TW201825626A - 有機el顯示裝置用黏著劑組合物、有機el顯示裝置用黏著劑層、附有機el顯示裝置用黏著劑層之偏光膜及有機el顯示裝置 - Google Patents

Abstract

本發明之目的在於提供一種彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物，藉由將其用於能夠彎折之有機EL顯示裝置，可抑制有機EL元件之劣化，且於彎折(彎曲)時不產生斷裂或剝離、折斷等而耐彎曲性優異，進而抑制黏著劑層中之紫外線吸收劑等之滲出得到抑制，而可形成耐污染性優異之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層。又，本發明之目的在於提供一種由上述黏著劑組合物形成之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層、具有偏光膜及彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜、包含上述黏著劑層或上述附黏著劑層之偏光膜之彎折型有機EL顯示裝置。 本發明之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物之特徵在於：其係包含含有單官能性單體作為單體成分之基礎聚合物、紫外線吸收劑及吸收光譜之最大吸收波長存在於380～430 nm之波長區域之色素化合物者，並且相對於上述單官能性單體100重量份，含有合計量為0.1～15重量份之上述紫外線吸收劑與上述色素化合物。

Description

有機EL顯示裝置用黏著劑組合物、有機EL顯示裝置用黏著劑層、附有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜及有機EL顯示裝置

本發明係關於一種彎折型(可撓性)有機EL(electroluminescence，電致發光)顯示裝置(OLED)用黏著劑組合物。又，本發明係關於一種由上述彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物形成之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層、具有該黏著劑層之附黏著劑層之偏光膜。進而，本發明係關於一種使用上述黏著劑層或上述附黏著劑層之偏光膜之彎折型有機EL顯示裝置。

近年來，搭載有有機EL面板之有機EL顯示裝置於行動電話、汽車導航裝置、電腦用監視器、電視等各種用途中被廣泛使用。有機EL顯示裝置中，通常為了抑制外界光於金屬電極(陰極)發生反射而視認如鏡面，於有機EL面板之視認側表面配置圓偏光板(偏光板與1/4波長板之積層體等)。又，有於積層於有機EL面板之視認側表面之圓偏光板進而積層加飾面板等之情形。上述圓偏光板或加飾面板等有機EL顯示裝置之構成構件通常經由黏著劑層或接著劑層等接合材料而積層。 已知有機EL顯示裝置等圖像顯示裝置中，有因入射之紫外光而導致圖像顯示裝置內之構成構件等劣化之情形，為了抑制因該紫外光所致之劣化，設置含有紫外線吸收劑之層。具體而言，例如已知有：具有至少1層之紫外線吸收層，波長380 nm之光線透過率為30%以下，且較波長430 nm更長波長側之可見光透過率為80%以上之圖像顯示裝置用透明兩面黏著片(例如，參照專利文獻1)；或者具有含有丙烯酸系聚合物及三系紫外線吸收劑之黏著劑層之黏著片(例如，參照專利文獻2)。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本專利特開2012-211305號公報 [專利文獻2]日本專利特開2013-75978號公報

[發明所欲解決之問題] 專利文獻1、2中所記載之黏著片可控制波長380 nm之光之透過率，但於將該黏著片用於有機EL顯示裝置之情形時，有因長時間使用而導致有機EL元件劣化之情形，故而並不充分。可認為其原因在於，專利文獻1、2中所記載之黏著片雖可吸收波長380 nm之光，但無法充分吸收較有機EL元件之發光區域(較430 nm更長波長側)更短波長側之波長區域(380 nm～430 nm)之光，從而因該透過光而產生劣化。 因此，為了抑制有機EL元件之劣化，需將以下層用於有機EL顯示裝置，該層可抑制較有機EL元件之發光區域(較430 nm更長波長側)更短波長側之波長(380 nm～430 nm)之光之透過，從而充分地確保上述有機EL元件之發光區域之可見光之透過率，且具有較高之透明性。 又，近年來，有機EL顯示裝置等中，亦要求能夠彎折之有機EL顯示裝置等，並且為了彎折(彎曲)，輕量化、薄型化之要求較強，對於液晶顯示裝置等中所使用之偏光膜，亦期待實現薄型化、輕量化。 但是，隨著偏光膜等光學膜之薄型化，若將黏著劑層中所含之紫外線吸收劑等大量使用，則膜之塑化性降低，將有機EL顯示裝置等彎折(彎曲)時，紫外線吸收劑等添加劑容易移動而滲出，或者黏著劑層本身變硬，有機EL顯示裝置等不易彎曲，容易產生斷裂或剝離、折斷等。 因此，本發明之目的在於提供一種彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物，藉由將其用於能夠彎折之有機EL顯示裝置，可抑制有機EL元件之劣化，且於彎折(彎曲)時不產生斷裂或剝離、折斷等而耐彎曲性優異，進而抑制黏著劑層中之紫外線吸收劑等之滲出得到抑制，而可形成耐污染性優異之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層。又，本發明之目的在於提供一種由上述黏著劑組合物形成之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層、具有偏光膜及彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜、包含上述黏著劑層或上述附黏著劑層之偏光膜之彎折型有機EL顯示裝置。 [解決問題之技術手段] 本發明者等人為了解決上述課題而反覆進行努力研究，結果發現下述彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物，從而完成本發明。 即，本發明之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物之特徵在於：其係包含含有單官能性單體作為單體成分之基礎聚合物、紫外線吸收劑及吸收光譜之最大吸收波長存在於380～430 nm之波長區域之色素化合物者，並且相對於上述單官能性單體100重量份，含有合計量為0.1～15重量份之上述紫外線吸收劑與上述色素化合物。 本發明之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物較佳為上述基礎聚合物為(甲基)丙烯酸系聚合物。 本發明之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物較佳為含有離子性化合物。 本發明之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物較佳為含有過氧化物系交聯劑。 本發明之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層較佳為由上述彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物形成。 本發明之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層較佳為表面電阻值為1×10¹² Ω/□以下。 本發明之附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜較佳為具有偏光膜及上述彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層。 本發明之附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜較佳為於上述偏光膜與上述彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之間具有導電性層。 本發明之彎折型有機EL顯示裝置較佳為使用至少1個上述彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層、或上述附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜。 [發明之效果] 藉由將本發明之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物用於有機EL顯示裝置，可抑制有機EL元件之劣化，且於彎折(彎曲)時不產生斷裂或剝離、折斷等而耐彎曲性優異，進而抑制黏著劑層中之紫外線吸收劑等之滲出得到抑制，而可形成耐污染性優異之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層。因此，使用本發明之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層或包含彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜的彎折型有機EL顯示裝置具有優異之耐候劣化性，可實現長壽命化。

