TW202025359A - 用於一線上基板處理系統的遮罩處理模組、用於基板的線上處理的真空處理系統、及用於在真空處理系統中進行遮罩轉移的方法 - Google Patents

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Abstract

描述了提供一種用於一線上基板處理系統的遮罩處理模組、一種用於一基板的線上處理的遮罩處理模組、及一種用於遮罩轉移的方法。此遮罩處理模組包括一真空旋轉腔室，提供於一第一真空腔室及一第二真空腔室之間的此線上基板處理系統內；一旋轉機構，位於此真空旋轉腔室內；一第一遮罩臺，具有一第一遮罩夾持具組件，且此第一遮罩臺係安裝於此旋轉機構上，以旋轉此第一遮罩臺，及一第二遮罩臺，具有一第二遮罩夾持具組件，且此第二遮罩臺係安裝於此旋轉機構上，以旋轉此第二遮罩臺；一遮罩處理組件，係配置成用於此第一遮罩臺及一遮罩處理腔室之間的一第一遮罩轉移；及一第一基板運輸軌道，係與此第一遮罩臺相關聯，此第一基板運輸軌道係配置成用以支撐一第一基板載體，此第一遮罩夾持具組件係配置成用於此第一遮罩臺及此第一基板載體之間的一第二遮罩轉移；及一第二基板運輸軌道，係與此第二遮罩臺相關聯，此第二基板運輸軌道係配置成用以支撐一第二基板載體。

Description

用於一線上基板處理系統的遮罩處理模組、用於基板的線上處理的真空處理系統、及用於在真空處理系統中進行遮罩轉移的方法
本揭露的實施例係有關於線上(in-line)基板處理系統。本揭露的實施例特別是有關於用於一線上基板處理系統的一遮罩處理模組、用於基板的線上處理的一真空處理系統、以及用於遮罩轉移的一方法(例如是在基板上進行線上材料沉積的方法)、或是基板處理的一方法。
有機發光二極體(OLED)是一種特殊類型的發光二極體，其中發射層包括特定有機化合物的薄膜。OLED係用於製造電視螢幕、電腦顯示器、行動電話、其他手持式裝備等，以用於顯示資訊。OLED也可用於一般空間照明。OLED顯示器可能的顏色及亮度範圍比傳統液晶顯示器(LCD)大，因為OLED材料係直接發光。OLED顯示器的能量損耗大大地低於傳統LCD顯示器的能量損耗。
此外，可在可撓基板上製造OLED的事實得出了進一步的應用。舉例來說，典型的OLED顯示器可包括位於兩個電極之間的有機材料層，此兩個電極例如是由金屬材料所製成的電極。OLED通常被放置在兩個玻璃面板之間，且玻璃面板的邊緣被密封以將OLED封裝在其中。可選地，OLED可以是用薄膜技術封裝，例如是用阻隔膜封裝。
製造OLED顯示器的過程包括在高真空下將有機材料熱蒸發，並在基板上沉積有機材料。有利的是，通過使用遮罩來補足此過程，以便在沉積期間將有機層圖案化至基板上。在此，在有機層的沉積期間，遮罩被保持在基板附近，並且在沉積期間，基板通常被設置在遮罩後方並相對於遮罩對準。然而，在有機材料的沉積期間，對遮罩的需求增加了OLED顯示器的製造過程的複雜性。舉例來說，在沉積有機材料之前，必須將遮罩轉移至處於高真空中的OLED顯示器製造系統中。此外，由於任何顆粒的產生都會使OLED顯示器製造系統劣化，必須在減少或最小化顆粒的產生的情況下，將遮罩轉移至OLED顯示器製造系統中。然而，處理系統中的進一步的遮罩處理可能會顯著地影響系統的所有權成本。
據此，持續地需要用於將遮罩轉移至OLED顯示器製造系統中的新的及改善的設備及方法。
有鑒於此，提供了用於線上基板處理系統的遮罩處理模組、用於基板的線上處理的真空處理系統、以及用於遮罩轉移的方法。本揭露旨在簡化將乾淨、未使用的遮罩運輸至線上基板處理系統中。因此，減少了線上基板處理系統在基板上的佔地面積。此外，本揭露旨在在不中斷線上基板處理系統的情況下，在將材料，例如是有機或金屬材料的材料沉積在基板上之後，促進遮罩的再利用。此外，本揭露旨在減輕線上基板處理系統中的遮罩的運輸。另外，本揭露旨在以固定的時間間隔，協助從線上基板處理系統中移除已使用的遮罩，例如是用以清潔遮罩或更換遮罩。
根據申請專利範圍、說明書內容、及附圖，本揭露的其他方面、益處、及特徵是顯而易見的。
根據本揭露的一方面，提供一種用於一線上基板處理系統的遮罩處理模組。此遮罩處理模組包括一真空旋轉腔室，提供於一第一真空腔室及一第二真空腔室之間的此線上基板處理系統內。此外，此遮罩處理模組包括一旋轉機構，位於此真空旋轉腔室內。此外，此遮罩處理模組包括一第一遮罩臺，具有一第一遮罩夾持具組件，且此第一遮罩臺係安裝於此旋轉機構上，以旋轉此第一遮罩臺。此外，此遮罩處理模組包括一第二遮罩臺，具有一第二遮罩夾持具組件，且此第二遮罩臺係安裝於此旋轉機構上，以旋轉此第二遮罩臺。另外，此遮罩處理模組包括一遮罩處理組件，係配置成用於此第一遮罩臺及一遮罩處理腔室之間的一第一遮罩轉移。此外，此遮罩處理模組包括一第一基板運輸軌道，係與此第一遮罩臺相關聯，此第一基板運輸軌道係配置成用以支撐一第一基板載體，此第一遮罩夾持具組件係配置成用於此第一遮罩臺及此第一基板載體之間的一第二遮罩轉移。此外，此遮罩處理模組包括一第二基板運輸軌道，係與此第二遮罩臺相關聯，此第二基板運輸軌道係配置成用以支撐一第二基板載體。
根據本揭露的另一方面，提供一種用於一基板的線上處理的遮罩處理模組。此真空處理系統包括根據本揭露的實施例的一遮罩處理系統、一基板裝載區域、及一處理區域。
根據本揭露的進一步的方面，提供一種用於在一真空處理系統中進行遮罩轉移的方法。在一真空處理系統中進行遮罩轉移的方法包括將一第一基板載體傳輸至一真空旋轉腔室中，將由一第一遮罩夾持具組件所支撐的一第一遮罩從一第一遮罩臺轉移至此第一基板載體上，將此第一基板載體運輸出此真空旋轉腔室；及以大約180°的角度旋轉支撐此真空旋轉腔室中的此第一遮罩臺的旋轉機構。
