TW201921157A - 曝光用照明裝置、曝光裝置及曝光方法 - Google Patents

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榎本芳幸
川島洋徳
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日商Ｖ科技股份有限公司
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Abstract

積分器部(90)具備2片複眼透鏡(91、92)，複眼透鏡間隔調整機構(95)變更2片複眼透鏡(91、92)之光軸方向之間隔(d)。2片複眼透鏡(91、92)之光軸方向之間隔(d)係根據藉由鏡面彎曲機構(70)進行之平面鏡(68)之反射面之形狀變更而變更，修正由鏡面彎曲引起之曝光面處之平均照度值之變化。本發明提供一種能夠藉由修正由鏡面彎曲引起之曝光面處之平均照度值之變化而抑制產距時間之差異的曝光用照明裝置、曝光裝置及曝光方法。

Description

曝光用照明裝置、曝光裝置及曝光方法
本發明係關於一種曝光用照明裝置、曝光裝置及曝光方法，更詳細而言，係關於一種能夠修正由為了進行曝光圖案修正而進行之鏡面彎曲引起之平均照度之變化的曝光用照明裝置、曝光裝置及曝光方法。
於先前之曝光裝置中，創作出如下之曝光裝置，即，將修正反射鏡之曲率之曲率修正機構設置於照明裝置，藉由使反射鏡彎曲而使反射鏡之方位角變化，修正曝光圖案之形狀，而獲得高精度之曝光結果(例如參照專利文獻1)。
又，於專利文獻2中，記載有如下照明光學系統及曝光裝置，其具備：第1光學積分器，其具有於與照明光學系統之光軸交叉之面內排列之複數個第1單位波前區分面；第2光學積分器，其具有個別對應於複數個第1單位波前區分面之第2單位波前區分面；及移動機構，其為了使第1及第2光學積分器之間之間隔變更，而使第2單位波前區分面之分割積分器於光軸方向移動；獨立地調整被照射面處之光強度分佈。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2012-155086號公報 專利文獻2：日本專利第5453804號公報
[發明所欲解決之問題]
然，曝光圖案之修正量依存於鏡面之彎曲量，修正形狀依存於鏡面形狀，因而若藉由曲率修正機構(鏡面彎曲機構)修正反射鏡之曲率，則於反射鏡之反射面朝外側(凸面狀)彎曲時，反射光擴散而使照度降低(變暗)，於反射鏡之反射面朝內側(凹面狀)彎曲時，反射光收斂而使照度提高(變亮)，曝光面處之照度分佈或平均照度值發生變化。平均照度值之變化會影響曝光量，進而會影響曝光時間甚至產距時間。另一方面，根據曝光量變更曝光時間或產距時間之控制非常繁雜。
於專利文獻2之照明光學系統及曝光裝置中，係根據基於來自各光瞳強度分佈測量裝置之檢測信號而算出之測量結果、即對應於遮罩之照明區域內之各點之各光瞳強度分佈，使分割積分器沿Y軸方向分別移動，以使各光瞳強度分佈變成所需之分佈之方式進行調整，因而需要複雜之機構及控制裝置，照明裝置之成本增加。
本發明係鑒於上述問題而完成者，其目的在於提供一種能夠藉由修正由鏡面彎曲引起之曝光面處之平均照度值之變化而抑制產距時間之差異之曝光用照明裝置、曝光裝置及曝光方法。 [解決問題之技術手段]
