TW202036140A - 透鏡用間隔物、和使用其的層積遮光構件、遮光環、透鏡單元及攝影機模組 - Google Patents

透鏡用間隔物、和使用其的層積遮光構件、遮光環、透鏡單元及攝影機模組 Download PDF

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Abstract

提供一種透鏡用間隙物、和使用其的層積遮光構件、遮光環、透鏡單元及攝影機模組等，抑制了在內周面的光反射造成的閃光現象的產生，而且也抑制了鬼影的產生。一種透鏡用間隙物，係於至少1個以上的透鏡在前述透鏡的光軸方向堆疊的透鏡單元中使用，其中，具備含有樹脂及顏料的延伸樹脂薄膜；剖面視具有中空板狀的外形；在內周端面具有設置具有5μm以上的最大深度La的尖狀凹部的內周開口部。

Description

透鏡用間隔物、和使用其的層積遮光構件、遮光環、透鏡單元及攝影機模組
本發明係有關於透鏡用間隙物、和使用其的層積遮光構件、遮光環、透鏡單元及攝影機模組等。
在例如行動電話、智慧手機等資訊通訊終端或數位攝影機等的電子機器中，內藏有用以攝影被攝物體並變換成影像信號的攝影機模組。該攝影機模組具備：攝像被攝物體的攝像元件、及用以在該攝像元件上成像被攝物體的影像的透鏡單元。透鏡單元通常由複數光學透鏡的組合而構成。
在這種攝影機模組中，要求除去不要的入射光及反射光，防止光暈、透鏡閃光、鬼影等的產生，而使攝像影像的畫質提升。因此，提案有讓用來截斷不要的光的遮光板及遮光環等介在於透鏡間的透鏡單元及攝影機模組等。
作為這種遮光構件，提案有將含有碳黑、滑劑、微粒子及黏結劑樹脂的遮光層形成於PET薄膜等的基材薄膜的兩面的遮光薄膜(參照專利文獻1及2)。接著，藉由將這種遮光薄膜沖孔成中空狀，作為遮光環等使用。
但是，使這種遮光環介在於透鏡間時，通過透鏡入射的光在PET薄膜露出的內周面反射，其結果，有產生閃光現象的情形。為了使閃光現象的產生降低，揭示藉由使用鹼基性溶液等蝕刻液將內周面蝕刻(腐蝕處理、化學處理)，能夠使PET薄膜露出的內周面作為彎曲形狀並且將表面粗面化的在PET薄膜露出的內周面形成無數微細孔進行粗面化等的方法(專利文獻3及4參照)。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]特開平9-274218號公報 [專利文獻2]WO2006/016555號公報 [專利文獻3]特開2000-301607號公報 [專利文獻4]韓國登錄專利第10-1843401號公報
[發明所欲解決的問題]
但是，以專利文獻3及4記載的方法得到的遮光環，因為蝕刻時鹼基性溶液難以浸透至薄膜內部，以內周面些微彎曲的程度無法使表面腐蝕。又，該表面粗面化度也僅為次微米等級程度。在此，為了進行更深的蝕刻，考慮提高腐蝕處理液的鹼性或增加處理溫度及處理時間。但是，若這樣，記載有設於基材薄膜上的遮光層等其他層的物性會降低，變形而難以維持尺寸精度等，無法滿足其他要求性能。因此，以專利文獻3及4記載的方法得到的攝影機透鏡用間隙物及遮光葉片等實際上閃光現象的降低效果不充分。
而且，專利文獻3及4記載的攝影機透鏡用間隙物及遮光葉片等，因為表面粗面化度為次微米等級程度，例如廣角攝影等攝角大時，有容易產生玉狀乃至輪狀或幾何狀鬼影，對於該問題沒有任何對應的問題產生。
本發明鑑於上述課題而完成。亦即本發明的目的為提供一種透鏡用間隙物、和使用其的層積遮光構件、遮光環、透鏡單元及攝影機模組等，抑制了在內周面的光反射造成的閃光現象的產生，而且也抑制了鬼影的產生。 [解決問題的手段]
本發明者們，為了解決上述課題，就透鏡用間隙物及使用其的層積遮光構件等內周面形狀進行銳意檢討的結果，發現預定的樹脂薄膜向薄膜的面內方向的成形加工性(蝕刻性)佳，發現藉由在該預定的樹脂薄膜的內周端面設置具有預定深度的比較銳利的尖狀凹部能夠解決上述課題，進行完成本發明。
亦即，本發明提供以下所示的各種具體態樣。 (1)一種透鏡用間隙物，係於至少1個以上的透鏡在前述透鏡的光軸方向堆疊的透鏡單元中使用，其中，具備含有樹脂及顏料的延伸樹脂薄膜；剖面視具有中空板狀的外形；在內周端面具有設置具有5μm以上的最大深度La的尖狀凹部的內周開口部。
(2)如(1)記載的透鏡用間隙物，更具有：在外周端面設置具有5μm以上的最大深度Lb的尖狀凹部的外周開口部。
(3)如(1)或(2)記載的透鏡用間隙物，更具有：平面視從外周端面向外方延出的定位用凸部。 (4)如(1)~(3)任一項記載的透鏡用間隙物，更具有：平面視欠缺外周的一部分的定位用凹部。 (5)如(1)~(4)任一項記載的透鏡用間隙物，其中，在一主面更具有表面粗面部及/或在另一主面更具有裏面粗面部。