根據本揭露的進一步的方面，提供一種用於在一真空處理系統中進行遮罩轉移的方法。在一真空處理系統中進行遮罩轉移的方法包括沿著一第一方向，將一第一基板載體運輸至一真空旋轉腔室中；沿著與此第一方向相反的一第二方向，將一第二基板載體運輸至一真空旋轉腔室中；將由一第一遮罩夾持具組件所支撐的一第一遮罩從一第一遮罩臺轉移至此第一基板載體上；將由此第二基板載體所支撐的一第二遮罩從此第二基板載體轉移至一第二遮罩臺上；沿著此第一方向，將此第一基板載體運輸出此真空旋轉腔室；及沿著此第二方向，將此第二基板載體運輸出此真空旋轉腔室。
根據又進一步的方面，用於在真空處理系統中的遮罩轉移的方法，可包括在例如是在真空處理系統中用於基板處理的方法及/或用於在基板上材料沉積的方法中。
現在將對於本揭露的各種實施例進行詳細說明，本揭露的一或多個例子係繪示於圖中。在以下對於圖式的敘述中，係使用相同的元件符號來指示相同的元件。一般來說，只會對於各個實施例的不同處進行敘述。各個例子的提供只是用以解釋本揭露，而非欲用以限制本揭露。另外，作為一個實施例的一部分而被繪示或敘述的特徵，可用於或結合其他實施例，以產生又一實施例。所述內容意欲包含這樣的調整及變化。
用於製造OLED顯示器的過程可包括在高真空中的有機材料的熱蒸發、及有機材料在基板上的沉積。取決於顯示技術，可以提供在沉積期間使用用於將有機層圖案化至基板上的遮罩。據此，例如是由於為了將遮罩轉移至處於高真空中的OLED顯示器製造系統中所要完成的另外的過程，使用遮罩的OLED顯示器製造過程可能是複雜的。此外，由於顆粒的產生可能使OLED顯示器製造系統劣化，必須在減少或最小化顆粒的產生的情況下，將遮罩轉移至OLED顯示器製造系統中。
本揭露的實施例係有關於用於線上基板處理系統的遮罩處理模組、用於基板的線上處理的真空處理系統、及用於遮罩轉移的方法。據此，線上基板處理系統可以是顯示器製造系統、或是顯示器製造系統的一部分，特別是OLED顯示器製造系統，且更特別是用於大面積基板的OLED顯示器製造系統。遮罩或基板載體的運輸，也就是基板載體通過線上基板處理系統的移動，特別是可以在基板載體在垂直取向狀態下提供。舉例來說，基板載體可以是配置成用以在垂直取向狀態下固持基板，例如是玻璃板。
在一些實施例中，遮罩可包括遮罩框架。此外，遮罩可包括具有由遮罩框架所保持的一開口或多個開口的薄片。遮罩框架可以是配置成用於支撐及固持特別是脆弱部分的薄片。舉例來說，遮罩框架可以是圍繞著薄片。薄片可以例如是藉由焊接，被永久地固定至遮罩框架上，或是薄片可以是可釋放地固定至遮罩框架上。薄片的圓周邊緣可以是固定至遮罩框架上。遮罩臺可以是配置成用以藉由任何方式(例如是通過使用機械夾持具、電磁夾持具、及/或電永久夾持具)來固持遮罩。
遮罩可以包括一開口或多個開口，此一或多個開口可以形成一圖案，此圖案係用於藉由遮罩沉積製程，在基板上沉積相應的材料圖案。在沉積期間，可以將遮罩設置在基板的前方的近距離處、或是使遮罩與基板的前表面直接接觸。舉例來說，遮罩可以例如是一邊緣排除遮罩、或是將在大面積顯示器上製造的二或多個裝置分開的遮罩。
在一些實施例中，遮罩可以至少部分地由金屬所製成，例如是由具有較小熱膨脹係數的金屬(如因鋼)所製成。遮罩可包括磁性材料，使得在沉積期間，遮罩可朝向基板被磁性地吸引。在一些實施例中，遮罩及/或遮罩框架可包括磁性材料，使得遮罩及/或遮罩框架可藉由磁力被吸引至遮罩臺或至基板載體上。
根據可以與此處所述的其他實施例結合的一些實施例，基板載體配置可以是配置成用於在實質上垂直取向上固持或支撐基板或基板及遮罩。此外，可以將遮罩臺配置成用於在實質上垂直取向上固持或支撐遮罩。如在本揭露中通篇所使用的，當涉及基板取向時，特別是應理解為「實質上垂直」，以允許與垂直方向或取向的偏差為±20度或以下，例如是±10度或以下。可以提供此偏差，例如是因為與垂直取向有一些偏差的基板支撐件可能導致更穩定的基板位置。此外，當基板向前傾斜時，更少的顆粒會到達基板表面。然而，例如是在高真空下在基板上沉積材料(例如是有機或金屬材料)期間，基板取向被認為是實質上垂直的，這被認為是與水平基板取向不同，水平基板取向可以被認為是水平±20度或以下。
根據可與此處所述的其他實施例結合的一些實施例，基板載體可以是一靜電吸座(E-chuck)，此靜電吸座係提供用於將基板固持在基板載體上、及可選地將遮罩固持在基板載體上，且特別是在支撐表面上。作為示例，基板載體包括一電極裝置，此電極裝置係配置成用以提供作用於基板上的吸引力。
此處所述的實施例可以是用於在大面積基板上沉積材料(例如是有機或金屬材料)，例如是用於OLED顯示器製造。特別是，提供根據此處所述的實施例的結構及方法的基板可以是大面積基板。舉例來說，大面積基板可以是相應的表面積約為0.67m² (0.73m x 0.92m)的第 4.5代，相應的表面積約為1.4m² (1.1m x 1.3m)的第5代，相應的表面積約為4.29m²(1.95m x 2.2m)的第7.5代，相應的表面積約為5.7m²(2.2 m x 2.5 m)的第8.5代，或甚至是相應的表面積約為8.7m²(2.85m x 3.05m)的第10代。甚至更大的世代，例如是第11代及第12代以及相應的表面積也可以類似地實現。在OLED顯示器製造中也可以提供世代的一半大小。
根據可與此處所述的其他實施例結合的一些實施例，基板厚度可以為0.1至1.8mm。基板厚度可以是大約0.9mm或以下，例如是0.5mm。如此處所使用的「基板」一詞，可以特別是包括實質上不可撓的基板，例如是玻璃板或其他基板。然而，本揭露不限於此，並且「基板」一詞也可以包括可撓基板，例如是網或箔。「實質上不可撓」一詞被理解為與「可撓」區隔開來。特別是，實質上不可撓的基板可以是具有一定程度的可撓性，例如是厚度為0.9mm或以下，例如是0.5mm或以下的玻璃板，其中，與可撓基板相比，實質不可撓基板的可撓性較小。