本發明之上述目的係藉由下述構成而達成。 (1)一種曝光用照明裝置，其特徵在於其係具備： 光源； 積分器部，其具備分別具有矩陣狀地排列之複數個透鏡元件之2片複眼透鏡，使來自上述光源之光之照度分佈均勻化；及 反射鏡，其具備可變更反射面之形狀之鏡面彎曲機構，反射自上述積分器部出射之上述光；且 該曝光用照明裝置係用以介隔形成有曝光圖案之遮罩將來自上述光源之曝光之光照射至工件上，而將上述曝光圖案曝光轉印至上述工件者；且 該曝光用照明裝置具備可變更上述2片複眼透鏡之光軸方向之間隔之複眼透鏡間隔調整機構， 上述2片複眼透鏡之光軸方向之間隔係根據藉由上述鏡面彎曲機構進行之上述反射鏡之反射面之形狀變更而變更。
(2)如(1)之曝光用照明裝置，其具備反射自上述積分器部出射之上述光之複數個反射鏡，且 上述鏡面彎曲機構係設置於上述複數個反射鏡中之最後反射上述光之平面鏡。 (3)如(1)之曝光用照明裝置，其具備表示藉由上述鏡面彎曲機構達成之上述反射鏡之反射面之形狀與上述2片複眼透鏡之上述光軸方向之間隔之關係之表格，且 上述2片複眼透鏡之光軸方向之間隔係使用該表格並根據藉由上述鏡面彎曲機構進行之上述反射鏡之反射面之形狀變更而變更。 (4)如(1)之曝光用照明裝置，其中上述2片複眼透鏡之光軸方向之間隔係根據藉由上述鏡面彎曲機構進行之上述反射鏡之反射面之形狀變更前及形狀變形後之於上述曝光面獲取之平均照度值而變更。 (5)一種曝光裝置，其特徵在於具備： 遮罩支持部，其支持遮罩； 工件支持部，其支持工件；及 如上述(1)至(4)中任一項之曝光用照明裝置； 將來自上述光源之曝光之光介隔上述遮罩照射至上述工件，而將上述遮罩之曝光圖案曝光轉印至上述工件。 (6)一種曝光方法，其特徵在於：使用如(5)之曝光裝置，將來自上述光源之曝光之光介隔上述遮罩照射至上述工件，而將上述遮罩之曝光圖案曝光轉印至上述工件。 [發明之效果]
根據本發明之曝光用照明裝置，積分器部具備2片複眼透鏡，複眼透鏡間隔調整機構變更2片複眼透鏡之光軸方向之間隔。2片複眼透鏡之光軸方向之間隔係根據藉由鏡面彎曲機構進行之反射鏡之反射面之形狀變更而變更，因而能夠修正由鏡面彎曲引起之曝光面處之平均照度值之變化。藉此，能夠抑制曝光時間或產距時間之差異。
又，根據本發明之曝光裝置及曝光方法，具備：遮罩支持部，其支持遮罩；工件支持部，其支持工件；及曝光用照明裝置，其具備能夠根據藉由鏡面彎曲機構進行之反射鏡之反射面之形狀變更而變更2片複眼透鏡之光軸方向之間隔的複眼透鏡間隔調整機構，因而藉由修正由鏡面彎曲引起之曝光面處之平均照度值之變化，能夠抑制曝光時間或產距時間之差異。
以下，基於圖式對本發明之曝光裝置之一實施形態進行詳細說明。如圖1所示，接近曝光裝置PE使用較作為被曝光材之工件W小之遮罩M，利用遮罩平台(遮罩支持部)1保持遮罩M，並且利用工件平台(工件支持部)2保持工件W。而且，於使遮罩M與工件W接近而以特定之曝光間隙對向配置之狀態下，自曝光用照明裝置3向遮罩M照射圖案曝光用之光，藉此將遮罩M之圖案曝光轉印至工件W上。又，使工件平台2相對於遮罩M沿X軸方向及Y軸方向之雙軸分步移動，於每一步進行曝光轉印。