1.彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物 本發明之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物(以下，有時簡稱為「有機EL顯示裝置用黏著劑組合物」或「黏著劑組合物」)之特徵在於：其係包含含有單官能性單體作為單體成分之基礎聚合物、紫外線吸收劑及吸收光譜之最大吸收波長存在於380～430 nm之波長區域之色素化合物者，並且相對於上述單官能性單體100重量份，含有合計量為0.1～15重量份之上述紫外線吸收劑與上述色素化合物。此處，所謂最大吸收波長，意指於300～460 nm之波長區域之分光吸收光譜中，存在複數個吸收極大值之情形時，其中表示最大之吸光度之吸收極大波長。 作為本發明中所使用之基礎聚合物，並無特別限定，作為黏著劑組合物之種類，例如可列舉：橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、聚乙烯基吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。該等黏著劑中，就光學透明性優異，顯示適宜之密接性、凝聚性、及接著性之黏著特性，耐候性或耐熱性等優異之方面而言，可較佳地使用丙烯酸系黏著劑。本發明中，較佳為含有(甲基)丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物之丙烯酸系黏著劑組合物。 上述丙烯酸系黏著劑組合物例如較佳為包含含有(甲基)丙烯酸烷基酯之單體成分之部分聚合物及/或由上述單體成分獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物、紫外線吸收劑及色素化合物。 (1)單體成分之部分聚合物及(甲基)丙烯酸系聚合物 上述丙烯酸系黏著劑組合物包含含有(甲基)丙烯酸烷基酯之單體成分之部分聚合物及/或由上述單體成分獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物。 作為上述(甲基)丙烯酸烷基酯，可例示於酯末端具有直鏈狀或支鏈狀之碳數1～24之烷基者。(甲基)丙烯酸烷基酯可單獨使用1種或組合2種以上而使用。再者，「(甲基)丙烯酸烷基酯」係指丙烯酸烷基酯及/或甲基丙烯酸烷基酯，本發明之(甲基)為相同之含義。 作為上述(甲基)丙烯酸烷基酯，可列舉上述之直鏈狀或支鏈狀之碳數1～24之(甲基)丙烯酸烷基酯。該等之中，較佳為碳數1～9之(甲基)丙烯酸烷基酯，更佳為碳數4～8之(甲基)丙烯酸烷基酯，進而較佳為具有碳數4～8之支鏈之(甲基)丙烯酸烷基酯。該(甲基)丙烯酸烷基酯就容易獲得黏著特性之平衡之方面而言較佳。例如，作為碳數4～8之(甲基)丙烯酸烷基酯，具體而言，可列舉：(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸異己酯、(甲基)丙烯酸異庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯等，該等可單獨使用1種或組合2種以上而使用。 於本發明中，上述於酯末端具有直鏈狀或支鏈狀之碳數1～24之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量，較佳為40重量%以上，更佳為50重量%以上，進而較佳為60重量%以上。 上述單體成分中，可含有上述(甲基)丙烯酸烷基酯以外之共聚合單體作為單官能性單體成分。共聚合單體可用作單體成分中之上述(甲基)丙烯酸烷基酯之剩餘部分。 作為共聚合單體，例如可包含環狀含氮單體。作為上述環狀含氮單體，可無特別限制地使用具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性官能基且具有環狀氮結構者。環狀氮結構較佳為於環狀結構內具有氮原子者。作為環狀含氮單體，例如可列舉：N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基-ε-己內醯胺、甲基乙烯基吡咯啶酮等內醯胺系乙烯基單體；乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌、乙烯基吡、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基㗁唑、乙烯基嗎啉等具有含氮雜環之乙烯系單體等。又，可列舉含有嗎啉環、哌啶環、吡咯啶環、哌環等雜環之(甲基)丙烯酸單體。具體而言，可列舉：N-丙烯醯基嗎啉、N-丙烯醯基哌啶、N-甲基丙烯醯基哌啶、N-丙烯醯基吡咯啶等。上述環狀含氮單體中，較佳為內醯胺系乙烯基單體。 於本發明中，環狀含氮單體相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量，較佳為0.5～50重量%，更佳為0.5～40重量%，進而較佳為0.5～30重量%。 本發明中所使用之單體成分中，可包含含羥基之單體作為單官能性單體成分。作為含羥基之單體，可無特別限制地使用具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性官能基且具有羥基者。作為含羥基之單體，例如可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯；(甲基)丙烯酸(4-羥基甲基環己基)甲酯等環烷烴(甲基)丙烯酸羥基烷基酯。此外，可列舉：羥基乙基(甲基)丙烯醯胺、烯丙醇、2-羥基乙基乙烯基醚、4-羥基丁基乙烯基醚、二乙二醇單乙烯基醚等。該等可單獨使用或組合使用。該等之中，較佳為(甲基)丙烯酸羥基烷基酯。 於本發明中，上述含羥基之單體相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量，就提高接著力、凝聚力之方面而言，較佳為1重量%以上，更佳為2重量%以上，進而較佳為3重量%以上。另一方面，若上述含羥基之單體變得過多，則有黏著劑層變硬，接著力降低之情形，又，有黏著劑之黏度變得過高，或者凝膠化之情形，故而上述含羥基之單體相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量，較佳為30重量%以下，更佳為27重量%以下，進而較佳為25重量%以下。 又，形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分中，可含有其他含官能基之單體作為單官能性單體，例如可列舉含羧基之單體、具有環狀醚基之單體。 作為含羧基之單體，可無特別限制地使用具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性官能基且具有羧基者。作為含羧基之單體，例如可列舉：(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、丁烯酸、異丁烯酸等，該等可單獨使用或組合使用。伊康酸、順丁烯二酸可使用該等之酐。該等之中，較佳為丙烯酸、甲基丙烯酸，尤佳為丙烯酸。再者，用於製造本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分中可任意地使用含羧基之單體，另一方面，亦可不使用含羧基之單體。 作為具有環狀醚基之單體，可無特別限制地使用具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性官能基，且具有環氧基或氧雜環丁烷基等環狀醚基者。作為含環氧基之單體，例如可列舉：(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯縮水甘油醚等。作為含氧雜環丁烷基之單體，例如可列舉：(甲基)丙烯酸3-氧雜環丁基甲酯、(甲基)丙烯酸3-甲基-氧雜環丁基甲酯、(甲基)丙烯酸3-乙基-氧雜環丁基甲酯、(甲基)丙烯酸3-丁基-氧雜環丁基甲酯、(甲基)丙烯酸3-己基-氧雜環丁基甲酯等。該等可單獨使用或組合使用。 於本發明中，上述含羧基之單體、具有環狀醚基之單體相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量，較佳為30重量%以下，更佳為27重量%以下，進而較佳為25重量%以下。 形成本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分中，作為共聚合單體，例如可列舉：CH₂ =C(R¹ )COOR² (上述R¹ 表示氫或甲基，R² 表示碳數1～3之經取代之烷基、環狀之環烷基)所表示之(甲基)丙烯酸烷基酯。 此處，作為R² 之碳數1～3之經取代之烷基的取代基較佳為碳數3～8個之芳基或碳數3～8個之芳氧基。作為芳基，並無限定，較佳為苯基。 作為此種CH₂ =C(R¹ )COOR² 所表示之單體之例，可列舉：(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸3,3,5-三甲基環己酯、(甲基)丙烯酸異基酯等。該等可單獨使用或組合使用。 於本發明中，上述CH₂ =C(R¹ )COOR² 所表示之(甲基)丙烯酸酯相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量，可以50重量%以下使用，較佳為45重量%以下，更佳為40重量%以下，進而較佳為35重量%以下。 作為其他共聚合單體，亦可使用乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯；聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯等二醇系丙烯酸酯單體；(甲基)丙烯酸四氫糠酯、氟(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯或丙烯酸2-甲氧基乙酯等丙烯酸酯系單體；含醯胺基之單體、含胺基之單體、含亞胺基之單體、N-丙烯醯基嗎啉、乙烯基醚單體等。又，作為共聚合單體，可使用萜烯(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯等具有環狀結構之單體。 進而，可列舉含有矽原子之矽烷系單體等。作為矽烷系單體，例如可列舉：3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧基矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷、10-丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三乙氧基矽烷、10-丙烯醯氧基癸基三乙氧基矽烷等。 形成本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分中，除上述例示之單官能性單體以外，為了調整黏著劑之凝聚力，可視需要含有多官能性單體。 上述(甲基)丙烯酸系聚合物之製造可適宜選擇溶液聚合、紫外線(UV)聚合等放射線聚合、塊狀聚合、乳化聚合等各種自由基聚合等公知之製造方法。又，所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等任一者。 又，於本發明中，亦可較佳地使用上述單體成分之部分聚合物。 於藉由自由基聚合製造上述(甲基)丙烯酸系聚合物之情形時，可於上述單體成分中適宜添加自由基聚合所使用之聚合起始劑、鏈轉移劑、乳化劑等而進行聚合。上述自由基聚合所使用之聚合起始劑、鏈轉移劑、乳化劑等並無特別限定，可適宜選擇而使用。再者，(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量可藉由聚合起始劑、鏈轉移劑之使用量、反應條件而控制，根據該等之種類而適宜調整其使用量。 例如，溶液聚合等中，作為聚合溶劑，例如使用乙酸乙酯、甲苯等。作為具體之溶液聚合例，反應係於氮氣等惰性氣體氣流下，添加聚合起始劑，通常於50～70℃左右、5～30小時左右之反應條件下進行。 作為溶液聚合等中所使用之熱聚合起始劑，例如可列舉：2,2'-偶氮雙異丁腈、2,2'-偶氮雙-2-甲基丁腈、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙酸)二甲酯、4,4'-偶氮雙-4-氰基戊酸、偶氮雙異戊腈、2,2'-偶氮雙(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2,2'-偶氮雙(N,N'-二亞甲基異丁基脒)、2,2'-偶氮雙[N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒]水合物(VA-057，和光純藥工業(股份)製造)等偶氮系起始劑；過硫酸鉀、過硫酸銨等過硫酸鹽；過氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯、過氧化二碳酸二(4-第三丁基環己基)酯、過氧化二碳酸二第二丁酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化特戊酸第三己酯、過氧化特戊酸第三丁酯、過氧化二月桂醯、過氧化二正辛醯、過氧化2-乙基己酸1,1,3,3-四甲基丁酯、過氧化二(4-甲基苯甲醯)、過氧化二苯甲醯、過氧化異丁酸第三丁酯、1,1-二(第三己基過氧化)環己烷、氫過氧化第三丁基、過氧化氫等過氧化物系起始劑；過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉之組合、過氧化物與抗壞血酸鈉之組合等將過氧化物與還原劑組合之氧化還原系起始劑等，但並不限定於該等。 