TW202014750A - 光次模組及光次模組的帽蓋 - Google Patents

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Abstract

一種光次模組及光次模組的帽蓋，帽蓋的兩端分別定義為光源端及連接端，帽蓋包含：容置槽、縱向槽、透鏡結構及至少一凸柱結構。容置槽由光源端向內凹設形成。縱向槽由連接端向內凹設形成。透鏡結構與帽蓋一體成型地設置，透鏡結構位於容置槽與縱向槽之間，而透鏡結構阻擋容置槽與縱向槽彼此間的連通。至少一凸柱結構，各個凸柱結構與形成容置槽的側壁相連接。

Description

光次模組及光次模組的帽蓋
本發明涉及一種光通訊元件，特別是一種光次模組(Optical Sub-Assembly)及光次模組的帽蓋。
如圖1至圖3所示，其顯示為習知的光次模組(Optical Sub-Assembly)的分解示意圖。光次模組1具有一蓋體10、一透鏡座11及一發光組件12。蓋體10內部具有一貫穿槽101，透鏡座11的一側內凹形成有一凹槽111，透鏡座11相反於具有凹槽111的一側設置有一玻璃透鏡13。發光組件12具有一發光單元121。
上述透鏡座11一般為金屬材質，玻璃透鏡13固定於透鏡座11的方式為：將高溫液態的玻璃，以自然滴落的方式，滴落在透鏡座11一側的穿孔，據以形成圖1中所示的玻璃透鏡13。
上述光次模組1的組裝方式為：先將具有玻璃透鏡13的透鏡座11固定設置於發光組件12具有發光單元121的一側，而使所述發光單元121對應位於所述凹槽111中；而後，在將透鏡座11及發光組件12固定設置於蓋體10的一側。
如圖2所示，其顯示為習知的光次模組1的組裝剖面示意圖。習知的光次模組1在生產過程中，可能因為各種原因，而發生玻璃透鏡13未正確地位於透鏡座11的中心軸線C2的問題。但，在組裝過程中，玻璃透鏡13的中心軸線必須大致與貫穿槽101的中心軸線C1重疊，才可使通過玻璃透鏡13的光束能正確地由蓋體10的一側射出。是以，相關廠商為了使玻璃透鏡13的中心軸線與 貫穿槽101的中心軸線C1重疊，僅能透過調整透鏡座11與蓋體10之間的UV膠14的體積。
如圖3所示，上述光次模組1在實際生產過程中，縱使玻璃透鏡13的中心軸線位於透鏡座11的中心軸線上，但，仍可能發生相關廠商為了使發光單元121位於玻璃透鏡13的中心軸線(即，貫穿槽101的中心軸線C1)上，而必須使透鏡座11與發光組件12錯位設置(如圖3所標示的W位置)，為此，相關廠商在將彼此錯位設置的透鏡座11及發光組件12固定於蓋體10的過程中，為了使玻璃透鏡13的中心軸線與貫穿槽101的中心軸線C1重疊，則必須透過調整透鏡座11與蓋體10之間的UV膠14的體積。
依上所示，現有的光次模組1於生產過程中，無論是發生：玻璃透鏡13未設置於透鏡座11上的預期位置，或是，透鏡座11與發光組件12彼此錯位設置等問題時，皆必須透過調整透鏡座11與蓋體10之間的UV膠14的體積，來達到使玻璃透鏡13的中心軸線與貫穿槽101的中心軸線重疊，且發光單元121位於貫穿槽101的中心軸線上的目的。
然，如圖1所示，透鏡座11及蓋體10皆為圓柱狀，且利用UV膠14將透鏡座11與蓋體10時，UV膠14是呈現為液態，因此，於生產過程中相關廠商很難精準地控制UV膠14的量，而達到如圖2或圖3所示的狀態。換言之，現有的光次模組1，在發生上述該等問題時，其生產良率將很難控制，而具有生產良率偏低的問題。
緣此，本發明人乃潛心研究並配合學理的運用，而提出一種設計合理且有效改善上述問題的本發明。
