TW201717354A - 過電壓保護裝置及其製造方法 - Google Patents
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Abstract
在一個實施例中，一種過電壓保護裝置可包含：金屬氧化物變阻器（MOV），其具有第一表面以及第二表面；半導體基板，其具有第一外表面以及第二外表面，且包括包括佈置為彼此電串聯之多個半導體層的半導體消弧裝置，所述半導體基板安置於金屬氧化物變阻器之第一側上；導電區，其安置於MOV之第二表面與半導體基板之第一外表面之間；第一電接點，其安置於MOV之第一表面上；以及第二電接點，其安置於半導體基板之第二外表面上。
Description
實施例是有關於電路保護裝置（circuit protection device）之領域，且更特定言之，是有關於一種用於防護過電壓事件之半導體裝置（semiconductor device）。
半導體裝置廣泛地用以藉由利用P/N接面之特性來提供針對瞬變條件（諸如瞬變過電壓事件或電湧（surge）事件）之保護。現在，存在兩種主要類型之離散電路保護技術廣泛地部署於市場中。此等可稱作消弧裝置（crowbar device）以及箝位裝置（clamping device）。箝位裝置之實例包含通常製造為金屬氧化物變阻器（metal oxide varistor；MOV）以及齊納（Zener）二極體。在此等裝置中之任一者中，可將電壓箝位至特定箝位裝置之位準特性。使用箝位裝置之缺點為對高箝位電壓（常常為隔絕電壓之1.6倍至2.5倍）之相對慢速回應。另外，高洩漏電流可能存在於MOV裝置中，且自熱耗散（self-heat dissipation）可能加速老化且導致MOV不適合用於耐受多個電湧事件。當達到某一電壓時，消弧類型裝置返回至較低電壓級。關於消弧裝置之使用的一個問題為此等裝置在不存在重設之情況下並不返回至低洩漏狀態，或直至穿過裝置之電流返回至其保持電流之低位準特性才返回至低洩漏狀態。
相對於此等以及其他問題而提供本發明。
在一個實施例中，一種過電壓保護裝置可包含：金屬氧化物變阻器（MOV），其具有第一表面以及第二表面；半導體基板，其具有第一外表面以及第二外表面，且包括包括佈置為彼此電串聯之多個半導體層的半導體消弧裝置，所述半導體基板安置於所述金屬氧化物變阻器之第一側上；導電區，其安置於所述MOV之所述第二表面與所述半導體基板之所述第一外表面之間；第一電接點，其安置於所述MOV之所述第一表面上；以及第二電接點，其安置於所述半導體基板之所述第二外表面上。
在另一實施例中，一種製造過電壓保護裝置之方法可包含：提供金屬氧化物變阻器（MOV），所述MOV具有第一側以及第二側；將包括半導體消弧裝置之半導體基板的第一表面附接至所述第二側；在所述金屬氧化物變阻器之所述第一側上形成第一電接點；以及在所述半導體基板之與所述第一表面相對的第二表面上形成第二電接點，其中所述金屬氧化物變阻器與所述半導體消弧裝置彼此電串聯於所述第一電接點與所述第二電接點之間。
在一額外實施例中，一種過電壓保護裝置可包含：第一電接點；金屬氧化物變阻器（MOV），其電連接至所述第一電接點；第二電接點；以及半導體消弧裝置，其包括多個半導體層，其中所述金屬氧化物變阻器與所述半導體消弧裝置電串聯地佈置於所述第一電接點與第二電接點之間。
現將在下文參考繪示各種實施例之附圖而更全面地描述本發明實施例。實施例可以許多不同形式體現且不應解釋為限於本文中所闡述之實施例。提供此等實施例以使得本發明將為透徹且完整的，且將向熟習此項技術者充分傳達實施例之範疇。在圖式中，相同數字通篇指代相同元件。
