WO2021117670A1 - 長尺光学積層体の検査方法及び検査システム - Google Patents

Abstract

【課題】第１長尺光学フィルムに印字された第１識別情報と、長尺光学積層体に印字された第２識別情報との双方を、長尺光学積層体の状態で読み取り可能にする。 【解決手段】第１長尺光学フィルムＦ１を検査して第１欠陥情報を取得する第１工程と、第１長尺光学フィルムに第１識別情報Ｍを印字する第２工程と、第１欠陥情報と第１識別情報とを紐付けて記憶する第３工程と、第１長尺光学フィルムが積層された長尺光学積層体Ｆ２を検査して第２欠陥情報を取得する第４工程と、長尺光学積層体に第２識別情報を印字する第５工程と、第２欠陥情報と第２識別情報とを紐付けて記憶する第６工程と、を含み、第１識別情報及び第２識別情報のうち、何れか一方をインクジェット方式で印字して、何れか他方をレーザ刻印で印字するか、又は、何れか一方を透明インクを用いたインクジェット方式で印字して、何れか他方を有色インクを用いたインクジェット方式で印字する。

Description

長尺光学積層体の検査方法及び検査システム

　本発明は、第１長尺光学フィルム（例えば、保護フィルム）と第２長尺光学フィルム（例えば、偏光子）とが積層された長尺光学積層体（例えば、偏光フィルム）の検査方法及び検査システムに関する。特に、本発明は、第１長尺光学フィルムに印字された第１識別情報と、第２長尺光学フィルム又は長尺光学積層体に印字された第２識別情報との双方を、長尺光学積層体の状態で読み取り可能にすることで、欠陥情報と識別情報とを適切に紐付けることができる長尺光学積層体の検査方法及び検査システムに関する。

　長尺光学積層体として、例えば、液晶表示装置に用いられる偏光フィルムが知られている。長尺の偏光フィルムから用途に応じたサイズの偏光フィルムを打ち抜くまでの工程は、例えば、以下の如くである。

　まず、ロールツーロール方式で搬送される長尺の偏光フィルムを検査して、偏光フィルムに存在する欠陥を検出する。欠陥が検出された場合には、欠陥の位置にマーキングを施して、偏光フィルムを巻き取る。
　最終製品としての偏光フィルム（打ち抜き後の偏光フィルム）には、ユーザーの仕様に応じて種々のサイズが存在するが、長尺の偏光フィルム（偏光フィルム原反）としては共通して使用できる場合が多いので、偏光フィルム原反を大量に製造しておき、後日必要に応じて、偏光フィルム原反から必要なサイズの偏光フィルム製品を打ち抜いている。偏光フィルム製品を打ち抜く際には、欠陥が存在する位置を避けるか、或いは、打ち抜き後に欠陥が存在する位置にマーキングが施された偏光フィルム製品を不良品として取り除かなければならない。
　したがい、長尺の偏光フィルムを検査する際には、欠陥を検出して、その欠陥の位置等を欠陥情報として記憶しておく必要がある。

　欠陥情報を適切に管理して、偏光フィルム製品の歩留まりを高めるため、特許文献１には、偏光フィルムの幅方向端部に識別情報（少なくとも偏光フィルムの長手方向の位置を特定する情報）を印字して、欠陥情報と識別情報とを紐付ける偏光フィルムの検査方法が提案されている。
　特許文献１に記載の検査方法によれば、偏光フィルムの状態で発生した欠陥の欠陥情報を適切に管理することが可能である。

　しかしながら、偏光フィルムには、保護フィルムと偏光子とが積層された偏光フィルムの状態で発生した欠陥のみならず、保護フィルム単体（偏光子と積層する前の保護フィルム）の状態で発生する欠陥も存在する。そして、保護フィルム単体の状態で発生した欠陥は、偏光フィルムの状態で検査しても検出し難い場合がある。
　このため、保護フィルム単体でも検査を行う場合があるが、従来、この検査によって検出した欠陥の欠陥情報は適切に管理されていない。具体的には、保護フィルム単体に識別情報を印字して、欠陥情報と紐付けることは行われていない。

　なお、保護フィルムを巻き取る際、巻きズレ、巻き緩み、ブロッキング、ゲージバンドなどの発生を防止するため、保護フィルムの幅方向端部にレーザ刻印によって微小な凹凸を形成するナーリング加工を施す場合がある（例えば、特許文献２参照）。

特許第５９２５６０９号公報 特許第５５７８７５９号公報

　本発明は、上記のような従来技術の問題点を解決するためになされたものであり、第１長尺光学フィルム（例えば、保護フィルム）に印字された第１識別情報と、第２長尺光学フィルム（例えば、偏光子）又は長尺光学積層体（例えば、偏光フィルム）に印字された第２識別情報との双方を、長尺光学積層体の状態で読み取り可能にすることで、欠陥情報と識別情報とを適切に紐付けることができる長尺光学積層体の検査方法及び検査システムを提供することを課題とする。

　前記課題を解決するため、本発明者らは鋭意検討した結果、第１長尺光学フィルムに印字する第１識別情報と第２長尺光学フィルム又は長尺光学積層体に印字する第２識別情報とのうち、何れか一方をインクジェット方式で印字して、何れか他方をレーザ刻印で印字するか、又は、何れか一方を透明インクを用いたインクジェット方式で印字して、何れか他方を有色インクを用いたインクジェット方式で印字することにより、仮に第１識別情報と第２識別情報とが重なったとしても、両者を区別して読み取ることができることを見出し、本発明を完成した。
　すなわち、前記課題を解決するため、本発明は、第１長尺光学フィルムを検査して、前記第１長尺光学フィルムの欠陥情報である第１欠陥情報を取得する第１工程と、前記第１長尺光学フィルムの幅方向端部に、前記第１長尺光学フィルムの長手方向の所定間隔毎に第１識別情報を印字する第２工程と、前記第１長尺光学フィルムの前記第１欠陥情報と前記第１識別情報とを紐付けて記憶する第３工程と、第２長尺光学フィルムを検査して、又は、前記第１長尺光学フィルムと前記第２長尺光学フィルムとが積層された長尺光学積層体を検査して、前記第２長尺光学フィルム又は前記長尺光学積層体の欠陥情報である第２欠陥情報を取得する第４工程と、前記第２長尺光学フィルム又は前記長尺光学積層体の幅方向端部に、前記第２長尺光学フィルム又は前記長尺光学積層体の長手方向の所定間隔毎に第２識別情報を印字する第５工程と、前記第２長尺光学フィルム又は前記長尺光学積層体の前記第２欠陥情報と前記第２識別情報とを紐付けて記憶する第６工程と、を含み、前記第２工程において印字する前記第１識別情報及び前記第５工程において印字する前記第２識別情報のうち、何れか一方をインクジェット方式で印字して、何れか他方をレーザ刻印で印字するか、又は、何れか一方を透明インクを用いたインクジェット方式で印字して、何れか他方を有色インクを用いたインクジェット方式で印字する、ことを特徴とする長尺光学積層体の検査方法を提供する。

　本発明において、「欠陥情報」とは、少なくとも欠陥の位置を含む情報を意味する。また、「第１識別情報」とは、少なくとも第１長尺光学フィルムの長手方向の位置を特定する情報を含む情報を意味する。さらに、「第２識別情報」とは、少なくとも第２長尺光学フィルム又は長尺光学積層体の長手方向の位置を特定する情報を含む情報を意味する。
　本発明によれば、第１工程で第１長尺光学フィルムの第１欠陥情報を取得し、第２工程で第１長尺光学フィルムの第１識別情報を印字し、第３工程で第１欠陥情報と第１識別情報とを紐付けて記憶する。また、第４工程で第２長尺光学フィルム又は長尺光学積層体の第２欠陥情報を取得し、第５工程で第２長尺光学フィルム又は長尺光学積層体の第２識別情報を印字し、第６工程で第２欠陥情報と第２識別情報とを紐付けて記憶する。
　第１識別情報及び第２識別情報のうち、何れか一方がインクジェット方式で印字され、何れか他方がレーザ刻印で印字されるか、又は、何れか一方が透明インクを用いたインクジェット方式で印字され、何れか他方が有色インクを用いたインクジェット方式で印字される。透明インクは、光を照射することで蛍光発光するインクであり、紫外線を照射することで蛍光発光するＵＶインクを例示できる。

　すなわち、本発明によれば、以下の印字パターン１～６の何れかのパターンで第１識別情報及び第２識別情報が印字されることになる。
　（１）印字パターン１
　第１識別情報：透明インクを用いたインクジェット方式、第２識別情報：レーザ刻印
　（２）印字パターン２
　第１識別情報：有色インクを用いたインクジェット方式、第２識別情報：レーザ刻印
　（３）印字パターン３
　第１識別情報：レーザ刻印、第２識別情報：透明インクを用いたインクジェット方式
　（４）印字パターン４
　第１識別情報：レーザ刻印、第２識別情報：有色インクを用いたインクジェット方式
　（５）印字パターン５
　第１識別情報：透明インクを用いたインクジェット方式、第２識別情報：有色インクを用いたインクジェット方式
　（６）印字パターン６
　第１識別情報：有色インクを用いたインクジェット方式、第２識別情報：透明インクを用いたインクジェット方式
　このため、本発明者らが知見したように、第１識別情報と第２識別情報とが重なったとしても、両者を区別して読み取ることができる。すなわち、欠陥情報と識別情報とを適切に紐付ける（第１欠陥情報と第１識別情報とを紐付け、第２欠陥情報と第２識別情報とを紐付ける）ことができる。
　したがい、例えば、第１識別情報を読み取って、第３工程で記憶した第１欠陥情報と第１識別情報との紐付けを用いることで、第１長尺光学フィルムの状態で発生した欠陥の位置を避けて、製品を打ち抜くことが可能である。また、例えば、第２識別情報を読み取って、第６工程で記憶した第２欠陥情報と第２識別情報との紐付けを用いることで、第２長尺光学フィルム又は長尺光学積層体の状態で発生した欠陥の位置を避けて、製品を打ち抜くことが可能である。
　なお、本発明において、第１工程～第６工程は、必ずしもこの順に実行する必要はなく、例えば、第２工程を実行した後、第１工程を実行することも可能である。また、第５工程を実行した後、第４工程を実行することも可能である。

　本発明において、好ましくは、前記第２工程において、前記第１識別情報を透明インクを用いたインクジェット方式で印字し、前記第５工程において、前記第２識別情報をレーザ刻印で印字する。

　前述のように、第１識別情報及び第２識別情報の印字方法としては、印字パターン１～６の何れかのパターンを用いることが可能である。しかしながら、本発明者らが検討した結果によれば、印字パターン１、すなわち、第１識別情報を透明インクを用いたインクジェット方式で印字し、第２識別情報をレーザ刻印で印字するのが、最も第１識別情報と第２識別情報とを区別して読み取り易い。
　したがい、上記の好ましい方法によれば、欠陥情報と識別情報とをより一層適切に紐付ける（第１欠陥情報と第１識別情報とを紐付け、第２欠陥情報と第２識別情報とを紐付ける）ことができる。

　本発明において、好ましくは、前記第１長尺光学フィルムの前記第１欠陥情報と前記第２長尺光学フィルム又は前記長尺光学積層体の前記第２識別情報とを紐付けて記憶する第７工程を更に含む。

　上記の好ましい方法によれば、第２長尺光学フィルム又は長尺光学積層体の第２識別情報に、第２長尺光学フィルム又は長尺光学積層体の第２欠陥情報が紐付けられるのみならず、第１長尺光学フィルムの第１欠陥情報も紐付けられて記憶されることになる。換言すれば、第２長尺光学フィルム又は長尺光学積層体の第２識別情報に基づき、第１欠陥情報及び第２欠陥情報を一元管理することができる。
　したがい、第７工程を実行した後には、長尺光学積層体を構成する第１長尺光学フィルムの幅方向端部を切断（例えば、保護フィルムのナーリング加工部を切断）することで、第１識別情報が除去されたとしても、欠陥情報と識別情報とを適切に紐付ける（第１欠陥情報及び第２欠陥情報と第２識別情報とを紐付ける）ことができる。
　また、例えば、第２識別情報を読み取って、第６工程で記憶した第２欠陥情報と第２識別情報との紐付けを用いると共に、第７工程で記憶した第１欠陥情報と第２識別情報との紐付けを用いることで、第１長尺光学フィルムの状態で発生した欠陥の位置及び第２長尺光学フィルム又は長尺光学積層体の状態で発生した欠陥の位置を避けて、製品を打ち抜くことが可能である。すなわち、製品を打ち抜く際に、第１識別情報を読み取る手間を省くことが可能である。

