TW202121490A - 用於質譜儀之進料系統 - Google Patents
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Abstract
本發明之一態樣係關於一種用於一質譜儀(5)之進料系統(1),其包括:一第一閥(6a),用於使待分析之一氣體(2)自一處理室(3)進氣至該進料系統(1)之一抽氣管路(7);一第二閥(6b),用於使待分析之該氣體(2)離開該抽氣管路(7)且進入用於待分析之該氣體(2)之電離之一電離裝置(4)中;一質量流量調節器(8),用於將離開該處理室(3)且進入該抽氣管路(7)中之待分析之該氣體(2)之一質量流率(QS
)調節至一給定質量流率參考值(QS,S
);一壓力計(9),用於量測該質量流量調節器(8)上游之該抽氣管路(7)中之一壓力(p1
);一進一步壓力計(10),用於量測該質量流量調節器(8)下游之該抽氣管路(7)中之一壓力(p2
);以及一壓力調節裝置(13),用於將該質量流量調節器(8)下游之該抽氣管路(7)中之該壓力(p2
)調節至一給定壓力參考值(p2,S
)。本發明之一進一步態樣係關於一種用於一質譜儀(5)之額外進料系統。
Description
本發明係關於用於一質譜儀之進料系統。
當程序(例如磊晶)在半導體業中實施時,壓力中之大量改變可發生在其中實施各自程序之一處理室中。壓力波動可在(例如)約10-2
mbar與約103
mbar之間。就程序控制應用及程序發展應用而言,已知用於將存在於處理室中之氣體之樣本供應至一質譜儀用於分析之實踐。
呈(例如)用於在供應至質譜儀之前待分析之氣體之電離之電子束電離裝置之形式之電離裝置通常經設計用於在一相對窄壓力範圍內操作,其導致優良電離率及離子之有效引出。
本發明之任務
本發明之任務係提供用於一質譜儀之進料系統,其允許一最佳壓力範圍內之該質譜儀及特定言之電離裝置之操作。
根據一第一態樣,此目的由一種用於一質譜儀之進料系統達成,該進料系統包括:一第一閥,其用於使待分析之該氣體自一處理室進氣至該進料系統之一抽氣管路;一第二閥,其用於使待分析之該氣體離開該抽氣管路且進入用於待分析之該氣體之電離之一電離裝置中;一質量流量調節器,其用於將離開該處理室且進入該抽氣管路中之待分析之該氣體之一質量流率調節至一給定質量流率參考值;一壓力計,其用於量測該質量流量調節器上游之該抽氣管路中之一壓力;一進一步壓力計,其用於量測該質量流量調節器下游之該抽氣管路中之一壓力;以及一壓力調節裝置,其用於將該質量流量調節器下游之該抽氣管路中之該壓力調節至一給定壓力參考值。
根據本發明之該第一態樣之該進料系統係自給的(即,不管所連接之質譜儀之類型或電離裝置之類型),其可用於將該電離裝置之一電離空間中之該壓力設定為一所要值,因為主動設定或調節進入該電離裝置中或該電離空間中之待分析之該氣體之進氣壓力。另外,可設定經由該進料系統供應至該電離裝置之待分析之該氣體之該質量流率。
依此方式,該質譜儀可在一最佳壓力範圍內操作而不改變該電離裝置或該質譜儀之任何其他組件(例如一轉移四極或一質量分析器)之該操作點。該進料系統中之該等壓力值及該等質量流率值或該等壓力比及質量流率比之調整達成甚至在該處理室中之不同壓力處實施之程序步驟之間的經量測之信號位準之一相對量化。
該質量流量調節器下游之該抽氣管路中之該壓力參考值可為(例如)約0.1 mbar。該電離裝置之該電離空間內之該(儘可能恆定)壓力通常較低且通常小於0.01 mbar。
