TW201639810A - 反應混合物中之錫化合物之處理方法 - Google Patents

反應混合物中之錫化合物之處理方法 Download PDF

Info

Publication number
TW201639810A
TW201639810A TW105100961A TW105100961A TW201639810A TW 201639810 A TW201639810 A TW 201639810A TW 105100961 A TW105100961 A TW 105100961A TW 105100961 A TW105100961 A TW 105100961A TW 201639810 A TW201639810 A TW 201639810A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
compound
reaction
formula
mixture
group
Prior art date
Application number
TW105100961A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI758241B (zh
Inventor
Masato Nagao
Yuichi Goto
Original Assignee
Nissan Chemical Ind Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Chemical Ind Ltd filed Critical Nissan Chemical Ind Ltd
Publication of TW201639810A publication Critical patent/TW201639810A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI758241B publication Critical patent/TWI758241B/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C213/00—Preparation of compounds containing amino and hydroxy, amino and etherified hydroxy or amino and esterified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C213/02—Preparation of compounds containing amino and hydroxy, amino and etherified hydroxy or amino and esterified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton by reactions involving the formation of amino groups from compounds containing hydroxy groups or etherified or esterified hydroxy groups
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
    • B01J27/06—Halogens; Compounds thereof
    • B01J27/135—Halogens; Compounds thereof with titanium, zirconium, hafnium, germanium, tin or lead
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C213/00—Preparation of compounds containing amino and hydroxy, amino and etherified hydroxy or amino and esterified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C213/10—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C219/00—Compounds containing amino and esterified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C219/32—Compounds containing amino and esterified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having amino groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings and esterified hydroxy groups bound to acyclic carbon atoms or to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D307/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D307/34—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D307/56—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D307/58—One oxygen atom, e.g. butenolide

Abstract

本發明提供一種簡便且有效率地處理反應混合物中之錫化合物之方法。 一種製造化合物B之方法，其係依據反應式(1)，將化合物A當作原料，使用氯化亞錫使其反應而製造化合物B之方法，其特徵為包含使上述經反應之反應液與包含苯環之化合物與氫氧化鉀水溶液之混合液接觸而進行分液，從取得之有機層獲得化合物B之純化步驟。 □ (化合物A可為單一化合物，亦可為複數化合物之混合物。)

