記載,且該內容被編入本說明書中。
<濾光器>
本發明的濾光器具有上述之本發明的膜。作為濾光器的種類,可舉出濾色器及紅外線透過濾波器,濾色器為較佳。作為濾色器,具有本發明的膜作為濾色器的著色像素為較佳。
濾光器中,本發明的膜的膜厚依據目的而能夠適當調節。例如,膜厚為5μm以下為較佳,1μm以下為更佳,0.6μm以下為進一步較佳。膜厚的下限為0.1μm以上為較佳,0.2μm以上為更佳,0.3μm以上為進一步較佳。
濾光器中所包含之像素的寬度為0.4~10.0μm為較佳。下限為0.4μm以上為較佳,0.5μm以上為更佳,0.6μm以上為進一步較佳。上限為5.0μm以下為較佳,2.0μm以下為更佳,1.0μm以下為進一步較佳,0.8μm以下為更進一步較佳。又,像素的楊氏模量為0.5~20GPa為較佳,2.5~15GPa為更佳。
濾光器中所包含之各像素具有高平坦性為較佳。具體而言,像素的表面粗糙度Ra為100nm以下為較佳,40nm以下為更佳,15nm以下為進一步較佳。下限並無規定,但例如,0.1nm以上為較佳。關於像素的表面粗糙度,例如能夠使用Veeco公司製造的AFM(原子力顯微鏡)Dimension3100來進行測量。又,像素上的水接觸角能夠適當設定為較佳值,典型地為50~110°的範圍。接觸角例如能夠使用接觸角儀CV-DT・A型(Kyowa Interface Science Co.,LTD.製造)來進行測量。又,像素的體積電阻值高為較佳。具體而言,像素的體積電阻值為109
Ω・cm以上為較佳,1011
Ω・cm以上為更佳。上限並無規定,例如,1014
Ω・cm以下為較佳。像素的體積電阻值能夠使用超高電阻計5410(Advantest Corporation製)來進行測量。
濾光器中,亦可以在本發明的膜的表面設置保護層。藉由設置保護層,能夠賦予阻氧化、低反射化、親疏水化、既定波長的光(紫外線、近紅外線等)的遮蔽等各種作用。作為保護層的厚度,0.01~10μm為較佳,0.1~5μm為更佳。作為保護層的形成方法,可舉出塗佈已溶解於有機溶劑中之樹脂組成物而形成之方法、化學氣相沉積法、用黏合材料貼付所成型之樹脂之方法等。作為構成保護層之成分,可舉出(甲基)丙烯酸樹脂、烯-硫醇樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醚樹脂、聚芳酯樹脂、聚碸樹脂、聚醚碸樹脂、聚苯樹脂、聚伸芳基醚氧化膦樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚醯胺醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、環狀烯烴樹脂、聚酯樹脂、苯乙烯樹脂、多元醇樹脂、聚偏二氯乙烯樹脂、三聚氰胺樹脂、聚胺酯樹脂、芳香族聚醯胺樹脂、聚醯胺樹脂、醇酸樹脂、環氧樹脂、改質聚矽氧樹脂、氟樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚丙烯腈樹脂、纖維素樹脂、Si、C、W、Al2
O3
、Mo、SiO2
、Si2
N4
等,可以含有兩種以上的該等成分。例如,在用於阻氧化之保護層之情況下,保護層含有多元醇樹脂、SiO2
及Si2
N4
為較佳。又,在用於低反射化之保護層之情況下,保護層含有(甲基)丙烯酸樹脂和氟樹脂為較佳。
在塗佈樹脂組成物而形成保護層之情況下,作為樹脂組成物之塗佈方法,能夠使用旋塗法、澆鑄法、網板印刷法、噴墨法等公知的方法。樹脂組成物中所含之有機溶劑能夠使用公知的有機溶劑(例如,丙二醇1-單甲醚2-乙酸酯、環戊酮、乳酸乙酯等)。在藉由化學氣相沉積法形成保護層之情況下,作為化學氣相沉積法,能夠使用公知的化學氣相沉積法(熱化學氣相沉積法、電漿化學氣相沉積法、光化學氣相沉積法)。
依據需要,保護層還可以含有有機・無機微粒、既定波長的光(例如,紫外線、近紅外線等)的吸收劑、折射率調節劑、抗氧化劑、黏附劑、界面活性劑等添加劑。作為有機・無機微粒的例子,例如,可舉出高分子微粒(例如,聚矽氧樹脂微粒、聚苯乙烯微粒、三聚氰胺樹脂微粒)、氧化鈦、氧化鋅、氧化鋯、氧化銦、氧化鋁、氮化鈦、氧氮化鈦、氟化鎂、中空二氧化矽、二氧化矽、碳酸鈣、硫酸鋇等。既定波長的光的吸收劑能夠使用公知的吸收劑。該等添加劑的含量能夠適當地進行調節,但是相對於保護層的總質量為0.1~70質量%為較佳,1~60質量%為進一步較佳。又,作為保護層,亦能夠使用日本特開2017-151176號公報的0073~0092段中所記載之保護層。
濾光器亦可以具有如下結構:在藉由隔壁例如以格子狀隔開之空間嵌入有各像素。
<固體攝像元件>
本發明的固體攝像元件具有上述本發明的膜。作為固體攝像元件的結構,只要係具備本發明的膜,且作為固體攝像元件而發揮作用之結構,則並無特別限定,例如可舉出如下結構。
攝像元件的結構如下:在基板上具有由構成固體攝像元件(CCD(電荷耦合元件)影像感測器、CMOS(互補型金屬氧化膜半導體)影像感測器等)的受光區域之複數個光電二極體及多晶矽等構成之傳輸電極,在光電二極體及傳輸電極上具有僅光電二極體的受光部開口之遮光膜,在遮光膜上具有以覆蓋遮光膜整個表面及光電二極體受光部之方式形成之由氮化矽等構成之設備保護膜,在設備保護膜上具有濾色器。而且,可以為在設備保護膜上且在濾色器的下側(靠近基板的側)具有聚光機構(例如,微透鏡等。以下相同)之結構或在濾色器上具有聚光機構之結構等。又,濾色器亦可以具有如下結構:在藉由隔壁例如以方格狀隔開之空間嵌入有各著色像素。此時的隔壁係相對於各著色像素為低折射率為較佳。作為具有這種結構之攝像裝置的例,可舉出日本特開2012-227478號公報、日本特開2014-179577號公報、國際公開第2018/043654號中所記載之裝置。又,如日本特開2019-211559號公報中所示,在固體攝像元件的結構內設置紫外線吸收層亦可以改善耐光性。具備本發明的固體攝像元件之攝像裝置除了能夠用作數位相機或具有攝像功能之電子設備(移動電話等)之外,亦能夠用作車載攝像機或監視攝像機。
<圖像顯示裝置>
本發明的圖像顯示裝置具有上述之本發明的膜。作為圖像顯示裝置,可舉出液晶顯示裝置或有機電致發光顯示裝置等。關於圖像顯示裝置的定義或各圖像顯示裝置之詳細內容,例如記載於“電子顯示器設備(佐佐木昭夫著,Kogyo Chosakai Publishing Co.,Ltd.,1990年發行)”、“顯示器設備(伊吹順章著,Sangyo Tosho Publishing Co.,Ltd.,1989年發行)”等。又,關於液晶顯示裝置,例如記載於“下一代液晶顯示器技術(內田龍男編輯,Kogyo Chosakai Publishing Co.,Ltd.,1994年發行)”。對能夠應用本發明之液晶顯示裝置並沒有特別限制,例如能夠應用於上述的“下一代液晶顯示器技術”中所記載之各種方式的液晶顯示裝置。
[實施例]
以下,舉出實施例對本發明進行進一步具體的說明。以下實施例所示之材料、使用量、比率、處理內容、處理順序等,只要不脫離本發明的趣旨,則能夠適當變更。因此,本發明的範圍並不限定於以下所示者之具體例。
混合26.5質量份的化合物(a-1)、17.2質量份的化合物(b-1)、6.6質量份的乙酸及910質量份的N-乙基吡咯啶酮,在氮氣氣流下,在外溫70℃下加熱3小時的同時進行了攪拌。添加2.0質量份的乙酸銅一水合物,進而加熱了3小時。接著,添加乙酸乙酯2500質量份,在70℃下加熱1小時的同時進行了攪拌之後,將液溫冷卻至5℃。篩選所獲得之固體,用910質量份的甲醇、910質量份的碳酸氫鈉5%水溶液及910質量份的水進行清洗,在50℃下進行送風乾燥,藉此獲得了40.1質量份的化合物(S-1)。所合成之化合物(S-1)的質量光譜中的(M+H)(posi)的值為481。
(合成例2~34)化合物(S-2)~化合物(S-34)的合成
將化合物(a-1)、化合物(b-1)、金屬源變更為表1中所記載之種類、裝入量,除此以外,實施與合成例1相同的操作,獲得了化合物(S-2)~化合物(S-34)。
(合成例35)化合物(S-35)的合成
將化合物(a-1)、化合物(b-1)、乙酸及甲醇變更為表1中所記載之種類、裝入量,並且添加金屬源時添加了14質量份的哌啶,除此以外,實施與合成例1相同的操作,獲得了化合物(S-35)。
(合成例36)化合物(S-36)的合成
在合成例1中未添加乙酸銅一水合物,除此以外,實施相同的操作,獲得了化合物(S-36)。
[表3]
合成例 | 化合物 | 化合物(a) | 化合物(b) | 金屬源 | |||
種類 | 添加量 (質量份) | 種類 | 添加量 (質量份) | 種類 | 添加量 (質量份) | ||
