TW201946032A - 使用不同密度的投影圖案進行距離測量 - Google Patents

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Abstract

在一個示例中,一種方法包括:指示距離感測器的圖案投影器,來將光的圖案投影到物體上,其中圖案包括投影偽像的複數個平行列,並且其中複數個平行列的第一列中的投影偽像的空間密度不同於複數個平行列的第二列中的投影偽像的空間密度;指示距離感測器的相機,來獲取物體的圖像,其中圖像包括光的圖案;及基於圖像的分析,來計算從距離感測器到物體的距離。

Description

使用不同密度的投影圖案進行距離測量
本案請求2018年3月20日提交的美國臨時專利申請案第62/645,185號的優先權,其經由引用方式整體併入本文。
美國專利申請案第14/920,246、15/149,323及15/149,429號描述了距離感測器的各種配置。這種距離感測器可用於各種應用,包括保全、遊戲、無人駕駛車輛的控制及其他應用。
在這些應用中所描述的距離感測器包括投影系統(例如,包括雷射、繞射光學元件、及/或其他協作部件),其將人眼基本上不可見的波長(例如,紅外光)的光束投影到視野中。光束散開以產生可由適當的光接收系統(例如,透鏡、圖像擷取裝置及/或其他部件)來偵測的圖案(點、短橫線或其他偽像的圖案)。當圖案入射到視野中的物體上時,可基於視野的一個或多個圖像(其可由感測器的光接收系統來擷取)中的圖案的外觀(例如,點、短橫線或其他偽像的位置關係),來計算從感測器到物體的距離。還可決定物體的形狀和尺寸。
例如,圖案的外觀可隨著到物體的距離而改變。作為示例,如若圖案包括點圖案,則當物體更靠近感測器時,點可看起來彼此更靠近,並且當物體更遠離感測器時,點可看起來彼此更遠離。
在一個示例中,一種方法包括:指示距離感測器的圖案投影器,來將光的圖案投影到物體上,其中圖案包括投影偽像的複數個平行列,並且其中複數個平行列的第一列中的投影偽像的空間密度不同於複數個平行列的第二列中的投影偽像的空間密度;指示距離感測器的相機,來獲取物體的圖像,其中圖像包括光的圖案;及基於圖像的分析,來計算從距離感測器到物體的距離。
在另一示例中,一種非暫態機器可讀取儲存媒體被編碼有可由處理器來執行的指令。當執行指令時,指令使處理器執行操作,該等操作包括:指示距離感測器的圖案投影器,來將光的圖案投影到物體上,其中圖案包括投影偽像的複數個平行列,並且其中複數個平行列的第一列中的投影偽像的空間密度不同於複數個平行列的第二列中的投影偽像的空間密度;指示距離感測器的相機,來獲取物體的圖像,其中圖像包括光的圖案;及基於圖像的分析,來計算從距離感測器到物體的距離。
在另一示例中,一種距離感測器包括:圖案投影器,用於將光的圖案投影到物體上,其中圖案包括投影偽像的複數個平行列,並且其中複數個平行列的第一列中的投影偽像的空間密度不同於複數個平行列的第二列中的投影偽像的空間密度;相機,用於獲取物體的圖像,其中圖像包括光的圖案;及處理系統,用於基於圖像的分析,來計算從距離感測器到物體的距離。
本揭示大致描述了一種用於使用不同密度的投影圖案進行距離測量的設備、方法及非暫態計算機可讀取媒體。如上所述,距離感測器(諸如美國專利申請案第14/920,246、15/149,323及15/149,429號中所描述的彼等距離感測器)經由投影光束,來決定到物體的距離(並且可能地,物體的形狀和尺寸),該光束在包括物體的視野中散開以產生圖案(例如,點、短橫線或其他偽像的圖案)。可從一個或多個雷射光源投影光束,該雷射光源發射對人眼基本上不可見的波長的光,但是對於適當的偵測器(例如,光接收系統)是可見的。然後,可基於到偵測器的圖案的外觀,來計算到物體的三維距離。
如果存在大量投影束,則個別投影偽像的軌跡的移動可能重疊,這使得識別個別投影偽像和其移動更加困難。這反而使距離測量複雜化,因為投影偽像的移動影響其外觀。當圖案的密度特別高時,該問題變得更加嚴重(例如,當測量距離的物體非常接近距離感測器時可能發生;典型地,距離越小,圖案密度越大)。另一方面,典型地需要高密度圖案,因為它們允許進行更高解析度的距離測量。
