TW202004458A - 導電性構件、導電性薄膜、具備其之顯示裝置、觸控面板、導電性構件的配線圖案之製作方法、以及導電性薄膜的配線圖案之製作方法 - Google Patents
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Abstract
導電性構件具有由複數個金屬細線構成之配線部,配線部具有絕緣之2層以上的配線層和將線配線沿2個方向以上重疊而成之網格狀配線圖案,該線配線由在導電性構件的正面觀察時在1個方向上平行地排列之複數個金屬細線構成,至少1個方向的線配線係複數個金屬細線為直線的直線配線,至少1個方向的直線配線係在2層以上的配線層中的至少1層的配線層中連續配置有2根以上的金屬細線且在導電性構件的正面觀察時既定根數的金屬細線的重複間距為等間距、既定根數的各個金屬細線的間距中至少2個間距不同之非等間距的配線圖案。導電性構件具有不依賴於觀察角亦即視野角而無論在正面觀察時還是在傾斜觀察時均能夠減少疊紋的產生之配線圖案。導電性薄膜、顯示裝置及觸控面板具備導電性構件。
Description
本發明係關於一種導電性構件、導電性薄膜、具備其之顯示裝置、觸控面板、導電性構件的配線圖案的製作方法及導電性薄膜的配線圖案的製作方法,詳細而言,係關於具有即使重疊於顯示裝置的像素排列圖案上亦提供疊紋(moire)的可見性得到改善之畫質之網格狀配線圖案之導電性構件、導電性薄膜、具備其之顯示裝置、觸控面板、導電性構件的配線圖案的製作方法及導電性薄膜的配線圖案的製作方法。
作為設置於顯示裝置(以下,亦稱為顯示器)的顯示單元上之導電性薄膜,例如可以舉出具有導電膜之觸控面板用的導電性薄膜等,該導電膜由具有網格狀配線圖案(以下,亦稱為網格圖案)之金屬細線構成。
在該等導電性薄膜中,由網格圖案與顯示器的像素排列圖案 的干涉所產生之疊紋的辨識成為問題。在此,顯示器的像素排列圖案能夠說係例如R(紅)G(綠)B(藍)濾色器的排列圖案或作為其反轉圖案之黑矩陣(Black Matrix:以下,亦稱為BM)圖案。作為疊紋的辨識問題,亦即,一直以來已知有將等間距的配線圖案重疊於像素排列圖案上時規則性的疊紋顯眼,這成為問題。因此,提出有具有疊紋(尤其是規則性的疊紋)不會被辨識或不易被辨識之網格圖案之各種導電性薄膜(例如,參閱專利文獻1)。
本申請人的申請之專利文獻1中所揭示之技術係一種導電性薄膜,其具有配線圖案,該配線圖案具有形成於1個透明基體的兩面或2個以上的透明基體的各單面並配置成層狀之2層以上的配線層。在將藉由該配線圖案的空間頻率特性與像素排列圖案的空間頻率特性的卷積(convolution)而得到之疊紋的空間頻率中最低頻率設為fm1,將藉由配線圖案的一半的空間頻率特性與像素排列圖案的空間頻率特性的卷積而得到之疊紋的空間頻率中最低頻率設為fm2時,成為fm1fm2。在專利文獻1的技術中,不依賴於視野角(觀察角)而能夠減少疊紋的產生。
另一方面,專利文獻2揭示一種配線圖案,其在透明基材的兩面含有導電性材料,具有導電性材料藉由液體的移動而分離之結果所形成者之2根1組的平行線,透明基材的表面的一方向的平行線的組與另一方向的平行線的組以90°等既定角度交叉,透明基材的背面的一方向的平行線的組與另一方向的平行線的組以90°等既定角度交叉,在通過透明基材觀察時,背面的一方向的1組平行線位於表面的一方向的相鄰之2組平行線之間,背面的另一方向的1組平行線位於表面的另一方向的相鄰之2組平行線之間。
專利文獻2中能夠提高通過透明基材觀察兩面的配線圖案時的低可見性。
本申請人的申請之專利文獻3中所揭示之技術係以上側(TOP)和下側(BOTTOM)的2層配線圖案且賦予有不規則之菱形的配線圖案為前提之技術。其中,TOP(上側)和BOTTOM(下側)中的至少一方係對菱形形狀的間距賦予有不規則性之配線圖案。該技術係由各顏色的疊紋的評價值計算出之疊紋的評價指標成為閾值以下之方式構成2層的配線圖案者,該各顏色的疊紋的評價值係使視覺響應特性作用於由各顏色的2DFFT(二維高速傅立葉變換)光譜的光譜峰值的強度及頻率和所重疊之配線圖案的2DFFT光譜的強度及頻率計算出之疊紋的頻率及強度而得到。在專利文獻3中所揭示之技術中,不依賴於觀察距離而根據顯示器的強度能夠抑制疊紋的產生,從而能夠大幅提高可見性。
[專利文獻1]日本特開2014-071544號公報
[專利文獻2]WO2016-068161號公報
[專利文獻3]日本特開2016-014929號公報
在專利文獻1中,求出如下配線:在將藉由該配線圖案的空間頻率特性與像素排列圖案的空間頻率特性的卷積而得到之疊紋的空間頻率中最低頻率設為fm1,將藉由配線圖案的一半的空間頻率特性與像素排列圖案的空間頻率特性的卷積而得到之疊紋的空間頻率中最低頻率設為fm2時,成為fm1fm2。 在專利文獻1中,僅單純地只著眼於疊紋的最低頻率而抑制視野角(觀察角)不是正面觀察時的畫質的劣化。
又,在專利文獻2中揭示了在透明基材的兩面配置有複數組2根1組的平行線之配線圖案,但僅僅是揭示了用於提高通過透明基材觀察兩面的配線圖案時的低可見性之配線圖案,無論關於包含疊紋之畫質,還是關於畫質的視野角(觀察角)依賴性,全部都未加以考慮,且沒有提及。
在專利文獻3中,進行了“選擇在賦予不規則性之後疊紋評價指標成為閾值以下之配線圖案”的嘗試。然而,若進行該種嘗試,則與具有規則性之配線圖案相比能夠減少規則性的疊紋,但無法保證能夠減少規則性的疊紋和不規則性的疊紋(雜訊)這兩者。在專利文獻3中,並沒有明確與具有規則性之配線圖案相比能夠減少規則性的疊紋和不規則性的疊紋(雜訊)這兩者之配線圖案的特徵及其原因。
本發明的目的在於解決上述以往技術的問題點,並提供一種具有不依賴於觀察角(視野角)而無論在正面觀察時還是在傾斜觀察時均能夠減少疊紋的產生之配線圖案之導電性構件、導電性薄膜、具備其之顯示裝置、觸控面板、導電性構件的配線圖案的製作方法及導電性薄膜的配線圖案的製作方法。
為了達成上述目的,本發明的第1態樣之導電性構件係如下導電性構件,其具有由複數個金屬細線構成之配線部,其中配線部具有絕緣之2層以上的配線層和將線配線沿2個方向以上重疊而成之網格狀配線圖案,該線配線由在導電性構件的正面觀察時在1個方向上平行地排列之複數個金屬細線構成,至少 1個方向的線配線係複數個金屬細線為直線的直線配線,至少1個方向的直線配線係在2層以上的配線層中的至少1層的配線層中連續配置有2根以上的金屬細線且在導電性構件的正面觀察時既定根數的金屬細線的重複間距為等間距、既定根數的各個金屬細線的間距中至少2個間距不同之非等間距的配線圖案。
在此,導電性構件係設置於顯示裝置的顯示單元上者,網格狀的配線圖案重疊於顯示單元的像素排列圖案上為較佳。
又,非等間距的配線圖案中之疊紋的評價值小於由複數個直線的金屬細線構成、既定根數的金屬細線的重複間距與非等間距的配線圖案相等且各個金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案中之疊紋評價值,疊紋評價值係疊紋的各頻率成分的強度的總和為較佳,該疊紋的各頻率成分的強度係使人的視覺響應特性作用於由非等間距的配線圖案及等間距的配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分和像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分計算出之疊紋的各頻率成分而得到。
又,為了達成上述目的,本發明的第2態樣之導電性構件係如下導電性構件,其設置於顯示裝置的顯示單元上且具有由複數個金屬細線構成之配線部,其中配線部具有絕緣之2層以上的配線層和將線配線沿2個方向以上重疊而成之網格狀配線圖案,該線配線由在導電性構件的正面觀察時在1個方向上平行地排列之複數個金屬細線構成,網格狀配線圖案重疊於顯示單元的像素排列圖案上,至少1個方向的線配線係複數個金屬細線為直線的直線配線,至少1個方向的直線配線係在2層以上的配線層 中的至少1層的配線層中連續配置有2根以上的金屬細線且在連續配置有2根以上的金屬細線之配線層中既定根數的金屬細線的重複間距為等間距、既定根數的各個金屬細線的間距中至少2個間距不同之非等間距的配線圖案,非等間距的配線圖案中之疊紋的評價值小於由複數個直線的金屬細線構成、既定根數的金屬細線的重複間距與非等間距的配線圖案相等且各個金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案中之疊紋的評價值,疊紋評價值係疊紋的各頻率成分的強度的總和,該疊紋的各頻率成分的強度係使人的視覺響應特性作用於由非等間距的配線圖案及等間距的配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分和像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分計算出之疊紋的各頻率成分而得到。
在上述第1~第2態樣中的任意1個態樣中,視覺響應特性以下述式(1)所表示之視覺傳遞函數VTF給出為較佳。
其中,log為自然對數,k為以立體角定義之空間頻率(週期/deg),u為以長度定義之空間頻率(週期/mm),d為100mm~1000mm的範圍內的觀察距離(mm)。
又,視覺響應特性的觀察距離d係300mm~800mm中的任一距離為較佳。
又,當將疊紋評價值設為I時,疊紋評價值I係利用下述式 (2)由疊紋的各頻率成分的強度導出者為較佳。
I=(Σ(R[i])x)1/x......(2)
其中,R[i]為疊紋的第i個頻率成分的強度,次數x為1~4中的任一值。
又,次數x係2為較佳。
又,疊紋評價值係利用疊紋的各頻率成分的強度的非線性和導出者為較佳。
又,疊紋評價值還包含由像素排列圖案的頻率0和配線圖案的各頻率成分計算出之疊紋的頻率成分為較佳。
又,在非等間距的配線圖案中對疊紋貢獻最大的疊紋的頻率成分的強度小於在由複數個直線的金屬細線構成、既定根數的金屬細線的重複間距與非等間距的配線圖案相等且各個金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案中對疊紋貢獻最大的疊紋的頻率成分的強度為較佳。
又,在非等間距的配線圖案中對疊紋貢獻最大的疊紋的頻率成分的頻率大於在由複數個直線的金屬細線構成、既定根數的金屬細線的重複間距與非等間距的配線圖案相等且各個金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案中對疊紋貢獻最大的疊紋的頻率成分的頻率為較佳。
又,在由複數個直線的金屬細線構成、既定根數的金屬細線的重複間距與非等間距的配線圖案相等且各個金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案中對疊紋貢獻最大的疊紋的頻率成分的頻率以下,非等間距的配線圖案的疊紋評價值小於等間距的配線圖案的疊紋評價值,疊紋評價值係疊紋的各頻率成分的強度的總和為較佳,該疊紋的各頻率成分的強度係使人的視覺響應特性 作用於由非等間距的配線圖案及等間距的配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分和像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分計算出之疊紋的各頻率成分而得到。
又,在由複數個直線的金屬細線構成、既定根數的金屬細線的重複間距與非等間距的配線圖案相等且各個金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案中對疊紋貢獻最大的疊紋的頻率成分的頻率下,非等間距的配線圖案的疊紋的頻率成分的強度小於等間距的配線圖案的疊紋的頻率成分的強度為較佳。
又,在非等間距的配線圖案中成為對疊紋貢獻最大的疊紋的頻率成分的原因之非等間距的配線圖案的頻率成分的強度小於在由複數個直線的金屬細線構成、既定根數的金屬細線的重複間距與非等間距的配線圖案相等且各個金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案中成為對疊紋貢獻最大的疊紋的頻率成分的原因之等間距的配線圖案的頻率成分的強度為較佳。
又,在由複數個直線的金屬細線構成、既定根數的金屬細線的重複間距與非等間距的配線圖案相等且各個金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案中成為對疊紋貢獻最大的疊紋的頻率成分的原因之等間距的配線圖案的頻率成分的頻率下,非等間距的配線圖案的頻率成分的強度小於等間距的配線圖案的頻率成分的強度為較佳。
又,在非等間距的配線圖案中,將既定根數設為n且將各個金屬細線設為金屬細線1、金屬細線2、......及金屬細線n時,距金屬細線1之各個金屬細線的間距p至少滿足下述條件1和條件2中的任一個為較佳。
條件1:間距p屬於(N-d)*T<p<(N+d)*T的區間之金屬細線的根數與間距p屬於(N+0.5-d)*T<p<(N+0.5+d)*T的區間之金屬細線的根數的差分為1根以下。
條件2:間距p屬於(N+0.25-d)*T<p<(N+0.25+d)*T的區間之金屬細線的根數與間距p屬於(N+0.75-d)*T<p<(N+0.75+d)*T的區間之金屬細線的根數的差分為1根以下。
其中,T為將在由複數個直線的金屬細線構成、既定根數的金屬細線的重複間距與非等間距的配線圖案相等且各個金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案中成為對疊紋貢獻最大的疊紋的頻率成分的原因之等間距的配線圖案的頻率成分的頻率設為F而以1/F給出之週期,N為0或正的整數且為將等間距的配線圖案的間距設為PA而(n*PA/T)以下的整數,d為0.025~0.25的範圍中的任一值。
又,在非等間距的配線圖案中,將既定根數設為n且將各個金屬細線設為金屬細線1、金屬細線2、......及金屬細線n時,距金屬細線1之各個金屬細線的間距p至少滿足下述條件1和條件2中的任一個為較佳。
條件1:間距p屬於(N-d)*T<p<(N+d)*T的區間之金屬細線的根數與間距p屬於(N+0.5-d)*T<p<(N+0.5+d)*T的區間之金屬細線的根數的差分為1根以下。
條件2:間距p屬於(N+0.25-d)*T<p<(N+0.25+d)*T的區間之金屬細線的根數與間距p屬於(N+0.75-d)*T<p<(N+0.75+d)*T的區間之金屬細線的根數的差分為1根以下。
其中,T為將在僅由金屬細線1、金屬細線2、......及金屬細線n中的任一金屬細線構成之配線圖案中成為對疊紋貢獻最大 的疊紋的頻率成分的原因之金屬細線的配線圖案的頻率成分的頻率設為F而以1/F給出之週期,N為0或正的整數且為將由複數個直線的金屬細線構成、既定根數的金屬細線的重複間距與非等間距的配線圖案相等且各個金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案的間距設為PA而(n*PA/T)以下的整數,d為0.025~0.25的範圍中的任一值。
又,像素排列圖案係黑矩陣圖案為較佳。
又,2個方向以上的所有方向的線配線的複數個金屬細線全部由直線構成為較佳。
又,既定根數係16根以下為較佳。
又,配線部具有將線配線沿2個方向重疊而成之網格狀配線圖案且所有複數個金屬細線係直線為較佳。
又,將線配線沿2個方向重疊而成之網格狀配線圖案係左右非對稱的配線圖案為較佳。
又,2個方向的線配線所成之角度係40°~140°為較佳。
又,沿2個方向以上重疊之線配線中至少1個方向的線配線之平均間距係30μm~600μm為較佳。
進而,平均間距係300μm以下為更佳。
又,配線部可以具有2個方向以上的線配線中至少1個方向的線配線之平均間距與其他的至少1個方向的線配線之平均間距相同之配線圖案,但亦可以具有不同之配線圖案。
又,2個方向以上的線配線中平均間距最窄的方向的線配線的配線圖案係非等間距的配線圖案為較佳。
又,為了達成上述目的,本發明的第3態樣之導電性薄膜係如下導電性薄膜,其具有透明基體和由複數個金屬細線構 成之配線部,其中配線部具有絕緣之2層以上的配線層和網格狀配線圖案,該網格狀配線圖案係將線配線沿2個方向以上重疊而成,該線配線由在導電性薄膜的正面觀察時在1個方向上平行地排列之複數個金屬細線構成,至少1個方向的線配線係複數個金屬細線為直線的直線配線,至少1個方向的直線配線係在2層以上的配線層中的至少1層的配線層中連續配置有2根以上的金屬細線且在導電性薄膜的正面觀察時既定根數的金屬細線的重複間距為等間距、既定根數的各個金屬細線的間距中至少2個間距不同之非等間距的配線圖案。
又,為了達成上述目的,本發明的第4態樣之導電性薄膜係如下導電性薄膜,其設置於顯示裝置的顯示單元上且具有透明基體和由複數個金屬細線構成之配線部,配線部具有絕緣之2層以上的配線層和網格狀配線圖案,該網格狀配線圖案係將線配線沿2個方向以上重疊而成,該線配線由在導電性薄膜的正面觀察時在1個方向上平行地排列之複數個金屬細線構成,網格狀配線圖案重疊於顯示單元的像素排列圖案上,至少1個方向的線配線係複數個金屬細線為直線的直線配線,至少1個方向的直線配線係在2層以上的配線層中的至少1層的配線層中連續配置有2根以上的金屬細線且在連續配置有2根以上的金屬細線之配線層中既定根數的金屬細線的重複間距為等間距、既定根數的各個金屬細線的間距中至少2個間距不同之非等間距的配線圖案,非等間距的配線圖案中之疊紋的評價值小於由複數個直線的金屬細線構成、既定根數的金屬細線的重複間距與非等間距的配線圖案相等且各個金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案中之疊紋的評價值,疊紋評價值係疊紋的各頻率成分的強度的總和,該 疊紋的各頻率成分的強度係使人的視覺響應特性作用於由非等間距的配線圖案及等間距的配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分和像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分計算出之疊紋的各頻率成分而得到。
又,為了達成上述目的,本發明的第5態樣之顯示裝置具備:顯示單元,以既定的像素排列圖案排列而成;及本發明的第1或第2態樣之導電性構件或第3或第4態樣之導電性薄膜,設置於該顯示單元上。
在此,顯示單元係有機EL顯示器(OELD),紅色(R)、綠色(G)及藍色(B)中至少2個顏色的像素排列圖案不同為較佳。
又,為了達成上述目的,本發明的第6態樣之觸控面板係使用本發明的第1或第2態樣之導電性構件或第3或第4態樣之導電性薄膜者。
又,為了達成上述目的,本發明的第7態樣之導電性構件的配線圖案的製作方法係如下導電性構件的配線圖案的製作方法,該導電性構件設置於顯示裝置的顯示單元上且具有由複數個金屬細線構成之配線部,配線部具有絕緣之2層以上的配線層和將線配線沿2個方向以上重疊而成之網格狀配線圖案,該線配線由在正面觀察時在1個方向上平行地排列之複數個金屬細線構成,其中網格狀配線圖案重疊於顯示單元的像素排列圖案上,至少1個方向的線配線係複數個金屬細線為直線的直線配線,至少1個方向的直線配線係在2層以上的配線層中的至少1層的配線層中連續配置有2根以上的金屬細線且在導電性構件的正面觀察時既定根數的金屬細線的重複間距為等間距、既定根數的各個金屬細線的間距中至少2個間距不同之非等間距的配線圖案,獲 取像素排列圖案的亮度或透射率,對非等間距的配線圖案及由複數個直線的金屬細線構成、既定根數的金屬細線的重複間距與非等間距的配線圖案相等且各個金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案分別獲取配線圖案的透射率,對非等間距的配線圖案及等間距的配線圖案分別導出配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈,並且導出像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈,由非等間距的配線圖案及等間距的配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分和像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分計算出疊紋的各頻率成分,使人的視覺響應特性作用於如此計算出之疊紋的各頻率成分而求出各頻率成分的強度的總和亦即疊紋評價值,製作如此求出之非等間距的配線圖案中之疊紋評價值小於等間距的配線圖案中之疊紋評價值的非等間距的配線圖案。
又,為了達成上述目的,本發明的第8態樣之導電性構件的配線圖案的製作方法係如下導電性構件的配線圖案的製作方法,該導電性構件設置於顯示裝置的顯示單元上且具有由複數個金屬細線構成之配線部,配線部具有絕緣之2層以上的配線層和將線配線沿2個方向以上重疊而成之網格狀配線圖案,該線配線由在正面觀察時在1個方向上平行地排列之複數個金屬細線構成,其中網格狀配線圖案重疊於顯示單元的像素排列圖案上,至少1個方向的線配線係複數個金屬細線為直線的直線配線,至少1個方向的直線配線係在2層以上的配線層中的至少1層的配線層中連續配置有2根以上的金屬細線且在連續配置有2根以上的金屬細線的配線層中既定根數的金屬細線的重複間距為等間距、既定根數的各個金屬細線的間距中至少2個間距不同之非等 間距的配線圖案,獲取像素排列圖案的亮度或透射率,對非等間距的配線圖案及由複數個直線的金屬細線構成、既定根數的金屬細線的重複間距與非等間距的配線圖案相等且各個金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案分別獲取配線圖案的透射率,對非等間距的配線圖案及等間距的配線圖案分別導出配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈,並且導出像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈,由非等間距的配線圖案及等間距的配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分和像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分計算出疊紋的各頻率成分,使人的視覺響應特性作用於如此計算出之疊紋的各頻率成分而求出各頻率成分的強度的總和亦即疊紋評價值,製作如此求出之非等間距的配線圖案中之疊紋評價值小於等間距的配線圖案中之疊紋評價值的非等間距的配線圖案。
又,為了達成上述目的,本發明的第9態樣之導電性薄膜的配線圖案的製作方法係如下導電性薄膜的配線圖案的製作方法,該導電性薄膜設置於顯示裝置的顯示單元上且具有透明基體和由複數個金屬細線構成之配線部,配線部具有絕緣之2層以上的配線層和將線配線沿2個方向以上重疊而成之網格狀配線圖案,該線配線由在正面觀察時在1個方向上平行地排列之複數個金屬細線構成,其中網格狀配線圖案重疊於顯示單元的像素排列圖案上,至少1個方向的線配線係複數個金屬細線為直線的直線配線,至少1個方向的直線配線係在2層以上的配線層中的至少1層的配線層中連續配置有2根以上的金屬細線且在導電性薄膜的正面觀察時既定根數的金屬細線的重複間距為等間距、既定根數的各個金屬細線的間距中至少2個間距不同之非等間距的配 線圖案,獲取像素排列圖案的亮度或透射率,對非等間距的配線圖案及由複數個直線的金屬細線構成、既定根數的金屬細線的重複間距與非等間距的配線圖案相等且各個金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案分別獲取配線圖案的透射率,對非等間距的配線圖案及等間距的配線圖案分別導出配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈,並且導出像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈,由非等間距的配線圖案及等間距的配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分和像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分計算出疊紋的各頻率成分,使人的視覺響應特性作用於如此計算出之疊紋的各頻率成分而求出各頻率成分的強度的總和亦即疊紋評價值,製作如此求出之非等間距的配線圖案中之疊紋評價值小於等間距的配線圖案中之疊紋評價值的非等間距的配線圖案。
又,為了達成上述目的,本發明的第10態樣之導電性薄膜的配線圖案的製作方法係如下導電性薄膜的配線圖案的製作方法,該導電性薄膜設置於顯示裝置的顯示單元上且具有透明基體和由複數個金屬細線構成之配線部,配線部具有絕緣之2層以上的配線層和將線配線沿2個方向以上重疊而成之網格狀配線圖案,該線配線由在正面觀察時在1個方向上平行地排列之複數個金屬細線構成,其中網格狀配線圖案重疊於顯示單元的像素排列圖案上,至少1個方向的線配線係複數個金屬細線為直線的直線配線,至少1個方向的直線配線係在2層以上的配線層中的至少1層的配線層中連續配置有2根以上的金屬細線且在連續配置有2根以上的金屬細線之配線層中既定根數的金屬細線的重複間距為等間距、既定根數的各個金屬細線的間距中至少2個間距 不同之非等間距的配線圖案,獲取像素排列圖案的亮度或透射率,對非等間距的配線圖案及由複數個直線的金屬細線構成、既定根數的金屬細線的重複間距與非等間距的配線圖案相等且各個金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案分別獲取配線圖案的透射率,對非等間距的配線圖案及等間距的配線圖案分別導出配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈,並且導出像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈,由非等間距的配線圖案及等間距的配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分和像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分計算出疊紋的各頻率成分,使人的視覺響應特性作用於如此計算出之疊紋的各頻率成分而求出各頻率成分的強度的總和亦即疊紋評價值,製作如此求出之非等間距的配線圖案中之疊紋評價值小於等間距的配線圖案中之疊紋評價值的非等間距的配線圖案。
如以上說明,依本發明,能夠提供一種具有不依賴於觀察角(視野角)而無論在正面觀察時還是在傾斜觀察時均能夠減少疊紋的產生之配線圖案之導電性構件、導電性薄膜、具備其之顯示裝置、觸控面板、導電性構件的配線圖案的製作方法及導電性薄膜的配線圖案的製作方法。
10、11、11A‧‧‧導電性薄膜
12、12a、12b‧‧‧透明支撐體
14‧‧‧金屬製的細線(金屬細線)
16‧‧‧配線部
16a、16b‧‧‧子配線部
17、17a、17b‧‧‧電極部
18、18a、18b‧‧‧黏接層
20、20a、20b‧‧‧保護層
21、21a、21a1、21a2、21b、21b1、21b2、21c、21c1、21c2、21d、21e、21f、21g、21gt、21ft、21ht、21it、21jt、21kt、21l、21m、21p、21q‧‧‧直線配線
22‧‧‧開口部
23、23a、23b、23c、24、25‧‧‧配線圖案
23d、23e、23f、23g、23h、23i、23j、23k、231、23m、23n、23o、23p、23q、23r‧‧‧線配線
24a‧‧‧第1(上側)配線圖案
24b‧‧‧第2(下側)配線圖案
25a、25b、25g、25h、25i、25j、25k、25l、25m、25n‧‧‧非等間距的配線圖案
25c、25d‧‧‧等間距的配線圖案
25at、25dt、25et、25ft‧‧‧傾斜觀察配線圖案
26、26a‧‧‧虛設電極部
27‧‧‧電極內虛設圖案部
28、28a、28b‧‧‧配線層
30、30a‧‧‧顯示單元
32、32r、32g、32b‧‧‧像素
34‧‧‧黑矩陣(BM)
36‧‧‧區域
38‧‧‧像素排列圖案
40‧‧‧顯示裝置
42‧‧‧輸入面
44‧‧‧觸控面板
46‧‧‧框體
48‧‧‧覆蓋構件
50‧‧‧電纜
52‧‧‧可撓性基板
54‧‧‧檢測控制部
56‧‧‧黏接層
58‧‧‧接觸體
圖1係示意性地表示本發明的第1實施形態之導電性薄膜的一例之局部剖面圖。
圖2係示意性地表示圖1所示之導電性薄膜的配線部的正面 視的配線圖案的一例之平面圖。
