TW201545649A - 除草性經取代之３－芳基吡唑 - Google Patents

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Abstract

本揭露者為式1之化合物，包括所有其立體異構物、N-氧化物及鹽類， □ 其中X1、X2、X3、G及Q係如發明內容所定義；P為P1或P2；且P1及P2係如發明內容所定義。亦揭露者為含有式1化合物之組成物與用於防治非所欲植物之方法，該方法包含使該非所欲植物或其環境與有效量之本發明化合物或組成物接觸。亦揭示的是除草性混合物，其包含(a)式1化合物、及(b)至少一種額外的有效成分，該有效成分選自(b1)至(b16)；及(b1)至(b16)化合物之鹽，其中(b1)至(b16)係如本揭露所定義。

Description

除草性經取代之3-芳基吡唑
本發明涉及某些除草性經取代3-芳基吡唑，其N-氧化物、鹽類及組成物，及其使用於防治非所欲植物之方法。
為達成高效率之農作物生產，非所欲植物之防治極其重要。對於雜草生長達成選擇性防治(selective control)是極為理想者，尤其是對於有用作物如稻米、大豆、甜菜、玉米、馬鈴薯、小麥、大麥、番茄與栽植作物等而言。在這類有用的農作物上，未制止雜草的生長會致使生產力顯著降低，從而導致消費者的成本增加。防治非所欲植物在非作物領域也很重要。現今有許多針對此目的之市售產品，但仍持續有對於更有效、成本較少、毒性較低、對環境較為安全或具有不同作用位點之新穎化合物的需求。美國專利號第5,939,559號及第6,030,926號揭示某些除草性吡唑。本發明之經取代除草性3-芳基吡唑未揭示於此公開專利。
本發明係針對式1化合物，其包括所有立體異構物、N-氧化物及其鹽類、含有該等化合物之農用組成物、及其作為除草劑之用途 其中X1為鹵素、CF3、CF2H、-OCF3、-OCF2H、-SCHF2或-C≡CH；X2為鹵素、CF3、CF2H、-OCF3、-OCF2H、-SCHF2或-C≡CH；X3為H或鹵素；G為C(=O)、C(=NOR1)、C(=NR1A)、C(=NNR2R3)、C(OR4)2或C(SR4)2；Q為苯基、2-噻吩基、3-噻吩基、3-吡啶基或5-氟-3-吡啶基；P為P1或P2；其限制條件是當G為C(=O)則P為P1；及當G為C(=NOR1)、C(=NR1A)、C(=NNR2R3)或C(OR4)2而P為P2；P1為C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C4-C7環烷烷基、C4-C7鹵炔基、C1-C7烷氧基、C1-C7烷氧烷基、C3-C7烷基羰基烷基、C3-C7烷氧基羰基烷基、C4-C7鹵環烷基烷基、C2-C7鹵烷氧基烷基、C2-C7烷硫烷基、C2-C7烷磺醯烷基、C2-C7烷亞磺醯烷基、C2-C7鹵烷基硫基烷基、C2-C7鹵烷磺醯烷基、C2-C7鹵烷亞 磺醯烷基、C3-C7鹵烷羰基烷基、C2-C7烷胺烷基、C3-C7二烷胺烷基、C2-C7氰烷基、C1-C7硝基烷基、C(=O)R5、SO2R6、CO2R7、C(=O)NR8R9、SO2NR8R9、NH2、OH、CH2OH、CH(OR10)2或CH(CO2CH3)2；P2為H、C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧烷基、C4-C7環烷基烷基、C4-C7鹵炔基、C1-C7烷氧基、C4-C7烷氧烷氧烷基、C3-C7烷基羰基烷基、C3-C7烷氧基羰基烷基、C4-C7鹵環烷基烷基、C2-C7鹵烷氧基烷基、C2-C7烷硫烷基、C2-C7烷磺醯烷基、C2-C7烷亞磺醯烷基、C2-C7鹵烷基硫基烷基、C2-C7鹵烷磺醯烷基、C2-C7鹵烷亞磺醯烷基、C3-C7鹵烷羰基烷基、C2-C7烷胺烷基、C3-C7二烷胺烷基、C2-C7氰烷基、C1-C7硝基烷基、C(=O)R12、SO2R13、CO2R14、C(=O)NR15R16、SO2NR15R16、NH2、OH、CH2OH、CH(OR17)2、CH(CO2CH3)2或CH(CO2C2H5)2；R1為H、C1-C7烷基；R1A為H、氰基或C1-C4烷基；R2為H、C1-C7烷基；R3為C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷基烷基；或選擇性地以R11取代之苯基；或在環員上選擇性地以R11取代之苄基；或選擇性地以R11取代之吡啶基；或 R2及R3可被一起併用為-(CH2)3-、-(CH2)4-、-(CH2)5-或-(CH2)2O(CH2)2-以形成環；R4為C1-C3烷基；或二R4可被一起併用為-(CH2)2-、-(CH2)3-或-CH2CH(CH3)-以形成環；R5為H、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C2-C7鹵烯基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷基烷基；或選擇性地以R11取代之苯基；或在環員上選擇性地以R11取代之苄基；或選擇性地以R11取代之吡啶基；R6為H、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C2-C7鹵烯基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷基烷基；或以R11取代之苯基；或在環員上選擇性地以R11取代之苄基；或選擇性地以R11取代之吡啶基；R7為C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷基烷基；或選擇性地以R11取代之苯基；或在環員上選擇性地以R11取代之苄基；或選擇性地以R11取代之吡啶基；R8為H、C1-C7烷基；R9為H、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C2-C7鹵烯基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷基烷基；或選擇性地以R11取代之苯基；或在環員上選擇性地以R11取代之苄基；或選擇性地以R11取代之吡啶基； R11為C1-C2烷基、鹵素、C1-C3鹵烷基、C1-C3鹵烷氧基、CN或C1-C3烷氧基；R12為H、C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷基烷基；或選擇性地以R18取代之苯基；或在環員上選擇性地以R18取代之苄基；或選擇性地以R18取代之吡啶基；R13為H、C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷基烷基；或選擇性地以R18取代之苯基；或在環員上選擇性地以R18取代之苄基；或選擇性地以R18取代之吡啶基；R14為C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷基烷基；或選擇性地以R18取代之苯基；或在環員上選擇性地以R18取代之苄基；或選擇性地以R18取代之吡啶基；R15為H、C1-C7烷基；R16為H、C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷基烷基；或選擇性地以R18取代之苯基；或在環員上選擇性地以R18取代之苄基；或選擇性地以R18取代之吡啶基；R17為C1-C3烷基；或二R17可被一起併用為-(CH2)2-、-(CH2)3-或-CH2CH(CH3)-以形成環；以及 R18為C1-C2烷基、鹵素、C1-C3鹵烷基、C1-C3鹵烷氧基、CN、C1-C3烷氧基；其限制條件是當i)G為C(=O)、P1為C(=O)R5、R5為苯基、X1為Cl、且X2為Cl，則X3不為H、F或Cl；ii)G為C(=O)、P1為C(=O)R5、R5為苯基、X1為F、X2為F而X3為H以外；iii)G為C(=O)、P1為C(=O)R5、R5為苯基、X1為Br、且X2為Br、而X3不為H或F；iv)G為C(=O)、Q為苯基、X1為Cl、X2為Cl且X3為H，則P1不為CH2CF3或CH2F；v)G為C(=N-pyrr)、Q為苯基、X1為Cl、X2為F、且X3為Cl，則Q不為CH2CF3。
更具體而言，本發明係關於式1化合物(包括所有立體異構物)、其N-氧化物或其鹽類。本發明亦關於一種除草組成物，其包含本發明之化合物(即以除草有效量)與至少一種選自由界面活性劑、固體稀釋劑與液體稀釋劑所組成之群組的組分。本發明進一步關於一種用於防治非所欲植物之生長的方法，其包含使該植物或其環境接觸除草有效量的本發明化合物(例如以本文中所述之組成物)。
本發明亦包括一種除草性混合物，其包含(a)選自式1、N-氧化物、及其鹽類之化合物，以及(b)至少一種選自(b1)至(b16)之額外有效成分；及(b1)至(b16)化合物之鹽。
如本文中所使用，用語「包含」、「包括」、「具有」、「含有」、「特徵為」或其任何其他的變化，係意欲涵蓋非排他性的涵括，並受到任何明確表示的限制。例如，包括元素列表的組成物、混合物、程序或方法不必僅限於那些元素，而是可以包括未明確列出的或該組成物、混合物、程序或方法所固有的其他元素。
連接詞「由...組成」則排除任何未明確說明的元素、步驟或成分。如果是在申請專利範圍中，這樣的用字將會封閉申請專利範圍，使其除了在通常會與其相關的雜質之外，不包括那些在列舉以外的物質。當該連接詞「由...組成」出現在申請專利範圍主體的子句，而非緊接著序言，其只限制在該子句中提到的元素；其他元素並不排除於該項申請專利範圍之整體外。
連接詞「主要由...組成」用於定義包括除了那些字面上所揭露以外的材料、步驟、特徵、成分或元素的組合物或方法，但前提是該等額外的材料、步驟、特徵、成分或元素並不會實質影響申請專利範圍所主張發明的基本和新穎特性。用語「主要由...組成」居於「包含」與「由...組成」之間的中間地帶。
若申請人以開放式用語如「包含」定義一發明或其部分，則表示(除非另有說明)該敘述應解讀為亦以「主要由...所組成」或「由...所組成」描述該發明。
此外，除非另有明確地相反陳述，否則「或」係指包含性的「或」，而不是指排他性的「或」。例如，以下任何一種情況均滿足條件A或B：A為真(或存在的)且B為假(或不存在的)、A為假(或不存在的)且B為真(或存在的)，以及A和B均為真(或存在的)。
同樣地，位於本發明之元素或組分之前的不定冠詞「一」及「一個」旨在非限制性地說明該元素或組分的實例數目(即出現數)。因此「一」或「一個」應理解為包括一個或至少一個，且該元素或組分的單數詞形也包括複數，除非該數目顯然是指單數。
如本文中所提到，用語「幼苗」，無論是單獨使用或與其他字詞組合使用，意指從種子胚芽發育而來的幼嫩植物。
如本文中所指者，用語「闊葉」無論是單獨使用或與其他字詞組合使用例如「闊葉雜草」，其意指雙子葉或雙子葉植物，一種用於描述一群特徵為胚具有兩個子葉之被子植物的用語。本文中所用之用語「烷化劑」係指一種化合物，其中含碳自由基係經由碳原子鍵結至脫離基如鹵化物或是磺酸鹽，而該脫離基可由鍵結親核劑至前述碳原子來置換。除非另有指明，用語「烷化」未將該含碳自由基限定為烷基；烷化劑中的該含碳自由基包括特定用於P1、P2之多種氮結合取代基。
在上述說明中，用語「烷基」無論是單獨使用或在複合詞如「烷硫基」或「鹵烷基」中使用，皆包括直鏈或支鏈烷基，諸如甲基、乙基、正丙基、異丙基或不同之丁基、戊基或己基異構物。 「烯基」包括直鏈或支鏈烯類，如乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、以及不同的丁烯基、戊烯基及己烯基異構物。「烯基」也包括多烯類，如1,2-丙二烯基及2,4-己二烯基。「炔基」包括直鏈或支鏈炔類，如乙炔基、1-丙炔基、2-丙炔基、以及各種的丁炔基、戊炔基及己炔基異構物。「炔基」亦可包括含多個三鍵的部分如2,5-己二炔基。
「烷氧基」包括例如甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基與不同的丁氧基、戊氧基與己氧基異構物。「烷氧烷基」代表在烷基上有烷氧基取代。「烷氧烷基」之實例包括CH3OCH2、CH3OCH2CH2、CH3CH2OCH2、CH3CH2CH2CH2OCH2及CH3CH2OCH2CH2。「烷氧烷氧基」表示烷氧基上有烷氧基取代。「烷氧烷氧烷基」表示烷基上有烷氧烷氧基取代。「烷硫基」包括直鏈或支鏈烷硫基分子部分，諸如甲硫基、乙硫基以及不同的丙硫基、丁硫基、戊硫基、及己硫基異構物。「烷亞磺醯基」包含一烷亞磺醯基基團之兩個鏡像異構物。「烷亞磺醯基」的實例包括CH3S(O)-、CH3CH2S(O)-、CH3CH2CH2S(O)-、(CH3)2CHS(O)-及不同的丁亞磺醯基、戊亞磺醯基及己亞磺醯基異構物。「烷亞磺醯烷基」包括在烷基上之烷亞磺醯基取代。「烷磺醯基」的實例包括CH3S(O)2-、CH3CH2S(O)2-、CH3CH2CH2S(O)2-、(CH3)2CHS(O)2-、及不同的丁磺醯基、戊磺醯基及己磺醯基異構物。「烷磺醯烷基」表示在烷基上之烷磺醯基取代。「烷硫烷基」代表在烷基上有烷硫基取代。「烷硫烷基」的例子包括CH3SCH2、CH3SCH2CH2、CH3CH2SCH2、CH3CH2CH2CH2SCH2及CH3CH2SCH2CH。2。「氰烷基」代表經一 個氰基基團取代之烷基基團。「氰烷基」之實例包括NCCH2-、NCCH2CH2-及CH3CH(CN)CH2-。「硝基烷基」代表具有一硝基基團之烷基基團。「烷胺烷基」、「二烷胺烷基」及類似者係類似地定義於上述實例。
「環烷基」包括例如環丙基、環丁基、環戊基與環己基。用語「環烷烷基」代表在一烷基部分上之環烷基取代。「環烷烷基」之實例包括環丙甲基、環戊乙基和其他鍵結到直鏈或支鏈烷基基團的環烷基部分。
用語「鹵素」無論是單獨使用或在諸如「鹵烷基」的複合詞中使用時，或者在諸如「經鹵素取代之烷基」的描述中使用時，包括氟、氯、溴或碘。此外，當在諸如「鹵烷基」的複合詞中使用時，或者在諸如「經鹵素取代之烷基」的描述中使用時，所述烷基可能經相同或不同的鹵素原子來部分或全部取代。「鹵烷基」或「經鹵素取代之烷基」的實例包括F3C、ClCH2、CF3CH2及CFCCl3CCl2。術語「鹵環烷基」、「鹵烷氧基」、「鹵烷羰基烷基」、「鹵烷基硫基烷基」、「鹵烷磺醯烷基」、「鹵烷亞磺醯烷基」、「鹵烯基」、「鹵炔基」、及類似物係類似地定義為術語「鹵烷基」。「鹵烷氧基」之實例包括CF3O-、CCl3CH2O-、HCF2CH2CH2O-及CF3CH2O-。「鹵烷硫基」之實例包括CCl3S-、CF3S-、CCl3CH2S-及ClCH2CH2CH2S-。「鹵烷亞磺醯基」之實例包括CF3S(O)-、CCl3S(O)-、CF3CH2S(O)-及CF3CF2S(O)-。「鹵烷磺醯烷基」之實例包括CF3S(O)2-、CCl3S(O)2-、CF3CH2S(O)2-及CF3CF2S(O)2-。「鹵 炔基」之實例包括HC≡CCHCl-、CF3C≡C-、CCl3C≡C-及FCH2C≡CCH2-。
「烷羰基」意指一鍵結至C(=O)部分的直鏈或支鏈烷基部分。「烷羰基」之實例包括CH3C(=O)-、CH3CH2CH2C(=O)-及(CH3)2CHC(=O)-。「烷基羰基烷基」代表在烷基基團上之烷羰基取代。「烷基羰基烷基」之實例包括CH3C(=O)CH2-、CH3CH2CH2C(=O)CH2-及(CH3)2CHC(=O)CH2CH2-。「烷氧基羰基烷基」之實例包括CH3OC(=O)CH2CH2-、CH3CH2OC(=O)CH2-、CH3CH2CH2OC(=O)CH2-、(CH3)2CHOC(=O)CH2-。
取代基基團中的碳原子總數以前綴「Ci-Cj」表示，其中i及j為1至7的數字。舉例而言，C1-C4烷磺醯基代表甲磺醯基至丁磺醯基；C2烷氧烷基代表CH3OCH2-；C3烷氧烷基代表，如：CH3CH(OCH3)-、CH3OCH2CH2-或CH3CH2OCH2-；及C4烷氧烷基則代表各種不同的以總共含有四個碳原子的烷氧基團取代的烷基團異構物，實例包括CH3CH2CH2OCH2-及CH3CH-2OCH2CH2-。
當基團含有可為氫之取代基時(例如P2、R1、R1A、R5、R6、R8、R9、R12、R15及R16)，則當此取代基作為氫時，視為相當於該基團未經取代。當可變基團顯示為選擇性地連接至一位置上，例如R11及R18，則氫可能在該位置上即使該可變基團定義中並未提及。當基團上的一或多個位置為所述「未經取代」時，則氫原子係連接以佔據任何自由價。除非另有說明，作為式1組分的「環」(例如，取代基R3、R5、R6、R7、R9、R12、R13及R14)係碳環或雜環。 術語「環員」係指形成環或環系主鏈的原子或其他基團(例如C(=O)、C(=S)、S(O)或S(O)2)。
與雜環連用之用語「選擇性地經取代」係指未經取代或具有至少一個非氫取代基的基團，並且該至少一個非氫取代基不會使未經取代之類似物所具有之生物活性消失的基團。本文中所用之下列定義應適用，除非另有指明。用語「選擇性地經取代」可與詞語「經取代或未經取代」或用語「(未)經取代」互換使用。除非另有指明，選擇性地經取代之基團可在該基團的各個可取代位置具有一取代基，且各取代基係獨立於其他取代基。
如上所述，Q可為苯基、2-噻吩基、3-噻吩基、3-吡啶基或5-氟-3-吡啶基。苯基、2-噻吩基、3-噻吩基、3-吡啶基或5-氟-3-吡啶基之實例繪示於展示1中的U-1至U-5。
如上所述，G可為(特別是)C(OR4)2或C(SR4)2，且「二R4可被一起併用為-(CH2)2-、-(CH2)3-或-CH2CH(CH3)-以形成環」。當二R4與其等所連接之氧或硫原子一起併用，該環為5或6員環。所得之環由列舉的R4值所組成，該氧或硫原子與該碳原子連接， 其係鍵結至式1及Q之其餘部分。當G為C(OR4)2或C(SR4)2且二R4係一起併用(包括U-6至U-10)時之實例，其中向左伸出之鍵係連接至式1之其餘部分。
，，，以及。如本文所提及，U-6已知為1,3-二噻基，U-7為1,3-二噻基，U-8為1,3-二烷基，U-9為1,3-二氧雜環戊烷基，且U-10為4-甲基-1,3-二氧雜環戊烷基。
如上所述，G可為(特別是)C(=NNR2R3)且「R2及R3可被一起併用為-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-或-(CH2)2O(CH2)2-以形成環」。當R2及R3係一起併用為環，該環為4-、5-或6-員環。所得之環主要由列舉的R2與R3之值以及與其等連接之氮原子所組成。當二R2及R3係一起併用為環時之實例(包括U-11至U-14)，其中向左伸出之鍵係連接至式1之其餘部分。
，，以及。
描繪於U-11之環係指的是N-吖呾基、該描繪於U-12之環為N-吡咯啶基、U-13為N-哌啶基、且U-14為N-嗎啉基。
在所屬領域中已知有許多不同的合成方法能製備芳族及非芳族的雜環和環系；相關方法的廣泛回顧請參見Comprehensive Heterocyclic Chemistry,A.R.Katritzky and C.W.Rees editors-in-chief,Pergamon Press,Oxford,1984之第八卷集，以及Comprehensive Heterocyclic Chemistry II,A.R.Katritzky,C.W.Rees and E.F.V.Scriven editors-in-chief,Pergamon Press,Oxford,1996之第十二卷集。
本發明的化合物可以存在有一或多種立體異構物。各種立體異構物包括鏡像異構物、非鏡像異構物、阻轉異構物和幾何異構物。立體異構物係組成相同但原子之空間排列不同的異構物，包括鏡像異構物、非鏡像異構物、順反異構物(亦已知為幾何異構物)及阻轉異構物。阻轉異構物係因繞著單鍵的旋轉受到限制所造成，其中其旋轉障壁高到足以分離出異構物物種。所屬技術領域中具有通常知識者將會明瞭，一種立體異構物當相對於其他立體異構物經濃化或當從其他立體異構物經分離出時，其可具有更高活性及/或可能展示出有益的效果。此外，熟習該項技術者知道如何分離、濃化及/或選擇性地製備所述立體異構物。本發明的化合物可存在為立體異構物的混合物、個別立體異構物或作為光學活性形式。
