TW201923440A - 圖像曝光裝置及圖像曝光方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種能夠抑制圖像的模糊之圖像曝光裝置及圖像曝光方法。圖像曝光裝置（10）具備：圖像顯示裝置（20），具有像素（21）；感光性記錄介質支撐部，將記錄圖像顯示裝置（20）的圖像之感光性記錄介質（40）支撐為使感光性記錄介質（40）的曝光面（40A）對向圖像顯示裝置（20）；準直部（50），設置於圖像顯示裝置（20）與感光性記錄介質（40）之間，並將來自像素（21）的光設為平行光；及吸收層（60），設置於圖像顯示裝置（20）與感光性記錄介質（40）之間，來自像素（21）的光的透光率為50%以下。

Description

圖像曝光裝置及圖像曝光方法
本發明涉及一種圖像曝光裝置及圖像曝光方法，係有關一種將圖像記錄於感光性記錄介質上之圖像曝光裝置及圖像曝光方法。
近年來，正在對將發光顯示屏等圖像顯示裝置的顯示圖像曝光於即顯膠片等感光性記錄介質上之裝置進行各種研究。
例如在專利文獻1中公開有在發光顯示屏與即顯膠片之間配置了準直層之裝置。專利文獻1中，準直層遮擋來自發光顯示屏的非平行光，因此能夠設為不需要裝置內的透鏡等。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]美國專利第9126396號說明書
然而，專利文獻1的裝置中，來自發光顯示屏的光在準直層上稍微反射。該被反射之光進而在裝置內的光學系統中反射或漫反射，成為被稱作雜散光之非預期的光。該雜散光若在曝光時到達即顯膠片，則圖像被過度曝光，產生圖像的模糊，存在導致畫質降低之憂患。即使由準直層的反射光引起之雜散光為少量，在靈敏度高的即顯膠片中，雜散光的光量與來自發光顯示屏的透射光的光量之比亦會影響到畫質。
本發明係鑑於該等情況而完成者，其目的在於提供一種能夠抑制由雜散光引起之畫質降低之圖像曝光裝置及圖像曝光方法。
為實現本發明的目的，第1形態的圖像曝光裝置具備：圖像顯示裝置，具有像素；感光性記錄介質支撐部，將記錄圖像顯示裝置的圖像之感光性記錄介質支撐為使感光性記錄介質的曝光面對向圖像顯示裝置；準直部，設置於圖像顯示裝置與感光性記錄介質支撐部之間，並將來自像素的光設為平行光；及吸收層，設置於圖像顯示裝置與感光性記錄介質支撐部之間，來自像素的光的透光率為50%以下。
第2形態的圖像曝光裝置中，吸收層係中性密度濾鏡。
第3形態的圖像曝光裝置中，準直部係選自狹縫、光纖板、毛細板及積層3層以上具有複數個開口之透射構件而成之光控制部中之至少1種。
第4形態的圖像曝光裝置中，吸收層的透光率為20%以下。
第5形態的圖像曝光裝置中，吸收層的透光率為0.001%以上。
第6形態的圖像曝光裝置中，在將從圖像顯示裝置直接到達被感光性記錄介質支撐部支撐之感光性記錄介質的曝光面的位置之光量設為A，將從圖像顯示裝置間接到達感光性記錄介質的曝光面的位置之光量設為B時，B/A為1/10000以下。
第7形態的圖像曝光裝置中，圖像顯示裝置具有排列成二維形狀之像素，並將感光性記錄介質的曝光面的二維形狀的所有區域同時進行曝光。
第8形態的圖像曝光裝置中，圖像顯示裝置具有排列成一維形狀之像素，並具備掃描部，該掃描部相對於圖像顯示裝置的像素的排列方向在垂直方向上，將圖像顯示裝置及被感光性記錄介質支撐部支撐之感光性記錄介質中的至少一方進行掃描。
第9形態的圖像曝光裝置中，圖像顯示裝置具有在面積小於感光性記錄介質的曝光面之區域上排列成二維形狀之像素，並具備掃描部，該掃描部沿圖像顯示裝置的像素的排列方向和相對於像素的排列方向垂直之方向該兩個方向，將圖像顯示裝置及被感光性記錄介質支撐部支撐之感光性記錄介質中的至少一方進行掃描。
第10形態的圖像曝光裝置中，在基於來自像素的光之曝光範圍內，相鄰之曝光範圍的一部分重疊。
第11形態的圖像曝光裝置中，圖像顯示裝置裝卸自如。
第12形態的圖像曝光方法中，包括：準備具有像素之圖像顯示裝置之步驟；準備感光性記錄介質支撐部之步驟，該感光性記錄介質支撐部將記錄圖像顯示裝置的圖像之感光性記錄介質支撐為使感光性記錄介質的曝光面對向圖像顯示裝置；及經由配置於圖像顯示裝置與感光性記錄介質支撐部之間之準直部和吸收層，將來自圖像顯示裝置的光曝光於感光性記錄介質之步驟，前述準直部將來自像素之光設為平行光，前述吸收層中來自像素的光的透光率為50%以下。 [發明效果]
依據本發明，能夠減少產生由雜散光引起之圖像的模糊，並能夠抑制畫質的降低。
以下，按照圖式關於本發明的較佳之實施形態進行說明。本發明藉由以下較佳之實施形態而被說明。不脫離本發明的範圍內，而能夠藉由複數種方法進行變更，並能夠利用除了實施形態以外的其他實施形態。從而，本發明的範圍內之所有變更包括於申請專利範圍中。
參閱圖1，對本發明的原理進行說明。如圖1所示，圖像曝光裝置10具備圖像顯示裝置20和支撐感光性記錄介質40之感光性記錄介質支撐部70。感光性記錄介質支撐部70可直接支撐或間接支撐感光性記錄介質40。