(6)如(1)~(5)任一項記載的透鏡用間隙物，其中，前述顏料的含有比例，相對於前述延伸樹脂薄膜為0.3～15質量%。 (7)如(1)~(6)任一項記載的透鏡用間隙物，其中，前述延伸樹脂薄膜具有3μm以上150μm以下的厚度。 (8)如(1)~(7)任一項記載的透鏡用間隙物，其中，前述延伸樹脂薄膜為二軸延伸聚酯纖維薄膜。 (9)如(1)~(8)任一項記載的透鏡用間隙物，其中，前述延伸樹脂薄膜為由二軸延伸脂環式聚醯亞胺薄膜及二軸延伸芳香族聚醯亞胺薄膜組成的群選擇出的1種。 (10)如(1)~(9)任一項記載的透鏡用間隙物，其中，具有1.5以上的光學密度。
(11)一種層積遮光構件，具有：至少依序具備具有1.0以上的光學密度的第一遮光層、及基材的層積構造；前述基材具備：具備含有樹脂及顏料的延伸樹脂薄膜，在剖面視具有中空板狀的外形，在內周端面具有設置具有5μm以上的最大深度La的尖狀凹部的內周開口部的透鏡用間隙物。 (12)如(11)記載的層積遮光構件，更具備：具有1.0以上的光學密度的第二遮光層；具有：至少依序具備前述第一遮光層、前述基材、及前述第二遮光層的層積構造。 其中，上述(11)或(12)記載的層積遮光構件，更具有上述(2)～(10)的任1個以上的技術特徵較佳。
(13)一種遮光環，具有環狀的外形形狀；具有：至少依序具備第一遮光層、及基材的層積構造；前述基材具備：具備含有樹脂及顏料的延伸樹脂薄膜，在剖面視具有中空板狀的外形，在內周端面具有設置具有5μm以上的最大深度La的尖狀凹部的內周開口部的透鏡用間隙物；前述第一遮光層具有1.0以上的光學密度。 其中，上述(13)記載的遮光環，更具有上述(2)～(10)的任1個以上的技術特徵較佳。
(14)一種透鏡單元，係複數透鏡在前述透鏡的光軸方向堆疊的透鏡單元，其中，由上述(1)～(10)中任一項記載的透鏡用間隙物、上述(11)及(12)記載的層積遮光構件、和(13)記載的遮光環組成的群選擇出的1個以上，配置於至少一對前述透鏡間。
(15)係至少具有：複數透鏡在前述透鏡的光軸方向堆疊的透鏡單元、及通過前述透鏡單元攝像被攝物體的攝像元件的攝影機模組，其中，由上述(1)～(10)中任一項記載的透鏡用間隙物、上述(11)及(12)記載的層積遮光構件、和(13)記載的遮光環組成的群選擇出的1個以上，配置於至少一對前述透鏡間。 [發明的效果]
根據本發明，能夠提供一種透鏡用間隙物、和使用其的層積遮光構件、遮光環、透鏡單元及攝影機模組等，抑制了在內周面的光反射造成的閃光現象的產生，而且也抑制了鬼影的產生。接著藉由使用該等透鏡用間隙物等，能夠使攝像影像的畫質提升。又，根據本發明的適合態樣，不只是攝像影像的畫質提升也能夠提升組裝時的定位精度。因此，提升了智慧手機等資訊通訊終端及數位攝影機等的電子機器中的模組製造現場的操作性，能夠減輕部件管理的負擔，能夠抑制組裝不良等的製造故障的發生，也能夠使良率提升。
以下，參照圖式詳細地說明有關本發明的實施形態。此外，上下左右等的位置關係，只要沒特別限定，即以圖式所示的位置關係為依據。又，圖式的尺寸比例並不限於圖示的比例。但是，以下的實施形態，為用以說明本發明的例示，本發明並不限於此。此外，在本說明書中，例如「1～100」的數值範圍的表記，為包含其上限值「100」及下限值「1」的二者。又，其他的數值範圍的表記也一樣。
(第一實施形態) 圖1為示意表示本發明的第一實施形態的透鏡用間隙物100的斜視圖、圖2為表示透鏡用間隙物100的要部的剖面圖(圖1的II-II剖面)。該透鏡用間隙物100，為於至少1個以上的透鏡在該透鏡的光軸方向堆疊的透鏡單元中使用的透鏡用間隙物。透鏡用間隙物100作為基材薄膜11具備含有樹脂及顏料的延伸樹脂薄膜。透鏡用間隙物100具有平面視外形形成略圓狀同時在其略中央具有略圓柱狀的中空部13的環狀外形，剖面視具有中空板狀的外形。
在透鏡用間隙物100的中空部13的內周端面，作為基材設置具有向基材薄膜11的面內方向形成凸狀的尖狀凹部31a的內周開口部31。在該內周開口部31中，尖狀凹部31a從內周端面的開口向基材薄膜11的面內方向具有5μm以上的最大深度La，藉此，不只是在內周面的光的反射造成的閃光現象，也將在內周面的光的反射所致的鬼影的產生有效地抑制。尖狀凹部31a的最大深度La，從閃光現象及鬼影的抑制、透鏡用間隙物100的機械強度等觀點來看能夠適宜調整，雖沒有特別限定，但較佳為5μm以上未滿20μm、更佳為7μm以上未滿18μm、再佳為10μm以上未滿16μm。
另一方面，在透鏡用間隙物100的外周端面，設置具有向基材薄膜11的面內方向形成凸狀的尖狀凹部41a的外周開口部41。在該外周開口部41中，尖狀凹部41a從外周端面的開口向基材薄膜11的面內方向具有5μm以上的最大深度Lb，藉此，將在外周端面的光的反射所致的閃光現象的產生有效地抑制。尖狀凹部41a的最大深度Lb，從閃光現象的抑制、透鏡用間隙物100的機械強度等觀點來看能夠適宜調整，雖沒有特別限定，但較佳為5μm以上未滿20μm、更佳為7μm以上未滿18μm、再佳為10μm以上未滿16μm。
