TW202015271A - 遮罩框架及遮罩組件 - Google Patents

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Abstract

一種遮罩框架及一種遮罩組件係說明。裝配以固定一遮罩板於其之遮罩框架包括一左框架，設置於一左側上；一右框架，設置於一右側上；一上框架，連接左框架之一上端部及右框架之一上端部彼此；以及一下框架，連接左框架之一下端部及右框架之一下端部彼此。上框架包括一上直線框架，在一水平方向中具有一線性形狀；以及一上彎曲框架，與上直線框架分離，上彎曲框架具有一兩側對稱形狀及向上凸出彎曲，及遮罩板耦接於上彎曲框架。如此一來，遮罩框架之變形及遮罩板的變形係避免，及在水平或垂直切換遮罩組件之位置的一程序中的變形係亦避免。

Description

遮罩框架及遮罩組件
本揭露之數個實施例係有關於一種遮罩框架及一種遮罩組件，及更別是一種用以固定一遮罩板的遮罩框架及一種包括其之遮罩組件。遮罩板係讓一陽極、一陰極、一有機膜、一像素、或類似者形成於一基板的上方，此陽極、此陰極、此有機膜、此像素、或類似者之各者係形成一預定之圖案或形狀。
基板處理裝置係意指一裝置，用以執行沈積製程、蝕刻製程等來製造用於半導體製造之晶圓、用於液晶顯示器(liquid crystal display，LCD)製造之基板、用於有機發光二極體(organic light emitting diode，OLED)製造之基板等，及可根據基板處理形式、基板處理條件等以數種方式構成。
在數種基板處理裝置中之沈積裝置係意指一裝置，用以利用化學氣相沈積(CVD)、物理氣相沈積(PVD)、蒸發製程等來形成薄膜於基板之表面上。在用以沈積沈積材料於需用於OLED製造之基板的表面的上方之製程中，有機材料、無機材料、金屬等係蒸發，使得薄膜係形成於基板之表面的上方。
用以藉由蒸發沈積材料來形成薄膜之沈積裝置包括沈積腔室及源。用以沈積之基板係裝載於此沈積腔室中。此源係裝設在沈積腔室中，及加熱/蒸發沈積材料，使得沈積材料可蒸發於基材上，藉此沈積裝置係藉由利用已蒸發之沈積材料形成薄膜於基板之表面的上方來執行基板處理。
另一方面，上述之基板處理可在遮罩放置於基板上之一狀態中達成，使得陽極、陰極、有機膜、像素等可形成於基板的上方。遮罩係形成，以僅曝露出沈積區域。陽極、陰極、有機膜、像素等之各者係藉由遮罩來具有預定之圖案或形狀。
遮罩一般係耦接於形成正方形的遮罩框架，及可能在遮罩係移動或使用時下垂。特別是，當較大尺寸之基板及較大尺寸之遮罩的數量係快速地增加時，避免遮罩之下垂的需求係亦快速地增加。
本揭露之一目的係提供一遮罩框架及一遮罩組件，使得一遮罩框架之變形及一遮罩板之變形係避免，及遮罩板的下垂係亦避免。
根據本揭露之一方面，一種遮罩框架係裝配以固定一遮罩板於其。遮罩框架包括一左框架，設置於一左側上；一右框架，設置於一右側上；一上框架，連接左框架之一上端部及右框架之一上端部彼此；以及一下框架，連接左框架之一下端部及右框架之一下端部彼此。上框架可包括一上直線框架，在一水平方向中具有一線性形狀；以及一上彎曲框架，與上直線框架分離，上彎曲框架具有一兩側對稱形狀及向上凸出彎曲，及遮罩板耦接於上彎曲框架。
上彎曲框架可位於上直線框架之上方、下方、前方、或後方。
上框架可更包括一上直線次框架，在與上直線框架及上彎曲框架分離時沿著水平方向形成一線性形狀，及相對於上彎曲框架位在相反於上直線框架的位置。
上彎曲框架可形成一圓形管或一多邊形管的一形狀，沿著上彎曲框架之一縱向方向具有一固定截面，或可具有一字母「L」、一字母「U」、及一字母「H」之任一者的一剖面形狀。
上彎曲框架可以不同於左框架、右框架、及上直線框架之材料的鈦製成。左框架、右框架、及上直線框架可以一實質上相同材料製成，選自一鐵鎳合金、一不鏽鋼、或包括鐵鎳合金或不鏽鋼的一材料。
上彎曲框架可包括位於其中之一內層，及包圍內層及耦接於內層之一外層。內層可以不同於左框架、右框架、及上直線框架的一材料所製成。外層可以為左框架、右框架、及上直線框架之一實質上相同材料的一材料製成。
上彎曲框架可具有數個固定螺絲，沿著上彎曲框架之一縱向方向反覆地設置，以固定遮罩板於上彎曲框架。
遮罩框架可具有一兩側及垂直對稱形狀。