在以下描述及/或申請專利範圍中，術語「在……上」、「上覆於……」、「安置於……上」以及「在……上方」可使用於以下描述以及申請專利範圍中「在……上」、「上覆於……」、「安置於……上」以及「在……上方」可用以指示兩個或更多個元件彼此直接實體接觸。術語「在……上」、「上覆於……」、「安置於……上」以及「在……上方」亦可意謂兩個或更多個元件並不彼此直接接觸。舉例而言，「在……上方」可意謂一個元件在另一元件上方且不與另一元件接觸，且可具有在兩個元件之間的另一或多個元件。另外，術語「及/或」可意謂「以及」、其可意謂「或」、其可意謂「排他性或」、可意謂「一個」、可意謂「一些，並非所有」、可意謂「兩者皆不」、及/或其可意謂「兩者皆」。所主張標的物之範疇在此方面不受限制。
本發明實施例大體上是有關於過電壓保護裝置。在各種實施例中，過電壓保護裝置可包括金屬氧化物變阻器（MOV）與半導體消弧裝置之整合。如下詳述，此類裝置可提供低箝位電壓、低洩漏以及快速回應時間之優點。本發明實施例之過電壓保護裝置的半導體消弧組件可提供對電湧之極佳回應、低洩漏、持久保護（而不會磨損），以及準確且恆定之導通電壓。此等過電壓保護裝置之MOV組件可提供高能量箝位以對電湧作出回應。如本文所使用，術語「半導體消弧裝置」可指實施於半導體基板中，且用來將電壓位準向下拉至低於在過電壓條件情況下所觸發之觸發位準的裝置。當實施為單個裝置時，半導體消弧裝置中之觸發位準可表示為導通電壓。當達到導通電壓時，半導體消弧裝置可進入開啟（ON）狀態，且用來將電壓位準向下拉至諸如接近接地位準之位準。此動作可不同於諸如變阻器之箝位裝置，在變阻器中，可將電壓箝位至箝位電壓，在箝位電壓下，變阻器變得導電。已知半導體消弧裝置之實例包含閘流體類型裝置以及SIDACtor®類型裝置（SIDACtor為Littelfuse, Inc.之註冊商標）。
在各種實施例中，提供一種克服已知MOV裝置之限制的過電壓保護裝置。舉例而言，在已知MOV裝置中，箝位電壓的範圍可介於工作電壓之大致1.6倍至2.5倍。此可由於可在過電壓條件之情況下所傳輸之高能量而限制MOV裝置完全保護電子裝備的能力。在根據本發明實施例所佈置之過電壓保護裝置中，半導體消弧組件可以在關閉狀態期間充當高阻抗開關之方式耦接至MOV。此舉有助於降低總體洩漏電流。
圖1A呈現根據本發明之實施例的過電壓保護裝置之一個實施的電路表示。特定言之，在第一電線110與第二電線112之間實施過電壓保護裝置100。第一電線110以及第二電線112可耦接至交流（alternating current；AC）電壓源或直流DC電壓源。
在操作中，過電壓保護裝置100可用來限制電壓，不論其耦接至DC源還是AC源。在圖1A之實例中，過電壓保護裝置100可藉由限制在過電壓事件期間穿過電力電路106之電壓或電能來保護電力電路106。在各種實施例中，過電壓保護裝置100可充當雙向裝置，雙向裝置為對稱裝置，其中過電壓保護裝置100提供與回應於負外部電壓之第二電流-電壓特性相同的回應於正外部電壓之第一電流-電壓（current-voltage；I-V）特性。
在操作中，根據已知原理，雙向或對稱半導體消弧裝置可提供有效AC電力線保護。在正常操作下，當AC電壓不超出導通電壓時，此類半導體消弧裝置並不接通。當AC峰值電壓或電湧瞬變電壓超出導通電壓時，半導體消弧裝置可接通，從而將半導體消弧裝置置於低電壓開啟狀態中，觸發外部瞬變電壓轉向。