構成基材薄膜11的延伸樹脂薄膜的種類沒有特別限定。作為延伸樹脂薄膜，可以是在流動方向(MD方向)延伸的一軸延伸樹脂薄膜、也可以是在寬度方向(TD方向)延伸的一軸延伸樹脂薄膜、又也可以在MD方向及TD方向延伸的二軸延伸樹脂薄膜。該種延伸樹脂薄膜，例如從能夠藉由滾輪延伸法、拉幅延伸法、逐次二軸延伸法、同時二軸延伸法、傾斜延伸法等公知的延伸方法製作的尺寸安定性、機械強度及輕量化等觀點來看，作為延伸樹脂薄膜，除了聚酯纖維薄膜、聚醯亞胺薄膜、聚苯乙烯薄膜等以外，適合使用聚碳酸酯系、丙烯酸系、尼龍系、聚醯胺系、聚烯烴系、纖維素系、聚碸系、聚苯硫醚系、聚醚碸系、聚醚醚酮系的薄膜等。在該等之中也一樣，作為延伸樹脂薄膜，適合使用聚酯纖維薄膜、脂環式聚醯亞胺薄膜及芳香族聚醯亞胺薄膜。該等可以單獨使用1種，又組合2種以上來使用也可以。
延伸樹脂薄膜中包含的顏料種類沒有特別限定。例如可以是高嶺土、燒結高嶺土、燒結黏土、未燒結黏土、二氧化矽(例如天然二氧化矽、溶融二氧化矽、非晶二氧化矽、中空二氧化矽、濕式二氧化矽、合成二氧化矽、矽搖變劑等)、鋁化合物(例如水鋁石、氫氧化鋁、氧化鋁、鋁碳酸鎂、硼酸鋁、氮化鋁等)、鎂化合物(例如炭酸鎂、氧化鎂、氫氧化鎂等)、鈣化合物(例如碳酸鈣、氫氧化鈣、硫酸鈣、亞硫酸鈣、硼酸鈣等)、鉬化合物(例如氧化鉬、鉬酸鋅等)、滑石(例如天然滑石、燒結滑石等)、雲母(Mica)、氧化鈦、氧化鋅、氧化鋯、硫酸鋇、硼酸鋅、甲基硼酸鋇、硼酸鈉、氮化硼、凝集氮化硼、氮化矽、氮化碳、鈦酸鍶、鈦酸鋇、錫酸鋅等的錫酸鹽等，但不特別限定於該等。又，作為黑色顏料，例如，有黑色樹脂粒子、磁鐵礦系黑、銅・鐵・錳系黑、鈦黑、碳黑等，但沒特別限制。該等顏料可以單獨使用1種，又組合2種以上來使用也可以。該等顏料可以單獨使用1種，又組合2種以上來使用也可以。又，作為顏料，藉由使用黑色顏料，可以在基材薄膜11其上賦予遮光性或隱蔽性。作為黑色顏料，較佳為黑色樹脂粒子、鈦黑、碳黑、苯胺黑、更佳為碳黑、苯胺黑。
此外，作為碳黑，已知有石油爐黑、燈黑、槽黑、煤氣爐黑、乙炔黑、熱碳黑、科琴黑等以各種公知的製法製作者，但其種類沒有特別的限制。從賦予導電性防止靜電造成的帶電的觀點來看，使用導電性碳黑特佳。從碳黑的歷史久遠的例如三菱化學股份公司、旭碳股份公司、御國色素股份公司、Resino Color工業股份公司、Cabot公司、DEGUSSA公司等，市售有各種等級的碳黑單體及碳黑分散液，因應要求性能及用途，從其中適宜選擇即可。此外，碳黑的粒子大小，可以因應要求性能等來適宜地設定，沒有特別限定。例如，碳黑的平均粒徑D50 較佳為0.01～2.0μm，更佳為0.05～1.0μm、再更佳為0.08～0.5μm。此外，本說明書中的平均粒徑意味著以雷射繞射式粒度分佈測定裝置(例如，島津製作所公司：SALD-7000等)測定的體積基準的中值徑(D50 )。
作為基材薄膜11使用含有顏料的延伸樹脂薄膜，能夠形成具有上述預定深度的尖狀凹部31a或尖狀凹部41a。在這是在含有顏料的延伸樹脂薄膜中，除了樹脂鏈在該延伸方向(TD方向及/或MD方向)配向並提高向該配向方向的成形加工性或蝕刻性，使用藉由顏料在成形加工時或蝕刻時脫落，向基材薄膜11的面內方向能夠較銳利地深挖者。
基材薄膜11中的顏料的含有比例能夠因應要求性能及用途適宜設定，沒有特別限定。從尖狀凹部31a或尖狀凹部41a的成形加工性及蝕刻加工性、尺寸穩定性、機械強度、輕量化等的觀點，顏料的含有比例相對於延伸樹脂薄膜較佳為0.3～15質量%、更佳為0.4～12質量%、再佳為0.5～10質量%。
基材薄膜11的厚度可以因應要求性能及用途來適宜地設定，沒有特別限定。從輕量化及薄膜化的觀點來看，基材薄膜11的厚度較佳為3μm以上150μm以下、更佳為4μm以上140μm以下、再佳為5μm以上130μm以下。又，特別是要求薄膜化的用途的情形，基材薄膜11的厚度較佳為3μm以上、更佳為5μm以上，上限較佳為50μm以下、更佳為25μm以下、再佳為15μm以下。在任何情形中，相對於總厚度的基材薄膜11的比例越小越好。
作為基材薄膜11，尤其是含有黑色顏料的延伸樹脂薄膜，即便沒有將後述的遮光層另外設於基材薄膜11上，因為能作為遮光性構件利用可能，為特別佳的態樣的一個。此時，含有黑色顏料的延伸樹脂薄膜的光學密度(OD)，能夠因應要求性能及用途適宜設定，又能夠因應遮光層的有無適宜調整，雖沒有特別限定，但較佳為1.5以上、更佳為1.7以上、再佳為2.0以上、上限為6.0以下。此外，本說明書中，光學密度(OD)為以JIS-K7651：1988為準據，使用光學密度計(TD-904：GretagMacbeth公司)及UV濾波器測定得到的值。