透過待分析之該氣體之恆定壓力,該電離裝置或該電離空間中之該壓力可保持恆定。若p1
代表該質量流量調節器上游之該抽氣管路中之壓力且p2
代表該質量流量調節器下游之該抽氣管路中之壓力,則稀釋因數係p2
/ p1
。該質量流量調節器下游之壓力p2
小於該質量流量調節器上游之壓力p1
。
在一實施例之情況中,該壓力調節裝置具有用於設定轉出該抽氣管路至一旁路管中之待分析之該氣體之一體積流率之一流量控制裝置。在此實施例之情況中,為調節該質量流量調節器下游之該抽氣管路中之該壓力,由該質量流量調節器通過之該質量流量之部分轉向至該旁路管中,該質量流量調節器下游之該抽氣管路中之該壓力透過該該旁路管減小至所要程度,即使該處理室中之該壓力劇烈波動。透過待分析之該氣體之部分之轉向至該旁路管中,待供應至該電離裝置之待分析之該氣體之該體積流量減小。為設定一適合體積流量,由該額外壓力計量測之該質量流量調節器下游之該抽氣管路中之該壓力由該壓力調節裝置用作為一量測變量。
在一進一步實施例之情況中,該流量控制裝置具有經設計以控制轉向至該旁路管中之待分析之該氣體之該流量之一第三閥,因為該旁路管之該流量橫截面依一針對性方式設定。就該流量橫截面之該針對性設定而言,該第三閥具有(例如)一可旋轉關斷閥(「蝶形閥」)之一適合擬合。該可控制閥可具有用於移動該擬合(例如該關斷閥)之一驅動馬達。
該質量流量調節器上游之待分析之該氣體之該體積流量QS
對應於經由該第二閥供應至該質量流量調節器下游及經由該第三閥供應至該旁路管之該等體積流量之總和。
根據理想氣體定律,下文適用於該等體積流量:Vx
=質量流率(sccm) × 1000 mbar / Px
mbar。經由氣體基質之特定導熱性描繪取決於氣體之類型之(真實)參數且該等參數儲存於該質量流量控制器之操作硬體及/或軟體中。因此,由使用者選擇該氣體基質之各自判定主組件(氣體之類型),使得該質量流量調節器調節該質量流量。
在一進一步實施例之情況中,該進料系統具有用於泵出待分析且轉向至該旁路管之該氣體之一真空泵,特定言之一渦輪分子泵或一渦捲式壓縮機。取決於該質量流量調節器上游之該壓力及由該質量流量調節器設定之該質量流率,由該真空泵泵出之該體積流量可約為10 L/s或以上,使得使用一渦輪分子泵係必要的或有益的。在該質量流量調節器下游之該抽氣管路之該區段中之較低壓力之情況中,此具有額外優點,自該旁路管流回至該抽氣管路中之該等種類之比例可保持為一最小值。若該真空泵之該體積流量小於3 L/s且可承受背景種類之一增加數量,則替代一渦輪分子泵,吾人亦可使用一不同類型之真空泵,例如一渦捲式壓縮機(「渦捲式泵」)。
本發明之一進一步態樣係關於一種用於一質譜儀之進料系統,其包括:一電離裝置,其用於待分析之一氣體之電離;一第一閥,其用於使待分析之該氣體自一處理室進氣至該進料系統之一抽氣管路;一第二閥,其用於使待分析之該氣體離開該抽氣管路且進入用於該電離裝置中;一質量流量調節器,其用於將離開該處理室進入該抽氣管路中之待分析之該氣體之一質量流率調節至一給定質量流率參考值;一壓力計,其用於量測該質量流量調節器上游之該抽氣管路中之一壓力;及一真空泵,其用於抽空該電離源之一電離空間,其中為將該電離空間中之一壓力調節至一壓力參考值,該進料系統經設計用於設定該質量流量調節器之該質量流率參考值。為了設定該質量流率參考值,可量測該質量流量調節器下游之該電離空間中及/或該抽氣管路中之該壓力。
