TW202129265A - 長條光學積層體之檢查方法及檢查系統 - Google Patents

Abstract

本發明之課題在於可於長條光學積層體之狀態下讀取列印於第1長條光學膜之第1識別資訊、及列印於長條光學積層體之第2識別資訊兩者。 本發明之長條光學積層體之檢查方法包括：第1步驟，其係檢查第1長條光學膜F1而獲取第1缺陷資訊；第2步驟，其係將第1識別資訊M列印於第1長條光學膜；第3步驟，其係將第1缺陷資訊與第1識別資訊建立關聯並加以記憶；第4步驟，其係檢查積層第1長條光學膜而成之長條光學積層體F2而獲取第2缺陷資訊；第5步驟，其係將第2識別資訊列印於長條光學積層體；及第6步驟，其係將第2缺陷資訊與第2識別資訊建立關聯並加以記憶；藉由噴墨方式列印第1識別資訊及第2識別資訊中之任一者，並利用雷射刻印列印另一者；或者，藉由使用透明墨水之噴墨方式列印任一者，並藉由使用有色墨水之噴墨方式列印另一者。

Description

長條光學積層體之檢查方法及檢查系統

本發明係關於一種長條光學積層體(例如偏光膜)之檢查方法及檢查系統，該長條光學積層體係積層第1長條光學膜(例如保護膜)及第2長條光學膜(例如偏光元件)而成。本發明尤其係關於一種長條光學積層體之檢查方法及檢查系統，該檢查方法及檢查系統可於長條光學積層體之狀態下讀取列印於第1長條光學膜之第1識別資訊、及列印於第2長條光學膜或長條光學積層體兩者，藉此可將缺陷資訊與識別資訊適當地建立關聯。

作為長條光學積層體，例如已知有用於液晶顯示裝置之偏光膜。由長條偏光膜沖裁出與各種用途相對應之尺寸之偏光膜之步驟例如如下所述。

首先，檢查以卷對卷方式搬送之長條偏光膜，檢測出偏光膜所存在之缺陷。於檢測出缺陷之情形時，於缺陷位置標註標記，捲取偏光膜。 作為最終製品之偏光膜(沖裁後之偏光膜)根據使用者之規格不同而有各種尺寸，而長條偏光膜(偏光膜坯膜)往往可共通使用，因此會預先大量製造偏光膜坯膜，日後再視需要由偏光膜坯膜沖裁為所需尺寸之偏光膜製品。於沖裁偏光膜製品時必須避開存在缺陷之位置，或者於沖裁後將存在缺陷之位置標註有標記之偏光膜製品作為不良品去除。 因此，檢查長條偏光膜時，需要檢測出缺陷並將該缺陷位置等作為缺陷資訊加以記憶。

為了妥善管理缺陷資訊，提高偏光膜製品之良率，專利文獻1中提出一種偏光膜之檢查方法，該檢查方法將識別資訊(至少特定偏光膜之長邊方向位置的資訊)列印於偏光膜之寬度方向端部，將缺陷資訊與識別資訊建立關聯。 根據專利文獻1中記載之檢查方法，可妥善管理於偏光膜之狀態下所產生之缺陷的缺陷資訊。

然而，於偏光膜，不僅存在於積層保護膜及偏光元件而成之偏光膜之狀態下產生之缺陷，亦存在於單獨保護膜(與偏光元件積層前之保護膜)之狀態下產生之缺陷。並且，有時於偏光膜之狀態下進行檢查難以檢測出於單獨保護膜之狀態下產生之缺陷。 因此，雖然亦會對保護膜單獨進行檢查，但先前由該檢查所檢測出的缺陷之缺陷資訊並未得到妥善管理。具體而言，並未將識別資訊列印於單獨保護膜而將其與缺陷資訊建立關聯。

再者，為了防止捲取保護膜時產生捲取偏移、捲取鬆弛、結塊、帶狀凸部等，存在實施滾紋加工之情形，該滾紋加工係藉由雷射刻印於保護膜之寬度方向端部形成微小凹凸(例如參照專利文獻2)。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利第5925609號公報 [專利文獻2]日本專利第5578759號公報

[發明所欲解決之問題]

本發明係為了解決上述先前技術之問題點而完成者，課題在於提供一種長條光學積層體之檢查方法及檢查系統，該檢查方法及檢查系統可於長條光學積層體之狀態下讀取列印於第1長條光學膜(例如保護膜)之第1識別資訊、及列印於第2長條光學膜(例如偏光元件)或長條光學積層體(例如偏光膜)之第2識別資訊兩者，藉此可將缺陷資訊與識別資訊適當地建立關聯。 [解決問題之技術手段]

為了解決上述課題，本發明人等進行了銳意研究，結果發現對所要列印於第1長條光學膜上之第1識別資訊與所要列印於第2長條光學膜或長條光學積層體之第2識別資訊，藉由噴墨方式列印其中任一者，並藉由雷射刻印來列印另一者；或者，藉由使用透明墨水之噴墨方式列印其中任一者，並藉由使用有色墨水之噴墨方式列印另一者，藉此，即便第1識別資訊與第2識別資訊重疊，亦可辨別二者加以讀取，從而完成本發明。 即，為了解決上述課題，本發明提供一種長條光學積層體之檢查方法，其特徵在於包括：第1步驟，其係檢查第1長條光學膜而獲取上述第1長條光學膜之缺陷資訊即第1缺陷資訊；第2步驟，其係於上述第1長條光學膜之長邊方向上每隔特定間隔，將第1識別資訊列印於上述第1長條光學膜之寬度方向端部；第3步驟，其係將上述第1長條光學膜之上述第1缺陷資訊與上述第1識別資訊建立關聯並加以記憶；第4步驟，其係檢查第2長條光學膜，或檢查積層上述第1長條光學膜與上述第2長條光學膜而成之長條光學積層體，獲取上述第2長條光學膜或上述長條光學積層體之缺陷資訊即第2缺陷資訊；第5步驟，其係於上述第2長條光學膜或上述長條光學積層體之長邊方向上每隔特定間隔，將第2識別資訊列印於上述第2長條光學膜或上述長條光學積層體之寬度方向端部；及第6步驟，其係將上述第2長條光學膜或上述長條光學積層體之上述第2缺陷資訊與上述第2識別資訊建立關聯並加以記憶；對於上述第2步驟所要列印之上述第1識別資訊及於上述第5步驟所要列印之上述第2識別資訊，藉由噴墨方式列印其中之任一者，並藉由雷射刻印來列印另一者；或者，藉由使用透明墨水之噴墨方式列印其中之任一者，並藉由使用有色墨水之噴墨方式列印另一者。

本發明中，「缺陷資訊」意為至少包含缺陷位置之資訊。又，「第1識別資訊」意為至少包含特定第1長條光學膜之長邊方向位置之資訊的資訊。進而，「第2識別資訊」意為至少包含特定第2長條光學膜或長條光學積層體之長邊方向之位置之資訊的資訊。 根據本發明，於第1步驟中獲取第1長條光學膜之第1缺陷資訊，於第2步驟中列印第1長條光學膜之第1識別資訊，於第3步驟中將第1缺陷資訊與第1識別資訊建立關聯並加以記憶。又，於第4步驟中獲取第2長條光學膜或長條光學積層體之第2缺陷資訊，於第5步驟中列印第2長條光學膜或長條光學積層體之第2識別資訊，於第6步驟中將第2缺陷資訊與第2識別資訊建立關聯並加以記憶。 藉由噴墨方式列印第1識別資訊及第2識別資訊中之任一者，藉由雷射刻印來列印另一者；或者，藉由使用透明墨水之噴墨方式列印任一者，藉由使用有色墨水之噴墨方式列印另一者。透明墨水係藉由照射光而發出螢光之墨水，可例示藉由照射紫外線而發出螢光之UV(UltraViolet，紫外線)墨水。

即，根據本發明，用以下列印模式1～6之任一模式列印第1識別資訊及第2識別資訊。 (1)列印模式1 第1識別資訊：使用透明墨水之噴墨方式，第2識別資訊：雷射刻印 (2)列印模式2 第1識別資訊：使用有色墨水之噴墨方式，第2識別資訊：雷射刻印 (3)列印模式3 第1識別資訊：雷射刻印，第2識別資訊：使用透明墨水之噴墨方式 (4)列印模式4 第1識別資訊：雷射刻印，第2識別資訊：使用有色墨水之噴墨方式 (5)列印模式5 第1識別資訊：使用透明墨水之噴墨方式，第2識別資訊：使用有色墨水之噴墨方式 (6)列印模式6 第1識別資訊：使用有色墨水之噴墨方式，第2識別資訊：使用透明墨水之噴墨方式 因此，根據本發明人等之見解，即便第1識別資訊與第2識別資訊重疊，亦可辨別二者加以讀取。即，可將缺陷資訊與識別資訊適當地建立關聯(將第1缺陷資訊與第1識別資訊建立關聯，將第2缺陷資訊與第2識別資訊建立關聯)。 因此，例如，藉由讀取第1識別資訊，使用第3步驟中記憶之第1缺陷資訊與第1識別資訊之關聯，可避開於第1長條光學膜之狀態下所產生之缺陷位置而沖裁製品。又，例如，藉由讀取第2識別資訊，使用第6步驟中記憶之第2缺陷資訊與第2識別資訊之關聯，可避開於第2長條光學膜或長條光學積層體之狀態下所產生之缺陷位置而沖裁製品。 再者，本發明中，第1步驟～第6步驟並非必須按照該順序執行，例如，亦可於執行第2步驟後，執行第1步驟。又，亦可於執行第5步驟後，執行第4步驟。

本發明中，較佳為於上述第2步驟中，藉由使用透明墨水之噴墨方式列印上述第1識別資訊，於上述第5步驟中，藉由雷射刻印來列印上述第2識別資訊。

如上所述，作為第1識別資訊及第2識別資訊之列印方法，可使用列印模式1～6之任一模式。然而，根據本發明人等研究出之結果，最容易辨別第1識別資訊與第2識別資訊來加以讀取之方法係列印模式1，即藉由使用透明墨水之噴墨方式列印第1識別資訊，藉由雷射刻印列印第2識別資訊。 因此，根據上述較佳之方法，可將缺陷資訊與識別資訊更適當地建立關聯(將第1缺陷資訊與第1識別資訊建立關聯，將第2缺陷資訊與第2識別資訊建立關聯)。

本發明中，較佳為進而包括第7步驟，該第7步驟係將上述第1長條光學膜之上述第1缺陷資訊與上述第2長條光學膜或上述長條光學積層體之上述第2識別資訊建立關聯並加以記憶。