根據本揭露之另一方面，一種遮罩組件包括數個遮罩板，配置於一水平方向中；以及一遮罩框架，裝配以固定此些遮罩板於其及包括一左框架、一右框架、一上框架、及一下框架，左框架設置於一左側上，右框架設置於一右側上，上框架在耦接於此些遮罩板之一上側時連接左框架之一上端部於右框架之一上端部，下框架在耦接於此些遮罩板之一下側時連接左框架之一下端部於右框架之一下端部。上框架可包括一上直線框架，在水平方向中具有一線性形狀；以及一上彎曲框架，耦接於此些遮罩板，與上直線框架分離，及在具有一兩側對稱形狀時向上凸出彎曲。此些遮罩板可耦接於上彎曲框架。
上彎曲框架可位於上直線框架之上方、下方、前方、或後方。上框架可更包括一上直線次框架，在與上直線框架及上彎曲框架分離時沿著水平方向形成一線性形狀，及相對於上彎曲框架位在相反於上直線框架的位置。
上彎曲框架可形成一圓形管或一多邊形管的一形狀，沿著上彎曲框架之一縱向方向具有一固定截面，或可具有一字母「L」、一字母「U」、及一字母「H」之任一者的一剖面形狀。
上彎曲框架可以不同於左框架、右框架、及上直線框架之材料的鈦製成。左框架、右框架、及上直線框架可以一實質上相同材料製成，選自一鐵鎳合金、一不鏽鋼、或包括鐵鎳合金或不鏽鋼的一材料。
從上述清楚瞭解，本揭露之實施例可避免遮罩框架的變形及遮罩板的下垂，使得遮罩組件之變形可在遮罩組件之位置係從水平位置切換至垂直位置時避免。為了對本發明之上述及其他方面有更佳的瞭解，下文特舉實施例，並配合所附圖式詳細說明如下：
詳細的參照現在將以本揭露之實施例達成，本揭露之實施例的數個例子係繪示於所附之圖式中。相同參考編號將在可行時於圖式中通篇使用，以意指相同或類似的部件。在下方說明中，可能混淆本揭露之本質(substance)的已知之功能及結構係不進行說明。在本揭露之下方說明中，將在反而可能使本揭露之標的含糊時省略合併於此之已知的功能或裝配的詳細說明。
第1a及1b圖繪示根據本揭露之兩個實施例之遮罩組件1及遮罩框架100的前視圖。第2a及2b圖繪示根據本揭露之兩個其他實施例之遮罩組件1及遮罩框架100的前視圖。第3a及3b圖繪示第1a及1b圖中所示之遮罩框架100之一些部件及供應於其之負載的示意圖。第4a-4d圖繪示根據本揭露之再其他實施例之遮罩框架100之一些部件的透視圖。第5a-5g及6a及6b圖繪示根據本揭露之遮罩框架100之數種剖面形狀的示意圖。
為了便於說明根據本揭露之遮罩框架100及遮罩組件1的技術特徵，遮罩框架100、遮罩板200(200a、200b)、及遮罩組件1係於所附之圖式中繪示及部份誇大。根據本揭露之遮罩框架100及遮罩組件1可具有於本揭露中說明之技術特徵，及可在不脫離本揭露之範疇或精神下亦應用於數種形狀、形式、說明等。
於用以製造半導體裝置、顯示面板等之製程中，為將處理之物體的晶圓或基板可固定及移動，及大面積基板可固定及傳送。此大面積基板特別是形成OLED顯示面板之大面積基板。
基板傳送裝置可在一基板處理方法中或在將處理之基板的上方準備此處理之一製程中以固定及傳送基板的方式裝配。此基板處理方法係對應於用以執行數種處理(舉例為蝕刻、CVD、濺射、離子佈植(ion implantation)、灰化(ashing)、及/或蒸發沈積等)之製程，及遮罩組件1可位於基板傳送裝置之一側。用以執行上述之處理的基板處理裝置可包括遮罩傳送裝置，用以固定及傳送遮罩組件1、上述之基板傳送裝置、處理腔室、及類似者。
基板傳送裝置與基板可一起從處理腔室向內或向外為可移動。或者，基板傳送裝置可在處理腔室中為可移動的。在此情況中，基板可在放置於水平或垂直狀態中為可移動的。
遮罩傳送裝置與遮罩組件1可一起從處理腔室向內或向外為可移動，或可在處理腔室中為可移動的。在此情況中，遮罩組件1可在放置於水平或垂直狀態中為可移動的，及可在水平狀態及在垂直狀態之間切換。當基板係在處理腔室中配置於水平狀態中時，遮罩組件1可亦配置於水平狀態中。當基板係在處理腔室中配置於垂直狀態中時，遮罩組件1可亦在有需要時配置於垂直狀態中。
繪示於第1a及1b及2a及2b圖中之遮罩組件1將在下文參照平行於Y軸方向之垂直方向及平行於X軸方向之水平方向作說明。也就是說，基於遮罩組件1係垂直直立之狀態，可決定出垂直方向或水平方向。然而，本揭露之範疇或精神係不以此為限，及應理解的是，遮罩組件1及遮罩框架100並非永遠垂直直立。