本發明的主要目的在於提供一種光次模組及光次模組的帽蓋，用以改善現有技術中，光次模組在生產過程中，若玻璃透鏡、蓋體或發光組件具有生產誤差，而導致玻璃透鏡與透鏡座彼此間 未以預定的方式相互固定，或透鏡座與發光組件彼此間未以預定的方式相互固定時，光次模組的生產良率將明顯低落的問題；另外，現有的光次模組必須進行至少兩次的對位作業，其一為透鏡座與發光組件的對位作業，其二為透鏡座與蓋體的對位作業，因此，具有組裝時間長，生產效能低的問題。
為了實現上述目的，本發明提供一種光次模組，其包含：一帽蓋及一光源模組。帽蓋的兩端分別定義為一光源端及一連接端，帽蓋包含：一容置槽、一縱向槽、一透鏡結構、至少一凸柱結構。容置槽由光源端向內凹設形成。縱向槽由連接端向內凹設形成。透鏡結構與帽蓋一體成型地設置，透鏡結構位於容置槽與縱向槽之間，而透鏡結構阻擋容置槽與縱向槽彼此間的連通。各個凸柱結構與形成容置槽的側壁相連接。光源模組包含：一發光組件、一基座及多個接腳。發光組件包含有一發光單元。基座的一側內凹形成有一凹槽，發光組件固定設置於基座中，且發光組件位於凹槽中。多個接腳分別與發光組件電性連接，且多個接腳與發光組件電性連接。其中，基座設置於容置槽中，且多個凸柱結構對應抵頂基座的外圍，而使基座固定設置於帽蓋的光源端。其中，發光組件所發出的光束，能對應進入透鏡結構，而通過縱向槽後，由帽蓋的連接端向外射出。
為了實現上述目的，本發明還提供一種光次模組的帽蓋，其兩端分別定義為一光源端及一連接端，帽蓋包含：一容置槽、一縱向槽、一透鏡結構及至少一凸柱結構。容置槽由光源端向內凹設形成。縱向槽由連接端向內凹設形成。透鏡結構與帽蓋一體成型地設置，透鏡結構位於容置槽與縱向槽之間，而透鏡結構阻擋容置槽與縱向槽彼此間的連通。各個凸柱結構與形成容置槽的側壁相連接。
本發明的有益效果可以在於：本發明的光次模組及光次模組的帽蓋，於帽蓋的內部具有一體成形的透鏡結構，因此，相關人 員在進行光次模組的組裝時，僅需進行帽蓋與發光組件的對位作業，因此，本發明的光次模組及光次模組的帽蓋相較於上述現有的光次模組，具有相對較短的組裝時間，而具有較佳的生產效率。
為使能更進一步瞭解本發明的特徵及技術內容，請參閱以下有關本發明的詳細說明與附圖，然而所附圖式僅提供參考與說明用，並非用來對本發明加以限制者。
2‧‧‧光次模組
20‧‧‧帽蓋
20a‧‧‧光源端
20b‧‧‧連接端
201‧‧‧容置槽
2011‧‧‧第一容槽
20111‧‧‧內側壁
20112‧‧‧底壁
2012‧‧‧第二容槽
20121‧‧‧內側壁
20122‧‧‧底壁
2013‧‧‧第三容槽
202‧‧‧縱向槽
203‧‧‧凸柱結構
204‧‧‧透鏡結構
2041‧‧‧出光面
2042‧‧‧入光面
205‧‧‧限位結構
2051‧‧‧側邊部
206‧‧‧外凹槽
21‧‧‧光源模組
21a‧‧‧凹槽
211‧‧‧基座
2111‧‧‧環狀壁
2112‧‧‧底板
212‧‧‧發光單元
213‧‧‧接腳
22‧‧‧抗電磁結構
SP‧‧‧容置空間
Q‧‧‧容膠空間
OA‧‧‧光軸
R1‧‧‧內徑
R2‧‧‧外徑
R3‧‧‧內徑
R4‧‧‧內徑
R5‧‧‧外徑
D1‧‧‧長度
D2‧‧‧長度
習知技術：
1‧‧‧光次模組
10‧‧‧蓋體
101‧‧‧貫穿槽
11‧‧‧透鏡座
111‧‧‧凹槽
12‧‧‧發光組件
121‧‧‧發光單元
13‧‧‧玻璃透鏡
14‧‧‧UV膠
C1‧‧‧中心軸線
C2‧‧‧中心軸線
圖1為習知的光次模組的分解示意圖。
圖2為習知的光次模組的組裝剖面示意圖。
圖3為習知的光次模組的另一組裝剖面示意圖。
圖4為本發明的光次模組的組裝示意圖。
圖5為本發明的光次模組的另一視角的組裝示意圖。
圖6為本發明的光次模組的分解示意圖。