Description

反應混合物中之錫化合物之處理方法
本發明係關於簡便且有效率之處理反應混合物中之錫化合物之方法。
作為將芳香族硝基化合物當作原料，使用SnCl2(氯化亞錫)進行還原而製造芳香族胺化合物之際，去除使用作為觸媒之Sn化合物殘渣之方法，已知有以下之方法。
專利文獻1及非專利文獻1中記載、對反應後之反應混合物添加碳酸氫鈉水溶液進行中和，並過濾源自Sn之析出物的方法。
專利文獻2中記載於反應後餾除溶劑，對殘渣添加氫氧化鈉水溶液，將pH作成約12~14後，使用乙酸乙酯萃取生成物的方法。
專利文獻3中記載對反應液添加氫氧化鈉直到成為強鹼性後，使用二乙基醚萃取生成物的方法。
專利文獻4中記載對乙酸乙酯溶液之反應液添加氫氧化鉀水溶液，使用乙酸乙酯萃取生成物後，藉由矽膠管柱 層析法進行純化的方法。
又，已知在使縮醛與α-溴酯進行反應之雷福馬斯基反應(Reformatsky reaction)中，使用SnCl2作為反應劑的方法。
作為反應後之純化方法，專利文獻5中記載、藉由有機溶劑從反應後之溶液萃取目的物，並進行再結晶的方法，但根據作者之檢討，明確發現於此方法下結晶中會殘留大量之Sn。
〔先前技術文獻〕 〔專利文獻〕
〔專利文獻1〕國際公開WO2013/099804號公報
〔專利文獻2〕日本特表2012-526061
〔專利文獻3〕日本特表2010-530405
〔專利文獻4〕日本特表2008-526910
〔專利文獻5〕國際公開WO2012/002513號公報
〔非專利文獻〕
〔非專利文獻1〕J.Org.Chem.2005年、Vol.70、63-78頁
本發明之目的在於提供在使用SnCl2(氯化亞 錫)之反應中，簡便且有效率地去除反應液中之Sn化合物的新穎方法。
本發明者等為了達成上述目的經過重複精心研討之結果，進而完成下述之本發明。
1.一種製造化合物B之方法，其係依據下述之反應式(1)，將化合物A當作原料，使用氯化亞錫使其反應而製造化合物B之方法，其特徵為包含：使上述經反應之反應液，與包含苯環之化合物與氫氧化鉀水溶液之混合液接觸進行分液，從取得之有機層獲得化合物B之純化步驟。
(化合物A可為單一化合物，亦可為複數化合物之混合物。)
2.如上述1之方法，其中使前述反應液，與包含苯環之化合物與氫氧化鉀水溶液之混合液接觸之方法係為將反應液添加至包含苯環之化合物與氫氧化鉀水溶液之混合液中之方法。
3.如上述1之方法，其中上述反應式(1)所表示之反應係為使用氯化亞錫之還原反應，或內酯環生成反應。
4.如上述3之方法，其中化合物A為式1所表示之 芳香族二硝基化合物，化合物B為式2所表示之芳香族二胺化合物。
(式中，Ar2表示芳香族基。)
5.如上述4之方法，其中式1所表示之化合物為式3所表示之芳香族二硝基化合物。
6.如上述3之方法，其中化合物A為式4所表示之縮醛化合物與式5所表示之酯化合物之混合物，化合物B為式6所表示之α-亞甲基-γ-丁內酯化合物。
(式中，X1表示有機基，X2及X3係各自獨立表示碳數1至4之烷基，或X2與X3亦可連接一同形成CH2CH2或CH2CH2CH2。X4表示碳數1至4之烷基。Y1為Cl或 Br。)
7.如上述6之方法，其中式4所表示之化合物為式7所表示之縮醛化合物。
(式中，X2及X3係各自獨立表示碳數1至4之烷基，或X2與X3亦可連接一同形成CH2CH2或CH2CH2。X5及X6係各自獨立表示經由醚鍵或單鍵而鍵結於苯環之碳數1至10之伸烷基。Z1及Z2係各自獨立表示選自鹵素原子、烷基、鹵烷基、烷氧基及鹵烷氧基之取代基，m及n係各自獨立表示0至4之整數，m與n之至少一者為2以上時，2個以上之Z1及/或Z2可互為相同亦可為相異。)
8.如上述1~7中任一項之方法，其中氫氧化鉀水溶液之濃度為1~50質量%。
9.如上述1~8中任一項之方法，其中相對於錫原子1莫耳，氫氧化鉀之量為3莫耳倍量以上。
10.如上述1~9中任一項之方法，其中進行分液之溫度為10~80℃。
11.如上述1~10中任一項之方法，其中氫氧化鉀水溶液與包含苯環之化合物之使用量比在質量比下50：1~1：50。
12.如上述1~11中任一項之方法，其中包含苯環之化合物具有沸點80~170℃。
13.如上述1~12中任一項之方法，其中包含苯環之化合物為甲苯。
14.如上述1~13中任一項之方法，其中更使用反應溶劑。
15.如上述14之方法，其中反應溶劑為四氫呋喃。
16.如上述14之方法，其中反應溶劑為水。
依據本發明，提供一種在使用SnCl2(氯化亞錫)之反應中，簡便且有效率地去除反應液中之錫化合物之新穎方法，而能取得高純度之目的物。
本發明係依據下述之反應式(1)。即，一種製造化合物B之方法，其係在將化合物A當作原料，使用氯化亞錫進行反應而製造化合物B之方法中，包含使上述經反應之反應液，與包含苯環之化合物與氫氧化鉀水溶液之混合液接觸進行分液之純化步驟。
在此，化合物A可為單一化合物，亦可為複 數化合物之混合物。
化合物A為芳香族硝基化合物、或芳香族二硝基化合物時，依據下述之反應式(4)或(2)，在氯化亞錫之存在下，使式8所表示之芳香族硝基化合物或式1所表示之芳香族二硝基化合物(Ar、Ar2為芳香族基)受到還原，而生成式9所表示之芳香族胺化合物或式2所表示之芳香族二胺化合物。
上述二硝基化合物之2個NO2基係可存在於鄰位、間位或對位，但以間位為佳。
本發明中，作為式1或式8所表示之芳香族硝基化合物或芳香族二硝基化合物之例，可舉出如下述式1-1至1-53。
