TW201900621A - 新穎噠嗪酮類除草劑 - Google Patents

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TW201900621A TW107109682A TW107109682A TW201900621A TW 201900621 A TW201900621 A TW 201900621A TW 107109682 A TW107109682 A TW 107109682A TW 107109682 A TW107109682 A TW 107109682A TW 201900621 A TW201900621 A TW 201900621A
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Abstract

本發明揭示一種式1化合物，包括其所有立體異構物、N-氧化物、及鹽、含其之農業組成物，以及其作為除草劑之用途，
Figure TW201900621A_A0001
其中R1、R2、L、G及W係如本揭露所定義，且A係選自
Figure TW201900621A_A0002
Figure TW201900621A_A0003
Figure TW201900621A_A0004
,
Figure TW201900621A_A0005
,
Figure TW201900621A_A0006
以及
Figure TW201900621A_A0007
且X1、X2、X3、X4、X5、X6、X7、X8、X9、X10、Y及Y1係如本揭露所定義。

Description

新穎噠嗪酮類除草劑
本發明係關於某種噠嗪酮類除草劑，其N-氧化物、鹽及組成物，以及關於其用於控制不期望之植被的方法。
控制不期望植被(undesired vegetation)對於達成高作物效率極為重要。吾人非常希望達成在以下有用作物中選擇性控制雜草的生長，諸如：米、大豆、甜菜、玉米、馬鈴薯、小麥、大麥、番茄及種植作物等等。在此等有用作物中未受抑制的雜草(unchecked weed)生長可造成產量明顯減少，因而造成消費者成本增加。在非種植區之不期望植被的控制亦為重要的。許多產品可商業取得以用於這些目的，但仍需要更有效、更便宜、毒性更低、對環境更安全或具有不同作用部位的新化合物。
本發明係關於式1化合物，其包括所有立體異構物、N-氧化物、及其鹽、含其之農業組成物及其作為除草劑之用途
其中W為O或S；R1為H、C1-C7烷基、C3-C8烷基羰基烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰基烷基、C1-C4硝基烷基、C2-C7鹵基烷氧基烷基、C1-C7鹵基烷基、C3-C7鹵基烯基、C2-C7烷氧基烷基、C3-C7烷基硫基烷基、C1-C7烷氧基、芐基或苯基；或一5-或6-員飽和或部份飽和雜環，其含有選自碳及至多1O及1S；R2為H、鹵素、氰基、甲醯基、C1-C7烷基、C3-C8烷基羰基烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C2-C4烷基羰基、C2-C7烷基羰氧基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C1-C4烷基亞磺醯基、C1-C4烷基磺醯基、C1-C4烷基胺基、C2-C8二烷基胺基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰基烷基、C1-C4硝基烷基、C2-C7鹵基烷氧基烷基、C1-C7鹵基烷基、C3-C7鹵基烯基、C2-C7烷氧基烷基、C1-C7烷氧基、C1-C5烷基硫基或C2-C3烷氧基羰基；或苯基，其選擇性經鹵素、C1-C4烷基或C1-C4鹵基烷基取代；L係直接鍵結、C1-C4烷二基或C2-C4烯二基；G為H、C(=O)R5、C(=S)R5、CO2R6、C(=O)SR6、S(O)2R5、CONR7R8、S(O)2NR7R8或P(=O)R9R10；或C1-C4烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C1-C4鹵基 烷基、C2-C4鹵基烯基、C2-C4鹵基炔基、C2-C4烷氧基烷基、C3-C6環烷基或C4-C7環烷基烷基；或一5-或6-員雜環；A係選自 ,,以及 X1、X2、X3、X4、X5、X6、X7、X8、X9及X10各自獨立地為N或CR3；前提為X1、X2、X3、X4、X5、X6、X7、X8、X9及X10中不多於4者為N；Y為O、S或NR4；Y1為O、S、NR4或CR3aR3b；R3各自獨立地為H、鹵素、氰基、硝基、C1-C5烷基、C2-C5烯基、C2-C5炔基、C3-C5環烷基、C4C5環烷基烷基、C1-C5鹵基烷基、C3-C5鹵基烯基、C3-C5鹵基炔基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、C1-C5鹵基烷氧基、C1-C5烷基硫基、C1-C4烷基亞磺醯基、C1-C4烷基磺醯基、C1-C5鹵基烷基硫基或C2-C5烷氧基羰基；R3a為H、鹵素、-CN、硝基、C1-C5烷基、C2-C5烯基、C2-C5炔基、C3-C5環烷基、C4-C5環烷基烷基、C1-C5鹵基烷基、C3-C5鹵基烯基、C3-C5鹵基炔基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、C1-C5鹵基烷氧基、C1-C5烷基硫基、C1-C4烷基亞磺醯基、C1-C4烷基磺醯基、C1-C5鹵基烷基硫基或C2-C5烷氧基羰基；R3b為H、鹵素、-CN、硝基、C1-C5烷基、C2-C5烯基、C2-C5炔基、C3-C5環烷基、C4-C5環烷基烷基、C1-C5鹵基烷基、C3-C5鹵基烯基、C3-C5鹵基炔基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、C1-C5鹵基烷氧基、C1-C5烷基硫基、 C1-C4烷基亞磺醯基、C1-C4烷基磺醯基、C1-C5鹵基烷基硫基或C2-C5烷氧基羰基；或R3a及R3b一起形成=O；或R3a及R3b與其所接合之碳原子一起形成一選擇性經取代之3-至7-員碳環；R4為H、C1-C3烷基或C1-C3鹵基烷基；R5及R7獨立地為H、C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵基烷基、C3-C7鹵基烯基、C2-C7烷氧基烷基或C4-C7環烷基烷基；或苯基、芐基、或一5-至6-員雜環，各苯基、芐基或雜環選擇性經鹵素、C1-C4烷基或C1-C4鹵基烷基取代；R6為C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C2-C7鹵基烷基、C3-C7鹵基烯基、C2-C7烷氧基烷基或C4-C7環烷基烷基；或苯基、芐基或5至6-員雜環，各苯基、芐基或雜環選擇性經鹵素、C1-C4烷基或C1-C4鹵基烷基取代；R8為H、C1-C7烷基、C2-C7烯基、C2-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C1-C7鹵基烷基或C2-C7烷氧基烷基；R9為C1-C7烷基或C1-C7烷氧基；及R10為C1-C7烷基或C1-C7烷氧基。
更特定而言，本發明關於一式1化合物(包括所有立體異構物)、一N-氧化物或其鹽。本發明亦關於一種除草組成物，其包含本發明之化合物(具除草有效量)及選自由界面活性劑、固體稀釋劑及液體稀釋劑組成之群組之至少一種組份。本發明進一步關於一種用於控制不期望植被生長的方法，其包含以除草有效量之本發明化合物(例如，本文描述之組成物)接觸該植被或其環境。
本發明亦包括除草混合物，其包含(a)選自式1、N-氧化物及其鹽之化合物，及(b)選自(b1)至(b16)之至少一種其它活性成份；及(b1)至(b16)化合物之鹽，如下所述。
本文所用之術語「包含」、「包括」(comprises、comprising、includes、including)、「具有」(has、having)、「含有」(contains、containing)、「特徵為(characterized by)」或其任何其它變化型，意欲涵蓋非排他性之包括，其受任何明確指出之限制。例如，包含一元件清單之一種組成物、混合物、製程或方法不必僅限於該等元件，但可包括未明確列出或此等組成物、混合物、製程或方法所固有之其它元件。
連接詞「由...組成」排除未指定之任何元件、步驟、或成份。若在申請專利範圍中，此等將使該申請專利範圍封閉除已揭示之外所包含的材料，除了通常與其相關的雜質。當連接詞「由...組成」出現在申請專利範圍主體之一子句中，而非緊隨前言時，其僅限制在該子句中提出之元件；其它元件未自該整個申請專利範圍排除。
連接詞「基本上由...組成」用於定義包括除字義上揭示外之材料、步驟、特徵、組份或元件之一組成物或方法，前提為該等其它之材料、步驟、特徵、組份或元件未實質上影響本主張發明之基本及新穎特性。連接詞「基本上由...組成」佔據「包含」與「由...組成」之中間地帶。
在申請人已經用開放式用語例如「包含」來定義發明或其一部分的情況下，應當容易理解的是(除非另有說明)，該描述應該被解釋為也使用「基本上由…組成」或「由…組成」之用語來描述本發明。
另外，除非明確相反描述，否則「或」是指包含性的或，而不是排他性的或。例如，A或B滿足以下任何一個條件：A為真(或存在)且B為假(或不存在)，A為假(或不存在)且B為真(或存在)，且A與B皆為真(或存在)。
並且，在本發明之元件或組份前之不定冠詞「一」及「一個」未限制關於該元件或組份之實例數量(發生次數)。因此，「一」或「一個」應視為包括一或至少一個，且該元件或組份之單數字詞形式亦包括複數，除非明顯意指單數。
本文中，單獨或以字詞組合使用之術語「幼苗」意指自種子胚發育之植物幼苗。
本文中，單獨或以諸如「闊葉雜草」字詞使用之術語「闊葉」意指雙子葉植物(dicot或dicotyledon)，該術語用來描述被子植物種系，特徵為胚具有兩個子葉。
本文中，術語「烷基化」係指其中親核基自含碳自由基置換一離去基(例如鹵化物或磺酸鹽)之反應。除非另外指出，否則術語「烷基化」未將含碳自由基限於烷基。
在上述中，術語「烷基」單獨或於化合物中(例如：「烷基硫基」或「鹵基烷基」)使用，包括直鏈或支鏈烷基，諸如甲基、乙基、正丙基、異丙基、或不同之丁基、戊基或己基異構物。「烯基」包括直鏈或支鏈烯烴，諸如乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、及不同之丁烯基、戊烯基及己烯基異構物。「烯基」 亦包括多烯烴，諸如1,2-丙二烯及2,4-己二烯。「炔基」包括直鏈或支鏈炔烴，諸如乙炔、1-丙炔、2-丙炔及不同之丁炔、戊炔及己炔異構物。「炔基」亦可包含多個三鍵之部分，諸如2,5-己二炔。
「烷氧基」包括例如甲氧基、乙氧基、n-丙氧基、異丙氧基及不同之丁氧基、戊氧基及己氧基異構物。「烷氧基烷基」表示在烷基上之烷氧基取代。「烷氧基烷基」之實例包括：CH3OCH2、CH3OCH2CH2、CH3CH2OCH2、CH3CH2CH2CH2OCH2及CH3CH2OCH2CH2。「烷氧基烷氧基」表示在烷氧基上之烷氧基取代。「烷基硫基」包括分支或直鏈烷基硫基部份，諸如甲硫基、乙硫基、及不同之丙硫基、丁硫基、戊硫基及己硫基異構物。「烷基硫基烷基」表示在烷基上之烷基硫基取代。「烷基硫基烷基」之實例包括：CH3SCH2、CH3SCH2CH2、CH3CH2SCH2、CH3CH2CH2CH2SCH2及CH3CH2SCH2CH2。「烷基亞磺醯基」包括烷基亞磺醯基之鏡像異構物兩者。「烷基亞磺醯基」之實例包括：CH3S(O)-、CH3CH2S(O)-、CH3CH2CH2S(O)-、(CH3)2CHS(O)-及不同之丁基亞磺醯基、戊基亞磺醯基及己基亞磺醯基異構物。「烷基磺醯基」之實例包括：CH3S(O)2-、CH3CH2S(O)2-、CH3CH2CH2S(O)2-、(CH3)2CHS(O)2-、及不同之丁基磺醯基、戊基磺醯基及己基磺醯基異構物。「氰基烷基」表示經一氰基取代之一烷基。「氰基烷基」之實例包括：NCCH2及NCCH2CH2(或者識別為CH2CH2CN)。「硝基烷基」表示經一硝基取代之一烷基。「硝基烷基」之實例包括：O2NCH2及O2NCH2CH2(或者識別為CH2CH2NO2)。「氰基」意指NC-，且「甲醯基」意指HC(=O)-。「烷基胺基」包括經直鏈或支鏈烷基取代之NH自由基。「烷基胺基」之實例包括：CH3CH2NH、CH3CH2CH2NH、及(CH3)2CHCH2NH。「二烷基胺基」之實例包括：(CH3)2N、(CH3CH2CH2)2N及CH3CH2(CH3)N。
「環烷基」包括例如環丙基、環丁基、環戊基及環己基。術語「環烷基烷基」表示在一烷基部份上之環烷基取代。「環烷基烷基」之實例包括環丙基甲基、環戊基乙基、及其它鍵結至直鏈或支鏈烷基之環烷基部份。術語「烷基環烷基」表示鍵結至環烷基部份之一烷基。
術語「鹵素」單獨地或呈諸如「鹵基烷基」之化合物字詞，或當用於諸如「以鹵素取代之烷基」之描述中時包括氟、氯、溴或碘。此外，當呈諸如「鹵基烷基」之化合物字詞使用時，或當用於諸如「以鹵素取代之烷基」之描述中時，該烷基可部份或全部經可為相同或不同之鹵素原子取代。「鹵基烷基」或「經鹵素取代之烷基」之實例包括：F3C、ClCH2、CF3CH2及CF3CCl2。術語「鹵基烷氧基」、「鹵基烷氧基烷基」、「鹵基烷基硫基」、「鹵基烯基」、「鹵基炔基」等等類似地定義為術語「鹵基烷基」。「鹵基烷氧基」之實例包括：CF3O-、CCl3CH2O-、HCF2CH2CH2O-及CF3CH2O-。「鹵基烷氧基烷基」之實例包括：CF3OCH2-、CCl3CH2OCH2-、HCF2CH2CH2OCH2-及CF3CH2OCH2-。「鹵基烷基硫基」之實例包括：CCl3S-、CF3S-、CCl3CH2S-及ClCH2CH2CH2S-。「鹵基烯基」之實例包括：(Cl)2C=CHCH2-及CF3CH2CH=CHCH2-。「鹵炔基」之實例包括：HC≡CCHCl-、CF3C≡C-、CCl3C≡C-及FCH2C≡CCH2-。
「烷基羰基」表示鍵結至C(=O)部份之一直鏈或支鏈烷基部份。「烷基羰基」之實例包括：CH3C(=O)-、CH3CH2C(=O)-、CH3CH2CH2C(=O)-、(CH3)2CHC(=O)-及不同之丁氧基-或戊氧羰基異構物。「烷氧基羰基」表示鍵結至C(=O)部份之一直鏈或支鏈烷氧基部份。「烷氧基羰基」之實例包括：CH3OC(=O)-、CH3CH2OC(=O)-、CH3CH2CH2OC(=O)-、(CH3)2CHOC(=O)-及不同之丁氧基-或戊氧基羰基異構物。術語「烷氧基羰基烷基」表示通過一烷基部份 鍵結之直鏈或支鏈烷氧基部份。術語「烷基羰基烷基」表示通過一烷基部份鍵結之一直鏈或支鏈烷基羰基部份。術語「烷基羰氧基」表示通過氧鍵結之一烷基羰基部份。烷基羰氧基之實例包括：CH3C(=O)O-、CH3CH2C(=O)O-、CH3CH2CH2C(=O)O-及(CH3)2CHC(=O)-。術語烷二基或烯二基分別指直鏈或支鏈烷烴或烯烴鏈結鏈。烷二基之實例包括：-CH2-、-CH2CH(CH3)-或-CH2CH2CH2-。烯二基之實例包括：-CH=CH-、-CH2C=CH-或-CH=C(CH3)-。在定位取代基之內容中之術語「相鄰」意指「相鄰於」或「直接相鄰於」。
取代基中碳原子總數以「Ci-Cj」字首指示，其中i與j為1至7之數。例如：C1-C4烷基磺醯基指定甲基磺醯基至丁基磺醯基；C2烷氧基烷基指定CH3OCH2-；C3烷氧基烷基指定例如CH3CH(OCH3)-、CH3OCH2CH2-或CH3CH2OCH2-；及C4烷氧基烷基指定經含有總共4個碳原子之烷氧基取代之烷基的各種異構物，實例包括CH3CH2CH2OCH2-及CH3CH2OCH2CH2-。
當一基團含有可為氫之取代基時，例如R2或R4，則當此取代基作為氫時，其視為此等同於該基團未經取代。當在一基團上之一或多個位置被稱為「未經取代」或「未取代」時，則氫原子連接佔據任何自由化合價(free valency)。除非另外指出選擇性經取代，術語「苯基」意指未取代苯基。除非另外指出選擇性經取代，術語「芐基」意指未取代芐基。
其中L為直接鍵結且G為H之式1化合物(即，式1「O-L-G」取代基為烴基部份)據信為鍵結在一植物酵素或受體上引起植物除草效果之一活性部位的化合物。式1之其它化合物，其取代基L-G形成可在植物或環境內轉換成羥基部份之一基團並提供類似的除草效果，亦在本發明之範疇內。因此，L-G可為本技術已知之任何衍生物，只要其未消除式1化合物之除草活性，且在植物或土壤 中係或可經水解、氧化、還原或其它代謝作用以提供羧酸功能，該羧酸功能呈解離或非解離之形式係取決於pH值。術語「環系統」表示兩個或更多稠合環。術語「橋環系統(bicycle ring system)」表示由兩個稠合環組成之一環系統。
本發明化合物可存在為一或多種立體異構物。各種立體異構物包括：鏡像異構物、非鏡像異構物、阻轉異構物及幾何異構物。立體異構物係組成相同但其原子空間配置不同之異構物，包括鏡像異構物、非鏡像異構物、順-反異構物(亦已知為幾何異構物)及阻轉異構物。阻轉異構物由單鍵受限旋轉造成，其中旋轉障壁夠高而允許與其他異構物分離。本領域通常知識者將了解當一種立體異構物相對於其它立體異構物濃化或與其它立體異構物分離時，其可更具活性及/或可展現有益之效應。另外，熟習技術者了解如何分離、濃化、及/或選擇性製備該立體異構物。本發明化合物可呈立體異構物之混合物、個別立體異構物，或呈一光學活性之形式。
式1化合物通常以超過一種形式存在，且因此式1包括其呈現之化合物之所有結晶與非晶形式。非晶形式包括為諸如蠟及膠之固體之具體實施例，以及為諸如溶液及熔融物之液體之具體實施例。結晶形式包括本質代表單晶型之具體實施例及呈現多晶型混合物(即不同結晶類型)之具體實施例。術語「多晶型」係指化學化合物之特定結晶形式，其可以不同結晶形式結晶，該等形式在晶格中具有不同之分子排列及/或構形。儘管多晶型可具有相同化學組成，但是由於可以在晶格中存在弱結合或強結合的共結晶水或其他分子，多晶型也可以有不同的組成。多晶型可在化學、物理及生物性質上不同，如晶形、密度、硬度、顏色、化學穩定性、熔點、吸濕性、懸浮性、溶解率及生物可用性。本領域通常知識者將了解相對於相同之式1化合物之另一多晶型或多晶型之混合物，式1化 合物之多晶型可展現有利之效應(例如：用於製備有用調配物之適宜性、改善之生物性能)。製備並隔離式1化合物之特定多晶型可藉由本領域通常知識者已知之方法達成，包括例如使用所選溶劑及溫度之結晶。對於多晶型之綜合討論，參見R.Hilfiker,Ed.之Polymorphism in the Pharmaceutical Industry，Wiley-VCH，Weinheim，2006。