根據上述較佳之方法，記憶第2長條光學膜或長條光學積層體之第2缺陷資訊時不僅與第2長條光學膜或長條光學積層體之第2識別資訊建立關聯，而且亦與第1長條光學膜之第1缺陷資訊建立關聯。換言之，可基於第2長條光學膜或長條光學積層體之第2識別資訊，統籌管理第1缺陷資訊及第2缺陷資訊。 因此，於執行第7步驟後，切斷(例如切斷保護膜之滾紋加工部)構成長條光學積層體之第1長條光學膜之寬度方向端部，藉此，即便去除第1識別資訊，亦可將缺陷資訊與識別資訊適當地建立關聯(將第1缺陷資訊及第2缺陷資訊與第2識別資訊建立關聯)。 又，例如，讀取第2識別資訊，使用第6步驟中記憶之第2缺陷資訊與第2識別資訊之關聯，並且使用第7步驟中記憶之第1缺陷資訊與第2識別資訊之關聯，藉此可避開於第1長條光學膜之狀態下所產生之缺陷位置及於第2長條光學膜或長條光學積層體之狀態下所產生之缺陷位置而沖裁製品。即，可省去沖裁製品時讀取第1識別資訊之工時。

本發明中，較佳為進而包括第8步驟，上述第8步驟係基於上述第1長條光學膜之上述第1識別資訊及上述第1缺陷資訊、以及上述第2長條光學膜或上述長條光學積層體之上述第2識別資訊及上述第2缺陷資訊，於上述長條光學積層體之缺陷位置標註標記。

根據上述較佳之方法，由於缺陷位置標註有標記，因此目視便可特定出缺陷位置。

本發明可適宜地用於上述第1長條光學膜為保護膜，上述第2長條光學膜為偏光元件，上述長條光學積層體為偏光膜之情形。 又，本發明亦可用於上述第1長條光學膜為相位差膜或塗佈有液晶材料之基材，上述第2長條光學膜為偏光膜之情形時。作為藉由塗佈於基材之液晶材料形成之液晶層，例如可列舉作為1/4波長板、1/2波長板等相位差板發揮功能者。 進而，本發明亦可用於上述第1長條光學膜為反射型偏光元件，上述第2長條光學膜為偏光膜之情形。

根據本發明人等之見解，於在第1長條光學膜之寬度方向端部形成有滾紋加工部之情形時，即便藉由噴墨方式將第1識別資訊列印於與滾紋加工部相對應之部位(形成有滾紋加工部之部位或預定形成滾紋加工部之部位)，亦可辨別第1識別資訊與滾紋加工部之凹凸來加以讀取。另一方面，若藉由雷射刻印將第1識別資訊列印於與滾紋加工部相對應之部位，則存在難以辨別第1識別資訊與滾紋加工部之凹凸來加以讀取之情形。 因此，本發明中，較佳為於上述第1長條光學膜之寬度方向端部形成有滾紋加工部之情形時，於上述第2步驟中，藉由噴墨方式將上述第1識別資訊列印於上述第1長條光學膜之與上述與滾紋加工部相對應之部位。藉此，第1長條光學膜之有效寬度不會因列印第1識別資訊而變窄，從而可提高良率。 又，本發明中，較佳為於上述第1長條光學膜之寬度方向端部形成有滾紋加工部，於上述第5步驟中，將上述第2識別資訊列印至位於較上述第1長條光學膜之滾紋加工部更靠寬度方向內側之上述長條光學積層體之部位。藉此，可確實地辨別第2識別資訊與滾紋加工部之凹凸來加以讀取。

又，為了解決上述課題，本發明亦提供一種長條光學積層體之檢查系統，其特徵在於具備：第1檢查裝置，其檢查第1長條光學膜而獲取上述第1長條光學膜之缺陷資訊即第1缺陷資訊；第1列印裝置，其於上述第1長條光學膜之長邊方向上每隔特定間隔，將第1識別資訊列印於上述第1長條光學膜之寬度方向端部；第1運算記憶裝置，其將上述第1長條光學膜之上述第1缺陷資訊與上述第1識別資訊建立關聯並加以記憶；第2檢查裝置，其檢查第2長條光學膜，或檢查積層上述第1長條光學膜與上述第2長條光學膜而成之長條光學積層體，獲取上述第2長條光學膜或上述長條光學積層體之缺陷資訊即第2缺陷資訊；第2列印裝置，其於上述第2長條光學膜或上述長條光學積層體之長邊方向上每隔特定間隔將第2識別資訊列印於上述第2長條光學膜或上述長條光學積層體之寬度方向端部；及第2運算記憶裝置，其將上述第2長條光學膜或上述長條光學積層體之上述第2缺陷資訊與上述第2識別資訊建立關聯並加以記憶；對於上述第1列印裝置所要列印之上述第1識別資訊、及上述第2列印裝置所要列印之上述第2識別資訊，藉由噴墨方式列印其中之任一者，並藉由雷射刻印來列印另一者；或者，藉由使用透明墨水之噴墨方式列印其中之任一者，並藉由使用有色墨水之噴墨方式列印另一者。 [發明之效果]

根據本發明，可於長條光學積層體之狀態下讀取列印於第1長條光學膜之第1識別資訊、及列印於第2長條光學膜或長條光學積層體之第2識別資訊兩者，藉此可將缺陷資訊與識別資訊適當地建立關聯。

＜第1實施方式＞ 以下，適當參照隨附圖式，對本發明之第1實施方式之長條光學積層體之檢查方法(以下適當簡稱為「檢查方法」)及長條光學積層體之檢查系統(以下適當簡稱為「檢查系統」)進行說明。 第1實施方式之檢查方法之檢查對象即長條光學積層體係積層有第1長條光學膜及第2長條光學膜之膜。第1實施方式中，列舉如下情形為例進行說明：第1長條光學膜為保護膜，第2長條光學膜為偏光元件，長條光學積層體為偏光膜，檢查長條光學積層體獲取第2缺陷資訊，將第2識別資訊列印於長條光學積層體。首先對長條光學積層體(偏光膜)之具體例進行說明。

[長條光學積層體] 作為長條光學積層體之偏光膜由包括以下步驟之製造方法製造而成：(A)將實施了染色處理、交聯處理及延伸處理之聚乙烯醇系膜乾燥，製造作為第2長條光學膜之偏光元件；(B)於第2長條光學膜(偏光元件)之單側或雙側貼合作為第1長條光學膜之保護膜；及(C)貼合後進行加熱處理。

聚乙烯醇系膜之染色處理、交聯處理、延伸處理等各種處理並非必須分別實施，亦可同時實施，又，各處理之順序亦可為任意順序。再者，作為聚乙烯醇系膜，亦可使用實施了膨潤處理之聚乙烯醇系膜。通常，將聚乙烯醇系膜浸漬於包含碘或二色性色素之溶液中，於使其吸附碘或二色性色素而染色後將其洗淨，於包含硼酸或硼砂等之溶液中以延伸倍率3倍～7倍進行單軸延伸後，使其乾燥。於包含碘或二色性色素之溶液中進行延伸後，於包含硼酸或硼砂等之溶液中進一步進行延伸(二級延伸)後，使其乾燥，藉此碘之配向變高，偏光度特性變好，故而特佳。

作為構成上述聚乙烯醇系膜之聚乙烯醇系聚合物，例如可列舉：使乙酸乙烯酯聚合後皂化而成者；或使乙酸乙烯酯與少量不飽和羧酸、不飽和磺酸、陽離子性單體等可共聚之單體進行共聚而成者等。聚乙烯醇系聚合物之平均聚合度並無限制，可任意使用，較佳為1000以上，更佳為2000～5000。又，聚乙烯醇系聚合物之皂化度較佳為85莫耳%以上，更佳為98～100莫耳%。

製造之第2長條光學膜(偏光元件)之厚度通常為5～80 μm，但並不限定於此，又，對於調整第2長條光學膜(偏光元件)之厚度之方法亦並無特別限定，可使用拉幅機、輥延伸或壓延等通常之方法。

對於第2長條光學膜(偏光元件)與第1長條光學膜(保護膜)之貼合並無特別限定，例如，可經由包含乙烯醇系聚合物之接著劑、或者至少包含硼酸或硼砂、戊二醛或三聚氰胺、草酸等乙烯醇系聚合物之水溶性交聯劑的接著劑等進行。貼合第2長條光學膜(偏光元件)與第1長條光學膜(保護膜)之接著層係作為水溶液之塗佈乾燥層等形成，製備該水溶液時可視需要亦調配其他添加劑或酸等觸媒。

貼合於第2長條光學膜(偏光元件)之單側或雙側之第1長條光學膜(保護膜)可使用適當之透明膜。其中，較佳為使用包含透明性、機械強度、熱穩定性、防水性等優異之聚合物之膜。作為該聚合物，可列舉：三乙醯纖維素等乙酸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚芳酯、聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚降𦯉烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、液晶聚合物等。膜可為藉由流延法、壓光法、擠出法中之任一方法製造而成者。

又，亦可列舉日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中所記載之聚合物膜、例如含有(A)於側鏈具有經取代及/或未經取代之亞胺基之熱塑性樹脂、及(B)於側鏈具有經取代及/或未經取代之苯基以及腈基之熱塑性樹脂的樹脂組合物。作為具體例，可列舉含有由異丁烯與N-甲基順丁烯二醯亞胺所構成之交替共聚物、及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組合物之膜。作為膜，可使用包含樹脂組合物之混合擠出品等之膜。該等膜由於相位差較小且光彈性係數較小，故可消除由長條光學積層體(偏光膜)之應變所導致之不均等不良情況，又由於透濕度較小，故加濕耐久性優異。

又，第1長條光學膜(保護膜)較佳為儘可能無色。因此，較佳為使用Rth＝[(nx＋ny)/2‒nz]・d(其中，nx、ny為膜平面內之主折射率，nz為膜厚方向之折射率，d為膜厚)所示之膜厚方向之相位差值為-90 nm～+75 nm之第1長條光學膜(保護膜)。藉由使用厚度方向之相位差值(Rth)為-90 nm～+75 nm者，可基本消除由第1長條光學膜(保護膜)引起之長條光學積層體(偏光膜)之著色(光學性著色)。厚度方向之相位差值(Rth)進而較佳為-80 nm～+60 nm，特佳為-70 nm～+45 nm。

作為第1長條光學膜(保護膜)，就偏光特性或耐久性等方面而言，較佳為(甲基)丙烯酸系樹脂。又，較佳為三乙醯纖維素等乙酸酯系樹脂，特佳為表面用鹼等進行了皂化處理之三乙醯纖維素膜。再者，於在第2長條光學膜(偏光元件)之雙側貼合第1長條光學膜(保護膜)之情形時，於其正背亦可使用包含不同聚合物之第1長條光學膜(保護膜)。

第1長條光學膜(保護膜)之厚度為任意厚度，通常為了實現長條光學積層體(偏光膜)之薄型化等而為500 μm以下，較佳為1～300 μm，特佳為5～200 μm。

第1長條光學膜(保護膜)只要不妨礙本發明之目的，亦可實施硬塗處理及防反射處理、以抗沾黏、擴散及防眩等為目的之處理等表面處理。硬塗處理係為了防止長條光學積層體(偏光膜)之表面之損傷等而實施者，例如可藉由將硬化皮膜附加於第1長條光學膜(保護膜)之表面之方式等形成，該硬化皮膜係藉由矽酮系等適當之紫外線硬化型樹脂而獲得優異之硬度或滑動性等。