又，本發明中，作為式1或式8所表示之芳香族硝基化合物或芳香族二硝基化合物之其他例，可舉出如國際專利申請案公開WO2007-071091之P81記載之二硝基化合物、國際專利申請案公開WO2007-071091之P82至P88記載之化合物(但，應將二胺基改讀成二硝基者)、國際專利申請案公開WO2007-071091之P88記載之二硝基化合物、國際專利申請案公開WO2007-071091 之P89至P92記載之化合物(但，應將二胺基改讀成二硝基者)、國際專利申請案公開WO2007-071091之P93記載之二硝基化合物、國際專利申請案公開WO2007-071091之P94至P99記載之化合物(但，應將二胺基改讀成二硝基者)、國際專利申請案公開WO2007-071091之P101記載之二硝基化合物、國際專利申請案公開WO2007-071091之P102至P104記載之化合物(但，應將胺基改讀成硝基者)、國際專利申請案公開WO2007-071091之P104記載之二硝基化合物、國際專利申請案公開WO2007-071091之P107記載之二硝基化合物國際專利申請案公開WO2007-071091之P109至P110記載之化合物(但，應將二胺基改讀成二硝基者)、國際專利申請案公開WO2007-071091之P111記載之二硝基化合物、國際專利申請案公開WO2007-071091之P112至P115記載之化合物(但，應將二胺基改讀成二硝基者)、國際專利申請案公開WO2008-145225之P87及P88記載之二硝基化合物、國際專利申請案公開WO2008-145225之P89至P93記載之化合物(但，應將二胺基改讀成二硝基者)、國際專利申請案公開WO2008-145225之P93記載之二硝基化合物、國際專利申請案公開WO2008-145225之P95至P106記載之化合物(但，應將二胺基改讀成二硝基者)、國際專利申請案公開WO2008-145225之P106記載之二硝基化合物、國際專利申請案公開WO2008-145225之P108至P135記載之化合物(但，應將二胺基改讀成二 硝基者)、國際專利申請案公開WO2008-145225之P137記載之二硝基化合物、國際專利申請案公開WO2008-145225之P139至P141記載之化合物(但，應將胺基改讀成硝基者)、國際專利申請案公開WO2008-145225之P143記載之二硝基化合物、國際專利申請案公開WO2008-145225之P145記載之二硝基化合物、國際專利申請案公開WO2008-145225之P146至P153記載之化合物(但，應將胺基改讀成硝基者)、及國際專利申請案公開WO2013099804公報之P51、P55、P58、P60、P63、P65、P68、P71及P74記載之二硝基化合物。
其中作為式1所表示之化合物，較佳係可舉出如下述式3所表示之二硝基化合物。
上述還原反應即便使用或即便不使用反應溶劑皆能實施，但以使用反應溶劑進行為佳。作為反應溶劑，只要係對反應為不活性者即無特別限定。
例如，可舉出己烷、環己烷、苯、甲苯等之烴類；四氯化碳、氯仿、1,2-二氯乙烷等之鹵素系烴類；甲醇、乙醇、異丙基醇等之醇類；二乙基醚、二異丙基醚、1,4-二噁烷、四氫呋喃等之醚類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁 基酮等之酮類；乙腈、丙腈等之腈類；乙酸乙酯、丙酸乙基等之羧酸酯類；N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基-2-吡咯啶酮、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮等之含氮非質子性極性溶劑；二甲亞碸、環丁碸等之含硫非質子性極性溶劑；吡啶、甲吡啶等之吡啶類等；水等。此等溶劑可單獨使用，亦可將此等當中2種類以上予以混合使用。較佳為選自四氫呋喃及1,4-二噁烷之溶劑與水之混合溶劑，更佳為四氫呋喃與水之混合溶劑。
在使用水與有機溶劑之混合溶劑時，有機溶劑與水之混合比率，以質量比計為1：50~50：1，較佳為1：10~10：1。
反應溶劑之使用量(反應濃度)並無特別限定，相對於芳香族硝基化合物或芳香族二硝基化合物1質量份，能使用1~100質量倍之反應溶劑。較佳為1.5~50質量倍，更佳為2.5~10質量倍。
反應溫度並無特別限定，例如為-90~200℃，較佳為0~150℃，更佳為10~120℃。反應時間係通常為0.05~200小時，較佳為0.5~100小時。
上述之還原反應中之氯化亞錫之使用量並無特別限制，相對於式8所表示之芳香族硝基化合物之硝基1莫耳，較佳為1~10莫耳倍量，更佳為2~5莫耳倍量。又，在如式1所表示之芳香族硝基化合物具有2個硝基時，相對於芳香族硝基化合物1莫耳，較佳為2~20莫耳倍量，更佳為4~10莫耳倍量。
具體之還原反應較佳係藉由如下述之操作進行實施。即，於反應器中置入起始原料之芳香族硝基化合物、氯化亞錫、及反應溶劑例如四氫呋喃，較佳係在10~120℃中，較佳攪拌1~20小時。
起始原料之置入順序在為了避免反應中間體之副反應，以在氯化亞錫及反應溶劑之混合物中分次添加芳香族硝基化合物，或使芳香族硝基化合物溶解於反應溶劑中再添加之方法為佳。反應之結束係亦能藉由薄層層析法或高速液體層析法等進行確認。