上述透鏡用間隙物100，能夠將含有顏料的延伸樹脂薄膜藉由公知的方法製作或作為市售品入手，因應必要加工成所期望的外形形狀及中空形狀後，能夠藉由形成上述內周開口部31及外周開口部41得到。作為內周開口部31及外周開口部41的形成方法，能夠藉由噴砂加工、微鑽加工、削切加工等的機械加工、使用蝕刻液等的腐蝕處理(化學處理)等的公知方法進行，該種類沒有特別限定。作為基材薄膜11藉由使用含有顏料的延伸樹脂薄膜，因為向基材薄膜11的面內方向能夠較銳利地深挖，能夠將具有上述預定深度的較銳利的尖狀凹部31a或尖狀凹部41a成形加工。該等之中也一樣，使用蝕刻液的腐蝕處理(化學處理)因為相較起來生產性及經濟性佳，特別合適。
在上述腐蝕處理(化學處理)中使用的蝕刻液，因應使用的基材薄膜11的種類適宜調製即可，該種類雖沒有特別限定，但一般使用鹼基性水溶液較佳。作為鹼基性水溶液，較佳為10～25質量%的氫氧化鈉水溶液、在其中添加乙二胺等碳數1～10的第一級脂肪族胺的水溶液(NaOH：乙二胺＝8～12：1)等。腐蝕處理的處理條件能夠因應基材薄膜11及蝕刻液的種類等適宜調整，沒有特別限定。從生產性等的觀點來看，一般處理溫度目標為10～80℃左右、處理時間目標為3～60分程度。藉由使使用的蝕刻液的種類及濃度、處理時間、處理溫度等變動，能夠適宜調整尖狀凹部31a的最大深度La及尖狀凹部41a的最大深度Lb。
(作用) 在本實施形態的透鏡用間隙物100中，設置具有在內周面具有5μm以上的最大深度La的尖狀凹部31a的內周開口部31。因此，藉由將該等作為透鏡單元及攝影機模組等光學機器用遮光構件使用，能夠有效地抑制不要的入射光及反射光在內周面的反射，因為不只是閃光現象的產生也能夠抑制鬼影的產生，而能使攝像影像的畫質提升。
(變形例) 此外，上述第一實施形態中，雖示出尖狀凹部31a及尖狀凹部41a之例，但只要至少設置在內周面具有尖狀凹部31a的內周開口部31，則能夠作為本發明的透鏡用間隙物利用。亦即，具有尖狀凹部41a的外周開口部41，在本發明中為任意的要素。圖3及4不設置具有尖狀凹部41a的外周開口部41，示出僅設置具有尖狀凹部31a的內周開口部31的透鏡用間隙物200之例。
又，在上述第一實施形態中，雖示出具有環狀外形者，但其外形形狀能因應組裝其的透鏡單元的收納形狀適宜變更。再來，如圖3及圖4所示，設置從外周端面向外方延出的定位用凸部51、或設置欠缺外周的一部分的定位用凹部61、62也可以。如此設置定位用凸部51、52及定位用凹部61、62後，因為能夠提升將複數枚透鏡用間隙物重合時、或將透鏡用間隙物夾於透鏡間時的定位精度，能夠使操作性飛躍地提升。
再來，在上述第一實施形態中，關於基材薄膜11的一主面(表面)及另一主面(裏面)雖示出無加工之例，但基材薄膜11的一主面(表面)及/或另一主面(裏面)進行粗面化處理也可以，如圖5所示，形成表面粗面部11a及裏面粗面部11b也可以。如此設置表面粗面部11a及裏面粗面部11b，能夠降低表面光澤度同時也容易得到消光的質感。作為表面粗面部11a及裏面粗面部11b的形成方法，能夠藉由噴砂加工、微鑽加工、削切加工等的機械加工、使用蝕刻液等的腐蝕處理(化學處理)等的公知方法進行，該種類沒有特別限定。例如，作為基材薄膜11藉由使用含有顏料的延伸樹脂薄膜，將其以鹼基性水溶液等的蝕刻液進行腐蝕處理(化學處理)，如同上述因為向基材薄膜11的面內方向(圖5的左右方向)能夠較銳利地深挖，能夠將具有上述預定深度的較銳利的尖狀凹部31a或尖狀凹部41a、與具有比該等的最大深度La及最大深度Lb還小的表面粗度Da及Db(例Ra＝0.1～2.0μm)的表面粗面部11a及裏面粗面部11b同時成形加工。
(第二實施形態) 圖6為示意表示本發明的一實施形態的層積遮光構件400(層積遮光環)的剖面圖。該層積遮光構件400，具有：至少依序具備具有1.0以上的光學密度的第一遮光層21、作為基材的基材薄膜11、及具有1.0以上的光學密度的第二遮光層22的層積構造。其中，作為基材薄膜11，使用設置具有尖狀凹部31a的內周開口部31及具有尖狀凹部41a的外周開口部41的上述第一實施形態的透鏡用間隙物100。前述基材薄膜11由具備含有樹脂及顏料的延伸樹脂薄膜，在剖面視具有中空板狀的外形，在內周端面具有設置具有5μm以上的最大深度La的尖狀凹部31a的內周開口部31，在外周端面具有設置具有5μm以上的最大深度Lb的尖狀凹部41a的外周開口部41的透鏡用間隙物100構成。接著，第一遮光層21、及第二遮光層22在剖面視也具有中空板狀(平面視為環狀)的外形。因為關於透鏡用間隙物100已說明，其重複的說明省略。
本實施形態的層積遮光構件400至少具備：設於基材薄膜11的一主面11a側的第一遮光層21、及設於另一主面11b側的第二遮光層22。接著，層積遮光構件400，成為具有至少以第一遮光層21、基材薄膜11、及第二遮光層22的順序配列的層積構造(3層構造)。此外，在該層積構造中，將第一遮光層21配置於表側的最表面，並將第二遮光層22配置於裏側的最表面，如圖5所示，第一及第二遮光層21、22以分別露出表側及裏側的最表面的狀態配置。此外，第一及第二遮光層21、22在表側及裏側的最表面，施予賦予導電性碳黑等的表面處理(抗靜電處理等)也可以。