圖3A係示意性地表示圖2所示之配線圖案中的透明基體的上側的配線層中之連續配置有2根金屬細線之配線圖案之平面圖。
圖3B係示意性地表示圖2所示之配線圖案中的透明基體的下側的配線層中之連續配置有2根金屬細線之配線圖案之平面圖。
圖4A係示意性地表示圖2所示之正面視的配線圖案的1個方向的直線配線中之配線圖案之平面圖。
圖4B係示意性地表示圖2所示之正面視的配線圖案的另1個方向的直線配線中之配線圖案之平面圖。
圖5係示意性地表示圖1所示之導電性薄膜的配線部的配線圖案的另一例之平面圖。
圖6係示意性地表示圖5所示之配線圖案的另1個方向的直線配線中之配線圖案之平面圖。
圖7係本發明的第2實施形態之導電性薄膜的一例的示意性地局部剖面圖。
圖8係本發明的第3實施形態之導電性薄膜的一例的示意性局部剖面圖。
圖9係表示適用本發明之導電性薄膜之顯示單元的一部分像素排列圖案的一例之概略說明圖。
圖10係組裝有圖1所示之導電性薄膜之顯示裝置的一實施例的概略剖面圖。
圖11係示意性地表示圖9所示之顯示單元的像素排列的亮度圖案的一例之平面圖。
圖12係示意性地表示以往的等間距的配線圖案(配線的透射率的圖案)之平面圖。
圖13A係示意性地表示圖12所示之配線圖案的1個方向的直線配線中之配線圖案之平面圖。
圖13B係示意性地表示圖12所示之配線圖案的另1個方向的直線配線中之配線圖案之平面圖。
圖14係圖11所示之像素排列圖案的二維頻率分佈的圖。
圖15係圖12所示之配線圖案的二維頻率分佈的圖。
圖16係標繪有由圖14所示之像素排列圖案的各頻率成分和圖15所示之配線圖案的各頻率成分計算出之疊紋成分之圖。
圖17係表示圖16所示之各疊紋成分乘以人眼的視覺特性的靈敏度而得到之結果之圖。
圖18A係表示人眼的視覺特性的靈敏度之視覺傳遞函數的曲線圖。
圖18B係表示人眼的視覺特性的靈敏度之另一視覺傳遞函數的曲線圖。
圖19係示意性地表示在正面觀察時疊紋少的等間距的配線圖案之平面圖。
圖20係示意性地表示圖19所示之配線圖案的1個方向的直線配線中之配線圖案之平面圖。
圖21係圖19所示之配線圖案的二維頻率分佈的圖。
圖22係標繪有由圖14所示之像素排列圖案的各頻率成分和圖21所示之配線圖案的各頻率成分計算出之疊紋成分之圖。
圖23係表示圖22所示之各疊紋成分乘以人眼的視覺特性的靈敏度而得到之結果之圖。
圖24係示意性地表示傾斜觀察圖19所示之等間距的配線圖案時的配線圖案之平面圖。
圖25係示意性地表示圖24所示之配線圖案的1個方向的直線配線中之配線圖案之平面圖。
圖26係圖24所示之配線圖案的二維頻率分佈的圖。
圖27係標繪有由圖14所示之像素排列圖案的各頻率成分和圖26所示之配線圖案的各頻率成分計算出之疊紋成分之圖。
圖28係表示圖27所示之各疊紋成分乘以人眼的視覺特性的靈敏度而得到之結果之圖。
圖29係說明從傾斜方向觀察在透明基體的上表面及下表面上交替地配置之配線圖案時的一方向的配線圖案之圖。
圖30係表示包含觀察方向之平面內的圖29所示之配線圖案的配線之說明圖。
圖31係圖19所示之配線圖案的上表面的配線圖案的2根配線的透射率的一維輪廓(profile)。
圖32係圖19所示之配線圖案的下表面的配線圖案的2根配線的透射率的一維輪廓。
圖33係圖19所示之正面觀察時的配線圖案的4根配線的透射率的一維輪廓。
圖34係圖24所示之傾斜觀察時的配線圖案的4根配線的透射率的一維輪廓。
圖35係表示圖31所示之上表面配線圖案、圖33所示之正面觀察時及圖34所示之傾斜觀察時的配線圖案的各頻率成分的強度之圖。
圖36係本發明的配線圖案的上表面的配線圖案的2根配線 的透射率的一維輪廓。
圖37係本發明的配線圖案的下表面的配線圖案的2根配線的透射率的一維輪廓。
圖38係本發明的配線圖案的正面觀察時的配線圖案的4根配線的透射率的一維輪廓。
圖39係本發明的配線圖案的傾斜觀察時的配線圖案的4根配線的透射率的一維輪廓。
圖40係表示圖36所示之上表面配線圖案、圖38所示之正面觀察時及圖39所示之傾斜觀察時的配線圖案的各頻率成分的強度之圖。
圖41係示意性地表示具有圖39所示之透射率輪廓之配線圖案之平面圖。
圖42係示意性地表示圖41所示之配線圖案的1個方向的直線配線中之配線圖案之平面圖。
圖43係圖41所示之配線圖案的二維頻率分佈的圖。
圖44係標繪有由圖14所示之像素排列圖案的各頻率成分和圖43所示之配線圖案的各頻率成分計算出之疊紋成分之圖。
圖45係表示圖44所示之各疊紋成分乘以人眼的視覺特性的靈敏度而得到之結果之圖。
圖46係示意性地表示圖2所示之配線圖案的正面觀察時的非等間距的配線圖案之平面圖。
圖47係示意性地表示圖46所示之配線圖案的1個方向的直線配線中之配線圖案之平面圖。
圖48係圖46所示之配線圖案的二維頻率分佈的圖。
圖49係標繪有由圖14所示之像素排列圖案的各頻率成分 和圖48所示之配線圖案的各頻率成分計算出之疊紋成分之圖。
圖50係表示圖49所示之各疊紋成分乘以人眼的視覺特性的靈敏度而得到之結果之圖。
圖51係示意性地表示具有圖46所示之正面觀察時的非等間距的配線圖案且交替地配置有上下表面的配線之配線圖案的傾斜觀察時的配線圖案之平面圖。
圖52係示意性地表示圖51所示之配線圖案的1個方向的直線配線中之配線圖案之平面圖。
圖53係圖51所示之配線圖案的二維頻率分佈的圖。
圖54係標繪有由圖14所示之像素排列圖案的各頻率成分和圖53所示之配線圖案的各頻率成分計算出之疊紋成分之圖。
圖55係表示圖54所示之各疊紋成分乘以人眼的視覺特性的靈敏度而得到之結果之圖。
圖56係示意性地表示具有圖46所示之正面觀察時的非等間距的配線圖案且上下表面的配線分別連續配置有2根之配線圖案的傾斜觀察時的配線圖案之平面圖。
圖57係示意性地表示圖56所示之配線圖案的1個方向的直線配線中之配線圖案之平面圖。
圖58係圖56所示之配線圖案的二維頻率分佈的圖。
圖59係標繪有由圖14所示之像素排列圖案的各頻率成分和圖58所示之配線圖案的各頻率成分計算出之疊紋成分之圖。
圖60係表示圖59所示之各疊紋成分乘以人眼的視覺特性的靈敏度而得到之結果之圖。
圖61係圖51所示之配線圖案的上表面的配線圖案的2根配線的透射率的一維輪廓。
圖62係圖51所示之配線圖案的下表面的配線圖案的2根配線的透射率的一維輪廓。
圖63係圖46所示之正面觀察時的配線圖案的4根配線的透射率的一維輪廓。
圖64係圖51所示之傾斜觀察時的配線圖案的4根配線的透射率的一維輪廓。
圖65係表示圖61所示之上表面配線圖案、圖63所示之正面觀察時及圖64所示之傾斜觀察時的配線圖案的各頻率成分的強度之圖。
圖66係圖56所示之配線圖案的上表面的配線圖案的2根配線的透射率的一維輪廓。
圖67係圖56所示之配線圖案的下表面的配線圖案的2根配線的透射率的一維輪廓。
圖68係圖46所示之正面觀察時的配線圖案的4根配線的透射率的一維輪廓。
圖69係圖56所示之傾斜觀察時的配線圖案的4根配線的透射率的一維輪廓。
圖70係表示圖66所示之上表面配線圖案、圖68所示之正面觀察時及圖69所示之傾斜觀察時的配線圖案的各頻率成分的強度之圖。
圖71係圖12所示之配線圖案的4根配線的透射率的一維輪廓。
圖72係圖71所示之4根配線的第2個配線的透射率的一維輪廓。
圖73係圖71及圖72所示之配線圖案的一維頻率分佈的 圖。
圖74係既定根數的配線間距為非等間距的配線圖案的最優化結果的4根配線的透射率的一維輪廓。
圖75係圖74所示之配線圖案的一維頻率分佈的圖。
圖76係示意性地表示既定根數的配線間距為非等間距的配線圖案的最優化結果的配線圖案之平面圖。
圖77係示意性地表示圖76所示之配線圖案的1個方向的直線配線中之配線圖案之平面圖。
圖78係圖76所示之配線圖案的二維頻率分佈的圖。
圖79係標繪有由圖14所示之像素排列圖案的各頻率成分和圖76所示之配線圖案的各頻率成分計算出之疊紋成分之圖。
圖80係表示圖79所示之各疊紋成分乘以人眼的視覺特性的靈敏度而得到之結果之圖。
圖81係512根配線為非等間距的配線圖案的二維頻率分佈的圖。
圖82係標繪有由圖14所示之像素排列圖案的各頻率成分和圖81所示之配線圖案的各頻率成分計算出之疊紋成分之圖。
圖83係表示圖82所示之各疊紋成分乘以人眼的視覺特性的靈敏度而得到之結果之圖。
圖84係表示圖12所示之配線的透射率圖案的一維輪廓以及主配線頻率成分的cos波及sin波之曲線圖。
圖85係表示圖84所示之配線的透射率圖案的一維輪廓乘以cos波而得到之輪廓之曲線圖。
圖86係表示圖76所示之配線的透射率圖案的一維輪廓以及等間距主配線頻率成分的cos波及sin波之曲線圖。
圖87係表示圖86所示之配線的透射率圖案的一維輪廓乘以cos波而得到之輪廓之曲線圖。
圖88係表示本發明之導電性薄膜的配線圖案的製作方法的一例之流程圖。
圖89係表示本發明中之正面/傾斜疊紋值計算處理方法的一例之流程圖。
圖90係表示本發明中之正面/傾斜疊紋值計算處理方法的另一例之流程圖。
圖91係示意性地表示圖1所示之導電性薄膜的配線部的配線圖案的另一例之平面圖。
圖92係示意性地表示導電性薄膜的配線部的線配線的一例之平面圖。
圖93係示意性地表示導電性薄膜的配線部的線配線的另一例之平面圖。
圖94係示意性地表示導電性薄膜的配線部的線配線的另一例之平面圖。
圖95係圖92所示之配線圖案的二維頻率分佈的圖。
圖96係圖93所示之配線圖案的二維頻率分佈的圖。
圖97係圖94所示之配線圖案的二維頻率分佈的圖。
圖98係表示在圖95~圖97所示之配線圖案的二維頻率分佈中既定的角度範圍中之頻率成分的強度的總和相對於所有頻率成分的強度的總和之比率之曲線圖。
圖99係示意性地表示本發明的導電性薄膜的配線部的配線圖案的一例之平面圖。
圖100係示意性地表示本發明的導電性薄膜的配線部的配 線圖案的另一例之平面圖。
圖101係示意性地表示本發明的導電性薄膜的配線部的配線圖案的另一例之平面圖。
圖102係示意性地表示本發明的導電性薄膜的配線部的配線圖案的另一例之平面圖。
圖103係示意性地表示本發明的導電性薄膜的配線部的配線圖案的另一例之平面圖。
圖104係示意性地表示本發明的導電性薄膜的配線部的配線圖案的另一例之平面圖。
圖105係示意性地表示適用本發明之導電性薄膜之顯示單元的像素排列的亮度圖案的另一例之平面圖。
圖106係圖105所示之像素排列圖案的二維頻率分佈的圖。
圖107係示意性地表示本發明的配線圖案的1個開口部內的電極內虛設圖案部的一例之平面圖。
以下,參閱附圖所示之較佳的實施形態,對本發明之導電性構件、導電性薄膜、具備其之顯示裝置、觸控面板、導電性構件的配線圖案的製作方法及導電性薄膜的配線圖案的製作方法進行詳細說明。
本發明中,將至少具有由複數個金屬細線構成之配線部者定義為導電性構件,其中將具備透明基體者定義為導電性薄膜。亦即,本發明的導電性構件既包含直接配置於顯示單元上之情況或直接配置於顯示單元的像素排列上之情況等中所使用之不具有透明基體者,亦包含具備透明基體之導電性薄膜。因此,本發明以由複數個金屬細線構成之配線圖案為特徵,與透明基體無關 地,無論在未規定透明基體之導電性構件中,還是在具備透明基體之導電性薄膜中,均係關於由金屬細線構成之特徵性的配線圖案其本身者。以下,關於本發明,主要對具有透明基體之導電性薄膜進行說明,但本發明的特徵為由複數個金屬細線構成之配線圖案,因此其說明當然係關於上位概念的導電性構件者。在此,本發明的導電性構件係能夠稱為感測器構件者。
又,以下關於本發明之導電性構件及導電性薄膜,以觸控面板用的導電性構件、導電性薄膜為代表例進行說明,但本發明並不限定於此。本發明的導電性構件及導電性薄膜係具有具備以下所說明之特徵之配線部者,只要為設置於顯示裝置的各種發光強度的顯示單元上之導電性構件及導電性薄膜,則可以為任何者。又,本發明的導電性薄膜當然亦可以為例如電磁波屏蔽用的導電性薄膜等。
另外,作為對象之顯示裝置可以為液晶顯示器(LCD:Liquid Crystal Display)或電漿顯示器(PDP:Plasma Display Panel)、有機EL顯示器(OELD:Organic Electro-Luminescence Display)或無機EL顯示器等中的任一種。
本發明的導電性構件及導電性薄膜的配線部的特徵為,具有絕緣之2層以上的配線層和將線配線沿2個方向以上重疊而成之網格狀配線圖案,該網格狀配線圖案由在導電性構件及導電性薄膜的正面觀察時在1個方向上平行地排列之複數個金屬細線構成,至少1個方向的線配線係複數個金屬細線為直線的直線配線,至少1個方向的直線配線在2層以上的配線層中的至少1層的配線層中連續配置有2根以上的金屬細線。
另外,本發明的導電性構件及導電性薄膜的配線部的特徵亦 能夠說係具有如下配線圖案,其係在至少1個方向上具有2層以上的配線層且在1層的配線層中連續配置有平行地排列之2根以上的金屬細線之配線圖案,且係在2層以上的配線層中將由平行地排列之複數個金屬細線構成之直線配線沿2個方向以上重疊而成之配線圖案。
又,本發明的導電性構件及導電性薄膜的配線部的配線圖案係將2層以上的配線層的各配線層的配線圖案重疊而成之配線圖案,且係無論在導電性構件及導電性薄膜的正面觀察時(正面視)還是在傾斜觀察時,直接或通過透明基體觀察之配線圖案係疊紋的產生減少之配線圖案。
亦即,本發明係提出具有如下配線圖案之導電性構件及導電性薄膜者,該配線圖案“係具有2層以上的配線層且將2個方向以上的線配線重疊而成之網格狀配線圖案,且係在至少1個方向的直線配線中在1層的配線層中連續配置有2根以上的配線之配線圖案”。
另外,本發明亦能夠說係提出具有如下配線圖案之導電性構件及導電性薄膜者,該配線圖案“係將2個方向以上的直線配線重疊而成之配線圖案,且係在至少1個方向上具有2層以上的配線層且在1層中連續配置有2根以上的配線之配線圖案”。
藉由該種配線圖案,與在各層中交替地配置有配線之配線圖案相比,能夠減少傾斜觀察時的疊紋產生。
另外,重疊本發明的導電性薄膜之顯示裝置的顯示單元(以下,亦稱為顯示器)只要為各像素按照像素排列圖案(以下,亦稱為BM圖案)排列而成且在由導電性薄膜的重疊所產生之疊紋的可見性的評價中能夠考慮其發光強度(亮度)者,則並不 特別限制。或者,只要為射出包含互不相同之至少3個顏色例如紅、綠及藍的3個顏色之複數個顏色的光之各個子像素按照各個子像素的像素排列圖案排列而成且在由導電性薄膜的重疊所產生之疊紋的可見性的評價中能夠考慮其發光強度(亮度)者,則並不特別限制。
例如,可以為如以往那樣RGB等複數個顏色中之各個顏色的子像素的像素排列圖案(子像素的形狀、尺寸、像素排列的週期及方向)全部相同且能夠以G子像素為代表之顯示單元,亦可以為如前述之OELD那樣在複數個顏色中並不全部相同,亦即對於至少2個顏色,子像素的像素排列圖案不同之顯示單元。
又,成為本發明的對象之顯示裝置的顯示器可以為如高解析度智慧手機或平板終端等那樣發光強度高的顯示器,亦可以為如低解析度的桌上型電腦或電視(TV)等那樣發光強度低的顯示器,亦可以為如中解析度筆記型電腦等那樣發光強度中等程度的顯示器。
圖1係示意性地表示本發明的第1實施形態之導電性薄膜的一例之局部剖面圖。圖2係示意性地表示圖1所示之導電性薄膜的配線部的正面視的配線圖案的一例之平面圖。圖3A係示意性地表示圖2所示之配線圖案中的透明基體12的上側的配線層中之連續配置有2根金屬細線之配線圖案之平面圖。圖3B係示意性地表示圖2所示之配線圖案中的透明基體12的下側的配線層中之連續配置有2根金屬細線之配線圖案之平面圖。圖4A係示意性地表示圖2所示之正面視的配線圖案的1個方向的直線配線中之非等間距的配線圖案之平面圖。圖4B係示意性地表示 圖2所示之正面視的配線圖案的另1個方向的直線配線中之非等間距的配線圖案之平面圖。
如圖1及圖2所示,本實施形態的導電性薄膜10係設置於顯示裝置的顯示單元上者,且係具有在對於顯示單元的像素排列抑制疊紋的產生之觀點上優異之配線圖案、尤其在重疊於像素排列圖案時相對於像素排列圖案在疊紋的可見性的觀點上被最優化之配線圖案之導電性薄膜。
另外,在從本段落至適用後面敘述之本發明的導電性薄膜之顯示裝置的說明結束之段落為止的本發明的導電性薄膜及適用本發明的導電性薄膜之顯示裝置的構成的說明中,在導電性薄膜的配線部的正面視的配線圖案為“在至少1個方向的直線配線中既定根數的金屬細線的重複間距為等間距且既定根數的各個金屬細線的間距為非等間距的非等間距配線圖案”的前提下進行說明,但如隨後詳細說明,基於本發明的導電性薄膜的配線部的特徵亦即“具有具備2層以上的配線層且在至少1個方向上在1層的配線層中連續配置有2根以上的配線之配線圖案”之傾斜觀察時的疊紋產生的減少效果與正面視的配線圖案是非等間距還是等間距無關地有效,因此正面視的配線圖案為等間距的構成亦當然包含於本發明中。
圖1中所例示之導電性薄膜10具有:透明基體12;形成於透明基體12的一個面(圖1中上側的面),由複數個金屬製的細線(以下,成為金屬細線)14構成,且成為第1電極部之第1子配線部16a;以被覆金屬細線14之方式經由第1黏接層18a黏接於第1子配線部16a的大致整個面之第1保護層20a;形成於透明基體12的另一個面(圖1中下側的面),由複數個金屬製 的細線14構成,且成為第2電極部之第2子配線部(電極)16b;及經由第2黏接層18b黏接於第2子配線部16b的大致整個面之第2保護層20b。
另外,以下將第1子配線部16a和第2子配線部16b一併稱為配線部16。
又,在將第1黏接層18a及第2黏接層18b統稱時簡稱為黏接層18,在將第1保護層20a及第2保護層20b統稱時簡稱為保護層20。
另外,導電性薄膜10只要至少具有透明基體12、第1子配線部16a及第2子配線部16b即可,雖未圖示,但可以在透明基體12與第1子配線部16a之間或透明基體12與第2子配線部16b之間設置密接強化層和/或底塗層等功能層。
透明基體12只要由透明且具有電絕緣性亦即絕緣性且透光性高的材料構成且能夠支撐第1子配線部16a及第2子配線部16b,則並不受特別限定。作為構成透明基體12之材料,例如能夠舉出樹脂、玻璃及矽等材料。作為玻璃,例如能夠舉出強化玻璃及無鹼玻璃等。作為樹脂,例如能夠舉出聚對酞酸乙二酯(PET:polyethylene terephthalate)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN:polyethylene naphthalate)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA:Polymethyl methacrylate)、環烯烴聚合物(COP:cyclo-olefin polymer)、環狀烯烴‧共聚物(COC:cyclic olefin copolymer)、聚碳酸酯(PC:polycarbonate)、丙烯酸樹脂、聚乙烯(PE:polyethylene)、聚丙烯(PP:polypropylene)、聚苯乙烯(PS:polystyrene)、聚氯乙烯(PVC:polyvinyl chloride)、聚偏二氯乙烯(PVDC:polyvinylidene chloride)、三乙醯纖維素(TAC:cellulose triacetate)等。透明基體12的厚度例如為20~1000μm,尤其30~100μm為較佳。
本發明中,“透明”係指透光率在波長400~800nm的可見光波長區域中為至少30%以上,較佳為50%以上,更佳為70%以上,進一步更佳為90%以上。透光率係使用JIS K 7375:2008中規定之“塑膠--全光線透射率及全光線反射率的求法”測定者。
又,透明基體12的全光線透射率係30%~100%為較佳。全光線透射率例如係使用JIS K 7375:2008中規定之“塑膠--全光線透射率及全光線反射率的求法”測定者。
另外,本發明的第1實施態樣之導電性構件係在圖1所示之本發明的第1實施形態之導電性薄膜中至少具有配線部16(子配線部16a和子配線部16b)者,圖2係示意性地表示本發明的第1實施態樣之導電性構件的配線部的配線圖案的一例之平面圖,可以說係表示本發明的第1實施態樣之導電性構件之圖。
金屬細線14只要為導電性高的金屬製的細線,則並不特別限制,例如能夠舉出由金(Au)、銀(Ag)或銅(Cu)的線材等構成者。從可見性的觀點而言,金屬細線14的線寬細為較佳,例如為30μm以下即可。另外,在觸控面板用途中,金屬細線14的線寬係0.1μm以上且15μm以下為較佳,1μm以上且9μm以下為更佳,1μm以上且7μm以下為進一步較佳。另外,1μm以上且4μm以下為特佳。
如圖2所示,子配線部16a由在本發明的導電性薄膜10的正面視(正面觀察)時在以既定角度交叉之2個方向上平行地排列之複數個金屬細線14構成,且由具有以網格狀排列有複數個金 屬細線14之網格狀配線圖案24a之配線層28a構成。又,同樣地,子配線部16b由具有複數個金屬細線14以網格狀排列而成之網格狀配線圖案24b之配線層28b構成。又,配線部16由配線層28a及配線層28b構成,在本發明的導電性薄膜10的正面視(正面觀察)時具有複數個金屬細線14以網格狀排列而成之網格狀配線圖案24。另外,在本發明的說明中,本發明的導電性薄膜10的正面視(正面觀察)係指將圖1所示之導電性薄膜10的配線部16(子配線部16a、子配線部16b)從其垂直上方進行觀察之情況,相對於透明基體12,將子配線部16a側稱為上側,將子配線部16b側稱為下側。
在此,子配線部16a由透明基體12的上側的配線層28a構成,如圖3A中實線所示,具有將分別連續配置有複數個在以既定角度交叉之2個方向上分別平行的2根金屬細線14之直線配線21a1及21b1重疊而成之網格狀配線圖案24a。
又,子配線部16b由透明基體12的下側的配線層28b構成,如圖3B中點線所示,具有將分別連續配置有在以既定角度交叉之2個方向上分別平行的2根金屬細線14之直線配線21a2及21b2重疊而成之網格狀配線圖案24b。
因此,在正面視時,如圖2所示,網格狀配線圖案24係將圖3A中實線所示之網格狀配線圖案24a和圖3B中點線所示之網格狀配線圖案24b經由透明基體12重合而成之本發明的第1實施例的網格狀配線圖案(以下,亦簡稱為配線圖案)25a。
亦即,在正面視時,配線圖案25a係將圖3A中實線所示之由在以既定角度交叉之2個方向上分別平行地連續配置之2根金屬細線14構成之21a1及21b1和圖3B中點線所示之由在相同 之2個方向上分別平行地連續配置之2根金屬細線14構成之直線配線21a2及21b2重疊而成者。在此,直線配線21a1及21b1配置於透明基體12的上側的配線層,並構成上側的網格狀配線圖案24a。直線配線21a2及21b2配置於透明基體12的下側的配線層,並構成下側的網格狀配線圖案24b。因此,在正面視時,本發明的第1實施例的網格狀配線圖案25a能夠說係將上側的網格狀配線圖案24a和下側的網格狀配線圖案24b重疊而成之配線圖案24。
換言之,在正面視時,圖3A中實線所示之由透明基體12的上側的子配線部16a的直線配線21a1及21b1構成之配線圖案24a和圖3B中點線所示之由透明基體12的下側的子配線部16b的直線配線21a2及21b2構成之配線圖案24b經由透明基體12重疊而成為圖2中實線及點線所示之配線圖案25a。
另外,在包含圖2、圖3A及圖3B等之說明本發明之圖式中,實線表示由2根連續配置之金屬細線14構成之直線配線21a1及21b1(配線圖案24a)位於透明基體12的上側,點線表示由2根連續配置之金屬細線14構成之直線配線21a2及21b2(配線圖案24b)位於透明基體12的下側。
在圖2、圖3A及圖3B所示之例子中,配線部16係具有2層的配線層28(28a及28b),在各配線層28a及28b中分別具有將連續配置有在以既定角度交叉之2個方向上分別平行地排列之2根金屬細線14之直線配線21a1及21b1、以及21a2及21b2重疊而成之配線圖案24,在正面視時構成網格狀配線圖案25a者,但本發明並不限定於此。例如,亦可以僅在交叉之2個方向中的任意1個方向上,在配線層28a和28b中分別具有 連續配置有平行地排列之2根金屬細線14之直線配線,在另1個方向上具有將平行地排列之金屬細線14交替地配置於配線層28a和28b之直線配線。又,本發明中,配線部16可以具有3層以上的配線層,亦可以在1層的配線層中具有連續配置有在1個方向上平行地排列之3根以上的金屬細線之配線圖案,亦可以在2層以上的配線層中具有將在1個方向上平行地排列之直線配線沿3方向以上重疊而成之配線圖案。
另外,只要配線部16所具有之配線層的數量為2層以上,則並不特別限制。
又,只要連續配置之金屬細線的根數為2根以上,則並不特別限制。
然而,若在正面視時分別在1個方向上關注圖2所示之配線圖案24,則亦能夠說係將由直線配線21a形成之配線圖案23a和由直線配線21b形成之配線圖案23b重疊而成者,該直線配線21a由圖4A所示之包含在1個方向上分別平行地連續配置之2根金屬細線14之直線配線21a1及21a2構成,該直線配線21b由圖4B所示之包含在另1個方向上分別平行地連續配置之2根金屬細線14之直線配線21b1及21b2構成。
本發明中,在正面視時,由圖4A所示之直線配線21a形成之配線圖案23a及由圖4B所示之直線配線21b形成之配線圖案23b均係連續配置有在1個方向上平行地排列之2根以上的金屬細線之配線圖案。又,在正面視時,由圖4A所示之直線配線21a形成之配線圖案23a及由圖4B所示之直線配線21b形成之配線圖案23b分別係均具有4根金屬細線14的重複間距Pra和Prb,各個重複間距Pra和Prb為等間距(Pra和Prb為恆定值)且直線 配線21a的4根的各個金屬細線14的間距P1a、P2a、P3a及P4a為非等間距(P1a、P2a、P3a及P4a中至少2個間距不同)的非等間距的配線圖案。同時,係直線配線21b的4根的各個金屬細線14的間距P1b、P2b、P3b及P4b為非等間距(P1b、P2b、P3b及P4b中至少2個間距不同)的非等間距配線圖案。又,直線配線21a和21b的4根金屬細線14各自的重複間距Pra和Prb相同(Pra=Prb),直線配線21a和21b的4根的各個金屬細線14的間距亦相同(P1a=P1b且P2a=P2b且P3a=P3b且P4a=P4b)。
在此,若在正面視時將直線配線21a1及21a2稱為直線配線21a,將直線配線21b1及21b2稱為直線配線21b,則配線圖案23a和配線圖案23b重疊而成之配線圖案25a能夠說係排列有既定形狀的開口部(單元)22之網格狀配線圖案,該既定形狀的開口部22係在正面視時如圖2所示藉由非等間距的配線圖案的直線配線21a與直線配線21b的重疊使複數個金屬細線14彼此相互交叉而形成。
因此,網格狀配線圖案25a能夠說係具有在正面視時相互保持既定角度且間距(因此尺寸)不同之複數種平行四邊形的形狀之開口部22在成為既定角度之2個方向上複數個連續相連而成之配線圖案。
在圖2所示之正面視的網格狀配線圖案25a的配線圖案23a及23b中,4根金屬細線14的重複間距Pra及Prb為等間距,4根的各個金屬細線14的間距P1a、P2a、P3a及P4a、又,P1b、P2b、P3b及P4b為非等間距,但本發明並不限定於此,只要為既定根數的金屬細線14的重複間距為等間距且該既 定根數的各個金屬細線14的間距為非等間距的非等間距配線圖案即可。
能夠設為非等間距之金屬細線14的最小根數為2根,因此既定根數為2根以上。又,既定根數係64根以下為較佳,32根以下為更佳,16根以下為進一步較佳。特佳的既定根數為2根以上且8根以下。其原因如後面所說明,是因為,越增加設為非等間距之既定根數,直線配線21的最小頻率越降低,直線配線21本身越容易被辨識。又,認為是因為,越增加既定根數,直線配線21的頻率成分越細地擴大,因此,其結果會導致較細地產生複數個疊紋成分,無論如何將既定根數的金屬細線14的間距最優化,亦難以使複數個疊紋的全部遠離像素排列圖案的各頻率成分。另外,本發明中,無需既定根數的金屬細線14全部的間距不同,只要既定根數的金屬細線14中至少2根金屬細線的間距不同即可。
在該情況下,在至少1個方向上,非等間距的配線圖案亦當然需要為在1層的配線層中連續配置有平行地排列之2根以上的金屬細線14之配線圖案。
又,在圖2所示之例子中,在正面視時,網格狀配線圖案25a係在將構成圖4A所示之配線圖案23a之直線配線21a1和21a2組合而成之直線配線21a和將構成圖4B所示之配線圖案23b之直線配線21b1和21b2組合而成之直線配線21b的2個方向的直線配線21中既定根數(4根)的金屬細線14的重複間距為等間距且既定根數(4根)的金屬細線14的間距為非等間距的非等間距配線圖案,但本發明並不限定於此。本發明中,例如,可以如圖5所示之配線圖案25b那樣,作為既定根數的金屬細線 14的重複間距為等間距且既定根數的各個金屬細線14的間距為非等間距的非等間距配線圖案之方向不同之直線配線可以僅為1個方向的直線配線21(直線配線21a及21c中的任一個)。又,雖未圖示,但亦可以為3個方向以上的直線配線21全部係既定根數的金屬細線14的重複間距為等間距且既定根數的各個金屬細線14的間距為非等間距的非等間距配線圖案。