另一方面，防反射處理係為了防止外界光於長條光學積層體(偏光膜)之表面發生反射而實施者，可藉由依據先前方法形成防反射膜等來達成。又，抗沾黏處理係為了防止與鄰接層之密接而實施者，防眩處理係為了防止外界光於長條光學積層體(偏光膜)之表面發生反射而妨礙長條光學積層體(偏光膜)透射光之視認而實施者，例如可藉由以下方法形成：以藉由噴砂方式或壓紋加工方式等之表面粗糙化方式或調配透明微粒子之方式等適當方式對第1長條光學膜(保護膜)之表面賦予微細凹凸結構。

上述透明微粒子例如可列舉平均粒徑為0.5～20 μm之氧化矽及氧化鋁、二氧化鈦及氧化鋯、氧化錫及氧化銦、氧化鎘及氧化銻等，可使用具有導電性之無機系微粒子，又，可使用包含交聯或未交聯之聚合物粒狀物等之有機系微粒子等。通常透明微粒子之使用量為每100質量份之透明樹脂為2～70質量份，尤其是5～50質量份。

進而，調配透明微粒子之防眩層可作為透明保護層本身或對透明保護層表面之塗佈層等而設置。防眩層亦可兼作用以使長條光學積層體(偏光膜)之透射光擴散而擴大視角之擴散層(視角補償功能等)。再者，上述防反射層及抗沾黏層、擴散層及防眩層等亦可作為包含設置有該等層之片材等之光學層與透明保護層分開設置。

[第1實施方式之檢查方法] 以下，對第1實施方式之檢查方法進行說明。 圖1係表示第1實施方式之檢查方法之概略步驟之流程圖。如圖1所示，第1實施方式之檢查方法包括：於第1長條光學膜(保護膜)之製造步驟中執行之步驟S1～S4、及於長條光學積層體(偏光膜)之製造步驟中執行之步驟S5～S12。以下，依序對各步驟進行說明。

[於第1長條光學膜之製造步驟中執行之步驟] 於第1長條光學膜之製造步驟中執行第1步驟S2～第3步驟S4。又，第1實施方式中，執行滾紋加工步驟S1。

(滾紋加工步驟S1) 滾紋加工步驟S1中，於第1長條光學膜之寬度方向端部實施滾紋加工而形成滾紋加工部。滾紋加工之具體內容例如如專利文獻2所記載，已眾所周知，故此處省略詳細說明。

(第1步驟S2) 圖2係模式性地表示用以執行第1步驟S2～第3步驟S4之檢查系統之概略構成的立體圖。 如圖2所示，第1步驟S2中，檢查系統100所具備之第1檢查裝置1檢查由搬送捲筒R以卷對卷方式搬送(朝向圖2中粗實線箭頭所示之方向搬送)之第1長條光學膜F1，獲取第1長條光學膜F1之缺陷資訊即第1缺陷資訊。 第1檢查裝置1具備：攝像機構1a，其與第1長條光學膜F1之正面對向配置；及圖像處理機構1b，其與攝像機構1a電性連接，對攝像機構1a所獲取之第1長條光學膜F1之正面之拍攝圖像實施適當之圖像處理。作為攝像機構1a，可使用沿著第1長條光學膜F1之寬度方向呈直線狀地配置攝像元件之線感測器、或呈矩陣狀地配置攝像元件之區域傳感器。攝像機構1a之視野為第1長條光學膜F1之有效寬度(用於製品之寬度)以上。圖像處理機構1b藉由對拍攝圖像實施二值化等公知之圖像處理，提取與第1長條光學膜F1所存在之缺陷相對應之像素區域。並且，圖像處理機構1b特定出拍攝圖像中之缺陷位置(與缺陷相對應之像素區域之座標)，獲取至少包含特定出之缺陷位置之資訊作為第1缺陷資訊。將獲取之第1缺陷資訊輸入至檢查系統100所具備之第1運算記憶裝置4。

(第2步驟S3) 第2步驟S3中，檢查系統100所具備之第1列印裝置2於第1長條光學膜F1之長邊方向上每隔特定間隔(例如1 m之等間隔)，將第1識別資訊M列印於第1長條光學膜F1之寬度方向端部(較佳為滾紋加工部)。圖2中圖示出從第1長條光學膜F1之前端側(搬送方向下游側)依序列印有第1識別資訊M1～M3之例。 第1識別資訊M為至少包含特定第1長條光學膜F1之長邊方向位置的資訊之資訊。第1識別資訊M例如係藉由二維碼或條碼表示從第1長條光學膜F1之前端側依序增加或減少之數值(利用該數值特定第1長條光學膜F1之長邊方向位置)。第1識別資訊M中，除特定第1長條光學膜F1之長邊方向位置的資訊之外，亦可包含列印之日期時間、第1長條光學膜F1之製造編號、列印之步驟之類別等各種附帶資訊。

第1實施方式中，利用第1列印裝置2進行之第1識別資訊M之列印受第1運算記憶裝置4控制。具體而言，藉由使用旋轉編碼器等之測距器3，測定第1長條光學膜F1在搬送方向上之移動量，並輸入至第1運算記憶裝置4。第1運算記憶裝置4基於從測距器3所輸入之移動量，每隔特定間隔對第1列印裝置2發送控制信號，從而使第1列印裝置2每隔特定間隔列印第1識別資訊M。 再者，第1實施方式中，以第1運算記憶裝置4亦具有控制第1列印裝置2之功能之情形為例進行了說明，但本發明並不限定於此，亦可採用由第1運算記憶裝置4以外之其他控制裝置控制第1列印裝置2之構成。

第1實施方式之第1列印裝置2藉由噴墨方式列印第1識別資訊M。作為較佳之形態，第1實施方式之第1列印裝置2係藉由使用透明墨水之噴墨方式列印第1識別資訊M。具體而言，第1實施方式中，藉由使用UV墨水作為透明墨水之噴墨方式列印第1識別資訊M，該UV墨水藉由照射紫外線而發出螢光。 作為第1列印裝置2，例如可使用Videojet公司製造之噴墨印表機「VJ1000系列」或日立產機公司製造之噴墨印表機「Gravis UX系列」。

(第3步驟S4) 第3步驟S4中，第1運算記憶裝置4將第1長條光學膜F1之第1缺陷資訊與第1識別資訊M建立關聯並加以記憶。具體如下所述。 例如，第1檢查裝置1檢測出圖2所示之缺陷D1，並特定出拍攝圖像中缺陷D1之位置(與缺陷D1相對應之像素區域之座標)，將其作為第1缺陷資訊輸入至第1運算記憶裝置4。因已從測距器3對第1運算記憶裝置4輸入有第1長條光學膜F1在搬送方向上之移動量，故第1運算記憶裝置4可掌握檢測出缺陷D1之時點(特定出拍攝圖像中與缺陷D1相對應之像素區域之座標的時點)與利用第1列印裝置2列印第1識別資訊M之時點之間，第1長條光學膜F1於搬送方向上移動之距離。基於第1長條光學膜F1於該兩時點間之移動量及拍攝圖像中與缺陷D1相對應之像素區域之座標，第1運算記憶裝置4可計算出從特定之第1識別資訊M(圖2所示之例中為第1識別資訊M3)至缺陷D1之距離(沿著第1長條光學膜F1之長邊方向之距離)X1。又，第1運算記憶裝置4基於拍攝圖像中與缺陷D1相對應之像素區域之座標，可計算出從第1長條光學膜F1之寬度方向之邊緣至缺陷D1之距離(沿著第1長條光學膜F1之寬度方向之距離)Y1。第1運算記憶裝置4將至少該第1識別資訊M(M3)與以第1識別資訊M(M3)為基準之缺陷D1之座標(X1，Y1)建立關聯並加以記憶。

[於長條光學積層體之製造步驟中執行之步驟] 將於上述製造步驟中製造之第1長條光學膜F1(第1識別資訊M以噴墨方式列印於滾紋加工部之第1長條光學膜)捲繞為卷狀，製成素材捲筒。將已製成素材捲筒之第1長條光學膜F1搬運至長條光學積層體之製造步驟。於長條光學積層體之製造步驟使用被搬運來之第1長條光學膜F1之素材捲筒。 如圖1所示，第1實施方式之長條光學積層體之製造步驟包括No.1步驟及No.2步驟。第1實施方式之長條光學積層體之製造步驟中，於No.1步驟中執行第4步驟S6～第7步驟S9後，再於No.2步驟中執行第4步驟S11及第6步驟S12。又，第1實施方式之長條光學積層體之製造步驟中，於No.1步驟中執行貼合步驟S5，於No.2步驟中執行讀取步驟S10。

(貼合步驟S5) 於No.1步驟中，將第1長條光學膜F1(保護膜)之素材捲筒捲出，並將第2長條光學膜(偏光元件)之素材捲筒捲出。之後，於貼合步驟S5中，如上所述經由接著劑等將第1長條光學膜F1貼合於第2長條光學膜之單側或雙側，從而獲得積層第1長條光學膜F1及第2長條光學膜而成之長條光學積層體F2(偏光膜)。

(第4步驟S6) 圖3係模式性地表示用以執行第4步驟S6～第6步驟S8之檢查系統之概略構成的立體圖。 如圖3所示，第4步驟S6中，檢查系統100所具備之第2檢查裝置5檢查藉由搬送捲筒R以卷對卷方式搬送(朝向圖3中粗實線箭頭所示之方向搬送)之長條光學積層體F2，獲取長條光學積層體F2之缺陷資訊即第2缺陷資訊。 第2檢查裝置5與圖2所示之第1檢查裝置1同樣地具備攝像機構5a及圖像處理機構5b，且具有與第1檢查裝置1同樣之功能，故此處省略詳細說明。第2檢查裝置5特定出拍攝圖像中之缺陷位置(與缺陷相對應之像素區域之座標)，從而獲取至少包含特定出之缺陷位置之資訊作為第2缺陷資訊。將所獲取之第2缺陷資訊輸入至檢查系統100所具備之第2運算記憶裝置8。

(第5步驟S7) 第5步驟S7中，檢查系統100所具備之第2列印裝置6於長條光學積層體F2之長邊方向上每隔特定間隔(例如1 m之等間隔)，將第2識別資訊N列印於長條光學積層體F2之寬度方向端部(較佳為位於較第1長條光學膜F1之滾紋加工部更靠寬度方向內側之長條光學積層體F2之部位)。圖3圖示出從長條光學積層體F2之前端側(搬送方向下游側)依序列印有第2識別資訊N1～N3之例。再者，實際上，第1識別資訊M係列印於構成長條光學積層體F2之第1長條光學膜F1，圖3中為了方便起見省略了第1識別資訊M之圖示。 第2識別資訊N至少包含特定出長條光學積層體F2之長邊方向位置之資訊，而第1識別資訊M至少包含特定出第1長條光學膜F1之長邊方向位置之資訊，第2識別資訊N與第1識別資訊M除此以外並無不同，故此處省略詳細說明。

