TW201818653A - 低通濾波器 - Google Patents

Abstract

[課題]提供一種使銅損變少且可做到小型化的低通濾波器。 [解決手段]一種低通濾波器，具備線圈、電容及冷卻構件，該線圈是將帶狀的導體以繞預定軸線的方式捲繞複數圈，該電容是將一邊的端子連接到導體，並將另一邊的端子連接到接地部位，該冷卻構件是抵接於線圈的預定軸線方向的端面側。

Description

低通濾波器

發明領域 本發明為有關於一種可濾除高頻之雜訊的低通濾波器。

發明背景 以往，為了將產生於電氣電路中的高頻雜訊去除，而廣泛且普遍地進行之作法是在電路中設置低通濾波器。

作為設置有這種低通濾波器的機器而有例如專利文獻1所記載的電漿產生裝置。在專利文獻1所記載的電漿產生裝置中，因為設置於裝置內部的電熱機器會接收高頻雜訊，所以為了抑制從該機器到電源等的高頻雜訊的侵入，因而在機器與電源之間設置低通濾波器來將高頻雜訊去除。 先前技術文獻 專利文獻

專利文獻1：日本專利特開2010-10214號公報

發明概要 發明欲解決之課題 低通濾波器會變得對作為應去除之頻率的對象頻率必須具有相當大的阻抗。此阻抗取峰值的頻率是線圈的電感越大就越往低頻率側遷移，而線圈的電感越小就越往高頻率側遷移。亦即，去除對象頻率越小必須將線圈的電感設得越大。要將線圈的電感設得較大，必須將線圈的匝數設得較多、或是為了減少銅損而增大線圈的截面積，因此會使低通濾波器整體的大型化成為問題。又，越加大線圈，於該線圈產生的熱的去除就變得越必要。

本發明是為了解決上述課題而作成之發明，其主要的目的在於提供一種銅損較少且可做到小型化的低通濾波器。 用以解決課題之手段

第1構成是低通濾波器，其具備：線圈，將帶狀的導體以繞預定軸線的方式捲繞複數圈；電容，將一邊的端子連接到前述導體，並將另一邊的端子連接到接地部位；及冷卻構件，抵接於前述線圈的前述預定軸線方向的端面側。

在上述構成中，由於作為線圈而使用將帶狀的導體以繞預定軸線的方式捲繞而成的構成，所以在預定軸線方向上於導體彼此之間並未設置有絕緣構件等。並且，能將於構成線圈的導體上產生的熱傳達至預定軸線方向的端部，並藉由設置於預定軸線方向的端面側之冷卻構件有效率地移除熱。此外，由於導體彼此的絕緣為僅在線圈的徑方向的絕緣即可，所以表示導體的體積相對於線圈整體的體積之比例的佔空係數將變大。因此，能夠使每單位體積的線圈的電阻值下降，而以更小的體積來使規定的電流流通，所以能夠縮小線圈整體的體積。

其結果，可以提供具有排熱性良好且可做到小型化的低通濾波器。

在第2構成中，是除了第1構成以外，前述線圈更將依前述導體、絕緣構件、接著構件的順序積層而成的積層體以繞前述預定軸線的方式捲繞複數圈。

當將導體彼此絕緣的構造為預先規定的一般的線圈時，只能改變導體的線徑或匝數，來使線圈的電感與阻抗特性變化。針對此點，在上述構成中，由於能夠藉由絕緣構件的厚度來使線圈的阻抗特性產生變化，因此可以因應去除對象頻率而提供具有適當的阻抗的線圈。進而，變得可做到提高去除對象頻率中的線圈的阻抗。

在第3構成中，是除了第2構成以外，將表示前述線圈的阻抗與頻率的關係之頻率特性，藉由前述線圈的匝數、前述導體的寬度及前述絕緣構件的厚度來調整。

由於在上述構成中，是藉由調節決定線圈的大小的複數個要因來設定阻抗的頻率特性，所以能夠對去除對象頻率提供適當的大小的線圈。特別是，即使在線圈的匝數或導體的寬度等具有限制，由於仍可藉由調節絕緣構件的厚度來設定阻抗的頻率特性，所以能夠因應去除對象頻率來提供適當的阻抗的線圈。