式1化合物(當P為H)在某些反應條件下亦可被分離為式1A及1A'之互變異構混合物。
本文中之發明內容及任何實施例係指兩者中任一互變異構物，只要該互變異構物1A'之存在不減損本發明化合物之生物活性。當式1A或1A'化合物係烷基化或以親電子劑封端，該主要的產物一般來自一或其他互變異構物，然而，所屬技術領域中具有通常知識者使用熟知常規技術可分離兩者中任一「N-烷基化的」互變異構物異構物。一般而言，該互變異構物由式1A所代表，其已知賦予最佳生物活性。
式1化合物可包含額外掌性中心。例如，取代基及其他分子組成(例如P)可能含有掌性中心。本發明包含外消旋混合物並在這些額外的掌性中心富含基本上純的立體組態。本發明之化合物因在式1中繞著醯胺鍵(例如-C(=O)(2-及/或6-氟苯基)之旋轉受限，而可存在為一或多個構形異構物。本發明包含構形異構物之混合物。此外，本發明包括富含一個構形異構物之化合物，其富含係相較於其他構形異構物。
式1化合物一般以超過一種形式存在，因此式1包括其所代表的化合物之所有結晶和非結晶形式。非結晶形式包括諸如蠟和 膠的固體實施例，也包括諸如溶液和熔體的液體實施例。結晶形式包括基本上代表單晶類型的實施例及代表多形體(即不同的結晶類型)混合物的實施例。用語「多形體」意指可結晶成不同結晶形式之化合物的特定結晶形式，這些形式的晶格內分子有不同的排列及/或構形。雖然多形體可以有同樣的化學組成，該等多形體也可以在組成上因為共結晶水或其他分子的存在或不存在而不同，該共結晶水或其他分子可以在晶格內被弱或強烈地鍵結。多形體可以在化學、物理和生物特性有所不同，像是晶體形狀、密度、硬度、顏色、化學穩定性、熔點、吸濕性、懸浮率、溶解速率和生物利用度。所屬技術領域中具有通常知識者將瞭解，式1化合物之多形體相較於相同式1化合物之另一種多形體或多形體混合物，可顯示出有利效果(例如，適於製備有用的製劑、改善生物表現)。式1化合物之一特定多形體的製備和分離可以藉由熟悉該項技術者所熟知的方法完成，包括例如，使用選定的溶劑和溫度來結晶。關於多形體現象的綜合討論，請參見R.Hilfiker,Ed.,Polymorphism in the Pharmaceutical Industry,Wiley-VCH,Weinheim,2006。
熟習該領域技藝之人士將明瞭，並非所有的含氮雜環均可形成N-氧化物，因為該氮需要一個可用的孤立電子對以氧化成為氧化物；熟悉該項技術之人士將能辨別出那些可形成N-氧化物的含氮雜環。熟悉該項技術之人士也將明瞭三級胺可以形成N-氧化物。製備雜環及三級胺之N-氧化物的合成方法為熟習該領域之技藝人士中眾所皆知，包括以如過氧乙酸和間氯過氧苯甲酸(MCPBA)的過氧酸、過氧化 氫、如第三丁基過氧化氫的烷基氫過氧化物、過硼酸鈉及如二甲基雙環氧乙烷的雙環氧乙烷來氧化雜環及三級胺。這些製備N-氧化物的方法已在文獻中廣泛描述及回顧，請參見例如：T.L.Gilchrist in Comprehensive Organic Synthesis,vol.7,pp 748-750,S.V.Ley,Ed.,Pergamon Press；M.Tisler and B.Stanovnik in Comprehensive Heterocyclic Chemistry,vol.3,pp 18-20,A.J.Boulton and A.McKillop,Eds.,Pergamon Press；M.R.Grimmett and B.R.T.Keene in Advances in Heterocyclic Chemistry,vol.43,pp 149-161,A.R.Katritzky,Ed.,Academic Press；M.Tisler and B.Stanovnik in Advances in Heterocyclic Chemistry,vol.9,pp 285-291,A.R.Katritzky and A.J.Boulton,Eds.,Academic Press；以及G.W.H.Cheeseman and E.S.G.Werstiuk in Advances in Heterocyclic Chemistry,vol.22,pp 390-392,A.R.Katritzky and A.J.Boulton,Eds.,Academic Press.。
熟習該領域之技藝人士瞭解到，因為化合物的鹽類與它們對應的非鹽形式在環境和生理條件下會處於平衡狀態，所以鹽類會有非鹽形式的生物效用。因此廣泛各式式1化合物之鹽可用於防治非所欲植物(即農業上適用的)。式1化合物的鹽類包括與無機酸或有機酸的酸加成鹽，諸如氫溴酸、鹽酸、硝酸、磷酸、硫酸、乙酸、丁酸、反丁烯二酸、乳酸、順丁烯二酸、丙二酸、草酸、丙酸、水楊酸、酒石酸、4-甲苯磺酸或戊酸。當式1化合物包含如羧酸或酚之酸性部分時，鹽類亦包含那些與有機或無機鹼形成之鹽類，如吡啶、三 乙胺或氨，或醯胺、氫化物、氫氧化物或鈉、鉀、鋰、鈣、鎂或鋇之碳酸鹽。因此、本發明包含選自式1、N-氧化物及農業上適用的鹽類之化合物。
如發明內容中所述之本發明的實施例包括(其中如下列實施例中所用之式1包括其N-氧化物及其鹽)：
實施例1。如發明內容中所述之式1化合物。
實施例2.實施例1之化合物，其中X1為鹵素、CF3、CF2H、-OCF3或-OCF2H。
實施例3.實施例2之化合物，其中X1為鹵素或CF3。
實施例4.實施例3之化合物，其中X1為鹵素。
實施例5.實施例4之化合物，其中X1為Cl或Br。
實施例6.實施例5之化合物，其中X1為Cl。
實施例7.實施例1至6中任一者之化合物，其中X2為鹵素、CF3、CF2H、-OCF3或-OCF2H。
實施例8.實施例7之化合物，其中X2為鹵素或CF3。
實施例9.實施例8之化合物，其中X2為鹵素。
實施例10.實施例9之化合物，其中X2為Cl或Br。
實施例11.實施例10之化合物，其中X2為Cl。
實施例12.實施例A1至A11中任一者之化合物，其中X3為H、F、Cl或Br。
實施例13.實施例12之化合物，其中X3為H、F或Cl。
實施例14.實施例13之化合物，其中X3為H或Cl。
實施例15.實施例14之化合物，其中X3為H。
實施例16.實施例14之化合物，其中X3為Cl。
實施例17.實施例1至16中任一者之化合物，其中Q為苯基、2-噻吩基或3-噻吩基。
實施例18.實施例17之化合物，其中Q為苯基或2-噻吩基。
實施例19.實施例18之化合物，其中Q為苯基。
實施例20.實施例19之化合物，其中Q為2-噻吩基。
實施例21.實施例1至20中任一者之化合物，其中G為C(=O)、C(=NOR1)、C(=NNR2R3)或C(OR4)2。
實施例22.實施例21之化合物，其中G為C(=O)。
實施例23.實施例21之化合物，其中G為C(=NOR1)、C(=NNR2R3)或C(OR4)2。
實施例24.實施例23之化合物，其中G為C(=NNR2R3)或C(OR4)2。
實施例25.實施例24之化合物，其中G為C(OR4)2。
實施例26.實施例1至22中任一者之化合物，其中P為P1。
實施例27.實施例26之化合物，其中P1為C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C1-C7烷氧烷基、C(=O)R5、SO2R6、CO2R7、C(=O)NR8R9、SO2NR8R9、NH2、OH、CH2OH、CH(OR10)2或CH(CO2CH3)2。
實施例28.實施例27之化合物，其中P1為C1-C4烷基、C3-C4烯基、C3-C4炔基、CH2OCH3、C(=O)CH2OCH3、SO2CF3或CH2OH。
實施例29.實施例28之化合物，其中P1為C1-C4烷基、C3-C4烯基、C3-C4炔基、CH2OCH3、C(=O)CH2OCH3、或CH2OH。
實施例30.實施例29之化合物，其中P1為CH3。
實施例31.實施例29之化合物，其中P1為CH2CH3。
實施例32.實施例29之化合物，其中P1為CH=CH2。
實施例33.實施例29之化合物，其中P1為-C≡CH。
實施例34.實施例29之化合物，其中P1為CH2OCH3。
實施例35.實施例29之化合物，其中P1為C(=O)CH2OCH3。
實施例36.實施例29之化合物，其中P1為CH2OH。
實施例37.實施例1至21或23至25中任一者之化合物，其中P為P2。
實施例38.實施例37之化合物，其中P2為H、C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧烷基、C(=O)R12、SO2R13、CO2R14、C(=O)NR15R16、SO2NR15R16、NH2、OH或CH2OH。
實施例39.實施例39之化合物，其中P2為H、C1-C4烷基、-CH2C≡CH或C(=O)R12。
實施例40.實施例39之化合物，其中P2為H。
實施例41.實施例39之化合物，其中P2為-CH2C≡CH。
實施例42.實施例39之化合物，其中P2為C(=O)CH3。
實施例43.實施例39之化合物，其中P2為C(=O)CH2CH3。
實施例44.實施例1至21、22或37至43中任一者之化合物，其中R1為H、CH3或CH2CH3。
實施例45.實施例44之化合物，其中R1為CH3或CH2CH3。
實施例46.實施例45之化合物，其中R1為CH3。
實施例47.實施例1至21、22或37至43中任一者之化合物，其中R2為H、CH3或CH2CH3。
實施例48.實施例47之化合物，其中R2為H或CH3。
實施例49。實施例48之化合物，其中R2為H。
實施例50.實施例1至21、22或37至43中任一者之化合物，其中R3為C1-C7烷基；或在環員上選擇性地以R11取代之苄基。
實施例51.實施例50之化合物，其中R3為CH2CH3；或在環員上選擇性地以R11取代之苄基。
實施例52.實施例51之化合物，其中R3為CH2CH3；或苄基(亦即未經取代苄基)。
實施例53.實施例1至21、22或37至43中任一者之化合物，其中當R2及R3為一起併用時，其係一起併用為-(CH2)4-或-(CH3)2O(CH2)2-以形成環。
實施例54.實施例50之化合物，其中當R2及R3為一起併用，其係一起併用為-(CH2)4-以形成環。
實施例55.實施例1至21、22或37至43中任一者之化合物，其中R4為CH3或CH2CH3。
實施例56.實施例55之化合物，其中R4為CH2CH3。
實施例57.實施例1至21、22或37至43中任一者之化合物，其中當二R4為一起併用時，其係一起併用為-(CH2)2-或-(CH2)3-以形成環。
實施例58.實施例1至22或26至36中任一者之化合物，其中R5為C1-C7鹵烷基或C2-C7烷氧烷基。
實施例59.實施例58之化合物，其中R5為CF3或CH2OCH3。
實施例60.實施例59之化合物，其中R5為CH2OCH3。
實施例61.實施例1至22或26至36中任一者之化合物，其中R6為C3-C7環烷基或C1-C7鹵烷基。
實施例62.實施例61之化合物，其中R6為c-Pr或CF3。
實施例63.實施例62之化合物，其中R6為CF3。
實施例64.實施例1至22或26至36中任一者之化合物，其中R7為C3-C7烯基、C3-C7環烷基或C1-C7鹵烷基。
實施例65.實施例64之化合物，其中R7為CH=CH2,c-Pr或CF3。
實施例66.實施例65之化合物，其中R7為CF3。
實施例67.實施例1至22或26至36中任一者之化合物，其中R8為H、CH3或CH2CH3。
實施例68.實施例67之化合物，其中R8為H或CH3。
實施例69.實施例68之化合物，其中R8為H。
實施例70.實施例1至22或26至36中任一者之化合物，其中R9為H、C3-C7烯基、C3-C7環烷基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷基烷基；或在環員上選擇性地以R11取代之苄基。
實施例71.實施例70之化合物，其中R9為H或C3-C7環烷基。
實施例72.實施例71之化合物，其中R9為H或c-Pr。
實施例73.實施例1至22或26至36中任一者之化合物，其中R10為CH3或CH2CH3。
實施例74.實施例73之化合物，其中R10為CH2CH3。
實施例75.實施例1至22或26至36中任一者之化合物，其中當二R10為一起併用時，其係一起併用為-(CH2)2-或-(CH2)3-以形成環。
實施例76.實施例1至75中任一者之化合物，其中R11為CH3、CH2CH3、F、Cl、CF3、OCH3或CN。
實施例77.實施例76之化合物，其中R11為CH3、F、Cl、OCH3或CN。
實施例78.實施例77之化合物，其中R11為Cl或OCH3。
實施例79.實施例1至25或37至43中任一者之化合物，其中R12為C1-C7烷基或C2-C7烷氧烷基。
實施例80.實施例79之化合物，其中R12為CH3、CH2CH3或CH2OCH3。
實施例81.實施例80之化合物，其中R12為CH3或CH2CH3。
實施例82.實施例1至25或37至43中任一者之化合物，其中R13為H、C1-C7烷基或C1-C7鹵烷基。
實施例83.實施例82之化合物，其中R13為H、CH3或CH2CH3或CF3。
實施例84.實施例83之化合物，其中R13為CF3。
實施例85.實施例1至25或37至43中任一者之化合物，其中R14為C3-C7烯基或C3-C7環烷基。
實施例86.實施例85之化合物，其中R14為CH=CH2或c-Pr。
實施例87.實施例86之化合物，其中R14為c-Pr。
實施例88.實施例1至25或37至43中任一者之化合物，其中R15為H、CH3或CH2CH3。
實施例89.實施例88之化合物，其中R15為H或CH3。
實施例90.實施例89之化合物，其中R15為H。
實施例91.實施例1至25或37至43中任一者之化合物，其中R16為H、C3-C7烯基、C3-C7環烷基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷基烷基；或在環員上選擇性地以R11取代之苄基。
實施例92.實施例91之化合物，其中R16為H或C3-C7環烷基。
實施例93.實施例91之化合物，其中R16為H或c-Pr。
實施例94.實施例1至25或37至43中任一者之化合物，其中R17為CH3或CH2CH3。
實施例95.實施例94之化合物，其中R17為CH2CH3。
實施例96.實施例1至25或37至43中任一者之化合物，其中當二R17為一起併用時，其係一起併用為-(CH2)2-或-(CH2)3-以形成環。
實施例97.實施例1至96中任一者之化合物，其中R18為CH3、CH2CH3、F、Cl、CF3、OCH3或CN。
實施例98.實施例97之化合物，其中R18為CH3、F、Cl、OCH3或CN。
實施例99.實施例98之化合物，其中R18為Cl或OCH3。
本發明之實施例，包括上述實施例1至99及任何其他本說明書中所述之實施例，可以用任何方式組合，且實施例中之變項描述不僅關於式1化合物，亦關於可用於製備式1化合物之起始化合物及中間化合物。此外，本發明的實施例(包括上述實施例1至99及任何其他本文中所述之實施例，與任何其組合)均關於本發明之組成物與方法。
實施例1至99之組合係繪示如下：
實施例A。式1化合物，其中Q為苯基、2-噻吩基或3-噻吩基；G為C(=O)、C(=NOR1)、C(=NNR2R3)或C(OR4)2； P1為C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C1-C7烷氧烷基、C(=O)R5、SO2R6、CO2R7、C(=O)NR8R9,SO2NR8R9、NH2、OH、CH2OH、CH(OR10)2或CH(CO2CH3)2；P2為H、C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧烷基、C(=O)R12、SO2R13、CO2R14、C(=O)NR15R16、SO2NR15R16、NH2、OH或CH2OH；R1為H、CH3或CH2CH3；R2為H、CH3或CH2CH3；R3為C1-C7烷基；或在環員上選擇性地以R11取代之苄基；或R2及R3係一起併用為-(CH2)4-或-(CH2)2O(CH2)2-以形成環；R4為CH3或CH2CH3；R5為C1-C7鹵烷基或C2-C7烷氧烷基；R6為C3-C7環烷基或C1-C7鹵烷基；R7為C3-C7烯基、C3-C7環烷基或C1-C7鹵烷基；R8為H、CH3或CH2CH3；R9為H、C3-C7烯基、C3-C7環烷基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷基烷基；或在環員上選擇性地以R11取代之苄基；R10為CH3或CH2CH3；R11為CH3、CH2CH3、F、Cl、CF3、OCH3或CN；R12為C1-C7烷基或C2-C7烷氧烷基；R13為H、C1-C7烷基或C1-C7鹵烷基； R14為C3-C7烯基或C3-C7環烷基；R15為H、CH3或CH2CH3；以及R16為H、C3-C7烯基、C3-C7環烷基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷基烷基；或在環員上選擇性地以R11取代之苄基。
實施例B.如實施例A的化合物，其中X1為鹵素、CF3、CF2H、-OCF3或-OCF2H；X2為鹵素、CF3、CF2H、-OCF3或-OCF2H；X3為H、F、Cl或Br；G為C(=O)；Q為苯基或2-噻吩基；以及P1為C1-C4烷基、C3-C4烯基、C3-C4炔基、CH2OCH3、C(=O)CH2OCH3、SO2CF3或CH2OH。
實施例C.一種實施例B化合物，其中X1為鹵素或CF3；X2為鹵素或CF3；X3為H、F或Cl；以及P1為C1-C4烷基、C3-C4烯基、C3-C4炔基、CH2OCH3、C(=O)CH2OCH3或CH2OH。
實施例D.一種實施例C之化合物，其中X1為鹵素；X2為鹵素；以及X3為H、F或Cl。
實施例E。實施例A之化合物，其中X1為鹵素、CF3、CF2H、-OCF3或-OCF2H；X2為鹵素、CF3、CF2H、-OCF3或-OCF2H；X3為H、F、Cl或Br；G為C(=NOR1)、C(=NNR2R3)或C(OR4)2；Q為苯基或2-噻吩基；P2為H、C1-C4烷基、-CH2C≡CH或C(=O)R12；R1為CH3或CH2CH3；R2為H或CH3；R3為CH2CH3；或在環員上選擇性地以R11取代之苄基；以及R4為CH2CH3；R11為CH3、F、Cl、OCH3或CN；以及R12為CH3、CH2CH3或CH2OCH3。
實施例F.一種實施例E之化合物，其中X1為鹵素或CF3；X2為鹵素或CF3；X3為H、F或Cl；G為C(=NNR2R3)或C(OR4)2；P2為H；R2為H；R3為CH2CH3；或苄基。
實施例G。一種實施例F之化合物，其中 X1為鹵素；X2為鹵素；X3為H、F或Cl；以及G為C(OR4)2。
具體實施例包括選自由下列化合物所組成之群組的式1化合物：[3-(3,5-二氯苯基)-1-甲基-1H-吡唑-4-基]苯甲酮(化合物54)；[3-(3,5-二氯苯基)-1-乙基-1H-吡唑-4-基]苯甲酮(化合物31)；[3-(3,5-二氯苯基)-1-丙基-1H-吡唑-4-基]苯甲酮(化合物61)；[3-(3,5-二氯苯基)-1-(2-丙炔-1-基)-1H-吡唑-4-基]苯甲酮(化合物39)；N-[[3-(3,5-二氯苯基)-1H-吡唑-4-基]苯基亞甲基]-1-吡咯烷胺(化合物30)；[3-(3,5-二氯苯基)-1-(羥甲基)-1H-吡唑-4-基]苯甲酮(化合物15)；1-[4-苯甲醯基-3-(3,5-二氯苯基)-1H-吡唑-1-基]-2-甲氧基乙酮(化合物16)；3-(3,5-二氯苯基)-1-[(三氟甲基)磺醯基]-1H-吡唑-4-基]苯甲酮(化合物2)； 3-(3,5-二氯苯基)-4-(二乙氧基苯甲基)-1H-吡唑(化合物14)；以及3-(3,5-二氯苯基)-4-(二甲氧基苯甲基)-1H-吡唑(化合物13)。