藉由上述操作，式8所表示之芳香族硝基化合物或式1所表示之芳香族二硝基化合物受到還原，而生成式9所表示之芳香族胺化合物或式2所表示之芳香族二胺化合物，進而取得包含芳香族胺、未反應原料、及Sn化合物之反應液。
其次，說明關於化合物B為式6所表示之α-亞甲基-γ-丁內酯化合物的情況(內酯環生成反應)。
如下述所示，藉由使化合物A之式4所表示之縮醛或縮酮化合物與式5所表示之鹵化丙烯酸酯之混合物在氯化亞錫存在下進行反應，進而生成化合物B之一種即式6所表示之α-亞甲基-γ-丁內酯化合物。
(式中，X1表示有機基，X2及X3係各自獨立表示碳數1至4之烷基，或X2與X3亦可連接一同形成CH2CH2或CH2CH2CH2。X4表示碳數1至4之烷基。Y1為Cl或Br。)
作為上述內酯環生成所使用之式4所表示之化合物，可舉出例如式7所表示之化合物。
(式中，X2及X3係各自獨立表示碳數1至4之烷基，X2與X3亦可連接一同形成CH2CH2或CH2CH2。X5及X6係各自獨立表示經由醚鍵或單鍵而鍵結於苯環之碳數1至10之伸烷基。Z1及Z2係各自獨立表示選自鹵素原子、烷基、鹵烷基、烷氧基及鹵烷氧基之取代基，m及n係各自獨立表示0至4之整數，且m與n之至少一者為2以上時，2個以上之Z1及/或Z2可互為相同亦可為相異。)
作為上述內酯環生成反應中使用之式5所表示之丙烯酸衍生物，可使用2-(氯甲基)丙烯酸、2-(氯 甲基)丙烯酸甲基、2-(氯甲基)丙烯酸乙基、2-(溴甲基)丙烯酸、2-(溴甲基)丙烯酸甲基、2-(溴甲基)丙烯酸乙基等。
式5所表示之丙烯酸衍生物之使用量並無特別限定，相對於式4所表示之化合物之縮醛基1莫耳，以使用1.0~1.5莫耳倍量為佳，較佳為1.0~1.2莫耳倍量。
例如，式4所表示之化合物具有2個縮醛基時，相對於式4所表示之縮醛化合物1莫耳，以使用2.0~3.0莫耳倍量為佳，較佳為2.0~2.5莫耳倍量。
作為上述內酯環生成反應所使用之錫系化合物，一般雖為氯化亞錫，但作為其他錫化合物，可使用錫粉末、無水氯化錫、氯化錫二水合物、氯化錫五水合物等之錫系化合物等。
在施行反應時，亦可添加酸。作為酸，能使用鹽酸、硫酸、磷酸、氯化銨等之無機酸或其鹽、Amberlyst 15等之酸性樹脂、p-甲苯磺酸、乙酸、蟻酸等之有機酸或其鹽等。
上述內酯環生成反應即便使用或不使用反應溶劑皆能實施，但以使用反應溶劑進行為佳。反應溶劑只要係對反應為不活性者，即無特別限定。例如，可舉出己烷、環己烷、苯、甲苯等之烴類；四氯化碳、氯仿、1,2-二氯乙烷等之鹵素系烴類；甲醇、乙醇、異丙基醇等之醇類；二乙基醚、二異丙基醚、1,4-二噁烷、四氫呋喃等之醚類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等之酮類；乙 腈、丙腈等之腈類；乙酸乙酯、丙酸乙基等之羧酸酯類；N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基-2-吡咯啶酮、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮等之含氮非質子性極性溶劑；二甲亞碸、環丁碸等之含硫非質子性極性溶劑；吡啶、甲吡啶等之吡啶類等、及水。此等溶劑係可單獨使用，亦可混合使用此等當中之2種類以上。較佳為選自四氫呋喃及1,4-二噁烷之溶劑與水之混合溶劑，更佳為四氫呋喃與水之混合溶劑。在使用水與有機溶劑之混合溶劑時，有機溶劑與水之混合比率，以質量比計為1：50~50：1，較佳為1：10~10：1。
反應溶劑之使用量(反應濃度)並無特別限定，相對於式4所表示之縮醛或縮酮化合物1質量份，能使用1~100質量倍之反應溶劑。較佳為1.5~50質量倍，更佳為2.5~50質量倍。
反應溫度並無特別限定，通常為-90~200℃，較佳為20~100℃。反應時間係通常為0.05~200小時，較佳為0.5~60小時。
藉由上述操作，由式4所表示之縮醛或縮酮化合物與式5所表示之鹵化丙烯酸酯之反應混合物生成式6所表示之α-亞甲基-γ-丁內酯化合物，取得包含α-亞甲基-γ-丁內酯化合物、未反應原料、及Sn化合物之反應液。
本發明係為藉由將使用氯化亞錫使化合物A反應而得之反應液，與甲苯與氫氧化鉀水溶液之混合溶液接觸而進 行分液，有效率地分離反應液中生成之錫化合物，而從有機層以高純度、高收率地取得化合物B之方法。
其次，將取得之包含化合物B之反應液，提供至與包含苯環之化合物與氫氧化鉀水溶液之混合溶液接觸而進行分液之純化步驟。包含苯環之化合物在分液後由於容易濃縮，故沸點較佳具有80~170℃，更佳具有80~150℃。作為該包含苯環之化合物，可舉出如苯、甲苯、m-茬、o-茬、p-茬、均三甲苯、苯甲醚、氯苯、o-二氯苯等，從毒性較低，且容易餾除及乾燥之觀點，以甲苯為特佳。
本發明中，從包含化合物B之反應液分離Sn化合物，而取得目的物之化合物B之純化步驟，在當包含苯環之化合物為例如甲苯時，可舉出如以下之4方法。
對反應液添加氫氧化鉀水溶液後，添加甲苯進行分液，而從有機層取得目的物之方法(方法1)；對反應液添加甲苯，使用氫氧化鉀水溶液進行洗淨並分液，從有機層取得目的物之方法(方法2)，對裝有甲苯與氫氧化鉀水溶液之容器添加反應液進行分液，從有機層取得目的物之方法(方法3)；及；對反應液一次性添加甲苯與氫氧化鉀水溶液進行分液，從有機層回收目的物之方法(方法4)。