遮罩組件1可包括形成預定之圖案或形狀的數個通孔210，可在處理腔室中之一方向為可移動的，及可位於基板的前方。既然於處理腔室中蒸發之沈積材料可在通過通孔210之後定位(或遺留)在基板上，陽極、陰極、有機膜、像素等可形成於基板的上方。陽極、陰極、有機膜、像素等之各者係具有預定之圖案或形狀。
根據本揭露之遮罩組件1可包括遮罩框架100及遮罩板200(200a、200b)。
遮罩板200(200a、200b)之各者可形成以包括通孔210，及可形成薄金屬板材形狀。或者，遮罩板200(200a、200b)之各者可以金屬薄膜製成。遮罩板200(200a、200b)之各者可形成以具有從數公釐(mm)至數十公釐(mm)之範圍的一厚度，或可形成以具有從數微米(μm)至數百微米(μm)之範圍的一厚度。特別是，遮罩板200(200a、200b)之各者可形成以具有200 μm的厚度，或可形成以具有18 μm之厚度。根據所需之條件，遮罩板200(200a、200b)之通孔210可形成數種尺寸及形狀等(見第2a圖及第2b圖)。
遮罩板200(200a、200b)之各者可為典型之精密金屬遮罩(fine metal mask，FMM)，及各遮罩板200a可於一方向中形成長條形狀(見第1a圖及第1b圖)。在此情況中，此些遮罩板200a可平行於彼此配置，及雙端(上及下端)可固定地耦接於遮罩框架100。
遮罩板200之各者可形成典型之通用金屬遮罩(common metal mask，CMM)。遮罩板200b可形成典型之開放遮罩形狀，及可形成矩形形狀(見第2a圖及第2b圖)。在此情況中，各遮罩板200b之四個邊緣部份可分別地固定於左框架110、右框架120、上框架130、及下框架140。
遮罩框架100可以一材料形成，此材料具有較大於遮罩板200(200a、200b)之強度或剛性(rigidity)。遮罩框架100可以銦鋼(Invar)(鐵鎳合金)、不鏽鋼、或其之組合形成。
此處，於本揭露中將說明之「銦鋼」可為INVAR36，及「不鏽鋼」可為SUS430。
遮罩框架100可包括左框架110、右框架120、上框架130、及下框架140，及可整體形成正方形框架。
左框架110可形成以構成遮罩框架100之左側，可形成垂直(Y軸方向)長直線形狀，及可整個形成直線形狀。左框架110可在垂直方向(Y軸方向)中具有固定剖面，及可形成圓柱形狀(圓柱體形狀)、多邊形柱形狀、或類似者。此外，左框架110可形成圓管形狀、多邊形管形狀、或類似者，及左框架110之剖面可形成L字母形狀、U字母形狀、H字母形狀、或類似者。左框架110之剖面形狀可有效地及有利地使用，以增加框架的強度及減少框架的重量。
右框架120可構成遮罩框架100之右側，可形成垂直(Y軸方向)長形狀，及可整個形成直線形狀。右框架120可在垂直方向(Y軸方向)中具有固定剖面，及可形成圓柱、多邊形柱、或類似者。此外，右框架120可形成圓管形狀、多邊形管形狀等，或可形成L字母形狀、U字母形狀、H字母形狀、或類似者。右框架120之剖面形狀可有效地及有利地使用，以增加框架的強度及減少框架的重量。
左框架110及右框架120可平行於彼此配置，可在有關於形狀、尺寸、材料等彼此一致，及可彼此對稱地配置。
上框架130可連接左框架110之上端於右框架120之上端，及可固定於左框架110及右框架120。
上框架130可包括上直線框架131及上彎曲框架132。
上直線框架131可連接左框架110於右框架120，及可在水平方向(X軸方向)中形成直線形狀。上直線框架131可在水平方向(X軸方向)中具有固定剖面，及可形成圓柱形狀、多邊形柱形狀等。上直線框架131之剖面可形成L字母形狀、U字母形狀、或H字母形狀等。上直線框架131之剖面形狀可有效地及有利地使用，以在減少框架之重量時增加框架的強度。
上直線框架131可以與左框架110及右框架120之相同材料(也就是同質材料(homogeneous material))製成，可以鐵鎳合金、不鏽鋼、或其之組合製成，及可讓上框架130穩定地及穩固地耦接於左框架110及右框架120。