為了使工件平台2沿X軸方向分步移動，於裝置基座4上設置有使X軸進給台5a沿X軸方向分步移動之X軸平台進給機構5。於X軸平台進給機構5之X軸進給台5a上，為了使工件平台2沿Y軸方向分步移動，設置有使Y軸進給台6a沿Y軸方向分步移動之Y軸平台進給機構6。於Y軸平台進給機構6之Y軸進給台6a上設置有工件平台2。於工件平台2之上表面，工件W係以利用工件吸盤等真空吸引之狀態而保持。又，於工件平台2之側部配設有用以測定遮罩M之下表面高度之基板側移位感測器15。因此，基板側移位感測器15可與工件平台2一起沿X、Y軸方向移動。
於裝置基座4上，複數個(於圖所示之實施形態中為4條)X軸線性導軌之導軌51沿X軸方向配置，於各個導軌51橫架有固定於X軸進給台5a之下表面之滑塊52。藉此，X軸進給台5a由X軸平台進給機構5之第1線性馬達20驅動，可沿導軌51於X軸方向往復移動。又，於X軸進給台5a上，複數個Y軸線性導軌之導軌53沿Y軸方向配置，於各個導軌53橫架有固定於Y軸進給台6a之下表面之滑塊54。藉此，Y軸進給台6a由Y軸平台進給機構6之第2線性馬達21驅動，可沿導軌53於Y軸方向往復移動。
於Y軸平台進給機構6與工件平台2之間，為了使工件平台2於上下方向移動，設置有：上下粗動裝置7，其相對定位分辨率較粗，但移動行程及移動速度較大；及上下微動裝置8，其與上下粗動裝置7相比，可進行以高分辨率之定位，使工件平台2於上下微動，將遮罩M與工件W之對向面間之間隙微調整為特定量。
上下粗動裝置7藉由設置於下述微動平台6b之適當之驅動機構使工件平台2相對於微動平台6b上下移動。固定於工件平台2之底面之4個部位之平台粗動軸14扣合於固定於微動平台6b之直動軸承14a，相對於微動平台6b於上下方向引導。再者，上下粗動裝置7較理想為雖然分辨率較低但重複定位精度較高。
上下微動裝置8具備：固定台9，其固定於Y軸進給台6a；及線性導軌之導軌10，其以使其內端側朝斜下方傾斜之狀態安裝於固定台9；於橫架於該導軌10之滑塊11沿導軌10往復移動之滑動體12連結有滾珠螺桿之螺母(未圖示)，並且滑動體12之上端面相對於固定於微動平台6b之凸緣12a沿水平方向滑動自如地接觸。
而且，若藉由安裝於固定台9之馬達17旋轉驅動滾珠螺桿之螺桿，則螺母、滑塊11及滑動體12一體地沿導軌10斜向移動，藉此，凸緣12a上下微動。 再者，上下微動裝置8亦可藉由線性馬達驅動滑動體12，而非藉由馬達17及滾珠螺桿驅動滑動體12。
該上下微動裝置8於Z軸進給台6a之Y軸方向之一端側(圖1之左端側)設置有1台，於另一端側設置有2台，合計設置有3台，分別獨立地被驅動控制。藉此，上下微動裝置8基於利用間隙感測器27之於複數個部位之遮罩M與工件W之間隙量之測量結果，獨立地微調整3個部位之凸緣12a之高度，從而微調整工件平台2之高度及斜度。 再者，於能夠藉由上下微動裝置8充分地調整工件平台2之高度之情形時，亦可將上下粗動裝置7省略。
又，於Y軸進給台6a上設置有與檢測工件平台2之Y方向之位置之Y軸雷射干涉儀18相對向之棒鏡19、及與檢測工件平台2之X軸方向之位置之X軸雷射干涉儀相對向之棒鏡(均未圖示)。與Y軸雷射干涉儀18相對向之棒鏡19於Y軸進給台6a之一側沿X軸方向配置，與X軸雷射干涉儀相對向之棒鏡於Y軸進給台6a之一端側沿Y軸方向配置。
Y軸雷射干涉儀18及X軸雷射干涉儀分別以一直與所對應之棒鏡相對向之方式配置而支持於裝置基座4。再者，Y軸雷射干涉儀18於X軸方向上相隔設置有2台。藉由2台Y軸雷射干涉儀18，經由棒鏡19檢測Y軸進給台6a、甚至工件平台2之Y軸方向之位置及平擺誤差。又，藉由X軸雷射干涉儀，經由對向之棒鏡檢測X軸進給台5a、甚至工件平台2之X軸方向之位置。