本發明亦關於一種用於防治非所欲植物的方法，其包含向該植物之所在地施用除草有效量的本發明化合物(例如以本文中所述之組成物)。值得注意的關於使用方法的實施例是那些涉及上述化合物之實施例。本發明之化合物特別有用於作物中的雜草之選擇性防治，雜草諸如藜、苘麻、繁縷、反枝莧、豬草及莧菜藤子，作物諸如小麥、大麥、玉米、黃豆、向日葵、棉花、油菜籽及稻米，及特殊作物諸如甘蔗、柑橘、水果及堅果作物。
亦值得注意的實施例為包含上述實施例之化合物的本發明除草組成物。
本發明亦包括除草性混合物，其包含(a)選自式1、N-氧化物、及其鹽類之化合物，及(b)至少一種選自由下列之額外活性成分：(b1)光系統II抑制劑(photosystem II inhibitor)、(b2)乙醯羥酸合成酶(AHAS)抑制劑(acetohydroxy acid synthase inhibitor)、(b3)乙醯CoA羧化酶(ACCase)抑制劑(acetyl-CoA carboxylase inhibitor)、(b4)生長素模擬物(auxin mimic)、及(b5)5-烯醇-丙酮醯莽草酸-3-磷酸(EPSP)合成酶抑制劑(5-enol-pyruvylshikimate-3-phosphate synthase inhibitor)、(b6)光系統I電子轉向劑(photosystem I electron diverter)、(b7)原紫質原氧化酶(PPO)抑制劑(protoporphyrinogen oxidase inhibitor)、(b8)麩醯胺酸合成酶(GS)抑制劑(glutamine synthetase inhibitor)、(b9)極長鏈脂肪酸(VLCFA)延長酶抑制劑(very long chain fatty acid elongase inhibitor)、(b10)生長素傳遞抑制劑(auxin transport inhibitor)、(b11)八氫番茄紅素去飽和酶(PDS)抑制劑(phytoene desaturase inhibitor)、(b12)4-羥基苯基-丙酮酸二氧合酶(HPPD)抑制劑(4-hydroxyphenyl-pyruvate dioxygenase inhibitor)、(b13)黑尿酸茄尼轉移酶(HST)抑制劑(homogentisate solenesyltransererase inhibitor)、(b14)纖維素生物合成抑制劑(cellulose biosynthesis inhibitor)、(b15)其他除草劑(包括有絲分裂干擾劑(mitotic disruptor)、有機砷劑(organic arsenical)、亞速爛(asulam)、溴布泰(bromobutide)、環庚草醚(cinmethylin)、苄草隆(cumyluron)、邁隆(dazomet)、燕麥枯(difenzoquat)、汰草龍(dymron)、乙氧苯草胺(etobenzanid)、抑草丁(flurenol)、殺木膦(fosamine)、殺木膦-銨(fosamine-ammonium)、威百畝(metam)、甲基汰草龍(methyldymron)、油酸(oleic acid)、噁嗪草酮(oxaziclomefone)、壬酸(pelargonic acid)與稗草畏(pyributicarb))、以及(b16)除草劑安全劑；及(b1)至(b16)化合物之鹽。
「光系統II抑制劑」(b1)為在QB結合位置(binding niche)結合至D-1蛋白質並因而在葉綠體類囊體膜(chloroplast thylakoid membrane)中會阻斷電子由QA傳輸至QB的化學化合物。被阻斷通過光系統II的電子會透過一系列的反應轉移而形成毒性化合物，該等毒性化合物會使細胞膜破裂並造成葉綠體腫脹、膜滲漏以及 最終導致細胞毀滅。該QB-結合位置具有三個不同的結合部位：結合部位A會結合三嗪(triazine)如草脫淨(atrazine)、三嗪酮(triazinone)如菲殺淨(hexazinone)以及尿嘧啶(uracil)如克草(bromacil)，結合部位B會結合苯脲如達有龍(diuron)，而結合部位C會結合苯并噻二唑(benzothiadiazole)如本達隆(bentazon)、腈(nitrile)如溴苯腈(bromoxynil)及苯基-嗒嗪(phenyl-pyridazine)如必汰草(pyridate)。光系統II抑制劑的例子包括草殺淨(ametryn)、胺唑草酮(amicarbazone)、草脫淨(atrazine)、本達隆(bentazon)、克草(bromacil)、溴酚肟(bromofenoxim)、溴苯腈(bromoxynil)、滅落寧(chlorbromuron)、氯草敏(chloridazon)、綠麥隆(chlorotoluron)、枯草龍(chloroxuron)、苄草隆(cumyluron)、氰乃淨(cyanazine)、殺草隆(daimuron)、甜菜安(desmedipham)、敵草淨(desmetryn)、惡唑隆(dimefuron)、愛落殺(dimethametryn)、達有龍(diuron)、磺噻隆(ethidimuron)、非草隆(fenuron)、伏草隆(fluometuron)、菲殺淨(hexazinone)、碘苯腈(ioxynil)、異丙隆(isoproturon)、愛速隆(isouron)、環草定(lenacil)、理有龍(linuron)、苯嗪草酮(metamitron)、甲草苯隆(methabenzthiazuron)、溴谷隆(metobromuron)、甲氧隆(metoxuron)、滅必淨(metribuzin)、綠谷隆(monolinuron)、草不隆(neburon)、蔬草滅(pentanochlor)、甜菜寧(phenmedipham)、撲滅通(prometon)、撲草凈(prometryn)、除草靈(propanil)、普拔根(propazine)、啶蟲丙醚(pyridafol)、必汰草(pyridate)、環草隆(siduron)、草滅淨(simazine)、西草淨(simetryn)、 丁噻隆(tebuthiuron)、特草定(terbacil)、甲氧去草净(terbumeton)、特丁津(terbuthylazine)、去草淨(terbutryn)與草達津(trietazine)。
「AHAS抑制劑」(b2)是抑制乙醯羥酸合成酶(AHAS，亦為眾所周知的乙醯乳酸合成酶(ALS))的化合物，且因而藉由抑制支鏈脂族胺基酸(如纈胺酸、白胺酸及異白胺酸)的製造來殺死植物，前述胺基酸為DNA合成與細胞生長所需者。AHAS抑制劑的例子包括醯嘧磺隆(amidosulfuron)、四唑嘧磺隆(azimsulfuron)、免速隆(bensulfuron-methyl)、雙草醚(bispyribac-sodium)、氯酯磺草胺(cloransulam-methyl)、氯嘧磺隆(chlorimuron-ethyl)、氯磺隆(chlorsulfuron)、西速隆(cinosulfuron)、環磺隆(cyclosulfamuron)、雙氯磺草胺(diclosulam)、胺苯磺隆(ethametsulfuron-methyl)、亞速隆(ethoxysulfuron)、伏速隆(flazasulfuron)、雙氟磺草胺(florasulam)、氟酮磺隆鈉(flucarbazone-sodium)、唑嘧磺草胺(flumetsulam)、氟啶嘧磺隆(flupyrsulfuron-methyl)、氟啶嘧磺隆鈉(flupyrsulfuron-sodium)、甲醯胺磺隆(foramsulfuron)、合速隆(halosulfuron-methyl)、咪草酯(imazamethabenz-methyl)、甲氧咪草煙(imazamox)、甲咪唑煙酸(imazapic)、依滅草(imazapyr)、滅草喹(imazaquin)、咪草煙(imazethapyr)、依速隆(imazosulfuron)、甲基碘磺隆(iodosulfuron-methyl，包括鈉鹽)、碘磺隆(iofensulfuron)(2-碘-N-[[(4-甲氧基-6-甲基-1,3,5-三-2-基)胺基]羰基]苯磺醯胺)、甲磺胺磺隆(mesosulfuron-methyl)、雙醚氯吡嘧磺隆(metazosulfuron，3-氯-4-(5,6-二氫-5-甲基- 1,4,2-二噁-3-基)-N-[[(4,6-二甲氧基-2-嘧啶基)胺基]羰基]-1-甲基-1H-吡唑-5-磺醯胺)、磺草唑胺(metosulam)、甲磺隆(metsulfuron-methyl)、煙嘧磺隆(nicosulfuron)、環氧嘧磺隆(oxasulfuron)、平速爛(penoxsulam)、氟嘧磺隆(primisulfuron-methyl)、丙苯磺隆(propoxycarbazone-sodium)、咪唑嘧磺隆(propyrisulfuron，2-氯-N-[[(4,6-二甲氧基-2-嘧啶基)胺基]羰基]-6-丙咪唑并[1,2-b]嗒-3-磺醯胺))、氟磺隆(prosulfuron)、百速隆(pyrazosulfuron-ethyl)、嘧啶肟草醚(pyribenzoxim)、環酯草醚(pyriftalid)、嘧草醚(pyriminobac-methyl)、嘧草硫醚鈉(pyrithiobac-sodium)、玉嘧磺隆(rimsulfuron)、甲嘧磺隆(sulfometuron-methyl)、磺醯磺隆(sulfosulfuron)、酮脲磺草吩酯(thiencarbazone)、噻吩磺隆(thifensulfuron-methyl)、氟酮磺草胺(triafamone)(N-[2-[(4,6-二甲氧基-1,3,5-三-2-基)羰基]-6-氟苯基]-1,1-二氟-N-甲基甲磺醯胺)、醚苯磺隆(triasulfuron)、苯磺隆(tribenuron-methyl)、三氟啶磺隆(trifloxysulfuron，包括鈉鹽)、氟胺磺隆(triflusulfuron-methyl)與三氟甲磺隆(tritosulfuron)。
「ACCase抑制劑」(b3)是抑制乙醯CoA羧化酶酵素的化學化合物，乙醯CoA羧化酶酵素負責催化植物中脂質與脂肪酸合成的早期步驟。脂質是細胞膜的基本組分，沒有脂質就無法製造新的細胞。乙醯輔酶A羧化酶的抑制及後續脂質製造的缺乏導致喪失細胞膜完整性，尤其是在活性生長區，如分生組織。最終芽和根莖生長停止，且芽分生組織和根莖芽開始枯萎。ACCase抑制劑的例子包括亞汰草(alloxydim)、丁苯草酮(butroxydim)、剋草同(clethodim)、炔草 酸(clodinafop)、環殺草(cycloxydim)、賽伏草(cyhalofop)、禾草靈(diclofop)、芬殺草(fenoxaprop)、伏寄普(fluazifop)、合氯氟(haloxyfop)、唑啉草酯(pinoxaden)、氯苯噻草酮(profoxydim)、普拔草(propaquizafop)、快伏草(quizalofop)、西殺草(sethoxydim)、得殺草(tepraloxydim)與肟草酮(tralkoxydim)，包括解析形式如芬殺草-P(fenoxaprop-P)、伏寄普-P(fluazifop-P)、合氯氟-P(haloxyfop-P)與快伏草-P(quizalofop-P)以及酯形式如炔草酯(clodinafop-propargyl)、丁基賽伏草(cyhalofop-butyl)、甲基禾草靈(diclofop-methyl)與芬殺草-P-乙基(fenoxaprop-P-ethyl)。
生長素為一種植物激素，其調節許多植物組織的生長。「生長素模擬物」(b4)是模擬植物生長荷爾蒙生長素的化學化合物，因而引發不受控制與混亂的生長，導致敏感物種植物死亡。生長素模擬物的例子包括胺環吡克(aminocyclopyrachlor)(6-胺基-5-氯-2-環丙基-4-嘧啶甲酸)與其甲酯及乙酯以及其鈉鹽與鉀鹽、氯胺基吡啶酸(aminopyralid)、草除靈乙酯(benazolin-ethyl)、克攔本(chloramben)、氯醯草膦(clacyfos)、克普草(clomeprop)、畢克草(clopyralid)、麥草畏(dicamba)、2,4-D、2,4-DB、滴丙酸(dichlorprop)、氟氯比(fluroxypyr)、哈洛昔芬(halauxifen)(4-胺基-3-氯-6-(4-氯-2-氟-3-甲氧苯基)-2-吡啶甲酸)、甲基哈洛昔芬(halauxifen-methyl)(4-胺基-3-氯-6-(4-氯-2-氟-3-甲氧苯基)-2-吡啶甲酸甲酯)、MCPA、MCPB、甲氯丙酸(mecoprop)、毒莠定(picloram)、快克草(quinclorac)、氯甲喹啉酸 (quinmerac)、2,3,6-TBA、三氯比(triclopyr)與4-胺基-3-氯-6-(4-氯-2-氟-3-甲氧苯基)-5-氟-2-吡啶甲酸甲酯。
「EPSP(5-烯醇-丙酮醯莽草酸-3-磷酸)合成酶抑制劑」(b5)為抑制5-烯醇-丙酮醯莽草酸-3-磷酸合成酶酵素之化學化合物，該酵素涉及芳族胺基酸如酪胺酸、色胺酸與苯丙胺酸之合成。EPSP抑制劑除草劑係透過植物葉片迅速吸收並在韌皮部中轉位至生長點。草甘膦是屬於此類的相對非選擇性萌後除草劑。草甘膦包括酯與鹽，如銨、異丙銨、鉀、鈉(包括倍半鈉鹽(sesquisodium))及三甲基硫鹽(trimesium，另名為草硫膦(sulfosate))。
「光系統I電子轉向劑」(b6)為接收來自光系統I之電子的化學化合物，並且在幾次循環後產生羥基自由基。這些自由基極具反應性並且會迅速破壞不飽和脂質，包括膜脂肪酸與葉綠素。此會破壞細胞膜完整性，所以細胞與胞器會「滲漏」，導致葉片快速凋萎與乾枯，最終造成植物死亡。此第二型光合成抑制劑的例子包括敵草快(diquat)與巴拉刈(paraquat)。
「PPO抑制劑」(b7)為抑制酵素原紫質原氧化酶之化學化合物，其在植物中會迅速導致高度反應性化合物的生成而破壞細胞膜，造成細胞液漏失。PPO抑制劑的例子包括亞喜芬鈉(acifluorfen-sodium)、草芬定(azafenidin)、雙苯嘧草酮(benzfendizone)、治草醚(bifenox)、布芬草(butafenacil)、唑草酮(carfentrazone)、乙唑草酮(carfentrazone-ethyl)、甲氧基護谷(chlomethoxyfen)、吲哚酮草酯(cinidon-ethyl)、異丙吡草酯(fluazolate)、氟噠嗪草酯(flufenpyr- ethyl)、氟烯草酸(flumiclorac-pentyl)、丙炔氟草胺(flumioxazin)、乙羧氟草醚(fluoroglycofen-ethyl)、氟噻甲草酯(fluthiacet-methyl)、氟磺胺草醚(fomesafen)、氟硝磺醯胺(halosafen)、乳氟禾草靈(lactofen)、快噁草酮(oxadiargyl)、樂滅草(oxadiazon)、復祿芬(oxyfluorfen)、環戊惡草酮(pentoxazone)、氟唑草胺(profluazol)、雙唑草腈(pyraclonil)、吡草醚(pyraflufen-ethyl)、嘧啶肟草醚(saflufenacil)、甲磺草胺(sulfentrazone)、代森環(thidiazimin)、氟丙嘧草酯(tiafenacil)(N-[2-[[2-氯-5-[3,6-二氫-3-甲基-2,6-二側氧基-4-(三氟甲基)-1(2H)-嘧啶基]-4-氟苯基]硫基]-1-側氧丙基]-β-丙胺酸甲酯)與3-[7-氟-3,4-二氫-3-側氧-4-(2-丙炔-1-基)-2H-1,4-苯并-6-基]二氫-1,5-二甲基-6-硫酮基-1,3,5-三-2,4(1H,3H)-二酮。
「GS(麩醯胺酸合成酶)抑制劑」(b8)為抑制麩醯胺酸合成酶酵素活性之化學化合物，植物利用該酶將氨轉化為麩醯胺酸。因此，氨會累積，而麩醯胺酸含量會降低。植物損害可能是由於氨毒性與其他代謝過程所需胺基酸不足的結合效應而發生。GS抑制劑包括草銨膦與其酯類及鹽類，諸如草銨膦-銨與其他固殺草(phosphinothricin)衍生物、草銨膦-P((2S)-2-胺基-4-(羥甲膦基)丁酸)與畢拉草(bilanaphos)。
「VLCFA(極長鏈脂肪酸)延長酶抑制劑」(b9)為具有廣泛各式化學結構之除草劑，其會抑制延長酶。延長酶是位於葉綠體中或在葉綠體附近的酵素中之一者，該等酵素牽涉VLCFA的生物合成。在植物中，極長鏈脂肪酸是疏水性聚合物的主要構分，疏水性聚 合物防止葉子表面乾燥並提供花粉粒安定性。此類除草劑包括乙草胺(acetochlor)、拉草(alachlor)、莎稗磷(anilofos)、丁基拉草(butachlor)、苯酮唑(cafenstrole)、二甲草胺(dimethachlor)、汰草滅(dimethenamid)、大芬滅(diphenamid)、異噁苯碸(fenoxasulfone，3-[[(2,5-二氯-4-乙氧基苯基)甲基]磺醯基]-4,5-二氫-5,5-二甲基異唑)、四唑草胺(fentrazamide)、噻草胺(flufenacet)、茚草酮(indanofan)、滅芬草(mefenacet)、滅草胺(metazachlor)、莫多草(metolachlor)、萘丙胺(naproanilide)、滅落脫(napropamide)、滅落脫-M((2R)-N,N-二乙基-2-(1-萘氧基)丙醯胺)、烯草胺(pethoxamid)、哌草磷(piperophos)、普拉草(pretilachlor)、雷蒙得(propachlor)、異丙草胺(propisochlor)、派羅克殺草碸(pyroxasulfone)與欣克草(thenylchlor)、包括解析形式如S-莫多草與氯乙醯胺(chloroacetamide)及氧乙醯胺(oxyacetamide)。
「生長素傳遞抑制劑」(b10)為抑制植物中之生長素傳遞的化學物質，例如藉由與生長素載體蛋白質結合。生長素傳遞抑制劑的例子包括二氟吡隆(diflufenzopyr)、鈉得爛(naptalam，亦已知為N-(1-萘基)鄰胺甲醯苯甲酸與2-[(1-萘胺基)羰基]苯甲酸)。
「PDS(八氫番茄紅素去飽和酶抑制劑)」(b11)為抑制八氫番茄紅素去飽和酶步驟之類胡蘿蔔素生物合成途徑的化學化合物。PDS抑制劑的例子包括氟丁草胺(beflubutamid)、吡氟草胺(diflufenican)、氟啶草酮(fluridone)、氟草吡酮(flurochloridone)、呋草酮(flurtamone)、氟草敏(norflurzon)與氟吡醯草胺(picolinafen)。
「HPPD(4-羥苯基-丙酮酸二氧合酶)抑制劑」(b12)是抑制4-羥苯基-丙酮酸二氧合酶合成的生物合成之化學物質。HPPD抑制劑的例子包括苯并雙環酮(benzobicyclon)、吡草酮(benzofenap)、二環吡草酮(bicyclopyrone，4-羥基-3-[[2-[(2-甲氧乙氧基)甲基]-6-(三氟甲基)-3-吡啶基]羰基]雙環[3.2.1]辛-3-烯-2-酮)、芬昆諾三酮(fenquinotrione)(2-[[8-氯-3,4-二氫-4-(4-甲氧苯基)-3-側氧基-2-喹噁啉基]羰基]-1,3-環己二酮)、異噁氯草酮(isoxachlortole)、異噁唑草酮(isoxaflutole)、硝草酮(mesotrione)、磺醯草吡唑(pyrasulfotole)、苄草唑(pyrazolynate)、普芬草(pyrazoxyfen)、磺草酮(sulcotrione)、特呋三酮(tefuryltrione)、環磺酮(tembotrione)、苯吡唑草酮(topramezone)、5-氯-3-[(2-羥基-6-側氧-1-環己烯-1-基)羰基]-1-(4-甲氧苯基)-2(1H)-喹噁啉酮、4-(2,6-二乙基-4-甲苯基)-5-羥基-2,6-二甲基-3(2H)-嗒酮、4-(4-氟苯基)-6-[(2-羥基-6-側氧基-1-環己烯-1-基)羰基]-2-甲基-1,2,4-三-3,5(2H,4H)-二酮、5-[(2-羥基-6-側氧基-1-環己烯-1-基)羰基]-2-(3-甲氧苯基)-3-(3-甲氧丙基)-4(3H)-嘧啶酮、2-甲基-N-(4-甲基-1,2,5-二唑-3-基)-3-(甲亞磺醯基)-4-(三氟甲基)苯甲醯胺與2-甲基-3-(甲磺醯基)-N-(1-甲基-1H-四唑-5-基)-4-(三氟甲基)苯甲醯胺。