示例性地參照第1A及1B圖，描述了用於一線上基板處理系統的一遮罩處理模組100的實施例。特別是，在第1A及1B圖中分別示出了遮罩處理模組100的俯視截面圖及側視截面圖。如第1A及1B圖中所示例性示出，遮罩處理模組100可包括一真空旋轉腔室110。舉例來說，一第一真空腔室102及一第二真空腔室104之間的線上基板處理系統內，可提供真空旋轉腔室。特別是，真空旋轉腔室110係配置成用以在腔室中提供真空條件。此外，遮罩處理模組100可以是在真空旋轉腔室110內包括一旋轉機構112。旋轉機構112可更包括一旋轉支撐件118。此外，旋轉機構112還可以包括一致動器120，此致動器係配置成用以使真空旋轉腔室110內的旋轉支撐件118旋轉。致動器120可包括一桿件114，例如是包括一旋轉軸170的一中央桿件。
此外，致動器120可包括一馬達116，用以經由桿件114來旋轉旋轉支撐件118。此外，致動器120可以是響應於能量，以致動桿件114。致動器120的例子可以包括一電動馬達、氣動致動器、液壓致動器等。特別是，致動器120可以是配置成用於提供旋轉支撐件118在順時針及/或逆時針方向上的至少40°的旋轉。舉例來說，致動器120可以是配置成用於提供180°的旋轉。
根據一些實施例，遮罩處理模組100可更包括一第一遮罩臺122及第二遮罩臺124。示例性地參照第1C圖，第一遮罩臺122可具有一第一遮罩夾持具組件132。類似地，第二遮罩臺124可具有第二遮罩夾持具組件132。第一遮罩夾持具組件132及/或第二遮罩夾持具組件132可以包括以下群組之至少一夾鉗：電磁夾鉗、電磁永久夾鉗、及機械夾鉗。
第一遮罩夾持具組件132可包括用於將一遮罩吸附或夾鉗至第一遮罩臺122的一固持表面的至少一吸附或夾鉗裝置上。第二遮罩夾持具組件132可包括用於將一遮罩吸附或夾鉗至第二遮罩臺124的一固持表面的至少一吸附或夾鉗裝置上。舉例來說，第一遮罩夾持具組件132可包括至少一夾鉗，特別是多個夾鉗，用於將一遮罩50夾鉗至第一遮罩臺122上。此外，第二遮罩夾持具組件132可包括至少一夾鉗，特別是多個夾鉗，用於將一遮罩50夾鉗至第二遮罩臺124上。替代地或附加地，第一遮罩夾持具組件132可包括用於將遮罩50吸附至第一遮罩臺122上的一電磁吸盤，例如是一電永久磁鐵裝置。類似地，第二遮罩夾持具組件132可包括用於將遮罩50吸附至第二遮罩臺124上的一電磁吸盤，例如是一電永久磁鐵裝置。此外，第一遮罩夾持具組件132及/或第二遮罩夾持具組件132可包括一夾鉗致動器，此夾鉗致動器係配置成用以例如是水平及/或垂直地分別移動第一遮罩夾持具組件132及/或第二遮罩夾持具組件132的至少一夾鉗。第一遮罩臺122及/或第二遮罩臺124可配置成用於在垂直取向狀態下支撐遮罩50。
另外，第一遮罩臺122可被安裝至旋轉機構112上，以用於旋轉第一遮罩臺122。第一遮罩臺122可被耦合至旋轉支撐件118上，也就是說，第一遮罩臺122可被固定至旋轉支撐件118上、及/或可相對於旋轉支撐件118為靜止的。此外，第一遮罩臺122可以是在垂直取向狀態下被安裝至旋轉支撐件118上。「安裝」一詞是指藉由任何固定方法(例如是通過使用機械夾持具、電磁夾持具、及/或電永久夾持具)，固定至旋轉機構112及/或旋轉支撐件118上的狀態。特別是，通過遮罩臺支撐件128，第一遮罩臺122可被耦合至旋轉支撐件118上。此外，遮罩臺支撐件128可藉由一固定支架(例如是螺釘或螺栓)，被固定至旋轉支撐件118上。根據可以與此處所述的其他實施例結合的又進一步的實施例，可以提供類似於第一遮罩臺的第二遮罩臺124。
此外，遮罩處理模組100特別是可包括至少一聯接凸緣，此至少一聯接凸緣係配置成用於連接至少一真空腔室及/或一運輸模組。一般來說，一些或所有不同類型的聯接凸緣具有一殼體框架狀結構，此殼體框架狀結構可被配置成用於在其中提供真空條件。
根據一些實施例，遮罩處理模組100還可以包括一遮罩處理組件142。遮罩處理組件142可以是位於附接至真空旋轉腔室110的遮罩處理腔室140中。特別是，遮罩處理腔室140可以是配置成用以在腔室中提供真空條件。遮罩處理組件142可包括一真空機器人，此真空機器人具有一、二、或更多個可單獨移動的機械手。各個機械手可包括配置成用以抓取或支撐一遮罩50的遮罩固持部分。此外，此遮罩固持部分可配置成用以在真空旋轉腔室110及遮罩處理腔室140中的一或多個遮罩夾持具(例如是遮罩架)之間轉移遮罩50。此外，遮罩處理腔室140可被配置成用以從旋轉機構112轉移遮罩50，例如是從第一遮罩臺122或從第二遮罩臺124轉移遮罩50。此外，遮罩處理腔室140可配置成用以將遮罩50轉移至旋轉機構112，例如是轉移至第一遮罩臺122或第二遮罩臺124。
在一些實施例中，真空機器人可以是提供有至少兩個可單獨移動的遮罩固持部分。據此，在藉由第一遮罩固持部分將第一遮罩從第一遮罩臺122卸載、或將第一遮罩裝載至第二遮罩臺124的同時，可藉由第二遮罩固持部抓取一第二遮罩。因此，在遮罩處理腔室140(特別是遮罩處理組件142)及真空旋轉腔室110(特別是旋轉機構112，且更特別是第一遮罩臺122及/或第二遮罩臺124)之間的遮罩交換可以被加速。機械手可以在至少兩個方向(例如是垂直及水平方向)上移動。舉例來說，機械手可以上下移動。此外，機械手可以是相對於一中央機器人主體朝向/從第一遮罩臺122或第二遮罩臺124可延伸及可伸縮。
在一些實施例中，真空機器人可以是位於相鄰於真空旋轉腔室110(例如是旋轉機構112)。舉例來說，真空機器人可以是位於相鄰於第一遮罩臺122及/或第二遮罩臺124。真空機器人可包括二或更多個可繞一軸旋轉的機械手，且包括可在垂直及/或水平方向上移動的各個遮罩固持部分。