本揭示的示例提供了其密度隨圖案變化的投影圖案。例如,圖案可包括點的複數個線,其中第一線的密度(例如,點的接近度)是相對高的,並且相鄰的第二線的密度是相對低的(例如,低於第一線)。較低密度線不太可能呈現點軌跡的重疊,其使得更容易識別在較低密度線中的個別點。一旦識別出在較低密度線中的點,就可以使用該知識,來識別和區分在較高密度線中的點的軌跡,從而允許進行精確的高解析度距離測量。
圖1示出了可由距離感測器的光投影系統來投影的示例投影圖案100,諸如美國專利申請案第14/920,246、15/149,323及15/149,429號中所述的任一距離感測器。如圖所示,圖案包括複數個點1021 -102n (以下個別稱為「點102」或統稱為「多個點102」),其被佈置以形成網格。點102可採用其他形式,諸如短橫線、x等;因此,圖1作為舉例而使用了點。點102是沿著網格的x和y軸佈置,使得形成複數個列1041 -104m (以下個別稱為「列104」或統稱為「多個列104」)和複數個行1061 -106p (以下個別稱為「行106」或統稱為「多個行106」)。該佈置相對於平行於y軸的中心線108對稱(例如,與列正交)。點102的軌跡平行於x軸(例如,沿著x軸移動)。
在一個示例中,可連接任一組的四個相鄰點102以形成四邊形。在一個示例中,四邊形可採用下列六個形狀中的一者:如圖1中的圖例所示的a、-a、b、-b、c或-c。在進一步示例中,額外形狀也是可能的。當所有六個四邊形a、-a、b、-b、c及-c是沿著x軸連續使用而不重複時,它們構成「單元」。在圖1中,圖案100的每一列104在中心線108的每一側上包括一個單元。單元可包括四邊形a、-a、b、-b、c及-c的任一順序。在圖1所示的示例中,以交替方式來使用兩個不同的單元。例如,在列1041 中使用第一單元,在列1042 中使用不同的第二單元,並且該等單元以此方式重複:以交替的方式直到列104m 。換句話說,第一和第二單元沿著y軸交替。
應注意的是,四邊形僅在圖1中示出,以顯示點102的相對位置或圖案,並且不包括由距離感測器來投影的實際投影偽像。例如,圖2示出了圖1的圖案100被放大到高密度圖案。
圖3示出了可由距離感測器的光投影系統來投影的另一示例投影圖案300,諸如美國專利申請案第14/920,246、15/149,323及15/149,429號中所述的任一距離感測器。如圖所示,圖案包括複數個點3021 -302n (以下個別稱為「點302」或統稱為「多個點302」),其被佈置以形成網格。點302可採用其他形式,諸如短橫線、x等;因此,圖3作為舉例而使用了點。點302是沿著網格的x和y軸佈置,使得形成複數個列3041 -304m (以下個別稱為「列304」或統稱為「多個列304」)和複數個行3061 -306p (以下個別稱為「行306」或統稱為「複數個行106」)。該佈置相對於平行於y軸的中心線308對稱。點302的軌跡平行於x軸(例如,沿著x軸移動)。
在一個示例中,列304可在相對高密度圖案與相對低密度圖案之間交替。相對低密度圖案可在點302之間呈現出比相對高密度圖案更大的間隔。例如,列3041 的點302可被分組成對,其中在一對中的每個點302之間的間隔是d。在列3041 中的每對之間的間隔又可以是2d。然而,列3042 的點302之間的間隔可以是3d。因此,列3042 的圖案相對於列3041 的圖案具有低密度。
列3043 的點302之間的間隔可在2d與4d之間交替。因此,列3042 的圖案相對於列3042 的圖案具有低密度。列3044 的點302可以是三個成一組,其中在一組中每個點302之間的間隔是d。在列3044 中的每組之間的間隔又可以是2d。因此,列3044 的圖案相對於列3041 、3042 及3043 的圖案具有高密度。
因此,圖案300的每列304的相對圖案密度可以變化。可以在圖案300中使用任意數目的不同密度。例如,圖案300可在低密度與高密度列之間交替。或者,可使用具有不同可能密度的列304的隨機佈置。