本領域通常知識者將了解並非所有含氮雜環皆可形成N-氧化物，因為氮需要可用之孤對電子以氧化至該氧化物；本領域通常知識者瞭解哪些含氮雜環可形成N-氧化物。本領域通常知識者亦理解三級胺可形成N-氧化物。用於製備雜環及三級胺之N-氧化物的合成方法為本領域通常知識者熟知，包括用過氧酸如過乙酸和間氯過氧苯甲酸(MCPBA)、過氧化氫、烷基過氧化氫(alkyl hydroperoxides)如過氧化三級丁醇、過氧硼酸鈉和過氧化酮如二甲基過氧化酮來氧化雜環和三級胺。製備N-氧化物之該等方法已在文獻中廣泛地描述及評論，參見例如：T.L.Gilchrist在Comprehensive Organic Synthesis，vol.7，pp 748-750，S.V.Ley,Ed.，Pergamon Press；M.Tisler及B.Stanovnik在Comprehensive Heterocyclic Chemistry，vol.3，pp 18-20，A.J.Boulton及A.McKillop，Eds.，Pergamon Press；M.R.Grimmett及B.R.T.Keene在Advances in Heterocyclic Chemistry，vol.43，pp 149-161，A.R.Katritzky,Ed.，Academic Press；M.Tisler及B.Stanovnik在Advances in Heterocyclic Chemistry，vol.9，pp 285-291，A.R.Katritzky及A.J.Boulton,Eds.，Academic Press；及G.W.H.Cheeseman及E.S.G.Werstiuk在Advances in Heterocyclic Chemistry，vol.22，pp 390-392，A.R.Katritzky及A.J.Boulton,Eds.，Academic Press。
本領域通常知識者了解因為在環境中及生理條件下化學化合物之鹽與其對應之非鹽形式達成化學平衡，故鹽分享非鹽形式之生物可用性。因此，各種式1化合物之鹽可用於控制不期望之植被(即，係農業上適合的)。式1化合物之鹽包括具無機或有機酸之酸加成鹽，諸如：氫溴酸、氫氯酸、硝酸、磷酸、硫酸、乙酸、丁酸、富馬酸、乳酸、馬來酸、丙二酸、草酸、丙酸、水楊酸、酒石酸、4-甲苯磺酸或戊酸。當式1化合物含有酸性部份，諸如烯醇官能(例如，當L為直接鍵結及G為H)時，鹽亦包括以有機或無機鹼形成者，諸如：吡啶、三乙胺或氨、或鈉、鉀、鋰、鈣、鎂或鋇之醯胺、氫化物、氫氧化物或碳酸鹽。因此，本發明包含選自式1、其N-氧化物及其農業上適用鹽之化合物。
除非另外描述，當R5、R6或R7為含5-或6-員含氮雜環時，其可通過任何可鍵結之碳或氮環原子連結至式1其餘者(reminder)。如上述，R5、R6或R7可為選擇性經選自如在發明內容中所定義之一取代基群組中一或多個取代基取代的苯基。選擇性經1至5個取代基取代之苯基之一實例係如範例1中之U-1所說明之環，其中Rv為如發明內容中所定義之R5、R6或R7上之一取代基，且r為一整數。
如上所述，R5、R6或R7可為一5-或6-員雜環，其可為飽和或未飽和，選擇性經選自如發明內容中所定義之一取代基群組之一或多個取代基取代。選擇性經一或多個取代基取代之5-或6-員未飽和芳香族雜環之實例包括在範例1中說明之環U-2至U-61，其中Rv為如在發明內容中定義之R5、R6或R7上的任何取代基(即，鹵素、C1-C4烷基或C1-C4鹵基烷基)，且r為0至4之整數，其受每一U基團上之可鍵結位置數所限。由於U-29、U-30、U-36、U-37、U-38、U-39、U- 40、U-41、U-42及U-43僅有一個可鍵結位置，對於該等U基團，r受限於0或1之整數，且r為0時意指U基團未經取代且氫存在於由(Rv)r指出之位置處。
範例1
注意當R5、R6或R7為一5-或6-員飽和或未飽和非芳香族雜環時，其選擇性經選自如發明內容中針對R5、R6或R7所定義之該取代基群組之一或多個取代基取代，該雜環之一或兩個碳可選擇性呈羰基部份之氧化形式。
5-或6-員雜環之實例包括如在範例2中說明之T-1至T-35之環，其中該5-或6-員雜環為經飽和或含非芳香族未飽和雜環，其含有至多兩個O原子及至多兩個S原子，且其環上之碳原子選擇性經至多5個鹵素取代。注意當T基團上之連接處繪示為不固定時，該T基團可藉由置換氫原子，經由任何可鍵結之碳或氮環原子連結至式1之其餘者。對應於Rv之可選取代基可藉由置換氫原子連接至任何可鍵結之碳或氮。對於該等T環，r通常為0至4之整數，受每一T基團上可鍵結位置數的限制。術語「選擇性經取代」意指「經取代或未經取代」。注意當T2為N時，該氮原子可經H或對應於Rv之取代基(如在發明內容中所定義之R5、R6或R7上的取代基)取代而填滿其化學價。R1之範例包括T-1、T-2、T-7及T-9(即R1為5-或6-員飽和或部份飽和雜環，其包含碳及至多1O及1S)，以及T-28至T-31，其中T2為O或S。
範例2
,,,以及
儘管Rv基團顯示在結構U-1至U-61中，注意其不一定存在，因為其係可選之取代基。注意當Rv為H時，等同於該原子未經取代。需要取代以填充 其化學價之該等氮原子經H或Rv取代。注意當T基團上之連接處繪示為不固定時，(Rv)r可連接至U基團之任何可鍵結之碳原子或氮原子。注意，當U基團上之連接處繪示為不固定時，U基團可藉由置換氫原子，經由任何可鍵結之碳或氮環原子連結至式1之其餘者。注意某些U基團可僅經少於4個Rv基團取代(例如，U-2至U-5、U-7至U-48、及U-52至U-61)。
製備芳香族及非芳香族雜環及環系統之各種合成方法為本領域通常知識者所習知；更詳細的說明參見A.R.Katritzky及C.W.Rees所編撰之8冊Comprehensive Heterocyclic Chemistry,Pergamon Press,Oxford,1984以及A.R.Katritzky,C.W.Rees及E.F.V.Scriven所編撰之12冊Comprehensive Heterocyclic Chemistry II,Pergamon Press,Oxford,1996。
在發明內容中描述之本發明之具體實施例包括(在以下具體實施例中所用之式1包括其N-氧化物及其鹽)：
具體實施例1. 式1化合物、其N-氧化物及其鹽、含其之組成物，以及其用於控制不期望植被之方法，如發明內容中所述。
具體實施例2. 具體實施例1之化合物，其中R1為H、C1-C7烷基、C3-C8烷基羰基烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰基烷基、C1-C4硝基烷基、C2-C7鹵基烷氧基烷基、C1-C7鹵基烷基、C3-C7鹵基烯基、C2-C7烷氧基烷基、C3-C7烷基硫基烷基、C1-C7烷氧基、芐基或苯基。
具體實施例3. 具體實施例1或2中任一者之化合物，其中R1為H、C1-C7烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7環烷基、C4-C7 環烷基烷基、C2-C3氰基烷基、C1-C4硝基烷基、C2-C7鹵基烷氧基烷基、C1-C7鹵基烷基、C2-C7烷氧基烷基、C3-C7烷基硫基烷基、C1-C7烷氧基或芐基。
具體實施例4. 具體實施例3之化合物，其中R1為C1-C4烷基、C3-C4環烷基、C2-C3氰基烷基、C1-C3鹵基烷基或C2-C4烷氧基烷基。
具體實施例5. 具體實施例4之化合物，其中R1為C1-C3烷基、NCCH2CH2-、C1-C2鹵基烷基或2-甲氧基乙基。
具體實施例6. 具體實施例5之化合物，其中R1為甲基、乙基、正丙基或2-甲氧基乙基。
具體實施例7. 具體實施例6之化合物，其中R1為甲基或乙基。
具體實施例8. 具體實施例6之化合物，其中R1為甲基。
具體實施例9. 具體實施例1之化合物，其中R1不為H。
具體實施例10. 具體實施例1之化合物，其中R1不為苯基。
具體實施例11. 具體實施例1至10中任一者之化合物，其中W為O。
具體實施例12. 式1或具體實施例1至11中任一者之化合物，其中A係選自A-1、A-4及A-6。
具體實施例13. 式1或具體實施例12之化合物，其中A為A-1。
具體實施例14. 式1或具體實施例12之化合物，其中A為A-4。
具體實施例15. 式1或具體實施例12之化合物，其中A為A-6。
具體實施例16. 式1或具體實施例12之化合物，其中A為A-1及X1、X2、X3、X4、X5、X6、X7、X8及X9各自獨立地為CR3。
具體實施例17. 式1或具體實施例12之化合物，其中A為A-1及X1、X2、X3、X4、X5、X6、X7、X8及X9各為CH。
具體實施例18. 具體實施例1至17中任一者之化合物，其中R2為H、鹵素、氰基、甲醯基、C1-C7烷基、C3-C8烷基羰基烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C2-C4烷基羰基、C2-C7烷基羰氧基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C1-C4烷基亞磺醯基、C1-C4烷基磺醯基、C1-C4烷基胺基、C2-C8二烷基胺基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰基烷基、C1-C4硝基烷基、C2-C7鹵基烷氧基烷基、C1-C7鹵基烷基、C3-C7鹵基烯基、C2-C7烷氧基烷基、C1-C7烷氧基或C1-C5烷基硫基。
具體實施例19. 具體實施例18之化合物，其中R2為H、鹵素、氰基、甲醯基、C1-C7烷基、C2-C4烷基羰基、C2-C7烷基羰氧基、C4-C7烷基環烷基、C1-C4烷基亞磺醯基、C1-C4烷基磺醯基、C1-C4烷基胺基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰基烷基、C1-C4硝基烷基、C2-C7鹵基烷氧基烷基、C1-C7鹵基烷基、C2-C7烷氧基烷基或C1-C7烷氧基。
具體實施例20. 具體實施例19之化合物，其中R2為H、鹵素、氰基、C1-C4烷基、C3-C5環烷基、C1-C3鹵基烷基、C2-C4烷氧基烷基或C1-C3烷氧基。
具體實施例21. 具體實施例20之化合物，其中R2為H、鹵素、氰基、C1-C3烷基、環丙基、C1-C2鹵基烷基、甲氧基或乙氧基。
具體實施例22. 具體實施例21之化合物，其中R2為H、Cl、Br、I、氰基、甲基或甲氧基。
具體實施例23. 具體實施例22之化合物，其中R2為H、Cl、甲基或甲氧基。
具體實施例24. 具體實施例23之化合物，其中R2為Cl或甲基。
具體實施例25. 具體實施例1至23中任一者之化合物，其中R2不為H。
具體實施例26. 具體實施例1至17中任一者之化合物，其中R2不為苯基。
具體實施例27. 具體實施例18之化合物，其中R2為鹵素、C1-C7烷基、C1-C4烷基胺基、C2-C8二烷基胺基或C3-C7環烷基。
具體實施例28. 具體實施例27之化合物，其中R2為C1-C4烷基胺基或C2-C8二烷基胺基。
具體實施例29. 式1或具體實施例1至28中任一者之化合物，其中L為直接鍵結。
具體實施例30. 式1或具體實施例1至28中任一者之化合物，其中L為直接鍵結且G為H、C(=O)R5、C(=S)R5、CO2R6、C(=O)SR6、CONR7R8或P(=O)R9R10；或C1-C4烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C1-C4鹵基烷基、C2-C4鹵基烯基、C2-C4鹵基炔基、C2-C4烷氧基烷基、C3-C6環烷基或C4-C7環烷基烷基。
具體實施例31. 具體實施例30之化合物，其中G為H、C(=O)R5、CO2R6、CONR7R8或P(=O)R9R10；或C1-C4烷基、C2-C4烯基、C1-C4鹵基烷基、C2-C4鹵基烯基、C2-C4烷氧基烷基、C3-C6環烷基或C4-C7環烷基烷基。
具體實施例32. 具體實施例31之化合物，其中G為H、C(=O)R5、CO2R6或P(=O)R9R10；或C1-C4烷基、C1-C4鹵基烷基、C2-C4烷氧基烷基或C3-C6環烷基。
具體實施例33. 具體實施例32之化合物，其中G為H、C(=O)R5或CO2R6；或C2-C4烷氧基烷基或C3-C6環烷基。
具體實施例34. 具體實施例33之化合物，其中G為H。
具體實施例35. 具體實施例33之化合物，其中G為C(=O)R5。
具體實施例36. 具體實施例33之化合物，其中G為CO2R6。
具體實施例37. 具體實施例33之化合物，其中G為C2-C4烷氧基烷基。
具體實施例38. 具體實施例33之化合物，其中G為C3-C6環烷基。
具體實施例39. 式1或具體實施例1至28中任一者之化合物，其中L為C1-C2烷二基或C2-C3烯二基。
具體實施例40. 具體實施例39之化合物，其中L為C1-C2烷二基。
具體實施例41. 具體實施例39之化合物，其中L為C2-C3烯二基。
具體實施例42. 具體實施例39之化合物，其中L為-CH2-或-CH=CH-。
具體實施例43. 具體實施例42之化合物，其中L為-CH2-。
具體實施例44. 式1或具體實施例1至43中任一者之化合物，其中R3各自獨立地為H、鹵素、C1-C3烷基、C3-C4環烷基、C1-C3鹵基烷基或C1-C3烷氧基。
具體實施例45. 具體實施例44之化合物，其中R3各自獨立地為H、鹵素、C1-C2烷基、環丙基或C1-C2鹵基烷基。
具體實施例46. 具體實施例45之化合物，其中R3各自獨立地為H、鹵素、甲基、乙基或CF3。
具體實施例47. 具體實施例46之化合物，其中R3各自獨立地為H、F、Cl、Br或甲基。
具體實施例48. 具體實施例47之化合物，其中R3各為H。
本發明之具體實施例，包括上述之具體實施例1-48，以及本文所述之任何其它具體實施例，可以任何方式組合，且該等具體實施例中之變化型之描述不僅關於式1化合物，且亦可用於製備式1化合物之起始化合物及中間化合物。此外，本發明之具體實施例，包括以上之具體實施例1-48以及本文所述之任何其它具體實施例，及其任何組合，亦可用於本發明之組成物及方法。
具體實施例A. 式1化合物、其N-氧化物及其鹽、含其之組成物、及其用於控制不期望植被之方法，其中：R1為H、C1-C7烷基、C3-C8烷基羰基烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰基烷基、C1-C4硝基烷基、C2-C7鹵基烷氧基烷基、C1-C7鹵基烷基、C3-C7鹵基烯基、C2-C7烷氧基烷基、C3-C7烷基硫基烷基、C1-C7烷氧基、芐基或苯基；W為O；A係選自A-1、A-4及A-6；L為一直接鍵結； G為H、C(=O)R5、C(=S)R5、CO2R6、C(=O)SR6、CONR7R8或P(=O)R9R10；或C1-C4烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C1-C4鹵基烷基、C2-C4鹵基烯基、C2-C4鹵基炔基、C2-C4烷氧基烷基、C3-C6環烷基或C4-C7環烷基烷基；R2為H、鹵素、氰基、甲醯基、C1-C7烷基、C3-C8烷基羰基烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C2-C4烷基羰基、C2-C7烷基羰氧基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C1-C4烷基亞磺醯基、C1-C4烷基磺醯基、C1-C4烷基胺基、C2-C8二烷基胺基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰基烷基、C1-C4硝基烷基、C2-C7鹵基烷氧基烷基、C1-C7鹵基烷基、C3-C7鹵基烯基、C2-C7烷氧基烷基、C1-C7烷氧基或C1-C5烷基硫基；及R3各自獨立地為H、鹵素、C1-C3烷基、C3-C4環烷基、C1-C3鹵基烷基或C1-C3烷氧基。
具體實施例B. 具體實施例A之化合物，其中R1為H、C1-C7烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰基烷基、C1-C4硝基烷基、C2-C7鹵基烷氧基烷基、C1-C7鹵基烷基、C2-C7烷氧基烷基、C3-C7烷基硫基烷基、C1-C7烷氧基或芐基；A為A-1；G為H、C(=O)R5、CO2R6、CONR7R8或P(=O)R9R10；或C1-C4烷基、C2-C4烯基、C1-C4鹵基烷基、C2-C4鹵基烯基、C2-C4烷氧基烷基、C3-C6環烷基或C4-C7環烷基烷基；R2為H、鹵素、氰基、甲醯基、C1-C7烷基、C2-C4烷基羰基、C2-C7烷基羰氧基、C4-C7烷基環烷基、C1-C4烷基亞磺醯基、C1-C4烷基磺醯基、C1-C4烷基 胺基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰基烷基、C1-C4硝基烷基、C2-C7鹵基烷氧基烷基、C1-C7鹵基烷基、C2-C7烷氧基烷基或C1-C7烷氧基；及R3各自獨立地為H、鹵素、C1-C2烷基、環丙基或C1-C2鹵基烷基。
具體實施例C. 具體實施例B之化合物，其中R1為C1-C4烷基、C3-C4環烷基、C2-C3氰基烷基、C1-C3鹵基烷基或C2-C4烷氧基烷基；G為H、C(=O)R5、CO2R6或P(=O)R9R10；或C1-C4烷基、C1-C4鹵基烷基、C2-C4烷氧基烷基或C3-C6環烷基；R2為H、鹵素、氰基、C1-C4烷基、C3-C5環烷基、C1-C3鹵基烷基、C2-C4烷氧基烷基或C1-C3烷氧基；及R3各自獨立地為H、鹵素、甲基、乙基或CF3。