遮罩平台1具備：遮罩基框24，其包含大致長方形狀之框體；及遮罩框架25，其經由間隙插入至該遮罩基框24之中央部開口，可於X、Y、θ方向(X，Y平面內)移動地得到支持；遮罩基框24由自裝置基座4突設之支柱4a保持於工件平台2之上方之特定位置。
於遮罩框架25之中央部開口之下表面設置有框狀之遮罩保持器26。即，於遮罩框架25之下表面設置有連接於未圖示之真空式吸附裝置之複數個遮罩保持器吸附槽，遮罩保持器26經由複數個遮罩保持器吸附槽吸附保持於遮罩框架25。
於遮罩保持器26之下表面開設有用以吸附遮罩M之未描畫有遮罩圖案之周緣部之複數個遮罩吸附槽(未圖示)，遮罩M經由遮罩吸附槽並藉由未圖示之真空式吸附裝置裝卸自如地保持於遮罩保持器26之下表面。
如圖2所示，曝光用照明裝置3具備：燈單元60，其作為紫外線照射用光源；平面鏡63、64，其等用以改變光路EL之朝向；曝光控制用快門單元65，其開閉控制光路EL；積分器部90，其配置於曝光控制用快門單元65之下游側，均勻出射來自燈單元60之光；準直鏡67，其將自積分器部90出射之光作為平行光而照射；及平面鏡68，其向遮罩M照射該平行光。
燈單元60係藉由將對應地具備複數個高壓水銀燈及反射器之單元零件矩陣狀地配置而構成。再者，作為光源，可為單一之高壓水銀燈及反射器之構成，或亦可由LED構成。
積分器部90具備分別具有矩陣狀地排列之複數個透鏡元件93A、93B之2片複眼透鏡91、92，使來自燈單元60之光儘可能於照射區域中變成均勻之照度分佈而出射。複眼透鏡91之透鏡元件93A與複眼透鏡92之透鏡元件93B為相同數量，透鏡元件93A與透鏡元件93B一一對應。即，相互對向之複眼透鏡91之透鏡元件93A與複眼透鏡92之透鏡元件93B構成積分器部90之1個單位透鏡。 再者，各複眼透鏡91、92較佳為以縱向上排列3個以上且15個以下，橫向上排列3個以上且15個以下之方式而配置。關於各複眼透鏡91、92，若增加眼之個數，則照度分佈提高，但照度變暗，另一方面，若減少眼之個數，則照度分佈降低，但照度變亮，故而眼之個數更佳設為10個×10個左右。
複眼透鏡91之各透鏡元件93A設為燈單元60側為凸之平凸透鏡，並且複眼透鏡92之各透鏡元件93B設為曝光面側為凸之平凸透鏡即可。即，複眼透鏡91、92較佳為一個面為複眼構造，另一個面為平面，且使複眼透鏡91、92之平面相對向而排列。
又，積分器部90具備用以變更複眼透鏡91、92之間隔d之複眼透鏡間隔調整機構95。複眼透鏡間隔調整機構95例如可由凸輪機構、齒條與小齒輪等任意之機構而構成，使複眼透鏡91、92中之任一者或兩者沿光軸相對移動而變更間隔d。
複眼透鏡間隔調整機構95根據來自控制下述平面鏡68之反射面之形狀變更之控制部80之指令而作動。即，複眼透鏡間隔調整機構95根據平面鏡68之反射面之形狀變更而變更複眼透鏡91、92之間隔d。
藉由變更複眼透鏡91、92之間隔d，使積分器部90之單位透鏡之焦距(即，一對透鏡元件93A、93B之組合焦距)f變化。當複眼透鏡91與複眼透鏡92之間隔d較短時，焦距f變短，藉此實現低NA(numerical aperture，數值孔徑)且大視野之照明。另一方面，當複眼透鏡91與複眼透鏡92之間隔d較長時，焦距f變長，藉此實現高NA且小視野之照明。