　本発明において、好ましくは、前記第１長尺光学フィルムの前記第１識別情報及び前記第１欠陥情報と、前記第２長尺光学フィルム又は前記長尺光学積層体の前記第２識別情報及び前記第２欠陥情報とに基づき、前記長尺光学積層体の欠陥の位置にマーキングを施す第８工程を更に含む。

　上記の好ましい方法によれば、欠陥の位置にマーキングが施されるため、目視でも欠陥の位置を特定可能である。

　本発明は、前記第１長尺光学フィルムが保護フィルムであり、前記第２長尺光学フィルムが偏光子であり、前記長尺光学積層体が偏光フィルムである場合に、好適に用いることができる。
　また、本発明は、前記第１長尺光学フィルムが位相差フィルム又は液晶材料が塗工される基材であり、前記第２長尺光学フィルムが偏光フィルムである場合にも用いることができる。基材に塗工される液晶材料によって形成される液晶層としては、例えば、１／４波長板や、１／２波長板等の位相差板として機能するものが挙げられる。
　さらに、本発明は、前記第１長尺光学フィルムが反射型偏光子であり、前記第２長尺光学フィルムが偏光フィルムである場合にも用いることができる。

　本発明者らの知見によれば、第１長尺光学フィルムの幅方向端部にナーリング加工部が形成される場合、ナーリング加工部に相当する部位（ナーリング加工部が形成された部位、又は、ナーリング加工部が形成される予定の部位）にインクジェット方式で第１識別情報を印字しても、第１識別情報をナーリング加工部の凹凸と区別して読み取ることができる。一方、ナーリング加工部に相当する部位にレーザ刻印で第１識別情報を印字すると、第１識別情報をナーリング加工部の凹凸と区別して読み難い場合がある。
　したがい、本発明において、前記第１長尺光学フィルムの幅方向端部にナーリング加工部が形成される場合、前記第２工程において、前記第１長尺光学フィルムの前記ナーリング加工部に相当する部位に前記第１識別情報をインクジェット方式で印字することが好ましい。これにより、第１長尺光学フィルムの有効幅が第１識別情報を印字することによって狭まることなく、歩留まりを高めることができる。
　また、本発明において、前記第１長尺光学フィルムの幅方向端部にナーリング加工部が形成されており、前記第５工程において、前記第１長尺光学フィルムのナーリング加工部よりも幅方向内側に位置する前記第２長尺光学フィルム又は前記長尺光学積層体の部位に、前記第２識別情報を印字することが好ましい。これにより、第２識別情報をナーリング加工部の凹凸と確実に区別して読み取ることができる。

　また、前記課題を解決するため、本発明は、第１長尺光学フィルムを検査して、前記第１長尺光学フィルムの欠陥情報である第１欠陥情報を取得する第１検査装置と、前記第１長尺光学フィルムの幅方向端部に、前記第１長尺光学フィルムの長手方向の所定間隔毎に第１識別情報を印字する第１印字装置と、前記第１長尺光学フィルムの前記第１欠陥情報と前記第１識別情報とを紐付けて記憶する第１演算記憶装置と、第２長尺光学フィルムを検査して、又は、前記第１長尺光学フィルムと前記第２長尺光学フィルムとが積層された長尺光学積層体を検査して、前記第２長尺光学フィルム又は前記長尺光学積層体の欠陥情報である第２欠陥情報を取得する第２検査装置と、前記第２長尺光学フィルム又は前記長尺光学積層体の幅方向端部に、前記第２長尺光学フィルム又は前記長尺光学積層体の長手方向の所定間隔毎に第２識別情報を印字する第２印字装置と、前記第２長尺光学フィルム又は前記長尺光学積層体の前記第２欠陥情報と前記第２識別情報とを紐付けて記憶する第２演算記憶装置と、を備え、前記第１印字装置が印字する前記第１識別情報及び前記第２印字装置が印字する前記第２識別情報のうち、何れか一方がインクジェット方式で印字され、何れか他方がレーザ刻印で印字されるか、又は、何れか一方が透明インクを用いたインクジェット方式で印字され、何れか他方が有色インクを用いたインクジェット方式で印字される、ことを特徴とする長尺光学積層体の検査システムとしても提供される。

　本発明によれば、第１長尺光学フィルムに印字された第１識別情報と、第２長尺光学フィルム又は長尺光学積層体に印字された第２識別情報との双方を、長尺光学積層体の状態で読み取り可能にすることで、欠陥情報と識別情報とを適切に紐付けることができる。

本発明の第１実施形態に係る長尺光学積層体の検査方法の概略工程を示すフロー図である。 図１に示す第１工程Ｓ２～第３工程Ｓ４を実行するための検査システムの概略構成を模式的に示す斜視図である。 図１に示す第４工程Ｓ６～第６工程Ｓ８を実行するための検査システムの概略構成を模式的に示す斜視図である。 図１に示す第７工程Ｓ９を実行するための検査システムの概略構成を模式的に示す斜視図である。 図４に示す第１読取装置９及び第２読取装置１０の概略構成例を模式的に示す側面図（長尺光学積層体Ｆ２の幅方向から見た側面図）である。 図１に示す読み取り工程Ｓ１０、２回目の第４工程Ｓ１１及び第６工程Ｓ１２（第７工程Ｓ９実行後の第４工程及び第６工程）を実行するための検査システムの概略構成を模式的に示す斜視図である。 本発明の第１実施形態に係る長尺光学積層体の検査方法による第１識別情報Ｍ及び第２識別情報Ｎの印字例を示す図である。 図７に示す長尺光学積層体Ｆ２の第１識別情報Ｍを第１読取装置９で読み取った結果の一例を示す。 図７に示す長尺光学積層体Ｆ２の第２識別情報Ｎを第２読取装置１０で読み取った結果の一例を示す。 本発明の第２実施形態に係る検査方法の概略工程を部分的に示すフロー図である。 本発明の第３実施形態に係る検査方法の概略工程（第１長尺光学フィルムＦ１の製造工程で実行される概略工程）を示すフロー図である。 本発明の第３実施形態に係る検査方法の概略工程（第２長尺光学フィルムＦ２の製造工程で実行される概略工程）を示すフロー図である。 本発明の第３実施形態に係る検査方法の概略工程（長尺光学積層体の製造工程で実行される概略工程）を示すフロー図である。 図１１に示す第１長尺光学フィルムＦ１の製造工程における各フィルムの状態を模式的に示す断面図である。 図１２に示す第２長尺光学フィルムＦ２の製造工程における各フィルムの状態を模式的に示す断面図である。 図１３に示す長尺光学積層体の製造工程における各フィルムの状態を模式的に示す断面図である。 本発明の第４実施形態に係る長尺光学積層体の検査方法における印字パターンを説明する説明図である。

　＜第１実施形態＞
　以下、添付図面を適宜参照しつつ、本発明の第１実施形態に係る長尺光学積層体の検査方法（以下、適宜、単に「検査方法」という）及び長尺光学積層体の検査システム（以下、適宜、単に「検査システム」という）について説明する。
　第１実施形態に係る検査方法の検査対象である長尺光学積層体は、第１長尺光学フィルムと第２長尺光学フィルムとが積層されたフィルムである。第１実施形態では、第１長尺光学フィルムが保護フィルムであり、第２長尺光学フィルムが偏光子であり、長尺光学積層体が偏光フィルムであり、長尺光学積層体を検査して第２欠陥情報を取得し、長尺光学積層体に第２識別情報を印字する場合を例に挙げて説明する。最初に、長尺光学積層体（偏光フィルム）の具体例について説明する。

　［長尺光学積層体］
　長尺光学積層体としての偏光フィルムは、（Ａ）染色処理、架橋処理及び延伸処理を施したポリビニルアルコール系フィルムを乾燥させて、第２長尺光学フィルムとしての偏光子を製造する工程と、（Ｂ）第２長尺光学フィルム（偏光子）の片側又は両側に第１長尺光学フィルムとしての保護フィルムを貼り合わせる工程と、（Ｃ）貼り合わせた後に加熱処理する工程と、を含む製造方法により製造される。

　ポリビニルアルコール系フィルムの染色処理、架橋処理、延伸処理の各処理は、必ずしも別々に施す必要はなく、同時に施してもよく、また、各処理の順番も任意でよい。なお、ポリビニルアルコール系フィルムとして、膨潤処理を施したポリビニルアルコール系フィルムを用いてもよい。一般には、ポリビニルアルコール系フィルムを、ヨウ素や二色性色素を含む溶液に浸漬し、ヨウ素や二色性色素を吸着させて染色した後に洗浄し、ホウ酸やホウ砂等を含む溶液中で延伸倍率３倍～７倍で一軸延伸した後、乾燥させる。ヨウ素や二色性色素を含む溶液中で延伸した後、ホウ酸やホウ砂等を含む溶液中で更に延伸（二段延伸）した後、乾燥させることにより、ヨウ素の配向が高くなり、偏光度特性が良くなるため、特に好ましい。

　上記のポリビニルアルコール系フィルムを構成するポリビニルアルコール系ポリマーとしては、例えば、酢酸ビニルを重合した後にケン化したものや、酢酸ビニルに少量の不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、カチオン性モノマー等の共重合可能なモノマーを共重合したもの等が挙げられる。ポリビニルアルコール系ポリマーの平均重合度は、特に制限されず任意のものを使用することができるが、１０００以上が好ましく、より好ましくは２０００～５０００である。また、ポリビニルアルコール系ポリマーのケン化度は８５モル％以上が好ましく、より好ましくは９８～１００モル％である。

　製造される第２長尺光学フィルム（偏光子）の厚みは、５～８０μｍが一般的であるが、これに限定されるものではなく、また、第２長尺光学フィルム（偏光子）の厚みを調整する方法に関しても、特に限定されるものではなく、テンター、ロール延伸や圧延等の通常の方法を用いることができる。

　第２長尺光学フィルム（偏光子）と第１長尺光学フィルム（保護フィルム）との貼り合わせは、特に限定されるものではないが、例えば、ビニルアルコール系ポリマーからなる接着剤、或いは、ホウ酸やホウ砂、グルタルアルデヒドやメラミン、シュウ酸などのビニルアルコール系ポリマーの水溶性架橋剤から少なくともなる接着剤等を介して行うことができる。第２長尺光学フィルム（偏光子）と第１長尺光学フィルム（保護フィルム）とを貼り合わせる接着層は、水溶液の塗布乾燥層等として形成されるが、その水溶液の調製に際しては、必要に応じて、他の添加剤や、酸等の触媒も配合することができる。

　第２長尺光学フィルム（偏光子）の片側又は両側に貼り合わせる第１長尺光学フィルム（保護フィルム）には、適宜の透明フィルムを用いることができる。中でも、透明性や機械的強度、熱安定性や水分遮蔽性等に優れるポリマーからなるフィルムが好ましく用いられる。そのポリマーとしては、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリメチルメタクリレート系樹脂、液晶ポリマー等が挙げられる。フィルムは、キャスティング法、カレンダー法、押出し法のいずれで製造したものでもよい。

　また、特開２００１－３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルム、例えば、（Ａ）側鎖に置換及び／又は非置換イミド基を有する熱可塑性樹脂と、（Ｂ）側鎖に置換及び／又は非置換フェニル並びにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が挙げられる。具体例としては、イソブチレンとＮ－メチルマレイミドからなる交互共重合体とアクリロニトリル・スチレン共重合体とを含有する樹脂組成物のフィルムが挙げられる。フィルムとしては、樹脂組成物の混合押出品などからなるフィルムを用いることができる。これらのフィルムは、位相差が小さく、光弾性係数が小さいため、長尺光学積層体（偏光フィルム）の歪みによるムラなどの不具合を解消することができ、また透湿度が小さいため、加湿耐久性に優れる。