具體實施例D. 具體實施例C之化合物，其中R1為甲基、乙基、正丙基或2-甲氧基乙基；G為H、C(=O)R5或CO2R6；或C2-C4烷氧基烷基或C3-C6環烷基；R2為H、Cl、Br、I、-CN、甲基或甲氧基；且R3各自獨立地為H、F、Cl、Br或甲基。
特定具體實施例包括式1化合物，其選自由以下組成之群組：4-(9-蒽基)-6-氯基-5-羥基-2-甲基-3(2H)-噠嗪酮(化合物1)；6-氯基-4-(10-氯基-9-蒽基)-5-羥基-2-甲基-3(2H)-噠嗪酮(化合物2)；及4-(10-溴基-9-蒽基)-6-氯基-5-羥基-2-甲基-3(2H)-噠嗪酮(化合物3)。
本發明亦關於一種用於控制不期望植被之方法，其包含將除草有效量之本發明化合物(例如，本文所述之組成物)施用至植被之所在地。注意使用 方法之具體實施例係涉及上述化合物之具體實施例。本發明化合物尤其可用於選擇性控制作物(諸如：小麥、大麥、玉米、大豆、向日葵、棉、油菜及米，以及特殊作物，諸如：甘蔗、柑橘、水果及堅果作物)中之雜草。
亦應注意本發明之除草組成物的具體實施例，其包含上述化合物之具體實施例。
本發明亦包括一種除草混合物，其包含(a)選自式1、其N-氧化物及其鹽之化合物，及(b)選自以下之至少一種額外的活性成份：(b1)光系統II抑制劑、(b2)乙醯羥酸合成酶(AHAS)抑制劑、(b3)乙醯基-CoA羧基酶(ACCase)抑制劑、(b4)生長素模擬物、(b5)5-烯醇-丙酮莽草酸-3-磷酸鹽(EPSP)合成酶抑制劑、(b6)光系統I電子轉向器、(b7)原卟啉原氧化酶(PPO)抑制劑、(b8)麩醯胺酸合成酶(GS)抑制劑、(b9)超長鍵脂肪酸(VLCFA)延伸酶抑制劑、(b10)生長素運輸抑制劑、(b11)八氫番茄紅素去飽和酶(PDS)抑制劑、(b12)4-羥苯基-丙酮酸雙氧化酶(HPPD)抑制劑、(b13)尿黑酸茄尼基轉移酶(HST)抑制劑、(b14)纖維素生物合成抑制劑、(b15)其它除草劑，包括：有絲分裂干擾劑、有機砷、亞速爛(asulam)、溴芬諾(bromobutide)、環庚草醚(cinmethylin)、苄草隆(cumyluron)、邁隆(dazomet)、野燕枯(difenzoquat)、汰草龍(dymron)、乙氧苯草胺(etobenzanid)、抑草丁(flurenol)、殺木膦(fosamine)、殺木膦銨(fosamine-ammonium)、海丹托西丁(hydantocidin)、免得爛(metam)、甲基殺草隆(methyldymron)、油酸、噁嗪草酮(oxaziclomefone)、壬酸及稗草畏(pyributicarb)、及(b16)除草安全劑；及(b1)至(b16)之化合物之鹽。
「光系統II抑制劑」(b1)為佔據D-1蛋白質之結合區位(QB-binding niche)之化學化合物，藉以阻擋電子在葉綠體類囊體膜中自QA傳送至QB。受阻通 過光系統II之電子係經由一系列反應以形成有毒化合物，其破壞細胞膜並造成葉綠體膨脹、膜洩漏、以及最後之細胞毀壞。該QB-結合區位具有三個不同之結合位：結合位A結合三嗪[諸如：草脫淨(atrazine))、三嗪酮(諸如：六嗪酮)、及尿嘧啶(諸如：克草(bromacil)]，結合位B結合苯脲[諸如：達有龍(diuron)]，結合位C結合苯并噻二唑[諸如：本達隆(bentazon))、腈(諸如：溴苯腈(bromoxynil))及苯基-噠嗪(諸如：必汰草(pyridate)]。光系統II抑制劑之實例包括：草殺淨(ametryn)、胺唑草酮(amicarbazone)、草脫淨、本達隆、克草、殺草全(bromofenoxim)、溴苯腈、氯溴隆(chlorbromuron)、氯草敏(chloridazon)、綠麥隆(chlorotoluron)、枯草隆(chloroxuron)、苄草隆、氰草津(cyanazine)、殺草隆(daimuron)、甜菜安(desmedipham)、敵草淨(desmetryn)、噁挫隆(dimefuron)、愛落殺(dimethametryn)、達有龍、磺噻隆(ethidimuron)、非草隆(fenuron)、伏草隆(fluometuron)、菲殺淨(hexazinone)、碘苯腈(ioxynil)、異丙隆(isoproturon)、愛速隆(isouron)、環草定(lenacil)、理有龍(linuron)、苯嗪草酮(metamitron)、甲基苯噻隆(methabenzthiazuron)、撲奪草(metobromuron)、甲氧隆(metoxuron)、滅必淨(metribuzin)、綠谷隆(monolinuron)、草不隆(neburon)、蔬草滅(pentanochlor)、甜菜寧(phenmedipham)、撲滅通(prometon)、撲草淨(prometryn)、除草靈(propanil)、普拔根(propazine)、氯苯噠醇(pyridafol)、必汰草、環草隆(siduron)、草滅淨(simazine)、西草淨(simetryn)、特丁噻隆(tebuthiuron)、特草定(terbacil)、特丁通(terbumeton)、特丁津(terbuthylazine)、特丁淨(terbutryn)及草噠津(trietazine)。
「AHAS抑制劑」(b2)為化學化合物，其抑制乙醯羥酸合成酶(AHAS)，亦稱為乙醯乳酸合成酶(ALS)，且因此藉由抑制分支鏈脂族胺基酸(諸如：纈胺酸，白胺酸和異白胺酸)之產生而殺死植物，該等分支鏈脂族胺基酸為 蛋白質合成及細胞生長所需。AHAS抑制劑實例包括：醯嘧磺隆(amidosulfuron)、四唑嘧磺隆(azimsulfuron)、苄嘧磺隆(bensulfuron-methyl)、雙草醚(bispyribac-sodium)、氯酯磺草胺(cloransulam-methyl)、氯嘧磺隆(chlorimuron-ethyl)、氯磺隆(chlorsulfuron)、醚磺隆(cinosulfuron)、環磺隆(cyclosulfamuron)、雙氯磺草胺(diclosulam)、甲基胺苯磺隆(ethametsulfuron-methyl)、乙氧嘧磺隆(ethoxysulfuron)、啶嘧磺隆(flazasulfuron)、雙氟磺草胺(florasulam)、氟酮磺隆鈉(flucarbazone-sodium)、唑嘧磺草胺(flumetsulam)、氟啶嘧磺隆(flupyrsulfuron-methyl)、氟啶嘧磺隆鈉(flupyrsulfuron-sodium)、甲醯胺磺隆(foramsulfuron)、氯吡嘧磺隆(halosulfuron-methyl)、甲基咪草酸(imazamethabenz-methyl)、甲氧咪草酸(imazamox)、咪唑煙酸(imazapic)、滅草煙(imazapyr)、咪唑喹啉酸(imazaquin)、咪唑乙烟酸(imazethapyr)、咪唑磺隆(imazosulfuron)、甲基碘磺隆(iodosulfuron-methyl)(包括鈉鹽)、碘嗪磺隆(iofensulfuron)(2-碘-N-[[(4-甲氧基-6-甲基-1,3,5-三嗪-2-基)胺基]羰基]苯磺醯胺)、甲磺胺磺隆(mesosulfuron-methyl)、嗪吡嘧磺隆(metazosulfuron)(3-氯基-4-(5,6-二氫-5-甲基-1,4,2-二噁嗪-3-基)-N-[[(4,6-二甲氧基-2-嘧啶基)胺基]羰基]-1-甲基-1H-吡唑-5-磺醯胺)、磺草唑胺(metosulam)、甲磺隆(metsulfuron-methyl)、烟嘧磺隆(nicosulfuron)、環氧嘧磺隆(oxasulfuron)、五氟磺草胺(penoxsulam)、甲基氟嘧磺隆(primisulfuron-methyl)、丙苯磺隆鈉(propoxycarbazone-sodium)、丙嗪嘧磺隆(propyrisulfuron)(2-氯基-N-[[(4,6-二甲氧基-2-嘧啶基)胺基]羰基]-6-丙基咪唑[1,2-b]噠嗪-3-磺醯胺)、氟磺隆(prosulfuron)、吡嘧磺隆(pyrazosulfuron-ethyl)、嘧啶肟草醚(pyribenzoxim)、環酯草醚(pyriftalid)、嘧草醚(pyriminobac-methyl)、嘧草硫醚鈉(pyrithiobac-sodium)、玉嘧磺隆(rimsulfuron)、甲嘧磺隆(sulfometuron-methyl)、磺醯磺隆(sulfosulfuron)、噻酮磺 隆(thiencarbazone)、噻吩磺隆(thifensulfuron-methyl)、氟酮磺草胺(triafamone)(N-[2-[(4,6-二甲氧基-1,3,5-三嗪-2-基)羰基]-6-氟基苯基]-1,1-二氟基-N-甲基甲烷磺醯胺)、醚苯磺隆(triasulfuron)、苯磺隆(tribenuron-methyl)、三氟啶磺隆(trifloxysulfuron)(包括鈉鹽)、氟胺磺隆(triflusulfuron-methyl)及三氟甲磺隆(tritosulfuron)。
「ACCase抑制劑」(b3)為化學化合物，其抑制乙醯基-CoA羧酶酵素，其負責催化植物中脂質與脂肪酸合成的早期步驟。脂質為細胞膜之基本組份，且若無脂質，無法製造新細胞。抑制乙醯基CoA羧酶及缺乏脂質產生造成細胞膜完整性的損失，尤其是在諸如分生組織之活性生長的區域。最後枝芽與根莖停止生長，且枝芽分生組織及根莖芽開始回枯。ACCase抑制劑之實例包括亞汰草(alloxydim)、丁苯草酮(butroxydim)、烯草酮(clethodim)、炔草酯(clodinafop)、環殺草(cycloxydim)、賽伏草(cyhalofop)、禾草靈(diclofop)、芬殺草(fenoxaprop)、伏寄普(fluazifop)、甲基合氯氟(haloxyfop)、唑啉草酯(pinoxaden)、環苯草酮(profoxydim)、普拔草(propaquizafop)、快伏草(quizalofop)、西殺草(sethoxydim)、得殺草(tepraloxydim)及肟草酮(tralkoxydim)，包括解開形式，諸如：芬殺草(fenoxaprop-P)、伏寄普(fluazifop-P)、甲基合氯氟(haloxyfop-P)及快伏草-P(quizalofop-P)及酯形式，諸如：炔草酯(clodinafop-propargyl)、丁基賽伏草(cyhalofop-butyl)、禾草靈(diclofop-methyl)及芬殺草(fenoxaprop-P-ethyl)。
生長素為植物激素，其調節許多植物組織之生長。「生長素模擬物」(b4)為模擬植物生長激素之化學化合物，因此造成植物不受控制與混亂生長，導致易感物種的植物死亡。生長素模擬物之實例包括氯丙嘧啶酸(aminocyclopyrachlor)(6-胺基-5-氯基-2-環丙基-4-嘧啶羧酸)且其甲基與乙基酯及 其鈉與鉀鹽、氨草定(aminopyralid)、草除靈(benazolin-ethyl)、草滅畏(chloramben)、氯醯草膦(clacyfos)、克普草(clomeprop)、二氯吡啶酸(clopyralid)、汰克草(dicamba)、2,4-D、2,4-DB、2,4滴丙酸(dichlorprop)、氟草烟(fluroxypyr)、氟氯吡啶酯(halauxifen)(4-胺基-3-氯基-6-(4-氯基-2-氟基-3-甲氧基苯基)-2-吡啶羧酸)、氟氯吡啶酯(halauxifen-methyl)(甲基4-胺基-3-氯基-6-(4-氯基-2-氟基-3-甲氧基苯基)-2-吡啶羧酸酯)、MCPA、MCPB、氯丙酸(mecoprop)、毒莠定(picloram)、快克草(quinclorac)、氯甲喹啉酸(quinmerac)、2,3,6-TBA、定草酯(triclopyr)、及甲基4-胺基-3-氯基-6-(4-氯基-2-氟基-3-甲氧基苯基)-5-氟基-2-吡啶羧酸酯。
「EPSP合成酶抑制劑」(b5)為抑制酵素、5-烯醇丙酮酸莽草酸-3-磷酸合成酶之化學化合物，其涉及芳香族胺基酸(諸如：酪胺酸、色胺酸和苯丙胺酸)之合成。EPSP抑制劑除草劑容易經由植物葉吸收，並在韌皮部運移(translocated)至生長點。草甘膦(glyphosate)為屬於此群組之相對非選擇性之萌芽後除草劑。草甘膦包括諸如銨、異丙基銨、鉀、鈉(包括倍半鈉)及三甲基硫鹽[另稱為草硫膦(sulfosate)]之酯及鹽。
「光系統I電子轉向器」(b6)為自光系統I接受電子之化學化合物，且在數個循環後，產生羥基。該等基團極具反應性且易於破壞未飽和之脂質，包括膜脂肪酸及葉綠素。此破壞細胞膜完整性，使得細胞及胞器「滲漏」，導致葉片快速凋萎及枯萎，最終導致植物死亡。此第二型之光合成抑制劑之實例包括敵草快(diquat)及百草枯(paraquat)。
「PPO抑制劑」(b7)為抑制酵素原卟啉原氧化酶之化學化合物，其很快地導致植物中高反應性化合物之形成，破壞細胞膜，造成細胞液漏出。PPO抑制劑之實例包括：三氟羧草醚鈉(acifluorfen-sodium)、草芬定(azafenidin)、 雙苯嘧草酮(benzfendizone)、甲羧除草醚(bifenox)、氟丙嘧草酯(butafenacil)、克繁草(carfentrazone)、乙基克繁草(carfentrazone-ethyl)、甲氧除草醚(chlomethoxyfen)、吲哚酮草酯(cinidon-ethyl)、異丙吡草酯(fluazolate)、氟噠嗪草酯(flufenpyr-ethyl)、氟烯草酸(flumiclorac-pentyl)、丙炔氟草胺(flumioxazin)、乙羧氟草醚(fluoroglycofen-ethyl)、氟噻甲草酯(fluthiacet-methyl)、氟磺胺草醚(fomesafen)、氟硝磺醯胺(halosafen)、乳氟禾草靈(lactofen)、丙炔噁草酮(oxadiargyl)、樂滅草(oxadiazon)、乙氧氟草醚(oxyfluorfen)、環戊噁草酮(pentoxazone)、氟唑草胺(profluazol)、雙唑草腈(pyraclonil)、乙基派芬草(pyraflufen-ethyl)、苯嘧磺草胺(saflufenacil)、甲磺草胺(sulfentrazone)、噻二唑胺(thidiazimin)、三氟草嗪(trifludimoxazin)(二氫-1,5-二甲基-6-硫酮基-3-[2,2,7-三氟基-3,4-二氫-3-側氧基-4-(2-丙炔-1-基)-2H-1,4-苯并噁嗪-6-基]-1,3,5-三嗪-2,4(1H,3H)-二酮)及氟丙嘧草酯(tiafenacil)(甲基N-[2-[[2-氯基-5-[3,6-二氫-3-甲基-2,6-二側氧基-4-(三氟基甲基)-1(2H)-嘧啶基]-4-氟基苯基]硫基]-1-側氧基丙基]-β-丙胺酸)。
「GS抑制劑」(b8)為抑制麩醯胺合成酶酵素之活性之化學化合物，植物利用麩醯胺合成酶酵素將氨轉化成麩醯胺。因此，氨累積且麩醯胺含量減少。因氨之毒性及其它新陳代謝程序所需之胺基酸缺乏的結合效應可能發生植物傷害。GS抑制劑包括草胺膦(glufosinate)及其酯與鹽，諸如草胺膦銨(glufosinate-ammonium)及其它草丁膦(phosphinothricin)衍生物、草胺膦-P(glufosinate-P)((2S)-2-胺基-4-(羥基甲基氧膦基)丁酸)及雙丙氨醯膦(bilanaphos)。
「VLCFA延長酶抑制劑」(b9)為具有各種化學結構之除草劑，其抑制該延長酶。延長酶為位在葉綠體中或接近葉綠體之酵素之一，其涉及 VLCFAs之生物合成。在植物中，超長鏈脂肪酸為疏水性聚合物之主要組份，其防止葉表面處的乾燥並對花粉粒提供穩定性。此種除草劑包括：乙草胺(acetochlor)、甲草胺(alachlor)、莎稗磷(anilofos)、丁草胺(butachlor)、唑草胺(cafenstrole)、二甲草胺(dimethachlor)、汰草滅(dimethenamid)、大芬滅(diphenamid)、異噁苯碸(fenoxasulfone)(3-[[(2,5-二氯基-4-乙氧基苯基)甲基]磺醯基]-4,5-二氫-5,5-二甲基異噁唑)、四唑醯草胺(fentrazamide)、氟噻草胺(flufenacet)、茚草酮(indanofan)、滅芬草(mefenacet)、滅草胺(metazachlor)、莫多草(metolachlor)、萘丙胺(naproanilide)、敵草胺(napropamide)、敵草胺-M(napropamide-M)(2R)-N,N-二乙基-2-(1-萘基氧基)丙醯胺)、烯草胺(pethoxamid)、哌草磷(piperophos)、普拉草(pretilachlor)、毒草胺(propachlor)、異丙草胺(propisochlor)、派羅克殺草碸(pyroxasulfone)、及欣克草(thenylchlor)，包括解開形式，諸如：左旋莫多草(S-metolachlor)及氯化乙醯胺族與氧化乙醯胺類。
「生長素運輸抑制劑」(b10)為抑制植物中之生長素運輸之化學物質，諸如藉由結合生長素-載體蛋白質。生長素運輸抑制劑之實例包括氟吡草腙(diflufenzopyr)、鈉得爛(naptalam)(亦稱為N-(1-萘基)酞胺酸及2-[(1-萘胺基)羰基]苯甲酸)。
「PDS抑制劑」(b11)為在八氫番茄紅素去飽和酶步驟處抑制類胡蘿蔔素生物合成路徑之化學化合物。PDS抑制劑之實例包括：氟丁醯草胺(beflubutamid)、吡氟草胺(diflufenican)、氟啶草酮(fluridone)、氟咯草酮(flurochloridone)、呋草酮(flurtamone)、氟草敏(norflurazon)及氟吡醯草胺(picolinafen)。