因為在半導體消弧裝置接通時存在AC耦接，所以AC上升週期之短持續時間可進入半導體保護器中。若此AC上升電流並不超出表示單個AC週期電流耐受能力之最大額度ITSM（非重複峰值通態電流）值，則半導體消弧裝置可耐受過電壓條件，而不經歷任何降級。當正弦週期通向週期之負電壓部分時，經歷零交叉以將半導體消弧裝置重設至關閉（OFF）狀態，此是因為電流減小至低於半導體消弧裝置之保持電流的值。因此，半導體消弧裝置可充當AC線保護裝置以防護AC瞬變電湧以及AC耦接事件。在如圖1A中所繪示之實施例中，當半導體消弧裝置與金屬氧化物變阻器（MOV）裝置耦接至一起時，所得過電壓保護裝置可形成極低箝位電壓雙向電湧保護裝置。
圖1B呈現根據本發明之實施例的過電壓保護裝置100之植入結構的側視橫截面圖。如所說明，過電壓保護裝置100可包含金屬氧化物變阻器102以及半導體消弧裝置104。金屬氧化物變阻器102可包含第一表面114以及第二表面116。金屬氧化物變阻器102可由根據已知製造技術之任何已知MOV材料形成。如下詳述，本發明實施例之半導體消弧裝置可包含電串聯地佈置於半導體基板內之多個半導體層。如在圖1B中所表明，半導體消弧裝置104可實施為具有第一外表面126以及第二外表面128之半導體基板。在此實例中，半導體消弧裝置104（半導體基板）安置於金屬氧化物變阻器102之第一側130上。
導電區124安置於金屬氧化物變阻器102之第二表面116與半導體消弧裝置104之第一外表面126之間。在如下文所論述之不同實施中，導電區124可包含用於電連接金屬氧化物變阻器102與半導體消弧裝置104之複數個層或組件。可藉由施加至少一個塗層來形成導電區124，且導電區124可額外包含薄片金屬或其他金屬層以在金屬氧化物變阻器102與半導體消弧裝置104之間提供電導性。
過電壓保護裝置100可進一步包含安置於金屬氧化物變阻器102之第一表面114上的第一電接點120，以及安置於半導體消弧裝置104之第二外表面128上的第二電接點122。第一電接點120以及第二電接點122可實施為金屬片，所述金屬片包含由（在一個實例中）諸如銅之材料製成的薄金屬板或薄片。如圖1B中所繪示，金屬氧化物變阻器102以及半導體消弧裝置104可相應地電串聯地安置於第一電接點120與第二電接點122之間。
如下詳述，在一些實施中，根據各種實施例之過電壓保護裝置可包含附接至第一電接點120以及第二電接點122之電導線（圖1B中未繪示）。此可允許便利操作以及作為用於電路或電氣組件之保護裝置的實施。舉例而言，其可適用於藉由電絕緣層囊封諸如半導體消弧裝置104以及金屬氧化物變阻器102之電氣組件。電導線之使用可相應地提供用以在過電壓保護裝置100由電絕緣體囊封時存取過電壓保護裝置100之便利方式。
圖2呈現根據各種實施例之可形成過電壓保護裝置之部分的半導體消弧裝置200之側視橫截面圖。如所說明，半導體消弧裝置200形成於諸如單晶矽之半導體基板202內。半導體基板202可包含內部n型層204、第一外部n型層206、第二外部n型層208、安置於第一外部n型層206與內部n型層204之間的第一p型層210以及安置於第二外部n型層208與內部n型層204之間的第二p型層212。特定言之，第一n型外層208可安置於半導體基板202之第一外表面220上，而第二n型外層208安置於半導體基板202之第二外表面222上。
儘管圖2中未繪示，但為了形成根據各種實施例之整合式過電壓保護裝置，可將半導體基板202實施為圖1B之半導體消弧裝置104。因此，MOV裝置可安置於半導體基板202之（諸如）鄰近於第一外表面220或鄰近於第二外表面222的一側上。舉例而言，MOV裝置與半導體基板可電耦接至一起，如圖1B中所說明。此外，電接點可形成於半導體基板202之外表面以及MOV之外表面上，如亦在圖1B中所說明。以此方式，可將MOV置放為與半導體消弧裝置200之各層電串聯。