　また、第１長尺光学フィルム（保護フィルム）は、できるだけ色付きがないことが好ましい。したがい、Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ］・ｄ（ただし、ｎｘ、ｎｙはフィルム平面内の主屈折率、ｎｚはフィルム厚み方向の屈折率、ｄはフィルム厚みである）で表されるフィルム厚み方向の位相差値が－９０ｎｍ～＋７５ｎｍである第１長尺光学フィルム（保護フィルム）が好ましく用いられる。厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ）が－９０ｎｍ～＋７５ｎｍのものを使用することにより、第１長尺光学フィルム（保護フィルム）に起因する長尺光学積層体（偏光フィルム）の着色（光学的な着色）をほぼ解消することができる。厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ）は、さらに好ましくは－８０ｎｍ～＋６０ｎｍであり、特に－７０ｎｍ～＋４５ｎｍが好ましい。

　第１長尺光学フィルム（保護フィルム）としては、偏光特性や耐久性などの点から、（メタ）アクリル系樹脂が好ましい。また、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂が好ましく、特に表面をアルカリなどでケン化処理したトリアセチルセルロースフィルムが好ましい。なお、第２長尺光学フィルム（偏光子）の両側に第１長尺光学フィルム（保護フィルム）を貼り合わせる場合、その表裏で異なるポリマーからなる第１長尺光学フィルム（保護フィルム）を用いてもよい。

　第１長尺光学フィルム（保護フィルム）の厚みは、任意であるが、一般には、長尺光学積層体（偏光フィルム）の薄型化等を目的にして、５００μｍ以下、好ましくは１～３００μｍ、特に好ましくは５～２００μｍとされる。

　第１長尺光学フィルム（保護フィルム）は、本発明の目的を損なわない限り、ハードコート処理や反射防止処理、スティッキングの防止や拡散乃至アンチグレア等を目的とした処理等の表面処理を施したものであってもよい。ハードコート処理は、長尺光学積層体（偏光フィルム）の表面の傷付き防止などを目的に施されるものであり、例えばシリコーン系などの適宜な紫外線硬化型樹脂による硬度や滑り性等に優れる硬化皮膜を第１長尺光学フィルム（保護フィルム）の表面に付加する方式などにて形成することができる。

　一方、反射防止処理は、長尺光学積層体（偏光フィルム）の表面での外光の反射防止を目的に施されるものであり、従来に準じた反射防止膜などの形成により達成することができる。また、スティッキング防止処理は隣接層との密着防止を目的に、アンチグレア処理は長尺光学積層体（偏光フィルム）の表面で外光が反射して長尺光学積層体（偏光フィルム）透過光の視認を阻害することの防止などを目的に施されるものであり、例えばサンドブラスト方式やエンボス加工方式等による粗面化方式や透明微粒子の配合方式などの適宜な方式にて第１長尺光学フィルム（保護フィルム）の表面に微細凹凸構造を付与することにより形成することができる。

　上記の透明微粒子には、例えば平均粒径が０．５～２０μｍのシリカやアルミナ、チタニアやジルコニア、酸化錫や酸化インジウム、酸化カドミウムや酸化アンチモン等が挙げられ、導電性を有する無機系微粒子を用いてもよく、また、架橋又は未架橋のポリマー粒状物等からなる有機系微粒子などを用いることができる。透明微粒子の使用量は、透明樹脂１００質量部あたり２～７０質量部、特に５～５０質量部が一般的である。

　さらに、透明微粒子配合のアンチグレア層は、透明保護層そのものとして、或いは透明保護層表面への塗工層などとして設けることができる。アンチグレア層は、長尺光学積層体（偏光フィルム）の透過光を拡散して視角を拡大するための拡散層（視角補償機能など）を兼ねるものであってもよい。なお、上記した反射防止層やスティッキング防止層、拡散層やアンチグレア層等は、それらの層を設けたシートなどからなる光学層として透明保護層とは別体のものとして設けることもできる。

　［第１実施形態に係る検査方法］
　以下、第１実施形態に係る検査方法について説明する。
　図１は、第１実施形態に係る検査方法の概略工程を示すフロー図である。図１に示すように、第１実施形態に係る検査方法は、第１長尺光学フィルム（保護フィルム）の製造工程で実行される工程Ｓ１～Ｓ４と、長尺光学積層体（偏光フィルム）の製造工程で実行される工程Ｓ５～Ｓ１２と、を含んでいる。以下、各工程について、順に説明する。

　［第１長尺光学フィルムの製造工程で実行される工程］
　第１長尺光学フィルムの製造工程では、第１工程Ｓ２～第３工程Ｓ４が実行される。また、第１実施形態では、ナーリング加工工程Ｓ１が実行される。

　（ナーリング加工工程Ｓ１）
　ナーリング加工工程Ｓ１では、第１長尺光学フィルムの幅方向端部にナーリング加工を施してナーリング加工部を形成する。ナーリング加工の具体的な内容については、例えば特許文献２に記載のように公知であるため、ここでは詳細な説明を省略する。

　（第１工程Ｓ２）
　図２は、第１工程Ｓ２～第３工程Ｓ４を実行するための検査システムの概略構成を模式的に示す斜視図である。
　図２に示すように、第１工程Ｓ２では、検査システム１００が備える第１検査装置１が、搬送ロールＲによってロールツーロール方式で搬送（図２に太線矢符で示す方向に搬送）される第１長尺光学フィルムＦ１を検査して、第１長尺光学フィルムＦ１の欠陥情報である第１欠陥情報を取得する。
　第１検査装置１は、第１長尺光学フィルムＦ１の表面に対向配置された撮像手段１ａと、撮像手段１ａに電気的に接続され、撮像手段１ａで取得した第１長尺光学フィルムＦ１の表面の撮像画像に適宜の画像処理を施す画像処理手段１ｂと、を具備する。撮像手段１ａとしては、第１長尺光学フィルムＦ１の幅方向に沿って撮像素子が直線状に配置されたラインセンサや、撮像素子がマトリックス状に配置されたエリアセンサを用いることができる。撮像手段１ａの視野は、第１長尺光学フィルムＦ１の有効幅（製品に使用される幅）以上とされている。画像処理手段１ｂは、撮像画像に２値化等の公知の画像処理を施すことで、第１長尺光学フィルムＦ１に存在する欠陥に相当する画素領域を抽出する。そして、画像処理手段１ｂは、撮像画像における欠陥の位置（欠陥に相当する画素領域の座標）を特定し、少なくとも特定した欠陥の位置を含む情報を第１欠陥情報として取得する。取得した第１欠陥情報は、検査システム１００が備える第１演算記憶装置４に入力される。

　（第２工程Ｓ３）
　第２工程Ｓ３では、検査システム１００が備える第１印字装置２が、第１長尺光学フィルムＦ１の幅方向端部（好ましくは、ナーリング加工部）に、第１長尺光学フィルムＦ１の長手方向の所定間隔（例えば、１ｍの等間隔）毎に第１識別情報Ｍを印字する。図２では、第１長尺光学フィルムＦ１の先端側（搬送方向下流側）から順に第１識別情報Ｍ１～Ｍ３が印字されている例を図示している。
　第１識別情報Ｍは、少なくとも第１長尺光学フィルムＦ１の長手方向の位置を特定する情報を含む情報である。第１識別情報Ｍは、例えば、第１長尺光学フィルムＦ１の先端側から順に増加又は減少する数値（この数値によって、第１長尺光学フィルムＦ１の長手方向の位置が特定される）が、２次元コードやバーコードによって表されている。第１識別情報Ｍには、第１長尺光学フィルムＦ１の長手方向の位置を特定する情報の他、印字した日時、第１長尺光学フィルムＦ１の製造番号、印字した工程の種別など、各種の付帯情報を含ませることが可能である。

　第１実施形態では、第１印字装置２による第１識別情報Ｍの印字が、第１演算記憶装置４によって制御される。具体的には、ロータリーエンコーダ等を用いた測長器３によって、第１長尺光学フィルムＦ１の搬送方向への移動量が測定され、第１演算記憶装置４に入力される。第１演算記憶装置４は、測長器３から入力された移動量に基づき、所定間隔毎に第１印字装置２に対して制御信号を送信し、第１印字装置２に所定間隔毎に第１識別情報Ｍを印字させる。
　なお、第１実施形態では、第１演算記憶装置４が第１印字装置２を制御する機能も有する場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限るものではなく、第１演算記憶装置４とは別の制御装置が第１印字装置２を制御する構成を採用することも可能である。

　第１実施形態の第１印字装置２は、第１識別情報Ｍをインクジェット方式で印字する。第１実施形態の第１印字装置２は、好ましい態様として、第１識別情報Ｍを透明インクを用いたインクジェット方式で印字する。具体的には、第１実施形態では、透明インクとして紫外線を照射することで蛍光発光するＵＶインクを用いたインクジェット方式で、第１識別情報Ｍを印字する。
　第１印字装置２としては、例えば、Videojet社製インクジェットプリンタ「VJ1000シリーズ」や、日立産機社製インクジェットプリンタ「Gravis UXシリーズ」を用いることができる。

　（第３工程Ｓ４）
　第３工程Ｓ４では、第１演算記憶装置４が、第１長尺光学フィルムＦ１の第１欠陥情報と第１識別情報Ｍとを紐付けて記憶する。具体的には、以下の通りである。
　例えば、第１検査装置１が図２に示す欠陥Ｄ１を検出して、撮像画像における欠陥Ｄ１の位置（欠陥Ｄ１に相当する画素領域の座標）を特定し、これが第１欠陥情報として第１演算記憶装置４に入力されたとする。第１演算記憶装置４には、測長器３から第１長尺光学フィルムＦ１の搬送方向への移動量が入力されているため、第１演算記憶装置４は、欠陥Ｄ１を検出した時点（撮像画像における欠陥Ｄ１に相当する画素領域の座標を特定した時点）と、第１印字装置２によって第１識別情報Ｍを印字した時点との間に、第１長尺光学フィルムＦ１がどれだけ搬送方向に移動しているかを把握することができる。この両時点間の第１長尺光学フィルムＦ１の移動量と、撮像画像における欠陥Ｄ１に相当する画素領域の座標とに基づき、第１演算記憶装置４は、所定の第１識別情報Ｍ（図２に示す例では第１識別情報Ｍ３）から欠陥Ｄ１までの距離（第１長尺光学フィルムＦ１の長手方向に沿った距離）Ｘ１を算出することができる。また、第１演算記憶装置４は、撮像画像における欠陥Ｄ１に相当する画素領域の座標に基づき、第１長尺光学フィルムＦ１の幅方向のエッジから欠陥Ｄ１までの距離（第１長尺光学フィルムＦ１の幅方向に沿った距離）Ｙ１を算出することができる。第１演算記憶装置４は、少なくとも、この第１識別情報Ｍ（Ｍ３）と、第１識別情報Ｍ（Ｍ３）を基準とした欠陥Ｄ１の座標（Ｘ１、Ｙ１）とを紐付けて記憶することになる。

　［長尺光学積層体の製造工程で実行される工程］
　前述の製造工程で製造された第１長尺光学フィルムＦ１（ナーリング加工部に第１識別情報Ｍがインクジェット方式で印字された第１長尺光学フィルム）は、ロール状に巻回されて、原反ロールとされる。原反ロールとされた第１長尺光学フィルムＦ１は、長尺光学積層体の製造工程に運ばれる。長尺光学積層体の製造工程では、運ばれた第１長尺光学フィルムＦ１の原反ロールが用いられる。
　図１に示すように、第１実施形態の長尺光学積層体の製造工程は、Ｎｏ．１工程と、Ｎｏ．２工程と、を含んでいる。第１実施形態の長尺光学積層体の製造工程では、Ｎｏ．１工程で第４工程Ｓ６～第７工程Ｓ９が実行された後、再び、Ｎｏ．２工程で第４工程Ｓ１１及び第６工程Ｓ１２が実行される。また、第１実施形態の長尺光学積層体の製造工程では、Ｎｏ．１工程で貼り合わせ工程Ｓ５が実行され、Ｎｏ．２工程で読み取り工程Ｓ１０が実行される。

　（貼り合わせ工程Ｓ５）
　Ｎｏ．１工程では、第１長尺光学フィルムＦ１（保護フィルム）の原反ロールが繰り出され、第２長尺光学フィルム（偏光子）の原反ロールが繰り出される。そして、貼り合わせ工程Ｓ５では、第２長尺光学フィルムの片側又は両側に、前述のように接着剤等を介して、第１長尺光学フィルムＦ１を貼り合わせ、第１長尺光学フィルムＦ１と第２長尺光学フィルムとが積層された長尺光学積層体Ｆ２（偏光フィルム）を得る。