圖像顯示裝置20具備像素21。來自像素21的光22從圖像顯示裝置20的圖像顯示面23輻射。像素21係指構成圖像顯示面23之顏色資訊的最小單位。圖像顯示裝置20因具有像素21而能夠顯示圖像。
圖像顯示裝置20具備複數個像素21以顯示圖像為較佳。作為具有像素21之圖像顯示裝置20，能夠應用液晶顯示（LCD:liquid crystal display）裝置、有機發光二極體（OLED:Organic Light Emitting Diode）顯示裝置、電漿顯示裝置、發光二極體（LED:Light Emitting Diode）顯示裝置、CRT（Cathode Ray Tube：陰極射線管）顯示裝置等。
然而，若像素21能夠顯示任何顏色資訊，並能夠顯示圖像，則圖像顯示裝置20並不限定於上述構造。
在此，像素21中例如包括如下情況：如以液晶顯示裝置為代表，背光單元的光經由像素21輻射之情況；及如以有機發光二極體顯示裝置為代表，前述像素21本身輻射光之情況。
圖像顯示裝置20的圖像顯示面23可具有排列成二維形狀之像素21，亦可具有排列成一維形狀之像素21。又，二維形狀的圖像顯示面23在俯視下可以係矩形，亦可以係除了矩形以外的形狀。
感光性記錄介質支撐部70將感光性記錄介質40支撐為使感光性記錄介質40配置於對向圖像顯示裝置20的圖像顯示面23之位置。感光性記錄介質支撐部70只要能夠支撐感光性記錄介質40，其構造並不受特別的限定。
感光性記錄介質40能夠藉由穿過吸收層60及準直部50之平行光22A而曝光，若係能夠形成圖像者，則並不受特別的限定。
感光性記錄介質40例如由支撐體和設置於支撐體上之感光材料構成。感光性記錄介質40具有曝光面40A。作為感光性記錄介質40，若係膠卷、乾板、印相紙或藍、正感光紙、製版用濕板、光刻膠、即顯膠片等具有感光性之產品，則可以係任意的物質。應用即顯膠片為較佳。
準直部50設置於圖像顯示裝置20與支撐感光性記錄介質40之感光性記錄介質支撐部70之間。準直部50將來自像素21的光22設為平行光22A。準直部50使光22中的平行光22A在感光性記錄介質40上穿過（參閱圖1的右側像素21）。
準直部50使光22中的平行光22A到達感光性記錄介質40上。平行光22A將感光性記錄介質40進行曝光。平行光22A藉由準直部50而照射到感光性記錄介質40的曝光面40A，因此減少在形成於感光性記錄介質40上之圖像中產生模糊等，並抑制畫質的降低。準直部50防止成為圖像模糊的原因之除平行光22A以外的光在感光性記錄介質40的曝光面40A上曝光。
平行光22A意味著穿過準直部50並照射到感光性記錄介質40的曝光面40A上之光彼此平行。在此，平行包括大致平行，並包括在形成於感光性記錄介質40上之圖像中不產生模糊之程度的平行。
圖1所示之圖像曝光裝置10中，平行光22A包括與圖像曝光裝置10的圖像顯示面23正交或大致正交之光。
只要照射到感光性記錄介質40的曝光面40A之光彼此平行且能夠抑制圖像的模糊，平行光22A亦可以係相對於圖像曝光裝置10的圖像顯示面23以既定的角度傾斜之光。在以既定角度傾斜之光到達感光性記錄介質40的曝光面40A，且除此以外的光未到達感光性記錄介質40的曝光面40A之情況下，以既定角度傾斜之光成為平行光。
準直部50若能夠將來自像素21的光22設為平行光22A，則其構造並不受特別的限定。例如能夠應用選自狹縫、光纖板、毛細板及積層3層以上具有複數個開口之透射構件而成之光控制部中之至少1種。
狹縫（稱作遮光體（louver））由複數個透光部和不使光到達相鄰之空間之光吸收體構成。光纖板係包括以二維的方式排列有複數個之、傳輸光之光纖和吸收從光纖洩漏之光之吸收體玻璃之板。毛細板係由以二維的方式排列有複數個之、具有幾十μm以下的直徑之毛細管（Capillary）的集合體構成之板。
積層3層以上具有複數個開口之透射構件而成之光控制部係重疊了3層以上視差障壁之積層體。視差障壁係具有控制光前進方向之開口部之遮光層。
圖像曝光裝置10具備準直部50，因此能夠設為不需要透鏡等光學系統，該透鏡等光學系統用於使來自圖像曝光裝置10的成像於感光性記錄介質40。
吸收層60設置於圖像顯示裝置20與感光性記錄介質40之間。圖1中，吸收層60配置於圖像顯示裝置20與準直部50之間。吸收層60能夠設置於感光性記錄介質40與準直部50之間。吸收層60在使用於曝光之波長區域中，來自像素21的光的透光率為50%以下。使用於曝光之波長區域在可見光區域亦即在400 nm以上且700 nm以下的範圍內為較佳。
吸收層60的透光率能夠藉由對吸收層60的入射光強度I0 與吸收層60的透射光強度I的比率（T=I/I0 （%））而求出。在使用於曝光之波長區域中，在吸收層60的透光率依據波長不同之情況下，藉由平均透光率求出為較佳。平均透光率在400 nm至700 nm之間，能夠藉由每一既定間隔（例如每10 nm）的透光率的平均值而求出。