根據一些實施例，遮罩處理組件142可配置成用於第一遮罩臺122及遮罩處理腔室140之間的第一遮罩轉移。舉例來說，遮罩處理腔室140，特別是遮罩處理組件142，可配置成用於將遮罩50裝載至第一遮罩臺122。此外，遮罩處理腔室140，特別是遮罩處理組件142，可配置成用以將遮罩50連接至第一遮罩臺122。此外，遮罩處理腔室140，特別是遮罩處理組件142，可配置成用以將遮罩50與第一遮罩臺122分開。
根據一些實施例，遮罩處理模組100可進一步包括與第一遮罩臺122相關聯的一第一基板運輸軌道152。第一基板運輸軌道152可配置成用以支撐第一基板載體156。據此，第一遮罩夾持具組件132可配置成用於在第一遮罩臺122及第一基板載體156之間的第二遮罩轉移。舉例來說，可以將遮罩50從第一遮罩臺122裝載或轉移至第一基板載體156。另外，遮罩處理模組100還可以包括與第二遮罩臺124相關聯的第二基板運輸軌道154。第二基板運輸軌道154可配置成用以支撐一第二基板載體158。
在通過遮罩50在基板55上沉積材料之後，可以分別藉由第一基板載體156或第二基板載體158，將遮罩50運回至遮罩處理模組100，例如是運回至第一遮罩臺122或第二遮罩臺124。此後，舉例來說，可以在第二遮罩臺124及遮罩處理腔室140之間進行第三遮罩轉移。據此，第二遮罩夾持具組件132可配置成用於在第二遮罩臺124及遮罩處理腔室140之間的第三遮罩轉移。舉例來說，遮罩50可以被轉移到遮罩處理腔室140，特別是至遮罩處理組件142，例如是以用以清潔。
根據一些實施例，第二遮罩夾持具組件132可配置成用於第二遮罩臺124及第二基版載體158之間的第四遮罩轉移。舉例來說，可以將遮罩50從第二基版載體158卸載或轉移至第二遮罩臺124，也就是說，可以在通過遮罩50將材料(例如是有機材料或金屬材料)沉積至一基板55上之後，將遮罩50從第二基版載體158卸載或轉移至第二遮罩臺124。據此，可隨後重複使用遮罩50、或將遮罩50轉移至遮罩處理腔室140(特別是遮罩處理組件142)，例如是用以清潔。
根據一些實施例，從第一基板載體156或第二基板載體158卸載遮罩50，可包括例如是藉由釋放將遮罩50固定至第一基板載體156或第二基板載體158的夾具，從第一基板載體156或第二基板載體158分離遮罩50。
根據一些實施例，可以將基板運輸軌道可配置成用於基板載體的非接觸式運輸。舉例來說，基板運輸軌道可以是一第一基板運輸軌道152及/或一第二基板運輸軌道154。又進一步來說，基板載體可以是一第一基板載體156及/或一第二基板載體158。一般來說，第一基板運輸軌道152支撐第一基板載體156，且第二基板運輸軌道154支撐第二基板載體158。根據一些實施例，第二基板運輸軌道154可配置成用於第二基板載體158的非接觸式運輸。根據一些實施例，第一基板運輸軌道152可配置成用於第一基板載體156的非接觸式運輸。
非接觸式運輸可以是一磁懸浮系統。特別是，可提供磁懸浮系統，使得第一基板載體156或第二基板載體158的重量的至少一部分係由磁懸浮系統來承載。接著，可以通過線上基板處理系統，分別沿著第一基板運輸軌道152或第二基板運輸軌道154，實質上非接觸地引導第一基板載體156或第二基板載體158。特別是，第一基板運輸軌道152或第二基板運輸軌道154可分別包括載體固持結構162及載體固持結構164，以及分別包括載體驅動結構163及載體驅動結構165。載體固持結構可以是配置成用於非接觸地固持基板載體。載體驅動結構可以是配置成用於基板載體(例如第一基板載體156或第二基板載體158)的非接觸式位移。載體固持結構，例如是載體固持結構162及載體固持結構164，可包括用於非接觸地固持基板載體的磁懸浮系統。此外，載體驅動結構，例如是載體驅動結構163及載體驅動結構165，可包括用於非接觸地驅動基板載體的磁驅動系統。
根據本揭露的實施例，載體固持結構，例如是載體固持結構162及載體固持結構164，可具有磁性元件，例如是主動磁性元件。主動磁性元件可設置在基板載體上方，例如是在第一基板載體156或第二基板載體158上方。載體固持結構可以從上方拉動基板載體，例如是第一基板載體156或第二基板載體158。 可以控制主動磁性元件以在載體固持結構及第一基板載體156或第二基板載體158之間提供一間隙。提供了非接觸式的固持。
可提供載體驅動結構，例如是載體驅動結構163及載體驅動結構165，以提供用於沿運輸方向103運輸第一基板載體156或第二基板載體158的驅動力。載體驅動結構可包括在第一基板載體156或第二基板載體158上提一力的其他主動磁性元件。可提供非接觸式的驅動。載體固持結構的主動磁性元件可設置成在第一方向(也就是運輸方向103)延伸的一行。此外，可提供載體固持結構於旋轉支撐件118的頂壁處、或將載體固持結構附接至旋轉支撐件118的頂壁上。根據一些實施例，可以將載體固持結構，例如是載體固持結構162及/或載體固持結構164(也就是懸浮盒)，安裝在旋轉支撐件118的頂部。
根據一些實施例，旋轉機構112可配置成用以旋轉第一遮罩臺122、第二遮罩臺124、與第一遮罩臺122相關聯的第一基板運輸軌道152、及與第二遮罩臺124相關聯的第二基板運輸軌道154中的至少一者。舉例來說，旋轉機構112可配置成用以旋轉第一遮罩臺122、第二遮罩臺124、與第一遮罩臺122相關聯的第一基板運輸軌道152、及與第二遮罩臺124相關聯的第二基板運輸軌道154。可在第一基板運輸軌道152上提供第一基板載體156。可在第二基板運輸軌道154上提供第二基板載體158。據此，可將第一基板載體156、第二基板載體158、及/或遮罩50轉移至相鄰的連接的真空室，例如是處理區域。據此，可以在真空旋轉腔室110中改變第一遮罩臺122、第二遮罩臺124、與第一遮罩臺122相關聯的第一基板運輸軌道152、及/或與第二遮罩臺124相關聯的第二基板運輸軌道154的取向。特別是，第一遮罩臺122、第二遮罩臺124、與第一遮罩臺122相關聯的第一基板運輸軌道152、及與第二遮罩臺124相關聯的第二基板運輸軌道154可在一位置旋轉，使得能夠將遮罩50轉移至相鄰的第 一真空腔室102及第二真空腔室104之一者中，且更特別是轉移至線上基板處理系統的遮罩處理腔室140中。