「HPPD抑制劑」(b12)為抑制4-羥基苯基-丙酮酸二氧酶之生物合成的化學物質。HPPD抑制劑之實例包括雙環磺草酮(benzobicyclon)、吡草酮(benzofenap)、氟吡草酮(4-羥基-3-[[2-[(2-甲氧基乙氧基)甲基]-6-(三氟甲基)-3-吡啶基]羰基]二環[3.2.1]辛-3-烯-2-酮)、酸醌草酮(fenquinotrione)(2-[[8-氯基-3,4-二氫-4-(4-甲氧基苯基)-3-側氧基-2-喹噁啉基]羰基]-1,3-環己二酮)、異噁氯草酮(isoxachlortole)、異噁氟草酮(isoxaflutole)、硝磺草酮(mesotrione)、磺醯草吡唑(pyrasulfotole)、吡唑特(pyrazolynate)、苄草唑(pyrazoxyfen)，磺草酮(sulcotrione)、特糠酯酮(tefuryltrione)、環磺酮(tembotrione)、苯甲醯吡唑類除草劑(tolpyralate)(1-[[1-乙基-4-[3-(2-甲氧基乙氧基)-2-甲基-4-(甲基磺醯基)苯甲醯基]-1H-吡唑-5-基]氧基]乙基甲基碳酸酯)、苯唑草酮(topramezone)、5-氯基-3-[(2-羥基-6-側氧基-1-環己烯基-1-基)羰基]-1-(4-甲氧基苯基)-2(1H)-喹噁啉酮、4-(2,6-二乙基-4-甲基苯基)-5-羥基-2,6-二甲基-3(2H)-噠嗪酮、4-(4-氟苯基)-6-[(2-羥基-6-側氧基-1-環己烯基-1-基)羰基]-2-甲基-1,2,4-三嗪-3,5(2H,4H)-二酮、5-[(2-羥基-6-側氧基-1-環己烯基-1-基)羰基]-2-(3-甲氧基苯基)-3-(3-甲氧基丙基)-4(3H)-嘧啶酮、2-甲基-N-(4-甲基-1,2,5-噁二唑-3-基)-3-(甲基亞磺醯基)-4-(三氟基甲基)苯甲醯胺及2-甲基-3-(甲基磺醯基)-N-(1-甲基-1H-四唑-5-基)-4-(三氟基甲基)苯甲醯胺。
「HST抑制劑」(b13)破壞植物將尿黑酸轉化為2-甲基-6-茄基-1,4-苯醌之能力，藉此破壞類胡蘿蔔素之生物合成。HST抑制劑之實例包括環必莫瑞特(cyclopyrimorate)(6-氯基-3-(2-環丙基-6-甲基苯氧基)-4-噠嗪基4-嗎啉羧酸酯)、鹵草定(haloxydine)、氯草定(pyriclor)、3-(2-氯基-3,6-二氟基苯基)-4-羥基-1-甲基-1,5-萘啶-2(1H)-酮、7-(3,5-二氯基-4-吡啶)-5-(2,2-二氟基乙基)-8-羥基吡啶并[2,3-b]吡嗪-6(5H)-酮及4-(2,6-二乙基-4-甲基苯基)-5-羥基-2,6-二甲基-3(2H)-噠嗪酮。
HST抑制劑亦包括式A及B之化合物。
其中Rd1為H、Cl或CF3；Rd2為H、Cl或Br；Rd3為H或Cl；Rd4為H、Cl或CF3；Rd5為CH3、CH2CH3或CH2CHF2；及Rd6為OH、或-OC(=O)-i-Pr；及Re1為H、F、Cl、CH3或CH2CH3；Re2為H或CF3；Re3為H、CH3或CH2CH3；Re4為H、F或Br；Re5為Cl、CH3、CF3、OCF3或CH2CH3；Re6為H、CH3、CH2CHF2或C≡CH；Re7為OH、-OC(=O)Et、-OC(=O)-i-Pr或-OC(=O)-t-Bu；及Ae8為N或CH。
「纖維素生物合成抑制劑」(b14)抑制某些植物中纖維素的生物合成。其在幼苗或快速生長植物萌芽前或早期萌芽後施用時最為有效。纖維素生物合成抑制劑之實例包括：草克樂(chlorthiamid)、敵草腈(dichlobenil)、氟胺草唑(flupoxam)、茚嗪氟草胺(indaziflam)(N 2-[(1R,2S)-2,3-二氫-2,6-二甲基-1H-茚-1-基]-6-(1-氟乙基)-1,3,5-三嗪-2,4-二胺)、異噁草胺(isoxaben)及三嗪氟草胺(triaziflam)。
「其它除草劑」(b15)包括經由各種不同作用模式作用之除草劑，諸如：有絲分裂干擾素(例如：麥草氟甲酯(flamprop-M-methyl)及麥草氟異丙酯(flamprop-M-isopropyl)、有機砷(例如：DSMA、及MSMA)、7,8-二氫蝶呤合成酶抑制劑、葉綠體類異戊二烯合成抑制劑及細胞壁生物合成抑制劑。其它除草劑包 括該等具有未知作用模式，或未屬於列在(b1)至(b14)之特殊類別，或經由上列之作用模式之組合作用之除草劑。其它除草劑之實例包括：苯草醚(aclonifen)、亞速爛、殺草强(amitrole)、溴芬諾、環庚草醚、可滅蹤(clomazone)、苄草隆、殺草隆、野燕枯、乙氧苯草胺、伏草隆、抑草丁、殺木膦、殺木膦銨、邁隆、汰草龍、三唑醯草胺(ipfencarbazone)(1-(2,4-二氯苯基)-N-(2,4-二氟苯基)-1,5-二氫-N-(1-甲基乙基)-5-側氧基-4H-1,2,4-三唑-4-甲醯胺)、免得爛、甲基殺草隆、油酸、噁嗪草酮、壬酸、稗草畏及5-[[(2,6-二氟苯基)甲氧基]甲基]-4,5-二氫-5-甲基-3-(3-甲基-2-噻吩基)異噁唑。「其它除草劑」(b15)亦包括式(b15A)之化合物
其中R12為H、C1-C6烷基、C1-C6鹵基烷基或C4-C8環烷基；R13為H、C1-C6烷基或C1-C6烷氧基；Q1為一選擇性經取代環系統，其選自由以下組成之群組：苯基、噻吩基、吡啶基、苯并間二氧雜環戊烯基、萘基、萘、苯并呋喃基、呋喃基、苯并噻吩基及吡唑基，其中該環系統可由1至3個R14取代；Q2為一選擇性經取代環系統，其選自由以下組成之群組：苯基、吡啶基、苯并間二氧雜環戊烯基、吡啶酮基、噻二唑基、噻唑基及氧唑基，其中該環系統可由1至3個R15取代； 各R14獨立地為鹵素、C1-C6烷基、C1-C6鹵基烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6鹵基烷氧基、C3-C8環烷基、氰基、C1-C6烷基硫基、C1-C6烷基亞磺醯基、C1-C6烷基磺醯基、SF5、NHR17；或選擇性經1至3個R16取代之苯基；或選擇性經1至3個R16取代之吡唑基；各R15獨立地為鹵素、C1-C6烷基、C1-C6鹵基烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6鹵基烷氧基、氰基、硝基、C1-C6烷基硫基、C1-C6烷基亞磺醯基、C1-C6烷基磺醯基；各R16獨立地為鹵素、C1-C6烷基或C1-C6鹵基烷基；R17為C1-C4烷氧基羰基。
在一具體實施例中，其中「其它除草劑」(b15)亦包括式(b15A)之化合物，較佳地R12為H或C1-C6烷基；更佳地R12為H或甲基。較佳地R13為H。較佳地Q1為苯環或吡啶環，各環經1至3個R14取代；更佳地Q1為經1至2個R14取代之苯環。較佳地Q2為經1至3個R15取代之苯環；更佳地Q2為經1至2個R15取代之苯環。較佳地各R14獨立地為鹵素、C1-C4烷基、C1-C3鹵基烷基、C1-C3烷氧基或C1-C3鹵基烷氧基；更佳地各R14獨立地為氯基、氟基、溴基、C1-C2鹵基烷基、C1-C2鹵基烷氧基或C1-C2烷氧基。較佳地各R15獨立地為鹵素、C1-C4烷基、C1-C3鹵基烷氧基；更佳地各R15獨立地為氯基、氟基、溴基、C1-C2鹵基烷基、C1-C2鹵基烷氧基或C1-C2烷氧基。尤佳之「其它除草劑」(b15)包括下列(b15A-1)至(b15A-15)中之任一者：
「其它除草劑」(b15)亦包括式(b15B)之化合物
其中R18為H、C1-C6烷基、C1-C6鹵基烷基或C4-C8環烷基；各R19獨立地為鹵素、C1-C6鹵基烷基或C1-C6鹵基烷氧基；p為0、1、2或3之一整數；各R20獨立地為鹵素、C1-C6鹵基烷基或C1-C6鹵基烷氧基；及q為0、1、2或3之一整數。
在一具體實施例中，其中「其它除草劑」(b15)亦包括式(b15B)之化合物，較佳地R18為H、甲基、乙基或丙基；更佳地R18為H或甲基；最佳地R18為H。較佳地各R19獨立地為氯基、氟基、C1-C3鹵基烷基或C1-C3鹵基烷氧基；更佳地各R19獨立地為氯基、氟基、C1氟基烷基(即，氟基甲基、二氟基甲基或三氟基甲基)或C1氟基烷氧基(即，三氟基甲氧基、二氟基甲氧基或氟基甲氧基)。較佳地各R20獨立地為氯基、氟基、C1鹵基烷基或C1鹵基烷氧基；更佳地各R20獨立地為氯基、氟基、C1氟基烷基(即，氟甲基、二氟甲基或三氟甲基)或C1氟基烷氧基 (即，三氟甲氧基、二氟甲氧基或氟甲氧基)。尤佳之「其它除草劑」(b15)包括下列(b15B-1)至(b15B-19)中之任一者：
「除草劑安定劑」(b16)為添加至除草配方中以去除或降低除草劑對某些作物之藥害效果的物質。該等化合物保護作物不受除草劑之傷害，但通常不會防止除草劑控制不期望之植被。除草劑安定劑之實例包括(但不限於)解草酮(benoxacor)、解草酯(cloquintocet-mexyl)、苄草隆、解草胺腈(cyometrinil)、環丙磺醯胺(cyprosulfamide)、殺草隆、烯丙醯草胺、雙氯磺草胺、增效磷(dietholate)、哌草丹(dimepiperate)、解草唑(fenchlorazole-ethyl)、解草啶(fenclorim)、解草安(flurazole)、氟草肟(fluxofenim)、解草噁唑(furilazole)、雙苯噁唑酸(isoxadifen-ethyl)、吡唑解草酯(mefenpyr-diethyl)、甲基胺基甲酸4-氯苯酯(mephenate)、苯草酮(methoxyphenone)、萘酸酐、解草腈(oxabetrinil)、N-(胺基羰基)-2-甲基苯磺醯胺及N-(胺基羰基)-2-氟基苯磺醯胺、1-溴基-4-[(氯基甲基)磺醯基]苯、2-(二氯基甲基)-2-甲基-1,3-二噁戊烷(MG191)、4-(二氯基乙醯基)-1-氧雜-4-氮雜螺[4.5]癸 烷(MON 4660)、2,2-二氯基-1-(2,2,5-三甲基-3-噁唑烷基)-乙酮及2-甲氧基-N-[[4-[[(甲基胺基)羰基]胺基]苯基]磺醯基]-苯甲醯胺。
另一具體實施例，其中，「其它除草劑」(b15)亦包括式(b15C)化合物，
其中R1為Cl、Br或CN；及R2為C(=O)CH2CH2CF3、CH2CH2CH2CH2CF3或3-CHF2-異噁唑-5-基。
用於不期望植被之較佳控制(例如：來自增強效應的較低使用率、較廣之受控雜草種類、或增強之作物安全性)或用於較佳地防止抗性野草發展的除草劑為本發明化合物與具有選自以下組成群組之除草劑的混合物：草脫淨、四唑嘧磺隆、氟丁醯草胺、S-氟丁醯草胺、苯并異噻唑啉酮(benzisothiazolinone)、乙基克繁草、氯嘧磺隆、甲基氯磺隆(chlorsulfuron-methyl)、可滅蹤、二氯吡啶酸鉀、氯酯磺草胺、2-[(2,4-二氯苯基)甲基]-4,4-二甲基-異噁唑酮、2-[(2,5-二氯苯基)甲基]-4,4-二甲基-異噁唑酮、甲基胺苯磺隆、唑嘧磺草胺、4-(4-氟基苯基)-6-[(2-羥基-6-側氧基-1-環己烯-1-基)羰基]-2-甲基-1,2,4-三嗪-3,5-(2H,4H)-二酮、氟啶嘧磺隆、氟噻甲草酯、氟磺胺草醚、咪唑乙烟酸、環草定、硝磺草酮、滅必淨、甲磺隆、烯草胺、毒莠定(picloram)、派羅克殺草碸、快克草、玉嘧磺隆、左旋莫多草、甲磺草胺、噻吩磺隆、氟胺磺隆及苯磺隆。
如方案1-16中所述之一或多個以下方法及變化型可用來製備式1化合物。基團R1、R2、W、A、L及G在式1-29化合物中之定義為如以上在發明內容中所定義，除非另外說明。式1a、1b及1c為式1之子集，且式1a、1b及1c之所有取代基為如以上針對式1所定義，除非另外說明。
如方案1中所示，式1a之噠嗪酮(式1化合物之子集，其中W為O，且L及G為如上所定義，但L不為直接鍵結且G不為氫)可藉由使式1b之經取代之5-羥基-3(2H)-噠嗪酮(即其中W為O，L為直接鍵結且G為H之式1)與式2之合適親電子試劑(即其中Z1為離去基，或稱為親核性離去基(諸如：鹵素)之Z1-L-G)在適宜溶劑中於鹼存在下反應來製造。表示式2之試劑類別之一些實例(其中Z1為Cl且L為直接鍵結)包括醯氯(G為-(C=O)R5)、氯甲酸酯(G為-CO2R6)、胺甲醯氯(G為-CONR7R8)、氯化磺醯基(G為-S(O)2R5)及氯基磺醯胺(G為-S(O)2NR7R8)。本反應適宜鹼之實例包括(但不限於)：碳酸鉀、氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫化鈉或第三丁醇鉀，以及視所用之特定鹼而定，適宜溶劑可為質子或非質子且以無水或作為含水混合物使用。用於本反應之較佳溶劑包括乙腈、甲醇、乙醇、四氫呋喃、二乙醚、1,2-二甲氧基乙烷、二噁烷、二氯甲烷或N,N-二甲基甲醯胺。反應可在一溫度範圍下進行，通常範圍為自0℃至溶劑之回流溫度。
式1b之經取代之5-羥基-3(2H)-噠嗪酮可在鹼及溶劑存在下藉由式3之醯肼酯(其中Ra為烷基、通常為甲基或乙基)的環化如方案2中所概述來製備。本反應之適宜鹼包括(但不限於)：碳酸鉀、氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫化鈉、第三丁醇鉀或1,8-二氮雜雙環[5.4.0]十一-7-烯。取決於所用之特定鹼，適宜溶劑可為質子或非質子，且在無水或作為含水混合物使用。用於環化之溶劑包括：乙腈、甲醇、乙醇、四氫呋喃、二乙醚、二噁烷、1,2-二甲氧基乙烷、二氯甲烷或N,N-二甲基甲醯胺。本環化之溫度通常範圍在0℃至溶劑之回流溫度。將式CH3(CO2C2H5)C=NNCH3C(=O)CH2Ar之醯肼酯中間物(其中Ar為經取代之苯基，而非式3所示之雙環環系統)環化為對應之4-芳基-5-羥基-噠嗪酮之文獻方法揭示於美國專利第8,541,414號及第8,470,738號中。在該等專利中報告之相同條件可應用於將式3之腙酯環化成式1b之噠嗪酮。
經取代之式3之醯肼酯如方案3所概述可在鹼與溶劑存在下藉由使式4之腙酯(其中Ra為烷基，通常為甲基或乙基)與式5之醯氯偶合來製備。本反應之較佳鹼通常為三級胺，諸如三乙胺或二異丙基乙胺(Hunig’s base)，但亦可使用其它鹼，包括：N,N-二甲基胺基吡啶、碳酸鉀、氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫化鈉或第三丁醇鉀。取決於所用之特定鹼，適宜溶劑可為質子或非質子，其中反應在 無水條件或作為含水混合物下在肖滕-鮑曼(Schotten-Baumann)條件下發生。用於此氮上之醯化的溶劑包括乙腈、四氫呋喃、二乙醚、二噁烷、甲苯、1,2-二甲氧基乙烷、二氯甲烷或N,N-二甲基甲醯胺。本反應之溫度範圍可在0℃至溶劑之回流溫度。製造式CH3(CO2C2H5)C=NNCH3C(=O)Ar之相關醯肼酯中間物(其中Ar為經取代之苯基)之方法已發佈在專利文獻中，參見美國專利第8,541,414號及第8,470,738號，及美國專利申請公開案第2010/0267561號。在該等專利申請案中所揭示之製程可直接應用來製造可用於製備如方案3所述之化合物的中間物。
式4之腙酯可容易地藉由適當地經取代之式R1NHNH2之肼與式R2(C=O)CO2Ra(其中Ra通常為甲基或乙基)之酮或醛酯在適宜溶劑、通常範圍為0至80℃之溫度下反應得到，該適宜溶劑為諸如：乙醇、甲醇、乙腈或二噁烷或二氯甲烷。美國專利申請公開案第2007/0112038號及第2005/0256123號揭示用於自甲肼及酮酸酯CH3(C=O)CO2C2H5形成腙之製程。
如方案4中所示，式5之乙醯氯可經由酯水解及醯氯形成自式6之對應乙酸酯(其中Rb通常為甲基或乙基)製備。轉換之標準方法可由文獻中所知。例如，酯水解可藉由加熱式6之酯的醇溶液與鹼金屬氫氧化物之含水溶液，接著以無機酸之酸化來達成。所形成之式7之羧酸可接著轉化為對應之式5之醯氯，其係藉由以草醯氯及催化量之N,N-二甲基甲醯胺在諸如二氯甲烷之惰性溶劑下處理。J.Heterocyclic Chem. 1983，20(6)，1697-1703；J.Med.Chem. 2007，50(1)，40-64；及PCT專利公開案WO 2005/012291、WO 98/49141及WO 98/49158揭示苯并呋喃-及苯并噻吩-乙酸酯水解成對應之乙酸。Monatshefte für Chemie 1968，99(2)715-720及專利公開案WO 2004046122、WO 2009/038974及JP09077767揭示苯并呋喃-及苯并噻吩-乙酸轉化為對應之醯氯。
如方案5所示，式6c之雜芳基乙酸衍生物可由式8之適宜地經取代的雜芳基胺製備。根據本方法，式8之胺在1,1-二氯乙烯(9)之存在下重氮化(較佳地在乙腈中在氯化銅存在下以亞硝酸第三丁酯)以提供式10之對應三氯乙基雜環。式10之三氯乙基雜環接著以適宜之鹼金屬或鹼土金屬烷氧化物(諸如式11之鈉烷氧化物)在適宜溶劑(諸如：式12之醇)下加熱，接著諸如以濃硫酸酸化以提供式6c之雜環乙酸酯。本方法教示在Pest.Manag.Sci.2011，67，1499-1521及美國專利第5,376,677號中。
製造式6c之雜芳基乙酸酯的替代方法概述於方案6中。如在Pest.Manag.Sci. 2011，67，1499-1521中所教示之方法，式13之甲基雜環可以N-溴基琥珀醯亞胺(NBS)在自由基條件下(例如：苯甲醯過氧化物作為觸媒)在惰性溶劑下(諸如二氯甲烷、二氯乙烷或四氯甲烷)溴化以提供式14之雜芳基甲基溴化物。藉由將式14化合物與鹼金屬或鹼土金屬氰化物(例如：氰化鉀)反應以氰化物置換溴以提供式15之雜芳基乙腈，其可藉由在酸性醇(例如：甲醇或乙醇中之HCl)中 加熱通過酯化水解為式6c之乙酸酯，反應條件通常係在該溶劑之回流溫度下。醇RbOH為低級烷醇。
在噠嗪酮環之5-位置處之離去基的水解可如方案7所示完成。當X基團為低級烷氧基、低級烷基硫化物(亞碸或碸)、鹵化物或N-鏈結唑時，其可藉由以鹼性試劑(諸如：四丁銨氫氧化物)在諸如四氫呋喃、二甲氧基乙烷或二噁烷之溶劑中在0至120℃之溫度下水解來移除。其它可用於此水解之氫氧化物試劑包括氫氧化鉀、氫氧化鋰及氫氧化鈉(參見例如WO 2009/086041)。當X基團為低級烷氧基時，X基團的水解亦可以諸如三溴化硼或嗎啉之脫烷試劑完成(參見例如WO 2009/086041、WO 2013/160126及WO 2013/050421)。
