TW201834295A - 發光顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明揭示一種發光顯示裝置，其包含具有第一像素、第二像素、第三像素及紅外線發射部的基板。第一、第二及第三像素發射不同顏色的光。發光裝置亦包含在基板上的第一電極、重疊於第一電極的第二電極、在第一電極及第二電極之間的發射層及在第一電極與發射層之間的輔助層。輔助層包含在第一像素上的第一輔助層及在紅外線發射部中的第二輔助層。第一輔助層與第二輔助層包含相同的材料。

Description

發光顯示裝置
2017年3月8日向韓國智財局提交，且名為：「發光顯示裝置(A Light Emitting Display Device)」之韓國專利申請案No. 10-2017-0029513揭露之全部內容藉由參照而併入本文中。
本文的一個或多個實施例係關於一種發光顯示裝置。
現已發展出各式各樣的發光元件。一種類型的發光元件基於當從陽極注入之電洞及從陰極注入之電子在有機發射層中結合形成激子而發光。由這種類型的發光元件所建構的顯示面板可具有廣視角、高反應速度、減少的厚度及低電力消耗。這種顯示面板可適用於各種電性及電子裝置，其中至少包含電視、監視器及行動電話。
然而，可能需要額外的感測模組來實現在包含這些發光元件之發光裝置中的感測器。這些額外的感測模組可能需要額外的製程且亦可能增加成本。
根據一個或多個實施例，發光裝置包含：包含第一像素、第二像素、第三像素及紅外線發射部的基板，其中第一像素、第二像素及第三像素發射不同顏色的光；在基板上的第一電極；重疊於第一電極的第二電極；在第一電極及第二電極之間的發射層；及在第一電極及發射層之間的輔助層，其中輔助層包含在第一像素上的第一輔助層及在紅外線發射部中的第二輔助層，且其中第一輔助層與第二輔助層包含相同的材料。
較佳地，第一輔助層及第二輔助層可在相同的層中。
較佳地，發裝顯示裝置可包含在紅外線發射部中的紅外線發射層，其中紅外線發射層在第二輔助層上。紅外線發射層可與發射層在相同的層中。
較佳地，發射層可包含在第一像素中的第一發射層；及在紅外線發射部中的第二發射層，其中第一發射層與第二發射層包含相同的材料。第一發射層與第二發射層可在相同的層中。
較佳地，發光顯示裝置可包含在紅外線發射部中的紅外線發射層，其中紅外線發射層在第二發射層上。
較佳地，輔助層可包含在第二像素中的第三輔助層及在紅外線發射層與第二發射層之間的第四輔助層，第三輔助層與第四輔助層包含相同的材料。第三及第四輔助層可在相同的層中。
較佳地，第一像素、第二像素及第三像素可分別對應至綠色像素、紅色像素及藍色像素，且在第一像素上的第一輔助層與第二輔助層可在相同的層中。
較佳地，從紅外線發射部所產生的t波長可落在大約700奈米至大約1000奈米的範圍中。
根據一個或多個其他實施例，發光顯示裝置包含：包含第一像素、第二像素、第三像素及紅外線發射部的基板，其中第一像素、第二像素及第三像素發射不同顏色的光；在基板上的第一電極；重疊於第一電極的第二電極；及在第一電極與第二電極之間的發射層，其中紅外線感測部包含紅外線發射部及紅外線接收部，且其中紅外線發射部及紅外線接收部係在第一像素、第二像素及第三像素之中相鄰的像素之間。
較佳地，第一像素、第二像素及第三像素可沿著第一方向配置，且紅外線發射部及紅外線接收部可沿著交叉於第一方向的第二方向配置。第一像素、第二像素及第三像素可沿著第一方向配置，且紅外線發射部及紅外線接收部可沿著第一方向配置。第一像素、第二像素及第三像素可在紅外線發射部及紅外線接收部之間。
較佳地，紅外線發射部可在第一像素及第二像素之間；第一像素、紅外線發射部及第二像素可沿著第一方向配置；且第一像素、第二像素及紅外線接收部可沿著交叉於第一方向的第二方向配置。紅外線發射部及紅外線接收部中的至少其一可與第一像素及第二像素沿著第三方向配置， 並與第三像素沿著交叉於第三方向的第四方向配置。
透明窗及感測層可在紅外線接收部中，且透明窗及感測層可沿著交叉於基板上表面的方向彼此重疊。感測層可在基板與第一電極之間。透明窗可包含透明導電材料。
例示性實施例藉由參照附圖描述；然而，其可以各種不同形式實施，且不應被解釋為限於本文所闡述的實施例。相反的，提供這些例示性實施例使得本揭露徹底及完整，並將傳達例示性實施方式予此技術領域中具有通常知識者。實施例(或其部分)可被結合而形成其他的實施例。
在圖式中，層及區域之尺寸可為了清楚表示而被誇大。應理解的是，當層或元件被指稱為在另一層或基板「上(on)」時，其可直接在另一層或基板上，或也可存在中間層。將進一步理解的是，當層被指稱為在另一層之「下(under)」時，其可直接在另一層之下，或也可存在一或多個中間層。此外，亦將了解的是，當層被稱於為兩層「之間 (between)」時，其可為於兩層之間的唯一層或亦可存在一或多個中間層。全文中相似的元件符號表示相似的元件。
當元件被指稱為「連接(connected)」或「耦接(coupled)」至另一元件時，其可直接地連接或耦接至另一元件，或也可以一或多個中間元件插設於其間地間接地連接或耦接至另一元件。此外，當元件被指稱 「包含(including)」一組件時，除非有不同的揭露，否則其指該元件可進一步包含另一組件， 而非排除另一組件。