圖7為本發明的光次模組的分解剖面示意圖。
圖8為本發明的光次模組的帽蓋的示意圖。
圖9為本發明的光次模組的帽蓋的俯視圖。
圖10為本發明的光次模組的組裝剖面示意圖。
圖11為本發明的光次模組的局部剖面示意圖。
圖12為圖11的局部放大示意圖。
圖13為本發明的光次模組的另一組裝態樣的局部剖面示意圖。
圖14為圖13的局部放大示意圖。
圖15為本發明的光次模組的另一實施例的示意圖；圖15亦為本發明的光次模組的帽蓋的另一實施例的示意圖。
以下係藉由特定的具體實例說明本發明之光次模組及光次模組的帽蓋的實施方式，於以下說明中，如有指出請參閱特定圖式或是如特定圖式所示，其僅是用以強調於後續說明中，所述及的相關內容大部份出現於該特定圖式中，但不限制該後續說明中僅 可參考所述特定圖式。
請一併參閱圖4至圖7，其為本發明的光次模組的示意圖。如圖所示，光次模組2包含一帽蓋20及一光源模組21。帽蓋20固定設置於光源模組21的一側。光源模組21具有一基座211及一發光組件及多個接腳213。
如圖7至圖9所示，其顯示為本發明的光次模組2的帽蓋20的示意圖。帽蓋20彼此相反的兩端分別定義為一光源端20a及一連接端20b。帽蓋20內具有一容置槽201、一縱向槽202、四個凸柱結構203及一透鏡結構204。
容置槽201由光源端20a向內凹設形成。在具體的應用中，容置槽201可以區隔有一第一容槽2011、一第二容槽2012及一第三容槽2013。第一容槽2011鄰近於連接端20b設置，第二容槽2012鄰近於光源端20a設置，且第二容槽2012位於第一容槽2011及第三容槽2013之間。亦即，容置槽201由連接端20b至光源端20a依序區隔為第一容槽2011、第二容槽2012及第三容槽2013。
如圖7及圖9所示，第一容槽2011的內徑R1大致等於基座211的環狀壁2111的外徑R2，第二容槽2012的內徑R3大於第一容槽2011的內徑R1，且第三容槽2013的內徑R4大於第二容槽2012的內徑R3。關於第二容槽2012的內徑R3與第一容槽2011的內徑R1的差值，及第三容槽2013的內徑R4與第二容槽2012的內徑R3的差值，可以是依據需求設計，於此不加以限制。第一容槽2011的外型及容積是依據基座211的外型設計。第二容槽2012及第三容槽2013的外型及容積可以是依據需求設計，於此不加以限制。
特別說明的是，於本實施例圖式中，是以容置槽201可區隔有第一容槽2011、第二容槽2012及第三容槽2013為例，但容置槽201也可以是僅具有第一容槽2011，或者，容置槽201可以僅區隔有第一容槽2011及第二容槽2012，於此不加以限制。
縱向槽202由連接端20b向內凹設形成。縱向槽202的外型可以是圓柱狀。縱向槽202的深度及外型可以是依據需求設計。透鏡結構204與帽蓋20一體成型地設置，且透鏡結構204位於容置槽201與縱向槽202之間，而透鏡結構204阻擋容置槽201與縱向槽202彼此間的連通。
如圖7所示，透鏡結構204於縱向槽202的一側具有一出光面2041，於容置槽201於容置槽201的一側具有一入光面2042出光面2041及入光面2042皆可以是依據需求設計，舉例來說，出光面2041及入光面2042可可以是多次曲面。所述透鏡結構204是指能讓發光單元212所發出的光束通過的結構，且透鏡結構204具有集中所述發光單元212所發出的光束的效果，亦即，透鏡結構204可以達到類似於凸透鏡的效果。