此外，在旋轉機構112的旋轉期間，特別是在旋轉支撐件118的旋轉期間，第一基板載體156及/或第二基板載體158可以是在由載體固持結構懸浮的同時被旋轉。此外，在旋轉機構112的旋轉期間，特別是在旋轉支撐件118的旋轉期間，第一基板載體156及/或第二基板載體158可以是在由旋轉機構112機械地支撐的同時被旋轉。在旋轉後，第一基板載體156及/或第二基板載體158可以在不同的方向上被運輸，舉例來說，在與旋轉之前的方向相差90°或120°的角度的方向上被運輸。
示例性地參照第2圖，描述了用於線上基板處理系統的遮罩處理模組100的其他實施例。特別是，第2圖中示出了遮罩處理模組100的俯視截面圖。如第2圖中所示例性地示出，遮罩處理模組100可包括腔室140a、腔室140b、及/或腔室140c。據此，可將腔室140a、腔室140b、及/或腔室140c附接至真空旋轉腔室110。舉例來說，腔室140a可以是配置成用以儲存已使用的遮罩的遮罩腔室。作為示例，已使用的遮罩可以是在基板上沉積材料(例如是有機材料)之後的遮罩。可以存放已使用的遮罩，以進行後清潔。此外，腔室140b可以是配置成用以存放未使用的遮罩的遮罩腔室。舉例來說，未使用的遮罩可以是在基板上沉積材料(例如是有機材料)之前的遮罩。此外，腔室140c可以是配置成用以存放基板載體的腔室。此外，腔室140c可以是基板載體交換器。基板載體交換器可配置成用以將基板載體轉移至真空旋轉腔室110、或從真空旋轉腔室110轉移。舉例來說，基板載體可被轉移至腔室140c，以清潔或修復基板載體。此外，腔室140c可以是連接至其他真空旋轉腔室的腔室，其他真空腔室例如是根據此處所述的實施例的具有旋轉機構112的真空腔室。根據可與此處所述的實施例結合的一些實施例，在真空處理系統中，可在基板裝載腔室712及真空旋轉腔室110之間提供其他真空旋轉腔室，例如是參照第7圖。腔室140a、140b、及/或140c還可包括具有一、二、或更多個可單獨移動的機械手的真空機器人。各個機械手可包括配置成用以抓取遮罩或基板載體的遮罩固持部分。根據可與此處所述的其他實施例結合的一些實施例，相對於第2圖中的箭頭所指示的線上方向，部件進出腔室(140a、140b、及/或140C)的運輸角度可以是90°，或可以是不同於90°。舉例來說，進出真空旋轉腔室的相鄰的運輸方向之間的角度，可以是在30°及120°之間。
第3圖示出了根據此處所述的實施例的分別用於在基板上進行遮罩轉移及/線上材料沉積的方法300。可以利用根據本揭露的設備及系統來實施此方法300。
從開始301開始的方法300可包括將第一基板載體156運輸至真空旋轉腔室110中(階段302)。此外，方法300可包括將由第一遮罩夾持具組件132所支撐的第一遮罩從第一遮罩臺122轉移至第一基板載體156(階段304)。方法300還可包括，特別是沿運輸方向103，將第一基板載體156從真空旋轉腔室110運輸出來(階段306)。另外，方法300可包括將在真空旋轉腔室110中支撐第一遮罩臺122的旋轉機構112旋轉大約180°的角度(階段308)。方法300可以是在結束310結束。
根據可與此處所述的其他實施例結合一些實施例，用於遮罩轉移的方法300可以進一步包括從遮罩處理腔室140，特別是從遮罩處理組件142，更特別是從遮罩夾持具(例如遮罩架)抓取第一遮罩的初始階段。此外，此方法可另外包括將第一遮罩轉移至真空旋轉腔室110，特別是至旋轉機構112，且更特別是至第一遮罩臺122。此外，方法300可包括以大約180°的角度旋轉支撐遮罩臺(例如是真空旋轉腔室110中的第一遮罩臺122及第二遮罩臺124)的旋轉機構112。
根據可與此處所述的其他實施例結合的一些實施例，將第一基板載體156運輸至真空旋轉腔室110中(階段302)可包括在真空旋轉腔室110內旋轉旋轉支撐件118，以使得能夠特別是沿第一方向103將第一基板載體156運輸至真空旋轉腔室110中。根據一些實施例，第一基板載體156可支撐第一基板。此外，將第一基板載體156運輸至真空旋轉腔室110中(階段302)可包括在真空旋轉腔室110內旋轉旋轉支撐件118，使得第一基板載體156可以是沿第一基板運輸軌道152被定位。將第一基板載體156運輸至真空旋轉腔室110中(階段302)可包括在真空旋轉腔室110內旋轉旋轉支撐件118，以使第一基板運輸軌道152與相鄰連接的真空腔室(例如是處理區域)的運輸軌道的至少一者對準。
此外，將由第一遮罩夾持具組件132所支撐的第一遮罩從第一遮罩臺122轉移至第一基板載體156(階段304)，可包括水平移動第一遮罩夾持具組件132的至少一夾具。此外，將由第一遮罩夾持具組件132所支撐的第一遮罩從第一遮罩臺122轉移至第一基板載體156(階段304)，可包括在實質上垂直取向上將第一遮罩附接至第一基板載體156。此外，將由第一遮罩夾持具組件132所支撐的第一遮罩從第一遮罩臺122轉移至第一基板載體156(階段304)，可包括在實質上垂直取向上固持或支撐第一基板及第一遮罩。另外，在將第一基板載體156非接觸地固持在真空旋轉腔室110中的同時，例如是在將與第一遮罩臺122平行的第一基板載體156非接觸地固持在真空旋轉腔室110中的同時，可進行由第一遮罩夾持具組件132所支撐的第一遮罩從第一遮罩臺122至第一基板載體156(階段304)的轉移。