在本發明之此態樣之情況中,該進料系統不自給;確切而言,該電離裝置整合至該進料系統中。在此情況中,該質譜儀形成具有該進料系統之一結構單元。在本發明之此態樣之情況中,該電離裝置(通常有差別地泵送)表示限制流量或限制該質量流量調節器下游之流導之該壓力調節之組件。
取決於該電離空間中之該壓力(其(例如)可使用一壓力感測器在該質量流量調節器下游之該抽氣管路中直接或間接量測),調整該質量流量調節器之該質量流量參考值以將該電離空間中之該壓力保持在一恆定值下。替代地,亦可在用於抽空該電離空間之該真空泵之該體積流量及該泵輸出之基礎上判定該電離空間中之該壓力。在此情況中,由該質量流量調節器是我的之該該質量流率對應於自該抽空管路傳遞至該電離裝置之該電離空間中之該體積流量。在此情況中,為了比較在該處理室中之不同壓力下實施之程序步驟,必須記錄或測錄該質量流量調節器之該質量流率參考值。
在一進一步發展之情況中,該進料系統具有用於將待分析之該氣體轉向出該抽氣管路至一旁路管中之一第三閥。
該旁路管可用於(例如)緊接著該進料系統關閉或在該處理室中實施之程序結束之後,將量測之間的該抽氣管路排空。該第三閥不必達成流量控制,如同根據本發明之該第一態樣之該進料系統。
在一進一步發展之情況中,為了將該分析之該氣體泵出該抽氣管路,該旁路管被連接至該真空泵以泵送該電離裝置之該電離空間。用於抽空該電離空間之該真空泵通常係一渦輪分子泵。為了泵送經連接至該電離裝置之該質量分析器以偵測待分析之該氣體,一進一步真空泵可被配置於該質譜儀中,或一分流泵可用於此目的。
在一實施例之情況中,該壓力計及/或該額外壓力計經設計為(一)(若干)電容式壓力感測器。此等壓力感測器通常具有形成一冷凝器之部分且隨(周圍)壓力而改變其位置之一薄隔膜。量測該質量流量調節器上游之該壓力之該壓力計通常經設計用於約1000 mbar之一壓力範圍。由該質量流量調節器上游之該壓力計量測之該壓力對應於該處理室之該出口處之該處理室中之該壓力。在根據本發明之該第一態樣之該進料系統之情況中,量測該質量流量調節器下游之該壓力之該額外壓力計通常經設計以量測約0.001 mbar至約1 mbar之間的一壓力範圍內之該壓力。
就程序控制應用及程序發展應用而言,頗關注一程序之觀察的時間相關解析度。為實施即時分析,特定言之,必須以預期之氣體流量之類型的嚴格考量來仔細地選擇該質量流量調節器上游及下游之該抽氣管路之該兩個區段的尺寸(體積、流率):
在該處理室中之> 1 mbar之程序壓力範圍內,各種氣體流量可假定具有充分確定性。接著,此範圍由該處理室以及包含該質量流量調節器上游之所有真空組件之該抽氣管路描述。相比而言,在≤ 1 mbar之壓力範圍內,吾人應假定克努森(Knudsen)流或分子流。就離子源或電離裝置(具有其特定氣體傳導)而言,此範圍由該質量流量調節器下游之整個真空組件描述。在文獻(例如Wutz, Adam, Walcher, Theorie und Praxis der Vakuumtechnik [Theory and practice of vacuum technology], 5th edition, Springer Vieweg Verlag, 1992)中適當地描述用於設定該等氣體傳導元件之尺寸之對應公式。