第1圖描繪像素及紅外線發射部的實施例的頂部平面圖，其舉例而言，可包含於發光顯示裝置中。參考第1圖，基板23包含第一像素、第二像素、第三像素及紅外線發射部IR。第一像素、第二像素及第三像素分別發出不同顏色的光，例如綠色(G)、紅色(R)及藍色(B)。在另一實施例中，第一、第二及第三像素可發出不同顏色組合的光。
在一平面圖中，第一像素G、第二像素R、第三像素B及紅外線發射部IR可在預定的配置中。例如第一、第二及第三像素及紅外線發射部IR可以第二像素R、第一像素G、第三像素B及紅外線發射部IR的順序沿著第一方向D1交替配置。相同的像素或紅外線發射部IR可被沿著交叉於第一方向D1的第二方向D2配置。在這個情況下，紅外線發射部IR在第一像素G及第三像素B之間。在其他實施例中，紅外線發射部IR可在第一像素G及第二像素R之間或在第二像素R及第三像素B之間。第一、第二及第三像素及紅外線發射部IR在不同實施例中可具有另一種配置。
像素R、G及B可為用於表示亮度及暗度的最小單元。紅外線發射部IR可表示發射在預定範圍(例如大約700奈米至大約1000奈米)之紅外線的區域，以用作為例如亮度感測器(illumination sensor)、近接感測器(proximity sensor)、指紋辨識感測器(finger identification sensor)、虹膜辨識感測器(iris identification sensor)或靜脈感測器(vein sensor)。在第1圖中，第二像素R、第一像素G、紅外線發射部IR及第三像素B可形成一個像素群PXG。複數個像素群PXG可以預定的配置設置在基板23上 (例如沿著第一方向D1及第二方向D2垂直及水平地配置)。
在第1圖中，第二像素R、第一像素G、紅外線發射部IR及第三像素B的像素群PXG重複地配置。在至少一實施例中，紅外線發射部IR在一些像素群PXG中，但並不是在所有像素群PXG中。舉例而言，由第二像素R、第一像素G及第三像素B形成的第一像素群，及由第二像素R、第一像素G、紅外線發射部IR及第三像素B形成的第二像素群PXG可沿著第一方向D1交替配置，或一個第二像素群可每兩個第一像素群地沿著第一方向D1交替配置。在情況下，可為了準確地感測而規律地配置像素群。
第2圖描繪像素群之實施例的截面結構，其可為例如第1圖中一或多個像素群PXG的代表。在第2圖中，分別對應於第1圖中的第二像素R、第一像素G、紅外線發射部IR及第三像素B的發光元件位於基板23上。
參考第2圖，根據本例示性實施例的發光顯示裝置包含在基板23上的第一電極120、重疊於第一電極120的第二電極190、在第一電極120與第二電極190之間的發射層150、在第一電極120與發射層150之間的電洞傳輸/注入層130、在發射層150及第二電極190之間的電子傳輸層160、在電子傳輸層160與第二電極190之間的電子注入層180及在第二電極190上的覆蓋層200。
在本例示性實施例中，第一電極120可為反射電極，例如包含具有光反射特性材料的電極，以將從發射層150發出的光傳遞至第二電極190。光反射特性可意指其對於入射光的反射率係在，例如多於大約70%或少於大約100%，或多於大約80%或少於大約100%的預定範圍內。
第一電極120可包含例如銀 (Ag)、鋁 (Al)、 鉻(Cr)、鉬(Mo)、 鎢(W)、鈦(Ti)、金 (Au)、鈀(Pd)或其合金。第一電極120可具有三層結構，例如銀(Ag)/銦錫氧化物(ITO)/銀(Ag)的三層結構、銦錫氧化物(ITO)/銀(Ag)/銦錫氧化物(ITO)的三層結構或其他三層結構。第一電極120可藉由例如濺鍍法、氣相沉積法、離子束沉積法或電子束沉積法所形成。
電洞傳輸/注入層130可對應於在第一電極120及發射層150之間的輔助層。電洞傳輸/注入層130可包含電洞注入層(HIL)及電洞傳輸層(HTL)中的至少其一。電洞注入層(HIL)促使電洞從第一電極120注入。電洞傳輸層(HTL)促使從電洞注入層傳遞的電洞傳輸。電洞傳輸/注入層130可具有其中電洞傳輸層在電洞注入層上的雙層結構，或可提供為藉由形成電洞注入層的材料及形成電洞傳輸層的材料之混合物形成的單層。
電洞傳輸/注入層130可包含有機材料。舉例而言，電洞傳輸/注入層130可包含NPD (N,N'-二(萘基-1-基)-N,N'-二(苯基) 聯苯胺(N,N-bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl) benzidine))、 TPD (N,N'-二-(3-甲基苯基)-N,N'-二-(苯基)- 聯苯胺(N,N'-bis-(3-methylphenyl)-N,N'-bis-(phenyl)-benzidine))、 s-TAD或 MTDATA (4,4',4''-三(N-3-甲基苯基-N-苯基-胺基)- 三苯胺(4,4',4''-tris(N-3-methylphenyl-N-phenyl-amino)-triphenylamine))。
發射層150在電洞傳輸/注入層130上，且包含發光材料以發出特定顏色的光。舉例而言，發射層150可發出原色光，如藍色、綠色及紅色，或這些或其他顏色的組合。
發射層150可具有預定範圍的厚度，例如10 nm至50 nm。發射層150包含基質及摻質。發射層150包含於平行於第一電極120上表面的方向水平配置的紅色發射層150R、綠色發射層150G、紅外線發射層150IR及藍色發射層150B。