本發明中能使用此等方法之任意一種，但在與氫氧化鉀水溶液進行混合時，從能將溫度控制在固定，且在混合中不會引起因目的物或Sn化合物之析出所造成 之攪拌不良，又，混合後不會造成Sn化合物析出，容易判別2層之界面的觀點，則以上述之(方法3)為特佳。
分液步驟所使用之氫氧化鉀水溶液中之氫氧化鉀之量係以將反應液中之Sn化合物作成高水溶性之六氫錫酸鉀用之量為佳，相對於錫原子1莫耳而言，以3莫耳倍以上為佳，較佳為3~10莫耳倍，特佳為3~6莫耳倍。
所使用之氫氧化鉀水溶液之濃度並無特別限制。但，若目的物不會分解，則在能以濃度越濃，且使用量少之氫氧化鉀水溶液處理進行之觀點上為佳。在目的物會分解時，藉由降低氫氧化鉀之濃度即能實施。因此，氫氧化鉀水溶液之濃度係以1~50質量%為佳，以10~50質量%為較佳。
包含苯環之化合物與氫氧化鉀水溶液之使用量之比率在從分液時之界面容易分離且使容積效率變得良好之觀點，在質量比下，以100：1~1：100為佳，以75：1~1：75為較佳，以50：1~1：50為特佳。
分液之溫度只要係目的物不會分解且會溶解之溫度，即無特別限制，以10~80℃為佳，從容易控制溫度之觀點，以10~60℃為佳。
分液所需要之時間只要係目的物不會分解且界面會分離之時間，即無特別限制，但從縮短作業時間之觀點，則為0.01~4小時，較佳為0.02~1小時。
藉由上述分液而得之甲苯層中雖包含使用氯 化亞錫所得之目的物，但可直接濃縮此有機層而分離回收目的物。又，為了使目的物晶析，亦能對該有機層添加貧溶劑，且藉由晶析而回收目的物。作為此時之貧溶劑，較佳係使用己烷、庚烷、環己烷等之烴、乙醇、甲醇、i-丙基醇等之醇等。又，為了更加提高目的物之純度，亦可進行再結晶等之純化處理。
另一方面，藉由上述之分液所得之水層中雖然含有從在還原反應等中使用之氯化亞錫所產生之高溶解性之六氫錫酸鉀等，該水層可直接廢棄，但因應必要亦能回收此等錫化合物。
〔實施例〕
以下，根據實施例更具體說明本發明，但本發明之解釋並未係受到此等實施例所限定者。
實施例1
使氯化亞錫(43.2g、228mmol)溶解於THF(四氫呋 喃)(45.0g)、及水(75.0g)之混合溶劑中，且在18~25℃下以1小時滴入在THF(27.0g)中已溶解有(E)-4-(6-(甲基丙烯醯氧基)己氧基)桂皮酸(2-(2,4-二硝基苯基)乙基)酯(15.0g、28.5mmol)之溶液。其後，攪拌25小時，而取得包含(E)-4-(6-(甲基丙烯醯氧基)己氧基)桂皮酸(2-(2,4-二胺基苯基)乙基)酯之反應混合物。
其次，對甲苯(75.0g)與40質量%氫氧化鉀水溶液(105g)之混合溶液滴入上述反應混合物。於此之際，在滴下中並無析出物，能良好地攪拌。其後，攪拌10分鐘，廢棄水層，將取得之有機層添加至6質量%氫氧化鉀水溶液(75g)，攪拌10分鐘後，廢棄水層。其後，重複五次加入水(75g)攪拌10分鐘，廢棄水層之操作。其次，濃縮有機層，加入甲苯直到總量成為90.6g，在50℃下溶解析出物。其後，冷卻至0℃，過濾已析出之固體。乾燥(40℃)取得之固體，而取得(E)-4-(6-(甲基丙烯醯氧基)己氧基)桂皮酸(2-(2,4-二硝基苯基)乙基)酯(薄茶色固體、收量：11.0g、收率：83%、Sn含量：70ppm)。
更進一步，在50℃下使取得之化合物(1.00g)溶解於甲苯(7.00g)，添加活性碳0.1g(特製白鷺)日本環境化學公司製)，攪拌30分鐘。其後，藉由過濾去除活性碳，並且濃縮濾液之結果，目的物中之Sn含量為未滿1ppm。
取得之目的物之HPLC分析係使用下述之分析裝置及分析條件施行。
裝置：LC-20A系統(島津製作所公司製)
管柱：Inertsil ODS-3(4.6mm ×250mm、GL Sciences公司製)
檢測器：UV檢測(波長254nm)
溶析液：乙腈/0.1質量%乙酸水溶液(70/30、v/v)。
比較例1
對除了將實施例1之(E)-4-(6-(甲基丙烯醯氧基)己氧基)桂皮酸(2-(2,4-二硝基苯基)乙基)酯之量改成1.0g，其他之原料作成與實施例1同樣之比率進行調製而成之包含(E)-4-(6-(甲基丙烯醯氧基)己氧基)桂皮酸(2-(2,4-二胺基苯基)乙基)酯之反應混合物添加乙酸乙酯5g後，再加入碳酸氫鈉(2.4g)之結果，大量生成白色之析出物，而變得無法攪拌。
比較例2
採取與比較例1同樣地進行調製而成之包含(E)-4-(6-(甲基丙烯醯氧基)己氧基)桂皮酸(2-(2,4-二胺基苯基)乙基)酯之反應混合物之3分之1之量即7.2g，添加乙酸乙酯3.3g，滴入40質量%氫氧化鈉水溶液1.3g時，大量生成白色之析出物，而變得無法攪拌。並且，滴 入1.9g之40質量%氫氧化鈉水溶液時，析出物雖然溶解，但其後靜置3日後，則產生析出物。
比較例3
對與比較例1同樣地進行調製而成之包含(E)-4-(6-(甲基丙烯醯氧基)己氧基)桂皮酸(2-(2,4-二胺基苯基)乙基)酯之反應混合物添加乙酸乙酯5.0g，滴入40質量%氫氧化鉀水溶液(7.0g)。滴下中，生成白色之析出物，攪拌性出現惡化，但總量滴下結束後，析出物則呈現溶解。其後，靜置數日後，卻產生析出物。
實施例2
使氯化亞錫二水合物(78.52g、348mmol)溶解於THF(700.0g)、4,4‘-雙(4-(1、3-二氧戊烷-2-基)丁氧基)1,1’-聯苯(70.0g、158mmol)及溴甲基丙烯酸乙基酯(67.18g、348mmol)之混合溶液，在64℃下以30分鐘滴入0.1N鹽酸水溶液(249.9g)。其後，攪拌24小時， 取得包含4,4‘-雙(4-(3-亞甲基四氫呋喃-2(3H)-酮-5-基)丁氧基)聯苯之反應混合物。