基本上,在該抽氣管路之該等真空管路之設定尺寸中,吾人可考量以下事實:該兩個區段之直徑及長度經設計使得最小化優先壓力梯度或最大化傳導性。在各種流量範圍內,在5 mm之一最大值之一線直徑之情況中,可承受高達50 cm之一長度;在克努森或分子流量範圍內,該等線直徑不應小於10 mm。接著,該等對應體積依循由該程序傳導類型判定之該等長度。該時間相關解析度通常由該質量流量調節器上游之該抽氣管路之該區段中之該氣體流量判定。該程序壓力越高,關於體積之該等真空組件之設計越關鍵,因為該總系統中之該質量流量可被視為恆定。若(例如)歸因於該離子源傳導性之最大體積流量在0.01 mbar之一壓力下係50 L/s,則在1000 mbar之一程序壓力下,結果將係僅0.0005 L/s = 0.5 cm3
/s之一體積流量。
在一進一步實施例之情況中,該第一閥與該質量流量調節器之間的該抽氣管路之一第一區段之一體積小於5 cm3
。
為了該處理室中之該程序之即時分析或即時監視,必須使該質量流量調節器比發生在經監視之程序中之改變(在此情況中(例如)約1秒之範圍內之改變)更快通過足以交換該第一閥與該質量流量調節器之間的該體積之一質量流率。
因為被視為來自該處理室之一樣本之最大質量流量(X sccm)必須由該程序之操作者設定且通常必須測錄,因此該質量流率無法視需要選擇為儘可能大,為此該第一閥與該質量流量調節器之間的該體積應儘可能小。依此方式,可確保此體積比發生在經監視之程序中之改變更快交換。該第一區段之該體積及因此該長度及橫截面由由氣體流量之類型組成之要求判定且針對每個應用計算。
在展示對於本發明至關重要之細節之圖式之圖之基礎上,本發明之進一步特徵及優點依循本發明之設計實例之以下描述及技術方案。個別特徵可各個別實現或作為本發明之一變體中之任何所要組合中之複數。
圖1a展示用於自一處理室3供應待分析之一氣體2之一進料系統1,其中在圖中所展示之實例中,實施一磊晶程序至一質譜儀5之一電離裝置4。圖1a中所展示之進料系統1係自給的(即,其可依一可拆卸方式(例如凸緣安裝)貼附於質譜儀5)。進料系統1具有用於使待分析之氣體2自處理室3進氣至進料系統1之抽氣管路7中之一第一閥6a。抽氣管路7自第一閥6a延伸至一第二閥6b,用於使待分析之氣體2離開抽氣管路7且使待分析之氣體2進氣至電離裝置4之一電離空間4a中。
進料系統1具有用於將經由第一閥6a自處理室3進氣至抽氣管路7中之待分析之氣體2之一質量流率QS
調節至一給定質量流率參考值QS,S
之一質量流量調節器8。一壓力計9用於量測質量流量調節器8上游之抽氣管路7中之一壓力p1
,其對應於處理室3內之壓力p1
。由壓力計9量測之壓力p1
施加於質量流量調節器8上游之一區域,其經繪示為由圖1a之左側之一虛線展示之一矩形。
進料系統1具有用於量測質量流量調節器8下游之抽氣管路7中之一壓力p2
之一進一步壓力計10。壓力p2
施加於由圖1a中間展示之一虛線指示之矩形內。在可為(例如)一電子束電離裝置之電離裝置4的電離空間4a內,存在通常約小於0.01 mbar且應儘可能保持恆定之一壓力pI
。
除電離裝置4之外,質譜儀5具有待分析之電離氣體2經由圖1a中所指示之一離子透鏡供應至其之一質量分析器11。電離裝置4由呈一渦輪分子泵之形式之一第一真空泵12a泵送以將電離空間4保持在一壓力pI
下。因此,質量分析器11由呈一渦輪分子泵之形式之一第二真空泵12b泵送以在該處產生通常低於電離空間4a中之壓力之一壓力。
如通常習慣,質量流量調節器8具有一電子調節器、一(比例)閥及一質量流量計。就待分析之任何各自氣體2而言,含其自身之校準資料可載入質量流量調節器8中,其可(例如)經由一電子程式介面完成。有利的可係若質量流量調節器8上游之抽氣管路7中之壓力p1