電洞傳輸/注入層130通常在紅色發射層150R及第一電極120之間、在綠色發射層150G及第一電極120之間、在紅外線發射層150IR及第一電極120之間及在藍色發射層150B及第一電極120之間。電洞傳輸/注入層130的厚度可與電洞傳輸/注入層130通常配置的部分實質上一致。
紅色發射層150R包含基質材料，舉例而言，其包含CBP(4,4'-二(咔唑-9-基)-聯苯(4,4'-bis(carbazol-9-yl)-biphenyl))或 mCP (1,3-二(咔唑-9-基)苯 (1,3-bis(carbazol-9-yl) benzene))，且可由包含摻質材料之磷光材料形成，其包含PIQIr(acac)( 二(1-苯基異喹啉) 乙醯丙酮銥) (bis(1-phenylisoquinoline)acetylacetonate iridium))、 PQIr(acac) (二(1-苯基喹啉) 乙醯丙酮銥(bis(1-phenylquinoline)acetylacetonate iridium))、 PQIr (三(1-苯基喹啉)銥(tris(1-phenylquinoline)iridium))或 PtOEP (八乙基卟啉鉑(platinum octaethylporphyrin)) 中的至少其一，或選擇性地可由包含但不限於PBD:Eu(DBM)3(Phen)之螢光材料所形成。
綠色發射層150G包含材料，舉例而言，其包含CBP 或 mCP，且可由包含摻質材料之磷光材料形成，其像是但不限於Ir(ppy)3 (fac-三(2-苯基吡啶) 銥(fac-tris(2-phenylpyridine)iridium))，或選擇性地可由像是但不限於Alq3 (三(8-羥基喹啉)鋁 (tris(8-hydroxyquinolino)aluminum))之螢光材料所形成。
藍色發射層150B包含基質材料，舉例而言，其包含CBP 或 mCP，且可由包含摻質材料之磷光材料形成，其像是(4,6-F2ppy)2Irpic。選擇性地，藍色發射層150B可包含具有蔥基團(anthracene group)的基質材料，且舉例而言，可為由包含苝(perylene)、螺- DPVBi(spiro-DPVBi)、 螺-6P(spiro-6P)、二苯乙烯基苯(distyrylbenzene (DSB))、 二苯乙烯伸芳基(distyrylarylene (DSA))、PFO類聚合物及 PPV類聚合物中之其一的螢光材料形成。
在本例示性實施例中，紅色發射層150R、綠色發射層150G及藍色發射層150B可各包含有機材料。在一實施例中，紅色發射層150R、綠色發射層150G及藍色發射層150B可以像是但不限於量子點之無機材料製造。
在本例示性實施例中，紅外線發射層150IR可藉由例如將紅外線發光摻質摻雜至像素發光材料或共振輔助層材料而形成。像素發光材料可為上述紅色發射層150R或綠色發射層150G的基質材料。共振輔助層材料可為包含在電洞傳輸/注入層130中的材料。
在紅外線發射層150IR中的紅外線發射摻質可具有預定的波長範圍，例如大約700奈米至大約1000奈米。例如，紅外線發射摻質的波長範圍可為大約850奈米至大約950奈米。為了具有這樣的波長範圍，根據本例示性實施例的紅外線發射摻質可包含例如金屬錯合化合物、供體-受體-供體(DAD)化合物或鑭系化合物中的至少其一。
在本例示性實施例中，金屬錯合化合物可包含Pt、Pd、 Cu或 Zn。根據本例示性實施例的金屬錯合化合物可為化學式1所表示的化合物。化學式1
在化學式1中，L可表示N 或 CR’且M可表示Pt、 Pd、 Cu、 Zn、 Sc、 Y、 La、 Ti、 Zr、 Hf、 V、 Nb、 Ta、 Cr、 Mo、 W、 Mn、 Tc、 Re、 Fe、 Ru、 Os、 Co、 Rh、 Ir、 Ni、 Ag、 Au、 Cd、 Hg、 Al、 Ga、 In、 Tl、 Si、 Ge、 Sn、 Pb、 P、 As、 Sb、 Bi、 S、 Se、 Te、 Po、 Cl、 Br、 I、 At、鑭系元素或錒系元素。R 為 A(Cl)、 B(Br)、 C(I)、 D(At)及 E(包含耦接至吡咯環的β碳的原子之基團)，其中耦接至β碳的原子為B、 C、 N、 O、 Si、 P、 S、 Cl、 Ge、 As、Se、Br、In、Sn、Sb、 Te、 I、 Tl、 Pb、 Bi、 Po或At。耦接至相同的 吡咯環的兩個相鄰的R基團可與兩個β碳一起形成碳環基團或雜環基團。在 CR’、 R’中可為苯基(phenyl group)、甲苯基(tolyl group)、二甲苯基(xylenyl group)、 三甲苯基(mesityl group)、 甲基(methyl group)、乙基(ethyl group)、正丙基(n-propyl group)或異丙基(isopropyl group)。
化學式1所表示的金屬錯合化合物可為，例如化學式1-1至化學式1-10中的任一。金屬錯合化合物不限於所述類型的金屬錯合化合物。化學式1-1可為Pt(TPBP) (鉑-四苯基四苯卟啉(Pt-tetraphenyltetrabenzoporphyrin))。化學式 1-1化學式 1-2化學式 1-3化學式 1-4化學式 1-5化學式 1-6化學式 1-7化學式 1-8化學式 1-9化學式 1-10