合成例1 | S-1 | (a-1) | 26.5 | (b-1) | 17.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例2 | S-2 | (a-2) | 33.0 | (b-1) | 17.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例3 | S-3 | (a-3) | 27.3 | (b-1) | 17.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例4 | S-4 | (a-4) | 30.1 | (b-1) | 17.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例5 | S-5 | (a-5) | 30.1 | (b-1) | 17.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例6 | S-6 | (a-6) | 30.1 | (b-1) | 17.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例7 | S-7 | (a-7) | 26.6 | (b-1) | 17.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例8 | S-8 | (a-8) | 21.0 | (b-1) | 17.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例9 | S-9 | (a-9) | 21.2 | (b-1) | 17.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例10 | S-10 | (a-10) | 35.0 | (b-1) | 17.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例11 | S-11 | (a-11) | 28.5 | (b-1) | 17.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例12 | S-12 | (a-12) | 22.2 | (b-1) | 17.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例13 | S-13 | (a-13) | 20.8 | (b-1) | 17.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例14 | S-14 | (a-14) | 69.6 | (b-1) | 17.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例15 | S-15 | (a-15) | 48.5 | (b-1) | 17.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例16 | S-16 | (a-16) | 37.5 | (b-1) | 17.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例17 | S-17 | (a-17) | 31.9 | (b-1) | 17.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例18 | S-18 | (a-18) | 43.6 | (b-1) | 17.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例19 | S-19 | (a-19) | 26.3 | (b-1) | 17.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例20 | S-20 | (a-20) | 39.4 | (b-1) | 17.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例21 | S-21 | (a-21) | 35.1 | (b-1) | 17.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例22 | S-22 | (a-22) | 38.1 | (b-1) | 17.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例23 | S-23 | (a-1) | 30.1 | (b-2) | 12.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例24 | S-24 | (a-1) | 30.1 | (b-3) | 25.2 | (m-1) | 20.0 |
合成例25 | S-25 | (a-23) | 30.1 | (b-4) | 27.0 | (m-1) | 20.0 |
合成例26 | S-26 | (a-23) | 10.9 | (b-5) | 31.6 | (m-1) | 20.0 |
合成例27 | S-27 | (a-24) | 15.9 | (b-4) | 27.0 | (m-1) | 20.0 |
合成例28 | S-28 | (a-24) | 18.9 | (b-5) | 31.6 | (m-1) | 20.0 |
合成例29 | S-29 | (a-25) | 19.9 | (b-5) | 31.6 | (m-1) | 20.0 |
合成例30 | S-30 | (a-1) | 20.9 | (b-5) | 31.6 | (m-1) | 20.0 |
合成例31 | S-31 | (a-1) | 30.1 | (b-1) | 17.2 | (m-2) | 18.3 |
合成例32 | S-32 | (a-1) | 30.1 | (b-1) | 17.2 | (m-3) | 17.4 |
合成例33 | S-33 | (a-24) | 37.5 | (b-5) | 17.2 | (m-2) | 18.3 |
合成例34 | S-34 | (a-1) | 30.1 | (b-1) | 17.2 | (m-4) | 14.2 |
合成例35 | S-35 | (a-1) | 30.1 | (b-1) | 17.2 | (m-5) | 13.0 |
合成例36 | S-36 | (a-1) | 30.1 | (b-1) | 17.2 | - | - |
化合物(a-1)~(a-25)、化合物(b-1)~(b-5)分別為以下所示之結構的化合物。又,金屬源(m-1)為乙酸銅一水合物,金屬源(m-2)為乙酸鋅,金屬源(m-3)為乙酸鐵,(m-4)為四異丙氧基鈦,金屬源(m-5)為氯化錫(IV)。
(合成例37)化合物(S-37)的合成
在室溫下將由14.5質量份的8-羥基喹啉、21.0質量份的哌啶及200質量份的乙醇構成之溶液進行攪拌的同時緩慢滴加到由24.1質量份的氯化鋁六水合物及200質量份的乙醇構成之溶液中,攪拌了1小時。接著,添加47.3質量份的化合物(S-36),進而加入21.0質量份的哌啶及200質量份的乙醇,在室溫下攪拌了48小時。過濾所析出之固體,用乙醇及水進行清洗,在50℃下進行送風乾燥,藉此獲得了59.2質量份的化合物(S-37)。所合成之化合物(S-37)的(M+H)(posi)的值為625。
(合成例38)化合物(S-38)的合成
將合成例37的氯化鋁六水合物變更為21.4質量份的乙酸鎂四水合物,除此以外,實施相同的操作,獲得了55.1質量份的化合物(S-38)。
以下示出化合物(S-1)~化合物(S-38)的結構式及質量分析測量結果((M+H))。另外,以下所示之結構式中,氮原子在金屬原子上配位,但是藉由金屬原子的狀態,氮原子亦有時不與金屬原子配位。
<分散液的製造>
使用珠磨機(直徑為0.1mm的氧化鋯微珠),將混合有下述表中所記載之原料之混合液進行了3小時的混合及分散。接著,使用附減壓機構之高壓分散機NANO-3000-10(Nippon BEE Co.,Ltd.製造)在壓力2000kg/cm2
及流量500g/分鐘的條件下進行了分散處理。重複共計10次該分散處理,從而獲得了分散液。下述表中所記載之表示摻合量之數值為質量份。另外,分散劑的添加量的數值為以固體成分換算計的數值。
[表10]
分散液 | 顏料 | 分散劑 | 特定化合物 | 溶劑 | 相對於顏料之比例 | |||||
種類 | 摻合量 (質量份) | 種類 | 摻合量 (質量份) | 種類 | 摻合量 (質量份) | 種類 | 摻合量 (質量份) | 分散劑 (質量%) | 特定化合物(質量%) | |