HST(黑尿酸茄尼轉移酶)抑制劑(b13)會擾亂植物將黑尿酸轉換為2-甲基-6-茄尼基-1,4-苯并醌的能力，藉以破壞類胡蘿蔔素生物合成。HST抑制劑的例子包括氟啶草(haloxydine)、三氯吡啶酚(pyriclor)、3-(2-氯-3,6-二氟苯基)-4-羥基-1-甲基-1,5-萘啶-2(1H)- 酮、7-(3,5-二氯-4-吡啶基)-5-(2,2-二氟乙基)-8-羥基吡啶并[2,3-b]吡-6(5H)-酮與4-(2,6-二乙基-4-甲基苯基)-5-羥基-2,6-二甲基-3(2H)-嗒酮。
HST抑制劑亦包括式A與B化合物。
其中Rd1為H、Cl或CF3；Rd2為H、Cl或Br；Rd3為H或Cl；Rd4為H、Cl或CF33；Rd5為CH3、CH2CH3或CH2CHF2；且Rd6為OH、或-OC(=O)-i-Pr；及Re1為H、F、Cl、CH3或CH2CH3；Re2為H或CF3；Re3為H、CH3或CH2CH3；Re4為H、F或Br；Re5為Cl、CH3、CF3、OCF3或CH2CH3；Re6為H、CH3、CH2CHF2或C≡CH；Re7為OH、-OC(=O)Et、-OC(=O)-i-Pr或-OC(=O)-t-Bu；且Ae8為N或CH。
纖維素生物合成抑制劑(b14)會抑制某些植物中的纖維素生物合成。當它們預施用或早期後施用在幼嫩或快速生長植物上時會最為有效。纖維素生物合成抑制劑的例子包括草克樂(chlorthiamid)、二氯苯腈(dichlobenil)、氟胺草唑(flupoxam)、三嗪茚草胺(indaziflam)(N 2 -[(1R,2S)-2,3-二氫-2,6-二甲基-1H-茚-1-基]-6- (1-氟乙基)-1,3,5-三-2,4-二胺)、異噁草胺(isoxaben)與三唑侖(triaziflam)。
其他除草劑(b15)包括透過各式不同作用模式而作用的除草劑，諸如有絲分裂干擾劑(例如，麥草伏甲酯(flamprop-M-methyl)與麥草伏丙酯(flamprop-M-isopropyl))、有機砷劑(例如，DSMA與MSMA)、7,8-二氫蝶酸合成酶(7,8-dihydropteroate synthase)抑制劑、葉綠體類異戊二烯(isoprenoid)合成抑制劑與細胞壁生物合成抑制劑。其他除草劑包括具有未知作用模式或不屬於(b1)至(b14)中所列出之特定分類的除草劑，或透過上列作用模式之組合而作用的除草劑。其他除草劑的例子包括苯草醚(aclonifen)、亞速爛(asulam)、殺草強(amitrole)、溴布泰(bromobutide)、環庚草醚(cinmethylin)、可滅蹤(clomazone)、苄草隆(cumyluron)、環比瑞摩(cyclopyrimorate)(4-嗎福林甲酸6-氯-3-(2-環丙基-6-甲基苯氧基)-4-嗒基酯)、殺草隆(daimuron)、燕麥枯(difenzoquat)、乙氧苯草胺(etobenzanid)、伏草隆(fluometuron)、抑草丁(flurenol)、殺木膦(fosamine)、殺木膦-銨(fosamine-ammonium)、邁隆(dazomet)、汰草龍(dymron)、艾分卡斑唑(ipfencarbazone，1-(2,4-二氯苯基)-N-(2,4-二氟苯基)-1,5-二氫-N-(1-甲基乙基)-5-側氧基-4H-1,2,4-三唑-4-甲醯胺)、威百畝(metam)、甲基汰草龍(methyldymron)、油酸(oleic acid)、噁嗪草酮(oxaziclomefone)、壬酸(pelargonic acid)、稗草畏(pyributicarb)與5-[[(2,6-二氟苯基)甲氧基]甲基]-4,5-二氫-5-甲基-3-(3-甲基-2-噻吩基)異唑。
「除草劑安全劑」(b16)為添加至除草劑製劑中以消除或減輕該除草劑對某些作物之植物毒性效果的物質。這些化合物會保護作物免受除草劑傷害，但典型上不會防止該除草劑防治非所欲植物。除草劑安全劑的例子包括但不限於解草嗪(benoxacor)、解毒喹(cloquintocet-mexyl)、苄草隆(cumyluron)、解草胺腈(cyometrinil)、啶醯菌胺(cyprosulfamide)、殺草隆(daimuron)、二氯丙烯胺(dichlormid)、大賽克農(dicyclonon)、哌草丹(dimepiperate)、解草唑(fenchlorazole-ethyl)、解草啶(fenclorim)、解草胺(flurazole)、氟草肟(fluxofenim)、解草惡唑(furilazole)、雙苯噁唑酸(isoxadifen-ethyl)、唑解草酯(mefenpyr-diethyl)、梅芬內(mephenate)、苯草酮(methoxyphenone)、萘二甲酸酐(naphthalic anhydride)、解草腈(oxabetrinil)、N-(胺基羰基)-2-甲苯磺醯胺與N-(胺基羰基)-2-氟苯磺醯胺、1-溴-4-[(氯甲基)磺醯基]苯、2-(二氯甲基)-2-甲基-1,3-二氧五環烷(MG 191)、4-(二氯乙醯基)-1-氧雜-4-偶氮螺[4.5]癸烷(MON 4660)。
式1化合物可藉由合成有機化學技術領域中習知的一般方法來製備。以下如方案1-14中所述之一或多種方法及變體可用於製備式1化合物。除非另有說明，下列式1-17之化合物中X1、X2、X3、n、P1及P2之定義係如上述發明內容中所界定。除非另有說明，式1A、1B、及1C化合物為式1化合物之各式子集，且所有用於式1A、1B、及1C的取代基係如上述針對式1化合物所定義。除非另有 說明，式10A及10B化合物為式10化合物之各式子集，且所有用於式10A及10B的取代基係如上述針對式10化合物所定義。
如方案1所展示，式1A吡唑(式1化合物之子集，其中P為氫)可被烷化或允許與於存在鹼之適當溶劑中之適合的親電子試劑反應以得出式1B化合物，其中P不為H(如發明內容中所定義之式1化合物)。雖然顯示僅一個互變異構物，其中該氮上可交換環氫基團不具有相鄰的取代基，式1A吡唑可與互變異構物種存在於平衡狀況，其中該吡唑氮上之環氫基團相鄰於芳基取代基。由於在較少立體障礙之吡唑環氮的較佳烷基化，式1B化合物一般形成為主要產物，但相鄰於芳基環之其他吡唑環氮之部分烷化可透過互變異構作用發生以產生式2位向異構物吡唑。然而，式2異構物吡唑相對於式1B吡唑一般獲得為次要的產物。所形成的式1B及式2位向異構物吡唑相對量可依據式1A吡唑上出現的取代基及使用的特殊烷基化方法而有所變化。式1A吡唑最初可以鹼處理而形成碳負離子種類，其係接著允許與烷化劑或親電子試劑反應。另外，在某些情況下可同時加入鹼及親電子劑於預先溶解於溶劑中之式1A化合物。適合用於此反應之鹼類實例包括但不限定於碳酸鉀、氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫化鈉、異丁醇鉀及、依據所使用的特殊鹼，適當的溶劑可為質子或非質子溶劑及使用無水的或作為含水混合物。某些溶劑的實例包括乙腈、甲醇、乙醇、四氫呋喃、二乙基醚、二烷、二氯甲烷或N,N-二甲基甲醯胺。該反應可在一溫度範圍下作用，一般溫度範圍由0℃至該溶劑之回流溫度。
用於製備式1A吡唑之非位向選擇性方法係概述於方案2。藉由於實例2中之美國專利號第5,939,559號所教示的方法，或依照J.Heterocyclic Chem.1982,19,1355中所述之方法，肼(無水的或該水合物)可在質子或非質子性溶劑(諸如乙腈、甲醇、乙醇或N,N-二甲基甲醯胺)中以式3經取代2-苯甲烯-1,3-戊二酮(其中A作為脫離基，諸如二甲基胺基、乙氧基或甲氧基)予以環化以提供式1A及式4之位向選擇性吡唑，其係藉由色層分析及/或分段結晶予以分離。用於此反應之溫度一般範圍由0℃至該溶劑之回流溫度。式1A及式4吡唑可藉由異構作用而以互變異構種類存在，其中該可交換氫可位於任一環氮上，雖然此氫係展示於式1A及式4化合物中而位於芳基基團最遠之氮環。在此反應中所形成式1A及式4吡唑之比例可依照式3中間化合物上之取代上之取代及施用之反應條件而有所不同。
式3經取代2-苯甲烯-1,3-戊二酮(其中A作為脫離基，諸如二甲基胺基、乙氧基或甲氧基)可藉由與式5經取代二芳基-1,3-戊二酮反應以製備，其反應是在N,N-二甲基甲醯胺、二甲基縮醛或原甲酸三烷酯(諸如無溶劑HC(OMe)3或HC(OEt)3)或在適合的溶劑中(諸如乙腈、甲醇、乙醇、四氫呋喃、二烷、甲苯、二氯甲烷或N,N-二甲基甲醯胺)中所進行。用於此反應之溫度一般範圍在25℃至該無溶劑混合物或溶劑之回流溫度。
製備式5經取代1,3-二芳基-1,3-戊二酮的方法以確立於記載在文獻中的許多製程。例如，見Synth.Comm.2007,37(23), 4111-4115、Org.Lett.2005,7(3),455-458、U.S.20130137688、Tetrahedron Lett.2003,44(5)1067-1069及Med.Chem.Res.2012,21(5),584-589。用於製備式5二酮之特別有用的方法涉及藉由美國專利號第5,939,559號實例1中所描述之製程具有經取代苯甲酸酯之適當地經取代苯乙酮之鹼催化耦合。如概述於方案4，式6之苯甲酸鹽(一般其中R為乙基或甲基)係允許在0℃至該溶劑回流溫度之溫度範圍之溶劑(諸如四氫呋喃、二烷、N,N-二甲基甲醯胺或質子醇類溶劑，諸如甲醇或乙醇)存在適合的鹼(亦即氫化鈉、烷氧基鈉或叔丁氧基鉀)之情況下與式7氟苯乙酮進行反應。另外，式8經取代苯乙酮在相同反應條件下可經歷與式9氟苄酸酯之鹼催化耦合以提供式5之二酮。
用於製備式1A吡唑之位向選擇性路徑遺留格任亞劑催化耦合的具有式11醛類之式10A未保護的3-苯基-4-碘吡唑。如方案5所示，此反應在0℃至該溶劑回流溫度之溫度範圍下可進行於適合的溶劑(諸如四氫呋喃、二烷或二乙基醚)中。用於產生式10A之吡 唑格任亞劑化合物以與適當的苯甲醛耦合之較佳格任亞試劑為溴化異丙基鎂，因該存在於式10A化合物之可交換吡唑環質子，其超過2當量係加至於該式10A化合物。該形成的醇類加成物係直接與適當的氧化劑(諸如Jones試劑、二氧化錳或氯鉻酸吡啶鹽、TEMPO或Fehling’s溶液)氧化以提供式1A之吡唑酮。描述於方案5之格任亞劑耦合一般較佳亦作用於3-苯基-4-溴吡唑而非3-苯基-4-碘吡唑。
如方案6所示，式10A碘吡唑在0℃至該溶劑回流溫度之溫度範圍及存在有碘化劑(諸如N-碘琥珀醯亞胺或ICl)之溶劑(諸如乙腈、四氫呋喃、二烷或N,N-二甲基甲醯胺)中藉由式12吡唑之碘化作用輕易製備。具有溴化劑(諸如溴或N-溴代丁二醯亞胺之式12吡唑溴化作用給予相符的式10B之3-苯基-4-溴吡唑。
方案6
式12經取代3-苯基吡唑係藉由概述於方案7之路徑予以輕易製備。在25℃至該無溶劑混合物或溶劑之回流溫度下，將式8經取代苯乙酮與N,N-二甲基甲醯胺二甲基縮醛或原甲酸三烷酯(諸如無溶劑HC(OMe)3或無溶劑HC(OEt)3)或溶劑(諸如乙腈、甲醇、乙醇、四氫呋喃、二烷、甲苯、二氯甲烷或N,N-二甲基甲醯胺)攪拌以給予式13烯酮中間物(其中A為脫離基，其一般為二甲基胺基、乙氧基或甲氧基)。以肼(無水或水合物)於質子或非質子性溶劑(亦即乙腈、甲醇、乙醇或N,N-二甲基甲醯胺)之式13化合物環化給予式12苯基吡唑。此反應之溫度可在0℃至溶劑回流溫度之範圍中。描述於方案6及7中之化學方法已於先前文獻WO2013/062887及Tetrahedron 2003,59(4),555-560中說明。
在式10A 3-苯基-4-碘吡唑上之環氮在產生用於添加至式11苯甲醛之格任亞劑前(如展示於方案8中)亦可以適當的封端基團(諸如N,N-二甲基磺醯基(-SO2N(CH3)2)、甲氧基甲基(-CH2OCH3)或苄基氨基甲酸脂(cbz))予以保護。舉例而言，式10A化合物與N,N-二甲基氯磺醯基胺基或溴甲基乙醚於存在鹼(亦即碳酸鉀或氫化鈉)在溶劑(四氫呋喃、二烷、乙腈、或甲苯或N,N-二甲基甲醯胺)之反應以供予N-保護的式14吡唑，其中P為SO2N(CH3)或CH2OCH3。式14化合物與溴化異丙基鎂之耦合給予了該吡唑格任亞劑，在0℃至該溶劑回流溫度之溫度範圍下，其在溶劑(亦即四氫呋喃、二烷或二乙基醚)中與式11苯甲醛之反應以給予醇類中間物，該醇類中間物係氧化為吡唑酮1C(亦即式1之子集，其中P為SO2N(CH3)或CH2OCH3)。醇類氧化為酮類通常以Jones試劑完成，但亦可使用其他氧化劑。用於產生該N-保護的吡唑格任亞劑之較佳格任亞試劑為溴化異丙基鎂，其中一般使用1.1至1.2當量。式1C之N-保護的3-苯基吡唑苯基酮有時為式1B進一步子集的預期合成標的，而亦可藉由以適當的試劑(例如酸)去除該N-保護基以轉換為式1A吡唑。當PG為SO2N(CH3)2時，三氟乙酸在用於去保護上表現良好。
方案8
用於製備式1A之3-苯基-4-氟基苯甲醯基吡唑之替代性位向選擇方法係歸納於方案9。式15氮-保護的3-溴-4-氟基苯甲醯基吡唑可在25℃至該溶劑回流溫度之一般溫度範圍下於存在有鈀觸媒(諸如四(三苯基膦)鈀或二氯-雙-(三苯基膦)鈀，其選擇性地具有鹼(諸如金屬碳酸酯或三級胺))之溶劑(諸如二烷、N,N-二甲基甲醯胺、四氫呋喃或甲苯)中與式16之芳基硼酸交叉耦合以提供式1CN-保護的3-苯基-4-氟基苯甲醯基吡唑，其去保護作用以提供式1A化合物。保護基PG及去保護作用條件係相同於方案8所描述。
方案9
方案10概述式15N-保護的3-溴吡唑酮中間物之製備，其中保護基首先置於3,4-二溴吡唑之環氮上以給予式17 N-保護的-3,4-二溴吡唑。適合的保護基(PG)及反應條件係相同於方案8所描述。在4-吡唑位置用於選擇性格任亞劑形成之條件，除了式11苯甲醛而得到醇類，其氧化為式16之吡唑酮亦相同於方案8。在3-吡唑位置之格任亞劑形成一般不與在4-吡唑位置之格任亞劑形成進行競爭，其允許有限的副產物形成。針對用於製備式17 N,N-二甲基磺醯基吡唑之文獻方法，其中PG為SO2N(CH3)2(見WO2011/102399、WO2007/014290及Synthesis 2006,(5),793-798.)。
式1c之肟，其中P係定義為1，其在質子或非質子性溶劑(一般有鹼的存在，但有時有酸的存在)中可藉由將式1a酮類 (其具有游離吡唑NH)或式1b酮類(其中P不為H)與式NH2OR之羥胺或烷氧胺(作為游離鹼或鹽類形式)進行處理予以製備。某些較佳的溶劑實例包括甲醇、乙醇、吡啶、水、二烷及乙腈或N,N-二甲基甲醯胺。鹼的實例包括但不限定於醋酸鈉、甲醇鈉及氫氧化鉀。該反應可在一溫度範圍下作用，一般溫度範圍由25℃至該溶劑之回流溫度。使用吡啶作為溶劑和鹼對於此反應係有時較佳的。
概述於方案11中之相同條件下，如方案12所示，式1E腙類(其中P是相同定義為1)可藉由將式1A酮類(具有游離吡唑NH)或式1b酮類(其中P不為H)與式NH2NR1R2之肼類(作為游離鹼或鹽類形式)進行處理予以製備。針對此反應，式NH2NR1R2之肼類係一般使用於游離鹼形式或一般溶劑，其溶劑包括甲醇、乙醇及乙腈。雖然幾何異構體是可能的，通常僅一異構物可由方案11及12所概述的縮合反應而獲得作為主產物。
方案12
如繪示於方案13中，式1F縮酮類(其中P是相同定義為1)可藉由將式1A酮類(具有游離吡唑NH)或式1B酮類(其中P不為H)與過量之式R3WH之醇類(其中W為O或S)進行反應予以製備，其溶劑(諸如甲醇或乙醇或在非質子性溶劑(例如甲苯))中通常存在有酸性催化劑(諸如p-甲苯磺酸或濃硫酸)。用於製備式1F化合物之條件(其中W為O，其在烷醇使用三烷基原甲酸酯)可見於Synth.Comm.2008,38,2607。
如方案14所繪示，式1G亞胺類、烷基胺類及氰基亞胺類可由描述愈方案11至13之相同方法予以製備。式1F形式化合物 (其中P係相同於對於式1化合物所定義)可藉由將式1A酮類(具有游離吡唑NH)或式1B酮類(其中P不為H)與過量之式NH2R1(其中R1如發明內容中所定義)進行反應予以製備，其在甲醇或乙醇或在非質子性溶劑(例如甲苯)中通常存在有酸性催化劑(亦即p-甲苯磺酸或濃硫酸)。
熟習該項技術者會認知到，可將各種官能基轉換成其他的官能基以得到不同的式1化合物。關於以簡單及直觀之方式說明官能基相互轉化的可貴資源，請參見Larock,R.C.,Comprehensive Organic Transformations：A Guide to Functional Group Preparations,2nd Ed.,Wiley-VCH,New York,1999。舉例而言，用於式1化合物之製備的中間物可含有芳族硝基基團(可還原為胺基基團)，然後經由所屬技術領域中所習知之反應(例如山德邁耳反應)轉化為各式鹵化物，進而提供式1化合物。在許多情況下，以上反應亦可用其他順序來執行。
應認識到，上述用於製備式1化合物的一些試劑及反應條件，可能無法與某些存在於中間物中的官能度相容。在這些情況中，併入保護/去保護序列或官能基相互轉換至該合成中，將有助於獲得所欲產物。保護基的使用和選擇對熟習化學合成之技藝人士而言是顯而易見的(參見例如Greene,T.W.；Wuts,P.G.M.Protective Groups in Organic Synthesis,2nd ed.；Wiley：New York,1991)。熟習該領域之技藝人士將能認可，在一些情況下，在採用如在任何個別方案中所敘述的特定試劑之後，可能需要進行額外未詳細說明的常規合成步驟以完成式1化合物的合成。所屬技術領域中具有通常知識者亦將認知到，上述方案中所繪示的步驟可能必須以一種不同於其所呈現用來製備式1化合物之特定序列所代表的順序組合進行。
所屬技術領域中具有通常知識者亦將認知到，本文中所述之式1化合物及中間物可經受各種親電反應、親核反應、自由基反應、有機金屬反應、氧化反應及還原反應，以加入取代基或修飾現有的取代基。
即使沒有進一步的闡述，相信使用上述說明的熟習該項技術者仍能夠最大程度地利用本發明。因此，以下實例僅為說明之用，而絕非以任何方式限制本發明之揭露內容。下列實例中的步驟，說明在整個合成變化中每一步驟的製程，且每個步驟的起始原料不一定非得由在其他實例或步驟中敘述的特別製備流程之製程來製備。百分比為以重量計，除了層析溶劑混合物或另有指明者。在下面的實例中，縮寫「eq」意指當量，且除非另有說明，用於層析溶劑混合物之 份數或百分比係以體積計。1H NMR光譜以在CDCl3中距四甲基矽烷在500MHz低場區的ppm表示之；「s」意指單峰、「d」意指雙重峰、「t」意指三重峰、「m」意指多重峰且「bs」意指廣單峰。
合成實例1
N-[[3-(3,5-二氯苯基)-1H-吡唑-4-基]苯甲烯]-1-吡咯烷胺(化合物30)之製備
步驟A：1-(3,5-二氯苯基)-3-(二甲基胺基)-2-丙烯-1-酮之製備。
3',5'-二氯乙醯苯酮(9.7g,51mmol)係在N,N-二甲基甲醯胺二甲基縮醛(50mL)中回流加熱3小時。在冷卻至周圍溫度後，該反應混合物經濃縮且在真空下乾燥以提供橙色固體(12.3g)，其使用時不再經進一步純化。
1H NMR δ 7.82(d,1H)、7.74(s,2H)、7.42(s,1H)、5.58(d,1H)、3.18(bs,3H)、2.95(bs,3H)。
步驟B：3-(3,5-二氯苯基)-1H-吡唑之製備