根據可與此處所述的其他實施例結合的一些實施例，將第一基板載體156從真空旋轉腔室110運輸出來(階段306)，可包括旋轉旋轉支撐件118以使第一基板傳輸軌道152與相鄰連接的真空腔室(例如是處理區域)的運輸軌道的至少一者對準。據此，第一基板載體156可支撐第一基板及第一遮罩。
根據可與此處所述的其他實施例結合的一些實施例，方法300可以進一步包括沿著與第一方向103相反的第二方向，將第二基板載體158運輸至真空旋轉腔室110中。 據此，第二基板載體158可支撐第二基板及第二遮罩。此外，方法300可包括將由第二基板載體158所支撐的第二遮罩從第二基板載體158轉移至第二遮罩臺124。此外，方法300可包括沿第二方向將第二基板載體158從真空旋轉腔室110運輸出來。據此，第二基板載體158可支撐第二基板。
根據可與此處所述的其他實施例結合的一些實施例，沿著與第一方向103相反的第二方向，將第二基板載體158運輸至真空旋轉腔室110中，可包括在真空旋轉腔室110內旋轉旋轉支撐件118，以使得能夠例如是沿著與第一方向103相反的第二方向，將第二基板載體158運輸至真空旋轉腔室110內。據此，第二基板載體158可支撐第二基板及第二遮罩。此外，沿著與第一方向103相反的第二方向，將第二基板載體158運輸至真空旋轉腔室110中，可包括在真空旋轉腔室110內旋轉旋轉支撐件118。據此，第二基板載體158可以是沿第二基板運輸軌道被定位。此外，沿著與第一方向103相反的第二方向，將第二基板載體158運輸至真空旋轉腔室110中，可包括在真空旋轉腔室110內旋轉旋轉支撐件118。據此，第二基板運輸軌道154可以是與相鄰連接的真空腔室(例如是處理區域)的運輸軌道的至少一者對準。
此外，將由第二基板載體158所支撐的第二遮罩從第二基板載體158轉移至第二遮罩臺124，可包括水平移動第二遮罩夾持具組件132的至少一夾鉗。此外，將由第二基板載體158所支撐的第二遮罩從第二基板載體158轉移至第二遮罩臺124，可包括在實質上垂直取向上將第二遮罩附接至第二遮罩臺124。此外，將由第二基板載體158所支撐的第二遮罩從第二基板載體158轉移至第二遮罩臺124，可包括在實質上垂直取向上固持或支撐第二基板及第二遮罩。另外，在將第二基板載體158非接觸地固持在真空旋轉腔室110中的同時，例如是在將與第二遮罩臺124平行的第二基板載體158非接觸地固持在真空旋轉腔室110中的同時，可進行由第二基板載體158所支撐的第二遮罩從第二基板載體158至第二遮罩臺124的轉移。
根據一些可與此處所述的其他實施例結合的實施例，沿第二方向將第二基板載體158從真空旋轉腔室110運輸出來，可包括旋轉真空支撐腔室110內的旋轉支撐件118。第二基板運輸軌道154可以是與相鄰連接的真空腔室(例如是處理區域)的運輸軌道的至少一者對準。
根據一些實施例，可以同時地或獨立地進行，特別是沿第一方向103將第一基板載體156運輸至真空旋轉腔室110中，以及沿著第二方向將第二基板載體158運輸至真空旋轉腔室110中。此外，可以是同時地或獨立地進行，將由第一遮罩夾持具組件132所支撐的第一遮罩從第一遮罩臺122轉移至第一基板載體156，並且將由第二基板載體158所支撐的第二遮罩從第二基板載體158轉移到第二遮罩臺124。此外，可以是同時地或獨立地進行，特別是沿第一方向103將第一基板載體156從真空旋轉腔室110運輸出來，並且，沿著相反的方向，特別是沿著與第一方向103相反的方向，將第二基板載體從真空旋轉腔室110運輸出來。
第4A至4D圖示出了用於線上基板處理系統的真空旋轉腔室110的一部分的進一步的示例性俯視截面圖。根據此處所述的實施例，第4A圖示出了第一基板載體156沿著第一方向103運輸，及第二基板載體沿著與第一方向103相反的第二方向運輸至真空旋轉腔室110的期間，用於線上基板處理系統的真空旋轉腔室110的一部分的進一步示例性俯視截面圖。據此，第一基板載體156可支撐第一基板。此外，第二基板載體158可以支撐第二基板及第二遮罩。此外，根據此處所述的實施例，第4B圖示出了在將由第一遮罩夾持具組件132(未繪示)所支撐的第一遮罩從第一遮罩臺122轉移至第一基板載體156的期間，用於線上基板處理系統的真空旋轉腔室110的一部份的進一步的俯視截面圖。此外，根據此處所述的實施例，第4C圖示出了在由第二基板載體158所支撐的第二遮罩從第二基板載體158轉移至第二遮罩臺124的期間，用於線上基板處理系統的真空旋轉腔室110的一部份的進一步的俯視截面圖。另外，根據此處所述的實施例，第4D圖示出了第一基板載體156沿著第一方向103運輸，及第二基板載體沿著與第一方向103相反的第二方向運輸出真空旋轉腔室110的期間，用於線上基板處理系統的真空旋轉腔室110的一部份的進一步的俯視截面圖。據此，第一基板載體156可支撐第一基板及第一遮罩。此外，第二基板載體158可支撐第二基板。
示例性地參照第5及6圖，描述了用於在基板上進行遮罩轉移及/或線上材料沉積的方法300的進一步的實施例。 舉例來說，根據此處所述的實施例，第5圖示出了在支撐真空旋轉腔室110中的第一遮罩臺122及第二遮罩臺124的旋轉機構112以大約180°的角度旋轉的期間，用於線上基板處理系統的真空旋轉腔室110的一部分的示例性俯視截面圖。據此，在旋轉之後，第二遮罩臺124可以變成第一遮罩臺122，並且第二遮罩臺124可以變成第一遮罩臺122。因此，在旋轉之後，第一遮罩臺122可以支撐第一遮罩。因此，在此旋轉之後，此第4A圖中所示的方法階段可進一步的實施。
