TW201830105A - 偏振光照射裝置及偏振光照射方法 - Google Patents

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Abstract

本發明可藉由光配向處理而生成液晶分子之預傾角小之配向膜。自光源出射並透過遮罩上形成之透光區域之偏振光被照射至載置於載台之曝光對象物。偏振光係自相對於與載台之上表面大致正交之方向而傾斜大致50度至大致70度之方向照射向曝光對象物。

Description

偏振光照射裝置及偏振光照射方法
本發明係關於一種偏振光照射裝置及偏振光照射方法。
於專利文獻1中，揭示有一種液晶顯示裝置，其具有：配向型之液晶層、具有遮光構件之第1基板及第2基板、設於第1基板之液晶層側之第1電極及設於第2基板之液晶層側之第2電極、以及以與液晶層相接觸之方式而設之至少1個配向膜。 現有技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2011-53721號公報
[發明所欲解決之問題]
圖11係表示專利文獻1所揭示之使用垂直配向型液晶層之液晶顯示裝置（以下稱作VA模式液晶顯示裝置）之畫素區域之例之圖。畫素區域100具有4個液晶域A、B、C、D，將圖中3點方向設為0°時之液晶域A、B、C、D之傾斜方向t1、t2、t3、t4分別為225°、315°、45°、135°。藉由如此般將1個畫素分割為複數個區域，以改善視角特性。
然而，於液晶域之邊界部分，液晶分子之配向紊亂。液晶分子之配向變得不連續之區域由於不透光，因此看上去為暗線。於畫素區域100中，於液晶域A、B、C、D之各自中形成有沿著邊緣部之暗線（域線DL1、DL2、DL3、DL4）。
圖12係說明畫素區域100之分割方法之圖，（A）表示TFT基板（下側基板）100a之配向膜之預傾方向，（B）表示彩色濾光片基板（上側基板）100b之預傾方向。圖12中之圓柱係示意性地表示液晶分子。於使用TFT基板100a、彩色濾光片基板100b之畫素區域100中，自觀察者側觀察時，液晶分子以表示為圓柱狀之液晶分子之端部（橢圓形部分）接近觀察者之方式而傾斜。
將下側基板之畫素區域分割為2個，對垂直配向膜賦予反平行之預傾方向PA1、PA2，並且，將上側基板之畫素區域分割為2個，對垂直配向膜賦予反平行之預傾方向PB1、PB2。藉由貼合下側基板與上側基板，獲得畫素區域100之配向分割結構。
於專利文獻1中揭示有：藉由自圖12中之箭頭所示之方向斜向照射紫外線而進行光配向處理，使配向膜中規定分子之預傾方向。又，於專利文獻1中揭示有：較佳為使預傾角小。
然而，於專利文獻1中，並未揭示使用光配向處理來使配向膜中規定液晶分子之預傾方向之情形時，減小預傾角之具體方法。
本發明係有鑒於此種情況而完成，其目的在於提供一種可藉由光配向處理生成液晶分子之預傾角小之配向膜之偏振光照射裝置及偏振光照射方法。 [解決問題之手段]
為解決上述問題，本發明之偏振光照射裝置例如其特徵在於具備：光源，其出射偏振光；遮罩，其形成有使自上述光源出射之偏振光透過之透光區域；以及載台，其載置透過上述透光區域之偏振光所照射之曝光對象物，上述光源係自相對於與上述載台之上表面大致正交之方向傾斜大致50度至大致70度之方向對上述曝光對象物照射偏振光。
根據本發明之偏振光照射裝置，自相對於與載台之上表面大致正交之方向而傾斜大致50度至大致70度之方向對曝光對象物照射偏振光。藉此，藉由光配向處理，可生成液晶分子之預傾角小之配向膜。藉由使用如此般生成之配向膜形成液晶顯示裝置，畫素區域中產生之暗線變細，顯示品質提高。
此處，亦可具備驅動部，其使上述載台沿搬送方向移動，且使上述載台旋轉大致180度，上述光源具有沿上述搬送方向而設之第1光源與第2光源，上述驅動部使上述載台於上述第1光源與上述第2光源之間旋轉大致180度，上述遮罩具有：第1遮罩，其形成有供自上述第1光源出射之曝光用光透過之第1透光區域；以及第2遮罩，其形成有供自上述第2光源出射之曝光用光透過之第2透光區域，上述第2透光區域係形成於將光照射至上述曝光對象物中、透過上述第1透光區域之光未照射到之區域之位置。藉此，可自不同方向對相同曝光對象物之不同位置照射偏振光。