及質量流量調節器8下游之抽氣管路7中之壓力p2
傳達至質量流量調節器8作為輸入變量。
圖1a中所展示之進料系統1經由用於將質量流量調節器8下游之抽氣管路7之一第二區段7b中之壓力p2
調節至一給定壓力參考值p2,S
之一壓力調節裝置13,其指定來自外部之壓力調節裝置13或由一控制裝置指定。壓力參考值可為(例如)約0.1 mbar。壓力調節裝置13具有用於設定轉出抽氣管路7至一旁路管15中之待分析之氣體2之一體積流率QP
之一流量控制裝置14。流量控制裝置14具有用於流量控制或用於設定待分析之氣體2轉向至其之旁路管15之一流量橫截面之一第三閥6c。
在圖1a中所展示之實例之情況中,據此而言,第三閥6c具有由一驅動馬達旋轉之一關斷閥以更改旁路管15之流量橫截面。為泵出已轉向至旁路管15中之待分析之氣體2,進料系統1具有一第三真空泵12c。第三真空泵12c可連接至第一真空泵12a及第二真空泵12b (如圖1a中所展示)但此不絕對必要。第三真空泵12c係一渦輪分子泵。若待由第三真空泵12c泵出之體積流量相對較大且係10 L/s或以上,則使用此一泵係有力的。若由第三真空泵泵出之體積流量較小,則可使用一不同類型之真空泵,例如一渦捲式壓縮機或其類似者。
藉助圖1a中所展示之進料系統1,待分析且供應至電離空間4a之氣體2之壓力p2
可設定或調節至一給定壓力參考值p2,S
。依此方式,電離空間4a內之壓力p1
也可被維持在一指定值。此外,待分析且自處理室3取得之氣體2之質量流率QS
可調節至一所要質量流率參考值Q2,S
。依此方式,質譜儀5可在一最佳壓力範圍內操作。
圖1b展示同樣達成一最佳壓力範圍內之質譜儀5之操作之一進料系統1a。圖1b中所展示之進料系統1a與圖1a中所展示之進料系統1之不同之處在於電離裝置4整合至進料系統1中。圖1b中所展示之進料系統1a形成具有質譜儀5且適應於其之一結構單元,而圖1a中所展示之進料系統1可獨立於用於各情況中之質譜儀5之類型使用。
在圖1b中所展示之進料系統1a之情況中,省略用於調節質量流量調節器8下游之抽氣管路7之第二區段7b中之壓力p2
壓力調節裝置13。因此,出現在抽氣管路7外之第二閥6b處之質量流量QI
對應於由質量流量調節器8設定或調節至質量流率參考值Qs,s
之質量流量Qs
。
為將電離空間4a中之一壓力pI
調節至一壓力參考值pI,S
,圖1b中所展示之進料系統1a經設計以適當地設定或指定質量流量調節器8之質量流率參考值Qs,s
。有差別地泵送之用於抽空電離空間4a之真空泵12a表示限制電離空間4a中之壓力pI,S
之調節中之通流之元件。在調節至通常恆定之一壓力參考值pI,S
之電離空間4a中之實際壓力pI
之基礎上設定質量流量調節器8之質量流率參考值Qs,s
。電離空間4a中之實際壓力pI
藉助一額外壓力計直接量測或(例如)在質量流量調節器8下游之抽氣管路7之基礎上或在真空泵12a之體積流量之基礎上間接量測。
在圖1b中所展示之進料系統1a之情況中,為了比較在處理室3中之不同壓力p1
下實施之程序步驟,必須記錄或測錄質量流量調節器8之質量流率參考值Qs,s
之行進時間。
圖1b之進料系統1a具有一第三閥6c以將待分析之氣體2自抽氣管路7轉向至一旁路管15中。與圖1a之系統1相反,待分析之氣體2僅在量測暫停時自抽氣管路7轉向至旁路管15中,例如若抽氣管路7待抽空或例如在進料系統1a關閉之情況中。