於乙醇(100mL)中之1-(3,5-二氯苯基)-3-(二甲基胺基)-2-丙烯-1-酮(亦即該獲自於步驟A之產物)(12.3g,50.4mmol)係加入水合肼(5.7mL，55%以水中重量計，100mmol)。該反應混合物於周圍溫度下攪拌18小時。該反應混合物經濃縮且在真空下乾燥以提供米黃色固體(10.9g)，其使用時不再經進一步純化。
1H NMR δ 11.2(bs,1H)、7.67(s,2H)、7.62(m,1H)、7.31(m,1H)、6.62(m,1H)。
步驟C：3-(3,5-二氯苯基)-4-碘-1H-吡唑之製備
N-碘琥珀醯亞胺(13.7g,61mmol)在周圍溫度下係加入在乙腈(100mL)中之3-(3,5-二氯苯基)-1H-吡唑混合物(亦即該獲自於步驟B之產物)(10.9g,51mmol)。在攪拌24小時之後，加入水，且該產物以乙酸乙酯萃取。該有機萃取物以鹽水清洗，以Mg(SO4)2乾燥，過濾並濃縮。該濃縮固體係以熱己烷磨碎並過濾以提供米黃色固體(9.8g)。
1H NMR δ 7.70(m,3H)、7.39(m,1H)。
步驟D：3-(3,5-二氯苯基)-α-苯基-1H-吡唑-4-甲醇之製備
溴化異丙基鎂(4.0mL,2.9M於2-甲基四氫呋喃，11.8mmol)在0℃滴加入在四氫呋喃(6mL)中之3-(3,5-二氯苯基)-4-碘-1H-吡唑(亦即該獲自於步驟C之產物)(2.0g,5.9mmol)攪拌溶液。該反應混合物於0℃攪拌1小時。加入苯甲醛(0.66mL,6.5mmol)，且該反應混合物在周圍溫度攪拌3天。在冷卻至0℃後，該反應混合物係以含水飽和氯化銨淬冷，且以乙酸乙酯萃取。該有機萃取物係以Mg(SO4)2乾燥，過濾，濃縮在Celite®矽藻土助濾劑並藉由MPLC純化，以在己烷中之乙酸乙酯0-100%梯度沖提以給予乾淨、無色油狀物(1.35g)。
1H NMR δ 7.60(m,2H)、7.35(m,4H)、7.30(m,3H)、5.90(s,1H)。
步驟E：[3-(3,5-二氯苯基)-1H-吡唑-4-基]苯甲酮之製備
在0℃於丙酮(25.0mL)之3-(3,5-二氯苯基)-α-苯基-1H-吡唑-4-甲醇(亦即該獲自於步驟D之產物)(1.35g,4.2mmol)係加入Jones試劑(1.4mL，2.7M CrO3/H2SO4在H2O中)。該溶液攪拌冷卻3小時。加入飽和含水碳酸氫鈉，且該混合物以二氯甲烷萃取。該有機萃取物以Mg(SO4)2乾燥，過濾、且濃縮以給予1.21g之淡米黃色固體。
1H NMR δ 11.0(bs,1H)、7.95(s,1H)、7.80(d,2H)、7.57(m,3H)、7.45(m,2H)、7.33(m,1H)。
步驟F：N-[[3-(3,5-二氯苯基)-1H-吡唑-4-基]苯甲烯]-1-吡咯烷胺
於吡啶(10mL)之[3-(3,5-二氯苯基)-1H-吡唑-4-基]苯甲酮(亦即該獲自於步驟E之產物)(0.5g,1.6mmol)加入1-胺基吡咯烷氯化氫(1.9g,16mmol)。該反應混合物在100℃下加熱24小時。在冷卻至周圍溫度後，加入1N氫氯酸，且該反應混合物以乙酸乙酯萃取。該萃取物以1N氫氯酸清洗一次、以水清洗一次及以鹽水清洗一次。該萃取物接著以Mg(SO4)2乾燥，過濾、且濃縮。該濃縮物以MPLC純化，以己烷中之乙酸乙酯0-100%梯度沖提以給予具有熔點142-149℃之淺棕色固體(0.4g)。
1H NMR δ 7.66(s,1H)、7.56(s,2H)、7.46(m,2H)、7.21(m,4H)、3.07(m,4H)、1.71(m,4H)。
合成實例2
[3-(3,5-二氯苯基)-1-(2-丙炔-1-基)-1H-吡唑-4-基]苯甲酮(化合物39)之製備
步驟A：[3-(3,5-二氯苯基)-1-(2-丙炔-1-基)-1H-吡唑-4-基]苯甲酮之製備
於乙腈(7mL)之[3-(3,5-二氯苯基)-1H-吡唑-4-基]苯甲酮(亦即該獲自於實例1步驟E之產物)(0.2g,0.63mmol)在周圍溫度下加入炔丙基溴化物(0.11mL，80%溶液於甲苯，0.95mmol)及碳酸鉀(0.18g,1.3mmol)。該反應混合物攪拌2小時。加入乙酸乙酯於該反應混合物並分離該有機層，以水清洗兩次及以鹽水清洗一次。該有機層接著以Mg(SO4)2乾燥，過濾且濃縮以給予0.20g之澄清淺黃色油狀物。
1H NMR δ 8.02(s,1H)、7.79(m,2H)、7.60(s,2H)、7.54(t,1H)、7.43(m,2H)、7.30(s,1H)、5.02(d,2H)、2.60(t,1H)。
合成實例3
[3-(3,5-二氯苯基)-1-(羥甲基)-1H-吡唑-4-基]苯甲酮(化合物15)之製備
步驟A：[3-(3,5-二氯苯基)-1-(羥甲基)-1H-吡唑-4-基]苯甲酮之製備
於水(20mL)之[3-(3,5-二氯苯基)-1H-吡唑-4-基]苯甲酮(亦即該獲自於實例1步驟E之產物)(2.0g,6.3mmol)在周圍溫度下加入甲醛(2.5mL，37%溶液於水，32mmol)。該均質溶液在周圍溫度攪拌24小時。該反應混合物係濃縮且以甲苯共沸兩次。該濃縮物以MPLC純化，以己烷中乙酸乙酯之0-100%梯度沖提以得到白色固體(1.9g)。
1H NMR δ 7.95(s,1H)、7.77(m,2H)、7.56(s,3H)、7.44(m,2H)、7.31(m,1H)、5.58(m,2H)、4.85(bs,1H)。
合成實例4
1-[4-苯甲醯基-3-(3,5-二氯苯基)-1H-吡唑-1-基]-2-甲氧基乙酮(化合物16)之製備
步驟A：1-[4-苯甲醯基-3-(3,5-二氯苯基)-1H-吡唑-1-基]-2-甲氧基乙酮之製備
於四氫呋喃(20mL)之[3-(3,5-二氯苯基)-1H-吡唑-4-基]苯甲酮(亦即該獲自於實例1步驟E之產物)(1.0g,3.2mmol)及甲氧基乙醯基氯化物(0.6mL,6.4mmol)在0℃加入吡啶(0.51mL,6.4mmol)。將白色反應混合物係攪拌冷卻4小時。加入含水飽和的氯化銨，該產物以乙酸乙酯萃取。該有機萃取物係以Mg(SO4)2乾燥，過濾、及濃縮並藉由MPLC純化，在己烷中之乙酸乙酯0-100%梯度沖提以得到具有熔點118-123℃之白色固體(1.03g)。
1H NMR δ 8.57(s,1H)、7.84(d,2H)、7.65(m,3H)、7.50(t,2H)、7.41(s,1H)、4.99(s,2H)、3.61(s,3H)。
合成實例5
[3-(3,5-二氯苯基)-1-乙基-1H-吡唑-4-基]苯甲酮(化合物31)之製備。
步驟A：[3-(3,5-二氯苯基)-1-乙基-1H-吡唑-4-基]苯甲酮之製備
於乙腈(15mL)之[3-(3,5-二氯苯基)-1H-吡唑-4-基]苯甲酮(亦即該獲自於實例1步驟E之產物)(0.3g,0.95mmol)在周圍溫度下係加入碘乙烷(0.1mL,1.23mmol)及碳酸鉀(0.197g,1.42mmol)。該反應混合物攪拌2小時。加入額外的1eq.碘乙烷及1eq.碳酸鉀。該反應混合物額外攪拌3小時。在乙酸乙酯萃取後接著以水進行該反應混合物之稀釋。該乙酸乙酯相以鹽水清洗一次，以Mg(SO4)2乾燥，過濾、且藉由旋轉蒸發予以濃縮。在矽膠上之管柱層析係以100%己烷接著100%二氯甲烷沖提以產出澄清的油狀物(0.22g)。
1H NMR δ 7.69-7.89(m,3H)、7.63(m,2H)、7.47-7.56(m,1H)、7.35-7.45(m,2H)、7.28(m,1H)、4.22(m,2H)、1.55(m,3H)。
合成實例6
[3-(3,5-二氯苯基)-1-甲基-1H-吡唑-4-基]苯甲酮(化合物54)之製備
步驟A：[3-(3,5-二氯苯基)-1-甲基-1H-吡唑-4-基]苯甲酮
於乙腈(5mL)之[3-(3,5-二氯苯基)-1H-吡唑-4-基]苯甲酮(亦即該獲自於實例1步驟E之產物)(0.1g,0.32mmol)在周圍溫度下係加入碘甲烷(0.026mL,0.41mmol)及碳酸鉀(0.066g,0.47mmol)。該反應混合物攪拌2小時。在乙酸乙酯萃取後接著以水進行該反應混合物之稀釋。該乙酸乙酯相以鹽水清洗一次，以Mg(SO4)2乾燥，過濾、且藉由旋轉蒸發予以濃縮。在矽膠上之管柱層析以在己烷中之0-20%乙酸乙酯沖提以產出0.071g澄清的油狀物。
1H NMR δ 7.69-7.80(m,3H)、7.62(m,2H)、7.53(m,1H)、7.42(m,2H)、7.29(m,1H)、3.97(s,3H)。
合成實例7
[3-(3,5-二氯苯基)-1-丙基-1H-吡唑-4-基]苯甲酮(化合物61)之製備
步驟A：[3-(3,5-二氯苯基)-1-丙基-1H-吡唑-4-基]苯甲酮之製備
於乙腈(5mL)之[3-(3,5-二氯苯基)-1H-吡唑-4-基]苯甲酮(亦即該獲自於實例1步驟E之產物)(0.18g,0.57mmol)在周圍溫度下係加入1-溴丙烷(0.083mL,0.85mmol)及碳酸鉀(0.118g,0.85mmol)。該反應混合物攪拌2小時。在乙酸乙酯萃取後接著以水進行該反應混合物之稀釋。該乙酸乙酯相以鹽水清洗一次，以Mg(SO4)2乾燥，過濾、且藉由旋轉蒸發予以濃縮。在矽膠上之管柱層析係以在己烷中之0-0%乙酸乙酯沖提以產出澄清的油狀物(0.16g)。
1H NMR δ 7.70-7.83(m,3H)、7.64(m,2H)、7.48-7.55(m,1H)、7.34-7.44(m,2H)、7.28(m,1H)、4.12(m,2H)、1.83-2.01(m,2H)、0.96(m,3H)。
藉由本文所述之程序以及該領域中已知之方法，可製備以下表1至表204之化合物。下表中所用之縮寫如下面所示：Ac意指「醋酸鹽」(亦即-C(=O)CH3)，i意指「異」，c意指「環」，Et意指「乙基」，Pr意指「丙基」，i-Pr意指「異丙基」，c-Pr意指「環丙基」，Ph意指「苯基」，Thn意指「噻吩基」，OEt意指「乙氧基」，NHMe意旨「甲胺基」，-CN意指「氰基」且Py意指「吡啶基」。
本揭露亦包括表2至264，其中每一個表的架構與以上表1相同，惟表1的列標題(亦即「G=C(=O),Q=Ph,P=C(=O)CH2OMe」)係以如下顯示之各別列標題所取代。舉例而言，表2之列標題為「G=C(=O),Q=2-Thn,P=C(=O)OCH2OMe」且X1、X2、及X3係如以上表1所定義。
本發明之化合物將通常用來作為組成物(即配方)中之除草活性成分，並伴隨有至少一種選自由界面活性劑、固體稀釋劑及液體稀釋劑所組成之群組的額外組分以作為載體之用。此配方或組成物成分係經選擇，以配合活性成分之物理性質、施用型態與土壤種類、濕度和溫度等環境因素。
可用的配方包括液體及固體組成物。液體組成物包括溶液(包括可乳化濃縮物)、懸浮液、乳液(包括微乳液、水包油乳液、可流動濃縮物及/或懸浮乳液(suspoemulsion))與類似者，並可選擇性地將其增稠成凝膠。水性液體組成物的一般類型為可溶濃縮物(soluble concentrate)、懸浮濃縮物(suspension concentrate)、膠囊懸浮液(capsule suspension)、濃縮乳液、微乳液、水包油乳液、可流動濃縮物與懸浮乳液(suspo-emulsion)。非水性液體組成物的一般類型為可乳化濃縮物、可微乳化濃縮物、可分散性濃縮物(dispersible concentrate)及油分散液(oil dispersion)。
固體組成物的一般類型為塵粉(dust)、粉劑、粒劑、丸劑(pellet)、珠劑(prill)、錠劑(pastille)、片劑、包膜(filled film)(包括種子塗覆物)與類似者，其可具有水分散性(「可濕性」)或水溶性。由成膜溶液或可流動懸浮液形成的膜和塗層在種子處理上特別有用。活性成分可經(微)膠囊封裝並進一步形成懸浮液或固體配方；或者整體活性成分配方可經膠囊封裝(或「披覆」(overcoated))。膠囊封裝可以控制或減緩活性成分的釋放。可乳化粒劑結合了可乳化濃縮物與乾粒狀配方的優點。高強度組成物主要用作進一步配方的中間物。
通常在噴灑前會先將可噴灑配方在適合的介質中擴展。該液體或固體配方係調配為可隨時稀釋在噴灑介質中，通常為水，但有時為其他適當的介質，像是芳羥或石蠟烴或植物油。噴灑的量可從每公頃約一到數千公升，但更通常為從每公頃約十到數百公升。可噴灑配方可在桶中與水或其他適合介質混合，藉由空中或地面施用而運用於葉處理，或施用於植物的生長介質。液體配方與乾配方可在栽種時，直接計量加入滴流灌溉系統或犁溝。
該配方通常含有有效量的活性成分、稀釋劑和界面活性劑，其落於下列概略範圍中且加起來會等於100重量百分比。
固體稀釋劑包括例如，黏土如膨土、微晶高嶺石、厄帖浦石與高嶺土、石膏、纖維素、二氧化鈦、氧化鋅、澱粉、糊精、糖(例如乳糖、蔗糖)、二氧化矽、滑石、雲母、矽藻土、尿素、碳酸鈣、碳酸鈉與碳酸氫鈉及硫酸鈉。常用固體稀釋劑可見於Watkins et al.,Handbook of Insecticide Dust Diluents and Carriers,2nd Ed.,Dorland Books,Caldwell,New Jersey。
液體稀釋劑例如包括水、N,N-二甲基烷醯胺(例如，N,N-二甲基甲醯胺)、薴烯、二甲亞碸、N-烷吡咯啶酮(例如，N-甲基吡咯啶酮)、烷基磷酸鹽類(例如，三乙基磷酸鹽)、乙二醇、三乙二醇、丙二醇、二丙烯甘醇、聚丙二醇、碳酸丙烯酯、碳酸丁二酯、石蠟(例如，白礦油、正構烷烴、異烷烴)、烷基苯、烷基萘、甘油、三乙酸甘油酯、山梨糖醇、芳香族碳氫化合物、脫芳脂族、烷基苯、烷基萘、酮如環己酮、2-庚酮、異佛酮與4-羥基-4-甲基-2-戊酮、乙酸酯如乙酸異戊酯、乙酸己酯、乙酸庚酯、乙酸辛酯、乙酸壬酯、乙酸十三酯與乙酸異莰酯、其他酯類如烷化乳酸酯、二元酯類、烷基 與芳基苯甲酸酯及γ-丁內酯、與醇類(其可為直鏈、支鏈、飽和或不飽和，諸如甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇、正己醇、2-乙基己醇、正辛醇、癸醇、異癸醇、異十八醇、十六醇、月桂醇、十三醇、油醇、環己醇、四氫糠醇、二丙酮醇、甲酚與苄醇)。液體稀釋劑也包括飽和和不飽和脂肪酸的甘油酯(通常為C6-C22)，諸如植物種子與水果油(例如橄欖、蓖麻、亞麻仁、芝麻、玉米、花生、向日葵、葡萄籽、紅花、棉籽、黃豆、油菜籽、椰子與棕櫚仁的油)、動物源性脂肪(例如牛脂、豬肉脂、豬油、鱈魚肝油、魚油)及其混合物。液體稀釋劑也包括烷化脂肪酸(例如甲基化、乙基化、丁基化)，其中該脂肪酸可藉由水解來自植物和動物來源的甘油酯而獲得，並可用蒸餾純化。典型的液體稀釋劑係描述於Marsden，Solvents Guide，第2版，Interscience，New York，1950中。
本發明的固體和液體組成物通常包括一或多種界面活性劑。當加入至液體中時，界面活性劑(也已知為「表面活性劑」)通常會改變(最常為減少)液體的表面張力。取決於界面活性劑分子中親水性和親油性基的性質，界面活性劑可用作為潤濕劑、分散劑、乳化劑或消泡劑。
界面活性劑可以分類為非離子性、陰離子性或陽離子性。可用於本發明組成物的非離子界面活性劑包括但不限於：醇烷氧化物(alcohol alkoxylate)，諸如基於天然及合成醇(其可為分支或線性)並且製備自該等醇與環氧乙烷、環氧丙烷、環氧丁烷或上述者之混合物的醇烷氧化物；乙氧基胺、烷醇醯胺及乙氧基化烷醇醯胺；烷 氧基化三酸甘油酯，如乙氧基化大豆油、菌麻油和油菜籽油；烷基酚烷氧化物，諸如辛基酚乙氧化物(octylphenol ethoxylate)、壬基酚乙氧化物、二壬基酚乙氧化物及十二烷苯酚乙氧化物(製備自苯酚及環氧乙烷、環氧丙烷、環氧丁烷或上述者之混合物)；製備自環氧乙烷或環氧丙烷的嵌段聚合物以及其中的終端嵌段由環氧丙烷所製備的反向嵌段聚合物；乙氧基化脂肪酸；乙氧基化脂肪酯和油；乙氧基化甲酯；乙氧基化三苯乙烯苯酚(包括製備自環氧乙烷、環氧丙烷、環氧丁烷或上述者之混合物者)；脂肪酸酯、甘油酯、羊毛脂基的衍生物，如聚乙氧基化山梨醇酐脂肪酸酯、聚乙氧基化山梨糖醇脂肪酸酯及聚乙氧基化甘油脂肪酸酯的聚乙氧基化酯；其他如山梨醇酐酯的山梨醇酐衍生物；如無規共聚物、嵌段共聚物、醇酸PEG(聚乙二醇)樹脂、接枝或梳形聚合物及星形聚合物的聚合界面活性劑；聚乙二醇(pegs)；聚乙二醇脂肪酸酯；聚矽氧基界面活性劑；以及如蔗糖酯、烷基多醣苷和烷基多醣的糖衍生物。
可用的陰離子界面活性劑包括但不限於：烷芳基磺酸及其鹽類；羧基化醇(carboxylated alcohol)或烷基酚乙氧化物(alkylphenol ethoxylates)；diPh磺酸鹽衍生物；木質素及木質素衍生物如木質磺酸鹽；順丁烯二酸或琥珀酸或上述者之酸酐；烯烴磺酸鹽；磷酸酯，諸如醇烷氧化物的磷酸酯、烷基酚烷氧化物的磷酸酯及苯乙烯苯酚乙氧化物磷酸酯；蛋白質基界面活性劑；肌胺酸衍生物；苯乙烯酚醚硫酸鹽；油與脂肪酸的硫酸鹽和磺酸鹽；乙氧基化烷基酚的硫酸鹽和磺酸鹽；醇的硫酸鹽；乙氧基化醇的硫酸鹽；胺和醯胺的 磺酸鹽，諸如N,N-烷牛磺酸鹽；苯、異丙苯、甲苯、二甲苯及十二苯和十三苯的磺酸鹽；縮合萘的磺酸鹽；萘及烷基萘的磺酸鹽；分餾石油的磺酸鹽；磺琥珀醯胺酸鹽(sulfosuccinamate)；及磺琥珀酸鹽(sulfosuccinate)及其衍生物，如二烷基磺琥珀酸鹽。
可用的陽離子界面活性劑包括但不限於：醯胺及乙氧基化醯胺；胺，諸如N-烷基丙二胺、三丙烯三胺及二丙烯四胺，以及乙氧基化胺、乙氧基化二胺和丙氧基化胺(製備自胺及環氧乙烷、環氧丙烷、環氧丁烷或上述者之混合物)；胺鹽，諸如胺乙酸鹽及二胺鹽；四級銨鹽，諸如四級鹽、乙氧基化四級鹽及雙四級鹽；以及氧化胺，諸如氧化烷二甲胺(alkyldimethylamine oxide)及氧化雙-(2-羥乙基)-烷基胺(bis-(2-hydroxyethyl)-alkylamine oxide)。
亦可用於本發明組成物者為非離子界面活性劑與陰離子界面活性劑的混合物，或是非離子界面活性劑與陽離子界面活性劑的混合物。非離子、陰離子及陽離子界面活性劑及其建議用法係揭露於各式公開參考文獻，包括McCutcheon’s Emulsifiers and Detergents,annual American and International Editions published by McCutcheon’s Division,The Manufacturing Confectioner Publishing Co.；Sisely and Wood,Encyclopedia of Surface Active Agents,Chemical Publ.Co.,Inc.,New York,1964；以及A.S.Davidson and B.Milwidsky,Synthetic Detergents,Seventh Edition,John Wiley and Sons,New York,1987。
本發明組成物亦可包含配方輔助物及添加劑，及本技藝中熟知之配方助劑(其中部分亦可視為提供固體稀釋劑、液體稀釋劑或界面活性劑之功能)。該配方輔助劑及添加劑可控制：pH(緩衝液)、加工過程中的發泡(例如，聚有機矽氧烷的消泡劑)、活性成分的沈積(懸浮劑)、黏度(觸變增稠劑)、容器內微生物生長(抗菌劑)、產物凍結(防凍劑)、顏色(染料/色素分散劑)、洗脫(成膜劑或黏著劑)、蒸發(蒸發阻滯劑)及其他配方特性。成膜劑包括例如聚乙酸乙烯、聚乙酸乙烯共聚物、聚乙烯吡咯烷酮-乙酸乙烯共聚物、聚乙烯醇、聚乙烯醇共聚物及蠟。配方輔助劑及添加劑之實例包括列示於以下文獻者：McCutcheon’s Volume 2：Functional Materials,annual International and North American editions published by McCutcheon’s Division,The Manufacturing Confectioner Publishing Co.；以及PCT公開WO 03/024222號。