在本說明書中，所謂「設於基材薄膜的一(另一)主面側」，不只是如本實施形態在基材薄膜11的表面(例如第一遮光層21側的主面或第二遮光層22側的主面)分別直接載置第一及第二遮光層21、22的態樣，也意味著包含在基材薄膜11的表面與第一及第二遮光層21、22之間隔介著任意的層(例如底塗層、黏接層等)的態樣。因此，所謂至少具備第一及第二遮光層21、22的層積構造，不只是僅直接層積第一遮光層21及第二遮光層22的構造，還意味著包含上述3層構造、及將任意的層再設於3層構造的構造。
第一及第二遮光層21、22為分別具有1.0以上的光學密度(OD)的遮光膜。此外，本說明書中，光學密度(OD)為以JIS-K7651：1988為準據，使用光學密度計(TD-904：GretagMacbeth公司)及UV濾波器測定得到的值。從使其具備更高遮光性的觀點來看，第一及第二遮光層21、22分別為單層具有1.5以上的光學密度(OD)者較佳，分別為單層具有1.7以上的光學密度(OD)者更佳。又，使第一及第二遮光層21、22層積時，該層積體的全體的光學密度(OD)較佳為2.5～6.0、更佳為4.5～6.0、再更佳為5.0～6.0。
作為這種第一及第二遮光層21、22的素材，可以使用該業界所公知者，其種類沒有特別限制。此外，作為光學密度高的遮光膜，較佳為使用施予1種以上的黑色、灰色、紫色、藍色、茶色、紅色、綠色等暗色系的顏料或染料的暗色系遮光膜。例如作為黑色系的遮光膜，較佳為使用至少含有黏著劑樹脂以及黑色顏料、及因應必要調配的暗色系的顏料或染料的黑色遮光膜(換言之，第一及第二黑色遮光層21、22)。以下，舉該黑色遮光膜作為例子詳述。
作為黏結劑樹脂，可以是聚(甲基)丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚醋酸乙烯基系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚乙烯醇縮丁醛系樹脂、纖維素系樹脂、聚苯乙烯/聚丁二烯樹脂、聚氨酯系樹脂、醇酸樹脂、丙烯酸系樹脂、不飽和聚酯系樹脂、環氧酯系樹脂、環氧系樹脂、環氧丙烯酸酯系樹脂、聚氨酯丙烯酸系樹脂、聚酯丙烯酸酯系樹脂、聚醚丙烯酸系樹脂、酚醛系樹脂、密胺系樹脂、尿素系樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯系樹脂等熱塑性樹脂或熱固性樹脂，但並沒有特別限定。又，也可以使用熱可塑性彈性體、熱硬化性彈性體、紫外光硬化型樹脂、電子束硬化型樹脂等。該等可以單獨使用1種，又組合2種以上來使用也可以。此外，黏結劑樹脂因應要求性能及用途，可以適宜選擇使用。例如，在要求耐熱性的用途中，較佳為熱固性樹脂。
第一及第二遮光層21、22中的黏結劑樹脂的含有量(總量)雖沒有特別限定，但從黏接性、遮光性、附耐傷性、滑動性及消光性等的觀點來看，較佳為40～90質量%，更佳為50～85質量%、再更佳為60～80質量%。
黑色顏料為將黏著劑樹脂著色成黑色並賦予遮光性者。又，作為黑色顏料之具體例，例如，有黑色樹脂粒子、磁鐵礦系黑、銅・鐵・錳系黑、鈦黑、碳黑、苯胺黑等，但沒特別限制。在其中，因為隱蔽性佳，較佳為黑色樹脂粒子、鈦黑、碳黑、苯胺黑，更佳為碳黑、苯胺黑。該等可以單獨使用1種，又組合2種以上來使用也可以。又同樣地，關於因應必要調配的暗色系的顏料或染料，從公知的材料中適宜選擇使用即可。
作為碳黑，已知有石油爐黑、燈黑、槽黑、煤氣爐黑、乙炔黑、熱碳黑、科琴黑等以各種公知的製法製作者，但其種類沒有特別的限制。從對遮光層21、22賦予導電性而防止靜電造成的帶電的觀點來看，使用導電性碳黑特佳。從碳黑的歷史久遠的例如三菱化學股份公司、旭碳股份公司、御國色素股份公司、Resino Color工業股份公司、Cabot公司、DEGUSSA公司等，市售有各種等級的碳黑單體及碳黑分散液，因應要求性能及用途，從其中適宜選擇即可。此外，碳黑的粒子大小，可以因應要求性能等來適宜地設定，沒有特別限定。碳黑的平均粒徑D50 較佳為0.01～2.0μm，更佳為0.05～1.0μm、再更佳為0.08～0.5μm。此外，本說明書中的平均粒徑意味著以雷射繞射式粒度分佈測定裝置(例如，島津製作所公司：SALD-7000等)測定的體積基準的中值徑(D50 )。
第一及第二遮光層21、22中的黑色顏料的含有量(總量)雖沒有特別限定，但從分散性、製膜性、操作性、黏接性、滑動性、消光性、耐磨耗性等的觀點來看，以相對於第一及第二遮光層21、22中含有的全樹脂成分的固態成分換算(phr)，較佳為10～60質量%，更佳為15～50質量%、再更佳為20～40質量%。
第一及第二遮光層21、22的厚度可以因應要求性能及用途來適宜地設定，沒有特別限定。從高光學密度、輕量化及薄膜化的觀點來看，分別較佳為0.1μm以上，更佳為0.2μm以上，再佳為0.5μm以上，特佳為1μm以上，上限側較佳為15μm以下，更佳為12μm以下，再更佳為9μm以下，特佳為6μm以下。