在化學式1-1至化學式1-10中，M表示Pt、 Pd、 Cu、 Zn、 Sc、 Y、 La、 Ti、 Zr、 Hf、 V、 Nb、 Ta、 Cr、 Mo、 W、 Mn、 Tc、 Re、 Fe、 Ru、 Os、 Co、 Rh、 Ir、 Ni、 Ag、 Au、 Cd、 Hg、 Al、 Ga、 In、 Tl、 Si、 Ge、 Sn、 Pb、 P、 As、 Sb、 Bi、 S、 Se、 Te、 Po、 Cl、 Br、 I、 At、 鑭系元素或錒系元素。
在本例示性實施例中，DAD(供體-接受體-供體)化合物可對應於例如化學式2、化學式3或化學式4。化學式3可為BEDOT-TQMe2 (4,9-二(2,3-二氫噻吩並[3,4-b][1,4] 戴奧辛-5-基)-6,7-二甲基-[1,2,5] 噻二唑並[3,4-g] 喹㗁啉((4,9-bis(2,3-dihydrothieno[3,4-b][1,4]dioxin-5-yl)-6,7-dimethyl-[1,2,5]thiadiazolo[3,4-g]quinoxaline))。化學式4可為BEDOT-BBT (4,8-二(2,3-二氫噻吩並 -[3,4-b][1,4] 戴奧辛-5-基)苯並[1,2-c;4,5-c´]二[1,2,5] 噻二唑(4,8-bis(2,3-dihydrothieno-[3,4-b][1,4]dioxin-5-yl)benzo[1,2-c;4,5-c´]bis[1,2,5]thiadiazole))。化學式 2化學式 3化學式4
在本例示性實施例中，鑭系化合物可為例如由化學式5、化學式6、化學式7、化學式8或化學式9所表示的化合物。 化學式5 [Z(L)3 ]p M]Aq
在化學式5中，Z表示碳原子或R1 -B的片段，p表示1、2或3，q表示3-p，A表示相對離子(counterion)且R1 表示： i)選擇性地被氫、1至5個鹵素或C1至C8烷基取代的芳香基或選擇性地被1至5個鹵素或C1至C8烷基取代的芳烷基；或ii)選擇性地被至少一鹵素元素取代的C1至C6烷基、選擇性地被至少一鹵素元素取代的C1至C6烯基、或選擇性地被至少一個鹵素元素取代的C1至C6炔基。M表示三價鑭系金屬離子，像是Tb、 Ce、 Eu、 Er、 Gd、 Tm、 Sm及 Nd且複數個L分別與Z具有共價鍵，且可選擇性地選自化學式5-1及化學式5-2。化學式 5-1化學式 5-2
在化學式5-1及化學式5-2中，R2、R3及R4獨立地為i) 鹵素、氰基、硝基、碸基、胺基、C1至C6烷基胺基、C1至C6烷基醯胺基(alkylamido group)、羧基、C1至C6烷氧羰基、羥基、C1至C6烷氧基、C1至C6烷羰氧基、C1至C6烷基羰基、C1至C6鹵代烷氧基(haloalkoxy group)或氫，ii)選擇性地被上述基團中的一或多個取代的芳基或芳烷基，或iii)選擇性地被上述基團中的一或多個取代的C1至C6烷基、C1至C6烯基或C1至C6炔基。在一個實施例中，R2及R3或R3及R4可彼此連接以形成融合(fused)的，定向(directional)或非定向(non-directional)的L-吡唑環系統。
在化學式5中，Z(L)3 的實例可被以化學式5-1-1、化學式5-2-1及化學式5-2-2表示。化學式 5-1-1化學式 5-2-1化學式 5-2-2化學式 6化學式 7化學式 8化學式 9
在化學式6及化學式7中，Ln表示Ce3+ 、Ce4+ 、 Pr3+ 、Pr4+ 、 Nd3+ 、 Nd4+ 、 Pm3+ 、 Sm3+ 、Sm2+ 、Eu3+ 、 Eu2+ 、Gd3+ 、 Tb3+ 、 Tb4+ 、 Dy3+ 、Dy4+ 、 Ho3+ 、 Er3+ 、 Tm3+ 、Tm2+ 、 Yb3+ 、 Yb2+ 或 Lu3+ 。R1表示取代或未取代的吡唑基、三唑基、雜芳基、烷基、烷氧基、酚鹽基(phenolate group)、胺基或醯胺基。R2、 R3、 R4、 R5、 R6及 R7表示烴基，其可包含氫、鹵素或選擇性的雜原子(例如烷基、芳基或雜芳基)。為了加強化合物的揮發性，R2至R7可被氟化(fluorinated)。在化學式8及化學式9中，Ln、 R2、 R3、 R4、 R6及 R7可適用於參考化學式6和化學式7所描述的內容。
鑭系化合物的實例可為藉由化學式10所表示的化合物。化學式10
像素定義層25可在紅色發射層150R、綠色發射層150G、紅外線發射層150IR及藍色發射層150B之相鄰的發射層150之間。
電子傳輸層160及電子注入層180在發射層150及第二電極190之間。電子傳輸層160相鄰於發射層150。電子注入層 180相鄰於第二電極190。
電子傳輸層160可包含有機材料，其包含例如Alq3 (三(8-羥基喹啉)鋁(tris(8-hydroxyquinolino)aluminum))、 PBD (2-[4-聯苯-5-[4-三級-丁基苯基]]-1,3,4-㗁二唑(2-[4-biphenyl-5-[4-tert-butylphenyl]]-1,3,4-oxadiazole))、 TAZ (1,2,4-三唑(1,2,4-triazole))、 螺-PBD (螺-2-[4-聯苯-5-[4-三級-丁基苯基]]-1,3,4-㗁二唑(spiro-2-[4-biphenyl-5-[4-tert-butylphenyl]]-1,3,4-oxadiazole))及 BAlq (8-羥基喹啉鈹鹽((8-hydroxyquinoline beryllium salt))中的 一或多種。