再者，第1實施方式中，列印於長條光學積層體F2之第2識別資訊N被列印於同樣列印有第1識別資訊M之第1長條光學膜F1，但本發明並不限定於此。 例如，於在第2長條光學膜(偏光元件)之雙側貼合第1長條光學膜(保護膜)F1而形成長條光學積層體F2(偏光膜)之情形時，亦可將第1識別資訊M列印於其中一側之第1長條光學膜F1(保護膜)，而將第2識別資訊N列印於未列印第1識別資訊M之另一側之第1長條光學膜F1(保護膜，亦可兼作相位差膜)。 又，例如，於第2長條光學膜(偏光元件)之雙側貼合第1長條光學膜F1(保護膜)，進而於其中一側之第1長條光學膜貼合相位差膜而形成長條光學積層體F2(附相位差功能之偏光膜)之情形時，亦可將第1識別資訊M列印於另一側之第1長條光學膜(保護膜)F1，將第2識別資訊N列印於相位差膜。

利用第1列印裝置2進行之第1識別資訊M之列印係藉由第1運算記憶裝置4控制，同樣地，利用第2列印裝置6進行之第2識別資訊N之列印係藉由第2運算記憶裝置8控制。具體之控制內容與藉由第1列印裝置2進行之對第1識別資訊M之列印之控制相同，故此處省略詳細說明。

第1實施方式之第2列印裝置6與第1列印裝置2不同，係藉由雷射刻印列印第2識別資訊N。作為第2列印裝置6，例如可應用各種公知之列印裝置，該等列印裝置具有使用CO₂ 雷射藉由雷射刻印來進行列印之功能，故此處省略詳細說明。

(第6步驟S8) 第6步驟S8中，第2運算記憶裝置8將長條光學積層體F2之第2缺陷資訊與第2識別資訊N建立關聯並加以記憶。具體而言，與第1運算記憶裝置4將第1長條光學膜F1之第1缺陷資訊與第1識別資訊M建立關聯並加以記憶時之順序相同，故省略詳細說明，而第2運算記憶裝置8係使用從具有與測距器3相同構成之測距器7所輸入之長條光學積層體F2在搬送方向上之移動量，將至少第2識別資訊N(圖3所示之例中為第2識別資訊N3)與以第2識別資訊N(N3)為基準之缺陷D2之座標(X2，Y2)建立關聯並加以記憶。

(第7步驟S9) 圖4係模式性地表示用以執行第7步驟S9之檢查系統之概略構成的立體圖。 第7步驟S9中，第2運算記憶裝置8將第1長條光學膜F1之第1缺陷資訊與長條光學積層體F2之第2識別資訊建立關聯並加以記憶。具體而言，配置有用以讀取第1識別資訊M(圖4中圖示出第1識別資訊M1～M3)之第1讀取裝置9、及用以讀取第2識別資訊N(圖4中圖示出第2識別資訊N1～N3)之第2讀取裝置10，將第1讀取裝置9所讀取之第1識別資訊M、及第2讀取裝置10所讀取之第2識別資訊N輸入至第2運算記憶裝置8。此處，於第2運算記憶裝置8中已經預先輸入並記憶有第1運算記憶裝置4中記憶之第1長條光學膜F1之第1缺陷資訊與第1識別資訊M之關聯(第1識別資訊M與以第1識別資訊M為基準之缺陷之座標的關係)。輸入第1缺陷資訊與第1識別資訊M之關聯時，可將第1運算記憶裝置4與第2運算記憶裝置8電性連接，從第1運算記憶裝置4發送至第2運算記憶裝置8，亦可從第1運算記憶裝置4下載並手動輸入至第2運算記憶裝置8。又，從具有與測距器3相同構成之測距器11對第2運算記憶裝置8輸入長條光學積層體F2在搬送方向上之移動量。

第2運算記憶裝置8基於從測距器11所輸入之長條光學積層體F2在搬送方向上之移動量，可掌握第1讀取裝置9讀取第1識別資訊M之時點(第1識別資訊M被輸入至第2運算記憶裝置8之時點)與第2讀取裝置10讀取第2識別資訊N之時點(第2識別資訊N被輸入至第2運算記憶裝置8之時點)之間，長條光學積層體F2於搬送方向上移動之距離。基於長條光學積層體F2於該兩時點間之移動量，第2運算記憶裝置8可計算出第1識別資訊M與第2識別資訊N沿著長條光學積層體F2之長邊方向之位置偏移(圖4所示之例中為第1識別資訊M3與第2識別資訊N3之位置偏移dX)。 因此，第2運算記憶裝置8可基於預先記憶之第1長條光學膜F1之第1缺陷資訊與第1識別資訊M之關聯、以及所計算出第1識別資訊M及第2識別資訊N之位置偏移，將第1長條光學膜F1之第1缺陷資訊與長條光學積層體F2之第2識別資訊N建立關聯並加以記憶。換言之，可將第2識別資訊N與以第2識別資訊N為基準之缺陷之座標建立關聯並加以記憶。如此，藉由執行第7步驟S9，可基於長條光學積層體F2之第2識別資訊N，統籌管理第1缺陷資訊及第2缺陷資訊。 將執行第7步驟S9後之長條光學積層體F2捲繞為卷狀並搬運至No.2步驟。

圖5係模式性地表示第1讀取裝置9及第2讀取裝置10之概略構成例之側視圖(從長條光學積層體F2之寬度方向觀察之側視圖)。圖5(a)表示第1讀取裝置9之概略構成例，圖5(b)表示第2讀取裝置10之概略構成例。 如圖5(a)所示，第1讀取裝置9具備出射紫外線之UV照明91及攝像機構(區域傳感器)92。藉由將從UV照明91出射之紫外線照射於長條光學積層體F2之正面，藉由透明墨水(UV墨水)列印之第1識別資訊M會發出螢光。藉此，相對於長條光學積層體F2之正面配置於與UV照明91相同側(圖5(a)所示之例中為上側)之攝像機構92所獲取之拍攝圖像中，與第1識別資訊M相對應之像素區域變亮(與第2識別資訊N相對應之像素區域與背景同樣地變暗)，從而可辨別第1識別資訊M與第2識別資訊N來加以讀取。 再者，作為UV照明91，例如可使用出射波長200～400 nm左右之紫外線，較佳為使用出射波長365 nm左右之紫外線者。又，作為攝像機構92，例如可使用快門速度(曝光時間)為30～150 μsec左右之附高速快門之區域傳感器。

如圖5(b)所示，第2讀取裝置10具備：照明101，其配置於相對於長條光學積層體F2之正面之一側(圖5(b)所示之例中為下側)，出射平行光束；及攝像機構(區域傳感器)102，其配置於相對於長條光學積層體F2之正面之另一側(圖5(b)所示之例中為上側)，接收透過長條光學積層體F2之光。從照明101出射而照射至長條光學積層體F2之正面之平行光束因藉由雷射刻印所列印之第2識別資訊N而發生散射。藉此，攝像機構102所獲取之拍攝圖像中，與第2識別資訊N相對應之像素區域變暗(與第1識別資訊M相對應之像素區域與背景同樣地變亮)，從而可辨別第2識別資訊N與第1識別資訊M來加以讀取。

再者，雖然省略詳細說明，但於使用普通有色墨水列印第1識別資訊M之情形時，作為用以讀取第1識別資訊M之讀取裝置，使用將圖5(b)所示之照明101替換為照射擴散光之照明之讀取裝置，藉此攝像機構102所獲取之拍攝圖像中，與第1識別資訊M相對應之像素區域變暗(與第2識別資訊N相對應之像素區域與背景同樣地變亮)，從而可辨別第1識別資訊M與第2識別資訊N來加以讀取。

(讀取步驟S10) 於No.2步驟中，將捲繞為卷狀之長條光學積層體F2捲出。之後，首先執行讀取步驟S10。 圖6係模式性地表示用以執行讀取步驟S10、第2次第4步驟S11及第6步驟S12(執行第7步驟S9後之第4步驟及第6步驟)之檢查系統之概略構成的立體圖。再者，實際上，第1識別資訊M列印於構成長條光學積層體F2之第1長條光學膜F1，圖6中為了方便省略了第1識別資訊M之圖示。 如圖6所示，讀取步驟S10中，藉由具有與檢查系統100所具備之第2讀取裝置10(參照圖4、圖5(b))相同構成之第2讀取裝置12讀取第2識別資訊N。所讀取之第2識別資訊N被輸入至第2運算記憶裝置8。

(第4步驟(第2次)S11) 第2次第4步驟S11中，具有與檢查系統100所具備之第2檢查裝置5相同構成之第2檢查裝置13(攝像機構13a及圖像處理機構13b)檢查藉由搬送捲筒R以卷對卷方式搬送(朝向圖6中粗實線箭頭所示之方向搬送)之長條光學積層體F2，獲取長條光學積層體F2之缺陷資訊即第2缺陷資訊。所獲取之第2缺陷資訊被輸入至第2運算記憶裝置8。

(第6步驟(第2次)S12) 第2次第6步驟S12中，第2運算記憶裝置8將第2檢查裝置13所獲取之長條光學積層體F2之第2缺陷資訊與第2讀取裝置12所讀取之第2識別資訊N建立關聯並加以記憶。具體而言，第2運算記憶裝置8使用從具有與測距器3相同構成之測距器14輸入之長條光學積層體F2在搬送方向上之移動量，掌握第2讀取裝置12讀取第2識別資訊N之時點與第2檢查裝置13檢測出缺陷之時點(特定出拍攝圖像中與缺陷相對應之像素區域之座標的時點)之間長條光學積層體F2於搬送方向上移動之距離，從而將至少第2識別資訊N與以第2識別資訊N為基準之缺陷之座標建立關聯並加以記憶。

第1實施方式中，以於長條光學積層體F2之製造步驟中執行2次檢查(利用第2檢查裝置5進行之檢查、利用第2檢查裝置13進行之檢查)之情形為例進行了說明，於檢查3次以上之情形時，第2次以後之檢查中，反覆執行讀取步驟S10、第4步驟S11及第6步驟S12即可。