吸收層60係中性密度濾鏡（以下，稱作ND（Neutral Density）濾鏡）為較佳。ND濾鏡意味著中性光學濃度的濾鏡，係在使用於曝光之波長區域中不影響波長而能夠均等地吸收（以吸收率計為50%以上且99.999%以下；以透光率計為0.001%以上且50%以下）光之濾鏡。由於ND濾鏡在使用於曝光之波長區域中能夠均等地吸收光，因此如後述般能夠減少雜散光的影響。
ND濾鏡有兩種，亦即，吸收型和反射型。雜散光由反射光所引起，因此與反射型ND濾鏡相比，能夠抑制反射光之吸收型ND濾鏡為較佳。ND濾鏡能夠藉由在支撐體中混合吸收色素而製作，或者能夠藉由在支撐體上塗佈混合了色素之透明材料而製作。
另外，ND濾鏡的特性通常依據光學濃度（Optical Density；OD）而定義。光學濃度OD與透光率T之間存在OD=log10 （1/T）（其中，T≤1）的關係。若設為OD=0.3，則成為透光率T=1/100.3 =50%。作為吸收層60而使用ND濾鏡，藉此，容易得到具有所希望的透光率之吸收層60。
作為吸收層60，例示出ND濾鏡，但在使用於曝光之波長區域中，只要來自像素21的光的透光率為50%以下，則並不受特別的限定。
其次，關於設置於本發明的圖像曝光裝置10中之吸收層60能夠減少雜散光的影響之作用，參閱圖1進行說明。
在此，雜散光22B係從圖像顯示裝置20間接到達感光性記錄介質40之光，意味著在藉由感光性記錄介質40而反射之光中，在圖像顯示裝置20、準直部50等上進行反射，並再次到達感光性記錄介質40之光。
如圖1所示，圖像曝光裝置10依次具備圖像顯示裝置20、吸收層60、準直部50及支撐感光性記錄介質40之感光性記錄介質支撐部70。從圖像顯示裝置20輻射之光22穿過吸收層60及準直部50（參閱圖1中的左側像素21）。光22藉由準直部50而設為平行光22A，平行光22A照射到被感光性記錄介質支撐部70支撐之感光性記錄介質40的曝光面40A。
圖像曝光裝置10中未使用光學接著材料等。從而，空氣層A1存在於圖像顯示裝置20與吸收層60之間，空氣層A2存在於吸收層60與準直部50之間，以及空氣層A3存在於準直部50與感光性記錄介質40之間。
空氣層A1、A2及A3的折射率為1。圖像顯示裝置20、吸收層60、準直部50及感光性記錄介質40各自的折射率大致為1.5。因此在作為圖像顯示裝置20與空氣層A1的界面亦即出射面20out 上產生光反射。同樣地，在空氣層A1與吸收層60的界面亦即入射面60in 、吸收層60與空氣層A2的界面亦即出射面60out 、空氣層A2與準直部50的界面亦即入射面50in 、準直部50與空氣層A3的界面亦即出射面50out 、及空氣層A3與感光性記錄介質40的界面亦即入射面40in 上產生光反射。
在此，入射面及出射面係以從圖像顯示裝置20朝向感光性記錄介質40輻射之光的方向為基準方便地定義者。以從感光性記錄介質40朝向圖像顯示裝置20輻射之光的方向作為基準之情況下，入射面及出射面可表示為出射面及入射面。
通常，若將媒質A的折射率為na ，將媒質B的折射率設為nb ，則藉由以下式求出媒質A與媒質B的界面的反射率Rref 。
[數式1]
若媒質A為空氣層A1、A2及A3，則na 成為1。若媒質B為圖像顯示裝置20、吸收層60、準直部50及感光性記錄介質40，則nb 成為1.5。
圖1所示之圖像曝光裝置10中，依據數學式1求出Rref =4（%）。將吸收層60的透光率設為50%，並計算出在來自圖像顯示裝置20的光22中平行光22A及雜散光22B以什麼程度的光量到達感光性記錄介質40的曝光面40A。表1係總結了其計算結果者。
[表1]
參閱表1，關於各數值進行說明。從圖像顯示裝置20的出射面20out 輻射100%的光。100%的光在吸收層60的入射面60in 上4%反射。96%的光從吸收層60的入射面60in 入射於吸收層60。透射光意味著不在吸收層60及準直部50反射而穿過之光。
穿過吸收層60之96%的光在吸收層60的出射面60out 上反射4%，進而，藉由吸收層60被吸收50%。其結果，從吸收層60的出射面60out ，46.1%的光朝向準直部50輻射。
46.1%的光在準直部50的入射面50in 上反射4%。44.2%的光從準直部50的入射面50in 入射於準直部50。
穿過準直部50之44.2%的光在準直部50的出射面50out 上反射4%。其結果，從準直部50的出射面50out ，42.5%的光作為平行光22A朝向感光性記錄介質40照射。
最後，42.5%的光在感光性記錄介質40的入射面40in 上反射4%。40.8%的光從感光性記錄介質40的入射面40in 入射於準直部50，並曝光感光性記錄介質40。
另一方面，在感光性記錄介質40的入射面40in 上，相當於42.5%的光的4%之1.7%的光作為反射光朝向準直部50輻射。
1.7%的反射光在準直部50的出射面50out 上反射4%。1.63%的反射光從準直部50的出射面50out 入射於準直部50。穿過準直部50之1.63%的反射光在準直部50的入射面50in 上反射4%。其結果，從準直部50的入射面50in ，1.57%的反射光朝向吸收層60輻射。