其次，將甲苯(875.0g)與THF(175.0g)之混合溶液添加於反應混合物，在50℃下攪拌後，廢棄鹽酸層。其次，在50℃下以30分鐘將取得之有機層滴入於12.9wt%氫氧化鉀水溶液(525.0g)中。其後，再添加甲苯(70.0g)，在50℃下攪拌10分鐘後，廢棄水層。對取得之有機層更添加5.2wt%氫氧化鉀水溶液(525.0g)，在50℃下攪拌10分鐘後，廢棄水層。其次，重複3次添加水(525.0g)，在50℃下攪拌10分鐘，廢棄水層之操作，從而取得有機層。
更進一步，對取得之有機層添加活性碳(7g)(特製白鷺；日本環境化學公司製)，在50℃下攪拌30分鐘後，過濾去除活性碳。其後，使濾液冷卻至5℃而使結晶析出，並進行過濾。乾燥(40℃)取得之結晶，而得到4,4‘-雙(4-(3-亞甲基四氫呋喃-2(3H)-酮-5-基)丁氧基)聯苯(白色固體、收量：64.59g、收率：83%)。Sn含量為未滿1ppm。
取得之目的物之HPLC分析係使用下述之分析裝置及分析條件施行。
裝置：LC-2010系統(島津製作所公司製)
管柱：Inertsil ODS-3(4.6mm ×250mm、GL Sciences公司製)
檢測器：UV檢測(波長265nm)
溶析液：乙腈/0.2質量%乙酸銨水溶液(70/30(0-5min)→85/15(10-30min))〔v/v〕
實施例3
使氯化亞錫二水合物(124g、550mmol)溶解於THF(500.0g)、4,4‘-雙(4,4-二甲氧基丁氧基)-3-氟-1,1’-聯苯(100.0g、229mmol)、溴甲基丙烯酸乙基酯(97.29g、504mmol)及二丁基羥基甲苯(0.56g、2.5mmol)之混合溶液，在64℃下以30分鐘滴入0.1N鹽酸水溶液(175.0g)。其後，攪拌24小時，取得包含4,4‘-雙(3-(3-亞甲基四氫呋喃-2(3H)-酮-5-基)丙氧基)-3-氟聯苯之反應混合物。
其次，將甲苯(750.0g)添加至反應混合物，在50℃下攪拌後，廢棄鹽酸層。其次，在50℃下以30分鐘將取得之有機層滴入於12.9質量%氫氧化鉀水溶液(750.0g)中。其後，在50℃下攪拌10分鐘，廢棄水層。並且，對有機層添加5.2wt%氫氧化鉀水溶液(750.0g)，在50℃ 下攪拌10分鐘後，廢棄水層。其後，重複3次添加水(750.0g)，在50℃下攪拌10分鐘，廢棄水層之操作，從而取得有機層。
更進一步，對取得之有機層添加活性碳(10g)(特製白鷺；日本環境化學公司製)，在50℃下攪拌30分鐘後，過濾去除活性碳。其次，在50℃下以30分鐘對濾液添加庚烷(100.0g)。其後，冷卻至5℃而使結晶析出，並進行過濾。乾燥(40℃)取得之結晶，取得4,4‘-雙(3-(3-亞甲基四氫呋喃-2(3H)-酮-5-基)丙氧基)-3-氟聯苯(白色固體、收量：87.36g、收率：79%)。Sn含量為未滿1ppm。
取得之目的物之HPLC分析係除了將溶析液改成乙腈/0.2質量%乙酸銨水溶液(70/30)〔v/v〕以外，其他係在與實施例2同樣之條件下進行。
實施例4
使氯化亞錫二水合物(129.35g、573mmol)溶解於 THF(600.0g)、4,4’-雙(4-(1、3-二氧戊烷-2-基)丁氧基)-3-氟-1,1’-聯苯(120.0g、260mmol)及溴甲基丙烯酸乙基酯(110.7g、573mmol)之混合溶液，在64℃下以30分鐘滴入0.1N鹽酸水溶液(428.4g)。其後，攪拌24小時，取得包含4,4’-雙(4-(3-亞甲基四氫呋喃-2(3H)-酮-5-基)丁氧基)-3-氟-聯苯之反應混合物。
並且，在50℃下攪拌10分鐘後，廢棄鹽酸層。其次，在50℃下以30分鐘將取得之有機層滴入於甲苯(600.0g)與12.9質量%氫氧化鉀水溶液(900.0g)之混合溶液中。其後，更在50℃下攪拌10分鐘，廢棄水層。其次，對有機層添加5.2質量%氫氧化鉀水溶液(900.0g)，在50℃下攪拌10分鐘後，廢棄水層，取得有機層。
更進一步，對取得之有機層添加活性碳(12g)(特製白鷺；日本環境化學公司製)，在50℃下攪拌30分鐘後，過濾去除活性碳。其次，在50℃下以30分鐘對濾液添加庚烷(360.0g)。其後，冷卻至5℃而使結晶析出，並進行過濾。乾燥(40℃)取得之結晶，而取得4,4’-雙(4-(3-亞甲基四氫呋喃-2(3H)-酮-5-基)丁氧基)-3-氟-聯苯(白色固體、收量：106.11g、收率：80%)。Sn含量為未滿1ppm。
取得之目的物之HPLC分析係使用下述之分析裝置及分析條件施行。
裝置：LC-2010系統(島津製作所公司製)
管柱：Inertsil ODS-3(4.6mm ×250mm、GL Sciences公司製)
檢測器：UV檢測(波長265nm)
溶析液：乙腈/0.2質量%乙酸銨水溶液(70/30(0-5min)→85/15(10-30min))〔v/v〕(5min~10min顯現固定之組成變化。)
〔產業上之可利用性〕
本發明之方法係在使用SnCl2(氯化亞錫)之反應中，能簡便且有效率地去除Sn化合物，且能以高純度取得目的之化合物，在工業上為極有用者。
尚且，將2015年1月13日提出申請之日本專利申請案2015-004367號之說明書、申請專利範圍、及摘要之全部內容引用至此作為本發明之說明書之揭示內容並予以導入者。