電子傳輸層160可將電子從第二電極190傳輸到發射層150。電子傳輸層160亦可防止從第一電極120注入的電洞經由發射層150移動到第二電極190。舉例而言，電子傳輸層160可用於電洞阻擋層以幫助電洞及電子於發射層150中結合。
電子注入層180用於加強電子從第二電極190注入電子傳輸層160。電子注入層180可包含結合的第一組成與第二組成的離子化合物。第一組成為當離子化合物被離子化時變成陽離子的成分。第二組成為變成陰離子的成分。在本例示性實施例中，考慮到加工餘量(process margin)，電子注入層180可具有預定的厚度(例如大約2Å 至大約 25 Å)。
電子注入層180及第二電極190共同地設置在紅色發射層150R及覆蓋層200之間、綠色發射層150G及覆蓋層200之間及藍色發射層150及覆蓋層200之間。電子注入層180的厚度及第二電極190的厚度可實質上相等於電子注入層180及第二電極190共同地設置處。
在本例示性實施例中，輔助層BIL可在藍色發射層150B下方以加強藍色發射層150B的效率。輔助層BIL藉由調整電洞電荷平衡來加強藍色發射層150B的效率。輔助層BIL可包含藉由化學式A所表示的化合物。化學式 A
在化學式A中，A1、A2及A3可分別為氫、烷基、芳基、咔唑、二苯並噻吩、二苯並呋喃(DBF)及聯苯，且a、b及c可分別為0至4的整數。
在根據本例示性實施例的發光顯示裝置中，紅色共振輔助層150R’可在紅色發射層150R下方而綠色共振輔助層150G’可在綠色發射層150G下方。可添加紅色共振輔助層150R’及綠色共振輔助層150G’以調各個顏色的共振距離。在藍色發射層150B及電洞傳輸/注入層130之間的附加共振輔助層可不形成在藍色發射層150B及輔助層BIL下方。
在本例示性實施例中，綠色共振輔助層150G’可在紅外線發射層150IR下方。舉例而言，當在綠色發射層150G下方的共振輔助層被稱為第一輔助層，而在紅外線發射層150IR下方的輔助層被稱為第二輔助層時，第一輔助層及第二輔助層為綠色共振輔助層150G’。 舉例而言，第一輔助層及第二輔助層可為相同的。因此，第一輔助層及第二輔助層可以相同的材料製成，且可設置在相同層中。
紅外線發射層150IR可與綠色發射層150G在相同的層中。為了形成這種結構，綠色共振輔助層150G’形成在對應於第1圖中的第一像素G及 紅外線發射部IR的區域中。綠色發射層150G形成在第一像素G的綠色共振輔助層150G’上，且然後紅外線發射層150IR形成在紅外線發射部IR的綠色共振輔助層150G’上，其係使用例如熱蒸發法或噴墨法。綠色發射層150G及紅外線發射層150IR可在相鄰的像素定義層25之間。本例示性實施例的紅外線發射部IR可具有在第一像素G的共振厚度與第二像素R的共振厚度之間的預定或最佳共振厚度。
第3圖描繪依據紅色像素、綠色像素及紅外線發射部中的厚度，最佳發光強度的實例。在第3圖中，「紅色」表示紅色像素、「綠色」表示綠色像素及「NIR」表示紅外線光發射部。
參考第3圖，紅外線發射部的最佳共振厚度係在綠色像素的第二(secondary)共振厚度(例如對應於第二頂點(secondary peak)的厚度)及紅色像素的第一(primary)共振厚度(例如對應於第一頂點(primary peak)的厚度)之間。由於紅外線發射部的第一共振厚度接近綠色像素的第二共振厚度，當紅外線輔助層與紅外線發射層形成相似於綠色像素中者時，本例示性實施例中，紅外線發射部可經由最小化涉及之操作的簡單過程形成。
紅外線發射部的紅外線輔助層形成以作為綠色共振輔助層，且紅外線發射層形成得比綠色發射層還薄，從而增加或最大化紅外線發射部的第一共振效率(primary resonance efficiency)。作為例示性的變化，當綠色像素具有第一共振厚度(primary resonance thickness)的厚度時，紅外線發射層可比綠色發射層厚，以增加或最大化紅外線發射部的第一共振效率。
第4圖描繪第2圖的紅外線發射部之另一實施例的截面圖。除了以下之外，第4圖的例示性實施例可相同於第2圖的例示性實施例。
參考第4圖，綠色發射層150G在紅外線發射層150IR及綠色共振輔助層150G’之間。舉例而言，當在第1圖的第一像素G中之綠色發射層150G被稱為第一發射層，且在第1圖的紅外線發射部IR中之綠色發射層150G被稱為第二發射層時，第一發射層及第二發射層可相同於綠色發射層150G。因此，第一發射層及第二發射層可以相同的材料製成且可在相同層中。
相似於第2圖的製造方法，綠色共振輔助層150G’及綠色發射層150G在對應於第1圖的第一像素G及紅外線發射部IR的區域中，其係使用例如熱蒸發法或噴墨法。之後紅外線發射層150IR可被形成在紅外線發射部IR的綠色發射層150G上以形成根據本例示性實施例的光發射元件結構。
第5圖描繪第2圖的紅外線發射部之另一實施例的截面圖。除了以下之外，第5圖的例示性實施例可相同於第4圖的例示性實施例。