根據此處所述的實施例，第6圖示出了在支撐真空旋轉腔室110中的第一遮罩臺122及第二遮罩臺124的旋轉機構112以大約90°的角度旋轉的期間，用於線上基板處理系統的真空旋轉腔室110的一部分的示例性俯視截面圖。據此，第二遮罩臺124可以支撐第二遮罩。此外，在旋轉大約90°的角度後，可以從遮罩處理腔室140中，特別是從遮罩處理組件142中，抓取第一遮罩。此外，可以將遮罩裝載或轉移至真空旋轉腔室110中，通常是至旋轉機構112中，且更通常是至第一遮罩臺122或第二遮罩臺124中。同時地或獨立地，第二遮罩可以是從真空旋轉腔室110，通常是從旋轉機構112，且更通常是從第一遮罩臺122或第二遮罩臺124，被卸載或轉移至遮罩處理腔室140，特別是遮罩處理組件142中，例如是用以清潔。因此，遮罩處理腔室140，特別是遮罩處理組件142，係配置成用以將第一遮罩連接至第一遮罩臺122或第二遮罩臺124。此外，遮罩處理腔室140，特別是遮罩處理組件142，係配置成用以將第二遮罩從第一遮罩臺122或第二遮罩臺124分離，例如是用以清潔。根據可與此處所述的其他實施例結合的又進一步的實施例，且如第2圖所示例性地示出，可以在已使用的遮罩的卸載及新(新鮮)的遮罩的裝載之間，提供旋轉機構的進一步旋轉，反之亦然。
另外，根據此處所述的實施例，第7圖示出了的用於基板的線上處理的真空處理系統的示例性俯視圖。據此，用於基板的線上處理的真空處理系統可包括遮罩處理模組100、一基板裝載區域702、及一處理區域706。基板裝載區域702可包括一基板裝載腔室712。此外，用於基板的線上處理的真空處理系統可包括在真空旋轉腔室110及遮罩處理腔室140之間的一轉移區域740。此外，用於基板的線上處理的真空處理系統可包括在遮罩處理模組100及基板裝載區域702之間的一轉移區域752。此外，用於基板的線上處理的真空處理系統可包括在遮罩處理模組100及處理區域706之間的一轉移區域754。轉移區域752可以是用於從真空處理系統連接、斷開、及/或替換基板裝載區域702，例如是用以清潔。類似地，轉移區域754可以是用於從真空處理系統連接、斷開、及/或替代真空旋轉腔室110及處理區域706，例如是用以清潔。此外，基板裝載區域腔室、真空旋轉腔室110、及處理區域706可提供一線上方向。此外，可以沿著與線上方向不同的遮罩轉移方向，提供第一遮罩轉移。另外，處理區域706可包括一基板旋轉腔室762，此基板旋轉腔室762係配置成用以提供一順向基板處理方向及一逆向基板處理方向。此外，處理區域706可包括一或多個線上處理腔室760。線上處理腔室760可提供一主運輸路徑。此外，線上處理室760可包括沉積模組。舉例來說，沉積模組可以是配置成用於在一基板上沉積材料的腔室。
雖然上述內容是關於實施例，但可在不背離基本範圍的情況下，設計出其他及更進一步的實施例，範圍係由下列的申請專利範圍而定。
50:遮罩 55:基板 100:遮罩處理模組 102:第一真空腔室 103:方向 104:第二真空腔室 110:真空旋轉腔室 112:旋轉機構 114:桿件 116:馬達 118:旋轉支撐件 120:致動器 122:第一遮罩臺 124:第二遮罩臺 128:遮罩臺支撐件 132:遮罩夾持具組件 140:遮罩處理腔室 140a、140b、140c:腔室 142:遮罩處理組件 152:第一基板運輸軌道 154:第二基板運輸軌道 156:第一基板載體 158:第二基板載體 162:載體固持結構 163:載體驅動結構 164:載體固持結構 165:載體驅動結構 170:旋轉軸 301:開始 302、304、306、308:階段 310:結束 702:基板裝載區域 706:處理區域 712:基板裝載腔室 740:轉移區域 752、754:轉移區域 760:線上處理腔室 762:基板旋轉腔室
為了能夠理解本揭露上述特徵的細節，可參照實施例，得到對於簡單總括於上之本發明更詳細的敘述。所附之圖式是關於本發明的實施例，並敘述如下： 第1A圖示出了根據此處所述的實施例的用於線上基板處理系統的遮罩處理模組的示例性俯視截面圖； 第1B圖示出了根據此處所述實施例的用於線上基板處理系統的遮罩處理模組的示例性側視截面圖； 第1C圖示出了根據此處所述實施例的線上基板處理系統的遮罩處理模組的一部分的示例性截面圖； 第2圖示出了根據此處所述的進一步的實施例的用於線上基板處理系統的遮罩處理模組的示例性俯視截面圖； 第3圖示出了根據此處所述實施例的用於遮罩轉移的方法及/或用於在基板上進行線上材料沉積的方法的流程圖； 第4A至4D圖示出，根據此處所述的實施例，在將第一基板載體及第二基板載體運輸至真空旋轉腔室中、將第一遮罩從第一遮罩臺轉移至第一基板載體、將第二遮罩從第二基板載體轉移至第二遮罩臺、及將第一及第二基板載體從真空旋轉腔室運輸出來的期間，用於線上基板處理系統的真空旋轉腔室的一部分的示例性俯視截面圖。 第5圖示出，根據此處所述的實施例，在支撐真空旋轉腔室中的第一遮罩臺的旋轉機構以大約180°的角度旋轉的期間，用於線上基板處理系統的真空旋轉腔室的一部分的示例性俯視截面圖； 第6圖示出，根據此處所述的實施例，在支撐真空旋轉腔室中的第一遮罩臺及第二遮罩臺的旋轉機構以大約90°的角度旋轉的期間，用於線上基板處理系統的真空旋轉腔室的一部分的示例性俯視截面圖；及 第7圖示出了根據此處所述實施例的用於基板的線上處理的真空處理系統的示例性俯視圖。
50:遮罩
55:基板
102:第一真空腔室
103:方向
104:第二真空腔室
110:真空旋轉腔室
112:旋轉機構
114:桿件
116:馬達
118:旋轉支撐件
120:致動器
128:遮罩臺支撐件
156:第一基板載體
158:第二基板載體
162:載體固持結構
163:載體驅動結構
164:載體固持結構
165:載體驅動結構
170:旋轉軸

Claims (20)

