TW201905168A - 製備氮化物螢光體的方法 - Google Patents
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Abstract
本發明關於一種製備氮化物螢光體的方法。該方法包含提供一氮化物螢光體配方以及對該氮化物螢光體配方進行一熱等均壓燒結步驟。該氮化物螢光體配方包含一助熔劑以及一螢光體前驅物，其中，該助熔劑係一含鋇氮化物，且該螢光體前驅物係包含構成該氮化物螢光體之金屬元素的金屬氮化物。
Description
本發明係關於一種製備氮化物螢光體的方法，特別是關於一種使用含鋇氮化物作為助熔劑（flux），利用熱等均壓燒結法（hot isostatic pressing）製備氮化物螢光體的方法。
白光發光二極體（white light-emitting diodes；WLEDs）因具有放光效率高、體積小、穩定性佳、環保等優點，近年來已成為最主流之白光照明系統。目前學術界與產業界皆關注如何提高白光發光二極體之照明性能，使白光發光二極體能更廣泛運用於人類之生活中。
螢光體（phosphor）為發光二極體基礎材料之一，西元1996年日本日亞化學公司（Nichia Chemical）發展出一種白光發光二極體，其中係利用鈰摻雜之釔鋁石榴石螢光體（Y3
Al5
O12
:Ce3+
; YAG），此螢光體可受藍色光源（如藍光發光二極體）激發產生黃光，而藍色光源之藍光與所激發之黃光相混即可產生白光。此種白光發光二極體成本低，但演色性差，因此，後來陸續發展於其中添加紅色螢光體之技術，以改善演色性。
發光二極體已取代傳統常用之冷陰極螢光燈管作為顯示器之背光顯示光源，其可有效降低顯示器之功耗與熱量損失，並具有色域更寬廣且更環保之優點。背光顯示為目前顯示器常用之光源形式，其與前光顯示最大不同之處在於，背光顯示係將光源由設備側邊或背後放射，以增加於低光源環境中之照明度或提高電腦顯示器與液晶螢幕之光源亮度。於背光顯示之液晶顯示器中，光源係通過一偏振片（polarizer）將呈放射狀之光轉化成一致方向，使光子沿著朝向液晶分子層的特定方向振動。經過該偏振片的光接著依序經過液晶分子層、另一偏振片以及彩色濾光片，以於顯示器上呈現彩色畫面。然而，為了獲得較高的色純度，顯示器設備中會添加濾色片，使得發光二極體所發出的光僅部分波長的光可穿透濾色片，此將導致器件之功效降低。為此，目前業界均致力於發展具有窄放光光譜之螢光體。
常見之螢光體包括氧化物螢光體以及氮化物螢光體，其中氮化物螢光體因具有堅實之結構與更強之電子雲膨脹效應，可展現較好之熱穩定性與更紅移之放光光譜，因此越來越受到關注。於紅色放光波段間，(Ca,Sr)AlSiN3
:Eu2+
為最受矚目之氮化物螢光體，其提供可調之光譜，峰值介於約620 nm至約650 nm。然而，此氮化物螢光體放光光譜過寬，部分落於人眼靈敏度曲線之外，此將降低元件之效率。有鑑於此，2014年Wolfgang Schnick等人揭示一種具窄放光光譜之螢光體SrLiAl3
N4
:Eu2+
（SLA）（參照『Nature Materials, 2014, Vol. 13, p. 891-896』），其半高寬（full width at half maximum；FWHM）僅50 nm，放射峰值為650 nm，且熱穩定性佳。然而，該螢光體必須以射頻爐合成，使用氫氣與氮氣之混合氣氛與氫化物或氟化物為起始物，製程複雜且不易量產，且螢光體之放光效率不佳，仍有改進之空間。
有鑑於前述之技術問題，本發明提出一種製備氮化物螢光體之方法，該方法所製得之氮化物螢光體具有優異之放光效率、光衰與耐熱特性、以及量子效率等性質，因此可用於製備具高照明性能及具窄放光光譜的SrLiAl3
