TW201742648A - 粒子線治療設施 - Google Patents

Abstract

本發明之粒子線治療設施是為了解決無法將粒子線治療設施佔用面積縮小之問題點而形成，包括利用粒子線治療裝置而照射粒子線於治療對象進行之照射室、設置於照射室上方之第一機械室、圍繞著照射室及第一機械室之壁、設置於壁之外側之第二機械室、以及設置於壁的開口部而連接第一機械室及第二機械室之通路，可以使粒子線治療設施所佔用之面積得以縮小。

Description

粒子線治療設施

本發明係有關於一種粒子線治療設施，在遮蔽壁的內側及外側具有機械室。

用以治療癌症的粒子線治療設施，例如包括裝置室、照射室、操作室及機械室等，裝置室設置有粒子線治療裝置，在照射室中可對治療對象進行粒子線的照射，在操作室中進行粒子線治療裝置的操作。這些室中，裝置室及照射室需要避免由粒子線所發生之二次反射線朝外洩露。裝置室及照射室圍繞有厚的遮蔽壁，當欲設置門時，需使用具有遮蔽效果之厚的門。

習知的粒子線治療設施較多是設置於大規模的醫療設施，因粒子線治療設施的收容需要有充份的建物面積。然而，近年來，小規模的醫療設施亦變為導入有粒子線治療設施，故需要減少所佔用的面積。

相當於操作室之影像站(imaging station)設置於圍繞有遮蔽壁之通路內，以減少粒子線治療設施所佔用的面積之相關技術已被揭露(請參考下述專利文獻1)。

專利文獻1：特開2011-72460號公報。

專利文獻2：特開2-173600號公報。

在粒子線治療設施中，為了設置粒子線治療裝置操作時所需之裝置，機械室是必須的，由於機械室並不需要被遮蔽壁所圍繞，因此可將其設置於遮蔽壁之外側，但需確保在遮蔽壁外側有足夠的空間給機械室。另一方面，如專利文獻1之影像站，利用遮蔽壁內側空出的空間以設置機械室亦是可行的。然而，機械室相較於影像站來說需要較大的面積以致於無法收容於未使用空間中，為了確保機械室的佔有空間，變成要擴大遮蔽壁內側的面積。因此，無論將機械室設置在遮蔽壁的外側或內側，都會有無法將粒子線治療設施佔有面積縮小的問題存在。

本發明即是為了解決上述問題，目的在於得到所佔面積縮小後之粒子線治療設施。

本發明之粒子線治療設施包括用粒子線治療裝置照射粒子線於治療對象之照射室、設置於照射室上方之第一機械室、圍繞著照射室及第一機械室之壁、設置於壁的外側之第二機械室、及設置於壁的開口部用以連接第一機械室及第二機械室之通路。

依據本發明，能夠使粒子線治療設施所佔面積縮小。

1‧‧‧粒子線治療設施

2‧‧‧裝置室

3‧‧‧照射室

4‧‧‧遮蔽壁

5a、5b、5c、5d、5e‧‧‧通路

6a、6b‧‧‧機械室

7‧‧‧粒子線治療裝置

8‧‧‧壁

第1圖係顯示依據本發明第一實施形態之粒子線治療設施之平面圖；第2圖係顯示依據本發明第一實施形態之粒子線治療設施之剖面圖；第3圖係顯示依據本發明第二實施形態之粒子線治療設施之平面圖；及第4圖係顯示依據本發明第三實施形態之粒子線治療設施之平面圖。

以下將以本發明之實施形態並參照圖式做說明。另外，關於參考圖式中相同或相應之部分，將以相同的符號表示。

【第一實施形態】

第1圖係顯示依據本發明第一實施形態之粒子線治療設施1之平面圖。第1圖(a)為第1層之平面圖，第1圖(b)為第2層之平面圖。

第2圖係顯示依據本發明第一實施形態之粒子線治療設施1之剖面圖。第2圖係沿第1圖中剖面線AB之剖面圖。

粒子線治療設施1包括裝置室2、照射室3、遮蔽壁4、通路5a、5b及機械室6a、6b。在粒子線治療設施1的第1層有裝置室2及照射室3，裝置室2中設置有粒子線治療裝置7，粒子線治療裝置7為體積較大的裝置，因此裝置室2的第2層部分是連、貫通的。照射室3為被治療者接受治療的房間，在 照射室3中，從粒子線治療裝置7發射之粒子線對被治療者進行照射。