1.57%的反射光在吸收層60的出射面60out 上反射4%。1.50%的反射光從吸收層60的出射面60out 入射於吸收層60。穿過吸收層60之1.50%的反射光在吸收層60的入射面60in 上反射4%，進而，藉由吸收層60被吸收50%。其結果，從吸收層60的入射面60in ，0.72%的反射光朝向圖像顯示裝置20輻射。
在圖像顯示裝置20的出射面20out 上，相當於0.72%的反射光的4%之0.03%的光作為雜散光朝向感光性記錄介質40輻射。0.03%的雜散光在與透射光相同的光路中到達感光性記錄介質40。
0.03%的雜散光在吸收層60的入射面60in 及出射面60out 上分別反射4%且被吸收50%。從吸收層60的出射面60out ，0.013%的雜散光朝向準直部50輻射。
0.013%的雜散光在準直部50的入射面50in 及出射面50out 上分別反射4%。其結果，從準直部50的出射面50out ，0.012%的反射光朝向感光性記錄介質40輻射。
該計算中，將除了空氣層之所有介質的折射率設為1.5，並將各自的界面上的反射率設為4%而進行了計算。
如表1所示，到達感光性記錄介質40之平行光22A相對於從圖像顯示裝置20的出射面20out 輻射之100%光量的光成為40.8%光量的光。反射光相對於100%光量的光成為1.7%光量的光。
1.7%的反射光穿過準直部50、吸收層60，並在圖像顯示裝置20的出射面20out 上進行反射。該光量相對於100%光量的光成為0.03%光量的光。
至少具有角度之非平行光之光入射於相鄰或與更遠離之感光性記錄介質40，成為構成圖像模糊的原因之雜散光。
與圖像顯示裝置20的圖像顯示面23正交之光在界面反射等情況下，到達感光性記錄介質40的相同之位置，因此對圖像模糊之影響小。然而，該光亦能夠被視為一種雜散光，其光量小者為較佳。
在平行光22A的光量與雜散光22B的光量之差不大的情況下，作為圖像模糊而顯現，前述平行光22A係來自圖像顯示裝置20的光、且直接到達被感光性記錄介質支撐部70支撐之感光性記錄介質40的曝光面40A的位置，前述雜散光22B係來自圖像顯示裝置20的光、且間接到達被感光性記錄介質支撐部70支撐之感光性記錄介質40的曝光面40A的位置。平行光22A的光量與雜散光22B的光量之差能夠藉由以下比率進行確認。
上述實施形態中，該反射光作為雜散光穿過吸收層60及準直部50，並到達感光性記錄介質40。該光量相對於100%光量的光成為0.012%光量的光。
從而，上述實施形態中，當將平行光22A的光量設為A，將雜散光22B的光量設為B時，其比率成為B/A=0.012/40.8=1/3466。
通常，在平行光22A的光量A和雜散光22B的光量B處於B/A≥1/1000的關係之情況下，設為產生圖像模糊。
依據表1能夠理解為如下：在圖像顯示裝置20與感光性記錄介質40之間設置50%的透光率的吸收層60，藉此，能夠防止圖像模糊等畫質的降低。
如表1所示，藉由吸收層60，將到達感光性記錄介質40的曝光面40A之平行光22A的光量減少50%。另一方面，反射光穿過兩次吸收層60，因此能夠將雜散光22B的光量以50%×50%減少為25%。藉此，能夠減小平行光22A的光量A與雜散光22B的光量B之比亦即B/A。
其次，關於在圖像顯示裝置20與感光性記錄介質40之間不設置吸收層60之情況，計算出在來自圖像顯示裝置20的光22中平行光22A及雜散光22B以什麼程度的光量到達感光性記錄介質40。表2係總結了該計算結果者。該計算中，將空氣層的折射率設為1，將除了空氣層之所有介質的折射率設為1.5，並將各自的界面上的反射率設為4%而進行了計算。
[表2]
如表2所示，到達感光性記錄介質的曝光面之平行光（透射光）相對於從圖像顯示裝置的出射面輻射之100%光量的光成為88.5%光量的光。反射光相對於100%光量的光成為3.7%光量的光，能夠理解為0.12%光量的光作為雜散光到達感光性記錄介質。
表2的情況下，平行光的光量A與雜散光的光量B之比為B/A=0.12/88.5=1/736，且為1/1000以上。在不設置吸收層之情況下產生圖像模糊，因此能夠理解為形成於感光性記錄介質之畫質降低。
除了雜散光以外，還有在準直部的入射面及出射面上進行反射之光，或者在返回圖像顯示裝置之後在內部反射並輻射之光等。除了到達感光性記錄介質之88.5%的平行光以外的11.5%的光在圖像曝光裝置的內部成為雜散光，存在到達感光性記錄介質之憂患。
其次，關於吸收層60具有20%的透光率之情況及具有10%的透光率之情況，計算出到達感光性記錄介質40之平行光22A和雜散光22B的光量。表3示出透光率20%的計算結果，表4示出透光率10%的計算結果。
[表3]
表3形態的情況下，平行光22A的光量A與雜散光22B的光量B之比為B/A=0.0008/16.3=1/21660。
為了更確實地抑制由雜散光22B引起之圖像模糊等畫質的降低，B/A≤1/10000為較佳。藉由將吸收層60的透光率設為20%，能夠實現1/10000以下。