N4
:Eu2+
（SLA）螢光體。
如以下發明目的說明，本發明透過於合成氮化物螢光體之配方中加入含鋇氮化物作為助熔劑，並利用熱等均壓燒結法進行氮化物螢光體之製備，使得所製氮化物螢光體可具有上述優點。
本發明之一目的在於提供一種製備氮化物螢光體的方法，其係包含： 提供一氮化物螢光體配方，其係包含一助熔劑（flux）以及一螢光體前驅物，其中，該助熔劑係一含鋇氮化物，且該螢光體前驅物係包含構成該氮化物螢光體之金屬元素的金屬氮化物；以及 對該氮化物螢光體配方進行一熱等均壓燒結（hot isostatic pressing）步驟。
為使本發明之上述目的、技術特徵及優點能更明顯易懂，下文係以部分具體實施態樣進行詳細說明。
以下將具體地描述根據本發明之部分具體實施態樣；惟，在不背離本發明之精神下，本發明尚可以多種不同形式之態樣來實踐，不應將本發明保護範圍解釋為限於說明書所陳述者。除非文中有另外說明，於本說明書中（尤其是在後述專利申請範圍中）所使用之「一」、「該」及類似用語應理解為包含單數及複數形式。
本發明製備氮化物螢光體的方法係於製備氮化物螢光體之原料配方中添加一含鋇氮化物作為助熔劑，透過該助熔劑所提供之助熔效果，提高氮化物螢光體的放光效率、光衰與耐熱特性、以及量子效率等性質。
特定言之，本發明之方法包含提供一氮化物螢光體配方之步驟，以及對該氮化物螢光體配方進行熱等均壓燒結以形成氮化物螢光體的步驟，所述氮化物螢光體之實例包括SrLiAl3
N4
:Eu2+
。
於該氮化物螢光體配方中，螢光體前驅物經熱等均壓燒結步驟後構成所欲之氮化物螢光體，因此，該螢光體前驅物中係包含構成該氮化物螢光體之金屬元素的金屬氮化物，且各金屬氮化物以提供該氮化物螢光體中之金屬元素之莫耳比例的量存在。以製備SrLiAl3
N4
:Eu2+
為例，該螢光體前驅物係包含氮化鍶、氮化鋰、氮化鋁及氮化銪等金屬氮化物，且各該金屬氮化物之用量係依氮化物螢光體之Sr、Li、Al、及Eu的莫耳數而定。於後附實施例中，金屬氮化物之用量係使得Sr、Li、Al、及Eu的莫耳數比為0.98：1：3：0.02，但本發明不以此為限。
本發明方法之一特點在於使用含鋇氮化物作為助熔劑，由此可製得具有高放光效率之螢光體，於不受理論限制下，咸信此係因為使用該助熔劑所製得之螢光體顆粒較大的緣故。該含鋇氮化物之實例包括Ba3
N2
。於本發明中，助熔劑之用量並無特殊限制，只要可提供所欲之助熔效果即可，以製備SrLiAl3
N4
:Eu2+
為例，助熔劑之含量可例如為使得鋇對鍶之莫耳數比為約0.05至約0.4，例如0.1、0.15、0.2、0.25、0.3、或0.35。於後附實施例中，助熔劑之含量係使得鋇對鍶之莫耳數比為約0.1。
本發明之另一特點在於係使用熱等均壓燒結法燒結氮化物螢光體配方，以形成所欲之氮化物螢光體。一般而言，該熱等均壓燒結步驟係於約800°C 至約1500°C之溫度以及約10 MPa至約200 MPa之壓力下，較佳於約900°C 至約1100°C之溫度以及約50MPa至約150 MPa之壓力下，在一惰性氣氛中進行。於後附實施例中，係於一氮氣氣氛中，在1000°C之溫度以及100 MPa之壓力下進行該熱等均壓燒結步驟。
茲以下列具體實施態樣進一步例示本發明。
實施例
1
秤取氮化鋇（Ba3
N2
，助熔劑）、氮化鍶、氮化鋰、氮化鋁與氮化銪，其中Ba：Sr：Li：Al：Eu之莫耳數比為0.1：0.98：1：3：0.02，並置於氮化硼研缽中研磨30分鐘。接著於熱等均壓燒結爐（型號：AIP6-30H）中，在1000o
C之溫度以及100 MPa之壓力下，於氮氣氣氛中燒結四小時。最後將所得之產物置於研缽中研磨，獲得SrLiAl3
N4
:Eu2+
（SLA）氮化物螢光體。
比較例
1