上彎曲框架132可與上直線框架131分離，使得上彎曲框架132及上直線框架131之間係形成一空間。上彎曲框架132可使用，以互連左框架110及右框架120，及可形成彎曲形狀而非直線形狀。特別是，上彎曲框架132可形成向上凸出彎曲形狀(也就是Y方向凸出彎曲形狀)。上彎曲框架132可形成，以在上彎曲框架之整個長度中具有固定的曲率，或可使曲率可在上彎曲框架之整個長度連續地改變之方式裝配。
上彎曲框架132之長度L2可長於上直線框架131之長度L1。
上彎曲框架132可在上彎曲框架之縱向方向中具有固定剖面，及可形成圓柱形狀、多邊形柱形狀等。上彎曲框架132之剖面可形成L字母形狀、U字母形狀、或H字母形狀等。上彎曲框架132之剖面形狀可有效率地及有利地使用，以在減少框架的重量時增加框架的強度。
上彎曲框架132可分類成設置於其中之內層132a及在環繞內層132時耦接於內層132a之外層132b。
用於使用於遮罩框架100中之上彎曲框架132可以與左框架110及右框架120之相同材料(也就是同質材料)製成。
此外，用於使用於遮罩框架100中的上彎曲框架132可以與左框架110及右框架120之不同材料(也就是異質材料(heterogeneous materials))製成。舉例來說，當左框架110及右框架120係以銦鋼(鐵鎳合金)、不鏽鋼、或其之組合製成時，上彎曲框架132可以鈦(titanium (Ti))製成。因此，上框架130之整個重量可減少，而上框架130之剛性(勁度(stiffness))可增加。
上彎曲框架132可銲接於左框架110及右框架120。
此外，當上彎曲框架132係分類成內層132a及外層132b時，內層132a可以與左框架110、右框架120、及上直線框架131之不同材料(異質材料)製成，以及外層132b可以與左框架110、右框架120、及上直線框架131之相同材料(同質材料)製成。
舉例來說，當左框架110及右框架120係以鐵鎳合金、不鏽鋼、或其之組合製成時，外層132b可以與左框架110及右框架120之相同材料(同質材料)製成，及內層132a可以鈦製成。
因此，上框架130之整個重量可減少及上框架130之剛性可增加，及上彎曲框架132可經由外層132b銲接於左框架110及右框架120，使得遮罩框架100之耦接可簡易地及穩定地維持。
上彎曲框架132可位於上直線框架131之下方(見第4a圖)、前方(見第4b圖)、後方(見第4c圖)、或上方(見第4d圖)。
下框架140可裝配以互連左框架110之下端及右框架120之下端，及可固定於左框架110及右框架120。
下框架140可僅包括相同於左框架110及右框架120之一個框架(見第1a圖)，或可包括相同於上框架130之兩個框架(見第1b圖)。
當下框架140僅包括一個框架時，下框架140可互連左框架110及右框架120，及可整個形成水平直線形狀。下框架140可在水平方向中具有固定剖面，及可形成圓柱形狀、多邊形圓柱形狀等。此外，下框架140之剖面可為L字母形狀、U字母形狀、或H字母形狀等。下框架140之剖面形狀可有效地及有利地使用，以在減少框架的重量時增加框架的強度。
下框架140可以與左框架110、右框架120、及上框架130之相同材料製成。
當下框架140係以兩個框架組成時，下框架140可包括下直線框架141及下彎曲框架142。
下直線框架141可裝配以互連左框架110及右框架120，及可整個形成水平直線形狀。下直線框架141可在下直線框架141之水平方向中具有固定剖面，及可形成圓柱形狀、多邊形圓柱形狀等。此外，下直線框架141之剖面可為L字母形狀、U字母形狀、或H字母形狀等。 下直線框架141之剖面形狀可有效地及有利地使用，以在減少框架的重量時增加框架的強度。
下直線框架141可以與上直線框架131之相同材料製成。
下彎曲框架142可與下直線框架141分離，可裝配以互連左框架110及右框架120，及可形成彎曲形狀而非相同於下直線框架141的直線形狀。特別是，下彎曲框架142可為向下凸出彎曲形狀。
下彎曲框架142之長度可長於下直線框架141之長度。
下彎曲框架142可在縱向方向中具有固定剖面，及可形成圓柱形狀(圓柱體形狀)、多邊形柱形狀、或類似者。此外，下彎曲框架142形成圓管形狀、多邊形管形狀、或類似者，及下彎曲框架142之剖面可形成L字母形狀、U字母形狀、H字母形狀、或類似者。下彎曲框架142之剖面形狀可有效率地及有利地使用，以增加框架的強度及減少框架的重量。