另外，藉由將吸收層60的透光率設為29%以下，能夠實現B/A≤1/10000。
[表4]
表4形態的情況下，平行光22A的光量A與雜散光22B的光量B之比為B/A=0.0001/8.2=1/86638。從而，充分滿足B/A≤1/10000。
如表4所示，到達感光性記錄介質40的曝光面40A之平行光22A相對於來自圖像顯示裝置20的100%的光成為1/10左右的8.2%光量的光。藉此，曝光時間延長。另一方面，與表2所示之0.12%相比，到達感光性記錄介質40之雜散光22B成為1/1000左右的0.0001%光量的光。即使平行光22A的光量為8.2%左右，亦由於感光性記錄介質40的靈敏度高，因此能夠藉由平行光22A而曝光感光性記錄介質40的曝光面40A。
依據構成圖像曝光裝置10之圖像顯示裝置20、吸收層60、準直部50及感光性記錄介質40的特性值（折射率、吸收率等），能夠容易求出平行光22A與雜散光22B的光量之比。
吸收層60的透光率小為較佳，吸收層60的透光率為50%以下，40%以下為較佳，30%以下為較佳，20%以下為更佳，10%以下為進一步較佳。
吸收層60的透光率為0.001%以上，0.01%以上為較佳，0.1%以上為更佳，0.5%以上為進一步較佳。
在透射率過大之情況下，雜散光的影響大，難以抑制畫質的降低。另一方面，若透射率過小，則存在曝光時間超過實際長度之憂患。
其次，關於使用了圖像曝光裝置10之圖像曝光方法進行說明。圖2係表示本發明的曝光方法之流程圖。首先，準備圖像顯示裝置20（步驟S11）。其次，準備感光性記錄介質支撐部70，其將記錄圖像顯示裝置20的圖像之感光性記錄介質40支撐為使感光性記錄介質40的曝光面40A對向圖像顯示裝置20（步驟S12）。關於步驟S11的圖像顯示裝置20的準備和步驟S12的感光性記錄介質支撐部70的準備的順序，任一者可在先。
其次，將來自圖像顯示裝置20的光曝光於感光性記錄介質40的曝光面40A上（步驟S13）。步驟S13中，經由配置於圖像顯示裝置20與感光性記錄介質支撐部70之間之、將來自像素的光設為平行光之準直部50和來自像素的光的透光率為50%以下之吸收層60，將來自圖像顯示裝置20的光曝光於感光性記錄介質40上。
關於吸收層60吸收使用於曝光之像素的整個波長區域並使其透射之情況進行了說明。但並不限定於此，吸收層60能夠從其他波長區域吸收特定的波長區域，並能夠減小特定的波長區域的透射率。
例如在圖像顯示裝置20的發光光譜與感光性記錄介質40的感光光譜之間存在差異之情況下，以校正差異之方式，亦能夠依據波長改變透射率。又，在準直部50等光學構件中透光率依據波長而不同之情況下，亦能夠校正差異。
例如在用R（Red：紅色）、G（Green：綠色）及B（Blue：藍色）3種波長進行曝光之情況下，且在所利用之準直部50的B的透射率為50%、G和R的透射率分別為25%之情況下，吸收層60的B的透射率成為10%、G和B的透射率分別成為20%，該條件下，R、G、B所有波長的總透射率成為5%。
其次，關於本發明的較佳實施形態進行說明。以下實施形態中，關於代表性圖像曝光裝置的構成進行說明。該等實施形態僅用於說明例示目的，並非係意味著限定本說明書中記載的圖像曝光裝置者。
＜第1實施形態＞ 圖3係第1實施形態之圖像曝光裝置100的分解立體圖，圖4係第1實施形態之圖像曝光裝置100的剖視圖。
如圖3、圖4所示，第1實施形態的圖像曝光裝置100具備圖像顯示裝置110。如圖3所示，圖像顯示裝置110為二維形狀。二維形狀意味著在X-Y方向上延伸之狀態。第1實施形態中，圖像顯示裝置110在X-Y方向上延伸。又，圖像顯示裝置110的複數個像素亦排列成二維形狀。
作為二維形狀的圖像顯示裝置110，例如能夠應用以智能手機及平板電腦為代表之便攜終端。圖像顯示裝置110若能夠顯示圖像，則在圖像顯示方式上沒有限定，能夠應用LCD方式、OLED方式等構造。圖像顯示裝置去除表面玻璃為較佳。
LCD方式的情況下，圖像顯示裝置110例如具備作為光源發揮功能之背光單元及具備用於顯示圖像的濾色器之複數個像素。為了保護複數個像素，圖像顯示裝置110具備框體及表面玻璃等為較佳。
如圖3、圖4所示，圖像曝光裝置100具備構成吸收層之ND濾鏡120。構成吸收層之ND濾鏡120設置於圖像顯示裝置110的圖像顯示面側。作為ND濾鏡120，能夠使用FUJIFILM Finechemicals Co.,Ltd.製造的照片曝光用光量調整用濾鏡。能夠使用由KenkoTokina Corporation.、Kodak公司及SIGMAKOKI Co.,LTD.等出售之ND濾鏡。
為了得到50%以上的透射率，使用具有0.3以上的光學濃度（OD）之ND濾鏡120為較佳。ND濾鏡120例如具有90 μm±10 μm的厚度。ND濾鏡120的厚度並不限定於該範圍。ND濾鏡120覆蓋圖像顯示裝置110的圖像顯示面的整個區域為較佳。
如圖3、圖4所示，圖像曝光裝置100中，作為準直部而具備光纖板130。光纖板130將入射到光纖之光進行全反射並傳輸。光纖板130的光纖的間距為圖像顯示裝置110的像素間距以下為較佳。