根據以上說明之第1實施方式之檢查方法，由於藉由噴墨方式列印第1識別資訊M，藉由雷射刻印列印第2識別資訊N，故根據本發明人等之見解，即便第1識別資訊M與第2識別資訊N重疊，亦可辨別二者來加以讀取。即，可將缺陷資訊與識別資訊適當地建立關聯(將第1缺陷資訊與第1識別資訊M(甚至第2識別資訊N)建立關聯，將第2缺陷資訊與第2識別資訊N建立關聯)。 又，例如，藉由讀取第2識別資訊N，使用於第6步驟S8、S12中記憶之第2缺陷資訊與第2識別資訊N之關聯、及於第7步驟S9中記憶之第1缺陷資訊與第2識別資訊N之關聯，可避開於第1長條光學膜F1之狀態下產生之缺陷位置及於長條光學積層體F2之狀態下所產生之缺陷位置，從而沖裁製品。

但，本發明之檢查方法並不限定於藉由噴墨方式列印第1識別資訊M、藉由雷射刻印來列印第2識別資訊N之形態。藉由噴墨方式列印第1識別資訊M及第2識別資訊N中之任一者，並藉由雷射刻印來列印另一者，或者藉由使用透明墨水之噴墨方式列印任一者，並藉由使用有色墨水之噴墨方式列印另一者，均可辨別第1識別資訊M與第2識別資訊N來加以讀取。

再者，作為較佳之形態，第1實施方式之檢查方法亦可包括第8步驟(圖1中省略了圖示)，該步驟基於第1長條光學膜F1之第1識別資訊M(甚至長條光學積層體F2之第2識別資訊N)與第1缺陷資訊之關聯、及長條光學積層體F2之第2識別資訊N與第2缺陷資訊之關聯，於長條光學積層體F2之缺陷位置標註標記。具體而言，亦可讀取第2識別資訊N，於第1缺陷資訊及第2缺陷資訊中所包含之缺陷位置，藉由噴墨方式標註標記、或使用與專利文獻1之記載相同之標記油墨標註標記。藉由包括標註標記之第8步驟，於缺陷位置標註標記，故目視亦可特定出缺陷位置。

圖7係表示第1實施方式之檢查方法之第1識別資訊M及第2識別資訊N之列印例的圖。圖7所示之例係如下之長條光學積層體F2(偏光膜)：其係使用三乙醯纖維素(TAC)製保護膜及丙烯酸樹脂製保護膜作為第1長條光學膜F1，於作為第2長條光學膜之偏光元件之雙側貼合該等第1長條光學膜F1而形成。圖7所示之例中，於藉由使用透明墨水(UV墨水)之噴墨方式將第1識別資訊M列印於丙烯酸樹脂製保護膜後，將該丙烯酸樹脂製保護膜與TAC製保護膜分別貼合於偏光元件之雙側，之後，藉由雷射刻印將第2識別資訊N列印於TAC製保護膜側。圖7所示之圓形凹凸為形成於丙烯酸樹脂製保護膜之寬度方向端部之滾紋加工部，菱形凹凸為形成於TAC製保護膜之寬度方向端部之滾紋加工部。 再者，圖7所示之拍攝圖像為同時使用第1讀取裝置9所具備之UV照明91及第2讀取裝置10所具備之照明101兩者來對長條光學積層體F2進行照明之情形時所得之拍攝圖像。

圖8係表示藉由第1讀取裝置9讀取圖7所示之長條光學積層體F2之第1識別資訊M之結果的一例。如圖8所示，可知第1讀取裝置9所獲取之拍攝圖像中，與第1識別資訊M相對應之像素區域變亮(與第2識別資訊N相對應之像素區域與背景同樣地變暗)，從而可辨別第1識別資訊M與第2識別資訊N來加以讀取。

圖9係表示藉由第2讀取裝置10讀取圖7所示之長條光學積層體F2之第2識別資訊N之結果的一例。如圖9所示，可知第2讀取裝置10所獲取之拍攝圖像中，與第2識別資訊N相對應之像素區域變暗(與第1識別資訊M相對應之像素區域與背景同樣地變亮)，從而可辨別第2識別資訊N與第1識別資訊M來加以讀取。

再者，第1實施方式中，對執行滾紋加工步驟S1之後(於第1長條光學膜F1形成滾紋加工部之後)於第2步驟S3中將第1識別資訊M列印於第1長條光學膜F1之例進行了說明，但本發明並不限定於此。亦可於形成滾紋加工部之前，將第1識別資訊M列印於預定形成滾紋加工部之部位(即，於列印第1識別資訊M之後形成滾紋加工部)。

又，第1實施方式中，以執行複數次長條光學積層體F2之檢查之情形為例進行了說明，但本發明並不限定於此，亦可僅執行1次長條光學積層體F2之檢查。於此情形時，無需圖1所示之讀取步驟S10、第4步驟(第2次)S11及第6步驟(第2次)S12。但，於避開在第1長條光學膜F1之狀態下所產生之缺陷位置及在長條光學積層體F2之狀態下所產生之缺陷位置而沖裁製品時、或執行於長條光學積層體F2之缺陷位置標註標記之第8步驟之情形時，需要讀取步驟S10。

又，第1實施方式中，以僅執行1次第1長條光學膜F1之檢查之情形為例進行了說明，但本發明並不限定於此，亦可與長條光學積層體F2之檢查同樣地執行複數次。於此情形時，第2次以後之檢查中，需要於圖1所示之第3步驟S4之後，重複執行讀取第1識別資訊M之讀取步驟、與第1步驟S2同樣地獲取第1缺陷資訊之步驟、及與第3步驟S4同樣地將第1缺陷資訊與第1識別資訊M建立關聯並加以記憶之步驟。

又，第1實施方式中，以藉由執行第7步驟S9，基於長條光學積層體F2之第2識別資訊N而統籌管理第1缺陷資訊及第2缺陷資訊之情形為例進行了說明，但本發明並不限定於此。亦可不執行第7步驟S9，而基於第1識別資訊M管理第1缺陷資訊，基於第2識別資訊N管理第2缺陷資訊。具體而言，例如亦可藉由讀取第1識別資訊M，使用於第3步驟S4中記憶之第1缺陷資訊與第1識別資訊M之關聯，從而避開於第1長條光學膜F1之狀態下所產生之缺陷位置而沖裁製品，亦可藉由讀取第2識別資訊N，使用於第6步驟S8中記憶之第2缺陷資訊與第2識別資訊N之關聯，從而避開於長條光學積層體F2之狀態下所產生之缺陷位置而沖裁製品。

又，第1實施方式中，本實施方式中，以第1長條光學膜F1為保護膜、第2長條光學膜為偏光元件、長條光學積層體F2為偏光膜之情形為例進行了說明，但本發明並不限定於此。例如，第1長條光學膜F1亦可為相位差膜，第2長條光學膜亦為偏光元件。又，第1長條光學膜F1亦可為相位差膜、反射型偏光元件、防反射膜、ITO(Indium Tin Oxides，氧化銦錫)膜等導電性膜、及例如由聚醯亞胺等製造之窗膜等，第2長條光學膜亦可為偏光膜(偏光元件與保護膜之積層體)。

＜第2實施方式＞ 本發明之第2實施方式之長條光學積層體之檢查方法與第1實施方式之不同之處在於：對第1長條光學膜F1即保護膜實施防眩處理等表面處理，於表面處理之前後分別執行檢查。以下，主要就與第1實施方式之不同之處對第2實施方式之檢查方法進行說明，適當省略與第1實施方式之相同點之說明。

圖10係部分表示第2實施方式之檢查方法之概略步驟之流程圖。具體而言，圖10表示對圖1所示之第1實施方式之檢查方法附加第2實施方式之檢查方法的步驟。 第2實施方式之檢查方法除包括第1實施方式之檢查方法所含之步驟S1～S12以外，如圖10所示，還於第1長條光學膜F1之製造步驟中執行之第3步驟S4與貼合步驟S5之間，包括以虛線包圍之步驟S20。具體而言，第2實施方式之檢查方法包括步驟S21～S24。以下，依序對各步驟進行說明。

(表面處理步驟S21) 表面處理步驟S21中，將執行第3步驟S4後捲繞為卷狀之第1長條光學膜F1(保護膜)之素材捲筒捲出，實施表面處理。作為表面處理步驟S21中實施之表面處理，除可例示防眩處理以外，還可例示硬塗處理、防反射處理、抗沾黏處理等。

(讀取步驟S22) 讀取步驟S22中，藉由與第1實施方式之第1讀取裝置9具有同樣構成之讀取裝置，讀取用搬送輥以卷對卷方式搬送之表面處理後之第1長條光學膜F1之第1識別資訊M。將所讀取之第1識別資訊M輸入至第1運算記憶裝置4。

(第1步驟(第2次)S23) 第2次第1步驟S23中，由與第1實施方式之第1檢查裝置1(攝像機構1a及圖像處理機構1b)具有同樣構成之檢查裝置對用搬送輥以卷對卷方式搬送之表面處理後之第1長條光學膜F1進行檢查，獲取表面處理後之第1長條光學膜F1之缺陷資訊即第1'缺陷資訊。將所獲取之第1'缺陷資訊輸入至第1運算記憶裝置4。

(第3步驟(第2次)S24) 第2次第3步驟S24中，第1運算記憶裝置4將第2次第1步驟S23所獲取之表面處理後之第1長條光學膜F1之第1'缺陷資訊與讀取步驟S22所讀取之第1識別資訊M建立關聯並加以記憶。第1運算記憶裝置4中，已經藉由第3步驟S4將表面處理前之第1長條光學膜F1之第1缺陷資訊與第1識別資訊M建立關聯並加以記憶，因此第1運算記憶裝置4用表面處理後之第1長條光學膜F1之第1'缺陷資訊覆寫第1缺陷資訊，與第1識別資訊M建立關聯並加以記憶。 具體而言，第1運算記憶裝置4使用從與測長器3具有同樣構成之測長器輸入的表面處理後之第1長條光學膜F1在搬送方向上之移動量，掌握以讀取裝置讀取第1識別資訊M之時點與用檢查裝置檢測出缺陷之時點(特定出拍攝圖像中相當於缺陷之像素區域之座標之時點)之間，表面處理後之第1長條光學膜F1在搬送方向上移動了多少距離，至少將第1識別資訊M與以第1識別資訊M為基準之缺陷座標建立關聯並加以記憶。

以上說明之第2實施方式之檢查方法中，亦以上述列印模式1～6之任一模式列印第1識別資訊M及第2識別資訊N。因此，根據第2實施方式之檢查方法，與第1實施方式同樣地，即便第1識別資訊M與第2識別資訊N重疊，亦可辨別兩者加以讀取。即，可將缺陷資訊與識別資訊適當地建立關聯(將第1缺陷資訊與第1識別資訊M(進而第2識別資訊N)建立關聯，將第2缺陷資訊與第2識別資訊N建立關聯)。 又，例如讀取第2識別資訊N，使用第6步驟S8、S12中記憶之第2缺陷資訊與第2識別資訊N之關聯，並且使用第7步驟S9中記憶之第1缺陷資訊與第2識別資訊N之關聯，藉此可避開第1長條光學膜F1(表面處理前後之第1長條光學膜)之狀態下產生之缺陷位置及長條光學積層體F2之狀態下產生之缺陷位置而沖裁製品。