下彎曲框架142可位於下直線框架141之上方、下方、前方、或後方。
下彎曲框架142可在結構及材料上與上彎曲框架132相同。
根據本揭露之遮罩框架100可形成垂直及水平對稱形狀。因此，上框架130可在結構中對稱於下框架140。
當使用於遮罩組件1中之遮罩板200(200a、200b)耦接於遮罩框架100時，遮罩板200(200a、200b)在足夠緊繃(taut)狀態中耦接於遮罩框架100係有必要的。當遮罩板200(200a、200b)係耦接於遮罩框架100時，遮罩板200(200a、200b)可銲接於遮罩框架100，或可藉由固定裝置耦接於遮罩框架100。固定裝置例如是螺釘、鉚釘、或類似者。
當使用於遮罩組件1中之遮罩板200(200a、200b)係固定於上框架130時，遮罩板200(200a、200b)之上端可從上框架130中較佳地耦接於上彎曲框架132，而不耦接於上直線框架131。
此外，使用於遮罩組件1中之遮罩板200(200a、200b)之下端可固定於下框架140。
在遮罩板200(200a、200b)固定於遮罩組件1中之下框架140，及下框架140包括下直線框架141及下彎曲框架142之情況下，遮罩板200(200a、200b)之下端較佳地耦接於下彎曲框架142，而沒有耦接於下直線框架141。
在遮罩板200a的各者係形成垂直長條形狀，及遮罩板200a係於水平方向中反覆地配置之情況下，遮罩板200a之上端可固定地耦接於上彎曲框架132。
負載F1可能藉由遮罩板200a在特定位置提供於上彎曲框架132，特定位置對應於遮罩板200a之耦接位置，使得負載F1可在向下方向中提供至上彎曲框架132之整個長度。
當負載F1持續地提供至上彎曲框架132時，可考慮上彎曲框架132之變形的可能性。也就是說，如第3b圖中所示，相較於第3a圖中之結構，變形係發生，而在上直線框架131之中心及上彎曲框架132之中心之間的距離係增加。如上所述，當上彎曲框架132之變形發生時，遮罩框架100之變形及遮罩板200a之下垂可能亦發生。
然而，既然使用於根據本揭露之遮罩框架100中之上彎曲框架132係形成向上凸出彎曲形狀，及提供於上彎曲框架132之負載係在上彎曲框架132的縱向方向中傳遞，使得上彎曲框架132之特定部份(舉例為中心部份)之變形(區域變形)可避免。如此一來，遮罩框架100之整體變形及遮罩板200a的下垂可有效地避免。
同時，當在上彎曲框架132之整個長度於向下方向中供應負載F1時，在上彎曲框架132之縱向方向中可提供壓縮力，及上彎曲框架132可同時於上彎曲框架之縱向方向中推動左框架110及右框架120時提供負載F2至左框架110及右框架120之各者。也就是說，左框架110及右框架120可在同時移動離開彼此時面臨負載F2。
然而，既然上直線框架131在相鄰於上彎曲框架132的情況下連接左框架110於右框架120，拉力可在縱向方向中提供至上直線框架131，使得左框架110及右框架120係拉動，及負載F3係提供於左框架110及右框架120之各者。因此，左框架110及右框架120的變形可避免，及上彎曲框架132之變形可亦避免。如此一來，遮罩框架100之變形可有效地避免。
如上所述，當根據本揭露之遮罩框架100係形成垂直對稱形狀時，下框架140係以相同於上框架130之方式避免變形，及遮罩框架100的形狀可亦穩定地維持。
第7圖繪示根據本揭露再另一實施例之遮罩框架100之一些部件的前視圖。
在根據本揭露之遮罩框架100及遮罩組件1中，上框架130可更包括上直線輔助框架133。
也就是說，上框架130可包括上直線框架131、上彎曲框架132、及上直線輔助框架133。在此情況中，上直線框架131及上彎曲框架132可以相同於上述的方式裝配。
當遮罩板200(200a、200b)固定於根據本揭露之遮罩組件1中之上框架130時，遮罩板200(200a、200b)之上端可較佳地耦接於上框架130中的上彎曲框架132，及可較佳地不耦接於上直線框架131及上直線輔助框架133。
上直線輔助框架133可在水平方向(X軸方向)中形成直線形狀，可與上直線框架131及上彎曲框架132分離，及可位在相對於上彎曲框架132之相反於上直線框架131的位置。