為了將待分析之氣體2泵出,旁路管15連接至用於抽空電離空間4a之第一真空泵12a。
圖1a、圖1b之壓力計9設計為具有形成一冷凝器之部分且其位置在周圍壓力p1
之基礎上改變之一隔膜之一電容式壓力感測器。量測質量流量調節器8上游之壓力p1
之壓力計9通常針對約1000 mbar之一壓力範圍設計。在圖1a之進料系統1之情況中量測質量流量調節器8下游之壓力p2
之額外壓力計10通常針對約0.001 mbar至約1 mbar之間的一壓力範圍內之壓力量測設計。在圖中所展示之實例中,額外壓力計10亦設計為一電容式壓力感測器。
圖1a、圖1b中所展示之抽氣管路7具有質量流量調節器8上游之一第一區段7a,其介於第一閥6a與質量流量調節器8或更精確而言質量流量調節器8之可調整(比例)閥之間的長度L小於10 cm。抽氣管路7之第一區段7a之長度L及亦由第一區段7a圍封之待分析之氣體2之體積V應儘可能小;例如,在100 mbar之一程序壓力之情況中,若臨界程序時間常數係(例如) 1 s,則體積應小於5 cm3
(線直徑0.5 cm)。依此方式,可實現體積V比隨時間發生在處理室3中之程序中之改變更快交換,使得可實施處理室3中之程序之一即時分析。
為此,體積V減小係必要的,因為待分析且自處理室3取得之氣體2之質量流率QS,S
必須不超過一最大值(X sccm)。抽取質量流率QS
之最大值由程序之操作者設定或由質量流量調節器8之規範規定。
在質量流量調節器8下游之抽氣管路7之第二區段7b中,體積流量明顯大於第一區段7a中之體積流量,使得抽氣管路7之第二區段7b之長度扮演一從屬角色。因此,第二區段7b可(例如)依一風箱或其類似者之方式具有一撓性區段以更改第二區段7b之長度以(例如)更改處理室3內之進料系統1、1a之第一閥6a之位置。
進料系統1、1a (即,閥6a至6c、質量流量調節器8等等)由在圖1a中整合至進料系統1中及在圖1b中整合至質譜儀5中之一控制閥(圖中未展示)控制。當實施氣體2之連續分析時,接著在量測之週期期間,第一閥6a及第二閥6b打開;當實施待分析之氣體2之脈衝分析時,一般而言,第一閥6a打開且第二閥6b由控制裝置依一脈衝方式致動。
1:進料系統
1a:進料系統
2:待分析之氣體
3:處理室
4:電離裝置
4a:電離空間
5:質譜儀
6a:第一閥
6b:第二閥
6c:第三閥
7:抽氣管路
7a:第一區段
7b:第二區段
8:質量流量調節器
9:壓力計
10:壓力計
11:質量分析器
12a:第一真空泵
12b:第二真空泵
12c:第三真空泵
13:壓力調節裝置
14:流量控制裝置
15:旁路管
L:長度
pI
:壓力
p1
:壓力
p2
:壓力
p2,S
:給定壓力參考值
QI
:質量流量
QP
:體積流率
QS
:質量流率
QS,S
:給定質量流率參考值
V:體積
設計實例係展示於示意性圖式中,且在以下描述中闡釋。在圖式中,
圖1a展示用於將待分析之一氣體供應至一質譜儀之一電離裝置之一自給進料系統之一示意性表示,及
圖1b展示一電離裝置經整合至其中之一進料系統之一示意性表示。
在圖式之以下描述中,相同元件符號用於相同或具有相同功能之組件。
1:進料系統
2:待分析之氣體
3:處理室
4:電離裝置
4a:電離空間
5:質譜儀
6a:第一閥
6b:第二閥
6c:第三閥
7:抽氣管路
7a:第一區段
7b:第二區段
8:質量流量調節器
9:壓力計
10:壓力計
11:質量分析器
12a:第一真空泵
12b:第二真空泵