D-1 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-1 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-2 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-2 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-3 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-3 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-4 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-4 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-5 | PY117 | 100 | B-2 | 30 | S-5 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-6 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-6 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-7 | PY129 | 100 | B-3 | 30 | S-7 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-8 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-8 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-9 | PY129 | 100 | B-1 b1 | 25 5 | S-9 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-10 | PY129 | 100 | B-4 | 30 | S-10 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-11 | PY129 | 100 | B-3 b2 | 25 5 | S-11 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-12 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-12 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-13 | PY129 | 100 | B-1 b3 | 25 5 | S-13 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-14 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-14 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-15 | PY129 | 100 | B-2 | 30 | S-15 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-16 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-16 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-17 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-17 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-18 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-18 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-19 | PY117 | 100 | B-2 B-5 | 20 10 | S-19 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-20 | PY129 | 100 | B-3 B-6 | 15 15 | S-20 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-21 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-21 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-22 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-22 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-23 | PY129 | 100 | B-7 | 30 | S-23 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-24 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-24 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-25 | PY117 | 100 | B-1 B-3 | 30 | S-25 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-26 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-26 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-27 | PY129 | 100 | B-6 | 30 | S-27 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-28 | PY129 | 100 | B-2 | 30 | S-28 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-29 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-29 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-30 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-30 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-31 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-31 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-32 | PY129 | 100 | B-3 | 30 | S-32 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-33 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-33 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-34 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-34 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-35 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-35 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-36 | PY129 | 100 | B-4 | 30 | S-36 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-37 | PY129 | 100 | B-4 | 30 | S-37 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-38 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-38 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-37 | PG36 | 100 | B-1 | 30 | S-1 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-38 | PG58 | 100 | B-1 | 30 | S-6 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-39 | PG59 | 100 | B-1 | 30 | S-3 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-40 | PG7 | 100 | B-1 | 30 | S-12 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-41 | PG62 | 100 | B-6 | 30 | S-21 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-42 | PG63 | 100 | B-1 | 30 | S-1 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-43 | PY139 | 100 | B-1 | 30 | S-2 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-44 | PY150 | 100 | B-3 | 30 | S-1 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-45 | PY185 | 100 | B-1 | 30 | S-28 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
[表11]
顏料 | 分散劑 | 特定化合物 | 溶劑 | 相對於顏料之比例 | ||||||
種類 | 摻合量 (質量份) | 種類 | 摻合量 (質量份) | 種類 | 摻合量 (質量份) | 種類 | 摻合量 (質量份) | 分散劑(質量%) | 特定化合物(質量%) | |
D-46 | PY138 | 100 | B-1 | 30 | S-1 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-47 | PR254 | 100 | B-1 | 30 | S-1 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-48 | PR264 | 100 | B-1 | 30 | S-1 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-49 | PR272 | 100 | B-1 | 30 | S-5 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-50 | PR122 | 100 | B-1 | 30 | S-4 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-51 | PV23 | 100 | B-1 | 30 | S-1 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-52 | Y-1 | 100 | B-1 | 30 | S-37 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-53 | Y-2 | 100 | B-1 | 30 | S-25 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-54 | Y-3 | 100 | B-1 | 30 | S-1 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-55 | PB15:6 PR254 PY129 | 50 30 20 | B-1 | 30 | S-1 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-56 | PG36 PY129 | 70 30 | B-1 | 30 | S-1 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-57 | PG58 PY139 PY129 | 65 15 20 | B-1 | 30 | S-1 SD-1 | 6 4 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-58 | PR254 PY139 PY129 | 60 20 20 | B-1 | 30 | S-1 SD-2 | 5 5 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
D-59 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-1 S-33 | 5 5 | PGMEA PGME | 700 | 30% | 10% |
D-60 | PG58 PY185 PY129 | 65 15 20 | B-2 | 30 | S-1 | 10 | PGMEA CHN | 700 | 10% | 10% |
D-61 | PY129 | 100 | B-1 | 60 | S-34 | 10 | PGMEA | 850 | 60% | 10% |
D-62 | PY129 | 100 | B-1 | 70 | S-34 | 10 | PGMEA | 900 | 70% | 10% |
D-63 | PY129 | 100 | B-1 | 20 | S-35 | 10 | PGMEA | 650 | 20% | 10% |
D-64 | PY129 | 100 | B-1 | 10 | S-35 | 10 | PGMEA | 600 | 10% | 10% |
D-65 | PY129 | 100 | B-1 | 10 | S-1 | 10 | PGMEA | 600 | 25% | 10% |
D-66 | PY129 | 100 | B-1 | 10 | S-1 | 10 | PGMEA | 600 | 50% | 10% |
D-67 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-1 | 5 | PGMEA | 675 | 30% | 5% |
D-68 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | S-1 | 15 | PGMEA | 725 | 30% | 15% |
D-69 | PB2 | 100 | B-3 | 30 | S-1 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
DH-1 | PY129 | 100 | B-1 | 30 | SH-1 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
DS-1 | PG58 PY139 | 100 | B-1 | 30 | SD-1 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
DS-2 | PR254 | 100 | B-1 | 30 | S-1 | 10 | PGMEA | 700 | 30% | 10% |
上述表的以縮寫記載之原料的詳細內容如下。
(顏料)
PY117:C.I.顏料黃117(甲亞胺銅錯合物、黃色顏料)
PY129:C.I.顏料黃129(甲亞胺銅錯合物、黃色顏料)
PY138:C.I.顏料黃138(喹啉黃化合物、黃色顏料)
PY139:C.I.顏料黃139(異吲哚啉化合物、黃色顏料)
PY150:C.I.顏料黃150(偶氮鎳錯合物、黃色顏料)
PY185:C.I.顏料黃185(異吲哚啉化合物、黃色顏料)
Y-1:下述結構的化合物(喹啉黃化合物、黃色顏料)
Y-2:下述結構的化合物(喹啉黃化合物、黃色顏料)
Y-3:下述結構的化合物(甲亞胺鋅錯合物、黃色顏料)
[化學式31]
PG7:C.I.顏料綠7(銅酞菁錯合物、綠色顏料)
PG36:C.I.顏料綠36(銅酞菁錯合物、綠色顏料)
PG58:C.I.顏料綠58(鋅酞菁錯合物、綠色顏料)
PG59:C.I.顏料綠59(鋅酞菁錯合物、綠色顏料)
PG62:C.I.顏料綠62(鋁酞菁錯合物、綠色顏料)
PG63:C.I.顏料綠63(鋁酞菁錯合物、綠色顏料)
PR254:C.I.顏料紅254(二酮吡咯并吡咯化合物、紅色顏料)
PR264:C.I.顏料紅264(二酮吡咯并吡咯化合物、紅色顏料)
PR272:C.I.顏料紅272(二酮吡咯并吡咯化合物、紅色顏料)
PR122:C.I.顏料紅122(喹吖酮化合物、紅色顏料)
PV23:C.I.顏料紫23(二㗁口山化合物、紫色顏料)
PB15:6:C.I.顏料藍15:6(銅酞菁錯合物、藍色顏料)
PB2:碳黑(黑色顏料)
B-4:藉由以下方法合成之樹脂B-4