又,直線配線的方向的數量只要為2個方向以上,則並不特別限制。另外,重疊方向不同之直線配線21的方向的數量係8個方向以下為較佳,4個方向以下為更佳,2個方向為進一步較佳。其原因如後面所說明,是因為為了確保透射率,每單位面積的金屬細線14的根數存在上限,因此直線配線21的方向的數量少時,能夠增加每1個方向的金屬細線14的根數,結果能夠縮小金屬細線14的配線間距而使疊紋難以產生。又,是因為,金屬細線14的配線間距窄時,在不影響直線配線21本身的可見性之範圍內能夠更自由地將既定根數的金屬細線14的間距最優化而減少疊紋。另一方面,為了防止作為導電性薄膜的觸控感測器之功能欠缺,直線配線21的方向的數量最少需要2個方向,因此2個方向為最佳。
在圖2所示之正面觀察時的配線圖案25a中,將重複間距相等之直線配線21a及21b在2個方向上進行了重疊,但本發明並不限定於此,亦可以將重複間距不同之直線配線在2個方向以上進行重疊。在此,在將直線配線沿2個方向重疊而成之配線圖案中,當如圖2所示之例子那樣在正面觀察時2個方向的重複間距相等時,以該重複間距的單位成為菱形,當2個方向的重複間距不同時,以該重複間距的單位成為平行四邊形。
圖5所示之本發明的第2實施例的配線圖案25b係將由圖4A所示之直線配線21a構成之配線圖案23a和由圖6所示之直線配線21c構成之配線圖案23c重疊而排列成網格狀之網格狀配線圖案,該直線配線21a在1個方向上平行地排列、既定根數(4根)的金屬細線14的重複間距為等間距且既定根數(4根)的金屬細線14的間距為非等間距,該直線配線21c由在另1個方向上平行地且以等間距排列之複數個金屬細線14構成。
在該情況下,非等間距的配線圖案23a亦當然需要為在1層的配線層中連續配置有平行地排列之2根以上的金屬細線14之配線圖案。
又,如圖5、圖6所示,等間距的配線圖案23c亦可以為在1層的配線層中連續配置有平行地排列之2根以上的金屬細線14之配線圖案。詳細內容將在後面進行敘述,藉由不僅在非等間距的配線圖案中,在等間距的配線圖案中亦設為在1層的配線層中連續配置有平行地排列之2根以上的金屬細線之配線圖案,與在各層中交替地配置有配線之配線圖案相比,能夠減少傾斜觀察時的疊紋產生。因此,如圖6所示,等間距的配線圖案23c亦可以設為在1層的配線層中連續配置有平行地排列之2根以上的金屬細線14之配線圖案。
如此,本發明中,至少具有由在1個方向上平行地排列、既定根數的金屬細線14的重複間距為等間距且既定根數的金屬細線14的間距為非等間距的直線配線構成之配線圖案即可。在此,重疊於具有該本發明的特徵之直線配線上之由在另1個方向上平行地排列之複數個金屬細線構成之線配線無需一定為直線配線,亦可以為曲線配線、例如如後面敘述之圖94所示 之曲線配線23f,亦可以為由折線構成之線配線。本發明中,將由直線配線、曲線配線及折線構成之線配線等統稱為線配線。本發明中,為了減少疊紋,被重疊之2個方向以上的線配線係在被重疊之2個方向以上的所有方向上為直線配線為較佳。另外,以下以被重疊之2個方向以上的線配線全部為直線配線的例子為代表例進行說明,但只要被重疊之2個方向以上的線配線中至少1個方向的線配線為具有本發明的特徵之直線配線,則其他的至少1個方向的線配線為非直線配線的情況當然亦包含於本發明中。
配線圖案25b包含直線配線21a的非等間距的配線圖案23a,因此能夠說係具有平面視時相互保持既定角度且間距(因此尺寸)不同之複數種平行四邊形的形狀之開口部22在成既定角度之2個方向上複數個連續相連而成之配線圖案。
另外,既定根數的金屬細線14的重複間距為等間距且既定根數的金屬細線14的間距為非等間距的方向不同之直線配線21的數量當然為被重疊之方向不同之直線配線的方向的數量以下,但與被重疊之方向不同之直線配線的方向的數量相等為較佳。亦即,在被重疊之所有方向的直線配線21中,既定根數的金屬細線14的重複間距為等間距且既定根數的金屬細線14的間距為非等間距為較佳。其原因如後面所說明,是因為在各個方向的直線配線21中,將既定根數的金屬細線14分別設為非等間距以相互抵消導致產生疊紋之頻率成分,藉此與設為等間距相比更能夠減少疊紋,因此在所有方向的直線配線21中設為非等間距以相互抵消導致產生疊紋之頻率成分來減少疊紋為較佳。又,本發明中,設為非等間距之既定根數的金屬細線14的重複間距、各個金屬細線14的間距及既定根數可以在所有方向上相同,亦可以 在各個方向上不同。
另外,在圖4A所示之配線圖案23a及圖4B所示之配線圖案23b的直線配線21(21a及21b)中,關於重複間距為等間距的既定根數的金屬細線14中至少2根金屬細線14的非等間距,將重複間距除以既定根數的平均間距設為100%時,為了不使直線配線21本身被辨識,10%以上或190%以下為較佳,又,為了得到減少疊紋之效果,99%以下或101%以上為較佳。亦即,為了使直線配線21本身不被辨識而得到減少疊紋之效果,至少2根金屬細線的非等間距係10%以上且99%以下或101%以上且190%以下為較佳。
又,作為既定根數的重複間距的偏差,在±20%以內為較佳,在±10%以內為更佳,在±5%以內為進一步較佳。
另外,詳細內容將在後面進行敘述,導電性薄膜10包含如下配線圖案,該配線圖案係將2個方向以上的直線配線21重疊而成之配線圖案,且係具有2層以上的配線層28,在至少1個方向的直線配線21中在1層的配線層28中連續配置有平行地排列之2根以上的金屬細線14之配線圖案,並且係在至少1個方向的直線配線21中既定根數的金屬細線14的重複間距為等間距且既定根數的各個金屬細線14的間距為非等間距的非等間距配線圖案。又,導電性薄膜10係具有無論在正面觀察時(正面視)還是在傾斜觀察時對於顯示單元的像素排列圖案的既定的亮度(亮度圖像資料)均在疊紋可見性的觀點上被最優化之配線圖案者。另外,本發明中,相對於既定亮度的像素排列圖案在疊紋可見性的觀點上被最優化之配線圖案係指相對於既定亮度的像素排列圖案,疊紋不會被人的視覺察覺之配線圖案。
因此,配線圖案25a及25b係連續配置有2根以上的金屬細線14之配線圖案,且係具有非等間距的配線圖案者,且係對於顯示單元的像素排列圖案的既定的亮度(亮度圖像資料)在疊紋可見性的觀點上被最優化之配線圖案,並且係由配線圖案24a和24b(的透射率圖像資料)或者配線圖案23a和23b或23c(的透射率圖像資料)重合而成之合成配線圖案25a及25b的合成圖像資料和分別點亮顯示器的複數個顏色的光時的各顏色的像素排列圖案的亮度圖像資料求出之疊紋的評價指標成為既定評價閾值以下之配線圖案。亦即,配線圖案25a及25b能夠說係包含如下非等間距的配線圖案之配線圖案,該非等間距的配線圖案重疊於既定發光強度的顯示器的顯示畫面而能夠充分抑制疊紋的產生,從而能夠提高可見性,並且相對於顯示單元的既定亮度的像素排列圖案在疊紋可見性的觀點上被最優化。
本發明中,如上所述,藉由使用如下非等間距的配線圖案,能夠生成疊紋的可見性優異之配線圖案,該非等間距的配線圖案係將2個方向以上的直線配線重疊而成之配線圖案,且係在至少1個方向的直線配線中在1層的配線層中連續配置有平行地排列之2根以上的金屬細線之配線圖案,並且相對於顯示單元的既定亮度的像素排列圖案在疊紋可見性的觀點上被最優化。
又,在被包含於該種最優化之配線圖案的配線圖案24及25b中,可以在構成開口部22之金屬細線14的邊(直線配線21)上形成有斷線(斷路),亦可以如後面敘述之虛設電極部或電極內虛設圖案部那樣,為了形成電絕緣性而金屬細線14由斷線(斷路)在中途被切斷。另外,在重疊於非等間距的配線圖案的直線配線21a之圖5所示之等間距的直線配線21c中,當然亦可以在構成 開口部22之金屬細線14的邊上形成有斷線(斷路),亦可以金屬細線14在中途被切斷。作為該種具有斷路(斷線部)之網格狀配線圖案的形狀,能夠適用本申請人的申請之日本專利6001089號或WO2013/094729中所記載之導電性薄膜的網格狀配線圖案的形狀。
在圖1所示之實施形態的導電性薄膜10中,藉由重合在正面視(正面觀察)時圖1中透明基體12的上側(觀察側)的第1子配線部16a的複數個金屬細線14和下側(顯示器側)的第2子配線部16b的複數個金屬細線14而構成由直線配線21a與直線配線21b或21c的重合而形成之合成配線圖案25a或25b。在圖1所示之實施形態的導電性薄膜10中,配線圖案24a及24b與合成配線圖案25a及25b同樣地亦係包含非等間距的配線圖案之配線圖案。而且,合成配線圖案25a及25b係包含無論在正面視(正面觀察)還是在傾斜觀察時對於顯示單元的既定亮度的像素排列圖案在疊紋可見性的觀點上均被最優化之非等間距的配線圖案之配線圖案。
亦即,在圖1所示之例子中,藉由將第1子配線部16a的配線層28a及第2子配線部16b的配線層28b的各層設為如圖3A或圖3B所示之連續配置有2根以上的配線之非等間距的配線圖案,能夠將由第1子配線部16a與第2子配線部16b的金屬細線14的配線圖案24a與24b的重合而形成之合成配線圖案25a(24)設為無論在正面觀察時還是在傾斜觀察時在在疊紋可見性的觀點上均被最優化之配線圖案。然而,本發明並不限定於此,只要具有在配線層28a及配線層28b中的至少1層中具有連續配置有2根以上的配線之非等間距的配線圖案,且該非等 間距的配線圖案與其他層的配線圖案的合成配線圖案成為無論在正面觀察時還是在傾斜觀察時在疊紋可見性的觀點上均被最優化之配線圖案,則配線層28a及配線層28b的各層的配線圖案可以任意地構成。
如上所述,第1保護層20a以被覆第1子配線部16a的金屬細線14之方式利用第1黏接層18a黏接於由第1子配線部16a構成之配線層28a的大致整個面。又,第2保護層20b以被覆第2子配線部16b的金屬細線14之方式利用第2黏接層18b黏接於由第2子配線部16b構成之配線層28b的大致整個面。
在上述例子中,第1保護層20a利用第1黏接層18a黏接於配線層28a,第2保護層20b利用第2黏接層18b黏接於配線層28b的大致整個面,但本發明並不限定於此,保護層只要藉由被覆子配線部的金屬細線而能夠對其進行保護,則無需一定要將兩者黏接,亦可以沒有黏接層。又,亦可以沒有第1保護層20a和/或第2保護層20b。
在此,作為黏接層18(第1黏接層18a及第2黏接層18b)的材料,可以舉出濕式層合(wet laminate)黏接劑、乾式層合(dry laminate)黏接劑或熱熔體(hot melt)黏接劑等,但第1黏接層18a的材質和第2黏接層18b的材質可以相同,亦可以不同。
又,與透明基體12同樣地,保護層20(第1保護層20a及第2保護層20b)由包含樹脂、玻璃、矽之透光性高的材料構成,但第1保護層20a的材質和第2保護層20b的材質可以相同,亦可以不同。
第1保護層20a的折射率n1及第2保護層20b的折射率n2均係與透明基體12的折射率n0相等或接近其的值為較佳。在該情況下,相對於第1保護層20a之透明基體12的相對折射率nr1及相對於第2保護層20b之透明基體12的相對折射率nr2均成為接近1的值。
在此,本說明書中之折射率係指在波長589.3nm(鈉的D線)的光中之折射率,例如在樹脂中以作為國際標準規格之ISO 14782:1999(對應於JIS K 7105)來定義。又,透明基體12相對於第1保護層20a之相對折射率nr1以nr1=(n1/n0)來定義,透明基體12相對於第2保護層20b之相對折射率nr2以nr2=(n2/n0)來定義。
在此,相對折射率nr1及相對折射率nr2只要在0.86以上且1.15以下的範圍即可,更佳為0.91以上且1.08以下。
另外,藉由將相對折射率nr1及相對折射率nr2的範圍限定在該範圍來控制透明基體12與保護層20(20a、20b)的構件之間的光的透射率,能夠進一步提高並改善疊紋的可見性。
在圖1所示之實施形態的導電性薄膜10中,透明基體12的上側及下側這兩側的配線部16(子配線部16a及16b)均成為具備複數個金屬細線14之電極部,但本發明並不限定於此,亦可以將第1子配線部16a及第2子配線部16b中的至少一個由電極部和非電極部(虛設電極部)構成。
圖7係表示本發明的第2實施形態之導電性薄膜的一例之示意性局部剖面圖。另外,圖7所示之本發明的第2實施形態的導電性薄膜的配線圖案的平面圖與圖2或圖5所示之配線圖案的平面圖相同,因此在此省略。
如圖7所示,本發明的第2實施形態的導電性薄膜11具有:由形成於透明基體12的一個(圖7的上側)面之第1電極部17a及虛設電極部26構成之第1子配線部16a;由形成於透明基體12的另一個(圖7的下側)面之第2電極部17b構成之第2子配線部16b;經由第1黏接層18a黏接於由第1電極部17a及虛設電極部26構成之第1子配線部16a的大致整個面之第1保護層20a;及經由第2黏接層18b黏接於由第2電極部17b構成之第2子配線部16b的大致整個面之第2保護層20b。
在導電性薄膜11中,第1電極部17a及虛設電極部26分別由複數個金屬細線14構成,並且作為配線層28a而形成於透明基體12的一個(圖7的上側)面,第2電極部17b由複數個金屬細線14構成,且作為配線層28b而形成於透明基體12的另一個(圖7下側)面。在此,與第1電極部17a同樣地,虛設電極部26形成於透明基體12的一個(圖7的上側)面,如圖示例那樣,由與在形成於另一個(圖7的下側)面之第2電極部17b的複數個金屬細線14相對應之位置上同樣地排列之複數個金屬細線14構成。
虛設電極部26與第1電極部17a分開既定間隔而配置,並處於與第1電極部17a電絕緣之狀態下。
在本實施形態的導電性薄膜11中,在透明基體12的一個(圖7的上側)面上亦形成有由與形成於透明基體12的另一個(圖7的下側)面之第2電極部17b的複數個金屬細線14相對應之複數個金屬細線14構成之虛設電極部26,因此能夠控制透明基體12的一個(圖7的上側)面上的由金屬細線所引起之散射,從而能夠改善電極可見性。
在此,配線層28a的第1電極部17a及虛設電極部26具有金屬細線14和由開口部22形成之網格狀的配線圖案24a。又,與第1電極部17a同樣地,配線層28b的第2電極部17b具有金屬細線14和由開口部22形成之網格狀的配線圖案24b。如上所述,透明基體12由絕緣性材料構成,第2電極部17b處於與第1電極部17a及虛設電極部26電絕緣之狀態下。
另外,第1電極部17a、第2電極部17b及虛設電極部26分別能夠由與圖1所示之導電性薄膜10的配線部16相同之材料相同地形成。
另外,第1保護層20a以被覆第1子配線部16a的第1電極部17a及虛設電極部26各自的金屬細線14之方式利用第1黏接層18a黏接於由第1電極部17a及虛設電極部26構成之配線層28a的大致整個面。
又,第2保護層20b以被覆第2子配線部16b的第2電極部17b的金屬細線14之方式利用第2黏接層18b黏接於由第2電極部17b構成之配線層28b的大致整個面。
另外,圖7所示之導電性薄膜11的第1黏接層18a及第2黏接層18b以及第1保護層20a及第2保護層20b與圖1所示之導電性薄膜10相同,因此省略其說明。如上所述,亦可以沒有第1保護層20a、第2保護層20b、第1黏接層18a、第2黏接層18b。
另外,在本實施形態的導電性薄膜11中,具備第2電極部17b之第2子配線部16b不具有虛設電極部,但本發明並不限定於此,亦可以在第2子配線部16b中與第1子配線部16a的第1電極部17a相對應之位置上配置與第1電極部17a 分開既定間隔而處於與第2電極部17b電絕緣之狀態下之由金屬細線14構成之虛設電極部。
在本實施形態的導電性薄膜11中,亦能夠藉由在上述第1子配線部16a設置虛設電極部26,又,在第2子配線部16b設置該種虛設電極部,而使第1子配線部16a的第1電極部17a與第2子配線部16b的第2電極部17b的各網格配線對應配置,因此能夠控制透明基體12的一個(例如,圖7的上側或下側)面上的由金屬細線所引起之散射,從而能夠改善電極可見性。另外,在此所說之虛設電極部相當於WO2013/094729中所記載之非導電圖案。
在圖1所示之第1實施形態的導電性薄膜10及圖7所示之第2實施形態的導電性薄膜11中,在透明基體12的上側及下側這兩側分別形成有子配線部16a及16b,但本發明並不限定於此,亦可以如圖8所示之本發明的第3實施形態的導電性薄膜11A那樣,設為將如下導電性薄膜要素重疊2個之結構,該導電性薄膜要素係在透明基體12a和12b各自的一個面(圖8中上側的面)形成有由複數個金屬細線14構成之子配線部16a及16b,並在子配線部16a及16b各自的大致整個面以被覆金屬細線14之方式經由黏接層18a及18b黏接有保護層20a及20b。
圖8所示之本發明的第3實施形態的導電性薄膜11A具有:圖8中下側的透明基體12b;形成於該透明基體12b的上側面之由複數個金屬細線14所形成之第2子配線部16b;經由第2黏接層18b黏接於第2子配線部16b上之第2保護層20b;例如利用黏接劑等黏接並配置於第2保護層20b上之上側的透明基體12a;形成於該透明基體12a的上側面之由複數個金 屬細線14構成之第1至配線部16a;及經由第1黏接層18a黏接於第1子配線部16a上之第1保護層20a。
在此,第1子配線部16a和/或第2子配線部16b的金屬細線14的至少一個的全部或一部分係包含在至少1個方向上連續配置有2根以上的圖3A或圖3B所示之配線之配線圖案之配線圖案,由第1子配線部16a的配線圖案與第2子配線部16b的配線圖案的重合而形成之合成配線圖案係包含圖2或圖5所示之非等間距的配線圖案25a或25b之配線圖案。
上述本發明的第1實施形態的導電性薄膜10、第2實施形態的導電性薄膜11及第3實施形態的導電性薄膜11A例如適用於圖9中示意性地表示之顯示單元30(顯示器)的觸控面板(44:參閱圖10),係在由導電性薄膜的上側或下側的兩個子配線部的配線圖案的重合而形成之合成配線圖案中包含相對於顯示器的像素排列(BM)圖案在疊紋可見性的觀點上被最優化之配線圖案者。
另外,關於本發明中必須之配線圖案相對於顯示器的像素排列圖案之疊紋可見性的最優化,將在後面進行敘述。
本發明的導電性薄膜基本上如上構成。
圖9係示意性地表示適用本發明的導電性薄膜之顯示單元的一部分像素排列圖案的一例之概略說明圖。
如圖9中示出其一部分那樣,在顯示單元30中,複數個像素32排列成矩陣狀而構成有既定的像素排列圖案。1個像素32係3個子像素(紅色子像素32r、綠色子像素32g及藍色子像素32b)在水平方向上排列而構成。1個子像素呈沿垂直方向縱長之長方形狀。像素32的水平方向的排列間距(水平像素間距Ph)與 像素32的垂直方向的排列間距(垂直像素間距Pv)大致相同。亦即,由1個像素32和包圍該1個像素32之黑矩陣(BM)34(圖案材料)構成之形狀(參閱以陰影線表示之區域36)呈正方形。又,在圖9所示之例子中,1個像素32的縱橫比(aspect ratio)並非1,而成為水平方向(橫)的長度>垂直方向(縱)的長度。
由圖9明確可知,由複數個像素32各自的子像素32r、32g及32b構成之像素排列圖案以分別包圍該等子像素32r、32g及32b之BM34的BM圖案38來規定。將顯示單元30和導電性薄膜10、11或11A重疊時所產生之疊紋係因以顯示單元30的BM34的BM圖案38規定之子像素32r、32g及32b各自的像素排列圖案與導電性薄膜10、11或11A的配線圖案24的干涉而產生。
當在具有上述子像素32r、32g及32b各自的像素排列圖案之顯示單元30的顯示面板上例如配置導電性薄膜10、11或11A時,就導電性薄膜10、11或11A的配線圖案25a(配線圖案24a與24b的合成配線圖案24)而言,配線圖案24a和24b係連續配置有2根以上的配線之配線圖案,正面視的合成配線圖案25a包含非等間距的配線圖案,並且相對於子像素32r、32g及32b各自的像素排列圖案在疊紋可見性的觀點上被最優化,因此不存在子像素32r、32g及32b各自的像素排列圖案與導電性薄膜10、11或11A的金屬細線14的配線圖案之間的空間頻率的干涉,無論在正面觀察時還是在傾斜觀察時均可抑制疊紋的產生,成為疊紋的可見性優異者。以下,以導電性薄膜10為代表例進行說明,但在導電性薄膜11或11A中亦相同。
另外,圖9所示之顯示單元30可以由液晶面板、電漿面板、 有機EL面板、無機EL面板等顯示面板構成,其發光強度可以根據解析度而不同。
能夠適用於本發明之顯示器的像素排列圖案及其發光強度並不特別限制,可以為以往公知的任何顯示器的像素排列圖案及其發光強度,可以為OELD等RGB的各顏色的週期和/或強度不同者,亦可以為如圖9所示之由同一形狀的RGB子像素構成且子像素內的強度偏差大者、或子像素內的強度偏差小且僅考慮強度最高的G子像素(通道)即可者,尤其可以為如智慧手機或平板終端等強度高的顯示器等。
作為OELD的像素圖案,例如有日本特開2018-198198號公報中所揭示之PenTile排列。作為組裝有本發明的導電性薄膜之顯示裝置的顯示器,可以為PenTile排列的OELD。
接著,參閱圖10對組裝有本發明的導電性薄膜之顯示裝置進行說明。在圖10中,作為顯示裝置40,舉出組裝有本發明的第1實施形態之導電性薄膜10之投影型靜電電容方式的觸控面板為代表例進行說明,當然本發明並不限定於此。
如圖10所示,顯示裝置40具有:能夠顯示彩色圖像和/或單色圖像之顯示單元30(參閱圖9);檢測從輸入面42(箭頭Z1方向側)之接觸位置之觸控面板44;及收容顯示單元30及觸控面板44之框體46。經由設置於框體46的一面(箭頭Z1方向側)之大的開口部,使用者能夠接觸觸控面板44。
觸控面板44除了上述導電性薄膜10(參閱圖1及圖2)以外,還具備積層於導電性薄膜10的一面(箭頭Z1方向側)之覆蓋構件48、經由電纜50與導電性薄膜10電連接之可撓性基板52及配置於可撓性基板52上之檢測控制部54。
在顯示單元30的一面(箭頭Z1方向側)經由黏接層56黏接有導電性薄膜10。導電性薄膜10以使另一個主面側(第2配線部16b側)與顯示單元30對向之方式配置於顯示畫面上。
覆蓋構件48藉由被覆導電性薄膜10的一面而發揮作為輸入面42之功能。又,藉由防止接觸體58(例如,手指或觸控筆)的直接接觸,能夠抑制擦傷的產生和/或塵埃的附著等,能夠使導電性薄膜10的導電性穩定。
覆蓋構件48的材質例如可以為玻璃、強化玻璃或樹脂薄膜。可以使覆蓋構件48的一面(箭頭Z2個方向側)以用氧化矽等塗佈之狀態與導電性薄膜10的一面(箭頭Z1方向側)密接。又,為了防止由摩擦等所引起之損傷,可以將導電性薄膜10及覆蓋構件48貼合而構成。
可撓性基板52係具備可撓性之電子基板。在本圖示例中,固定於框體46的側面內壁,但配設位置可以進行各種變更。檢測控制部54構成電子電路,該電路電路在使作為導體之接觸體58與輸入面42接觸(或接近)時,掌握接觸體58與導電性薄膜10之間的靜電電容的變化來檢測該接觸位置(或靠近位置)。
適用本發明的導電性薄膜之顯示裝置基本上如上構成。
接著,本發明中,對如下情況進行說明:在將2個方向以上的直線配線重疊而成之配線圖案或將1個方向以上的直線配線和其他的1個方向以上的非直線配線的線配線(例如,曲線或折線等)重疊而成之配線圖案中,具有2層以上的配線層,在至少1個方向的直線配線中在各層中連續配置2根以上的配線,藉此,在該方向上,與以往的在各層中交替地配置配線之配線圖 案相比,能夠減少傾斜觀察時的疊紋產生。首先,對將像素排列圖案和配線圖案重疊時產生疊紋之原理進行說明,接著,對傾斜觀察時產生疊紋之原因進行說明。而且,對藉由本發明的“在各層中連續配置2根以上的配線”,與以往的交替配置相比,能夠減少傾斜觀察時的疊紋產生之原理進行說明。又,對藉由在正面觀察時“將既定根數的配線的重複間距設為等間距,同時將既定根數的各個配線的間距設為非等間距”,能夠進一步減少疊紋之情況進行說明。
另外,以下將重疊之2個方向以上的線配線全部為直線配線的配線圖案為代表例進行說明,但只要重疊之2個方向以上的線配線中至少1個方向的線配線為直線配線,則藉由在該直線配線中設為本發明的“在各層中連續配置2根以上的配線”,在該直線配線中,與以往的交替配置相比,當然能夠減少傾斜觀察時的疊紋產生。又,藉由在該直線配線中“將既定根數的配線的重複間距設為等間距,同時將既定根數的各個配線的間距設為非等間距”,當然能夠進一步減少疊紋。
為了進行容易理解之說明,一維地進行考慮。
首先,將像素排列的發光亮度圖案設為bm(x)。其中,bm(x)表示位置x上之亮度。若對bm(x)進行傅立葉級數展開,則能夠如下述式(3)那樣表示。其中,記號“*”表示乘法運算。又,bm(x)設為週期2*Lb的週期函數,ω1、ω2、ω3、......分別為π/Lb、2*π/Lb、3*π/Lb、......。
bm(x)=A0+(a1*cos(ω1*x)+b1*sin(ω1*x)+a2*cos(ω2* x)+b2*sin(ω2*x).......)......(3)
根據歐拉公式,cos(ωn*x)及sin(ωn*x)分別能夠如下那樣以複數表示。其中,i表示虛數單位。
cos(ωn*x)=(exp(i*ωn*x)+exp(-i*ωn*x))/2
sin(ωn*x)=(exp(i*ωn*x)-exp(-i*ωn*x))/(2*i)
因此,上述式(3)成為如下述式(4)那樣。
bm(x)=A0+(((a1-i*b1)/2)*exp(i*ω1*x)+((a1+i*b1)/2)*exp(-i*ω1*x).......)......(4)
如此,上述式(4)能夠以複數如下述式(5)那樣表示。
bm(x)=A0+Σ(An*exp(i*ωn*x)+Bn*exp(-i*ωn*x))......(5)
其中,An及Bn如下那樣均以複數成為共軛關係。
An=(an-i*bn)/2
Bn=(an+i*bn)/2
同樣地,若將配線的透射率圖案設為mesh(x)而以複數的傅立葉級數表示mesh(x),則能夠如下述式(6)那樣表示。
mesh(x)=C0+Σ(Cm*exp(i*βm*x)+Dm*exp(-i*βm*x))......(6)
其中,mesh(x)設為週期2*Lm的週期函數,βm表示m*π/Lm。又,Cm及Dm如下那樣均以複數成為共軛關係。
Cm=(cm-i*dm)/2
Dm=(cm+i*dm)/2
將像素排列圖案和配線圖案重疊而成之圖案成為上述像素排列的發光亮度圖案(5)和配線的透射率圖案(6)的乘法運算,因此可如下表示。
bm(x)*mesh(x)=A0*C0+C0*(Σ(An*exp(i*ωn*x)+Bn*exp(-i*ωn*x)))+A0*(Σ(Cm*exp(i*βm*x)+Dm*exp(-i*βm*x)))+ΣΣ(An*exp(i*ωn*x)+Bn*exp(-i*ωn*x))*(Cm*exp(i*βm*x)+Dm*exp(-i*βm*x))......(7)
上述式(7)中,第1行的A0*C0表示重疊圖案的平均亮度,第2行表示乘以配線圖案的平均透射率C0而得到之像素排列的亮度圖案的各頻率成分,第3行表示乘以像素排列圖案的平均亮度A0而得到之配線圖案的各頻率成分。
利用第4行的式給出重疊圖案的疊紋。關於第4行的式,若對一個n與m的組合進行展開,則能夠以下述式(8)表示。
(An*exp(i*ωn*x)+Bn*exp(-i*ωn*x))*(Cm*exp(i*βm*x)+Dm*exp(-i*βm*x))=An*Cm*exp(i*(ωn*x+βm*x))+Bn*Dm*exp(-i*(ωn*x+βm*x))+An*Dm*exp(i*(ωn*x-βm*x))+Bn*Cm*exp(-i*(ωn*x-βm*x))......(8)
其中,An與Bn為共軛關係,Cm與Dm亦為共軛關係,基於此,可知上式的An*Cm與Bn*Dm及An*Dm與Bn*Cm為共軛關係。
又,可知上式的An*Cm*exp(i*(ωn*x+βm*x))與Bn*Dm*exp(-i*(ωn*x+βm*x))及An*Dm*exp(i*(ωn*x-βm*x))與Bn*Cm*exp(-i*(ωn*x-βm*x))亦為共軛關係。
在此,An*Cm及Bn*Dm能夠如下表示。
An*Cm=ABS(An*Cm)*exp(i*θ1)
Bn*Dm=ABS(An*Cm)*exp(-i*θ1)
如此一來,上述式(8)的An*Cm*exp(i*(ωn*x+βm*x))+Bn*Dm*exp(-i*(ωn*x+βm*x))成為2*ABS(An*Cm)*cos(ωn*x+βm*x+θ1),能夠僅以實數來表示。其中,ABS(An*Cm)表示複數An*Cm的絕對值。