為解決上述問題，本發明之偏振光照射方法例如其特徵在於，一面將載置有曝光對象物之載台沿搬送方向予以搬送，一面自相對於與上述載台之上表面大致正交之方向傾斜大致50度至大致70度之方向出射光。
為解決上述問題，本發明之偏振光照射方法例如其特徵在於，將載置有曝光對象物之載台沿搬送方向予以搬送，將上述載台搬送至第1位置後，一面將上述載台沿搬送方向予以搬送，一面自相對於與上述載台之上表面大致正交之方向傾斜大致50度至大致70度之方向出射光，以對上述曝光對象物之第1區域照射光，將上述載台沿上述搬送方向予以搬送而搬送至第2位置，將上述載台搬送至上述第2位置後，使上述載台旋轉大致180度，將上述載台沿上述搬送方向予以搬送而搬送至第3位置，將上述載台搬送至第3位置後，一面將上述載台沿上述搬送方向予以搬送，一面自相對於與上述載台之上表面大致正交之方向傾斜大致50度至大致70度之方向出射光，對上述曝光對象物之與上述第1區域不同之第2區域照射光。 [發明之效果]
根據本發明，可藉由光配向處理生成液晶分子之預傾角小之配向膜。
以下，參照圖式詳細說明本發明之實施形態。 ＜第1實施形態＞ 圖1係表示第1實施形態之偏振光照射裝置1之概略之立體圖。偏振光照射裝置1例如係如下所述之裝置，即，將通過偏振元件而發生了偏振之光（以下稱作偏振光）照射至作為曝光對象物之基板W（例如玻璃基板）之被曝光面而進行光配向處理，生成液晶面板等配向膜。基板W例如係於表面形成有配向材料膜之玻璃基板。又，所謂光配向處理，係指如下所述之處理，即，將直線偏振紫外線照射至高分子膜上，引起膜內分子之再排列或各向異性之化學反應，藉此使膜具備各向異性。
以下，將基板W之搬送方向（即，掃描方向）F稱作x方向、與搬送方向F正交之方向稱作y方向、鉛垂方向稱作z方向。
偏振光照射裝置1主要具備搬送基板W之搬送部10、出射曝光用光之光照射部20及遮罩單元30。
搬送部10主要具有載台11、驅動載台之驅動部12（參照圖4）、及對載台11之位置進行測定之位置檢測部13（參照圖4）。
載台11於上表面11a上載置基板W。本實施形態中，3片基板W（基板W為包含基板W1、W2、W3之概念）呈交錯配置。
驅動部12具有使載台11沿水平方向移動之水平驅動部12a（參照圖4）、及使載台11旋轉之旋轉驅動部12b（參照圖4）。水平驅動部12a具有未圖示之致動器及驅動機構，使載台11沿搬送方向F移動。旋轉驅動部12b具有未圖示之致動器及驅動機構，使載台11旋轉大致180°。載台11藉由旋轉驅動部12b，於光照射部21（後文詳述）與光照射部22（後文詳述）之間旋轉大致180°。
位置檢測部13例如為感測器或攝影機。於載台11沿搬送方向F移動時，藉由位置檢測部13檢測載台11之位置。
光照射部20對基板W照射光。光照射部20主要具有沿x方向而設之2個光照射部21、22。
圖2係表示偏振光照射裝置1之概略之正面圖，係將一部分放大之圖。於圖2中，透視光照射部21之主要部分。光照射部21與光照射部22為相同結構，因此省略關於光照射部22之說明。
光照射部21主要具有光源211、鏡212、213、複眼透鏡214、聚光透鏡215及偏振分光鏡（Polarizing Beam Splitter，PBS）216。
光源211主要具有燈211a、及設於燈211a之背面側之反射鏡211b。燈211a例如為汞燈，出射尚未偏振之光（例如紫外光）。再者，對於燈211a，亦可使用氙燈、準分子燈、紫外光LED等。反射鏡211b例如為橢圓反射鏡，使燈211a之光反射向前方。
自燈211a照射之光被反射鏡211b反射，並由鏡212、213改變方向而被導向複眼透鏡214。圖2中之二點鏈線表示光之路徑，箭頭表示光之行進方向。
複眼透鏡214係由複數個小透鏡呈交錯配置而成之透鏡，使照射面成為均勻之照度分佈。