光纖板130覆蓋圖像顯示裝置110的圖像顯示面的整個區域為較佳。
如圖3、圖4所示，圖像曝光裝置100具備膠片盒140，該膠片盒140由構成感光性記錄介質之即顯膠片142和收納即顯膠片142之殼體144構成。並具備用於支撐膠片盒140的感光性記錄介質支撐部亦即框體148。框體148能夠裝卸自如地支撐膠片盒140。
殼體144能夠收納複數個即顯膠片142。如圖4所示，在殼體144及框體148中，在對向圖像顯示裝置110之一側形成有開口部146。
即顯膠片142具有矩形卡形狀。在即顯膠片142中，背面側構成為曝光面142A，正面側構成為觀察面142B。曝光面142A係藉由基於平行光之曝光而記錄圖像之面，觀察面142B係觀察被記錄之圖像之面。
在即顯膠片142的曝光面142A上具有曝光部和夾持曝光部之囊部（Pod）和捕獲部（未圖示）。囊部中內置有內含顯影處理液之顯影處理液囊。捕獲部中內置有吸收劑。
即顯膠片142在曝光之後，藉由使囊部的顯影處理液向曝光部擴展而被實施顯影處理。藉由使即顯膠片142在對輥（未圖示）之間通過，囊部的顯影處理液從囊部被擠出並向曝光部擴展。擴展處理時，剩餘之顯影處理液藉由捕獲部而被捕獲。
第1實施形態中，圖像顯示裝置110具有在X-Y方向上延伸之排列成二維形狀之像素。圖像顯示裝置110的圖像顯示面與ND濾鏡120、光纖板130及即顯膠片142的二維形狀的曝光面的大小大致相同。從而，能夠對來自圖像顯示裝置110的圖像同時曝光即顯膠片142的曝光面的二維形狀的所有區域。
使慾曝光之圖像顯示於圖像顯示裝置110。來自圖像顯示裝置110的像素的光穿過ND濾鏡120及光纖板130並成為平行光。該平行光到達即顯膠片142的曝光面142A，能夠同時曝光即顯膠片142。作為同時曝光曝光面的二維形狀的所有區域之態樣，例如可以係如下情況，亦即，將像素排列成一維形狀之圖像顯示裝置排列複數個而設為二維形狀，並同時進行曝光。
另一方面，ND濾鏡120大幅減少到達曝光面142A的即顯膠片142之雜散光。曝光之後，對即顯膠片142進行顯影處理。依據上述原理，能夠容易理解如下情況：在即顯膠片142上形成幾乎沒有圖像模糊之圖像，並抑制畫質的降低。
另外，藉由控制圖像顯示裝置110顯示圖像之時間，圖像顯示裝置110能夠具有快門機構。又，在圖像顯示裝置110與即顯膠片142之間亦能夠設置快門機構。
在圖像顯示裝置110係便攜終端之情況下，圖像顯示裝置110相對於圖像曝光裝置100裝卸自如為較佳。裝卸自如意味著能夠安裝及拆卸。例如圖像顯示裝置110的使用者藉由圖像顯示裝置110而獲取圖像。作為圖像曝光裝置100的一部分構成而安裝圖像顯示裝置110。藉由圖像顯示裝置110的圖像而曝光即顯膠片142。曝光之後，從圖像曝光裝置100取出圖像顯示裝置110，並能夠藉由圖像顯示裝置110而獲取新的圖像。
＜第2實施形態＞ 參閱圖5，關於第2實施形態進行說明。另外，對於發揮與上述第1實施形態相同作用之部分標註相同的符號，藉此，略該部分的詳細說明，主要對與其他實施形態不同之方面進行說明。
如圖5所示，圖像曝光裝置100具備圖像顯示裝置110、ND濾鏡120、光纖板130、由收納複數個即顯膠片（未圖示）之殼體144構成片盒140。
與第1實施形態不同，第2實施形態的圖像顯示裝置110為一維形狀。一維意味著在X-Y方向的一個方向延伸之狀態。如圖5所示，圖像顯示裝置110在X方向上延伸。圖像顯示裝置110具有排列成一維形狀之像素。
圖像顯示裝置110的長度與即顯膠片的X方向大致相同。另一方面，圖像顯示裝置110為一維，因此圖像顯示裝置110的Y方向的長度比即顯膠片的Y方向的長度短。圖像顯示裝置110小於即顯膠片的曝光面。
第2實施形態中，為了曝光即顯膠片，圖像顯示裝置110沿相對於像素的排列方向亦即X方向為直方向之Y方向被掃描。
如圖5所示，圖像曝光裝置100具備用於掃描圖像顯示裝置110的掃描部200。掃描部200具備支撐圖像顯示裝置110的兩端之支撐部210、支撐膠片盒140之支撐台220、內置於支撐台220中之驅動部（未圖示）。支撐台220具備軌道250，驅動部能夠沿軌道250在Y方向上掃描支撐部210。
在掃描部200在垂直方向上掃描圖像顯示裝置110之同時，圖像顯示裝置110能夠依次曝光即顯膠片。為了使圖像顯示裝置110的圖像顯示和掃描部200的驅動同步，具備未圖示的控制部為較佳。
來自圖像顯示裝置110的像素的光穿過ND濾鏡120及光纖板130並成為平行光。該平行光能夠到達即顯膠片142的曝光面142A，並依次曝光即顯膠片142。
ND濾鏡120大幅減少到達即顯膠片142的曝光面142A之雜散光。曝光之後，對即顯膠片142進行顯影處理。依據上述原理能夠容易理解如下情況：在即顯膠片142上形成幾乎沒有圖像模糊之圖像，並抑制畫質的降低。
圖6係表示第2實施形態的圖像曝光裝置100的變形例。變形例的圖像曝光裝置100具備圖像顯示裝置110、ND濾鏡120、光纖板130及框體148，該框體148裝卸自如地支撐由收納即顯膠片142之殼體144構成之膠片盒140。