上述聚合起始劑可單獨使用，又，亦可混合使用2種以上，相對於單體成分之總量100重量份，較佳為1重量份以下左右，更佳為0.005～1重量份左右，進而較佳為0.02～0.5重量份左右。 再者，於使用2,2'-偶氮雙異丁腈作為聚合起始劑之情形時，聚合起始劑之使用量相對於單體成分之總量100重量份，較佳為0.2重量份以下左右，更佳為設為0.06～0.2重量份左右。 作為鏈轉移劑，例如可列舉：月桂基硫醇、縮水甘油基硫醇、巰基乙酸、2-巰基乙醇、硫代乙醇酸、硫代乙醇酸2-乙基己酯、2,3-二巰基-1-丙醇等。鏈轉移劑可單獨使用，又，亦可混合使用2種以上，作為整體之含量相對於單體成分之總量100重量份，為0.3重量份左右以下。 又，作為進行乳化聚合之情形時所使用之乳化劑，例如可列舉：月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、十二烷基苯磺酸鈉、聚氧乙烯烷基醚硫酸銨、聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸鈉等陰離子系乳化劑；聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段聚合物等非離子系乳化劑等。該等乳化劑可單獨使用，亦可併用2種以上。 進而，作為反應性乳化劑中導入有丙烯基、烯丙醚基等自由基聚合性官能基之乳化劑，具體而言，例如有AQUALON HS-10、HS-20、KH-10、BC-05、BC-10、BC-20(以上，均為第一工業製藥(股份)製造)、ADEKA REASOAP SE10N(ADEKA公司製造)等。乳化劑之使用量較佳為相對於單體成分之總量100重量份為5重量份以下。 於本發明中，於使用上述(甲基)丙烯酸系聚合物之情形時，通常使用重量平均分子量(Mw)為50萬～250萬之範圍者。若考慮到耐久性、尤其是耐熱性或彎曲性，則較佳為80萬～220萬，更佳為100萬～200萬。若重量平均分子量小於50萬，則交聯點變多而黏著劑之柔軟性喪失，因此就耐熱性或彎曲性之方面而言欠佳。又，若重量平均分子量大於250萬，則需要大量之稀釋溶劑以調整為用以進行塗敷之黏度，導致成本上升，故而欠佳，又，所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物之柔軟性變差，故而欠佳。再者，重量平均分子量(Mw)係指藉由GPC(凝膠滲透層析法)進行測定，並藉由聚苯乙烯換算所算出之值。 (2)紫外線吸收劑 作為上述紫外線吸收劑，並無特別限定，例如可列舉：三系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、氧基二苯甲酮系紫外線吸收劑、水楊酸酯系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑等，該等可單獨使用1種或組合2種以上而使用。該等之中，較佳為三系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑，為選自由於1分子中具有2個以下之羥基之三系紫外線吸收劑及於1分子中具有1個苯并三唑骨架之苯并三唑系紫外線吸收劑所組成之群中之至少1種紫外線吸收劑時，對用於形成丙烯酸系黏著劑組合物之單體之溶解性良好，且於波長380 nm附近之紫外線吸收能力較高，故而較佳。 作為於1分子中具有2個以下之羥基之三系紫外線吸收劑，具體而言，可列舉：2,4-雙-[{4-(4-乙基己氧基)-4-羥基}-苯基]-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三(Tinosorb S，BASF製造)、2,4-雙[2-羥基-4-丁氧基苯基]-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三(TINUVIN 460，BASF製造)、2-(4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三-2-基)-5-羥基苯基與[(C10-C16(主要為C12-C13)烷氧基)甲基]環氧乙烷之反應產物(TINUVIN400，BASF製造)、2-[4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三-2-基]-5-[3-(十二烷氧基)-2-羥基丙氧基]苯酚)、2-(2,4-二羥基苯基)-4,6-雙-(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三與(2-乙基己基)-縮水甘油酸酯之反應產物(TINUVIN405，BASF製造)、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三-2-基)-5-[(己基)氧基]-苯酚(TINUVIN1577，BASF製造)、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三-2-基)-5-[2-(2-乙基己醯氧基)乙氧基]-苯酚(ADK STAB LA46，ADEKA製造)、2-(2-羥基-4-[1-辛氧基羰基乙氧基]苯基)-4,6-雙(4-苯基苯基)-1,3,5-三(TINUVIN479，BASF公司製造)等。 又，作為於1分子中具有1個苯并三唑骨架之苯并三唑系紫外線吸收劑，可列舉：2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-(1-甲基-1-苯基乙基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚(TINUVIN 928，BASF製造)、2-(2-羥基-5-第三丁基苯基)-2H-苯并三唑(TINUVIN PS，BASF製造)、苯丙酸及3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-(1,1-二甲基乙基)-4-羥基(C7-9側鏈及直鏈烷基)之酯化合物(TINUVIN384-2，BASF製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)苯酚(TINUVIN900，BASF製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-(1-甲基-1-苯基乙基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚(TINUVIN928，BASF製造)、3-(3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸甲酯/聚乙二醇300之反應產物(TINUVIN1130，BASF製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)對甲酚(TINUVIN P，BASF製造)、2(2H-苯并三唑-2-基)-4-6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)苯酚(TINUVIN234，BASF製造)、2-[5-氯(2H)-苯并三唑-2-基]-4-甲基-6-(第三丁基)苯酚(TINUVIN326，BASF製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-二第三戊基苯酚(TINUVIN328，BASF製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚(TINUVIN329，BASF製造)、3-(3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸甲酯與聚乙二醇300之反應產物(TINUVIN213，BASF製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-十二烷基-4-甲基苯酚(TINUVIN571，BASF製造)、2-[2-羥基-3-(3,4,5,6-四氫鄰苯二甲醯亞胺-甲基)-5-甲基苯基]苯并三唑(Sumisorb250，住友化學工業(股份)製造)等。 又，作為上述二苯甲酮系紫外線吸收劑(二苯甲酮系化合物)、氧基二苯甲酮系紫外線吸收劑(氧基二苯甲酮系化合物)，例如可列舉：2,4-二羥基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮-5-磺酸(酐及三水合物)、2-羥基-4-辛氧基二苯甲酮、4-十二烷氧基-2-羥基二苯甲酮、4-苄氧基-2-羥基二苯甲酮、2,2',4,4'-四羥基二苯甲酮、2,2'-二羥基-4,4-二甲氧基二苯甲酮等。 又，作為上述水楊酸酯系紫外線吸收劑(水楊酸酯系化合物)，例如可列舉：2-丙烯醯氧基苯甲酸苯酯、2-丙烯醯氧基-3-甲基苯甲酸苯酯、2-丙烯醯氧基-4-甲基苯甲酸苯酯、2-丙烯醯氧基-5-甲基苯甲酸苯酯、2-丙烯醯氧基-3-甲氧基苯甲酸苯酯、2-羥基苯甲酸苯酯、2-羥基-3-甲基苯甲酸苯酯、2-羥基-4-甲基苯甲酸苯酯、2-羥基-5-甲基苯甲酸苯酯、2-羥基-3-甲氧基苯甲酸苯酯、3,5-二第三丁基-4-羥基苯甲酸2,4-二第三丁基苯酯(TINUVIN120，BASF製造)等。 作為上述氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑(氰基丙烯酸酯系化合物)，例如可列舉：2-氰基丙烯酸烷基酯、2-氰基丙烯酸環烷基酯、2-氰基丙烯酸烷氧基烷基酯、2-氰基丙烯酸烯基酯、2-氰基丙烯酸炔基酯等。 上述紫外線吸收劑之吸收光譜之最大吸收波長較佳為存在於300～400 nm之波長區域，更佳為存在於320～380 nm之波長區域。最大吸收波長之測定方法與下述之色素系化合物之測定方法相同。 上述紫外線吸收劑可單獨使用，又，亦可混合使用2種以上。再者，作為上述紫外線吸收劑之調配量，相對於上述單官能性單體100重量份，較佳為0.09～5重量份，更佳為0.5～3重量份。 (3)色素化合物 作為本發明中所使用之色素化合物，只要為吸收光譜之最大吸收波長存在於380～430 nm之波長區域之化合物即可，並無特別限定。色素化合物之吸收光譜之最大吸收波長更佳為存在於380～420 nm之波長區域。本發明中，藉由將此種色素化合物與上述紫外線吸收劑組合使用，可充分地吸收不影響有機EL元件之發光之區域(波長380 nm～430 nm)之光，且有機EL元件之發光區域(較430 nm更長波長側)可充分地透過，其結果為，可抑制有機EL元件因外界光所致之劣化。 又，上述色素化合物之半寬值並無特別限定，較佳為80 nm以下，更佳為5～70 nm，進而較佳為10～60 nm。藉由色素化合物之半寬值為上述範圍，能夠控制充分地吸收不影響有機EL元件之發光之區域之光，並且較430 nm更長波長側之光充分地透過，故而較佳。再者，半寬值之測定方法係利用以下所記載之方法。 ＜半寬值之測定方法＞ 色素化合物之半寬值係使用紫外可見分光光度計(U-4100，Hitachi High-Tech Science(股份)製造)，於以下之條件下根據色素化合物之溶液之透過吸光光譜測定。根據以最大吸收波長之吸光度成為1.0之方式調整濃度而測定之分光光譜，將成為峰值之50%的2點間之波長之間隔(半峰全幅值)設為該色素化合物之半寬值。 (測定條件) 溶劑：甲苯或氯仿 測定池：石英池 光程長度：10 mm 作為上述色素化合物，只要為吸收光譜之最大吸收波長存在於380～430 nm之波長區域之化合物即可，其結構等並無特別限定。作為上述色素化合物，例如可列舉有機系色素化合物或無機系色素化合物，該等之中，就維持基礎聚合物等於樹脂成分中之分散性及透明性之觀點而言，較佳為有機系色素化合物。 作為上述有機系色素化合物，可列舉：次甲基偶氮系化合物、吲哚系化合物、桂皮酸系化合物、嘧啶系化合物、卟啉系化合物等。 作為上述有機色素化合物，可較佳地使用市售者，具體而言，作為上述吲哚系化合物，可列舉：BONASORB UA3911(商品名，吸收光譜之最大吸收波長：398 nm，半寬值：48 nm，Orient Chemical Industries(股份)製造)、BONASORB UA3912(商品名，吸收光譜之最大吸收波長：386 nm，半寬值：53 nm，Orient Chemical Industries(股份)製造)；作為桂皮酸系化合物，可列舉：SOM-5-0106(商品名，吸收光譜之最大吸收波長：416 nm，半寬值：50 nm，Orient Chemical Industries(股份)製造)；作為嘧啶系化合物，可列舉：FDB-009(商品名，吸收光譜之最大吸收波長：394 nm，半寬值：43 nm，山田化學工業(股份)製造)；作為卟啉系化合物，可列舉：FDB-001(商品名，吸收光譜之最大吸收波長：420 nm，半寬值：14 nm，山田化學工業(股份)製造)等。 