聚光透鏡215係將複數個透鏡組合而構成者，係用於使光聚光之透鏡。通過複眼透鏡214之光經聚光透鏡215聚光而被導向PBS216。
PBS216係將入射光分離為S偏振光與P偏振光之光學元件，使S偏振光反射（參照圖2之虛線箭頭），而使P偏振光透過。
光照射部21係自相對於與載台11之上表面11a大致正交之方向（z方向）傾斜大致50度至大致70度之方向對基板W照射偏振光。換言之，以P偏振光之入射角（光之中心Ax與沿著z方向之線H所成之角度）θ1成為大致50度至大致70度之方式，而設置光照射部21（尤其是鏡213、複眼透鏡214、聚光透鏡215、PBS216）。關於入射角θ1，將於後文詳述。
遮罩單元30分別設於自光照射部21、22向基板W照射之偏振光之光路上。當自光照射部21、22向基板W照射偏振光時，遮罩單元30與上表面11a鄰接。
遮罩單元30主要具有遮罩32及遮罩保持部35。遮罩32係大致板狀之構件，且俯視呈大致矩形形狀。遮罩32藉由遮罩保持部35而與上表面11a大致平行地受到保持。又，遮罩32藉由遮罩保持部35而沿x方向、y方向、z方向、θ方向分別受到驅動。
圖3係說明於遮罩32上形成之透光區域之圖，係俯視遮罩32時之概略圖。遮罩32具有沿著x方向之帶狀之透光區域32a、及沿著x方向之帶狀之遮光區域32b。透光區域32a及遮光區域32b之寬度為畫素區域100（參照圖11等）之寬度之一半。透光區域32a與遮光區域32b係沿著與x方向大致正交之方向（y方向）而交替地設置。透過PBS216之P偏振光透過透光區域32a而照射至基板W。
圖4係表示偏振光照射裝置1之電性結構之方塊圖。偏振光照射裝置1主要包含控制部101、記憶部102、輸入部103、輸出部104而構成。
控制部101係作為運算裝置之CPU（Central Processing Unit）等程式控制元件，依照保存於記憶部102中之程式進行動作。本實施形態中，控制部101係作為對燈211a之點亮或熄滅進行控制之光源控制部101a、控制驅動部12以使載台11移動或旋轉之驅動控制部101b、獲取位置檢測部13中之測定結果而求出載台11或載置於載台11之基板W之位置之位置確定部101c等發揮功能。再者，載台11之移動及定位係業已公知之技術，因此省略說明。關於控制部101之詳細動作之內容，將於後文詳述。
記憶部102為揮發性記憶體、非揮發性記憶體等，保持由控制部101所執行之程式等，並且作為控制部101之工作記憶體進行動作。
輸入部103包含鍵盤或滑鼠等輸入設備。輸出部104為顯示器等。
繼而，對於如此般構成之偏振光照射裝置1之動作，使用圖1進行說明。驅動控制部101b經由水平驅動部12a而使載台11沿搬送方向F（+x方向）移動。於上表面11a上，於搬送方向F之下游側（+x側）配置有基板W1，於搬送方向F之上游（-x側）側配置有基板W2、W3。
當藉由位置確定部101c求出基板W1已來到來自光照射部21之P偏振光所照射之區域（光照射區域EA1）時，光源控制部101a使光照射部21之燈211a點亮。於此狀態下，驅動控制部101b使載台11沿搬送方向F移動。藉此，自光照射部21照射之光被連續照射至基板W。來自光照射部21之P偏振光中的透過透光區域32a之光首先照射至基板W1，隨後照射至基板W2、W3。
圖5係示意性地表示於光照射區域EA1中，基板W1、W2、W3中之被照射偏振光之位置之圖。於圖5中，為進行說明，將遮罩32（透光區域32a、遮光區域32b）及光照射區域EA1與基板W1、W2、W3並列顯示。又，圖5中之粗箭頭係示意性地表示偏振光之照射。
通過透光區域32a之偏振光被照射至基板W1、W2、W3中之區域I（圖5中以上對角線標註影線）。區域I係沿著搬送方向F之帶狀區域。
返回圖1之說明。當藉由位置確定部101c求出基板W2、W3已通過光照射區域EA1時，光源控制部101a使光照射部21之燈211a熄滅。於此狀態下，驅動控制部101b使載台11沿搬送方向F移動。