變形例的圖像曝光裝置100中，ND濾鏡120和光纖板130由與圖像顯示裝置110的像素的排列方向同樣地在X方向上延伸之一維形狀構成。
在掃描部200相對於圖像顯示裝置110的像素的排列方向沿垂直方向掃描圖像顯示裝置110、ND濾鏡120及光纖板130之同時，圖像顯示裝置110能夠依次曝光即顯膠片142。
來自圖像顯示裝置110的像素的光穿過ND濾鏡120及光纖板130並成為平行光。該平行光能夠到達即顯膠片142，並依次曝光即顯膠片142的曝光面142A。
ND濾鏡120大幅減少到達即顯膠片142的曝光面142A之雜散光。曝光之後，對即顯膠片142進行顯影處理。依據上述原理能夠容易理解如下情況：在即顯膠片142上形成幾乎沒有圖像模糊之圖像，並抑制畫質的降低。
對於掃描圖像顯示裝置110之同時進行曝光之情況進行了說明，但若掃描圖像顯示裝置110和即顯膠片142能夠相對進行掃描，則可以掃描即顯膠片之同時進行曝光。亦即，只要掃描圖像顯示裝置110及即顯膠片142中的至少一方即可。
＜第3實施形態＞ 參閱圖7，關於第3實施形態進行說明。另外，對於發揮與上述第1實施形態及第2實施形態向的作用之部分標註相同的符號，藉此省略該部分的詳細說明，主要對與其他實施形態的不同點進行說明。
如圖7所示，圖像曝光裝置100具備圖像顯示裝置110、ND濾鏡120、光纖板130、框體148及掃描部200，前述框體148裝卸自如地支撐由收納複數個即顯膠片（未圖示）之殼體144構成之膠片盒140。
與第1實施形態不同，第3實施形態的圖像顯示裝置110為二維形狀。又，圖像顯示裝置110具有像素，該像素在面積比感光性記錄介質亦即即顯膠片的曝光面小的區域上排列成二維形狀。複數個像素例如以行列狀排列成二維形狀為較佳。
為了曝光即顯膠片，與第2實施形態同樣地，第3實施形態具備掃描部200。另一方面，與第2實施形態不同，第3實施形態的掃描部200不僅在Y方向上掃描圖像顯示裝置110，而且亦能夠在X方向上進行掃描。
例如在以行列狀排列成二維形狀之像素中，在將行方方向設為X方向之情況下，使掃描部沿行方向（X方向）和相對於行方向（X方向）垂直之方向（Y方向）該兩個方向掃描為較佳。
從而，掃描部200具備滾珠螺桿230和具備與滾珠螺桿230卡合之螺母之移動部240。藉由滾珠螺桿230的旋轉運動，使移動部240能夠在X方向移動。移動部240具有用於保持圖像顯示裝置110的保持部（未圖示）為較佳。
在掃描部200在X方向和Y方向上掃描圖像顯示裝置110之同時，圖像顯示裝置110能夠依次曝光即顯膠片。為了使圖像顯示裝置110的圖像顯示和掃描部200的驅動同步，具備未圖示的控制部為較佳。
第3實施形態中，在對具有比圖像顯示裝置110大的曝光面之感光性記錄介質進行曝光之情況下，能夠有效地進行應用。
來自圖像顯示裝置110的像素的光穿過ND濾鏡120及光纖板130並成為平行光。該平行光能夠到達即顯膠片142，並依次曝光即顯膠片142。
ND濾鏡120大幅減少到達即顯膠片142之雜散光。曝光之後，對即顯膠片142進行顯影處理。依據上述原理能夠容易理解如下情況：在即顯膠片142上形成幾乎沒有圖像模糊之圖像，並抑制畫質的降低。
圖8表示第3實施形態的圖像曝光裝置100的變形例。變形例的圖像曝光裝置100具備圖像顯示裝置110、ND濾鏡120、光纖板130、框體148及掃描部200，前述框體148裝卸自如地支撐由收納即顯膠片142之殼體144構成之膠片盒140。
變形例的圖像曝光裝置100中，與圖像顯示裝置110同樣地，ND濾鏡120和光纖板130為比感光性記錄介質亦即即顯膠片142小的二維形狀。
在掃描部200在X方向和Y方向上掃描圖像顯示裝置110、ND濾鏡120及光纖板130之同時，圖像顯示裝置110能夠依次曝光即顯膠片142。為了使圖像顯示裝置110的圖像顯示和掃描部200的驅動同步，具備未圖示的控制部為較佳。
來自圖像顯示裝置110的像素的光穿過ND濾鏡120及光纖板130並成為平行光。該平行光能夠到達即顯膠片142的曝光面142A，並依次曝光即顯膠片142。
ND濾鏡120大幅減少到達即顯膠片142的曝光面142A之雜散光。曝光之後，對即顯膠片142進行顯影處理。依據上述原理容易理解如下情況：在即顯膠片142上形成幾乎沒有圖像模糊之圖像，並抑制畫質的降低。
對於在X方向和Y方向上掃描圖像顯示裝置110之同時進行曝光之情況進行了說明，但若圖像顯示裝置110和即顯膠片142能夠相對進行掃描，則可以在X方向和Y方向上掃描即顯膠片之同時進行曝光。亦即，只要沿X方向和Y方向該兩個方向掃描圖像顯示裝置110及即顯膠片142中的至少一方即可。
第2實施形態和第3實施形態中，圖像顯示裝置小於感光性記錄介質。在基於來自圖像顯示裝置的像素的光之曝光範圍內，相鄰之曝光範圍可以一部分重疊。在曝光範圍的一部分不重疊之情況下，存在在感光性記錄介質上產生未曝光區域之憂患。避免由未曝光區域引起之在感光性記錄介質中未形成圖像之狀態為較佳。