以與實施例1相同之方式製備比較用氮化物螢光體，惟製備過程中不添加氮化鋇。
比對分析
分析實施例1及比較例1所製之氮化物螢光體的X光粉末繞射圖譜（儀器型號：D2 Phaser diffractometer，Bruker）、激發光譜（儀器型號：FluoroMax-3，HORIBA）、放光光譜（儀器型號：FluoroMax-3，HORIBA）、光衰與耐熱特性（儀器型號：FluoroMax-3，HORIBA；搭配THMS-600溫度控制器）、內部量子效率（internal quantum efficiency，IQE；儀器型號：QY C11347，Hamamatsu）、吸收效率（absorption efficiency，Abs；儀器型號：QY C11347，Hamamatsu）、及外部量子效率（external quantum efficiency，EQE；儀器型號：QY C11347，Hamamatsu）等性質，並以掃描電子顯微鏡（儀器型號： Table Microscope TM-1000，Hitachi High-Technologies Corporation）觀察氮化物螢光體之結構，相關結果說明如下。
第1圖為氮化物螢光體之X光粉末繞射圖譜與JCPDS之標準圖譜的比較，其中氮化物螢光體（a）係比較例1之氮化物螢光體，製備過程中未添加含鋇氮化物作為助熔劑，氮化物螢光體（b）係實施例1之氮化物螢光體，製備過程中有添加含鋇氮化物作為助熔劑。如圖所示，彼等氮化物螢光體均為接近單相之晶體結構，屬三斜晶系（triclinic），空間群為Pī (No. 2)，晶格參數為a
= 5.8663 Å、b
= 7.5109 Å與c
= 9.9654 Å。
第2圖為氮化物螢光體之激發光譜圖，其中氮化物螢光體（a）係比較例1之氮化物螢光體，製備過程中未添加含鋇氮化物作為助熔劑，氮化物螢光體（b）係實施例1之氮化物螢光體，製備過程中有添加含鋇氮化物作為助熔劑。如圖所示，彼等氮化物螢光體均可被發光波長為440 nm至480 nm之藍光發光二極體激發。
第3圖為氮化物螢光體之放光光譜圖，其中氮化物螢光體（a）係比較例1之氮化物螢光體，製備過程中未添加含鋇氮化物作為助熔劑，氮化物螢光體（b）係實施例1之氮化物螢光體，製備過程中有添加含鋇氮化物作為助熔劑。如圖所示，彼等氮化物螢光體均可發射出650 nm之紅光，且半高寬為50 nm，但根據本發明方法所製得之氮化物螢光體（b）具有高放光效率，較氮化物螢光體（a）高約25%。
第4a圖及第4b圖為氮化物螢光體之掃描電子顯微鏡相片，其中第4a圖係比較例1所製之氮化物螢光體之掃描電子顯微鏡相片，第4b圖係實施例1所製之氮化物螢光體之掃描電子顯微鏡相片。如圖所示，根據本發明方法所製得之氮化物螢光體（b）的螢光體顆粒尺寸為約20 mm至約30 mm，遠較氮化物螢光體（a）的螢光體顆粒尺寸為大。由此可證，本發明透過使用含鋇氮化物擔任助熔劑之角色，可有效提高螢光體顆粒尺寸。
第5圖為氮化物螢光體之光衰與耐熱特性量測結果，其中氮化物螢光體（a）係比較例1之氮化物螢光體，製備過程中未添加含鋇氮化物作為助熔劑，氮化物螢光體（b）係實施例1之氮化物螢光體，製備過程中有添加含鋇氮化物作為助熔劑。如圖所示，彼等氮化物螢光體之耐熱特性於150°C內的光衰均小於95%，但根據本發明方法所製得之氮化物螢光體（b）的耐熱特性明顯較氮化物螢光體（a）為佳。
下表1為氮化物螢光體之內部量子效率（IQE）、吸收效率（Abs）、及外部量子效率（EQE）量測結果，其中氮化物螢光體（a）係比較例1之氮化物螢光體，製備過程中未添加含鋇氮化物作為助熔劑，氮化物螢光體（b）係實施例1之氮化物螢光體，製備過程中有添加含鋇氮化物作為助熔劑。
表1：