當藉由位置確定部101c求出載台11之位置位於光照射部21與光照射部22之間時，驅動控制部101b經由旋轉驅動部12b而使載台11旋轉大致180度（參照圖1之箭頭R）。藉此，於上表面11a上，於+x側配置有基板W2、W3，於-x側配置有基板W1。
於載台11之旋轉後，驅動控制部101b使載台11沿搬送方向F移動。當藉由位置確定部101c求出基板W2、W3已來到來自光照射部22之P偏振光所照射之區域（光照射區域EA2）時，光源控制部101a使光照射部22之燈211a點亮。於此狀態下，驅動控制部101b使載台11沿搬送方向F移動。藉此，自光照射部22照射之光被連續照射至基板W。來自光照射部22之P偏振光中的透過透光區域32a之光首先照射至基板W2、W3，隨後照射至基板W1。
圖6係說明於光照射區域EA2中，基板W1、W2、W3中之被照射偏振光之位置之圖。於圖6中，為進行說明，將遮罩32（透光區域32a、遮光區域32b）及光照射區域EA2與基板W1、W2、W3並列顯示。又，圖6中之粗箭頭係示意性地表示偏振光之照射。
通過透光區域32a之偏振光被照射至基板W1、W2、W3中之區域II（圖6中以下對角線標註影線）。區域II係沿著搬送方向F之帶狀區域。區域I與區域II係沿y方向交替地形成。形成區域I與區域II後，控制部101結束一連串處理。
此處，詳細說明將透過PBS216之P偏振光之入射角θ1設為大致50度至大致70度之情況。
於畫素區域100（參照圖11等）中產生之沿著邊緣部之暗線隨著預傾角（液晶分子相對於基板W表面之平均傾斜角）變小而變細。於藉由光配向處理來使配向膜中規定液晶分子之預傾方向之情形時，隨著入射角θ1變大，預傾角將變小。因此，理想的是，入射角θ1儘可能大。
然而，若使入射角θ1過大，則P偏振光之反射率將變大。若反射率變大，則即使將P偏振光照射至基板W，光亦難以被基板W吸收。
根據以上，理想的是，入射角θ1於反射率低之範圍內儘可能大。
圖7係表示P偏振光之反射率與入射角θ1之關係之圖表。於圖7中，光自空氣進入基板W時之折射率設為1.7。
於折射率為1.7時，於空氣與基板W之界面處，P偏振光之反射率大致為0之入射角（布魯斯特角）是大致59.5度。因此，儘可能大且滿足反射率低之條件之入射角θ1為大致50度至大致70度（參照圖7之影線部）。大致50度至大致70度係以布魯斯特角即大致60度為中心，且反射率為入射角θ1是大致40度（普遍之入射角θ1）時之反射率以下之範圍。
圖8係表示布魯斯特角與折射率之關係之圖表。若折射率變大，則布魯斯特角亦會變大，但於折射率1.7之附近，布魯斯特角之變化平緩。因此，於折射率1.6～1.8左右，可與圖7所示之折射率1.7之情形大致同樣地考慮。
根據本實施形態，藉由將入射角θ1設為大致50度至大致70度，從而可藉由光配向處理生成液晶分子之預傾角小之配向膜。
又，根據本實施形態，於一次處理中進行二次偏振光照射，於二次偏振光照射之間使載台11旋轉大致180度，藉此，可自各不相同之方向對相同基板之不同位置照射偏振光。
再者，本實施形態中，係將入射角θ1設為大致50度至大致70度，但反射率亦可設為更低之範圍即大致53度至大致65度（折射率為1.7時，反射率為0.01以下之範圍）。
又，本實施形態中，係藉由將入射角θ1設為大致50度至大致70度而減小液晶分子之預傾角，但增加照射至基板W之光之累積光量，亦可減小液晶分子之預傾角。因此，將入射角θ1設為大致50度至大致70度，進而藉由延長燈211a之輸出、延長曝光時間（減慢載台11之搬送速度）等而增加累積光量，對於減小液晶分子之預傾角亦有效。
又，本實施形態中，於基板W上形成之區域I、II為鄰接，但區域I、II亦可不鄰接。例如，於區域I與區域II之間亦可存在間隙。又，本實施形態中，自光照射部21、22各自出射之偏振光均通過遮罩32上形成之透光區域32a，但根據區域I、II之形態，自光照射部21出射之偏振光所通過之於遮罩上形成之透光區域之位置、與自光照射部22出射之偏振光所通過之於遮罩上形成之透光區域之位置亦可不同。