　（第４工程Ｓ６）
　図３は、第４工程Ｓ６～第６工程Ｓ８を実行するための検査システムの概略構成を模式的に示す斜視図である。
　図３に示すように、第４工程Ｓ６では、検査システム１００が備える第２検査装置５が、搬送ロールＲによってロールツーロール方式で搬送（図３に太線矢符で示す方向に搬送）される長尺光学積層体Ｆ２を検査して、長尺光学積層体Ｆ２の欠陥情報である第２欠陥情報を取得する。
　第２検査装置５は、図２に示す第１検査装置１と同様に、撮像手段５ａ及び画像処理手段５ｂを具備し、第１検査装置１と同様の機能を有するため、ここでは詳細な説明を省略する。第２検査装置５は、撮像画像における欠陥の位置（欠陥に相当する画素領域の座標）を特定し、少なくとも特定した欠陥の位置を含む情報を第２欠陥情報として取得する。取得した第２欠陥情報は、検査システム１００が備える第２演算記憶装置８に入力される。

　（第５工程Ｓ７）
　第５工程Ｓ７では、検査システム１００が備える第２印字装置６が、長尺光学積層体Ｆ２の幅方向端部（好ましくは、第１長尺光学フィルムＦ１のナーリング加工部よりも幅方向内側に位置する長尺光学積層体Ｆ２の部位）に、長尺光学積層体Ｆ２の長手方向の所定間隔（例えば、１ｍの等間隔）毎に第２識別情報Ｎを印字する。図３では、長尺光学積層体Ｆ２の先端側（搬送方向下流側）から順に第２識別情報Ｎ１～Ｎ３が印字されている例を図示している。なお、実際には、長尺光学積層体Ｆ２を構成する第１長尺光学フィルムＦ１に第１識別情報Ｍが印字されているが、図３では便宜上、第１識別情報Ｍの図示を省略している。
　第２識別情報Ｎは、少なくとも長尺光学積層体Ｆ２の長手方向の位置を特定する情報を含む点が、少なくとも第１長尺光学フィルムＦ１の長手方向の位置を特定する情報を含む第１識別情報Ｍと異なり、その他の点は第１識別情報Ｍと同様であるため、ここでは詳細な説明を省略する。

　なお、第１実施形態では、長尺光学積層体Ｆ２に印字される第２識別情報Ｎは、第１識別情報Ｍが印字されたのと同じ第１長尺光学フィルムＦ１に印字されるが、本発明はこれに限るものではない。
　例えば、第２長尺光学フィルム（偏光子）の両側に第１長尺光学フィルムＦ１（保護フィルム）を貼り合わせて長尺光学積層体Ｆ２（偏光フィルム）を形成する場合には、一方の第１長尺光学フィルムＦ１（保護フィルム）に第１識別情報Ｍを印字し、第１識別情報Ｍが印字されていない他方の第１長尺光学フィルムＦ１（保護フィルム。位相差フィルムを兼ねても良い）に第２識別情報Ｎを印字することも可能である。
　また、例えば、第２長尺光学フィルム（偏光子）の両側に第１長尺光学フィルムＦ１（保護フィルム）を貼り合わせ、更に一方の第１長尺光学フィルムに位相差フィルムを貼り合わせて長尺光学積層体Ｆ２（位相差機能付き偏光フィルム）を形成する場合には、他方の第１長尺光学フィルムＦ１（保護フィルム）に第１識別情報Ｍを印字し、位相差フィルムに第２識別情報Ｎを印字することも可能である。

　第１印字装置２による第１識別情報Ｍの印字が、第１演算記憶装置４によって制御されるのと同様に、第２印字装置６による第２識別情報Ｎの印字は、第２演算記憶装置８によって制御される。具体的な制御内容については、第１印字装置２による第１識別情報Ｍの印字の制御と同様であるため、ここでは詳細な説明を省略する。

　第１実施形態の第２印字装置６は、第１印字装置２と異なり、第２識別情報Ｎをレーザ刻印で印字する。第２印字装置６としては、例えばＣＯ_２レーザを用いてレーザ刻印で印字する機能を有する公知の種々の印字装置を適用可能であるため、ここでは詳細な説明を省略する。

　（第６工程Ｓ８）
　第６工程Ｓ８では、第２演算記憶装置８が、長尺光学積層体Ｆ２の第２欠陥情報と第２識別情報Ｎとを紐付けて記憶する。具体的には、第１演算記憶装置４が、第１長尺光学フィルムＦ１の第１欠陥情報と第１識別情報Ｍとを紐付けて記憶する場合と同様の手順であるため、詳細な説明は省略するが、第２演算記憶装置８は、測長器３と同様の構成を有する測長器７から入力された長尺光学積層体Ｆ２の搬送方向への移動量を用いて、少なくとも、第２識別情報Ｎ（図３に示す例では第２識別情報Ｎ３）と、第２識別情報Ｎ（Ｎ３）を基準とした欠陥Ｄ２の座標（Ｘ２、Ｙ２）とを紐付けて記憶することになる。

　（第７工程Ｓ９）
　図４は、第７工程Ｓ９を実行するための検査システムの概略構成を模式的に示す斜視図である。
　第７工程Ｓ９では、第２演算記憶装置８が、第１長尺光学フィルムＦ１の第１欠陥情報と長尺光学積層体Ｆ２の第２識別情報とを紐付けて記憶する。具体的には、第１識別情報Ｍ（図４には、第１識別情報Ｍ１～Ｍ３を図示）を読み取るための第１読取装置９と、第２識別情報Ｎ（図４には、第２識別情報Ｎ１～Ｎ３を図示）を読み取るための第２読取装置１０とが配置され、第１読取装置９で読み取った第１識別情報Ｍと、第２読取装置１０で読み取った第２識別情報Ｎとが、第２演算記憶装置８に入力される。ここで、第２演算記憶装置８には、予め、第１演算記憶装置４に記憶された第１長尺光学フィルムＦ１の第１欠陥情報と第１識別情報Ｍとの紐付け（第１識別情報Ｍと、第１識別情報Ｍを基準とした欠陥の座標との関係）が入力され、記憶されている。第１欠陥情報と第１識別情報Ｍとの紐付けの入力は、第１演算記憶装置４と第２演算記憶装置８とを電気的に接続して、第１演算記憶装置４から第２演算記憶装置８に送信してもよいし、第１演算記憶装置４からダウンロードして、手動で第２演算記憶装置８に入力してもよい。また、第２演算記憶装置８には、測長器３と同様の構成を有する測長器１１から長尺光学積層体Ｆ２の搬送方向への移動量が入力される。

　第２演算記憶装置８は、測長器１１から入力された長尺光学積層体Ｆ２の搬送方向への移動量に基づき、第１読取装置９で第１識別情報Ｍを読み取った時点（第１識別情報Ｍが第２演算記憶装置８に入力された時点）と、第２読取装置１０で第２識別情報Ｎを読み取った時点（第２識別情報Ｎが第２演算記憶装置８に入力された時点）との間に、長尺光学積層体Ｆ２がどれだけ搬送方向に移動しているかを把握することができる。この両時点間の長尺光学積層体Ｆ２の移動量に基づき、第２演算記憶装置８は、第１識別情報Ｍと第２識別情報Ｎとの長尺光学積層体Ｆ２の長手方向に沿った位置ズレ（図４に示す例では第１識別情報Ｍ３と第２識別情報Ｎ３との位置ズレｄＸ）を算出することができる。
　したがい、第２演算記憶装置８は、予め記憶された第１長尺光学フィルムＦ１の第１欠陥情報と第１識別情報Ｍとの紐付けと、算出した第１識別情報Ｍと第２識別情報Ｎとの位置ズレとに基づき、第１長尺光学フィルムＦ１の第１欠陥情報と長尺光学積層体Ｆ２の第２識別情報Ｎとを紐付けて記憶することができる。換言すれば、第２識別情報Ｎと、第２識別情報Ｎを基準とした欠陥の座標とを紐付けて記憶することができる。このように、第７工程Ｓ９を実行することで、長尺光学積層体Ｆ２の第２識別情報Ｎに基づき、第１欠陥情報及び第２欠陥情報を一元管理することができる。
　第７工程Ｓ９を実行した後の長尺光学積層体Ｆ２は、ロール状に巻回されて、Ｎｏ．２工程に運ばれる。

　図５は、第１読取装置９及び第２読取装置１０の概略構成例を模式的に示す側面図（長尺光学積層体Ｆ２の幅方向から見た側面図）である。図５（ａ）は第１読取装置９の概略構成例を、図５（ｂ）は第２読取装置１０の概略構成例を示す。
　図５（ａ）に示すように、第１読取装置９は、紫外線を出射するＵＶ照明９１と、撮像手段（エリアセンサ）９２と、を具備する。ＵＶ照明９１から出射した紫外線を長尺光学積層体Ｆ２の表面に照射することで、透明インク（ＵＶインク）で印字された第１識別情報Ｍが蛍光発光する。これにより、長尺光学積層体Ｆ２の表面に対してＵＶ照明９１と同じ側（図５（ａ）に示す例では上側）に配置した撮像手段９２で取得した撮像画像中、第１識別情報Ｍに相当する画素領域が明るくなり（第２識別情報Ｎに相当する画素領域は背景と同様に暗くなり）、第１識別情報Ｍを第２識別情報Ｎと区別して読み取ることができる。
　なお、ＵＶ照明９１としては、例えば、波長２００～４００ｎｍ程度の紫外線、好ましくは波長３６５ｎｍ程度の紫外線を出射するものを用いることができる。また、撮像手段９２としては、例えば、シャッタースピード（露光時間）が３０～１５０μｓｅｃ程度の高速シャッター付きのエリアセンサを用いることができる。

　図５（ｂ）に示すように、第２読取装置１０は、長尺光学積層体Ｆ２の表面に対して一方の側（図５（ｂ）に示す例では下側）に配置され、平行光束を出射する照明１０１と、長尺光学積層体Ｆ２の表面に対して他方の側（図５（ｂ）に示す例では上側）に配置され、長尺光学積層体Ｆ２を透過した光を受光する撮像手段（エリアセンサ）１０２と、を具備する。照明１０１から出射し長尺光学積層体Ｆ２の表面に照射された平行光束は、レーザ刻印で印字された第２識別情報Ｎによって散乱する。これにより、撮像手段１０２で取得した撮像画像中、第２識別情報Ｎに相当する画素領域が暗くなり（第１識別情報Ｍに相当する画素領域は背景と同様に明るくなり）、第２識別情報Ｎを第１識別情報Ｍと区別して読み取ることができる。

　なお、詳細な説明は省略するが、第１識別情報Ｍが通常の有色インクを用いて印字されている場合には、図５（ｂ）に示す照明１０１を拡散光を照射する照明に代えた読取装置を第１識別情報Ｍを読み取るための読取装置として用いることで、撮像手段１０２で取得した撮像画像中、第１識別情報Ｍに相当する画素領域が暗くなり（第２識別情報Ｎに相当する画素領域は背景と同様に明るくなり）、第１識別情報Ｍを第２識別情報Ｎと区別して読み取ることができる。

　（読み取り工程Ｓ１０）
　Ｎｏ．２工程では、ロール状に巻回された長尺光学積層体Ｆ２が繰り出される。そして、最初に読み取り工程Ｓ１０が実行される。
　図６は、読み取り工程Ｓ１０、２回目の第４工程Ｓ１１及び第６工程Ｓ１２（第７工程Ｓ９実行後の第４工程及び第６工程）を実行するための検査システムの概略構成を模式的に示す斜視図である。なお、実際には、長尺光学積層体Ｆ２を構成する第１長尺光学フィルムＦ１に第１識別情報Ｍが印字されているが、図６では便宜上、第１識別情報Ｍの図示を省略している。
　図６に示すように、読み取り工程Ｓ１０では、検査システム１００が備える第２読取装置１０（図４、図５（ｂ）参照）と同様の構成を有する第２読取装置１２で第２識別情報Ｎを読み取る。読み取った第２識別情報Ｎは、第２演算記憶装置８に入力される。