上述色素化合物可單獨使用，又，亦可混合使用2種以上。再者，作為上述色素化合物之調配量，相對於上述單官能性單體100重量份，較佳為0.01～10重量份，更佳為0.02～5重量份。 又，上述紫外線吸收劑與上述色素化合物以合計量計相對於上述單官能性單體100重量份含有0.1～15重量份，較佳為1～15重量份，更佳為2～14重量份，進而較佳為3～13重量份。藉由設為上述範圍，可充分地發揮黏著劑層之紫外線吸收功能，於進行紫外線聚合之情形時，不會妨礙該聚合，故而較佳。又，可充分地吸收不影響有機EL元件之發光之區域之光，藉由使用由該黏著劑組合物形成之黏著劑層，可抑制有機EL顯示元件之劣化，故而較佳。進而，藉由設為上述範圍內，於彎折(彎曲)時，可抑制紫外線吸收劑等之滲出而耐污染性優異，黏著劑層本身亦不變硬，能夠容易地彎折，耐彎曲性亦優異，故而較佳。再者，若超過15重量份，則尤其於濕熱試驗下進行彎曲試驗之情形時，紫外線吸收劑等容易滲出，容易招致色調之降低。 (4)矽烷偶合劑 進而，本發明之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物中，可含有矽烷偶合劑。矽烷偶合劑之調配量相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分100重量份，較佳為1重量份以下，更佳為0.01～1重量份，進而較佳為0.02～0.6重量份。 作為上述矽烷偶合劑，例如可列舉：3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷偶合劑；3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-三乙氧基矽烷基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙基胺、N-苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷等含胺基之矽烷偶合劑；3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷等含(甲基)丙烯醯基之矽烷偶合劑；3-異氰酸酯基丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸酯基之矽烷偶合劑等。 (5)交聯劑 本發明之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物可含有交聯劑。作為交聯劑，可使用有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。作為有機系交聯劑，可列舉：異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螯合物係多價金屬與有機化合物共價鍵結或配位鍵結而成者。作為多價金屬原子，可列舉：Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。作為共價鍵結或配位鍵結之有機化合物中之原子，可列舉氧原子等，作為有機化合物，可列舉：烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。該等之中，可較佳地使用異氰酸酯系交聯劑及/或過氧化物系交聯劑。異氰酸酯系交聯劑就耐久性之方面而言較佳，過氧化物系交聯劑就交聯速度或彎曲性之方面而言較佳。 上述交聯劑之調配量例如相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，較佳為0.01～5重量份，更佳為0.03～2重量份。若為上述範圍內，則耐彎曲性優異，成為較佳之態樣。 (6)離子性化合物 本發明之黏著劑組合物可含有離子性化合物。藉由使用離子性化合物，可賦予優異之抗靜電性。尤其可將黏著劑層表面之表面電阻值抑制為較低，故而有利。再者，作為離子性化合物，可較佳地使用鹼金屬鹽及/或有機陽離子-陰離子鹽。鹼金屬鹽可使用鹼金屬之有機鹽及無機鹽。再者，本發明中所謂之「有機陽離子-陰離子鹽」係表示其陽離子部由有機物構成之有機鹽，陰離子部可為有機物，亦可為無機物。「有機陽離子-陰離子鹽」亦可稱為離子性液體、離子性固體。 ＜鹼金屬鹽＞ 作為構成鹼金屬鹽之陽離子部之鹼金屬離子，可列舉：鋰、鈉、鉀之各離子。該等鹼金屬離子中，較佳為鋰離子。 鹼金屬鹽之陰離子部可由有機物構成，亦可由無機物構成。作為構成有機鹽之陰離子部，例如可使用CH₃ COO^- 、CF₃ COO^- 、CH₃ SO₃ ^- 、CF₃ SO₃ ^- 、(CF₃ SO₂ )₃ C^- 、C₄ F₉ SO₃ ^- 、C₃ F₇ COO^- 、(CF₃ SO₂ )(CF₃ CO)N^- 、^- O₃ S(CF₂ )₃ SO₃ ^- 、PF₆ ^- 、CO₃ ^2- 、或者下述通式(1)至(4)所表示者， (1)：(C_n F_{2n ＋ 1} SO₂ )₂ N^- (其中，n為1～10之整數)、 (2)：CF₂ (C_m F_2m SO₂ )₂ N^- (其中，m為1～10之整數)、 (3)：^- O₃ S(CF₂ )_l SO₃ ^- (其中，l為1～10之整數)、 (4)：(C_p F_{2p ＋ 1} SO₂ )N^- (C_q F_{2q ＋ 1} SO₂ )(其中，p、q為1～10之整數)。尤其是包含氟原子之陰離子部可獲得離子解離性良好之離子化合物，故而可較佳地使用。作為構成無機鹽之陰離子部，可使用Cl^- 、Br^- 、I^- 、AlCl₄ ^- 、Al₂ Cl₇ ^- 、BF₄ ^- 、PF₆ ^- 、ClO₄ ^- 、NO₃ ^- 、AsF₆ ^- 、SbF₆ ^- 、NbF₆ ^- 、TaF₆ ^- 、(CN)₂ N^- 等。作為陰離子部，較佳為(CF₃ SO₂ )₂ N^- 、(C₂ F₅ SO₂ )₂ N^- 等上述通式(1)所表示之(全氟烷基磺醯基)醯亞胺，尤佳為(CF₃ SO₂ )₂ N^- 所表示之(三氟甲磺醯基)醯亞胺。 作為鹼金屬之有機鹽，具體而言，可列舉：乙酸鈉、海藻酸鈉、木質素磺酸鈉、甲苯磺酸鈉、LiCF₃ SO₃ 、Li(CF₃ SO₂ )₂ N、Li(CF₃ SO₂ )₂ N、Li(C₂ F₅ SO₂ )₂ N、Li(C₄ F₉ SO₂ )₂ N、Li(CF₃ SO₂ )₃ C、KO₃ S(CF₂ )₃ SO₃ K、LiO₃ S(CF₂ )₃ SO₃ K等，該等之中，較佳為LiCF₃ SO₃ 、Li(CF₃ SO₂ )₂ N、Li(C₂ F₅ SO₂ )₂ N、Li(C₄ F₉ SO₂ )₂ N、Li(CF₃ SO₂ )₃ C等，更佳為Li(CF₃ SO₂ )₂ N、Li(C₂ F₅ SO₂ )₂ N、Li(C₄ F₉ SO₂ )₂ N等含氟之鋰醯亞胺鹽，尤佳為(全氟烷基磺醯基)醯亞胺鋰鹽。 又，作為鹼金屬之無機鹽，可列舉過氯酸鋰、碘化鋰。 ＜有機陽離子-陰離子鹽＞ 本發明中所使用之有機陽離子-陰離子鹽係由陽離子成分與陰離子成分構成，且上述陽離子成分包含有機物者。作為陽離子成分，具體而言，可列舉：吡啶鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯烷鎓陽離子、具有吡咯啉骨架之陽離子、具有吡咯骨架之陽離子、咪唑鎓陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子、吡唑鎓陽離子、吡唑啉鎓陽離子、四烷基銨陽離子、三烷基鋶陽離子、四烷基鏻陽離子等。 作為陰離子成分，例如可列舉：Cl^- 、Br^- 、I^- 、AlCl₄ ^- 、Al₂ Cl₇ ^- 、BF₄ ^- 、PF₆ ^- 、ClO₄ ^- 、NO₃ ^- 、CH₃ COO^- 、CF₃ COO^- 、CH₃ SO₃ ^- 、CF₃ SO₃ ^- 、(CF₃ SO₂ )₃ C^- 、AsF₆ ^- 、SbF₆ ^- 、NbF₆ ^- 、TaF₆ ^- 、(CN)₂ N^- 、C₄ F₉ SO₃ ^- 、C₃ F₇ COO^- 、((CF₃ SO₂ )(CF₃ CO)N^- 、^- O₃ S(CF₂ )₃ SO₃ ^- 、或者下述通式(1)至(4)所表示者， (1)：(C_n F_{2n ＋ 1} SO₂ )₂ N^- (其中，n為1～10之整數)、 (2)：CF₂ (C_m F_2m SO₂ )₂ N^- (其中，m為1～10之整數)、 (3)：^- O₃ S(CF₂ )_l SO₃ ^- (其中，l為1～10之整數)、 (4)：(C_p F_{2p ＋ 1} SO₂ )N^- (C_q F_{2q ＋ 1} SO₂ )(其中，p、q為1～10之整數)。其中，尤其是包含氟原子之陰離子成分可獲得離子解離性良好之離子化合物，故而可較佳地使用。 作為有機陽離子-陰離子鹽之具體例，可適宜選擇包含上述陽離子成分與陰離子成分之組合之化合物而使用。 例如可列舉：1-丁基吡啶鎓四氟硼酸鹽、1-丁基吡啶鎓六氟磷酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓四氟硼酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓三氟甲磺酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-己基吡啶鎓四氟硼酸鹽、2-甲基-1-吡咯啉四氟硼酸鹽、1-乙基-2-苯基吲哚四氟硼酸鹽、1,2-二甲基吲哚四氟硼酸鹽、1-乙基咔唑四氟硼酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓乙酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三氟乙酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓七氟丁酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓全氟丁磺酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓二氰胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三(三氟甲磺醯基)甲基化物、1-丁基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓三氟乙酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓七氟丁酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓全氟丁磺酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-己基-3-甲基咪唑鎓溴化物、1-己基-3-甲基咪唑鎓氯化物、1-己基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-己基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-己基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸鹽、1-辛基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-辛基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-己基-2,3-二甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1,2-二甲基-3-丙基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基吡唑鎓四氟硼酸鹽、3-甲基吡唑鎓四氟硼酸鹽、四己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、二烯丙基二甲基銨四氟硼酸鹽、二烯丙基二甲基銨三氟甲磺酸鹽、二烯丙基二甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、二烯丙基二甲基銨雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨四氟硼酸鹽、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨三氟甲磺酸鹽、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、縮水甘油基三甲基銨三氟甲磺酸鹽、縮水甘油基三甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、縮水甘油基三甲基銨雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丁基吡啶鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、二烯丙基二甲基銨(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、縮水甘油基三甲基銨(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-壬基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N,N-二丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丁基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丁基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-戊基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N,N-二己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-甲基-N-乙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-丁基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N,N-二己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丁基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丁基-N-甲基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三辛基甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N-甲基-N-乙基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3甲基吡啶-1-鎓三氟甲磺酸鹽等。