此外，從輕量化及薄膜化的觀點來看，層積遮光構件400的總厚度較佳為0.5μm以上50μm以下，更佳為1μm以上，再佳為5μm以上，更佳為40μm以下，再更佳為25μm以下。
此外，第一及第二遮光層21、22，可以含有當業界公知的各種添加劑。作為該具體例，有霧化劑(消光劑)、滑劑、導電劑、阻燃劑、抗菌劑、抗黴劑、抗氧化劑、可塑劑、均勻劑、流動控制劑、消泡劑、分散劑等，但沒有特別限定。作為霧化劑，有交聯聚甲基丙烯酸甲酯粒子、交聯聚苯乙烯粒子等有機系微粒子、二氧化矽、甲基矽酸鋁酸鎂、氧化鈦等無機系微粒子等，但沒有特別限定。作為滑劑，有聚乙烯、石臘、蠟等碳化氫系滑劑；硬脂酸、12-羥基硬脂酸等脂肪酸系滑劑；硬脂酸醯胺、油酸醯胺、芥酸醯胺等醯胺系滑劑；硬脂酸丁酯、硬脂酸單甘油酯等酯系滑劑；酒精系滑劑；金屬肥皂、滑石、二硫化鉬等固體潤滑劑；矽氧樹脂粒子、聚四氟化乙烯蠟、聚氟化亞乙烯等氟樹脂粒子等，但並沒有特別限定。其中，特別適合使用有機系滑劑。又，作為黏著劑樹脂，使用紫外光硬化型樹脂或電子束硬化型樹脂時，例如使用n-丁基胺、三乙基胺、三-n-丁基膦等增感劑或紫外線吸收劑等也可以。該等可以單獨使用1種，又組合2種以上來使用也可以。其等的含有比例雖沒有特別限定，但以相對於第一及第二遮光層21、22中含有的全樹脂成分的固態成分換算，一般分別為0.01～5質量%較佳。
又，第一及第二遮光層21、22較佳為具有10.0%以下的可見光反射率。在這裡，可見光反射率指的是使用分光光度計(島津製作所公司製，分光光度計SolidSpec-3700等)及作為標準板使用硫酸鋇，對遮光層21、22以入射角8˚入射光時的相對全光線反射率。從使其具備更高遮光性等的觀點來看，第一及第二遮光層21、22的可見光反射率為8%以下較佳、6%以下更佳、4%以下特佳。又，作為層積遮光構件400，可見光以外的紅外(800～1000nm)範圍的擴散反射率，較佳為10%以下，更佳為8%以下、再更佳為6%以下，特佳為4%以下。
再來，第一及第二遮光層21、22，以使其具備充分的抗靜電性能的觀點來看，較佳為具有未滿1.0×108 Ω的表面電阻率，更佳為未滿1.0×105 Ω，再更佳為未滿5.0×104 Ω。此外，在本說明書中，表面電阻率設為以JIS-K6911：1995為準據測定的值。這種第一及第二遮光層21、22，例如能夠藉由作為顏料使用導電性碳黑、進行在第一及第二遮光層21、22表面賦予導電性碳黑的抗靜電處理得到。
層積遮光構件400的製造方法，只要能夠得到上述構成，並沒有特別限定。從在基材薄膜11上將第一及第二遮光層21、22以高再現性簡易且低成本地製造的觀點來看，適合使用刮刀塗佈、浸塗法、滾輪塗佈、棒塗佈、模塗佈、刮刀塗佈、空氣刀塗佈、觸壓塗佈、噴塗法、旋轉塗佈等從前公知的塗佈方法。
例如，將在溶劑中含有上述黏著劑樹脂及黑色顏料、還有因應必要調配的作為任意成分的添加劑的塗佈液，在基材薄膜11的主面上塗佈，使其乾燥後，藉由因應必要進行熱處理及加壓處理等，在基材薄膜11上製造第一及第二遮光層21、22。作為在這裡使用的塗佈液的溶劑，可以使用水；甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等酮系溶劑；醋酸甲基、醋酸乙酯、乙酸丁酯等酯系溶劑；甲基溶纖劑、乙基溶纖劑等醚系溶劑；甲基酒精、乙基酒精、異丙醇等酒精系溶劑、以及其等的混合溶劑等。此外，為了使基材薄膜11與第一及第二遮光層21、22間的黏接提升，因應必要也可以進行錨定處理及電暈處理等。再來，因應必要，在基材薄膜11與第一及第二遮光層21、22之間設置底塗層及黏接層等中間層也可以。此外，藉由壓縮成形、射出成形、吹製成形、轉移成形、壓出成形等各種公知的成形方法，也能夠簡易地得到具有所期望形狀的層積遮光構件400。又，一旦形成片狀之後，也可以進行真空成形或壓空成形等。
又，形成上述內周開口部31及外周開口部41的時點也沒有特別限定。準備預先設置上述內周開口部31及外周開口部41的基材薄膜11，在該基材薄膜11上分別形成第一及第二遮光層21、22也可以、在設置中空部13及內周開口部31及外周開口部41前的基材薄膜11上設置第一及第二遮光層21、22後，形成中空部13及內周開口部31及外周開口部41也可以。
(作用) 在本實施形態的層積遮光構件400中也一樣，設置具有在內周面具有5μm以上的最大深度La的尖狀凹部31a的內周開口部31。因此，藉由將該等作為透鏡單元及攝影機模組等光學機器用遮光構件使用，能夠有效地抑制不要的入射光及反射光在內周面的反射，因為不只是閃光現象的產生也能夠抑制鬼影的產生，而能使攝像影像的畫質提升。又，在本實施形態的層積遮光構件400中，因為設置第一及第二遮光層21、22，其自體具有充分的遮光性，不只是透鏡用間隙物，也能夠作為遮光環及遮光板等利用。