　（第４工程（２回目）Ｓ１１）
　２回目の第４工程Ｓ１１では、検査システム１００が備える第２検査装置５と同様の構成を有する第２検査装置１３（撮像手段１３ａ及び画像処理手段１３ｂ）が、搬送ロールＲによってロールツーロール方式で搬送（図６に太線矢符で示す方向に搬送）される長尺光学積層体Ｆ２を検査して、長尺光学積層体Ｆ２の欠陥情報である第２欠陥情報を取得する。取得した第２欠陥情報は、第２演算記憶装置８に入力される。

　（第６工程（２回目）Ｓ１２）
　２回目の第６工程Ｓ１２では、第２演算記憶装置８が、第２検査装置１３で取得した長尺光学積層体Ｆ２の第２欠陥情報と、第２読取装置１２で読み取った第２識別情報Ｎとを紐付けて記憶する。具体的には、第２演算記憶装置８は、測長器３と同様の構成を有する測長器１４から入力された長尺光学積層体Ｆ２の搬送方向への移動量を用いて、第２読取装置１２で第２識別情報Ｎを読み取った時点と、第２検査装置１３で欠陥を検出した時点（撮像画像における欠陥に相当する画素領域の座標を特定した時点）との間に、長尺光学積層体Ｆ２がどれだけ搬送方向に移動しているかを把握し、少なくとも、第２識別情報Ｎと、第２識別情報Ｎを基準とした欠陥の座標とを紐付けて記憶する。

　第１実施形態では、長尺光学積層体Ｆ２の製造工程で、２回の検査（第２検査装置５による検査、第２検査装置１３による検査）を実行する場合を例に挙げて説明したが、３回以上検査する場合には、２回目以降の検査において、読み取り工程Ｓ１０、第４工程Ｓ１１及び第６工程Ｓ１２を繰り返し実行すればよい。

　以上に説明した第１実施形態に係る検査方法によれば、第１識別情報Ｍがインクジェット方式で印字され、第２識別情報Ｎがレーザ刻印で印字されるため、本発明者らが知見したように、第１識別情報Ｍと第２識別情報Ｎとが重なったとしても、両者を区別して読み取ることができる。すなわち、欠陥情報と識別情報とを適切に紐付ける（第１欠陥情報と第１識別情報Ｍ（ひいては第２識別情報Ｎ）とを紐付け、第２欠陥情報と第２識別情報Ｎとを紐付ける）ことができる。
　また、例えば、第２識別情報Ｎを読み取って、第６工程Ｓ８、Ｓ１２で記憶した第２欠陥情報と第２識別情報Ｎとの紐付けを用いると共に、第７工程Ｓ９で記憶した第１欠陥情報と第２識別情報Ｎとの紐付けを用いることで、第１長尺光学フィルムＦ１の状態で発生した欠陥の位置及び長尺光学積層体Ｆ２の状態で発生した欠陥の位置を避けて、製品を打ち抜くことが可能である。

　ただし、本発明に係る検査方法は、第１識別情報Ｍがインクジェット方式で印字され、第２識別情報Ｎがレーザ刻印で印字される態様に限るものではない。第１識別情報Ｍ及び第２識別情報Ｎのうち、何れか一方をインクジェット方式で印字して、何れか他方をレーザ刻印で印字するか、又は、何れか一方を透明インクを用いたインクジェット方式で印字して、何れか他方を有色インクを用いたインクジェット方式で印字しても、第１識別情報Ｍと第２識別情報Ｎと区別して読み取ることができる。

　なお、好ましい態様として、第１実施形態に係る検査方法は、第１長尺光学フィルムＦ１の第１識別情報Ｍ（ひいては長尺光学積層体Ｆ２の第２識別情報Ｎ）及び第１欠陥情報の紐付けと、長尺光学積層体Ｆ２の第２識別情報Ｎ及び第２欠陥情報の紐付けとに基づき、長尺光学積層体Ｆ２の欠陥の位置にマーキングを施す第８工程（図１では図示省略）を含むことも可能である。具体的には、第２識別情報Ｎを読み取って、第１欠陥情報及び第２欠陥情報に含まれる欠陥の位置に、インクジェット方式のマーキングや、特許文献１に記載と同様のマジックを用いたマーキングを施すことも可能である。マーキングを施す第８工程が含まれることで、欠陥の位置にマーキングが施されるため、目視でも欠陥の位置を特定可能である。

　図７は、第１実施形態に係る検査方法による第１識別情報Ｍ及び第２識別情報Ｎの印字例を示す図である。図７に示す例は、第１長尺光学フィルムＦ１として、トリアセチルセルロール（ＴＡＣ）製の保護フィルムと、アクリル製の保護フィルムとを用い、第２長尺光学フィルムとしての偏光子の両側にこれらの第１長尺光学フィルムＦ１を貼り合わせて形成した長尺光学積層体Ｆ２（偏光フィルム）である。図７に示す例では、アクリル製保護フィルムに透明インク（ＵＶインク）を用いたインクジェット方式で第１識別情報Ｍを印字した後、このアクリル製保護フィルムとＴＡＣ製の保護フィルムを偏光子の両側にそれぞれ貼り合わせ、この後、ＴＡＣ製の保護フィルム側にレーザ刻印で第２識別情報Ｎを印字している。図７に示す円形の凹凸がアクリル製保護フィルムの幅方向端部に形成したナーリング加工部であり、菱形の凹凸がＴＡＣ製保護フィルムの幅方向端部に形成したナーリング加工部である。
　なお、図７に示す撮像画像は、第１読取装置９が具備するＵＶ照明９１と、第２読取装置１０が具備する照明１０１との双方を同時に用いて、長尺光学積層体Ｆ２を照明した場合に得られた撮像画像である。

　図８は、図７に示す長尺光学積層体Ｆ２の第１識別情報Ｍを第１読取装置９で読み取った結果の一例を示す。図８に示すように、第１読取装置９で取得した撮像画像中、第１識別情報Ｍに相当する画素領域が明るくなり（第２識別情報Ｎに相当する画素領域は背景と同様に暗くなり）、第１識別情報Ｍを第２識別情報Ｎと区別して読み取り可能であることが分かる。

　図９は、図７に示す長尺光学積層体Ｆ２の第２識別情報Ｎを第２読取装置１０で読み取った結果の一例を示す。図９に示すように、第２読取装置１０で取得した撮像画像中、第２識別情報Ｎに相当する画素領域が暗くなり（第１識別情報Ｍに相当する画素領域は背景と同様に明るくなり）、第２識別情報Ｎを第１識別情報Ｍと区別して読み取り可能であることが分かる。

　なお、第１実施形態では、ナーリング加工工程Ｓ１を実行した後（第１長尺光学フィルムＦ１にナーリング加工部を形成した後）に、第２工程Ｓ３において第１長尺光学フィルムＦ１に第１識別情報Ｍを印字する例について説明したが、本発明はこれに限るものではない。ナーリング加工部を形成する前にナーリング加工部が形成される予定の部位に第１識別情報Ｍを印字する（すなわち、第１識別情報Ｍを印字した後にナーリング加工部を形成する）ことも可能である。

　また、第１実施形態では、長尺光学積層体Ｆ２の検査を複数回実行する場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限るものではなく、長尺光学積層体Ｆ２の検査を１回だけ実行することも可能である。この場合には、図１に示す読み取り工程Ｓ１０、第４工程（２回目）Ｓ１１及び第６工程（２回目）Ｓ１２は不要である。ただし、第１長尺光学フィルムＦ１の状態で発生した欠陥の位置及び長尺光学積層体Ｆ２の状態で発生した欠陥の位置を避けて製品を打ち抜くときや、長尺光学積層体Ｆ２の欠陥の位置にマーキングを施す第８工程を実行する場合には、読み取り工程Ｓ１０は必要である。

　また、第１実施形態では、第１長尺光学フィルムＦ１の検査を１回だけ実行する場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限るものではなく、長尺光学積層体Ｆ２の検査と同様に、複数回実行することも可能である。この場合には、２回目以降の検査において、図１に示す第３工程Ｓ４の後に、第１識別情報Ｍを読み取る読み取り工程、第１工程Ｓ２と同様に第１欠陥情報を取得する工程、及び、第３工程Ｓ４と同様に第１欠陥情報と第１識別情報Ｍとを紐付けて記憶する工程を繰り返し実行する必要がある。

　また、第１実施形態では、第７工程Ｓ９を実行することで、長尺光学積層体Ｆ２の第２識別情報Ｎに基づき、第１欠陥情報及び第２欠陥情報を一元管理する場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限るものではない。第７工程Ｓ９を実行することなく、第１識別情報Ｍに基づき第１欠陥情報を管理し、第２識別情報Ｎに基づき第２欠陥情報を管理することも可能である。具体的には、例えば、第１識別情報Ｍを読み取って、第３工程Ｓ４で記憶した第１欠陥情報と第１識別情報Ｍとの紐付けを用いることで、第１長尺光学フィルムＦ１の状態で発生した欠陥の位置を避けて製品を打ち抜き、第２識別情報Ｎを読み取って、第６工程Ｓ８で記憶した第２欠陥情報と第２識別情報Ｎとの紐付けを用いることで、長尺光学積層体Ｆ２の状態で発生した欠陥の位置を避けて製品を打ち抜くことも可能である。

　また、第１実施形態では、第１長尺光学フィルムＦ１が保護フィルムであり、第２長尺光学フィルムが偏光子であり、長尺光学積層体Ｆ２が偏光フィルムである場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限るものではない。例えば、第１長尺光学フィルムＦ１が位相差フィルムであり、第２長尺光学フィルムが偏光子であってもよい。また、第１長尺光学フィルムＦ１が位相差フィルム、反射型偏光子、反射防止フィルム、ＩＴＯフィルム等の導電性フィルム、例えばポリイミド等で製造されるウィンドウフィルム等であり、第２長尺光学フィルムが偏光フィルム（偏光子と保護フィルムとの積層体）であってもよい。

　＜第２実施形態＞
　本発明の第２実施形態に係る長尺光学積層体の検査方法は、第１長尺光学フィルムＦ１である保護フィルムにアンチグレア処理等の表面処理が施され、表面処理の前後でそれぞれ検査を実行する点が第１実施形態と異なる。以下、第２実施形態に係る検査方法について、主として第１実施形態と異なる点を説明し、第１実施形態と同様の点については適宜説明を省略する。

　図１０は、第２実施形態に係る検査方法の概略工程を部分的に示すフロー図である。具体的には、図１０は、図１に示す第１実施形態に係る検査方法に対して、第２実施形態に係る検査方法で付加される工程を示す。
　第２実施形態に係る検査方法は、第１実施形態に係る検査方法に含まれる工程Ｓ１～Ｓ１２に加えて、図１０に示すように、第１長尺光学フィルムＦ１の製造工程で実行される第３工程Ｓ４と貼り合わせ工程Ｓ５との間に、破線で囲んだ工程Ｓ２０を含んでいる。具体的には、第２実施形態に係る検査方法は、工程Ｓ２１～Ｓ２４を含んでいる。以下、各工程について、順に説明する。

　（表面処理工程Ｓ２１）
　表面処理工程Ｓ２１では、第３工程Ｓ４実行後にロール状に巻回された第１長尺光学フィルムＦ１（保護フィルム）の原反ロールが繰り出され、表面処理が施される。表面処理工程Ｓ２１で実施される表面処理としては、アンチグレア処理の他、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止処理等を例示できる。

　（読み取り工程Ｓ２２）
　読み取り工程Ｓ２２では、第１実施形態の第１読取装置９と同様の構成を有する読取装置で、搬送ロールによってロールツーロール方式で搬送される表面処理後の第１長尺光学フィルムＦ１の第１識別情報Ｍを読み取る。読み取った第１識別情報Ｍは、第１演算記憶装置４に入力される。

　（第１工程（２回目）Ｓ２３）
　２回目の第１工程Ｓ２３では、第１実施形態の第１検査装置１（撮像手段１ａ及び画像処理手段１ｂ）と同様の構成を有する検査装置が、搬送ロールによってロールツーロール方式で搬送される表面処理後の第１長尺光学フィルムＦ１を検査して、表面処理後の第１長尺光学フィルムＦ１の欠陥情報である第１’欠陥情報を取得する。取得した第１’欠陥情報は、第１演算記憶装置４に入力される。