又，於曝光用照明裝置3中，亦可於積分器部90與曝光面之間配置DUV(深紫外線，deep ultraviolet)截止濾光鏡、偏光濾光鏡、帶通濾光鏡等。
如圖3所示，平面鏡68包含形成為前視為矩形狀之玻璃素材。平面鏡68由設置於平面鏡68之背面側之複數個鏡面彎曲機構70支持於保持框71。
各鏡面彎曲機構70具備：墊72，其利用接著劑固定於平面鏡68之背面；支持構件73，其一端固定於墊72；及致動器74，其驅動支持構件73。
於支持構件73，於相對於保持框71靠近墊72之位置，設置有作為容許±0.5 deg以上之彎曲之彎曲機構之球形接頭76，於相對於保持框71為相反側之另一端安裝有致動器74。
進而，於將曝光之光反射至遮罩側之對準標記(未圖示)之位置之平面鏡68之各位置之背面，安裝有複數個接觸式感測器77。
藉此，平面鏡68基於來自藉由信號線81連接於各致動器74之控制部80之指令(參照圖2)，一面藉由接觸式感測器77感測平面鏡68之變位量，一面驅動各鏡面彎曲機構70之致動器74，改變各支持構件73之長度，藉此變更平面鏡68之形狀，變更反射面之曲率，藉此能夠修正平面鏡68之方位角。
此時，因於各鏡面彎曲機構70設置有球形接頭76，故而能夠使支持部側之部分可三維地旋動，能夠使各墊72沿平面鏡68之表面傾斜。因此，防止各墊72與平面鏡68之接著剝脫，並且抑制移動量不同之各墊72間之平面鏡68之應力，即便於包含平均破壞應力值較小之玻璃素材之情形時，當局部地變更平面鏡68之形狀時，能夠不使平面鏡68破損，而使平面鏡68彎曲10 mm左右，能夠較大地變更曲率。
又，控制部80具備如下表格，即，當鏡面彎曲機構70變更平面鏡68之反射面之曲率時，根據各圖案，預先測定或模擬曝光區域內之複數個點(例如5點×5點)之照度值，求出平均照度值，且表示平面鏡68之反射面之形狀與平均照度值之關係。又，控制部80具備如下表格，即，預先測定或模擬變更複眼透鏡91、92之間隔d時之平均照度值，而建立複眼透鏡91、92之間隔d與平均照度值之關係。 又，亦可構成如下表格，即，根據上述關係，將藉由鏡面彎曲機構70達成之鏡面彎曲量(平面鏡68之反射面之形狀)與複眼透鏡91、92之間隔d建立關聯。
尤其是，於變更曝光面之照射區域之大小之圖案修正之情形時，能夠以使反射面整體變成相同曲率之凹面狀或凸面狀之方式進行變更，亦可準備將該情形時之平面鏡68之反射面之形狀(該情形時，為反射面之曲率)與複眼透鏡91、92之間隔d建立關聯而成之表格。
再者，於圖2所示之實施形態中，於配置於光路EL之最後之平面鏡68配設有鏡面彎曲機構70，但並不限定於平面鏡68，亦可將鏡面彎曲機構70配設於其他鏡。但是，若於配置於光路EL之最後之平面鏡68(最終之鏡)配設鏡面彎曲機構70，則鏡面彎曲量之計算、或建立鏡面彎曲量(平面鏡68之反射面之形狀)與平均照度值之關係、及複眼透鏡91、92之間隔d與平均照度值之關係之表格設計變得容易。
於以此方式構成之曝光裝置PE中，於曝光用照明裝置3中，若於曝光時對曝光控制用快門單元65進行打開控制，則自燈單元60照射之光經平面鏡63、64反射而入射至積分器部90之入射面。然後，自積分器部90之出射面發出之光藉由準直鏡67及平面鏡68改變其前進方向並且轉換成平行光。然後，該平行光相對於保持於遮罩平台1之遮罩M，進而相對於保持於工件平台2之工件W之表面大致垂直地作為圖案曝光用之光而照射，從而將遮罩M之圖案曝光轉印至工件W上。