在第4構成中，是除了第1至第3中任一構成以外，將去除對象之雜訊的頻率預先定作去除對象頻率，並且使前述線圈的阻抗變得最大的頻率是自前述去除對象頻率偏移預定頻率。

由於實際上線圈之阻抗的頻率特性是會產生個體差異之特性，所以即便設計成讓線圈的阻抗變得最大的頻率與去除對象頻率一致，實際上也會有線圈的阻抗在去除對象頻率中無法成為最大值的情況。針對此點，在上述構成中，由於是將線圈的阻抗變得最大的頻率設定成從去除對象頻率錯開，因此即便在線圈的阻抗的頻率特性產生個體差異時，在頻率特性的傾向上也難以產生變化。因此，即便在線圈的阻抗的頻率特性上產生有個體差異，也能夠擔保低通濾波器整體之雜訊去除性能。

在第5構成中，是除了第4構成以外，使前述線圈的阻抗變得最大的頻率比前述去除對象頻率更大前述預定頻率。

將線圈的阻抗變得最大的頻率設得比去除對象頻率更小時，必須加大線圈的內徑、或是增加線圈的匝數，因此導致線圈更大型化。針對此點，在上述構成中，是將線圈的阻抗變得最大的頻率設成比去除對象頻率更大，所以能夠抑制線圈之大型化。

在第6構成中，是除了第4構成以外，還使前述線圈的阻抗變得最大的頻率比前述去除對象頻率更小前述預定頻率。

將線圈的阻抗變得最大的頻率設定成比去除對象頻率更大時，必須將線圈的絕緣構件的厚度設得更厚，因此導致線圈更大型化。針對此點，由於在上述構成中，是將線圈的阻抗變得最大的頻率設得比去除對象頻率更小，因此能夠抑制線圈的大型化。

在第7構成中，是除了第4至第6中任一構成以外，使前述去除對象頻率為100kHz~20MHz。

由於在上述構成中，是將在雜訊的去除上更大的阻抗成為必要的頻率設成去除對象頻率，所以能夠更適當地使用具有優異冷卻效率且可做到小型化的低通濾波器。

在第8構成中，是除了第1至第7中任一構成以外，還具備複數個前述電容，且將複數個前述電容並聯連接。

在上述構成中，能夠維持電容單體之阻抗的最小值、以及成為其最小值之頻率，並且讓電容整體的阻抗變得更小。從而，更能夠提供去除雜訊性能優異的低通濾波器。

在第9構成中，是除了第1至第8中任一構成以外，使前述線圈在前述預定軸線方向的端面上具有表面平坦的陶瓷層，且使前述陶瓷層的前述表面接觸於前述冷卻構件。

在將線圈以繞預定軸線的方式捲繞複數圈的情況下，會在預定軸線方向的端面上於導體彼此之間形成凹陷、或使一部分的導體突出。因此，於線圈的軸線方向端面抵接有冷卻板的情況下，會形成從線圈到冷卻板的熱傳達性降低之情形。針對此點，由於在上述構成中，是設成線圈為在預定軸線的端面上具有表面平坦的陶瓷層之構成，所以可增進該陶瓷層的平坦之面與冷卻構件的密合性。從而，能夠提升藉由冷卻構件所形成的散熱效率。

在第10構成中，是除了第1至第9中任一構成以外，前述冷卻構件還於內部設置有流路。

在上述構成中，由於可以做到在形成於冷卻構件的流路上使水或空氣等的冷媒流通，所以更能夠提升冷卻效果。

在第11構成中，是除了第1至第10中任一構成以外，還對單一個的前述冷卻構件抵接有複數個前述線圈。

在設置複數台容易接收高頻雜訊的機器的情況下，由於能夠將位於附近之對機器所設置的線圈一起集合到單一個的冷卻構件並使其抵接，所以變得可做到低通濾波器整體形狀的小型化。又，在連接容易接收高頻雜訊的機器、及電源或控制電路的情況下，必須在機器的正極側及負極側的各自的電路中設計線圈及電容之組。針對此點，由於在上述構成中能夠將設置於機器的正極側的線圈與設置於負極側的線圈抵接於共通的冷卻構件，所以變得可做到低通濾波器整體形狀的小型化。