　（第３工程（２回目）Ｓ２４）
　２回目の第３工程Ｓ２４では、第１演算記憶装置４が、２回目の第１工程Ｓ２３で取得した表面処理後の第１長尺光学フィルムＦ１の第１’欠陥情報と、読み取り工程Ｓ２２で読み取った第１識別情報Ｍとを紐付けて記憶する。第１演算記憶装置４には、第３工程Ｓ４によって、表面処理前の第１長尺光学フィルムＦ１の第１欠陥情報と第１識別情報Ｍとが紐付けて記憶されているため、第１演算記憶装置４は、表面処理後の第１長尺光学フィルムＦ１の第１’欠陥情報を第１欠陥情報に上書きして、第１識別情報Ｍと紐付けて記憶する。
　具体的には、第１演算記憶装置４は、測長器３と同様の構成を有する測長器から入力された表面処理後の第１長尺光学フィルムＦ１の搬送方向への移動量を用いて、読取装置で第１識別情報Ｍを読み取った時点と、検査装置で欠陥を検出した時点（撮像画像における欠陥に相当する画素領域の座標を特定した時点）との間に、表面処理後の第１長尺光学フィルムＦ１がどれだけ搬送方向に移動しているかを把握し、少なくとも、第１識別情報Ｍと、第１識別情報Ｍを基準とした欠陥の座標とを紐付けて記憶する。

　以上に説明した第２実施形態に係る検査方法でも、前述の印字パターン１～６の何れかのパターンで第１識別情報Ｍ及び第２識別情報Ｎが印字される。したがい、第２実施形態に係る検査方法によれば、第１実施形態と同様に、第１識別情報Ｍと第２識別情報Ｎとが重なったとしても、両者を区別して読み取ることができる。すなわち、欠陥情報と識別情報とを適切に紐付ける（第１欠陥情報と第１識別情報Ｍ（ひいては第２識別情報Ｎ）とを紐付け、第２欠陥情報と第２識別情報Ｎとを紐付ける）ことができる。
　また、例えば、第２識別情報Ｎを読み取って、第６工程Ｓ８、Ｓ１２で記憶した第２欠陥情報と第２識別情報Ｎとの紐付けを用いると共に、第７工程Ｓ９で記憶した第１欠陥情報と第２識別情報Ｎとの紐付けを用いることで、第１長尺光学フィルムＦ１（表面処理前後の双方の第１長尺光学フィルム）の状態で発生した欠陥の位置及び長尺光学積層体Ｆ２の状態で発生した欠陥の位置を避けて、製品を打ち抜くことが可能である。

　＜第３実施形態＞
　本発明の第３実施形態に係る長尺光学積層体の検査方法は、第１長尺光学フィルムＦ１が液晶材料が塗工される基材であり、第１長尺光学フィルムＦ１への液晶材料の塗工の前後で検査を実行する点と、第２長尺光学フィルムが偏光フィルムであり、第２長尺光学フィルムを検査して第２欠陥情報を取得し、第２長尺光学フィルムに第２識別情報Ｎを印字する点とが第１実施形態と異なる。以下、第３実施形態に係る検査方法について、主として第１実施形態と異なる点を説明し、第１実施形態と同様の点については適宜説明を省略する。なお、第１実施形態では、長尺光学積層体の参照符号としてＦ２を用いたが、第３実施形態では、第２長尺光学フィルムの参照符号としてＦ２を用いることとする。

　図１１～図１３は、第３実施形態に係る検査方法の概略工程を示すフロー図である。図１１は、第１長尺光学フィルムＦ１の製造工程で実行される概略工程を示すフロー図である。図１２は、第２長尺光学フィルムＦ２の製造工程で実行される概略工程を示すフロー図である。図１３は、長尺光学積層体の製造工程で実行される概略工程を示すフロー図である。
　また、図１４は、図１１に示す第１長尺光学フィルムＦ１の製造工程における各フィルムの状態を模式的に示す断面図である。図１５は、図１２に示す第２長尺光学フィルムＦ２の製造工程における各フィルムの状態を模式的に示す断面図である。図１６は、図１３に示す長尺光学積層体の製造工程における各フィルムの状態を模式的に示す断面図である。なお、図１４～図１６に表された構成要素の寸法、縮尺及び形状は、実際のものとは異なっている場合があることに留意されたい。
　第３実施形態に係る検査方法は、図１１に示すように、第１長尺光学フィルムＦ１の製造工程で実行される工程Ｓ３１～Ｓ３８と、図１２に示すように、第２長尺光学フィルムＦ２の製造工程で実行される工程Ｓ４１～Ｓ４５と、図１３に示すように、長尺光学積層体の製造工程で実行される工程Ｓ５１～Ｓ５７と、を含んでいる。以下、各工程について、順に説明する。

　［第１長尺光学フィルムＦ１の製造工程で実行される工程］
　（基材製造工程Ｓ３１）
　図１１に示す基材製造工程Ｓ３１では、図１４（ａ）に示す第１長尺光学フィルムＦ１（基材）が製造される。第１長尺光学フィルムＦ１は、例えば、樹脂材料を溶融押出しして樹脂フィルムを製膜し、これを延伸することによって製造される。
　第１長尺光学フィルムＦ１を形成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン；ノルボルネン系ポリマー等の環状ポリオレフィン;ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー；アクリル系ポリマー；スチレン系ポリマー；ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド等が挙げられる。好ましくは、樹脂材料として、ノルボルネン系ポリマー等の環状ポリオレフィンが用いられる。

　（第１工程Ｓ３２）
　第１工程Ｓ３２では、第１実施形態と同じ第１検査装置１（撮像手段１ａ及び画像処理手段１ｂ）が、搬送ロールによってロールツーロール方式で搬送される第１長尺光学フィルムＦ１を検査して、第１長尺光学フィルムＦ１の欠陥情報である第１欠陥情報を取得する。取得した第１欠陥情報は、第１実施形態と同じ第１演算記憶装置４に入力される。
　なお、後述のように、基材である第３実施形態の第１長尺光学フィルムＦ１は、第２長尺光学フィルムＦ２と貼り合わせた後に、剥離除去されるものである。しかしながら、第１長尺光学フィルムに欠陥が存在すると、第１長尺光学フィルムに液晶材料が塗工されて形成される液晶層に第１長尺光学フィルムの欠陥が転写されたり、搬送中に第１長尺光学フィルムが破断して製造工程に支障が生じる可能性がある。このため、第３実施形態でも、第１長尺光学フィルムＦ１を検査する意義がある。

　（第２工程Ｓ３３）
　第２工程Ｓ３３では、第１実施形態と同じ第１印字装置２が、第１長尺光学フィルムＦ１の幅方向端部に、第１長尺光学フィルムＦ１の長手方向の所定間隔毎に、図１４（ｂ）に示す第１識別情報Ｍをインクジェット方式（好ましくは、透明インクを用いたインクジェット方式）で印字する。

　（第３工程Ｓ３４）
　第３工程Ｓ３４では、第１演算記憶装置４が、第１長尺光学フィルムＦ１の第１欠陥情報と第１識別情報Ｍとを紐付けて記憶する。具体的には、第１演算記憶装置４は、測長器３から入力された第１長尺光学フィルムＦ１の搬送方向への移動量を用いて、第１検査装置１によって欠陥を検出した時点と、第１印字装置２によって第１識別情報Ｍを印字した時点との間に、第１長尺光学フィルムＦ１がどれだけ搬送方向に移動しているかを把握し、少なくとも、第１識別情報Ｍと、第１識別情報Ｍを基準とした欠陥の座標とを紐付けて記憶する。

　（塗工工程Ｓ３５）
　塗工工程Ｓ３５では、第１長尺光学フィルムＦ１に液晶材料（液晶性組成物）が塗工され、第１長尺光学フィルムＦ１上に、図１４（ｃ）に示す液晶層Ｆ１１（配向液晶層）が形成される。図１４（ｃ）に示すように、液晶材料は、第１長尺光学フィルムＦ１の第１識別情報Ｍが印字された面と反対側の面に塗工され、この反対側の面に配向液晶層Ｆ１１が形成される。
　第１長尺光学フィルムＦ１に塗工される液晶性組成物は、液晶化合物を含む。液晶性組成物を第１長尺光学フィルムＦ１に塗工した後、液晶化合物を所定方向に配向させ、この配向状態を固定することで、第１長尺光学フィルムＦ１上に配向液晶層Ｆ１１が形成される。

　液晶化合物としては、例えば、棒状液晶化合物や、円盤状液晶化合物が挙げられる。第１長尺光学フィルムＦ１（基材）の配向規制力によってホモジニアス配向し易いことから、液晶化合物として棒状液晶化合物を用いることが好ましい。棒状液晶化合物は、主鎖型液晶でも側鎖型液晶でもよい。棒状液晶化合物は、液晶ポリマーでも、重合性液晶化合物の重合物でよい。重合前の液晶化合物（モノマー）が液晶性を示すものであれば、重合後は液晶性を示さないものであってもよい。
　液晶化合物は、加熱によって液晶性を発現するサーモトロピック液晶であることが好ましい。サーモトロピック液晶は、温度変化に伴って、結晶相、液晶相、等方相の相転移を生じる。液晶性組成物に含まれる液晶化合物は、ネマチック液晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶のいずれでもよい。ネマチック液晶にカイラル剤を添加してコレステリック配向性を持たせてもよい。

　液晶性組成物に含まれる液晶化合物がサーモトロピック液晶である場合には、第１長尺光学フィルムＦ１上に液晶性組成物を塗工し、加熱して液晶化合物を液晶状態として配向させ、液晶性組成物層を形成する。そして、液晶性組成物層を加熱して液晶相とすることで、液晶化合物が配向した配向液晶層Ｆ１１が形成される。配向液晶層Ｆ１１の光学特性は特に限定されないが、例えば、１／４波長板や、１／２波長板として機能する。好ましくは、配向液晶層Ｆ１１は、ポジティブＡプレートである１／４波長板として機能するホモジニアス配向液晶層とされる。

　（読み取り工程Ｓ３６）
　読み取り工程Ｓ３６では、第１実施形態の第１読取装置９と同様の構成を有する読取装置で、搬送ロールによってロールツーロール方式で搬送される液晶材料塗工後（配向液晶層Ｆ１１形成後）の第１長尺光学フィルムＦ１の第１識別情報Ｍを読み取る。読み取った第１識別情報Ｍは、第１演算記憶装置４に入力される。

　（第１工程（２回目）Ｓ３７）
　２回目の第１工程Ｓ３７では、第１実施形態の第１検査装置１（撮像手段１ａ及び画像処理手段１ｂ）と同様の構成を有する検査装置が、搬送ロールによってロールツーロール方式で搬送される液晶材料塗工後（配向液晶層Ｆ１１形成後）の第１長尺光学フィルムＦ１を検査して、液晶材料塗工後の第１長尺光学フィルムＦ１の欠陥情報である第１’欠陥情報を取得する。取得した第１’欠陥情報は、第１演算記憶装置４に入力される。

　（第３工程（２回目）Ｓ３８）
　２回目の第３工程Ｓ３８では、第１演算記憶装置４が、２回目の第１工程Ｓ３７で取得した液晶材料塗工後の第１長尺光学フィルムＦ１の第１’欠陥情報と、読み取り工程Ｓ３６で読み取った第１識別情報Ｍとを紐付けて記憶する。第１演算記憶装置４には、第３工程Ｓ３４によって、液晶材料塗工前の第１長尺光学フィルムＦ１の第１欠陥情報と第１識別情報Ｍとが紐付けて記憶されているため、第１演算記憶装置４は、液晶材料塗工後の第１長尺光学フィルムＦ１の第１’欠陥情報を第１欠陥情報に上書きして、第１識別情報Ｍと紐付けて記憶する。
　具体的には、第１演算記憶装置４は、測長器３と同様の構成を有する測長器から入力された液晶材料塗工後の第１長尺光学フィルムＦ１の搬送方向への移動量を用いて、読取装置で第１識別情報Ｍを読み取った時点と、検査装置で欠陥を検出した時点（撮像画像における欠陥に相当する画素領域の座標を特定した時点）との間に、液晶材料塗工後の第１長尺光学フィルムＦ１がどれだけ搬送方向に移動しているかを把握し、少なくとも、第１識別情報Ｍと、第１識別情報Ｍを基準とした欠陥の座標とを紐付けて記憶する。