如在圖2中進一步說明，第一p型層210之第一部分可安置於第一外表面220上，且第二p型層212之第二部分可安置於第二外表面222上。至消弧裝置200之第一外表面220的第一外部接點（未繪示）可以電氣平行方式接觸第一p型層210以及第一外部n型層206。同樣地，至消弧裝置200之第二外表面222的第二外部接點可以電氣平行方式接觸第二p型層212以及第二外部n型層208。根據各種實施例，回應於過電壓事件，半導體消弧裝置200可類似地（不必相同地）對已知獨立半導體消弧裝置作出反應。舉例而言，半導體消弧裝置200在與金屬氧化物變阻器串聯植入時，可回應於外部電壓事件而展現導通電壓。特定言之，當在第一外表面220與第二外表面222之間所經歷之外部電壓等於或超出導通電壓時，可根據半導體消弧裝置之已知行為而將半導體消弧裝置200置於開啟狀態中。
圖3A描繪根據一些實施例之過電壓保護裝置300。在此實例中，繪示囊封之前的過電壓保護裝置300。過電壓保護裝置300可包含佈置為與半導體消弧裝置304電串聯之金屬氧化物變阻器302。導電區312可安置於金屬氧化物變阻器302與半導體消弧裝置304之間，以電耦接金屬氧化物變阻器302與半導體消弧裝置304。導電層306可安置於半導體消弧裝置304之外表面上，如所繪示。電接點308可鄰接至導電層306。導電層310亦可安置於金屬氧化物變阻器302之外表面上。另外，第一電引線314可連接至導電層310，而第二電引線316連接至電接點308。
圖3B描繪囊封後的圖3A之過電壓保護裝置，在此情況下，其表示為過電壓保護裝置320。在此實例中，安置電絕緣塗層322以便囊封金屬氧化物變阻器302以及半導體消弧裝置304。過電壓保護裝置320可因此便利地整合至保護電路中，用於藉由將第一電引線314以及第二電引線316鄰接至置於不同電位之不同電線來保護目標裝置或其他組件。
在各種實施例中，可佈置具有金屬氧化物變阻器以及半導體消弧裝置之過電壓保護裝置，其中金屬氧化物變阻器包括第一隔絕電壓，半導體消弧裝置包括第二隔絕電壓，且過電壓保護裝置包括等於第一隔絕電壓與第二隔絕電壓之總和的總隔絕電壓。半導體消弧裝置以及金屬氧化物變阻器亦可經佈置以在外部電壓超出臨限值時將過電壓保護裝置置於開啟狀態，且經進一步佈置以在外部電壓低於臨限值時將過電壓保護裝置置於關閉狀態。
此外，可佈置過電壓保護裝置，其中過電壓保護裝置包括對稱裝置，所述對稱裝置包括回應於施加於第一電接點與第二電接點之間的第一量值之正外部電壓的第一電流-電壓特性，且包括回應於施加於第一電接點與第二電接點之間的第一量值之負外部電壓的第二電流-電壓特性，第二電流-電壓特性匹配第一電流-電壓特性。
圖4A呈現根據本發明之實施例的過電壓保護裝置之示例性電流-電壓曲線，其繪示為曲線400。曲線400呈現對稱行為，包含正電壓部分402與負電壓部分404。在此內容脈絡中，實施例不受限制。曲線400產生於過電壓保護裝置（諸如圖1A、圖1B、圖3A以及圖3B中所描繪的過電壓保護裝置）之組合動作。舉例而言，亦參考圖3B，當在第一電引線314與第二電引線316之間經歷外部電壓時，曲線400繪示流動穿過諸如過電壓保護裝置320之裝置的所得電流。特定言之，曲線400之特徵在於導通電壓VBr
。當外部所施加電壓超出VBr
電壓（如由點B表示）時，電壓「折回」至點C，其中過電壓保護裝置將外部電壓箝位至表示最大箝位電壓之位準D。導通電流ImA