參考第5圖，紅色共振輔助層150R’在紅外線發射層150IR與綠色發射層150G之間。舉例而言，在第1圖的第二像素R中的輔助層被稱為第三輔助層，且在紅外線發射層150IR與綠色發射層150G之間的輔助層被稱為第四輔助層。第三輔助層與第四輔助層可相同於紅色共振輔助層150R’。因此，第三輔助層與第四輔助層可以相同材料製成且可在相同的層中。第三輔助層與第四輔助層在相同的層中的意思可包含當第三輔助層與第四輔助層經由相同的過程形成的情況，但此非所有實施例中必要的。
舉例而言，綠色共振輔助層150G’及綠色發射層150G可被形成在對應於第1圖的第一像素G及紅外線發射部IR的區域中。在遮罩被改變或移動的狀態下，紅色共振輔助層150R’可形成在對應於第二像素R1的區域及對應於第1圖的紅外線發射部IR的區域。之後紅外線發射層150IR可形成在第1圖的紅外線發射部IR的紅色共振輔助層150R’上。
根據第5圖的例示性實施例，由於形成紅色共振輔助層150R’，紅外線發射部可厚於綠色像素的厚度。因此，當參考第3圖的圖表時，根據本例示性實施例，紅外線發射部的共振厚度可被最佳化為第二共振厚度(或達到關於第二共振厚度的一些其他預定值)。
第6圖描繪像素、紅外線發射部及紅外線接收部的另一佈局實施例之頂部平面圖。除了以下之外，第6圖的例示性實施例可相同於第1圖的例示性實施例。
參考第6圖，基板23包含第一像素G、第二像素R及第三像素B，且亦包含紅外線感測器IRS，各紅外線感測器IRS包含紅外線發射部IR及紅外線接收部S。
在本例示性實施例中，紅外線接收部S是用來感測外來光線的區域。舉例而言，從紅外線發射部IR發射的光藉由與待感測的物體碰撞而反射。紅外線接收部S接受到反射光以判定物體的存在、接近、移動、亮度及/或其他值。
在平面圖中，紅外線發射部IR及紅外線接收部S可為第一像素G及第二像素B，但在另一實施例中可在其他位置。紅外線發射部IR及紅外線接收部S可在第一像素G及第二像素R之間，或在第二像素R及第三像素B之間。在第6圖中，紅外線發射部IR及紅外線接收部S可沿著第二方向D2配置，且可改變其垂直定線(vertical alignment)。舉例而言，在第6圖中，紅外線發射部IR在紅外線接收部S上方，但在另一個實施例中，紅外線發射部IR可在紅外線接收部S下方。
透明窗及感測層可在紅外線接收部S中，且可沿著交叉於基板23上表面的方向彼此重疊。實例將參考第7圖描述。
第7圖描繪沿著第6圖的VII-VII’線截取的紅外線接收部之另一實施例的截面圖。在第7圖中，左邊示意性地顯示像素結構及右邊示意性地顯示紅外線接收部。
參考第7圖，在像素結構中，緩衝層26在基板23上以避免濕氣、氧氣及類似物的滲透。驅動半導體層150a在緩衝層26上。驅動半導體層150a可包含源極區及汲極區。源極區及汲極區在驅動半導體層150a的兩側端且摻雜有雜質。閘極絕緣層27在驅動半導體層150a上。包含驅動閘極電極124a的閘極線位在閘極絕緣層27上。此外，驅動閘極電極124a重疊於驅動半導體層150a的至少一部分，即驅動半導體層150a的通道區。
覆蓋驅動閘極電極124a的層間絕緣層28位在閘極絕緣層27上。包含驅動源極電極173a及驅動汲極電極175a的數據線路可位在層間絕緣層28上。此外，驅動源極電極173a及驅動汲極電極175a分別經由在層間絕緣層28及閘極絕緣層27中之接觸孔洞與驅動半導體層150a的源極區及汲極區連接。
因此，形成驅動電晶體TOR ，其包含驅動半導體層150a、驅動閘極電極124a、驅動源極電極173a及驅動汲極電極175a。驅動電晶體TOR 在其他實施例中可具有不同的結構或組成。在一些實施例中，可省略平坦層24或層間絕緣層28。
發光元件具有在平坦層24上的第一電極120。像素定義層25在平坦層24及第一電極120上。部分重疊於第一電極120的開口位在像素定義層25中。在此情況下，發光元件層100可覆蓋由像素定義層25形成的每個開口。
發光元件層100係在第一電極120上，且對應於第2圖中發光元件的電洞傳輸/注入層130、發射層150、 電子傳輸層160及電子注入層180。關於參考第4圖及第5圖所描述的發光元件的內容可被用於本實施例的顯示裝置中。
在第7圖中，發光元件層100僅覆蓋像素定義層25的開口。形成發光元件層100的層可如同第二電極190般地位於像素定義層25的上表面上。
第二電極190及覆蓋層200在發光元件層100上。封裝層300在覆蓋層200上。封裝層300藉由密封在基板23上的發光元件及驅動電路來保護其免受於外在影響。
紅外線接收部S可具有例如二極體結構。感測層105S在基板23上，且感測層105S的兩邊可分別摻雜有n型雜質及p型雜質。因此感測層105S可包含本質半導體區、n型半導體區及p型半導體區，且n型半導體區及p型半導體區配置在本質半導體區的兩邊。感測層105S可包含Si、InGeAs或其他材料，且舉例而言，可由可用作為光學感測器的材料製成。
除了感測層105S之外，紅外線接收部S包含源極電極173c及汲極電極175c。緩衝層26在基板23上。閘極絕緣層 27提供在緩衝層26上。紅外線接收部S的感測層105S經由在層間絕緣層28、閘極絕緣層 27及平坦層24中的接觸孔洞與源極電極173c及汲極電極175c連接。
源極電極173c及汲極電極175c與發光元件的第一電極120在相同的層上，且以與第一電極120相同的材料製成。像素定義層25覆蓋源極電極173c及汲極電極175c。發光元件的第二電極190藉由延伸於像素定義層25上而形成。覆蓋層200在第二電極190上，且封裝層300在覆蓋層200上。