(變形例) 此外，上述第二實施形態中，雖示出將設置尖狀凹部31a及尖狀凹部41a的透鏡用間隙物100作為基材使用之例，但只要使用至少設置在內周面具有尖狀凹部31a的內周開口部31的基材，則能夠作為本發明的層積遮光構件利用。亦即，具有尖狀凹部41a的外周開口部41，在本發明中為任意的要素。例如，能夠不設置具有尖狀凹部41a的外周開口部41，將僅設置具有尖狀凹部31a的內周開口部31的上述透鏡用間隙物200作為基材使用構成層積遮光構件。
又，在上述第二實施形態中，雖示出具有環狀外形者，但其外形形狀能因應組裝其的透鏡單元的收納形狀適宜變更。又，如圖3及圖4所示，作為設置定位用凸部51、52或定位用凹部61、62的形狀也可以。再來，本發明的層積遮光構件，形成透鏡用的光圈構件及光圈葉片的外形，將該等以複數枚組合等也能夠作為焦平面快門或透鏡快門使用。
再來，在上述第一實施形態中，關於基材薄膜11的一主面(表面)及另一主面(裏面)雖示出無加工之例，但基材薄膜11的一主面(表面)及/或另一主面(裏面)進行粗面化處理也可以，如圖5所示，形成表面粗面部11a及裏面粗面部11b也可以。
再來，在上述第二實施形態中，雖示出在基材薄膜11的表裏設置第一遮光層21及第二遮光層22的態樣，但作為僅有第一遮光層21/僅有第二遮光層22的構成也可以。
(第三實施形態) 圖7為示意地表示本發明的第三實施形態的透鏡單元500及攝影機模組600的分解斜視圖。透鏡單元500由透鏡群71(透鏡71A、71B、71C、71D、71E)、多段圓筒狀的保持具72、透鏡用間隙物100、300、層積遮光構件400(透鏡用間隙物200)構成。保持具72的內周部設有複數段差部72a、72b、72c。接著，利用該段差部72a、72b、72c，透鏡群71、透鏡用間隙物100、300、及層積遮光構件400(透鏡用間隙物200)以在配置於同軸上(相同光軸上)並堆疊的狀態，收納配置於保持具72內的預定位置。在這裡，作為透鏡71A、71B、71C、71D、71E，可以使用凸透鏡或凹透鏡等各種透鏡，其曲面可以是球面也可以是非球面。另一方面，攝影機模組600，由上述的透鏡單元500、及配置於該透鏡單元500的光軸上，通過透鏡單元500將被攝物體攝像的CCD影像感測器及CMOS影像感測器等攝像元件81構成。
(變形例) 然而，本發明可以在脫離其要旨的範圍內，任意地變更並實施。例如，層積遮光構件400(透鏡用間隙物100、200、300)的外形形狀，例如可採用平面視為長方形狀、正方形狀、六角形狀等多角形狀、橢圓形狀、不定形狀等任意的形狀。又，層積遮光構件400(透鏡用間隙物100、200、300)的中空部13的形狀，在本實施形態中於平面視雖然也形成圓狀，但其外形沒有特別限定。例如可採用平面視為長方形狀、正方形狀、六角形狀等多角形狀、橢圓形狀、不定形狀等任意的形狀。
(實驗例) 作為基材，使用厚度50μm的黑色PET薄膜(東麗公司，商品名：Lumirror X30(註冊商標)，碳黑摻混態樣，光學密度：2.0)、及厚度125μm的黑色PET薄膜(東麗公司、商品名：Lumirror X30(註冊商標)，碳黑摻混態樣，光學密度：5.0)，在其兩面，將下記處方的塗佈液藉由棒塗布法分別塗佈後，進行乾燥形成第一遮光層及第二遮光層，分別製作依序具備第一遮光層、基材、及第二遮光層的3層層積構造的層積遮光構件A及B。又，使用厚度50μm的二軸延伸PET薄膜(東麗公司，商品名：Lumirror T50，無顏料摻混的高透明態樣，全光線透過率(550nm)：89.1)，在其兩面，將下記處方的塗佈液藉由棒塗布法分別塗佈後，進行乾燥形成第一遮光層及第二遮光層，分別製作依序具備第一遮光層、基材、及第二遮光層的3層層積構造的層積遮光構件C。將得到的層積遮光構件A～C，沖孔加工成直徑1cm及內徑3mm的環狀，分別製作層積遮光環A～C。 ＜遮光膜形成用塗佈液＞ ・丙烯酸多元醇(固態成份50%) 153.8份 (ACRYDIC A807：DIC公司) ・異氰酸酯(固態成份75%)       30.8份 (BURNOCK DN980：DIC公司) ・碳黑(平均粒徑25nm)            24份 (TOKABLACK＃5500：東海碳社) ・甲基乙基酮、甲苯               殘留份(固態成份：20質量%)
接著，調配在20%氫氧化鈉水溶液中將乙二胺以10：1的比例添加的蝕刻液。在該蝕刻液中，將上述層積遮光環A～C在攪拌下以70℃、20分鐘分別浸漬，進行內周端面及外周端面的腐蝕處理(化學處理)，分別得到與圖6同等構造的腐蝕處理完的層積遮光環A～C。分別測定得到的腐蝕處理完的層積遮光環A～C的內周端面的凹部深度。結果顯示於表1。又，圖8及圖9示出層積遮光構件A的外周端面的光學顯微鏡照片、及層積遮光構件B的內周端面的光學顯微鏡照片(擴大照片)。再來，將腐蝕處理完的層積遮光環A～C分別組裝至透鏡單元作成攝影機模組，分別確認閃光現象及鬼影的產生。結果顯示於表1。