上直線輔助框架133可連接左框架110於右框架120，及可在水平方向(X軸方向)中形成直線形狀。上直線輔助框架133可在水平方向(X軸方向)中具有固定剖面，及可形成圓柱形狀、多邊形柱形狀等。此外，上直線框架131可形成圓管形狀、多邊形管形狀等。上直線框架131之剖面可形成L字母形狀、U字母形狀、或H字母形狀等。上直線輔助框架133的剖面形狀可有效地及有利地使用，以在減少框架之重量時增加框架的強度。
上直線輔助框架133可以與左框架110及右框架120之相同材料(也就是同質材料)製成，可以鐵鎳合金、不鏽鋼、或其組合製成，及可讓上框架130穩定地及穩固地耦接於左框架110及右框架120。
既然上直線框架131及上直線輔助框架133在相鄰於上彎曲框架132的情況下連接左框架110至右框架120，張力可在縱向方向中提供於上直線框架131及上直線輔助框架133。因此，左框架110及右框架120之變形可避免，及上彎曲框架132之變形可亦避免，使得遮罩框架100的變形可更有效地避免。
第8圖繪示根據本揭露之再另一實施例之遮罩組件1的一些部件的透視圖。第9a及9b圖繪示根據本揭露之再另一實施例之遮罩組件1的一些部份的剖面圖。
參照第8及9a及9b圖，遮罩框架100及遮罩組件1可更包括固定螺絲300a及300b。
固定螺絲300a及300b之各者可形成為典型的螺釘、或類似者。
在根據本揭露之遮罩框架100及遮罩組件1中，裝配以執行遮罩板200(200a、200b)之固定耦接的固定螺絲300a及300b 可在縱向方向中反覆地形成於上彎曲框架132中。
固定螺絲300a可通過各遮罩板200(200a、200b)之第一鎖固孔220，及可耦接於遮罩框架100(特別是上彎曲框架132)之第二鎖固孔135，使得遮罩板200(200a、200b)可經由固定螺絲300a固定於遮罩框架100。
另一方面，根據本揭露之遮罩框架100及遮罩組件1更包括固定螺絲300b及連接托架400。
在此情況中，固定螺絲300b可形成典型的螺釘形狀或類似者。
連接托架400可固定於遮罩板200(200a)之端部。連接托架400與固定螺絲300b可居間促成(mediate)遮罩框架100(特別是上彎曲框架132)及遮罩板200(200a)之間的耦接。
連接托架400可在上彎曲框架132之縱向方向中具有固定剖面。特別是，連接托架400之剖面可形成U字母形狀，及連接托架400可以可容納上彎曲框架132及上彎曲框架132可插入連接托架400中的方式製造。
連接托架400之固定單元410可形成平面板材形狀，及可固定於遮罩板200(200a)之端部。連接托架400之固定單元410及遮罩板200(200a)可藉由焊接或類似者彼此固定。連接托架400之固定單元410可相對於前後方向(也就是Z軸方向)插入於上彎曲框架132及遮罩板200(200a)之間，使得固定單元410可緊密地貼附於上彎曲框架132。
連接托架400的彎曲單元420可相對於固定單元410的位置彎曲成直角。
固定螺絲300b可通過連接托架400的彎曲單元420，及可螺旋耦接於上彎曲框架132。
固定螺絲300b及上彎曲框架132之間的螺旋耦接的程度可調整，使得耦接狀態可從第9a圖之耦接狀態轉換至第9b圖中的耦接狀態。也就是說，遮罩板200(200a)之上端可相對於上彎曲框架132的位置在向上方向(Y軸方向)中為可移動的，使得遮罩板200(200a)可在長度足夠地延伸下固定於遮罩框架100，藉此 可補償遮罩板200(200a)的下垂。
根據本揭露之遮罩框架100及遮罩組件1可形成垂直對稱形狀，及上述之固定螺絲300a及300b及連接托架可亦形成垂直對稱形狀，而沒有脫離本揭露之範疇或精神。
如上所述，根據本揭露之遮罩框架100及遮罩組件1可避免遮罩框架100的變形，及可亦避免遮罩板200(200a、200b)之下垂。如此一來，當遮罩組件1的位置從水平狀態切換至垂直狀態時，遮罩框架100的變形可避免。