在第12構成中，是除了第11構成以外，前述冷卻構件的形狀為板形，且於其正面、背面分別抵接有至少一個前述線圈。

在上述構成中，由於是設成使線圈抵接於冷卻構件的兩面之構成，所以能夠將低通濾波器整體的大小更加地小型化。又，在連接容易接收高頻雜訊的機器、及電源或控制電路的情況下，必須在機器的正極側及負極側的各自的電路中設計線圈及電容之組。針對此點，在上述構成中，可以使一邊的線圈抵接於冷卻構件的第1側，並使另一邊的線圈抵接於冷卻構件的第2側。

在第13構成中，除了第1至第12構成中任一構成以外，前述線圈是將前述帶狀的導體以積層的形式捲繞複數圈而形成為筒狀。

用以實施發明之形態 ＜第1實施形態＞ 首先，參照圖1與圖2來針對低通濾波器10的構造作說明。低通濾波器10具備有：線圈20，由帶狀之包含導體的積層體21以繞預定軸線20a的方式且以積層的形式捲繞複數圈而成；及電容30，連接於此線圈20。線圈20是積層成相鄰的積層體21互相地密合而形成，且形成為於其中心設置有孔的圓筒狀。再者，線圈20的形狀並不限於圓筒狀，亦可為角筒狀等的筒狀。

這些線圈20與電容30是安裝於板狀的冷卻構件40上。具體而言，是在冷卻構件40的正面、背面的每一面上，將2個線圈20在冷卻構件40的長度方向上拉開間隔而設置，且線圈20的預定軸線20a方向的端面側抵接於冷卻構件40。又，在冷卻構件40的正面、背面的每一面上，將2個電容30在線圈20之間於寬度方向上拉開間隔而設置。

冷卻構件40是以例如氧化鋁(礬土)所形成，在其內部形成有可使液體或氣體即冷媒流通的流路。於冷卻構件40的長度方向的側面設置有冷媒的入口即流路入口41、以及冷媒的出口即流路出口42。再者，在本實施形態中是設成使用水作為冷媒之構成。

如圖3的放大截面圖所示，積層體21是包含帶狀(細長的薄膜狀)的導體22、帶狀的絕緣構件23及帶狀的接著構件24而構成，並且依導體22、絕緣體23、接著構件24的順序積層。導體22是以銅所形成。絕緣構件23是以例如聚醯亞胺所形成。接著構件24是以例如聚矽氧類接著劑所形成。

在如此地形成線圈20後，是於線圈20的預定軸線20a方向的端面上，使一部分的導體22或絕緣構件23突出，而在導體22彼此之間形成凹陷。於是，如圖3的放大截面圖所示，藉由礬土的熱噴塗而形成有陶瓷層25，以在線圈20的軸線方向的端面上，填塞導體22彼此之間的凹陷。藉此，線圈20的軸線方向端面會受陶瓷層25所包覆。由於礬土為絕緣體，即便在導體22上熱噴塗了礬土，也能夠防止導體22彼此短路之情形。陶瓷層25的預定軸線方向的表面可藉由磨削而平坦化，且加工成預定的平滑度。

此陶瓷層25的預定軸線方向的表面與冷卻構件40之間，是以具有熱傳導性的接著構件26來接著。此接著構件26是例如聚矽氧類接著劑，且線膨脹係數與冷卻構件40大致相等。

接著，參照圖4及圖5針對低通濾波器10中的線圈20與電容30的電連接作說明。再者，於圖4中，設置於電氣機器60及直流電源50的負極側之低通濾波器10會省略圖示。構成線圈20的導體22的長度方向的端部之兩端的每一端設置有第1端子27、第2端子28。如上述，由於線圈20是將導體22以繞預定軸線20a的方式捲繞而成的線圈，所以會成為將第1端子27是設置於線圈20的最外周，並成為將第2端子28設置於線圈20的最內周。又，於電容30設置有第1端子31及第2端子32。

於線圈20的第1端子27連接有電容30的第1端子31及直流電源50。於線圈20的第2端子28連接有電氣機器60。又，電容30的第2端子32是連接至接地部位33。因為像這樣將低通濾波器10與直流電源50及電氣機器60相連接，所以能夠藉由低通濾波器10去除在電氣機器60中所產生的電氣雜訊、或電氣機器60所接收到的電氣雜訊。