如圖8及圖9所示，四個凸柱結構203分別與形成容置槽201的內側壁20111相連接，亦即，四個凸柱結構203是由形成容置槽201的內側壁20111向容置槽201的內部方向延伸形成。四個凸柱結構203彼此間隔地設置，而其中兩個凸柱結構203是彼此相面對地設置，另外兩個凸柱結構203也是彼此相面對地設置。於本實施例中，是以帽蓋20內部具有四個凸柱結構203為例，但於具體應用中，帽蓋20所具有的凸柱結構203的數量，及多個凸柱結構203相對於容置槽201的成型位置，皆可以是依據需求變化。需說明的是，在帽蓋20具有三個凸柱結構203的實施例中，相關人員或是機械在將基座211固定於帽蓋20的容置槽201的過程中，必須特別注意基座211相對於帽蓋20於圖4所示的X-Y平面中，是否有歪斜的問題；相對地，在帽蓋20具有四個凸柱結構203的實施例中，基座211固定設置於帽蓋20中將不易發生上述歪斜的問題。
如圖8所示，在實際應用中，帽蓋20還可以是具有四個限位結構205，各個限位結構205位於容置槽201中，且各個限位結構 205鄰近光源端20a設置。各個限位結構205可以是由形成第二容槽2012的內側壁20121向容置槽201的內部方向延伸形成，且四個限位結構205彼此間隔地設置。各個限位結構205可以是三角柱狀結構，且各個限位結構205的側邊部2051可以是位於第一容槽2011朝向光源端20a的方向的正投影面積中，且各個限位結構205的側邊部2051可以是向第一容槽2011的方向延伸形成為凸柱結構203；亦即，各個限位結構205的一側邊部2051能用來抵頂於基座211的外圍。在不同的實施例中，帽蓋20也可以是不具有限位結構205；另外，限位結構205的外型及其數量亦可依據需求變化，不以圖中所示為限。
如圖6及圖7所示，光源模組21包含前述基座211、一發光組件及多個接腳213。基座211的一側內凹形成有凹槽21a。基座211具有一環狀壁2111及一底板2112，環狀壁2111固定設置於底板2112的一側，而環狀壁2111與底板2112共同形成所述凹槽21a。其中，底板2112的外徑R5是大於環狀壁2111的外徑R2，環狀壁2111的外徑R2大於第一容槽2011的內徑R1(如圖9所示)，且環狀壁2111的外徑R2小於第二容槽2012的內徑R3(如圖9所示)。當然，在不同的實施例中，底板2112的外徑R5也可以是等於環狀壁2111的外徑R2。
發光組件可以包含有發光單元212、驅動零件、控制器等構件，該些構件則固定設置於基座211的底板2112，且該些構件對應位於凹槽21a中。關於發光單元212的種類、外型、所能發出的光束的波長等可以是依據實際需求選擇，於此不加以限制。
多個接腳213的一端固定設置於基座211，且多個接腳213的一端與發光組件電性連接，而多個接腳213能與外部電子裝置電性連接，以提供發光單元212所需的電力，及傳遞相關的控制訊號至發光組件的控制器，以控制所述發光單元212。
如圖10所示，帽蓋20與光源模組21相互固定時，基座211 的環狀壁2111是對應設置於第一容槽2011中，且四個凸柱結構203將對應抵頂基座211的環狀壁2111的外圍，據以使基座211固定設置於第一容槽2011中。基座211的凹槽21a與形成第一容槽2011的側壁將共同形成有一容置空間SP，而發光單元212則是對應位於容置空間SP中，且發光單元212是對應位於透鏡結構204的光軸OA上，而發光組件所發出的光束，將可對應進入透鏡結構204，而通過縱向槽202後，由帽蓋20的連接端20b向外射出。