在噠嗪酮之6-位置處引入鹵素可藉由浸鋅接著鹵化作用來達成。關於條件、試劑及噠嗪酮之浸鋅的實例，參見Verhelst,T.，PH.D.論文，University of Antwerp，2012。通常式17之噠嗪酮在四氫呋喃中以Zn(TMP)-LiCl或Zn(TMP)2- MgCl2-LiCl之溶液(即，在甲苯/四氫呋喃中之2,2,6,6-雙(四甲基哌啶)鋅、氯化鎂、氯化鋰錯合物)在-20至30℃下處理以形成鋅試劑。隨後添加溴、N-溴基琥珀醯亞胺或碘提供式18化合物(其中R2分別為Br或I)。諸如三氯基異三聚氰酸或1,3-二氯基-5,5-二甲基乙內醯脲之試劑提供式18之化合物(其中R2為Cl)。本方法示於方案8。關於各種適宜之浸鋅試劑之製備，參見Wunderlich,S.PH.D.論文，University of Munich，2010及其中引用之參考文獻，以及WO 2008/138946及WO 2010/092096。在噠嗪酮環之6-位置處之浸鋅(zincation)可在芳香基/雜芳基取代基、烷氧基取代基或鹵素存在下於噠嗪酮環之4-位置處完成，或在鹵素或烷氧基取代基存在下，於噠嗪酮環之5-位置處完成。
式19之化合物之R2取代基(其中R2為鹵素或磺酸鹽)可進一步地轉換成其它官能基。其中R2為烷基、環烷基或經取代之烷基之化合物可藉由式19之化合物之過渡金屬催化反應來製備，如方案9所示。對於該等類型之反應的說明，參見：E.Negishi，Handbook of Organopalladium Chemistry for Organic Synthesis，John Wiley and Sons,Inc.，New York，2002，N.Miyaura，Cross-Coupling Reactions：A Practical Guide，Springer，New York，2002，H.C.Brown等人之Organic Synthesis via Boranes，Aldrich Chemical Co.，Milwaukee，Vol.3，2002，Suzuki等人之Chemical Reviews 1995，95，2457-2483及Molander等人之Accounts of Chemical Research 2007，40，275-286。亦參見Tetrahedron Organic Chemistry Series Vol.26：Palladium in Heterocyclic Chemistry，2nd Ed.，Gribble與Li編撰，Elsevier，Amsterdam，2007。對於Buchwald-Hartwig化學之評論，參見Yudin及Hartwig，Catalyzed Carbon-Heteroatom Bond Formation，2010，Wiley，New York。
本技術已知用於在式21之R2位置處引入其它官能基之相關合成方法。銅催化反應可用於引入CF3基團。對於本反應之試劑的綜合近期評論，參見Wu,Neumann及Beller於Chemistry：An Asian Journal，2012，ASAP，及本文引用之參考文獻。對於在此位置處引入含硫取代基，參見在WO 2013/160126中揭示之方法。對於引入氰基，參見WO 2014/031971。對於引入硝基，參見J.Am.Chem.Soc. 2009，12898。關於引入氟基取代基，參見J.Am.Chem.Soc. 2014，3792。
如方案10所示，式19之化合物可藉由式22之有機金屬試劑與具有在4-位置處之反應基團之式21噠嗪酮反應來製備。根據離去基的種類，可能需要使用過渡金屬催化劑。當離去基為低級烷氧基、N-鏈結唑(諸如：吡唑或三唑)或磺酸鹽時，不需要觸媒，且直接與鎂試劑或鋰試劑之反應可在4-位置處發生。此反應可在各種溶劑下進行，該等溶劑不與有機鎂試劑反應。典型之反應條件包括四氫呋喃作為溶劑，-20至65℃之反應溫度，及過量有機鎂或有機鋰試劑。當在4-位置處之反應基團為鹵素時，過渡金屬觸媒及配位體係有幫助的。可使用各種 不同之偶合配體，包括硼(Suzuki反應)、錫(Stille反應)、及鋅(Negishi反應)；該等反應可藉由鈀及鎳觸媒以及各種不同之配位體催化。該等反應條件為本技術已知；參見例如Palladium-Catalyzed Coupling Reactions：Practical Aspects and Future Development，Arpad Molnar編撰，Wiley，2013及其中引用之參考文獻。在非催化製程中所用之有機鎂試劑可藉由以下方法製備：將鎂直接插入碳-鹵素鍵內(可在鹵化鋰存在下)，藉由與異丙基鎂鹵化物之格林鈉(Grignard)交換反應(可在鹵化鋰之存在下)，或藉由與鎂鹽(諸如溴化鎂合乙醚)之反應轉換有機鋰試劑。對有機鎂試劑為惰性之各種基團在該等反應中可存在於R2及噠嗪酮之5-位置處。式21化合物可根據以下所見之方法製備：Knochel等人之Angew. 2011，50，9794-9824，及Heterocycles 2014，88，827-844。
式21化合物為本技術已知或可藉由以下所述之方法製備：Maes與Lemiere之Comprehensive Heterocyclic Chemistry III Volume 8，Katritsky，Ramsden，Scriven與Taylor編撰及其中引用之參考文獻。亦參見Verhelst，PH.D.論文，University of Antwerp及其中引用之參考文獻。在噠嗪酮上之官能基轉換亦描述在Stevenson等人之J.Heterocyclic Chem. 2005，42，427；美國專利第6,077,953 號；WO 2009/086041及其中引用之參考文獻；美國專利第2,782,195號；WO 2013/160126；及WO 2013/050421。
式1b化合物亦可藉由式23之碸的水解在含水鹼中製備。合適之鹼包括：氫氧化鈉、氫氧化鉀或氫氧化四丁銨。典型之反應溫度範圍為0至80℃，且典型之反應時間為1-12小時。本方法示於方案11。
式23化合物可藉由以鹵化烷基及磺酸鹽將式24化合物(其中R1為H)烷化來製備。用於本方法中之典型之鹼包括碳酸鉀、碳酸鈉或碳酸銫。典型之溶劑包括乙腈、四氫呋喃或N,N-二甲基甲醯胺，如方案12中所示。
式24化合物可藉由以鹼處理將式25化合物環化來製備。用於本方法中之典型鹼包括碳酸鉀、碳酸鈉或碳酸銫。典型之溶劑包括乙腈、四氫呋喃或N,N-二甲基甲醯胺，如方案13中所示。
式25化合物可藉由方案14中所示之方法製備。在此方法中，式26化合物係在鹼存在下與式27化合物偶合。可用於本方法中之鹼包括：三乙胺、碳酸鈉或碳酸鉀、吡啶或二異丙基乙胺。
式26化合物可藉由本技術已知之方法製備。
式16化合物可藉由式28之有機金屬噠嗪酮偶合配體與雜芳基鹵化物及式29磺酸鹽之偶合反應來製備。有機金屬偶合配體可為例如有機鋅、有機鎂、有機錫或有機硼試劑。諸如肆(三苯基膦)鈀之鈀觸媒及由其它鈀源產生者，諸如Pd2dba3及Pd(OAc)2，及膦或N-雜環碳烯配位體可用在偶合製程中(Maes等人之J.Org.Chem. 2011，76，9648-9659)。基於二烷基二芳基膦配位體之鈀觸媒前 驅物，諸如：X-Phos、S-Phos及Ru-Phos(Buchwald等人之Angew.Chem.Int.Ed.， 2013，52(2)，615-619)，或衍生自N-雜環碳烯配位體之觸媒前驅物，諸如：PEPPSI-i-Pr及PEPPSI-i-Pent(Organ等人之Eur.J.Org.Chem.2010，4343-4354)亦可使此偶合生效。該反應可在諸如四氫呋喃、二甲氧基乙烷、N-甲基-2-吡咯啶酮及二噁烷之溶劑中進行。偶合配體可為雜環鹵化物或磺酸鹽。用於反應之偶合配體之尤其有用之類別係該等基於雜芳基化合物之全氟丁磺酸根(OSO2C4F9)者。鹵化之雜環偶合配體可商業購得或在文獻中得知。雜環鹵化物之其它有用的類別及合成途徑提供於Tetrahedron Organic Chemistry Series Vol.26：Palladium in Heterocyclic Chemistry，2nd Ed.，Gribble與Li編撰，Elsevier，Amsterdam，2007。
噠嗪酮之4-位置之浸鋅可用浸鋅試劑完成，諸如在甲苯/四氫呋喃中之2,2,6,6-雙(四甲基哌啶)鋅、氯化鎂、氯化鋰錯合物(即Zn(TMP)-LiCl或Zn(TMP)2-MgCl2-LiCl)。
此位置之鎂化亦藉由以Mg(TMP)-LiCl處理來完成。關於用於噠嗪酮金屬化及用於將4-鋅化及4-鎂化噠嗪酮鈀催化交叉偶合的條件，參見Verhelst,T.，PH.D.論文，University of Antwerp，2012。4-錫烷基噠嗪酮之合成及交叉偶合條件由以下得知：Stevenson等人之J.Heterocyclic Chem. 2005，42，427。
如方案16中所示，式1a噠嗪酮(式1化合物之子集，其中W為O)可在適當溶劑中(例如：甲苯、四氫呋喃或二噁烷)，於通常範圍為0℃至室溫之溫度下以硫酮試劑硫酮化以提供式1c之對應硫酮(即其中W為S之式1)，該硫酮試劑通常為在吡啶中之五硫化磷或Lawesson試劑(2,4-雙-(4-甲氧基苯基)-1,3-二噻-2,4-二磷雜環丁烷2,4-二硫化物)。
式6c化合物(其中A=A-1及R31=Et)可藉由在第三戊醇中之乙酸鈀(II)、苯醌、N-乙醯基-異白胺酸、及碳酸鉀之存在下在氧氣氛中使式30之二芳基乙酸與丙烯酸乙酯反應來製備，其使用以下所述之製程：Angew.Chem.Int.Ed.，2016，55，8652-8655且如在方案17中所述。
本領域通常知識者已知各種官能基可轉化成其它者以提供不同之式1化合物。對於以簡單及直接之方式說明官能基之相互轉化的珍貴資源，參見Larock,R.C.，Comprehensive Organic Transformations：A Guide to Functional Group Preparations，2nd Ed.，Wiley-VCH，New York，1999。例如，用於製備式1化合物之中間物可含有芳香族硝基，其可還原為胺基，且接著經由本領域習知之反應(諸如Sandmeyer反應)轉化為各種鹵化物，以提供式1之化合物。在許多情況下以替換順序進行以上反應。
已知上述用於製備式1化合物之某些試劑及反應條件可能與中間體中存在的某些官能基不相容。在這些情形下，將保護/去保護序列或官能基相互轉化併入至合成將有助於獲得所需產物。保護基之使用與選擇對於化學合成領域之通常知識者為顯而易見(參見例如Greene,T.W.；Wuts,P.G.M.Protective Groups in Organic Synthesis，2nd ed.；Wiley：New York，1991)。本領域通常知識者將了解在某些情況下，在如任一個別方案所述引入給定試劑後，可能必須進行未詳細描述之額外例行合成步驟以完成式1化合物之合成。本領域通常知識者亦將了解可能需要以一種未特別暗示的順序執行上述流程圖中所述步驟之組合。
本領域通常知識者亦將了解本文所述之式1化合物及中間物可進行各種親電子反應、親核反應、自由基反應、有機金屬反應、氧化反應和還原反應以添加取代基或修飾現有的取代基。
本領域通常知識者相信可以在無須特別闡述的狀況下充分地利用本發明。因此，下列實施例僅被解釋為說明性的，並不以任何方式限制本揭露。下列實施例中的步驟說明了全面合成轉化中的每個步驟之過程，並且每個步驟的起始材 料可能不一定由在其他實施例或步驟中已描述其過程的特定製備程序來製備。除了層析溶劑混合物或另有說明外，百分比均以重量計。除非另有說明，層析溶劑混合物的份數和百分比均按體積計。除非另有說明，1H NMR光譜以500MHz下的CDCl3溶液中四甲基矽烷中的低磁場區(downfield)ppm表示；「s」表示單重態，「br s」表示廣泛的單重態，「d」表示雙重態，「t」表示三重態，「m」表示多重態。合成例1
4-(9-蒽)-6-氯基-5-羥基-2-甲基-3(2H)-噠嗪酮(化合物1)之製備
步驟A：4-(9-蒽)-6-氯基-5-甲氧基-2-甲基-3(2H)-噠嗪酮之製備
在低於15℃之溫度下使用冰水冷卻浴將氯化鋅溶液(10mL之於2-甲基四氫呋喃中之1.9M溶液，19.0mmol)添加至2,2,6,6-四甲基哌啶基氯化鎂氯化鋰錯合物溶液之溶液中(於四氫呋喃/甲苯中1.0M，38.0mL，38.0mmol)。在5℃下攪拌所得溶液15min並在25℃下攪拌45min。接著將雙(2,2,6,6-四甲基哌啶基)鋅、氯化鋰、氯化鎂錯合物之所得溶液轉移至加液漏斗並於-40℃下逐滴添加至6-氯基-5-甲氧基-2-甲基-3(2H)-噠嗪酮(3.0g，17.2mmol)與四氫呋喃(86mL)之懸浮液中。將所得溶液在-40℃下攪拌15min，加溫至5℃，並在5℃下攪拌45min。依次以9-溴基蒽(4.2g，16.3mmol)及SPhos觸媒前驅物-G2(氯基(2-二環己基膦-2',6'-二甲氧基-1,1'-聯苯基)[2-(2'-胺基-1,1'-聯苯基)]鈀(II)，1.2g，1.7mmol)處理該溶液。將所得深棕色溶液在該溶劑之回流溫度下加熱3小時，冷卻至室溫，並濃縮。在乙酸乙酯及飽和氯化銨水溶液之間分離該殘餘物，將所得含水層以乙酸乙酯萃取，且依序地以水及鹽水清洗該組合有機層，在無水MgSO4上乾燥，過濾並濃縮以提供8.63g之黃油。以在己烷中0%至100%之乙酸乙酯之梯度洗提之矽膠(330g)管柱層析術純化該油，以提供呈油性固體之3.35g之題述化合物。
1H NMR δ 8.57(s,1H)，8.08-8.03(m,2H)，7.69-7.63(m,2H)，7.53-7.45(m,4H)，3.82(s,3H)，3.05(s,3H)。
步驟B：4-(9-蒽)-6-氯基-5-羥基-2-甲基-3(2H)-噠嗪酮之製備
將2.15g(6.1mmol)來自步驟A之產物與嗎啉之混合物(12mL)在100℃下加熱2小時。將所得之反應混合物濃縮並將該殘餘物以二乙醚研磨。在過濾後，將所得固體以二乙醚清洗並在玻璃漏斗上乾燥。所得固體懸浮在水性1N氫氯酸(約30mL)中，在室溫下攪拌2小時，並過濾。以水清洗該固體並在真空下乾燥以提供1.50g之題述化合物，其呈淡黃色固體。
1H NMR(DMSO-d 6)δ 8.70(s,1H)，8.15(d,2H)，7.68(d,2H)，7.52(t,2H)，7.45(t,2H)，5.75(s,1H)，3.67(s,3H)。
合成例2
6-氯基-4-(10-氯基-9-蒽)-5-羥基-2-甲基-3(2H)-噠嗪酮(化合物2)之製備
步驟A：6-氯基-4-(10-氯基-9-蒽)-5-甲氧基-2-甲基-3(2H)-噠嗪酮之製備
將合成例1之步驟A之產物(143mg，0.41mmol)、N-氯基琥珀醯亞胺(65mg，0.49mmol)及氯仿(4mL)之溶液在室溫下攪拌15小時。所得溶液以二氯甲烷稀釋並以水清洗兩次，該有機層在無水MgSO4上乾燥、過濾並濃縮以提供160mg之呈黃色玻璃之題述化合物。在無進一步純化下在下一步驟中使用該粗產物。
1H NMR δ 8.60(d,2H)，7.69(d,2H)，7.62(不規則t,2H)，7.53(不規則t,2H)，3.82(s,3H)，3.09(s,3H)。
步驟B：6-氯基-4-(10-氯基-9-蒽)-5-經基-2-甲基-3(2H)-噠嗪酮之製備
將155mg之步驟A之產物及嗎啉之懸浮液(1mL)在100℃下加熱2小時。所得混合物以二乙醚(5mL)稀釋，攪拌30min，且所得上清液自該固體產物傾析。在二氯甲烷與1N之水性氫氯酸之間分離固體產物，且該有機層在無水MgSO4上乾燥、過濾、及濃縮以提供120mg之呈黃色固體的題述化合物，本發明化合物。
1H NMR(DMSO-d 6)δ 8.52(d,2H)，7.61(d,2H)，7.74(不規則t,2H)，7.56(不規則t,2H)，3.67(s,3H)。
藉由本文所述之製程及本技術已知的方法，可製備表1至(960)之以下化合物。以下簡稱用於下表中：t意指三級，s意指二級，n意指正，i意指異，c意指環狀，Me意指甲基，Et意指乙基，Pr意指丙基，Bu意指丁基，i-Pr意指異丙基，c-Pr意指環丙基，t-Bu意指第三丁基，Ph意指苯基，OMe意指甲氧基，OEt意指乙氧基，SMe意指甲硫基，-CN意指氰基，-NO2意指硝基，TMS意指三甲基矽基，SOMe意指甲基亞磺醯基，C2F5意指CF2CF3及SO2Me意指甲基磺醯基。
本揭露亦包括表2至48，其中表1中之標題列限定特徵(即「W=O，R1=Me，R2=Me，L-G=H」)係以列於個別表中之標題列限定特徵置換，且其餘變數係如表1中所定義。
本揭露亦包括表50至56，其中列於各表中之該特定變數置換在表49中之標題列限定特徵中之對應變數。例如，在表50中，該標題列限定特徵為「W=O，R1=CH3，R2=Cl，L-G=H」且其餘變數定義如下：
本揭露亦包括表58至65，其中列於各表中之該特定變數置換在表57中之標題列限定特徵中之對應變數。例如，在表58中，該標題列限定特徵為「W=O，R1=CH3，R2=Cl，L-G=H」且其餘變數定義如下：
本揭露亦包括表67至74，其中列於各表中之該特定變數置換在表66中之標題列限定特徵中之對應變數。例如，在表67中，該標題列限定特徵為「W=O，R1=CH3，R2=CH3，Y=S，L-G=H」且其餘變數定義如下：
本揭露亦包括表76至83，其中列於各表中之該特定變數置換在表75中之標題列限定特徵中之對應變數。例如，在表76中，該標題列限定特徵為「W=O，R1=CH3，R2=CH3，Y=S，L-G=H」且其餘變數定義如下：
本揭露亦包括表85至92，其中列於各表中之特定變數置換在表84之標題列限定特徵中之對應變數。例如，在表85中之標題列限定特徵為「W=O，R1=CH3，R2=CH3，Y=S，L-G=H)且其餘變數係定義如下：
本揭露亦包括表94至101，其中列於各表中之特定變數置換在表93之標題列限定特徵中之對應變數。例如，在表94中之標題列限定特徵為「W=O，R1=CH3，R2=CH3，L-G=H，Y=S」且其餘變數係定義如下：
本揭露亦包括表103至110，其中列於各表中之該特定變數置換在表102中之標題列限定特徵中之對應變數。例如，在表103中，該標題列限定特徵為「W=O，R1=CH3，R2=CH3，L-G=H，Y=S」且其餘變數定義如下：
本揭露亦包括表112至122，其中列於各表中之特定變數置換在表111之標題列限定特徵中之對應變數。例如，在表112中之標題列限定特徵為「W=O，R1=CH3，R2=CH3，L-G=H，Y1=S」且其餘變數係定義如下：