Claims (16)

  1. 一種製造化合物B之方法，其係依據下述之反應式(1)，將化合物A當作原料，使用氯化亞錫使其反應而製造化合物B之方法，其特徵為包含使上述已反應之反應液與包含苯環之化合物與氫氧化鉀水溶液之混合液接觸而使其分液，從取得之有機層獲得化合物B之純化步驟； 化合物A可為單一化合物，亦可為複數化合物之混合物。
  2. 如請求項1之方法，其中使前述反應液與包含苯環之化合物與氫氧化鉀水溶液之混合液接觸之方法係為將反應液添加至包含苯環之化合物與氫氧化鉀水溶液之混合液中之方法。
  3. 如請求項1或2之方法，其中上述反應式(1)所表示之反應為使用氯化亞錫之還原反應、或內酯環生成反應。
  4. 如請求項3之方法，其中化合物A為式1所表示之芳香族二硝基化合物，化合物B為式2所表示之芳香族二胺化合物； 式中，Ar2表示芳香族基。
  5. 如請求項4之方法，其中式1所表示之化合物為式3所表示之芳香族二硝基化合物；
  6. 如請求項3之方法，其中化合物A為式4所表示之縮醛化合物與式5所表示之酯化合物之混合物，化合物B為α-亞甲基-γ-丁內酯化合物； 式中，X1表示有機基，X2及X3係各自獨立表示碳數1至4之烷基，或X2與X3亦可連接一同形成CH2CH2或CH2CH2CH2；X4表示碳數1至4之烷基；Y1為Cl或Br。
  7. 如請求項6之方法，其中式4所表示之化合物為式7所表示之縮醛化合物； 式中，X2及X3係各自獨立表示碳數1至4之烷基，或X2與X3亦可連接一同形成CH2CH2或CH2CH2；X5及X6係各自獨立表示經由醚鍵或單鍵而鍵結於苯環之碳數1至10之伸烷基；Z1及Z2係各自獨立表示選自鹵素原子、烷基、鹵烷基、烷氧基及鹵烷氧基之取代基，m及n係各自獨立表示0至4之整數，m與n之至少一者為2以上時，2個以上之Z1及/或Z2可互為相同亦可為相異。
  8. 如請求項1~7中任一項之方法，其中氫氧化鉀水溶液之濃度為1~50質量%。
  9. 如請求項1~8中任一項之方法，其中氫氧化鉀之量係相對於錫原子1莫耳為3莫耳倍量以上。
  10. 如請求項1~9中任一項之方法，其中進行分液之溫度為10~80℃。
  11. 如請求項1~10中任一項之方法，其中氫氧化鉀水溶液與包含苯環之化合物之使用量比在質量比下為50：1~1：50。
  12. 如請求項1~11中任一項之方法，其中包含苯環之化合物具有沸點80~170℃。
  13. 如請求項1~12中任一項之方法，其中包含苯環 之化合物為甲苯。
  14. 如請求項1~13中任一項之方法，其中更使用反應溶劑。
  15. 如請求項14之方法，其中反應溶劑為四氫呋喃。
  16. 如請求項14之方法，其中反應溶劑為水。
TW105100961A 2015-01-13 2016-01-13 反應混合物中之錫化合物之處理方法 TWI758241B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015-004367 2015-01-13
JP2015004367 2015-01-13