同樣地,上述式(8)的An*Dm*exp(i*(ωn*x-βm*x))+Bn*Cm*exp(-i*(ωn*x-βm*x))成為2*ABS(An*Dm)*cos(ωn*x-βm*x+θ2),能夠僅以實數來表示。結果,關於上述式(7)式的第4行的式,若對一個n與m的組合進行展開,則成為下述式(9)。
2*ABS(An*Cm)*cos(ωn*x+βm*x+θ1)+2*ABS(An*Dm)*cos(ωn*x-βm*x+θ2)......(9)
由上述式(9)可知,若將像素排列圖案和配線圖案進行重疊(亦即,乘法運算),則在各自的頻率ωn及βm之和的頻率ωn+βm下產生強度2*ABS(An*Cm)=2*ABS(An)*ABS(Cm)的疊紋,在差的頻率ωn-βm下產生強度2*ABS(An*Dm)=2*ABS(An)*ABS(Dm)的疊紋。其中,ABS(Cm)和ABS(Dm)均為配線圖案的頻率βm的強度且成為相同之值。
另外,如在至今為止的說明中可知那樣,ABS(An)、ABS(Bn)、ABS(Cm)、ABS(Dm)分別為複數傅立葉級數下之強度,因此成為實數的傅立葉級數下之強度的1/2(這是因為,在複數傅立葉級數中分離為共軛關係的2個複數)。
又,由上述式(8)可知,在將像素排列圖案和配線圖案重疊(乘法運算)而成之圖案的一維頻率分佈中,將像素排列圖案的一維頻率分佈中之各頻率ωn的成分的係數An及Bn與配線圖案 的一維頻率分佈中之各頻率βm的成分的係數Cm及Dm的乘法運算值(複數)作為係數之疊紋成分係在將各個頻率進行加法運算而得到之頻率下產生。其中,將係數Bn的頻率視為-ωn,將係數Dm的頻率視為-βm。該等疊紋中成為問題之疊紋係頻率ωn-βm(及-(ωn-βm))的疊紋。這是因為,人的視覺響應特性對低頻圖案具有靈敏度,因此即使像素排列圖案和配線圖案的各自的頻率ωn及βm的圖案不被辨識,由於頻率ωn-βm的疊紋為低頻,因此亦有可能被辨識。
至今為止,為了容易理解說明,一維地考慮了像素排列的亮度圖案和配線的透射率圖案。兩個圖案實際上為二維,但在二維的情況下,不僅考慮x方向的頻率,還考慮y方向的頻率即可,能夠同樣導出表示疊紋之式。作為結論,在二維的情況下,在像素排列的亮度圖案和配線的透射率圖案的x方向及y方向各自的頻率成分之差的頻率與和的頻率下會產生各個強度之積的強度的疊紋。
接著,利用具體例進行說明。在圖11中示意性地表示圖9所示之顯示單元30的子像素32r、32g及32b中的任一像素排列的亮度圖案的一例。又,在圖12中示意性地表示等間距的配線圖案(亦即,配線的透射率的圖案)25c。
其中,將圖12所示之配線圖案25c的開口部22的形狀設為菱形,在圖12中示出與x方向所成之角度為26°、間距為101μm的例子。當配線圖案25的開口部22的形狀為菱形時,能夠由2個方向的直線配線的配線圖案的重疊來表示。在圖13A中示出2個方向中右方向的(沿在左(上)方向上延伸之右(上)方向排列)直線配線21d。在圖13B中示出2個方向中左方向的(沿 在右(上)方向上延伸之左(上)方向排列)直線配線21e。其中,直線的配線的“方向”係指直線的配線排列之方向,係相對於直線垂直之方向。
又,圖14係圖11的像素排列圖案(亦即,像素排列的亮度的圖案)的二維頻率分佈,以圓的面積表示各頻率成分的強度。圖15係圖12的配線圖案25c的二維頻率分佈,以圓的面積表示各頻率成分的強度。另外,在圖14及圖15的二維頻率分佈中僅示出第1象限和第2象限。圖15的第1象限的頻率成分表示圖12的右方向的直線配線21d的頻率成分,圖15的第2象限的頻率成分表示圖12的左方向的直線配線21e的頻率成分。
另外,本發明中,作為顯示單元,能夠使用如有機EL顯示器(OELD)那樣,對於紅色(R)、綠色(G)及藍色(B)像素中至少2個顏色,像素排列圖案不同之顯示器的顯示單元。在圖105中示意性地表示該種有機EL顯示器(OELD)的顯示單元30a的子像素RGB中的任一像素排列的亮度圖案的另一例。又,圖106係圖105的像素排列圖案(亦即,像素排列的亮度的圖案)的二維頻率分佈,以圓的面積表示各頻率成分的強度。其中,圖105表示對應於圖11之像素排列圖案,圖106表示對應於圖14之二維頻率分佈。
圖16係計算由圖14所示之像素排列圖案的各頻率成分和圖15所示之配線圖案25c的各頻率成分計算出之疊紋成分亦即頻率之差,並在該差分的頻率上標繪各個強度的乘法運算值之圖。其中,圖16的x頻率及y頻率的刻度範圍與圖14及圖15不同,又,各成分的圓的面積與強度的關係亦不同。
在此,由上述式(8)可知,為了準確地導出疊紋成分,需要對 像素排列圖案的所有頻率成分(包括共軛關係的成分)及配線的所有頻率成分乘法運算各成分的係數(複數)並標繪在各成分的頻率之和的頻率上(與負頻率之和相當於計算上述差)。然而,為了簡化說明而省略。圖16係標繪有像素排列圖案的二維頻率分佈中y頻率為0以下的區域的各成分和配線圖案的二維頻率分佈中y頻率為0以上的區域中除頻率0的成分以外的各成分的疊紋之圖。
在此,由上述式(7)可知,在將像素排列圖案和配線圖案重疊而成之圖案中,除了以上述式(7)的第4行的式給出之疊紋以外,還包含以上述式(7)的第3行給出之“乘以像素排列圖案的平均亮度而得到之配線圖案的各頻率成分”。在圖16中還包含該成分。具體而言,對像素排列圖案的頻率0的成分(相當於上述式(7)的A0)和配線的各成分進行乘法運算並標繪在頻率0的成分與配線的各成分的頻率之和亦即配線的各成分的頻率上。
在將像素排列圖案和配線圖案重疊而成之圖案中還包含以上述式(7)的第2行給出之“乘以配線圖案的平均透射率而得到之像素排列的亮度圖案的各頻率成分”,但在圖16中不包含該成分。具體而言,在將像素排列圖案的各頻率成分與配線圖案的各頻率成分的乘法運算值標繪在各成分的頻率之和的頻率上時,配線圖案的頻率0的成分(相當於上述式(7)的C0)除外。在圖16的標繪中,不需要各疊紋成分的相位資訊,只要導出強度即可,因此能夠由圖14的像素排列圖案的各頻率成分和圖15的配線圖案的各頻率成分簡單地導出。亦即,單純地由圖15的配線圖案的各頻率成分計算與圖14的像素排列圖案的各頻率成分的頻率之差,並在該差的頻率上標繪各個成分的強度的乘法運算值即 可。
在此,如前面所說明,在圖16的標繪中還包含“乘以像素排列圖案的平均亮度而得到之配線圖案的各頻率成分”,因此在圖14的像素排列圖案的頻率分佈中包含頻率0的成分(相當於上述式(7)的A0),又,不包含“乘以配線圖案的平均透射率而得到之像素排列圖案的各頻率成分”,因此在圖15的配線圖案的頻率分佈中不包含頻率0的成分(相當於上述式(7)的C0)。本發明中,假設不僅是圖16,以後說明中之任何疊紋成分的圖均包含“乘以像素排列圖案的平均亮度而得到之配線圖案的各頻率成分”,又,不包含“乘以配線圖案的平均透射率而得到之像素排列圖案的各頻率成分”。
人眼的視覺響應特性對低頻具有靈敏度,亦即圖16的疊紋成分中只有低頻成分會被人眼辨識。
圖17表示圖16所示之各疊紋成分乘以人眼的視覺響應特性的靈敏度而得到之結果。在此,圖17的x頻率及y頻率的刻度範圍與圖16不同。又,各成分的圓的面積所表示之強度亦不同,圖17中,以更大面積的圓標繪了各成分。本發明中,作為人眼的視覺響應特性的靈敏度,使用下述式(1)所表示之Dooley-Shaw的式(R.P.Dooley,R.Shaw:Noise Perception in Electrophotography,J.Appl.Photogr.Eng.,5,4(1979),pp.190-196.)。其中,下述式(1)係作為視覺傳遞函數VTF而給出。
其中,k為以立體角定義之空間頻率(週期/deg),以上述式表示。u為以長度定義之空間頻率(週期/mm),d以觀察距離(mm)定義。
另外,Dooley-Shaw的式係以上述式(1)的VTF=5.05e-0.138k(1-e-0.1k)給出,在0週期/mm附近小於1,具有所謂的帶通濾波器的特性。然而,本發明中,即使為低空間頻帶(klog(0.238/0.138)/0.1),藉由將VTF的值設為1,亦能夠消除低頻成分的靈敏度的衰減。
在圖18A及圖18B中,作為VTF的例子,示出觀察距離500mm及觀察距離750mm的例子。在本說明書的說明中,作為人眼的視覺響應特性的靈敏度,使用觀察距離500mm的VTF。
在圖17中可知,在1週期/mm以下的低頻區域存在疊紋成分,存在被人眼辨識之疊紋。
該疊紋係由在圖14的像素排列圖案的頻率分佈中以黑箭頭表示之成分(x=22.2週期/mm、y=44.4週期/mm)和在圖15的配線圖案的頻率分佈中以黑箭頭表示之成分(x=21.8週期/mm、y=44.6週期/mm)而產生。
如此,可知若在像素排列圖案的頻率分佈和配線圖案的頻率分佈中存在頻率接近的成分,則產生被人眼辨識之低頻的疊紋。
另外,關於如圖17中以黑箭頭表示之成分那樣使人眼的視覺響應特性起作用而得到之各疊紋成分中強度最大的成分,以下亦稱為“對疊紋貢獻最大的疊紋的頻率成分”及“主疊紋成分”。
首先,以下示出基於上述產生疊紋之原理,以二維頻率空間中之配線的各頻率成分與像素排列的各頻率成分的距離遠,其結果,被人眼辨識之低的頻疊紋變少之方式探討配線的角度和間距之例子。而且,在該例子中,對設想傾斜觀察時產生疊紋之情況進行說明。最後,對其原因進行說明。
首先,在圖19中示意性地示出以疊紋變少之方式探討配線的角度和間距之配線圖案的一例。在圖19中示出與x方向所成之角度為27°、配線間距為約90μm的等間距的配線圖案(亦即,配線的透射率圖案)25d。在此,圖19所示之配線圖案25d的開口部22的形狀為菱形。配線圖案25d的開口部22的形狀為菱形,因此能夠藉由2個方向的直線配線21f與21g的重疊來表示。在圖20中示出2個方向中右方向的(沿在左方向上延伸之右方向排列)直線配線21f。另外,2個方向中只有左方向的(沿在右方向上延伸之左方向排列)直線配線21g之圖示與圖20對稱,因此省略。
在此,圖19及圖20所示之配線圖案25d的2個方向的直線配線21f和21g正面觀察時為直線配線,均由交替地配置於透明基體12的上表面和下表面之金屬細線14構成。因此,在圖19所示之配線圖案25d中,金屬細線14可以說係交替地排列於透明基體12的上表面及下表面。
又,圖21表示圖19所示之配線圖案25d的二維頻率空間中之各頻率成分(二維頻率分佈),以圓的面積示出各頻率成分的強度。另外,在圖21的二維頻率分佈中僅示出第1象限和第2象限。圖21的第1象限的頻率成分表示圖19的右方向 的直線配線21f的頻率成分,圖21的第2象限的頻率成分表示圖19的左方向的直線配線21g的頻率成分。
圖22係計算由圖14所示之像素排列圖案的各頻率成分和圖21所示之配線圖案25d的各頻率成分計算出之疊紋成分亦即頻率之差並在該差分的頻率上標繪各個強度的乘法運算值之圖。其中,圖22的x頻率及y頻率的刻度範圍與圖14及圖21不同,又,各成分的圓的面積與強度的關係亦不同。
圖23表示圖22所示之各疊紋成分乘以人眼的視覺響應特性的靈敏度而得到之結果。在此,圖23與圖22的各成分的圓的面積所表示之強度不同,圖23以更大面積的圓標繪有各成分。人眼的視覺響應特性的靈敏度使用作為視覺傳遞函數VTF而給出之上述式(1)。
在此,若比較圖23和圖17,則可知圖23的被人眼辨識之低頻的疊紋少。亦即,可知圖19所示之配線圖案25d係以疊紋變少之方式探討了配線的角度和間距之配線圖案。
接著,在圖24中示意性地表示在圖19所示之配線圖案25d的例子中設想傾斜觀察時的配線圖案25dt。在圖25中示出2個方向中右方向的(沿在左方向上延伸之右方向排列)直線配線21ft。另外,省略了2個方向中只有左方向的(沿在右方向上延伸之左方向排列)直線配線21gt之圖示。
又,圖26表示圖24所示之配線圖案25dt的二維頻率空間中之各頻率成分(二維頻率分佈),以圓的面積示出各頻率成分的強度。
圖27係計算由圖14所示之像素排列圖案的各頻率成分和圖26所示之配線圖案25dt的各頻率成分計算出之疊紋成分亦 即頻率之差,並在該差分的頻率上標繪各個強度的乘法運算值之圖。
圖28表示圖27所示之各疊紋成分乘以作為人眼的視覺響應特性的靈敏度而以視覺傳遞函數VTF給出之上述式(1)而得到之結果。
在此,若比較圖24所示之配線圖案25dt和圖19所示之配線圖案25d,則可知配線圖案25dt的配線間距成為非等間距。其結果,若比較圖26和圖21,則可知在圖26中產生了在圖21中沒有之很多頻率成分。藉由該很多頻率成分的產生,若分別比較圖27及圖28和圖22及圖23,則可知在圖27及圖28中產生了在圖22及圖23中沒有之低頻的疊紋成分。
尤其,在圖26所示之配線圖案25dt的頻率分佈中,最接近圖14中黑箭頭所示之像素排列圖案的頻率成分的黑箭頭所示之頻率成分會使圖27及圖28中黑箭頭所示之低頻的疊紋產生。亦即,成為產生圖26中黑箭頭所示之疊紋之原因之配線圖案25dt的頻率成分係在圖21中沒有之頻率成分。
接著,對在傾斜觀察時配線間距成為非等間距而產生很多頻率成分之原因進行說明。
如圖29所示,考慮從θ、φ方向觀察配線圖案之情況。在本例中,以金屬細線14的配線交替地配置於透明基體12的上表面和下表面的2層之例子進行考慮。
在圖30中示出包含觀察方向之平面內的配線。如圖30所示,可知當從θ方向觀察時,相對於上表面的配線,下表面的配線的位置偏離d*sinθ。在此,由圖30可知,當從θ方向觀察時上表面及下表面的配線的間距縮小cosθ倍,但在此忽視該間距 的變化。這是因為,即使配線的間距整體上縮小,配線圖案的頻率分佈亦僅僅是整體上擴大,與產生新的頻率成分之原因無關。
另一方面,由於下表面配線的位置的偏離,配線圖案成為非等間距,產生新的頻率成分,因此需要考慮下表面配線的位置的偏離。如圖29所示,可知當從θ、φ方向觀察右向的配線圖案時,上表面配線與下表面配線的間距成為非等間距,延長或縮短d*sinθ*sin(φ+α)。還能夠設想當配線圖案為左向時,延長或縮短d*sinθ*sin(φ-α)。
在此,若將基體的厚度t設想為30μm、配線圖案的角度α設想為27°、間距設想為約90μm、觀察方向的θ和φ分別設想為30°和90°,則d*sinθ*sin(φ+α)成為約13μm,得到圖24所示之配線圖案25dt。在圖31~圖34中分別示出在透明基體12的上表面的配線圖案、透明基體12的下表面的配線圖案、正面觀察時(參閱圖19)的配線圖案25d及傾斜觀察(參閱圖24)的配線圖案25dt中沿著配線的方向(亦即27°方向)觀察1個方向的直線配線之透射率輪廓。另外,本發明中,上表面係指透明基體12的上表面,係指位於觀察側,下表面係指透明基體12的下表面,係指位於與觀察側相反之一側。
又,在圖35中示出在上表面配線圖案、正面觀察時及傾斜觀察時的配線圖案中沿著配線的方向(亦即27°方向)觀察1個方向的直線配線之透射率輪廓的各頻率成分的強度。將圖26所示之黑箭頭還示於圖35。另外,在圖35中沿著下表面配線圖案中之1個方向的直線配線的配線方向觀察之透射率輪廓的各頻率成分的強度與上表面配線圖案中之各頻率成分的強度相同,因此省略圖示。
由圖31~圖35可知,上表面的配線圖案及下表面的配線圖案的間距比正面觀察時的配線圖案25d的間距長2倍,因此,最小頻率小至1/2,並且為該最小頻率的整數倍,具有在正面觀察時的配線圖案25d中不包含之很多頻率成分(亦即,第奇數個頻率成分)。相反而言,可知上表面的配線圖案和下表面的配線圖案儘管具有很多頻率成分,但在將各個配線圖案以成為等間距之方式交替地重疊而成之正面觀察時的配線圖案25d中,(第奇數個)各頻率成分相互抵消(第偶數個各頻率成分相互增強)而減小至1/2。
而且,傾斜觀察時的配線圖案25dt係將上表面的配線圖案和下表面的配線圖案錯開而以成為非等間距之方式重疊而成之配線圖案,因此可知上表面的配線圖案和下表面的配線圖案的第奇數個各頻率成分不完全被相互抵消而殘留,與上表面的配線圖案及下表面的配線圖案同樣地包含很多頻率成分。其結果,可知由於如圖35中黑箭頭所示在正面觀察時雖然被相互抵消但在傾斜觀察時不會相互抵消而殘留之頻率成分而產生疊紋。
另外,為了容易理解說明,圖29及其以後的“本發明的配線圖案的特徵總結”為止的說明僅限定於配線層的數量為2層的例子(在透明基體的上表面和下表面配置有配線之例子)。然而,在此說明之原理並不依賴於配線層的數量。隨後又會提及。
如在圖29及30中所說明,若從傾斜的θ、φ方向觀察配線圖案,則下表面的配線相對於上表面的配線之位置偏離d*sinθ*sin(φ+α)。在此,d*sinθ*sin(φ+α)式的導出並不嚴密, 但重要的是在傾斜觀察時下表面的配線相對於上表面的配線之位置發生偏離。根據θ、φ方向,在各個方向上發生各種量的偏離。而且,由於偏離,在重疊之配線圖案中會產生很多頻率成分而產生疊紋。本發明人認為,即使下表面的配線相對於上表面的配線在各個方向上發生各種量的偏離,為了抑制由重疊之配線圖案所引起之疊紋的產生,亦只要在重疊之前的上表面的配線圖案及下表面的配線圖案各自中設為疊紋少的配線圖案即可。
而且,發覺到該種本發明的配線圖案的上表面的配線圖案及下表面的配線圖案並不是如圖31及圖32那樣的交替的等間距的圖案,而是在上表面及下表面中包含連續之配線之非等間距的圖案,亦即在至少一部分中包含與重疊之配線圖案相同之間距之配線圖案。
將該種本發明的配線圖案的一例示於圖36~圖39。在圖36~圖39中分別示出在本發明的配線圖案的上表面的配線圖案、下表面的配線圖案、正面觀察時的配線圖案及傾斜觀察時的配線圖案中沿著配線的方向觀察1個方向的直線配線之透射率輪廓。又,在圖40中示出在上表面配線圖案、正面觀察時及傾斜觀察時的配線圖案中沿著配線的方向觀察1個方向的直線配線之透射率輪廓的各頻率成分的強度。另外,在圖40中沿著下表面配線圖案中之1個方向的直線配線的配線方向觀察之透射率輪廓的各頻率成分的強度與上表面配線圖案中之各頻率成分的強度相同,因此省略圖示。
可知與圖35相比,在圖40所示之上表面(或下表面)的配線圖案的頻率分佈中成為產生疊紋之原因之黑箭頭所示之頻率成分的強度小。其結果,可知將上表面的配線圖案和下表面的配線 圖案錯開重疊而成之傾斜觀察的配線圖案的黑箭頭的頻率成分的強度亦小。在圖31~圖35及圖36~圖40所示之例子中,正面觀察的配線圖案(示於圖33及圖38)相同,且係疊紋少的配線圖案。
但是,在圖35中,正面觀察的配線圖案和上表面(或下表面)的配線圖案的頻率分佈大不相同,並且上表面(或下表面)的配線圖案的黑箭頭的頻率成分的強度大。其結果,將上表面的配線圖案和下表面的配線圖案錯開重疊而成之傾斜觀察的配線圖案的頻率分佈與正面觀察的配線圖案的頻率分佈大不相同,並且在傾斜觀察的配線圖案中會產生在正面觀察的配線圖案中未產生之疊紋(由黑箭頭的頻率成分所引起之疊紋)。
另一方面,在圖40中,正面觀察的配線圖案和上表面(或下表面)的配線圖案的頻率分佈接近,並且上表面(或下表面)的配線圖案的黑箭頭的頻率成分的強度小。其結果,將上表面的配線圖案和下表面的配線圖案錯開重疊而成之傾斜觀察的配線圖案亦與正面觀察的配線圖案的頻率分佈接近,並且黑箭頭的頻率成分的強度亦小,即使傾斜觀察亦能夠與正面觀察同樣地減少疊紋。
在圖35中,正面觀察的配線圖案係疊紋少的配線圖案,但上表面(或下表面)的配線圖案與正面觀察的配線圖案的頻率分佈大不相同,成為導致產生疊紋之配線圖案。另一方面,在圖40中,上表面(或下表面)的配線圖案與正面觀察的配線圖案的頻率分佈相似,與正面觀察同樣成為疊紋少的配線圖案。
綜上,若在上表面及下表面的配線圖案的一部分中以間距與正面觀察的配線圖案相同之方式形成配線圖案,則能夠使上表面、下表面的配線圖案及將該等在各個方向上錯開各種量而重疊 之傾斜觀察的配線圖案的頻率分佈與正面觀察的頻率分佈接近,並且上表面、下表面及傾斜觀察亦能夠與正面觀察同樣地減少疊紋。
在圖41中示出在1個方向的直線配線中具有圖39所示之透射率輪廓之傾斜觀察時的配線圖案25et,在圖42中示出傾斜觀察時的配線圖案25et的2個方向中右方向的(沿在左方向上延伸之右方向排列)直線配線21ht。另外,省略了2個方向中只有左方向的(沿在右方向上延伸之左方向排列)直線配線21it之圖示。又,正面觀察時的配線圖案若不區分上表面的配線及下表面的配線,則與圖19所示之配線圖案25d相同,因此省略圖示。
又,圖43表示圖41所示之配線圖案25et的二維頻率空間中之各頻率成分(二維頻率分佈),以圓的面積示出各頻率成分的強度。
圖44係計算由圖14所示之像素排列圖案的各頻率成分和圖43所示之配線圖案25et的各頻率成分計算出之疊紋成分亦即頻率之差,並在該差分的頻率上標繪各個強度的乘法運算值之圖。
圖45表示圖44所示之各疊紋成分乘以作為人眼的視覺響應特性的靈敏度而以視覺傳遞函數VTF給出之上述式(1)而得到之結果。
可知與圖27及圖28所示之疊紋成分相比,圖44及圖45所示之疊紋成分的疊紋少。
本發明人等進一步發覺到藉由“將既定根數的配線的重複間距設為等間距,同時將既定根數的各個配線的間距設為 非等間距”能夠減少疊紋。在下一節中對其原理進行說明。在該種配線圖案中,藉由在上表面及下表面的配線圖案的一部分中以間距與正面觀察的配線圖案變相同之方式形成配線圖案,上表面、下表面及傾斜觀察亦能夠與正面觀察同樣地減少疊紋。
作為該種配線圖案的一例,首先,能夠舉出記載於圖2~圖4B且已詳細說明之正面觀察時的非等間距的配線圖案25a。
在此,在圖46中示出不區分透明基體12的上表面及下表面而將正面觀察時的非等間距的配線圖案25a全部以實線記載者。圖46所示之正面觀察時的非等間距的配線圖案25a係角度為22°、平均間距為約76μm且既定根數為4根(因此,重複間距為約304μm((4*76μm))的非等間距的配線圖案。將圖46所示之配線圖案25a的右方向的直線配線21a示於圖47。
又,在圖48中示出圖46所示之正面觀察時的配線圖案25a的二維頻率分佈。在圖49中示出圖14所示之像素排列圖案和圖48所示之配線圖案25a的疊紋成分。在圖50中示出圖49所示之各疊紋成分乘以述式(1)的視覺傳遞函數VTF而使人眼的視覺響應特性起作用而得到之結果。
在此,由圖49及圖50所示之疊紋成分與圖16及圖17的比較可知,與圖12所示之配線圖案25c相比,圖46所示之配線圖案25a能夠減少疊紋。
接著,關於具有與圖46所示之配線圖案25a相同之正面觀察時的配線圖案之配線圖案,在圖51中示出交替地配置有上表面的配線和下表面的配線時的設想傾斜觀察之傾斜觀察時的配線圖案25ft。在圖52中示出傾斜觀察時的配線圖案25ft的2個方向中右方向的(沿在左方向上延伸之右方向排列)直線配 線21jt。另外,省略了2個方向中只有左方向的(沿在右方向上延伸之左方向排列)直線配線21kt之圖示。
又,在圖53中示出圖51所示之傾斜觀察時的配線圖案25ft的二維頻率分佈。在圖54中示出圖14所示之像素排列圖案和圖53所示之配線圖案25ft的疊紋成分。在圖55中示出圖54所示之各疊紋成分乘以述式(1)的視覺傳遞函數VTF而使人眼的視覺響應特性起作用而得到之結果。
可知與圖48所示之正面觀察時的配線圖案25a的二維頻率分佈相比,圖53所示之傾斜觀察時的配線圖案25ft的二維頻率分佈大不相同。又,圖49及圖50所示之正面觀察時的疊紋成分與疊紋成分的強度在傾斜觀察時,如圖54及圖55所示,疊紋成分的強度增大。
接著,關於具有與圖46所示之配線圖案25a相同之正面觀察時的配線圖案之配線圖案,在圖56中示出在上表面及下表面的直線配線中分別連續配置有各2根配線時的設想傾斜觀察之傾斜觀察時的配線圖案25at。又,在圖57中示出傾斜觀察時的配線圖案25at的2個方向中右方向的(沿在左方向上延伸之右方向排列)直線配線21at。另外,省略了2個方向中只有左方向的(沿在右方向上延伸之左方向排列)直線配線21bt之圖示。
又,在圖58中示出圖56所示之傾斜觀察時的配線圖案25at的二維頻率分佈。在圖59中示出圖14所示之像素排列圖案和圖58所示之配線圖案25at的疊紋成分。在圖60中示出圖59所示之各疊紋成分乘以述式(1)的視覺傳遞函數VTF而使人眼的視覺響應特性起作用而得到之結果。
可知圖58所示之正面觀察時的配線圖案25at的二維頻率 分佈與圖48所示之傾斜觀察時的配線圖案25a的二維頻率分佈類似。又,可知在圖59及圖60中傾斜觀察時的黑箭頭所示之疊紋成分分別與圖49及圖50所示之正面觀察時的黑箭頭所示之疊紋成分同樣地,疊紋成分的強度小。
關於圖51所示之傾斜觀察時的配線圖案25ft,將在上表面的配線圖案、下表面的配線圖案、正面觀察時的配線圖案25a(參閱圖46)及傾斜觀察時的配線圖案25ft(參閱圖51)中沿著配線的方向(亦即22°方向)觀察1個方向的直線配線之透射率輪廓分別示於圖61~圖64。又,在圖65中示出上表面配線圖案、正面觀察時及傾斜觀察時的配線圖案中之沿著1個方向的直線配線的配線方向觀察之透射率輪廓的各頻率成分的強度。將圖53所示之黑箭頭還示於圖65。另外,在圖65中沿著下表面配線圖案中之1個方向的直線配線的配線方向觀察之透射率輪廓的各頻率成分的強度與上表面配線圖案中之各頻率成分的強度相同,因此省略圖示。
又,關於圖56所示之傾斜觀察時的配線圖案25at,將在上表面的配線圖案、下表面的配線圖案、正面觀察時的配線圖案25a(參閱圖46)及傾斜觀察時的配線圖案25at(參閱圖56)中沿著配線的方向(亦即22°方向)觀察1個方向的直線配線之透射率輪廓分別示於圖66~圖69。又,在圖70中示出上表面配線圖案、正面觀察時及傾斜觀察時的配線圖案中之沿著1個方向的直線配線的配線方向觀察之透射率輪廓的各頻率成分的強度。將圖58所示之黑箭頭還示於圖70。另外,在圖70中沿著下表面配線圖案中之1個方向的直線配線的配線方向觀察之透射率輪廓的各頻率成分的強度與上表面配線圖案中之各頻率成分的強度相同, 因此省略圖示。
在圖61~圖65和圖66~圖70所示之例子中,如圖63及圖68所示,正面觀察的配線圖案(25a:參閱圖46)相同,如圖49及圖50所示,係疊紋少的配線圖案。
然而,在圖61~圖65所示之例子中,如圖65所示,正面觀察的配線圖案與上表面(或下表面)的配線圖案的頻率分佈大不相同,並且上表面(或下表面)的配線圖案的黑箭頭的頻率成分的強度大。其結果,如圖65所示,將上表面的配線圖案和下表面的配線圖案錯開重疊而成之傾斜觀察的配線圖案(25ft:參閱圖51)的頻率分佈與正面觀察的配線圖案的頻率分佈大不相同,並且在正面觀察的配線圖案(25a:參閱圖46)中強度小的疊紋(由黑箭頭的頻率成分所引起之疊紋)在傾斜觀察的配線圖案中增大。
另一方面,在圖66~圖70所示之例子中,如圖70所示,正面觀察的配線圖案與上表面(或下表面)的配線圖案的頻率分佈接近,並且上表面(或下表面)的配線圖案的黑箭頭所示之頻率成分的強度小。其結果,如圖70所示,將上表面的配線圖案和下表面的配線圖案錯開重疊而成之傾斜觀察的配線圖案(25at:參閱圖56)亦與正面觀察的配線圖案(25a)的頻率分佈接近,並且黑箭頭的頻率成分的強度亦小,即使傾斜觀察亦能夠與正面觀察同樣地減少疊紋。
在圖61~圖65所示之例子中,正面觀察的配線圖案係疊紋少的配線圖案,但上表面(或下表面)的配線圖案與正面觀察的配線圖案的頻率分佈大不相同,成為產生疊紋之配線圖案。
另一方面,在圖66~圖70所示之例子中,上表面(或下表 面)的配線圖案與正面觀察的配線圖案(25a)的頻率分佈相似,與正面觀察時同樣地,成為疊紋少的配線圖案。
在圖2~圖4B及圖36~圖39、圖46~圖47、圖56~圖57及圖66~圖69所示之例子中,將4根配線中2根配線配置於上表面,將另外2根配線配置於下表面,但在此說明之配線圖案的特徵並不限定於該例子。亦即,只要為既定根數的配線中至少一部分的2根以上連續配置於上表面且在下表面亦連續配置有至少一部分的2根以上之配線圖案,則與以往的交替地配置於上表面和下表面之配線圖案相比,能夠使上表面(及下表面)及傾斜觀察的配線圖案的頻率分佈與正面觀察的配線圖案接近,能夠減少傾斜觀察時的疊紋產生。
又,如本發明那樣,當在上表面及下表面連續配置有配線時,上表面及下表面的配線的間距中包含與以往的交替配置的間距相比窄的間距,並且還包含寬的間距(參閱圖36~圖37及圖66~圖67)。因此,本發明中,與以往相比,上表面及下表面的配線圖案的最小頻率降低,並且藉此而傾斜觀察時的配線圖案的最小頻率亦比以往降低(參閱圖40及圖70)。因此,需要注意以使在傾斜觀察時配線不會被辨識。為此,在基於上述“將像素排列圖案和配線圖案重疊時產生疊紋之原理”來評價由本發明的配線圖案所引起之疊紋時,在表示將像素排列圖案和配線圖案重疊而成之圖案之上述(7)中,不僅評價第4行的式的疊紋成分,還評價第3行的式的“乘以像素排列圖案的平均亮度A0而得到之配線圖案的各頻率成分”為較佳。具體而言,在由圖14所示之像素排列圖案的各頻率成分和配線圖案的各頻率成分導出疊紋成分時,在像素排列圖案的頻率分佈中包含頻率0的成分(相當 於上述式(7)的A0)為較佳。只要沒有特別指定,則本發明中所示之疊紋成分係指“在像素排列圖案的頻率分佈中包含頻率0的成分而導出之疊紋成分”。