＜第2實施形態＞ 第1實施形態係藉由使載台11旋轉地進行曝光，而於基板W上形成預傾方向不同之區域I、II，但於基板W上形成區域I、II之方法並不限於此。
第2實施形態係不使載台11旋轉，而於基板W上大致同時地形成區域I、II之形態。以下，對第2實施形態之偏振光照射裝置2進行說明。再者，對於與第1實施形態之偏振光照射裝置1相同之部分，標註相同之符號並省略說明。
圖9係表示第2實施形態之偏振光照射裝置2之概略之正面圖。偏振光照射裝置2主要具備搬送基板W之搬送部10A、出射曝光用光之光照射部20A及遮罩單元30A。
搬送部10A主要具有載台11、使載台11沿水平方向移動之水平驅動部12a（參照圖4）、及對載台11之位置進行測定之位置檢測部13（參照圖4）。
光照射部20A係用於對基板W照射光者，具有2個光照射部21、23。光照射部23為與光照射部21相同之結構，以與光照射部21相向之方式而設。
透過光照射部21之PBS216之P偏振光之入射角θ1為大致50度至大致70度。透過光照射部23之PBS216之P偏振光之入射角θ2亦為大致50度至大致70度。入射角θ1與入射角θ2相對於包含線H且與x方向大致正交之面而為面對稱。
遮罩單元30A係設於自光照射部21、23向基板W照射之光之光路上。當自光照射部21、23向基板W照射偏振光時，遮罩單元30A與上表面11a鄰接。
遮罩單元30A主要具有遮罩33及遮罩保持部35。遮罩33係俯視為大致矩形形狀之大致板狀之構件。遮罩33藉由遮罩保持部35而與上表面11a大致平行地受到保持。又，遮罩33藉由遮罩保持部35而沿x方向、y方向、z方向、θ方向分別受到驅動。
圖10係說明於遮罩33上形成之透光區域之圖。遮罩33具有沿著x方向之帶狀之透光區域33a、33b。
透光區域33a、33b分別沿y方向而設有複數個。又，透光區域33a與透光區域33b係以x方向之位置及y方向之位置不重合之方式而呈交錯配置。
繼而，對於如此般構成之偏振光照射裝置2之動作，使用圖9進行說明。驅動控制部101b經由水平驅動部12a而使載台11沿搬送方向F（+x方向）移動。當藉由位置確定部101c求出基板W1已來到來自光照射部21、23之P偏振光所照射之區域（光照射區域EA3）時，光源控制部101a使光照射部21、23之燈211a點亮。於此狀態下，驅動控制部101b使載台11沿搬送方向F移動。藉此，自光照射部21、23照射之光被連續照射至基板W。
來自光照射部21之P偏振光中的透過透光區域33a之光、及來自光照射部23之P偏振光中的透過透光區域33b之光首先照射至基板W1，隨後照射至基板W2、W3。
通過透光區域33a之偏振光所照射之區域（區域III，省略圖示）及通過透光區域33b之偏振光所照射之區域（區域IV，省略圖示）係沿著搬送方向F之帶狀區域。區域III相當於區域I，區域IV相當於區域II。區域III與區域IV係沿著y方向而交替地，且以彼此鄰接之方式而形成。
當藉由位置確定部101c求出基板W2、W3已通過光照射區域EA3時，光源控制部101a使光照射部21、23之燈211a熄滅。於此狀態下，驅動控制部101b使載台11沿搬送方向F移動。隨後，控制部101結束一連串處理。
根據本實施形態，可於一次曝光處理中自不同之方向照射偏振光。因此，可於一次曝光處理中同時形成區域III與區域IV。又，入射角θ1、θ2為大致50度至大致70度，因此可藉由光配向處理而生成液晶分子之預傾角小之配向膜。
以上，參照圖式詳述了本發明之實施形態，但具體之結構並不限定於此實施形態，亦包含不脫離本發明之主旨之範圍之設計變更等。
又，於本發明中，所謂「大致」，其概念不僅包含嚴格相同之情形，亦包含不失同一性之程度之誤差或變形。例如，所謂大致平行、大致正交，並不限於嚴格平行、正交之情形。又，例如於單純地表達為平行、正交等之情形時，不僅包含嚴格平行、正交等之情形，亦包含大致平行、大致正交等之情形。又，於本發明中，所謂「附近」，例如於A之附近時，其概念表示A之近處且包含或不包含A皆可。