如表1所示，根據本發明方法所製得之氮化物螢光體（b）的內部量子效率、吸收效率及外部量子效率均優於氮化物螢光體（a），其中氮化物螢光體（b）的外部量子效率較氮化物螢光體（a）高約25%，此與第3圖之放光效率結果相符。
根據以上分析結果可知，本發明方法藉由於氮化物螢光體配方中添加含鋇氮化物作為助熔劑，可有效提高所製氮化物螢光體的顆粒尺寸，改良氮化物螢光體的放光效率、光衰與耐熱特性、以及量子效率等性質。
上述實施例僅為例示性說明本發明之原理及其功效，並闡述本發明之技術特徵，而非用於限制本發明之保護範疇。任何熟悉本技術者在不違背本發明之技術原理及精神下，可輕易完成之改變或安排，均屬本發明所主張之範圍。因此，本發明之權利保護範圍係如後附申請專利範圍所列。
無
第1圖為氮化物螢光體SrLiAl3
N4
:Eu2+
（SLA）之X光粉末繞射圖譜與粉末繞射標準聯合委員會（Joint Committee on Powder Diffraction Standard；JCPDS）之標準圖譜的比較，其中氮化物螢光體（a）製備過程中未添加含鋇氮化物作為助熔劑，氮化物螢光體（b）製備過程中有添加含鋇氮化物作為助熔劑。
第2圖為氮化物螢光體SrLiAl3
N4
:Eu2+
（SLA）之激發光譜圖，其中氮化物螢光體（a）製備過程中未添加含鋇氮化物作為助熔劑，氮化物螢光體（b）製備過程中有添加含鋇氮化物作為助熔劑。
第3圖為氮化物螢光體SrLiAl3
N4
:Eu2+
（SLA）之放光光譜圖，其中氮化物螢光體（a）製備過程中未添加含鋇氮化物作為助熔劑，氮化物螢光體（b）製備過程中有添加含鋇氮化物作為助熔劑。
第4a圖及第4b圖為氮化物螢光體SrLiAl3
N4
:Eu2+
（SLA）之掃描電子顯微鏡相片，其中第4a圖之氮化物螢光體於製備過程中未添加含鋇氮化物作為助熔劑，第4b圖之氮化物螢光體於製備過程中有添加含鋇氮化物作為助熔劑。
第5圖為氮化物螢光體SrLiAl3
N4
:Eu2+
（SLA）之光衰與耐熱特性量測結果，其中氮化物螢光體（a）製備過程中未添加含鋇氮化物作為助熔劑，氮化物螢光體（b）製備過程中有添加含鋇氮化物作為助熔劑。
Claims (10)
- 一種製備氮化物螢光體的方法，其係包含： 提供一氮化物螢光體配方，其係包含一助熔劑（flux）以及一螢光體前驅物，其中，該助熔劑係一含鋇氮化物，且該螢光體前驅物係包含構成該氮化物螢光體之金屬元素的金屬氮化物；以及 對該氮化物螢光體配方進行一熱等均壓燒結（hot isostatic pressing）步驟。
- 如請求項1所述之方法，其中該螢光體前驅物中之金屬氮化物係以提供該氮化物螢光體中之金屬元素之莫耳比例的量存在。
- 如請求項2所述之方法，其中該氮化物螢光體係SrLiAl3 N4 :Eu2+ ，且該螢光體前驅物係包含氮化鍶、氮化鋰、氮化鋁及氮化銪。
- 如請求項3所述之方法，其中該助熔劑之含量係使得鋇對鍶之莫耳數比為約0.05至約0.4。
- 如請求項1至4中任一項所述之方法，其中該助熔劑為Ba3 N2 。
- 如請求項1至4中任一項所述之方法，其中該熱等均壓燒結步驟係於約800°C 至約1500°C之溫度以及約10 MPa至約200 MPa之壓力下進行。
- 如請求項6所述之方法，其中該熱等均壓燒結步驟係於約900°C 至約1100°C之溫度以及約50MPa至約150 MPa之壓力下進行。
- 如請求項1至4中任一項所述之方法，其中該熱等均壓燒結步驟係於一惰性氣氛中進行。
- 如請求項6所述之方法，其中該熱等均壓燒結步驟係於一惰性氣氛中進行。
- 如請求項7所述之方法，其中該熱等均壓燒結步驟係於一惰性氣氛中進行。
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