如上所述,與以往的配線圖案相比,本發明的配線圖案的傾斜觀察時的配線圖案的可見性不利。由於該不利點,對於各種像素排列圖案,在以往的配線圖案和本發明的配線圖案中評價了正面觀察及傾斜觀察的亦包含配線圖案的頻率成分之疊紋之結果(在像素排列圖案的頻率分佈中包含頻率0的成分而導出疊紋成分來進行評價之結果),如圖31~35及圖36~圖40所示之例子那樣,將正面觀察時的配線圖案限定於成為等間距之配線圖案時,根據像素排列圖案,存在以往的配線圖案變良好之情況。具體而言,各種各樣地改變等間距的配線圖案的角度和間距而分別評價正面觀察時和傾斜觀察時的疊紋並以使其同時變良好之方式進行了探討之結果,存在以往的配線圖案變良好之情況(但是,當不包含配線圖案的可見性時,不依賴於像素排列圖案而本發明的配線圖案變得良好)。
然而,如圖61~65及圖66~圖70所示之例子那樣,包括正面觀察時的配線圖案成為“既定根數的配線的重複間距為等間距且既定根數的各個配線的間距為非等間距”之例子在內,各種各樣地改變配線圖案的角度和平均間距(重複間距)及既定根數的各個配線的間距而以正面觀察時和傾斜觀察時的疊紋同時變得良好的方式進行了探討之結果,不依賴於像素排列圖案而本發明的配線圖案始終變得良好。亦即,在“既定根數的配線的重複間距為等間距且既定根數的各個配線的間距為非等間距的配線圖案”中,為了減少正面觀察時及傾斜觀察時的疊紋,本發明 的“在上表面及下表面連續配置有2根以上的配線之配線圖案”尤其有效。認為在“既定根數的配線的重複間距為等間距且既定根數的各個配線的間距為非等間距的配線圖案”中,若如以往那樣在上表面和下表面交替地配置配線,則與等間距的情況相比,正面觀察的配線圖案與上表面(及下表面)的配線圖案的頻率分佈之差更大,因此,認為正面觀察和傾斜觀察的配線圖案的頻率分佈之差更大,傾斜觀察時的疊紋惡化更大,因此認為如本發明那樣,在上表面及下表面連續配置2根以上的配線而使正面觀察的配線圖案與上表面(及下表面)的配線圖案及傾斜觀察的配線圖案的頻率分佈接近,從而防止傾斜觀察時的疊紋惡化是非常重要的。
由上述產生疊紋之原理可知,若能夠使配線圖案的各頻率成分的頻率與像素排列圖案的各頻率成分的頻率分離,則不會產生被人眼辨識之低頻的疊紋。在此,藉由“將既定根數的配線的重複間距設為等間距,同時將既定根數的各個配線的間距設為非等間距”來達成疊紋的減少。另外,在此為了容易理解說明,僅設想正面觀察來進行說明。
以圖12所示之配線圖案為代表例進行說明。在圖12所示之配線圖案(配線的透射率圖案)中,若沿著配線的方向觀察1個方向的直線配線亦即右方向的直線配線21d或左方向的直線配線21e,則成為如圖71那樣。在圖71中有4根配線。該等4根的各個配線的間距當然均相同,為101μm。在圖71中僅示出4根配線,但其之後亦有配線,其間距當然亦為101μm。在此,在圖 71中僅抽出第2個配線並示於圖72。該第2個配線以配線4根量的間距404μm重複。
在此,將圖71及圖72所示之配線圖案的一維頻率分佈示於圖73。由圖73可知,與原來的配線相比,第2個抽出配線的頻率成分多(細)4倍,又,最小頻率亦低(1/4)。第2個抽出配線比原來的配線長4倍間距,因此頻率成分相反地存在於細4倍的頻率中,又,最小頻率亦成為低1/4。相對於第2個抽出配線具有多4倍的頻率成分,原來的配線的頻率成分少的原因在於,第2個抽出配線的各頻率成分與其他配線的各頻率成分抵消。亦即,第1個配線、第2個配線、第3個配線及第4個配線分別具有比原來的配線多4倍的頻率成分。然而,若將該等配線的各頻率成分全部進行加法運算,則只有特定頻率(相當於原來的配線的間距之頻率的整數倍的頻率)的成分被加法運算而增強並殘留,其他頻率的成分則抵消而消失,從而成為原來的配線的頻率成分。頻率空間中之加法運算依據相互加法運算之各成分的相位關係而亦會成為減法運算(負的加法運算),因此有時會相互抵消。頻率空間中之加法運算以各成分的實部和虛部分別進行加法運算,但實部和虛部分別依據相位而亦會成為負值(參閱圖73),因此有時會相互抵消。
在此,本發明人得到了如下見解:藉由將既定根數的配線的重複間距設為等間距,同時將既定根數的各個配線的間距設為非等間距,能夠改變配線的頻率分佈。關於這點,以上述例(既定根數為4根時的例子)進行說明。第1個配線、第3個配線及第4個配線各自的頻率成分的強度與圖73的黑點(菱形)所示之第2個配線的強度相同。而且,即使改變各個配線的位置(亦 即,即使改變各配線的間距),4根的重複間距亦不會變,因此各頻率成分的強度不會變而仍然與圖73的以黑點表示之第2個配線的強度相同。然而,當改變了各個配線的位置時(當改變了各配線的間距時),由於相位改變,所以各頻率成分的實部和虛部的值發生變化。若改變第2個配線的位置,則圖73所示之實部和虛部的值發生變化。藉由該變化,能夠改變將第1個配線、第2個配線、第3個配線及第4個配線各自的頻率成分進行加法運算之結果的頻率分佈。
由於圖73的以黑箭頭表示之成分接近圖14的像素排列圖案的黑箭頭的頻率成分,所以如圖17那樣產生了被人眼辨識之低頻的疊紋。
因此,對第1個配線、第2個配線、第3個配線及第4個配線的位置(間距)的最優化進行了探討,以使圖73的以黑箭頭表示之成分減小。將其結果示於圖74及圖75。
圖74係最優化結果的4根配線的透射率的一維輪廓。圖75表示頻率分佈。由圖75明確可知,能夠減小以黑箭頭表示之頻率成分的強度。
又,在圖76及圖77中示出該例子的最優化結果的配線的透射率圖案。在圖76及圖77所示之配線圖案25g中,右方向的直線配線21l及左方向的直線配線21m各自的4根配線的重複間距與圖12及圖13相同,為404μm。圖78係圖76所示之配線圖案的二維頻率分佈,以圓的面積表示各頻率成分的強度。可知在圖14的像素排列圖案的頻率分佈中,接近以黑箭頭表示之成分的成分(以黑箭頭表示)的強度比圖15小。
圖79示出由圖14所示之像素排列圖案的各頻率成分和圖 76所示之配線圖案的各頻率成分計算出之疊紋成分,圖80示出圖79所示之疊紋成分乘以上述式(1)所示之表示人眼的視覺響應特性的靈敏度之視覺傳遞函數VTF而得到之結果。可知不存在在圖17中觀察到之低頻的疊紋。另外,圖15和圖78、圖16和圖79及圖17和圖80的各成分的圓的面積所表示之強度的大小分別相同。
在此,藉由圖73與圖75的比較以及圖15與圖78的比較可知,與等間距的配線相比,“將既定根數的配線的重複間距設為等間距,同時將既定根數的各個配線的間距設為非等間距”之配線圖案中,配線圖案的最小頻率小。例如,如圖74、圖76及圖77那樣既定根數為4根時,最小頻率成為1/4。其原因能夠如下那樣說明。如已說明,圖73所示之第1個配線~第4個配線分別具有比原來的等間距的配線多4倍的頻率成分,又,最小頻率亦成為1/4。而且,若將該等配線的各頻率成分進行加法運算,則在等間距的情況下,只有相當於原來的配線的間距(第1個配線~第4個配線的1/4的間距)之頻率的整數倍的頻率被加法運算而增強並殘留,其他頻率的成分則抵消而消失。
但是,如該例子那樣,若將第1個配線~第4個配線的各個配線的間距設為非等間距,則不會抵消而殘留。如此,在該例子中,與等間距的配線相比產生配線圖案的低頻成分,因此需注意避免使配線圖案被辨識。為此,在表示將像素排列圖案和配線圖案重疊而成之圖案之上述式(7)中,不僅是第4行的式的疊紋成分,第3行的式的“乘以像素排列圖案的平均亮度A0而得到之配線圖案的各頻率成分”亦進行評價即可。具體而言,在由圖14的像素排列圖案的各頻率成分和圖78所示之配線圖案的 各頻率成分導出圖79的疊紋成分時,只要在像素排列圖案的頻率分佈中包含頻率0的成分(相當於上述式(7)的A0)即可。如此,圖79所示之疊紋成分係在像素排列圖案的頻率分佈中包含頻率0的成分而導出之疊紋成分。只要沒有特別指定,以下所示之疊紋成分亦指“在像素排列圖案的頻率分佈中包含頻率0的成分而導出之疊紋成分”。
現在整理並說明一下基於該例子之減少疊紋之原理。首先,考慮將配線圖案的既定根數設為n根,並且僅抽出第1個配線、......、第n個配線之各個配線圖案(在此,成為子配線圖案)。各個子配線圖案具有比原來的配線圖案細且多n倍的頻率成分(在圖73中為4倍),而且,包含接近像素排列圖案的各頻率成分且導致產生被人眼辨識之低頻的疊紋之頻率成分。若將各個子配線圖案以等間距進行重疊(相當於原來的配線圖案),則最能夠抵消並減少各頻率成分,又,亦能夠提高最小頻率。另一方面,會殘留各個子配線圖案中所包含之導致產生疊紋之頻率成分(在圖73中,以黑箭頭表示其最大的一個)。因此,藉由將各個子配線圖案以相互抵消各個子配線圖案中所包含之導致產生疊紋之頻率成分之間距進行重疊,與以等間距重疊之情況相比,頻率成分的數量增多,又,雖然最小頻率降低,但能夠減少疊紋。其係該例子的減少疊紋之原理。
該例子的特徵為,相對於等間距的配線圖案的如圖16及圖17那樣的疊紋的頻率分佈,具有如圖79及圖80那樣的疊紋的頻率分佈之“既定根數的重複間距為等間距,但既定根數各自的間距為非等間距的”配線圖案。
該例子的配線圖案的特徵為,“既定根數的重複間距為等間 隔”;及如圖79及圖80的疊紋的頻率分佈那樣,與如圖16及圖17所示之等間距的配線圖案時的疊紋的頻率分佈相比,疊紋的總和減小。
如在圖73中所說明,在該例子中,越增加設為非等間距之根數,最小頻率越降低,因此配線圖案有可能被辨識。又,同樣地,由圖73可知,在該例子中,越增多設為非等間距之根數,子配線圖案的頻率成分變得越細且越多,其中,亦會包含很多導致產生被人眼辨識之低頻的疊紋之頻率成分,因此認為相互抵消該等頻率成分之間距的最優化變得困難。
因此,盡量減少設為非等間距之根數為較佳。依本發明人的實驗,與等間距的配線圖案相比,藉由將既定根數的配線的間距設為非等間距而能夠減少疊紋之根數為最多16根以下。即使將16根以上的配線的間距設為非等間距,減少疊紋之效果亦不會變或者反而變差,另一方面,配線圖案本身亦容易被辨識。在多數情況下,作為設為非等間距之配線的根數,2~8根左右時,減少疊紋之效果變得最大,即使將根數增加至其以上亦不會變或者反而變差。因此,為了在配線圖案不被辨識之狀態下充分減少疊紋,將設為非等間距之根數設為最多16根以下為較佳。圖74及圖75所示之例子為對4根配線的間距的最優化進行探討之例子,在結果上2根配線的重複間距幾乎成為等間距,亦即表示藉由2根配線的間距的最優化可得到同等的疊紋減少效果。
例如,在日本特開2013-214545號公報及日本特開2016-014929號公報中所記載之現有技術中,針對賦予配線的間距之不規則性,該例子中有“既定根數的重複間距為等間距”的限定。又,該例子相對於上述現有技術,明示了利用該種配線圖 案,與如圖16及圖17那樣的等間距的配線圖案的疊紋相比能夠如圖80那樣減小疊紋的總和及其原理。該例子中進一步記載有“為了在配線圖案不被辨識之狀態下充分減少疊紋,將設為非等間距之根數設為最多16根以下為較佳”。嘗試性地,將設為非等間距之根數增加至512根並對間距賦予16%左右的隨機的不規則性而對疊紋成分進行了調查。將其結果示於圖81~圖83。圖81係配線圖案的二維頻率分佈。圖82係由圖14的像素排列圖案的頻率分佈和圖81的配線圖案的頻率分佈導出之疊紋的頻率分佈。又,圖83示出乘以上述式(1)所示之視覺傳遞函數VTF而得到之分佈。在此,圖81與圖15及圖78、圖82與圖16及圖79、圖83與圖17及圖80的各成分的圓的面積所表示之強度的大小相同。
若比較該例子的分佈之圖78~圖80和上述現有技術的設想賦予有不規則性之分佈之圖81~圖83,則可知存在明確的差異。在圖78~圖80中,接近像素排列圖案的頻率成分的配線圖案頻率成分(以黑箭頭表示)的強度明確小於等間距的配線圖案(參閱圖15),其結果,可知不存在等間距的配線圖案中觀察到之低頻的疊紋成分(參閱圖16及圖17)。另一方面,在圖81~圖83中,可知配線圖案的頻率成分較細地擴大,其結果,雖然不存在等間距的配線圖案中觀察到之特定的低頻的疊紋成分(參閱圖16及圖17),但產生了細的複數個疊紋成分。該等細的複數個疊紋成分作為不規則的雜訊而被辨識。與圖17所示之疊紋相比,圖83的疊紋虽然不存在特定的大的疊紋,但疊紋的總和反而大。
然而,若著眼於本發明的上表面和下表面各自的配 線圖案,則上述本發明的例子確實是該“既定根數的配線的重複間距為等間距且既定根數的各個配線的間距為非等間距的配線圖案”,根據上述中所說明之原理,成為與等間距的配線圖案相比疊紋少的的配線圖案。這可以從以下幾點明確。
在上表面和下表面各自中等間距的配線圖案例如為圖31~圖35所示之例子,又,圖61~圖65所示之例子亦幾乎為等間距。相對於此,圖36~圖40及圖66~圖70所示之例子中,上表面和下表面各自的配線圖案成為“既定根數(2根)的配線的重複間距為等間距且既定根數的各個配線的間距為非等間距的配線圖案”,與圖31~圖35及圖61~圖65所示之例子相比,成為疊紋少的配線圖案。該特徵並不是偶然的。本發明中,以正面觀察的配線圖案係疊紋少的配線圖案為前提,具有與該正面觀察的配線圖案相似的頻率分佈,以上表面和下表面各自的配線圖案為特徵,因此與等間距的配線圖案相比,上表面和下表面各自的配線圖案成為疊紋少的配線圖案。
以下,總結本發明的配線圖案的特徵,並對本發明的導電性薄膜的配線圖案的製作方法進行說明。
若總結本發明的配線圖案的特徵,則本發明的配線圖案具有以下特徵。
‧係將2個方向以上的直線配線重疊而成之網格狀配線圖案或將1個方向以上的直線配線和另1個方向以上的非直線配線的線配線(例如,曲線或折線等)重疊而成之網格狀配線圖案。
‧具有2層以上的配線層。
‧在至少1個方向的直線配線中,
‧連續之既定根數的各個配線在各配線層中之配置重複。
‧既定根數的配線中連續之至少2根以上的配線配置於1層中。
根據該特徵,在至少1個方向的直線配線中,與以往的在各配線層中交替地配置有各1根之配線圖案相比,在連續配置有2根以上的配線之各配線層的配線圖案和將該等重疊而成之正面觀察時的配線圖案中能夠使頻率分佈接近。其結果,在將各配線層的配線圖案以各種錯開方向和量重疊而成之傾斜觀察時的配線圖案和正面觀察時的配線圖案中,能夠使頻率分佈接近,因此能夠減少傾斜觀察時的疊紋產生。
另外,圖29及圖30的說明及圖31~圖70的例子為配線層為2層的情況,但能夠容易理解根據上述特徵來減少傾斜觀察時的疊紋產生之原理並不限定於2層。
首先,若假設從上方起具有第1...i......n個為止的n層配線層並將第1個至第i個層為止的厚度設為d[i],則傾斜觀察時的配線圖案成為將第1......n個為止的各個配線層的配線圖案錯開d[i]*sinθ*sin(φ-α)而重疊之圖案。在該情況下,若在各配線層中配置連續之至少2根以上的配線而與重疊之配線圖案在至少一部分中包含相同之間距,則與在各配線層中交替地配置有各1根之配線圖案相比,能夠使各配線層的配線圖案與正面觀察時的配線圖案的頻率分佈接近。其結果,能夠使將各配線層的配線圖案分別錯開d[i]*sinθ*sin(φ-α)而重疊之傾斜觀察時的配線圖案與正面觀察時的配線圖案的頻率分佈接近,因此能夠減少傾斜觀察時的疊紋產生。
又,本發明的配線圖案還具有以下特徵。
‧在至少1個方向的直線配線中,從連續配置有2根以上的配線之各配線層的配線圖案和像素排列的亮度圖案導出之疊紋成分的總和(疊紋的評價值)小於從平均間距相同之等間距的配線圖案和像素排列的亮度圖案導出之疊紋成分的總和。
該特徵意味著在至少1個方向的直線配線中各配線層的配線圖案係疊紋少的配線圖案。
其中,上述疊紋成分係使人眼的視覺響應特性起作用而得到之疊紋成分。使人眼的視覺響應特性起作用係指乘以上述式(1)所表示之視覺傳遞函數VTF(Dooley-Shaw的式)。另外,上述式(1)的觀察距離d設為100mm~1000mm的範圍的任一距離。其中,觀察距離係300mm~800mm中的任一值為較佳。其中,在本發明的實施例中,將觀察距離設為500mm。
又,疊紋成分的總和亦即疊紋的評價值I的計算方法使用在過去的視覺研究中作為概率加法運算模型的近似而由Quick等提唱之下述式(2)為較佳。
I=(Σ(R[i])x)1/x......(2)
其中,R[i]表示疊紋的第i個頻率成分的強度,亦即VTF乘法運算後的各疊紋成分(參閱圖17、圖23、圖28、圖45、圖50、圖55、圖60及圖80)。又,次數x設為在過去的視覺研究中作為對視覺實驗結果良好地擬合(fit)之次數而提出之1~4的範圍中的任一值。作為代表性次數,採用由Quick提出之次數x=2。
又,本發明的配線圖案還具有以下特徵。
‧至少1個方向的直線配線在將各配線層的配線圖案重疊而成之正面觀察時的配線圖案中,既定根數的配線的重複間距為等 間距且既定根數的各個配線的間距為非等間距。
在該種非等間距的直線配線的配線圖案中,將連續之2根以上的配線配置於1層中,這對傾斜觀察時的疊紋產生的減少尤為有效(以下,將“非等間距的直線配線的配線圖案”亦簡稱為“非等間距的配線圖案”。又,將“等間距的直線配線的配線圖案”亦簡稱為“等間距的配線圖案”)。
又,本發明的非等間距的配線圖案還具有以下特徵。
‧在將各配線層的配線圖案重疊而成之正面觀察時的配線圖案中,疊紋成分的總和小於平均間距相同之等間距的配線圖案。
在此,若將從配線圖案和像素排列的亮度圖案導出之各疊紋成分乘以上述式(1)的VTF而得到之各疊紋成分中強度最大的成分定義為主疊紋成分,將由本發明的非等間距的配線圖案所引起之主疊紋成分定義為非等間距主疊紋成分,且將由平均間距相同之等間距的配線圖案所引起之主疊紋成分定義為等間距主疊紋成分,則本發明的非等間距的配線圖案還具有以下中的任一特徵。
‧非等間距主疊紋成分的強度小於等間距主疊紋成分。
‧非等間距主疊紋成分的頻率大於等間距主疊紋成分。
‧等間距主疊紋成分的頻率以下的頻率範圍中之疊紋成分的總和小於等間距的配線圖案。
‧等間距主疊紋成分的頻率下之疊紋成分的強度小於等間距的配線圖案。
又,若將成為產生主疊紋成分之原因之配線圖案的頻率成分定義為主配線頻率成分,將本發明的非等間距的配線圖案的主配線頻率成分定義為非等間距主配線頻率成分,將平均間距相同之 等間距的配線圖案的主配線頻率成分定義為等間距主配線頻率成分,則本發明的非等間距的配線圖案還具有以下中的任一特徵。
‧非等間距主配線頻率成分的強度小於等間距主配線頻率成分。
‧等間距主配線頻率成分的頻率下之強度小於等間距的配線圖案。
根據本發明的非等間距的配線圖案的“等間距主配線頻率成分的頻率下之強度小於等間距的配線圖案”的特徵,還可導出與本發明的非等間距的配線圖案的間距有關之特徵。將圖76作為在本發明的非等間距的配線圖案亦即正面觀察時的配線圖案中既定根數的重複間距為等間距且既定根數的各個配線的間距為非等間距的配線圖案的例子,並將圖12作為平均間距與本發明的非等間距的配線圖案相同之等間距的配線圖案的例子而具體進行說明。
在此,在圖76所示之例子中,2根配線的重複間距幾乎為等間距,但為了說明,將4根配線的重複間距視為等間距而進行說明。首先,圖12的配線圖案的主配線頻率成分(等間距主配線頻率成分)的頻率係圖15的以黑箭頭表示之成分的頻率。在圖15中以黑箭頭表示之成分係從接近頻率0之一側起第5個成分。由於圖12的配線間距為101μm,所以圖15的第1個成分的頻率成為(1000μm/101μm=)約9.9週期/mm。另外,在此所說之頻率表示在配線的方向(與y方向所成之角度為26°)上之頻率。第5個成分的頻率成為(9.9週期/mm*5=)49.5週期/mm。
在本發明的圖76所示之例子中,該等間距主配線頻率成分 的頻率49.5週期/mm下之強度(圖78的以黑箭頭表示之成分的強度)小。據此,可導出與配線的間距有關之特徵。
圖84的粗實線係在圖12的配線的透射率圖案中沿著配線的方向觀察1個方向的直線配線亦即右方向的直線配線21d或左方向的直線配線21e之一維輪廓。另外,為了說明,該粗實線的輪廓中將透射率的1和0反轉,亦即將無配線之部分的透射率設為0,將有配線之部分的透射率設為1。又,無窮小地表示配線的寬度。示出將第1個配線的位置設為0μm,從該配線起以101μm的等間距在位置101μm、202μm、303μm及404μm處分別有第2個、第3個、第4個及第5個配線之情況。在圖84中還示出主配線頻率成分(等間距主配線頻率成分)的頻率49.5週期/mm的cos(餘弦)波(點線)及sin(正弦)波(實線)。圖84中之透射率輪廓乘以圖84的cos波及sin波而對所有位置進行了積分之值分別相當於主配線頻率成分的實部及虛部,實部與虛部的平方和的平方根成為主配線頻率成分的強度。由圖84可知,第1個~第5個配線全部屬於cos波成為正值之區間。在圖85中示出配線的透射率輪廓乘以cos波而得到之輪廓。第1個~第5個配線全部的透射率成為正值。該等配線的透射率的積分值為主配線頻率成分的在頻率49.5週期/mm下之實部,能夠理解該值變大。另外,由圖84可知,第1個~第5個配線全部分佈於sin波的0附近,因此乘以sin波而進行了積分之值變小,亦即在頻率49.5週期/mm下之虛部為接近0的值。亦即,在此能夠理解主配線頻率成分的強度由實部確定並成為大的值。
接著,在圖86中以粗實線示出在圖76所示之配線的透射率圖案中沿配線的方向觀察1個方向的直線配線亦即右方 向的直線配線21l或左方向的直線配線21m之一維輪廓。圖86只有透射率輪廓與圖84不同,其他與圖84相同。在圖86中,將第1個配線的位置設為0μm,從該配線起在位置71μm、202μm及272μm處分別有第2個、第3個及第4個配線。在此,4根配線的重複間距為(101μm*4=)404μm的等間距,因此第5個配線的位置成為404μm。又,由於4根配線以404μm的等間距重複,構成該配線圖案之所有頻率成分以404μm的間距重複,因此,在此僅著眼於404μm的區間的第1個~第4個配線即可(第5個配線為第1個配線的重複,第6個配線為第2個配線的重複、......。)。由圖86可知,第1個和第3個配線屬於cos波成為正值之區間,第2個和第4個配線屬於cos波成為負值之區間。將圖86的透射率輪廓乘以cos波而得到之輪廓示於圖87。由圖87可知,第1個和第3個配線的透射率成為正值,第2個和第4個配線的透射率成為負值。藉此,能夠理解將該等值進行了積分之等間距主配線頻率成分的頻率49.5週期/mm下之實部成為小的值。在此,由圖86可知,第1個~第4個配線全部分佈於sin波的0附近,因此乘以sin波而進行了積分之值變小,亦即頻率49.5週期/mm下之虛部為接近0的值。亦即,在此能夠理解主配線頻率成分的強度由實部確定並成為小的值。
由以上說明總結與本發明的非等間距的配線的間距有關之特徵。在圖84~圖87的例子中,在等間距的情況下,從第1個配線的第1個、第2個、第3個及第4個配線的間距全部屬於等間距主配線頻率成分的頻率的cos波成為正值之區間,另一方面,在本發明的非等間距的情況下,屬於cos波成為正值之區間之根數(第1個和第3個)與屬於成為負值之區間之根數(第 2個和第4個)相等。在此,在圖84的例子中,4根配線全部屬於cos波成為正值之區間,但並不是等間距,當對間距賦予不規則性時,還有可能存在屬於cos波成為負值之區間之配線。亦即,第1個配線必定屬於cos波成為正值之區間(但間距為0),因此其他配線藉由不規則性的賦予而間距從等間距的配線的間距發生比±π/2大的相位的量的變化而還有可能屬於cos波成為負值之區間。
但是,即使單純地對間距賦予不規則性,屬於cos波成為正值之區間之配線和屬於成為負值之區間之配線的根數亦存在偏差。因此,乘以cos波而進行積分之結果,各配線的cos波乘法運算後的透射率存在正負的偏差,並不被充分抵消,其結果,等間距主配線頻率成分的頻率下之實部的絕對值的大小成為與本發明相比大的值。
亦即,為了如本發明那樣充分減小等間距主配線頻率成分的頻率下之強度,需要以使屬於cos波成為正值之區間之配線與屬於成為負值之區間之配線的根數大致相等之方式將間距最優化。本發明中,在“等間距主配線頻率成分的頻率下之強度小於等間距的配線圖案”那樣對配線的間距的最優化進行探討之結果中,屬於cos波成為正值之區間之根數與屬於成為負值之區間之根數之差大致為±1以下。
另一方面,即使單純地將屬於cos波成為正值之區間之根數與屬於成為負值之區間之根數設為大致相等,亦存在等間距主配線頻率成分的頻率下之強度不會充分減小之情況。亦即,等間距主配線頻率成分的頻率下之強度為實部與虛部的平方和的平方根,因此不僅是實部,虛部亦需要減小。亦即,不僅是cos波(對 應於實部),屬於sin波(對應於虛部)成為正值之區間之根數與屬於成為負值之區間之根數亦需要大致相等。但是,如圖86~圖87的例子那樣,各配線的間距在sin波的0附近的小的值的區間時,虛數對強度之貢獻小,因此即使屬於sin波成為正值之區間之根數與屬於成為負值之區間之根數存在偏差,使強度增大之影響亦小。
綜上,如本發明那樣,為了充分減少等間距主配線頻率成分的頻率下之強度,需要將等間距主配線頻率成分的頻率的cos波或sin波中至少1個(對強度之貢獻大的一個)波屬於正值的區間之配線的根數與屬於負值的區間之配線的根數設為大致相等(±1根以下)。
將第1個配線的位置設為0,cos波成為正值之區間以(N-0.25)*T<x<(N+0.25)*T給出,成為負值之區間以(N+0.25)*T<x<(N+0.75)*T給出。另一方面,sin波成為正值之區間以N*T<x<(N+0.5)*T給出,成為負值之區間以(N+0.5)*T<x<(N+1.0)*T給出。其中,N表示0、1、......的整數。T表示等間距主配線頻率成分的週期,若將等間距主配線頻率成分的頻率設為F(週期/mm),則具有1000/F(μm)的關係。
因此,可以說本發明的非等間距的配線具有以下特徵。
‧在將非等間距的配線的既定根數設為n且將各個配線設為配線1、配線2、......、配線n時,將配線1作為原點之各個配線的間距p至少滿足下述條件1及條件2中的任一個。
條件1:間距屬於(N-0.25)*T<p<(N+0.25)*T的區間之金屬細線的根數與間距p屬於(N+0.25)*T<p<(N+0.75)*T的區間之金屬細線的根數的差分為1根以下。
條件2:間距p屬於N*T<p<(N+0.5)*T的區間之金屬細線的根數與間距p屬於(N+0.5)*T<p<(N+1.0)*T的區間之金屬細線的根數的差分為1根以下。
其中,T為平均間距相等之等間距配線的主配線頻率成分的週期,將等間距主配線頻率成分的頻率設為F(週期/mm)而以1000/F(μm)(1/F(mm))給出。又,N為0、1、......的整數且為將平均間距設為PA而(n*PA/T)以下的整數。
上述特徵的條件1表示“cos波屬於正值的區間和負值的區間之配線的根數大致相等”的特徵。
上述特徵的條件2表示“sin波屬於正值的區間和負值的區間之配線的根數大致相等”的特徵。
另外,為了判斷上述特徵而將cos波或sin波屬於正值或負值的區間之配線的根數進行計數時,分別位於cos波或sin波的0附近之配線成為計數的誤差,因此將其除外為較佳。因此,能夠如下那樣重新定義上述特徵。
‧在正面觀察時的配線圖案中,將非等間距的配線的既定根數設為n且將各個配線設為配線1、配線2、......、配線n時,將配線1作為原點之各個配線的間距p至少滿足下述條件1及條件2中的任一個。
條件1:間距p屬於(N-d)*T<p<(N+d)*T的區間之金屬細線的根數與間距p屬於(N+0.5-d)*T<p<(N+0.5+d)*T的區間之金屬細線的根數的差分為1根以下。
條件2:間距p屬於(N+0.25-d)*T<p<(N+0.25+d)*T的區間之金屬細線的根數與間距p屬於(N+0.75-d)*T<p<(N+0.75+d)*T的區間之金屬細線的根數的差分為1根以下。
其中,T為平均間距相等之等間距配線的主配線頻率成分的週期,將等間距主配線頻率成分的頻率設為F(週期/mm)而以1000/F(μm)(1/F(mm))給出。亦即,T為將在等間距的配線圖案中成為對疊紋貢獻最大的疊紋的頻率成分的原因之等間距的配線圖案的頻率成分的頻率設為F而以1/F給出之週期。
又,N為0、1、......的整數(0或正的整數)且為將平均間距設為PA而(n*PA/T)以下的整數。
又,d為0.025~0.25的範圍中的任一值。
上述d表示以cos波或sin波的最大或最小的位置為中心之區間的範圍,當d為0.25時表示cos波或sin波成為正值或負值之區間的所有範圍,當d為0.025時表示cos波或sin波成為正值或負值之區間的1/10的範圍。d的值越小,越能夠僅將對實部或虛部的大小貢獻大的配線進行計數。
如已在“基於將既定根數的間距設為非等間距之減少疊紋之原理”項中所說明,本發明中,在正面觀察時的配線圖案為“既定根數的重複間距為等間距且既定根數的各個配線的間距為非等間距”的配線圖案的情況下,若將非等間距的配線的既定根數設為n根而僅抽出第1個配線、......、第n個配線之各個配線圖案定義為子配線圖案,則正面觀察時的配線圖案係以相互抵消各個子配線圖案中所包含之產生疊紋之頻率成分之間距重疊而成之配線圖案。