將甲基丙烯酸甲酯50質量份、甲基丙烯酸正丁酯30質量份、甲基丙烯酸三級丁酯20質量份、PGMEA(丙二醇單甲醚乙酸酯)45.4質量份裝入反應容器中,將環境氣體置換成氮氣。將反應容器內加熱到70℃,添加3-巰基-1,2-丙二醇6質量份,進而加入AIBN(偶氮雙異丁腈)0.12質量份,反應了12小時。藉由固體成分的測量確認到反應進行了95%。接著,添加均苯四甲酸酐9.7質量份、PGMEA70.3質量份、作為觸媒的DBU(1,8-二吖雙環-[5.4.0]-7-十一烯)0.20質量份,在120℃下反應了7小時。藉由酸值的測量確認到98%以上的酸酐進行半酯化並結束了反應。加入PGMEA將不揮發量(固體成分濃度)調節為30質量%,獲得了酸值43mgKOH/g、重量平均分子量9000的下述結構的樹脂B-4的樹脂溶液。
[化學式35]
B-5:DISPERBYK-2001(具有鹼基之樹脂、胺值29mgKOH/g、BYK Japan KK製造)
(特定化合物)
S-1~S-38:上述之化合物(S-1)~(S-38)
SD-1:下述結構的化合物
[化學式41]
SD-2:下述結構的化合物
[化學式42]
SH-1:下述結構的化合物(藉由日本特開2009-035671號公報的0073段中所記載之合成法合成之化合物)
[化學式43]
(溶劑)
PGMEA:丙二醇單甲醚乙酸酯
PGME:丙二醇
CHN:環戊酮
測量分散液(D-1)、(D-5)、(D-9)及分散液(D-25)、(D-26)、(D-28)中所包含之顏料的粒徑之結果可知,分散液(D-1)、(D-5)、(D-9)中所包含之顏料的平均粒徑為40~60nm,相對於此,分散液(D-25)、(D-26)、(D-28)中所包含之顏料的平均粒徑高達80~90nm。藉此,可知式(1)及(1a)中的R6
~R9
中的至少1個包含由式(R-1)表示之基團之情況下,更能夠使顏料微分散化。
<著色組成物的製造>
混合下述表中所記載之分散液、下述表中所記載之聚合性化合物、下述表中所記載之光聚合起始劑、下述表中所記載之樹脂、1質量份的環氧化合物(EHPE-3150、Daicel Corporation製造)、1質量份的紫外線吸收劑(TINUVIN326、BASF公司製造)、1質量份的以下所示之界面活性劑1及0.1質量份的聚合抑制劑(對甲氧基苯酚),從而製造了著色組成物。
[表12]
實施例 | 分散液 | 聚合性化合物 | 光聚合起始劑 | 樹脂 | ||||
種類 | 摻合量 (質量份) | 種類 | 摻合量 (質量份) | 種類 | 摻合量 (質量份) | 種類 | 摻合量 (質量份) | |
實施例1 | D-1 | 400 | M-1 | 9 | I-1 | 5 | b3 | 6 |
實施例2 | D-2 | 400 | M-1 | 10 | I-2 | 5 | b3 | 5 |
實施例3 | D-3 | 400 | M-3 | 12 | I-11 | 4 | b3 | 4 |
實施例4 | D-4 | 400 | M-2 | 11 | I-1 | 3 | b1 | 6 |
實施例5 | D-5 | 400 | M-4 | 11 | I-6 | 4 | b2 | 5 |
實施例6 | D-6 | 400 | M-1 M-4 | 9 3 | I-2 I-10 | 4 1 | b3 | 3 |
實施例7 | D-7 | 400 | M-5 | 10 | I-2 | 5 | b3 | 5 |
實施例8 | D-8 | 400 | M-2 | 12 | I-2 | 3 | b2 b3 | 1 4 |
實施例9 | D-9 | 400 | M-1 | 12 | I-4 | 5 | b3 | 3 |
實施例10 | D-10 | 400 | M-3 | 8 | I-11 | 3 | b1 | 9 |
實施例11 | D-11 | 400 | M-5 | 9 | I-2 | 4 | b1 | 7 |
實施例12 | D-12 | 400 | M-4 | 12 | I-1 | 5 | b2 | 3 |
實施例13 | D-13 | 400 | M-3 | 12 | I-4 | 5 | b3 | 3 |
實施例14 | D-14 | 400 | M-5 | 11 | I-4 | 3 | b2 | 6 |
實施例15 | D-15 | 400 | M-2 | 11 | I-6 | 4 | b1 | 5 |
實施例16 | D-16 | 400 | M-1 | 11 | I-6 | 3 | b3 | 6 |
實施例17 | D-17 | 400 | M-5 | 9 | I-5 | 5 | b2 | 6 |
實施例18 | D-18 | 400 | M-2 | 12 | I-5 | 3 | b3 | 5 |
實施例19 | D-19 | 400 | M-1 | 10 | I-2 | 3 | b2 | 7 |
實施例20 | D-20 | 400 | M-3 | 8 | I-6 | 4 | b1 | 8 |
實施例21 | D-21 | 400 | M-5 | 12 | I-6 | 3 | b3 | 5 |
實施例22 | D-22 | 400 | M-2 | 8 | I-1 | 5 | b2 | 7 |
實施例23 | D-23 | 400 | M-3 | 12 | I-11 | 5 | b1 | 3 |
實施例24 | D-24 | 400 | M-5 | 9 | I-6 | 3 | b1 | 8 |
實施例25 | D-25 | 400 | M-2 | 8 | I-6 | 4 | b1 b3 | 4 4 |
實施例26 | D-26 | 400 | M-4 | 12 | I-5 | 5 | b2 | 3 |
實施例27 | D-27 | 400 | M-4 | 9 | I-5 | 4 | b3 | 7 |
實施例28 | D-28 | 400 | M-3 | 11 | I-11 | 3 | b3 | 6 |
實施例29 | D-29 | 400 | M-2 | 11 | I-11 | 5 | b1 | 4 |
實施例30 | D-30 | 400 | M-4 | 10 | I-6 | 3 | b2 | 7 |
實施例31 | D-31 | 400 | M-3 | 8 | I-5 | 5 | b2 | 7 |
實施例32 | D-32 | 400 | M-5 | 9 | I-11 | 3 | b2 | 8 |
實施例33 | D-33 | 400 | M-4 | 9 | I-1 I-3 | 4 1 | b1 | 6 |
實施例34 | D-34 | 400 | M-1 | 11 | I-3 | 3 | b2 | 6 |
實施例35 | D-35 | 400 | M-5 | 9 | I-6 | 4 | b2 | 7 |
實施例36 | D-36 | 400 | M-2 | 12 | I-4 | 5 | b3 | 3 |
實施例37 | D-37 | 400 | M-1 M-4 | 9 3 | I-2 I-10 | 4 1 | b3 | 3 |
實施例38 | D-38 | 400 | M-2 | 8 | I-2 | 3 | b1 | 9 |
實施例39 | D-37 | 400 | M-5 | 11 | I-6 | 3 | b1 | 6 |
實施例40 | D-38 | 400 | M-4 | 8 | I-11 | 5 | b2 | 7 |
[表13]
實施例 | 分散液 | 聚合性化合物 | 光聚合起始劑 | 樹脂 | ||||
種類 | 摻合量 (質量份) | 種類 | 摻合量 (質量份) | 種類 | 摻合量 (質量份) | 種類 | 摻合量 (質量份) | |
實施例41 | D-39 | 400 | M-1 | 11 | I-1 | 3 | b3 | 6 |
實施例42 | D-40 | 400 | M-5 | 9 | I-11 | 5 | b3 | 6 |
實施例43 | D-41 | 400 | M-4 | 11 | I-11 | 4 | b1 | 5 |
實施例44 | D-42 | 400 | M-1 | 11 | I-6 | 3 | b1 | 6 |
實施例45 | D-43 | 400 | M-5 | 12 | I-5 | 5 | b2 | 3 |
實施例46 | D-44 | 400 | M-4 | 12 | I-5 | 4 | b2 | 4 |
實施例47 | D-45 | 400 | M-1 | 12 | I-11 | 5 | b1 | 3 |
實施例48 | D-46 | 400 | M-3 | 9 | I-11 | 5 | b1 | 6 |
實施例49 | D-47 | 400 | M-5 | 11 | I-6 | 3 | b2 | 6 |
實施例50 | D-48 | 400 | M-2 | 9 | I-4 | 5 | b3 | 6 |
實施例51 | D-49 | 400 | M-3 | 12 | I-1 | 4 | b3 | 4 |
實施例52 | D-50 | 400 | M-5 | 11 | I-11 | 3 | b2 | 6 |
實施例53 | D-51 | 400 | M-1 | 9 | I-11 | 3 | b2 | 8 |