作為該等之市售品，例如可使用「CIL-314」(Japan Carlit公司製造)、「ILA2-1」(廣榮化學公司製造)等。 又，例如可列舉：四甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基乙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基辛基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、四乙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、四丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、四己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺等。 又，例如可列舉：1-二甲基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1庚基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺，1-乙基-1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺等。 又，可列舉使用三甲基鋶陽離子、三乙基鋶陽離子、三丁基鋶陽離子、三己基鋶陽離子、二乙基甲基鋶陽離子、二丁基乙基鋶陽離子、二甲基癸基鋶陽離子、四甲基鏻陽離子、四乙基鏻陽離子、四丁基鏻陽離子、四己基鏻陽離子代替上述化合物之陽離子成分之化合物等。 又，可列舉使用雙(五氟磺醯基)醯亞胺、雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺、雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺、三氟甲磺醯基九氟丁磺醯基醯亞胺、七氟丙磺醯基三氟甲磺醯基醯亞胺、五氟乙磺醯基九氟丁磺醯基醯亞胺、使用環-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)醯亞胺陰離子等代替上述之雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺之化合物等。 又，作為離子性化合物，除上述之鹼金屬鹽、有機陽離子-陰離子鹽以外，可列舉：氯化銨、氯化鋁、氯化銅、氯化亞鐵、氯化鐵、硫酸銨等無機鹽。該等離子性化合物可單獨使用或併用複數種。 本發明之黏著劑組合物中之離子性化合物之調配量相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，較佳為0.05～10重量份。若上述離子性化合物未達0.05重量份，則有抗靜電性能提高之效果不充分之情形。上述離子性化合物較佳為0.1重量份以上，進而較佳為0.5重量份以上。另一方面，若上述離子性化合物多於10重量份，則有耐久性變得不充分之情形。上述離子性化合物較佳為5重量份以下，進而較佳為3重量份以下，進而較佳為1重量份以下。上述離子性化合物之比率可採用上述上限值或下限值而設定較佳之範圍。 (7)其他添加劑 本發明之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物中，除上述成分以外，亦可根據用途而包含適宜之添加劑。例如可列舉：黏著賦予劑(例如，包含松香衍生物樹脂、聚萜烯樹脂、石油樹脂、油溶性苯酚樹脂等之常溫下為固體、半固體、或液狀者)；中空玻璃球等填充劑；塑化劑；抗老化劑；光穩定劑(HALS)；抗氧化劑等。 於本發明中，上述黏著劑組合物較佳為調整為適於塗佈於基材上等作業之黏度。黏著劑組合物之黏度之調整例如藉由添加增黏性添加劑等各種聚合物或多官能性單體等，或者使黏著劑組合物中之單體成分部分聚合而進行。再者，該部分聚合可在添加增黏性添加劑等各種聚合物或多官能性單體等之前進行，亦可在其後進行。上述黏著劑組合物之黏度因添加劑之量等而變化，因此使黏著劑組合物中之單體成分部分聚合之情形時之聚合率無法一概決定，作為標準，較佳為20%以下左右，更佳為3～20%左右，進而較佳為5～15%左右。若超過20%，則黏度變得過高，因此變得不易向基材塗佈。 2.彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層 本發明之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之特徵在於：由上述彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物形成。 作為黏著劑層之形成方法，並無特別限定，通常可藉由本領域中所使用之方法形成。具體而言，可將上述黏著劑組合物塗敷於基材之至少單面，將由該黏著劑組合物形成之塗佈膜進行乾燥而形成，或者照射紫外線等活性能量線而形成。 作為上述基材，並無特別限定，例如脫模膜、透明樹脂膜基材等各種基材、或者下述之偏光膜亦可較佳地用作基材。 作為上述脫模膜之構成材料，例如可列舉：聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯膜等樹脂膜、紙、布、不織布等多孔質材料、網狀物、發泡片、金屬箔、及該等之層壓體等適宜之薄片體等，但就表面平滑性優異之方面而言，可較佳地使用樹脂膜。 作為該樹脂膜，例如可列舉：聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜、聚丁二烯膜、聚甲基戊烯膜、聚氯乙烯膜、氯乙烯共聚物膜、聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚對苯二甲酸丁二酯膜、聚胺基甲酸酯膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物膜等。 上述脫模膜之厚度通常為5～200 μm，較佳為5～100 μm左右。對於上述脫模膜，亦可視需要進行利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪醯胺系之脫模劑、二氧化矽粉等之脫模及防污處理，或者塗佈型、混練型、蒸鍍型等之抗靜電處理。尤其是，藉由對上述脫模膜之表面適宜進行聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可進一步提高自上述黏著劑層之剝離性。 作為上述透明樹脂膜基材，並無特別限制，可使用具有透明性之各種樹脂膜。該樹脂膜係由1層膜形成。例如，作為其材料，可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚苯硫醚系樹脂等。該等之中，尤佳的是聚酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂及聚醚碸系樹脂。 上述膜基材之厚度較佳為15～200 μm，更佳為25～188 μm。 將上述黏著劑組合物塗佈於上述基材上之方法可使用輥式塗佈、接觸輥式塗佈、凹版塗佈、反向塗佈、輥式刷塗、噴霧塗佈、浸漬輥塗佈、棒式塗佈、刮刀塗佈、氣刀塗佈、淋幕式塗佈、模唇塗佈、模嘴塗佈機等公知適宜之方法，並無特別限制。 於上述黏著劑層係將由上述黏著劑組合物形成之塗佈膜進行乾燥而形成之情形時，其乾燥條件(溫度、時間)並無特別限定，可藉由黏著劑組合物之組成、濃度等而適宜設定，例如為60～170℃左右，較佳為60～150℃，且為1～60分鐘，較佳為2～30分鐘。 於上述黏著劑組合物為紫外線硬化型黏著劑組合物，對由該紫外線硬化型黏著劑組合物形成之塗佈膜照射紫外線而形成之情形時，所照射之紫外線之照度較佳為5 mW/cm² 以上。若該紫外線之照度未達5 mW/cm² ，則有聚合反應時間變長，生產性較差之情況。再者，該紫外線之照度較佳為200 mW/cm² 以下。若該紫外線之照度超過200 mW/cm² ，則光聚合起始劑被急遽消耗，因此有引起聚合物之低分子量化，尤其是高溫下之保持力降低之情況。又，紫外線之累計光量較佳為100 mJ/cm² ～5000 mJ/cm² 。 本發明中所使用之紫外線燈並無特別限定，較佳為LED(Light Emitting Diode，發光二極體)燈。LED燈與其他紫外線燈相比為釋熱較低之燈，因此可抑制黏著劑層之聚合中之溫度。因此，可防止聚合物之低分子量化，可防止黏著劑層之凝聚力之降低，並且可提高製成黏著片之情形時於高溫下之保持力。又，亦可將複數個紫外線燈組合。又，亦可間歇地照射紫外線，設置照射紫外線之明期與不照射紫外線之暗期。 於本發明中，紫外線硬化型黏著劑組合物中之單體成分之最終聚合率較佳為90%以上，更佳為95%以上，進而較佳為98%以上。 於本發明中，對上述紫外線硬化型黏著劑組合物所照射之紫外線之峰值波長較佳為200～500 nm之範圍內，更佳為300～450 nm之範圍內。若紫外線之峰值波長超過500 nm，則有光聚合起始劑不分解，聚合反應不開始之情況。又，若紫外線之峰值波長未達200 nm，則有聚合物鏈被切斷，接著特性降低之情況。 由於反應會受空氣中之氧之阻礙，故而為了遮斷氧，較佳為於由紫外線硬化型丙烯酸系黏著劑組合物形成之塗佈膜上形成脫模膜等，或者於氮氣氛圍下進行光聚合反應。作為脫模膜，可列舉上述者。再者，於使用脫模膜之情形時，該脫模膜可直接用作附黏著劑層之偏光膜之隔離膜。 又，於本發明中所使用之紫外線硬化型黏著劑組合物含有光聚合起始劑(B)之情形時，對包含含有(甲基)丙烯酸烷基酯之單體成分及上述光聚合起始劑(B)(有時亦稱為「前添加聚合起始劑」)之組合物照射紫外線，形成上述單體成分之部分聚合物，於上述單體成分之部分聚合物中，添加紫外線吸收劑、色素化合物、以及於波長400 nm以上具有吸收帶之光聚合起始劑(A)(有時亦稱為「後添加聚合起始劑」)，製作紫外線硬化型黏著劑組合物。部分聚合物之聚合率較佳為20%以下左右，更佳為3～20%左右，進而較佳為5～15%左右。紫外線之照射條件如上所述。 如上所述，於由含有光聚合起始劑(B)之紫外線硬化型黏著劑組合物形成黏著劑層之情形時，以如上所述之2階段進行聚合，藉此可提高單體成分之聚合率，且可提高最終製作之黏著劑層之紫外線吸收功能。 就確保吸收波長未達430 nm之光之功能之觀點而言，黏著劑層之厚度較佳為5 μm以上，更佳為10 μm以上，進而較佳為15 μm以上，尤佳為40 μm以上。黏著劑層之厚度之上限值並無特別限定，較佳為1 mm以下。若黏著劑層之厚度超過1 mm，則紫外線之透過變得困難，單體成分之聚合耗費時間，此外有於加工性或步驟中之卷取、搬送性產生問題，生產性變差之情形，故而欠佳。 本發明之黏著劑層之凝膠分率並無特別限定，較佳為35%以上，更佳為50%以上，進而較佳為75%以上，尤佳為85%以上。於黏著劑層之凝膠分率較小之情形時，有凝聚力較差，於加工性或操作性產生問題之情形。 作為本發明之黏著劑層之表面電阻值，可將為了保護下述之附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜之黏著劑層表面而貼附之脫模膜(隔離膜)剝離後，測定黏著劑層表面之表面電阻值而進行評價。作為表面電阻值之測定，可使用三菱化學ANALYTECH(股份)製造之MCP-HT450等市售之電阻率計進行。