如圖8、圖10及圖15所示，環狀壁2111固定設置於第一容槽2011中時，基座211的底板2112是對應抵靠於各個限位結構205面對光源端20a的一側，而基座211相對於帽蓋20的位置，將被底板2112與多個限位結構205所限制。於本實施例圖10中，是以環狀壁2111未抵靠於形成第一容槽2011的底壁20112為例，但不以此為限。如圖15所示，基座211固定設置於帽蓋20的一端時，底板2112、環狀壁2111及第二容槽2012的底壁20122將共同形成有一容膠空間Q，所述容膠空間Q將可用來填充膠體，以輔助基座211與帽蓋20之間的連接強度。
上述光次模組的具體生產方式可以是(於以下說明中所述及的構件之詳細說明，請參閱上開說明)：一試產階段，其包含：一帽蓋生產步驟：利用一模具，生產出上述帽蓋；一發光組件生產步驟：先後生產上述基座、上述發光組件及上述多個接腳，並將上述基座、上述發光組件及多個接腳組裝成為發光組件；一安裝步驟：將上述兩步驟所生產出的帽蓋及發光組件相互組裝，以形成光次模組； 一檢測步驟：對上述安裝步驟所組裝完成的光次模組進行相關檢測作業，以確認發光單元是否正確地位於透鏡結構的光軸上。
於上述檢測步驟後，若確認發光單元是正確地位於透鏡結構的光軸上，則續行一量產步驟，反之，則執行以下步驟：一修模步驟：依據上述檢測步驟的結果，對所述模具進行修改，以改變多個凸柱結構凸出於容置槽的長度；在執行上述修模步驟後，將以修改後的模具進行上述帽蓋成型步驟，並再續行上述安裝步驟及上述檢測步驟；若已修改後的模具所生產出的光次模組，經上述試產階段的檢測步驟，而確認發光單元是正確地位於透鏡結構的光軸上，則續行所述量產步驟。
所述量產步驟即為重複執行上述帽蓋生產步驟(以已經通過所述試產階段的檢測步驟的所述模具進行生產)、上述發光組件生產步驟、上述安裝步驟及上述檢測步驟，以進行光次模組的大量生產作業。
透過上述光次模組的產生方式，將可使量產步驟所生產出的光次模組具有高良率，亦即，通過量產步驟所生產出的大部分光次模組，其發光單元、透鏡結構及縱向槽會是位於同一軸線上。
請一併參閱圖7、圖9、圖11及圖12，圖11顯示為本發明的光次模組2由圖4所示的剖面線XI剖開的剖面示意圖；圖12為圖11的局部放大示意圖。如圖所示，各個凸柱結構203由第一容槽2011向容置槽201內部方向延伸的長度D1，可以是第一容槽2011的生產誤差或是基座211的生產誤差值。由於第一容槽2011的內徑R1是大致與基座211的環狀壁2111的外徑R2相同，且各個凸柱結構203是由形成第一容槽2011的內側壁20111(如圖8所示)向容置槽201的內部方向延伸形成，因此，相關生產人員可以 是在試產階段，依據實際生產出的基座211的環狀壁2111的外徑R2及第一容槽2011的內徑R1，決定各個凸柱結構203朝向容置槽201內部方向所延伸的長度D1，據以透過改變生產帽蓋20的模具，以改變後續量產步驟時，各個凸柱結構203朝向容置槽201內部方向所延伸的長度D1。
在上述試產階段中，若帽蓋20的第一容槽2011的內徑R1及基座211的環狀壁2111的外徑R2皆符合預期的尺寸時，相關人員將可直接進行上述量產步驟，在此種實施例中，基座211固定設置於第一容槽2011中時，四個凸柱結構203將對應抵頂基座211的環狀壁2111的外側；也就是說，在試產階段中所生產出的光次模組2，是通過上述試產階段的檢測步驟，而光次模組2的發光單元212是正確地位於透鏡結構204的光軸上。
特別說明的是，在上述試產階段的帽蓋生產步驟中，所生產出的帽蓋20，其第一容槽2011的內徑是與基座211的外徑大致相同，且四個凸柱結構203是分別由形成第一容槽2011的內側壁20111(如圖8所示)向容置槽201的內部方向延伸。因此，在試產階段的安裝步驟中，當帽蓋20的第一容槽2011的內徑R1及基座211的環狀壁2111的外徑R2皆符合預期的尺寸時，基座211固定設置於第一容槽2011中時，基座211與四個凸柱結構203將呈現為緊配合的狀態。值得一提的是，在實際應用中，可以是透過改變環狀壁2111的厚度，以使環狀壁2111在被四個凸柱結構203抵頂而基座211與帽蓋20呈現為緊配合的狀態時，環狀壁2111可以微幅地變形。