＜第3實施方式＞ 本發明之第3實施方式之長條光學積層體之檢查方法與第1實施方式之不同之處在於：第1長條光學膜F1為塗佈有液晶材料之基材，於對第1長條光學膜F1塗佈液晶材料前後執行檢查；以及第2長條光學膜為偏光膜，檢查第2長條光學膜而獲取第2缺陷資訊，將第2識別資訊N列印於第2長條光學膜。以下，主要就與第1實施方式之不同之處對第3實施方式之檢查方法進行說明，適當省略與第1實施方式之相同點之說明。再者，第1實施方式中，使用F2作為長條光學積層體之參照符號，而第3實施方式中使用F2作為第2長條光學膜之參照符號。

圖11～圖13係表示第3實施方式之檢查方法之概略步驟之流程圖。圖11係表示第1長條光學膜F1之製造步驟中執行之概略步驟的流程圖。圖12係表示第2長條光學膜F2之製造步驟中執行之概略步驟的流程圖。圖13係表示長條光學積層體之製造步驟中執行之概略步驟的流程圖。 又，圖14係模式性地表示圖11所示之第1長條光學膜F1之製造步驟中各膜之狀態的剖視圖。圖15係模式性地表示圖12所示之第2長條光學膜F2之製造步驟中各膜之狀態的剖視圖。圖16係模式性地表示圖13所示之長條光學積層體之製造步驟中各膜之狀態的剖視圖。再者，應注意圖14～圖16中所示之構成要素之尺寸、縮小比例及形狀存在與實際不同之情形。 第3實施方式之檢查方法包括：如圖11所示，第1長條光學膜F1之製造步驟中執行之步驟S31～S38；如圖12所示，第2長條光學膜F2之製造步驟中執行之步驟S41～S45；及如圖13所示，長條光學積層體之製造步驟中執行之步驟S51～S57。以下，依序對各步驟進行說明。

[第1長條光學膜F1之製造步驟中執行之步驟] (基材製造步驟S31) 圖11所示之基材製造步驟S31中，製造圖14(a)所示之第1長條光學膜F1(基材)。例如將樹脂材料熔融擠出製成樹脂膜，並將其延伸，藉此製造第1長條光學膜F1。 作為形成第1長條光學膜F1之樹脂材料，例如可列舉聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯；聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴；降莰烯系聚合物等環狀聚烯烴；雙乙醯纖維素、三乙醯纖維素等纖維素系聚合物；丙烯酸系聚合物；苯乙烯系聚合物；聚碳酸酯、聚醯胺、聚醯亞胺等。較佳為使用降莰烯系聚合物等環狀聚烯烴作為樹脂材料。

(第1步驟S32) 第1步驟S32中，與第1實施方式相同的第1檢查裝置1(攝像機構1a及圖像處理機構1b)對用搬送輥以卷對卷方式搬送之第1長條光學膜F1進行檢查，獲取第1長條光學膜F1之缺陷資訊即第1缺陷資訊。將所獲取之第1缺陷資訊輸入至與第1實施方式相同的第1運算記憶裝置4。 再者，如下所述，與第2長條光學膜F2貼合後，將作為基材之第3實施方式之第1長條光學膜F1剝離去除。然而，若第1長條光學膜存在缺陷，則第1長條光學膜之缺陷會被轉印至在第1長條光學膜塗佈液晶材料而形成之液晶層，可能導致搬送中第1長條光學膜破斷而對製造步驟造成不便。因此，第3實施方式中，檢查第1長條光學膜F1是有意義的。

(第2步驟S33) 第2步驟S33中，與第1實施方式相同的第1列印裝置2於第1長條光學膜F1之長邊方向上每隔特定間隔將圖14(b)所示之第1識別資訊M以噴墨方式(較佳為使用透明墨水之噴墨方式)列印於第1長條光學膜F1之寬度方向端部。

(第3步驟S34) 第3步驟S34中，第1運算記憶裝置4將第1長條光學膜F1之第1缺陷資訊與第1識別資訊M建立關聯並加以記憶。具體而言，第1運算記憶裝置4使用從測長器3輸入之第1長條光學膜F1在搬送方向上之移動量，掌握藉由第1檢查裝置1檢測到缺陷之時點與藉由第1列印裝置2列印第1識別資訊M之時點之間，第1長條光學膜F1在搬送方向上移動之距離，至少將第1識別資訊M與以第1識別資訊M為基準之缺陷座標建立關聯並加以記憶。

(塗佈步驟S35) 塗佈步驟S35中，於第1長條光學膜F1塗佈液晶材料(液晶性組成物)，於第1長條光學膜F1上形成圖14(c)所示之液晶層F11(配向液晶層)。如圖14(c)所示，於第1長條光學膜F1之與列印有第1識別資訊M之面為相反側之面塗佈液晶材料，於該相反側之面形成配向液晶層F11。 塗佈於第1長條光學膜F1之液晶性組成物包含液晶化合物。將液晶性組成物塗佈於第1長條光學膜F1後，使液晶化合物沿特定方向配向，並固定該配向狀態，藉此於第1長條光學膜F1上形成配向液晶層F11。

作為液晶化合物，例如可列舉棒狀液晶化合物、圓盤狀液晶化合物。較佳為使用棒狀液晶化合物作為液晶化合物，因其容易藉由第1長條光學膜F1(基材)之配向限制力進行水平配向。棒狀液晶化合物為主鏈型液晶或側鏈型液晶均可。棒狀液晶化合物可為液晶聚合物，亦可為聚合性液晶化合物之聚合物。只要聚合前之液晶化合物(單體)表現出液晶性即可，聚合後亦可不表現液晶性。 液晶化合物較佳為藉由加熱表現出液晶性之熱致型液晶。熱致型液晶伴隨溫度變化產生結晶相、液晶相、各向同性相之相轉移。液晶性組成物所含之液晶化合物可為向列型液晶、層列型液晶、膽固醇狀液晶之任一者。亦可於向列型液晶中添加手性劑而使其具有膽固醇狀配向性。

於液晶性組成物所含之液晶化合物為熱致型液晶之情形時，於第1長條光學膜F1上塗佈液晶性組成物，進行加熱使液晶化合物成為液晶狀態進行配向，形成液晶性組成物層。然後，藉由加熱液晶性組成物層使其成為液晶相，而形成液晶化合物配向而成之配向液晶層F11。配向液晶層F11之光學特性並無特別限定，例如作為1/4波長板或1/2波長板發揮功能。較佳為配向液晶層F11成為發揮作為正型A板之1/4波長板之功能的水平配向液晶層。

(讀取步驟S36) 讀取步驟S36中，藉由與第1實施方式之第1讀取裝置9具有同樣構成之讀取裝置，讀取用搬送輥以卷對卷方式搬送之塗佈液晶材料後(形成配向液晶層F11後)之第1長條光學膜F1之第1識別資訊M。將所讀取之第1識別資訊M輸入至第1運算記憶裝置4。

(第1步驟(第2次)S37) 第2次第1步驟S37中，與第1實施方式之第1檢查裝置1(攝像機構1a及圖像處理機構1b)具有同樣構成之檢查裝置對用搬送輥以卷對卷方式搬送之塗佈液晶材料後(形成配向液晶層F11後)之第1長條光學膜F1進行檢查，獲取塗佈液晶材料後之第1長條光學膜F1之缺陷資訊即第1'缺陷資訊。將所獲取之第1'缺陷資訊輸入至第1運算記憶裝置4。

(第3步驟(第2次)S38) 第2次第3步驟S38中，第1運算記憶裝置4將第2次第1步驟S37所獲取之塗佈液晶材料後之第1長條光學膜F1之第1'缺陷資訊與讀取步驟S36所讀取之第1識別資訊M建立關聯並加以記憶。第1運算記憶裝置4中，已經藉由第3步驟S34將液晶材料塗佈前之第1長條光學膜F1之第1缺陷資訊與第1識別資訊M建立關聯並加以記憶，因此第1運算記憶裝置4用塗佈液晶材料後之第1長條光學膜F1之第1'缺陷資訊覆寫第1缺陷資訊，與第1識別資訊M建立關聯並加以記憶。 具體而言，第1運算記憶裝置4使用從與測長器3具有同樣構成之測長器輸入之塗佈液晶材料後之第1長條光學膜F1在搬送方向上之移動量，掌握用讀取裝置讀取第1識別資訊M之時點與用檢查裝置檢測到缺陷之時點(特定出拍攝圖像中相當於缺陷之像素區域之座標之時點)之間，塗佈液晶材料後之第1長條光學膜F1在搬送方向上移動之距離，至少將第1識別資訊M與以第1識別資訊M為基準之缺陷座標建立關聯並加以記憶。

[第2長條光學膜F2之製造步驟中執行之步驟] (保護膜製造步驟S41) 圖12所示之保護膜製造步驟S41中，製造圖15(a)所示之保護膜F21。作為保護膜F21，可使用與第1實施方式之第1長條光學膜F1相同者。即，作為保護膜F21，例如較佳為使用包含三乙醯纖維素等乙酸酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚芳酯、聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚降莰烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、液晶聚合物等聚合物之膜。 保護膜F21亦可為藉由流延法、軋光法、擠出法之任一方法製造者。所製造之保護膜F21捲繞為卷狀而成為素材捲筒。 再者，第3實施方式中，與第1實施方式之第1長條光學膜F1不同，不於保護膜F21列印識別資訊。

(貼合步驟S42) 第2長條光學膜F2之製造步驟中，捲出保護膜F21之素材捲筒，並捲出另外製造之偏光元件F22之素材捲筒。然後，貼合步驟S42中，於偏光元件F22之單側或雙側經由接著劑等貼合保護膜F21，如圖15(b)所示，獲得積層保護膜F21與偏光元件F22而成之第2長條光學膜F2(偏光膜)。 作為偏光元件F22，可使用與第1實施方式之第2長條光學膜同樣者。即，作為偏光元件F22，可使用進行過染色處理、交聯處理及延伸處理之聚乙烯醇系膜乾燥後製造而成者。

(第4步驟S43) 第4步驟S43中，與第1實施方式相同的第2檢查裝置5(攝像機構5a及圖像處理機構5b)對用搬送輥以卷對卷方式搬送之第2長條光學膜F2進行檢查，獲取第2長條光學膜F2之缺陷資訊即第2缺陷資訊。將所獲取之第2缺陷資訊輸入至與第1實施方式相同的第2運算記憶裝置8。

(第5步驟S44) 第5步驟S44中，與第1實施方式相同的第2列印裝置6於第2長條光學膜F2之長邊方向上每隔特定間隔，將圖15(c)所示之第2識別資訊N藉由雷射刻印列印於第2長條光學膜F2之寬度方向端部。具體而言，將第2識別資訊N列印於構成第2長條光學膜F2之保護膜F21。