本揭露亦包括表124至134，其中列於各表中之特定變數置換在表123之標題列限定特徵中之對應變數。例如，在表124中之標題列限定特徵為「W=O，R1=CH3，R2=CH3，L-G=H，Y1=S」且其餘變數係定義如下：
本發明化合物通常將與至少一種選自由界面活性劑、固體稀釋劑及液體稀釋劑組成之群組之額外組份(其作為載劑)一起用作組成物中之除草活性成份(即：配方)。選擇該等配方或組成物成份以與活性成份之物理性質、應用模式及環境因素(諸如：土壤型態、水份及溫度)一致。
有用的配方包括液體與固體組成物兩者。液體組成物包括：溶液(包括可乳化濃縮物)、懸浮物、乳劑(包括：微乳劑、水包油乳劑、可流動濃縮物及/或懸浮乳劑)及諸如此類，其視需要可增稠成膠體。水性液體組成物之一般型態係可溶性濃縮物、懸浮濃縮物、膠囊懸浮物、濃縮乳劑、微乳劑、水包油乳劑、可流動濃縮物及懸浮乳劑。非水性液體組成物之一般類型係可乳化濃縮物、微可乳化濃縮物、可分散濃縮物及油分散物。
固體組成物之一般型態為粉塵、粉末、顆粒、丸粒、小粒、軟錠劑、錠劑、填充膜(包括：粉衣劑)及諸如此類，其可為水可分散(「潤濕」)或水可溶性。由薄膜形成溶液或可流動懸浮物形成之膜及塗層尤其可用於粉衣處理 (seed treatment)。活性成份可為(微)囊封及進一步形成為一懸浮物或固體配方；或者，可囊封(或「包覆」)活性成份之整個配方。囊封可控制或延遲活性成份的釋出。可乳化顆粒結合可乳化濃縮物配方及乾燥顆粒配方兩者之優點。高強度組成物主要用作其它配方之中間物。
可噴灑配方通常在噴灑前在適合介質中擴展。此種液體及固體配方經調配成容易在噴灑介質中稀釋，該介質通常為水，但偶爾為另一適當介質，如芳香族或石蠟族烴或植物油。噴灑量範圍可自每公頃約1公升至約數千公升，但更通常地範圍在約每公頃10公升至數百公升。可噴灑配方可與水或另一適合之介質罐裝混合以藉由空中或地面施用進行葉處理，或施用在植物之生長介質上。液體與乾配方可直接計量至滴罐系統內或在種植期間計量至畦溝內。
該配方通常將含有在下述近似範圍內之有效量之活性成份、稀釋劑及界面活性劑，其總計至100重量百分比。
固體稀釋劑包括例如黏土(諸如：膨潤土、蒙脫石、鎂鋁海泡石及高嶺土)、石膏、纖維素、二氧化鈦、氧化鋅、澱粉、糊精、糖(例如：乳糖、蔗糖)、二氧化矽、滑石、雲母、矽藻土、尿素、碳酸鈣、碳酸鈉及碳酸氫鈉、及硫酸鈉。典型固體稀釋劑描述於Watkins等人之Handbook of Insecticide Dust Diluents and Carriers，第2版，Dorland Books，Caldwell，New Jersey。
液體稀釋劑包括例如水、N,N-二甲基烷醯胺(例如：N,N-二甲基甲醯胺)、檸檬烯、二甲亞碸、N-烷基吡咯啶酮(例如，N-甲基吡咯啶酮)、烷基磷酸酯(例如：三乙基磷酸酯)、乙二醇、三乙二醇、丙二醇、二丙二醇、聚丙二醇、碳酸丙烯酯、碳酸丁烯酯、石蠟(例如，白礦油、正石蠟、異石蠟)、烷基苯、烷基萘、甘油、三乙酸甘油酯、山梨糖醇、芳香烴、脫芳脂肪族、烷基苯、烷基萘、酮(諸如：環己酮、2-庚酮、異佛酮及4-羥基-4-甲基-2-戊酮、乙酸酯(諸如：乙酸異戊酯、乙酸己酯、乙酸庚酯、乙酸辛酯、乙酸壬酯、乙酸十三酯及乙酸異莰酯)、其它酯類(諸如：烷基化乳酸酯、二元酯、烷基及芳基苯甲酸酯及γ-丁內酯、及醇，其可為直鏈、支鏈、飽和或未飽和，諸如：甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇、正己醇、2-乙基己醇、正辛醇、癸醇、異癸醇、異十八醇、十六醇、月桂醇、十三醇、油醇、環己醇、四氫糠醇、二丙酮醇、甲酚及芐醇。液體稀釋劑亦包括飽和及未飽和脂肪酸(通常地，C6-C22)之甘油酯，諸如植物種子及果油(例如，橄欖油、蓖麻、亞麻仁、芝麻、玉米(corn、maize)、花生、葵花、葡萄籽、紅花籽、棉花籽、大豆、油菜籽、椰子及棕櫚仁)、動物來源的脂肪(例如：牛油、豬油、豬脂、魚肝油、魚油)及其混合物。液體稀釋劑亦包括烷基化脂肪酸(例如，甲基化、乙基化、丁基化)，其中該等脂肪酸可藉由自植物及動物源之甘油酯水解獲得，並可藉由蒸餾純化。典型液體稀釋劑描述於Marsden，Solvents Guide，第2版，Interscience，New York，1950。
本發明之該等固體及液體組成物通常包括一或多個界面活性劑。當添加至液體時，界面活性劑(亦稱為「表面活性劑」)通常修正(最常減少)該液體之表面張力。界面活性劑可用作潤濕劑、分散劑、乳化劑或消泡劑，取決於在界面活性劑分子中之該等親水性及親脂性基團之特性而定。
界面活性劑可分類為非離子型、陰離子型或陽離子型。用於本組成物之非離子型界面活性劑包括(但不限於)：醇烷氧化物，諸如：基於天然醇及合成醇之醇烷氧化物(其可為支鏈或直鏈)，並由該等醇及環氧乙烷、環氧丙烷、環氧丁烷或其混合物製備；胺乙氧化物、烷醇醯胺及乙氧基化烷醇醯胺；烷氧基化三甘油酯，諸如：乙氧基化大豆、蓖麻及油菜籽油；烷基酚烷氧化物，諸如：辛基酚乙氧化物、壬基酚乙氧化物、二壬基酚乙氧化物及十二烷基酚乙氧化物(由酚類及環氧乙烷、環氧丙烷、環氧丁烷或其混合物製備)；由環氧乙烷或環氧丙烷及反嵌段聚合物製備之嵌段聚合物，其中該等終端嵌段由環氧丙烷製備；乙氧基化脂肪酸；乙氧基化脂肪酯及油；乙氧基化甲基酯；乙氧基化三苯乙烯基酚(包括該等由環氧乙烷、環氧丙烷、環氧丁烷或其混合物製備者)；脂肪酸酯、甘油酯、羊毛脂基衍生物、聚乙氧基化酯，諸如：聚乙氧基化山梨醇脂肪酸酯、聚乙氧基化山梨糖醇脂肪酸酯及聚乙氧基化甘油脂肪酸酯；其它山梨醇衍生物，諸如：山梨醇酯；聚合界面活性劑，諸如：無規共聚物、嵌段共聚物、醇酸peg(聚乙二醇)樹脂、接枝或梳形聚合物及星形聚合物；聚乙二醇(pegs)；聚乙二醇脂肪酸酯；矽基界面活性劑；及糖-衍生物，諸如：蔗糖酯、烷基多糖苷及烷基多醣。
可用之陰離子界面活性劑包括(但不限於)：烷基芳基磺酸及其鹽；羧基化醇或烷基酚乙氧化物；二苯基磺酸酯衍生物；木質素及木質素衍生物，諸如：木質磺酸酯；馬來酸或琥珀酸或其酸酐；烯烴磺酸酯；磷酸酯，諸如：醇烷氧化物之磷酸酯、烷基酚烷氧化物之磷酸酯及苯乙烯基酚乙氧化物之磷酸酯；蛋白質基界面活性劑；肌胺酸衍生物；苯乙烯基酚醚硫酸酯；油與脂肪酸之硫酸酯及磺酸酯；乙氧基化烷基酚之硫酸酯及磺酸酯；醇之硫酸酯；乙氧基化醇之硫酸酯；胺及醯胺之磺酸酯，諸如：N,N-烷基牛磺酸酯；苯、異丙苯、甲苯、二甲 苯、及十二烷基及十三烷基苯之磺酸酯；濃縮萘之磺酸酯；萘及烷基萘之磺酸酯；分餾石油之磺酸酯；磺酸基琥珀醯胺酸酯；及磺酸基琥珀酸酯及其衍生物，諸如：二烷基磺酸基琥珀酸鹽。
可用之陽離子型界面活性劑包括(但不限於)：醯胺及乙氧基化醯胺；胺，諸如：N-烷基丙烷二胺、三丙烯三胺及二丙烯四胺、及乙氧基化胺、乙氧基化二胺及丙氧基化胺(由胺及環氧乙烷、環氧丙烷、環氧丁烷或其混合物製備)；胺鹽，諸如：胺乙酸酯及二胺鹽；四級銨鹽，諸如：四級鹽、乙氧基化四級鹽及二四級鹽；及胺氧化物，諸如：烷基二甲基胺氧化物及雙-(2-羥基乙基)-烷基胺氧化物。
非離子型及陰離子型界面活性劑之混合物或非離子型及陽離子型界面活性劑之混合物亦可用於本組成物。非離子型、陰離子型及陽離子型界面活性劑及其建議用途揭示於各種公開之參考文獻，包括：McCutcheon’s Emulsifiers and Detergents，年度美國版及國際版，McCutcheon’s Division出版，The Manufacturing Confectioner Publishing Co.；Sisely及Wood，Encyclopedia of Surface Active Agents，Chemical Pub.Co.，Inc.，New York，1964；及A.S.Davidson及B.Milwidsky，Synthetic Detergents，第7版，John Wileyand Sons，New York，1987。
本發明組成物亦可包含本領域通常知識者已知的配方助劑及添加劑(其中一些亦可作為固體稀釋劑、液體稀釋劑或界面活性劑)。此種配方助劑及添加劑可控制：pH(緩衝劑)、在加工期間發泡(消泡劑，諸如聚有機矽氧烷)、活性成份之沉降(懸浮劑)、黏度(觸變增稠劑)、容器內微生物生長(抗微生物)、產物凍結(防凍劑)、顏色(染料/色素分散物)、洗去性(成膜劑或黏著劑)、蒸發(蒸發 延緩劑)、及其它配方屬性。成膜劑包括例如：聚乙烯乙酸酯、聚乙烯乙酸酯共聚物、聚乙烯吡咯啶酮-乙烯乙酸酯共聚物、聚乙烯醇、聚乙烯醇共聚物及蠟。配方助劑及添加劑之實例包括列於以下者：McCutcheon’s Volume 2：Functional Materials，年度國際版及北美版，McCutcheon’s Division出版，The Manufacturing Confectioner Publishing Co.；及PCT申請案WO 03/024222。
式1化合物及任何其它活性成份通常藉由將活性成份溶於溶劑中或藉由在液體或乾稀釋劑中研磨併入本組成物中。包括可乳化濃縮物之溶液可藉由簡單地混合該等成份來製備。若意欲用作可乳化濃縮物之液體組成物的溶劑為水不混溶的，則通常在以水稀釋時添加乳化劑來乳化含活性成份之溶劑。具有多達2,000μm之粒徑的活性成份漿液可使用介質磨機濕磨以獲得具有低於3μm之平均直徑之粒子。水性漿液可製成最終之懸浮濃縮物(參見例如U.S.3,060,084)或以噴霧乾燥進一步加工來形成水可分散顆粒。乾配方通常需要乾磨製程，其製造範圍在2至10μm之平均粒徑。粉塵及粉末可藉由摻合且通常研磨(諸如以鎚磨機或流體能量磨機)來製備。顆粒及丸粒可藉由將該活性材料噴灑在預成粒狀載體上或藉由凝聚技術來製備。參見Browning，「Agglomeration」，Chemical Engineering，December 4，1967，pp 147-48，Perry’s Chemical Engineer’s Handbook，第4版，McGraw-Hill，New York，1963，第8-57頁及下文，及WO 91/13546。丸粒可如U.S.4,172,714所述製備。水可分散及水可溶顆粒可如U.S.4,144,050、U.S.3,920,442及DE 3,246,493中所教示來製備。錠劑可如U.S.5,180,587、U.S.5,232,701及U.S.5,208,030中所教示來製備。膜劑可如GB 2,095,558及U.S.3,299,566中所教示來製備。
對於關於配方技術之進一步資訊，參見T.S.Woods，「The Formulator’s Toolbox-Product Forms for Modern Agriculture」於Pesticide Chemistry and Bioscience，The Food-Environment Challenge，T.Brooks及T.R.Roberts,Eds.，Proceedings of the 9th International Congress on Pesticide Chemistry，The Royal Society of Chemistry，Cambridge，1999，pp.120-133。亦參見U.S.3,235,361，Col.6，第16行至Col.7，第19行及實施例10-41；U.S.3,309,192，Col.5，第43行至Col.7，第62行及實施例8、12、15、39、41、52、53、58、132、138-140、162-164、166、167及169-182；U.S.2,891,855，Col.3，第66行至Col.5，第17行及實施例1-4；Klingman，Weed Control as a Science，John Wileyand Sons,Inc.，New York，1961，pp 81-96；Hance等人，Weed Control Handbook，第8版，Blackwell Scientific Publications，Oxford，1989；及Developments in formulation technology，PJB Publications，Richmond，UK，2000。
在以下實施例中，所有百分比係以重量計且所有配方係以習知方式製備。化合物數量係指目錄表A中之化合物。在未進一步闡述下，據信本領域通常知識者使用先前描述可利用本發明至最完整的範圍。以下實施例因此僅被視為說明性，且未以任何方式限制本揭示內容。百分比係以重量計，除非另外指出。
本揭示內容亦包括以上實施例A至I，其中「化合物1」以「化合物2」、「化合物3」、「化合物4」、「化合物5」、「化合物6」、「化合物7」、「化合物8」、「化合物9」或「化合物10」代替。
測試結果指出本發明化合物為高活性萌芽前及/或萌芽後殺蟲劑及/或植物生長調節劑。本發明化合物通常顯示萌芽後雜草控制(即在雜草幼苗自土壤冒出後施用)及萌芽前雜草控制(即在雜草幼苗自土壤冒出前施用)之最高活性。許多該些化合物具有廣效萌芽前及/或萌芽後雜草控制之效用，係用在需要完全控制所有植被之區域，諸如在燃料儲存槽周圍、工業儲存區域、停車場、露天電影院、機場，河岸，灌溉及其他水道、廣告看板及公路與鐵路結構周圍。藉由作物對雜草之選擇性代謝，或藉由在作物及雜草中之生理抑制部位之選擇性活性，或藉由在作物及雜草之混合物之環境上或其內之選擇性佈置，許多本發明 化合物可用於選擇性控制作物/雜草混合物內之草與闊葉雜草。本領域通常知識者將了解該等選擇性因素在一化合物內或化合物群組內之較佳組合可容易地藉由進行例行生物及/或生化化驗來測定。本發明化合物可顯示對於重要農作物之容許量，包括(但不限於)：苜蓿、大麥、棉花、小麥、油菜、甜菜、玉米(corn、maize)、高粱、大豆、米、燕麥、花生、蔬菜、蕃茄、馬鈴薯，多年生種植作物，包括：咖啡、可可、油棕、橡膠、甘蔗、柑橘、葡萄、果樹、堅果樹、香蕉、芭蕉、鳳梨、啤酒花、茶及森林，諸如：桉樹及針葉樹(例如：火炬松)及草皮物種(例如：肯塔基藍草、聖奧古斯丁草、肯塔基狐草及百慕達草)。本發明化合物可用於遺傳轉化或育種以結合對除草劑的抗性、表現對無脊椎動物害蟲之蛋白質毒性的作物(諸如：蘇力菌毒素)，及/或表現其它有用之性狀的作物。本領域通常知識者將了解並非所有化合物對全部雜草等效。或者，標的化合物可用於修改植物生長。
當本發明化合物同時具有萌芽前及萌芽後除草活性時，為藉由殺死或傷害植被或減少其生長而控制不期望之植被，該化合物可藉由各種方法有用地施用，其涉及將除草有效量之本發明化合物，或包含該化合物及界面活性劑、固體稀釋劑或液體稀釋劑中之至少一者之組成物接觸不期望植被之葉或其它部份，或接觸不期望植被之環境(諸如土壤或水)，其中不期望植被生長在該環境中或該環境圍繞該不期望植被之種子或其它繁殖體。不期望植被包括至少一種選自由草、雜草及闊葉雜草組成之群組。不期望植被係選自由以下組成之群組：一年生藍草(annual bluegrass)、圓葉鴨跖草(Benghal dayflower)、黑草(blackgrass)、龍葵(Black Nightshade)、闊葉臂形草(broadleaf signalgrass)、加拿大薊(Canada thistle)、雀麥(cheat)、普通蒼耳(common cocklebur，Xanthium pensylvanicum)、普通豚草(common ragweed)、角罌粟花(corn poppies)、田地紫羅蘭(field violet)、大狐尾草(giant foxtail)、牛筋草(goosegrass)、綠色狐尾草(green foxtail)、天竺草(guinea grass)、咸豐草(hairy beggarticks)、抗除草性黑草(herbicide-resistant black grass)、馬草(horseweed)、義大利黑麥草(Italian rye grass)、蔓陀羅(jimsonweed)、詹森草(Johnson grass，Sorghum halepense)、大馬唐草(large crabgrass)、小籽金絲雀草(little seed canary grass)、牽牛花(morning glory)、賓州炭母草(Pennsylvania smartweed)、凹痕牽牛花(pitted morning glory)、刺午時花(prickly sida)、魁克麥草(quackgrass)、紅根豬草(redroot pigweed)、落粒高粱(shattercane)、薺菜(shepherd's purse)、滑風草(silky windgrass)、向日葵(sunflower)(如馬鈴薯中之雜草)、野生蕎麥(wild buckwheat，Polygonum convolvulus)、野生芥菜(wild mustard，Brassica kaber)、野生燕麥(wild oat，Avena fatua)、野生聖誕紅(wild pointsettia)、黃色狐尾草(yellow foxtail)、及油莎草(yellow nutsedge，Cyperus esculentus)。
本發明化合物之除草有效量係由一些因素測定。該等因素包括：所選配方、施用方法、現有植被之量及類型、生長條件等。一般而言，除草有效量之本發明化合物為約0.001至20kg/ha，其較佳範圍為約0.004至1kg/ha。本領域通常知識者可容易地測定所需程度之雜草控制所必要的除草有效量。
在一常見具體實施例中，將本發明化合物施加(通常在調配組成物中)至包含所需植被(例如：作物)及不期望植被(即：雜草)之部位上，其均可為種子、幼苗及/或大型植物，與生長介質(例如：土壤)接觸。在此部位中，包含本發明化合物之組成物可直接施加至一植物或其一部份上，尤其不期望之植被上，及/或與該植物接觸之生長介質上。
然而最為常見地，本發明化合物係用於控制不期望植被，以本發明化合物在經處理部位中接觸所需植被，可造成所需植被中基因性狀之加成或增強效果，包括經由基因修改併入之性狀。例如，對植食性昆蟲害蟲或植物病之抗性、對生物/非生物威脅之耐受性或儲存穩定性可大於自所需植被中基因性狀所預期者。