作為上述黏著劑層之表面電阻值，較佳為1×10¹² Ω/□以下，更佳為5×10¹¹ Ω/□以下，進而較佳為1×10¹¹ Ω/□以下。若為上述範圍內，則可賦予優異之抗靜電性，成為較佳之態樣。 上述黏著劑層以厚度25 μm測定之霧度值較佳為2%以下，更佳為0～1.5%，進而較佳為0～1%。藉由霧度為上述範圍，黏著劑層具有較高之透明性，故而較佳。 上述黏著劑層之波長300～400 nm之平均透過率較佳為5%以下，更佳為2%以下。又，波長400～430 nm以下之平均透過率較佳為30%以下，更佳為20%以下。若黏著劑層之透過率為上述範圍，則可充分地吸收不影響有機EL元件之發光之區域之光，可抑制有機EL元件之劣化。 上述黏著劑層之波長450～500 nm之平均透過率較佳為70%以上，更佳為75%以上，波長500～780 nm之平均透過率較佳為80%以上，更佳為85%以上。若黏著劑層之透過率為上述範圍，則於有機EL元件之發光區域(較430 nm更長波長側)可使光充分地透過，使用該黏著劑層之有機EL顯示裝置可實現充分之發光。 此處，上述所謂「波長300～400 nm之平均透過率」係指於波長300～400 nm之區域以1 nm間距算出透過率，該算出之透過率之平均值。其他波長區域之平均透過率亦相同。 本發明之黏著劑層藉由具有上述透過率，可充分地吸收不影響有機EL元件之發光之區域之光，且有機EL元件之發光區域(較430 nm更長波長側)可充分地透過，從而可抑制有機EL元件因外界光所致之劣化。 於上述黏著劑層露出之情形時，在供於實用之前，亦可利用脫模膜保護黏著劑層。 3.附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜 本發明之附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜之特徵在於：具有偏光膜、及上述彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層。 作為彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層，可較佳地使用上述者。又，於偏光膜以外之基材形成黏著劑層之情形時，該黏著劑層可貼合於偏光膜而進行轉印。又，上述脫模膜可直接用作附黏著劑層之偏光膜之隔離膜，可實現步驟方面之簡化。 作為上述偏光膜，並無特別限定，只要為具有偏光元件及於該偏光元件之至少單面具有透明保護膜者即可，亦可為具有偏光元件及於該偏光元件之單面具有透明保護膜，且於另一單面具有相位差膜者。 (1)偏光元件 偏光元件並無特別限定，可使用各種偏光元件。作為偏光元件，例如可列舉：使聚乙烯醇系膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜吸附碘或二色性染料之二色性物質並進行單軸延伸而成者、聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等聚烯系配向膜等。該等之中，較佳為包含聚乙烯醇系膜及碘等二色性物質之偏光元件。該等偏光元件之厚度並無特別限制，通常為5～80 μm左右。 將聚乙烯醇系膜利用碘染色並進行單軸延伸而成之偏光元件例如可藉由下述方式而製作：藉由將聚乙烯醇浸漬於碘之水溶液中而進行染色，並延伸至原長之3～7倍。亦可視需要浸漬於可包含硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等之碘化鉀等之水溶液中。進而，亦可視需要於染色前將聚乙烯醇系膜浸漬於水中而進行水洗。藉由將聚乙烯醇系膜進行水洗，可將聚乙烯醇系膜表面之污垢或抗黏連劑洗淨，此外藉由使聚乙烯醇系膜膨潤，亦具有防止染色不均等不均勻之效果。延伸可於利用碘染色後進行，亦可一面進行染色一面進行延伸，又，亦可於進行延伸後利用碘進行染色。亦可於硼酸或碘化鉀等之水溶液或水浴中進行延伸。 又，於本發明中，亦可使用厚度為10 μm以下之薄型偏光元件。就薄型化之觀點而言，該厚度較佳為1～7 μm。此種薄型之偏光元件就厚度不均較少，視認性優異，又，尺寸變化較少，因此耐久性優異，進而作為偏光膜之厚度亦可實現薄型化之方面而言較佳。 作為薄型之偏光元件，代表性的可列舉：日本專利特開昭51-069644號公報或日本專利特開2000-338329號公報、或國際公開第2010/100917號說明書、國際公開第2010/100917號說明書、或日本專利4751481號說明書或日本專利特開2012-073563號公報中所記載之薄型偏光膜。該等薄型偏光膜可藉由包括將聚乙烯醇系樹脂(以下，亦稱為PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材以積層體之狀態進行延伸之步驟及進行染色之步驟的製法而獲得。若採用該製法，則即便PVA系樹脂層較薄，藉由被延伸用樹脂基材所支持，亦變得能夠在無因延伸引起之斷裂等不良情況之情形下進行延伸。 作為上述薄型偏光膜，包括以積層體之狀態進行延伸之步驟及進行染色之步驟的製法中，就可以高倍率進行延伸而可提高偏光性能之方面而言，較佳為藉由如於國際公開第2010/100917號說明書、國際公開第2010/100917號說明書、或日本專利4751481號說明書或日本專利特開2012-073563號公報中有記載的包括於硼酸水溶液中進行延伸之步驟的製法而獲得者，尤佳為藉由如於日本專利4751481號說明書或日本專利特開2012-073563號公報中有記載的包括於硼酸水溶液中進行延伸之前輔助進行空中延伸之步驟的製法而獲得者。 (2)透明保護膜 關於透明保護膜，可適宜使用先前以來一直使用者。具體而言，較佳為由透明性、機械強度、熱穩定性、水分遮斷性、各向同性等優異之材料形成之透明保護膜，例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物、二乙醯纖維素或三乙醯纖維素等纖維素系聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物、聚苯乙烯或丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物、聚碳酸酯系聚合物等。又，亦可列舉以下聚合物作為形成上述透明保護膜之聚合物之例：聚乙烯、聚丙烯、具有環系或降烯結構之聚烯烴、乙烯-丙烯共聚物等聚烯烴系聚合物、氯乙烯系聚合物、尼龍或芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫醚系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏二氯乙烯系聚合物、乙烯基丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物、或上述聚合物之摻合物等。透明保護膜亦可以丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型、紫外線硬化型之樹脂之硬化層之形式形成。 透明保護膜之厚度可適宜決定，但通常就強度或操作性等作業性、薄膜性等方面而言，為1～500 μm左右。 上述偏光元件與透明保護膜較佳為經由紫外線硬化型接著劑而密接。除上述以外，作為偏光元件與透明保護膜之接著劑，可列舉：水系接著劑、電子束硬化型接著劑等。電子束硬化型偏光膜用接著劑對上述各種視認側透明保護膜顯示出較佳之接著性。作為水系接著劑，可例示：異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯系乳膠系、水系聚胺基甲酸酯、水系聚酯等。又，本發明中所使用之接著劑中，可含有金屬化合物填料。 對於上述透明保護膜之未接著偏光元件之面，亦可實施硬塗層或抗反射處理、以防黏、或者擴散或防眩為目的之處理。 又，作為上述透明保護膜，可使用具有相位差，可作為光學補償層發揮功能者之任一者。於使用具有相位差之透明保護膜之情形時，其相位差特性可適宜調整為光學補償所需之值。作為該相位差膜，可較佳地使用延伸膜。上述相位差膜根據各種用途而選擇使用於將遲相軸方向之折射率設為nx、面內之進相軸方向之折射率設為ny、厚度方向之折射率設為nz之情形時，滿足nx＝ny＞nz、nx＞ny＞nz、nx＞ny＝nz、nx＞nz＞ny、nz＝nx＞ny、nz＞nx＞ny、nz＞nx＝ny之關係者。再者，所謂nx＝ny，不僅包含nx與ny完全相同之情形，亦包含nx與ny實質上相同之情形。又，所謂ny＝nz，不僅包含ny與nz完全相同之情形，亦包含ny與nz實質上相同之情形。 於將本發明中所使用之偏光膜用作有機EL顯示裝置之抗反射用圓偏光板之情形時，上述相位差膜較佳為將透明保護膜之正面延遲設為1/4波長(約100～170 nm)之1/4波長板。 於使用相位差膜作為透明保護膜之情形時，可較佳地使用於偏光元件之一面設置有透明保護膜，於另一面具有相位差膜者。又，該情形時，上述黏著劑層之設置部位並無特別限定，可設置於上述透明保護膜之與和偏光元件接觸之面為相反側之面，亦可設置於相位差膜之與和偏光元件接觸之面為相反側之面，但就抑制有機EL顯示元件之劣化之觀點而言，較佳為設置於至少一面或兩面。 將本發明之附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜之具體構成之一例示於圖1～圖3。可列舉：如圖1所示般，以黏著劑層2/透明保護膜3/偏光元件4/相位差膜5之方式，如圖2所示般，以透明保護膜3/偏光元件4/相位差膜5/黏著劑層2之方式，如圖3所示般，以黏著劑層2/透明保護膜3/偏光元件4/相位差膜5/黏著劑層2之方式依序積層各層而成之附有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜1。上述圖1及圖2中，黏著劑層2為本發明之有機EL顯示裝置用黏著劑層，圖3中，所具有之2個黏著劑層2中至少一者為本發明之有機EL顯示裝置用黏著劑層即可，亦可2個均為本發明之有機EL顯示裝置用黏著劑層。又，圖1～圖3中，偏光膜6為由偏光元件4及透明保護膜3構成之片保護偏光膜，但並不限定於此，亦可為於偏光元件4與相位差膜5之間進而具有透明保護膜之兩保護偏光膜。又，如上所述，亦可於透明保護膜3之未與偏光元件4接觸之面，形成硬塗層等各種功能層等。 又，於上述相位差膜經由黏著劑層積層於偏光元件之情形時，該黏著劑層亦可為本發明之有機EL顯示裝置用黏著劑層。即，附有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜依序具有第1黏著劑層、透明保護膜、偏光元件、第2黏著劑層、相位差膜、第3黏著劑層， 且上述第1黏著劑層、第2黏著劑層、及第3黏著劑層中至少一個黏著劑層為上述有機EL顯示裝置用黏著劑層即可。 本發明之附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜亦可於上述偏光膜與上述彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之間具有密接性層。作為上述密接性層，例如可列舉增黏層，形成增黏層之材料並無特別限定，例如可列舉：各種聚合物類、金屬氧化物之溶膠、二氧化矽溶膠等。該等之中，可尤佳地使用聚合物類。上述聚合物類之使用形態可為溶劑可溶型、水分散型、水溶解型之任一種。 作為上述聚合物類，例如可列舉：聚胺基甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚醚系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚乙烯基吡咯啶酮、聚苯乙烯系樹脂等。該等之中，尤佳為聚胺基甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂。該等樹脂中可適宜調配交聯劑。該等其他黏合劑成分可適宜根據其用途而使用1種或2種以上。 於藉由水分散型材料形成增黏層之情形時，使用水分散型聚合物。作為水分散型聚合物，可列舉：使用乳化劑將聚胺基甲酸酯、聚酯等各種樹脂進行乳膠化而成者，或者於上述樹脂中導入水分散性之陰離子基、陽離子基、或非離子基進行自乳化而成者等。 又，上述增黏劑中可含有抗靜電劑。抗靜電劑只要為可賦予導電性之材料，則並無特別限制，例如可列舉：離子性界面活性劑、導電性聚合物、金屬氧化物、碳黑、及碳奈米材料等，該等之中，較佳為導電性聚合物，更佳為水分散性導電聚合物。 作為水溶性導電性聚合物，可列舉聚苯胺磺酸(藉由聚苯乙烯換算獲得之重量平均分子量150000，三菱麗陽(股份)製造)等，作為水分散性導電聚合物，可列舉聚噻吩系導電性聚合物(Nagase ChemteX公司製造，Denatron系列)等。 上述抗靜電劑之調配量例如相對於增黏劑中所使用之上述聚合物類100重量份，為70重量份以下，較佳為50重量份以下。就抗靜電效果之方面而言，較佳為設為10重量份以上，進而較佳為設為20重量份以上。 又，上述增黏劑中，可以抑制與增黏塗層接觸時所產生之黏著劑層或偏光元件之劣化等為目的，調配各種添加劑，又，可以對增黏塗層賦予功能為目的，調配各種添加劑。例如，可添加抗氧化劑、抗劣化劑、紫外線吸收劑、螢光增白劑等。 增黏層之厚度並無特別限定，較佳為5～300 nm。 作為上述增黏層之形成方法，並無特別限定，通常可藉由公知之方法而進行。又，形成增黏層時，可對上述偏光膜實施活化處理。