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201639810A true TW201639810A (zh) 2016-11-16
TWI758241B TWI758241B (zh) 2022-03-21

Family

ID=56405853

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW105100961A TWI758241B (zh) 2015-01-13 2016-01-13 反應混合物中之錫化合物之處理方法

Country Status (6)

Country Link
EP (1) EP3246309B1 (zh)
JP (1) JP6822145B2 (zh)
KR (1) KR102621938B1 (zh)
CN (1) CN107108463B (zh)
TW (1) TWI758241B (zh)
WO (1) WO2016114312A1 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170102484A (ko) * 2015-01-13 2017-09-11 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 방향족 아민 화합물의 제조 방법

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02275857A (ja) * 1989-01-13 1990-11-09 Yoshitomi Pharmaceut Ind Ltd ピリジン誘導体
US5929201A (en) * 1996-03-29 1999-07-27 Elsicon, Inc. Fluorinated amine products
GB0500784D0 (en) 2005-01-14 2005-02-23 Novartis Ag Organic compounds
CA2675265A1 (en) * 2007-02-06 2008-07-14 Cipla Limited Process for the preparation of ethyl-n-(2, 3-dichloro-6-nitrobenzyl) glycine hydrochloride
AR067027A1 (es) 2007-06-19 2009-09-30 Astrazeneca Ab Derivados de 2, 3-dihidro-1h-pirrol[3, 4b]quinolin-1-ona, una composicion farmaceutica que los comprende y su uso en la fabricacion de un medicamento para el tratamiento de enfermedades mediadas por la modulacion de la actividad del receptor gaba a.
SI2427436T1 (sl) 2009-05-07 2013-04-30 Grunenthal Gmbh Substituirani aromatski karboksamidni in sečninski derivati kot ligandi vaniloidnega receptorja
KR101912955B1 (ko) * 2010-06-30 2018-10-29 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 중합성 화합물, 액정 배향제, 액정 배향막 및 액정 표시 소자 그리고 액정 표시 소자의 제조 방법
TWI525085B (zh) * 2010-06-30 2016-03-11 Nissan Chemical Ind Ltd Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film, liquid crystal display device, and liquid crystal display device manufacturing method
CN104136977B (zh) 2011-12-28 2017-03-08 日产化学工业株式会社 液晶取向剂、液晶取向膜、液晶显示元件及二胺化合物
CN103044431A (zh) * 2012-10-22 2013-04-17 中国药科大学 制备五氟磺草胺的新方法
CN105492965B (zh) * 2013-06-25 2019-04-09 日产化学工业株式会社 液晶取向剂、液晶取向膜、液晶表示元件
KR20170102484A (ko) * 2015-01-13 2017-09-11 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 방향족 아민 화합물의 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
EP3246309A4 (en) 2018-08-08
KR102621938B1 (ko) 2024-01-05
CN107108463B (zh) 2019-05-17
KR20170102483A (ko) 2017-09-11
EP3246309B1 (en) 2020-01-01
JP6822145B2 (ja) 2021-01-27
CN107108463A (zh) 2017-08-29
JPWO2016114312A1 (ja) 2017-10-19
EP3246309A1 (en) 2017-11-22
WO2016114312A1 (ja) 2016-07-21
TWI758241B (zh) 2022-03-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2010510203A (ja) イマチニブおよびその中間体の調製方法
JP2010513265A (ja) 置換されたシアノフェノキシ−ピリミジニルオキシ−フェニルアクリラート誘導体の調製方法
EP4073056B1 (en) Process for the preparation of lasmiditan and of a synthesis intermediate
TW201639810A (zh) 反應混合物中之錫化合物之處理方法
TWI697472B (zh) 芳香族胺化合物之製造方法
JPS58192844A (ja) ２個の芳香核上に異なる置換基を有するアリ−ル・エ−テルの製造方法
Andreassen et al. Nucleophilic alkylations of 3-nitropyridines
WO2017158404A1 (en) An improved method for the preparation of alkylenedioxybenzene compounds
CN107108490B (zh) 含氮五氟硫基苯化合物的制造方法
JP2007230975A (ja) ジ−置換ビスフェノール類の精製方法
JP3814742B2 (ja) ４−フルオロサリチル酸類
WO2018178996A1 (en) Improved process for the preparation of pirfenidone
JP2010229079A (ja) 第１級アリルアミン化合物の製法
JP2009126784A (ja) ２−ヨード−３，４−ジメトキシベンゾニトリルの製造方法。
EP4114827A1 (en) Process for the preparation of 5-chloro-3-alkylsulfanyl-pyridine-2-carboxylic acid amides and carboxylates
JP6263815B2 (ja) 細胞死抑制剤及びその製造方法
JP2005112807A (ja) アミノアルコキシカルボスチリル誘導体の製造方法。
JP2008127295A (ja) アリールエチニル安息香酸エステルの製造方法、アリールエチニル安息香酸エステル化合物及びアリールエチニル安息香酸の製造方法
AU2013231487A1 (en) Process for preparing a ketosulfone derivative