　［第２長尺光学フィルムＦ２の製造工程で実行される工程］
　（保護フィルム製造工程Ｓ４１）
　図１２に示す保護フィルム製造工程Ｓ４１では、図１５（ａ）に示す保護フィルムＦ２１が製造される。保護フィルムＦ２１としては、第１実施形態の第１長尺光学フィルムＦ１と同様のものを用いることができる。すなわち、保護フィルムＦ２１としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリメチルメタクリレート系樹脂、液晶ポリマー等のポリマーからなるフィルムが好ましく用いられる。
　保護フィルムＦ２１は、キャスティング法、カレンダー法、押出し法のいずれで製造したものでもよい。製造された保護フィルムＦ２１は、ロール状に巻回されて、原反ロールとされる。
　なお、第３実施形態では、第１実施形態の第１長尺光学フィルムＦ１と異なり、保護フィルムＦ２１に識別情報が印字されない。

　（貼り合わせ工程Ｓ４２）
　第２長尺光学フィルムＦ２の製造工程では、保護フィルムＦ２１の原反ロールが繰り出されると共に、別途製造された偏光子Ｆ２２の原反ロールが繰り出される。そして、貼り合わせ工程Ｓ４２では、偏光子Ｆ２２の片側又は両側に、接着剤等を介して、保護フィルムＦ２１を貼り合わせ、図１５（ｂ）に示すように、保護フィルムＦ２１と偏光子Ｆ２２とが積層された第２長尺光学フィルムＦ２（偏光フィルム）を得る。
　偏光子Ｆ２２としては、第１実施形態の第２長尺光学フィルムと同様のものを用いることができる。すなわち、偏光子Ｆ２２としては、染色処理、架橋処理及び延伸処理を施したポリビニルアルコール系フィルムを乾燥させて製造されたものを用いることができる。

　（第４工程Ｓ４３）
　第４工程Ｓ４３では、第１実施形態と同じ第２検査装置５（撮像手段５ａ及び画像処理手段５ｂ）が、搬送ロールによってロールツーロール方式で搬送される第２長尺光学フィルムＦ２を検査して、第２長尺光学フィルムＦ２の欠陥情報である第２欠陥情報を取得する。取得した第２欠陥情報は、第１実施形態と同じ第２演算記憶装置８に入力される。

　（第５工程Ｓ４４）
　第５工程Ｓ４４では、第１実施形態と同じ第２印字装置６が、第２長尺光学フィルムＦ２の幅方向端部に、第２長尺光学フィルムＦ２の長手方向の所定間隔毎に、図１５（ｃ）に示す第２識別情報Ｎをレーザ刻印で印字する。具体的には、第２長尺光学フィルムＦ２を構成する保護フィルムＦ２１に第２識別情報Ｎを印字する。

　（第６工程Ｓ４５）
　第６工程Ｓ４５では、第２演算記憶装置８が、第２長尺光学フィルムＦ２の第１欠陥情報と第２識別情報Ｎとを紐付けて記憶する。具体的には、第２演算記憶装置８は、測長器７から入力された第２長尺光学フィルムＦ２の搬送方向への移動量を用いて、第２検査装置５によって欠陥を検出した時点と、第２印字装置６によって第２識別情報Ｎを印字した時点との間に、第２長尺光学フィルムＦ２がどれだけ搬送方向に移動しているかを把握し、少なくとも、第２識別情報Ｎと、第２識別情報Ｎを基準とした欠陥の座標とを紐付けて記憶する。

　［長尺光学積層体の製造工程で実行される工程］
　前述の第１長尺光学フィルムＦ１の製造工程で製造された第１長尺光学フィルムＦ１（基材である第１長尺光学フィルムＦ１の一方の面に配向液晶層Ｆ１１が形成され、他方の面に第１識別情報Ｍがインクジェット方式で印字された積層体）は、ロール状に巻回されて、原反ロールとされる。また、前述の第２長尺光学フィルムＦ２の製造工程で製造された第２長尺光学フィルムＦ２（保護フィルムＦ２１と偏光子Ｆ２２とが積層され、保護フィルムＦ２１に第２識別情報Ｎがレーザ刻印で印字された偏光フィルム）は、ロール状に巻回されて、原反ロールとされる。原反ロールとされた第１長尺光学フィルムＦ１及び第２長尺光学フィルムＦ２は、長尺光学積層体の製造工程に運ばれる。長尺光学積層体の製造工程では、運ばれた第１長尺光学フィルムＦ１及び第２長尺光学フィルムＦ２の原反ロールが用いられる。
　図１３に示すように、第３実施形態の長尺光学積層体の製造工程は、Ｎｏ．１工程と、Ｎｏ．２工程と、を含んでいる。なお、図１３に示す「Ａ」は、図１１及び図１２に示す「Ａへ」に後続する工程であることを意味している。

　（貼り合わせ工程Ｓ５１）
　Ｎｏ．１工程では、第１長尺光学フィルムＦ１（第１長尺光学フィルムＦ１と配向液晶層Ｆ１１との積層体）の原反ロールが繰り出され、第２長尺光学フィルムＦ２（偏光フィルム）の原反ロールが繰り出される。そして、貼り合わせ工程Ｓ５１では、第１長尺光学フィルムＦ１の配向液晶層Ｆ１１側と、第２長尺光学フィルムＦ２の偏光子Ｆ２２側とが対向するように、粘着剤２０（例えば、アクリル系の粘着剤）を介して、第１長尺光学フィルムＦ１と第２長尺光学フィルムＦ２とを貼り合わせ、図１６（ａ）に示すように、第１長尺光学フィルムＦ１と第２長尺光学フィルムＦ２とが積層された長尺光学積層体を得る。この長尺光学積層体を構成する第１長尺光学フィルムＦ１に第１識別情報Ｍが印字され、第２長尺光学フィルムＦ２の保護フィルムＦ２１に第２識別情報Ｎが印字されている。

　（第７工程Ｓ５２）
　第７工程Ｓ５２では、第２演算記憶装置８が、第１長尺光学フィルムＦ１の第１欠陥情報と第２長尺光学フィルムＦ２の第２識別情報Ｎとを紐付けて記憶する。具体的には、搬送ロールによってロールツーロール方式で搬送される長尺光学積層体について、第１実施形態と同じ第１読取装置９で読み取った第１識別情報Ｍと、第２読取装置１０で読み取った第２識別情報Ｎとが、第２演算記憶装置８に入力される（ただし、図４に示す形態と異なり、第１読取装置９は、長尺光学積層体の最下面に印字された第１識別情報Ｍを読み取ることができ、第２読取装置１０は、長尺光学積層体の最上面に印字された第２識別情報Ｎを読み取ることができるように配置される）。ここで、第２演算記憶装置８には、第１実施形態と同様に、予め、第１演算記憶装置４に記憶された第１長尺光学フィルムＦ１の第１欠陥情報と第１識別情報Ｍとの紐付け（第１識別情報Ｍと、第１識別情報Ｍを基準とした欠陥の座標との関係）が入力され、記憶されている。また、第２演算記憶装置８には、第１実施形態と同じ測長器１１から長尺光学積層体の搬送方向への移動量が入力される。

　第２演算記憶装置８は、測長器１１から入力された長尺光学積層体の搬送方向への移動量に基づき、第１読取装置９で第１識別情報Ｍを読み取った時点（第１識別情報Ｍが第２演算記憶装置８に入力された時点）と、第２読取装置１０で第２識別情報Ｎを読み取った時点（第２識別情報Ｎが第２演算記憶装置８に入力された時点）との間に、長尺光学積層体がどれだけ搬送方向に移動しているかを把握することができる。この両時点間の長尺光学積層体の移動量に基づき、第２演算記憶装置８は、第１識別情報Ｍと第２識別情報Ｎとの長尺光学積層体の長手方向に沿った位置ズレを算出することができる。
　したがい、第２演算記憶装置８は、予め記憶された第１長尺光学フィルムＦ１の第１欠陥情報と第１識別情報Ｍとの紐付けと、算出した第１識別情報Ｍと第２識別情報Ｎとの位置ズレとに基づき、第１長尺光学フィルムＦ１の第１欠陥情報と第２長尺光学フィルムＦ２の第２識別情報Ｎとを紐付けて記憶することができる。換言すれば、第２識別情報Ｎと、第２識別情報Ｎを基準とした欠陥の座標とを紐付けて記憶することができる。このように、第７工程Ｓ５２を実行することで、第２長尺光学フィルムＦ２の第２識別情報Ｎに基づき、第１欠陥情報及び第２欠陥情報を一元管理することができる。

　（第３欠陥情報取得工程Ｓ５３）
　第３欠陥情報取得工程Ｓ５３では、第１実施形態の第２検査装置５（撮像手段５ａ及び画像処理手段５ｂ）と同様の構成を有する検査装置が、搬送ロールによってロールツーロール方式で搬送される図１６（ａ）に示す長尺光学積層体を検査して、長尺光学積層体の欠陥情報である第３欠陥情報を取得する。取得した第３欠陥情報は、第２演算記憶装置８に入力される。

　（記憶工程Ｓ５４）
　記憶工程Ｓ５４では、第２演算記憶装置８が、第３欠陥情報取得工程Ｓ５３で取得した長尺光学積層体の第３欠陥情報と、第７工程Ｓ５２で読み取った第２識別情報Ｎとを紐付けて記憶する。具体的には、第２演算記憶装置８は、測長器１１と同様の構成を有する測長器から入力された長尺光学積層体の搬送方向への移動量を用いて、第２読取装置１０で第２識別情報Ｎを読み取った時点と、検査装置で欠陥を検出した時点（撮像画像における欠陥に相当する画素領域の座標を特定した時点）との間に、長尺光学積層体がどれだけ搬送方向に移動しているかを把握し、少なくとも、第２識別情報Ｎと、第２識別情報Ｎを基準とした欠陥の座標とを紐付けて記憶する。この記憶工程Ｓ５４を実行することで、第２長尺光学フィルムＦ２の第２識別情報Ｎに基づき、第１欠陥情報、第２欠陥情報及び第３欠陥情報を一元管理することができる。
　記憶工程Ｓ５４を実行した後の長尺光学積層体は、ロール状に巻回されて、Ｎｏ．２工程に運ばれる。

　（読み取り工程Ｓ５５）
　Ｎｏ．２工程では、ロール状に巻回された長尺光学積層体が繰り出され、最初に、図１６（ａ）に示す長尺光学積層体を構成する第１長尺光学フィルムＦ１（基材）が剥離除去される。そして、例えば、紫外線硬化型接着剤３０を介して、長尺光学積層体を構成する配向液晶層Ｆ１１に、液晶分子が基材面（剥離除去前の第１長尺光学フィルムＦ１の面）に対して垂直配向（ホメオトロピック配向）し、ポジティブＣプレートとして機能する配向液晶層４０を形成する。さらに、この配向液晶層４０に粘着剤２０と同様の粘着剤５０を塗工する。以上の工程により、図１６（ｂ）に示す長尺光学積層体を形成する。
　図１６（ｂ）に示す長尺光学積層体は、偏光フィルムである第２長尺光学フィルムＦ２上に、配向液晶層Ｆ１１（好ましくは、ポジティブＡプレートである１／４波長板として機能するホモジニアス配向液晶層）と、ポジティブＣプレートとして機能する配向液晶層４０とが順に積層されているため、斜め方向からの外光に対しても反射光を遮蔽可能な円偏光板として機能することができる。なお、第３実施形態では、偏光フィルムである第２長尺光学フィルムＦ２上に、配向液晶層Ｆ１１、配向液晶層４０の順に積層された長尺光学積層体を製造しているが、順番を入れ替えて、第２長尺光学フィルムＦ２上に、配向液晶層４０、配向液晶層Ｆ１１の順に積層された長尺光学積層体を製造してもよい。この場合には、第１長尺光学フィルムＦ１（基材）上に配向液晶層４０が形成されることになる。
　図１６（ｂ）に示す長尺光学積層体は、第１識別情報Ｍが印字された第１長尺光学フィルムＦ１が剥離除去されているため、第２長尺光学フィルムＦ２の保護フィルムＦ２１に印字された第２識別情報Ｎしか存在しない。そして、Ｎｏ．２工程では、この長尺光学積層体に対して、読み取り工程Ｓ５５が実行される。
　読み取り工程Ｓ５５では、第１実施形態と同じ第２読取装置１２で第２識別情報Ｎを読み取る。読み取った第２識別情報Ｎは、第２演算記憶装置８に入力される。