活化處理可採用各種方法，例如可採用電暈處理、低壓UV處理、電漿處理等。 於偏光膜上之增黏層上形成黏著劑層之方法如上所述。 又，於本發明之附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜之黏著劑層露出之情形時，在供於實用之前，亦可利用脫模膜(隔離膜)保護黏著劑層。作為脫模膜，可列舉上述者。於製作上述黏著劑層時使用脫模膜作為基材之情形時，藉由將脫模膜上之黏著劑層與偏光膜貼合，該脫模膜可用作附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層之脫模膜，可實現步驟方面之簡化。 本發明之附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜較佳為於上述偏光膜與上述彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之間具有導電性層。作為上述導電性層(抗靜電層)，例如可採用以下方法：使用含有聚噻吩等導電性高分子及黏合劑之抗靜電劑組合物，於偏光膜與黏著劑層之間形成導電性層(抗靜電層)。上述導電性層之表面電阻值較佳為1×10¹² 以下。 4.有機EL顯示裝置 本發明之有機EL顯示裝置之特徵在於：使用至少1個本發明之有機EL顯示裝置用黏著劑層、或本發明之附有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜。 作為有機EL顯示裝置之具體構成之一例，例如可列舉：如圖4～圖6所示般，以外罩塑膠(透明基材)7/黏著劑層2/透明保護膜3/偏光元件4/相位差膜5/黏著劑層2/有機EL顯示面板(OLED元件面板)8(圖4)、外罩塑膠(透明基材)7/接著劑層9/透明保護膜3/偏光元件4/相位差膜5/黏著劑層2/有機EL顯示面板8(圖5)、外罩塑膠(透明基材)7/黏著劑層2/感測器層10/黏著劑層2/透明保護膜3/偏光元件4/相位差膜5/黏著劑層2/有機EL顯示面板8(圖6)之方式依序積層各層而成之有機EL顯示裝置。上述各構成中之黏著劑層2中，至少1個為本發明之黏著劑層即可，亦可全部黏著劑層2為本發明之黏著劑層。又，本發明之有機EL顯示裝置中，除上述以外，亦可包含保護膜、硬塗層等各種功能層等。又，各層之積層中，可適宜使用黏著劑層及/或接著劑層。作為本發明之黏著劑層以外之黏著劑層，可適宜使用本領域中所使用之通常之黏著劑層。 [實施例] 以下，藉由實施例具體地說明本發明，但本發明並不受該等實施例之限定。再者，各例中之份及%均為重量基準。 [實施例1] [偏光元件] 作為熱塑性樹脂基材，準備具有間苯二甲酸單元7莫耳%之非晶質之聚對苯二甲酸乙二酯(以下，亦稱為「PET」)(IPA共聚PET)膜(厚度：100 μm)，對表面實施電暈處理(58 W/m² /min)。另一方面，準備添加有乙醯乙醯基改性PVA(日本合成化學工業(股份)製造，商品名：GOHSEFIMER Z200(平均聚合度：1200，皂化度：98.5莫耳%、乙醯乙醯基化度：5莫耳%)1重量%之PVA(聚合度4200，皂化度99.2%)，準備PVA系樹脂為5.5重量%之PVA水溶液之塗敷液，以乾燥後之膜厚成為12 μm之方式進行塗敷，於60℃之氛圍下藉由熱風乾燥進行10分鐘乾燥，而製作於基材上設置有PVA系樹脂層之積層體。 繼而，將該積層體首先於空氣中以130℃進行自由端延伸至1.8倍(空中輔助延伸)，生成延伸積層體。其次，進行以下步驟：將延伸積層體於液溫30℃之硼酸不溶化水溶液中浸漬30秒，藉此使延伸積層體中所包含之PVA分子經配向之PVA層不溶化。本步驟之硼酸不溶化水溶液係將硼酸含量相對於水100重量份設為3重量份。藉由將該延伸積層體進行染色而生成著色積層體。著色積層體係將延伸積層體於液溫30℃之包含碘及碘化鉀之染色液中，以最終生成之構成偏光元件之PVA層之單體透過率成為40～44%之方式浸漬任意時間，藉此利用碘將延伸積層體中所包含之PVA層進行染色而成。於本步驟中，染色液係以水作為溶劑，將碘濃度設為0.1～0.4重量%之範圍內，將碘化鉀濃度設為0.7～2.8重量%之範圍內。碘與碘化鉀之濃度之比為1比7。其次，進行以下步驟：將著色積層體於30℃之硼酸交聯水溶液中浸漬60秒，藉此對吸附有碘之PVA層之PVA分子彼此實施交聯處理。本步驟之硼酸交聯水溶液係將硼酸含量相對於水100重量份設為3重量份，將碘化鉀含量相對於水100重量份設為3重量份。 進而，將所獲得之著色積層體於硼酸水溶液中以延伸溫度70℃向與前文之空氣中之延伸相同之方向延伸3.05倍(硼酸水中延伸)，獲得最終延伸倍率為5.50倍之光學膜積層體。將光學膜積層體自硼酸水溶液中取出，將附著於PVA層之表面之硼酸利用碘化鉀含量相對於水100重量份設為4重量份之水溶液洗淨。將洗淨之光學膜積層體藉由利用60℃之溫風之乾燥步驟進行乾燥。所獲得之光學膜積層體中所包含之偏光元件之厚度為5 μm。 [透明保護膜] 作為透明保護膜，使用將具有戊二醯亞胺環單元之甲基丙烯酸樹脂顆粒擠出，成形為膜狀後，進行延伸而成者。該透明保護膜為厚度為20 μm，透濕度為160 g/m² 之丙烯酸系膜。 繼而，使用下述所示之接著劑，將上述偏光元件與上述透明保護膜貼合，而製成偏光膜。 作為上述接著劑(活性能量線硬化型接著劑)，依據表1中所記載之調配表，將各成分混合，於50℃下攪拌1小時，而製備接著劑(活性能量線硬化型接著劑A)。表中之數值表示將組合物總量設為100重量%時之重量%。所使用之各成分如以下所述。 HEAA：羥基乙基丙烯醯胺 M-220：ARONIX M-220，三丙二醇二丙烯酸酯)，東亞合成公司製造 ACMO：丙烯醯基嗎啉 AAEM：甲基丙烯酸2-乙醯乙醯氧基乙酯，日本合成化學公司製造 UP-1190：ARUFON UP-1190，東亞合成公司製造 IRG907：IRGACURE 907，2-甲基-1-(4-甲基噻吩基)-2-嗎啉基丙烷-1-酮，BASF公司製造 DETX-S：KAYACURE DETX-S，二乙基-9-氧硫 ，日本化藥公司製造 [表1] 再者，於使用上述接著劑之實施例及比較例中，經由該接著劑將上述透明保護膜與上述偏光元件積層後，照射紫外線使該接著劑硬化，而形成接著劑層。照射紫外線時，使用封入有鎵之金屬鹵化物燈(Fusion UV Systems, Inc公司製造，商品名「Light HAMMER10」，閥門：V閥門，峰值照度：1600 mW/cm² ，累計照射量1000/mJ/cm² (波長380～440 nm))。 [實施例1] ＜(甲基)丙烯酸系聚合物之製備＞ 於具備攪拌翼、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶中，添加含有丙烯酸丁酯(BA)99重量份、丙烯酸4-羥基丁酯(HBA)1重量份之單體混合物。 進而，相對於上述單體混合物(固形物成分)100重量份，將作為聚合起始劑之2,2'-偶氮雙異丁腈0.1重量份與乙酸乙酯一併添加，一面緩慢地攪拌一面導入氮氣而進行氮氣置換後，將燒瓶內之液溫保持於55℃附近而進行7小時聚合反應。其後，於所獲得之反應液中添加乙酸乙酯，而製備固形物成分濃度調整為30%之重量平均分子量160萬之(甲基)丙烯酸系聚合物A1之溶液。 ＜丙烯酸系黏著劑組合物之製備＞ 相對於所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分100重量份，添加異氰酸酯系交聯劑(商品名：Takenate D110N，三羥甲基丙烷苯二甲基二異氰酸酯，三井化學(股份)製造)0.1重量份、過氧化物系交聯劑之過氧化苯甲醯(商品名：Nyper BMT，日本油脂(股份)製造)0.4重量份、矽烷偶合劑(商品名：KBM403，信越化學工業(股份)製造)0.08重量份、紫外線吸收劑(b1)之2,4-雙-[{4-(4-乙基己氧基)-4-羥基}-苯基]-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三(商品名：Tinosorb S，吸收光譜之最大吸收波長：346 nm，BASF Japan公司製造)2.5重量份(固形物成分量)、於乙酸乙酯中以固形物成分成為5%之方式溶解之色素化合物(c1)之BONASORB UA3911(商品名，吲哚系化合物，吸收光譜之最大吸收波長：398 nm，半寬值：48 nm，Orient Chemical Industries(股份)製造)4重量份(固形物成分重量)並進行攪拌，藉此獲得丙烯酸系黏著劑組合物。 利用噴注式塗佈機，將上述丙烯酸系黏著劑組合物均勻地塗敷於利用聚矽氧系剝離劑進行處理之厚度38 μm之聚對苯二甲酸乙二酯膜(PET膜、透明基材)之表面，於155℃之空氣循環式恆溫烘箱中乾燥2分鐘，於基材之表面形成厚度25 μm之黏著劑層。 繼而，使接著形成有上述黏著劑層之隔離膜轉移至所獲得之偏光膜之透明保護膜側(電暈處理完畢)，而製作附黏著劑層之積層體後，貼合於剝離隔離膜之表面經實施電暈處理之25 μm之PET膜(透明基材，三菱樹脂(股份)製造，商品名：DIAFOIL)，製作附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜(參照圖8)。 [實施例2及比較例1] 針對實施例1，將所使用之紫外線吸收劑及色素化合物之調配量如表2所示般變更，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜。 對所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物、彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層及附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜，進行以下之評價。 [評價] ＜(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量(Mw)之測定＞ 所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量(Mw)係藉由GPC(凝膠滲透層析法)而測定。 ・分析裝置：東曹公司製造，HLC-8120GPC ・管柱：東曹公司製造，G7000H_XL ＋GMH_XL ＋GMH_XL ・管柱尺寸：各7.8 mmf×30 cm 合計90 cm ・管柱溫度：40℃ ・流量：0.8 ml/min ・注入量：100 μl ・溶離液：四氫呋喃 ・檢測器：示差折射計(RI) ・標準試樣：聚苯乙烯 (厚度之測定) 偏光元件、透明保護膜、黏著劑層等之厚度係使用針盤量規(Mitutoyo製造)進行測定，藉由計算而求出。 ＜耐折性試驗＞ 圖7中表示180°耐折性試驗機(井元製作所製造)之概略圖。本裝置成為於恆溫槽內，單側之夾盤(chuck)夾繞心軸反覆180°彎曲之機構，可藉由心軸之直徑而改變彎折半徑。成為若膜斷裂則試驗停止之機構。試驗係將各實施例及比較例中所獲得之5 cm×15 cm之附黏著劑層之偏光膜(參照圖8)設置於裝置，於60℃×95%RH條件下，放置24小時後，進而以溫度25℃×24小時放置，於60℃×95%RH、彎曲角度180°、彎曲半徑3 mm、彎曲速度1秒/次、重物100 g之條件下實施評價。評價係針對以下之3個評價，於彎折次數達到20萬次後進行。 再者，作為測定(評價)用樣品，採用圖8所示之構成，以偏光元件為凹側(內側)，以透明基材(PET膜、外罩塑膠)為凸側(外側)，於中央附近彎折，進行評價。 (耐污染性) 達到20萬次後，利用目視確認自黏著劑層中之滲出等，進行評價。 ○：利用顯微鏡確認時，於黏著劑層無粒子析出之水準 △：利用顯微鏡確認時，於一部分確認到粒子，但利用目視未確認到之實用上無問題之水準 ×：利用目視確認到粒子，實用上有問題之水準 (耐折強度) 達到20萬次後，利用目視確認有無斷裂(剝離等)，進行評價。 ○：利用目視未確認到折斷、剝離等，或者確認到略微之折斷、剝離等之水準。 △：利用目視於端部確認到略微之折斷、剝離等，但實用上無問題之水準。 ×：利用目視確認到嚴重之折斷、剝離等，實用上有問題之水準。 (外觀(色調)評價) 達到20萬次後，利用目視確認色調之變化，進行評價。 ○：與初期相比無變化。 △：有略微變化，但實用上無問題之水準。 ×：色調透明，實用上有問題之水準(色素化合物劣化)。 表2中之簡稱如以下所述。 b1：2,4-雙-[{4-(4-乙基己氧基)-4-羥基}-苯基]-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三(商品名：Tinosorb S，吸收光譜之最大吸收波長：346 nm，BASF Japan公司製造)，紫外線吸收劑 c1：BONASORB UA3911(商品名，吲哚系化合物，吸收光譜之最大吸收波長：398 nm，半寬值：48 nm，Orient Chemical Industries(股份)製造)，色素化合物 [表2] [表3] 根據上述表3之結果，可確認於實施例中，藉由將紫外線抑制劑與色素化合物之合計量抑制為所需之範圍，即便於進行20萬次之耐折試驗之情形時，耐污染性、耐彎曲性亦為實用上無問題之水準。另一方面，確認到於比較例1中，由於上述合計量超過所需之範圍，故而紫外線抑制劑等滲出，耐污染性較差，亦確認到剝離等，耐彎曲性亦變差。