此處，亦參照圖2，當為了修正對應於工件W之曝光過之圖案而曝光轉印至工件W上之遮罩M之圖案，自控制部80對平面鏡68之各致動器74傳達驅動信號時，各鏡面彎曲機構70之致動器74改變各支持構件73之長度，變更平面鏡68之反射面之形狀，修正平面鏡68之方位角。
此時，藉由平面鏡68之形狀變更，照射至遮罩M之曝光之光之照度亦變化。具體而言，若藉由致動器74自背面按壓平面鏡68，使平面鏡68之反射面變成凸面狀，則反射光擴散，平面鏡68之反射面與平面狀態(變更前)時相比，照射區域變大，曝光面處之平均照度值降低(變暗)。又，若藉由致動器74吸引平面鏡68之背面，使平面鏡68之反射面變成凹面狀，則反射光收斂，平面鏡68之反射面與平面狀態(變更前)時相比，照射區域變小，曝光面處之平均照度值提高(變亮)。
因曝光面處之平均照度值之變化會影響曝光時間，故而會呈現出產距時間之差異，因而於生產效率上欠佳。因此，為了將平均照度值修正為變更前之值(平面鏡68之反射面為平面時之值)，基於上述表格，藉由複眼透鏡間隔調整機構95變更複眼透鏡91、92之間隔d。具體而言，當平面鏡68之反射面變更成凸面狀時，擴大複眼透鏡91、92之間隔d，使積分器部90之單位透鏡之焦距f變長，而提高曝光面處之平均照度值。又，當平面鏡68之反射面變更成凹面狀時，縮小複眼透鏡91、92之間隔d，使積分器部90之單位透鏡之焦距f變短，而降低曝光面處之平均照度值。
藉此，無論平面鏡68之反射面之形狀變更為何，均能夠使平均照度值大致固定，能夠使曝光時間為固定，從而抑制產距時間之差異。
如以上所說明般，根據本實施形態之曝光用照明裝置3，積分器部90具備2片複眼透鏡91、92，複眼透鏡間隔調整機構95變更2片複眼透鏡91、92之光軸方向之間隔d。2片複眼透鏡91、92之光軸方向之間隔d根據藉由鏡面彎曲機構70進行之平面鏡68之反射面之形狀變更而變更，故而能夠修正由鏡面彎曲引起之曝光面處之平均照度值之變化。藉此，藉由例如以使曝光面處之平均照度值近似於變更平面鏡68之反射面之前之平均照度值(標準平均照度值)之方式進行修正，能夠使曝光時間大致固定，從而能夠抑制產距時間之差異。
又，具備反射自積分器部出射之光之複數個反射鏡67、68，鏡面彎曲機構70設置於複數個反射鏡67、68中之配置於光路EL之最後之平面鏡68，因而能夠容易地進行鏡面彎曲量之計算、或建立鏡面彎曲量與平均照度值之關係及複眼透鏡91、92之間隔d與平均照度值之關係之表格設計。
進而，具備如下表格，即，基於藉由鏡面彎曲機構70達成之平面鏡68之反射面之形狀與曝光面處之平均照度值之關係、及2片複眼透鏡91、92之光軸方向之間隔d與曝光面處之平均照度值之關係，表示藉由鏡面彎曲機構70達成之平面鏡68之反射面之形狀與2片複眼透鏡91、92之光軸方向之間隔d的關係。而且，2片複眼透鏡91、92之光軸方向之間隔d係使用該表格，根據藉由鏡面彎曲機構70進行之平面鏡68之反射面之形狀變更而變更，故而能夠不獲取實際之平均照度值，而使曝光面處之平均照度值大致固定。但是，於藉由上述方法調整2片複眼透鏡91、92之光軸方向之間隔d之情形時，亦可獲取曝光面處之平均照度值。