10、100‧‧‧圖像曝光裝置
20、110‧‧‧圖像顯示裝置
20out、50out、60out‧‧‧出射面
21‧‧‧像素
22‧‧‧光
22A‧‧‧平行光
22B‧‧‧雜散光
23‧‧‧圖像顯示面
40‧‧‧感光性記錄介質
40A、142A‧‧‧曝光面
40in、50in、60in‧‧‧入射面
50‧‧‧準直部
60‧‧‧吸收層
70‧‧‧感光性記錄介質支撐部
120‧‧‧ND濾鏡
130‧‧‧光纖板
140‧‧‧膠片盒
142‧‧‧即顯膠片
142B‧‧‧觀察面
144‧‧‧殼體
146‧‧‧開口部
148‧‧‧框體
200‧‧‧掃描部
210‧‧‧支撐部
220‧‧‧支撐台
230‧‧‧滾珠螺桿
240‧‧‧移動部
250‧‧‧軌道
A1、A2、A3‧‧‧空氣層
S11、S12、S13‧‧‧步驟
圖1係對本發明的原理進行說明之圖。 圖2係表示本發明的曝光方法之流程圖。 圖3係第1實施形態的圖像曝光裝置的分解立體圖。 圖4係第1實施形態的圖像曝光裝置的剖視圖。 圖5係第2實施形態的圖像曝光裝置的立體圖。 圖6係第2實施形態的圖像曝光裝置的變形例的立體圖。 圖7係第3實施形態的圖像曝光裝置的立體圖。 圖8係第3實施形態的圖像曝光裝置的變形例的立體圖。

Claims (12)

  1. 一種圖像曝光裝置，具備： 圖像顯示裝置，具有像素； 感光性記錄介質支撐部，將記錄該圖像顯示裝置的圖像之感光性記錄介質支撐為使該感光性記錄介質的曝光面對向該圖像顯示裝置； 準直部，設置於該圖像顯示裝置與該感光性記錄介質支撐部之間，並將來自該像素的光設為平行光；及 吸收層，設置於該圖像顯示裝置與該感光性記錄介質支撐部之間，來自該像素的光的透光率為50%以下。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之圖像曝光裝置，其中 該吸收層係中性密度濾鏡。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之圖像曝光裝置，其中 該準直部係選自狹縫、光纖板、毛細板及積層3層以上具有複數個開口之透射構件而成之光控制部中之至少1種。
  4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之圖像曝光裝置，其中 該吸收層的透光率為20%以下。
  5. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之圖像曝光裝置，其中 該吸收層的透光率為0.001%以上。
  6. 如申請專利範圍第1項至第5項中任一項所述之圖像曝光裝置，其中 在將從該圖像顯示裝置直接到達被該感光性記錄介質支撐部支撐之該感光性記錄介質的該曝光面的位置之光量設為A，將從該圖像顯示裝置間接到達該感光性記錄介質的該曝光面的位置之光量設為B時，B/A為1/10000以下。
  7. 如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述之圖像曝光裝置，其中 該圖像顯示裝置具有排列成二維形狀之像素， 將該感光性記錄介質的該曝光面的二維形狀的所有區域同時進行曝光。
  8. 如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述之圖像曝光裝置，其中 該圖像顯示裝置具有排列成一維形狀之該像素， 並且該圖像曝光裝置並具備掃描部，該掃描部沿相對於該圖像顯示裝置的該像素的排列方向垂直之方向，對該圖像顯示裝置及被該感光性記錄介質支撐部支撐之該感光性記錄介質中的至少一方進行掃描。
  9. 如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述之圖像曝光裝置，其中 該圖像顯示裝置具有像素，該像素在面積小於該感光性記錄介質的該曝光面之區域上排列成二維形狀， 並且該圖像曝光裝置並具備掃描部，該掃描部沿該圖像顯示裝置的該像素的排列方向和相對於該像素的排列方向垂直之方向的兩個方向，對該圖像顯示裝置及被該感光性記錄介質支撐部支撐之該感光性記錄介質中的至少一方進行掃描。
  10. 如申請專利範圍第8項或第9項所述之圖像曝光裝置，其中 在基於來自該像素的光之曝光範圍內，相鄰之該曝光範圍的一部分重疊。
  11. 如申請專利範圍第1項至第10項中任一項所述之圖像曝光裝置，其中 該圖像顯示裝置裝卸自如。
  12. 一種圖像曝光方法，包括： 準備具有像素之圖像顯示裝置之步驟； 準備感光性記錄介質支撐部之步驟，該感光性記錄介質支撐部將記錄該圖像顯示裝置的圖像之感光性記錄介質支撐為使該感光性記錄介質的曝光面對向該圖像顯示裝置；及 經由配置於該圖像顯示裝置與該感光性記錄介質支撐部之間之準直部和吸收層，將來自該圖像顯示裝置的光曝光於該感光性記錄介質之步驟，該準直部將來自該像素之光設為平行光，該吸收層中來自該像素的光的透光率為50%以下。
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