亦即,若將子配線圖案重疊於像素排列圖案上時被人眼辨識之最大的疊紋成分(VTF乘法運算後強度最大的疊紋成分)定義為子主疊紋成分,將成為產生子主疊紋成分之原因之子配線圖案的頻率成分定義為子主配線頻率成分,則將T作為子主配線頻率 成分的週期,正面觀察時的配線具有與上述完全相同之特徵。
亦即,正面觀察時的配線圖案的間距係相互抵消子配線圖案中所包含之成為疊紋的原因之各頻率成分之間距,因此至少針對成為最大的疊紋的原因之子主配線頻率成分,以滿足上述特徵之間距會相互抵消。在此,子配線圖案的頻率成分包含等間距的配線圖案的頻率成分的頻率,同時在細n倍的頻率下存在,因此子主配線頻率成分與等間距主配線頻率成分當然並不一定一致。
又,如已在“基於將既定根數的間距設為非等間距之減少疊紋之原理”項中所說明,若著眼於本發明的連續配置有2根以上的配線之各配線層的配線圖案,則各配線層的配線圖案確實是“既定根數的配線的重複間距為等間距且既定根數的各個配線的間距為非等間距”的配線圖案,成為與等間距的配線圖案相比疊紋少的配線圖案。亦即,本發明的各配線層的配線圖案具有與在上述中所說明之本發明的非等間距的配線圖案相同之特徵。亦即,關於本發明的連續配置有2根以上的配線之各配線層的配線圖案,具有與間距有關之以下特徵。
在各配線層中將非等間距的配線的既定根數設為nl,並將各個配線設為配線1、配線2、......、配線nl時,在各配線層的配線圖案中,將配線1作為原點之各個配線的間距p至少滿足下述條件1及條件2中的任一個。
條件1:間距p屬於(N-d)*T<p<(N+d)*T的區間之金屬細線的根數與間距p屬於(N+0.5-d)*T<p<(N+0.5+d)*T的區間之金屬細線的根數的差分為1根以下。
條件2:間距p屬於(N+0.25-d)*T<p<(N+0.25+d)*T的區間之金屬細線的根數與間距p屬於(N+0.75-d)*T<p< (N+0.75+d)*T的區間之金屬細線的根數的差分為1根以下。
其中,T為在配線層中平均間距相等之等間距配線的主配線頻率成分的週期,將該等間距配線的主配線頻率成分的頻率設為F(週期/mm)而以1000/F(μm)(1/F(mm))給出。
又,N為0、1、......的整數(0或正的整數)且為將平均間距設為PA而(n1*PA/T)以下的整數。
又,d為0.025~0.25的範圍中的任一值。
又,同樣地,關於本發明的連續配置有2根以上的配線之各配線層的配線圖案,亦具有以下與間距有關之特徵。
在各配線層中將非等間距的配線的既定根數設為n1,並將各個配線設為配線1、配線2、......、配線n1時,在各配線層的配線圖案中,將配線1作為原點之各個配線的間距p至少滿足下述條件1及條件2中的任一個。
條件1:間距p屬於(N-d)*T<p<(N+d)*T的區間之金屬細線的根數與間距p屬於(N+0.5-d)*T<p<(N+0.5+d)*T的區間之金屬細線的根數的差分為1根以下。
條件2:間距p屬於(N+0.25-d)*T<p<(N+0.25+d)*T的區間之金屬細線的根數與間距p屬於(N+0.75-d)*T<p<(N+0.75+d)*T的區間之金屬細線的根數的差分為1根以下。
其中,T為在配線層中僅由配線1、配線2、......、配線n1中的任一個配線構成之子配線圖案中之主配線頻率成分(子主配線頻率成分)的週期,將該子配線圖案的主配線頻率成分的頻率設為F(週期/mm)而以1000/F(μm)(1/F(mm))給出。亦即,T為將在僅由配線1、配線2、......、配線n1中的任一個配線構成之子配線圖案中成為對疊紋貢獻最大的疊紋的頻率成分的原因之 子配線圖案的頻率成分的頻率設為F而以1/F給出之週期。
又,N為0、1、......的整數(0或正的整數)且為將平均間距設為PA而(n1*PA/T)以下的整數。
又,d為0.025~0.25的範圍中的任一值。
又,在本發明的非等間距的配線圖案和/或本發明的各配線層的配線圖案中,非等間距的配線的既定根數設為16根以下為較佳。該制約亦可以說是特徵。
以下,對用於導出本發明的配線圖案之實施方法進行說明。
本發明的配線圖案中,正面觀察時的配線圖案係疊紋少的配線圖案。又,本發明的配線圖案係以如下為特徵之配線圖案:在各配線層中連續配置2根以上的配線而對於各配線層的配線圖案在至少一部分中設為與正面觀察時的配線圖案相同之間距,藉此使頻率分佈接近,與正面觀察的配線圖案同樣地設為疊紋少的配線圖案,其結果,將傾斜觀察時的配線圖案設為與正面觀察的配線圖案同樣地疊紋少者。
用於得到該種本發明的配線圖案之方法沒有限制。作為簡單的方法,藉由反覆試驗而找出在正面觀察時疊紋少的配線圖案,若得到最佳的正面觀察時的配線圖案,則將其中2根以上的連續之配線分別分配於各配線層即可。作為找出在正面觀察時疊紋少的配線圖案之方法,首先,導出像素排列圖案的頻率分佈,接著,各種各樣地改變配線的角度和間距而導出配線圖案的頻率分佈來導出疊紋的頻率分佈,從而找出被人眼辨識之低頻的疊紋少的的角度和間距的配線圖案即可。
當在既定根數中設為非等間距時,例如亦可以在導 出等間距時的配線及疊紋的頻率分佈之後,評價與各種各樣地變更既定根數的配線的間距而設為等間距的情況相比疊紋是否減少,若減少則選定,重複進行如上操作來得到最佳的配線圖案。當設為非等間距時,能夠以如下方式判斷是否能夠減少疊紋。
在配線圖案的頻率分佈中,確定與像素排列圖案之疊紋成分變得最大之主配線頻率成分,並評價該成分是否減小即可。
或者,在疊紋的頻率分佈中被人眼辨識之低頻區域例如5週期/mm以下的頻率區域中,評價包含強度最大的主疊紋成分之各種疊紋成分是否減小即可。
或者,在乘以VTF而得到之疊紋頻率分佈中,評價包含主疊紋成分之被人眼辨識之各種疊紋成分是否減小即可。
如上所述,能夠由人得到配線圖案、或者導出疊紋的頻率分佈並藉由反覆試驗來得到最佳的配線圖案。此時,可以著眼於主配線頻率成分的cos波及sin波與間距的關係而以乘以cos波或sin波而得到之透射率成為正或負值之配線的數量變均等之方式調整間距。另外,cos波及sin波與間距的關係圖不僅能夠對主配線頻率成分進行製作,對成為疊紋的原因之各種配線頻率成分亦同樣能夠進行製作。
又,如已說明,當將配線間距設為非等間距時,會產生比等間距的配線低的頻率成分,因此配線圖案有可能被辨識。因此,對藉由將配線間距設為非等間距而產生之低頻成分,例如對在既定根數為4根的情況下原來的等間距的配線的最小頻率的1/4、2/4及3/4的頻率,亦可以製作cos波及sin波與間距的關係圖。對配線的頻率成分中成為疊紋的原因之各頻率成分及對配線的可見性產生影響之低頻成分製作cos波及sin波與間距的關係 圖,能夠一邊觀察該圖,一邊調整間距以免各個頻率成分變大。
另外,對主配線頻率成分,以乘以cos波或sin波而得到之透射率成為正或負值之配線的數量盡量變均等之方式調整間距為較佳,但是對於其他的對疊紋或配線可見性之貢獻小的頻率成分,無需拘泥於乘以cos波或sin波而得到之透射率成為正或負值之配線的數量變均等,只要能夠在影響小的範圍內減小即可。
如以上說明,人首先藉由反覆試驗而找出在正面觀察時疊紋少的配線圖案,若得到最佳的正面觀察時的配線圖案,則將其中2根以上的連續之配線分別分配至各配線層,藉此能夠得到本發明的配線圖案。另一方面,亦能夠自動得到在正面觀察時疊紋少的配線圖案。又,當還評價傾斜觀察時的疊紋而欲得到疊紋更少的配線圖案時,處理量增加而變得複雜,因此自動找出之方法為較佳。在以下實施方法中對自動得到之方法進行說明。
以下,對用於自動得到最佳的配線圖案之本發明的導電性薄膜的配線圖案的製作方法進行說明。亦即,對本發明的導電性薄膜的配線圖案的自動最優化方法進行說明。
在圖88中示出本發明的導電性薄膜的配線圖案的製作方法的流程。
另外,以下,作為本發明的導電性薄膜的配線圖案,以被重疊之所有方向的線配線為直線配線的情況為前提進行說明,但當被重疊之線配線中還包含非直線配線的線配線時,對除非直線配線的線配線以外之各方向的直線配線,按照圖88的流程導出疊紋值總和成為最小之間距和角度來製作配線圖案即可。在該情況下,至少對除非直線配線的線配線以外之各方向的直線配線,能 夠得到無論在正面觀察時還是在傾斜觀察時疊紋均少的最佳的配線圖案。
首先,在步驟S10中,預先準備顯示器的像素排列的亮度圖案。像素排列的亮度圖案可以為利用顯微鏡等拍攝之圖像資料,亦可以像素排列圖案的數字資料乘以適當的模糊函數或進行捲積來製作。模糊函數由拍攝了顯示器之圖像的像素排列的亮度圖案的模糊程度來確定為較佳。
另外,在此準備之像素排列的亮度圖案當然係將本像素排列實際發光時的亮度圖案再現者為較佳。亦即,當使用用顯微鏡等拍攝之圖像資料作為像素排列的亮度圖案時,或者依據用顯微鏡等拍攝之圖像確定像素排列的亮度圖案的模糊函數時,當然由顯微鏡等攝影系統所引起之模糊的影響少為較佳。亦即,用如下系統進行拍攝為較佳,該系統充分包含本像素排列實際發光時的亮度圖案的高頻成分而以不使其減少之狀態進行拍攝。因由攝影系統所引起之模糊而導致在所拍摄之圖像中像素排列的亮度圖案的高頻成分減少時,將補償了該減少之圖像資料作為像素排列的亮度圖案或者依據經補償之圖像資料確定模糊函數為較佳。
又,在步驟S10中,預先導出至二維頻率分佈為佳。
接著,在步驟S12中,將方向i設定為1(i=1)。
接著,在步驟S14中,獲取導電性薄膜的配線圖案的方向i的平均配線間距和角度。
接著,在步驟S16中,利用以下敘述之方法計算處理配線圖案的正面/傾斜(觀察)疊紋值。
接著,在步驟S18中,利用以下敘述之方法,與平均配線間距及角度建立對應關聯而將所計算出之正面/傾斜疊紋值和各層 間距資訊記憶於記憶體等。
接著,在步驟S20中,判斷是否存在應獲取之方向i的平均配線間距和角度。
若存在應獲取之方向i的平均配線間距和角度(是),則返回到步驟S14,獲取所需之方向i的平均配線間距和角度,並反覆進行步驟S14~步驟S20。該循環(loop)係指各種各樣地改變平均配線間距和角度之循環。
另一方面,當不存在應獲取之方向i的平均配線間距和角度(否)時,進入步驟S22。
在步驟S22中,判斷方向i是否為n(i=n)(是否殘留有方向i)。
當方向i不是n(i≠n)(否)時,在步驟S24中,將方向i設為i+1(i=i+1)並返回到步驟S14,反覆進行步驟S14~步驟S20。
當方向i為n(i=n)(是)時,進入步驟S26。
接著,在步驟S26中,將方向1的正面/傾斜疊紋值、方向2的正面/傾斜疊紋值、......、方向n的正面/傾斜疊紋值的總和設為疊紋值總和(疊紋評價值)而導出疊紋值總和成為最小之各方向i的間距和角度。
另外,在此導出各方向i的間距和角度係指與各方向i的間距和角度同時還導出各層間距資訊。
如此,結束本發明的導電性薄膜的配線圖案的製作方法。
在此,作為方向1、方向2、......、方向n的正面/傾斜疊紋值的總和的計算方法,可以利用線性和來計算。亦即,可以利用以下式來計算總和。
方向1的正面/傾斜疊紋值+方向2的正面/傾斜疊紋值 +......+方向n的正面/傾斜疊紋值
但是,在正面/傾斜疊紋計算處理中,藉由後面敘述之概率性的加法運算來計算疊紋值時,其總和亦藉由概率性的加法運算來計算為較佳。亦即,利用以下式來計算總和為較佳。
(方向1的正面/傾斜疊紋值x+方向2的正面/傾斜疊紋值x+......+方向n的正面/傾斜疊紋值x)1/x
其中,次數x設為與正面/傾斜疊紋值計算處理中之概率加法運算的次數相同之值。
又,欲單純地導出在方向1、......、方向n的所有方向的配線間距與角度的組合中正面/傾斜疊紋值成為最小之組合時,分別導出單純地在方向1、......、方向n的各個循環中正面/傾斜疊紋值成為最小之配線間距和角度(及各層間距資訊)即可(無需與配線間距及角度建立對應關聯而記憶正面/傾斜疊紋值)。但是,當需要僅限定於關於配線間距和角度而滿足某些條件之組合時,如圖88那樣,成為如下方法:首先,與各方向的配線間距及角度建立對應關聯而記憶正面/傾斜疊紋值,最後,僅限定於各方向的配線間距與角度的組合中滿足條件之組合而導出疊紋值總和成為最小之組合。例如,在配線的透射率的觀點上欲對每單位面積的配線的根數設定限制時,成為如下方法:將方向1的配線的平均間距設為p1,將方向2的配線的平均間距設為p2、......,將方向n的配線的平均間距設為pn,僅限定於1/p1+1/p2+......+1/pn成為既定值以下之組合而計算疊紋值總和來導出成為最小之組合。
又,將方向1、方向2、......、方向n的角度範圍設為0~180°(與x方向所成之角度),並使各個角度範圍不重疊(不 包含相同之方向)。當方向為4個時,例如將方向1的角度範圍設定為0°以上且小於45°,將方向2的角度範圍設定為45°以上且小於90°,將方向3的角度範圍設定為90°以上且135°以下,將方向4的角度範圍設定為超過135°且180°以下。又,當方向為2個時,例如將方向1的角度範圍設定為0°以上且小於90°,將方向2的角度範圍設定為90°以上且180°以下。在此,當像素排列圖案如圖11那樣左右對稱時,像素排列圖案的二維頻率分佈亦如圖14那樣成為左右對稱,因此若已導出成為左右對稱之角度的正面/傾斜疊紋值及各層間距資訊,則可以將該資訊轉用於成為左右對稱之另一個角度。例如,當方向為2個時,對方向1的角度範圍0°以上且小於90°的各角度、平均間距導出正面/傾斜疊紋值和各層間距資訊之後,將該資訊轉用於方向2的角度範圍超過90°且180°以下的成為對稱之角度即可。
另外,欲單純地導出在方向1、方向2、......、方向n的所有方向的配線間距與角度的組合中正面/傾斜疊紋值成為最小之組合時(在無需以與配線間距和角度及各層間距資訊有關之某些條件來限定組合時)且方向1、方向2、......、方向n的角度範圍為左右對稱時,若在成為左右對稱之方向上已導出正面/傾斜疊紋值成為最小之配線間距和角度及各層間距資訊,則可以將該資訊轉用於成為左右對稱之另一個方向(角度轉換為左右對稱的角度)。例如,當方向為2個時,在方向1的角度範圍為0°以上且小於90°中導出正面/傾斜疊紋值成為最小之配線間距和角度,即使方向2的角度範圍超過90°且180°以下,該配線間距和角度(左右對稱的角度)及各層間距資訊亦會成為正面/傾斜疊紋值成為最小之配線間距和角度及各層間距資訊。
另外,雖然需要探索時間,但可以探索方向1、方向2、......、方向n的所有角度範圍0°~180°(可以擴大各個方向的探索角度範圍並進行重疊)。藉由如此允許重疊而分別探索寬的角度範圍,有可能比不重疊之方式更能夠減小疊紋值。這是因為,存在在特定的角度範圍內存在複數個正面/傾斜疊紋值減小之角度之情況。例如,當在角度範圍0°~180°中的0°以上且小於45°的角度範圍內存在正面/傾斜疊紋值成為最小之角度,而且還存在正面/傾斜疊紋值成為其次小的角度時,若將方向1的配線圖案的角度設為在0°以上且小於45°的角度範圍內正面/傾斜疊紋值成為最小之角度,將方向2的配線圖案的角度設為在相同之0°以上且小於45°的角度範圍內正面/傾斜疊紋值成為其次小的角度,則比在與0°以上且小於45°的角度範圍不同之另一角度範圍內探索方向2的配線圖案的角度更能夠減小正面/傾斜疊紋值。但是,在如此允許重疊而分別探索寬的角度範圍的情況下,最後導出疊紋值總和成為最小之方向1、方向2、......、方向n的配線的間距和角度及各層間距資訊的組合時,需注意避免使方向1、方向2、......、方向n的角度變得相同。
又,可以限定方向1、方向2、......、方向n中改變配線間距和角度及各層間距資訊之方向。當方向為4個時,例如可以將方向2的角度固定為67.5°,將方向3的角度固定為112.5°,並且與方向2和方向3同時將配線間距及各層間距資訊亦固定為既定值,僅對方向1和方向4改變配線間距和角度及各層間距資訊而導出正面/傾斜疊紋值成為最小之組合。
以下,對正面/傾斜疊紋值的計算處理(圖88的步驟S16)記載2種實施方法。
在圖89中示出本發明中之正面/傾斜疊紋值計算處理的實施方法1的流程。
在該方法中,預先準備既定根數的各配線層間距的資訊並對該等間距全部進行評價。
首先,預先準備既定根數的各配線層間距的資訊,在步驟S30中獲取並指定既定根數的各配線層間距的資訊。
接著,在步驟S32中,以所指定之各配線層間距導出疊紋的評價值。
具體而言,首先以所指定之各配線層間距製作配線的透射率圖案,並導出二維頻率分佈。接著,使用像素排列圖案的二維頻率分佈及配線圖案的二維頻率分佈導出疊紋成分。接著,由疊紋成分導出疊紋評價值。
接著,在步驟S34中,若疊紋評價值比所記憶之疊紋評價值變得良好,則記憶該變得良好之間距資訊。
接著,在步驟S36中,當在預先準備之既定根數的各配線層間距的資訊中殘留有未求出疊紋評價值之既定根數的各配線層間距的資訊且存在應指定之既定根數的各配線層間距的資訊(是)時,返回到步驟S30,反覆進行步驟S30~步驟S34。
另一方面,當不存在應指定之既定根數的各配線層間距的資訊(否)時,結束正面/傾斜疊紋值計算處理的實施方法1。
如已說明,本發明的配線圖案係如下配線圖案:正面觀察時的配線圖案係疊紋少的配線圖案,又,各配線層的配線圖案藉由在至少一部分中為與正面觀察時的配線圖案相同之間距而頻率分佈接近,與正面觀察的配線圖案同樣地為疊紋少的配線 圖案,其結果,傾斜觀察時的配線圖案亦與正面觀察的配線圖案同樣地成為疊紋少者。作為用於得到該種配線圖案之正面/傾斜疊紋值計算處理的實施方法1,在此說明以下3個方法。
1.僅導出正面觀察的疊紋值之方法
2.導出各配線層的疊紋值之方法
3.導出正面觀察和傾斜觀察的疊紋值之方法
又,如在概要中所說明之圖41那樣等間距的配線圖案的情況和如圖56那樣在既定根數(在圖56中為4根)中成為非等間距之配線圖案的情況下,正面/傾斜疊紋值計算處理的方法不同。
對該等各方法進行說明。
另外,以下說明之“等間距的配線圖案”係指在正面觀察時成為等間距之配線圖案,“在既定根數中成為非等間距之配線圖案”係指在正面觀察時在既定根數中成為非等間距之配線圖案。亦即,在概要中所說明之圖41的配線圖案在正面觀察時為圖19所示之配線圖案,因此係“等間距的配線圖”,圖56的配線圖案在正面觀察時為圖46所示之配線圖案,因此係“在既定根數(在圖46中為4根)中成為非等間距之配線圖案”。
不需要進行圖89所示之實施方法1的處理。在圖88中,對各個配線間距和角度導出正面觀察的疊紋值即可。亦即,對於在圖88的步驟S14中獲取之方向i的配線間距和角度,在步驟S16中計算正面觀察的疊紋值,在步驟S18中與配線間距及角度建立對應關聯而將所計算出之正面觀察的疊紋值記憶於記憶體等即 可。在圖88的步驟S18中不需要記憶各層間距資訊。又,在步驟S26中亦只要導出總和疊紋值成為最小之各方向i的間距和角度即可,不需要導出各層間距資訊。但是,在圖88的流程的最後,在各方向上需要以在各配線層中分別連續配置2根以上之方式分配既定根數的配線。例如,當配線層為2層且既定根數為4根時,例如只要以在配線層1和配線層2中分別連續配置各2根之方式分配4根配線即可。
疊紋值的導出方法如已說明,但簡單地說明一下。
首先,以指定的配線間距和角度製作配線的正面觀察時的透射率圖案,並導出二維頻率分佈。接著,根據像素排列的二維頻率分佈和配線的二維頻率分佈導出正面觀察時的疊紋成分。最後,各疊紋成分乘以VT之後計算總和而作為正面觀察時的疊紋值。
在此,隨後說明導出VTF乘法運算後的各疊紋成分的強度的總和時的導出方法。
預先準備既定根數的各配線層間距的資訊,對所有的該等間距進行評價。在此,在圖88的流程中各種各樣地變更平均配線間距。為了對各個平均配線間距任意使用相同之各配線層間距資訊,以相對於平均間距之比率的資訊準備各配線層間距資訊為佳。例如,當配線層為2層且既定根數為4根時,設為如下資訊。
上述表1為4根配線距第1個配線之間距的資訊。示出配線1和配線3配置於配線層1、配線2和配線4配置於配線層2之配線。各配線層間距1~各配線層間距4由配線1~配線4的間距的組合的資訊構成。各間距為相對於平均間距之比率,藉由該比率的間距乘以平均間距而得到各配線的間距。例如,當平均間距為200μm時,各配線層間距1表示配線1為0μm、配線2為200μm、配線3為400μm、配線4為600μm的間距的組合。如此,藉由以比率的資訊具備間距,能夠對任意的平均間距任意使用該間距資訊。在此,正面觀察時的配線圖案為等間距,因此在表1中,各配線的間距只能取整數值,配線1~配線4分別能夠取間距0、1、2、3的值,但不存在間距的重複。4根配線以等間距重複,因此例如配線1的間距成為0、4、8、.........。
各配線層間距1成為以往的配線圖案的配線1~配線4的間距組合亦即在各配線層中交替地配置有配線時的間距組合。相對於此,各配線層間距2~各配線層間距4全部成為在配線層1和配線層2中分別連續配置有2根之間距組合。另外,各配線層間距2~各配線層間距4全部成為實質上相同之配線圖案(僅將配線1~配線4的間距在整體上錯開之關係),因此僅對各配線層間距2進行疊紋評價即可(即使評價其他組合,亦全部成為相同之結果)。
本發明中,配線層的數量及配線在各配線層中之配置重複之既定根數是任意的。例如,當配線層有4層且既定根數為12根時,各配線層間距資訊成為如以下表2那樣。在表2中,各配線層間距1表示以往的配線圖案的間距組合。
在以後的實施例的說明中,為了與概要的說明結合而簡單地進行說明,以配線層為2層且既定根數為4根的例子進行說明(但是,在配線層及既定根數為其他個數的情況下,需要說明時其他例亦隨時進行說明)。
在各配線層間距的組合中,以如下方式計算疊紋評價值。在表1的各配線層間距2的情況下,在配線層1中,在間距(比率)為0、3、4、7、8、.........處配置配線1和配線3,在配線層2中,在間距(比率)為1、2、5、6、.........處配置配線2和配線4。例如,當平均間距為200μm時,在配線層1中,在間距為0μm、600μm、800μm、1400μm、1600μm、.........處配置配線1和配線3,在配線層2中,在間距為200μm、400μm、1000μm、1200μm、.........處配置配線2和配線4。
分別製作如此配置有配線之配線層1和配線層2的透射率圖 案,並導出二維頻率分佈。而且,由像素排列圖案的二維頻率分佈和配線圖案的二維頻率分佈分別導出疊紋成分,各疊紋成分乘以VTF之後計算總和,將其分別作為配線層1和配線層2的疊紋評價值。而且,將配線層1和配線層2的疊紋評價值大的一方的值或總和值作為各配線層間距2的疊紋評價值。同樣地,對各配線層間距的組合計算出疊紋評價值,對疊紋評價值最小的各配線層間距與圖88的平均間距及角度建立對應關聯而作為正面/傾斜疊紋值和各層間距資訊進行記憶。
與“2.導出各配線層的疊紋值之方法”大體相同,但疊紋評價值的計算方法不同。例如,在表1的各配線層間距2的情況下,當平均間距為200μm時,在配線層1中,在間距為0μm、600μm、800μm、1400μm、1600μm、.........處配置配線1和配線3,在配線層2中,在間距為200μm、400μm、1000μm、1200μm、.........處配置配線2和配線4之後,僅對配線層2中之配線2和配線4設想傾斜觀察而將間距錯開。而且,製作將配線層1的配線(配線1和配線3)和配線層2的配線(配線2和配線4)重疊而成之透射率圖案,並導出二維頻率分佈。
而且,由像素排列圖案的二維頻率分佈和配線圖案的二維頻率分佈導出疊紋成分,各疊紋成分乘以VTF之後計算總和,將其作為設想傾斜觀察之疊紋評價值。在此,配線層1相當於圖30的上表面,配線層2相當於下表面,因此只有配線層2錯開間距。根據圖29及圖30的說明,以d*sinθ*sin(φ+α)或d*sinθ*sin(φ-α)給出該錯開量。其中,d為從配線層1至配線 層2為止的距離亦即被夾在配線層1與配線層2之透明基體的厚度,如圖29所示,θ和φ為觀察方向的角度。在此,根據θ和φ,傾斜觀察的配線圖案亦即配線層1與配線層2的配線重疊之透射率圖案不同,疊紋評價值亦不同。
因此,對各種θ及φ計算疊紋評價值,將其最大值(表示疊紋最多的評價值)作為各配線層間距2的傾斜觀察的疊紋評價值。而且,作為正面觀察(θ=0°)的疊紋評價值,製作不使配線層1和配線層2的配線錯開重疊而成之透射率圖案並計算疊紋評價值。將傾斜觀察的疊紋評價值和正面觀察的疊紋評價值的大的一方(疊紋多的一方)的值作為各配線層間距2的疊紋評價值。
θ例如設為30°和60°,φ例如設為0°、+45°、-45°、+90°、-90°、+135°、-135°、+180°,對所有的θ與φ的組合計算疊紋評價值,將其最大值作為傾斜觀察的疊紋評價值。同樣地,對各配線層間距的組合計算疊紋評價值。將各配線層間距的組合中疊紋評價值最小時的疊紋值作為與圖88的平均間距及角度建立有對應關聯之正面/傾斜疊紋值而進行記憶,又,將各配線層間距作為各層間距資訊而進行記憶。
另外,即使是配線層為2層以上的任何層,均能夠計算傾斜觀察的疊紋評價值。亦即,當從θ、φ的方向觀察配線層i的配線時,將從配線層1至配線層i為止的距離設為d而以d*sinθ*sin(φ+α)或d*sinθ*sin(φ-α)給出配線層i相對於配線層1之偏離量,因此若對各配線層錯開相當於該配線層之偏離量d*sinθ*sin(φ+α)或d*sinθ*sin(φ-α)而進行重疊,則能夠製作傾斜觀察的配線圖案,並能夠計算疊紋評價值。
在圖89所示之流程中,預先準備既定根數的非等間距的各配線層間距的資訊,對該等間距全部評價正面觀察的疊紋。關於非等間距的資訊,對等間距賦予預定範圍的隨機數之方法為簡單。如已說明,為了對各個平均配線間距任意使用相同之各配線層間距資訊,以相對於平均間距之比率的資訊準備各配線層間距資訊為佳。在此,當配線層為2層且既定根數為4根時,設為如下資訊。
表3的各配線層間距係對4根配線距第1個配線之等間距時的間距0、1、2及3分別賦予-0.1~+0.1的範圍的隨機數而得到之間距的資訊。各配線層間距的組合的數量越多,越能夠以多的非等間距的組合評價疊紋,發現疊紋更小的間距組合之概率升高(但是,探索時間延長)。例如,平均間距200μm乘以表3的各配線層間距1,能夠得到“-11μm、202μm、417μm及615μm”的非等間距組合。
另外,在僅導出正面觀察的疊紋值之方法中,在圖89所示之流程中僅需要既定根數的配線的間距的資訊,不需要配置各個配線之配線層的資訊。例如,在表3的情況下,為了導出正面觀察的疊紋值,僅需要4根配線的間距的資訊,不需要配置各個配 線之配線層的資訊(表示配線1和配線3配置於配線層1、配線2和配線4配置於配線層2之資訊)。而且,在圖88所示之流程的最後,以在各配線層中連續配置2根以上之方式重新分配既定根數的各個配線。亦即,在僅導出正面觀察的疊紋值之方法中,首先,藉由圖89所示之流程求出在正面觀察時疊紋減少之既定根數的配線的間距的組合,然後,在圖88所示之流程的最後,以在各配線層中連續配置2根以上之方式分配既定根數的各個配線,藉此能夠得到即使在傾斜觀察時疊紋亦減少之配線圖案。
與等間距的配線圖案時的導出各配線層的疊紋值之方法相同。但是,在等間距的配線圖案的情況下,在各配線層間距資訊中各配線的間距只能取整數值,但在非等間距的情況下,設為對各個配線距第1個配線之等間距時的間距賦予比-0.5~+0.5寬範圍的隨機數而得到之間距資訊。藉由對各個配線的間距賦予比-0.5~+0.5寬範圍的隨機數,能夠包括各配線的間距逆轉之組合而進行疊紋評價。各配線的間距的逆轉表示在各配線層中連續配置2根以上的配線。
所賦予之隨機數的範圍越寬,越會包含更多的連續配置的組合。例如,若隨機數的範圍超過-1.0~+1.0的範圍,則包含3根連續配置的組合。所賦予之隨機數的範圍根據用於確保觸控感測功能之連續配置的上限和/或探索的效率性等來確定(隨機數範圍越寬,間距的值變得越零散,探索越沒有效率)。當配線層為2層且既定根數為4根時,例如設為如下資訊。表4的各配線層間距係對4根配線距第1個配線之等間距時的間距0、1、2及3分別 賦予-2.0~+2.0的範圍的隨機數而得到之間距的資訊。另外,在表4中,當間距成為負值時,加上4而設為正值,並且當間距超過4時,設為減去4之值。
若如表4那樣在各配線層間距中還包含逆轉之組合,則包括在各配線層中連續配置2根以上的配線之間距及未連續配置之間距在內包羅地探索間距組合而能夠求出疊紋評價值變得良好之組合。
與等間距的配線圖案時的導出正面觀察和傾斜觀察的疊紋值之方法相同。但是,在等間距的配線圖案的情況下,在各配線層間距資訊中各配線的間距只能取整數值,但在非等間距的情況下,設為對各個配線距第1個配線之等間距時的間距賦予比-0.5~+0.5寬範圍的隨機數而得到之間距資訊。該種間距資訊的確定方法與非等間距的配線圖案時的導出各配線層的疊紋值之方法相同。