　（第３欠陥情報取得工程（２回目）Ｓ５６）
　２回目の第３欠陥情報取得工程Ｓ５６では、第１実施形態と同じ第２検査装置１３（撮像手段１３ａ及び画像処理手段１３ｂ）が、搬送ロールによってロールツーロール方式で搬送される長尺光学積層体（図１６（ｂ））を検査して、長尺光学積層体の欠陥情報である第３欠陥情報を取得する。取得した第３欠陥情報は、第２演算記憶装置８に入力される。

　（記憶工程（２回目）Ｓ５７）
　２回目の記憶工程Ｓ５７では、第２演算記憶装置８が、第２検査装置１３で取得した長尺光学積層体の第２欠陥情報と、第２読取装置１２で読み取った第２識別情報Ｎとを紐付けて記憶する。具体的には、第２演算記憶装置８は、第１実施形態と同じ測長器１４から入力された長尺光学積層体の搬送方向への移動量を用いて、第２読取装置１２で第２識別情報Ｎを読み取った時点と、第２検査装置１３で欠陥を検出した時点（撮像画像における欠陥に相当する画素領域の座標を特定した時点）との間に、長尺光学積層体がどれだけ搬送方向に移動しているかを把握し、少なくとも、第２識別情報Ｎと、第２識別情報Ｎを基準とした欠陥の座標とを紐付けて記憶する。

　以上に説明した第３実施形態に係る検査方法では、第１識別情報Ｍをインクジェット方式で印字し、第２識別情報Ｎをレーザ刻印で印字している（ただし、これに限らず、前述の印字パターン１～６の何れかのパターンで第１識別情報Ｍ及び第２識別情報Ｎを印字すればよい）。したがい、第３実施形態に係る検査方法によれば、第１実施形態と同様に、第１識別情報Ｍと第２識別情報Ｎとが上下方向に見て重なったとしても、両者を区別して読み取ることができる。すなわち、欠陥情報と識別情報とを適切に紐付ける（第１欠陥情報と第１識別情報Ｍ（ひいては第２識別情報Ｎ）とを紐付け、第２欠陥情報と第２識別情報Ｎとを紐付け、第３欠陥情報と第２識別情報Ｎとを紐付ける）ことができる。
　また、例えば、第２識別情報Ｎを読み取って、第６工程Ｓ４５で記憶した第２欠陥情報と第２識別情報Ｎとの紐付けを用い、第７工程Ｓ５２で記憶した第１欠陥情報と第２識別情報Ｎとの紐付けを用い、記憶工程Ｓ５４、Ｓ５７で記憶した第３欠陥情報と第２識別情報Ｎとの紐付けを用いることで、第１長尺光学フィルムＦ１の状態で発生した欠陥の位置、第２長尺光学フィルムＦ２の状態で発生した欠陥の位置及び長尺光学積層体の状態で発生した欠陥の位置を避けて、製品を打ち抜くことが可能である。

　なお、第３実施形態では、第１識別情報Ｍが印字される第１長尺光学フィルムＦ１が、液晶材料が塗工される基材（配向液晶層Ｆ１１が形成される基材）であり、配向液晶層Ｆ１１が１／４波長板として機能する場合を例に挙げて説明したが、これに限るものではない。第１長尺光学フィルムＦ１として、１／４波長板として機能する樹脂フィルムの延伸フィルム（位相差フィルム）を用い、この延伸フィルムに第１識別情報Ｍを印字する態様を採用することも可能である（この場合の第１長尺光学フィルムＦ１は、第２長尺光学フィルムＦ２と貼り合わせた後にも剥離除去されない）。このような樹脂フィルムの材料としては、例えば、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステルカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、環状オレフィン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリル系樹脂が挙げられる。これらの樹脂は、単独で用いてもよいし、組み合わせて（例えば、ブレンド、共重合させて）用いてもよい。

　＜第４実施形態＞
　本発明の第４実施形態に係る長尺光学積層体の検査方法は、第１実施形態に係る検査方法と第３実施形態に係る検査方法との組み合わせ、又は、第２実施形態に係る検査方法と第３実施形態に係る検査方法との組み合わせである。
　具体的には、第４実施形態に係る検査方法では、第１及び第２実施形態に係る検査方法と同様に、保護フィルムに識別情報を印字し、第１～第３実施形態に係る検査方法と同様に、偏光フィルム（保護フィルムと偏光子との積層体）に識別情報を印字し、第３実施形態に係る検査方法と同様に、基材又は位相差フィルムに識別情報を印字する。

　図１７は、第４実施形態に係る長尺光学積層体の検査方法における印字パターンを説明する説明図である。図１７（ａ）は、第３実施形態の貼り合わせ工程Ｓ５１で得られる長尺光学積層体（図１６（ａ）に示す基材Ｆ１を剥離除去する前の長尺光学積層体）に対応する長尺光学積層体の状態を模式的に示す断面図である。図１７（ａ）は、第４実施形態での好ましい印字パターンを示す。
　図１７（ａ）に示すように、基材Ｆ１（又は位相差フィルム）に印字する識別情報を第１識別情報Ｍ、偏光フィルムＦ２（具体的には、保護フィルムＦ２１）に印字する識別情報を第２識別情報Ｎ、保護フィルムＦ２１に印字する識別情報を第３識別情報Ｐとする。このとき、本発明者らの知見によれば、図１７（ｂ）に示す印字パターン１～６の何れかのパターンで第１識別情報Ｍ、第２識別情報Ｎ及び第３識別情報Ｐを印字することが好ましい。すなわち、第１識別情報Ｍ、第２識別情報Ｎ及び第３識別情報Ｐのうち、レーザ刻印で印字するのは１つの識別情報のみであり、有色インクを用いたインクジェット方式で印字するのも１つの識別情報のみであることが好ましい。図１７（ｂ）に示す印字パターン１～６の何れかのパターンで第１識別情報Ｍ、第２識別情報Ｎ及び第３識別情報Ｐを印字することで、第１識別情報Ｍ、第２識別情報Ｎ及び第３識別情報Ｐが上下方向に見て重なったとしても、これらを区別して読み取ることができる。すなわち、欠陥情報と識別情報とを適切に紐付けることができる。

　１・・・第１検査装置
　２・・・第１印字装置
　３、７、１１、１４・・・測長器
　４・・・第１演算記憶装置
　５、１３・・・第２検査装置
　６・・・第２印字装置
　８・・・第２演算記憶装置
　９・・・第１読取装置
　１０、１２・・・第２読取装置
　１００・・・検査システム
　Ｆ１・・・第１長尺光学フィルム
　Ｆ２・・・長尺光学積層体、第２長尺光学フィルム
　Ｍ・・・第１識別情報
　Ｎ・・・第２識別情報

Claims (10)

1. 　第１長尺光学フィルムを検査して、前記第１長尺光学フィルムの欠陥情報である第１欠陥情報を取得する第１工程と、
   　前記第１長尺光学フィルムの幅方向端部に、前記第１長尺光学フィルムの長手方向の所定間隔毎に第１識別情報を印字する第２工程と、
   　前記第１長尺光学フィルムの前記第１欠陥情報と前記第１識別情報とを紐付けて記憶する第３工程と、
   　第２長尺光学フィルムを検査して、又は、前記第１長尺光学フィルムと前記第２長尺光学フィルムとが積層された長尺光学積層体を検査して、前記第２長尺光学フィルム又は前記長尺光学積層体の欠陥情報である第２欠陥情報を取得する第４工程と、
   　前記第２長尺光学フィルム又は前記長尺光学積層体の幅方向端部に、前記第２長尺光学フィルム又は前記長尺光学積層体の長手方向の所定間隔毎に第２識別情報を印字する第５工程と、
   　前記第２長尺光学フィルム又は前記長尺光学積層体の前記第２欠陥情報と前記第２識別情報とを紐付けて記憶する第６工程と、を含み、
   　前記第２工程において印字する前記第１識別情報及び前記第５工程において印字する前記第２識別情報のうち、何れか一方をインクジェット方式で印字して、何れか他方をレーザ刻印で印字するか、又は、何れか一方を透明インクを用いたインクジェット方式で印字して、何れか他方を有色インクを用いたインクジェット方式で印字する、
   ことを特徴とする長尺光学積層体の検査方法。
2. 　前記第２工程において、前記第１識別情報を透明インクを用いたインクジェット方式で印字し、
   　前記第５工程において、前記第２識別情報をレーザ刻印で印字する、
   ことを特徴とする請求項１に記載の長尺光学積層体の検査方法。
3. 　前記第１長尺光学フィルムの前記第１欠陥情報と前記第２長尺光学フィルム又は前記長尺光学積層体の前記第２識別情報とを紐付けて記憶する第７工程を更に含む、
   ことを特徴とする請求項１又は２に記載の長尺光学積層体の検査方法。
4. 　前記第１長尺光学フィルムの前記第１識別情報及び前記第１欠陥情報と、前記第２長尺光学フィルム又は前記長尺光学積層体の前記第２識別情報及び前記第２欠陥情報とに基づき、前記長尺光学積層体の欠陥の位置にマーキングを施す第８工程を更に含む、
   ことを特徴とする請求項１から３の何れかに記載の長尺光学積層体の検査方法。
5. 　前記第１長尺光学フィルムが保護フィルムであり、
   　前記第２長尺光学フィルムが偏光子であり、
   　前記長尺光学積層体が偏光フィルムである、
   ことを特徴とする請求項１から４の何れかに記載の長尺光学積層体の検査方法。
6. 　前記第１長尺光学フィルムが位相差フィルム又は液晶材料が塗工される基材であり、
   　前記第２長尺光学フィルムが偏光フィルムである、
   ことを特徴とする請求項１から４の何れかに記載の長尺光学積層体の検査方法。
7. 　前記第１長尺光学フィルムが反射型偏光子であり、
   　前記第２長尺光学フィルムが偏光フィルムである、
   ことを特徴とする請求項１から４の何れかに記載の長尺光学積層体の検査方法。
8. 　前記第１長尺光学フィルムの幅方向端部にナーリング加工部が形成され、
   　前記第２工程において、前記第１長尺光学フィルムの前記ナーリング加工部に相当する部位に前記第１識別情報をインクジェット方式で印字する、
   ことを特徴とする請求項５に記載の長尺光学積層体の検査方法。
9. 　前記第１長尺光学フィルムの幅方向端部にナーリング加工部が形成されており、
   　前記第５工程において、前記第１長尺光学フィルムのナーリング加工部よりも幅方向内側に位置する前記第２長尺光学フィルム又は前記長尺光学積層体の部位に、前記第２識別情報を印字する、
   ことを特徴とする請求項５に記載の長尺光学積層体の検査方法。
10. 　第１長尺光学フィルムを検査して、前記第１長尺光学フィルムの欠陥情報である第１欠陥情報を取得する第１検査装置と、
    　前記第１長尺光学フィルムの幅方向端部に、前記第１長尺光学フィルムの長手方向の所定間隔毎に第１識別情報を印字する第１印字装置と、
    　前記第１長尺光学フィルムの前記第１欠陥情報と前記第１識別情報とを紐付けて記憶する第１演算記憶装置と、
    　第２長尺光学フィルムを検査して、又は、前記第１長尺光学フィルムと前記第２長尺光学フィルムとが積層された長尺光学積層体を検査して、前記第２長尺光学フィルム又は前記長尺光学積層体の欠陥情報である第２欠陥情報を取得する第２検査装置と、
    　前記第２長尺光学フィルム又は前記長尺光学積層体の幅方向端部に、前記第２長尺光学フィルム又は前記長尺光学積層体の長手方向の所定間隔毎に第２識別情報を印字する第２印字装置と、
    　前記第２長尺光学フィルム又は前記長尺光学積層体の前記第２欠陥情報と前記第２識別情報とを紐付けて記憶する第２演算記憶装置と、を備え、
    　前記第１印字装置が印字する前記第１識別情報及び前記第２印字装置が印字する前記第２識別情報のうち、何れか一方がインクジェット方式で印字され、何れか他方がレーザ刻印で印字されるか、又は、何れか一方が透明インクを用いたインクジェット方式で印字され、何れか他方が有色インクを用いたインクジェット方式で印字される、
    ことを特徴とする長尺光学積層体の検査システム。

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