12c:第三真空泵
13:壓力調節裝置
14:流量控制裝置
15:旁路管
pI:壓力
p1:壓力
p2:壓力
p2,S:給定壓力參考值
QI:質量流量
QP:體積流率
QS:質量流率
QS,S:給定質量流率參考值
Claims (9)
- 一種用於一質譜儀(5)之進料系統(1),其包括: 一第一閥(6a),用於使待分析之一氣體(2)自一處理室(3)進氣至該進料系統(1)之一抽氣管路(7), 一第二閥(6b),用於使待分析之該氣體(2)離開該抽氣管路(7)且進入用於待分析之該氣體(2)之電離之一電離裝置(4)中, 一質量流量調節器(8),用於將離開該處理室(3)且進入該抽氣管路(7)中之待分析之該氣體(2)之一質量流率(QS )調節至一給定質量流率參考值(QS,S ), 一壓力計(9),用於量測該質量流量調節器(8)上游之該抽氣管路(7)中之一壓力(p1 ), 一進一步壓力計(10),用於量測該質量流量調節器(8)下游之該抽氣管路(7)中之一壓力(p2 ),及 一壓力調節裝置(13),用於將該質量流量調節器(8)下游之該抽氣管路(7)中之該壓力(p2 )調節至一給定壓力參考值(p2,S )。
- 如請求項1之進料系統,其中該壓力調節裝置(13)具有用於設定自該抽氣管路(7)轉向至一旁路管(15)中之待分析之該氣體(2)之一體積流率(QP )之一流量控制裝置(14)。
- 如請求項2之進料系統,其中該流量控制裝置(14)具有經設計用於控制已經轉向至該旁路管(15)中且較佳地具有一關斷閥之待分析之該氣體(2)之該流率之一第三閥(6c)。
- 如請求項2之進料系統,進一步包括:一真空泵(12c),用於泵出已經轉向至該旁路管(15)中之待分析之該氣體(2),特定言之一渦輪分子泵或一渦捲式壓縮機。
- 一種用於質譜儀(5)之進料系統(1a),其包括: 一電離裝置(4),用於待分析之一氣體(2)之電離, 一第一閥(6a),用於使待分析之該氣體(2)自一處理室(3)進氣至該進料系統(1a)之一抽氣管路(7), 一第二閥(6b),用於使待分析之該氣體(2)離開該抽氣管路(7)且進入用於該電離裝置(4)中, 一質量流量調節器(8),用於將離開該處理室(3)且進入該抽氣管路(7)中之待分析之該氣體(2)之一質量流率(QS )調節至一給定質量流率參考值(QS,S ), 一壓力計(9),用於量測該質量流量調節器(8)上游之該抽氣管路(7)中之一壓力(p1 ),及 一真空泵(12a),用於抽空該電離裝置(4)之一電離空間(4a), 其中為將該電離空間(4a)中之一壓力(pI )調節至一壓力參考值(pI,S ),該進料系統(1a)經設計用於設定該質量流量調節器(8)之該質量流率參考值(QS,S )。
- 如請求項5之進料系統,進一步包括:一第三閥(6c),用於將待分析之該氣體(2)轉向出該抽氣管路(7)至一旁路管(15)中。
- 如請求項6之進料系統,其中為了將待分析之該氣體(2)泵出該抽氣管路(7)外,該旁路管(15)經連接至該真空泵(12a)。
- 如請求項1或2之進料系統,其中該壓力計(9)及/或該額外壓力計(10)係設計為一電容式壓力感測器。
- 如前述請求項中任一項之進料系統,其中該第一閥(6a)與該質量流量調節器(8)之間之一第一區段(7a)中之該抽氣管路(7)之一體積(V)小於5 cm3 。
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