可為約400 mA，其為半導體消弧裝置所特有。值得注意的是，曲線400為整合式過電壓保護之特性，一旦外部電壓事件衰減，則整合式過電壓保護重設至關閉狀態。此外，曲線400之關閉狀態洩漏電流歸因於半導體消弧裝置相比於簡單MOV裝置之高阻抗而具有低得多之值。
相比較而言，圖4B呈現可用於本發明實施例之過電壓保護裝置中的半導體消弧裝置之示例性電流-電壓曲線，其繪示為曲線410。曲線410表示在實施為單獨組件時半導體消弧裝置之電流-電壓特性。在此實例中，當外部電壓達到Vs
時，半導體消弧裝置進入開啟狀態，且電壓減小至低位準。圖4C呈現可用於本發明實施例之過電壓保護裝置中的MOV裝置之示例性電流-電壓曲線，其繪示為曲線420。當外部電壓達到值VNom
時，MOV裝置變得導電，且電壓受到箝位。儘管並未明確地在曲線400中所繪示，但包含以電串聯方式佈置於兩個電線之間的MOV以及半導體消弧裝置的過電壓保護裝置之回應時間可回應於瞬變電壓電湧而比獨立MOV快得多。
表I說明本發明實施例之整合式過電壓保護裝置相比於獨立MOV以及獨立SIDACtor裝置之實驗電氣資料的比較。如所說明，本發明實施例之裝置相比於獨立MOV將箝位電壓自850 V改良為492 V。對於洩漏電流（Idrm/Irrm），量測到自獨立MOV在311 V下之7.1 uA至本發明實施例之裝置在311 V下之0.25 uA的改良。如在表I中所觀測到，獨立SIDACtor對於相同測試條件提供相對低洩漏以及低箝位電壓，同時具有大AC後繼電流。AC後繼電流為諸如SIDACtor之消弧裝置所特有的量。已知SIDACtor裝置之後繼電流的額度值範圍介於約230 A至270 A（大）。當消弧裝置（SIDACtor）與在本質上箝位整合式裝置之MOV整合時，整合式裝置展現後繼電流（小於10 A）之零至極小且短的持續時間。此幾乎為零的AC後繼電流由箝位裝置之高阻抗極快速「吸收」，因此電流在積累之前極快速地衰減。
表I
圖4D呈現比較根據本發明實施例之裝置與獨立裝置之例示性導通電壓行為。如所說明，依據電壓之隨時間之改變速率（dV
/dT
）而標繪獨立SIDACtor、MOV以及根據本發明實施例之裝置的導通電壓。如所繪示，SIDACTor獨立裝置依據dV
/dT
而顯示相對扁平回應，而MOV導通電壓對dV
/dT
敏感且顯著地增大至高於100 V/μs，而根據本發明實施例之裝置顯示導通電壓對dV
/dT
的中間敏感度。因此，本發明實施例比習知MOV裝置提供對電壓脈衝之快速回應。
圖5呈現例示性處理流程500。處理流程500可用於製造根據本發明之各種實施例的過電壓保護裝置。在區塊502處，提供金屬氧化物變阻器，其中金屬氧化物變阻器具有第一側以及第二側。可根據已知處理技術自已知材料製造金屬氧化物變阻器。金屬氧化物變阻器（MOV）可具有平面結構，平面結構具有諸如矩形、環形或橢圓形之目標形狀。在此內容脈絡中，實施例不受限制。
在區塊504處，將半導體基板之第一表面附接至MOV之第二側。所述半導體基板可包含具有多個經摻雜半導體層之半導體消弧裝置。在一些實例中，可在單晶矽基板內製造半導體消弧裝置。可藉由塗覆導電材料至MOV之第二側上、半導體基板之第一表面上或MOV之第二側以及半導體基板之第一表面上來將半導體基板之第一表面附接。在一些實例中，包含諸如導電焊錫膏（諸如低溫焊錫膏）之塗層、金屬薄片及其類似者的多個不同導電組件可用以將MOV附接至半導體基板。
在區塊506處，在MOV之第二側上形成第一電接點，其中第二側可與第一側相對。第一電接點可包含金屬薄片或板、導電膏或其他組件。
在區塊508處，在半導體基板之與第一表面相對的第二表面上形成第二電接點。第一電接點可包含金屬薄片或板、導電膏或其他組件。以此方式，半導體消弧裝置與MOV可彼此電串聯於第一電接點與第二電接點之間。