遮蔽壁4是用以防止粒子線產生之二次放射線洩露到外部而提供遮蔽的壁，遮蔽壁4是設置成將裝置室2、照射室3及機械室6a圍繞於其中，遮蔽壁4可將遮蔽壁4外側的放射線劑量抑制到臨界值(threshold value)以下。

通路5a是設置於第1層之遮蔽壁4的開口部，為遮蔽壁4內側之照射室3和遮蔽壁4外側連接之通路。通路5a可以例如是如同專利WO2014/167973中所示相對於遮蔽壁4為傾斜之通路，故可使遮蔽壁4外側的放射線劑量抑制到臨界值以下。

在粒子線治療設施1的第2層有機械室6a、6b，機械室6a設置於遮蔽壁4的內側照射室3的上方，而機械室6b設置於遮蔽壁4的外側。機械室6b是隔著遮蔽壁4鄰接於機械室6a而設置的。機械室6a、6b可以例如用於設置粒子線治療裝置7的電源。通路5b是設置於第2層之遮蔽壁4的開口部，為機械室6a及機械室6b連接之通路。通路5b也可同通路5a一樣，可以例如是如同專利WO2014/167973中所示相對於遮蔽壁4為傾斜之通路，故可使遮蔽壁4外側的放射線劑量抑制到臨界值以下。

又，機械室6a及機械室6b是隔著遮蔽壁4鄰近地設置的，通路5b可縮短，故可使治療操作人員可輕易地在機械室6a及機械室6b間移動，進而可降低成本。

照射室3在第1層的空間是足夠的，因此不需要像裝置室2一樣將2層連、貫通。也就是說，設置機械室6a 的空間是習知技術中未曾使用的空間。本發明是將機械室分割成機械室6a配置在遮蔽壁4內側空出的空間中以及機械室6b配置在遮蔽壁4外側。然而，機械室6a及機械室6b之間具有遮蔽壁4，使得治療操作人員無法往返移動，故在遮蔽壁4的開口部設置有連接機械室6a及機械室6b的通路5b。因此，使配置在遮蔽壁4內側之機械室6a和配置在遮蔽壁4外側之機械室6b之間的動線能被確保，不影響治療操作人員的操作使用。

更進一步，遮蔽壁4例如可以使用混凝土(concrete)或鐵、鉛等具重量的材料。如果在通路5a的上方第2層部分有遮蔽壁4時，第2層部分的支撐樑即有補強的必要，而成本即會增加。因此，在通路5a的上方第2層部分配置通路5b，就不需要對樑做補強，也不會增加成本。將通路5a、5b在遮蔽壁4的同一斷面上設置，可使建築結構單純化，亦是較為經濟的。

另外，在本發明的實施形態中，遮蔽壁4的材料如混凝土、鐵、鉛等舉例，亦可以是其它合適地可防止放射線洩露的材料。

又，在本發明的實施形態中，粒子線治療設施1是以第1層及第2層而構成的，但也可以是第3層及第4層、地下1層及地上1層、或第1層中有2層等方式構成，只要是將機械室6a配置於照射室3的上方習知技術中未曾使用的空間即可。

又，在本發明的實施形態中，通路5a、5b雖未設置有門，如欲設置門亦是可行的。此外，如果門具有遮蔽放射線的功能 的話，通路5a、5b亦可以不需要相對於遮蔽壁4而傾斜地設置。

如上所述，本發明之本實施形態具有以粒子線治療裝置7而照射粒子線於治療對象進行之照射室3、設置於照射室3上方之機械室6a、圍繞著照射室3及機械室6a之遮蔽壁4、設置於遮蔽壁4外側之機械室6b、及設置於遮蔽壁4之開口部而連接機械室6a及機械室6b之通路5b等，故可縮小粒子線治療設施1的佔有面積。再者，藉由連通機械室6a及機械室6b之間之通路，使治療操作人員可輕易地在機械室6a及機械室6b間往返移動，不影響治療操作人員操作使用時之方便性。