實施例54 | D-52 | 400 | M-4 | 10 | I-2 | 4 | b2 | 6 |
實施例55 | D-53 | 400 | M-3 | 12 | I-4 | 3 | b3 | 5 |
實施例56 | D-54 | 400 | M-4 | 12 | I-11 | 4 | b3 | 4 |
實施例57 | D-55 | 400 | M-3 | 12 | I-11 | 5 | b2 | 3 |
實施例58 | D-56 | 400 | M-1 | 8 | I-5 | 3 | b3 | 9 |
實施例59 | D-57 | 400 | M-4 | 12 | I-2 | 5 | b3 | 3 |
實施例60 | D-58 | 400 | M-4 | 10 | I-1 | 4 | b2 | 6 |
實施例61 | D-59 | 400 | M-4 | 9 | I-1 | 5 | b3 | 6 |
實施例62 | D-60 | 400 | M-3 | 11 | I-6 | 5 | b3 | 4 |
實施例63 | D-61 | 400 | M-4 | 10 | I-2 | 4 | b3 | 6 |
實施例64 | D-62 | 400 | M-4 | 9 | I-2 | 4 | b3 | 7 |
實施例65 | D-63 | 400 | M-5 | 12 | I-1 | 3 | b3 | 5 |
實施例66 | D-64 | 400 | M-3 | 8 | I-4 | 6 | b3 | 6 |
實施例67 | D-64 | 400 | M-4 | 7 | I-1 | 7 | b2 | 6 |
實施例68 | D-64 | 400 | M-3 | 9 | I-11 | 5 | b1 | 6 |
實施例69 | D-65 | 400 | M-1 | 11 | I-11 | 3 | b1 | 6 |
實施例70 | D-66 | 400 | M-4 | 12 | I-2 | 4 | b2 | 4 |
實施例71 | D-67 | 400 | M-4 | 10 | I-4 | 6 | b3 | 4 |
實施例72 | D-68 | 400 | M-1 | 11 | I-1 | 3 | b3 | 6 |
實施例73 | D-69 | 400 | M-5 | 9 | I-11 | 5 | b2 | 6 |
實施例74 | D-3 | 400 | M-4 | 11 | I-11 | 4 | b1 | 5 |
實施例75 | D-6 | 400 | M-1 | 11 | I-6 | 3 | b1 | 6 |
實施例76 | D-30 | 400 | M-5 | 12 | I-4 | 5 | b2 | 3 |
實施例77 | D-40 | 400 | M-4 | 12 | I-5 | 4 | b2 | 4 |
實施例78 | D-1 | 400 | M-1 | 9 | I-7 | 5 | b3 | 6 |
實施例79 | D-4 | 400 | M-2 | 11 | I-8 | 3 | b1 | 6 |
實施例80 | D-5 | 400 | M-4 | 11 | I-9 | 4 | b2 | 5 |
實施例81 | D-1 DS-1 | 100 300 | M-1 | 8 | I-1 | 6 | b2 | 6 |
實施例82 | D-3 DS-2 | 150 250 | M-1 | 10 | I-11 | 7 | b1 | 3 |
比較例1 | DH-1 | 400 | M-1 | 9 | I-1 | 5 | b3 | 6 |
上述表的以縮寫記載之原料如下。
(分散液)
D-1~D-69、DS-1、DS-2、DH-1:上述之分散液D-1~D-69、DS-1、DS-2、DH-1
(聚合性化合物)
M-1:KAYARAD DPHA(Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造)
M-2:NK ESTER A-DPH-12E(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.製造)
M-3:NK ESTER A-TMMT(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.製造)
M-4:丁二酸改質二新戊四醇五丙烯酸酯
M-5:二新戊四醇六丙烯酸酯
<顯影性的評價>
將CT-4000L溶液(FUJIFILM Electronic Materials Co.,Ltd.製造;透明基底層)塗佈於直徑8英吋(20.32cm)的矽晶圓上,以使乾燥膜厚成為0.1μm,使其乾燥,形成基底層之後,在220℃下進行了5分鐘加熱處理。使用旋轉塗佈機,將各著色組成物塗佈於形成有基底層之矽晶圓上,以使預烘烤後的膜厚成為0.6μm,使用100℃的加熱板進行了120秒鐘加熱處理(預烘烤)。接著,隔著將一邊為1.1μm的正方像素分別排列在基板上的4mm×3mm的區域之遮罩圖案,使用i射線步進機曝光裝置FPA-3000i5+(Canon Inc.製造)以500mJ/cm2
的曝光量照射365nm的波長的光來進行了曝光。將具有曝光後的膜之矽晶圓載置於旋轉・噴淋顯影機(DW-30型、CHEMITRONICS CO.,Ltd.製造)的水平轉台上,使用鹼性顯影液(CD-2060、FUJIFILM Electronic Materials Co.,Ltd.製造)在23℃下進行了60秒鐘旋覆浸沒顯影。接著,以真空吸盤方式將旋覆浸沒顯影之後的矽晶圓固定於水平轉台上,藉由旋轉裝置使矽晶圓以轉速50rpm旋轉的同時由其旋轉中心的上方從噴嘴以噴淋狀供給純水,並且進行沖洗處理(23秒鐘×2次),接著進行旋轉乾燥,接著使用加熱板在200℃下進行300秒鐘的加熱處理(後烘烤),從而形成了著色圖案(像素)。關於形成有著色圖案(像素)之矽晶圓,使用測長SEM(掃描型電子顯微鏡)(S-7800H、Hitachi, Ltd.製造)從矽晶圓上在30000倍的倍率下進行了觀察。藉由以下基準進行了顯影性的評價。
(評價基準)
A:在未曝光部中未觀察到殘渣。
B:在未曝光部的1.1μm四方觀察到1~3個殘渣。
C:在未曝光部的1.1μm四方觀察到4~10個殘渣。
D:在未曝光部的1.1μm四方觀察到11個以上殘渣。
<缺陷的評價>
藉由CLEAN TRACK ACT-8(Tokyo Electron Limited製造)將剛製造之後的各著色組成物塗佈於直徑8英吋(20.32cm)的矽晶圓上,接著,在100℃下實施120秒鐘的前加熱(預烘烤),從而製作了膜厚0.8μm的膜。藉由Applied Materials technology製造的缺陷檢查裝置ComPLUS3檢查形成有膜之矽晶圓,並且檢測缺陷部分,計算了晶圓整個表面上的1μm以上尺寸的缺陷數。
(評價基準)
A:5個以下。
B:多於5個且為20個以下。
C:多於20個且為50個以下。
D:多於50個。
<耐熱性的評價>
藉由旋塗法,將CT-4000(FUJIFILM Electronic Materials Co.,LTD.製造)塗佈於玻璃基板上,以使膜厚成為0.1μm,並使用加熱板在220℃下加熱1小時形成了基底層。藉由旋塗法將各著色組成物塗佈於該附基底層之玻璃基板上,之後使用加熱板在100℃下加熱2分鐘,從而獲得了塗佈膜。針對所獲得之塗佈膜,照射365nm的波長的光,以曝光量500mJ/cm2
進行了曝光。接著,使用加熱板在220℃下加熱5分鐘,獲得了膜厚0.5μm的膜。使用Otsuka Electronics Co.,Ltd.製的MCPD-3000,對所得到之膜測量了400~700nm的範圍的透光率(透過率)。接著,在265℃下將在上述中製作之膜加熱了5分鐘。測量加熱後的膜的透過率,求出透過率的變化量的最大值,藉由以下基準評價了耐熱性。對各試樣進行5次透過率的測量,採用了去除了最大值及最小值之3次結果的平均值。又,透過率的變化量的最大值係指加熱前後的膜在波長400~700nm的範圍內的透過率的變化量在最大的波長下的變化量。
(評價基準)
A:透過率的變化量的最大值為1%以下。
B:透過率的變化量的最大值超過1%且為2%以下。
C:透過率的變化量的最大值超過2%且為3%以下。
D:透過率的變化量的最大值超過3%。
[表14]
顯影性 | 缺陷 | 耐熱性 | 顯影性 | 缺陷 | 耐熱性 | |||
實施例1 | A | A | A | 實施例46 | A | A | A | |
實施例2 | A | A | A | 實施例47 | A | B | A | |
實施例3 | A | A | A | 實施例48 | A | B | A | |
實施例4 | A | A | A | 實施例49 | A | B | A | |
實施例5 | A | A | A | 實施例50 | A | B | A | |
實施例6 | A | A | A | 實施例51 | A | B | A | |
實施例7 | A | A | A | 實施例52 | A | B | A | |