在前文中，在本揭露之特定實施例係已經針對說明之目的解說的情況下，本揭露之範疇或精神係不以此為限，本技術領域中具有通常知識者將理解，數種改變及調整可在不脫離本揭露之精神及範疇下應用於其他實施例。因此，本揭露之範疇係受限於揭露之實施例，但應由申請專利範圍中所提供的技術理念決定。雖然本揭露已經參照實施例說明，本技術領域中具有通常知識者可完成數種改變或調整。因此，將理解的是，此些改變及調整係在本發明之範疇中。根據本揭露的技術精神或展望，不應單獨地理解此些調整。綜上所述，雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明。本發明所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾。因此，本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
1:遮罩組件 100:遮罩框架 110:左框架 120:右框架 130:上框架 131:上直線框架 132:上彎曲框架 132a:內層 132b:外層 133:上直線輔助框架 135:第二鎖固孔 140:下框架 141:下直線框架 142:下彎曲框架 200、200a、200b:遮罩板 210:通孔 220:第一鎖固孔 300a、300b:固定螺絲 400:連接托架 410:固定單元 420:彎曲單元 L1、L2:長度 F1、F2、F3:負載
當結合所附之圖式閱讀時，本發明之前述及其它目的、特徵、及優點，以及實施例之下方詳細說明將較佳地理解。針對說明本發明之目的，目前較佳之範例實施例係繪示於圖式中，然而，將理解的是，本發明係不意欲受限於所繪示的細節，因為數種調整及結構改變可在不脫離本發明之精神下於其中達成，及含括在申請專利範圍之等效範圍中。在不同圖式中之相同的參考編號或符號之使用係表示類似或相同的項目。 第1a及1b圖繪示本揭露之兩個實施例之遮罩組件及遮罩框架的前視圖。 第2a及2b圖繪示本揭露之兩個其他實施例之遮罩組件及遮罩框架的前視圖。 第3a及3b圖繪示於第1a及1b圖中之遮罩框架之一些部件及供應於其之負載的示意圖。 第4a-4d圖繪示根據本揭露之再其他實施例之遮罩框架之一些部件的透視圖。 第5a-5g及6a及6b圖繪示根據本揭露一實施例之遮罩框架之數種剖面形狀的示意圖。 第7圖繪示根據本揭露之再另一實施例之遮罩框架的一些部份的前視圖。 第8圖繪示根據本揭露之再另一實施例之遮罩組件的一些部件的透視圖。 第9a及9b圖繪示根據本揭露之再另一實施例之遮罩組件之一些部件的剖面圖。
1:遮罩組件
100:遮罩框架
110:左框架
120:右框架
130:上框架
131:上直線框架
132:上彎曲框架
140:下框架
200a:遮罩板
210:通孔

Claims (20)

  1. 一種遮罩框架，裝配以固定一遮罩板於其，該遮罩框架包括： 一左框架，設置於一左側上； 一右框架，設置於一右側上； 一上框架，連接該左框架之一上端部及該右框架之一上端部彼此；以及 一下框架，連接該左框架之一下端部及該右框架之一下端部彼此； 其中該上框架包括： 一上直線框架，在一水平方向中具有一線性形狀；以及 一上彎曲框架，與該上直線框架分離，該上彎曲框架具有一兩側對稱形狀及向上凸出彎曲，及該遮罩板耦接於該上彎曲框架。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之遮罩框架，其中該上彎曲框架係位於該上直線框架之上方、下方、前方、或後方。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之遮罩框架，其中該上框架更包括： 一上直線次框架，在與該上直線框架及該上彎曲框架分離時沿著該水平方向形成一線性形狀，及相對於該上彎曲框架位在相反於該上直線框架的位置。
  4. 如申請專利範圍第1或2項所述之遮罩框架，其中該上彎曲框架係形成一圓形管或一多邊形管的一形狀，沿著該上彎曲框架之一縱向方向具有一固定截面，或具有一字母「L」、一字母「U」、及一字母「H」之任一者的一剖面形狀。
  5. 如申請專利範圍第3項所述之遮罩框架，其中該上彎曲框架係形成一圓形管或一多邊形管的一形狀，沿著該上彎曲框架之一縱向方向具有一固定截面，或具有一字母「L」、一字母「U」、及一字母「H」之任一者的一剖面形狀。
  6. 如申請專利範圍第1或2項所述之遮罩框架，其中該上彎曲框架係以不同於該左框架、該右框架、及該上直線框架之材料的鈦製成； 其中該左框架、該右框架、及該上直線框架係以一實質上相同材料製成，選自一鐵鎳合金、一不鏽鋼、或包括該鐵鎳合金或該不鏽鋼的一材料。