通常藉由將式1化合物及任何其他的活性成分溶解於一溶劑中，或在液體或乾稀釋劑中將其磨碎，使該活性成分併入本發明的組合物中。藉由簡單混合成分可製備出液劑，包括可乳化濃縮物。若打算用作為可乳化濃縮物之液體組成物的溶劑與水不互溶，則通常會在用水稀釋時，加入乳化劑以乳化該含活性成分之溶劑。粒徑至高2,000μm的活性成分漿液可使用介質研磨機濕磨，以獲得平均直徑在3μm以下的粒子。水性漿液可製成為成品懸浮濃縮物(請參見如U.S.3,060,084)或藉由噴霧乾燥進一步加工以形成水分散性粒劑。乾配方通常需要乾磨程序，其產生的平均粒子直徑在2到10μm的範圍內。 塵粉及粉劑製備方式係採取摻合，且通常加上研磨(如以錘磨或流體能量研磨機)。粒劑及丸劑製備方式則透過將活性材料噴灑於預先形成之粒狀載體或以黏聚技術製成。見Browning,「Agglomeration」,Chemical Engineering,December 4,1967,pp 147-48,Perry’s Chemical Engineer’s Handbook,4th Ed.,McGraw-Hill,New York,1963，第8-57頁及後文，以及WO 91/13546。丸劑可如U.S.4,172,714中所述者製備。水分散性與水溶性粒劑可如U.S.4,144,050、U.S.3,920,442與DE 3,246,493中所教示者製備。錠劑可如U.S.5,180,587、U.S.5,232,701與U.S.5,208,030所教示者製備。膜可如GB 2,095,558與U.S.3,299,566所教示者製備。
關於配方技術領域的進一步資訊，請參見T.S.Woods,「The Formulator’s Toolbox-Product Forms for Modern Agriculture」in Pesticide Chemistry and Bioscience,The Food-Environment Challenge,T.Brooks and T.R.Roberts,Eds.,Proceedings of the 9th International Congress on Pesticide Chemistry,The Royal Society of Chemistry,Cambridge,1999,pp.120-133。亦請參見U.S.3,235,361第6欄第16行至第7欄第19行及實例10至41；U.S.3,309,192第5欄第43行至第7欄第62行及實例8、12、15、39、41、52、53、58、132、138至140、162至164、166至167及169至182；U.S.2,891,855第3欄第66行至第5欄第17行及實例1至4；Klingman,Weed Control as a Science,John Wiley and Sons,Inc.,New York,1961,pp 81-96；Hance et al.,Weed Control Handbook,8th Ed.,Blackwell Scientific Publications,Oxford,1989；以及Developments in formulation technology,PJB Publications,Richmond,UK,2000。
在下面的實例中，所有的百分比均為按重量計且所有的製劑均以常規方式製備。化合物編號參照索引表A中之化合物。即使沒有進一步的闡述，相信使用上述說明的本領域具有通常知識者仍能夠最大程度地利用本發明。因此，以下實例僅為說明之用，而絕非以任何方式限制本發明之揭露內容。除非另有說明，百分比為按重量計。
實例A
高強度濃縮物
實例B
可濕性粉劑
實例C
粒劑
實例D
擠出丸劑
實例E
可乳化濃縮物
實例F
微乳液
實例G
懸浮濃縮物
實例H
水乳液
試驗結果指出本發明化合物為高度活性之萌前及/或萌後除草劑及/或植物生長調節劑。本發明化合物通常對於萌後雜草防治(即在雜草幼苖自土壤萌出之後施用)與萌前雜草防治(即在雜草幼苖自土壤萌出之前施用)顯示出最高活性。在想要完全控制所有植物的區域，諸如在燃料儲槽、工業倉儲區域、停車場、露天汽車電影院、機場、河岸、灌溉與其他水道、看板與高速公路及鐵路設施周圍，許多這些化合對於廣大範圍之萌前或萌後雜草管制具有效用。許多這些本發明化合物透過下列方式而可用於選擇性防治(selective control)作物/雜草混生中的禾草與闊葉雜草，包括在作物中進行對抗雜草的選擇性代謝，或者對於作物與雜草中的生理抑制位點具有選擇性活性，或者在作物與雜草混生的環境上或中進行選擇性施放。熟習該項技術者會認知到，這些選擇性因子(selectivity factor)在化合物或化合物群組中的較佳組合可藉由實施常規生物與/或生化檢定而輕易決定。重要農藝作物可對於本發明化合物顯示耐受性，包括但不限於苜蓿草、大麥、棉花、小麥、油菜、甜菜、玉米、高粱、大豆、稻米、燕麥、花生、蔬菜、番茄、馬鈴薯、多年生栽植作物包括咖啡、可 可、油棕櫚、橡膠、甘蔗、柑橘、葡萄、果樹、堅果樹、香蕉、芭蕉、鳳梨、乾啤酒花、茶與林木如桉樹及針葉樹(例如火炬松)與草坪物種(例如肯塔基藍草、聖奧古斯丁草、高狐草與百慕達草)。本發明化合物可用於經基因轉形或育種以導入除草劑抗性、表現對無脊椎動物害蟲具有毒性之蛋白質(如蘇力菌(Bacillus thuringiensis)毒素)與/或表現其他有用特徵的作物。所屬技術領域中具有通常知識者會瞭解到，並非所有化合物對所有雜草皆具有相同效果。或者，本發明化合物可用於改變植物生長。
由於本發明化合物同時具有萌前與萌後除草活性，要藉由殺除或毒傷非所欲植物或降低其生長以防治該植物，可藉由各式方法有用地施用該等化合物，該等方法涉及使除草有效量之本發明化合物或包含該化合物與界面活性劑、固體稀釋劑或液體稀釋劑之至少一者的組成物與該非所欲植物之葉子或其他部位或該非所欲植物之環境接觸，如該非所欲植物所生長之土壤或水或圍繞該非所欲植物之種子或其他繁殖體(propagule)之土壤或水。
如本文所提及，菊科(Asteraceae)為植物科，其包括Ambrosia及Bidens屬；十字花科(Brassicaceae)為植物科，其包括Brassica、Raphanus及Sinapis屬；莧科(Amaranthaceae)為植物科，其包括Amaranthus屬；藜科(Chenopodiaceae)為植物科，其包括Chenopodium及Kochia屬；錦葵科(Malvaceae)為植物科，其包括Abutilon及Sida屬；罌粟科(Papaveraceae)為植物科，其包括Papaver屬；茜草科(Rubiaceae)為植物科，其包括Galium屬；玄參科 (Scrophulariaceae)為植物科，其包括Veronica屬；及菫菜科(Violaceae)為植物科，其包括Viola屬。如本文所提及，該術語「反枝莧」包括該Amaranthus屬之種。常常需要用於防治之反枝莧物種包括A.retroflexus L.(紅根反枝莧)、A.palmeri(帕麥反枝莧)、及A.rudis(一般莧菜藤子)。如本文所提及「繁縷」包括該Stellaria屬之種。常常需要用於防治之繁縷物種包括S.media(L.)Vill.(一般繁縷)。如本文所提及「苘麻」包括該Abutilon屬之種。常常需要用於防治之苘麻物種包括A.theophrasti Medik.(苘麻)。如本文所提及「藜」包括該Chenopodium屬之種。常常需要用於防治之藜物種包括C.album L.(一般藜)。因此，本發明之一態樣包括應用式1化合物以防治Amaranthus,Stellaria及Abutilon生長之方法。
本發明化合物之除草有效量係由多種因素來決定。這些因素包括：所選用之配方、施用方法、存在的植物數量與種類、生長條件等。一般而言，本發明化合物之除草有效量為約0.001至20kg/ha，而較佳範圍為約0.004至1kg/ha。熟悉該項技術之人士可輕易決定所需之除草有效劑量，以達防治雜草的要求程度。
本發明化合物可用於處理所有植物與植物部位。植物變種及栽培品種可藉由傳統的繁殖及培養法得到，或藉由基因工程方法得到。經基因改造之植物(基因轉殖植物)為異源基因(轉殖基因(transgene))已穩定結合至植物的基因體中者。由在植物基因體中的特定位置所定義的轉殖基因被稱為轉形(transformation)或基因轉殖(transgenic)事件。
可根據本發明處理的基因改造植物栽培品種，包括可抵抗一或多種生物壓力(害蟲，例如：線蟲、昆蟲、蟎類、真菌等)或非生物壓力(乾旱、低溫、土壤鹽度等)者，或含有其他所欲之特性者。植物可經基因改造而展現例如耐除草劑、抗昆蟲、油脂特性改變或耐乾旱之性狀。含有單一基因轉形事件或轉形事件組合的有用基因改造植物列於展示C。其它列於展示C的基因改造資訊可以從例如由美國農業部維護的公眾可用資料庫中獲得。
以下縮寫T1至T37係在展示C中用於表示性狀。「-」意指無法得到該項目。在下列表中，「tol.」亦指容許度。
用本發明化合物處理基因改造植物可能造成超加成性或協同效果。例如，在減少施用率、擴展活性範圍、增加對生物性/非生物性壓力的抗性或增進儲存安定性上之效果，可能比施用本發明化合物在基因改造植物上之單純加成反應所預期的更大。
也可將本發明化合物與一或多種其他生物活性化合物或藥劑混合，包括除草劑、除草劑安全劑、殺真菌劑、殺蟲劑、殺線蟲劑、殺菌劑、殺蟎劑、生長調節劑如昆蟲蛻皮抑制劑及生根刺激劑(rooting stimulant)、化學滅菌劑、化學傳訊物質(semiochemical)、驅蟲劑(repellent)、引誘劑、費洛蒙、激食因子(feeding stimulant)、植 物營養劑、其他生物活性化合物或蟲生病原細菌、病毒或真菌，以形成提供甚至更廣泛農業保護之多組分殺蟲劑。本發明化合物與其他除草劑的混合物可以擴大對抗其他雜草物種的活性範圍，並抑制任何抗性生物型的增生。因此本發明亦關於一種組成物，其包含一除草有效劑量的式1化合物及一生物上有效劑量的至少一額外具有生物活性的化合物或試劑，並可進一步包含一界面活性劑、一固體稀釋劑或一液體稀釋劑中之至少一者。其他生物活性化合物或藥劑可配製於組成物中，該組成物包含界面活性劑、固體或液體稀釋劑中之至少一者。關於本發明混合物，可將一個或多個其他具有生物活性的化合物或劑與式1化合物一同配製，以形成一預混物，或可將一個或多個其他具有生物活性的化合物或劑與式1化合物分開配製，並在施用前將配方物結合在一起(例如在一噴灑槽中)，或者連續施用。
一或多種下列除草劑與本發明化合物之混合物可能對於雜草防治尤為有用者：乙草胺(acetochlor)、亞喜芬(acifluorfen)與其鈉鹽、苯草醚(aclonifen)、丙烯醛(acrolein,2-propenal)、拉草(alachlor)、亞汰草(alloxydim)、草殺淨(ametryn)、胺唑草酮(amicarbazone)、醯嘧磺隆(amidosulfuron)、胺環吡克(aminocyclopyrachlor)與其酯(例如甲酯、乙酯)及鹽(例如鈉鹽、鉀鹽)、氯胺基吡啶酸(aminopyralid)、殺草強(amitrole)、胺磺酸銨(ammonium sulfamate)、莎稗磷(anilofos)、亞速爛(asulam)、草脫淨(atrazine)、四唑嘧磺隆(azimsulfuron)、氟丁草胺(beflubutamid)、草除靈(benazolin)、草除靈乙酯(benazolin-ethyl)、醯苯草酮 (bencarbazone)、倍尼芬(benfluralin)、呋草黃(benfuresate)、免速隆(bensulfuron-methyl)、地散磷(bensulide)、本達隆(bentazone)、苯并雙環酮(benzobicyclon)、吡草酮(benzofenap)、二環吡草酮(bicyclopyrone)、治草醚(bifenox)、畢拉草(bilanafos)、雙草醚(bispyribac)與其鈉鹽、克草(bromacil)、溴布泰(bromobutide)、溴酚肟(bromofenoxim)、溴苯腈(bromoxynil)、溴苯腈辛酸酯(bromoxynil octanoate)、丁基拉草(butachlor)、布芬草(butafenacil)、抑草磷(butamifos)、比達寧(butralin)、丁苯草酮(butroxydim)、拔敵草(butylate)、苯酮唑(cafenstrole)、草長滅(carbetamide)、乙唑草酮(carfentrazone-ethyl)、兒茶素(catechin)、甲氧基護谷(chlomethoxyfen)、克攔本(chloramben)、滅落寧(chlorbromuron)、氯甲丹(chlorflurenol-methyl)、氯草敏(chloridazon)、氯嘧磺隆(chlorimuron-ethyl)、綠麥隆(chlorotoluron)、克普芬(chlorpropham)、氯磺隆(chlorsulfuron)、大克草(chlorthal-dimethyl)、草克樂(chlorthiamid)、吲哚酮草酯(cinidon-ethyl)、環庚草醚(cinmethylin)、西速隆(cinosulfuron)、氯醯草膦(clacyfos)、環苯草酮(clefoxydim)、剋草同(clethodim)、炔草酯(clodinafop-propargyl)、可滅蹤(clomazone)、克普草(clomeprop)、畢克草(clopyralid)、二氯吡啶酸-乙醇胺(clopyralid-olamine)、氯酯磺草胺(cloransulam-methyl)、苄草隆(cumyluron)、氰乃淨(cyanazine)、草滅特(cycloate)、環比瑞摩(cyclopyrimorate)、環磺隆(cyclosulfamuron)、環殺草(cycloxydim)、丁基賽伏草(cyhalofop- butyl)、2,4-D與其丁氧乙酯(butotyl ester)、丁酯、異辛酯(isoctyl ester)與異丙酯及其二甲銨鹽、二乙醇胺(diolamine)鹽與三乙醇胺(trolamine)鹽、殺草隆(daimuron)、得拉本(dalapon)、得拉本鈉(dalapon-sodium)、邁隆(dazomet)、2,4-DB與其二甲銨鹽、鉀鹽及鈉鹽、甜菜安(desmedipham)、敵草淨(desmetryn)、麥草畏(dicamba)與其二乙二醇銨(diglycolammonium)鹽、二甲銨鹽、鉀鹽及鈉鹽、二氯苯腈(dichlobenil)、滴丙酸(dichlorprop)、甲基禾草靈(diclofop-methyl)、雙氯磺草胺(diclosulam)、燕麥枯硫酸甲酯(difenzoquat metilsulfate)、吡氟草胺(diflufenican)、二氟吡隆(diflufenzopyr)、惡唑隆(dimefuron)、哌草丹(dimepiperate)、二甲草胺(dimethachlor)、愛落殺(dimethametryn)、汰草滅(dimethenamid)、汰草滅-P、穫萎得(dimethipin)、二甲胂酸(dimethylarsinic acid)與其鈉鹽、敵樂胺(dinitramine)、特樂酚(dinoterb)、大芬滅(diphenamid)、敵草快二溴化物(diquat dibromide)、汰硫草(dithiopyr)、達有龍(diuron)、DNOC、茵多酸(endothal)、EPTC、戊草丹(esprocarb)、乙丁烯氟靈(ethalfluralin)、胺苯磺隆(ethametsulfuron-methyl)、乙嗪草酮(ethiozin)、乙氧呋草黃(ethofumesate)、氯氟草醚(ethoxyfen)、亞速隆(ethoxysulfuron)、乙氧苯草胺(etobenzanid)、乙基芬殺草(fenoxaprop-ethyl)、乙基芬殺草-P(fenoxaprop-P-ethyl)、異噁苯碸(fenoxasulfone)、芬昆諾三酮(fenquinotrione)、四唑草胺(fentrazamide)、非草隆(fenuron)、非草隆-TCA(fenuron-TCA)、高效麥草伏(flamprop-methyl)、麥草伏丙酯(flamprop-M-isopropyl)、麥草 伏甲酯(flamprop-M-methyl)、伏速隆(flazasulfuron)、雙氟磺草胺(florasulam)、伏寄普丁酯(fluazifop-butyl)、伏寄普-P丁酯(fluazifop-P-butyl)、異丙吡草酯(fluazolate)、氟酮磺隆(flucarbazone)、氟吡磺隆(flucetosulfuron)、氟吡磺隆(fluchloralin)、噻草胺(flufenacet)、氟噠嗪草(flufenpyr)、氟噠嗪草酯(flufenpyr-ethyl)、唑嘧磺草胺(flumetsulam)、氟烯草酸(flumiclorac-pentyl)、丙炔氟草胺(flumioxazin)、伏草隆(fluometuron)、乙羧氟草醚(fluoroglycofen-ethyl)、氟胺草唑(flupoxam)、氟啶嘧磺隆(flupyrsulfuron-methyl)與其鈉鹽、抑草丁(flurenol)、芴丁酯(flurenol-butyl)、氟啶草酮(fluridone)、氟草吡酮(flurochloridone)、氟氯比(fluroxypyr)、呋草酮(flurtamone)、氟噻甲草酯(fluthiacet-methyl)、氟磺胺草醚(fomesafen)、甲醯胺磺隆(foramsulfuron)、殺木膦銨(fosamine-ammonium)、草銨膦(glufosinate)、草銨膦銨(glufosinate-ammonium)、草銨膦-P(glufosinate-P)、草甘膦(glyphosate)與其鹽如銨鹽、異丙銨鹽、鉀鹽、鈉鹽(包括倍半鈉鹽)及三甲基硫鹽(亦稱為草硫膦(sulfosate))、哈洛昔芬(halauxifen)、甲基哈洛昔芬(halauxifen-methyl)、合速隆(halosulfuron-methyl)、合氯氟伊托酯(haloxyfop-etotyl)、甲基合氯氟(haloxyfop-methyl)、菲殺淨(hexazinone)、咪草酯(imazamethabenz-methyl)、甲氧咪草煙(imazamox)、甲咪唑煙酸(imazapic)、依滅草(imazapyr)、滅草喹(imazaquin)、滅草喹銨(imazaquin-ammonium)、咪草煙(imazethapyr)、咪草煙銨(imazethapyr-ammonium)、依速隆 (imazosulfuron)、茚草酮(indanofan)、三嗪茚草胺(indaziflam)、依歐芬速隆(iofensulfuron)、甲基碘磺隆(iodosulfuron-methyl)、碘苯腈(ioxynil)、碘苯腈辛酸酯(ioxynil octanoate)、碘苯腈鈉(ioxynil-sodium)、艾分卡斑唑(ipfencarbazone)、異丙隆(isoproturon)、愛速隆(isouron)、異噁草胺(isoxaben)、異噁唑草酮(isoxaflutole)、異噁氯草酮(isoxachlortole)、乳氟禾草靈(lactofen)、環草定(lenacil)、理有龍(linuron)、順丁烯二醯肼(maleic hydrazide)、MCPA與其鹽(例如MCPA-二甲銨鹽、MCPA-鉀鹽與MCPA-鈉鹽)、酯(例如MCPA-2-乙基己酯、MCPA-丁氧乙酯)與硫酯(例如MCPA-硫乙酯)、MCPB與其鹽(例如MCPB-鈉鹽)及酯(例如MCPB-乙酯)、甲氯丙酸(mecoprop)、甲氯丙酸-P(mecoprop-P)、滅芬草(mefenacet)、美福泰(mefluidide)、甲磺胺磺隆(mesosulfuron-methyl)、硝草酮(mesotrione)、威百畝(metam-sodium)、惡唑醯草胺(metamifop)、苯嗪草酮(metamitron)、滅草胺(metazachlor)、雙醚氯吡嘧磺隆(metazosulfuron)、甲草苯隆(methabenzthiazuron)、甲胂酸(methylarsonic