  1. 一種用於一線上基板處理系統的遮罩處理模組，包括： 一真空旋轉腔室，提供於一第一真空腔室及一第二真空腔室之間的該線上基板處理系統內； 一旋轉機構，位於該真空旋轉腔室內； 一第一遮罩臺，具有一第一遮罩夾持具組件，且該第一遮罩臺係安裝於該旋轉機構上，以旋轉該第一遮罩臺； 一第二遮罩臺，具有一第二遮罩夾持具組件，且該第二遮罩臺係安裝於該旋轉機構上，以旋轉該第二遮罩臺； 一遮罩處理組件，係配置成用於該第一遮罩臺及一遮罩處理腔室之間的一第一遮罩轉移； 一第一基板運輸軌道，係與該第一遮罩臺相關聯，該第一基板運輸軌道係配置成用以支撐一第一基板載體，該第一遮罩夾持具組件係配置成用於該第一遮罩臺及該第一基板載體之間的一第二遮罩轉移；及 一第二基板運輸軌道，係與該第二遮罩臺相關聯，該第二基板運輸軌道係配置成用以支撐一第二基板載體。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之遮罩處理模組，其中該遮罩處理組件係配置成用於該第二遮罩臺及該遮罩處理腔室之間的一第三遮罩轉移。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之遮罩處理模組，其中該第一遮罩臺及該第二遮罩臺係配置成用於支撐在一垂直取向狀態的一遮罩。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之遮罩處理模組，其中該線上基板處理系統提供一線上方向，且沿著與該線上方向不同的一遮罩轉移方向提供該第一遮罩轉移。
  5. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之遮罩處理模組，其中該旋轉機構包括： 一旋轉支撐件及一致動器，該致動器係配置成用以在該真空旋轉腔室內旋轉該旋轉支撐件。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之遮罩處理模組，其中該第一遮罩臺及該第二遮罩臺係耦合至該旋轉支撐件上。
  7. 如申請專利範圍第5項所述之遮罩處理模組，其中該第一遮罩臺及該第二遮罩臺相對於該旋轉支撐件為靜止的。
  8. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之遮罩處理模組，該第一基板運輸軌道包括用於一基板載體的一載體固持結構，及用於該基板載體的一載體驅動結構。
  9. 如申請專利範圍第1至7項中任一項所述之遮罩處理模組，其中該第一基板運輸軌道包括該載體固持結構及該載體驅動結構的至少一者，該載體固持結構包括用於非接觸地固持該基板載體的一磁懸浮系統，該載體驅動結構包括用於非接觸地驅動該基板載體的一磁驅動系統。
  10. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之遮罩處理模組，其中該第一遮罩夾持具組件及該第二遮罩夾持具組件的至少一者，包括以下群組之至少一夾鉗：一電磁夾鉗、一電磁永久夾鉗、及一機械夾鉗。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之遮罩處理模組，其中該第一遮罩夾持具組件包括： 一夾鉗致動器，配置成用以水平移動該第一遮罩夾持具組件的該至少一夾鉗。
  12. 一種用於一基板的線上處理的真空處理系統，包括： 根據申請專利範圍第1至3項中任一項所述之一遮罩處理模組； 一基板裝載區域；及 一處理區域。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之真空處理系統，其中該基板裝載區域、該真空旋轉腔室、及該處理區域提供一線上方向，且沿著與該線上方向不同的一遮罩轉移方向提供該第一遮罩轉移。
  14. 如申請專利範圍第12項所述之真空處理系統，其中該處理區域包括： 一真空旋轉腔室，配置成用以提供一順向基板處理方向及一逆向基板處理方向。
  15. 一種用於在一真空處理系統中進行遮罩轉移的方法，包括： 將一第一基板載體運輸至一真空旋轉腔室中； 將由一第一遮罩夾持具組件所支撐的一第一遮罩從一第一遮罩臺轉移至該第一基板載體上； 將該第一基板載體運輸出該真空旋轉腔室；及 以大約180°的角度旋轉支撐該真空旋轉腔室中的該第一遮罩臺的一旋轉機構。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之方法，更包括： 沿著與該第一方向相反的一第二方向，將一第二基板載體運輸至該真空旋轉腔室中； 將由一第二基板載體所支撐的一第二遮罩從該第二基板載體轉移至一第二遮罩臺上； 沿著該第二方向，將該第二基板載體運輸出該真空旋轉腔室。
  17. 一種用於在一真空處理系統中進行遮罩轉移的方法，包括： 沿著一第一方向，將一第一基板載體運輸至一真空旋轉腔室中； 沿著與該第一方向相反的一第二方向，將一第二基板載體運輸至一真空旋轉腔室中； 將由一第一遮罩夾持具組件所支撐的一第一遮罩從一第一遮罩臺轉移至該第一基板載體上； 將由該第二基板載體所支撐的一第二遮罩從該第二基板載體轉移至一第二遮罩臺上； 沿著該第一方向，將該第一基板載體運輸出該真空旋轉腔室；及 沿著該第二方向，將該第二基板載體運輸出該真空旋轉腔室。
  18. 如申請專利範圍第15項所述之方法，更包括： 以大約180°的角度旋轉支撐該真空旋轉腔室中的該第一遮罩臺的一旋轉機構。
  19. 如申請專利範圍第15至18項中任一項所述之方法，更包括： 沿著與該第一方向及該第二方向不同的一第三方向，將該第一遮罩及該第二遮罩的至少一者運輸出真空旋轉腔室。
  20. 如申請專利範圍第15至18項中任一項所述之方法，更包括： 沿著與該第一方向及該第二方向不同的一第四方向，將該第一遮罩及該第二遮罩的至少一者運輸出真空旋轉腔室。
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