再者，如圖5所示，是設為於低通濾波器10中，在直流電源50的正極側及負極側的每一側上設置線圈20與電容30之對的構成。因此，在圖1~圖3所示之低通濾波器10的構成中，亦可設為在冷卻構件40的一面設置有被設於直流電源50的正極側的線圈20及電容30之構成，且亦可設為在另一面設置有被設於直流電源的負極側的線圈20及電容30之構成。又，亦可設為於冷卻構件40的一面設置有被設於直流電源50的正極側及負極側的線圈20及電容30之構成。

在如以上所構成的低通濾波器10中，必須將應去除的頻率之去除對象頻率的雜訊之增益(Gain)增大，並設定線圈20的阻抗特性及電容30的阻抗特性。

若將輸入至低通濾波器10的電壓設為Vin、將從低通濾波器10輸出的電壓設為Vout、將線圈20的阻抗設為ZL、將電容30的阻抗設為ZC的話，如下的式(1)成立。

[數學式1]亦即，只要線圈20的阻抗即ZL變得越大，輸出的電壓即Vout會變得越小，而電容30的阻抗變得越小，輸出的電壓即Vout會變得越小。

參照圖6，針對表示線圈20的阻抗與頻率之關係的頻率特性、及電容30的頻率特性作說明。電容30的阻抗的頻率特性是頻率變得越大阻抗變得越小，並且在某一頻率下成為阻抗的最小值之後，為頻率變得越大，阻抗變得越大。

另一方面，線圈20的阻抗的頻率特性是頻率變得越大阻抗變得越大，並且在某一頻率下成為阻抗的最大值之後，為頻率變得越大阻抗變得越小。

如上所述，如果要充分地使去除對象頻率的雜訊衰減，必須將線圈20的阻抗設得更大，並將電容30的阻抗設得更小。亦即，只要設成在去除對象頻率的附近將線圈20的阻抗取最大值，且設成在去除對象頻率的附近將電容30的阻抗取最小值，就能夠理想地將去除對象頻率去除。例如，在如圖6所示地將去除對象頻率設為13.6MHz時，將電容30的阻抗成為最小值的頻率設定為高於去除對象頻率，並將線圈20的阻抗成為最大值的頻率設定為低於去除對象頻率，藉此能夠理想地將去除對象頻率的雜訊去除。

然而，在本實施形態中，是設成作為電容30而將阻抗的頻率特性預先設定好的構成。於是，在本實施形態之低通濾波器10中，是為了讓線圈20的阻抗取最大值的頻率接近去除對象頻率，來設計線圈20。具體而言，如圖6所示，只要將線圈20設計成讓電容30的阻抗取最小值的頻率比去除對象頻率更大第1預定值的頻率，即可使線圈20的阻抗取最大值的頻率成為比去除對象頻率更小第2預定值的頻率。

圖7所顯示的是線圈20的阻抗的頻率特性與線圈20的匝數之間的關係。在圖7中，所顯示的是線圈20的匝數為a(T)、b(T)、c(T)(其中，a＞b＞c)的情況的頻率特性。如同圖7所示，匝數變得越多，越會使阻抗為取最大值的頻率往低頻側位移，且匝數變得越少，越會使阻抗為取最大值的頻率往高頻側位移。亦即，形成去除對象頻率變得越小，越要將匝數設得較多之必要。

圖8所顯示的是將電容30的靜電容量設為固定，並使線圈20的匝數變化時的低通濾波器10的增益(Gain)。在圖8中，將以低通濾波器10可做到充分的雜訊的去除的增益規定作為閾値Gth。

如圖8所示，若去除對象頻率為13.5MHz時，在匝數為b(T)的情況及匝數為c(T)的情況下，會使增益變得比閾値Gth更小，若匝數為a(T)，就會使增益變得比閾値Gth更大。另一方面，若去除對象頻率為6MHz時，在匝數為a(T)的情況下，會使增益改得比閾値Gth更小，但在匝數為b(T)的情況及匝數為c(T)的情況下，會使增益變得比閾値Gth更大。