在任何情況下,駐留在共同列304中的所有點302都是共線的。也就是,駐留在共同列中的所有點302相對於它們在y軸上的位置不變化。然而,沿著y軸的列之間的間隔可以變化。例如,如圖3中所示,在列3041 與3042 之間的間隔以及在列3043 與3044 之間的間隔是y1。然而,列3042 與3043 之間的間隔以及在列3044 與沿著y軸的下一列302之間的間隔是y2。
此外,在存在包括高密度列和低密度列的相鄰對的情況下,高密度列和低密度列之間的間隔可小於該等兩列中之一者中的點之間的間隔。例如,觀察高密度列3041 和低密度列3042 的一對(也分別由參考符號a1和a2來表示),列3041 和列3042 之間的間隔(即y1)小於列3041 和列3042 中的點302之間的間隔d、2d及3d。
圖案300可由垂直腔表面發射雷射(VCSEL)陣列310結合上一個或多個繞射光學元件(例如,如美國專利申請案第14/920,246、15/149,323及15/149,429號中所述)來投影。在一個示例中,VCSEL晶片上的孔的佈置(例如,容納雷射的腔)可被設計來產生圖案300。例如,類似於圖案300,孔的佈置可被設計成 一系列的列,其中在每列中的孔之間的間距可以變化。
圖4示出了可由距離感測器的光投影系統來投影的另一示例投影圖案400,諸如美國專利申請案第14/920,246、15/149,323及15/149,429號中所述的任一距離感測器。如圖所示,圖案包括複數個點4021 -402n (以下個別稱為「點402」或統稱為「多個點402」),其被佈置以形成網格。點402可採用其他形式,諸如短橫線、x等;因此,圖4作為舉例而使用了點。點402是沿著網格的x和y軸佈置,使得形成複數個列a-f和複數個行1-12。點402的軌跡平行於x軸(例如,沿著x軸移動)。
在一個示例中,如圖所示,列a、b、c、d、e及f中的每一者可以在點402之間的間隔中呈現出不同的圖案密度。例如,圖案密度在列a中可以是最大的,在列f中是最小的,並且在列b、c、d及e中是落入在最小與最大密度之間的某處。此外,列的圖案(即,排序a、b、c、d、e、f)可沿著y軸重複好幾次。在圖4所示的示例中,列的圖案重複四次。也就是,存在四組列a-f。
圖案400可由垂直腔表面發射雷射(VCSEL)陣列410結合一個或多個繞射光學元件(例如,如美國專利申請案第14/920,246、15/149,323及15/149,429號中所述)來投影。在一個示例中,VCSEL晶片上的孔的佈置(例如,容納雷射的腔)可被設計來產生圖案400。例如,類似於圖案400,孔的佈置可被設計成 一系列的列,其中在每列中的孔之間的間距可以變化。
圖5示出了可由距離感測器的光投影系統來投影的另一示例投影圖案500,諸如美國專利申請案第14/920,246、15/149,323及15/149,429號中所述的任一距離感測器。如圖所示,圖案包括複數個點5021 -502n (以下個別稱為「點502」或統稱為「多個點502」),其被佈置以形成網格。點502可採用其他形式,諸如短橫線、x等;因此,圖5作為舉例而使用了點。如圖4中那樣,點502是沿著網格的x和y軸佈置,使得形成複數個列a-f和複數個行1-12。點502的軌跡平行於x軸(例如,沿著x軸移動)。
如圖4中那樣,如所示,列a、b、c、d、e及f中的每一者可以在點502之間的間隔中呈現出不同的圖案密度。例如,圖案密度在列a中可以是最大的,在列f中是最小的,並且在列b、c、d及e中是落入在最小與最大密度之間的某處。此外,列的圖案(即,排序a、b、c、d、e、f)可沿著y軸重複好幾次。在圖5所示的示例中,列的圖案重複四次。也就是,存在四組列a-f。
圖案500可由垂直腔表面發射雷射(VCSEL)陣列510結合上一個或多個繞射光學元件(例如,如美國專利申請案第14/920,246、15/149,323及15/149,429號中所述)來投影。在一個示例中,VCSEL晶片上的孔的佈置(例如,容納雷射的腔)可被設計來產生圖案500。例如,類似於圖案500,孔的佈置可被設計成 一系列的列,其中在每列中的孔之間的間距可以變化。