1、2‧‧‧偏振光照射裝置
10、10A‧‧‧搬送部
11‧‧‧載台
11a‧‧‧上表面
12‧‧‧驅動部
12a‧‧‧水平驅動部
12b‧‧‧旋轉驅動部
13‧‧‧位置檢測部
20、20A‧‧‧光照射部
21、22、23‧‧‧光照射部
30、30A‧‧‧遮罩單元
32、33‧‧‧遮罩
32a、33a、33b‧‧‧透光區域
32b‧‧‧遮光區域
35‧‧‧遮罩保持部
100‧‧‧畫素區域
101‧‧‧控制部
101a‧‧‧光源控制部
101b‧‧‧驅動控制部
101c‧‧‧位置確定部
102‧‧‧記憶部
103‧‧‧輸入部
104‧‧‧輸出部
211‧‧‧光源
211a‧‧‧燈
211b‧‧‧反射鏡
212、213‧‧‧鏡
214‧‧‧複眼透鏡
215‧‧‧聚光透鏡
216‧‧‧PBS
Ax‧‧‧光之中心
EA1‧‧‧光照射區域
F‧‧‧搬送方向
H‧‧‧線
W‧‧‧基板
θ1‧‧‧入射角
圖1係表示第1實施形態之偏振光照射裝置1之概略之立體圖。 圖2係表示偏振光照射裝置1之概略之正面圖，係部分之放大圖。 圖3係說明於遮罩32上形成之透光區域之圖，係俯視遮罩32時之概略圖。 圖4係表示偏振光照射裝置1之電性結構之方塊圖。 圖5係示意性地表示於光照射區域EA1中，基板W1、W2、W3中之被照射偏振光之位置之圖。 圖6係說明於光照射區域EA2中，基板W1、W2、W3中之被照射偏振光之位置之圖。 圖7係表示P偏振光之反射率與入射角θ1之關係之圖表。 圖8係表示布魯斯特角與折射率之關係之圖表。 圖9係表示第2實施形態之偏振光照射裝置2之概略之正面圖。 圖10係說明於遮罩33上形成之透光區域之圖。 圖11係表示專利文獻1中揭示之使用垂直配向型液晶層之液晶顯示裝置（VA模式液晶顯示裝置）之畫素區域之例之圖。 圖12係說明畫素區域100之分割方法之圖，（A）表示TFT基板100a之配向膜之預傾方向，（B）表示彩色濾光片基板100b之預傾方向。

Claims (4)

  1. 一種偏振光照射裝置，其特徵在於具備： 光源，其出射偏振光； 遮罩，其形成有使自上述光源出射之偏振光透過之透光區域；以及 載台，其載置透過上述透光區域之偏振光所照射之曝光對象物， 上述光源係自相對於與上述載台之上表面大致正交之方向傾斜大致50度至大致70度之方向對上述曝光對象物照射偏振光。
  2. 如申請專利範圍第1項之偏振光照射裝置，其具備： 驅動部，其使上述載台沿搬送方向移動，且使上述載台旋轉大致180度， 上述光源具有沿上述搬送方向而設之第1光源與第2光源， 上述驅動部使上述載台於上述第1光源與上述第2光源之間旋轉大致180度， 上述遮罩具有：第1遮罩，其形成有供自上述第1光源出射之曝光用光透過之第1透光區域；以及第2遮罩，其形成有供自上述第2光源出射之曝光用光透過之第2透光區域， 上述第2透光區域係形成於將光照射至上述曝光對象物中、透過上述第1透光區域之光未照射到之區域之位置。
  3. 一種偏振光照射方法，其特徵在於： 一面將載置有曝光對象物之載台沿搬送方向予以搬送，一面自相對於與上述載台之上表面大致正交之方向傾斜大致50度至大致70度之方向出射光。
  4. 一種偏振光照射方法，其特徵在於： 將載置有曝光對象物之載台沿搬送方向予以搬送， 將上述載台搬送至第1位置後，一面將上述載台沿搬送方向予以搬送，一面自相對於與上述載台之上表面大致正交之方向傾斜大致50度至大致70度之方向出射光，以對上述曝光對象物之第1區域照射光， 將上述載台沿上述搬送方向予以搬送而搬送至第2位置， 將上述載台搬送至上述第2位置後，使上述載台旋轉大致180度， 將上述載台沿上述搬送方向予以搬送而搬送至第3位置， 將上述載台搬送至第3位置後，一面將上述載台沿上述搬送方向予以搬送，一面自相對於與上述載台之上表面大致正交之方向傾斜大致50度至大致70度之方向出射光，對上述曝光對象物之與上述第1區域不同之第2區域照射光。
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