本發明化合物亦可與一或多種其它生物活性化合物或試劑混合，包括：除草劑、除草安全劑、殺黴劑、殺蟲劑、殺線蟲劑、殺菌劑、殺蟎劑、生長調節劑(諸如：昆蟲蛻皮抑製劑及發根刺激劑)、化學滅菌劑、訊息化合物、驅蟲劑、引誘劑、費洛蒙、攝食促進物質(feeding stimulants)、植物營養劑、其它生物活性化合物或昆蟲病原菌、病毒或真菌以形成多組份殺蟲劑，提供更廣效之農業保護。本發明化合物與其它除草劑之混合物可增大針對額外雜草物種的活性種類，並抑制任何抗性生物型的增殖。因此，本發明亦關於一組成物，其包含式1化合物(以除草有效量)及至少一種額外之生物活性化合物或試劑(以生物有效量)，且可進一步包含界面活性劑、固體稀釋劑或液體稀釋劑之至少一種。其它生物活性化合物或試劑可調配於包含界面活性劑、固體或液體稀釋劑中之至少一者之組成物中。對於本發明之混合物，可將一或多種其它生物活性化合物或試劑與式1化合物調配在一起，以形成一預混物，或將一或多種其它生物活性化合物或試劑與式1化合物分開調配，且在施用前將該等配方組合在一起(例如，在噴霧罐中)或者依序施用。
一或多種以下除草劑與本發明化合物之混合物對於雜草控制可特別有用：乙草胺、三氟羧草醚(acifluorfen)及其鈉鹽、苯草醚、丙烯醛(acrolein，2-propenal)、甲草胺、亞汰草、草殺淨、胺唑草酮、醯嘧磺隆、氯丙嘧啶酸及其 酯(例如：甲基、乙基)及鹽(例如，鈉、鉀)、氨草定、殺草強、氨基磺酸銨、莎稗磷、亞速爛、草脫淨、四唑嘧磺隆、氟丁醯草胺、草除靈(benazolin)、草除靈(benazolin-ethyl)、醯苯草酮(bencarbazone)、氟草胺(benfluralin)、呋草黃(benfuresate)、苄嘧磺隆、開抑草(bensulide)、本達隆、雙環磺草酮、吡草酮、氟吡草酮(bicyclopyrone)、甲羧除草醚、畢拉草(bilanafos)、雙草醚及其鈉鹽、克草、溴芬諾、殺草全、溴苯腈、辛醯溴苯腈(bromoxynil octanoate)、丁草胺、氟丙嘧草酯、抑草磷(butamifos)、比達寧(butralin)、丁苯草酮、丁草敵(butylate)、唑草胺、雙醯草胺(carbetamide)、乙基克繁草、兒茶素(catechin)、甲氧除草醚、草滅畏、氯溴隆、氯甲丹甲酯(chlorflurenol-methyl)、氯草敏、氯嘧磺隆、綠麥隆、氯苯胺靈(chlorpropham)、氯磺隆、氯酞酸甲酯(chlorthal-dimethyl)、草克樂、吲哚酮草酯、環庚草醚、醚磺隆、氯醯草膦、環苯草酮(clefoxydim)、烯草酮、炔草酯、可滅蹤、克普草、畢克草、二氯吡啶酸乙醇胺(clopyralid-olamine)、氯酯磺草胺、苄草隆、氰草津、環草敵(cycloate)、環必莫瑞特、環磺隆、環殺草、丁基賽伏草、2,4-D及其丁氧基、丁基、異辛基及異丙基酯及其二甲基銨、二乙醇胺及三乙醇胺鹽、殺草隆、茅草枯(dalapon)、茅草枯鈉(dalapon-sodium)、邁隆、2,4-DB及其二甲基銨、鉀及鈉鹽、甜菜安、敵草淨、汰克草及其二乙二醇銨、二甲基銨、鉀及鈉鹽、敵草腈、2,4滴丙酸、禾草靈、雙氯磺草胺、草吡唑(difenzoquat metilsulfate)、吡氟草胺、氟吡草腙、噁挫隆、哌草丹、二甲草胺、愛落殺、汰草滅(dimethenamid)、甲酚噻草胺-P(dimethenamid-P)、穫萎得(dimethipin)、二甲基胂酸(dimethylarsinic acid)及其鈉鹽、氨氟靈(dinitramine)、特樂酚(dinoterb)、大芬滅、二溴敵草快(diquat dibromide)、氟硫草定(dithiopyr)、達有龍、DNOC、草多索(endothal)、EPTC、戊草丹(esprocarb)、乙丁烯氟靈(ethalfluralin)、甲基胺苯磺 隆、乙嗪草酮(ethiozin)、乙氧呋草黃(ethofumesate)、甲氧除草醚(ethoxyfen)、乙氧嘧磺隆、乙氧苯草胺、芬殺草(fenoxaprop-ethyl)、芬殺草(fenoxaprop-P-ethyl)、異噁苯碸、酸醌草酮、四唑醯草胺、非草隆、非草隆-TCA、麥草氟甲酯(flamprop-methyl)、麥草氟異丙酯(flamprop-M-isopropyl)、麥草氟-M-甲酯(flamprop-M-methyl)、啶嘧磺隆、雙氟磺草胺、伏寄普(fluazifop-butyl)、伏寄普-P(fluazifop-P-butyl)、異丙吡草酯、氟酮磺隆(flucarbazone)、氟吡磺隆(flucetosulfuron)、氯乙氟靈(fluchloralin)、氟噻草胺、氟噠嗪草酯(flufenpyr)、氟噠嗪草酯(flufenpyr-ethyl)、唑嘧磺草胺、氟烯草酸、丙炔氟草胺、伏草隆、乙羧氟草醚、氟胺草唑、氟啶嘧磺隆及其鈉鹽、抑草丁、荷丁酯(flurenol-butyl)、氟啶草酮、氟咯草酮、氟草烟、呋草酮、氟噻甲草酯、氟磺胺草醚、甲醯胺磺隆、殺木膦銨、草胺膦、草胺膦銨、草胺膦-P、草甘膦及其鹽諸如：銨、異丙銨、鉀、鈉(包括倍半鈉)及三甲基硫鹽(或稱為草硫膦)、氟氯吡啶酯(halauxifen)、氟氯吡啶酯(halauxifen-methyl)、氯吡嘧磺隆、吡氟甲禾靈(haloxyfop-etotyl)、甲基合氯氟(haloxyfop-methy)、菲殺淨、海丹托西丁、甲基咪草酸、甲氧咪草酸、咪唑煙酸、滅草煙、咪唑喹啉酸、咪唑喹啉酸銨(imazaquin-ammonium)、咪唑乙烟酸、咪唑乙烟酸銨(imazethapyr-ammonium)、咪唑磺隆、茚草酮、茚嗪氟草胺、碘嗪磺隆、甲基碘磺隆、碘苯腈、辛醯碘苯腈(ioxynil octanoate)、碘苯腈鈉(ioxynil-sodium)、三唑醯草胺、異丙隆、愛速隆、異噁草胺、異噁氟草酮、異噁氯草酮、乳氟禾草靈、環草定、理有龍、馬來醯肼、MCPA及其鹽(例如，MCPA-二甲基銨、MCPA-鉀及MCPA-鈉、酯(例如，MCPA-2-乙基己基、MCPA-丁氧基)及硫酯(例如，MCPA-硫乙基)、MCPB及其鹽(例如，MCPB-鈉)及酯(例如，MCPB-乙基)、氯丙酸、精2甲4氯丙酸(mecoprop-P)、滅芬草、氟磺醯草胺(mefluidide)、甲磺胺磺隆、硝磺草酮、斯美地(metam- sodium)、噁唑醯草胺(metamifop)、苯嗪草酮、滅草胺、嗪吡嘧磺隆、甲基苯噻隆、甲基胂酸(methylarsonic acid)及其鈣、單銨、單鈉及二鈉鹽、甲基殺草隆、甲氧苯草隆(metobenzuron)、撲奪草、莫多草、左旋莫多草、磺草唑胺、甲氧隆、滅必淨、甲磺隆、禾草敵(molinate)、綠谷隆、萘丙胺、敵草胺、敵草胺-M、鈉得爛、草不隆、烟嘧磺隆、氟草敏、坪草丹(orbencarb)、嘧苯胺磺隆(orthosulfamuron)、氨磺樂靈(oryzalin)、丙炔噁草酮、樂滅草、環氧嘧磺隆、噁嗪草酮、乙氧氟草醚、巴拉刈二氯鹽(paraquat dichloride)、克草敵(pebulate)、壬酸、二甲戊靈(pendimethalin)、五氟磺草胺、蔬草滅、環戊噁草酮、黃草伏(perfluidone)、烯草胺(pethoxamid)、百特胺(pethoxyamid)、甜菜寧、毒莠定、毒莠定鉀(picloram-potassium)、氟吡醯草胺、唑啉草酯、哌草磷、普拉草、甲基氟嘧磺隆、氨氟樂靈(prodiamine)、環苯草酮、撲滅通、撲草淨、毒草胺、除草靈、普拔草、普拔根、苯胺靈(propham)、異丙草胺、丙苯磺隆(propoxycarbazone)、丙嗪嘧磺隆、炔苯醯草胺(propyzamide)、苄草丹(prosulfocarb)、氟磺隆、雙唑草腈、乙基派芬草、磺醯草吡唑、雙唑草腈(pyrazogyl)、吡唑特、苄草唑、吡嘧磺隆、嘧啶肟草醚、稗草畏、必汰草、環酯草醚、嘧草醚、嘧磺草胺(pyrimisulfan)、嘧草硫醚(pyrithiobac)、嘧草硫醚鈉(pyrithiobac-sodium)、派羅克殺草碸、啶磺草胺(pyroxsulam)、快克草、氯甲喹啉酸、靈藻醌(quinoclamine)、快伏草-乙酯(quizalofop-ethyl)、快伏草-P-乙酯(quizalofop-P-ethyl)、糖草酯(quizalofop-P-tefuryl)、玉嘧磺隆、苯嘧磺草胺、西殺草、環草隆、草滅淨、西草淨、磺草酮、甲磺草胺、甲嘧磺隆、磺醯磺隆、2,3,6-TBA、TCA、TCA-鈉、牧草胺(tebutam)、特丁噻隆、特糠酯酮、環磺酮、得殺草、特草定、特丁通、特丁津、特丁淨、欣克草、噻草啶(thiazopyr)、噻酮磺隆、噻吩磺隆、禾草丹(thiobencarb)、氟丙嘧草 酯、仲草丹(tiocarbazil)、苯甲醯吡唑類除草劑、苯唑草酮、肟草酮、野麥畏(tri-allate)、氟酮磺草胺、醚苯磺隆、三嗪氟草胺、苯磺隆、三氯比、定草酯丁氧基乙酯(triclopyr-butotyl)、定草酯三乙銨鹽(triclopyr-triethylammonium)、三地芬(tridiphane)、草噠津、三氟啶磺隆、三氟草嗪、三福林(trifluralin)、氟胺磺隆、三氟甲磺隆、靈草敵(vernolate)、3-(2-氯基-3,6-二氟苯基)-4-羥基-1-甲基-1,5-萘啶-2(1H)-酮、5-氯基-3-[(2-羥基-6-氧基-1-環己烯-1-基)羰基]-1-(4-甲氧基苯基)-2(1H)-喹噁啉、2-氯基-N-(1-甲基-1H-四唑-5-基)-6-(三氟基甲基)-3-吡啶甲醯胺、7-(3,5-二氯基-4-吡啶基)-5-(2,2-二氟乙基)-8-羥基吡啶并[2,3-b]吡嗪-6(5H)-酮)、4-(2,6-二乙基-4-甲基苯基)-5-羥基-2,6-二甲基-3(2H)-噠嗪酮)、5-[[(2,6-二氟苯基)甲氧基]甲基]-4,5-二氫-5-甲基-3-(3-甲基-2-噻吩)異噁唑(原先之methioxolin)、4-(4-氟基苯基)-6-[(2-羥基-6-氧基-1-環己烯-1-基)羰基]-2-甲基-1,2,4-三嗪-3,5(2H,4H)-二酮、甲基4-胺基-3-氯基-6-(4-氯基-2-氟基-3-甲氧基苯基)-5-氟基-2-吡啶羧酸酯、2-甲基-3-(甲基磺醯基)-N-(1-甲基-1H-四唑-5-基)-4-(三氟基甲基)苯甲醯胺及2-甲基-N-(4-甲基-1,2,5-噁二唑-3-基)-3-(甲基亞磺醯基)-4-(三氟基甲基)苯甲醯胺。其它除草劑亦包括生物除草劑，諸如：Alternaria destruens Simmons，Colletotrichum gloeosporiodes(Penz.)Penz.& Sacc.，Drechsiera monoceras(MTB-951)，Myrothecium verrucaria(Albertini & Schweinitz)Ditmar：Fries，Phytophthora palmivora(Butl.)Butl.及Puccinia thlaspeos Schub。
用於不期望植被之較佳控制(例如：較低使用速率，如來自增強效應、較廣之受控雜草種類、或增強之作物安全性)或用於防止抗性野草之發展，較佳地係具有選自由以下組成之群組之除草劑之本發明化合物之混合物：草脫淨、四唑嘧磺隆、S-氟丁醯草胺、苯并異噻唑啉酮、乙基克繁草、氯嘧磺隆、 甲基氯磺隆、可滅蹤、二氯吡啶酸鉀、氯酯磺草胺、2-[(2,4-二氯苯基)甲基]-4,4-二甲基-3-異噁唑酮、2-[(2,5-二氯苯基)甲基]-4,4-二甲基-3-異噁唑酮、甲基胺苯磺隆、唑嘧磺草胺、4-(4-氟基苯基)-6-[(2-羥基-6-側氧基-1-環己烯-1-基)羰基]-2-甲基-1,2,4-三嗪-3,5-(2H,4H)-二酮、氟啶嘧磺隆、氟噻甲草酯、氟磺胺草醚、咪唑乙烟酸、環草定、硝磺草酮、滅必淨、甲磺隆、烯草胺、毒莠定、派羅克殺草碸、快克草、玉嘧磺隆、左旋莫多草、甲磺草胺、噻吩磺隆、氟胺磺隆及苯磺隆。
本發明化合物亦可與植物生長調節劑結合使用，諸如：艾维激素(aviglycine)、N-(苯基甲基)-1H-嘌呤-6-胺、愛增美(epocholeone)、勃激素A3(gibberellic acid)、勃激素(gibberellin)A4及A7、免疫球蛋白(harpin protein)、矮壯素(mepiquat chloride)、調環酸鈣(prohexadione calcium)、茉莉酮(prohydrojasmon)、硝基苯酚鈉(sodium nitrophenolate)及抗倒甲酯(trinexapac-methyl)、及植物生長修飾生物體，諸如：蠟狀芽孢桿菌(Bacillus cereus)菌株BP01。
農業保護劑(即除草劑、除草安全劑、殺蟲劑、殺黴劑、殺線蟲劑、殺蟎劑及生物試劑)之一般參考文獻包括The Pesticide Manual，第13版，C.D.S.Tomlin,Ed.，British Crop Protection Council，Farnham，Surrey，U.K.，2003及The BioPesticide Manual，第2版，L.G.Copping,Ed.，British Crop Protection Council，Farnham，Surrey，U.K.，2001。
關於其中使用一或多個該等各種混合配體之具體實施例，通常以類似於當僅使用混合配體習用之量使用該等混合配體。尤其在混合物中，通常以單獨使用活性成份之產品標籤上指明之一半或全部施用率之間之施用率施用活性成份。該等量列於參考文獻中，諸如：The Pesticide Manual及The BioPesticide Manual。該等各種混合配體(總計)對式1化合物之重量比通常在約1：3000及約3000：1之間。應注意的為約1：300及約300：1之間之重量比(例如：在約1：30及約30：1之間之比)。本領域通常知識者可容易地經由簡單實驗來測定生物活性之所需種類所必要之活性成份的生物有效量。顯而易見的包括該等額外組份可將雜草控制的種類擴大至超過式1化合物單獨可控制的種類。
在某些情況下，本發明化合物與其它生物活性(尤其是除草性)化合物或試劑(即活性成份)之組合可對雜草造成加成(即增強)效應及/或對作物或其它所需植物造成抗拮效應(即安全化)。釋出至環境中之活性成份量減少同時確保有效之害蟲控制是始終需要的。使用較大量之活性成份的能力以提供更有效之雜草控制而無過量之作物傷害亦為所需的。當以提供農藝滿足程度之雜草控制之施加率而對雜草產生活性成份之除草混合物之增強效應時，此等組合可有利於減少作物生產成本並減少環境負擔。當對作物產生除草活性成份之安全化時，此等組合可藉由減少雜草競爭而有利於增加作物之保護。
應注意的是本發明化合物與至少一種其它除草性活性成份之組合。特別應注意的是其中其它除草性活性成份具有與本發明化合物不同之作用部位之組合。在某些情況下，與具有類似之控制種類但不同作用部位之至少一種其它除草性活性成份之組合將尤其有利於抗性管理。因此，本發明組成物可進一步包含(以除草有效量)至少一種額外之除草性活性成份，其具有類似之控制種類但不同之作用部位。
本發明化合物亦可用在具除草安全劑之組合，諸如：二丙烯草胺(allidochlor)、解草酮、解草酯、苄草隆、解草胺腈、環丙磺醯胺(cyprosulfonamide)、殺草隆、二氯丙烯胺、二環酮(dicyclonon)、增效磷、哌草丹、解草唑、解草啶、 解草安、氟草肟、解草噁唑、雙苯噁唑酸、吡唑解草酯、甲基胺基甲酸4-氯苯酯、苯草酮、萘酸酐(1,8-萘二甲酸酐)、解草腈、N-(胺基羰基)-2-甲基苯磺醯胺、N-(胺基羰基)-2-氟基苯磺醯胺、1-溴基-4-[(氯基甲基)磺醯基]苯(BCS)、4-(二氯乙醯基)-1-氧雜-4-氮雜螺[4.5]癸烷(MON 4660)、2-(二氯基甲基)-2-甲基-1,3-二噁烷(MG 191)、乙基1,6-二氫-1-(2-甲氧基苯基)-6-氧基-2-苯基-5-嘧啶羧酸酯、2-烴基-N,N-二甲基-6-(三氟基甲基)吡啶-3-甲醯胺、及3-氧基-1-環己烯-1-基1-(3,4-二甲基苯基)-1,6-二氫-6-氧基-2-苯基-5-嘧啶羧酸酯、2,2-二氯基-1-(2,2,5-三甲基-3-噁唑烷基)-乙酮及2-甲氧基-N-[[4-[[(甲基胺基)羰基]胺基]苯基]磺醯基]-苯甲醯胺，以增加對某些作物之安全性。除草安全劑之解毒有效量可與本發明化合物同時施用，或在種子處理時施加。因此，本發明之一態樣係關於一除草性混合物，其包含本發明化合物及解毒有效量之除草安全劑。種子處理尤其可用於選擇性雜草控制，因為其物理上限制對作物植物之解毒。因此，本發明尤其有用之具體實施例為一種用於選擇性控制作物中不期望植被之生長的方法，其包含將作物部位與除草有效量之本發明化合物接觸，其中生長作物之種子係以解毒有效量之安全劑處理。解毒有效量之安全劑可容易地由本領域通常知識者經由簡單實驗測定。
本發明化合物亦可與以下混合：(1)多核苷酸，包括(但不限於)DNA、RNA、及/或化學修飾核苷酸，其經由負向調節、干擾、抑制或靜默提供除草效果之基因衍生轉錄來影響特別標靶量；或(2)多核苷酸，包括(但不限於)：DNA、RNA、及/或化學修飾核苷酸，其經由負向調節、干擾、抑制或靜默提供安全效果之基因衍生轉錄來影響特別標靶量。
應注意的是一種組成物，其包含本發明化合物(以除草有效量)、選自由其它除草劑及除草安全劑(以一有效量)組成之群組之至少一種額外之活 性成份、及至少一種選自由界面活性劑、固體稀釋劑及液體稀釋劑組成之群組之組份。
較佳用於控制不期望植被(例如，來自增強效應的較低使用率，較廣之受控雜草種類，或增強之作物安全性)或較佳用於防止抗性雜草發展為具有選自由以下組成之除草劑之本發明化合物之混合物：氯嘧磺隆、烟嘧磺隆、硝磺草酮、噻吩磺隆、氟啶嘧磺隆、苯磺隆(tribenuron)、派羅克殺草碸、唑啉草酯、環磺酮、啶磺草胺、莫多草及左旋莫多草。
以下測試證實本發明化合物針對特定雜草之控制效果。然而，該等化合物提供之雜草控制不受該等物種之限制。化合物描述參見目錄表A。以下簡稱用於以下目錄表中：「Cmpd.No.」表示「化合物號碼」，「Ex.」表示「實施例」且後綴數字指出其中製備該化合物之實施例。1H NMR光譜以ppm表示，在DMSO-d 6溶液中自四甲基矽烷向低場區位移，除非另外指明；「s」意指單峰，「d」意指雙重峰，「t」意指三重峰且「m」意指多重峰。
10 δ 0.25(s,1H),8.53(d,2H),7.76-7.69(m,4H),7.54(dd,2H),3.65(s,3H),2.32(s,3H).