(第6步驟S45) 第6步驟S45中，第2運算記憶裝置8將第2長條光學膜F2之第1缺陷資訊與第2識別資訊N建立關聯並加以記憶。具體而言，第2運算記憶裝置8使用從測長器7輸入的第2長條光學膜F2在搬送方向上之移動量，掌握藉由第2檢查裝置5檢測到缺陷之時點與藉由第2列印裝置6列印第2識別資訊N之時點之間，第2長條光學膜F2在搬送方向上移動之距離，至少將第2識別資訊N與以第2識別資訊N為基準之缺陷座標建立關聯並加以記憶。

[長條光學積層體之製造步驟中執行之步驟] 將上述第1長條光學膜F1之製造步驟中製造之第1長條光學膜F1(於作為基材之第1長條光學膜F1之一面形成有配向液晶層F11，於另一面以噴墨方式列印有第1識別資訊M之積層體)捲繞為卷狀而成為素材捲筒。又，將上述第2長條光學膜F2之製造步驟中製造之第2長條光學膜F2(積層保護膜F21與偏光元件F22，藉由雷射刻印於保護膜F21列印有第2識別資訊N之偏光膜)捲繞為卷狀而成為素材捲筒。將成為素材捲筒之第1長條光學膜F1及第2長條光學膜F2搬運至長條光學積層體之製造步驟。長條光學積層體之製造步驟中，使用搬運來之第1長條光學膜F1及第2長條光學膜F2之素材捲筒。 如圖13所示，第3實施方式之長條光學積層體之製造步驟包括No.1步驟及No.2步驟。再者，圖13所示之「A」意為圖11及圖12所示之「接A」後之步驟。

(貼合步驟S51) No.1步驟中，捲出第1長條光學膜F1(第1長條光學膜F1與配向液晶層F11之積層體)之素材捲筒，捲出第2長條光學膜F2(偏光膜)之素材捲筒。然後，貼合步驟S51中，以第1長條光學膜F1之配向液晶層F11側與第2長條光學膜F2之偏光元件F22側對向之方式，經由黏著劑20(例如丙烯酸系之黏著劑)將第1長條光學膜F1與第2長條光學膜F2貼合，如圖16(a)所示，獲得積層有第1長條光學膜F1與第2長條光學膜F2之長條光學積層體。於構成該長條光學積層體之第1長條光學膜F1列印有第1識別資訊M，於第2長條光學膜F2之保護膜F21列印有第2識別資訊N。

(第7步驟S52) 第7步驟S52中，第2運算記憶裝置8將第1長條光學膜F1之第1缺陷資訊與第2長條光學膜F2之第2識別資訊N建立關聯並加以記憶。具體而言，對於用搬送輥以卷對卷方式搬送之長條光學積層體，將藉由與第1實施方式相同的第1讀取裝置9所讀取之第1識別資訊M、及藉由第2讀取裝置10所讀取之第2識別資訊N輸入至第2運算記憶裝置8(但，與圖4所示之形態不同，配置為第1讀取裝置9可讀取列印於長條光學積層體之最下表面之第1識別資訊M，第2讀取裝置10可讀取列印於長條光學積層體之最上表面之第2識別資訊N)。此處，與第1實施方式同樣地，第2運算記憶裝置8中預先被輸入而記憶有第1運算記憶裝置4所記憶之第1長條光學膜F1之第1缺陷資訊與第1識別資訊M之關聯(第1識別資訊M與以第1識別資訊M為基準之缺陷座標之關係)。又，從與第1實施方式相同之測長器11將長條光學積層體在搬送方向上之移動量輸入至第2運算記憶裝置8。

第2運算記憶裝置8基於從測長器11輸入之長條光學積層體在搬送方向上之移動量，掌握藉由第1讀取裝置9讀取第1識別資訊M之時點(將第1識別資訊M輸入至第2運算記憶裝置8之時點)與藉由第2讀取裝置10讀取第2識別資訊N之時點(將第2識別資訊N輸入第2運算記憶裝置8之時點)之間，長條光學積層體在搬送方向上移動之距離。基於長條光學積層體在該兩時點間之移動量，第2運算記憶裝置8可計算出第1識別資訊M與第2識別資訊N沿著長條光學積層體之長邊方向之位置偏移。 因此，第2運算記憶裝置8基於預先記憶之第1長條光學膜F1之第1缺陷資訊與第1識別資訊M之關聯、及所算出之第1識別資訊M與第2識別資訊N之位置偏移，將第1長條光學膜F1之第1缺陷資訊與第2長條光學膜F2之第2識別資訊N建立關聯並加以記憶。換言之，可將第2識別資訊N與以第2識別資訊N為基準之缺陷座標建立關聯並加以記憶。如此，藉由執行第7步驟S52，可基於第2長條光學膜F2之第2識別資訊N，統籌管理第1缺陷資訊及第2缺陷資訊。

(第3缺陷資訊獲取步驟S53) 第3缺陷資訊獲取步驟S53中，與第1實施方式之第2檢查裝置5(攝像機構5a及圖像處理機構5b)具有同樣構成之檢查裝置對用搬送輥以卷對卷方式搬送之圖16(a)所示之長條光學積層體進行檢查，獲取長條光學積層體之缺陷資訊即第3缺陷資訊。將所獲取之第3缺陷資訊輸入至第2運算記憶裝置8。

(記憶步驟S54) 記憶步驟S54中，第2運算記憶裝置8將第3缺陷資訊獲取步驟S53所獲取之長條光學積層體之第3缺陷資訊與第7步驟S52所讀取之第2識別資訊N建立關聯並加以記憶。具體而言，第2運算記憶裝置8使用從與測長器11具有同樣構成之測長器輸入之長條光學積層體在搬送方向上之移動量，掌握於藉由第2讀取裝置10讀取第2識別資訊N之時點與藉由檢查裝置檢測到缺陷之時點(特定出拍攝圖像中相當於缺陷之像素區域之座標之時點)之間，長條光學積層體在搬送方向上移動之距離，至少將第2識別資訊N與以第2識別資訊N為基準之缺陷座標建立關聯並加以記憶。藉由執行該記憶步驟S54，可基於第2長條光學膜F2之第2識別資訊N，統籌管理第1缺陷資訊、第2缺陷資訊及第3缺陷資訊。 將執行記憶步驟S54後之長條光學積層體捲繞為卷狀，搬運至No.2步驟。

(讀取步驟S55) No.2步驟中，將捲繞為卷狀之長條光學積層體捲出，首先，將構成圖16(a)所示之長條光學積層體之第1長條光學膜F1(基材)剝離去除。然後，例如介隔紫外線硬化型接著劑30，於構成長條光學積層體之配向液晶層F11上，使液晶分子相對於基材面(剝離去除前之第1長條光學膜F1之面)垂直配向(homeotropic alignment)，形成作為正型C板發揮功能之配向液晶層40。進而，於該配向液晶層40塗佈與黏著劑20同樣之黏著劑50。藉由以上步驟，形成圖16(b)所示之長條光學積層體。 圖16(b)所示之長條光學積層體係於作為偏光膜之第2長條光學膜F2上，依序積層有配向液晶層F11(較佳為發揮作為正型A板之1/4波長板之功能的水平配向液晶層)、作為正型C板發揮功能之配向液晶層40，因此對於來自斜向之外界光，亦可作為可遮蔽反射光之圓偏光板發揮功能。再者，第3實施方式中，製造了於作為偏光膜之第2長條光學膜F2上依序積層有配向液晶層F11、配向液晶層40的長條光學積層體，亦可改變順序，製造於第2長條光學膜F2上依序積層有配向液晶層40、配向液晶層F11之長條光學積層體。於該情形時，於第1長條光學膜F1(基材)上形成配向液晶層40。 圖16(b)所示之長條光學積層體已經將列印有第1識別資訊M之第1長條光學膜F1剝離去除，因此僅存在列印於第2長條光學膜F2之保護膜F21之第2識別資訊N。然後，於No.2步驟中，對該長條光學積層體執行讀取步驟S55。 讀取步驟S55中，藉由與第1實施方式相同的第2讀取裝置12讀取第2識別資訊N。將所讀取之第2識別資訊N輸入至第2運算記憶裝置8。

(第3缺陷資訊獲取步驟(第2次)S56) 第2次第3缺陷資訊獲取步驟S56中，與第1實施方式相同的第2檢查裝置13(攝像機構13a及圖像處理機構13b)對用搬送輥以卷對卷方式搬送之長條光學積層體(圖16(b))進行檢查，獲取長條光學積層體之缺陷資訊即第3缺陷資訊。將所獲取之第3缺陷資訊輸入至第2運算記憶裝置8。

(記憶步驟(第2次)S57) 第2次記憶步驟S57中，第2運算記憶裝置8將藉由第2檢查裝置13所獲取之長條光學積層體之第2缺陷資訊與藉由第2讀取裝置12所讀取之第2識別資訊N建立關聯並加以記憶。具體而言，第2運算記憶裝置8使用從與第1實施方式相同的測長器14輸入之長條光學積層體在搬送方向上之移動量，掌握藉由第2讀取裝置12讀取第2識別資訊N之時點與藉由第2檢查裝置13檢測到缺陷之時點(特定出拍攝圖像中相當於缺陷之像素區域之座標之時點)之間，長條光學積層體在搬送方向上移動之距離，至少將第2識別資訊N與以第2識別資訊N為基準之缺陷座標建立關聯並加以記憶。

以上說明之第3實施方式之檢查方法中，藉由噴墨方式列印第1識別資訊M，藉由雷射刻印列印第2識別資訊N(但並不限定於此，以上述列印模式1～6之任一模式列印第1識別資訊M及第2識別資訊N即可)。因此，根據第3實施方式之檢查方法，與第1實施方式同樣地，即便從上下方向觀察時第1識別資訊M與第2識別資訊N重疊，亦可辨別兩者加以讀取。即，可將缺陷資訊與識別資訊適當地建立關聯(將第1缺陷資訊與第1識別資訊M(進而第2識別資訊N)建立關聯，將第2缺陷資訊與第2識別資訊N建立關聯，將第3缺陷資訊與第2識別資訊N建立關聯)。 又，例如讀取第2識別資訊N，使用第6步驟S45中記憶之第2缺陷資訊與第2識別資訊N之關聯，使用第7步驟S52中記憶之第1缺陷資訊與第2識別資訊N關聯，使用記憶步驟S54、S57中記憶之第3缺陷資訊與第2識別資訊N之關聯，藉此可避開第1長條光學膜F1之狀態下產生之缺陷位置、第2長條光學膜F2之狀態下產生之缺陷位置及長條光學積層體之狀態下產生之缺陷位置而沖裁製品。