紅外線接收部S可包含重疊於感測層105S的透明窗105T以接收外在紅外線。舉例而言，透明窗105T可包含重疊於感測層105S之紅外線接收部S的區域。透明窗105T可包含第一電極120、第二電極190及在第一電極120及第二電極190之間的像素定義層25。第一電極120及第二電極190包含透明導電材料。
紅外線接收部S可進一步包含用於傳遞接受的訊號的切換電晶體TSW 。切換電晶體TSW 包含切換半導體層150b、切換閘電極124b及源極電極173b及汲極電極175b。切換電晶體TSW 可相鄰於紅外線接收部S且可藉由與紅外線接收部S相距一定距離的附加線路與紅外線接收部S連接。
切換電晶體TSW 可具有例如與像素的驅動電晶體TOR 相同的結構。當在形成像素的驅動電晶體TOR 的同時形成切換電晶體TSW 時，切換電晶體TSW 將具有此種結構。
紅外線接收部S的汲極電極175c經由平坦層24中的接觸孔洞與切換電晶體TSW 的源極電極173b連接。在例示性實施例中，紅外線接收部S的汲極電極175c可經由附加的連接線路與切換電晶體TSW 的源極電極173b電連接。
在以上描述中，感測層105S在基板23及閘極絕緣層27之間。在一個實施例中，舉例而言，感測層105S可根據在基板23及第一電極120之間的紅外線接收部S的變化結構而在不同的位置。舉例而言，感測層105S可由有機材料而非無機類材料製成。在這個情況下，紅外線接收部S可例如在用於形成發光元件層100的有機層的過程中形成，且感測層105S可在第一電極120及第二電極190之間。
第8圖描繪第6圖的像素群的另一佈局實施例之頂部平面圖。參考第8圖，不同於第6圖的像素群PXG，像素群PXG以第三像素B、第一像素G、第二像素R及紅外線感測器IRS的順序形成。這些像素群PXG可垂直及水平地配置。第三像素B、第一像素G及第二像素R沿著第一方向D1配置，且紅外線發射部IR及紅外線接收部S沿著第二方向D2配置。
第9圖描繪第6圖的像素群的另一實施例之頂部平面圖。參考第9圖，不同於第6圖的像素群PXG，紅外線發射部IR及紅外線接收部S不沿著第二方向D2彼此相鄰地配置。且第一像素G、第二像素R及第三像素B在紅外線發射部IR及紅外線接收部S之間。舉例而言，不僅僅是第一像素G、第二像素R及第三像素B，而是連紅外線發射部IR及紅外線接收部S也沿著第一方向D1配置。第三像素B、第一像素G、第二像素R、紅外線發射部IR、第三像素B、第一像素G、第二像素R及紅外線接收部S可沿著第一方向D1交替配置，但在另一實施例中可為另一種順序或配置。舉例而言，可以改變沿著第一方向D1配置的順序。
第10圖描繪第6圖的像素群的另一實施例之頂部平面圖。參考第10圖，紅外線發射部IR在第一像素G及第二像素R之間，第一像素G、紅外線發射部IR及第二像素R沿著第一方向D1配置。紅外線接收部S沿著第一方向D1從第一像素G往第二像素R配置。
第11至13圖描繪相對應於例如第6圖的像素群之附加實施例之頂部平面圖。參考第11至13圖，紅外線發射部IR及紅外線接收部S中的至少其一與第一像素G及第二像素R沿著第三方向D3配置，且與第三像素B沿著第四方向D4配置。在第11圖的例示性實施例中，紅外線發射部IR及第一像素G藉由劃分對應於第二像素R或第三像素B的區域設置。相似地，紅外線接收部S及第一像素G藉由劃分對應於第二像素R或第三像素B的區域設置。在第12圖的例示性實施例中，紅外線發射部IR及第二像素R藉由劃分對應於第一像素G或第三像素B的區域設置。相似地，紅外線接收部S及第二像素R藉由劃分對應於第一像素G或第三像素B的區域設置。
在第11及第12圖的例示性實施例中，紅外線發射部IR及紅外線接收部S皆與相同像素劃分一區域地設置。例如在第11圖中，紅外線發射部IR及紅外線接收部S藉由與第一像素G劃分區域地設置。在第12圖中，紅外線發射部IR及紅外線接收部S藉由與第二像素R劃分區域地設置。然而，在第13圖的例示性實施例中，紅外線發射部IR及紅外線接收部S分別與不同像素劃分一區域地設置。舉例而言，紅外線發射部IR及第二像素R藉由劃分對應於第三像素B的區域設置，而紅外線接收部S及第一像素G藉由劃分對應於第三像素B的區域設置。
第14圖描繪其中紅外線感測器是根據例示性實施例形成的發光顯示裝置的另一實施例。在第14圖中，左側顯示第一感測器S1及第二感測器S2在周邊區域PA中形成之發光顯示裝置。在此情況下，第一感測器S1可用作為近接感測器而第二感測器S2可藉由應用物理按鈕而用作為指紋感測器。
在這種發光顯示裝置中，可能包含附加的感測器模組而造成發光顯示裝置製造過程的複雜性。在第14圖中，右側顯示顯示區DA延伸至外邊的發光顯示裝置。當使用根據上述例示性實施例的像素及紅外線感測器之佈局時，可如同第14圖的右側所示般地移除物理按鈕。據此可實現能夠顯示整個前側的發光顯示裝置。
文中已經揭露例示性實施例，且雖然使用特定的用語，這些用語僅以一般性及描述性的意義使用及解釋，而不意圖為限制。於部分例子中，對於本申請所屬技術領域中具有通常知識者顯而易知的是，除非具體指出，否則結合特定實施例描述的特徵、特性、與/或元件，可個別地使用或與結合其他實施例所述的特徵、特性、與/或元件組合使用。因此，進行形式及細節上的各種變更而不脫離如申請專利範圍所陳述之實施例的精神與範疇。
D1‧‧‧第一方向
D2‧‧‧第二方向
D3‧‧‧第三方向
D4‧‧‧第四方向