圖6示出了可由距離感測器的光投影系統來投影的另一示例投影圖案600,諸如美國專利申請案第14/920,246、15/149,323及15/149,429號中所述的任一距離感測器。如圖所示,圖案包括複數個點6021 -602n (以下個別稱為「點602」或統稱為「多個點602」),其被佈置以形成網格。點602可採用其他形式,諸如短橫線、x等;因此,圖6作為舉例而使用了點。如圖4和圖5中那樣,點602是沿著網格的x和y軸佈置,使得形成複數個列a-f和複數個行1-12。點602的軌跡平行於x軸(例如,沿著x軸移動)。
如圖4-圖5中那樣,如所示,列a、b、c、d、e及f中的每一者可以在點602之間的間隔中呈現出不同的圖案密度。例如,圖案密度在列a中可以是最大的,在列f中是最小的,並且在列b、c、d及e中是落入在最小與最大密度之間的某處。此外,列的圖案(即,排序a、b、c、d、e、f)可沿著y軸重複好幾次。在圖6所示的示例中,列的圖案重複四次。也就是,存在四組列a-f。
圖案600可由垂直腔表面發射雷射(VCSEL)陣列610結合上一個或多個繞射光學元件(例如,如美國專利申請案第14/920,246、15/149,323及15/149,429號中所述)來投影。在一個示例中,VCSEL晶片上的孔的佈置(例如,容納雷射的腔)可被設計來產生圖案600。例如,類似於圖案600,孔的佈置可被設計成 一系列的列,其中在每列中的孔之間的間距可以變化。
圖7是示出根據本揭示的使用不同密度的投影圖案進行距離測量的方法700的一個示例的流程圖。方法700可例如由處理器來執行,諸如距離感測器的處理器或圖8中所示的處理器802。作為示例,方法700是描述為由處理系統來執行。
方法700可在步驟702開始。在步驟704中,處理系統可指示距離感測器的投影系統(例如,包括雷射光源、繞射光學元件、透鏡及/或其他部件的一組光學器件),將光的圖案投影到距離感測器的相機的視野中的物體上。在一個示例中,光的圖案可包括以對人眼基本上不可見的波長(例如,紅外線)發射的光。圖案可包括點、虛線、短劃線、x或其他投影偽像的複數個平行列。個別列的圖案密度可以變化。換句話說,至少兩列呈現出不同的投影偽像的空間密度。例如,一些列可具有相對於其他列的更高的圖案密度(例如,更接近的投影偽像的間距)。
在步驟706中,處理系統可指示距離感測器的相機,來獲取物體的圖像,其中圖像包括光的圖案。在一個示例中,相機可包括紅外線偵測器和魚眼鏡頭。
在步驟708中,處理系統可處理圖像,以便決定到物體的距離。例如,可使用在美國專利申請案第14/920,246、15/149,323及15/149,429中所述的任一方法來計算距離。在一個示例中,可部分地基於圖案中的投影偽像的軌跡,來決定到物體的距離。在進一步示例中,可使用圖案的低密度列中的投影偽像的軌跡,來決定感測器相對於物體的移動。知道移動可反過來允許識別圖案的高密度列中的投影偽像的軌跡。知道在高密度列中的偽像的軌跡可又允許決定高解析度距離資訊。或者,處理系統可將第一和第二圖像發送到遠端處理系統以進行距離計算。
方法700可在步驟710結束。
應注意的是,儘管未明確指定,但上述方法700的一些方塊、功能或操作可包括用於特定應用的儲存、顯示及/或輸出。換句話說,取決於特定應用,可將方法700中所討論的任何資料、記錄、欄位及/或中間結果儲存、顯示及/或輸出到另一裝置。此外,在圖7中記載決定操作或涉及決策的方塊、功能或操作並不意味著實施決定操作的兩個分支。換句話說,可取決於決定操作的結果,不執行決定操作的分支中的一者。
圖8描繪了用於計算從感測器到物體的距離的示例電子裝置800的概括性方塊圖。因此,可將電子裝置800實現為電子裝置或系統的處理器,諸如距離感測器。