現轉至圖6A至圖6F，繪示根據本發明之實施例的在各製造階段之例示性過電壓保護裝置的圖像表示。在圖6A至圖6C中，以平面圖繪示在早期製造階段之裝置。在圖6A中，繪示MOV 602。MOV 602可在平面圖中具有環形形狀，而根據額外實施例，其他形狀亦為可能的。可將諸如導電膏604之塗層施加至MOV 602之表面。隨後，可將扁平銅片606（銅塊）施加至導電膏604，如所繪示。舉例而言，可自銅薄片形成扁平銅片606。扁平銅片606可具有小於MOV 602之面積的面積，如所繪示。
在圖6B中，繪示後續階段，此時將導電膏608（其可為焊錫膏）施加至扁平銅薄片606之遠離MOV 602的外表面。隨後，將半導體消弧裝置610附接至導電膏608，如圖6B中所繪示。半導體消弧裝置610可體現為具有類似於扁平銅薄片606之尺寸的矩形矽晶片。
在圖6C中，繪示後續製造階段，其中可將導電膏612施加至半導體消弧裝置610之表面。隨後，可將扁平銅片614施加至導電膏612，如所繪示。扁平銅片614可具有尺寸類似於半導體消弧裝置610之區域。所述組件可一起形成裝置堆疊620。
隨後，在繪示於圖6C中之階段處的裝置堆疊620可（諸如）藉由熱氣槍曝露於低溫退火，其中熱氣槍中之熱空氣的溫度高於室溫。此低溫退火可促進安置於MOV 602上之組件堆疊的結合。
現轉至圖6D，繪示在後續製造階段處之多個過電壓保護裝置的頂部成角圖。在此階段，可將一對電導線（繪示為電引線622）附接至裝置堆疊620之相對側，如所繪示。特定言之，導電膏624可用以將電引線622附接至扁平銅片614。另一電引線可類似地附接至MOV 602之與半導體消弧裝置610定位之側相對的側。特定言之，可將另一電引線附接至相對側，從而在低溫退火之前形成未退火裝置。
現轉至圖6E，繪示在後一階段處之過電壓保護裝置的側視圖，其中圍繞電引線622而佈置絕緣套管。最後，在圖6F處，繪示以下階段的側視圖：形成絕緣塗層626（諸如塑性塗層）以便囊封裝置堆疊620以及電導線622之鄰近於裝置堆疊620的部分。舉例而言，可藉由用於囊封變阻器之已知方法形成絕緣塗層626。在一種情況下，可將粉末施加至裝置堆疊，且引入熱以形成連續塗層。
儘管已參考某些實施例揭露本發明實施例，但對所描述實施例之多個修改、變更以及改變是可能的，而不脫離如在所附申請專利範圍中所定義的本發明之領域以及範疇。因此，本發明實施例可不限於所描述實施例，且具有由以下申請專利範圍之語言以及其等效物定義的完整範疇。
100、300、320‧‧‧過電壓保護裝置
102、302、602‧‧‧金屬氧化物變阻器（MOV）
104、200、304、610‧‧‧消弧裝置
106‧‧‧電力電路
110‧‧‧第一電線
112‧‧‧第二電線
114‧‧‧第一表面
116‧‧‧第二表面
120‧‧‧第一電接點
122‧‧‧第二電接點
124、312‧‧‧導電區
126、220‧‧‧第一外表面
128、222‧‧‧第二外表面
130‧‧‧第一側
202‧‧‧半導體基板
204‧‧‧內部n型層
206‧‧‧第一外部n型層
208‧‧‧第二外部n型層
210‧‧‧第一p型層
212‧‧‧第二p型層
306、310‧‧‧導電層
308‧‧‧電接點
314‧‧‧第一電引線
316‧‧‧第二電引線
322‧‧‧電絕緣塗層
400、410、420‧‧‧曲線
402‧‧‧正電壓部分
404‧‧‧負電壓部分
500‧‧‧處理流程
502、504、506、508‧‧‧區塊
604、608、612、624‧‧‧導電膏
606、614‧‧‧扁平銅片
620‧‧‧裝置堆疊