請一併參閱圖13及圖14，圖13顯示為本發明的光次模組2的另一實施例的剖面示意圖(同樣是由圖4所示的剖面線XI的位置剖開)；圖14為圖13的局部放大示意圖。呈上所述，若在試產階段所生產出的光次模組2，相關人員或是機械在進行試產階段的檢測步驟時，發現發光單元212未正確地位於透鏡結構204的光 軸，則相關人員可以是透過修改試產階段中用以生產帽蓋20的所述模具，以改變模具中用以成型四個凸柱結構203的相關結構。
在利用修改後的所述模具所生產出的光次模組2，四個凸柱結構203由第一容槽2011向容置槽201內部方向延伸的長度D2將會有所不同，而透過至少兩種以上不同長度的凸柱結構203，將可使發光單元212正確地位於透鏡結構204的光軸上。更詳細來說，位於圖13中左側的凸柱結構由第一容槽2011向容置槽201內部方向延伸的長度D2，是大於位於圖13中又側的凸柱結構由第一容槽2011向容置槽201內部方向延伸的長度(圖未示)。
依上所述，依據試產階段的狀況不同，在上述量產步驟中，可能為了使發光單元位於透鏡結構的光軸上，而於量產步驟中，將帽蓋原本所具有的四個凸柱結構，修改為三個凸柱結構。
請參閱圖15所示，其顯示為本發明的光次模組2的另一實施例的示意圖。如圖所示，本實施例與前述實施例最大不同之處在於：帽蓋20還可以是具有一外凹槽206，所述外凹槽206是由帽蓋20的外圍向內凹設形成。所述外凹槽206中設置有一抗電磁結構22。在具體的應用中，抗電磁結構22是對應環繞透鏡結構204設置，且抗電磁結構22可以是於帽蓋20成型後，再透過相關的成型方式，形成於所述外凹槽206中，但不以此為限。透過上述抗電磁結構22的設置，將可大幅降低光次模組2在被供電而運作時，受外部電磁干擾的機率。
以上所述僅為本發明的較佳可行實施例，非因此侷限本發明的專利範圍，故舉凡運用本發明說明書及圖式內容所做的等效技術變化，均包含於本發明的保護範圍內。
2‧‧‧光次模組
20‧‧‧帽蓋
20b‧‧‧連接端
201‧‧‧容置槽
2011‧‧‧第一容槽
20112‧‧‧第一底壁
2012‧‧‧第二容槽
2013‧‧‧第三容槽
202‧‧‧縱向槽
203‧‧‧凸柱結構
204‧‧‧透鏡結構
2041‧‧‧出光面
2042‧‧‧入光面
21‧‧‧光源模組
211‧‧‧基座
2111‧‧‧環狀壁
2112‧‧‧底板
212‧‧‧發光單元
213‧‧‧接腳
OA‧‧‧光軸

Claims (10)

  1. 一種光次模組，其包含：一帽蓋，其兩端分別定義為一光源端及一連接端，所述帽蓋包含：一容置槽，其由所述光源端向內凹設形成；一縱向槽，其由所述連接端向內凹設形成；一透鏡結構，其與所述帽蓋一體成型地設置，所述透鏡結構位於所述容置槽與所述縱向槽之間，而所述透鏡結構阻擋所述容置槽與所述縱向槽彼此間的連通；及至少一凸柱結構，各個所述凸柱結構與形成所述容置槽的側壁相連接；以及一光源模組，其包含：一發光組件，其具有一發光單元，所述發光單元能發出預定波長的光束；一基座，其一側內凹形成有一凹槽，所述發光組件固定設置於所述基座中，且所述發光組件位於所述凹槽中；及多個接腳，其分別與所述發光組件電性連接，且多個所述接腳與所述發光組件電性連接；其中，所述基座設置於所述容置槽中，且多個所述凸柱結構對應抵頂所述基座的外圍，而使所述基座固定設置於所述帽蓋的所述光源端；其中，所述發光組件所發出的光束，能對應進入所述透鏡結構，而通過所述縱向槽後，由所述帽蓋的所述連接端向外射出。