如圖8所示,電子裝置800包括硬體處理器元件802(例如,中央處理單元(CPU)、微處理器或多核心處理器)、記憶體804(例如,隨機存取記憶體(RAM)及/或唯讀記憶體(ROM)、用於計算從感測器到物體的距離的模組805及各種輸入/輸出裝置806(例如,包括但不限於磁帶機、軟碟機、硬碟機或光碟機的儲存裝置、接收器、發送器、顯示器、輸出端口、輸入端口及使用者輸入裝置,諸如鍵盤、小鍵盤、滑鼠、麥克風、相機、雷射光源、LED光源等。
儘管示出了一個處理器元件,但是應注意的是,電子裝置800可採用複數個處理器元件。此外,儘管在圖中示出一個電子裝置800,但是如若上文討論的方法針對特定說明性示例以分散或平行方式來實現(即,上文方法或整體方法的方塊是跨多個或平行電子裝置來實現),則該圖的電子裝置800意圖代表該等多個電子裝置中的每一者。
應注意的是,本揭示可由機器可讀取指令及/或機器可讀取指令結合上硬體來實現,例如,使用特定應用積體電路(ASIC)、包括現場可程式化閘陣列(FPGA)的可程式化邏輯陣列(PLA)、或部署在硬體裝置、通用電腦或任何其他硬體等同物上的狀態機,例如,可使用與上文討論的方法有關的電腦可讀取指令,來配置硬體處理器,以執行上文所揭示方法的方塊、功能及/或操作。
在一個示例中,用於計算從感測器到物體的距離的當前模組或處理805的指令和資料,例如,機器可讀取指令可被載入記憶體804中並且由硬體處理器元件802來執行,以實現結合上方法700如上文討論的方塊、功能及/或操作。此外,當硬體處理器執行指令以執行「操作」時,這可包括硬體處理器直接執行操作及/或促進、指導或與另一硬體裝置或部件(例如,協同處理器等)協作,以執行操作。
執行與上述方法有關的機器可讀取指令的處理器可以被視為程式化處理器或專用處理器。因此,本揭示的用於計算從感測器到物體的距離的當前模組805可儲存在有形或實體(廣泛地非暫態)計算機可讀取儲存裝置或媒體上,例如,揮發性記憶體、非揮發性記憶體、ROM記憶體、RAM記憶體、磁性或光學機、裝置或磁碟等。更具體地,計算機可讀取儲存裝置可包括任何實體裝置,其提供儲存諸如要由處理器或諸如計算機或安全感測器系統的控制器的電子裝置來存取的資料及/或指令的資訊的能力。
應理解的是,上文揭示的變化物及其他特徵和功能或其替代方案可被結合到許多其他不同的系統或應用中。隨後可進行各種目前無法預料或未預料到的替代、修改或變化,其亦意圖以由以下的申請專利範圍來涵蓋。
100‧‧‧圖案
1021‧‧‧點
102n‧‧‧點
1041‧‧‧列
1042‧‧‧列
104m‧‧‧列
1061‧‧‧行
1062‧‧‧行
106p‧‧‧行
108‧‧‧中心線
300‧‧‧圖案
3021‧‧‧點
302n‧‧‧點
3041‧‧‧列
3042‧‧‧列
3043‧‧‧列
3044‧‧‧列
304m‧‧‧列
3061‧‧‧行
306p‧‧‧行
308‧‧‧中心線
310‧‧‧陣列
400‧‧‧圖案
4021‧‧‧點
402n‧‧‧點
410‧‧‧陣列
500‧‧‧圖案
5021‧‧‧點
502n‧‧‧點
6021‧‧‧點
602n‧‧‧點
610‧‧‧陣列
700‧‧‧方法
702‧‧‧步驟
704‧‧‧步驟
706‧‧‧步驟
708‧‧‧步驟
710‧‧‧步驟
800‧‧‧電子裝置
802‧‧‧處理器
804‧‧‧記憶體
805‧‧‧模組
806‧‧‧輸入/輸出裝置
圖1示出了可由距離感測器的光投影系統來投影的示例投影圖案;
圖2示出了圖1的圖案被放大到高密度圖案;
圖3示出了可由距離感測器的光投影系統來投影的另一示例投影圖案;
圖4示出了可由距離感測器的光投影系統來投影的另一示例投影圖案;
圖5示出了可由距離感測器的光投影系統來投影的另一示例投影圖案;
圖6示出了可由距離感測器的光投影系統來投影的另一示例投影圖案;
圖7是示出根據本揭示的使用不同密度的投影圖案進行距離測量的方法的一個示例的流程圖;及
圖8描繪了用於計算從感測器到物體的距離的示例電子裝置的概括性方塊圖。
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Claims (20)