S‧‧‧紅外線接收部
IR‧‧‧紅外線發射部
IRS‧‧‧紅外線感測器
G‧‧‧第一像素
R‧‧‧第二像素
B‧‧‧第三像素
PXG‧‧‧像素群
BIL‧‧‧輔助層
TOR‧‧‧驅動電晶體
TSW‧‧‧切換電晶體
DA‧‧‧顯示區
PA‧‧‧周邊區域
S1‧‧‧第一感測器
S2‧‧‧第二感測器
23‧‧‧基板
24‧‧‧平坦層
25‧‧‧像素定義層
26‧‧‧緩衝層
27‧‧‧閘極絕緣層
28‧‧‧層間絕緣層
100‧‧‧發光元件層
105S‧‧‧感測層
105T‧‧‧透明窗
120‧‧‧第一電極
124a‧‧‧驅動閘極電極
124b‧‧‧切換閘電極
130‧‧‧電洞傳輸/注入層
150‧‧‧發射層
150a‧‧‧驅動半導體層
150IR‧‧‧紅外線發射層
150G‧‧‧綠色發射層
150R‧‧‧紅色發射層
150B‧‧‧藍色發射層
150R'‧‧‧紅色共振輔助層
150G'‧‧‧綠色共振輔助層
150a‧‧‧驅動半導體層
150b‧‧‧切換半導體層
160‧‧‧電子傳輸層
173a、173b、173c‧‧‧源極電極
175a、175b、175c‧‧‧汲極電極
180‧‧‧電子注入層
190‧‧‧第二電極
200‧‧‧覆蓋層
300‧‧‧封裝層
對於本領域具有通常知識者而言，特徵將藉由參考圖式詳細描述例示性實施例而變得顯而易見，其中：
第1圖描繪像素及紅外線發射部的實施例；
第2圖描繪在第1圖中之像素群的實施例；
第3圖描繪最佳化的光強度的實例；
第4圖描繪紅外線發射部的實施例；
第5圖描繪紅外線發射部的另一實施例；
第6圖描繪像素、紅外線發射部及紅外線接收部的另一實施例；
第7圖描繪紅外線接收部的實施例；
第8圖描繪像素群的另一佈局實施例；
第9圖描繪像素群的另一佈局實施例；
第10圖描繪像素群的另一佈局實施例；
第11圖描繪像素群的另一佈局實施例；
第12圖描繪像素群的另一佈局實施例；
第13圖描繪像素群的另一佈局實施例；以及
第14圖描繪發光顯示裝置的實施例。

Claims (10)

  1. 一種發光顯示裝置，其包含： 一基板，包含一第一像素、一第二像素、一第三像素及一紅外線發射部，該第一像素、該第二像素、該第三像素發射不同顏色的光； 一第一電極，在該基板上； 一第二電極，重疊於該第一電極； 一發射層，介於該第一電極與該第二電極之間；以及 一輔助層，介於該第一電極與該發射層之間，其中該輔助層包含在該第一像素上的一第一輔助層及在該紅外線發射部中的一第二輔助層，且其中該第一輔助層與該第二輔助層包含相同的材料。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之發光顯示裝置，其中該第一輔助層與該第二輔助層在相同的層中。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之發光顯示裝置，進一步包含在該紅外線發射部中的一紅外線發射層，其中該紅外線發射層係在該第二輔助層上，且其中該紅外線發射層與該發射層在相同的層中。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之發光顯示裝置，其中該發射層包含： 一第一發射層，在該第一像素中；以及 一第二發射層，在該紅外線發射部中， 其中該第一發射層及該第二發射層包含相同的材料，且其中該第一發射層及該第二發射層在相同的層中。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之發光顯示裝置，進一步包含在該紅外線發射部中的一紅外線發射層，其中該紅外線發射層在該第二發射層上。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之發光顯示裝置，其中該輔助層包含在該第二像素中的一第三輔助層及在該紅外線發射層及該第二發射層之間的一第四輔助層，該第三輔助層及該第四輔助層包含相同的材料，且其中該第三輔助層及該第四輔助層在相同的層中。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之發光顯示裝置，其中該第一像素、該第二像素及該第三像素分別對應至一綠色像素、一紅色像素及一藍色像素，且在該第一像素上的該第一輔助層與該第二輔助層在相同的層中。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之發光顯示裝置，其中從該紅外線發射部所產生的波長係在大約700奈米至大約1000奈米的範圍內。
  9. 一種發光顯示裝置，其包含： 一基板，包含一第一像素、一第二像素、一第三像素及一紅外線感測部，該第一像素、該第二像素及該第三像素發射不同顏色的光； 一第一電極，在該基板上； 一第二電極，重疊於該第一電極； 一發射層，介於該第一電極與該第二電極之間； 其中該紅外線感測部包含一紅外線發射部及一紅外線接收部，且其中該紅外線發射部及該紅外線接收部在該第一像素、該第二像素及該第三像素之中相鄰的像素之間。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之發光顯示裝置，其中該第一像素、該第二像素及該第三像素係在該紅外線發射部及該紅外線接收部之間。
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