acid)與其鈣鹽、單銨鹽、單鈉鹽及二鈉鹽、甲基汰草龍(methyldymron)、吡喃隆(metobenzuron)、溴谷隆(metobromuron)、莫多草(metolachlor)、S-莫多草(S-metolachlor)、磺草唑胺(metosulam)、甲氧隆(metoxuron)、滅必淨(metribuzin)、甲磺隆(metsulfuron-methyl)、稻得壯(molinate)、綠谷隆(monolinuron)、萘丙胺(naproanilide)、滅落脫(napropamide)、滅落脫-M(napropamide-M)、鈉得爛(naptalam)、草不隆(neburon)、煙嘧磺隆 (nicosulfuron)、氟草敏(norflurazon)、坪草丹(orbencarb)、嘧苯胺磺隆(orthosulfamuron)、胺磺樂靈(oryzalin)、快噁草酮(oxadiargyl)、樂滅草(oxadiazon)、環氧嘧磺隆(oxasulfuron)、噁嗪草酮(oxaziclomefone)、復祿芬(oxyfluorfen)、巴拉刈二氯鹽(paraquat dichloride)、克草蜢(pebulate)、壬酸(pelargonic acid)、施得圃(pendimethalin)、平速爛(penoxsulam)、蔬草滅(pentanochlor)、環戊惡草酮(pentoxazone)、佈福松(perfluidone)、烯草胺(pethoxamid)、百特胺(pethoxyamid)、甜菜寧(phenmedipham)、毒莠定(picloram)、毒莠定鉀(picloram-potassium)、氟吡醯草胺(picolinafen)、唑啉草酯(pinoxaden)、哌草磷(piperophos)、普拉草(pretilachlor)、氟嘧磺隆(primisulfuron-methyl)、胺氟樂靈(prodiamine)、氯苯噻草酮(profoxydim)、撲滅通(prometon)、撲草淨(prometryn)、雷蒙得(propachlor)、除草靈(propanil)、普拔草(propaquizafop)、普拔根(propazine)、苯胺靈(propham)、異丙草胺(propisochlor)、丙苯磺隆(propoxycarbazone)、咪唑嘧磺隆(propyrisulfuron)、戊炔草胺(propyzamide)、芐草丹(prosulfocarb)、氟磺隆(prosulfuron)、雙唑草腈(pyraclonil)、吡草醚(pyraflufen-ethyl)、磺醯草吡唑(pyrasulfotole)、雙唑草晴(pyrazogyl)、苄草唑(pyrazolynate)、普芬草(pyrazoxyfen)、百速隆(pyrazosulfuron-ethyl)、嘧啶肟草醚(pyribenzoxim)、稗草畏(pyributicarb)、必汰草(pyridate)、環酯草醚(pyriftalid)、嘧草醚(pyriminobac-methyl)、嘧啶硫蕃(pyrimisulfan)、嘧草硫醚(pyrithiobac)、嘧草硫醚鈉(pyrithiobac-sodium)、派羅克殺 草碸(pyroxasulfone)、啶磺草胺(pyroxsulam)、快克草(quinclorac)、氯甲喹啉酸(quinmerac)、莫克草(quinoclamine)、乙基快伏草(quizalofop-ethyl)、乙基快伏草-P(quizalofop-P-ethyl)、喹禾糠酯(quizalofop-P-tefuryl)、玉嘧磺隆(rimsulfuron)、嘧啶肟草醚(saflufenacil)、西殺草(sethoxydim)、環草隆(siduron)、草滅淨(simazine)、西草淨(simetryn)、磺草酮(sulcotrione)、甲磺草胺(sulfentrazone)、甲嘧磺隆(sulfometuron-methyl)、磺醯磺隆(sulfosulfuron)、2,3,6-TBA、TCA、TCA-鈉、牧草胺(tebutam)、丁噻隆(tebuthiuron)、特呋三酮(tefuryltrione)、環磺酮(tembotrione)、得殺草(tepraloxydim)、特草定(terbacil)、甲氧去草净(terbumeton)、特丁津(terbuthylazine)、去草淨(terbutryn)、欣克草(thenylchlor)、噻草定(thiazopyr)、酮脲磺草吩酯(thiencarbazone)、噻吩磺隆(thifensulfuron-methyl)、殺丹(thiobencarb)、氟丙嘧草酯(tiafenacil)、仲草丹(tiocarbazil)、苯吡唑草酮(topramezone)、肟草酮(tralkoxydim)、野燕畏(tri-allate)、氟酮磺草胺(triafamone)、醚苯磺隆(triasulfuron)、三唑侖(triaziflam)、苯磺隆(tribenuron-methyl)、三氯比(triclopyr)、丁氧乙基三氯比(triclopyr-butotyl)、三氯比三乙銨(triclopyr-triethylammonium)、三地芬(tridiphane)、草達津(trietazine)、三氟啶磺隆(trifloxysulfuron)、三福林(trifluralin)、氟胺磺隆(triflusulfuron-methyl)、三氟甲磺隆(tritosulfuron)、萬隆(vernolate)、3-(2-氯-3,6-二氟苯基)-4-羥基-1-甲基-1,5-萘啶-2(1H)-酮、5-氯-3-[(2-羥基-6-氧-1-環己烯-1-基)羰基]-1-(4-甲氧苯基)-2(1H)- 喹啉酮、2-氯-N-(1-甲基-1H-四唑-5-基)-6-(三氟甲基)-3-吡啶甲醯胺、7-(3,5-二氯-4-吡啶基)-5-(2,2-二氟乙基)-8-羥基吡啶并[2,3-b]吡嗪-6(5H)-酮)、4-(2,6-二乙基-4-甲基苯基)-5-羥基-2,6-二甲基-3(2H)-嗒酮)、5-[[(2,6-二氟苯基)甲氧基]甲基]-4,5-二氫-5-甲基-3-(3-甲基-2-噻吩基)異唑(先前為methioxolin)、3-[7-氟-3,4-二氫-3-氧-4-(2-丙炔-1-基)-2H-1,4-苯并-6-基]二氫-1,5-二甲基-6-硫代-1,3,5-三2,4(1H,3H)-二酮、4-(4-氟苯基)-6-[(2-羥基-6-氧-1-環己烯-1-基)羰基]-2-甲基-1,2,4-三-3,5(2H,4H)-二酮、4-胺基-3-氯-6-(4-氯-2-氟-3-甲氧苯基)-5-氟-2-吡啶甲酸甲酯、2-甲基-3-(甲基磺醯基)-N-(1-甲基-1H-四唑-5-基)-4-(三氟甲基)苯甲醯胺、以及2-甲基-N-(4-甲基-1,2,5-二唑-3-基)-3-(甲基亞磺醯基)-4-(三氟甲基)苯甲醯胺。其他除草劑亦包括生物除草劑如損毀鏈格孢菌(Alternaria destruens Simmons)、刺盤孢炭疽菌(Colletotrichum gloeosporiodes(Penz.)Penz.& Sacc.)、稗內臍蠕孢菌(Drechsiera monoceras)(MTB-951)、疣孢漆斑菌(Myrothecium verrucaria)(Albertini & Schweinitz)Ditmar：Fries、棕櫚疫霉(Phytophthora palmivora)(Butl.)Butl.)與遏藍菜柄鏽菌(Puccinia thlaspeos)Schub.。
本發明化合物亦可與下列者組合使用：植物生長調節劑如艾維激素(aviglycine)、N-(苯基甲基)-1H-嘌呤-6-胺、丙醯芸苔素內酯(epocholeone)、吉貝素(gibberellic acid)、吉貝素(gibberellin)A4與A7、超敏蛋白(harpin protein)、縮節胺(mepiquat chloride)、調環酸鈣(prohexadione calcium)、茉莉酸丙酯(prohydrojasmon)、復硝酚鈉 (sodium nitrophenolate)與抗倒酯(trinexapac-methyl)及植物生長修改生物如仙人掌桿菌(Bacillus cereus)菌株BP01。
農業用保護劑(即，除草劑、除草劑安全劑、殺蟲劑、殺真菌劑、殺線蟲劑、殺蟎劑與生物劑)的一般參考文獻包括The Pesticide Manual,13th Edition,C.D.S.Tomlin,Ed.,British Crop Protection Council,Farnham,Surrey,U.K.,2003及The BioPesticide Manual,2nd Edition,L.G.Copping,Ed.,British Crop Protection Council,Farnham,Surrey,U.K.,2001。
對於其中使用一或多種這些各式混合伙伴藥劑的實施例而言，這些各式混合伙伴藥劑(總計)對式1化合物之重量比例典型為介於約1：3000與約3000：1。值得注意的是介於約1：300至約300：1間之重量比例(例如介於約1：30至約30：1間之比例)。所屬技術領域中具有通常知識者可經由簡單實驗，輕易決定活性成分達成所需生物活性範圍之必要生物有效量。顯而易見的是，包含這些額外成分可擴展雜草防治的範圍，使其超出單獨使用式1化合物所防治的範圍。
在一些例子中，本發明化合物與其他生物活性(特別是除草性)化合物或藥劑(即活性成分)的組合對於雜草可造成大於相加(greater-than-additive)(即協同)的效果，並且/或者對於作物或其他所欲植物可造成小於相加(less-than-additive)(即安全化)的效果。因此可以降低活性成分的環境排放量，同時確保有效之害蟲防治效果。使用較大量活性成分以提供有效雜草防治且不會造成多餘作物傷害的能力亦為理想者。當使用達到農業滿意之雜草防治度的施用率可 使除草活性成分發揮協同作用時，此類組合可具有降低作物生產成本同時減少環境負荷之優點。當除草活性成分在作物上發揮安全化作用時，此類組合可藉由減少雜草競爭而產生增加作物保護之優點。
值得注意的是本發明化合物與至少一種其他除草活性成分的組合。特別值得注意的組合為其中另外的除草活性成分具有與本發明化合物不同的作用位置。在某些實例中，與至少一種其他具有相似防治範圍但不同作用位置之除草活性成分的組合將特別有利於抗藥性管理。因此，本發明組成物可進一步包含(除草有效劑量之)至少一種額外除草活性成分，此成分具有相仿防治範圍但不同作用位置。
本發明化合物亦可與除草劑安全劑組合使用，諸如草毒死(allidochlor)、解草嗪(benoxacor)、解毒喹(cloquintocet-mexyl)、苄草隆(cumyluron)、解草胺腈(cyometrinil)、環丙磺醯胺(cyprosulfonamide)、殺草隆(daimuron)、二氯丙烯胺(dichlormid)、大賽克農(dicyclonon)、增效磷(dietholate)、哌草丹(dimepiperate)、解草唑(fenchlorazole-ethyl)、解草啶(fenclorim)、解草胺(flurazole)、氟草肟(fluxofenim)、解草惡唑(furilazole)、雙苯噁唑酸(isoxadifen-ethyl)、唑解草酯(mefenpyr-diethyl)、梅芬內(mephenate)、苯草酮(methoxyphenone)、萘二甲酸酐(1,8-naphthalic anhydride)、解草腈(oxabetrinil)、N-(胺基羰基)-2-甲苯磺醯胺、N-(胺基羰基)-2-氟苯磺醯胺、1-溴-4-[(氯甲基)磺醯基]苯(BCS)、4-(二氯乙醯基)-1-氧雜-4-偶氮螺[4.5]癸烷(MON 4660)、2-(二氯甲基)-2-甲基-1,3-二氧五環烷(MG 191)、1,6-二氫-1-(2-甲氧苯基)-6-側氧基-2-苯基-5-嘧啶甲酸乙酯、2- 羥基-N,N-二甲基-6-(三氟甲基)吡啶-3-甲醯胺、以及1-(3,4-二甲苯基)-1,6-二氫-6-側氧基-2-苯基-5-嘧啶甲酸3-側氧基-1-環己烯-1-基酯，以增進對於某些作物之安全性。解毒有效量的除草劑安全劑可以與本發明化合物同時施用，或是作為種子處理的用途施用。因此，本發明的一方面係關於一種除草用混合物，其包含本發明化合物及解毒有效量的除草劑安全劑。種子處理對於雜草之選擇性防治尤為有用，因為其將解毒作用實際限制在作物植物上。因此，一種尤其有用之本發明實施例為一種用於選擇性防治作物中之非所欲植物生長的方法，其包含使該作物的所在地接觸除草有效量的本發明化合物，其中該作物之種子(作物係由其生長)係以解毒有效量的安全劑處理。安全劑的解毒有效量可由熟習該項技術者透過簡單實驗而輕易決定。
值得注意者為包含下列之組成物，即本發明化合物(以除草有效量)、至少一種選自由其他除草劑與除草劑安全劑(以有效量)所組成之群組的額外活性成分，以及至少一種選自由界面活性劑、固體稀釋劑與液體稀釋劑所組成之群組的組分。表A1列出說明本發明混合物、組成物及方法之成分(b)與成分(a)之特定組合。組分(a)欄中的化合物2係標示於索引表A。表A1的第二欄列出具體的組分(b)化合物(例如第一行的「2,4-D」)。表A1的第三、第四與第五欄列出在針對田間生長作物的典型施用率時，組分(a)化合物相對於組分(b)的重量比例範圍(即(a)：(b))。因此，例如表A1第一行具體揭露組分(a)(即索引表A中的化合物2)與2,4-D之組合典型為以 介於1：192至6：1的重量比施用。表A1的其餘行係以類似方式來理解。
表A2之建構方式如同上表A1，除了「組分(a)」欄標題下方的項目係以下示之各別組分(a)欄項目來取代。組分(a)欄中之化合物13係標示於索引表A。因此，例如在表A2中「組分(a)」欄標題下方之項目全部皆敘述「化合物13」(即索引表A中所標示之化合物#)，而在表A2中欄標題下方之第一行具體揭露化合物13與2,4-D之混合物。表A3至A7係以類似方式建構。
較佳地防治非所欲植物(例如由於諸如協同作用用而造成的較低使用率、較大範圍的雜草防治或增進作物安全)或防止抗性雜草之發育而言，較佳者為本發明化合物與選自由下列所組成之群組的除草劑之混合物：氯嘧磺隆(chlorimuron-ethyl)、煙嘧磺隆(nicosulfuron)、硝草酮(mesotrione)、噻吩磺隆(thifensulfuron-methyl)、氟啶嘧磺隆(flupyrsulfuron-methyl)、苯磺隆(tribenuron)、派羅克殺草碸(pyroxasulfone)、唑啉草酯(pinoxaden)、環磺酮(tembotrione)、菲殺淨(pyroxsulam)、莫多草(metolachlor)與S-莫多草。
以下試驗展示本發明化合物對抗特定雜草之防治效能。然而，該等化合物提供之雜草防治未限於這些物種。請參見索引表A以取得化合物說明。以下之縮寫係使用於索引表中。c為「環」，c-Pr為「環丙基」，-CN為「氰基」，Ph為「苯基」，Py意指「吡啶基」，pyrr意指「吡咯啶基」，morph意指「嗎啉基」及thien意指「噻吩基」。縮寫「Ex.」表示「實例」，且其後之數字意指該化合物係於該實例中製備。除非另有指明，質譜係表示為Ap+。
索引表A
本發明之生物性實例
試驗A
將選自稗草(Echinochloa crus-galli)、大(Lg)馬唐草(crabgrass)(Digitaria sanguinalis)、法氏狗尾草(giant foxtail)(Setaria faberii)、牽牛花(morningglory)(Ipomoea spp.)、反枝莧(Amaranthus retroflexus)、苘麻(velvetleaf)(Abutilon theophrasti)、小麥(Triticum aestivum)與玉米(Zea mays)之植物物種的種子栽植於壤土與沙之摻合物中，並且以定向土壤噴霧進行萌前處理，該噴霧係使用配製於不具植物毒性溶劑混合物中之試驗化學物質，該混合物包括一界面活性劑。同時這些物種亦用以相同方式配製之試驗化學物質來進行萌後施用處理。使用高度範圍在2至10cm且在一葉至二葉階段的植物來進行萌後處理。將經處理的植物與未經處理的對照組保持於溫室中約10天，然後將所有經處理的植物與未經處理的對照組比較，並目視評估其損害。植物反應等級(總結於表A)係基於0至100評等，其中0為無效用，而100為完全防治。顯示為破折號(-)之反應意指無試驗結果。
試驗B
在淹沒式水田試驗中使選自稻米(Oryza sativa)、小花輪傘草(small-flower umbrella sedge,Cyperus difformis)、異藥花(Heteranthera limosa)、與稗草(Echinochloa crus-galli)之植物物種生長至2葉階段以供測試。在處理的時候，將試驗罐淹沒至高於土壤表面3cm、藉由直接施用試驗化合物至稻田水中來處理然後於試驗期間保持於該水深。將經處理的植物與對照組保持於溫室中13至15天，然後將所有的物種與對照組比較，並目視評估。總結於表B的植物回應等級係基於0至100標度，其中0為無效用，而100為完全防治。顯示為破折號(-)之反應意指無試驗結果。
試驗C
將選自黑草(Alopecurus myosuroides)、義大利黑麥草(Lolium multiflorum)、冬小麥(Triticum aestivum)、豬殃殃(catchweed bedstraw、Galium aparine)、玉米(Zea mays)、大(Lg)馬唐草(Digitaria sanguinalis)、大狐尾草(Setaria faberii)、強生草(Sorghum halepense)、藜(Chenopodium album)、牽牛花(Ipomoea coccinea)、油莎草(Cyperus esculentus)、反枝莧(Amaranthus retroflexus)、豬草(common ragweed、Ambrosia elatior)、大豆(Glycine max)、稗草(Echinochloa crus-galli)、油菜籽(Brassica napus)、莧菜藤子(common waterhemp、Amaranthus rudis)、與苘麻(Abutilon theophrasti)之植物物種的種子栽植於壤土與砂之摻合物中，並且以配製於不具植物毒性溶劑混合物中之試驗化學物質進行萌前處理，該混合物包括界面活性劑。
同時，選自此等作物及雜草物種及冬大麥(Hordeum vulgare)、百慕達草(Cynodon dactylon)、毛白露草(Bromus tectorum)、金絲雀草(Phalaris minor)、蒼耳(common cocklebur,Xanthium strumarium)、烏利杯草(Eriochloa villosa)、寶蓋草(henbit deadnettle,Lamium amplexicaule)、綠狐尾草(Setaria viridis)、牛筋草(Eleusine indica)、蘇利南草(Brachiaria decumbens)、風剪草 (Apera spica-venti)、繁縷(common chickweed,Stellaria media)、地膚(Kochia scoparia)及、野生燕麥(Avena fatua)，之植物係栽植於含有Redi-Earth®栽植介質(Scotts Company,14111 Scottslawn Road,Marysville,Ohio 43041)之罐中，該栽植介質包含泥炭蘚(spaghnum peat moss)、蛭石、潤濕劑與起始營養素，並且以試驗化學物質(以相同方式配製)進行萌後施用處理。使用高度範圍在2至18cm(1至4葉階段)的植物來進行萌後處理。將經處理的植物與對照組保持於溫室中13至15天，然後將所有的物種與對照組比較，並目視評估。植物反應等級(總結於表C)係基於0至100評等，其中0為無效用，而100為完全防治。。顯示為破折號(-)之反應意指無試驗結果。