再者，第3實施方式中，舉例說明了如下情形：列印第1識別資訊M之第1長條光學膜F1係塗佈液晶材料之基材(形成配向液晶層F11之基材)，配向液晶層F11作為1/4波長板發揮功能，但並不限定於此。亦可採用如下形態：作為第1長條光學膜F1，使用作為1/4波長板發揮功能之樹脂膜之延伸膜(相位差膜)，於該延伸膜列印第1識別資訊M(於該情形時，與第2長條光學膜F2貼合之後亦不剝離去除第1長條光學膜F1)。作為此種樹脂膜之材料，例如可列舉聚碳酸酯系樹脂、聚酯碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯醇縮醛系樹脂、聚芳酯系樹脂、環狀烯烴系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂。該等樹脂可單獨使用，亦可組合(例如摻合、共聚)使用。

＜第4實施方式＞ 本發明之第4實施方式之長條光學積層體之檢查方法係第1實施方式之檢查方法與第3實施方式之檢查方法之組合、或第2實施方式之檢查方法與第3實施方式之檢查方法之組合。 具體而言，第4實施方式之檢查方法中，與第1及第2實施方式之檢查方法同樣地，於保護膜列印識別資訊，與第1～第3實施方式之檢查方法同樣地，於偏光膜(保護膜與偏光元件之積層體)列印識別資訊，與第3實施方式之檢查方法同樣地，於基材或相位差膜列印識別資訊。

圖17係對第4實施方式之長條光學積層體之檢查方法中之列印模式進行說明的說明圖。圖17(a)係模式性地表示與藉由第3實施方式之貼合步驟S51所得之長條光學積層體(將圖16(a)所示之基材F1剝離去除前之長條光學積層體)對應的長條光學積層體之狀態之剖視圖。圖17(a)表示第4實施方式之較佳列印模式。 如圖17(a)所示，將列印於基材F1(或相位差膜)之識別資訊設為第1識別資訊M，將列印於偏光膜F2(具體而言為保護膜F21)之識別資訊設為第2識別資訊N，將列印於保護膜F21之識別資訊設為第3識別資訊P。此時，根據本發明者等人之見解，較佳為藉由圖17(b)所示之列印模式1～6之任一模式來列印第1識別資訊M、第2識別資訊N及第3識別資訊P。即，較佳為第1識別資訊M、第2識別資訊N及第3識別資訊P中，藉由雷射刻印來列印之識別資訊僅有1個，藉由使用有色墨水之噴墨方式來列印之識別資訊亦僅有1個。藉由以圖17(b)所示之列印模式1～6之任一模式來列印第1識別資訊M、第2識別資訊N及第3識別資訊P，即便沿上下方向觀察時第1識別資訊M、第2識別資訊N及第3識別資訊P重疊，亦可辨別該等而加以讀取。即，可將缺陷資訊與識別資訊適當地建立關聯。

1:第1檢查裝置 1a:攝像機構 1b:圖像處理機構 2:第1列印裝置 3:測長器 4:第1運算記憶裝置 5:第2檢查裝置 5a:攝像機構 5b:圖像處理機構 6:第2列印裝置 7:測長器 8:第2運算記憶裝置 9:第1讀取裝置 10:第2讀取裝置 11:測長器 12:第2讀取裝置 13:第2檢查裝置 13a:攝像機構 13b:圖像處理機構 14:測長器 20:黏著劑 30:接著劑 40:配向液晶層 50:黏著劑 91:UV照明 92:攝像機構 100:檢查系統 101:照明 102:攝像機構 D1:缺陷 D2:缺陷 F1:第1長條光學膜 F2:長條光學積層體、第2長條光學膜 F11:液晶層 F21:保護膜 F22:偏光元件 M:第1識別資訊 M1,M2,M3:第1識別資訊 N:第2識別資訊 N1,N2,N3:第2識別資訊 R:搬送捲筒

圖1係表示本發明之第1實施方式之長條光學積層體之檢查方法之概略步驟之流程圖。 圖2係模式性地表示用以執行圖1所示之第1步驟S2～第3步驟S4之檢查系統之概略構成的立體圖。 圖3係模式性地表示用以執行圖1所示之第4步驟S6～第6步驟S8之檢查系統之概略構成的立體圖。 圖4係模式性地表示用以執行圖1所示之第7步驟S9之檢查系統之概略構成的立體圖。 圖5(a)、(b)係模式性地表示圖4所示之第1讀取裝置9及第2讀取裝置10之概略構成例的側視圖(從長條光學積層體F2之寬度方向觀察之側視圖)。 圖6係模式性地表示用以執行圖1所示之讀取步驟S10、第2次第4步驟S11及第6步驟S12(執行第7步驟S9後之第4步驟及第6步驟)之檢查系統之概略構成的立體圖。 圖7係表示本發明之第1實施方式之長條光學積層體之檢查方法之第1識別資訊M及第2識別資訊N之列印例的圖。 圖8表示利用第1讀取裝置9讀取圖7所示之長條光學積層體F2之第1識別資訊M之結果的一例。 圖9表示利用第2讀取裝置10讀取圖7所示之長條光學積層體F2之第2識別資訊N所得之結果的一例。 圖10係部分表示本發明之第2實施方式之檢查方法之概略步驟的流程圖。 圖11係表示本發明之第3實施方式之檢查方法之概略步驟(於第1長條光學膜F1之製造步驟中執行之概略步驟)的流程圖。 圖12係表示本發明之第3實施方式之檢查方法之概略步驟(於第2長條光學膜F2之製造步驟中執行之概略步驟)的流程圖。 圖13係表示本發明之第3實施方式之檢查方法之概略步驟(於長條光學積層體之製造步驟中執行之概略步驟)的流程圖。 圖14(a)～(c)係模式性地表示圖11所示之第1長條光學膜F1之製造步驟中各膜之狀態的剖視圖。 圖15(a)～(c)係模式性地表示圖12所示之第2長條光學膜F2之製造步驟中各膜之狀態的剖視圖。 圖16(a)、(b)係模式性地表示圖13所示之長條光學積層體之製造步驟中各膜之狀態的剖視圖。 圖17(a)、(b)係對本發明之第4實施方式之長條光學積層體之檢查方法中之列印模式進行說明的說明圖。

Claims (10)

1. 一種長條光學積層體之檢查方法，其特徵在於包括： 第1步驟，其係檢查第1長條光學膜而獲取上述第1長條光學膜之缺陷資訊即第1缺陷資訊； 第2步驟，其係於上述第1長條光學膜之長邊方向上每隔特定間隔，將第1識別資訊列印於上述第1長條光學膜之寬度方向端部； 第3步驟，其係將上述第1長條光學膜之上述第1缺陷資訊與上述第1識別資訊建立關聯並加以記憶； 第4步驟，其係檢查第2長條光學膜，或檢查積層上述第1長條光學膜與上述第2長條光學膜而成之長條光學積層體，獲取上述第2長條光學膜或上述長條光學積層體之缺陷資訊即第2缺陷資訊； 第5步驟，其係於上述第2長條光學膜或上述長條光學積層體之長邊方向上每隔特定間隔，將第2識別資訊列印於上述第2長條光學膜或上述長條光學積層體之寬度方向端部；及 第6步驟，其係將上述第2長條光學膜或上述長條光學積層體之上述第2缺陷資訊與上述第2識別資訊建立關聯並加以記憶； 對於上述第2步驟所要列印之上述第1識別資訊及於上述第5步驟所要列印之上述第2識別資訊，藉由噴墨方式列印其中之任一者，並藉由雷射刻印來列印另一者；或者，藉由使用透明墨水之噴墨方式列印其中之任一者，並藉由使用有色墨水之噴墨方式列印另一者。
2. 如請求項1之長條光學積層體之檢查方法，其中上述第2步驟中，藉由使用透明墨水之噴墨方式列印上述第1識別資訊， 上述第5步驟中，藉由雷射刻印來列印上述第2識別資訊。
3. 如請求項1之長條光學積層體之檢查方法，其進而包括第7步驟， 上述第7步驟係將上述第1長條光學膜之上述第1缺陷資訊與上述第2長條光學膜或上述長條光學積層體之上述第2識別資訊建立關聯並加以記憶。
4. 如請求項1之長條光學積層體之檢查方法，其進而包括第8步驟， 上述第8步驟係基於上述第1長條光學膜之上述第1識別資訊及上述第1缺陷資訊、以及上述第2長條光學膜或上述長條光學積層體之上述第2識別資訊及上述第2缺陷資訊，於上述長條光學積層體之缺陷位置標註標記。
5. 如請求項1之長條光學積層體之檢查方法，其中 上述第1長條光學膜為保護膜， 上述第2長條光學膜為偏光元件， 上述長條光學積層體為偏光膜。
6. 如請求項1之長條光學積層體之檢查方法，其中 上述第1長條光學膜為相位差膜或塗佈有液晶材料之基材， 上述第2長條光學膜為偏光膜。
7. 如請求項1之長條光學積層體之檢查方法，其中 上述第1長條光學膜為反射型偏光元件， 上述第2長條光學膜為偏光膜。
8. 如請求項5之長條光學積層體之檢查方法，其中 於上述第1長條光學膜之寬度方向端部形成有滾紋加工部， 上述第2步驟中，藉由噴墨方式將上述第1識別資訊列印於上述第1長條光學膜之與上述滾紋加工部相應之部位。
9. 如請求項5之長條光學積層體之檢查方法，其中 於上述第1長條光學膜之寬度方向端部形成有滾紋加工部， 上述第5步驟中，將上述第2識別資訊列印至位於較上述第1長條光學膜之滾紋加工部更靠寬度方向內側的上述第2長條光學膜或上述長條光學積層體之部位。
10. 一種長條光學積層體之檢查系統，其特徵在於具備： 第1檢查裝置，其檢查第1長條光學膜而獲取上述第1長條光學膜之缺陷資訊即第1缺陷資訊； 第1列印裝置，其於上述第1長條光學膜之長邊方向上每隔特定間隔，將第1識別資訊列印於上述第1長條光學膜之寬度方向端部； 第1運算記憶裝置，其將上述第1長條光學膜之上述第1缺陷資訊與上述第1識別資訊建立關聯並加以記憶； 第2檢查裝置，其檢查第2長條光學膜，或檢查積層上述第1長條光學膜與上述第2長條光學膜而成之長條光學積層體，獲取上述第2長條光學膜或上述長條光學積層體之缺陷資訊即第2缺陷資訊； 第2列印裝置，其於上述第2長條光學膜或上述長條光學積層體之長邊方向上每隔特定間隔將第2識別資訊列印於上述第2長條光學膜或上述長條光學積層體之寬度方向端部；及 第2運算記憶裝置，其將上述第2長條光學膜或上述長條光學積層體之上述第2缺陷資訊與上述第2識別資訊建立關聯並加以記憶； 對於上述第1列印裝置所要列印之上述第1識別資訊、及上述第2列印裝置所要列印之上述第2識別資訊，藉由噴墨方式列印其中之任一者，並藉由雷射刻印來列印另一者；或者，藉由使用透明墨水之噴墨方式列印其中之任一者，並藉由使用有色墨水之噴墨方式列印另一者。

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