  2. 如請求項1所述的光次模組，其中，所述容置槽的內徑與所述基座的外徑相同，而各個所述凸柱結構是由所述容置槽的側壁向所述容置槽的內部方向延伸形成；所述帽蓋具有四個 所述凸柱結構，其中兩個所述凸柱結構彼此相面對地設置，另外兩個所述凸柱結構彼此相面對地設置。
  3. 如請求項1所述的光次模組，其中，所述基座還包含有一環狀壁及一底板，所述環狀壁固定設置於所述底板的一側，所述底板的外徑大於所述環狀壁的外徑，所述環狀壁的外徑與所述容置槽的外徑相同；所述帽蓋具有多個限位結構，各個所述限位結構位於所述容置槽中，且各個所述限位結構鄰近所述光源端設置；當所述基座固定設置於所述容置槽中時，所述底板對應抵靠於多個所述限位結構鄰近於所述光源端的位置，而多個所述限位結構能限制所述基座相對於所述帽蓋的活動範圍。
  4. 如請求項3所述的光次模組，其中，所述容置槽區隔有一第一容槽及一第二容槽，所述第一容槽鄰近於所述連接端設置，所述第二容槽鄰近於所述光源端設置，所述第一容槽與所述第二容槽相連通，所述第一容槽的內徑小於所述環狀壁的外徑，所述第二容槽的內徑大於所述第一容槽的內徑；各個所述限位結構由形成所述第二容槽的內側壁向所述容置槽的內部方向延伸形成，且多個所述限位結構彼此間隔地設置；當所述基座固定設置於所述帽蓋中時，所述底板抵靠於多個所述限位結構的一側，而所述底板、所述環狀壁與所述第二容槽的底壁共同形成有一容膠空間，所述容膠空間能填充空氣或膠體；其中，填充於所述容膠空間的膠體，能輔助所述基座與所述帽蓋彼此間的連接強度。
  5. 如請求項4所述的光次模組，其中，各個所述限位結構為三角柱狀結構，各個所述限位結構的一側邊部抵頂於所述基座的外圍；各個所述側邊部位於所述第一容槽朝向所述光源端的方向的正投影面積中，且各個所述凸柱結構為各個所述側 邊部向所述第一容槽方向延伸所形成。
  6. 如請求項1所述的光次模組，其中，所述透鏡結構於所述縱向槽的一側具有一出光面，所述透鏡結構於所述容置槽的一側具有一入光面，所述出光面及所述入光面皆為多次曲面。
  7. 一種光次模組的帽蓋，其兩端分別定義為一光源端及一連接端，所述帽蓋包含：一容置槽，其由所述光源端向內凹設形成；一縱向槽，其由所述連接端向內凹設形成；一透鏡結構，其與所述帽蓋一體成型地設置，所述透鏡結構位於所述容置槽與所述縱向槽之間，而所述透鏡結構阻擋所述容置槽與所述縱向槽彼此間的連通；以及至少一凸柱結構，各個所述凸柱結構與形成所述容置槽的側壁相連接。
  8. 如請求項7所述的光次模組的帽蓋，其中，所述帽蓋具有多個限位結構，各個所述限位結構位於所述容置槽中，且各個所述限位結構鄰近所述光源端設置；所述容置槽區隔有一第一容槽及一第二容槽，所述第一容槽鄰近於所述連接端設置，所述第二容槽鄰近於所述光源端設置，所述第一容槽與所述第二容槽相連通，所述第二容槽的內徑大於所述第一容槽的內徑；各個所述限位結構由形成所述第二容槽的內側壁向所述容置槽的內部方向延伸形成，且多個所述限位結構彼此間隔地設置。
  9. 如請求項8所述的光次模組的帽蓋，其中，各個所述限位結構為三角柱狀結構；各個所述限位結構的一側邊部位於所述第一容槽朝向所述光源端的方向的正投影面積中，且各個所述凸柱結構為各個所述側邊部向所述第一容槽方向延伸所 形成。
  10. 如請求項9所述的光次模組的帽蓋，其中，所述透鏡結構於所述縱向槽的一側具有一出光面，所述透鏡結構於所述容置槽的一側具有一入光面，所述出光面及所述入光面皆為多次曲面。
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