試驗D
將選自藍草(annual bluegrass,Poa annua)、黑草(Alopecurus myosuroides)、金絲雀草(Phalaris minor)、繁縷(common chickweed,Stellaria media)、豬殃殃(catchweed bedstraw,Galium aparine)、毛白露草(Bromus tectorum)、原野紫羅蘭(Viola arvensis)、綠狐尾草(Setaria viridis)、寶蓋草(henbit deadnettle,Lamium amplexicaule)、義大利黑麥草(Lolium multiflorum)、地膚(Kochia scoparia)、藜(Chenopodium album)、油菜籽(Brassica napus)、反枝莧(Amaranthus retroflexus)、俄國薊(Salsola kali)、春大麥(Hordeum vulgare)、春小麥(Triticum aestivum)、野生蕎麥(Polygonum convolvulus)、野生芥菜(Sinapis arvensis)、野生燕麥(Avena fatua)、風剪草(Apera spica-venti)、冬大麥(Hordeum vulgare)、及冬小麥(Triticum aestivum)之植物物種的種子栽植於含有Redi-Earth®植栽介質(Scotts Company,14111 Scottslawn Road,Marysville,Ohio 43041) 之罐中，該植栽介質包含泥炭蘚、蛭石、潤濕劑與起始營養素，並且以配製於不具植物毒性溶劑混合物中之試驗化學物質進行萌後施用處理，該混合物包括界面活性劑。植物高度在2至18cm範圍內(1至4葉階段)。將經處理之植物與對照組保持於受控生長環境中14天，之後將所有物種與對照組比較，並目視評估。植物反應等級(總結於表D)係基於0至100評等，其中0為無效用，而100為完全防治。顯示為破折號(-)之反應意指無試驗結果。
試驗E
將選自玉米(Zea mays)、黃豆(Glycine max)、苘麻(Abutilon theophrasti)、藜(Chenopodium album)、猩猩草(Euphorbia heterophylla)、長芒莧(Amaranthus palmeri)、莧菜藤子(common waterhemp,Amaranthus rudis)、蘇利南草(Brachiaria decumbens)、大馬唐草(Digitaria sanguinalis)、，巴西馬唐草(Digitaria horizontalis)、洋野黍(Panicum dichotomiflorum)、大狐尾草(Setaria faberii)、綠狐尾草(Setaria viridis)、牛筋草(Eleusine indica)、強生草(Sorghum halepense)、豬草(common ragweed,Ambrosia elatior)、稗草(Echinochloa crus-galli)、蒺藜草(southern sandbur,Cenchrus echinatus)、金午時花(Sida rhombifolia)、義大利黑麥草(Lolium multiflorum)、鴨跖草(Virginia(VA)dayflower,Commelina virginica)、田旋花(Convolvulus arvensis)、牽牛花(Ipomoea coccinea)、顛茄(eastern black nightshade,Solanum ptycanthum)、地膚(Kochia scoparia)、油莎草(Cyperus esculentus)、春蓼(ladysthumb smartweed,Polygonum persicaria)、蒼耳(common cocklebur,Xanthium strumarium)、及咸豐草(Bidens pilosa)之植物物種的種子栽植於泥質壤土中，並且以配製於不具植物毒性溶劑混合物中之試驗化學物質進行萌前處理，該混合物包括一界面活性劑。
同時，將來自這些作物與雜草物種以及莧菜藤子RES1(耐ALS及三的常見莧菜藤子，Amaranthus rudis)、及莧菜藤子RES2(耐ALS及HPPD抵抗一般莧菜藤子、Amaranthus rudis)栽植於含有Redi-Earth®植栽介質(Scotts Company,14111 Scottslawn Road,Marysville,Ohio 43041)之罐中，該栽植介質包含泥炭蘚、蛭石、潤濕劑與起始營養素以試驗化學物質(以相同方式配製)進行萌後施用處 理。使用高度範圍在2至18cm(1至4葉階段)的植物來進行萌後處理。
將經處理之植物與對照組保持在溫室中14至21天，之後將所有物種與對照組比較，並目視評估。植物反應等級(總結於表E)係基於0至100評等，其中0為無效用，而100為完全防治。。顯示為破折號(-)之反應意指無試驗結果。
試驗H
此試驗評估了化合物39與三種商用除草劑之混合物在五種植物物種上的效果。選自於玉米(ZEAMD,Zea mays)、黃豆(GLXMA,Glycine max)、長芒莧(AMAPA,Amaranthus palmeri)、莧菜藤子(common waterhemp,AMATA,Amaranthus rudis)、及地膚(KCHSC,Kochia scoparia)之植物物種的種子栽植於含有Redi-Earth®植栽介質(Scotts Company,14111 Scottslawn Road,Marysville,Ohio 43041)之罐中，該植栽介質包含泥炭蘚、蛭石、潤濕劑與起始營養素，並且以配製於不具植物毒性溶劑混合物中之試驗化學物質進行萌後施用處理，該混合物包括界面活性劑並施用299L/ha之體積。每一處理重複四次。處理的植物及對照組係維持於溫室內，其使用補充照明以維持約16小時之光照週期；日間與夜間溫度分別約24-30℃及19-21℃。養分之施加係使用均衡肥料透過噴水系統予以施加。在處理後第14天，所有物種與對照組比較並目視評估。植物反應評級係以四重複之平均值予以計算，其概述於表H1至H6，且基於0至100之尺度，其中0為無效果而100為完全防治。顯示為破折號(-)之反應意指無試驗結果。
Colby’s方程式被用來決定來自混合物之預期除草效果。Colby’s方程式(Colby,S.R.「Calculating Synergistic and Antagonistic Responses of Herbicide Combinations,」Weeds,15(1),pp 20-22(1967))計算該除草混合物的預期加成效果且對於兩種活性成分的形式為：Pa+b=Pa+Pb-(PaPb/100)
其中Pa+b為預期來自個別組分之加成貢獻的混合物百分比效果：Pa為於混合物中在相同使用速率下該第一有效成分之觀察的百分比效果、及Pb為於混合物中在相同使用速率下該第二有效成分之觀察的百分比效果。
在下列表中，比率係顯示為每公頃有效成分克數(g a.i./ha)；「Obsd.」為觀察的效果。「Exp.」為由Colby’s方程式計算之預期效果。

Claims (14)

  1. 一種選自式1之化合物，其包括其所有立體異構物、其N-氧化物、及其鹽類 其中X1為鹵素、CF3、CF2H、-OCF3、-OCF2H、-SCHF2或-C≡CH；X2為鹵素、CF3、CF2H、-OCF3、-OCF2H、-SCHF2或-C≡CH；X3為H或鹵素；G為C(=O)、C(=NOR1)、C(=NR1A)、C(=NNR2R3)、C(OR4)2或C(SR4)2；Q為苯基、2-噻吩基、3-噻吩基、3-吡啶基或5-氟-3-吡啶基；P為P1或P2；其限制條件是當G為C(=O)則P為P1；及當G為C(=NOR1)、C(=NR1A)、C(=NNR2R3)或C(OR4)2則P為P2；P1為C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C4-C7環烷基烷基、C4-C7鹵炔基、C1-C7烷氧基、C1-C7烷氧烷基、C3-C7烷基羰基烷基、C3-C7 烷氧基羰基烷基、C4-C7鹵環烷基烷基、C2-C7鹵烷氧基烷基、C2-C7烷硫烷基、C2-C7烷磺醯烷基、C2-C7烷亞磺醯烷基、C2-C7氰烷基、C2-C7鹵烷硫烷基、C2-C7鹵烷磺醯烷基、C2-C7鹵烷亞磺醯烷基、C3-C7鹵烷羰基烷基、C2-C7烷氨基烷基、C3-C7二烷氨基烷基、C1-C7硝烷基、C(=O)R5、SO2R6、CO2R7、C(=O)NR8R9、SO2NR8R9、NH2、OH、CH2OH、CH(OR10)2或CH(CO2CH3)2；P2為H、C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧烷基、C4-C7環烷基烷基、C4-C7鹵炔基、C1-C7烷氧基、C4-C7烷氧烷氧烷基、C3-C7烷羰基烷基、C3-C7烷氧羰烷基、C4-C7鹵環烷基烷基、C2-C7鹵烷氧基烷基、C2-C7烷硫烷基、C2-C7烷磺醯烷基、C2-C7烷亞磺醯烷基、C2-C7鹵烷硫烷基、C2-C7鹵烷磺醯烷基、C2-C7鹵烷亞磺醯烷基、C3-C7鹵烷羰基烷基、C2-C7烷氨基烷基、C3-C7二烷氨基烷基、C2-C7氰烷基、C1-C7硝基烷基、C(=O)R12、SO2R13、CO2R14、C(=O)NR15R16、SO2NR15R16、NH2、OH、CH2OH、CH(OR17)2、CH(CO2CH3)2或CH(CO2C2H5)2；R1為H、C1-C7烷基；R1A為H、氰基或C1-C4烷基；R2為H、C1-C7烷基； R3為C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷基烷基；或選擇性地以R11取代之苯基；或在環員上選擇性地以R11取代之苄基；或選擇性地以R11取代之吡啶基；或R2及R3可被一起併用為-(CH2)3-、-(CH2)4-、-(CH2)5-或-(CH2)2O(CH2)2-以形成環；R4為C1-C3烷基；或二R4可被一起併用為-(CH2)2-、-(CH2)3-或-CH2CH(CH3)-以形成環；R5為H、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C2-C7鹵烯基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷基烷基；或選擇性地以R11取代之苯基；或在環員上選擇性地以R11取代之苄基；或選擇性地以R11取代之吡啶基；R6為H、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C2-C7鹵烯基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷基烷基；或以R11取代之苯基；或在環員上選擇性地以R11取代之苄基；或選擇性地以R11取代之吡啶基；R7為C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷基烷基；或選擇性地以R11取代之苯基；或在環員上選擇性地以R11取代之苄基；或選擇性地以R11取代之吡啶基；R8為H、C1-C7烷基； R9為H、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C2-C7鹵烯基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷基烷基；或選擇性地以R11取代之苯基；或在環員上選擇性地以R11取代之苄基；或選擇性地以R11取代之吡啶基；R11為C1-C2烷基、鹵素、C1-C3鹵烷基、C1-C3鹵烷氧基、CN或C1-C3烷氧基；R12為H、C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷基烷基；或選擇性地以R18取代之苯基；或在環員上選擇性地以R18取代之苄基；或選擇性地以R18取代之吡啶基；R13為H、C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷基烷基；或選擇性地以R18取代之苯基；或在環員上選擇性地以R18取代之苄基；或選擇性地以R18取代之吡啶基；R14為C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷基烷基；或選擇性地以R18取代之苯基；或在環員上選擇性地以R18取代之苄基；或選擇性地以R18取代之吡啶基；R15為H、C1-C7烷基；R16為H、C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷 基烷基；或選擇性地以R18取代之苯基；或在環員上選擇性地以R18取代之苄基；或選擇性地以R18取代之吡啶基；R17為C1-C3烷基；或二R17可被一起併用為-(CH2)2-、-(CH2)3-或-CH2CH(CH3)-以形成環；以及R18為C1-C2烷基、鹵素、C1-C3鹵烷基、C1-C3鹵烷氧基、CN、C1-C3烷氧基；其限制條件是：i)G為C(=O)、P1為C(=O)R5、R5為苯基、X1為Cl，則X2為Cl而X3不為H、F或Cl；ii)G為C(=O)、P1為C(=O)R5、R5為苯基、X1為F、X2為F則X3不為H；iii)G為C(=O)、P1為C(=O)R5、R5為苯基、X1為Br、且X2為Br，則X3不為H或F；iv)G為C(=O)、Q為苯基、X1為Cl、X2為Cl且X3為H，則P1不為CF2H及CH2CF3；以及v)G為C(=N-pyrr)、Q為苯基、X1為Cl、X2為F、且X3為Cl，則Q不為CH2CF3。
  2. 如請求項1之化合物，其中Q為苯基、2-噻吩基或3-噻吩基；G為C(=O)、C(=NOR1)、C(=NNR2R3)或C(OR4)2； P1為C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C1-C7烷氧烷基、C(=O)R5、SO2R6、CO2R7、C(=O)NR8R9,SO2NR8R9、NH2、OH、CH2OH、CH(OR10)2或CH(CO2CH3)2；P2為H、C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧烷基、C(=O)R12、SO2R13、CO2R14、C(=O)NR15R16、SO2NR15R16、NH2、OH或CH2OH；R1為H、CH3或CH2CH3；R2為H、CH3或CH2CH3；R3為C1-C7烷基；或在環員上選擇性地以R11取代之苄基；或R2及R3係一起併用為-(CH2)4-或-(CH2)2O(CH2)2-以形成環；R4為CH3或CH2CH3；R5為C1-C7鹵烷基或C2-C7烷氧烷基；R6為C3-C7環烷基或C1-C7鹵烷基；R7為C3-C7烯基、C3-C7環烷基或C1-C7鹵烷基；R8為H、CH3或CH2CH3；R9為H、C3-C7烯基、C3-C7環烷基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷基烷基；或在環員上選擇性地以R11取代之苄基；R10為CH3或CH2CH3；R11為CH3、CH2CH3、F、Cl、CF3、OCH3或CN；R12為C1-C7烷基或C2-C7烷氧烷基；R13為H、C1-C7烷基或C1-C7鹵烷基； R14為C3-C7烯基或C3-C7環烷基；R15為H、CH3或CH2CH3；以及R16為H、C3-C7烯基、C3-C7環烷基、C2-C7烷氧烷基或C4-C7環烷基烷基；或在環員上選擇性地以R11取代之苄基。
  3. 如請求項2之化合物，其中X1為鹵素、CF3、CF2H、-OCF3或-OCF2H；X2為鹵素、CF3、CF2H、-OCF3或-OCF2H；X3為H、F、Cl或Br；G為C(=O)；Q為苯基或2-噻吩基；以及P1為C1-C4烷基、C3-C4烯基、C3-C4炔基、CH2OCH3、C(=O)CH2OCH3、SO2CF3或CH2OH。
  4. 如請求項3之化合物，其中X1為鹵素或CF3；X2為鹵素或CF3；X3為H、F或Cl；以及P1為C1-C4烷基、C3-C4烯基、C3-C4炔基、CH2OCH3、C(=O)CH2OCH3或CH2OH。
  5. 如請求項4之化合物，其中X1為鹵素；X2為鹵素；以及X3為H、F或Cl。
  6. 如請求項2之化合物，其選自由下列所組成之群組：X1為鹵素、CF3、CF2H、-OCF3或-OCF2H；X2為鹵素、CF3、CF2H、-OCF3或-OCF2H；X3為H、F、Cl或Br；G為C(=NOR1)、C(=NNR2R3)或C(OR4)2；Q為苯基或2-噻吩基；P2為H、C1-C4烷基、-CH2C≡CH或C(=O)R12；R1為CH3或CH2CH3；R2為H或CH3；R3為CH2CH3；或在環員上選擇性地以R11取代之苄基；以及R4為CH2CH3；R11為CH3、F、Cl、OCH3或CN；以及R12為CH3、CH2CH3或CH2OCH3。
  7. 如請求項5之化合物，其選自由下列所組成之群組：X1為鹵素、CF3、CF2H、-OCF3或-OCF2H；X2為鹵素、CF3、CF2H、-OCF3或-OCF2H；X3為H、F、Cl或Br；G為C(=NOR1)、C(=NNR2R3)或C(OR4)2；Q為苯基或2-噻吩基；P2為H、C1-C4烷基、-CH2C≡CH或C(=O)R12；R1為CH3或CH2CH3；R2為H或CH3； R3為CH2CH3；或在環員上選擇性地以R11取代之苄基；以及R4為CH2CH3；R11為CH3、F、Cl、OCH3或CN；以及R12為CH3、CH2CH3或CH2OCH3。
  8. 如請求項8之化合物，其選自由下列所組成之群組：X1為鹵素或CF3；X2為鹵素或CF3；X3為H、F或Cl；G為C(=NNR2R3)或C(OR4)2；P2為H；R2為H；R3為CH2CH3；或苄基。
  9. 如請求項8之化合物，其選自由下列所組成之群組：X1為鹵素；X2為鹵素；X3為H、F或Cl；以及G為C(OR4)2。
  10. 如請求項1之化合物，其選自由下列所組成之群組：[3-(3,5-二氯苯基)-1-甲基-1H-吡唑-4-基]苯甲酮；[3-(3,5-二氯苯基)-1-乙基-1H-吡唑-4-基]苯甲酮；[3-(3,5-二氯苯基)-1-丙基-1H-吡唑-4-基]苯甲酮；[3-(3,5-二氯苯基)-1-(2-丙炔-1-基)-1H-吡唑-4-基]苯甲酮； N-[[3-(3,5-二氯苯基)-1H-吡唑-4-基]苯基亞甲基]-1-吡咯烷胺；[3-(3,5-二氯苯基)-1-(羥甲基)-1H-吡唑-4-基]苯甲酮；1-[4-苯甲醯基-3-(3,5-二氯苯基)-1H-吡唑-1-基]-2-甲氧基乙酮；3-(3,5-二氯苯基)-1-[(三氟甲基)磺醯基]-1H-吡唑-4-基]苯甲酮；3-(3,5-二氯苯基)-4-(二乙氧基苯甲基)-1H-吡唑；以及3-(3,5-二氯苯基)-4-(二甲氧基苯甲基)-1H-吡唑。
  11. 一種除草組成物，其包含如請求項1之化合物以及至少一種選自由界面活性劑、固體稀釋劑與液體稀釋劑所組成之群組的組分。
  12. 一種除草組成物，其包含如請求項1之化合物、至少一種選自由其他除草劑與除草劑保護劑所組成之群組的額外活性成分、以及至少一種選自由界面活性劑、固體稀釋劑及液體稀釋劑所組成之群組的組分。
  13. 一種除草混合物，其包含(a)如請求項1之化合物、以及(b)至少一種選自(b1)至(b16)及(b1)至(b16)化合物之鹽類的額外活性成分。
  14. 一種用於防治非所欲植物之生長的方法，其包含使該植物或其環境接觸除草有效量的如請求項1之化合物。
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