實施例8 | A | A | A | 實施例53 | A | B | A | |
實施例9 | A | A | A | 實施例54 | A | B | A | |
實施例10 | A | A | A | 實施例55 | A | B | A | |
實施例11 | A | A | A | 實施例56 | A | A | A | |
實施例12 | A | A | A | 實施例57 | A | A | A | |
實施例13 | A | A | A | 實施例58 | A | A | A | |
實施例14 | A | A | A | 實施例59 | A | A | A | |
實施例15 | A | A | A | 實施例60 | A | A | A | |
實施例16 | A | A | A | 實施例61 | A | A | A | |
實施例17 | A | A | A | 實施例62 | A | A | A | |
實施例18 | A | A | A | 實施例63 | B | A | B | |
實施例19 | A | A | B | 實施例64 | B | A | C | |
實施例20 | A | A | B | 實施例65 | B | A | B | |
實施例21 | A | A | A | 實施例66 | B | A | C | |
實施例22 | A | A | A | 實施例67 | A | A | A | |
實施例23 | A | A | A | 實施例68 | A | A | A | |
實施例24 | A | A | A | 實施例69 | A | A | A | |
實施例25 | A | A | A | 實施例70 | A | A | A | |
實施例26 | A | A | A | 實施例71 | A | A | A | |
實施例27 | A | A | A | 實施例72 | A | A | A | |
實施例28 | A | A | A | 實施例73 | C | C | A | |
實施例29 | A | A | A | 實施例74 | A | A | A | |
實施例30 | A | A | A | 實施例75 | A | A | A | |
實施例31 | A | A | A | 實施例76 | A | A | A | |
實施例32 | B | A | A | 實施例77 | A | A | A | |
實施例33 | A | A | A | 實施例78 | A | A | B | |
實施例34 | B | A | A | 實施例79 | A | A | B | |
實施例35 | B | A | A | 實施例80 | A | A | B | |
實施例36 | A | A | A | 實施例81 | A | A | A | |
實施例37 | B | A | A | 實施例82 | A | A | A | |
實施例38 | B | A | A | 比較例1 | D | D | D | |
實施例39 | A | A | A | |||||
實施例40 | A | A | A | |||||
實施例41 | A | A | A | |||||
實施例42 | A | A | A | |||||
實施例43 | A | A | A | |||||
實施例44 | A | A | A | |||||
實施例45 | A | B | A |
如上述表所示,實施例的耐熱性及結果的評價優異。進而,顯影性亦優異。
使用分散液(D-1)來代替著色組成物,實施上述缺陷的評價的試驗之結果,發現評價結果為A而優異。
將實施例1的光聚合起始劑變更為熱聚合起始劑(過氧化苯甲酸三級丁酯),除此以外,以相同的方式製作了著色組成物。進行該著色組成物的缺陷及耐熱性評價之結果,發現缺陷的評價結果及耐熱性的評價結果均為A而優異。
(實施例1001)
藉由旋塗法將綠色著色組成物塗佈於矽晶圓上,以使製膜後的膜厚成為1.0μm。接著,使用加熱板,在100℃的條件下加熱了2分鐘。接著,使用i射線步進曝光裝置FPA-3000i5+(Canon Inc.製造),以1000mJ/cm2
的曝光量隔著2μm見方的點圖案的遮罩進行了曝光。接著,使用氫氧化四甲基銨(TMAH)0.3質量%水溶液,在23℃的條件下進行了60秒鐘的旋覆浸沒顯影。然後,藉由旋轉噴淋進行沖洗,進一步用純水進行了水洗。接著,使用加熱板在200℃下加熱5分鐘,藉此對綠色著色組成物進行圖案化而形成了綠色像素。同樣地,藉由相同的製程對紅色著色組成物、藍色著色組成物進行圖案化,依次形成了紅色像素、藍色像素,從而形成了具有綠色像素、紅色像素及藍色像素之濾色器。該濾色器中,以拜耳圖案形成有綠色像素,在其相鄰之區域中,以島形圖案形成有紅色像素、藍色像素。按照公知的方法將所獲得之濾色器嵌入於固體攝像元件。該固體攝像元件具有較佳的圖像識別能力。另外,作為綠色著色組成物,使用了實施例57的著色組成物。作為紅色著色組成物,使用了實施例58的著色組成物。藍色著色組成物使用了藉由以下方法製造者。
(藍色著色組成物之製造方法)
混合下述成分,並且進行攪拌之後,以孔徑0.45μm的尼龍製過濾器(NIHON PALL Corporation製造)進行過濾,從而製備了藍色著色組成物。
藍色顏料分散液:30.47質量份
染料1:2.64質量份
樹脂1:0.01質量份
樹脂2:0.04質量份
聚合性化合物1:1.56質量份
光聚合起始劑2:0.57質量份
添加劑1:0.35質量份
環氧化合物1:0.46質量份
界面活性劑1:2.00質量份(作為1質量%PGMEA溶液)
丙二醇單甲醚乙酸酯:5.70質量份
環己酮:55.4質量份
丙二醇單甲醚:0.8質量份
用於製備藍色著色組成物之原料如下。
・藍色顏料分散液
藉由珠磨機(直徑為0.3mm的氧化鋯微珠)將由15質量份的C.I.顏料藍15:6、2.2質量份的分散劑(Disperbyk-161、BYK Chemie GmbH製造)、2.2質量份的樹脂3、80.6質量份的溶劑1構成之混合液進行了3小時的混合及分散。然後,進一步使用附減壓機構之高壓分散機NANO-3000-10(Nippon Bee Chemical Co.,Ltd.製造)在2000kg/cm2
的壓力下以流量500g/分鐘進行了分散處理。重複10次該分散處理,從而獲得了藍色顏料分散液。
・樹脂2:下述結構的樹脂(附註於主鏈之數值為莫耳比。重量平均分子量=11000、酸值=200mgKOH/g)
[化學式48]
・聚合性化合物2:下述結構的化合物
[化學式49]
・光聚合起始劑1:下述結構的化合物
[化學式50]
・添加劑1:下述結構的化合物(鉀N,N-雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺)
[化學式51]
・環氧化合物2:下述結構的化合物
[化學式52]
・界面活性劑1:上述之界面活性劑1
(實施例1002)
藉由旋塗法將青色著色組成物塗佈於矽晶圓上,以使製膜後的膜厚成為1.0μm。接著,使用加熱板,在100℃的條件下加熱了2分鐘。接著,使用i射線步進曝光裝置FPA-3000i5+(Canon Inc.製造),以1000mJ/cm2
的曝光量隔著2μm見方的點圖案的遮罩進行了曝光。接著,使用氫氧化四甲基銨(TMAH)0.3質量%水溶液,在23℃的條件下進行了60秒鐘的旋覆浸沒顯影。然後,藉由旋轉噴淋進行沖洗,進一步用純水進行了水洗。接著,使用加熱板在200℃下加熱5分鐘,藉此對青色著色組成物進行圖案化而形成了青色像素。同樣地,藉由同樣的製程對黃色著色組成物、品紅色著色組成物進行圖案化,依次形成黃色像素、品紅色像素,從而形成了具有青色像素、黃色像素及品紅色像素之濾色器。該濾色器中,青色像素以拜耳圖案形成,在其相鄰之區域內以島形圖案形成黃色像素、品紅色像素。按照公知的方法將所獲得之濾色器嵌入於固體攝像元件。該固體攝像元件具有較佳的圖像識別能力。另外,作為黃色著色組成物,使用了實施例1的著色組成物。關於青色著色組成物及品紅色著色組成物,分別使用了藉由以下方法製造者。
(青色著色組成物、品紅色著色組成物之製造方法)
混合下述表中所記載之種類的色材、下述表中所記載之種類的分散劑及下述表中所記載之溶劑的一部分,加入直徑0.3mm的氧化鋯微珠230質量份,使用塗料攪拌器進行5小時的分散處理,藉由過濾分離微珠,從而製造了固體成分20重量%的顏料分散液。接著,混合所獲得之顏料分散液、下述表中所記載之種類的剩餘溶劑、下述表中所記載之種類的黏合劑、下述表中所記載之種類的聚合性化合物、下述表中所記載之種類的光聚合起始劑、下述表中所記載之種類的紫外線吸收劑、下述表中所記載之種類的界面活性劑及下述表中所記載之種類的環氧化合物製備了著色組成物。下述表中示出各著色組成物中的各成分的摻合量。各成分的配合量的數值為質量份。
[表15]
種類 | 青色著色組成物 | 品紅色著色組成物 | |
色材 | PB15:4 | 2.2 | |
PR122 | 6.1 | ||
分散劑 | D1 | 2.6 | |
D2 | 1.2 | 0.4 | |
D4 | 2.3 | ||