Figure 02_image001
[產業上的利用可能性]
本發明在精密機械領域、半導體領域、光學機器領域、電子機器領域等中作為高性能的遮光構件能夠廣泛且有效的利用。尤其是，作為用於搭載於高性能單眼攝影機、小型攝影機、視訊攝影機、行動電話、投影機、車載攝影機、車載感測器、光學感測器等的透鏡單元或攝影機模組或感測器單元等的間隙物、遮光構件、光圈構件、光圈葉片等，特別能夠有效利用。
11:基材(基材薄膜) 11a:表面粗面部 11a:裏面粗面部 13:中空部 21:遮光層(第一遮光層) 22:遮光層(第二遮光層) 31:內周開口部 31a:尖狀凹部 La:最大深度 41:外周開口部 41a:尖狀凹部 Lb:最大深度 51:定位用凸部 61:定位用凹部 62:定位用凹部 71:透鏡群(透鏡71A,71B,71C,71D,71E) 72:保持具 72a:段差部 72b:段差部 72c:段差部 81:攝像元件 100:透鏡用間隙物 200:透鏡用間隙物 300:透鏡用間隙物 400:層積遮光構件(層積遮光環) 500:透鏡單元 600:攝影機模組
[圖1]示意表示透鏡用間隙物100的斜視圖。 [圖2]圖1的II-II剖面圖。 [圖3]示意表示變形例的透鏡用間隙物200的斜視圖。 [圖4]圖3的IV-IV剖面圖。 [圖5]示意表示變形例的透鏡用間隙物300的剖面圖。 [圖6]示意表示層積遮光構件400(遮光環)的剖面圖。 [圖7]示意表示使用透鏡用間隙物100、200、300及層積遮光構件400(遮光環)的透鏡單元及攝影機模組的分解斜視圖。 [圖8]表示本發明品的層積遮光環的內周端面的一例的光學顯微鏡照片。 [圖9]表示本發明品的層積遮光環的內周端面的一例的光學顯微鏡照片(擴大照片)。
11:基材(基材薄膜)
13:中空部
31:內周開口部
La:最大深度
41:外周開口部
Lb:最大深度
100:透鏡用間隙物

Claims (15)

  1. 一種透鏡用間隙物，係於至少1個以上的透鏡在前述透鏡的光軸方向堆疊的透鏡單元中使用，其中， 具備含有樹脂及顏料的延伸樹脂薄膜； 剖面視具有中空板狀的外形； 在內周端面具有設置具有5μm以上的最大深度La的尖狀凹部的內周開口部。
  2. 如請求項1記載的透鏡用間隙物，更具有：在外周端面設置具有5μm以上的最大深度Lb的尖狀凹部的外周開口部。
  3. 如請求項2記載的透鏡用間隙物，更具有：平面視從外周端面向外方延出的定位用凸部。
  4. 如請求項1記載的透鏡用間隙物，更具有：平面視欠缺外周的一部分的定位用凹部。
  5. 如請求項1記載的透鏡用間隙物，其中，在一主面更具有表面粗面部及/或在另一主面更具有裏面粗面部。
  6. 如請求項1記載的透鏡用間隙物，其中，前述顏料的含有比例，相對於前述延伸樹脂薄膜為0.3～15質量%。
  7. 如請求項1記載的透鏡用間隙物，其中，前述延伸樹脂薄膜具有0.5μm以上150μm以下的厚度。
  8. 如請求項1記載的透鏡用間隙物，其中，前述延伸樹脂薄膜為二軸延伸聚酯纖維薄膜。
  9. 如請求項1記載的透鏡用間隙物，其中，前述延伸樹脂薄膜為由二軸延伸脂環式聚醯亞胺薄膜及二軸延伸芳香族聚醯亞胺薄膜組成的群選擇出的1種。
  10. 如請求項1記載的透鏡用間隙物，其中，具有1.5以上的光學密度。
  11. 一種層積遮光構件，具有：至少依序具備具有1.0以上的光學密度的第一遮光層、及基材的層積構造； 前述基材具備：具備含有樹脂及顏料的延伸樹脂薄膜，在剖面視具有中空板狀的外形，在內周端面具有設置具有5μm以上的最大深度La的尖狀凹部的內周開口部的透鏡用間隙物。
  12. 如請求項11記載的層積遮光構件，更具備：具有1.0以上的光學密度的第二遮光層； 具有：至少依序具備前述第一遮光層、前述基材、及前述第二遮光層的層積構造。
  13. 一種遮光環，具有環狀的外形形狀； 具有：至少依序具備第一遮光層、及基材的層積構造； 前述基材具備：具備含有樹脂及顏料的延伸樹脂薄膜，在剖面視具有中空板狀的外形，在內周端面具有設置具有5μm以上的最大深度La的尖狀凹部的內周開口部的透鏡用間隙物； 前述第一遮光層具有1.0以上的光學密度。
  14. 一種透鏡單元，係複數透鏡在前述透鏡的光軸方向堆疊的透鏡單元，其中， 由請求項1～10中任一項記載的透鏡用間隙物、請求項11及12記載的層積遮光構件、和請求項13記載的遮光環組成的群選擇出的1個以上，配置於至少一對前述透鏡間。
  15. 一種攝影機模組，係至少具有：複數透鏡在前述透鏡的光軸方向堆疊的透鏡單元、及通過前述透鏡單元攝像被攝物體的攝像元件的攝影機模組，其中， 由請求項1～10中任一項記載的透鏡用間隙物、請求項11及12記載的層積遮光構件、和請求項13記載的遮光環組成的群選擇出的1個以上，配置於至少一對前述透鏡間。
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