在像這樣將去除對象頻率中的增益形成得比閾値Gth更小方面，亦可取代改變線圈20的匝數，而改變線圈20的內徑。

圖9所顯示的是線圈20的阻抗的頻率特性與線圈20的內徑之關係。在圖9中，所顯示的是線圈20的內徑為d(mm)、e(mm)(其中，d＞e)的情況下的頻率特性。如圖9所示，內徑變得越大阻抗取最大值的頻率越往低頻率側位移(shift)，且內徑變得越小阻抗取最大值的頻率越往高頻率側位移。亦即，當去除對象頻率變得越小，越會形成將內徑設得較大的必要。

如以上，線圈20的阻抗的頻率特性能夠藉由改變線圈20的匝數、及線圈20的內徑之作法，來讓線圈20的阻抗取最大值的頻率接近去除對象頻率。

然而，當去除對象頻率變得越小，就必須將線圈20的匝數設得更大，或必須將線圈20的內徑設得更大。在這種情況下，會使構成線圈20的導體22變得更長，藉此使線圈20的電阻值上升。亦即，增加線圈20的銅損。於是，在本實施形態中，除了調整線圈20的匝數及內徑以外，也可藉由使絕緣構件23的厚度改變，以使阻抗的頻率特性改變。

參照圖10，針對線圈20的阻抗的頻率特性與導體22之夾層的關係作說明。如上所述，由於在導體22的夾層設置有絕緣構件23及接著構件24，若要改變此夾層，只要改變絕緣構件23的厚度即可。在圖10中所顯示的是，夾層為f(μm)、g(μm)、h(μm)(其中，f＜g＜h)的情況下的頻率特性。如圖10所示，當夾層變得越大阻抗為取最大值的頻率越往高頻側位移，當夾層變越小阻抗為取最大值的頻率越往低頻側位移。亦即，能夠藉由將絕緣構件23設得較厚，使阻抗為取最大值的頻率往高頻側位移，且能夠藉由將絕緣構件23設得較薄，使阻抗為取最大值的頻率往低頻側位移。

藉由上述構成，本實施形態之低通濾波器10會發揮以下的效果。

由於作為線圈20所使用的是將帶狀的導體22以繞預定軸線的方式捲繞而成的構成，所以導體22彼此之間在預定軸線方向上並未設置有絕緣構件23等。並且，能夠將於構成線圈20的導體22所產生的熱傳達至預定軸線方向的端部為止，並藉由設置於預定軸線方向的端面側之冷卻構件40有效率地移除熱。此外，由於導體22彼此的絕緣為僅在線圈20的徑方向上的絕緣即可，所以表示導體22的體積相對於線圈20整體的體積之比例的佔空係數將變大。因此，能夠使每單位體積的線圈20的電阻值下降，而以更小的體積來使規定的電流流通，所以能夠縮小線圈20整體的體積。其結果，可以提供具有排熱性良好且可做到小型化的低通濾波器10。

在已預先規定有將導體22彼此絕緣的構造的一般的線圈20中，只能改變導體22的線徑或匝數，來使線圈20的電感及阻抗特性變化。針對此點，由於在本實施形態中能夠藉由絕緣構件23的厚度來改變線圈20的阻抗特性，因此可因應去除對象頻率來提供具有適當的阻抗的線圈20。進而，變得可做到提高去除對象頻率中的線圈20的阻抗。

當去除對象頻率越低，就必須將線圈20的匝數設得越多，或增大線圈20的內徑，藉此使銅損變大。針對此點，在本實施形態中除了調整線圈20的匝數及線圈20的內徑以外，還調節設置於導體之間的絕緣構件23的厚度，藉此使阻抗的最大值接近去除對象頻率。藉此，能夠抑制線圈20的銅損，並且使阻抗的最大值接近去除對象頻率。

由於線圈20的阻抗的頻率特性是實際上具有個體差異的特性，所以即便設計成讓線圈20的阻抗變得最大值的頻率與去除對象頻率一致，實際上也會有線圈20的阻抗在去除對象頻率中無法成為最大值的情況。針對此點，本實施形態由於是將線圈20的阻抗變得最大的頻率設定成從去除對象頻率錯開，因此即便在線圈20的阻抗的頻率特性產生個體差異時，在頻率特性的傾向上也難以產生變化。因此，即便線圈20的阻抗的頻率特性上產生有個體差異，也能夠擔保低通濾波器10整體之雜訊去除性能。

由於是藉由調節決定線圈20的大小的複數個要因來設定阻抗的頻率特性，所以能夠對去除對象頻率提供適當的大小的線圈20。特別是，即使對線圈20的匝數或內徑等具有限制，仍可藉由調節絕緣構件23的厚度來設定阻抗的頻率特性，所以能夠因應去除對象頻率來提供適當的阻抗的線圈20。

在將線圈20以繞預定軸線的方式捲繞複數圈的情況下，會在預定軸線方向的端面上於導體22彼此之間形成凹陷、或使一部分的導體22突出。因此，於線圈20的軸線方向端面抵接有冷卻板的情況下，會形成從線圈20到冷卻板的熱傳達性降低之情形。針對此點，由於在上述構成中，是設成線圈20為在預定軸線的端面上具有表面平坦的陶瓷層25之構成，所以可增進該陶瓷層25的平坦之面與冷卻構件40之密合性。從而，能夠提升藉由冷卻構件40所形成的散熱效率。

由於是設成在形成於冷卻構件40的流路上使水流通之構造，所以可以更加提升冷卻效果。

在連接容易接收到高頻雜訊的電氣機器60及直流電源50的情況下，必須在機器的正極側及負極側的每一側的電路中設置線圈及電容30之組。針對此點，由於在本實施形態中，是使設置於機器的正極側的線圈20及設置於負極側的線圈20抵接於共通的冷卻構件40，所以變得可實現低通濾波器10的整體的形狀的小型化。

＜第2實施形態＞ 在第1實施形態中，是設成對一個線圈20連接一個電容30的構成。針對此點，在本實施形態中，是對一個線圈20連接有複數個、具體而言是2個電容30。

參照圖11說明電容30的阻抗的頻率特性。圖11所顯示的是使用一個靜電容量為αpF的電容30的情況、將2個靜電容量為αpF的電容30並聯連接的情況、使用1個靜電容量為βpF的電容30的情況、以及將2個靜電容量為βpF的電容30並聯連接的情況。再者，β為α的約2倍之數值。

如圖11所示，使用一個靜電容量為αpF的電容30的情況、及將2個靜電容量為αpF的電容30並聯連接的情況，阻抗取最小值的頻率會大致變得相等。另一方面，將2個靜電容量為αpF的電容30並聯連接的情況之阻抗，會與使用一個靜電容量為βpF的電容30的情況之阻抗大致變得相等。亦即，相較於使用一個靜電容量為αpF的電容30的情況，會使阻抗變得更小。

從而，藉由將複數個電容30並聯地連接來使用之作法，可以在維持將電容30單體的阻抗取最小值的頻率時，將電容30整體時的阻抗設得更小，而可以提供雜訊去除性能更優異的低通濾波器10。

＜變形例＞ 在第1實施形態中，雖然是將電容30的阻抗取最小值的頻率設得比去除對象頻率更大，但亦可將電容30的阻抗取最小值的頻率設得比去除對象頻率更小。在這種情況下，只要將線圈20的阻抗取最大值的頻率設得比去除對象頻率更大即可。亦即，亦可將線圈20的阻抗取最大值的頻率設得更大。如在第1實施形態中所說明的，要將線圈20的阻抗取最大值的頻率設得較大時，只要減少匝數或將內徑變小即可。因此，能夠實現線圈20的更加小型化，並可以將銅損變小。

雖然在第1實施形態中例示了6MHz與13.5MHz作為去除對象頻率，但可選擇作為去除對象頻率的頻率並不限定於此頻率。作為各實施形態之低通濾波器10的去除對象頻率的下限，較理想的是100kHz。又，作為去除對象頻率的上限，較理想的是20MHz。這是因為如第1實施形態中所示，當去除對象頻率變得越大越會使線圈20小型化，且使發熱的問題變小，因而可將藉由冷卻構件40去除線圈20的熱之必要變小之故。

雖然在實施形態中，是設成使線圈20抵接在冷卻構件40的正面、背面的每一面之構成，但亦可設成僅在正面、背面的任1面設置線圈及電容30之構成。

雖然在實施形態中，是設成使複數個線圈20抵接於冷卻構件40之構成，但亦可設成僅使1個線圈20抵接之構成。

在實施形態中，雖然例示了去除對象頻率為1個的情況，但針對去除對象頻率為複數個的情況也可同樣地適用。例如，在需要將數MHz的雜訊及數百kHz的雜訊去除的情況下，只要將各個雜訊的頻率設為去除對象頻率來設計線圈20的匝數、內徑以及絕緣構件23的厚度即可。

在實施形態中，雖然是設成讓水流通於設置於冷卻構件40的流路之構成，但亦可設成讓水以外的液體、或是空氣等氣體作為冷媒來流通之構成。

在實施形態中，雖然是設成於冷卻構件40設置流通水的流路之構成，但也可不設置流路。

在第2實施形態中，雖然是設成將2個電容30並聯連接之構成，但亦可設成將3個以上的電容並聯連接之構成。

構成低通濾波器10的各構件的材料並不限於在實施形態所示的材料，且是可變更的。

10‧‧‧低通濾波器

20‧‧‧線圈

20a‧‧‧預定軸線

22‧‧‧導體

23‧‧‧絕緣構件

24、26‧‧‧接著構件

25‧‧‧陶瓷層

27、31‧‧‧第1端子

28、32‧‧‧第2端子

30‧‧‧電容

33‧‧‧接地部位

40‧‧‧冷卻構件

41‧‧‧流路入口

42‧‧‧流路出口

50‧‧‧直流電源

60‧‧‧電氣機器

B‧‧‧區域

圖1是顯示低通濾波器的外觀之圖。 圖2是圖1之A-A的截面圖。 圖3為圖2之區域B的放大圖。 圖4是顯示線圈與電容的電連接狀態之圖。 圖5為低通濾波器的電路圖。 圖6是顯示線圈及電容的阻抗的頻率特性之圖。 圖7是顯示使線圈的匝數變化的情況下之阻抗的頻率特性之圖。 圖8是顯示使線圈的匝數變化的情況下之低通濾波器的增益(gain)之圖。 圖9是顯示使線圈的內徑變化的情況下之阻抗的頻率特性之圖。 圖10是顯示使線圈的夾層變化的情況下之阻抗的頻率特性之圖。 圖11是顯示設置複數個電容的情況下之阻抗的頻率特性之圖。

Claims (13)

1. 一種低通濾波器，具備： 線圈，將帶狀的導體以繞預定軸線的方式捲繞複數圈； 電容，將一邊的端子連接到前述導體，並將另一邊的端子連接到接地部位；及 冷卻構件，抵接於前述線圈的前述預定軸線方向的端面側。
2. 如請求項1之低通濾波器，其中前述線圈是將依前述導體、絕緣構件、接著構件的順序積層而成的積層體以繞前述預定軸線的方式捲繞複數圈。
3. 如請求項2之低通濾波器，其中表示前述線圈的阻抗與頻率之關係的頻率特性可藉由前述線圈的匝數、前述導體的寬度、以及前述絕緣構件的厚度來調整。
4. 如請求項1至3中任一項之低通濾波器，其中是將去除對象之雜訊的頻率預先定作去除對象頻率，並且使前述線圈的阻抗變得最大的頻率是自前述去除對象頻率偏移預定頻率。
5. 如請求項4之低通濾波器，其中前述線圈的阻抗變得最大的頻率比前述去除對象頻率更大前述預定頻率。
6. 如請求項4之低通濾波器，其中前述線圈的阻抗變得最大的頻率比前述去除對象頻率更小前述預定頻率。
7. 如請求項4之低通濾波器，其中前述去除對象頻率為100kHz~20MHz。
8. 如請求項1至3中任一項之低通濾波器，其具備複數個前述電容，且將複數個前述電容並聯連接。
9. 如請求項1至3中任一項之低通濾波器，其中前述線圈於前述預定軸線方向的端面上具有表面為平坦的陶瓷層，且前述陶瓷層的前述表面側抵接於前述冷卻構件。
10. 如請求項1至3中任一項之低通濾波器，其中前述冷卻構件於內部設置有流路。
11. 如請求項1至3中任一項之低通濾波器，其具備複數個前述線圈，並且使複數個前述線圈抵接於一個前述冷卻構件。
12. 如請求項11之低通濾波器，其中前述冷卻構件的形狀為板狀，且對其正面、背面分別抵接有至少一個前述線圈。
13. 如請求項1至3中任一項之低通濾波器，其中前述線圈是將前述帶狀的導體以積層的形式捲繞複數圈而形成為筒狀。