黏合劑 | D2 | 0.9 | |
D3 | 2.3 | ||
聚合性化合物 | M1 | 2.7 | |
M2 | 2.6 | ||
光聚合起始劑 | F1 | 0.5 | 0.4 |
紫外線吸收劑 | UV1 | 0.20 | 0.37 |
界面活性劑 | W1 | 0.01 | 0.04 |
環氧化合物 | G1 | 0.12 | |
溶劑 | S1 | 90.0 | 83.2 |
S2 | 1.9 |
由上述縮寫表示之原材料如下。
(色材)
PB15:4:C.I.顏料藍15:4
PR122:C.I.顏料紅122
(分散劑、黏合劑)
D1:下述結構的樹脂(附註於主鏈之數值為莫耳比,附註於側鏈之數值為重複單元的數量。重量平均分子量24000)
[化學式53]
D2:下述結構的樹脂(附註於主鏈之數值為莫耳比。重量平均分子量11000)
[化學式54]
D3:下述結構的樹脂(附註於主鏈之數值為莫耳比,附註於側鏈之數值為重複單元的數量。重量平均分子量16000)
[化學式55]
D4:Efka PX 4300(BASF公司製造、丙烯酸樹脂)
(聚合性化合物)
M1:下述結構的化合物的混合物(左側化合物(6官能的(甲基)丙烯酸酯化合物)與右側化合物(5官能的(甲基)丙烯酸酯化合物)的莫耳比係7:3的混合物)
[化學式56]
M2:下述結構的化合物
[化學式57]
(光聚合起始劑)
F1:Irgacure OXE02(BASF公司製造)
(環氧化合物)
G1:EHPE-3150(Daicel Corporation製造、環氧化合物)
(溶劑)
S1:丙二醇單甲醚乙酸酯
S2:丙二醇單甲醚
無。
無。
Claims (17)
- 如請求項1所述之著色組成物,其中 前述式(R-1)的X1 所表示之酸基為羧基、磺酸基、磷酸基、由-SO2 NHSO2 Rf1 表示之基團或該等的鹽,Rf1 表示含有氟原子之基團, 前述式(R-1)的X1 所表示之鹼基為胺基或銨基的鹽。
- 如請求項1或請求項2所述之著色組成物,其中 前述式(R-1)的X1 為鹼基。
- 如請求項4所述之著色組成物,其中 前述式(1a)中的M1 為配位體可以配位之銅原子或配位體可以配位之鋅原子。
- 如請求項1或請求項2所述之著色組成物,其中 前述顏料包含選自黃色顏料、綠色顏料及紅色顏料中之至少1種。
- 如請求項1或請求項2所述之著色組成物,其中 前述顏料包含具有金屬原子之顏料。
- 如請求項7所述之著色組成物,其中 前述具有金屬原子之顏料包含甲亞胺金屬錯合物。
- 如請求項8所述之著色組成物,其中 前述甲亞胺金屬錯合物包含選自甲亞胺銅錯合物及甲亞胺鋅錯合物中之至少1種。
- 如請求項1或請求項2所述之著色組成物,其中 相對於前述顏料100質量份含有1~30質量份的前述化合物S。
- 如請求項1或請求項2所述之著色組成物,其還含有聚合性化合物及光聚合起始劑。
- 如請求項1或請求項2所述之著色組成物,其係用於濾色器或用於紅外線透過濾波器。
- 如請求項1或請求項2所述之著色組成物,其係用於固體攝像元件。
- 一種膜,其係由請求項1至請求項13之任一項所述之著色組成物獲得。
- 一種濾光器,其具有請求項14所述之膜。
- 一種固體攝像元件,其具有請求項14所述之膜。
- 一種圖像顯示裝置,其具有請求項14所述之膜。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020-076406 | 2020-04-23 | ||
JP2020076406 | 2020-04-23 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202140656A true TW202140656A (zh) | 2021-11-01 |
Family
ID=78270548
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW110110266A TW202140656A (zh) | 2020-04-23 | 2021-03-22 | 著色組成物、膜、濾光器、固體攝像元件及圖像顯示裝置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230131561A1 (zh) |
JP (1) | JP7399268B2 (zh) |
KR (1) | KR20220154199A (zh) |
CN (1) | CN115427517A (zh) |
TW (1) | TW202140656A (zh) |
WO (1) | WO2021215133A1 (zh) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW202231789A (zh) * | 2021-02-03 | 2022-08-16 | 日商富士軟片股份有限公司 | 著色組成物、膜、濾光器、固體攝像元件、圖像顯示裝置及化合物 |
TW202231790A (zh) * | 2021-02-03 | 2022-08-16 | 日商富士軟片股份有限公司 | 著色組成物、膜、濾光器、固體攝像元件、圖像顯示裝置及化合物 |
CN116848199A (zh) * | 2021-02-03 | 2023-10-03 | 富士胶片株式会社 | 着色组合物、膜、滤光器、固体摄像元件、图像显示装置及化合物 |
WO2023162687A1 (ja) * | 2022-02-24 | 2023-08-31 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂組成物、硬化物、積層体、硬化物の製造方法、積層体の製造方法、半導体デバイスの製造方法、及び、半導体デバイス |
WO2023228791A1 (ja) * | 2022-05-25 | 2023-11-30 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 |
WO2024018910A1 (ja) * | 2022-07-19 | 2024-01-25 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および着色剤 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0278913A3 (de) * | 1987-02-12 | 1991-06-05 | Ciba-Geigy Ag | Neue Stoffzusammensetzungen auf der Basis von Metallkomplexpigmenten sowie neue Verbindungen |
JP2009035671A (ja) | 2007-08-03 | 2009-02-19 | Toray Ind Inc | 顔料分散液、着色剤組成物、およびカラーフィルター |
JP7156143B2 (ja) * | 2018-05-21 | 2022-10-19 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | アゾ顔料、カラーフィルタ用着色剤、着色組成物およびカラーフィルタ |
-
2021
- 2021-03-10 WO PCT/JP2021/009402 patent/WO2021215133A1/ja active Application Filing
- 2021-03-10 KR KR1020227035622A patent/KR20220154199A/ko not_active Application Discontinuation
- 2021-03-10 JP JP2022516884A patent/JP7399268B2/ja active Active
- 2021-03-10 CN CN202180029552.3A patent/CN115427517A/zh active Pending
- 2021-03-22 TW TW110110266A patent/TW202140656A/zh unknown
-
2022
- 2022-10-17 US US18/047,157 patent/US20230131561A1/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20230131561A1 (en) | 2023-04-27 |
JPWO2021215133A1 (zh) | 2021-10-28 |
CN115427517A (zh) | 2022-12-02 |
KR20220154199A (ko) | 2022-11-21 |
JP7399268B2 (ja) | 2023-12-15 |
WO2021215133A1 (ja) | 2021-10-28 |
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