622‧‧‧電引線
626‧‧‧絕緣塗層
102、302、602‧‧‧金屬氧化物變阻器（MOV）
104、200、304、610‧‧‧消弧裝置
106‧‧‧電力電路
110‧‧‧第一電線
112‧‧‧第二電線
114‧‧‧第一表面
116‧‧‧第二表面
120‧‧‧第一電接點
122‧‧‧第二電接點
124、312‧‧‧導電區
126、220‧‧‧第一外表面
128、222‧‧‧第二外表面
130‧‧‧第一側
202‧‧‧半導體基板
204‧‧‧內部n型層
206‧‧‧第一外部n型層
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210‧‧‧第一p型層
212‧‧‧第二p型層
306、310‧‧‧導電層
308‧‧‧電接點
314‧‧‧第一電引線
316‧‧‧第二電引線
322‧‧‧電絕緣塗層
400、410、420‧‧‧曲線
402‧‧‧正電壓部分
404‧‧‧負電壓部分
500‧‧‧處理流程
502、504、506、508‧‧‧區塊
604、608、612、624‧‧‧導電膏
606、614‧‧‧扁平銅片
620‧‧‧裝置堆疊
622‧‧‧電引線
626‧‧‧絕緣塗層
圖1A呈現根據本發明之實施例的過電壓保護裝置之一個實施的電路表示。 圖1B呈現根據本發明之實施例的過電壓保護裝置之結構的側視橫截面圖。 圖2呈現根據各種實施例之可形成過電壓保護裝置之部分的半導體消弧裝置之側視橫截面圖。 圖3A描繪根據一些實施例之囊封前的過電壓保護裝置。 圖3B描繪囊封後的圖3A之過電壓保護裝置。 圖4A呈現根據本發明之實施例的過電壓保護裝置之例示性電流-電壓曲線。 圖4B呈現過電壓保護裝置之第一組件的例示性電流-電壓曲線。 圖4C呈現過電壓保護裝置之第二組件的例示性電流-電壓曲線。 圖4D呈現比較根據本發明實施例之裝置與獨立裝置之例示性導通電壓行為。 圖5呈現例示性處理流程。 圖6A至圖6F呈現根據本發明之實施例的在各製造階段之例示性過電壓保護裝置的圖像表示。
100‧‧‧過電壓保護裝置
102‧‧‧金屬氧化物變阻器(MOV)
104‧‧‧消弧裝置
106‧‧‧電力電路
110‧‧‧第一電線
112‧‧‧第二電線
Claims (18)
- 一種過電壓保護裝置，其包括： 金屬氧化物變阻器（MOV），其具有第一表面以及第二表面； 半導體基板，其具有第一外表面以及第二外表面，且包括包括佈置為彼此電串聯之多個半導體層的半導體消弧裝置，所述半導體基板安置於所述金屬氧化物變阻器之第一側上； 導電區，其安置於所述金屬氧化物變阻器之所述第二表面與所述半導體基板之所述第一外表面之間； 第一電接點，其安置於所述金屬氧化物變阻器之所述第一表面上；以及 第二電接點，其安置於所述半導體基板之所述第二外表面上。
- 如申請專利範圍第1項所述的過電壓保護裝置，其中所述金屬氧化物變阻器與所述半導體消弧裝置電串聯於所述第一電接點與所述第二電接點之間。
- 如申請專利範圍第1項所述的過電壓保護裝置，其中所述金屬氧化物變阻器包括第一隔絕電壓，所述半導體消弧裝置包括第二隔絕電壓，且所述過電壓保護裝置包括等於所述第一隔絕電壓與所述第二隔絕電壓之總和的總隔絕電壓。
- 如申請專利範圍第1項所述的過電壓保護裝置，其中所述金屬氧化物變阻器作為獨立裝置包括第一回應時間，且其中所述過電壓保護裝置包括小於所述第一回應時間之第二回應時間。
- 如申請專利範圍第1項所述的過電壓保護裝置，其中所述金屬氧化物變阻器作為獨立裝置在第一電壓處包括第一洩漏電流，且其中所述過電壓保護裝置在所述第一電壓處包括小於所述第一洩漏電流之第二洩漏電流。