a1H NMR數據以ppm表示，自四甲基矽烷向低場區位移。偶合以(s)-單峰、(d)-雙重峰、(t)-三重峰、(m)-多重峰指明。
本發明之生物實例
測試A
將選自稗草(bamyardgrass，Echinochloa crus-galli)、地膚草(kochia，Kochia scoparia)、豚草(常見豚草、Ambrosia elatior)、義大利黑麥草(Italian ryegrass、Lolium multiflorum)、綠色狐尾草(green foxtail、Setaria viridis)、及豬草(Amaranthus retroflexus)之植物物種的種子植入壤土與砂之摻合物中並在萌芽前使用調配在非藥害溶劑混合物中之測試化學品(包括界面活性劑)以定向土壤噴霧處理。
同時，將選自該等雜草物種以及小麥(Triticum aestivum)、玉米(Zea mays)、黑草(Alopecurus myosuroides)、及八仙草(catchweed bedstraw、Galium aparine)之植物種植在含有相同壤土與砂之摻合物的罐中，並以萌芽後施用以相同方式調配之測試化學品處理。植物高度範圍在2至10cm且係處於萌芽後處理的一至二葉階段。經處理之植物及未經處理的對照組維持在溫室中約10天，在這之後所有經處理之植物與未經處理之對照組比較並目測評估受損狀況。總結在表A中之植物回應評級係基於0至100之等級，其中0為無效果及100為完全控制。破折號(-)回應意指無測試結果。
測試B
選自米(Oryza sativa)、小花傘莎草(small-flower umbrella sedge、Cyperus difformis)、沼生異蕊花(Heteranthera limosa)、及稗草(Echinochloa crus-galli)之在水稻田測試中之植物物種係生長至2葉階段以用於測試。在處理時，將測試罐淹至高於土壤表面3cm，藉由對稻田水直接施加測試化合物來處理，且接著在測試期間維持該水深。經處理植物及對照組維持在溫室中13至15天，在其之後將所有物種與對照組比較並目測評估。總結在表B中之植物回應評級係基於0至100之等級，其中0為無效果及100為完全控制。破折號(-)回應意指無測試結果。

Claims (10)

  1. 一種式 1化合物及其立體異構物、 N-氧化物和鹽 其中W為O或S；R 1為H、C 1-C 7烷基、C 3-C 8烷基羰基烷基、C 3-C 8烷氧基羰基烷基、C 4-C 7烷基環烷基、C 3-C 7烯基、C 3-C 7炔基、C 3-C 7環烷基、C 4-C 7環烷基烷基、C 2-C 3氰基烷基、C 1-C 4硝基烷基、C 2-C 7鹵基烷氧基烷基、C 1-C 7鹵基烷基、C 3-C 7鹵基烯基、C 2-C 7烷氧基烷基、C 3-C 7烷基硫基烷基、C 1-C 7烷氧基、芐基或苯基；或一5-或6-員飽和或部份飽和之雜環，其含有選自碳及至多1O及1S；R 2為H、鹵素、氰基、甲醯基、C 1-C 7烷基、C 3-C 8烷基羰基烷基、C 3-C 8烷氧基羰基烷基、C 2-C 4烷基羰基、C 2-C 7烷基羰氧基、C 4-C 7烷基環烷基、C 3-C 7烯基、C 3-C 7炔基、C 1-C 4烷基亞磺醯基、C 1-C 4烷基磺醯基、C 1-C 4烷基胺基、C 2-C 8二烷基胺基、C 3-C 7環烷基、C 4-C 7環烷基烷基、C 2-C 3氰基烷基、C 1-C 4硝基烷基、C 2-C 7鹵基烷氧基烷基、C 1-C 7鹵基烷基、C 3-C 7鹵基烯基、C 2-C 7烷氧基烷基、C 1-C 7烷氧基、C 1-C 5烷基硫基或C 2-C 3烷氧基羰基；或苯基，其選擇性的經鹵素、C 1-C 4烷基或C 1-C 4鹵基烷基取代； L為直接鍵結、C 1-C 4烷二基或C 2-C 4烯二基；G為H、C(=O)R 5、C(=S)R 5、CO 2R 6、C(=O)SR 6、S(O) 2R 5、CONR 7R 8、S(O) 2NR 7R 8或P(=O)R 9R 10；或C 1-C 4烷基、C 2-C 4烯基、C 2-C 4炔基、C 1-C 4鹵基烷基、C 2-C 4鹵基烯基、C 2-C 4鹵基炔基、C 2-C 4烷氧基烷基、C 3-C 6環烷基或C 4-C 7環烷基烷基；或一5-或6-員雜環；A係選自 X 1、X 2、X 3、X 4、X 5、X 6、X 7、X 8、X 9及X 10各自獨立地為N或CR 3；前提為X 1、X 2、X 3、X 4、X 5、X 6、X 7、X 8、X 9及X 10中不多於4者為N；Y為O、S或NR 4；Y 1為O、S、NR 4或CR 3aR 3b；R 3各自獨立地為H、鹵素、氰基、硝基、C 1-C 5烷基、C 2-C 5烯基、C 2-C 5炔基、C 3-C 5環烷基、C 4-C 5環烷基烷基、C 1-C 5鹵基烷基、C 3-C 5鹵基烯基、C 3-C 5鹵基炔基、C 2-C 5烷氧基烷基、C 1-C 5烷氧基、C 1-C 5鹵基烷氧基、C 1-C 5烷基硫基、C 1-C 4烷基亞磺醯基、C 1-C 4烷基磺醯基、C 1-C 5鹵基烷基硫基或C 2-C 5烷氧基羰基；R 3a為H、鹵素、-CN、硝基、C 1-C 5烷基、C 2-C 5烯基、C 2-C 5炔基、C 3-C 5環烷基、C 4-C 5環烷基烷基、C 1-C 5鹵基烷基、C 3-C 5鹵基烯基、C 3-C 5鹵基炔基、C 2-C 5烷氧基烷基、C 1-C 5烷氧基、C 1-C 5鹵基烷氧基、C 1-C 5烷基硫基、C 1-C 4烷基亞磺醯基、C 1-C 4烷基磺醯基、C 1-C 5鹵基烷基硫基或C 2-C 5烷氧基羰基；R 3b為H、鹵素、-CN、硝基、C 1-C 5烷基、C 2-C 5烯基、C 2-C 5炔基、C 3-C 5環烷基、C 4-C 5環烷基烷基、C 1-C 5鹵基烷基、C 3-C 5鹵基烯基、C 3-C 5鹵基炔基、C 2-C 5烷氧基烷基、C 1-C 5烷氧基、C 1-C 5鹵基烷氧基、C 1- C 5烷基硫基、C 1-C 4烷基亞磺醯基、C 1-C 4烷基磺醯基、C 1-C 5鹵基烷基硫基或C 2-C 5烷氧基羰基；或R 3a及R 3b一起形成=O；或R 3a及R 3b與其所接合之碳原子一起形成一選擇性經取代之3-至7-員碳環；R 4為H、C 1-C 3烷基或C 1-C 3鹵基烷基；R 5及R 7獨立地為H、C 1-C 7烷基、C 3-C 7烯基、C 3-C 7炔基、C 3-C 7環烷基、C 1-C 7鹵基烷基、C 3-C 7鹵基烯基、C 2-C 7烷氧基烷基或C 4-C 7環烷基烷基；或苯基、芐基、或一5-至6-員雜環，各苯基、芐基或雜環選擇性經鹵素、C 1-C 4烷基或C 1-C 4鹵基烷基取代；R 6為C 1-C 7烷基、C 3-C 7烯基、C 3-C 7炔基、C 3-C 7環烷基、C 2-C 7鹵基烷基、C 3-C 7鹵基烯基、C 2-C 7烷氧基烷基或C 4-C 7環烷基烷基；或苯基、芐基或一5-至6-員雜環，各苯基、芐基或雜環選擇性經鹵素、C 1-C 4烷基或C 1-C 4鹵基烷基取代；R 8為H、C 1-C 7烷基、C 2-C 7烯基、C 2-C 7炔基、C 3-C 7環烷基、C 4-C 7環烷基烷基、C 1-C 7鹵基烷基或C 2-C 7烷氧基烷基；R 9為C 1-C 7烷基或C 1-C 7烷氧基；及R 10為C 1-C 7烷基或C 1-C 7烷氧基。
  2. 如申請專利範圍第1項之化合物，其中R 1為H、C 1-C 7烷基、C 3-C 8烷基羰基烷基、C 3-C 8烷氧基羰基烷基、C 4-C 7烷基環烷基、C 3-C 7烯基、C 3-C 7炔基、C 3-C 7環烷基、C 4-C 7環烷基烷基、C 2-C 3氰基烷基、C 1-C 4硝基烷基、C 2-C 7鹵基烷氧基烷基、C 1-C 7 鹵基烷基、C 3-C 7鹵基烯基、C 2-C 7烷氧基烷基、C 3-C 7烷基硫基烷基、C 1-C 7烷氧基、芐基或苯基；W為O；A係選自A-1、A-4及A-6；L為一直接鍵結；G為H、C(=O)R 5、C(=S)R 5、CO 2R 6、C(=O)SR 6、CONR 7R 8或P(=O)R 9R 10；或C 1-C 4烷基、C 2-C 4烯基、C 2-C 4炔基、C 1-C 4鹵基烷基、C 2-C 4鹵基烯基、C 2-C 4鹵基炔基、C 2-C 4烷氧基烷基、C 3-C 6環烷基或C 4-C 7環烷基烷基；R 2為H、鹵素、氰基、甲醯基、C 1-C 7烷基、C 3-C 8烷基羰基烷基、C 3-C 8烷氧基羰基烷基、C 2-C 4烷基羰基、C 2-C 7烷基羰氧基、C 4-C 7烷基環烷基、C 3-C 7烯基、C 3-C 7炔基、C 1-C 4烷基亞磺醯基、C 1-C 4烷基磺醯基、C 1-C 4烷基胺基、C 2-C 8二烷基胺基、C 3-C 7環烷基、C 4-C 7環烷基烷基、C 2-C 3氰基烷基、C 1-C 4硝基烷基、C 2-C 7鹵基烷氧基烷基、C 1-C 7鹵基烷基、C 3-C 7鹵基烯基、C 2-C 7烷氧基烷基、C 1-C 7烷氧基或C 1-C 5烷基硫基；及R 3各自獨立地為H、鹵素、C 1-C 3烷基、C 3-C 4環烷基、C 1-C 3鹵基烷基或C 1-C 3烷氧基。
  3. 如申請專利範圍第2項之化合物，其中R 1為H、C 1-C 7烷基、C 3-C 8烷氧基羰基烷基、C 4-C 7烷基環烷基、C 3-C 7環烷基、C 4-C 7環烷基烷基、C 2-C 3氰基烷基、C 1-C 4硝基烷基、C 2- C 7鹵基烷氧基烷基、C 1-C 7鹵基烷基、C 2-C 7烷氧基烷基、C 3-C 7烷基硫基烷基、C 1-C 7烷氧基或芐基；A為A-1；G為H、C(=O)R 5、CO 2R 6、CONR 7R 8或P(=O)R 9R 10；或C 1-C 4烷基、C 2-C 4烯基、C 1-C 4鹵基烷基、C 2-C 4鹵基烯基、C 2-C 4烷氧基烷基、C 3-C 6環烷基或C 4-C 7環烷基烷基；R 2為H、鹵素、氰基、甲醯基、C 1-C 7烷基、C 2-C 4烷基羰基、C 2-C 7烷基羰氧基、C 4-C 7烷基環烷基、C 1-C 4烷基亞磺醯基、C 1-C 4烷基磺醯基、C 1-C 4烷基胺基、C 3-C 7環烷基、C 4-C 7環烷基烷基、C 2-C 3氰基烷基、C 1-C 4硝基烷基、C 2-C 7鹵基烷氧基烷基、C 1-C 7鹵基烷基、C 2-C 7烷氧基烷基或C 1-C 7烷氧基；及R 3各自獨立地為H、鹵素、C 1-C 2烷基、環丙基或C 1-C 2鹵基烷基。
  4. 如申請專利範圍第3項之化合物，其中R 1為C 1-C 4烷基、C 3-C 4環烷基、C 2-C 3氰基烷基、C 1-C 3鹵基烷基或C 2-C 4烷氧基烷基；G為H、C(=O)R 5、CO 2R 6或P(=O)R 9R 10；或C 1-C 4烷基、C 1-C 4鹵基烷基、C 2-C 4烷氧基烷基或C 3-C 6環烷基；R 2為H、鹵素、氰基、C 1-C 4烷基、C 3-C 5環烷基、C 1-C 3鹵基烷基、C 2-C 4烷氧基烷基或C 1-C 3烷氧基；及R 3各自獨立地為H、鹵素、甲基、乙基或CF 3。
  5. 如申請專利範圍第4項之化合物，其中R 1為甲基、乙基、正丙基或2-甲氧基乙基； G為H、C(=O)R 5或CO 2R 6；或C 2-C 4烷氧基烷基或C 3-C 6環烷基；R 2為H、Cl、Br、I、-CN、甲基或甲氧基；及R 3各自獨立地為H、F、Cl、Br或甲基。
  6. 如申請專利範圍第6項之化合物，其選自由以下組成之群組：4-(9-蒽基)-6-氯基-5-羥基-2-甲基-3(2 H)-噠嗪酮；6-氯基-4-(10-氯基-9-蒽基)-5-羥基-2-甲基-3(2 H)-噠嗪酮；及4-(10-溴基-9-蒽基)-6-氯基-5-羥基-2-甲基-3(2 H)-噠嗪酮。
  7. 一種除草組成物，其包含如申請專利範圍第1項之化合物及選自由界面活性劑、固體稀釋劑及液體稀釋劑組成之群組之至少一種組份。
  8. 一種除草組成物，其包含如申請專利範圍第1項之化合物、選自由其它除草劑及除草安全劑組成之群組之至少一種額外活性成份，以及選自由界面活性劑、固體稀釋劑及液體稀釋劑組成之群組之至少一種組份。
  9. 一種除草混合物，其包含(a)如申請專利範圍第1項之化合物，及(b)選自以下之至少一種額外活性成份：(b1)光系統II抑制劑、(b2)乙醯羥基酸合成酶(AHAS)抑制劑、(b3)乙醯基-CoA羧基酶(ACCase)抑制劑、(b4)生長素模擬物、(b5)5-烯醇-丙酮莽草酸-3-磷酸鹽(EPSP)合成酶抑制劑、(b6)光系統I電子轉向器、(b7)原卟啉原氧化酶(PPO)抑制劑、(b8)麩醯胺酸合成酶(GS)抑制劑、(b9)超長鍵脂肪酸(VLCFA)延伸酶抑制劑、(b10)生長素運輸抑制劑、(b11)八氫番茄紅素去飽和酶(PDS)抑制劑、(b12)4-羥苯基-丙酮酸雙氧化酶(HPPD)抑制劑、(b13)尿黑酸茄尼基轉移酶(HST)抑制劑、(b14)纖維素生物合成抑制劑、(b15)其它除草劑，包括：有絲分裂干擾劑、有機砷、亞速爛、溴芬諾、環庚草醚、苄草隆、邁隆、野燕枯、汰草龍、乙氧苯草胺、抑草丁、殺木膦、殺木膦銨、海丹托西丁、免得爛、甲基 殺草隆、油酸、噁嗪草酮、壬酸及稗草畏、及(b16)除草安全劑；及(b1)至(b16)之化合物之鹽。
  10. 一種用於控制不期望植被生長之方法，其包含以除草有效量之如申請專利範圍第1項之化合物接觸該植被或其環境。
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