在既定根數中成為非等間距之配線圖案的情況下,可以代替圖89所示之實施方法而藉由圖90所示之實施方法來計算正面/ 傾斜疊紋值。在圖89所示之方法中,預先準備既定根數的各配線層間距的資訊,對該各自的各配線層間距的組合導出了疊紋評價值,但在圖90所示之方法中,將各配線層間距在預定範圍內以預定刻度進行變更而導出疊紋評價值。與圖89所示之實施方法相比,圖90所示之實施方法能夠包羅地進行探索,但存在需要探索時間之缺點。
在圖90中示出本發明中之正面/傾斜疊紋值計算處理的實施方法2的流程。
該方法係既定根數為4根的情況,對於各配線,對等間距時的間距0、1、2及3分別在以±預定之範圍內以預定刻度變更間距來進行疊紋評價。
首先,在步驟S50中,作為配線1的間距,指定對等間距時的間距0在±預定之範圍內進行了變更之間距。
接著,在步驟S52中,作為配線2的間距,指定對等間距時的間距1在±預定之範圍內進行了變更之間距。
接著,在步驟S54中,作為配線3的間距,指定對等間距時的間距2在±預定之範圍內進行了變更之間距。
接著,在步驟S56中,作為配線4的間距,指定對等間距時的間距3在±預定之範圍內進行了變更之間距。
接著,在步驟S58中,以所指定之配線1、配線2、配線3及配線4的間距製作配線的透射率圖案,並導出二維頻率分佈。
接著,在步驟S58中,以所指定之配線1、配線2、配線3及配線4的間距導出疊紋評價值。
具體而言,首先,使用像素排列圖案的二維頻率分佈及配線 圖案的二維頻率分佈導出疊紋成分。接著,由疊紋成分導出疊紋評價值。
接著,在步驟S60中,若疊紋評價值比所記憶之疊紋評價值變得良好,則記憶該變得良好之間距資訊。
接著,在步驟S62中,若殘留有應指定之配線4的間距,則對當前的配線4的間距增加或減少預定刻度而具備應指定之新的配線4的間距,並返回到步驟S56,反覆進行步驟S56~步驟S60。
在步驟S62中,若未殘留應指定之配線4的間距,則進入步驟S64。
接著,在步驟S64中,若殘留有應指定之配線3的間距,則對當前的配線3的間距增加或減少預定刻度而具備應指定之新的配線3的間距,並返回到步驟S54,反覆進行步驟S54~步驟S62。
在步驟S64中,若未殘留應指定之配線3的間距,則進入步驟S66。
接著,在步驟S66中,若殘留有應指定之配線2的間距,則對當前的配線2的間距增加或減少預定刻度而具備應指定之新的配線2的間距,並返回到步驟S52,反覆進行步驟S52~步驟S64。
在步驟S66中,若未殘留應指定之配線2的間距,則進入步驟S68。
接著,在步驟S68中,若殘留有應指定之配線1的間距,則對當前的配線1的間距增加或減少預定刻度而具備應指定之新的配線1的間距,並返回到步驟S50,反覆進行步驟S50~步驟 S66。
在步驟S68中,若殘留有應指定之配線1的間距,則結束正面/傾斜疊紋值計算處理的實施方法2。
在此,由於存在既定根數的間距實質上變相同之組合(由於存在如相對於表1的各配線層間距2之各配線層間距3及各配線層間距4那樣,僅將既定根數的間距在整體上錯開之間距組合),因此為了縮短最優化時間,省略該組合為較佳。在該情況下,可以預先準備省略了相同間距的組合之間距資訊,並利用正面/傾斜疊紋值計算處理的實施方法1進行最優化。
在正面/傾斜疊紋值計算處理的實施方法2中,對各配線的間距的組合,“僅導出正面觀察的疊紋值之方法”或“導出各配線層的疊紋值之方法”或“導出正面觀察和傾斜觀察的疊紋值之方法”與正面/傾斜疊紋值計算處理的實施方法1中之各方法相同。在此,在“導出各配線層的疊紋值之方法”或“導出正面觀察和傾斜觀察的疊紋值之方法”中,將間距的範圍相對於等間距時的間距設為比-0.5~+0.5寬的範圍來包含各配線的間距逆轉之組合。
與實施方法1同樣地,以相對於平均間距之比率的資訊確定間距的範圍及刻度的資訊為佳。藉由該比率乘以平均間距,可得到實際間距的範圍及刻度的資訊。藉由以比率的資訊具備間距的範圍及刻度的資訊,能夠對任意的平均間距任意使用該間距的範圍及刻度的資訊。
導出本發明的配線圖案時的注意事項
在圖88所示之本發明的配線圖案的導出方法中,當藉由“僅導出正面觀察的疊紋值之方法”導出時,如已說明,在圖88的流 程的最後,導出各方向的間距和角度之後,在各方向上需要以在各配線層中連續配置2根以上之方式分配既定根數的各個配線。例如,當配線層為2層且既定根數為4根時,例如以在配線層1和配線層2中分別連續配置各2根之方式分配4根配線。
在圖88所示之本發明的配線圖案的導出方法中,對“僅導出正面觀察的疊紋值之方法”、“導出各配線層的疊紋值之方法”及“導出正面觀察和傾斜觀察的疊紋值之方法”這3個方法進行了說明。其中,藉由“導出各配線層的疊紋值之方法”可得到各配線層中疊紋少的配線圖案,因此將該等各配線層以任意的錯開量錯開重疊而成之傾斜觀察的配線圖案(還包含不錯開重疊之正面觀察)亦成為疊紋少者。然而,“導出正面觀察和傾斜觀察的疊紋值之方法”可得到疊紋更少的傾斜觀察(及正面觀察)的配線圖案。亦即,傾斜觀察時的各配線層的偏離量並不是任意的,而是根據d*sinθ*sin(φ+α)中之透明基體的厚度d及觀察方向的角度θ及φ來確定之某一範圍內的量,因此若考慮錯開該範圍內的偏離量而重疊時的各頻率成分的抵消效果,則與“導出各配線層的疊紋值之方法”相比,“導出正面觀察和傾斜觀察的疊紋值之方法”可得到疊紋少的傾斜觀察(及正面觀察)的配線圖案。
如已說明,包括“在既定根數中成為非等間距之配線圖案”在內,各種各樣地改變配線圖案的角度和平均間距及既定根數的各個配線的間距而以正面觀察時和傾斜觀察時的疊紋均變良好之方式進行了探討,其結果,不依賴於像素排列圖案而本發明的“在各配線層中連續配置有2根以上的配線之配線圖案”的正面觀察及傾斜觀察的疊紋始終良好。具體而言,在配線層為2層且將2個方向的直線配線重疊而成之配線圖案中,按照圖88 所示之流程,利用“導出正面觀察和傾斜觀察的疊紋值之方法”導出了疊紋值成為最小之配線圖案,其結果,不依賴於像素排列圖案而在該2個方向上在配線層1(上表面)和配線層2(下表面)中分別連續配置有2根以上的配線之配線圖案中疊紋值最小。
以上的圖88~圖90所示之本發明的導電性薄膜的配線圖案的製作方法係和導電性薄膜的透明基體的有無無關地實施之與配線部的配線圖案有關者,因此並未規定透明基體,但亦能夠說係至少具有配線部之導電性構件的配線圖案的製作方法。亦即,圖88~圖90可以說係表示本發明的導電性構件及導電性薄膜的配線圖案的製作方法的流程者。
在專利文獻3中揭示有對菱形配線的間距賦予不規則性來判定疊紋評價值成為閾值以下之配線圖案。但是,該方法中存在課題。係“利用閾值排除強度小的疊紋成分”。在該方法中,除了原本欲選定之“被人眼辨識之低頻區域的疊紋成分少的配線圖案”以外,還會選定閾值以下的疊紋成分多的配線圖案。
本來,若對配線的間距賦予不規則性,則配線圖案的頻率成分會增加,但在該情況下,配線圖案的各頻率成分的強度的總和必然會增加。這是因為,無論對配線間距賦予或不賦予不規則性,配線圖案的透射率的平方和亦不會變,因此根據巴色伐(parseval)定理,配線圖案的二維頻率分佈的各頻率成分的功率(強度的平方)的總和不會變。功率(強度的平方)的總和不變而頻率成分增加意味著強度的總和增加。而且,配線圖案的強度的總和增加意味著疊紋成分的強度的總和亦增加。亦即,配線圖案的頻率成分增加之結果,疊紋成分亦必然地增加而其強度(像素排列的各頻率成分和配線圖案的各頻率成分的乘法運算值)的總和 亦增加。
其結果,乘以VTF之後的疊紋成分的強度的總和亦具有增加之傾向。認為在該種傾向下賦予不規則性而選定了疊紋評價值(VTF乘法運算後的疊紋成分的強度的總和)低的配線圖案時,具有選定強度為閾值以下的疊紋成分多的配線圖案(將成為閾值以下之疊紋成分從評價值中排除)之傾向。
亦即,認為即使賦予不規則性來進行探索,由“增加成為閾值以下之疊紋成分”所引起之疊紋評價值的減小亦大於本來作為目標之由“使各疊紋成分的頻率比被人眼辨識之低頻區域更偏向高頻側”所引起之疊紋評價值的減小,具有選定該種配線圖案之傾向。
本發明人在本發明的“在既定根數中成為非等間距之配線圖案”中探索疊紋評價值變為良好之配線圖案時,如專利文獻3的方法那樣設定疊紋成分的強度的閾值來進行了探索,其結果,導出了如上所述的配線圖案。該種配線圖案係在閾值以下附近分佈有複數個疊紋成分,若稍微減小閾值而導出疊紋評價值,則疊紋評價值差,並不是較佳的圖案。然而,當利用閾值不排除強度小的疊紋成分時,“在既定根數中成為非等間距之配線圖案”比等間距的配線圖案必然會產生強度小的很多頻率成分,因此如上所述,具有疊紋評價值增加之傾向,未能選定充分最佳的配線圖案。
在此,在過去的視覺研究中得到了表示“複數個頻率被重疊之圖案的可見性並不是各頻率的可見性的線性和,而是非線性和”之實驗結果。因此,本發明中,即使在將配線圖案設為非等間距而使頻率成分比等間距增加之情況下,亦為了能夠導出準確的疊紋評價值而充分導出最佳的配線圖案,由各疊紋成分得到 疊紋評價值,作為該種方法,並不是“利用閾值排除強度少的疊紋成分而導出強度的總和(線性和)”,又,亦不是“在無閾值之狀態下導出強度的總和(線性和)”,而設為“導出各疊紋成分的強度的非線性總和”之方法。在過去的視覺研究中主要提出有以下2種模型,並設為該等方法。
1.利用非線性函數(設想從亮度對比(contrast)向心理對比變換之函數(轉換函數)。)對各疊紋成分的強度進行變換之後,將其總和(線性和)作為疊紋評價值而導出。在此,作為非線性變換函數(轉換函數),以Hamerly等或Wilson等所提出之式為代表提出有各種變換式,因此使用該等式中的任一個來進行變換。
2.將各疊紋成分的強度的概率性的加法運算值作為疊紋評價值而導出。在此,作為概率性的加法運算式,使用由Quick等提唱之下述式(2)來導出疊紋評價值I。
I=(Σ(R[i])x)1/x......(2)
其中,R[i]表示疊紋的第i個頻率成分的強度亦即VTF乘法運算後的各疊紋成分。
又,概率加法運算的次數x採用在過去的視覺研究中作為對視覺實驗結果良好地擬合之次數而提出之1~4的範圍中的任一值。在此,當次數x為1時,上述式(2)意味著將各疊紋成分的強度的總和(線性和)作為疊紋評價值而導出。在該情況下,如上所述,如本發明的“在既定根數中成為非等間距之配線圖案”那樣,非等間距的配線圖案具有疊紋評價值比等間距的配線圖案增大之傾向,因此難以選定充分最佳的配線圖案。然而,在該情況下,亦至少能夠選定疊紋比等間距的配線圖案少的非等間距的配線圖案,因此作為次數x,還採用值1。作為代表性的次數x,採 用由Quick提出之值2。
如已說明,當如本發明那樣在各配線層中連續配置有2根以上的配線時,各配線層的配線的間距中包含與以往的交替配置的間距相比窄的間距,並且還包含寬的間距,因此最小頻率降低。藉此,傾斜觀察時的配線圖案的最小頻率亦比以往降低,因此需要注意以使在傾斜觀察時配線不會被辨識。又,當如本發明的“在既定根數中成為非等間距之配線圖案”那樣將配線圖案的間距設為非等間距時,最小頻率亦會降低,因此亦需要注意以使配線不會被辨識。
因此,不僅評價疊紋,還評價配線圖案其本身的可見性為較佳。上述式(7)中,不僅是第4行的式所表示之各疊紋成分,而且將第3行的式所表示之配線圖案的頻率成分亦編入疊紋評價值中,藉此能夠簡單地進行評價。具體而言,在圖14所示之像素排列圖案的頻率分佈中還包含頻率0(相當於上述式(7)的A0)即可。其結果,在根據圖14的像素排列圖案的各頻率成分和配線圖案的各頻率成分來導出疊紋成分時,作為與像素排列圖案的頻率0(相當於上述式(7)的A0)之疊紋成分而導出上述式(7)的第3行的式所表示之各成分,然後編入到乘以VTF而導出之總和值(疊紋評價值)中。
本發明中,當設為在既定根數中非等間距的配線圖案時,在將2個方向以上的直線配線重疊而成之配線圖案或將1個方向以上的直線配線和其他1個方向以上的非直線配線的線配線(例如,曲線或折線等)重疊而成之配線圖案中,可以僅在一個方向的直線配線中為非等間距,亦可以在所有方向的直線配線中為非等間距。
本發明的配線圖案係將2個方向的直線配線重疊而成之配線圖案為較佳。其原因在於,為了確保透射率,每單位面積的配線的根數存在上限。當每單位面積的配線的根數存在上限時,配線圖案的方向少時能夠增加每1個方向的配線的根數,其結果,能夠縮小配線間距。而且,配線間距窄時難以產生疊紋。
具體而言,配線間距窄時頻率分佈中之各成分的頻率分離,因此難以產生接近像素排列的各頻率成分的成分,從而難以產生低頻的疊紋。
又,配線間距窄時最小頻率升高,因此即使在傾斜觀察時因各配線層偏離而最小頻率降低,對配線圖案的可見性之影響亦減小。尤其,當如本發明那樣在各配線層中連續配置有2根以上的配線時,與以往的交替配置相比,傾斜觀察時的最小頻率降低,但藉此所引起之對配線圖案的可見性之影響亦減小。又,配線間距窄對基於本發明中設為在既定根數中為非等間距的配線圖案之疊紋減少亦有利。這是因為,與等間距的配線圖案相比,非等間距的配線圖案產生低頻成分,但配線間距的窄時最小頻率升高,因此即使設為非等間距而產生低頻成分,由其所引起之對配線圖案的可見性之影響亦小。
綜上,當如本發明那樣在各配線層中連續配置2根以上的配線時,進而設為在既定根數中為非等間距的配線圖案時,配線間距窄時最小頻率升高,因此能夠在對配線圖案的可見性不產生影響之範圍內更自由地將各配線層的配線的間距最優化而減少疊紋。如此,配線圖案的方向少時對疊紋或配線圖案的可見性有利,但為了防止導電性薄膜作為觸控感測器之功能欠缺,需要最少2個方向。亦即,為了即使配線斷線亦維持感測器功能,需要將至 少2個方向的配線重疊而具有交點且具有複數個通向電極之路徑(電流的路徑)之圖案。因此,將2個方向的直線配線重疊而成之配線圖案為較佳。
在OELD的情況下,有對於RGB中至少2個顏色,像素排列圖案不同之(例如,PenTile排列)顯示器。在該種顯示器的情況下,對於R、G、B中至少2個顏色,像素排列圖案的二維頻率分佈不同,因此疊紋亦不同。在該種顯示器的情況下,需要為減少R、G、B全部的疊紋之配線圖案。
在該情況下,在圖88所示之流程中,對R、G、B的各顏色導出像素排列圖案的頻率分佈,並導出圖89及圖90的各配線層間距的疊紋評價值時,只要對R、G、B的各顏色導出疊紋評價值並將其最差值(最大值)作為該配線層間距下之疊紋評價值即可。在“等間距的配線圖案”的情況且“僅導出正面觀察的疊紋值之方法”的情況下,在圖88中,只要對各個配線間距和角度且對R、G、B的各顏色導出正面觀察的疊紋值並將其最差值(最大值)作為該配線間距和角度下之疊紋值即可。
如以上說明,本發明與以往技術的不同點為,本發明的配線圖案係將2個方向以上的直線配線重疊而成之配線圖案或將1個方向以上的直線配線與其他1個方向以上的非直線配線的線配線(例如,曲線或折線等)重疊而成之配線圖案,且係具有2層以上的配線層,在至少1個方向的直線配線中在1層中連續配置有2根以上的配線之配線圖案。
本發明的效果為,與在各層中交替地配置有配線之配線圖案相比,能夠減少傾斜觀察時的疊紋產生。
另外,本發明中,前提係在正面觀察時的配線圖案中疊紋產 生亦得到減少。
如圖2、圖5、圖41、圖46及圖76所示,在將直線配線沿2個方向重疊而成之配線圖案中,如圖91所示,對於如圖11所示之左右對稱的像素排列圖案,2個方向的直線配線21p與21q的傾斜角度可以不同。亦即,如圖91所示,如本發明的配線圖案可以為將傾斜角度不同之2個方向的直線配線21p及21q重疊而成之左右非對稱配線圖案25h。在此,作為左右對稱的像素排列圖案,能夠以“至少各像素的位置為左右對稱”來定義。另外,亦能夠以“還包括各像素的形狀及尺寸在內為左右對稱”來定義。
本發明中,如圖91所示,作為有時配線圖案左右為非對稱為佳之原因,可以舉出“當2個方向的直線配線的平均間距不同時,各個直線配線的疊紋成為最良好之方向(角度)未不一定相同”及“2個方向的直線配線所成之角度越接近直角(90°),作為觸控感測器,二維的接觸位置檢測的精度就越高”。
圖91係表示對於如圖11所示之左右對稱的像素排列圖案,按照圖88所示之本發明的導電性薄膜的配線圖案的製作方法的流程,在配線的透射率的觀點上對每單位面積的配線的根數設定限制之後導出之、疊紋值總和變得良好之配線圖案的1例者。在該種例子中,由於2個方向的直線配線的平均間距不同,所以在各個直線配線中疊紋值變得良好之方向(角度)不同。又,在該種例子中,2個方向的直線配線均朝向右方向。如該種例子那樣,2個方向的直線配線均朝向右方向或左方向之例子當然亦包含於本發明中。
然而,在將直線配線沿2個方向重疊而成之配線圖 案中,2個方向所成之角度越接近直角(90°),作為觸控感測器,二維的接觸位置檢測的精度就越高。又,當配線層存在2層以上時,例如從傾斜觀察時等,各層的配線圖案的位置有可能產生偏離。而且,有可能因該偏離而直線配線的間距發生變化,但在該情況下,根據各層的配線圖案的偏離方向和直線配線的方向而直線配線的間距的變化程度不同。當偏離方向與直線配線的方向所成之角度為直角(90°)時,間距不變,當偏離方向與直線配線的方向相同時,間距的變化最大。藉此,2個方向的直線配線所成之角度越接近直角(90°),即使各層的配線圖案的位置偏離,亦不會依賴於該偏離方向而將2個方向的直線配線重疊而成之配線圖案的總間距變化越小,因此,由該配線圖案的間距的變化所引起之疊紋的產生和/或配線圖案的可見性下降小。又,如本發明那樣,在疊紋可見性的觀點上將配線圖案的間距最優化之技術中,2個方向的直線配線所成之角度接近直角(90°)尤其有效。根據以上,2個方向的直線配線所成之角度並不特別限制,但40°~140°(90°±50°)的範圍為較佳,60°~120°(90°±30°)的範圍為更佳,75°~105°(90°±15°)的範圍為進一步較佳。
又,直線配線的平均間距並不特別限制,但30μm~600μm為較佳。其原因在於,若平均間距窄,則透射率降低,相反地,若平均間距寬,則金屬細線容易變得顯眼,導致可見性下降。為了使透射率在能夠允許之範圍內且降低金屬細線的可見性,平均間距在上述範圍內為較佳。
本發明的特徵為,係在至少1個方向的直線配線中,既定根數的金屬細線的重複間距為等間距且既定根數的各個金屬細線的間距中其至少2根金屬細線的間距為非等間距的非等間距配線 圖案。在該情況下,如上所述,藉由將金屬細線的間距設為非等間距,與等間距的情況相比,配線圖案的最小頻率降低,因此需注意避免使配線圖案被辨識。因此,為了在對配線圖案的可見性不產生影響之範圍內將間距充分最優化而減少疊紋,平均間距係300μm以下為較佳,200μm以下為更佳,150μm以下為進一步較佳。
本發明的特徵為,由在1個方向上平行地排列之複數個金屬細線構成之線配線(1個方向的線配線)係直線配線。然而,本發明中,金屬細線無需為完全的直線,只要在既定的範圍內,則亦可以彎曲。本發明中之直線配線能夠如下定義。
本發明中,在1個方向的線配線的透射率的二維頻率分佈中,當線配線的頻率成分僅集中於某一特定的方向上時,該線配線能夠視為直線配線。具體而言,在線配線的透射率的二維頻率分佈中,將頻率零的成分除外,若以某一特定的方向為中心從-10°以上至+10°以下的角度範圍中之頻率成分的強度的總和相對於所有頻率成分(頻率零的成分除外)的強度的總和為既定的比率以上,則能夠視為直線配線。在此,既定的比率為30%,更佳為45%,進一步較佳為55%。又,某一特定的方向係指0°以上且小於360°的角度範圍中之任意角度中某一角度的方向和與該角度相差180°之角度的方向這兩者。亦即,以某一特定的方向為中心之從-10°以上至+10°以下的角度範圍中之頻率成分的強度的總和中還包含共軛關係的頻率成分(相差180°之角度的方向(相反方向)的頻率成分)的強度。
在此,例如作為線配線的例子,示出圖92~圖94所示之線配線。又,在圖95~圖97中分別示出圖92~圖94所示 之線配線的透射率的二維頻率分佈。另外,為了容易觀察強度,頻率分佈適當地調整了強度縮尺(scale)。又,頻率零的成分除外。圖92所示之線配線23d係完全的直線在橫向上排列而成之直線配線,圖95所示之頻率分佈亦僅集中在水平方向上。相對於此,圖94所示之線配線23f的構成配線之線為COS波的形狀,圖97所示之頻率分佈不僅在水平方向,還在周圍的方向上擴大,因此無法視為直線配線。另一方面,圖93所示之線配線23e的構成配線之線稍微呈COS波形狀,但圖96所示之頻率分佈幾乎集中在水平方向上,因此可視為直線配線。
圖98係表示在線配線的透射率的二維頻率分佈中,將水平方向視為角度0°,以從-90°至+90°的各個方向(及除此以外,與各個方向相差180°之角度的方向(相反的方向))為中心從-10°以上至+10°以下的角度範圍中之頻率成分(頻率零的成分除外)的強度的總和相對於所有頻率成分(頻率零的成分除外)的強度的總和之比率之曲線圖。在圖98中,實線為圖92所示之線配線23d的頻率成分的強度的比率的曲線圖,一點虛線為圖93所示之線配線23e的頻率成分的強度的比率的曲線圖,點線為圖94所示之線配線23f的頻率成分的強度的比率的曲線圖。若觀察以作為某一特定的方向之水平方向亦即角度0°的方向(及除此以外,角度180°的方向)為中心之-10°以上且+10°以下的角度範圍的頻率成分的強度的總和的比率,則在圖92所示之線配線23d的情況下,比率當然為100%,能夠視為直線配線。在圖93所示之線配線23e的情況下,比率為55%以上,該等亦能夠視為直線配線。另一方面,在圖94所示之線配線23f的情況下,比率小於30%,可知無法視為直線配線。
上述圖7所示之導電性薄膜11的虛設電極部26等虛設電極部如WO2013/094729中所記載之非導電圖案那樣係在第1子配線部16a中,在相鄰之第1電極部17a之間以與第1電極部17a電絕緣(斷線)之方式設置者,又,係在第2子配線部16b中,在相鄰之第2電極部17b之間以與第2電極部17b電絕緣(斷線)之方式設置者,但本發明並不限定於此。
當第1電極部17a和/或第2電極部17b中的至少一個的直線配線21a的間距寬時,如圖107所示,可以在網格狀的配線圖案25a的1個開口部22中,在一個直線配線21a的金屬細線14之間,以從被重疊之其他方向的直線配線21b的一個金屬細線14朝向另一個金屬細線14或者相反地從另一個金屬細線14朝向一個金屬細線14而前端不與任何金屬細線14連接亦即斷線(斷路)或者在中途中斷之方式,與一個直線配線21a的金屬細線14平行地將新的金屬細線14拉伸而形成電極內虛設圖案部27。又,相反地,可以在一個直線配線21b的金屬細線14之間,以另一個直線配線21a的一個金屬細線14朝向另一個金屬細線14或者相反地從另一個金屬細線14朝向一個金屬細線14而前端斷線(斷路)或者在中途中斷之方式,與一個直線配線21b的金屬細線14平行地將新的金屬細線14拉伸而形成電極內虛設圖案部27。另外,亦可以從形成該電極內虛設圖案部27之金屬細線14進一步與其他方向的直線配線21的金屬細線14平行地分支而形成電極內虛設圖案部27。當然,分支之金屬細線14的前端斷線(斷路)或者在中途中斷而不與任何金屬細線14連接。圖107所示之例子係表示僅形成於網格狀的配線圖案的1個開口部之電極內虛設圖案部27者,但在其他開口部中當 然亦可以同樣地形成有電極內虛設圖案部27。
如此,藉由形成電極內虛設圖案部27,具有如下效果。一般而言,若縮小電極部的金屬細線的間距,則電極的寄生容量增大,其結果,導致觸控位置的檢測精度下降。另一方面,若為了提高檢測靈敏度而擴大金屬細線的間距,則金屬細線容易變得顯眼,導致可見性下降。又,導致容易產生由像素排列圖案與電極部的金屬細線的配線圖案的干涉所引起之疊紋。因此,擴大電極部的金屬細線的間距並減小電極的寄生容量來提高觸控位置檢測精度,另一方面,藉由形成電極內虛設圖案部來縮小電極部的金屬細線與電極內虛設圖案部的金屬細線的組合的間距而降低金屬細線的可見性,又,能夠使疊紋難以產生。
另外,當如此形成電極內虛設圖案部時,本發明中,在存在複數個由電極部的金屬細線與電極內虛設圖案部的金屬細線的組合所形成之配線圖案、進而存在複數個配線層之情況下,能夠使在疊紋的可見性的觀點上被最優化之非等間距的配線圖案包含於由該等配線層中之配線圖案的重合而形成之合成配線圖案中而利用該合成配線圖案來改善由與顯示器的干涉而產生之疊紋的可見性。例如,在圖7所示之本發明的第2實施形態的導電性薄膜11的情況下,能夠使在疊紋的可見性的觀點上被最優化之非等間距的配線圖案包含於由2層的配線層28a及配線層28b中1個配線層28a中之第1電極部17a的金屬細線與電極內虛設圖案部的金屬細線的組合所形成之配線圖案及合成配線圖案中而利用該合成配線圖案來改善由與顯示器的干涉而產生之疊紋的可見性,該合成配線圖案係藉由虛設電極部26的配線圖案的組合和由另一個配線層28b中之第2電極部17b的金屬細線 與電極內虛設圖案部的金屬細線的組合所形成之配線圖案的重合而形成。
作為其他虛設電極部的形態,有WO2013/094729中所記載之子非導電圖案的形態。
在本發明的導電性薄膜中,如圖7所示,在具有透明基體12的上側和下側的2個配線層28a及28b之情況,進而在各個配線層中包含電極部17a及17b和虛設電極部26的金屬細線14之情況,或者,如圖107所示,進而在電極部的配線圖案25a的各開口部22形成電極內虛設圖案部27的情況,亦即還包含電極內虛設圖案部27的金屬細線14的情況下,即使由上側和下側的配線層的配線圖案的重合而形成之合成配線圖案大致相同,上側的電極部、上側的電極內虛設圖案部、上側的虛設電極部、下側的電極部、下側的電極內虛設圖案部及下側的虛設電極部的各個配線圖案亦存在各種組合。例如,圖2所示之導電性薄膜10的配線圖案25a係在透明基體12的上側和下側的2個配線層28a及28b中分別具有上側的第1子電極部16a的配線圖案24a及下側的第2子電極部16b的配線圖案24b者,但即使為與該配線圖案25a大致相同之配線圖案,在各個配線層中不僅包含電極部還包含虛設電極部的金屬細線之情況,進而還包含電極內虛設圖案部的金屬細線之情況下,電極部、電極內虛設圖案部及虛設電極部的直線配線及配線圖案的組合亦可以為任何者。例如,能夠舉出如圖99~圖101所示之各種直線配線及配線圖案的組合的配線圖案。
在圖99~圖101中分別所示之配線圖案25i、25j及25k中,粗實線表示上側的電極部(第1電極部17a:參閱圖 7)的金屬細線14、細實線表示上側的電極內虛設圖案部的金屬細線14,粗點線表示下側的電極部(第2電極部17b:參閱圖7)的金屬細線14,細點線表示下側的電極內虛設圖案部的金屬細線14。另外,電極部的金屬細線14和電極內虛設圖案部的金屬細線14藉由在電極內虛設圖案部的金屬細線14中設置前述斷線(斷路)或使電極內虛設圖案部的金屬細線14在中途中斷而電絕緣。
圖99所示之配線圖案25i係將由上側的電極部及電極內虛設圖案部以及下側的電極部及電極內虛設圖案部的金屬配線14構成之右方向的線配線23g和同樣由上側的電極部及電極內虛設圖案部以及下側的電極部及電極內虛設圖案部的金屬配線14構成之左方向的線配線23h重疊而成之配線圖案。另外,雖未圖示,但在上側的電極內虛設圖案部的金屬細線14(細實線)中為了與上側的電極部的金屬細線14(粗實線)電絕緣而具有斷線(斷路),同樣地,在下側的電極內虛設圖案部的金屬細線14(細點線)中為了與下側的電極部的金屬細線14(粗點線)電絕緣而具有斷線(斷路)。
圖100所示之配線圖案25j係將同樣由上側的電極部及電極內虛設圖案部以及下側的電極部及電極內虛設圖案部的金屬配線14構成之右方向的線配線23i和同樣由上側的電極部及電極內虛設圖案部以及下側的電極部及電極內虛設圖案部的金屬配線14構成之左方向的線配線23j重疊而成之配線圖案。另外,雖未圖示,但在上側的電極內虛設圖案部的金屬細線14(細實線)中為了與上側的電極部的金屬細線14(粗實線)電絕緣而具有斷線(斷路),同樣地,在下側的電極內虛設圖案部的金屬細線 14(細點線)中為了與下側的電極部的金屬細線14(粗點線)電絕緣而具有斷線(斷路)。
圖101所示之配線圖案25k係將同樣由上側的電極部及電極內虛設圖案部以及下側的電極部及電極內虛設圖案部的金屬配線14構成之右方向的線配線23k和同樣由上側的電極部及電極內虛設圖案部以及下側的電極部及電極內虛設圖案部的金屬配線14構成之左方向的線配線231重疊而成之配線圖案。另外,雖未圖示,但在上側的電極內虛設圖案部的金屬細線14(細實線)中為了與上側的電極部的金屬細線14(粗實線)電絕緣而具有斷線(斷路),同樣地,在下側的電極內虛設圖案部的金屬細線14(細點線)中為了與下側的電極部的金屬細線14(粗點線)電絕緣而具有斷線(斷路)。
又,配線圖案25i、25j及25k分別亦能夠說係將由上側的電極部及電極內虛設圖案部的金屬細線14構成之配線圖案和由下側的電極部及電極內虛設圖案部的金屬配線14構成之配線圖案重疊而成之配線圖案。