  7. 如申請專利範圍第3項所述之遮罩框架，其中該上彎曲框架係以不同於該左框架、該右框架、及該上直線框架之材料的鈦製成； 其中該左框架、該右框架、及該上直線框架係以一實質上相同材料製成，選自一鐵鎳合金、一不鏽鋼、或包括該鐵鎳合金或該不鏽鋼的一材料。
  8. 如申請專利範圍第1或2項所述之遮罩框架，其中該上彎曲框架包括位於其中之一內層，及包圍該內層及耦接於該內層之一外層； 其中該內層係以不同於該左框架、該右框架、及該上直線框架之材料的一材料所製成；以及 其中該外層係以為該左框架、該右框架、及該上直線框架之一實質上相同材料的一材料製成。
  9. 如申請專利範圍第3項所述之遮罩框架，其中該上彎曲框架包括位於其中之一內層，及包圍該內層及耦接於該內層之一外層； 其中該內層係以不同於該左框架、該右框架、及該上直線框架之材料的一材料所製成；以及 其中該外層係以為該左框架、該右框架、及該上直線框架之一實質上相同材料的一材料製成。
  10. 如申請專利範圍第1或2項所述之遮罩框架，其中該上彎曲框架具有複數個固定螺絲，沿著該上彎曲框架之一縱向方向反覆地設置，以固定該遮罩板於該上彎曲框架。
  11. 如申請專利範圍第3項所述之遮罩框架，其中該上彎曲框架具有複數個固定螺絲，沿著該上彎曲框架之一縱向方向反覆地設置，以固定該遮罩板於該上彎曲框架。
  12. 如申請專利範圍第1或2項所述之遮罩框架，其中該遮罩框架具有一兩側及垂直對稱形狀。
  13. 如申請專利範圍第3項所述之遮罩框架，其中該遮罩框架具有一兩側及垂直對稱形狀。
  14. 一種遮罩組件，包括： 複數個遮罩板，配置於一水平方向中；以及 一遮罩框架，裝配以固定該些遮罩板於該遮罩框架，該遮罩框架包括一左框架、一右框架、一上框架、及一下框架，該左框架設置於一左側上，該右框架設置於一右側上，該上框架在耦接於該些遮罩板之一上側時連接該左框架之一上端部於該右框架之一上端部，該下框架在耦接於該些遮罩板之一下側時連接該左框架之一下端部於該右框架之一下端部； 其中該上框架包括： 一上直線框架，在該水平方向中具有一線性形狀；以及 一上彎曲框架，耦接於該些遮罩板，與該上直線框架分離，及在具有一兩側對稱形狀時向上凸出彎曲； 其中該些遮罩板耦接於該上彎曲框架。
  15. 如申請專利範圍第14項所述之遮罩組件，其中該上彎曲框架係位於該上直線框架之上方、下方、前方、或後方； 其中該上框架更包括一上直線次框架，在與該上直線框架及該上彎曲框架分離時沿著該水平方向形成一線性形狀，及相對於該上彎曲框架位在相反於該上直線框架的位置。
  16. 如申請專利範圍第14項所述之遮罩組件，其中該上彎曲框架係形成一圓形管或一多邊形管的一形狀，沿著該上彎曲框架之一縱向方向具有一固定截面，或具有一字母「L」、一字母「U」、及一字母「H」之任一者的一剖面形狀。
  17. 如申請專利範圍第15項所述之遮罩組件，其中該上彎曲框架係形成一圓形管或一多邊形管的一形狀，沿著該上彎曲框架之一縱向方向具有一固定截面，或具有一字母「L」、一字母「U」、及一字母「H」之任一者的一剖面形狀。
  18. 如申請專利範圍第14項所述之遮罩組件，其中該上彎曲框架係以不同於該左框架、該右框架、及該上直線框架之材料的鈦製成； 其中該左框架、該右框架、及該上直線框架係以一實質上相同材料製成，選自一鐵鎳合金、一不鏽鋼、或包括該鐵鎳合金或該不鏽鋼的一材料。
  19. 如申請專利範圍第15項所述之遮罩組件，其中該上彎曲框架係以不同於該左框架、該右框架、及該上直線框架之材料的鈦製成； 其中該左框架、該右框架、及該上直線框架係以一實質上相同材料製成，選自一鐵鎳合金、一不鏽鋼、或包括該鐵鎳合金或該不鏽鋼的一材料。
  20. 如申請專利範圍第16項所述之遮罩組件，其中該上彎曲框架係以不同於該左框架、該右框架、及該上直線框架之材料的鈦製成； 其中該左框架、該右框架、及該上直線框架係以一實質上相同材料製成，選自一鐵鎳合金、一不鏽鋼、或包括該鐵鎳合金或該不鏽鋼的一材料。
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