1‧‧‧附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜

2‧‧‧彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層(黏著劑層)

3‧‧‧透明保護膜

4‧‧‧偏光元件

5‧‧‧相位差膜

6‧‧‧偏光膜

7‧‧‧外罩塑膠(透明基材)

8‧‧‧有機EL面板

9‧‧‧接著劑層

10‧‧‧感測器層

圖1係模式性地表示本發明之附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜之一實施形態的剖視圖。 圖2係模式性地表示本發明之附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜之一實施形態的剖視圖。 圖3係模式性地表示本發明之附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜之一實施形態的剖視圖。 圖4係模式性地表示本發明之彎折型有機EL顯示裝置之一實施形態的剖視圖。 圖5係模式性地表示本發明之彎折型有機EL顯示裝置之一實施形態的剖視圖。 圖6係模式性地表示本發明之彎折型有機EL顯示裝置之一實施形態的剖視圖。 圖7係表示耐折性試驗之測定方法的圖。 圖8係表示實施例中所使用之評價用樣品的剖視圖。

Claims (9)

1. 一種彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物，其特徵在於：其係包含含有單官能性單體作為單體成分之基礎聚合物、紫外線吸收劑及吸收光譜之最大吸收波長存在於380～430 nm之波長區域之色素化合物者，並且 相對於上述單官能性單體100重量份，含有合計量為0.1～15重量份之上述紫外線吸收劑與上述色素化合物。
2. 如請求項1之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物，其中上述基礎聚合物為(甲基)丙烯酸系聚合物。
3. 如請求項1或2之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物，其含有離子性化合物。
4. 如請求項1至3中任一項之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物，其含有過氧化物系交聯劑。
5. 一種彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層，其特徵在於：其係由如請求項1至4中任一項之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物形成。
6. 如請求項5之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層，其表面電阻值為1×10¹² Ω/□以下。
7. 一種附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜，其特徵在於：具有偏光膜、及如請求項5或6之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層。
8. 如請求項7之附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜，其中於上述偏光膜與上述彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之間具有導電性層。
9. 一種彎折型有機EL顯示裝置，其特徵在於：使用至少1個如請求項5或6之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層或如請求項7或8之附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜。