TW201801283A - 用於封裝應用之濺鍍系統及方法 - Google Patents

用於封裝應用之濺鍍系統及方法 Download PDF

Info

Publication number
TW201801283A
TW201801283A TW106103347A TW106103347A TW201801283A TW 201801283 A TW201801283 A TW 201801283A TW 106103347 A TW106103347 A TW 106103347A TW 106103347 A TW106103347 A TW 106103347A TW 201801283 A TW201801283 A TW 201801283A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
template
adhesive member
double
assembly
ring
Prior art date
Application number
TW106103347A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI735525B (zh
Inventor
紅孟 阮
麥修 尚 瑞德
Original Assignee
天工方案公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 天工方案公司 filed Critical 天工方案公司
Publication of TW201801283A publication Critical patent/TW201801283A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI735525B publication Critical patent/TWI735525B/zh

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
    • H01L23/64—Impedance arrangements
    • H01L23/66—High-frequency adaptations
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/552—Protection against radiation, e.g. light or electromagnetic waves
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50—Substrate holders
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/28—Manufacture of electrodes on semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/268
    • H01L21/283—Deposition of conductive or insulating materials for electrodes conducting electric current
    • H01L21/285—Deposition of conductive or insulating materials for electrodes conducting electric current from a gas or vapour, e.g. condensation
    • H01L21/28506—Deposition of conductive or insulating materials for electrodes conducting electric current from a gas or vapour, e.g. condensation of conductive layers
    • H01L21/28512—Deposition of conductive or insulating materials for electrodes conducting electric current from a gas or vapour, e.g. condensation of conductive layers on semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System
    • H01L21/2855—Deposition of conductive or insulating materials for electrodes conducting electric current from a gas or vapour, e.g. condensation of conductive layers on semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System by physical means, e.g. sputtering, evaporation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L21/6836—Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/50—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor for integrated circuit devices, e.g. power bus, number of leads
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
    • H01L23/64—Impedance arrangements
    • H01L23/645—Inductive arrangements
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/03—Manufacturing methods
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/68354—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used to support diced chips prior to mounting
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161—Disposition
    • H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/16227—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the bump connector connecting to a bond pad of the item
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3121—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
    • H01L23/3128—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation the substrate having spherical bumps for external connection
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151—Die mounting substrate
    • H01L2924/153—Connection portion
    • H01L2924/1531—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30—Technical effects
    • H01L2924/301—Electrical effects
    • H01L2924/3025—Electromagnetic shielding

Abstract

本發明揭示用於封裝應用之濺鍍系統及方法。在一些實施例中，一種用於處理複數個封裝器件之方法可包含：形成或提供一第一總成，該第一總成具有一模板及附接至該模板之一第一側的一雙面黏著構件，其中該模板具有複數個開口，且該雙面黏著構件具有對應於該模板之該等開口的複數個開口。該方法可進一步包含：將該第一總成附接至一環以提供一第二總成，其中該環經定尺寸以促進一沈積程序。該方法可進一步包含：將複數個封裝器件裝載至該第二總成上，使得各封裝器件由該第一總成之該雙面黏著構件保持且各封裝器件之一部分延伸至該雙面黏著構件之對應開口中。

Description

用於封裝應用之濺鍍系統及方法
本發明係關於諸如屏蔽射頻(RF)模組之封裝電子模組之製造。
在射頻(RF)應用中，RF電路及相關器件可實施於一封裝模組中。此一封裝模組可包含用於抑制或減少與此等RF電路之部分或全部相關聯之電磁干擾的屏蔽功能。
根據若干實施方案，本發明係關於一種用於處理複數個封裝器件之方法。該方法包含：形成或提供一第一總成，該第一總成具有一模板及附接至該模板之一第一側的一雙面黏著構件。該模板具有複數個開口，且該雙面黏著構件具有對應於該模板之該等開口的複數個開口。該方法進一步包含：將該第一總成附接至一環以提供一第二總成，其中該環經定尺寸以促進一沈積程序。該方法進一步包含：將複數個封裝器件裝載至該第二總成上，使得各封裝器件由該第一總成之該雙面黏著構件保持且各封裝器件之一部分延伸至該雙面黏著構件之對應開口中。 在一些實施例中，各封裝器件可包含一盒形體，且延伸至該雙面黏著構件之對應開口中的該封裝器件之該部分可包含實施於該盒形體之一底側上之一或多個特徵。該一或多個特徵可包含複數個焊球。該盒形體可包含一上表面及四個側壁表面。該方法可進一步包含：對裝載有該等封裝器件之該第二總成執行該沈積程序，使得一導電材料沈積至該複數個封裝器件之各者之該盒形體之該上表面及該四個側壁表面上。 在一些實施例中，可依一等形方式沈積該導電材料。在一些實施例中，該封裝器件可為一射頻模組，且該導電材料可經組態以對該射頻模組提供屏蔽。 在一些實施例中，形成該第一總成可包含：將不具有開口之該雙面黏著構件附接至該模板之該第一側；及執行一雷射切割操作以形成該雙面黏著構件之開口。該雷射切割操作可經執行使得一雷射束透過該模板之開口入射於該雙面黏著構件上。該雷射切割操作可進一步經組態使得該雷射束切穿該雙面黏著構件但不穿過與該模板對置之該雙面黏著構件之側上之一覆蓋層。該方法可進一步包含：自該雙面黏著構件移除該覆蓋層，使得該雙面黏著構件之該切口部分與該覆蓋層一起被移除以藉此提供該雙面黏著構件之開口。可在將該第一總成附接至該環之後執行移除該覆蓋層。該雙面黏著構件之開口可小於該模板之對應開口。 在一些實施例中，將該第一總成附接至該環可包含：相對於該環定位該第一總成，使得該環環繞該第一總成。將該第一總成附接至該環可進一步包含：將一黏著構件定位於該第一總成及該環上以藉此將該第一總成固定至該環，其中該黏著構件附接至該模板之一第二側。該黏著構件可為一單面黏著構件。該方法可進一步包含：執行一雷射切割操作以切穿覆蓋該模板之該黏著構件之一部分以暴露該模板之各開口之至少一部分。切穿該黏著構件之該部分可導致該黏著構件中之一單一開口暴露該模板之全部開口。該雷射切割操作可經執行使得一雷射束切穿該黏著構件且不損壞該模板之該第一側上之該雙面黏著構件。該雷射切割操作可經執行使得在切穿該黏著構件之後，該雷射束由該模板阻擋。 在一些實施方案中，本發明係關於一種用於處理複數個封裝模組之器件。該器件包含：一環，其經組態以用於一沈積裝置中；及一模板，其具有複數個開口，其中各開口經定尺寸以接納待處理之一封裝模組之一部分。該器件進一步包含一黏著構件，其將該模板附接至該環以允許該模板用於該沈積裝置中。 在一些實施例中，該器件可進一步包含附接至該模板之一第一側的一雙面黏著構件，其中該雙面黏著構件具有對應於該模板之該等開口的複數個開口。該環及該模板可藉由該黏著構件來附接成大致共面。該模板可定位於該環之一內半徑內。該黏著構件可經定尺寸以覆蓋該模板之一第二側之至少一部分及該環之一對應側之至少一部分。該黏著構件可為一單面黏著構件，使得該單面黏著構件之一黏著側接合該模板之該第二側及該環之該對應側。 在一些實施例中，該黏著構件可包含一或多個切口，其等經定尺寸以暴露該模板之該第二側上之該模板之各開口之至少一部分以允許周圍氣體在自該模板之該第一側將該RF模組之部分放置於該模板之開口內時自該模板之開口逸出。該黏著構件之該一或多個切口可包含暴露該模板之全部開口的一單一切口，其中該單一切口導致該黏著構件在該模板之一周邊部分處保持該模板之該第二側。 在一些實施例中，該黏著構件之該單一切口可在該模板之一固體部分處包含一切割邊緣，使得該模板抑制在自該模板之該第二側對該黏著構件進行一切割操作期間損壞該模板之該第一側上之該雙面黏著構件。 在一些實施例中，該模板之該第一側上之該雙面黏著構件之各開口經定尺寸以接合該封裝模組之一底側，同時允許該封裝模組之該部分進入該模板之對應開口。該模板之該第一側上之該雙面黏著構件之各開口可小於該模板之對應開口，使得該雙面黏著構件之該開口之一邊緣相對於該模板之該對應開口形成一懸伸部。 在一些實施例中，該器件可進一步包含位於該雙面黏著構件上方之一覆蓋層，其中該覆蓋層經組態以在將該等封裝模組定位至該雙面黏著構件上之前被移除。該雙面黏著構件之該等開口可經組態使得當移除該覆蓋層時，該雙面黏著構件之一切口與該覆蓋層一起被移除以藉此提供該雙面黏著構件之對應開口。 在一些實施例中，該環可具有一大體上呈圓形之形狀。該環可經定尺寸以完全圍封其內部部分。 在一些實施例中，該沈積裝置可包含一物理氣相沈積裝置。在一些實施例中，該模板可為一矩形板材，且該等開口可為配置成一陣列之矩形開口。 根據一些教示，本發明係關於一種用於分批處理封裝模組之系統。該系統包含一第一子系統，其經組態以製備或提供一載體總成，該載體總成包含：一環，其經組態以用於一沈積裝置中；一模板總成，其具有複數個開口，其中各開口經定尺寸以接納待處理之一封裝模組之一部分；及一黏著構件，其將該模板總成附接至該環以允許該模板總成用於該沈積裝置中。該系統進一步包含一第二子系統，其經組態以處置複數個封裝模組，使得該等封裝模組能夠定位於該模板總成之該等開口上方且由該模板總成保持以藉此允許在該沈積裝置中進一步處理該複數個封裝模組。 在一些實施例中，該系統可進一步包含一第三子系統，其具有該沈積裝置且經組態以對該複數個封裝模組執行一沈積程序。由該模板總成保持之該等封裝模組可允許該沈積程序將一等形導電材料層沈積於各封裝模組之上表面及側表面上，同時維持該封裝模組之一底側實質上不含該導電材料。 本文中已為了概述本發明而描述本發明之特定態樣、優點及新穎特徵。應瞭解，未必可根據本發明之任何特定實施例來達成全部此等優點。因此，可依達成或最佳化本文中所教示之一優點或優點群組且未必達成本文中可教示或建議之其他優點的一方式體現或實施本發明。
以 引用 方式 併入任何優先申請案 其國內外優先權主張識別於與本申請案一起提交之申請資料表中的任何及全部申請案根據37 CFR 1.57以引用方式併入本文中。本申請案主張名稱為「SPUTTERING SYSTEMS AND METHODS FOR PACKAGING APPLICATIONS」之2016年1月31日申請之美國臨時申請案第62/289,314號之優先權，該案之全文以引用方式明確併入本文中。 本文中所提供之標題(若存在)僅為了方便且未必影響本發明之範疇或意義。 圖1展示一實例性總成之一仰視圖，該實例性總成包含一環50，環50具有附接至其底側之一膠帶52。環50之內邊界內之膠帶52之一區域經展示為具有安裝於其上之一陣列之器件54 (諸如封裝器件)。環50可經定尺寸以安裝於至諸如(例如)一物理氣相沈積(PVD)機器之一裝置上以允許對總成之上側執行一PVD程序。 在圖1之實例中，圖2A及圖2B中更詳細地展示指示為56且表示一封裝器件54及其相關膠帶52的一部分。圖2A展示圖1之部分56之一放大俯視圖，且圖2B展示相同部分56之一放大側視圖。封裝器件54經展示為包含諸如焊球60之一或多個不規則特徵或構形。此一封裝器件經展示為安裝至膠帶52之上表面上。如圖1中所展示，膠帶52之周邊部分之上表面亦經展示為附接至環50之底側。 在圖2A及圖2B所展示之實例中，不規則特徵或構形(諸如焊球60)經展示為藉由膠帶52界定之一開口58予以容納。據此，封裝器件54可由膠帶52保持，使得封裝器件54之側壁及上表面大體上暴露於總成之上側。在此一組態中，對總成之上側所執行之一沈積程序(諸如一PVD程序)可導致材料(例如導電材料，諸如金屬)等形塗覆至封裝器件54之側壁及上側上，而下側(其包含焊球60)在PVD程序期間大體上保持未被塗覆。如本文中所描述，封裝器件54之此等形塗覆可提供射頻(RF)屏蔽功能。 在圖1及圖2之實例中，膠帶52通常為足夠可撓的，使得機械問題會出現。例如，當將封裝器件54之陣列裝載至膠膠帶52上時，額外重量會引起膠帶52鬆垂且藉此偏離總成之一大體上呈平坦之組態。此鬆垂會影響由PVD程序所致之塗覆之均勻性。此鬆垂亦會影響在裝載步驟(例如，在PVD程序之前)及卸載步驟(例如，在PVD程序之後)期間處置封裝器件54之方式。 本文中描述可如何在一封裝製程(例如用於形成一等形屏蔽層之一PVD程序)期間利用一模板來保持器件(例如封裝器件)的各種實例。此一模板可經組態以提供比圖1及圖2之膠帶實例更適合用於保持待工作之器件的一平台。亦如本文中所描述，此一模板可與諸如一PVD環之一器件組裝以產生受益於模板之穩定性且能夠利用一既有PVD機器的一總成。 與用於保持封裝器件之模板相關之各種實例尤其描述於名稱為「DEVICES AND METHODS RELATED TO FABRICATION OF SHIELDED MODULES」之PCT申請案第PCT/US2016/054652號中，該案之全文以引用方式明確併入且其揭示內容被視為本申請案之說明書之部分。與具有諸如焊球之不規則特徵之封裝器件相關之各種實例尤其描述於名稱為「DUAL-SIDED RADIO-FREQUENCY PACKAGE HAVING BALL GRID ARRAY」之美國公開案第2016/0099192號中，該案之全文以引用方式明確併入且其揭示內容被視為本申請案之說明書之部分。 應注意，在一些實施例中，一封裝器件(諸如美國公開案第2016/0099192號中所揭示之具有一球柵陣列之一雙面封裝)可經組態有一封裝基板，其具有暴露於其側壁上之導電特徵。此等導電特徵可電連接至封裝基板內之一接地平面。因此，如本文中所描述般形成於封裝器件之上表面及側壁表面上之一等形屏蔽層透過導電特徵電連接至接地平面以藉此對封裝器件提供RF屏蔽功能。 圖3A至圖3D展示可如何實施PCT申請案第PCT/US2016/054652號中所描述之一或多個特徵來保持用於(若干)處理步驟之封裝器件的一實例。為了描述，應暸解，可在適當情況中互換地利用諸如模板、框架載體及板之術語。例如，PCT申請案第PCT/US2016/054652號中所描述之一框架載體或一板可用作為本文中所描述之一模板。在另一實例中，本文中所描述之一模板可用作為PCT申請案第PCT/US2016/054652號中之一框架載體或一板。 在一些實施例中，具有一或多個特徵之一模板(如本文中所描述)可為具有一第一側之一板，個別單元(例如單一化單元)可透過第一側引入至模板及自模板移除。板之第二側可為與第一側對置之側。例如，若模板經利用使得個別單元在模板之上側處引入至模板及自模板移除，則模板之上側可為其第一側且底側可為其第二側。類似地，若模板經利用使得個別單元在模板之下側處引入至模板及自模板移除，則模板之底側可為其第一側且上側可為其第二側。 在一些實施例中，前述模板之板可界定一孔隙陣列。此等孔隙之各者可經定尺寸以接納一個別單元之至少一部分，使得複數個此等個別單元可配置成用於進一步處理之一陣列。例如，由模板接納之此部分可包含一個別封裝器件之一底側上之不規則特徵，諸如焊球。 在一些實施例中，前述模板可為(例如)一金屬板或具有可處置重複操作暴露條件(諸如清潔環境及膠帶切割雷射操作)之組合物的一板。此一板可呈(例如)一矩形面板形式，且具有適合於提供本文中所描述之一或多個功能的一厚度。 在圖3A之一實例性組態500中，一模板204經展示為界定經定尺寸以接納一封裝器件之一部分的一開口203。儘管為了描述而展示一個開口，但應瞭解，複數個此等開口可實施於模板204上。一雙面膠帶206經展示為附接至模板204之一測。例如，此一膠帶可包含具有實施於各側上之一黏著層的聚醯亞胺膜211 (例如Kapton)基底。因此，在所展示之實例中，一黏著層213經展示為接合模板204，且一黏著層212經展示為由一覆蓋層207 (例如PET膜)覆蓋。據此，覆蓋層207可經剝離以暴露黏著層212。 在圖3B之實例性組態502中，一雷射束250經展示為施加至雙面膠帶206以形成穿過雙面膠帶206之一開口。如PCT申請案第PCT/US2016/054652號中所描述，可依若干方式達成雷射束250之此施加。例如，可自底側(圖3B之倒轉定向中之上側)施加雷射束250，且由雷射切割操作所致之開口可導致雙面膠帶206懸伸超過模板204之開口203之各邊緣。 在一些實施例中，圖3B之雷射切割操作可經組態使得雷射束250大體上燒穿雙面膠帶206，但未完全燒穿覆蓋層207。因此，當自雙面膠帶206剝離覆蓋層207時，雙面膠帶206之切口部分保持黏貼至覆蓋層207且因此一起被移除。 在圖3C之實例性組態504中，圖3B之雷射切割操作及覆蓋層之剝離經展示為以產生穿過雙面膠帶之一開口202。如PCT申請案第PCT/US2016/054652號中所描述，此一開口可依不同方式相對於模板204之開口203來定尺寸。在一些實施例中，開口202可經定尺寸以產生超過模板之開口203之邊緣的雙面膠帶206之一懸伸部(當如同圖3D般定向時)。在一些處理應用中，雙面膠帶之此一懸伸部可在處理封裝器件時提供所要功能。本文中將更詳細描述與此等所要功能相關之實例。 在圖3D之實例性組態506中，圖3C之總成經展示為經倒轉使得雙面膠帶206位於模板204上方，其中黏著層212(如圖3A所示)暴露於頂上。在此定向總成上，一封裝器件510經展示為安裝至雙面膠帶206上，使得焊球516延伸穿過雙面膠帶206之開口202。據此，封裝器件510之底側之周邊可由雙面膠帶206之邊緣部分固定。 在圖3D之實例中，封裝器件510經展示為包含一封裝基板512 (例如一PCB基板、一層疊基板等等)及安裝於封裝基板512上之一射頻(RF)組件513 (諸如一晶粒)。一包覆成型蓋514可形成於封裝基板512上方以產生封裝器件510之一上表面。在具有一矩形覆蓋區形狀之封裝基板512之實例性情境中，由包覆成型蓋514及封裝基板512形成之一盒形形狀界定封裝器件510之四個側壁。據此，當封裝器件510安裝於雙面膠帶206上(如圖3D中所展示)時，封裝器件510之四個側壁及上表面經暴露以允許沈積諸如金屬之材料來提供RF屏蔽功能。封裝器件510之底側(其包含焊球516)未暴露於模板之上側，因此不經受沈積材料。 在圖3D之實例中，封裝器件510之底側可或可不包含諸如一晶粒之一底側安裝組件。此外，應瞭解，焊球516係與實例性封裝器件510相關聯之不規則特徵或構形之實例。此等不規則特徵或構形可包含除焊球之外之特徵，或除包含焊球之外，亦可包含其他特徵。美國公開案第2016/0099192號中描述與前述底側安裝組件及不規則特徵或構形相關之實例。 在一些製造應用中，可期望利用諸如一PVD系統之一既有系統。如參考圖1及圖2所描述，經定尺寸以用於一PVD系統之一環可用於藉由使用一膠帶來安裝一封裝器件陣列。然而，此一組態會產生歸因於(例如)膠帶之撓性的一或多個挑戰。 在一些實施例中，具有一或多個特徵之一模板(如本文中所描述)可經實施以尤其使用一PVD系統來操作。此一組態亦會面臨一或多個挑戰。例如，若PVD專用模板相對較大，則會在一雷射系統進行各種切割操作(例如，穿過雙面膠帶)時出現挑戰。 本文中描述可如何將一模板安裝至另一結構(例如一PVD環)上來提供若干有利特徵的各種實例。例如，使用模板來裝載、處理及卸載封裝器件可歸因於模板之穩定性及一致性而受益。在另一實例中，模板可經適當定尺寸以允許諸如雷射切割操作之較容易非PVD操作。 在一些實施例中，可藉由使用一膠帶來將一模板安裝至一PVD環上。圖4及圖5展示一實例性程序及與此一程序相關聯之實例性狀態，其中一雙面膠帶與一裸模板配合以產生一第一總成。圖6及圖7展示一實例性程序及與此一程序相關聯之實例性狀態，其中圖4及圖5之第一總成安裝至一PVD環以產生一第二總成。圖8及圖9展示一實例性程序及與此一程序相關聯之實例性狀態，其中圖6及圖7之第二總成用於裝載一或多個封裝器件以產生用於一PVD程序之一第三總成。圖10至圖16展示與圖4至圖9之前述實例相關之額外實例。 在圖5、圖7及圖9所描繪之各種實例中，為了清楚而展示一個代表性開口。然而，應瞭解，一模板可包含用於容納複數個封裝器件之複數個此等開口(例如，配置成一陣列)。 應注意，各種實例描述於一PVD程序之情境中。然而，應瞭解，本發明之一或多個特徵亦可實施於其他類型之沈積或製造程序。 在一些實施例中，本發明之一或多個特徵可用於在一封裝器件陣列之各者上形成一等形導電層以使各封裝器件產生一RF屏蔽功能。可藉由PVD及/或其他類型之製程來達成在封裝器件上形成等形導電層。 參考圖4及圖5，一程序520可包含其中形成或提供一模板的一區塊522。在圖5A之一組態550中，此一模板經描繪為204。模板204經展示為包含一第一表面512及一第二表面514。模板204亦經展示為包含經定尺寸以接納如本文中所描述之一封裝器件之一部分的一開口203。 程序520可進一步包含其中使模板與一雙面膠帶層疊的一區塊524。在圖5B中，此一層疊組態經描繪為556，其中雙面膠帶206經展示為包含具有實施於各側上之一黏著層的聚醯亞胺膜211 (例如Kapton)基底。因此，在所展示之實例中，一黏著層213經展示為接合模板204，且一黏著層212經展示為由一覆蓋層207 (諸如PET膜)覆蓋。據此，覆蓋層207可經剝離以暴露黏著層212。 圖10A及圖10B展示一實例性層疊組態556之兩側。此一組態可對應於圖5B之前述組態556。更特定言之，圖10A展示與其中將接納封裝器件之側對置之側(例如底側)。據此，雙面膠帶之黏著層(圖5B中之213)經展示為透過模板204之開口陣列之各者暴露。圖10B展示其中將接納封裝器件之側(例如上側)。據此，具有覆蓋層207之雙面膠帶206經展示為覆蓋模板204之開口陣列之各者。 參考圖4，程序520可進一步包含其中執行一雷射操作以針對模板之各開口切穿雙面膠帶之部分或全部而產生一第一總成的一區塊526。此一雷射切割組態經描繪為558，其中一雷射束560經展示為施加至雙面膠帶206以產生切口562。如本文中所描述，可依若干方式達成雷射束560之此施加。在一些實施例中，圖5C之雷射切割操作可經組態使得雷射束560大體上燒穿雙面膠帶206，但未完全燒穿覆蓋層207。因此，當自雙面膠帶206剝離覆蓋層207時，雙面膠帶之切口部分可保持黏貼至覆蓋層且因此一起被移除。 參考圖6及圖7，一程序530可包含其中可形成或提供參考圖4及圖5所描繪之一第一總成的一區塊532。在圖7A中，由圖5C之雷射切割組態558所致之一組態564經展示為包含其中形成穿過雙面膠帶206但未穿過覆蓋層207之雷射切口562的第一總成。 程序530可進一步包含其中使用一膠帶(例如一單面膠帶)來將第一總成安裝至一PVD環的一區塊534。在圖7B中，此一組態經描繪為566，其中一膠帶568經展示為在與雙面膠帶206對置之側上附接至模板204。在一些實施例中，膠帶568可為(例如)一單面膠帶。 在一些實施例中，此一單面膠帶可延伸至一PVD環以藉此將第一總成564安裝至PVD環。圖11至圖13展示可如何將第一總成564安裝至此一PVD環(如參考圖6及圖7B所描述)的一實例。在圖11中，類似於圖7A之第一總成的一第一總成564經展示為放置於一安裝平台600上，使得模板之無膠帶表面(例如圖10A中所展示之表面)被暴露。在圖12中，一PVD環602經展示為已被定為成環繞第一總成564，且一單面膠帶568經展示為定位於第一總成564及PVD環602之內周邊上方。據此，第一總成564 (現附接至單面膠帶568)經展示為藉由膠帶568來固定至PVD環602。圖13展示由圖12之操作所致之PVD環602、單面膠帶568及第一總成564之總成566 (亦為圖7B中之566)之另一側。 參考圖6及圖7，程序530可進一步包含其中可執行一雷射操作以形成穿過單面膠帶之一或多個開口而產生一第二總成的一區塊536。圖7C展示此一雷射操作570之一實例，其中將一雷射束572施加至單面膠帶568以產生指示為574之切口。在一些實施例中，此一雷射切割可經進行使得模板充當用於防止切割進行於(若干)其他層處之一止檔。本文中將更詳細描述與此等選擇性雷射切割相關之實例。 圖7D展示由圖6及圖7C之區塊536之雷射操作所致之一第二總成之一實例。此一雷射操作經展示為導致模板之開口暴露於單面膠帶568之側577上。在圖11至圖13之實例之情境中，圖14展示自雷射切割操作(如參考圖6及圖7C所描述)暴露總成564之側577的一實例。在所展示之實例中，一大開口經形成以暴露模板之全部開口。應瞭解，亦可實施其他切口圖案。本文中將更詳細描述與模板開口之此暴露相關之更詳細實例。 參考圖8及圖9，一程序540可包含其中可形成或提供參考圖6及圖7所描述之一第二總成的一區塊542。在圖9A中，由圖7C之雷射切割組態570所致之一組態576經展示為包含其中形成穿過單面膠帶568之模板開口的第二總成。 程序540可進一步包含其中可使第二總成倒轉的一區塊544。此一程序區塊亦可包含：在倒轉步驟之前或在倒轉步驟之後自雙面膠帶206剝離覆蓋層(圖9A中之207)。在圖9B中，此一組態經描繪為578，其中覆蓋層207之剝離已導致雙面膠帶206之雷射切割部分(如同圖5C)被移除，藉此產生穿過雙面膠帶206之一開口202。 圖15展示自雙面膠帶206剝離覆蓋層207的一實例。覆蓋層207經展示為已黏貼至雙面膠帶之雷射切割部分604。據此，雙面膠帶206經展示為界定對應於模板204之開口的開口202之一陣列。 參考圖8及圖9，程序540可進一步包含其中將部件安裝於雙面膠帶上以產生適合用於一PVD程序之一第三總成580的一區塊546。在圖9C中，此等部件經展示為包含一封裝器件510，封裝器件510在其底側上具有一盒形體及不規則特徵(例如焊球)。如本文中所描述，封裝器件510可包含(例如)一封裝基板512 (例如一PCB基板、一層疊基板等等)及安裝於封裝基板512上之一RF組件513 (諸如一晶粒)。一包覆成型蓋514可形成於封裝基板512上方以產生封裝器件510之一上表面。在具有一矩形覆蓋區形狀之封裝基板512之實例性情境中，包覆成型蓋514及封裝基板512界定封裝器件510之四個側壁。據此，當封裝器件510安裝於雙面膠帶206上(如圖9C中所展示)時，側壁及上表面經暴露以允許沈積諸如金屬之材料來提供RF屏蔽功能。封裝器件510之底側(其包含焊球516)未被暴露，因此不經受沈積材料。 在圖9C之實例中，封裝器件510之底側可或可不包含諸如一晶粒之一底側安裝組件。此外，應瞭解，焊球516係與實例性封裝器件510相關聯之不規則特徵或構形之實例。此等不規則特徵或構形可包含除焊球之外之特徵，或除包含焊球之外，亦包含其他特徵。 圖16展示其中將複數個封裝器件510安裝至至少部分由模板204支撐之雙面膠帶206上的一實例。如本文中所描述，穿過雙面膠帶206所形成之開口202可容納與封裝器件510相關聯之不規則特徵，諸如焊球。 在一些實施例中，可將圖8及圖9C之第三總成之一或多者裝載至用於一沈積程序之一PVD裝置上。如本文中所描述，此一沈積程序可包含(例如)：等形塗覆一金屬以促進用於一給定封裝器件之RF屏蔽功能。 圖17描繪類似於圖13及圖14之實例的一總成，其中使用一膠帶568來將一模板/雙面膠帶總成564固定至一PVD環602。模板經展示為具有L×W之橫向尺寸，且PVD環602之內徑經展示為具有D之一尺寸。在一些實施例中，用於切割程序(例如，在圖5C及圖7C中)之一雷射系統更適合用於由模板界定之一橫向區域(L×W)內之操作，而非PVD環602之內徑內之整個橫向區域內之操作。亦可存在其在橫向尺寸L×W中之效率高於其在PVD環602之內徑內之較大區域中之效率的其他處理操作。因此，吾人應明白，一適當尺寸模板與一PVD環之組合使用可提供本文中所描述之若干有利特徵。 在一些實施例中，一PVD環及一模板可經定尺寸以允許將一個以上模板安裝至PVD環。圖18展示其中使用一膠帶568來將兩個模板/雙面膠帶總成564固定至一PVD環602的一實例。應注意，圖18之實例中之模板未必經定尺寸成相同於圖17之實例中之模板。亦應注意，圖18中之實例中之模板未必彼此相同。據此，若干模板可經適當定尺寸且安裝至一PVD環(如本文中所描述)以最大化或提高PVD環中之空間利用效率。 如本文所描述之各種實例中，一模板經描繪為具有一矩形形狀。應瞭解，其他形狀可實施於如本文中所描述之具有一或多個特徵之一模板。例如，圖19展示其中一模板/雙面膠帶總成564係基於一圓形模板的一實例。此一模板可經定尺寸以裝配於一PVD環602之內徑內。可使用一膠帶568來將模板/雙面膠帶總成564固定至PVD環602，如本文中所描述。 如本文所描述之各種實例中，一PVD環經描繪為具有一大體上呈圓形之形狀以促進用於諸多PVD系統中。應瞭解，此一圓形形狀係一實例，且其他形狀可經實施以容納其他沈積系統，其中基板保持器未必呈圓形。據此，圖20展示其中用於保持一模板/雙面膠帶總成564之一環形結構602具有一非圓形形狀的一實例。例如，環602可具有一矩形形狀。在圖20之實例中，可使用一膠帶568來將模板/雙面膠帶總成564固定至矩形環602，如本文中所描述。 在本文所描述之各種實例中，一雷射操作可經執行以自對應模板切割一單面膠帶之一部分。例如，圖7C、圖7D及圖14展示經實施以暴露模板之開口的此一切割。在一些實施例中，暴露模板之此等開口可促進在涉及模板之一或多個程序步驟期間更容易處置封裝器件。 例如，圖21展示其中將一單面膠帶568實施於一模板204之一側上且將一雙面膠帶206實施於模板204之另一側上的一組態。單面膠帶568係用於將模板204固定至一PVD環(圖中未展示)，且雙面膠帶206係用於將封裝器件510安裝至模板204上使得可藉由模板204之開口203容納諸如焊球之不規則特徵。在圖21之實例中，單面膠帶568經描繪為不具有任何開口。在此一組態中，當封裝器件510安裝於開口203上方時，諸如空氣之周圍氣體會被截留於模板開口203中。此截留氣體會使各種處理步驟更難進行。例如，當在諸如清潔及固化程序之步驟期間加熱此一總成(其具有安裝於雙面膠帶上之封裝器件510)時，大體上被截留於開口203中之氣體會急劇膨脹且引起封裝器件510變得鬆動。 圖22展示類似於本文中參考圖3D、圖9C及圖14所描述之實例的一實例性組態，其中藉由切除一單面膠帶568之適當部分來暴露一模板204之開口203。在此一組態中，當封裝器件510安裝於開口203上方時，諸如空氣之周圍氣體不會被截留於模板開口203中。例如，由安裝封裝器件510所致之周圍氣體之任何置換可歸因於開口被暴露(由於單面膠帶568上所進行之切割)而自開口203退出(箭頭610)。 在本文所描述之各種實例中，形成於單面膠帶(568)上之前述切口可暴露全部模板開口(203)。此一技術可為有利的，因為一雷射切割操作可暴露諸多模板開口。然而，應瞭解，可依其他方式實施暴露模板開口。例如，可存在一次以上雷射切割，使得各切割導致一群組之模板開口被暴露。 在另一實例中，各模板開口可部分或完全獨立於其他模板開口而被暴露。圖23展示其中切割或衝孔操作可在對應於模板開口203之區域處之單面膠帶568上產生開口的一實例。據此，周圍氣體可在諸如安裝封裝器件510之程序步驟期間透過單面膠帶568之此等開口逸出(箭頭610)。 在一些實施例中，可使用一給定膠帶來將一模板固定至一PVD環，且可利用相同膠帶來保持封裝器件。例如，具有用於接納封裝器件之開口的一雙面膠帶可延伸超過對應模板且附接至一PVD環。在此一組態中，可執行一雷射切割操作來處置此一雙面膠帶。 在一些實施例中且如本文中參考各種實施例所描述，可利用兩個單獨膠帶，其中可實施第一膠帶(例如一雙面膠帶)來將封裝器件安裝至一模板，且可實施第二膠帶(例如一單面膠帶)來將模板固定至一PVD環。在此一組態中，雷射切割操作可涉及：切割第一膠帶及第二膠帶。較佳地，對第一膠帶及第二膠帶所進行之切割經組態使得一膠帶之雷射切割不損壞另一膠帶。 例如且在圖23之組態之情境(其中在各模板開口203之一中間區域處或其附近對單面膠帶568進行切割)中，圖24展示其中一雷射束612形成此一切口(指示為614)的一切割操作。吾人應明白，此一雷射切割大體上不會損壞雙面膠帶206之懸伸部分(指示為616)，此係因為雷射束612不入射於雙面膠帶206上。應注意，在圖24之實例中，可在施加單面膠帶568之前對雙面膠帶206進行雷射切割以避免雷射束損壞單面膠帶568。 在另一實例中，且在圖22之組態之情境(其中在模板204之周邊附近對單面膠帶進行一單一大切割)中，圖25展示其中形成此一切口(指示為620)之一雷射束618在切穿單面膠帶568之後入射於模板本身上的一切割操作。據此，使包含懸伸部分616之雙面膠帶206免受雷射束618。 在本文所描述之各種實例中，一雙面膠帶上之一切口圖案(用於保持封裝器件)可包含相對於各模板開口之一懸伸部分(例如圖24及圖25中之616)。圖26至圖29展示雙面膠帶之此等懸伸部分可如何經組態以在各種程序步驟期間提供有利特徵的實例。 圖26展示其中將複數個封裝器件510裝載至總成630上的一實例性程序步驟。為了描述，總成630可包含用於保持封裝器件之一模板及一雙面膠帶。總成630可或可不在模板之另一側上包含一單面膠帶。如本文中所描述，由總成630保持封裝器件510可促進一PVD程序以在各封裝器件510上形成一等形屏蔽層。 圖27展示其中在PVD程序之後移除封裝器件510的一實例性程序步驟。如本文中所描述，由總成630保持封裝器件510允許等形屏蔽層如先前所描述般形成於各封裝器件510之側表面及上表面上，同時使封裝器件之底側保持未被塗覆。 圖28展示相對於一模板開口之一代表性封裝器件510，其中一雙面膠帶經切割以提供一懸伸部分。如圖中所展示般指示與封裝器件510、模板開口及雙面膠帶相關聯之各種尺寸。圖29展示安裝於總成630上之封裝器件510。 在一些實施例中，雙面膠帶中之切口可經定尺寸(d3)成略微大於焊球之端間橫向尺寸以允許焊球適合穿過雙面膠帶。此外，諸如模板開口之橫向尺寸(d1)、封裝器件之邊緣至焊球尺寸(d8)、封裝器件之質量、雙面膠帶之機械性(例如彎曲性)及懸伸量(d5)之部分或全部因數可用於允許封裝器件510容易地安裝至總成630上及自總成630容易地移除。例如，適當懸伸量可允許封裝器件支撐至總成630上且亦足夠穩定以使懸伸部無過大撓曲。此一安裝組態可允許封裝器件由總成630保持且封裝器件與雙面膠帶之間不會過度黏著。應進一步注意，歸因於封裝器件與雙面膠帶之間之適當黏著，前述組態可允許自總成630較容易地移除封裝器件510。 儘管本文已在PVD相關程序之情境中描述諸多實例，但應瞭解，本發明之一或多個特徵亦可實施於其他類型之沈積程序及非沈積程序(其用於製造諸如RF模組之封裝器件)。例如，當依一穩定方式保持一器件陣列且在具有一特定基板保持組態之一系統中一起處理該器件陣列時，可實施本發明之一或多個特徵來產生所要結果。 圖30展示：在一些實施例中，本發明之一或多個特徵可實施於一模組封裝系統700中。此一系統可包含一總成系統710、一處置系統720及一等形屏蔽應用系統730之部分或全部。 在一些實施例中，總成系統710可包含(例如)經組態以促進與一模板相關聯之各種程序步驟的一模板總成組件712。總成系統710可進一步包含經組態以促進與(例如)一PVD環相關聯之各種程序步驟的一環安裝總成組件714。 總成系統710可進一步包含經組態以執行如本文中所描述之雷射切割操作的一雷射組件716。總成系統710可進一步包含用於促進(例如)將雙面及/或單面膠帶附接至其各自部件的一總成工具組件。總成系統710可進一步包含經組態以對前述組件之部分或全部提供控制功能的一控制組件715。 在一些實施例中，模組封裝系統700可包含一處置系統720，其具有(例如)一取置裝置722及用於控制此一取置裝置之一控制組件724。 在一些實施例中，模組封裝系統700可進一步包含一等形屏蔽應用系統730。此一等形屏蔽應用系統可包含(例如)一沈積裝置732及用於控制此一沈積裝置之一控制組件734。在一些實施例中，沈積裝置732可經組態為一PVD裝置。 在本文所描述之各種實例中，一膠帶可包含在任一側或兩側上具有一黏著層之一黏著構件。據此，一單面膠帶可為在兩側之一者上具有一黏著層之一單面黏著構件，且一雙面膠帶可為在兩側之各者上具有一黏著層之一雙面黏著構件。應瞭解，在雙面黏著構件中，兩個黏著層可或可不類似。 在一些實施例中，此一黏著構件或膠帶可具有包含總體呈矩形及/或圓形之形狀的不同形狀。黏著構件/膠帶之此等形狀可由(例如)一較大板材經切割以產生成形黏著構件/膠帶所致。 除非內文另外明確要求，否則在[實施方式]及申請專利範圍中，用語「包括」及其類似者應被解釋為包含性而非排他性或窮舉性，即，「包含(但不限於)」。如本文中一般所使用，用語「耦合」係指兩個或兩個以上元件可直接連接或藉由一或多個中間元件來連接。另外，用語「本文中」、「上文」、「下文」及類似含義之用語在用於本申請案中時應係指整個申請案而非本申請案之任何特定部分。在內文容許之情況下，在[實施方式]中以單數形式或複數形式使用之用語亦可分別包含複數形式或單數形式。關於兩個或兩個以上項目之一列表的用語「或」涵蓋以下全部用語解譯：列表中之項目之任何者、列表中之全部項目及列表中之項目之任何組合。 本發明之實施例之以上詳細描述不意欲具窮舉性或將本發明限制於上文所揭示之精確形式。儘管上文已為了繪示而描述本發明之特定實施例及實例，但熟習相關技術者應認識到，可在本發明之範疇內進行各種等效修改。例如，儘管已依一給定順序呈現程序或區塊，但替代實施例可依一不同順序執行具有步驟之常式或採用具有區塊之系統，且可刪除、移動、新增、細分、組合及/或修改一些程序或區塊。可依各種不同方式實施此等程序或區塊之各者。此外，儘管程序或區塊有時經展示為被連續執行，但此等程序或區塊可代以被並行執行或可在不同時間被執行。 本文中所提供之本發明之教示可應用於其他系統(未必為上文所描述之系統)。上文所描述之各種實施例之元件及動作可經組合以提供進一步實施例。 儘管已描述本發明之一些實施例，但此等實施例僅供例示且不意欲限制本發明之範疇。其實，可依各種其他形式體現本文中所描述之新穎方法及系統；此外，可在不背離本發明之精神之情況下對本文中所描述之方法及系統作出各種省略、置換及形式改變。隨附申請專利範圍及其等效物意欲涵蓋落於本發明之範疇及精神內之此等形式或修改。
50‧‧‧環
52‧‧‧膠帶
54‧‧‧封裝器件
56‧‧‧部分
58‧‧‧開口
60‧‧‧焊球
202‧‧‧開口
203‧‧‧開口
204‧‧‧模板
206‧‧‧雙面膠帶
207‧‧‧覆蓋層
211‧‧‧聚醯亞胺膜
212‧‧‧黏著層
213‧‧‧黏著層
250‧‧‧雷射束
500‧‧‧組態
502‧‧‧組態
504‧‧‧組態
506‧‧‧組態
510‧‧‧封裝器件
512‧‧‧封裝基板/第一表面
513‧‧‧射頻(RF)組件
514‧‧‧包覆成型蓋/第二表面
516‧‧‧焊球
520‧‧‧程序
522‧‧‧區塊
524‧‧‧區塊
526‧‧‧區塊
530‧‧‧程序
532‧‧‧區塊
534‧‧‧區塊
536‧‧‧區塊
540‧‧‧程序
542‧‧‧區塊
544‧‧‧區塊
546‧‧‧區塊
550‧‧‧組態
556‧‧‧層疊組態
558‧‧‧雷射切割組態
560‧‧‧雷射束
562‧‧‧切口
564‧‧‧組態/第一總成
566‧‧‧組態/總成
568‧‧‧單面膠帶
570‧‧‧雷射操作/雷射切割組態
572‧‧‧雷射束
574‧‧‧切口
576‧‧‧組態
577‧‧‧側
578‧‧‧組態
580‧‧‧第三總成
600‧‧‧安裝平台
602‧‧‧物理氣相沈積(PVD)環/環形結構
604‧‧‧雷射切割部分
610‧‧‧氣體逸出
612‧‧‧雷射束
614‧‧‧切口
616‧‧‧懸伸部分
618‧‧‧雷射束
620‧‧‧切口
630‧‧‧總成
700‧‧‧模組封裝系統
710‧‧‧總成系統
712‧‧‧模板總成組件
714‧‧‧環安裝總成組件
715‧‧‧控制組件
716‧‧‧雷射組件
718‧‧‧總成工具組件
720‧‧‧處置系統
722‧‧‧取置裝置
724‧‧‧控制組件
730‧‧‧等形屏蔽應用系統
732‧‧‧沈積裝置
734‧‧‧控制組件
圖1展示一實例性總成之一仰視圖，該實例性總成包含具有附接至其底側之一膠帶的一環及安裝於該膠帶上之一封裝器件陣列。 圖2A展示圖1之一部分之一放大俯視圖。 圖2B展示圖1之相同部分之一放大側視圖。 圖3A至圖3D展示可如何利用一模板來保持用於一或多個處理步驟之封裝器件的一實例。 圖4展示其中將一雙面膠帶配合至一裸模板以產生一第一總成的一實例性程序。 圖5A至圖5C展示與圖4之程序相關聯之實例性狀態。 圖6展示其中將圖4之第一總成安裝至一PVD環以產生一第二總成的一實例性程序。 圖7A至圖7D展示與圖6之程序相關聯之實例性狀態。 圖8展示其中準備使圖6之第二總成裝載一或多個封裝器件以產生用於一PVD程序之一第三總成的一實例性程序。 圖9A至圖9C展示與圖8之程序相關聯之實例性狀態。 圖10A及圖10B展示其中使一模板與一雙面膠帶層疊之一實例性層疊總成之兩側。 圖11展示其中類似於圖7A之總成的一第一總成放置於一安裝平台上使得模板之無膠帶表面被暴露的一實例。 圖12展示其中一PVD環經定位以環繞第一總成且一單面膠帶定位於第一總成及PVD環之內周邊上方的一實例。 圖13展示由圖12之實例性操作所致之PVD環、單面膠帶及第一總成之總成之一側。 圖14展示其中利用(例如)一雷射切割操作來暴露圖13之總成之另一側之一部分的一實例。 圖15展示自附接至一模板之一側之雙面膠帶剝離之一覆蓋層之一實例。 圖16展示其中將複數個封裝器件安裝至由模板至少部分支撐之暴露雙面膠帶上的一實例。 圖17描繪類似於圖13及圖14之實例的一總成，其中使用一膠帶來將一模板/雙面膠帶總成固定至一PVD環。 圖18展示：在一些實施例中，可使用一膠帶來將一個以上模板/雙面膠帶總成固定至一PVD環。 圖19展示其中一模板/雙面膠帶總成係基於一非矩形模板(諸如一圓形模板)的一實例。 圖20展示其中用於保持一模板/雙面膠帶總成之一環形結構具有一非圓形形狀的一實例。 圖21展示其中一單面膠帶實施於一模板之一側上且一雙面膠帶實施於該模板之另一側上的一實例性組態。 圖22展示類似於圖14之實例的一實例性組態，其中藉由切除一單面膠帶之一適當部分來暴露一模板之開口。 圖23展示其中切割或衝孔操作可在對應於模板開口之區域處之單面膠帶上產生開口的一實例。 圖24展示其中一雷射束使開口形成於圖23之實例之單面膠帶上的一實例性切割操作。 圖25展示其中一雷射束形成圖22之實例之單面膠帶之部分的一實例性切割操作。 圖26展示其中將複數個封裝器件裝載至包含具有一雙面膠帶之一模板的一總成上以準備一PVD程序的一實例性程序步驟。 圖27展示其中在PVD程序之後移除封裝器件的一實例性程序步驟。 圖28展示與一模板開口相關之一代表性封裝器件，其中一雙面膠帶經切割以提供一懸伸部分。 圖29展示安裝於模板/雙面膠帶總成上使得一或多個底側突出部(諸如一球柵陣列)可藉由模板開口容納的封裝器件。 圖30展示：在一些實施例中，本發明之一或多個特徵可實施於一模組封裝系統中。
564‧‧‧組態/第一總成
566‧‧‧組態/總成
568‧‧‧單面膠帶
602‧‧‧物理氣相沈積(PVD)環/環形結構

Claims (40)

  1. 一種用於處理複數個封裝器件之方法，該方法包括： 形成或提供一第一總成，該第一總成具有一模板及附接至該模板之一第一側的一雙面黏著構件，該模板具有複數個開口，該雙面黏著構件具有對應於該模板之該等開口的複數個開口； 將該第一總成附接至一環以提供一第二總成，該環經定尺寸以促進一沈積程序；及 將複數個封裝器件裝載至該第二總成上，使得各封裝器件由該第一總成之該雙面黏著構件保持且各封裝器件之一部分延伸至該雙面黏著構件之對應開口。
  2. 如請求項1之方法，其中各封裝器件包含一盒形體，且延伸至該雙面黏著構件之對應開口中之該封裝器件之該部分包含實施於該盒形體之一底側上之一或多個特徵。
  3. 如請求項2之方法，其中該一或多個特徵包含複數個焊球。
  4. 如請求項2之方法，其中該盒形體包含一上表面及四個側壁表面。
  5. 如請求項4之方法，其進一步包括：對裝載有該等封裝器件之該第二總成執行該沈積程序，使得一導電材料沈積至該複數個封裝器件之各者之該盒形體之該上表面及該四個側壁表面上。
  6. 如請求項5之方法，其中依一等形方式沈積該導電資料。
  7. 如請求項6之方法，其中該封裝器件係一射頻模組，且該導電材料經組態以對該射頻模組提供屏蔽。
  8. 如請求項1之方法，其中形成該第一總成包含：將不具有該等開口之該雙面黏著構件附接至該模板之該第一側；及執行一雷射切割操作以形成該雙面黏著構件之該等開口。
  9. 如請求項8之方法，其中該雷射切割操作經執行使得一雷射束透過該模板之開口入射於該雙面黏著構件上。
  10. 如請求項9之方法，其中該雷射切割操作進一步經組態使得該雷射束切穿該雙面黏著構件，但未切穿與該模板對置之該雙面黏著構件之側上之一覆蓋層。
  11. 如請求項10之方法，其進一步包括：自該雙面黏著構件移除該覆蓋層，使得該雙面黏著構件之切口部分與該覆蓋層一起被移除以藉此提供該雙面黏著構件之開口。
  12. 如請求項11之方法，其中在將該第一總成附接至該環之後執行移除該覆蓋層。
  13. 如請求項8之方法，其中該雙面黏著構件之開口小於該模板之對應開口。
  14. 如請求項1之方法，其中將該第一總成附接至該環包含：相對於該環定位該第一總成，使得該環環繞該第一總成。
  15. 如請求項14之方法，其中將該第一總成附接至該環進一步包含：將一黏著構件定位於該第一總成及該環上以藉此將該第一總成固定至該環，該黏著構件附接至該模板之一第二側。
  16. 如請求項15之方法，其中該黏著構件係一單面黏著構件。
  17. 如請求項15之方法，其進一步包括：執行一雷射切割操作以切穿覆蓋該模板之該黏著構件之一部分以暴露該模板之各開口之至少一部分。
  18. 如請求項17之方法，其中切穿該黏著構件之該部分導致該黏著構件中之一單一開口暴露該模板之全部開口。
  19. 如請求項17之方法，其中該雷射切割操作經執行使得一雷射束切穿該黏著構件且不損壞該模板之該第一測上之該雙面黏著構件。
  20. 如請求項19之方法，其中該雷射切割操作經執行使得在切穿該黏著構件之後，該雷射束由該模板阻擋。
  21. 一種用於處理複數個封裝模組之器件，該器件包括： 一環，其經組態以用於一沈積裝置中； 一模板，其具有複數個開口，各開口經定尺寸以接納待處理之一封裝模組之一部分；及 一黏著構件，其將該模板附接至該環以允許該模板用於該沈積裝置中。
  22. 如請求項21之器件，其進一步包括附接至該模板之一第一側的一雙面黏著構件，該雙面黏著構件具有對應於該模板之該等開口的複數個開口。
  23. 如請求項22之器件，其中該環及該模板藉由該黏著構件來附接成大致共面。
  24. 如請求項23之器件，其中該模板經定位於該環之一內半徑內。
  25. 如請求項24之器件，其中該黏著構件經定尺寸以覆蓋該模板之一第二側之至少一部分及該環之一對應側之至少一部分。
  26. 如請求項25之器件，其中該黏著構件係一單面黏著構件，使得該單面黏著構件之一黏著側接合該模板之該第二側及該環之該對應側。
  27. 如請求項25之器件，其中該黏著構件包含一或多個切口，該一或多個切口經定尺寸以暴露該模板之該第二側上之該模板之各開口之至少一部分以允許周圍氣體在自該模板之該第一側將RF模組之部分放置於該模板之開口內時自該模板之開口逸出。
  28. 如請求項27之器件，其中該黏著構件之該一或多個切口包含暴露該模板之全部開口的一單一切口，該單一切口導致該黏著構件在該模板之一周邊處保持該模板之該第二側。
  29. 如請求項28之器件，其中該黏著構件之該單一切口在該模板之一固體部分處包含一切割邊緣，使得該模板抑制在自該模板之該第二側對該黏著構件進行一切割操作期間損壞該模板之該第一側上之該雙面黏著構件。
  30. 如請求項27之器件，其中該模板之該第一側上之該雙面黏著構件之各開口經定尺寸以接合該封裝模組之一底側，同時允許該封裝模組之該部分進入該模板之對應開口。
  31. 如請求項30之器件，其中該模板之該第一側上之該雙面黏著構件之各開口小於該模板之對應開口，使得該雙面黏著構件之該開口之一邊緣相對於該模板之該對應開口之一邊緣形成一懸伸部。
  32. 如請求項31之器件，其進一步包括該雙面黏著構件上方之一覆蓋層，該覆蓋層經組態以在將該封裝模組定位至該雙面黏著構件上之前被移除。
  33. 如請求項32之器件，其中該雙面黏著構件之該等開口經組態使得當移除該覆蓋層時，該雙面黏著構件之一切口與該覆蓋層一起被移除以藉此提供該雙面黏著構件之對應開口。
  34. 如請求項21之器件，其中該環具有一大體上呈圓形之形狀。
  35. 如請求項21之器件，其中該環完全圍封其內部部分。
  36. 如請求項21之器件，其中該沈積裝置包含一物理氣相沈積裝置。
  37. 如請求項21之器件，其中該模板係一矩形板材，且該等開口係配置成一陣列之矩形開口。
  38. 一種用於分批處理封裝模組之系統，該系統包括： 一第一子系統，其經組態以製備或提供一載體總成，該載體總成包含：一環，其經組態以用於一沈積裝置中；一模板總成，其具有複數個開口，各開口經定尺寸以接納待處理之一封裝模組之一部分；及一黏著構件，其將該模板總成附接至該環以允許該模板總成用於該沈積裝置中；及 一第二子系統，其經組態以處置複數個封裝模組，使得該等封裝模組定位於該模板總成之該等開口上方且由該模板總成保持以藉此允許在該沈積裝置中進一步處理該複數個封裝模組。
  39. 如請求項38之系統，其進一步包括一第三子系統，該第三子系統包含該沈積裝置且經組態以對該複數個封裝模組執行一沈積程序。
  40. 如請求項39之系統，其中由該模板總成保持該等封裝模組允許該沈積程序將一等形導電材料層沈積於各封裝模組之上表面及側表面上，同時維持該封裝模組之一底側實質上不含該導電材料。
TW106103347A 2016-01-31 2017-01-26 用於封裝應用之濺鍍系統及方法 TWI735525B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201662289314P 2016-01-31 2016-01-31
US62/289,314 2016-01-31

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201801283A true TW201801283A (zh) 2018-01-01
TWI735525B TWI735525B (zh) 2021-08-11

Family

ID=59385648

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW106103347A TWI735525B (zh) 2016-01-31 2017-01-26 用於封裝應用之濺鍍系統及方法

Country Status (6)

Country Link
US (2) US10797002B2 (zh)
KR (1) KR20180100711A (zh)
CN (1) CN108886035B (zh)
HK (1) HK1257544A1 (zh)
TW (1) TWI735525B (zh)
WO (1) WO2017132699A1 (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG10201509996UA (en) * 2015-12-04 2017-07-28 Rokko Systems Pte Ltd Improved substrate processing and apparatus
TWI735525B (zh) * 2016-01-31 2021-08-11 美商天工方案公司 用於封裝應用之濺鍍系統及方法
KR102621793B1 (ko) * 2021-04-15 2024-01-08 한미반도체 주식회사 스퍼터링 전처리 방법

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4143297A (en) * 1976-03-08 1979-03-06 Brown, Boveri & Cie Aktiengesellschaft Information display panel with zinc sulfide powder electroluminescent layers
US6917525B2 (en) * 2001-11-27 2005-07-12 Nanonexus, Inc. Construction structures and manufacturing processes for probe card assemblies and packages having wafer level springs
US6884313B2 (en) * 2001-01-08 2005-04-26 Fujitsu Limited Method and system for joining and an ultra-high density interconnect
TW527672B (en) * 2002-02-08 2003-04-11 United Test Ct Inc Stacked semiconductor device and method of manufacture
KR20030080642A (ko) * 2002-04-10 2003-10-17 삼성전기주식회사 세라믹칩 패키지 제조방법
JP4547377B2 (ja) * 2004-05-11 2010-09-22 Ｓｐａｎｓｉｏｎ Ｊａｐａｎ株式会社 積層型半導体装置用キャリア及び積層型半導体装置の製造方法
US7417305B2 (en) 2004-08-26 2008-08-26 Micron Technology, Inc. Electronic devices at the wafer level having front side and edge protection material and systems including the devices
US7344915B2 (en) * 2005-03-14 2008-03-18 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Method for manufacturing a semiconductor package with a laminated chip cavity
US20090087938A1 (en) * 2007-09-28 2009-04-02 Texas Instruments Incorporated Method for Manufacturing Microdevices or Integrated Circuits on Continuous Sheets
TWI355695B (en) * 2007-10-02 2012-01-01 Advanced Semiconductor Eng Flip chip package process
TWI353642B (en) * 2007-12-10 2011-12-01 Powertech Technology Inc Method for forming a die attach layer during semic
US9297072B2 (en) * 2008-12-01 2016-03-29 Tokyo Electron Limited Film deposition apparatus
US8378466B2 (en) * 2009-11-19 2013-02-19 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Wafer-level semiconductor device packages with electromagnetic interference shielding
US8993358B2 (en) * 2011-12-28 2015-03-31 Ledengin, Inc. Deposition of phosphor on die top by stencil printing
US20130133193A1 (en) * 2011-11-28 2013-05-30 Mediatek Singapore Pte. Ltd. Surface mount technology process for advanced quad flat no-lead package process and stencil used therewith
FR2993096B1 (fr) 2012-07-03 2015-03-27 Commissariat Energie Atomique Dispositif et procede de support individuel de composants
JP5953994B2 (ja) * 2012-07-06 2016-07-20 東京エレクトロン株式会社 成膜装置及び成膜方法
US9419667B2 (en) * 2013-04-16 2016-08-16 Skyworks Solutions, Inc. Apparatus and methods related to conformal coating implemented with surface mount devices
CN110085524A (zh) * 2014-05-12 2019-08-02 天工方案公司 用于处理单片化射频单元的设备和方法
US20160111375A1 (en) * 2014-10-17 2016-04-21 Tango Systems, Inc. Temporary bonding of packages to carrier for depositing metal layer for shielding
US9663357B2 (en) * 2015-07-15 2017-05-30 Texas Instruments Incorporated Open cavity package using chip-embedding technology
TWI735525B (zh) * 2016-01-31 2021-08-11 美商天工方案公司 用於封裝應用之濺鍍系統及方法
JP2017200183A (ja) * 2016-04-29 2017-11-02 スカイワークス ソリューションズ, インコーポレイテッドSkyworks Solutions, Inc. 遮蔽されたダイバーシティ受信モジュール

Also Published As

Publication number Publication date
US20170221836A1 (en) 2017-08-03
TWI735525B (zh) 2021-08-11
CN108886035B (zh) 2022-04-15
HK1257544A1 (zh) 2019-10-25
CN108886035A (zh) 2018-11-23
US10797002B2 (en) 2020-10-06
US20200075504A1 (en) 2020-03-05
KR20180100711A (ko) 2018-09-11
WO2017132699A1 (en) 2017-08-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI720028B (zh) 關於屏蔽模組之製造的裝置及方法
US20200075504A1 (en) Systems, devices and methods related to shielded modules
US6267288B1 (en) Pallet for combined surface mount and wave solder manufacture of printed ciruits
US20150016066A1 (en) Circuit module and method of producing the same
JP2018533848A (ja) キャリア超薄型基板
JP6439053B2 (ja) 電子部品の製造方法および処理システム
KR101662068B1 (ko) 반도체 패키지의 전자파 차폐막 형성 방법
KR101590593B1 (ko) 반도체패키지의 스퍼터링 방법
KR102000954B1 (ko) 회로 모듈의 제조 방법 및 성막 장치
JP6745136B2 (ja) 電子部品の製造方法および処理システム
KR100897314B1 (ko) 반도체 칩의 3차원 표면 실장 어레이를 갖는 회로 기판을 제조하기 위한 방법 및 장치
JP2017220579A (ja) ウェーハ加工システム
KR102089097B1 (ko) 반도체 패키지 배치 장치, 제조 장치, 반도체 패키지의 배치 방법 및 전자 부품의 제조 방법
CN106057718A (zh) 被加工物的切削加工方法
JP5510299B2 (ja) 露光装置および露光方法
JP2017079284A (ja) レーザー加工装置
JP2018067597A (ja) 回路モジュールの製造方法および成膜装置
JP2007227726A (ja) 集合基板加工方法
JPS63107121A (ja) 処理方法およびその方法に用いるキヤリア
JP3575317B2 (ja) 導電性ボールの搭載装置および搭載方法
JP2000269257A (ja) 導電性ボールの搭載装置および搭載方法
KR102399748B1 (ko) 입체형 대상물 표면의 금속막 증착 장치
JP2018006395A (ja) 搬送方法
JP2017063151A (ja) 配線基板の製造方法