  1. 一種方法,包括以下步驟: 由一距離感測器的一處理系統指示該距離感測器的一圖案投影器,來將光的一圖案投影到該物體上,其中該圖案包括投影偽像的複數個平行列,並且其中該複數個平行列的一第一列中的該等投影偽像的一空間密度不同於該複數個平行列的一第二列中的該等投影偽像的一空間密度;由該處理系統指示該距離感測器的一相機,來獲取該物體的一圖像,其中該圖像包括光的該圖案;及由該處理系統基於該圖像的一分析,來計算從該距離感測器到該物體的一距離。
  2. 如請求項1所述之方法,其中該第一列中的該等投影偽像的該空間密度包括該第一列中的該等投影偽像之間的一間隔,並且該第二列中的該等投影偽像的該空間密度包括該第二列中的該等投影偽像之間的一間隔。
  3. 如請求項2所述之方法,其中該第一列中的該等投影偽像之間的該間隔大於該第二列中的該等投影偽像之間的該間隔。
  4. 如請求項2所述之方法,其中該第一列中的該等投影偽像之間的該間隔在該第一列的一長度上存在一變化。
  5. 如請求項4所述之方法,其中該變化包括一重複的圖案。
  6. 如請求項1所述之方法,其中該計算之步驟包括以下步驟: 由該處理系統識別在該第一列中的該等投影偽像之一者的一第一軌跡,其中該第一列中的該等投影偽像的該空間密度小於該第二列中的該等投影偽像的該空間密度;由該處理系統基於該第一軌跡,來識別該距離感測器相對於該物體的一移動;由該處理器基於該移動,來識別在該第二列中的該等投影偽像中之一者的一第二軌跡;及基於該第二軌跡,來計算該距離。
  7. 如請求項6所述之方法,其中該第一軌跡和該第二軌跡平行於該複數個平行列。
  8. 如請求項1所述之方法,其中該第一列中的該等投影偽像是彼此共線的,並且該第二列中的該等投影偽像是彼此共線的。
  9. 如請求項8所述之方法,其中該複數個平行列的列之間的間隔在該圖案的一長度上變化。
  10. 如請求項1所述之方法,其中該圖案相對於與該複數個平行列正交的一中心線對稱。
  11. 如請求項1所述之方法,其中光的該圖案包括對一人眼是不可見的一波長的光。
  12. 如請求項11所述之方法,其中該波長是紅外線。
  13. 一種非暫態機器可讀取儲存媒體,其編碼有可由一距離感測器的一處理器來執行的指令,其中當執行該等指令時,該等指令使該處理器執行操作,該等操作包括: 指示該距離感測器的一圖案投影器,來將光的一圖案投影到該物體上,其中該圖案包括投影偽像的複數個平行列,並且其中該複數個平行列的一第一列中的該等投影偽像的一空間密度不同於該複數個平行列的一第二列中的該等投影偽像的一空間密度;指示該距離感測器的一相機,來獲取該物體的一圖像,其中該圖像包括光的該圖案;及基於該圖像的一分析,來計算從該距離感測器到該物體的一距離。
  14. 一種距離感測器,包括: 一圖案投影器,用於將光的一圖案投影到一物體上,其中該圖案包括投影偽像的複數個平行列,並且其中該複數個平行列的一第一列中的該等投影偽像的一空間密度不同於該複數個平行列的一第二列中的該等投影偽像的一空間密度;一相機,用於獲取該物體的一圖像,其中該圖像包括光的該圖案;及一處理系統,用於基於該圖像的一分析,來計算從該距離感測器到該物體的一距離。
  15. 如請求項14所述之距離感測器,其中該圖案投影器包括一垂直腔表面發射雷射,其配置以發射形成該圖案的光。
  16. 如請求項14所述之距離感測器,其中該第一列中的該等投影偽像的該空間密度包括該第一列中的該等投影偽像之間的一間隔,並且該第二列中的該等投影偽像的該空間密度包括該第二列中的該等投影偽像之間的一間隔。
  17. 如請求項14所述之距離感測器,其中該第一列中的該等投影偽像之間的該間隔在該第一列的一長度上存在一變化。
  18. 如請求項17所述之距離感測器,其中該變化包括一重複的圖案。
  19. 如請求項14所述之距離感測器,其中該複數個平行列的列之間的間隔在該圖案的一長度上變化。
  20. 如請求項14所述之距離感測器,其中光的該圖案包括對一人眼是不可見的一波長的光。
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