- 如申請專利範圍第1項所述的過電壓保護裝置，所述半導體消弧裝置以及金屬氧化物變阻器經佈置以在外部電壓超出臨限值時將所述過電壓保護裝置置於開啟狀態，且經進一步佈置以在所述外部電壓低於所述臨限值時將所述過電壓保護裝置置於關閉狀態。
- 如申請專利範圍第1項所述的過電壓保護裝置，其中所述半導體消弧裝置包括： 內部n型層； 第一外部n型層，其安置於所述第一外表面上； 第二外部n型層，其安置於所述第二外表面上； 第一p型層，其安置於所述第一外部n型層與所述內部n型層之間；以及 第二p型層，其安置於所述第二外部n型層與所述內部n型層之間。
- 如申請專利範圍第7項所述的過電壓保護裝置，其中所述第一p型層之第一部分安置於所述第一外表面上，且所述第二p型層之第二部分安置於所述第二外表面上。
- 如申請專利範圍第1項所述的過電壓保護裝置，其中所述導電區包括： 第一導電層，其安置於所述金屬氧化物變阻器之所述第二表面上； 第二導電層，其安置於所述半導體基板之所述第一外表面上；以及 第一銅塊，其安置於所述第一導電層與所述第二導電層之間。
- 如申請專利範圍第1項所述的過電壓保護裝置，其中所述第二電接點包括： 第三導電層，其安置於所述半導體基板之所述第二外表面上；以及 第二銅塊，其安置於所述第三導電層上。
- 如申請專利範圍第1項所述的過電壓保護裝置，其中所述過電壓保護裝置包括對稱裝置，所述對稱裝置包括回應於施加於所述第一電接點與第二電接點之間的第一量值之正外部電壓的第一電流-電壓特性，且包括回應於施加於所述第一電接點與第二電接點之間的所述第一量值之負外部電壓的第二電流-電壓特性，所述第二電流-電壓特性匹配所述第一電流-電壓特性。
- 一種製造過電壓保護裝置之方法，包括： 提供金屬氧化物變阻器（MOV），所述金屬氧化物變阻器具有第一側以及第二側； 將包括半導體消弧裝置之半導體基板的第一表面附接至所述第二側； 在所述金屬氧化物變阻器之所述第一側上形成第一電接點；以及 在所述半導體基板之與所述第一表面相對的第二表面上形成第二電接點，其中所述金屬氧化物變阻器與所述半導體消弧裝置在所述第一電接點與所述第二電接點之間彼此電串聯。
- 如申請專利範圍第12項所述的製造過電壓保護裝置之方法，其中所述附接包括： 將包括低溫焊錫膏之第一塗層施加至金屬氧化物變阻器（MOV）之第一表面； 將第一金屬片附接至所述第一塗層； 將包括所述低溫焊錫膏之第二塗層施加至所述第一金屬片；以及 將所述半導體基板附接至所述第二塗層。
- 如請求項第12項所述的製造過電壓保護裝置之方法，其中形成所述第二電接點包括： 將包括低溫焊錫膏之第三塗層施加至所述半導體基板；以及 將第二金屬片附接至所述第三塗層以形成未退火裝置。
- 如申請專利範圍第14項所述的製造過電壓保護裝置之方法，其進一步包括在第一溫度下將熱空氣施加至所述未退火裝置。
- 如申請專利範圍第14項所述的製造過電壓保護裝置之方法，其進一步包括： 將第一電引線附接至所述金屬氧化物變阻器之所述第一側；以及 將第二電引線附接至所述第二金屬片。
- 如申請專利範圍第12項所述的製造過電壓保護裝置之方法，其進一步包括：將塑性塗層施加至所述半導體基板、所述金屬氧化物變阻器、所述第一電接點以及所述第二電接點。
- 一種過電壓保護裝置，其包括： 第一電接點； 金屬氧化物變阻器（MOV），其電連接至所述第一電接點； 第二電接點；以及 半導體消弧裝置，其包括多個半導體層，其中所述金屬氧化物變阻器與所述半導體消弧裝置電串聯地佈置於所述第一電接點與第二電接點之間。
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