此處，說明於藉由鏡面彎曲機構70變更平面鏡68之反射面之形狀之情形時，以使曝光面處之平均照度值變得大致固定之方式，變更複眼透鏡91、92之間隔d而進行照度修正之模擬結果。將模擬結果示於表1。再者，此處，說明平面鏡68之反射面之形狀變更並非局部之變更，而是整體變更成相同之曲率之情況。又，表1中，表示可動之一個複眼透鏡91之座標，將於平面鏡79之反射面為平面之狀態下，複眼透鏡91、92之間隔d為特定值時之複眼透鏡91之座標設為0(mm)。
[表1]
如表1所示，平面鏡68之反射面為平面(標準狀態)，複眼透鏡91、92之間隔d為特定值(一個複眼透鏡91之座標為0(mm))時之平均照度值為54.7 mW/cm2 。此處，若將平面鏡68之反射面設為內彎曲(凹面狀)，則曝光面處之平均照度值提高，於複眼透鏡91、92之間隔d為特定值之情形時，平均照度值上升至57.4 mW/cm2 。因此，若將複眼透鏡91、92之間隔d自特定值縮小至2.6 mm，則平均照度值降低至54.6 mW/cm2 ，近似於平面鏡68之反射面為平面時之值。
同樣地，若將平面鏡68之反射面設為外彎曲(凸面狀)，則曝光面處之平均照度值降低，於複眼透鏡91、92之間隔d為特定值之情形時，平均照度值降低至52.1 mW/cm2 。因此，若將複眼透鏡91、92之間隔d自特定值擴大至2.5 mm，則平均照度值上升至54.6 mW/cm2 ，近似於平面鏡68之反射面為平面時之值。
進而，若將平面鏡68之反射面設為僅於縱向上外彎曲(凸面狀)，則曝光面處之平均照度值上升，於複眼透鏡91、92之間隔d為特定值之情形時，平均照度值上升至55.2 mW/cm2 。此處，若將複眼透鏡91、92之間隔d自特定值擴大至2 mm，則平均照度值降低至54.6 mW/cm2 ，近似於平面鏡68之反射面為平面時之值。 藉此，能夠藉由根據平面鏡68之反射面之形狀變更而調整複眼透鏡91、92之間隔d，從而修正伴隨平面鏡68之反射面之形狀變更之曝光面處之平均照度值之變化。
再者，本發明並不限定於上述實施形態及實施例，可適當進行變化、改良等。
於上述實施形態中，藉由表示藉由鏡面彎曲機構70達成之反射鏡之反射面之形狀與2片複眼透鏡91、92之光軸方向之間隔d之關係的表格，無需獲取實際之平均照度值，而根據反射鏡之反射面之形狀調整2片複眼透鏡91、92之光軸方向之間隔d。 但是，亦可於由未圖示之照度計獲取藉由鏡面彎曲機構70進行之反射鏡之反射面之形狀變更前與形狀變更後的實際之曝光面處之平均照度值之後，以使形狀變更後之曝光面處之平均照度值變成形狀變更前之曝光面處之平均照度值之方式，調整2片複眼透鏡91、92之光軸方向之間隔d。
本申請案係基於在2017年9月22日申請之日本專利申請2017-182803者，並將其內容援引至此以作為參照。
1‧‧‧遮罩平台
2‧‧‧工件平台
3‧‧‧曝光用照明裝置
4‧‧‧裝置基座
4a‧‧‧支柱
5‧‧‧X軸平台進給機構
5a‧‧‧X軸進給台
6‧‧‧Y軸平台進給機構
6a‧‧‧Y軸進給台
6b‧‧‧微動平台
7‧‧‧上下粗動裝置
8‧‧‧上下微動裝置
9‧‧‧固定台
10‧‧‧導軌
11‧‧‧滑塊
12‧‧‧滑動體
12a‧‧‧凸緣
14‧‧‧平台粗動軸
14a‧‧‧直動軸承