配線圖案25i、25j及25k與圖2所示之配線圖案25a同樣地均係本發明的配線圖案,亦即“具有2層以上的配線層,在至少1個方向上,在1層的配線層中連續配置有平行地排列之2根以上的金屬細線之配線圖案”。若不依賴於金屬細線屬於電極部、電極內虛設圖案部及虛設電極部中的哪一個而由該金屬細線構成之配線圖案為具有本發明的特徵之配線圖案,則可以說係本發明的配線圖案。
又,包含本發明的導電性薄膜的電極內虛設圖案部及虛設電極部的金屬細線之配線圖案並不限定於圖99~圖101 所示之配線圖案25i、25j及25k,亦可以為上側的電極部、電極內虛設圖案部及虛設電極部以及下側的電極部、電極內虛設圖案部及虛設電極部的金屬配線14的各種組合的配線圖案。
例如,如圖102~圖104所示之配線圖案25l、25m及25n那樣,在由電極內虛設圖案部的金屬細線的線配線構成之配線圖案中,上側和下側的配線層的各個金屬細線可以局部中斷,亦包含在重合之配線圖案中成為一個直線者。本發明如此還包含各配線層中之金屬細線局部中斷之情況。
圖102所示之配線圖案25l係將由上側的電極部及電極內虛設圖案部以及下側的電極部及電極內虛設圖案部的金屬配線14構成之右方向的線配線23m和同樣由上側的電極部及電極內虛設圖案部以及下側的電極部及電極內虛設圖案部的金屬配線14構成之左方向的線配線23n重疊而成之配線圖案。在此,右方向的上側的電極內虛設圖案部的金屬配線14和右方向的下側的電極內虛設圖案部的金屬配線14不連續,但在正面觀察時,上側的電極內虛設圖案部的金屬配線14的不連續部分被下側的電極內虛設圖案部的金屬配線14埋沒,能夠視為連續的一個直線。另外,雖未圖示,但在上側的電極內虛設圖案部的金屬細線14(細實線)中為了與上側的電極部的金屬細線14(粗實線)電絕緣而在中途中斷之不連續部分以外亦具有斷線(斷路),同樣地,在下側的電極內虛設圖案部的金屬細線14(細點線)中為了與下側的電極部的金屬細線14(粗點線)電絕緣而在中途中斷之不連續部分以外亦具有斷線(斷路)。
圖103所示之配線圖案25m係將同樣由上側的電極部及電極內虛設圖案部以及下側的電極部及電極內虛設圖案部 的金屬配線14構成之右方向的線配線23o和同樣由上側的電極部及電極內虛設圖案部以及下側的電極部及電極內虛設圖案部的金屬配線14構成之左方向的線配線23p重疊而成之配線圖案。另外,雖未圖示,但在上側的電極內虛設圖案部的金屬細線14(細實線)中為了與上側的電極部的金屬細線14(粗實線)電絕緣而在中途中斷之不連續部分以外亦具有斷線(斷路),同樣地,在下側的電極內虛設圖案部的金屬細線14(細點線)中為了與下側的電極部的金屬細線14(粗點線)電絕緣而在中途中斷之不連續部分以外亦具有斷線(斷路)。
圖104所示之配線圖案25n係將同樣由上側的電極部及電極內虛設圖案部以及下側的電極部及電極內虛設圖案部的金屬配線14構成之右方向的線配線23q和同樣由上側的電極部及電極內虛設圖案部以及下側的電極部及電極內虛設圖案部的金屬配線14構成之左方向的線配線23r重疊而成之配線圖案。另外,雖未圖示,但在上側的電極內虛設圖案部的金屬細線14(細實線)中為了與上側的電極部的金屬細線14(粗實線)電絕緣而在中途中斷之不連續部分以外亦具有斷線(斷路),同樣地,在下側的電極內虛設圖案部的金屬細線14(細點線)中為了與下側的電極部的金屬細線14(粗點線)電絕緣而在中途中斷之不連續部分以外亦具有斷線(斷路)。
又,配線圖案25l、25m及25n分別亦能夠說係將由上側的電極部及電極內虛設圖案部的金屬細線14構成之配線圖案和由下側的電極部及電極內虛設圖案部的金屬配線14構成之配線圖案重疊而成之配線圖案。
配線圖案25l、25m及25n與圖2所示之配線圖案25a同 樣地均係本發明的配線圖案,亦即“具有2層以上的配線層,在至少1個方向上,在1層的配線層中連續配置有平行地排列之2根以上的金屬細線之配線圖案”。
另外,在圖99、圖100、圖102、圖103及圖104的配線圖案例中,上側及下側的電極部的金屬配線14的配線圖案以具有一定的間距之相同形狀的菱形網格形成,因此電極內部及電極間的電阻變均勻,因此當用作觸控面板的電極時,靈敏度在觸控面板內變得均勻,因此為較佳。
本發明的導電性薄膜可如下:一種導電性薄膜,其設置於顯示裝置的顯示單元上,其中導電性薄膜具有透明基體和配置於透明基體的兩面之由複數個金屬細線構成之配線部,配線部在至少1個方向上具有2層以上的配線層,且具有如下配線圖案,該配線圖案在1層的配線層中連續配置有平行地排列之2根以上的金屬細線之配線圖案,且係在2層以上的配線層中將由平行地排列之複數個金屬細線構成之直線配線沿2個方向以上重疊而成之配線圖案,在導電性薄膜的正面觀察時觀察之正面觀察時的配線圖案係在至少1個方向的直線配線中既定根數的金屬細線的重複間距為等間距且關於既定根數的各個金屬細線的間距,其至少2根金屬細線的間距為非等間距的非等間距配線圖案。
又,本發明的導電性薄膜的配線圖案的製作方法可以為如下者:一種導電性薄膜的配線圖案的製作方法,該導電性薄膜設置於顯示裝置的顯示單元上且具有配置於透明基體的兩面之由複數個金屬細線構成之配線部,配線部在至少1個方向上具有2層以上的配線層,且具有如下配線圖案,該配線圖案係在1層的配線層中連續配置有平行地排列之2根以上的金屬細線之 配線圖案,且係在2層以上的配線層中將由平行地排列之複數個金屬細線構成之直線配線沿2個方向以上重疊而成之配線圖案,其中在導電性薄膜的正面觀察時觀察之正面觀察時的配線圖案係在至少1個方向的直線配線中既定根數的金屬細線的重複間距為等間且關於既定根數的各個金屬細線的間距,其至少2根金屬細線的間距為非等間距的非等間距配線圖案,獲取顯示單元的像素排列圖案的亮度或透射率,對非等間距的配線圖案及既定根數的金屬細線的重複間距與非等間距的配線圖案相等之等間距的配線圖案分別獲取配線圖案的透射率,對非等間距的配線圖案及等間距的配線圖案分別導出配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈,並且導出像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈,由配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分和像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分導出疊紋的各頻率成分,使人的視覺響應特性作用於如此計算出之疊紋的各頻率成分而求出各頻率成分的強度的總和亦即疊紋評價值,製作如此求出之非等間距的配線圖案中之疊紋評價值小於等間距的配線圖案中之疊紋評價值的配線圖案。
以上,對本發明之導電性構件、導電性薄膜、具備其之顯示裝置、觸控面板、導電性構件的配線圖案的製作方法及導電性薄膜的配線圖案的製作方法舉出各種實施形態及實施例進行了說明,但本發明並不限定於上述實施形態及實施例,只要不脫離本發明的要旨,則當然可以進行各種改良和/或設計的變更。
14‧‧‧金屬細線
21a、21a1、21a2、21b、21b1、21b2‧‧‧直線配線
22‧‧‧開口部
23a、23b、24‧‧‧配線圖案
24a‧‧‧第1(上側)配線圖案
24b‧‧‧第2(下側)配線圖案
25a‧‧‧非等間距的配線圖案
Pra、Prb‧‧‧重複間距
P1a~P4a‧‧‧間距
P1b~P4b‧‧‧間距
Claims (37)
- 一種導電性構件,其具有由複數個金屬細線構成之配線部,其中該配線部具有絕緣之2層以上的配線層和將線配線沿2個方向以上重疊而成之網格狀配線圖案,該線配線由在該導電性構件的正面觀察時在1個方向上平行地排列之複數個金屬細線構成,至少1個方向的該線配線係該複數個金屬細線為直線的直線配線,至少1個方向的該直線配線係在該2層以上的配線層中的至少1層的該配線層中連續配置有2根以上的該金屬細線且在該導電性構件的正面觀察時既定根數的該金屬細線的重複間距為等間距、該既定根數的各個金屬細線的間距中至少2個間距不同之非等間距的配線圖案。
- 如請求項1之導電性構件,其中該導電性構件係設置於顯示裝置的顯示單元上者,該網格狀配線圖案重疊於該顯示單元的像素排列圖案上。
- 如請求項2之導電性構件,其中該非等間距的配線圖案中之疊紋的評價值小於由複數個直線的金屬細線構成、該既定根數的該金屬細線的重複間距與該非等間距的配線圖案相等且各個該金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案中之疊紋的評價值,該疊紋評價值係疊紋的各頻率成分的強度的總和,該疊紋的各頻率成分的強度係使人的視覺響應特性作用於由該非等間距的配線圖案及該等間距的配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分和該像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅 立葉頻率分佈的各頻率成分計算出之疊紋的各頻率成分而得到。
- 一種導電性構件,其設置於顯示裝置的顯示單元上且具有由複數個金屬細線構成之配線部,其中該配線部具有絕緣之2層以上的配線層和將線配線沿2個方向以上重疊而成之網格狀配線圖案,該線配線由在該導電性構件的正面觀察時在1個方向上平行地排列之複數個金屬細線構成,該網格狀配線圖案重疊於該顯示單元的像素排列圖案上,至少1個方向的該線配線係該複數個金屬細線為直線的直線配線,至少1個方向的該直線配線係在該2層以上的配線層中的至少1層的該配線層中連續配置有2根以上的該金屬細線且在連續配置有該2根以上的該金屬細線之配線層中既定根數的金屬細線的重複間距為等間距、該既定根數的各個金屬細線的間距中至少2個間距不同之非等間距的配線圖案,該非等間距的配線圖案中之疊紋的評價值小於由複數個直線的金屬細線構成、該既定根數的該金屬細線的重複間距與該非等間距的配線圖案相等且各個該金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案中之疊紋的評價值,該疊紋評價值係疊紋的各頻率成分的強度的總和,該疊紋的各頻率成分的強度係使人的視覺響應特性作用於由該非等間距的配線圖案及該等間距的配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分和該像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分計算出之疊紋的各頻率成分而得到。
- 如請求項5之導電性構件,其中該視覺響應特性的觀察距離d為300mm~800mm中的任一距離。
- 如請求項3或4之導電性構件,其中當將該疊紋評價值設為I時,該疊紋評價值I係利用下述式(2)由該疊紋的各頻率成分的強度導出者,I=(Σ(R[i]) x) 1/x......(2)其中,R[i]為疊紋的第i個頻率成分的強度,次數x為1~4中的任一值。
- 如請求項7之導電性構件,其中該次數x為2。
- 如請求項3或4之導電性構件,其中該疊紋評價值係利用該疊紋的各頻率成分的強度的非線性和導出者。
- 如請求項3或4之導電性構件,其中該疊紋評價值還包含由該像素排列圖案的頻率0和該配線圖 案的各頻率成分計算出之該疊紋的頻率成分。
- 如請求項2至4中任一項之導電性構件,其中在該非等間距的配線圖案中對疊紋貢獻最大的該疊紋的頻率成分的強度小於在由複數個直線的金屬細線構成、該既定根數的該金屬細線的重複間距與該非等間距的配線圖案相等且各個該金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案中對疊紋貢獻最大的該疊紋的頻率成分的強度。
- 如請求項2至4中任一項之導電性構件,其中在該非等間距的配線圖案中對疊紋貢獻最大的該疊紋的頻率成分的頻率大於在由複數個直線的金屬細線構成、該既定根數的該金屬細線的重複間距與該非等間距的配線圖案相等且各個該金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案中對疊紋貢獻最大的該疊紋的頻率成分的頻率。
- 如請求項2至4中任一項之導電性構件,其中在由複數個直線的金屬細線構成、該既定根數的該金屬細線的重複間距與該非等間距的配線圖案相等且各個該金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案中對疊紋貢獻最大的該疊紋的頻率成分的頻率以下,該非等間距的配線圖案的該疊紋評價值小於該等間距的配線圖案的該疊紋評價值,該疊紋評價值係疊紋的各頻率成分的強度的總和,該疊紋的各頻率成分的強度係使人的視覺響應特性作用於由該非等間距的配線圖案及該等間距的配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分和該像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分計算出之疊紋的各頻率成分而得到。
- 如請求項2至4中任一項之導電性構件,其中 在由複數個直線的金屬細線構成、該既定根數的該金屬細線的重複間距與該非等間距的配線圖案相等且各個該金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案中對疊紋貢獻最大的該疊紋的頻率成分的頻率下,該非等間距的配線圖案的該疊紋的頻率成分的強度小於該等間距的配線圖案的該疊紋的頻率成分的強度。
- 如請求項2至4中任一項之導電性構件,其中在該非等間距的配線圖案中成為對疊紋貢獻最大的該疊紋的頻率成分的原因之該非等間距的配線圖案的頻率成分的強度小於在由複數個直線的金屬細線構成、該既定根數的該金屬細線的重複間距與該非等間距的配線圖案相等且各個該金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案中成為對疊紋貢獻最大的該疊紋的頻率成分的原因之該等間距的配線圖案的頻率成分的強度。
- 如請求項2至4中任一項之導電性構件,其中在由複數個直線的金屬細線構成、該既定根數的該金屬細線的重複間距與該非等間距的配線圖案相等且各個該金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案中成為對疊紋貢獻最大的該疊紋的頻率成分的原因之該等間距的配線圖案的頻率成分的頻率下,該非等間距的配線圖案的頻率成分的強度小於該等間距的配線圖案的頻率成分的強度。
- 如請求項2至4中任一項之導電性構件,其中在該非等間距的配線圖案中,將該既定根數設為n且將各個該金屬細線設為金屬細線1、金屬細線2、......及金屬細線n時,距該金屬細線1之各個金屬細線的間距p至少滿足下述條件1和條件2中的任一個,條件1:間距p屬於(N-d)*T<p<(N+d)*T的區間之金屬 細線的根數與間距p屬於(N+0.5-d)*T<p<(N+0.5+d)*T的區間之金屬細線的根數的差分為1根以下,條件2:間距p屬於(N+0.25-d)*T<p<(N+0.25+d)*T的區間之金屬細線的根數與間距p屬於(N+0.75-d)*T<p<(N+0.75+d)*T的區間之金屬細線的根數的差分為1根以下,其中,T為將在由複數個直線的金屬細線構成、該既定根數的該金屬細線的重複間距與該非等間距的配線圖案相等且各個該金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案中成為對疊紋貢獻最大的該疊紋的頻率成分的原因之該等間距的配線圖案的頻率成分的頻率設為F而以1/F給出之週期,N為0或正的整數且為將該等間距的配線圖案的間距設為PA而(n*PA/T)以下的整數,d為0.025~0.25的範圍中的任一值。
- 如請求項2至4中任一項之導電性構件,其中在該非等間距的配線圖案中,將該既定根數設為n且將各個該金屬細線設為金屬細線1、金屬細線2、......及金屬細線n時,距該金屬細線1之各個金屬細線的間距p至少滿足下述條件1和條件2中的任一個,條件1:間距p屬於(N-d)*T<p<(N+d)*T的區間之金屬細線的根數與間距p屬於(N+0.5-d)*T<p<(N+0.5+d)*T的區間之金屬細線的根數的差分為1根以下,條件2:間距p屬於(N+0.25-d)*T<p<(N+0.25+d)*T的區間之金屬細線的根數與間距p屬於(N+0.75-d)*T<p<(N+0.75+d)*T的區間之金屬細線的根數的差分為1根以下,其中,T為將在僅由該金屬細線1、金屬細線2、......及金屬細線n中的任一金屬細線構成之配線圖案中成為對疊紋貢獻最 大的該疊紋的頻率成分的原因之該金屬細線的配線圖案的頻率成分的頻率設為F而以1/F給出之週期,N為0或正的整數且為將由複數個直線的金屬細線構成、該既定根數的該金屬細線的重複間距與該非等間距的配線圖案相等且各個該金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案的間距設為PA而(n*PA/T)以下的整數,d為0.025~0.25的範圍中的任一值。
- 如請求項2至4中任一項之導電性構件,其中該像素排列圖案係黑矩陣圖案。
- 如請求項1至4中任一項之導電性構件,其中該2個方向以上的所有方向的該線配線的該複數個金屬細線全部由直線構成。
- 如請求項1至4中任一項之導電性構件,其中該既定根數為16根以下。
- 如請求項1至4中任一項之導電性構件,其中該配線部具有將該線配線沿2個方向重疊而成之該網格狀配線圖案,且所有該複數個金屬細線係直線。
- 如請求項22之導電性構件,其中將該線配線沿2個方向重疊而成之該網格狀配線圖案係左右非對稱的配線圖案。
- 如請求項22之導電性構件,其中該2個方向的該線配線所成之角度為40°~140°。
- 如請求項1至4中任一項之導電性構件,其中沿該2個方向以上重疊之該線配線中至少1個方向的線配線之平均間距為30μm~600μm。
- 如請求項25之導電性構件,其中 該平均間距為300μm以下。
- 如請求項1至4中任一項之導電性構件,其中該配線部具有2個方向以上的該線配線中至少1個方向的線配線之平均間距與其他至少1個方向的線配線之平均間距不同之配線圖案。
- 如請求項27之導電性構件,其中2個方向以上的該線配線中平均間距最窄的方向的線配線的配線圖案係該非等間距的配線圖案。
- 一種導電性薄膜,其具有透明基體和由複數個金屬細線構成之配線部,其中該配線部具有絕緣之2層以上的配線層和將線配線沿2個方向以上重疊而成之網格狀配線圖案,該線配線由在該導電性薄膜的正面觀察時在1個方向上平行地排列之複數個金屬細線構成,至少1個方向的該線配線係該複數個金屬細線為直線的直線配線,至少1個方向的該直線配線係在該2層以上的配線層中的至少1層的該配線層中連續配置有2根以上的該金屬細線且在該導電性薄膜的正面觀察時既定根數的該金屬細線的重複間距為等間距、該既定根數的各個金屬細線的間距中至少2個間距不同之非等間距的配線圖案。
- 一種導電性薄膜,其設置於顯示裝置的顯示單元上且具有透明基體和由複數個金屬細線構成之配線部,其中該配線部具有絕緣之2層以上的配線層和將線配線沿2個方向以上重疊而成之網格狀配線圖案,該線配線由在該導電性薄膜的正面觀察時在1個方向上平行地排列之複數個金屬細線構成, 該網格狀配線圖案重疊於該顯示單元的像素排列圖案上,至少1個方向的該線配線係該複數個金屬細線為直線的直線配線,至少1個方向的該直線配線係在該2層以上的配線層中的至少1層的該配線層中連續配置有2根以上的該金屬細線且在連續配置有該2根以上的該金屬細線之配線層中既定根數的金屬細線的重複間距為等間距、該既定根數的各個金屬細線的間距中至少2個間距不同之非等間距的配線圖案,該非等間距的配線圖案中之疊紋的評價值小於由複數個直線的金屬細線構成、該既定根數的該金屬細線的重複間距與該非等間距的配線圖案相等且各個該金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案中之疊紋的評價值,該疊紋評價值係疊紋的各頻率成分的強度的總和,該疊紋的各頻率成分的強度係使人的視覺響應特性作用於由該非等間距的配線圖案及該等間距的配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分和該像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分計算出之疊紋的各頻率成分而得到。
- 一種顯示裝置,其具備:顯示單元,以既定的像素排列圖案排列而成;及如請求項1至4中任一項之導電性構件或如請求項29或30之導電性薄膜,設置於該顯示單元上。
- 如請求項31之顯示裝置,其中該顯示單元係有機EL顯示器(OELD),對於紅色(R)、綠色(G)及藍色(B)中至少2個顏色,該像素排列圖案不同。
- 一種觸控面板,其使用如請求項1至4中任一項之 導電性構件或如請求項29或30之導電性薄膜。
- 一種導電性構件的配線圖案的製作方法,該導電性構件設置於顯示裝置的顯示單元上且具有由複數個金屬細線構成之配線部,該配線部具有絕緣之2層以上的配線層和將線配線沿2個方向以上重疊而成之網格狀配線圖案,該線配線由在正面觀察時在1個方向上平行地排列之複數個金屬細線構成,其中該網格狀配線圖案重疊於該顯示單元的像素排列圖案上,至少1個方向的該線配線係該複數個金屬細線為直線的直線配線,至少1個方向的該直線配線係在該2層以上的配線層中的至少1層的配線層中連續配置有2根以上的該金屬細線且在該導電性構件的正面觀察時既定根數的該金屬細線的重複間距為等間距、該既定根數的各個金屬細線的間距中至少2個間距不同之非等間距的配線圖案,獲取該像素排列圖案的亮度或透射率,對該非等間距的配線圖案及由複數個直線的金屬細線構成、該既定根數的該金屬細線的重複間距與該非等間距的配線圖案相等且各個該金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案分別獲取該配線圖案的透射率,對該非等間距的配線圖案及該等間距的配線圖案分別導出該配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈,並且導出該像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈,由該非等間距的配線圖案及該等間距的配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分和該像素排列圖案的亮度 或透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分計算出疊紋的各頻率成分,使人的視覺響應特性作用於如此計算出之該疊紋的各頻率成分而求出各頻率成分的強度的總和亦即疊紋評價值,製作如此求出之該非等間距的配線圖案中之疊紋評價值小於該等間距的配線圖案中之疊紋評價值的該非等間距的配線圖案。
- 一種導電性構件的配線圖案的製作方法,該導電性構件設置於顯示裝置的顯示單元上且具有由複數個金屬細線構成之配線部,該配線部具有絕緣之2層以上的配線層和將線配線沿2個方向以上重疊而成之網格狀配線圖案,該線配線由在正面觀察時在1個方向上平行地排列之複數個金屬細線構成,其中該網格狀配線圖案重疊於該顯示單元的像素排列圖案上,至少1個方向的該線配線係該複數個金屬細線為直線的直線配線,至少1個方向的該直線配線係在該2層以上的配線層中的至少1層的該配線層中連續配置有2根以上的該金屬細線且在連續配置有該2根以上的該金屬細線之配線層中既定根數的該金屬細線的重複間距為等間距、該既定根數的各個金屬細線的間距中至少2個間距不同之非等間距的配線圖案,獲取該像素排列圖案的亮度或透射率,對該非等間距的配線圖案及由複數個直線的金屬細線構成、該既定根數的該金屬細線的重複間距與該非等間距的配線圖案相等且各個該金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案分別獲取該配線圖案的透射率, 對該非等間距的配線圖案及該等間距的配線圖案分別導出該配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈,並且導出該像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈,由該非等間距的配線圖案及該等間距的配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分和該像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分計算出疊紋的各頻率成分,使人的視覺響應特性作用於如此計算出之該疊紋的各頻率成分而求出各頻率成分的強度的總和亦即疊紋評價值,製作如此求出之該非等間距的配線圖案中之疊紋評價值小於該等間距的配線圖案中之疊紋評價值的該非等間距的配線圖案。
- 一種導電性薄膜的配線圖案的製作方法,該導電性薄膜設置於顯示裝置的顯示單元上且具有透明基體和由複數個金屬細線構成之配線部,該配線部具有絕緣之2層以上的配線層和將線配線沿2個方向以上重疊而成之網格狀配線圖案,該線配線由在正面觀察時在1個方向上平行地排列之複數個金屬細線構成,其中該網格狀配線圖案重疊於該顯示單元的像素排列圖案上,至少1個方向的該線配線係該複數個金屬細線為直線的直線配線,至少1個方向的該直線配線係在該2層以上的配線層中的至少1層的配線層中連續配置有2根以上的該金屬細線且在該導電性薄膜的正面觀察時既定根數的前記金屬細線的重複間距為等 間距、該既定根數的各個金屬細線的間距中至少2個間距不同之非等間距的配線圖案,獲取該像素排列圖案的亮度或透射率,對該非等間距的配線圖案及由複數個直線的金屬細線構成、該既定根數的該金屬細線的重複間距與該非等間距的配線圖案相等且各個該金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案分別獲取該配線圖案的透射率,對該非等間距的配線圖案及該等間距的配線圖案分別導出該配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈,並且導出該像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈,由該非等間距的配線圖案及該等間距的配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分和該像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分計算出疊紋的各頻率成分,使人的視覺響應特性作用於如此計算出之該疊紋的各頻率成分而求出各頻率成分的強度的總和亦即疊紋評價值,製作如此求出之該非等間距的配線圖案中之疊紋評價值小於該等間距的配線圖案中之疊紋評價值的該非等間距的配線圖案。
- 一種導電性薄膜的配線圖案的製作方法,該導電性薄膜設置於顯示裝置的顯示單元上且具有透明基體和由複數個金屬細線構成之配線部,該配線部具有絕緣之2層以上的配線層和將線配線沿2個方向以上重疊而成之網格狀配線圖案,該線配線由在正面觀察時在1個方向上平行地排列之複數個金屬細線構 成,其中該網格狀配線圖案重疊於該顯示單元的像素排列圖案上,至少1個方向的該線配線係該複數個金屬細線為直線的直線配線,至少1個方向的該直線配線係在該2層以上的配線層中的至少1層的配線層中連續配置有2根以上的該金屬細線且在連續配置有該2根以上的該金屬細線之配線層中既定根數的該金屬細線的重複間距為等間距、該既定根數的各個金屬細線的間距中至少2個間距不同之非等間距的配線圖案,獲取該像素排列圖案的亮度或透射率,對該非等間距的配線圖案及由複數個直線的金屬細線構成、該既定根數的該金屬細線的重複間距與該非等間距的配線圖案相等且各個該金屬細線的間距相等之等間距的配線圖案分別獲取該配線圖案的透射率,對該非等間距的配線圖案及該等間距的配線圖案分別導出該配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈,並且導出該像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈,由該非等間距的配線圖案及該等間距的配線圖案的透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分和該像素排列圖案的亮度或透射率的二維傅立葉頻率分佈的各頻率成分計算出疊紋的各頻率成分,使人的視覺響應特性作用於如此計算出之該疊紋的各頻率成分而求出各頻率成分的強度的總和亦即疊紋評價值,製作如此求出之該非等間距的配線圖案中之疊紋評價值小 於該等間距的配線圖案中之疊紋評價值的該非等間距的配線圖案。
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