又，藉由在通路5a、5b設置有具遮蔽功能之門，則在設計通路5a、5b時，可不考慮其遮蔽性，因此可降低成本。

【第二實施形態】

在上述的第一實施形態中，是將通路5b設置於通路5a正上方第2層部分，而在本實施形態中則是將通路5b設置於第2層部分不同處之實施形態。

第3圖係顯示依據本發明第二實施形態之粒子線治療設施1之平面圖。第3圖(a)為第1層之平面圖，第3圖(b)為第2層之平面圖。與第1圖所示之第一實施形態不同之處在於，第3圖中通路5a為從照射室3朝右下方傾斜而設置，且繪示有容納粒子線治療設施1之建築物的壁8。如第3圖所示，遮蔽壁4的上部與建築物的壁8相鄰接，通路5a在第3圖中是朝向遠離壁8的位置而延伸出，此為在使用上較為便利的情 況。再者，對遮蔽壁4外側的其他房間及走廊的配置來說，如第3圖設置通路5a的方向對使用上來說仍是較為便利的。通路5b並不在通路5a的正上方，而是設置在其它的位置。

需注意的是，在本實施形態中，第3圖雖顯示遮蔽壁4的上部與建築物的壁8相鄰接，壁8的位置只是為一範例，實際上並不限於如第3圖上所示之位置。

依據上述，因為通路5b是設置在不同於通路5a正上方的位置，因此可因應使用的便利性配置通路5a。舉例來說，可以依據遮蔽壁4外側的其他房間及走廊的配置而考慮通路5a的配置位置。

【第三實施形態】

在上述第一實施形態中，通路5b是在機械室6a及機械室6b之間的遮蔽壁4上設置，而在本實施形態中，通路5b為自機械室6a開始遮蔽壁4內部的通路和遮蔽壁4外部的通路相連通之實施形態。

第4圖係顯示有關本發明第三實施形態之粒子線治療設施1之平面圖。第4圖(a)為第1層之平面圖，第4圖(b)為第2層之平面圖。與所示之第一實施形態之第1圖不同之處在於，遮蔽壁4及通路5a、5b的形狀。遮蔽壁4也被設置在遮蔽壁4的內側通路5c、5e之兩側，通路5a為通過遮蔽壁4內側之通路5c用以連接照射室3及遮蔽壁4外部的通路。通路5b為通過遮蔽壁4內側通路5d與遮蔽壁4之開口部及遮蔽壁4外側通路5e用以連接機械室6a及機械室6b的通路。

另外，在本發明的實施形態中，通路5a、5b並未 設置有門，然欲設置門亦是可行的。

又，第1層之遮蔽壁4的形狀可以與第2層的形狀不同，在此情況下第2層部分的支撐樑即有補強的必要。

依據上述，在本實施形態中，通路5b為通過遮蔽壁4內部通路5c及遮蔽壁4外部通路5d以連接機械室6a及機械室6b的通路，可依據操作便利性而配置通路5b。舉例來說，可以依據遮蔽壁4外側的其他房間及走廊的配置在操作便利性佳的位置考慮通路5b的配置。

1‧‧‧粒子線治療設施

2‧‧‧裝置室

3‧‧‧照射室

4‧‧‧遮蔽壁

5a、5b‧‧‧通路

6a、6b‧‧‧機械室

7‧‧‧粒子線治療裝置

Claims (6)

1. 一種粒子線治療設施，包括：照射室，利用粒子線治療裝置而照射粒子線於治療對象進行；第一機械室，設置於上述照射室上方；壁，圍繞上述照射室及上述第一機械室；第二機械室，設置於上述壁之外側；以及第一通路，設置於上述壁之開口部，而連接上述第一機械室及上述第二機械室。
2. 如申請專利範圍第1項所述之粒子線治療設施，其中，上述第一通路對於上述壁傾斜地設置。
3. 如申請專利範圍第1或2項所述之粒子線治療設施，其中，於上述第一通路設置門。
4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之粒子線治療設施，其中更包括第二通路，設置於上述壁之另一開口部，而連接上述照射室及上述壁的外部。
5. 如申請專利範圍第4項所述之粒子線治療設施，其中，上述第一通路設置於上述第二通路的上方。
6. 如申請專利範圍第1、3至5項中任一項所述之粒子線治療設施，其中，上述第一通路連通上述壁的內部及上述壁的外部，而連接上述第一機械室及上述第二機械室。