15‧‧‧基板側移位感測器
17‧‧‧馬達
18‧‧‧Y軸雷射干涉儀
19‧‧‧棒鏡
20‧‧‧第1線性馬達
21‧‧‧第2線性馬達
24‧‧‧遮罩基框
25‧‧‧遮罩框架
26‧‧‧遮罩保持器
27‧‧‧間隙感測器
51‧‧‧導軌
52‧‧‧滑塊
53‧‧‧導軌
54‧‧‧滑塊
60‧‧‧燈單元(光源)
63‧‧‧平面鏡
64‧‧‧平面鏡
65‧‧‧曝光控制用快門單元
67‧‧‧準直鏡(反射鏡)
68‧‧‧平面鏡(反射鏡)
70‧‧‧鏡面彎曲機構
71‧‧‧保持框
72‧‧‧墊
73‧‧‧支持構件
74‧‧‧致動器
76‧‧‧球形接頭
77‧‧‧接觸式感測器
80‧‧‧控制部
81‧‧‧信號線
90‧‧‧積分器部
91‧‧‧複眼透鏡
92‧‧‧複眼透鏡
93A‧‧‧透鏡元件
93B‧‧‧透鏡元件
95‧‧‧複眼透鏡間隔調整機構
d‧‧‧2片複眼透鏡之光軸方向之間隔
EL‧‧‧光路
M‧‧‧遮罩
PE‧‧‧曝光裝置
W‧‧‧工件
X‧‧‧X軸
Y‧‧‧Y軸
Z‧‧‧Z軸
圖1係應用本發明之曝光用照明裝置之曝光裝置之前視圖。 圖2係表示本發明之曝光用照明裝置之構成之模式圖。 圖3(a)係表示曝光用照明裝置之反射鏡支持構造之俯視圖，(b)係沿(a)之III-III線之剖視圖，(c)係沿(a)之III'-III'線之剖視圖。

Claims (6)

  1. 一種曝光用照明裝置，其特徵在於具備： 光源； 積分器部，其具備分別具有矩陣狀地排列之複數個透鏡元件之2片複眼透鏡，使來自上述光源之光之照度分佈均勻化；及 反射鏡，其具備可變更反射面之形狀之鏡面彎曲機構，反射自上述積分器部出射之上述光；且 該曝光用照明裝置係用以介隔形成有曝光圖案之遮罩將來自上述光源之曝光之光照射至工件上，而將上述曝光圖案曝光轉印至上述工件者；且 該曝光用照明裝置具備可變更上述2片複眼透鏡之光軸方向之間隔之複眼透鏡間隔調整機構； 上述2片複眼透鏡之光軸方向之間隔係根據藉由上述鏡面彎曲機構進行之上述反射鏡之反射面之形狀變更而變更。
  2. 如請求項1之曝光用照明裝置，其具備反射自上述積分器部出射之上述光之複數個反射鏡，且 上述鏡面彎曲機構係設置於上述複數個反射鏡中之配置於光路之最後之平面鏡。
  3. 如請求項1之曝光用照明裝置，其具備表示藉由上述鏡面彎曲機構達成之上述反射鏡之反射面之形狀與上述2片複眼透鏡之上述光軸方向之間隔之關係之表格，且 上述2片複眼透鏡之光軸方向之間隔係使用該表格並根據藉由上述鏡面彎曲機構進行之上述反射鏡之反射面之形狀變更而變更。
  4. 如請求項1之曝光用照明裝置，其中上述2片複眼透鏡之光軸方向之間隔係根據藉由上述鏡面彎曲機構進行之上述反射鏡之反射面之形狀變更前及形狀變形後之於上述曝光面獲取之平均照度值而變更。
  5. 一種曝光裝置，其特徵在於具備： 遮罩支持部，其支持遮罩； 工件支持部，其支持工件；及 如請求項1至4中任一項之曝光用照明裝置； 將來自上述光源之曝光之光介隔上述遮罩照射至上述工件，而將上述遮罩之曝光圖案曝光轉印至上述工件。
  6. 一種曝光方法，其特徵在於：使用如請求項5之曝光裝置，將來自上述光源之曝光之光介隔上述遮罩照射至上述工件，而將上述遮罩之曝光圖案曝光轉印至上述工件。
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